JP7490436B2 - A drive system, a lithographic apparatus and a method for manufacturing an article. - Google Patents

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Description

本発明は、駆動システム、リソグラフィ装置および物品製造方法に関する。 The present invention relates to a drive system, a lithographic apparatus, and a method for manufacturing an article.

モータを正確に駆動するためには、可動子または固定子が発生させる磁束密度の空間分布に合わせた電流指令値を与えなければならない。しかし、電流指令値が参照する位置検出部の値を元に計算された磁束密度と可動子または固定子が実際に発生させる磁束密度には誤差が生じる。 To drive a motor accurately, a current command value must be given that matches the spatial distribution of the magnetic flux density generated by the mover or stator. However, an error occurs between the magnetic flux density calculated based on the value of the position detection unit that the current command value references and the magnetic flux density actually generated by the mover or stator.

この誤差を低減させるため特許文献１、２には、計算上の磁束密度がゼロとなる位置と測定した磁束密度がゼロとなる位置との差を求めて位置検出部の値または電流指令値を補正するシステムが開示されている。特許文献１，２では磁束密度の代わりに磁束密度に比例するモータの逆起電圧を測定して、磁束密度がゼロになる位置を算出することで位置検出部の値または電流指令値を補正している。 In order to reduce this error, Patent Documents 1 and 2 disclose a system that calculates the difference between the position where the calculated magnetic flux density is zero and the position where the measured magnetic flux density is zero, and corrects the value of the position detection unit or the current command value. In Patent Documents 1 and 2, instead of the magnetic flux density, the motor's back electromotive voltage, which is proportional to the magnetic flux density, is measured, and the position where the magnetic flux density is zero is calculated to correct the value of the position detection unit or the current command value.

特許第３７６５２８７号公報Patent No. 3765287 特開２００８－１７８２３７号公報JP 2008-178237 A

即ち、特許文献１、２では駆動域全体または磁束が一周期変化する中で計算上の磁束密度がゼロとなる位置と測定した磁束密度がゼロとなる位置との差を求めて位置検出部の値または電流指令値を補正している。しかしながら、従来方法では駆動域全体または磁束が一周期変化する中で１つの差しか出していないため、精度が低く、複数の磁石の取り付け誤差によって発生する磁束密度の一周期内のずれまでは補正することが出来ない。従って例えばリソグラフィ装置などに適用するには不十分であった。
本発明は、精度の高い位置制御が可能な駆動システムを提供することを目的とする。 That is, in Patent Documents 1 and 2, the difference between the position where the calculated magnetic flux density is zero and the position where the measured magnetic flux density is zero is obtained over the entire driving range or over one period of magnetic flux change, and the value of the position detector or the current command value is corrected. However, the conventional method only obtains one difference over the entire driving range or over one period of magnetic flux change, so the accuracy is low and it is not possible to correct the deviation of the magnetic flux density within one period caused by the installation error of multiple magnets. Therefore, it is insufficient for application to, for example, a lithography apparatus.
An object of the present invention is to provide a drive system capable of highly accurate position control.

その目的を達成するために、本発明の一側面の駆動システムは、
固定子と可動子とを含むモータと、
前記固定子と前記可動子の相対位置を検出する位置検出部と、
前記相対位置に応じた基準となる磁束密度情報を取得する取得部と、
前記相対位置に応じた実際の磁束密度情報を測定する測定手段と、
前記モータの駆動を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、
前記基準となる磁束密度情報の大きさが所定の設定値と一致する時の相対位置である第１相対位置と、前記測定手段によって測定された磁束密度情報の大きさが前記所定の設定値と一致する時の相対位置である第２相対位置との差を、前記測定された磁束密度情報が一周期変化する期間において複数回取得し、
複数設定された前記所定の設定値それぞれについて取得した複数の前記差に基づいて、前記モータの駆動を制御する、
ことを特徴とする。
 In order to achieve this object, a drive system according to one aspect of the present invention comprises:
A motor including a stator and a mover;
a position detection unit that detects a relative position between the stator and the mover ;
an acquisition unit that acquires reference magnetic flux density information according to the relative position;
a measuring means for measuring actual magnetic flux density information according to the relative position;
A control means for controlling the driving of the motor,
The control means
a difference between a first relative position , which is a relative position when the magnitude of the reference magnetic flux density information coincides with a predetermined set value, and a second relative position, which is a relative position when the magnitude of the magnetic flux density information measured by the measuring means coincides with the predetermined set value, is obtained a plurality of times during a period in which the measured magnetic flux density information changes in one cycle;
controlling the driving of the motor based on the plurality of differences acquired for each of the plurality of set predetermined setting values ;
It is characterized by:

本発明によれば、精度の高い位置制御が可能な駆動システムを提供することができる。 The present invention provides a drive system that allows for highly accurate position control.

実施例における、リニアモータを使用した位置決めステージの概略構成を示す上面図である。FIG. 2 is a top view showing a schematic configuration of a positioning stage using a linear motor in the embodiment. 実施例における、リニアモータの構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a linear motor in the embodiment. 実施例における、磁石やコイル、位置検出器の原点の配置がすべて設計値通りになっているときの配置と磁束密度の関係図である。FIG. 11 is a diagram showing the relationship between the arrangement and magnetic flux density when the arrangements of the magnets, coils, and origins of the position detector are all as designed in the embodiment. 実施例における、コイル１２１ａ～１２１ｃから可動子が受ける力を示した図である。11 is a diagram showing forces acting on a mover from coils 121a to 121c in the embodiment. 実施例における、磁石やコイル、位置検出器の原点の配置がずれているときの配置と磁束密度の関係図である。FIG. 11 is a diagram showing the relationship between the arrangement and magnetic flux density when the arrangement of the origins of magnets, coils, and position detectors is misaligned in the embodiment. 本実施例における駆動システムの制御ブロック線図である。FIG. 2 is a control block diagram of a drive system according to the present embodiment. 実施例における、設定値が１つの時の補正方法を示すフローチャートである。11 is a flowchart showing a correction method when there is one set value in the embodiment. 実施例における、実際の磁束密度と理想的な磁束密度のずれと１つの設定値を表す図である。FIG. 13 is a diagram showing the deviation between the actual magnetic flux density and the ideal magnetic flux density and one set value in the embodiment. 実施例における、設定値が複数の時の補正方法を示すフローチャートである。10 is a flowchart showing a correction method when there are multiple set values in the embodiment. 実施例における、実際の磁束密度と理想的な磁束密度のずれと複数の設定値を表す図である。FIG. 13 is a diagram showing the deviation between the actual magnetic flux density and the ideal magnetic flux density and a number of set values in an embodiment. 実施例における、走査露光装置の例を示した図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of a scanning exposure apparatus in an embodiment. 実施例における、露光装置のシーケンス示したフローチャートである。4 is a flowchart showing a sequence of the exposure apparatus in the embodiment.

以下に、本発明の好ましい駆動システムの実施形態を実施例及び添付の図面に基づいて詳細に説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略ないし簡略化する。 Below, preferred embodiments of the drive system of the present invention will be described in detail with reference to the examples and the accompanying drawings. Note that in each drawing, the same members or elements are given the same reference numbers, and duplicate descriptions will be omitted or simplified.

図１は、実施例における、リニアモータを使用した位置決めステージの概略構成を示す上面図である。本実施例では例えばリソグラフィ装置の基板を搭載したステージを例として説明する。なお、本実施例では、複数のコイルを有する固定子と複数の永久磁石を要する可動子とを含むリニアモータを使用するが、複数のコイルを有する可動子と複数の永久磁石を要する固定子とを含むリニアモータでもよい。あるいは、リニアモータでなくても通常の回転タイプのモータであっても良い。 Figure 1 is a top view showing the schematic configuration of a positioning stage using a linear motor in the embodiment. In this embodiment, a stage carrying a substrate of a lithography device is used as an example. Note that in this embodiment, a linear motor including a stator having multiple coils and a mover requiring multiple permanent magnets is used, but a linear motor including a mover having multiple coils and a stator requiring multiple permanent magnets may also be used. Alternatively, a normal rotary type motor may be used instead of a linear motor.

図１においてステージ１１には駆動方向（Ｙ軸方向）の左右両側に一対の可動子３１が設けられている。これらの一対の可動子３１は対応する一対の固定子３２と協働してリニアモータ１３Ａおよびリニアモータ１３Ｂを構成している。リニアモータの構成に関しては後述する。 In FIG. 1, a pair of movers 31 are provided on the left and right sides of the stage 11 in the driving direction (Y-axis direction). These pairs of movers 31 cooperate with a corresponding pair of stators 32 to form linear motors 13A and 13B. The structure of the linear motors will be described later.

ステージ１１には反射鏡１２が設けられており、不図示のレーザ干渉計（計測部）からの計測光を反射することにより、ステージ１１のＹ軸方向への変位量または位置であるＰ１［ｍ］が計測される。また、リニアモータ１３Ａおよびリニアモータ１３Ｂには不図示のエンコーダが備えられており、これによりリニアモータ１３Ａおよびリニアモータ１３Ｂの固定子３２のＹ軸方向への変位量または位置Ｐ２［ｍ］が計測される。 The stage 11 is provided with a reflecting mirror 12, which reflects measurement light from a laser interferometer (measurement unit) (not shown) to measure the displacement or position P1 [m] of the stage 11 in the Y-axis direction. In addition, the linear motors 13A and 13B are provided with encoders (not shown), which measure the displacement or position P2 [m] of the stators 32 of the linear motors 13A and 13B in the Y-axis direction.

このときステージ１１と固定子３２の相対位置（以下コミュテーション位置）であるＣ［ｍ］は式（１）で表される。
Ｃ＝Ｐ１－Ｐ２・・・（１） At this time, C[m], which is the relative position (hereinafter referred to as the commutation position) between the stage 11 and the stator 32, is expressed by equation (1).
C = P1 - P2 ... (1)

図２は実施例における、リニアモータの構成図であり、リニアモータ１３Ａ及びリニアモータ１３Ｂの具体的な構成例を示している。
図１の可動子３１は、複数の永久磁石からなる磁石群として構成される磁石列１１１Ａと磁石列１１１Ｂを有する。また、この磁石列１１１Ａと磁石列１１１Ｂを保持しステージ面に取り付けるためのヨーク１１５とハウジング１１６を有する。 FIG. 2 is a diagram showing the configuration of the linear motor in the embodiment, and shows a specific example of the configuration of the linear motor 13A and the linear motor 13B.
1 has magnet arrays 111A and 111B configured as magnet groups each made up of a plurality of permanent magnets, and also has a yoke 115 and a housing 116 for holding the magnet arrays 111A and 111B and attaching them to the stage surface.

磁石列１１１Ａと磁石列１１１Ｂは磁極の向きがＺ方向である主極磁石１１４と、Ｙ方向である補極磁石１１９からなる。
主極磁石１１４の磁極方向は１つおきに補極磁石１１９を介して反対向きになっており、Ｙ方向に等間隔で配置されている。
補極磁石１１９は主極磁石１１４のコイル１２１に面した部位の極性が補極磁石１１９と反発する向きに設けられている。 Magnet array 111A and magnet array 111B each include a main pole magnet 114 whose magnetic poles are oriented in the Z direction and an interpole magnet 119 whose magnetic poles are oriented in the Y direction.
The magnetic pole directions of the main pole magnets 114 are opposite to each other via the interpole magnets 119, and are disposed at equal intervals in the Y direction.
The interpole magnet 119 is provided so that the polarity of the portion of the main pole magnet 114 facing the coil 121 repels the interpole magnet 119 .

図１の固定子３２は、ジャケット１２２の中にＹ方向に等間隔にコイル１２１を有し、上下から可動子３１に挟まれるように配置されている。ここで、主極磁石１１４のピッチＭＰとコイル１２１のピッチＣＰには下記式（２）で表わされる関係がある。
ＣＰ＝１．５＊ＭＰ・・・（２）
 1 has coils 121 at equal intervals in the Y direction inside a jacket 122, and is disposed so as to be sandwiched between movers 31 from above and below. Here, the pitch MP of the main pole magnet 114 and the pitch CP of the coils 121 have the relationship expressed by the following formula (2).
CP = 1.5 * MP (2)

図３は実施例における、磁石１１４，１１９やコイル１２１、位置検出器の原点の配置がすべて設計値通りになっているときの配置と磁束密度の関係図である。設計値通りであれば、理想的な磁束密度と実際の磁束密度は一致する。ここでの理想的な磁束密度とは、レーザ干渉計やエンコーダなどのセンサから求められたコミュテーション位置Ｃと主極磁石１１４の設計値上のピッチＭＰで決まる磁束密度である。即ち、基準となる磁束密度情報は、可動子または固定子の磁石ピッチと相対位置から求められる値である。
また、実際の磁束密度とは可動子３１の有する磁石が固定子３２のコイル１２１に発生させる磁束密度である。 3 is a diagram showing the relationship between the arrangement and magnetic flux density in an embodiment where the arrangements of the magnets 114, 119, coil 121, and the origin of the position detector are all as designed. If they are as designed, the ideal magnetic flux density and the actual magnetic flux density will be the same. The ideal magnetic flux density here is the magnetic flux density determined by the commutation position C obtained from a sensor such as a laser interferometer or encoder and the pitch MP of the main pole magnet 114 on the design value. In other words, the reference magnetic flux density information is a value obtained from the magnet pitch and relative position of the mover or stator.
The actual magnetic flux density is the magnetic flux density generated in the coil 121 of the stator 32 by the magnet of the mover 31 .

図４は、実施例における、コイル１２１ａ～１２１ｃから可動子が受ける力を示した図である。即ち、図２に示すコイル１２１ａ、１２１ｂ、１２１ｃに同じ向きに一定電流を流し、可動子３１をＹ軸方向に移動させた時に各コイルから可動子３１が受ける力を示している。コイル１２１ａでは－２．５ＭＰ～０．５ＭＰの間において正弦波の力となり、その前後の－２．５ＭＰ以下と０．５ＭＰ以上の位置ではコイルの一部しか可動子１３の磁石に対面しないため力が小さくなる。コイル１２１ｂでは－１ＭＰ～２ＭＰにおいて正弦波の力となり、位相はコイル１２１ａと９０度ずれている。 Figure 4 shows the forces that the mover receives from coils 121a to 121c in the embodiment. That is, it shows the forces that the mover 31 receives from each coil when a constant current is passed through coils 121a, 121b, and 121c shown in Figure 2 in the same direction and the mover 31 is moved in the Y-axis direction. For coil 121a, the force is sinusoidal between -2.5 MP and 0.5 MP, and the force is smaller at positions before and after that, below -2.5 MP and above 0.5 MP, because only a portion of the coil faces the magnet of the mover 13. For coil 121b, the force is sinusoidal between -1 MP and 2 MP, and the phase is shifted by 90 degrees from coil 121a.

コイル１２１ｃでは０．５ＭＰ～３．５ＭＰにおいて正弦波の力となり、位相は１２１ａと１８０度ずれている。ここで、コイル１２１ａと１２１ｃにおいて、０．５ＭＰまではコイル１２１ａに電流を流し、０．５ＭＰ以上においてコイル１２１ｃに前記と逆向きの電流を流すと、連続的に正弦波状の力を発生することができる。このとき１つの電流ドライバを用い、１２１ａと１２１ｃでコイルの向きを逆向きに接続し、コイルと磁石の位置関係に応じて選択スイッチを用いてどちらかのコイルのみに電流を流すようにすれば、電流ドライバを個々のコイルに用意しないで済む。 Coil 121c produces a sine wave force at 0.5 MP to 3.5 MP, and is 180 degrees out of phase with 121a. Here, for coils 121a and 121c, if a current is passed through coil 121a up to 0.5 MP, and a current in the opposite direction is passed through coil 121c above 0.5 MP, a continuous sine wave force can be generated. In this case, one current driver is used, and the coils 121a and 121c are connected in opposite directions, and a selection switch is used to pass current through only one of the coils depending on the positional relationship between the coil and the magnet, eliminating the need to provide a current driver for each coil.

同様に３ＭＰの間隔で１つおきにコイルを交互の向きに電流を流すことにより、連続的に正弦波の力を発生することができる。全く同様にして１２１ｂを代表とするコイルとその１つおきのコイルに交互の向きに電流を流すことにより、連続的に正弦波の力を発生することができる。ここで、１２１ａに代表されるコイル群をＡ相、１２１ｂに代表されるコイル群をＢ相と呼ぶことにする。 Similarly, by passing current in alternating directions through every other coil at 3 MP intervals, it is possible to generate a continuous sinusoidal force. In exactly the same way, by passing current in alternating directions through coil 121b and every other coil therebetween, it is possible to generate a continuous sinusoidal force. Here, the group of coils represented by 121a will be called phase A, and the group of coils represented by 121b will be called phase B.

可動子３１に発生する推力Ｆは、Ａ相から受ける推力とＢ相からける推力の合計となり式（３）のように表される。
Ｆ＝Ｌ＊Ｂａ（Ｃ）’＊Ｉａ（Ｃ）＋Ｌ＊Ｂｂ（Ｃ）’＊Ｉｂ（Ｃ）・・・（３）
Ｌはコイルの導体の長さですべてのコイルで同一である。 The thrust F generated in the mover 31 is the sum of the thrust from the A phase and the thrust from the B phase, and is expressed by equation (3).
F = L * Ba(C)' * Ia(C) + L * Bb(C)' * Ib(C) ... (3)
L is the length of the conductor of the coil and is the same for all coils.

Ｂａ（Ｃ）’は可動子３１の有する磁石が固定子３２のＡ相のコイルに発生させる実際の磁束密度で、Ｉａ（Ｃ）は固定子３２のＡ相のコイルに流れる電流である。また、Ｂｂ（Ｃ）’は可動子３１の有する磁石が固定子３２のＢ相のコイルに発生させる実際の磁束密度で、Ｉｂ（Ｃ）は固定子３２のＢ相のコイルに流れる電流である。このとき理想の磁束密度Ｂａ（Ｃ）及びＢｂ（Ｃ）が以下の式（４），（５）で表されるとする。 Ba(C)' is the actual magnetic flux density that the magnet of the mover 31 generates in the A-phase coil of the stator 32, and Ia(C) is the current flowing through the A-phase coil of the stator 32. Also, Bb(C)' is the actual magnetic flux density that the magnet of the mover 31 generates in the B-phase coil of the stator 32, and Ib(C) is the current flowing through the B-phase coil of the stator 32. In this case, the ideal magnetic flux densities Ba(C) and Bb(C) are expressed by the following equations (4) and (5).

Ｂａ（Ｃ）＝Ｂ＊ｓｉｎ（２×π×Ｃ／ＭＰ）・・・（４）
Ｂｂ（Ｃ）＝Ｂ＊ｃｏｓ（２×π×Ｃ／ＭＰ）・・・（５）
Ｂは磁束密度の振幅であり、Ｃはコミュテーション位置である。磁石１１４，１１９やコイル１２１、位置検出器の原点の配置がすべて設計値通りになっているとすると、実際の磁束密度Ｂａ（Ｃ）’及びＢｂ（Ｃ）’と理想の磁束密度Ｂａ（Ｃ）及びＢｂ（Ｃ）は一致するので、等価となる。 Ba(C)=B*sin(2×π×C/MP) (4)
Bb(C)=B*cos(2×π×C/MP) (5)
B is the amplitude of the magnetic flux density, and C is the commutation position. If the arrangement of the magnets 114, 119, coil 121, and the origin of the position detector are all according to the design values, the actual magnetic flux densities Ba(C)' and Bb(C)' will match the ideal magnetic flux densities Ba(C) and Bb(C), and will be equivalent.

可動子３１に発生する推力Ｆを一定にするためには、コイル１２１のＡ相及びＢ相に流す電流Ｉａ（Ｃ）、Ｉｂ（Ｃ）を理想的な磁束密度に合わせて式（６），（７）の様にすればよい。
Ｉａ（Ｃ）＝Ｉ＊ｓｉｎ（２×π×Ｃ／ＭＰ）・・・（６）
Ｉｂ（Ｃ）＝Ｉ＊ｃｏｓ（２×π×Ｃ／ＭＰ）・・・（７） In order to keep the thrust force F generated in the mover 31 constant, the currents Ia(C) and Ib(C) flowing through the A-phase and B-phase of the coil 121 can be adjusted to an ideal magnetic flux density as shown in equations (6) and (7).
Ia(C)=I*sin(2×π×C/MP) (6)
Ib(C)=I*cos(2×π×C/MP) (7)

式（４），（５），（６），（７）を式（３）に代入すると
Ｆ＝Ｌ＊Ｂ＊Ｉ＊ ｓｉｎ（２×π×Ｃ／ＭＰ）＾２＋ Ｌ＊Ｂ＊Ｉ＊ ｃｏｓ（２×π×Ｃ／ＭＰ）＾２
＝Ｌ＊Ｂ＊Ｉ・・・（８）
となり、磁石１１４，１１９やコイル１２１、位置検出器の原点の配置がすべて設計値通りになっていれば、Ｂは磁束密度の振幅、Ｉは電流の振幅で一定なので推力Ｆは一定となる。 Substituting formulas (4), (5), (6), and (7) into formula (3), we get F = L*B*I* sin(2×π×C/MP)^2 + L*B*I* cos(2×π×C/MP)^2
= L * B * I ... (8)
If the arrangement of the magnets 114, 119, coil 121, and the origin of the position detector are all according to design values, B is the amplitude of the magnetic flux density, I is the amplitude of the current, and so thrust F is constant.

図５は実施例における、磁石やコイル、位置検出器の原点の配置がずれているときの配置と磁束密度の関係図である。図５の（Ａ）は磁石１１４，１１９やコイル１２１は設計値通りに配置され、位置検出器の原点のみずれてしまったときの図である。このとき理想的な磁束密度と実際の磁束密度にずれが生じてしまう。これは、コミュテーション位置Ｃ及び主極磁石１１４のピッチＭＰによって算出されている理想的な磁束密度が、原点のずれた位置検出器が出力したコミュテーション位置を元に算出されているためである。 Figure 5 shows the relationship between the arrangement and magnetic flux density when the arrangement of the magnets, coils, and origin of the position detector is misaligned in the embodiment. Figure 5 (A) shows the case when the magnets 114, 119 and coil 121 are arranged according to the design values, and only the origin of the position detector is misaligned. In this case, a discrepancy occurs between the ideal magnetic flux density and the actual magnetic flux density. This is because the ideal magnetic flux density calculated from the commutation position C and the pitch MP of the main pole magnet 114 is calculated based on the commutation position output by the position detector with a misaligned origin.

図５の（Ｂ）は位置検出器の原点は設計値通りの場所にあり、磁石１１４，１１９やコイル１２１が製造誤差や取り付け誤差などにより配置がずれているときの図である。磁石１１４，１１９やコイル１２１の配置に依存して実際の磁束密度が理想的な磁束密度とずれてしまっている。これは理想的な磁束密度では一定であるはずのピッチＭＰが場所により異なっていることが原因である。現実のリニアモータでは図５の（Ａ）、（Ｂ）の要因が組み合わさって、理想的な磁束密度と実際の磁束密度に複雑なずれが生じてしまう。 Figure 5 (B) shows a case where the origin of the position detector is located as designed, and the magnets 114, 119 and coil 121 are misaligned due to manufacturing errors, installation errors, etc. The actual magnetic flux density deviates from the ideal magnetic flux density depending on the arrangement of magnets 114, 119 and coil 121. This is because the pitch MP, which should be constant in an ideal magnetic flux density, differs from place to place. In an actual linear motor, the factors in Figures 5 (A) and (B) combine to create a complex deviation between the ideal magnetic flux density and the actual magnetic flux density.

そのため、リニアモータ１３に理想的な磁束密度に対して推力Ｆが一定となるような電流Ｉａ（Ｃ）及びＩｂ（Ｃ）を流しても、式（８）が成り立たないため、リニアモータ１３に生じる推力は一定にならない。この推力を一定にするために本実施例では、可動子３１の磁石によって発生する実際の磁束密度に合わせて電流Ｉａ（Ｃ）及びＩｂ（Ｃ）を補正している。 Therefore, even if currents Ia(C) and Ib(C) are passed through the linear motor 13 so that the thrust F is constant for an ideal magnetic flux density, equation (8) does not hold, and the thrust generated by the linear motor 13 will not be constant. In order to make this thrust constant, in this embodiment, the currents Ia(C) and Ib(C) are corrected to match the actual magnetic flux density generated by the magnet of the mover 31.

図６は本実施例における駆動システムの制御ブロック図である。電流ドライバ４２、切替えスイッチ４３、逆起電圧取り込み口４８、コミュテーション位置算出器５１、理想的な磁束密度算出器５２、実際の磁束密度算出器５３、ずれ量算出器５４はリニアモータ１３Ａ、リニアモータ１３Ｂで個別に構成する。コミュテーション位置算出器５１、理想的な磁束密度算出器５２、実際の磁束密度算出器５３、ずれ量算出器５４は処理部４４を構成する。 Figure 6 is a control block diagram of the drive system in this embodiment. The current driver 42, the changeover switch 43, the back electromotive force intake port 48, the commutation position calculator 51, the ideal magnetic flux density calculator 52, the actual magnetic flux density calculator 53, and the deviation amount calculator 54 are individually configured in the linear motor 13A and the linear motor 13B. The commutation position calculator 51, the ideal magnetic flux density calculator 52, the actual magnetic flux density calculator 53, and the deviation amount calculator 54 configure the processing unit 44.

破線枠で示したＥＥＰＲＯＭ４５、制御部４１、ステージ１１は、リニアモータ１３Ａ、リニアモータ１３Ｂに共通する構成である。なお、制御部４１にはコンピュータとしてのＣＰＵが内蔵されており、不図示のメモリに記憶されたコンピュータプログラムに基づき装置全体の各種動作を実行させる制御手段として機能する。
コミュテーション位置算出器５１はレーザ干渉計で取得したステージ１１の位置Ｐ１とエンコーダで得た固定子３２の位置Ｐ２を用いて式（１）よりコミュテーション位置Ｃを算出する。 The EEPROM 45, the control unit 41, and the stage 11, which are enclosed in dashed lines, are components common to the linear motors 13 A and 13 B. The control unit 41 has a built-in CPU as a computer, and functions as a control means for executing various operations of the entire apparatus based on computer programs stored in a memory (not shown).
A commutation position calculator 51 calculates a commutation position C from equation (1) using the position P1 of the stage 11 obtained by the laser interferometer and the position P2 of the stator 32 obtained by the encoder.

ここで、コミュテーション位置算出器５１はモータの固定子と可動子の相対位置（コミュテーション位置）を検出する位置検出部として機能している。
理想的な磁束密度算出器５２では、式（４），（５）から理想的な（基準となる）磁束密度を算出する。ここで理想的な磁束密度算出器５２は、前記相対位置に応じた基準となる磁束密度情報（磁束に対応した電圧値）を取得する取得部として機能している。
また、実際の磁束密度算出器５３では逆起電圧取り込み口４８から取り込んだ逆起電圧を元に実際の磁束密度を求める。即ち、実際の磁束密度算出器５３は、前記相対位置に応じた実際の磁束密度情報（電圧値）を測定する測定手段として機能している。 Here, the commutation position calculator 51 functions as a position detector that detects the relative position (commutation position) between the stator and the mover of the motor.
The ideal magnetic flux density calculator 52 calculates an ideal (reference) magnetic flux density from the formulas (4) and (5). Here, the ideal magnetic flux density calculator 52 functions as an acquisition unit that acquires reference magnetic flux density information (a voltage value corresponding to the magnetic flux) according to the relative position.
Moreover, the actual magnetic flux density calculator 53 calculates the actual magnetic flux density based on the back electromotive voltage taken from the back electromotive voltage take-in port 48. That is, the actual magnetic flux density calculator 53 functions as a measuring means for measuring the actual magnetic flux density information (voltage value) according to the relative position.

ずれ量算出器５４では理想的な磁束密度と実際の磁束密度を比較して、磁束密度の大きさが設定値Ｈとなる時のコミュテーション位置の差（ずれ量）を算出する。ずれ量算出器５４で算出されたΔＣをＥＥＰＲＯＭ４５などの記憶媒体にコミュテーション位置と紐づけて保存する。 The deviation calculator 54 compares the ideal magnetic flux density with the actual magnetic flux density, and calculates the difference (deviation) in the commutation position when the magnitude of the magnetic flux density becomes the set value H. The ΔC calculated by the deviation calculator 54 is stored in a storage medium such as the EEPROM 45 in association with the commutation position.

制御部４１はＥＥＰＲＯＭ４５に保存されたずれ量をもとに電流指令値を補正し電流ドライバ４２に指令を送る。
電流ドライバ４２はリニアモータ１３に指令値通りの電流を流しモータを駆動する。それによりステージ１１は駆動を行う。 The control unit 41 corrects the current command value based on the deviation amount stored in the EEPROM 45 and sends a command to the current driver 42 .
The current driver 42 drives the linear motor 13 by supplying a current according to a command value to the motor, thereby driving the stage 11.

以下に制御部４１（制御手段）による電流指令値の補正方法について詳細に述べる。制御部４１は不図示のメモリに記憶されたプログラムに基づき図７に示す処理を実行する。
図７は、実施例における、設定値が１つの時の補正方法を示すフローチャートであり、図７のフローチャートに沿って、電流指令値の補正方法について詳細に説明する。Ｓ１０１ではリニアモータ１３Ｂを一定速度ｖで駆動する。 A method for correcting the current command value by the control unit 41 (control means) will be described in detail below. The control unit 41 executes the process shown in FIG.
Fig. 7 is a flow chart showing a correction method when there is one set value in this embodiment, and the correction method of the current command value will be described in detail with reference to the flow chart of Fig. 7. In S101, the linear motor 13B is driven at a constant speed v.

Ｓ１０２では、リニアモータ１３Ｂを一定速度ｖで駆動した際のリニアモータ１３ＡのＡ相及びＢ相のコイル１２１に発生する逆起電圧Ｖａ（Ｃ）及びＶｂ（Ｃ）を、リニアモータ１３Ａの切り替えスイッチ４３を逆起電圧取り込み口４８に接続して測定する。即ち、前記測定された磁束密度情報は、可動子を動かしたときに得られる逆起電圧に基づいて決定される。 In S102, the back electromotive voltages Va(C) and Vb(C) generated in the A-phase and B-phase coils 121 of the linear motor 13A when the linear motor 13B is driven at a constant speed v are measured by connecting the changeover switch 43 of the linear motor 13A to the back electromotive voltage intake port 48. In other words, the measured magnetic flux density information is determined based on the back electromotive voltage obtained when the mover is moved.

次にＳ１０３で実際の磁束密度算出器５３が測定した逆起電圧を元に実際の磁束密度Ｂａ（Ｃ）’及びＢｂ（Ｃ）’を算出する。
ここで実際の磁束密度の算出方法を説明する。可動子３１を動かしたときの逆起電圧Ｖａ（Ｃ）及びＶｂ（Ｃ）は以下の式で表される。
Ｖａ（Ｃ）＝ｖ＊Ｂａ（Ｃ）’＊Ｌ・・・（９）
Ｖｂ（Ｃ）＝ｖ＊Ｂｂ（Ｃ）’＊Ｌ・・・（１０） Next, in S103, the actual magnetic flux density calculator 53 calculates the actual magnetic flux densities Ba(C)' and Bb(C)' based on the measured back electromotive voltage.
Here, a method for calculating the actual magnetic flux density will be described. The back electromotive voltages Va(C) and Vb(C) when the mover 31 is moved are expressed by the following equations.
Va(C)=v*Ba(C)'*L (9)
Vb(C)=v*Bb(C)'*L (10)

このとき可動子３１を一定速度ｖで動かせば、Ｌは導体の長さですべてのコイルで同一のため、逆起電圧Ｖａ（Ｃ）及びＶｂ（Ｃ）は実際の磁束密度Ｂａ（Ｃ）’及びＢｂ（Ｃ）’に比例する。よって、先ほど取得した逆起電圧Ｖａ（Ｃ）及びＶｂ（Ｃ）は、リニアモータ１３Ａの実際の磁束密度Ｂａ（Ｃ）’及びＢｂ（Ｃ）’とみなすことが出来る。 If the mover 31 is moved at a constant speed v, L is the length of the conductor and is the same for all coils, so the back electromotive voltages Va(C) and Vb(C) are proportional to the actual magnetic flux densities Ba(C)' and Bb(C)'. Therefore, the back electromotive voltages Va(C) and Vb(C) obtained earlier can be regarded as the actual magnetic flux densities Ba(C)' and Bb(C)' of the linear motor 13A.

Ｓ１０４では理想的な磁束密度算出器５２が、コミュテーション位置算出器５１が算出したコミュテーション位置と主極磁石１１４のピッチＭＰを用いて理想的な磁束密度を算出する。 In S104, the ideal magnetic flux density calculator 52 calculates the ideal magnetic flux density using the commutation position calculated by the commutation position calculator 51 and the pitch MP of the main pole magnet 114.

Ｓ１０５では実際の磁束密度と理想的な磁束密度を正規化する。即ち、振幅を揃えた状態で相対位置の差を取得するようにしている。実際の磁束密度Ｂａ（Ｃ）’及びＢｂ（Ｃ）’は逆起電圧Ｖａ（Ｃ）及びＶｂ（Ｃ）と等価なので、Ｂａ（Ｃ）’及びＢｂ（Ｃ）’を逆起電圧の振幅Ｖで除すことで正規化した実際の磁束密度Ｂａ＿ｎｏｒ（Ｃ）’及びＢｂ＿ｎｏｒ（Ｃ）’を求めることが出来る。同様にして、Ｓ１０４で求めた理想的な磁束密度Ｂａ（Ｃ）及びＢｂ（Ｃ）も振幅Ｂで除すことで、正規化した理想的な磁束密度Ｂａ＿ｎｏｒ（Ｃ）及びＢｂ＿ｎｏｒ（Ｃ）を求めることが出来る。
 In S105, the actual magnetic flux density and the ideal magnetic flux density are normalized. That is, the difference in relative position is obtained with the amplitudes aligned. Since the actual magnetic flux densities Ba(C)' and Bb(C)' are equivalent to the back electromotive voltages Va(C) and Vb(C), the normalized actual magnetic flux densities Ba_nor(C)' and Bb_nor(C)' can be obtained by dividing Ba(C)' and Bb(C)' by the amplitude V of the back electromotive voltage. Similarly, the ideal magnetic flux densities Ba(C) and Bb(C) obtained in S104 are also divided by the amplitude B to obtain the normalized ideal magnetic flux densities Ba_nor(C) and Bb_nor(C).

この正規化は理想的な磁束密度Ｂａ（Ｃ）及びＢｂ（Ｃ）と実際の磁束密度Ｂａ（Ｃ）’及びＢｂ（Ｃ）’のずれ量を算出する際に振幅を合わせるために行っており、これにより図８の－１～１の任意の設定値でずれ量を算出することが出来る。
図８は実施例における、実際の磁束密度と理想的な磁束密度のずれと１つの設定値を表す図である。 This normalization is performed to adjust the amplitude when calculating the deviation between the ideal magnetic flux densities Ba(C) and Bb(C) and the actual magnetic flux densities Ba(C)' and Bb(C)', and this makes it possible to calculate the deviation at any setting value between -1 and 1 in Figure 8.
FIG. 8 is a diagram showing the deviation between the actual magnetic flux density and the ideal magnetic flux density and one set value in the embodiment.

Ｓ１０６では先ほど求めた正規化した実際の磁束密度Ｂａ＿ｎｏｒ（Ｃ）’と正規化した理想的な磁束密度Ｂａ＿ｎｏｒ（Ｃ）で、ずれ量の算出を行う。
図８に示すように、任意の所定の設定値Ｈを－１～１の範囲で設定し、実際の磁束密度Ｂａ＿ｎｏｒ（Ｃ）’及び理想的な磁束密度Ｂａ＿ｎｏｒ（Ｃ）と設定値Ｈの交点から第１のコミュテーション位置、第２のコミュテーション位置を求める。ここで、設定値Ｈは基準となる磁束密度情報及び測定された磁束密度情報の振幅内の所定の設定値である。 In S106, the amount of deviation is calculated using the normalized actual magnetic flux density Ba_nor(C)' obtained earlier and the normalized ideal magnetic flux density Ba_nor(C).
8, an arbitrary predetermined set value H is set in the range of -1 to 1, and the first commutation position and the second commutation position are obtained from the intersections of the actual magnetic flux density Ba_nor(C)' and the ideal magnetic flux density Ba_nor(C) with the set value H. Here, the set value H is a predetermined set value within the amplitude of the reference magnetic flux density information and the measured magnetic flux density information.

第１のコミュテーション位置、第２のコミュテーション位置は磁束が一周期変化する中で複数求めることが出来る。
ＨとＢａ＿ｎｏｒ（Ｃ）の交点である第１のコミュテーション位置（第１の相対位置）をＣ１，Ｃ２，Ｃ３，…とし、ＨとＢａ＿ｎｏｒ（Ｃ）’の交点である第２のコミュテーション位置（第２の相対位置）をＣ１’，Ｃ２’，Ｃ３‘，…とする。即ち、制御手段は、基準となる磁束密度情報（電圧）の大きさが所定の設定値と一致する時の相対位置を第１の相対位置とし、測定手段によって測定された磁束密度情報の大きさが前記所定の設定値と一致する時の前記相対位置を第２の相対位置としている。 A plurality of first commutation positions and a plurality of second commutation positions can be obtained while the magnetic flux changes in one period.
The first commutation positions (first relative positions) which are the intersections of H and Ba_nor(C) are denoted as C1, C2, C3, ..., and the second commutation positions (second relative positions) which are the intersections of H and Ba_nor(C)' are denoted as C1', C2', C3', .... That is, the control means defines the relative position when the magnitude of the reference magnetic flux density information (voltage) matches a predetermined set value as the first relative position, and defines the relative position when the magnitude of the magnetic flux density information measured by the measurement means matches the predetermined set value as the second relative position.

Ｃ１，Ｃ１’の様にコミュテーション位置が最も近いもの同士を１つの対とする。
ΔＣ１＝Ｃ１－Ｃ１’・・・（１１）
上式（１１）のようにそれぞれの対でずれ量ΔＣを算出する。
Ｓ１０７では図８で示すように、第２のコミュテーション位置Ｃ１’と次の第２のコミュテーション位置Ｃ２’との間の区間をＩＮＴ１とし、算出されたずれ量ΔＣ１とＩＮＴ１を紐づけしてＥＥＰＲＯＭ４５などの記憶媒体に保存する。 The commutation positions that are closest to each other, such as C1 and C1', are considered as one pair.
ΔC1=C1-C1' (11)
The deviation amount ΔC is calculated for each pair as in the above formula (11).
In S107, as shown in FIG. 8, the section between the second commutation position C1' and the next second commutation position C2' is set as INT1, and the calculated deviation amount ΔC1 and INT1 are linked and stored in a storage medium such as the EEPROM 45.

同様に第２のコミュテーション位置Ｃ２’と次の第２のコミュテーション位置Ｃ３’との間の区間をＩＮＴ２とし、算出されたずれ量ΔＣ２とＩＮＴ２を紐づけして保存する。これらの動作をすべてのずれ量で行う。即ち、前記第１の相対位置と前記第２の相対位置の差（ずれ量ΔＣ）を、前記測定された磁束密度情報が一周期変化する期間において複数回取得し保存している。 Similarly, the section between the second commutation position C2' and the next second commutation position C3' is designated as INT2, and the calculated deviation amount ΔC2 and INT2 are linked and stored. These operations are performed for all deviation amounts. In other words, the difference (deviation amount ΔC) between the first relative position and the second relative position is acquired multiple times during the period in which the measured magnetic flux density information changes for one cycle, and stored.

Ｓ１０８ではリニアモータ１３Ｂでずれ量を算出したことを確認する。行っていない場合はＳ１０９で今度はリニアモータ１３Ａを一定速度ｖで駆動する。その後はＳ１０２～Ｓ１０８を行い終了する。これによってリニアモータ１３Ａのずれ量データとリニアモータ１３Ｂのずれ量を両方取得する。 In S108, it is confirmed that the deviation amount has been calculated by linear motor 13B. If not, in S109, linear motor 13A is driven at a constant speed v. Then, S102 to S108 are performed and the process ends. In this way, both deviation amount data of linear motor 13A and deviation amount of linear motor 13B are obtained.

このように、本実施例ではモータ１３Ａと、他のモータ１３Ｂとを有し、制御手段は、他のモータ１３Ｂを駆動することによって、モータ１３Ａの逆起電圧を測定するようにしている。また、モータ１３Ａを駆動することによって、他のモータ１３Ｂの逆起電圧を測定するようにしている点に特徴を有する。更に両方のモータを同時に駆動することによってステージ（対象物）を同じ方向に移動させることができるように構成されている点にも特徴を有する。 In this way, this embodiment has a motor 13A and another motor 13B, and the control means measures the back electromotive voltage of the motor 13A by driving the other motor 13B. Another feature is that the control means measures the back electromotive voltage of the other motor 13B by driving the motor 13A. Another feature is that the control means is configured to be able to move the stage (object) in the same direction by driving both motors simultaneously.

次に、これらのずれ量を用いて電流指令値を補正する方法を説明する。ＩＮＴ１の区間のコミュテーション位置では以下の式（１２），（１３）のΔＣにΔＣ１を代入して電流指令値を補正する。同様にＩＮＴ２の区間のコミュテーション位置では式（１２），（１３）のΔＣにΔＣ２を代入して電流指令値を補正する。即ち、制御手段は、前記複数回のそれぞれの差に基づいて、前記モータの駆動電流を制御している。 Next, a method for correcting the current command value using these deviation amounts will be described. At the commutation position of the INT1 section, ΔC1 is substituted for ΔC in the following equations (12) and (13) to correct the current command value. Similarly, at the commutation position of the INT2 section, ΔC2 is substituted for ΔC in the equations (12) and (13) to correct the current command value. In other words, the control means controls the drive current of the motor based on the difference between each of the multiple times.

Ｉａ（Ｃ）＝Ｉ＊ｓｉｎ（２×π×（Ｃ－ΔＣ）／ＭＰ）・・・（１２）
Ｉｂ（Ｃ）＝Ｉ＊ｃｏｓ（２×π×（Ｃ－ΔＣ）／ＭＰ）・・・（１３）
このように各コミュテーション位置で、コミュテーション位置が含まれる区間と紐づけられたずれ量を加算して電流指令値をきめ細かに補正することによって、１周期内のずれ量の変動をきめ細かに補正することができる。 Ia(C)=I*sin(2×π×(C−ΔC)/MP) (12)
Ib(C)=I*cos(2×π×(C−ΔC)/MP) (13)
In this way, by adding the deviation amount associated with the section in which the commutation position is included at each commutation position and finely correcting the current command value, it is possible to finely correct fluctuations in the deviation amount within one period.

即ち、図５（Ｂ）に示す理想的な磁束密度カーブと実際の磁束密度カーブを精度良く一致させることができる。なお、最初のずれ量を算出するまでの区間は最初のずれ量であるΔＣ１を用いて補正を行う。 In other words, the ideal magnetic flux density curve shown in FIG. 5(B) and the actual magnetic flux density curve can be matched with high precision. Note that the correction is performed using the initial deviation amount ΔC1 in the section up to the calculation of the initial deviation amount.

電流ドライバ４２はリニアモータ１３に補正した指令値の電流を流しモータを駆動する。それによりステージ１１は高精度な駆動を行う。
なお、上記の説明では固定子にコイル、可動子に永久磁石を用いるリニアモータを用いたがこれは逆の構成でもよい。 The current driver 42 drives the linear motor 13 by supplying a current of the corrected command value to the motor, thereby driving the stage 11 with high precision.
In the above description, a linear motor is used in which a coil is used as a stator and a permanent magnet is used as a mover, but the configuration may be reversed.

図９は実施例における、設定値が複数の時の補正方法を示すフローチャートであり、図９を用いて、より細かい補正を行う場合の処理について説明する。
Ｓ２０１からＳ２０５までは、Ｓ１０１からＳ１０５の処理と同様なので説明を省略する。
Ｓ２０６では、実施例１では１つであった設定値Ｈの数を、図１０の様に複数設定する。図１０は実施例における、実際の磁束密度と理想的な磁束密度のずれと複数の設定値を表す図である。 FIG. 9 is a flow chart showing a correction method when there are a plurality of set values in this embodiment, and the process for making finer corrections will be described with reference to FIG.
The processes from S201 to S205 are similar to those from S101 to S105, and therefore the description thereof will be omitted.
In S206, the number of set values H, which was one in the first embodiment, is set to a plurality of values as shown in Fig. 10. Fig. 10 is a diagram showing the deviation between the actual magnetic flux density and the ideal magnetic flux density and a plurality of set values in the embodiment.

本実施例では、その設定値Ｈを上からＨ１，Ｈ２とする。Ｓ２０７ではＳ１０６と同様にしてＳ２０６で設定した設定値を用いてずれ量の算出を行う。
Ｓ２０８ではＳ２０６設定した設定値の全てでＳ２０７を行ったかを判定し、行ってない場合は次の設定値ＨでＳ２０７を繰り返す。１つの設定値で算出できるずれ量の数をＮ＿ｓｈ、設定値の数をＮ＿ｓｔとすると全部でＮ＿ｓｈ＊Ｎ＿ｓｔ個のずれ量を求めることが出来る。 In this embodiment, the set values H are H1 and H2 from the top. In S207, the deviation amount is calculated using the set values set in S206 in the same manner as in S106.
In S208, it is determined whether S207 has been performed for all the set values set in S206, and if not, S207 is repeated for the next set value H. If the number of deviation amounts that can be calculated using one set value is N_sh and the number of set values is N_st, then a total of N_sh*N_st deviation amounts can be calculated.

Ｓ２０９では算出されたΔＣを第２のコミュテーション位置Ｃの小さい順に並び変える。そしてＳ２１０では図１０で示すように、第２のコミュテーション位置Ｃ１’とＳ２０９で並び替えた順番で次の第２のコミュテーション位置であるＣ２’との間の区間をＩＮＴ１とする。そして、算出されたずれ量ΔＣ１とＩＮＴ１を紐づけしてＥＥＰＲＯＭ４５などの記憶媒体に保存する。 In S209, the calculated ΔC are rearranged in ascending order of the second commutation positions C. Then, in S210, as shown in FIG. 10, the section between the second commutation position C1' and the next second commutation position C2' in the order rearranged in S209 is set as INT1. The calculated deviation amount ΔC1 and INT1 are then linked and stored in a storage medium such as EEPROM 45.

同様に第２のコミュテーション位置Ｃ２’とＳ２０９で並び替えた順番で次の第２のコミュテーション位置となるＣ５’との間の区間をＩＮＴ２とし、算出されたずれ量ΔＣ２とＩＮＴ２を紐づけして保存する。
これらの動作をすべてのずれ量で行う。Ｓ２１１ではリニアモータ１３Ｂでずれ量を算出したことを確認する。行っていない場合はＳ２１２でリニアモータ１３Ａを一定速度ｖで駆動する。その後はＳ２０２～Ｓ２１１を行い終了する。これによってリニアモータ１３Ａのずれ量データとリニアモータ１３Ｂのずれ量を両方取得する。 Similarly, the section between the second commutation position C2' and C5' which is the next second commutation position in the order rearranged in S209 is set as INT2, and the calculated deviation amount ΔC2 and INT2 are linked and saved.
These operations are performed for all deviation amounts. In S211, it is confirmed that the deviation amount has been calculated for linear motor 13B. If not, linear motor 13A is driven at a constant speed v in S212. Then, S202 to S211 are performed and the process ends. In this way, both deviation amount data for linear motor 13A and deviation amount data for linear motor 13B are obtained.

補正は実施例１と同様に各コミュテーション位置で、コミュテーション位置が属する区間と紐づけられたずれ量を用いて補正を行う。これにより、より細かい区間に区切って補正を行えるためより正確な補正が逐次可能となる。
なおこの説明でも固定子にコイル、可動子に永久磁石を用いるリニアモータを用いたがこれは逆の構成でもよい。 The correction is performed at each commutation position using the amount of deviation associated with the section to which the commutation position belongs, as in the case of the first embodiment. This allows the correction to be performed by dividing the section into smaller sections, making it possible to perform more accurate corrections in sequence.
In this explanation, a linear motor using a coil for the stator and a permanent magnet for the mover is used, but the configuration may be reversed.

また、本実施例で求めたずれ量は電流指令値（駆動電流）を補正する以外に、コイルの切り替えのタイミングを補正することにも用いることが出来る。先述したように、リニアモータは電流を流すコイルを制御して駆動を行っている。コイルを切り替える際は相全体で見た電流がなめらかになるよう切り替えることが理想ではある。 The deviation amount found in this embodiment can be used to correct the current command value (drive current) as well as the timing of coil switching. As mentioned above, a linear motor is driven by controlling the coils through which current flows. Ideally, when switching coils, the current should be switched so that it becomes smooth when viewed across the entire phase.

切り替えタイミングはコイルの設計値を元に決定しているが、図５（Ｂ）で示すように磁石１１４，１１９やコイル１２１は製造誤差や取り付け誤差などでずれている。設計値を元にした切り替えタイミングであるＴ１のコミュテーション位置で切り替えてしまうと補正した電流指令値がなめらかにならない。そこで本実施例で求めたずれ量を用いて切り替えタイミングＴ１を補正してＴ２にすることで電流をなめらかに切り替えることが出来る。 The switching timing is determined based on the design values of the coil, but as shown in Figure 5 (B), magnets 114, 119 and coil 121 are misaligned due to manufacturing errors and installation errors. If switching occurs at the commutation position of T1, which is the switching timing based on the design values, the corrected current command value will not be smooth. Therefore, by correcting the switching timing T1 to T2 using the amount of deviation calculated in this embodiment, the current can be switched smoothly.

次に、磁束密度の一周期内のずれを考慮した補正を行う駆動システムを走査露光装置６００に適用した例について説明する。
図１１は実施例における、走査露光装置の例を示した図であり、走査露光装置６００は、スリットによって整形されたスリット光により基板１４を走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置である。走査露光装置６００は、照明光学系２３、原版ステージ２６、投影光学系２７、基板ステージ１５、原版ステージ位置計測部１７、基板ステージ位置計測部１８、基板マーク計測部２１、基板搬送部２２、制御部２４を含む。 Next, an example in which a driving system that performs correction taking into account the deviation within one period of magnetic flux density is applied to a scanning exposure apparatus 600 will be described.
11 is a diagram showing an example of a scanning exposure apparatus in the embodiment, and the scanning exposure apparatus 600 is a step-and-scan type exposure apparatus that scans and exposes a substrate 14 with slit light shaped by a slit. The scanning exposure apparatus 600 includes an illumination optical system 23, an original stage 26, a projection optical system 27, a substrate stage 15, an original stage position measuring unit 17, a substrate stage position measuring unit 18, a substrate mark measuring unit 21, a substrate transport unit 22, and a control unit 24.

なお基板ステージ１５は基板を保持し移動させるためのステージであり、実施例の駆動システムによって駆動される。
制御部２４は、照明光学系２３、原版ステージ２６、投影光学系２７、基板ステージ１５、原版ステージ位置計測部１７、基板ステージ位置計測部１８、基板マーク計測部２１、基板搬送部２２、を制御する。 The substrate stage 15 is a stage for holding and moving the substrate, and is driven by the drive system of the embodiment.
The control unit 24 controls the illumination optical system 23 , the original stage 26 , the projection optical system 27 , the substrate stage 15 , the original stage position measurement unit 17 , the substrate stage position measurement unit 18 , the substrate mark measurement unit 21 , and the substrate transport unit 22 .

制御部２４は、原版に形成されたパターンを基板１４に転写する処理（基板１４を走査露光する処理）を制御する。
制御部２４は、例えば、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ ＡｒｒａＹの略。）などのＰＬＤ（Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅの略。）によって構成される。 The control unit 24 controls the process of transferring the pattern formed on the original onto the substrate 14 (the process of scanning and exposing the substrate 14).
The control unit 24 is configured by, for example, a PLD (abbreviation of Programmable Logic Device) such as an FPGA (abbreviation of Field Programmable Gate Array).

或いは、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔの略。）、又は、プログラムが組み込まれた汎用コンピュータ、又は、これらの全部または一部の組み合わせによって構成しても良い。また、制御部２４はアクチュエータを制御するドライバも含む。 Alternatively, it may be configured as an ASIC (short for Application Specific Integrated Circuit), a general-purpose computer with a built-in program, or a combination of all or part of these. The control unit 24 also includes a driver that controls the actuator.

照明光学系２３は、原版２５を照明する。照明光学系２３は、マスクキングブレードなどの遮光部材により、光源（不図示）から射出された光を、例えばＸ方向に長い帯状または円弧状の形状を有するスリット光に整形し、そのスリット光で原版２５の一部を照明する。原版２５および基板１４は、原版ステージ２６および基板ステージ１５によってそれぞれ保持されており、投影光学系２７を介して光学的にほぼ共役な位置（投影光学系２７の物体面および像面）にそれぞれ配置される。 The illumination optical system 23 illuminates the original 25. The illumination optical system 23 uses a light-shielding member such as a masking blade to shape the light emitted from a light source (not shown) into a slit light having, for example, a strip-like or arc-like shape that is long in the X direction, and illuminates a part of the original 25 with the slit light. The original 25 and the substrate 14 are held by the original stage 26 and the substrate stage 15, respectively, and are respectively placed at positions that are approximately optically conjugate via the projection optical system 27 (the object plane and image plane of the projection optical system 27).

投影光学系２７は、所定の投影倍率（例えば１／２倍や１／４倍）を有し、原版２５のパターンをスリット光により基板１４上に投影する。原版２５のパターンが投影された基板１４上の領域（スリット光が照射される領域）は、照射領域と呼ばれる。原版ステージ２６および基板ステージ１５は、投影光学系２７の光軸方向（Ｚ方向）に直交する方向（Ｙ方向）に移動可能に構成されている。原版ステージ２６および基板ステージ１５は、互いに同期しながら、投影光学系２７の投影倍率に応じた速度比で相対的に走査される。 The projection optical system 27 has a predetermined projection magnification (e.g., 1/2 or 1/4), and projects the pattern of the original 25 onto the substrate 14 using slit light. The area on the substrate 14 onto which the pattern of the original 25 is projected (the area illuminated by the slit light) is called the irradiation area. The original stage 26 and the substrate stage 15 are configured to be movable in a direction (Y direction) perpendicular to the optical axis direction (Z direction) of the projection optical system 27. The original stage 26 and the substrate stage 15 are scanned relatively to each other in synchronization with each other at a speed ratio according to the projection magnification of the projection optical system 27.

これにより、照射領域に対して基板１４がＹ方向に走査され、原版２５に形成されたパターンが基板１４上のショット領域に転写される。そして、このような走査露光を、基板ステージ１５を移動させながら、基板１４の複数のショット領域の各々について順次に行うことにより、１枚の基板１４における露光処理が完了する。 As a result, the substrate 14 is scanned in the Y direction relative to the irradiation area, and the pattern formed on the original 25 is transferred to the shot area on the substrate 14. Then, this scanning exposure is performed sequentially for each of the multiple shot areas of the substrate 14 while moving the substrate stage 15, thereby completing the exposure process for one substrate 14.

原版ステージ位置計測部１７は、例えばレーザ干渉計を含み、原版ステージ２６の位置を計測する。レーザ干渉計は、例えば、レーザ光を原版ステージ２６に設けられた反射板（不図示）に向けて照射し、反射板で反射されたレーザ光と基準面で反射されたレーザ光との干渉によって原版ステージ２６の変位（基準位置からの変位）を検出する。 The master stage position measurement unit 17 includes, for example, a laser interferometer, and measures the position of the master stage 26. The laser interferometer, for example, irradiates laser light toward a reflector (not shown) provided on the master stage 26, and detects the displacement of the master stage 26 (displacement from a reference position) by interference between the laser light reflected by the reflector and the laser light reflected by a reference surface.

原版ステージ位置計測部１７は、当該変位に基づいて原版ステージ２６の現在位置を取得することができる。ここで、原版ステージ位置計測部１７は、レーザ光を用いたレーザ干渉計によって原版ステージ２６の位置を計測しているが、それに限られるものではなく、例えば、エンコーダによって原版ステージ２６の位置を計測してもよい。 The master stage position measuring unit 17 can obtain the current position of the master stage 26 based on the displacement. Here, the master stage position measuring unit 17 measures the position of the master stage 26 by a laser interferometer using laser light, but this is not limited thereto, and for example, the position of the master stage 26 may be measured by an encoder.

基板ステージ位置計測部１８は、例えばレーザ干渉計を含み、基板ステージ１５の位置を計測する。レーザ干渉計は、例えば、レーザ光を基板ステージ１５に設けられた反射板（不図示）に向けて照射し、反射板で反射されたレーザ光と基準面で反射されたレーザ光との干渉によって基板ステージ１５の変位（基準位置からの変位）を検出する。基板ステージ位置計測部１８は、当該変位に基づいて基板ステージ１５の現在位置を取得することができる。 The substrate stage position measurement unit 18 includes, for example, a laser interferometer, and measures the position of the substrate stage 15. The laser interferometer, for example, irradiates laser light toward a reflector (not shown) provided on the substrate stage 15, and detects the displacement of the substrate stage 15 (displacement from a reference position) by interference between the laser light reflected by the reflector and the laser light reflected by a reference surface. The substrate stage position measurement unit 18 can obtain the current position of the substrate stage 15 based on the displacement.

ここで、基板ステージ位置計測部１８は、レーザ光を用いたレーザ干渉計によって基板ステージ１５の位置を計測しているが、それに限られるものではなく、例えば、エンコーダによって基板ステージ１５の位置を計測してもよい。
基板マーク計測部２１は、例えば撮像素子を含み、基板上に設けられたマークの位置を検出することが出来る。
 Here, the substrate stage position measurement unit 18 measures the position of the substrate stage 15 by a laser interferometer using laser light, but this is not limited to this, and for example, the position of the substrate stage 15 may be measured by an encoder.
The board mark measurement unit 21 includes, for example, an imaging element, and can detect the position of a mark provided on the board.

ここで、本実施例の基板マーク計測部２１は、撮像素子によってマークが検出されるが、それに限られるものではなく、例えば透過型センサによってマークが検出されてもよい。
基板搬送部２２は、基板を基板ステージ１５に供給および回収する。
露光装置の原板のパターンを基板に焼き付ける際のシーケンスについて図１２のフローチャートを用いて説明する。図１２は実施例における、露光装置のシーケンス示したフローチャートである。 Here, in the board mark measuring section 21 of this embodiment, the marks are detected by an imaging element, but this is not limited to this, and the marks may be detected by, for example, a transmission type sensor.
The substrate transport unit 22 supplies and recovers the substrate to and from the substrate stage 15 .
The sequence of the exposure apparatus when printing a pattern of an original onto a substrate will be described with reference to the flow chart of Fig. 12. Fig. 12 is a flow chart showing the sequence of the exposure apparatus in this embodiment.

ステップＳ７００で露光シーケンスを開始し、ステップＳ７０１で基板搬送部２２が基板（ウエハ）１４を基板ステージ１５の上に供給（ロード）する。次に、ステップＳ７０２で、露光レシピに定義された基板１４上のマークが基板マーク計測部２１の計測視野内に入るように、基板ステージ１５を駆動し、基板のアライメントを実施する。
その後、ステップＳ７０３で原版ステージ２６と基板ステージ１５を同期させて走査駆動を行い、原版のパターンを、投影光学系２７を通して基板１４上に逐次露光する。 In step S700, the exposure sequence is started, and in step S701, the substrate transport unit 22 supplies (loads) the substrate (wafer) 14 onto the substrate stage 15. Next, in step S702, the substrate stage 15 is driven so that the mark on the substrate 14 defined in the exposure recipe falls within the measurement field of the substrate mark measurement unit 21, thereby performing substrate alignment.
Thereafter, in step S 703 , the original stage 26 and the substrate stage 15 are driven for scanning in synchronization with each other, and the pattern of the original is sequentially exposed onto the substrate 14 through the projection optical system 27 .

このとき、露光レシピに定義された露光順序や露光画角に従う。最後に、ステップＳ７０４で基板搬送部２２が基板１４を基板ステージから回収（アンロード）する。以上で基板にパターンを露光する工程は完了する。 At this time, the exposure sequence and exposure angle of view defined in the exposure recipe are followed. Finally, in step S704, the substrate transport unit 22 retrieves (unloads) the substrate 14 from the substrate stage. This completes the process of exposing the pattern onto the substrate.

次に実施例１の構成を、実施例２の基板ステージ１５の制御に適用する場合について説明する。図６における制御部４１は制御部２４、電流ドライバ４２は制御部２４、処理部４４は制御部２４、ＥＥＰＲＯＭ４５は制御部２４、リニアモータ１３は基板ステージ１５、ステージ１１は基板ステージ１５に該当する。 Next, a case where the configuration of the first embodiment is applied to the control of the substrate stage 15 of the second embodiment will be described. In FIG. 6, the control unit 41 corresponds to the control unit 24, the current driver 42 corresponds to the control unit 24, the processing unit 44 corresponds to the control unit 24, the EEPROM 45 corresponds to the control unit 24, the linear motor 13 corresponds to the substrate stage 15, and the stage 11 corresponds to the substrate stage 15.

磁束密度の一周期内のずれを考慮した駆動システムを基板ステージ１５に適用することで、ステージの推力を一定に近づけることが出来るので、露光装置の精度を向上することができる。 By applying a drive system to the substrate stage 15 that takes into account the deviation within one period of the magnetic flux density, the thrust force of the stage can be made closer to constant, thereby improving the accuracy of the exposure device.

なお、走査露光装置の基板ステージ１５に適用する場合、実施例１のように設定値を１つ設定する適用方法と実施例２のように設定値を複数設定する適用方法のどちらを適用してもよい。
また、図７，図９に示すずれ量の保存フローは、図１２に示す露光動作を行う前に実施しておく。そして事前に保存したずれ量を用いて、実施例１または実施例２に示したような電流指令値の補正方法を適用しつつ基板ステージ１５を駆動する。 When applied to the substrate stage 15 of a scanning exposure apparatus, either the application method in which one setting value is set as in the first embodiment or the application method in which multiple setting values are set as in the second embodiment may be applied.
7 and 9 is performed before the exposure operation shown in Fig. 12 is performed. Then, the substrate stage 15 is driven by using the deviation amount stored in advance while applying the correction method of the current command value as shown in the first or second embodiment.

このように、基板ステージ１５の制御を行うに際して、ずれ量を複数保存してそれらを用いて電流指令値を補正する駆動システムを適用することで、Ｓ７０３の露光シーケンスにおいて高い精度で露光を行えるという効果が得られる。 In this way, by applying a drive system that stores multiple deviation amounts and uses them to correct the current command value when controlling the substrate stage 15, it is possible to achieve the effect of performing exposure with high accuracy in the exposure sequence of S703.

なお、実施例１または実施例２の制御を、原版ステージ２６の位置制御に適用する場合、図６における制御部４１、電流ドライバ４２、処理部４４、ＥＥＰＲＯＭ４５等は制御部２４に含まれる。また、リニアモータ１３は原版ステージ２６駆動用のモータ、ステージ１１は原版ステージ２６に相当することになる。 When the control of the first or second embodiment is applied to the position control of the original stage 26, the control unit 41, the current driver 42, the processing unit 44, the EEPROM 45, etc. in FIG. 6 are included in the control unit 24. The linear motor 13 corresponds to the motor for driving the original stage 26, and the stage 11 corresponds to the original stage 26.

基板ステージ１５に適用した場合と同様に、原版を保持する原版ステージ２６にも本実施例を適用することができ、原版ステージ２６に適用した場合のいても、ずれ量の保存や電流指令値の補正を精度良く行うことができる。
即ち、原版ステージ２６も基板ステージ１５と同様に、ずれ量を複数保存してそれらを用いて電流指令値を補正することで、Ｓ７０３の露光シーケンスにおいて、高い精度で露光を行えるという効果が得られる。 As when applied to the substrate stage 15, this embodiment can also be applied to the original stage 26 that holds the original, and even when applied to the original stage 26, the amount of deviation can be preserved and the current command value can be corrected with high accuracy.
That is, similarly to the substrate stage 15, the original stage 26 also stores a plurality of deviation amounts and uses them to correct the current command value, thereby obtaining the effect of enabling exposure to be performed with high accuracy in the exposure sequence of S703.

次に、前述の露光装置を利用した物品（半導体ＩＣ素子、液晶表示素子、ＭＥＭＳ等）の製造方法を説明する。
物品は、例えば前述の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板（ウェハ、ガラス基板等）を露光する工程と、その基板（感光剤）を現像する工程と、現像された基板を後処理の工程で処理することにより製造される。 Next, a method for manufacturing an article (such as a semiconductor IC element, a liquid crystal display element, or a MEMS) using the above-mentioned exposure apparatus will be described.
The article is manufactured by, for example, using the above-mentioned exposure apparatus, exposing a substrate (wafer, glass substrate, etc.) coated with a photosensitive agent, developing the substrate (photosensitive agent), and processing the developed substrate in a post-processing step.

あるいはインプリント装置において、原版としての型を使用して、インプリント材が塗布された基板を押印する工程と離型する工程を経て、後処理の工程（押印された基板から物品を製造する工程）を実行することにより製造される。
なお後処理の工程としては、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等が含まれる。
このように本発明を用いた物品製造方法によれば、高精度な位置制御ができるので、従来よりも高品位の物品を製造することができる。 Alternatively, in an imprinting device, a mold is used as the original plate to imprint a substrate coated with imprinting material, followed by a demolding process, and then a post-processing process (a process of manufacturing an article from the imprinted substrate).
The post-processing steps include etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, and the like.
In this manner, according to the article manufacturing method using the present invention, highly accurate position control is possible, so that articles of higher quality than before can be manufactured.

以上、本発明の好ましい実施例について説明したが、本発明は、これらの実施例に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
例えば、実施例ではステージ制御装置および露光装置を用いて説明したが、他のリソグラフィ装置に適用しても良い。 Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications and changes are possible within the scope of the gist of the present invention.
For example, although the embodiment has been described using a stage control device and an exposure apparatus, the present invention may be applied to other lithography apparatuses.

例えばリソグラフィ装置としては凹凸パターンがない平面部を有するモールド（平面テンプレート）を用いて基板の組成物を平坦化するように成形する平坦化装置であってもよい。
また、リソグラフィ装置の他の例として、荷電粒子光学系を介して荷電粒子線（電子線やイオンビームなど）で基板に描画を行って、基板にパターン形成を行う描画装置などの装置であってもよい。 For example, the lithography apparatus may be a planarization apparatus that uses a mold (flat template) having a flat surface without a concave/convex pattern to mold the composition of the substrate so as to be flat.
Another example of a lithography apparatus may be a drawing apparatus that draws on a substrate using a charged particle beam (such as an electron beam or an ion beam) via a charged particle optical system to form a pattern on the substrate.

なお、本実施例における制御の一部または全部を上述した実施例の機能を実現するコンピュータプログラムをネットワーク又は各種記憶媒体を介して駆動システムに供給するようにしてもよい。そしてその駆動システムにおけるコンピュータ（又はＣＰＵやＭＰＵ等）がプログラムを読み出して実行するようにしてもよい。その場合、そのプログラム、及び該プログラムを記憶した記憶媒体は本発明を構成することとなる。 A computer program that realizes all or part of the control in this embodiment and the functions of the above-mentioned embodiment may be supplied to the drive system via a network or various storage media. A computer (or a CPU, MPU, etc.) in the drive system may then read and execute the program. In this case, the program and the storage medium on which the program is stored constitute the present invention.

３１ 可動子
３２ 固定子
１３ リニアモータ（モータ）
４１ 制御部
４４ 処理部
５１ コミュテーション位置算出器（位置検出部）


 31 Movable element 32 Stator 13 Linear motor (motor)
41 Control unit 44 Processing unit 51 Commutation position calculator (position detection unit)

Claims (15)

固定子と可動子とを含むモータと、
前記固定子と前記可動子の相対位置を検出する位置検出部と、
前記相対位置に応じた基準となる磁束密度情報を取得する取得部と、
前記相対位置に応じた実際の磁束密度情報を測定する測定手段と、
前記モータの駆動を制御する制御手段と、を有し、
前記制御手段は、
前記基準となる磁束密度情報の大きさが所定の設定値と一致する時の相対位置である第１相対位置と、前記測定手段によって測定された磁束密度情報の大きさが前記所定の設定値と一致する時の相対位置である第２相対位置との差を、前記測定された磁束密度情報が一周期変化する期間において複数回取得し、
複数設定された前記所定の設定値それぞれについて取得した複数の前記差に基づいて、前記モータの駆動を制御する、
ことを特徴とする駆動システム。 A motor including a stator and a mover;
a position detection unit that detects a relative position between the stator and the mover ;
an acquisition unit that acquires reference magnetic flux density information according to the relative position;
a measuring means for measuring actual magnetic flux density information according to the relative position;
A control means for controlling the driving of the motor,
The control means
a difference between a first relative position , which is a relative position when the magnitude of the reference magnetic flux density information coincides with a predetermined set value, and a second relative position, which is a relative position when the magnitude of the magnetic flux density information measured by the measuring means coincides with the predetermined set value, is obtained a plurality of times during a period in which the measured magnetic flux density information changes in one cycle;
controlling the driving of the motor based on the plurality of differences acquired for each of the plurality of set predetermined setting values ;
A drive system comprising : 前記固定子は複数のコイルを含み前記可動子は複数の永久磁石を含むことを特徴とする請求項１記載の駆動システム。 The drive system according to claim 1, characterized in that the stator includes a plurality of coils and the mover includes a plurality of permanent magnets. 前記固定子は複数の永久磁石を含み前記可動子は複数のコイルを含むことを特徴とする請求項１記載の駆動システム。 The drive system according to claim 1, characterized in that the stator includes multiple permanent magnets and the mover includes multiple coils. 前記基準となる磁束密度情報は、可動子または固定子の磁石ピッチと相対位置から求められる値であることを特徴とする請求項１～３いずれか１項に記載の駆動システム。 The drive system described in any one of claims 1 to 3, characterized in that the reference magnetic flux density information is a value calculated from the magnet pitch and relative position of the mover or stator. 前記測定された磁束密度情報は、可動子を動かしたときに得られる逆起電圧に基づいて決定されることを特徴とする請求項１～４いずれか１項に記載の駆動システム。 The drive system according to any one of claims 1 to 4, characterized in that the measured magnetic flux density information is determined based on the back electromotive force obtained when the mover is moved. 前記可動子を動かすための他のモータを更に有し、前記制御手段は、前記モータと前記他のモータを同時に駆動することによって所定の対象を同じ方向に移動させることを特徴とする請求項５に記載の駆動システム。 The drive system according to claim 5, further comprising another motor for moving the movable element, and the control means drives the motor and the other motor simultaneously to move a predetermined object in the same direction. 前記制御手段は、前記モータを駆動することによって前記他のモータの可動子を動かしたときに得られる逆起電圧に基づき前記他のモータの磁束密度情報を測定することを特徴とする請求項６に記載の駆動システム。 The drive system according to claim 6, characterized in that the control means measures magnetic flux density information of the other motor based on the back electromotive voltage obtained when the rotor of the other motor is moved by driving the motor. 前記磁束密度情報は磁束に対応した電圧値であることを特徴とする請求項１～７のいずれか１項に記載の駆動システム。 The drive system according to any one of claims 1 to 7, characterized in that the magnetic flux density information is a voltage value corresponding to the magnetic flux. 前記所定の設定値は０を含む前記基準となる磁束密度情報及び前記測定された磁束密度情報の振幅内の所定の設定値であることを特徴とする請求項１～８いずれか１項に記載の駆動システム。 The drive system according to any one of claims 1 to 8, characterized in that the predetermined set value is a predetermined set value within the amplitude of the reference magnetic flux density information and the measured magnetic flux density information, including 0. 前記制御手段は、前記基準となる磁束密度情報と前記測定された磁束密度情報の振幅を揃えた状態で前記差を取得することを特徴とする請求項１～９いずれか１項に記載の駆動システム。 The drive system according to any one of claims 1 to 9, characterized in that the control means acquires the difference while aligning the amplitudes of the reference magnetic flux density information and the measured magnetic flux density information. 前記制御手段は複数回のそれぞれの差に基づいて、前記モータの駆動電流を制御することを特徴とする請求項１～１０いずれか１項に記載の駆動システム。 The drive system according to any one of claims 1 to 10, characterized in that the control means controls the drive current of the motor based on the difference between each of the multiple times. 前記制御手段は複数回のそれぞれの差に基づいて、前記モータのコイルの切り替えタイミングを制御することを特徴とする請求項１～９いずれか１項に記載の駆動システム。 The drive system according to any one of claims 1 to 9, characterized in that the control means controls the switching timing of the motor coils based on the difference between each of the multiple times. 原版のパターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、前記基板を保持するステージと、前記ステージを駆動する請求項１～１２のいずれか１項に記載の駆動システムと、を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 A lithography apparatus that forms a pattern of an original on a substrate, comprising: a stage that holds the substrate; and a drive system according to any one of claims 1 to 12 that drives the stage. 原版のパターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、前記原版を保持するステージと、前記原版を保持するステージを駆動する請求項１～１２のいずれか１項に記載の駆動システムと、を備えることを特徴とするリソグラフィ装置。 A lithography apparatus that forms a pattern of an original on a substrate, comprising: a stage that holds the original; and a drive system according to any one of claims 1 to 12 that drives the stage that holds the original. 請求項１３または１４に記載のリソグラフィ装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、前記基板に形成されたパターンに基づき、前記基板から物品を製造する工程と、を有することを特徴とする物品の製造方法。 A method for manufacturing an article, comprising: a step of forming a pattern on a substrate using the lithography apparatus according to claim 13 or 14 ; and a step of manufacturing an article from the substrate based on the pattern formed on the substrate.
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