JP7479606B2 - 放射性組成物の製造方法 - Google Patents
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Description
図1~7を参照して、本実施形態に係る放射性組成物の製造方法の概略について説明する。すなわち、本実施形態に係る放射性組成物の製造方法は概略的には次のようなものになっている。
図1~3を参照すると、液体操作装置1は詳細には次のように構成することができる。図1及び2に示すように、液体操作装置1の基板2は、可撓性を有するようにシート状又はフィルム状に形成されている。ここで、「フィルム」は、約200μm(マイクロメートル)以下の厚さを有する膜状物体を指し、かつ「シート」は、約200μmを超える厚さを有する膜状物体を指す。例えば、基板2は、インクジェットプリンタ等の印刷機を用いて、かかる基板2上に電極3を載せることができるように構成することができる。
図3(a)~(c)を参照して、液体操作装置1における液滴Lの移動操作について説明する。最初に、図3(a)に示すように、液体操作装置1は、1つの電極3に電圧を印加し、かつ残りの電極3又は当該1つの電極3の周囲における電極3に、当該1つの電極3の電圧よりも低い電圧を印加するか又は電圧を印加しない電圧印加状態となっている。この電圧印加状態で生じる静電気力と、上記1つの電極3に対応する1つのディンプル5への液滴Lの嵌合とによって、液滴Lが、かかる1つのディンプル5を配置した1つの停止位置で一定かつ安定的に保持されている。
本発明の製造方法により得られる放射性組成物について説明する。放射性組成物は、先に説明した第1の液滴L1に含まれる放射性核種と、第2の液滴L2に含まれるラベリング物質との反応物生成物である放射性医薬物質を含み、任意選択的に、溶媒、反応停止剤、添加剤、及び/又は第3の液滴L3に含まれるpH調整剤をも含む組成物であってよい。具体的な放射性医薬物質としては、ヒドロキシメチレンジホスホン酸テクネチウム(99mTc)注射液、メチレンジボスホン酸テクネチウム(99mTc)注射液、テトロホスミンテクネチウム(99mTc)注射液、[N,N’-エチレンジ-L-システイネート(3-)]オキソテクネチウム(99mTc)ジエチルエステル注射液、テクネチウム大凝集人血清アルブミン(99mTc)注射液、メルカプトアセチルグリシルグリシルグリシンテクネチウム(99mTc)注射液、ガラクトシル人血清アルブミンジエチレントリアミン五酢酸テクネチウム(99mTc)注射液、フィチン酸テクネチウム(99mTc)注射液、過テクネチウム酸ナトリウム(99mTc)注射液、エキサメタジムテクネチウム(99mTc)注射液、ジエチレントリアミン五酢酸テクネチウム(99mTc)注射液、ジメルカプトコハク酸テクネチウム(99mTc)注射液、テクネチウムスズコロイド(99mTc)注射液、テクネチウム人血清アルブミン(99mTc)注射液、人血清アルブミンジエチレントリアミン五酢酸テクネチウム(99mTc)注射液、N-ピリドキシル-5-メチルトリプトファンテクネチウム(99mTc)注射液、ピロリン酸テクネチウム(99mTc)注射液、ヘキサキス(2-メトキシイソブチルイソニトリル)テクネチウム(99mTc)注射液、クエン酸ガリウム(67Ga)注射液、塩化インジウム(111In)注射液、塩化インジウム(111In)溶液(イブリツモマブチウキセタン用、ペンテトレオチド用)、ジエチレントリアミン五酢酸インジウム(111In)注射液、インジウム(111In)オキシキノリン液、塩化イットリウム(90Y)溶液、イットリウム(90Y)イブリツモマブチウキセタンが挙げられるが、これらには限定されない。本発明の方法により製造された放射性組成物は、そのままで、或いは適宜希釈して、PET又はSPECT診断用医薬やRI内用療法用医薬として、注射液や溶液等の形態で用いることができる。
第1~第3の液滴L1~L3及び混合液Mの詳細について説明する。第1の液滴L1は、放射性核種を含む溶液である。第1の液滴L1に含まれる放射性核種は、その使用目的により決定され、特に限定されるものではない。例えば、3H、11C、14C、13N、15O、18F、32P、44Sc、51Cr、59Fe、60Co、63Zn、64Cu、67Ga、68Ga、81mKr、89Sr、89Zr、90Y、99mTc、111In、123I、124I、125I、131I、133Xe、137Cs、192Ir、198Au、201Tl、223Ra、226Ra、211At、225Ac、177Lu等が挙げられる。これらのうち、99mTc、111In、67Ga、123Iは、SPECT核種として、68Ga、64Cu、89Zr、11C、18F、63Zn、44Scは、PET核種として、90Y、223Ra、211At、225Ac、177Lu、131I、89SrはRI内用療法用核種として、3H、14Cは半減期の長い核種として有用である。これらの中でも、99mTc、111In、67Ga、123I、68Ga、64Cu、89Zr、18F、63Zn、44Sc、124I、90Y、223Ra、211At、225Ac、177Lu、131I、89Srが好適に用いられる。常温で混合することで容易に反応させることができるためである。
図4~7を参照して、本実施形態に係る放射性組成物の製造方法における一例及び別の一例について詳細に説明する。すなわち、放射性組成物の製造方法は、その一例及び別の一例として詳細には次のようなものとすることができる。
2…基板、2b…表面
3…電極
4…絶縁膜、4a…裏面、4b…表面
5…ディンプル
6…ディンプル対応部
L1…第1の液滴、L2…第2の液滴、L3…第3の液滴
M…混合液
Claims (4)
- 基板と、前記基板の表面上に配置される複数の電極と、前記複数の電極を覆うように前記基板の表面上に配置される絶縁膜とを備え、前記絶縁膜が、前記基板の表面を向く裏面と、前記絶縁膜の裏面に対して前記絶縁膜の厚さ方向の反対側に位置する表面とを有し、前記絶縁膜が、前記複数の電極にそれぞれ対応して位置し、かつ前記絶縁膜の表面から前記絶縁膜の裏面に向かう凹方向に凹むように曲がる複数のディンプルを有し、各電極が、それに対応して位置する前記ディンプルと一緒になって前記凹方向に凹むように曲がるディンプル対応部を有する、液体操作装置を用いた放射性組成物の製造方法であって、
前記絶縁膜の表面上にて、前記複数のディンプルのうち少なくとも2つに、放射性核種を含む少なくとも1つの第1の液滴と、ラベリング物質を含む少なくとも1つの第2の液滴とをそれぞれ配置する工程と、
前記複数の電極に印加する電圧を変化させることによって生じる静電気力の変化を用いて、前記少なくとも1つの第1の液滴と、前記少なくとも1つの第2の液滴とを前記複数のディンプルのうちいずれか1つにて混合するように相対的に移動させることによって、混合液を得る工程と
を含み、前記静電気力の変化を用いて前記混合液を前記複数のディンプルのうち隣り合う2つの間にて移動させることを少なくとも1回行うことによって、前記混合液を撹拌する工程をさらに含む、放射性組成物の製造方法。 - 基板と、前記基板の表面上に配置される複数の電極と、前記複数の電極を覆うように前記基板の表面上に配置される絶縁膜とを備え、前記絶縁膜が、前記基板の表面を向く裏面と、前記絶縁膜の裏面に対して前記絶縁膜の厚さ方向の反対側に位置する表面とを有し、前記絶縁膜が、前記複数の電極にそれぞれ対応して位置し、かつ前記絶縁膜の表面から前記絶縁膜の裏面に向かう凹方向に凹むように曲がる複数のディンプルを有し、各電極が、それに対応して位置する前記ディンプルと一緒になって前記凹方向に凹むように曲がるディンプル対応部を有する、液体操作装置を用いた放射性組成物の製造方法であって、
前記絶縁膜の表面上にて、前記複数のディンプルのうち少なくとも2つに、放射性核種を含む少なくとも1つの第1の液滴と、ラベリング物質を含む少なくとも1つの第2の液滴とをそれぞれ配置する工程と、
前記複数の電極に印加する電圧を変化させることによって生じる静電気力の変化を用いて、前記少なくとも1つの第1の液滴と、前記少なくとも1つの第2の液滴とを前記複数のディンプルのうちいずれか1つにて混合するように相対的に移動させることによって、混合液を得る工程と
を含み、
前記配置する工程にて、前記少なくとも1つの第1の液滴及び前記少なくとも1つの第2の液滴をそれぞれ配置した前記少なくとも2つのディンプルとは異なる前記複数のディンプルのうち少なくとも1つに、pH調整剤を含む少なくとも1つの第3の液滴をさらに配置し、
前記混合液を得る工程にて、前記静電気力の変化を用いて、前記少なくとも1つの第1の液滴と、前記少なくとも1つの第2の液滴と、前記少なくとも1つの第3の液滴とを前記複数のディンプルのうちいずれか1つにて混合するように相対的に移動させる、放射性組成物の製造方法。 - 可撓性基板と、前記可撓性基板の表面上に配置される複数の電極と、前記複数の電極を覆うように前記可撓性基板の表面上に配置される絶縁膜とを備え、前記絶縁膜が、前記可撓性基板の表面を向く裏面と、前記絶縁膜の裏面に対して前記絶縁膜の厚さ方向の反対側に位置する表面とを有し、前記絶縁膜が、前記複数の電極にそれぞれ対応して位置し、かつ前記絶縁膜の表面から前記絶縁膜の裏面に向かう凹方向に凹むように曲がる複数のディンプルを有し、各電極が、それに対応して位置する前記ディンプルと一緒になって前記凹方向に凹むように曲がるディンプル対応部を有する、液体操作装置を用いた放射性組成物の製造方法であって、
前記絶縁膜の表面上にて、前記複数のディンプルのうち少なくとも2つに、放射性核種を含む少なくとも1つの第1の液滴と、ラベリング物質を含む少なくとも1つの第2の液滴とをそれぞれ配置する工程と、
前記複数の電極に印加する電圧を変化させることによって生じる静電気力の変化を用いて、前記少なくとも1つの第1の液滴と、前記少なくとも1つの第2の液滴とを前記複数のディンプルのうちいずれか1つにて混合するように相対的に移動させることによって、混合液を得る工程と
を含む、放射性組成物の製造方法。 - 前記第1の液滴に含まれる放射性核種が、99mTc、111In、67Ga、123I、68Ga、64Cu、89Zr、18F、63Zn、44Sc、124I、90Y、223Ra、211At、225Ac、177Lu、131I、89Srから選択される、請求項1から3のいずれか1項に記載の放射性組成物の製造方法。
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