JP7495522B2 - 半導体処理チャンバ内のプラズマ点火最適化 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 175
- 238000005457 optimization Methods 0.000 title claims description 13
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 223
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 163
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 77
- 238000012549 training Methods 0.000 claims description 49
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 24
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 claims description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 12
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 43
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 28
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 19
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 18
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 16
- 241000894007 species Species 0.000 description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 230000006870 function Effects 0.000 description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 9
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 5
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 3
- 241000699670 Mus sp. Species 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N Adamantane Natural products C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000238558 Eucarida Species 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000004397 blinking Effects 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000001413 cellular effect Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000002059 diagnostic imaging Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000002595 magnetic resonance imaging Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010295 mobile communication Methods 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 1
- 238000002600 positron emission tomography Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32917—Plasma diagnostics
- H01J37/32926—Software, data control or modelling
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/311—Etching the insulating layers by chemical or physical means
- H01L21/31105—Etching inorganic layers
- H01L21/31111—Etching inorganic layers by chemical means
- H01L21/31116—Etching inorganic layers by chemical means by dry-etching
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/334—Etching
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Drying Of Semiconductors (AREA)
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- Control Of High-Frequency Heating Circuits (AREA)
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Description
本出願は、2020年11月22日に出願され、「PLASMA IGNITION OPTIMIZATION IN SEMICONDUCTOR PROCESSING CHAMBERS」と題する米国非仮出願第17/100,927号の利益および優先権を主張し、その内容は、あらゆる目的のためにその全体が参照により本明細書に組み込まれている。
Claims (20)
- 基板処理チャンバ内で反射高周波(RF)電力を低減する方法であって、
処理チャンバに対する複数の入力パラメータにアクセスすることであって、前記複数の入力パラメータは、基板に対してプロセスを実行するための前記処理チャンバに対するレシピから部分的に導出される、複数の入力パラメータにアクセスすることと、
前記処理チャンバに対する前記複数の入力パラメータをモデルに提供することであって、前記モデルは、以前の複数の入力パラメータおよび対応する複数のセンサ測定値を使用して訓練済みである、前記複数の入力パラメータをモデルに提供することと、
前記処理チャンバ内でプラズマを点火するときに前記処理チャンバからRF源へ反射されて戻る、予測される第1のRF電力量を示す1つまたは複数の第1の出力を、前記モデルから受け取ることと、
前記処理チャンバから反射されて戻る前記予測される第1のRF電力量が最適化されていないと判定することと、
調節された入力パラメータを生成するために、前記処理チャンバに対する前記複数の入力パラメータを調節することと、
前記処理チャンバに対する前記調節された入力パラメータを前記モデルに提供することと、
前記処理チャンバから前記RF源へ反射されて戻る、予測される第2のRF電力量を示す1つまたは複数の第2の出力を、前記モデルから受け取ることと、
前記処理チャンバから反射されて戻る前記予測される第2のRF電力量が最適化されていると判定することと、
前記基板に対して前記プロセスを実行するために、前記処理チャンバに前記調節された入力パラメータを提供することと
を含む、方法。 - 複数の訓練データセットにアクセスすることであって、前記複数の訓練データセットの各々は、
以前のプロセスからの複数の以前の入力パラメータと、
前記プロセス中に前記処理チャンバから反射されて戻ったRF電力量を表す対応するセンサデータと
を含む、複数の訓練データセットにアクセスすることと、
前記複数の訓練データセットを使用して、前記モデルを訓練することと
をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - 前記複数の訓練データセットが、前記処理チャンバ内で反射されて戻った平均を上回るRF電力量を表すセンサデータを含む、少なくともいくつかの訓練データセットを含むように、前記複数の訓練データセットをキュレーションすることをさらに含む、請求項2に記載の方法。
- 前記モデルは、複数の隠れ層と、前記入力パラメータに対応する入力とを含むニューラルネットワークを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記ニューラルネットワークは、予測される最大RF電力を示す第1の出力と、予測されるRF電力持続時間を示す第2の出力とを備える、請求項4に記載の方法。
- 前記ニューラルネットワークは、前記ニューラルネットワークの内部ノード間の重みを設定するための最適化プロセスを使用して訓練済みである、請求項4に記載の方法。
- 前記プロセスは、前記基板に対するプラズマエッチングプロセスを含む、請求項1に記載の方法。
- システムであって、
1つまたは複数のプロセッサと、
命令を含む1つまたは複数のメモリデバイスであって、前記命令は、前記1つまたは複数のプロセッサによって実行されると、前記1つまたは複数のプロセッサに、
処理チャンバに対する複数の入力パラメータにアクセスすることであって、前記複数の入力パラメータは、基板に対してプロセスを実行するための前記処理チャンバに対するレシピから部分的に導出される、複数の入力パラメータにアクセスすることと、
前記処理チャンバに対する前記複数の入力パラメータをモデルに提供することであって、前記モデルは、以前の複数の入力パラメータおよび対応する複数のセンサ測定値を使用して訓練済みである、前記複数の入力パラメータをモデルに提供することと、
前記処理チャンバ内でプラズマを点火するときに前記処理チャンバからRF源へ反射されて戻る、予測される第1のRF電力量を示す1つまたは複数の第1の出力を、前記モデルから受け取ることと、
前記処理チャンバから反射されて戻る前記予測される第1のRF電力量が最適化されていないと判定することと、
調節された入力パラメータを生成するために、前記処理チャンバに対する前記複数の入力パラメータを調節することと、
前記処理チャンバに対する前記調節された入力パラメータを前記モデルに提供することと、
前記処理チャンバから前記RF源へ反射されて戻る、予測される第2のRF電力量を示す1つまたは複数の第2の出力を、前記モデルから受け取ることと、
前記処理チャンバから反射されて戻る前記予測される第2のRF電力量が最適化されていると判定することと、
前記基板に対して前記プロセスを実行するために、前記処理チャンバに前記調節された入力パラメータを提供することと
を含む動作を実行させる、1つまたは複数のメモリデバイスと
を備える、システム。 - 前記複数の入力パラメータは、前記処理チャンバのためのRF源に対する設定を含む、請求項8に記載のシステム。
- 前記複数の入力パラメータは、前記処理チャンバ内の基板に対して以前に実行されたプロセスの数を表すウエハカウントを含む、請求項8に記載のシステム。
- 前記複数の入力パラメータは、以前のプラズマプロセスが前記処理チャンバ内で完了して以降の時間を表すチャンバ空き時間を含む、請求項8に記載のシステム。
- 前記複数の入力パラメータは、前記処理チャンバ内で実行された以前のレシピに対する識別子を含む、請求項8に記載のシステム。
- 前記複数の入力パラメータは、前記処理チャンバ内の1つまたは複数の調整キャパシタに対するプリセット値を含む、請求項8に記載のシステム。
- 前記複数の入力パラメータは、前記処理チャンバ内の1つまたは複数の調整インダクタに対するプリセット値を含む、請求項8に記載のシステム。
- 命令を含む非一時的コンピュータ可読媒体であって、前記命令は、1つまたは複数のプロセッサによって実行されると、前記1つまたは複数のプロセッサに、
処理チャンバに対する複数の入力パラメータにアクセスすることであって、前記複数の入力パラメータは、基板に対してプロセスを実行するための前記処理チャンバに対するレシピから部分的に導出される、複数の入力パラメータにアクセスすることと、
前記処理チャンバに対する前記複数の入力パラメータをモデルに提供することであって、前記モデルは、以前の複数の入力パラメータおよび対応する複数のセンサ測定値を使用して訓練済みである、前記複数の入力パラメータをモデルに提供することと、
前記処理チャンバ内でプラズマを点火するときに前記処理チャンバからRF源へ反射されて戻る、予測される第1のRF電力量を示す1つまたは複数の第1の出力を、前記モデルから受け取ることと、
前記処理チャンバから反射されて戻る前記予測される第1のRF電力量が最適化されていないと判定することと、
調節された入力パラメータを生成するために、前記処理チャンバに対する前記複数の入力パラメータを調節することと、
前記処理チャンバに対する前記調節された入力パラメータを前記モデルに提供することと、
前記処理チャンバから前記RF源へ反射されて戻る、予測される第2のRF電力量を示す1つまたは複数の第2の出力を、前記モデルから受け取ることと、
前記処理チャンバから反射されて戻る前記予測される第2のRF電力量が最適化されていると判定することと、
前記基板に対して前記プロセスを実行するために、前記処理チャンバに前記調節された入力パラメータを提供することと
を含む動作を実行させる、非一時的コンピュータ可読媒体。 - 前記処理チャンバから反射されて戻る前記予測される第2のRF電力量が最適化されていると判定することは、
前記第2のRF電力量が、前記複数の入力パラメータの各々に対する値の範囲にわたって前記モデルによって予測される反射RF電力の最小値を表すと判定すること
を含む、請求項15に記載の非一時的コンピュータ可読媒体。 - 前記処理チャンバから反射されて戻る前記予測される第2のRF電力量が最適化されていると判定することは、
前記第2のRF電力量が、所定の閾値未満であると判定すること
を含む、請求項15に記載の非一時的コンピュータ可読媒体。 - 前記所定の閾値は、約50Wである、請求項17に記載の非一時的コンピュータ可読媒体。
- 前記動作は、
前記プロセス中に前記処理チャンバから反射されて戻るRF電力量を表すセンサデータを測定することと、
測定された前記センサデータを前記予測される第2のRF電力量と比較することと
をさらに含む、請求項15に記載の非一時的コンピュータ可読媒体。 - 前記動作は、
前記測定されたセンサデータが前記予測される第2のRF電力量を所定の閾値量よりも大きく超過する場合に、ユーザインターフェースに提供される指示を生成すること
をさらに含む、請求項19に記載の非一時的コンピュータ可読媒体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17/100,927 US11587765B2 (en) | 2020-11-22 | 2020-11-22 | Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers |
US17/100,927 | 2020-11-22 | ||
PCT/US2021/059759 WO2022109049A1 (en) | 2020-11-22 | 2021-11-17 | Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2023530567A JP2023530567A (ja) | 2023-07-19 |
JP7495522B2 true JP7495522B2 (ja) | 2024-06-04 |
Family
ID=81658575
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022564188A Active JP7495522B2 (ja) | 2020-11-22 | 2021-11-17 | 半導体処理チャンバ内のプラズマ点火最適化 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US11587765B2 (ja) |
JP (1) | JP7495522B2 (ja) |
KR (1) | KR20220161434A (ja) |
CN (1) | CN115605974A (ja) |
TW (1) | TWI806248B (ja) |
WO (1) | WO2022109049A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11587765B2 (en) | 2020-11-22 | 2023-02-21 | Applied Materials, Inc. | Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers |
CN117373917B (zh) * | 2023-12-07 | 2024-03-08 | 天津吉兆源科技有限公司 | 一种半导体器件加工方法、***及电子设备 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006286306A (ja) | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置及び整合器のオートラーニングプログラム |
JP2017143261A (ja) | 2016-02-08 | 2017-08-17 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 反射スペクトルマッチングおよび表面動力学モデル最適化によるエッチングプロファイル最適化のための方法および装置 |
JP2020035577A (ja) | 2018-08-28 | 2020-03-05 | 東京エレクトロン株式会社 | インピーダンス整合方法およびインピーダンス整合装置 |
JP2020510959A (ja) | 2017-02-22 | 2020-04-09 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 複数の状態で反射電力を低減するようにチューニングするためのシステムおよび方法 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6273022B1 (en) * | 1998-03-14 | 2001-08-14 | Applied Materials, Inc. | Distributed inductively-coupled plasma source |
US7127358B2 (en) * | 2004-03-30 | 2006-10-24 | Tokyo Electron Limited | Method and system for run-to-run control |
US7624003B2 (en) | 2005-01-10 | 2009-11-24 | Applied Materials, Inc. | Split-phase chamber modeling for chamber matching and fault detection |
JP5534365B2 (ja) | 2012-06-18 | 2014-06-25 | 株式会社京三製作所 | 高周波電力供給装置、及び反射波電力制御方法 |
US9711332B2 (en) * | 2013-05-09 | 2017-07-18 | Lam Research Corporation | Systems and methods for tuning an impedance matching network in a step-wise fashion for multiple states of an RF generator |
US10276350B2 (en) * | 2013-05-09 | 2019-04-30 | Lam Research Corporation | Systems and methods for using computer-generated models to reduce reflected power towards an RF generator during state transitions of the RF generator by controlling RF values of the RF generator |
US9721759B1 (en) | 2016-04-04 | 2017-08-01 | Aixtron Se | System and method for distributing RF power to a plasma source |
KR20170117312A (ko) | 2016-04-13 | 2017-10-23 | 램 리써치 코포레이션 | 무선 주파수 값들을 사용함으로써 상태 전이들 동안 반사된 전력을 감소시키기 위한 시스템들 및 방법들 |
US10269545B2 (en) | 2016-08-03 | 2019-04-23 | Lam Research Corporation | Methods for monitoring plasma processing systems for advanced process and tool control |
US20200185196A1 (en) | 2018-12-07 | 2020-06-11 | Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China | Method and device for matching impedance of pulse radio frequency plasma |
US11229094B2 (en) * | 2018-12-20 | 2022-01-18 | Nxp Usa, Inc. | Combined RF and thermal heating system and methods of operation thereof |
US11361940B2 (en) * | 2020-10-13 | 2022-06-14 | Applied Materials, Inc. | Push-pull power supply for multi-mesh processing chambers |
US11587765B2 (en) | 2020-11-22 | 2023-02-21 | Applied Materials, Inc. | Plasma ignition optimization in semiconductor processing chambers |
-
2020
- 2020-11-22 US US17/100,927 patent/US11587765B2/en active Active
-
2021
- 2021-11-17 KR KR1020227037801A patent/KR20220161434A/ko unknown
- 2021-11-17 WO PCT/US2021/059759 patent/WO2022109049A1/en active Application Filing
- 2021-11-17 CN CN202180034944.9A patent/CN115605974A/zh active Pending
- 2021-11-17 JP JP2022564188A patent/JP7495522B2/ja active Active
- 2021-11-22 TW TW110143321A patent/TWI806248B/zh active
-
2023
- 2023-02-21 US US18/112,207 patent/US11894217B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006286306A (ja) | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置及び整合器のオートラーニングプログラム |
JP2017143261A (ja) | 2016-02-08 | 2017-08-17 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 反射スペクトルマッチングおよび表面動力学モデル最適化によるエッチングプロファイル最適化のための方法および装置 |
JP2020510959A (ja) | 2017-02-22 | 2020-04-09 | ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation | 複数の状態で反射電力を低減するようにチューニングするためのシステムおよび方法 |
JP2020035577A (ja) | 2018-08-28 | 2020-03-05 | 東京エレクトロン株式会社 | インピーダンス整合方法およびインピーダンス整合装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW202236358A (zh) | 2022-09-16 |
US20230197405A1 (en) | 2023-06-22 |
JP2023530567A (ja) | 2023-07-19 |
US11587765B2 (en) | 2023-02-21 |
WO2022109049A1 (en) | 2022-05-27 |
TWI806248B (zh) | 2023-06-21 |
CN115605974A (zh) | 2023-01-13 |
KR20220161434A (ko) | 2022-12-06 |
US11894217B2 (en) | 2024-02-06 |
US20220165539A1 (en) | 2022-05-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20221221 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20231215 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20231226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240523 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7495522 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |