JP7482334B2 - 内視鏡システムおよび制御方法 - Google Patents
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Description
様々な実施形態において、制御回路は、第一ガスの供給の前、同時、あるいは供給後に第二ガスを供給するようにプログラムされ、あるいは、第一高周波電流の供給の前、同時、あるいは後に第二ガスを供給するようにプログラムされ、あるいは、これらを様々に組み合わせるようにプログラムされている。
第一ガスの供給を停止する前、または第一高周波電流の印加を停止する前に第二ガスの供給を停止し、第一高周波電流で第一ガスがイオン化してプラズマ状態となり、第二ガスがイオン化してプラズマ化する。状態は第二高周波電流であり、第二高周波電流は第一高周波電流より高い。
224:内視鏡システム
230:処置具チャンネル(挿入チャンネル)
304:処置管
302:電極
306:第一ガスチャンネル
331:第一ガス源
332:第二ガス源
308:第二ガスチャンネル
333:電力源
400:制御回路
Claims (15)
- 挿入チャンネルを含む内視鏡と、
前記挿入チャンネルに挿通され、前記挿入チャンネルの先端から突出し、
電極及び第一ガスチャンネルを備える処置管と、
前記第一ガスチャンネルを通じて第一ガスを供給するように構成されたな第一ガス源と、
前記処置管内に含まれず、第二ガスを前記挿入チャンネルの前記先端の方向に供給する第二ガスチャンネルを通じて前記第二ガスを供給するように構成された第二ガス源と、
前記第一ガスがプラズマ状態となるようにイオン化するのに十分な第一高周波電流を供給する電力供給源と、
前記電力供給源、前記第一ガス源、および前記第二ガス源を制御する制御回路と、を備え、
前記第一ガスが第一高周波電流値でイオン化され前記プラズマ状態になり、前記第二ガスが第二高周波電流値でイオン化されプラズマ状態になり、前記第二高周波電流値は、前記第一高周波電流値より高い、内視鏡システム。 - 前記第二ガスは二酸化炭素である、請求項1に記載の内視鏡システム。
- 前記第一ガスがアルゴンであり、前記第二ガスが二酸化炭素であり、
前記第一高周波電流はアルゴンを前記プラズマ状態にイオン化するのに十分な量であるが二酸化炭素を前記プラズマ状態にイオン化するには不十分な量である、請求項1に記載の内視鏡システム。 - 前記電極の壁の外面と前記処置管の壁の内面との間のプレナムが前記第一ガスチャンネルを形成する、請求項1に記載の内視鏡システム。
- 前記電極の壁の外面と前記挿入チャンネルの前記壁の内面との間のプレナムが前記第二ガスチャンネルを形成する、請求項1に記載の内視鏡システム。
- 前記第二ガスチャンネルは、前記内視鏡内に形成され、前記挿入チャンネルと分離して形成され、
前記第二ガスチャンネルは、前記内視鏡の先端に、前記内視鏡の先端における前記処置管用の開口から離間した開口を有する請求項1に記載の内視鏡システム。 - 前記制御回路は、前記第一ガスの供給の前または同時に前記第二ガスを供給し、または、前記第一高周波電流の印加前または同時に前記第二ガスを供給するように制御する、請求項1に記載の内視鏡システム。
- 前記制御回路は、前記第一ガスの供給及び前記第一高周波電流の印加の後に前記第二ガスを供給するように制御する、請求項1に記載の内視鏡システム。
- 前記制御回路は、前記第一ガスの供給停止前または前記第一高周波電流の印加停止前に前記第二ガスの前記供給を停止するように制御する、請求項1に記載の内視鏡システム。
- 前記制御回路は、前記第一ガスの供給停止後または前記第一高周波電流の印加停止後に前記第二ガスの前記供給を停止するように制御する、請求項1に記載の内視鏡システム。
- 第一ガスおよび第二ガスのガス流、第一ガスチャンネルを通じて第一ガスを供給するように構成された第一ガス源、および第二ガスチャンネルを通じて前記第二ガスを供給するように構成された第二ガス源を制御する制御方法であって、前記制御方法は、
電極の先端を超える位置に到達するように、前記第一ガスチャンネルを通じて前記第一ガスを供給し、
前記第一ガスを内視鏡の遠位端から押し出すために、前記第二ガスチャンネルを通じて前記第二ガスを供給し、
前記第一ガスをプラズマ状態にイオン化するのに十分な第一高周波電流を前記電極に印加して前記第一ガスをプラズマ状態にイオン化する工程を備え、
前記第一高周波電流で前記第一ガスをプラズマ状態にイオン化し、第二高周波電流で前記第二ガスをプラズマ状態にイオン化し、前記第二高周波電流値は、前記第一高周波電流値よりも高い、制御方法。 - 前記第一ガスの供給前または同時に前記第二ガスを供給し、または、前記第一高周波電流の印加前または同時に前記第二ガスを供給する請求項11に記載の制御方法。
- 前記第一ガスの供給および前記第一高周波電流の印加の後に前記第二ガスを供給する、請求項11に記載の制御方法。
- 前記第一ガスの供給停止前または前記第一高周波電流の印加停止前に前記第二ガスの供給を停止する、請求項11に記載の制御方法。
- 前記第一ガスの供給停止後または前記第一高周波電流の印加の停止後に前記第二ガスの供給を停止する、請求項11に記載の制御方法。
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