JP7501896B2 - 電気ニッケルめっき皮膜及びめっき液、並びに電気ニッケルめっき液を用いた電気ニッケルめっき皮膜の製造方法 - Google Patents
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Description
電気ニッケルめっき皮膜であって、
一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含有し、
前記一次粒子は、平均一次粒子径が1nm~50nmの非導電性粒子であり、
前記二次粒子は、平均二次粒子径が0.1μm~5μmの凝集体である、
電気ニッケルめっき皮膜。
前記非導電性粒子は、アルミナ、ベーマイト、ケイ酸ジルコニウム、及びシリカからなる群から選ばれる少なくとも1種の非導電性粒子である、前記項1に記載の電気ニッケルめっき皮膜。
前記非導電性粒子は、シリカである、前記項1又は2に記載の電気ニッケルめっき皮膜。
前記シリカは、球状シリカ、及び破砕状シリカからなる群から選ばれる少なくとも1種のシリカである、前記項2又は3に記載の電気ニッケルめっき皮膜。
電気ニッケルめっき液であって、
一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含有し、
前記一次粒子は、平均一次粒子径が1nm~50nmの非導電性粒子であり、
前記二次粒子は、平均二次粒子径が0.1μm~5μmの凝集体である、
電気ニッケルめっき液。
更に、分散剤を含む、前記項5に記載の電気ニッケルめっき液。
前記分散剤は、アニオン系高分子化合物、及びカチオン系高分子化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の分散剤である、前記項6に記載の電気ニッケルめっき液。
前記分散剤は、カチオン系高分子化合物である、前記項6又は7に記載の電気ニッケルめっき液。
前記カチオン系高分子化合物は、ポリエチレンイミンである、前記項7又は8に記載の電気ニッケルめっき液。
電気ニッケルめっき皮膜の製造方法であって、
電気ニッケルめっき浴を用いて、被めっき物の表面に、電気ニッケルめっき皮膜を形成する工程を含み、
前記電気ニッケルめっき浴は、
一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含有し、
前記一次粒子は、平均一次粒子径が1nm~50nmの非導電性粒子であり、
前記二次粒子は、平均二次粒子径が0.1μm~5μmの凝集体である、電気ニッケルめっき液を含む、
めっき皮膜の製造方法。
本発明の電気ニッケルめっき液は、一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含有し、前記一次粒子は、平均一次粒子径が1nm~50nmの非導電性粒子であり、前記二次粒子は、平均二次粒子径が0.1μm~5μmの凝集体であることを特徴とする。
より好ましくは、シリカであり、更に好ましくは、球状シリカ、及び破砕状シリカからなる群から選ばれる少なくとも1種のシリカである。
本発明の電気ニッケルめっき液は、一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含有し、前記一次粒子は、平均一次粒子径が1nm~50nmの非導電性粒子であり、前記二次粒子は、平均二次粒子径が0.1μm~5μmの凝集体であることを特徴とする。
本発明の電気ニッケルめっき液は、好ましくは、更に、分散剤を含む。分散剤は、前記非導電性粒子を、電気ニッケルめっき液中で良好に分散できるものであれば、言い換えると、非導電性粒子が良好に分散状態で存在すれば、特に限定されない。
ニッケルめっき液は、その他、好ましくは、水溶性ニッケル化合物、光沢剤、電位調整剤、pH緩衝剤等を含有する。
ニッケルめっき液(本発明の電気ニッケルめっき液(マイクロポーラスニッケルめっき液)、光沢ニッケルめっき液、又は半光沢ニッケルめっき液)は、好ましくは、更に、水溶性ニッケル化合物を含む。水溶性ニッケル化合物は、水に可溶であれば、特に限定されない。
ニッケルめっき液(本発明の電気ニッケルめっき液(マイクロポーラスニッケルめっき液)、光沢ニッケルめっき液、又は半光沢ニッケルめっき液)は、好ましくは、更に、光沢剤を含む。
ニッケルめっき液(本発明の電気ニッケルめっき液(マイクロポーラスニッケルめっき液)、光沢ニッケルめっき液、又は半光沢ニッケルめっき液)は、好ましくは、更に、電位調製剤を含む。
ニッケルめっき液(本発明の電気ニッケルめっき液(マイクロポーラスニッケルめっき液)、光沢ニッケルめっき液、又は半光沢ニッケルめっき液)は、好ましくは、更に、pH緩衝剤を含む。
ニッケルめっき液(本発明の電気ニッケルめっき液(マイクロポーラスニッケルめっき液)、光沢ニッケルめっき液、又は半光沢ニッケルめっき液)のpHは、通常、3.5~5程度に調整すれば良く、好ましくは、3.9~4.7程度に調整し、より好ましくは、3.9~4.5程度に調整する。
本発明の電気ニッケルめっき皮膜の製造方法は、電気ニッケルめっき浴を用いて、被めっき物の表面に、電気ニッケルめっき皮膜を形成する工程を含み、前記電気ニッケルめっき浴は、一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含有し、前記一次粒子は、平均一次粒子径が1nm~50nmの非導電性粒子であり、前記二次粒子は、平均二次粒子径が0.1μm~5μmの凝集体である、電気ニッケルめっき液を含む。
電気ニッケルめっきを行う際に、めっき温度は、好ましくは、10℃~60℃程度とし、より好ましくは、45℃~65℃程度とし、更に好ましくは、50℃~60℃程度とする。必要に応じて、めっき液の撹拌や被めっき物の揺動を行うことができる。
電気ニッケルめっきを行う際に、電流密度は、好ましくは、0.1A/dm2~20A/dm2程度とし、より好ましくは、0.5A/dm2~10A/dm2程度とし、更に好ましくは、1A/dm2~5A/dm2程度とする。
被めっき物の材質は、電気ニッケルめっきが可能であれば特に限定されない。被めっき物の材質は、好ましくは、鉄、銅、亜鉛、アルミニウム、真鍮等の金属やこれらの合金、下地めっきを施した樹脂(ABS樹脂等)等である。
本発明の電気ニッケルめっき液は、特定の一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含み、これにより、マイクロポーラスニッケルめっき皮膜の厚膜化が可能であり、優れた耐食性を備えると共に、良好なめっき外観を備えるめっき皮膜を提供することができる。
下記工程を進め、作製した試験片のポーラス数を計測した。
次いで、光沢ニッケルめっきを施した試験片に、マイクロポーラスニッケルめっきを行った。次いで、マイクロポーラスニッケルめっきを施した試験片に、クロムめっきを施した。
薬液:エースクリーン850、50 g/L
(奥野製薬工業株式会社製のアルカリ性脱脂剤)
条件:2分、50℃
(2)水洗工程
(3)陰極電解脱脂工程
薬液:水酸化ナトリウム、50 g/L
条件:5 A/dm2、10秒
(4)水洗工程
(5)酸活性工程
薬液:98%硫酸、50 g/L
条件:10秒
(6)水洗工程
(7)光沢ニッケルめっき工程
薬液:硫酸ニッケル6水和物、280 g/L(水溶性ニッケル化合物)
塩化ニッケル6水和物、45 g/L(水溶性ニッケル化合物)
ホウ酸、40 g/L(pH緩衝剤)
(以下、奥野製薬工業株式会社製)
DuNC BN-1、5 mL/L(光沢ニッケルめっき剤)
DuNC BN-2C、0.5 mL/L(光沢ニッケルめっき剤)
ニッケルキャリヤー、1.5 mL/L(ニッケルめっき用添加剤)
アクナH、5 mL/L(ニッケルめっき用光沢剤)
条件:2 A、2分、pH 4.2、55℃、エアー流量:1.5 L/分
(8)水洗工程
(9)マイクロポーラスニッケルめっき工程
本発明の電気ニッケルめっき液を用いた皮膜の製造
薬液:硫酸ニッケル6水和物、280 g/L(水溶性ニッケル化合物)
塩化ニッケル6水和物、45 g/L(水溶性ニッケル化合物)
ホウ酸、40 g/L(pH緩衝剤)
2-ブチン-1,4-ジオール、5.1 mg/L(二次系光沢剤)
2-プロピオ-1-オール、4.5 mg/L(二次系光沢剤)
ブチンジオールジエトキシレート、1.7 mg/L(二次系光沢剤)
2-ヘキシン-1-オール、3.4 mg/L(二次系光沢剤)
抱水クロラール、20 mg/L(電位調整剤)
ポリエチレンイミン、2.5 mg/L(分散剤)
各種検討非導電性粒子、50 mg/L
条件:2 A、3分、pH 4.2、55℃、エアー流量:1.0 L/分
(10)水洗工程
薬液:pH 2の硫酸水溶液
(11)クロム活性工程
薬液:クロムめっき浴200倍希釈液
条件:20秒
(12)クロムめっき工程
薬液:無水クロム酸、280 g/L
98%硫酸、0.8 g/L
3価クロム、1.5 g/L
TOP DuNC CR-FF、50 mL/L(奥野製薬工業株式会社製の電気めっき光沢剤)
条件:10 A/dm2、2分、40℃
(13)回収、水洗工程
(14)陰極電解脱脂工程
薬液:水酸化ナトリウム、50 g/L
条件:10秒、5 A/dm2
(15)水洗工程
(16)硫酸銅めっき工程
薬液:硫酸銅五水和物、230 g/L
98%硫酸、40 g/L
条件:1 A/dm2、5分、25℃、無撹拌
(17)水洗、乾燥工程
(18)マイクロポーラスの評価
作製した試験片の1A/dm2及び10A/dm2に当たる位置を、デジタルマイクロスコープ(キーエンス製VHX-1000)を用いて、300倍で観察し、観察画像範囲内の銅の個数を単位面積(cm2)当たりの個数に換算した。この時、1A/dm2及び10A/dm2に当たる位置での各測定で、銅の個数が10,000個/cm2以上の時、十分に粒子が共析しているとみなした。
粒子の均一共析性を評価する指標として、1A/dm2と10A/dm2との比((10A/dm2)/(1A/dm2))を算出した。比((10A/dm2)/(1A/dm2))が、1の値に近い程、良好な均一共析性を表す。
下記工程を進め、作製した試験片のめっき外観を評価した。
薬液:トッププラコンBOW、10 mL/L
(奥野製薬工業株式会社製のプラスチックめっき用処理薬品)
98%硫酸、30 mL/L
条件:3分、50℃
(2)エッチング工程
薬液:無水クロム酸、380 g/L
98%硫酸、400 g/L
3価クロム、10 g/L
CRPエッチング添加剤、0.7 mL/L
(奥野製薬工業株式会社製のプラスチックめっき用処理薬品)
条件:8分、68℃
(3)回収、水洗工程
(4)コンディショニング工程
薬液:CRPコンディショナー231、20 mL/L
(奥野製薬工業株式会社製のプラスチックめっき用処理薬品)
条件:2分、25℃
(5)水洗工程
(6)プリディップ工程
薬液:35%塩酸、100 mL/L
条件:1分、25℃
(7)触媒化工程
薬液:CRPキャタリスト85H、40 mL/L(Pdとして200 mg/L)
(奥野製薬工業株式会社製のプラスチックめっき用処理薬品)
35%塩酸、250 g/L
条件:6分、35℃
(8)水洗工程
(9)導体化工程
(以下、奥野製薬工業株式会社製)
薬液:CRPセレクターNEX-U1、70 mL/L(プラスチックめっき用処理薬品)
CRPセレクターNEX-U2、150 mL/L(プラスチックめっき用処理薬品)
条件:5分、55℃
(10)水洗工程
(11)硫酸銅めっき工程
薬液:硫酸銅五水和物、200 g/L
98%硫酸、70 g/L
35%塩酸、0.175 mL/L
(以下、奥野製薬工業株式会社製)
TOP DuNC CU-AW、0.5 mL/L(電気めっき光沢剤)
TOP DuNC CU-BW、2.0 mL/L(電気めっき光沢剤)
TOP DuNC CU-CW、1.5 mL/L(電気めっき光沢剤)
条件:3 A/dm2、25℃、(膜厚30 μm狙い)
(12)水洗工程
(13)半光沢ニッケルめっき工程
薬液:硫酸ニッケル6水和物、280 g/L(水溶性ニッケル化合物)
塩化ニッケル6水和物、45 g/L(水溶性ニッケル化合物)
ホウ酸、40 g/L(pH緩衝剤)
(以下、奥野製薬工業株式会社製)
DuNC SB-XE-M、10 mL/L(電気めっき光沢剤)
DuNC SB-XE-R、1 mL/L(電気めっき光沢剤)
DuNC SB-S、0.2 mL/L(電気めっき光沢剤)
アクナH、5 mL/L(ニッケルめっき用光沢剤)
条件:3 A/dm2、55℃、pH 4.6、(膜厚11 μm狙い)
(14)水洗工程
(15)光沢ニッケルめっき工程
薬液:硫酸ニッケル6水和物、280 g/L(水溶性ニッケル化合物)
塩化ニッケル6水和物、45 g/L(水溶性ニッケル化合物)
ホウ酸、40 g/L(pH緩衝剤)
(以下、奥野製薬工業株式会社製)
DuNC BN-1、5 mL/L(光沢ニッケルめっき剤)
DuNC BN-2C、0.5 mL/L(光沢ニッケルめっき剤)
ニッケルキャリヤー、1.5 mL/L(ニッケルめっき用添加剤)
アクナH、5 ml/L(ニッケルめっき用光沢剤)
条件:3 A/dm2、55℃、pH 4.2、(膜厚9 μm狙い)
(16)水洗工程
(17)マイクロポーラスニッケルめっき工程
本発明の電気ニッケルめっき液を用いた皮膜の製造
薬液:硫酸ニッケル6水和物、280 g/L(水溶性ニッケル化合物)
塩化ニッケル6水和物、45 g/L(水溶性ニッケル化合物)
ホウ酸、40 g/L(pH緩衝剤)
2-ブチン-1,4-ジオール、5.1 mg/L(二次系光沢剤)
2-プロピオ-1-オール、4.5 mg/L(二次系光沢剤)
ブチンジオールジエトキシレート、1.7 mg/L(二次系光沢剤)
2-ヘキシン-1-オール、3.4 mg/L(二次系光沢剤)
抱水クロラール、20 mg/L(電位調整剤)
ポリエチレンイミン、2.5 mg/L(分散剤)
各種検討非導電性粒子、50 mg/L
条件:3 A/dm2、55℃、pH 4.2
マイクロポーラスニッケルめっき皮膜
めっき外観の評価用膜厚:5 μm狙い
耐食性の評価用膜厚:1 μm狙い
(18)クロム活性工程
薬液:クロムめっき浴200倍希釈液
(19)6価クロムめっき工程
薬液:無水クロム酸、280 g/L
98%硫酸、0.8 g/L
3価クロム、1.5 g/L
TOP DuNC CR-FF、50 mL/L(奥野製薬工業株式会社製の電気めっき光沢剤)
条件:10 A/dm2、3分、40℃
評価○:試験片を目視確認した際に、外観が良好である。
評価×:試験片を目視確認した際に、外観に曇りが生じている。
上記2.めっき外観の評価と同じ処理を進め、作製した試験片の耐食性を評価した。
JIS Z 2371:2000に則り、CASS試験を80時間行い、表面腐食をレイティングナンバ(R.N.)法で評価した。
・粒子の種類、粒子の平均一次粒子径、粒子の平均二次粒子径
・1A/dm2及び10A/dm2のポーラス数
・1A/dm2と10A/dm2との比((10A/dm2)/(1A/dm2))
・めっき外観(外観)、及び
・耐食性試験(R.N.)の結果を示す。
本発明の電気ニッケルめっき液は、特定の一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含み、これにより、マイクロポーラスニッケルめっき皮膜の厚膜化が可能であり、優れた耐食性を備えると共に、良好なめっき外観を備えるめっき皮膜を提供することができる。
Claims (10)
- 電気ニッケルめっき液であって、
一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含有し、
前記一次粒子は、平均一次粒子径が1nm~50nmの非導電性粒子であり、
前記二次粒子は、平均二次粒子径が0.1μm~5μmの凝集体であり、
前記非導電性粒子は、アルミナ、ベーマイト、ケイ酸ジルコニウム、及びシリカからなる群から選ばれる少なくとも1種の非導電性粒子である、
電気ニッケルめっき液。 - 前記非導電性粒子は、シリカである、請求項1に記載の電気ニッケルめっき液。
- 前記シリカは、球状シリカ、及び破砕状シリカからなる群から選ばれる少なくとも1種のシリカである、請求項2に記載の電気ニッケルめっき液。
- 更に、分散剤を含む、請求1に記載の電気ニッケルめっき液。
- 前記分散剤は、アニオン系高分子化合物、及びカチオン系高分子化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の分散剤である、請求項4に記載の電気ニッケルめっき液。
- 前記分散剤は、カチオン系高分子化合物である、請求項4に記載の電気ニッケルめっき液。
- 前記カチオン系高分子化合物は、ポリエチレンイミンである、請求項6に記載の電気ニッケルめっき液。
- 電気ニッケルめっき皮膜の製造方法であって、
電気ニッケルめっき浴を用いて、被めっき物の表面に、電気ニッケルめっき皮膜を形成する工程を含み、
前記電気ニッケルめっき浴は、
一次粒子の凝集体からなる二次粒子を含有し、
前記一次粒子は、平均一次粒子径が1nm~50nmの非導電性粒子であり、
前記二次粒子は、平均二次粒子径が0.1μm~5μmの凝集体であり、
前記非導電性粒子は、アルミナ、ベーマイト、ケイ酸ジルコニウム、及びシリカからなる群から選ばれる少なくとも1種の非導電性粒子である、電気ニッケルめっき液を含む、
めっき皮膜の製造方法。 - 前記非導電性粒子は、シリカである、請求項8に記載のめっき皮膜の製造方法。
- 前記電気ニッケルめっき液は、更に、分散剤を含む、請求8に記載のめっき皮膜の製造方法。
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