JP7506830B2 - イオンミリング装置 - Google Patents
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Description
Claims (5)
- 真空排気系により内部の気圧が制御される真空チャンバーと、
前記真空チャンバーに取り付けられ、非集束のイオンビームを照射するイオンガンと、
前記真空チャンバー内に配置され、試料を保持する試料台と、
前記イオンビームによる前記試料の加工プロファイルを推定するためのイオンビーム特性を計測するイオンビーム特性計測機構と、
制御部とを有し、
前記イオンガンのイオン化室に磁場を発生させる磁場発生装置は、電磁コイルと磁路とを備える電磁石であり、
前記制御部は、前記電磁コイルに印加する電流値を、前記イオンビーム特性計測機構の計測したイオンビーム特性に基づき制御し、
前記イオンビーム特性計測機構は、第1の方向に延在する線状のイオンビーム電流測定子と、前記イオンビームを横切るように、前記第1の方向と直交する第2の方向に延びる軌道に沿って、前記イオンビーム電流測定子を移動させる電流測定子駆動部とを備え、
前記制御部は、前記イオンビーム特性として、前記イオンビーム電流測定子に流れるイオンビーム電流と前記イオンビーム電流測定子の前記軌道上の位置とを対応付けることにより、前記イオンビームのイオンビーム電流の強度分布を示すイオンビームプロファイルを取得するイオンミリング装置。 - 請求項1において、
前記イオンビーム特性計測機構は、前記軌道の近傍に配置される電子トラップを備え、
前記制御部は、前記イオンビーム特性計測機構による前記イオンビームプロファイルの計測期間中、前記電子トラップに所定の正電圧を印加するイオンミリング装置。 - 請求項1において、
前記制御部は、前記イオンビームが目標とする指針プロファイルを読み込み、前記イオンビーム特性計測機構が計測したイオンビームプロファイルを、前記指針プロファイルにあわせるよう前記電磁コイルに印加する電流値を調整するイオンミリング装置。 - 真空排気系により内部の気圧が制御される真空チャンバーと、
前記真空チャンバーに取り付けられ、非集束のイオンビームを照射するイオンガンと、
前記真空チャンバー内に配置され、試料を保持する試料台と、
前記イオンビームによる前記試料の加工プロファイルを推定するためのイオンビーム特性を計測するイオンビーム特性計測機構と、
制御部とを有し、
前記イオンガンは、
互いに対向して配置される第1のカソード及び第2のカソードと、
前記第1のカソードと前記第2のカソードとの間に配置されるカソードリングと、
前記カソードリングに電気的に絶縁された状態で配置され、前記第1のカソード及び前記第2のカソードの電位に対して正電圧が印加されるアノードと、
前記第1のカソード、前記第2のカソード及び前記アノードに囲まれた領域であるイオン化室にガスを供給するガス供給源とを備え、
前記イオンガンの前記イオン化室に磁場を発生させる磁場発生装置は、電磁コイルと磁路とを備える電磁石であり、
前記磁場発生装置の前記磁路は、前記カソードリングを囲むように開口が設けられ、
前記制御部は、前記電磁コイルに印加する電流値を、前記イオンビーム特性計測機構の計測したイオンビーム特性に基づき制御するイオンミリング装置。 - 請求項4において、
前記磁場発生装置の前記電磁コイルは、前記真空チャンバーの外側に設けられるイオンミリング装置。
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