JP7487317B2 - 低減された放射率及び光反射性を有する乗り物ペイン - Google Patents

Description

本発明は、低減された放射率及び光反射性を有する乗り物ペイン、並びにその製造及び使用に関する。

自動車又は建物の内部は、周囲温度が高くかつ直接的な太陽光が強いときには、夏季に非常に高温になることがある。他方で、冬季において特に起こる、外部温度が内部における温度よりも低い場合には、冷えたペインが、ヒートシンクとして働き、これは、不快なものとして認識される。内部を大幅に加熱し、それによって、ウィンドウペインを通る冷却を回避する必要がある。

この課題に対処するために、低減された放射率を有するペインが知られている。そのようなペインは、それらの内部側表面に、放射率低減コーティングを有する。そのようなコーティングは、低Ｅコーティング（ｌｏｗ－Ｅコーティング）としても知られており、熱放射に対する反射特性を有する。外部温度が高い場合に、このコーティングは、加熱されたペインによって放射される熱放射が内部に進入することを防ぐ。内部は、ペインによって外部環境から分離されている。さらに、赤外太陽放射の一部が、反射される。外部温度が低い場合には、このコーティングは、加熱された内部からペインを通る外部環境への熱移動を、低減する。全体として、熱快適性が、低減された放射率を有するそのようなペインによって、向上する。

低減された放射率を有するペインが、自動車分野で用いられており、特にルーフパネルとして用いられている。これのために適している放射率低減コーティングが、例えば、ＥＰ２１４１１３５Ａ１、ＷＯ２０１１／１０５９９１Ａ１、ＷＯ２０１３／１３１６６７Ａ１、及びＷＯ２０１８／２０６２３６Ａ１から知られている。

放射率低減コーティングは、特には浅い反射角度で、ペインに、一定の内部側光反射を提供するという不利な点を有しうる。これは、気を散らす結果をもたらし得る。例えば、ナビゲーションシステムのディスプレイ又は他の電子的なディスプレイが、ルーフパネルに反射することがあり、これは、後部座席の人にとって煩わしいことがある。

ガラスペインの光反射を低減できる種々の反射防止コーティングが知られている。反射防止コーティングは、異なる屈折率を有する交互の層を有している層配列として実施でき、このようにして、干渉効果によって、光反射が低減される。さらには、多孔性のケイ素酸化物層が、反射防止層として知られている。これらは、エッチングによってガラス表面から形成できる。代替的には、多孔性のケイ素酸化物層は、ゾルゲル法によって製造することもできる。そのような反射防止コーティングは、例えば、ＷＯ２００８／０５９１７０Ａ２から知られている。

本発明の目的は、低減された内部側光反射を有する放射率低減コーティングを有する改善された乗り物ペインを提供することである。さらに、高品質かつ長期的な安定性を有する乗り物ペインを製造するために、経済的で工業的に実行可能な方法が、提供される。

この目的は、請求項１に係る、低減された放射率及び光反射を有する乗り物ペインによって達成される。好ましい実施態様が、従属請求項から明らかとなる。

図１は、本発明に係るペインの実施態様を通る断面である。 図２は、本発明に係るペインの１つの実施態様の、放射率低減コーティング及び反射防止コーティングを有する基材を通る断面である。 図３は、本発明に係るペインの別の実施態様の、放射率低減コーティング及び反射防止コーティングを有する基材を通る断面である。 図４は、本発明に係るペインの別の実施態様を通る断面である。

低減された放射率及び光反射を有する本発明に係る乗り物ペインは、少なくとも下記を有する：
－ 露出した内部側表面を有する基材、
－ 内部側表面の上の、透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく少なくとも１つの層を含む、放射率低減コーティング、
－ 放射率低減コーティング上の、ナノ多孔ケイ素酸化物に基づく、反射防止コーティング。

本発明は、さらに、低減された放射率及び光反射を有する乗り物ペインを製造する方法を含み、この方法では、
（ａ）透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく少なくとも１つの層を含む放射率低減コーティングを、基材の露出した内部側表面に適用し、かつ、
（ｂ）ナノ多孔ケイ素酸化物に基づく反射防止コーティングを、放射率低減コーティングの上に堆積する。

本発明は、放射率低減コーティングと、ナノ多孔ケイ素酸化物から形成される特別な反射防止層との組み合わせに基づく。内部側表面の光反射が、効果的に低減され、それにより、煩わしい反射が起きにくくなる。

本発明に係る反射防止コーティングは、高い機械的かつ化学的な安定性を有し、水又は有機混入物に対してあまり感受性ではない。他の反射防止コーティングと比較して、特に、異なる屈折率を有する交互の層から構成される干渉層システムと比較して、本発明に係るナノ多孔反射防止コーティングは、多くの利点を有する。例えば、その製造は、大幅に比較的低いコストを伴う。さらに、反射防止特性が、入射角の広い範囲にわたって提供される。さらには、比較的良好な反射防止効果が達成され、なぜならば、ガラス表面（屈折率１．５）の最適な反射防止コーティングのための干渉層システムは、１．５未満の屈折率を有する低屈折率層を必要とするからである。これのために最も適しているのは、フッ化物（例えば、マグネシウムフッ化物）であり、これは、外部の影響に対して十分に抵抗性ではなく、マグネトロンエンハンストカソードスパッタリング（マグネトロン型カソードスパッタリング）で堆積することができない。しかしながら、マグネトロンエンハンストカソードスパッタリングは、これらのコーティングを製造するための通常の方法である。本発明に係るコーティングを用いれば、反射防止コーティングが容易に可能になる。これらは、本発明の主要な利点である。

以下で、乗り物ペインは、単純に「ペイン」としても言及される。本発明に係るペインは、特には、ウィンドウペインであり、乗り物の開口部において、内部を外部環境から分離することが意図されている。ペインは、特に好ましくは自動車のためのウィンドウペインであり、特には乗用車のためのウィンドウペインであり、例えば、ルーフパネル、ウィンドシールド、サイドペイン、又はリアペインである。ペインは、自動車分野において慣用的なように、好ましくは湾曲している。基材の内部側表面が、通常、凹状に湾曲している。

本発明に関して、「内部側表面」は、設置位置において内部に面することが意図されている表面を意味する。「外部側表面」は、設置位置において外部環境に面することが意図されている表面を意味する。

本発明に係るペインは、単ガラスペインとして実施でき、したがって、単ペインとしての基材を有することができる。基材は、好ましくは事前応力付与（プレストレス処理）されており、特には、熱的に事前応力付与されている。この場合、ペインは、いわゆる単ペイン安全ガラス（ＥＳＧ）である。しかしながら、本発明に係るペインは、積層ペインとして実施されてもよい。この場合、ペインは、いわゆる積層安全ガラス（ＶＳＧ）である。この場合には、基材が内側ペインであり、なぜならば、これのみが、露出した内部側表面を有するからである。

基材は、熱可塑性中間層を介して外側ペインに結合する。「内側ペイン」は、積層ペインのうち、設置位置において内部に面するペインである。「外側ペイン」は、積層ペインのうち、設置位置において外部環境に面するペインである。

本発明に関して、「露出表面」は、アクセス可能（近接可能）でありかつ周囲雰囲気と直接に接触している表面である。これは、「外部表面」としても言及されうる。露出表面は、熱可塑性中間層を介して互いに接続している積層ペインの内部表面とは区別される。ペインが単ガラスペインとして実施される場合には、基材の両方の表面が、露出される。ペインが積層ペインとして実施される場合には、外側ペインの外部側表面と、内側ペイン（すなわち本発明に係る基材）の内部側表面が、露出される。

本発明によれば、放射率低減コーティングが、基材の露出した内部側表面に適用される。放射率低減コーティングは、熱放射反射コーティング、低放射率コーティング、又はｌｏｗ－Ｅコーティングとしても言及されうる。放射率は、理想的な熱放射体（黒体）に対して、設置位置において内部空間へとペインがどの程度の熱放射を放出するかを示す評価値である。放射率低減コーティングは、内部への熱の放射（太陽放射のＩＲ要素、及び、特には、ペインそれ自体の熱放射）を防止する機能、及び、内部からの熱の放射を防止する機能も有する。これは、赤外放射に対する反射特性を有しており、特に、５μｍ～５０μｍのスペクトル範囲（規格ＤＩＮ ＥＮ１２８９８：２０１９－０６も参照）における熱放射に対する反射特性を有している。これは、内部における熱快適性を効果的に向上させる。本発明に係る放射率低減コーティングは、高い外部温度及び太陽放射の場合に特に効果的に、内部の方向にペイン全体によって放射される熱放射を、少なくとも部分的に反射することができる。低い外部温度の場合には、本発明に係るコーティングは、内部から放射される熱放射を効果的に反射でき、そのようにして、ヒートシンクとしての冷たいペインの効果を低減することができる。グレージングの表面は、慣用的に、外部から内部へと連続的に番号付けされ、それにより、単グレージングの内部側表面が、「第２面」又は「第ＩＩ面」として言及され、二重グレージング（例えば、積層ガラス又は遮断グレージングユニット）の場合には、「第４面」又は「第ＩＶ面」として言及される。

本発明によれば、放射率低減コーティングが、透明伝導性酸化物に基づく少なくとも１つの層を有しており、これは、熱放射に対する反射特性を提供する。透明伝導性酸化物に基づく層は、下記で、ＴＣＯ層としても言及される。ＴＣＯ層は、耐腐食性であり、露出表面で用いることができる。さらに、放射率低減コーティングは、さらなる層を有することができ、特に、誘電体層を有することができ、これは、例えば、視覚的外観を向上させ、又は、拡散を防止又は制御する。

ＴＣＯ層は、好ましくは、１．７～２．３の屈折率を有する。ＴＣＯ層は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、混合インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、アルミニウムドープ亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、ガリウムドープ亜鉛酸化物（ＧＺＯ）、フッ素ドープスズ酸化物（ＦＴＯ、ＳｎＯ_２：Ｆ）、又はアンチモンドープスズ酸化物（ＡＴＯ、ＳｎＯ_２：Ｓｂ）に基づいてよい。

第１の有利な実施態様では、ＴＣＯ層が、フッ素ドープスズ酸化物（ＦＴＯ、ＳｎＯ_２：Ｆ）、又はアンチモンドープスズ酸化物（ＡＴＯ、ＳｎＯ_２：Ｓｂ）に基づいており、１００ｎｍ～６００ｎｍの厚みを有する。この場合には、フッ素又はアンチモンでドープされたスズ酸化物に基づく層が、好ましくは、放射率低減コーティングの唯一の層であり、すなわち、放射率低減コーティングが、ＴＣＯ層のみによって形成されている。換言すると、放射率低減コーティングが、ＴＣＯ層のみからなる。しかしながら、代替的に、コーティングが、他の層を含んでもよく、特に、ＴＣＯ層の下方の層を含んでよい。そのような下方層は、例えば、コーティングの色又は接着性に影響しうる。フッ素又はアンチモンでドープされたスズ酸化物に基づく層は、好ましくは、基材表面の上に、熱分解的に堆積してよく、又は、化学気相成長（ＣＶＤ）によって堆積してよく、特に好ましくは、基材の製造の間にフロートガラスプロセスの一部として、堆積してよい。ＦＴＯ及びＡＴＯは、フロートプロセスにおけるコーティングのための慣用的なＴＣＯである。熱分解法では、典型的には、溶液を、硬化しているフロートガラスペインの上に注ぐ。ＣＶＤ法では、典型的には、フロートバスの後で、ガラスを、コーティングのために導入する。そのようなコーティングは、良好な放射率低減特性を有しており、工業的な大量生産の一部として、経済的かつ時間が節約される様式で、適用することができる。

第２の有利な実施態様では、放射率低減コーティングが、薄層の配列（層構造体、層スタック）である。放射率低減特性は、ＴＣＯ層によって確保される一方で、光学特性、特には透過率及び反射率は、他の層によって大きく影響され、それらの設計によって特別に調節することができる。いわゆる反射防止層は、ＴＣＯ層よりも低い屈折率を有しておりＴＣＯ層の下方及び上方に配置され、この背景において特別な影響を有する。これらの反射防止層は、ペインを通る透過率を増加させることができ、特に干渉効果の結果として、反射率を低減できる。この効果は、屈折率及び層厚に大きく依存する。有利な実施態様では、コーティングが、それぞれ、ＴＣＯ層の下方及び上方に、少なくとも１つの反射防止層を有し、反射防止層が、ＴＣＯ層よりも低い屈折率を有しており、好ましくは、最大１．８、特には最大１．６の屈折率を有する。

第２の有利な実施態様では、ＴＣＯ層が、好ましくは、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）に基づいており、これは、特には（定常的な放射率低減特性に関して有利である）低い固有抵抗及びシート抵抗に関する低い拡散性に起因して、特に適していることが示されている。ＴＣＯ層（ＩＴＯ層）の厚みは、好ましくは５０ｎｍ～１５０ｎｍであり、特に好ましくは、６０ｎｍ～１００ｎｍであり、例えば、６５ｎｍ～８０ｎｍである。これは、放射率低減効果に関して特に良好な結果をもたらし、同時に、十分な光学的透明性をもたらす。

第２の有利な実施態様では、放射率低減コーティングが、好ましくは、ＴＣＯ層の下方に配置されている誘電体下方反射防止層を有する。下方反射防止層の屈折率は、好ましくは、最大１．８であり、特に好ましくは１．３～１．８である。下方反射防止層の厚みは、好ましくは、５ｎｍ～１００ｎｍであり、好ましくは、１０ｎｍ～５０ｎｍである。

放射率低減コーティングは、好ましくは、ＴＣＯ層の上方に配置された誘電体上方反射防止層も有する。上方反射防止層の屈折率は、好ましくは最大１．８であり、特に好ましくは１．３～１．８である。上方反射防止層の厚みは、好ましくは１０ｎｍ～１００ｎｍであり、特に好ましくは３０ｎｍ～７０ｎｍであり、例えば、３５ｎｍ～５０ｎｍである。

特に有利な実施態様では、コーティングが、導電層の下方の下方反射防止層と、導電層の上方の上方反射防止層とを、両方とも有する。

特に、反射防止層は、ペインの有利な光学特性をもたらす。これらは、反射率を低減し、そのようにして、ペインの透明性を向上させ、自然な色の印象を保証する。反射防止層は、好ましくは、酸化物又はフッ化物を含有し、特に好ましくはケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）を含有する。ケイ素酸化物は、ドーパントを有してよく、好ましくは、アルミニウムでドープされており（ＳｉＯ_２：Ａｌ）、ホウ素でドープされており（ＳｉＯ_２：Ｂ）、チタンでドープされており（ＳｉＯ_２：Ｔｉ）、又はジルコニウムでドープされている（ＳｉＯ_２：Ｚｒ）。しかしながら、代替的には、この層が、例えば、アルミニウム酸化物、マグネシウムフッ化物、又はカルシウムフッ化物を含有してもよい。

ＴＣＯ層（特にはＩＴＯ層）の酸素含有量は、その特性に大きく影響することが示されており、特には透明性及び伝導率に影響することが示されている。ペインの製造は、典型的に、温度処理を含み、例えば、熱的な強化処理又は曲げ処理を含み、酸素がＴＣＯ層へと拡散しこれを酸化しうる。有利な実施態様では、コーティングが、ＴＣＯ層と上方反射防止層との間に、酸素拡散を制御するための、少なくとも１．９の屈折率を有する誘電体バリア層を、有する。バリア層は、最適なレベルにまで酸素供給を調節する役割を有する。

酸素拡散を制御するための誘電体バリア層は、少なくとも、金属、窒化物、又は炭化物を含有する。バリア層は、例えば、チタン、クロム、ニッケル、ジルコニウム、ハフニウム、ニオブ、タンタル、若しくはタングステンを含有してよく、又は、タングステン、ニオブ、タンタル、ジルコニウム、ハフニウム、クロム、チタン、ケイ素、若しくはアルミニウムの、窒化物若しくは炭化物を、含有してよい。好ましい実施態様では、バリア層が、ケイ素窒化物（Ｓｉ_３Ｎ_４）又はケイ素炭化物を含有し、特には、ケイ素窒化物（Ｓｉ_３Ｎ_４）を含有し、これによって、特に良好な結果が得られる。ケイ素窒化物は、ドーパントを含有してよく、好ましい更なる発展態様では、アルミニウムでドープされ（Ｓｉ_３Ｎ_４：Ａｌ）、ジルコニウムでドープされ（Ｓｉ_３Ｎ_４：Ｚｒ）、チタンでドープされ（Ｓｉ_３Ｎ_４：Ｔｉ）、又はホウ素でドープされる（Ｓｉ_３Ｎ_４：Ｂ）。本発明に係るコーティングの適用の後での温度処理の間に、ケイ素窒化物が、部分的に酸化されてよい。この場合、Ｓｉ_３Ｎ_４として堆積されるバリア層が、温度処理の後で、ＳｉｘＮｙＯｚを含有し、酸素含有量が、典型的に、０原子％～３５原子％である。

バリア層の厚みは、好ましくは５ｎｍ～２０ｎｍであり、特に好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍであり、例えば、８ｎｍ～１０ｎｍである。これは、特に有利な様式で、ＴＣＯ層（特にはＩＴＯ層）の酸素含有率を制御する。バリア層の厚みは、ペインの光学特性の観点よりは、酸素拡散の観点から選択される。しかしながら、示された範囲内のバリア層は、本発明に係るコーティング及びその光学的要件に適合することが示されている。

第２の有利な実施態様では、放射率低減コーティングが、好ましくは、導電層の下方に、かつ随意に、下方反射防止層の下方に、アルカリ拡散に対する誘電体ブロッキング層を有している。ブロッキング層は、ガラス基材から層システムへのアルカリイオンの拡散を、低減し又は防止する。アルカリイオンは、コーティングの特性に悪影響を及ぼしうる。さらには、ブロッキング層は、下方反射防止層との相互作用において、全体的な層構造の光学の調節に有利に貢献する。ブロッキング層の屈折率は、好ましくは、少なくとも１．９である。ブロッキング層は、好ましくは、酸化物、窒化物、又は炭化物、好ましくは、タングステン、クロム、ニオブ、タンタル、ジルコニウム、ハフニウム、チタン、ケイ素、又はアルミニウムの、酸化物、窒化物、又は炭化物、例えば、ＷＯ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｙ_２Ｏ_３、ＺｒＯ_２、ＨｆＯ_２、ＳｎＯ_２、若しくはＺｎＳｎＯ_ｘなどの酸化物、又は、ＡｌＮ、ＴｉＮ、ＴａＮ、ＺｒＮ、若しくは、ＮｂＮ等の窒化物を、含有する。ブロッキング層は、特に好ましくは、ケイ素窒化物（Ｓｉ_３Ｎ_４）を含有し、これによって、特に良好な結果が達成される。ケイ素窒化物は、ドーパントを含有してよく、好ましい更なる発展態様では、アルミニウムでドープされており（Ｓｉ_３Ｎ_４：Ａｌ）、チタンでドープされており（Ｓｉ_３Ｎ_４：Ｔｉ）、ジルコニウムでドープされており（Ｓｉ_３Ｎ_４：Ｚｒ）、又は、ホウ素でドープされている（Ｓｉ_３Ｎ_４：Ｂ）。ブロッキング層の厚みは、好ましくは、１０ｎｍ～５０ｎｍであり、特に好ましくは、２０ｎｍ～４０ｎｍであり、例えば、２５ｎｍ～３５ｎｍである。ブロッキング層は、好ましくは、層積層体（層スタック）の底部層であり、すなわち、基材表面に直接に接触しており、この場合に、その効果を最適に発揮することができる。

第２の有利な態様の特に好ましい実施態様では、放射率低減コーティングが、基材から出発して、下記の層を含む：
― 少なくとも１．９の屈折率を有している、アルカリ拡散に対するブロッキング層、
― 最大１．８の屈折率を有する下方反射防止層、
― インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）である透明伝導性酸化物に基づく層、
― 少なくとも１．９の屈折率を有しており、酸素拡散を制御するためのバリア層、
― 最大１．８の屈折率を有する上方反射防止層。

好ましい層厚に関して、それぞれの個々の層に関する上記の記載が適用される。

第２の有利な実施態様の特に好ましい実施態様では、コーティングが、少なくとも１．９の屈折率、又は、最大で１．８の屈折率、好ましくは最大で１．６の屈折率、を有する層のみからなる。特に好ましい実施態様では、コーティングが、記載された層のみからなり、さらなる層を有しない。この場合、コーティングは、基材表面から出発して、示されている順番で、下記の層からなる：
― アルカリ拡散に対するブロッキング層
― 下方反射防止層、
― ＴＣＯ層、特にはＩＴＯ層
― 酸素拡散を制御するためのバリア層
― 上方反射防止層

好ましい層厚及び材料に関して、それぞれの個々の層に関する上記の記載が適用される。

第２の有利な実施態様における層は、好ましくは、マグネトロンエンハンストカソードスパッタリングによって堆積される。これは、基材の、簡便で、迅速で、経済的で、かつ均一なコーティングの観点から、特に有利である。カソードスパッタリングは、保護ガス雰囲気中で行われ、例えば、アルゴンガスの保護ガス雰囲気中で行われ、又は、反応性ガス雰囲気中で行われ、例えば、酸素又は窒素の添加によって、反応性ガス雰囲気中で行われる。しかしながら、層は、当業者に既知の他の方法によって適用されてもよく、例えば、蒸気堆積又は化学気相成長（ＣＶＤ）によって、原子層堆積（ＡＬＤ）によって、プラズマエンハンスト化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）によって、又は、湿式化学法によって、適用されてよい。

第３の有利な実施態様は、第２の有利な実施態様のさらなる発展態様であるともみなされうる。第３の有利な実施態様は、上方反射防止層を有しないこと以外は、第２の有利な実施態様の全ての層を有する。上方反射防止層は、省くことができる場合があることが示されており、これはなぜならば、その機能は、その上に堆積される反射防止コーティングによって果たされるからである。第２の有利な実施態様に関する記載、特に、個々の層の好ましい材料及び層厚に関する上記の記載が、第３の有利な実施態様に準用される。放射率低減コーティングは、特に好ましくは、基材から出発して、下記の層を有する：
― 少なくとも１．９の屈折率を有する、アルカリ拡散に対するブロッキング層
― 最大１．８の屈折率を有する下方反射防止層
― インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）である透明伝導性酸化物に基づく層
― 少なくとも１．９の屈折率を有しており、酸素拡散を制御するための、バリア層。

第３の有利な実施態様の特に好ましい構成において、コーティングは、少なくとも１．９の屈折率、又は、最大１．８の屈折率、好ましくは最大１．６の屈折率を有する、層、のみからなる。特に好ましい実施態様では、コーティングが、記載された層のみからなり、さらなる層を有しない。この場合、コーティングは、基材表面から出発して、示されている順番で下記の層からなる：
― アルカリ拡散に対するブロッキング層
― 下方反射防止層
― ＴＣＯ層、特にはＩＴＯ層
― 酸素拡散を制御するためのバリア層。

放射率低減コーティングの適用の後で、ペインを温度処理に供し、これは、特には、ＴＣＯ層の結晶性を向上させる。温度処理は、好ましくは、少なくとも３００℃で行われる。特には、温度処理は、コーティングのシート抵抗を低減する。さらに、ペインの光学特性が、大幅に向上し、特に、透過率が増加する。温度処理は、種々の様式で行ってよく、例えば、炉又は放射ヒーターを用いてペインを加熱することによって、行ってよい。代替的には、温度処理を、光の照射によって行ってもよく、例えば、光源としてのランプ又はレーザーを用いて行ってよい。しかしながら、温度処理は、別個の工程として行われる必要はなく、例えば、曲げプロセス若しくは熱強化プロセスの一部として行うこともでき、又は、反射防止コーティングの製造の一部として行ってもよい。

本発明によれば、反射防止コーティングが、放射率低減コーティングの上方に配置される。好ましくは、反射防止コーティングが、放射率低減コーティングの上に直接に堆積され、すなわち、さらなる層は、放射率低減コーティングと反射防止コーティングとの間に配置されない。好ましくは、反射防止コーティングが、基材の最も上方のコーティングであり、すなわち、反射防止コーティングの上にはさらなる層は配置されない。

本発明に係る反射防止コーティングは、ナノ多孔性ケイ素酸化物に基づく。反射防止効果は、一方では、屈折率によって決定され、他方では、反射防止コーティングの厚みによって決定される。そして、屈折率は、孔サイズ及び孔の密度の関数である。好ましい実施態様では、孔は、屈折率が１．２～１．４、特に好ましくは１．２５～１．３５になるように、寸法付けされかつ分布される。反射防止コーティングの厚みは、好ましくは、３０ｎｍ～５００ｎｍであり、特に好ましくは５０ｎｍ～１５０ｎｍである。このようにして、良好な反射防止特性が達成される。

ケイ素酸化物は、ドープされてよく、例えば、アルミニウム、ジルコニウム、チタン、ホウ素、スズ、又は亜鉛でドープされてよい。特に、コーティングの光学的、機械的、及び化学的な特性が、ドーパントによって適合されうる。

反射防止コーティングは、好ましくは、ナノ多孔性ケイ素酸化物の均一な層のみを有する。しかしながら、互いに異なる、例えば多孔性（孔のサイズ及び／又は密度）の点で互いに異なる、複数のナノ多孔性ケイ素酸化物の層から反射防止コーティングを形成してもよい。このようにして、いわば、屈折率の進行が、形成されうる。

孔は、特には、閉じたナノ孔であり、しかしながら、開かれた孔であってもよい。用語「ナノ孔（ナノ多孔）」は、ナノメートル範囲、すなわち、１ｎｍ～１０００ｎｍ（１μｍ）未満のサイズを有する孔を意味している。孔は好ましくは、実質的に円状の断面を有しており（球形孔）、しかしながら、他の断面、例えば、楕円形、円形、又は細長い断面を有してもよい（楕円孔又は円状孔）。好ましくは、全ての孔の少なくとも８０％が、実質的に同じ断面形状を有する。孔サイズが、少なくとも２０ｎｍ、又はさらには少なくとも４０ｎｍであることが、有利であり得る。孔の平均サイズは、好ましくは、１ｎｍ～５００ｎｍであり、特に好ましくは、１ｎｍ～１００ｎｍであり、最も特に好ましくは、２０ｎｍ～８０ｎｍである。用語「孔のサイズ」は、円状の孔の場合には直径を意味し、他の形状の孔の場合には最大の長さを意味する。好ましくは、すべての孔の少なくとも８０％が、示されている範囲内のサイズを有しており、特に好ましくは、全ての孔のサイズが、示されている範囲内である。合計の体積における孔体積の割合は、好ましくは、１０％～９０％であり、特に好ましくは、８０％未満であり、最も特に好ましくは、６０％未満である。

反射防止コーティングは、特には、ゾル－ゲルコーティングである。これは、ゾルーゲルプロセスにおいて、放射率低減コーティングの上に堆積される。第一に、コーティングの前駆体を含有するゾルを、提供し、熟成させる。熟成は、前駆体の加水分解及び／又は前駆体の間での（部分的な）反応を伴いうる。このゾルは、本発明において、前駆体ゾルとして言及され、溶媒中にケイ素酸化物前駆体を含有する。前駆体は、好ましくは、シランであり、特には、テトラエトキシシラン又はメチルトリエトキシシラン（ＭＴＥＯＳ）である。しかしながら、代替的に、シリケートを、前駆体として用いてもよく、特に、ナトリウム、リチウム、又はカリウムのシリケートを用いてもよく、例えば、テトラメチルオルトシリケート（オルトケイ酸テトラメチル）、テトラエチルオルトシリケート（オルトケイ酸テトラエチル）（ＴＥＯＳ）、テトライソプロピルオルトシリケート（オルトケイ酸テトライソプロピル）、又は、一般形式（Ｒ^２ _ｎＳｉ（ＯＲ^１）_４－ｎの有機シランを用いてもよい。ここで、好ましくは、Ｒ^１は、アルキル基であり、Ｒ^２は、アルキル基、エポキシ基、アクリレート基、メタクリレート基、アミン基、フェニル基、又はビニル基であり、ｎは、０～２の整数である。ケイ素のハロゲン化物又はアルコキシドを用いてもよい。溶媒は、好ましくは、水、アルコール（特にはエタノール）、又は水－アルコール混合体である。

そして、前駆体ゾルを、水相中に分散された孔形成剤と混合する。孔形成剤の目的は、ケイ素酸化物マトリックス中で、反射防止コーティングの形成においていわば位置保持体として、孔を形成することである。孔の形状、サイズ、及び密度が、孔形成剤の形状、サイズ、及び濃度によって決定される。孔サイズ、孔分布、及び孔密度を、孔形成剤によって選択的に制御することができ、再現性のある結果が確保される。例えば、ポリマーナノ粒子を、孔形成剤として用いることができ、好ましくは、ＰＭＭＡナノ粒子（ポリメチルメタクリレート）を用いることができ、しかしながら、代替的に、ポリカーボネート、ポリエステル、若しくはポリスチレン、又は、メチル（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸のコポリマーのナノ粒子を用いることもできる。ポリマーナノ粒子の代わりに、ナノエマルジョンの形態でのオイルのナノ滴状体を用いることもできる。無論、異なる孔形成剤を用いることも想定される。

このようにして得られる溶液を、基材の内部側表面に適用する。これは、湿式化学法によって合理的に行われ、例えば、ディップコーティング、スピンコーティング、フローコーティングによって、ローラー若しくはブラシを用いた適用によって、又は、スプレーコーティングによって、行われる。これに続いて、乾燥を行うことができ、溶媒を蒸発させる。この乾燥は、周囲温度で行ってよく、又は、別個の加熱（例えば、１２０℃以下の温度での加熱）によって行ってよい。基材へのコーティングの適用の前に、表面を、典型的には、それ自体知られている方法によって、洗浄する。

そして、ゾルを縮合させる。このプロセスの間に、ケイ素酸化物マトリックスが、孔形成剤の周りに形成される。縮合は、温度処理、例えば、例えば３５０℃以下の温度での温度処理を含んでよい。前駆体がＵＶ架橋可能官能基（例えば、メタクリレート基、ビニル基、又はアクリレート基）を有する場合には、縮合は、ＵＶ処理を含んでよい。代替的には、適切な前駆体（例えばシリケート）に関して、縮合が、ＩＲ処理を含んでよい。随意に、溶媒を、１２０℃以下の温度で蒸発させてよい。

そして、随意に、孔形成剤を、再び除去する。この目的のために、コーティングされた基材を、好ましくは、少なくとも４００℃、好ましくは少なくとも５００℃の温度で、加熱処理に供し、これにより、孔形成剤を分解する。有機孔形成剤は、炭化される。加熱処理は、曲げ加工又は熱強化プロセスの一部として行ってよい。熱処理は、好ましくは、最大１５分、特に好ましくは最大５分の期間にわたって行われる。孔形成剤を除去することに加えて、熱処理を、縮合を完結させるために用いることもでき、このようにして、コーティングが高密度化され、これは、その機械特性、特にはその安定性を、向上させる。

熱処理を用いる代わりに、溶媒によって、孔形成剤をコーティングから外に溶解させることもできる。ポリマーナノ粒子の場合には、対応するポリマーは、溶媒中に溶解できる必要があり、例えば、ＰＭＭＡナノ粒子の場合には、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用いることができる。

孔形成剤の除去は好ましく、空の孔が形成される。しかしながら、原則として、孔形成剤を孔の中に残すことも可能である。ケイ素酸化物の屈折率とは異なる屈折率を有する条件のもとで、反射防止効果も、このようにして、達成される。そして、孔が、孔形成剤によって、例えばＰＭＭＡナノ粒子によって、充填される。中空の粒子を、孔形成剤として用いることもでき、例えば、中空ポリマーナノ粒子、例えばＰＭＭＡナノ粒子又は中空ケイ素酸化物ナノ粒子を、用いることもできる。そのような孔形成剤が孔の中に残り、除去されない場合には、孔が、中空のコアを有し、端部領域が、孔形成剤で充填される。

記載されたゾルゲル法は、規則的かつ均一な孔の分布を有する反射防止層の製造を可能にする。孔の形状、サイズ、及び密度は、選択的に調節でき、コーティングは、低いねじれ度を有する。

基材の内部側表面は、好ましくは、放射率低減コーティング及び反射防止コーティングの他に、他の層又はコーティングを有しない。

基材は、電気絶縁性材料でできており、特には、剛性材料でできており、好ましくはガラス又はプラスチックでできている。好ましい実施態様では、基材が、ソーダ石灰ガラスを含有しており、しかしながら、原則として、他のタイプのガラス、例えば、ホウケイ酸ガラス又は石英ガラスを含有することもできる。他の好ましい実施態様では、基材が、ポリカーボネート（ＰＣ）又はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を含有する。基材は、大部分、透明であり、又は、色づいていてよく若しくは着色されていてよい。基材は、好ましくは、０．１ｍｍ～２０ｍｍ、典型的には１ｍｍ～５ｍｍの厚みを有する。基材は、平面状であってよく、又は湾曲していてよい。

基材は、外側ペインと結合して、積層ペインを形成できる。外側ペインは、好ましくは、ガラスでできており、特には、ソーダ石灰ガラスでできており、好ましくは、０．１ｍｍ～２０ｍｍ、典型的には２ｍｍ～５ｍｍの厚みを有する。代替的には、プラスチック、例えばＰＭＭＡ又はＰＣも、外側ペインとして適している。基材と外側ペインとの間の中間層は、典型的には、少なくとも１つの熱可塑性フィルムでできており、好ましくは、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）、又はポリウレタン（ＰＵ）に基づく熱可塑性フィルムでできている。典型的なフィルム厚は、０．２ｍｍ～１ｍｍの範囲、例えば、０．３８ｍｍ又は０．７６ｍｍである。

本発明のさらなる発展態様において、外側ペインのうち中間層に面する内部側表面が、太陽保護コーティングを備えている。これは、ＩＲ反射コーティングを意味していると理解され、その反射特性は、特には、近ＩＲ範囲において顕著であり、これは、放射率低減コーティングとは対照的である。特に、銀に基づく１又は複数の機能層を有するコーティングが、特に適している。さらに、太陽保護コーティングは、典型的には、さらに、誘電体層を有し、これは、例えば、反射防止層、適合層、又はブロッキング層として機能する。そのような太陽保護コーティングは、当業者に良く知られている。内部への熱入力が、太陽保護コーティングによって、さらに低減されうる。

本発明は、さらに、本発明に係るペインの、陸上、空中、又は水上の交通のための輸送手段における使用を含む。ペインは、好ましくは、ウィンドウペインとして用いられ、例えば、乗り物の、特には自動車の、ルーフパネル、サイドペイン、リアペイン、又はウィンドシールドとして用いられる。

本発明に係るコーティング（放射率低減コーティング及び反射防止コーティング）は、透明であり、すなわち、それらは、ペインを通る視界を顕著には低減しない。コーティングの吸収率は、好ましくは、可視スペクトル範囲において、約１％～約２０％である。「可視スペクトル範囲」は、３８０ｎｍ～７８０ｎｍのスペクトル範囲を意味する。

放射率低減コーティング及び反射防止コーティングは、典型的には、基材の全表面に適用され、ただし、周縁端部領域及び／又は他の局所的な限定された領域は除いてよく、これらの領域は、例えば、データ伝達のために用いることができる。基材表面のコーティングされた部分は、好ましくは、少なくとも９０％、特に好ましくは１００％である。

好ましい実施態様では、本発明に係るペインが、１０％未満の、可視スペクトル範囲における透過率を有する。そのようなペインは、特に、ルーフパネルとして適している。低い透過率は、色づいた基材によって、かつ／又は（特には積層ペインの場合に）色づいた外側ペイン及び／若しくは色づいた中間層によって、達成することができる。

本発明に係るペインの内部側の放射率は、好ましくは、４５％以下であり、特に好ましくは３５％以下であり、最も特に好ましくは３０％以下である。「内部側の放射率」は、理想的な熱放射体（黒体）と比較して、設置された位置において、どの程度の熱放射をペインが内部（例えば、建物又は乗り物の内部）へと放射するかを示す評価値に言及している。本発明に関して、放射率は、ＥＮ１２８９８規格に従った２８３Ｋでの標準放射率を意味する。

第１の層を第２の層の上方に配置する場合、本発明に関して、これが意味するのは、第１の層が、第２の層よりも、基材から離れて配置されることである。第１の層が第２の層の下方に配置される場合、本発明に関して、これが意味するのは、第２の層が、第１の層よりも、基材から離れて配置されることである。第１の層が、第２の層の上方又は下方に配置される場合、本発明に関して、これは、必ずしも、第１の層及び第２の層が互いに直接に接触することを意味しない。明示的に除外されない限り、１又は複数の追加的な層が、第１の層と第２の層との間に配置されてよい。

本発明に関して、層又は他の要素が少なくとも材料を含有する場合、これは、層がその材料でできている場合を含み、これも、原則として好ましい。本発明に関して記載される化合物、特には、酸化物、窒化物、及び炭化物は、より良好な理解のために化学量論的な分子式が言及されている場合であっても、原則として、化学量論的、準化学量論的、又は超化学量論的であってよい。

層が材料に戻づく場合、この層は、主にこの材料からなり、特には、任意の不純物又はドーパントに加えて、実質的にこの材料からなる。

特定されている屈折率は、常に、５５０ｎｍの波長に言及している。特定される厚みは、別段の指定がない限り、常に、幾何的な厚みに言及している。

以下で、図面及び例示的な実施態様を参照して、本発明を詳細に説明する。図面は、概略図であり、縮尺どおりではない。図面は、決して本発明を限定しない。

図１は、低減された放射率及び光反射を有する本発明に係るペインの実施態様を通る断面を描写している。ペインは、熱可塑性中間層３を介して互いに結合した基材１及び外側ペイン２から構成される積層ペインとして実施されている。基材１は、積層ペインの内側ペインとして機能する。積層ペインは、例えば、自動車のルーフパネルである。外側ペイン２は、外部表面Ｉと、内部表面ＩＩとを有する。同様に、基材１は、外部側表面ＩＩＩと、内部側表面ＩＶとを有する。外側ペイン２の外部側表面Ｉと、基材１の内部側表面ＩＶとは、積層ペインの露出される表面（露出表面）であり、設置された状態で、表面Ｉが，外部環境に面し、表面ＩＶが乗り物の内部に面する。基材１及び外側ペイン２は、例えば、それぞれ、２．１ｍｍの厚みを有する着色されたソーダ石灰ガラスのペインである。中間層３は、例えば、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）の０．７６ｍｍ厚の色づいたフィルムでできている。

放射率低減コーティング１０（低Ｅ－コーティング）が、基材１の、露出される内部側表面ＩＶに、適用される。このコーティング１０は、外部温度が高い場合にはペインの熱放射及び太陽放射の一部を反射することによって、かつ、外部温度が低い場合には、内部の冷却を低減することによって、乗り物の内部の熱快適性を向上させる。反射防止コーティング２０が、放射率低減コーティング１０の上に適用されている。これは、放射率低減コーティング１０を有する表面ＩＶの光反射を低減し、そのようにして、例えば、ダッシュボードの領域における電子ディスプレイがルーフパネルに反射される程度が、低減されるようになる。

図２は、基材１上の本発明に係るコーティング１０、２０の実施態様を描写している。放射率低減コーティング１０は、薄層の配列であり、これは、基材１から出発して、下記の別個の層からなる：アルカリ拡散に対するブロッキング層１０．１、下方反射防止層１０．２、ＩＴＯに基づく層１０．３、酸素拡散を制御するためのバリア層１０．４、及び、上方反射防止層１０．５。コーティング１０の個々の層は、マグネトロンエンハンストカソードスパッタリングによって堆積された。

反射防止層２０は、ナノ多孔ケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）の単層であり、これは、ゾル－ゲル法を用いて放射率低減コーティング１０の上に堆積された。孔サイズおよび孔密度を、孔形成剤によって調節し、それにより、反射防止コーティングの屈折率が約１．３になるようにした。

材料及び層厚を、例示として、表１にまとめる。

図３は、基材１の上の本発明に係るコーティング１０、２０の別の実施態様を描写している。放射率低減コーティング１０は、フッ素でドープされたスズ酸化物（ＳｎＯ_２：Ｆ）に基づく単層１０．３であり、これは、フロート法を用いた基材１の製造の間に、熱分解的に適用された。ここでは、反射防止層２０が、ナノ多孔ケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）の単層であり、放射率低減コーティング１０の上に、ゾル－ゲル法を用いて堆積された。孔のサイズ及び密度を、孔形成剤によって調節し、それにより、反射防止コーティングの屈折率が約１．３になるようにした。

材料及び層厚を、例示として、表２にまとめる。

表１の実施態様では、ペインが積層ペインとして実施されており、表２の実施態様では、熱的に事前応力付与（プレストレス処理）された単ガラスペインとして実施されている。これは、単に例示的なものとして理解されるべきである。同様に、単ガラスペインの上で薄層スタックとして実施された放射率低減コーティング１０（表１）を用いることが可能であり、積層ペイン上の熱分解的な放射率低減コーティング１０（表２）を用いることが可能である。

図４は、低減された放射率及び光反射を有する本発明に係るペインの実施態様を通る断面を描写している。基材１、外側ペイン２、中間層３、放射率低減コーティング１０、及び反射防止コーティング２０が、図１と同様にして実施されている。さらに、ＩＲ反射コーティング３０が、外側ペインの内部側表面ＩＩに適用されている。コーティング３０は、太陽保護コーティングとして機能する。これは、複数の銀層及び多数の誘電層を含む薄層スタックである。銀に基づくそのようなＩＲ反射コーティングは、それ自体知られている。これは、特には近ＩＲ範囲において、太陽放射を反射し、そのようにして、積層ペインの加熱及びＩＲ放射の透過を低減することによって、熱快適性をさらに向上させる。

＜実施例＞
表３は、図２に係るタイプの２つの実施例１及び２並びに比較例１の材料及び層厚を示す。反射防止層２０の屈折率は、それぞれ、１．３である。基材１は、着色された、熱的に事前応力付与されたソーダ石灰ガラスペイン（論理厚４ｍｍでの光透過率１０％）であり、これが、単ペイン安全ガラス（ＥＳＧ）として、本発明に係るペインを形成している。

本発明に係る２つの実施例１及び２は、放射率低減コーティング１０の個々の層の層厚においてわずかに異なっている。特に、誘電層の厚みを調節することによって、ペインの光学特性に影響を及ぼすことができ、例えば、反射色に影響を及ぼすことができる。比較例１は、実施例１と同じ放射率低減コーティング１０を有しているが、反射防止コーティング２０は有しない。

表４は、図３に係るタイプの実施例３、及び比較例２の、材料及び層厚を示している。反射防止層２０の屈折率は、それぞれ、１．３である。基材１は、着色されたソーダ石灰ガラスペイン（理論厚４ｍｍでの光透過率が１０％）であった。比較例２は、実施例３と同じ放射率低減コーティング１０を有しているが、反射防止コーティング２０は有しない。

表５は、例示のペインの積分した反射値をまとめている。示されている反射率Ｒ_Ｌの値は、ソフトウェアＣＯＤＥを用いたシミュレーションによって決定された。反射の値は、光源Ａを用いた照射下で、かつそれぞれ８°（Ｒ_Ｌ（Ａ）８°）及び６０°（Ｒ_Ｌ（Ａ）６０°）の観察角度の下での内部側の光反射を特徴づけている。積分された反射値Ｒ_Ｌ（Ａ）８°及びＲ_Ｌ（Ａ）６０°は、可視スペクトル範囲３８０ｎｍ～７８０ｎｍにおける反射スペクトルを積分することによって得た。

光反射が、本発明に係る反射防止コーティング２０によって大幅に低減していることを見ることができる。特に、値Ｒ_Ｌ（Ａ）６０°は、後部座席の乗員によって煩わしいとして認識されるルーフパネル上での反射の程度に関する結論を可能にする。また、反射防止コーティング２０が、放射率低減コーティング１０に良好に接着しており、自動車における使用のための十分な長期安定性を有していることも、示された。

表６は、本発明に係る別の実施例４の材料及び層厚を示している。実施例４の実施態様は、実施例１及び２に類似している。放射率低減コーティング１０が、それらとは対照的に、上方反射防止層１０．５を有しておらず、アルカリ拡散に対するブロッキング層１０．１、下方反射防止層１０．２、ＩＴＯに基づく層１０．３、及び、酸素拡散を制御するためのバリア層１０．４のみからなる。ここでも、コーティング１０の個々の層が、マグネトロンエンハンストカソードスパッタリングによって堆積された。反射防止層２０は、ここでも、ゾル－ゲル法を用いて放射率低減コーティング１０の上に堆積されたナノ多孔ケイ素酸化物（ＳｉＯ_２）の単層である。孔のサイズ及び密度は、孔形成剤によって調節され、そのようにして、反射防止コーティングの屈折率が約１．３になるようにした。

表６は、別の比較例３の材料及び層厚も示している。比較例３は、本発明に係るナノ多孔反射防止コーティング２０を有しない。実施例１及び２並びに比較例１と比較して、上方反射防止層１０．５の厚みが大幅に増加しており、それにより、当業者は、このことから、上方反射防止層１０．５は、少なくとも部分的に、反射防止コーティング２０の機能を満たすとみなしうるようになっている。代替的には、比較例３は、実施例４との比較のために用いることができ、放射率低減コーティング１０が同一に設計されており、実施例４の本発明に係る反射防止コーティング２０が、マグネトロンエンハンストカソードスパッタリングによって堆積された、代替的な反射防止コーティングによって、置き換えられている。

表７は、実施例４及び比較例３の積分された反射値をまとめている（表５に類似する）。

実施例４では、実施例１～３の反射値と類似する範囲にある反射値が達成されることを見ることができる。放射率低減コーティング１０の上方反射防止層１０．５は、省くことも可能であり、その機能が、いわば、反射防止コーティング２０によって引き受けられる。

同様に、比較例３では、実施例よりも大幅に大きい反射値がもたらされている。これは、特に、６０°の観察角度に関してあてはまる。したがって、反射挙動の角度依存性は、ナノ多孔反射防止コーティング２０が無い場合に、比較的大きい。さらに、カソードスパッタリングによるそのような厚いＳｉＯ_２層の堆積は、費用がかかり、時間を要する。
本開示は下記の態様を含む：
＜態様１＞
低減された放射率及び光反射を有する乗り物ペインであって、少なくとも、
－ 露出した内部側表面（ＩＶ）を有する基材（１）、
－ 前記内部側表面（ＩＶ）の上の、透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく少なくとも１つの層（１０．３）を含む、放射率低減コーティング（１０）、
－ 前記放射率低減コーティング（１０）の上の、ナノ多孔ケイ素酸化物に基づく反射防止コーティング（２０）
を含む、乗り物ペイン。
＜態様２＞
前記反射防止コーティング（２０）が、ゾル－ゲルコーティングであり、このコーティング中に、閉じられたかつ／又は開かれたナノ多孔が形成されている、態様１に記載の乗り物ペイン。
＜態様３＞
前記反射防止コーティング（２０）が、１ｎｍ～５００ｎｍ、好ましくは１ｎｍ～１００ｎｍ、特に好ましくは２０ｎｍ～８０ｎｍのサイズを有する孔を有する、態様１又は２に記載の乗り物ペイン。
＜態様４＞
前記反射防止コーティング（２０）が、１．２～１．４の、好ましくは１．２５～１．３５の、屈折率を有し、かつ、５０ｎｍ～１５０ｎｍの厚みを有する、態様１～３のいずれか一項に記載の乗り物ペイン。
＜態様５＞
透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく前記層（１０．３）が、フッ素でドープされたスズ酸化物（ＦＴＯ）又はアンチモンでドープされたスズ酸化物（ＡＴＯ）に基づいており、かつ１００ｎｍ～６００ｎｍの厚みを有し、
前記放射率低減コーティング（１０）が、好ましくは、透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく前記層（１０．３）のみからなる、
態様１～４のいずれか一項に記載の乗り物ペイン。
＜態様６＞
前記放射率低減コーティング（１０）が、前記基材（１）から出発して、下記の層、特には薄層、を有する、態様１～４のいずれか一項に記載の乗り物ペイン：
－ 少なくとも１．９の屈折率を有する、アルカリ拡散に対するブロッキング層（１０．１）、
－ 最大１．８の屈折率を有する下方反射防止層（１０．２）、
－ インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）である透明伝導性酸化物に基づく前記層（１０．３）、
－ 少なくとも１．９の屈折率を有する、酸素拡散を制御するためのバリア層（１０．４）。
＜態様７＞
前記放射率低減コーティング（１０）が、前記基材（１）から出発して、下記の層、特には薄層、を有する、態様１～４のいずれか一項に記載の乗り物ペイン：
－ 少なくとも１．９の屈折率を有する、アルカリ拡散に対するブロッキング層（１０．１）、
－ 最大１．８の屈折率を有する下方反射防止層（１０．２）、
－ インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）である透明伝導性酸化物に基づく前記層（１０．３）、
－ 少なくとも１．９の屈折率を有する、酸素拡散を制御するためのバリア層（１０．４）
－ 最大１．８の屈折率を有する上方反射防止層（１０．５）。
＜態様８＞
－ 前記ブロッキング層（１０．１）が、金属、窒化物、又は炭化物を含有し、好ましくは、ケイ素窒化物又はケイ素炭化物、特にはケイ素窒化物を含有し、
－ 前記下方反射防止層（１０．２）が、酸化物、好ましくはケイ素酸化物を含有し、
－ 前記バリア層（１０．４）が、金属、窒化物、又は炭化物を含有し、好ましくは、ケイ素窒化物又はケイ素炭化物、特にはケイ素窒化物を含有し、
－ 存在する場合に、前記上方反射防止層（１０．５）が、酸化物、好ましくはケイ素酸化物を含有する、
態様６又は７に記載の乗り物ペイン。
＜態様９＞
－ 前記ブロッキング層（１０．１）が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ～４０ｎｍの厚みを有し、
－ 前記下方反射防止層（１０．２）が、５ｎｍ～１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ～５０ｎｍの厚みを有し、
－ 透明伝導性酸化物に基づく前記層（１０．３）が、５０ｎｍ～１５０ｎｍ、好ましくは６０ｎｍ～１００ｎｍの厚みを有し、
－ 前記バリア層（１０．４）が、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの厚みを有し、
－ 存在する場合に、前記上方反射防止層（１０．５）が、１０ｎｍ～１００ｎｍ、好ましくは３０ｎｍ～７０ｎｍの厚みを有する、
態様６又は７に記載の乗り物ペイン。
＜態様１０＞
低減された放射率及び光反射を有する乗り物ペインの製造方法であって、
（ａ）透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく少なくとも１つの層（１０．３）を有する放射率低減コーティング（１０）を、基材（１）の露出した内部側表面（ＩＶ）に適用し、かつ、
（ｂ）ナノ多孔ケイ素酸化物に基づく反射防止コーティング（２０）を、前記放射率低減コーティング（１０）の上に堆積する、
方法。
＜態様１１＞
下記によって、ゾル－ゲル法において前記反射防止コーティング（２０）を適用する、態様１０に記載の方法：
－ 溶媒中の、ケイ素酸化物前駆体、特にはシラン又はシリケート、を含有する前駆体ゾルを提供すること、
－ 前記前駆体ゾルを孔形成剤と混合すること、この孔形成剤は、好ましくは、水相に分散している、
－ 得られた溶液を、基材（１）の内部側表面（ＩＶ）に適用すること、及び、
－ 前記前駆体ゾルを縮合させること。
＜態様１２＞
前記前駆体ゾルの縮合の後で、前記孔形成剤を除去する、態様１１に記載の方法。
＜態様１３＞
前記孔形成剤が、ポリマーナノ粒子、特にはＰＭＭＡナノ粒子として実施されており、前記孔形成剤の前記除去を、少なくとも４００℃の温度での熱処理によって達成する、態様１２に記載の方法。
＜態様１４＞
前記孔形成剤が、ポリマーナノ粒子、特にはＰＭＭＡナノ粒子として実施されており、前記孔形成剤の前記除去を、溶媒を用いた溶解によって、特にはＴＨＦを用いた溶解によって、達成する、態様１２に記載の方法。
＜態様１５＞
態様１～９のいずれか一項に記載の乗り物ペインの、陸上、空中、又は水上の交通のための輸送手段における、特にはウィンドウペインとしての、例えば、乗り物のルーフパネル、サイドペイン、リアペイン、又はウィンドシールドとしての、使用。

（１） 基材
（２） 外側ペイン
（３） 熱可塑性中間層

（１０）放射率低減コーティング
（１０．１） アルカリ拡散に対するブロッキング層
（１０．２） 下方反射防止層
（１０．３） 透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく層
（１０．４） 酸素拡散を制御するためのバリア層
（１０．５） 上方反射防止層

（２０） 反射防止コーティング

（３０） 太陽保護コーティング

（Ｉ） 外側ペイン２の外部側表面
（ＩＩ） 外側ペイン２の内部側表面
（ＩＩＩ） 基材１の外部側表面
（ＩＶ） 基材１の内部側表面

Claims (15)

1. 低減された放射率及び光反射を有する乗り物ペインであって、少なくとも、
   － 露出した内部側表面（ＩＶ）を有する基材（１）、
   － 前記内部側表面（ＩＶ）の上の、透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく少なくとも１つの層（１０．３）を含む、放射率低減コーティング（１０）、
   － 前記放射率低減コーティング（１０）の上の、ナノ多孔ケイ素酸化物に基づく反射防止コーティング（２０）
   を含み、
   前記放射率低減コーティング及び前記反射防止コーティングは、前記基材の全表面の少なくとも９０％に適用されている、
   乗り物ペイン。
2. 前記反射防止コーティング（２０）が、ゾル－ゲルコーティングであり、このコーティング中に、閉じられたかつ／又は開かれたナノ多孔が形成されている、請求項１に記載の乗り物ペイン。
3. 前記反射防止コーティング（２０）が、１ｎｍ～５００ｎｍ、好ましくは１ｎｍ～１００ｎｍ、特に好ましくは２０ｎｍ～８０ｎｍのサイズを有する孔を有する、請求項１又は２に記載の乗り物ペイン。
4. 前記反射防止コーティング（２０）が、１．２～１．４の、好ましくは１．２５～１．３５の、屈折率を有し、かつ、５０ｎｍ～１５０ｎｍの厚みを有する、請求項１～３のいずれか一項に記載の乗り物ペイン。
5. 透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく前記層（１０．３）が、フッ素でドープされたスズ酸化物（ＦＴＯ）又はアンチモンでドープされたスズ酸化物（ＡＴＯ）に基づいており、かつ１００ｎｍ～６００ｎｍの厚みを有し、
   前記放射率低減コーティング（１０）が、透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく前記層（１０．３）のみからなる、
   請求項１～４のいずれか一項に記載の乗り物ペイン。
6. 前記放射率低減コーティング（１０）が、前記基材（１）から出発して、下記の層、特には薄層、を有する、請求項１～４のいずれか一項に記載の乗り物ペイン：
   － 少なくとも１．９の屈折率を有する、アルカリ拡散に対するブロッキング層（１０．１）、
   － 最大１．８の屈折率を有する下方反射防止層（１０．２）、
   － インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）である透明伝導性酸化物に基づく前記層（１０．３）、
   － 少なくとも１．９の屈折率を有する、酸素拡散を制御するためのバリア層（１０．４）。
7. 前記放射率低減コーティング（１０）が、前記基材（１）から出発して、下記の層、特には薄層、を有する、請求項１～４のいずれか一項に記載の乗り物ペイン：
   － 少なくとも１．９の屈折率を有する、アルカリ拡散に対するブロッキング層（１０．１）、
   － 最大１．８の屈折率を有する下方反射防止層（１０．２）、
   － インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）である透明伝導性酸化物に基づく前記層（１０．３）、
   － 少なくとも１．９の屈折率を有する、酸素拡散を制御するためのバリア層（１０．４）
   － 最大１．８の屈折率を有する上方反射防止層（１０．５）。
8. － 前記ブロッキング層（１０．１）が、金属、窒化物、又は炭化物を含有し、
   － 前記下方反射防止層（１０．２）が、酸化物を含有し、
   － 前記バリア層（１０．４）が、金属、窒化物、又は炭化物を含有し、
   － 存在する場合に、前記上方反射防止層（１０．５）が、酸化物を含有する、
   請求項７に記載の乗り物ペイン。
9. － 前記ブロッキング層（１０．１）が、１０ｎｍ～５０ｎｍ、好ましくは２０ｎｍ～４０ｎｍの厚みを有し、
   － 前記下方反射防止層（１０．２）が、５ｎｍ～１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ～５０ｎｍの厚みを有し、
   － 透明伝導性酸化物に基づく前記層（１０．３）が、５０ｎｍ～１５０ｎｍ、好ましくは６０ｎｍ～１００ｎｍの厚みを有し、
   － 前記バリア層（１０．４）が、５ｎｍ～２０ｎｍ、好ましくは７ｎｍ～１２ｎｍの厚みを有し、
   － 存在する場合に、前記上方反射防止層（１０．５）が、１０ｎｍ～１００ｎｍ、好ましくは３０ｎｍ～７０ｎｍの厚みを有する、
   請求項７に記載の乗り物ペイン。
10. 低減された放射率及び光反射を有する乗り物ペインの製造方法であって、
    （ａ）透明伝導性酸化物（ＴＣＯ）に基づく少なくとも１つの層（１０．３）を有する放射率低減コーティング（１０）を、基材（１）の露出した内部側表面（ＩＶ）に適用し、かつ、
    （ｂ）ナノ多孔ケイ素酸化物に基づく反射防止コーティング（２０）を、前記放射率低減コーティング（１０）の上に堆積し、
    前記放射率低減コーティング及び前記反射防止コーティングは、前記基材の全表面の少なくとも９０％に適用される、
    方法。
11. 下記によって、ゾル－ゲル法において前記反射防止コーティング（２０）を適用する、請求項１０に記載の方法：
    － 溶媒中の、ケイ素酸化物前駆体、特にはシラン又はシリケート、を含有する前駆体ゾルを提供すること、
    － 前記前駆体ゾルを孔形成剤と混合すること、
    － 得られた溶液を、基材（１）の内部側表面（ＩＶ）に適用すること、及び、
    － 前記前駆体ゾルを縮合させること。
12. 前記前駆体ゾルの縮合の後で、前記孔形成剤を除去する、請求項１１に記載の方法。
13. 前記孔形成剤が、ポリマーナノ粒子、特にはＰＭＭＡナノ粒子として実施されており、前記孔形成剤の前記除去を、少なくとも４００℃の温度での熱処理によって達成する、請求項１２に記載の方法。
14. 前記孔形成剤が、ポリマーナノ粒子、特にはＰＭＭＡナノ粒子として実施されており、前記孔形成剤の前記除去を、溶媒を用いた溶解によって、特にはＴＨＦを用いた溶解によって、達成する、請求項１２に記載の方法。
15. 請求項１～９のいずれか一項に記載の乗り物ペインの、陸上、空中、又は水上の交通のための輸送手段における、特にはウィンドウペインとしての、例えば、乗り物のルーフパネル、サイドペイン、リアペイン、又はウィンドシールドとしての、使用。

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