JP7470847B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

この発明は、ステージ上に保持される基板に対しスリットノズルを移動させながら基板に塗布を行う基板処理装置に関するものである。

基板に対し処理液を塗布する基板処理装置としては、平面に仕上げられたステージ上に基板を載置し、その上方に配置したスリットノズルを基板に対し走査移動させながら、スリットノズルからレジスト液等の処理液を吐出させるものがある。このような基板処理装置はスリットコーターと呼ばれることがある。例えば特許文献１に記載の基板処理装置は、それぞれが基板を支持する平面ステージを跨ぐように設けられノズルを有する２組の架橋構造体を有している。架橋構造体はステージを挟んで設けられた１対のレールに取り付けられて、スリットノズルの長手方向に直交する方向へ移動可能となっている。

また、この基板処理装置では、一方のノズルが基板に対する塗布処理を実行している間に他方のノズルのメンテナンスが行われる。このとき他方のノズルは、ステージ上方から側方へ退避した位置でメンテナンスを受ける。このような退避移動を可能とするために、レールは基板の端部を超えてさらに外側まで延びており、それに伴ってステージも部分的に延長されている。特に２組のノズルそれぞれに対応してメンテナンス機構を設けるために、ステージの両端部に延長部位が設けられている。

特開２００５－２３０８０７号公報

処理対象となる基板は大型化が進んでおり、１辺が２メートルを超えるものも製造されるようになってきている。当然に、基板処理装置においてもこのような大型基板を載置可能な大型ステージを備えることが必要になってきている。ステージの周辺に各種部品を取り付けるとサイズはさらに大きくなる。このため、例えば基板処理装置の製造工場からその設置場所へ装置を移動させる際に、通常の輸送機関では装置を組み立てた状態で搬送することができなくなるという問題が生じてきている。

したがって、このような大型基板に対応する基板処理装置は、輸送機関で輸送可能なサイズまで装置を分割することができるように構成されることが望ましい。より好ましくは、輸送後の組み立て時における調整作業ができるだけ簡単なものとなっているとよい。しかしながら、上記従来技術では、このような輸送に伴う分解および再組み立ての便宜については考慮されておらず、この点において解消の余地が残されている。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、基板を載置するステージを備える塗布装置において、特にステージが大型である場合でも装置を適切に分割することができ、さらに組み立て後の調整作業を容易にすることが可能になる技術を提供することを目的とする。

この発明に係る基板処理装置の一の態様は、互いに平行な１対の側面を有し、上面に基板を載置可能な平坦なステージが設けられたステージブロックと、前記１対の側面に垂直な方向を第１方向とし、前記第１方向に垂直かつ前記ステージの上面に沿う方向を第２方向とするとき、前記第２方向における前記ステージの両端部のそれぞれよりも外側で前記ステージを挟んで、前記ステージブロックの上面に沿って前記第１方向に延設された１対のガイド部材と、前記ステージの上方で前記第２方向を長手方向としてスリット状に開口する吐出口が設けられたノズル、および、前記ノズルを支持するとともに前記１対のガイド部材の各々に対し前記第１方向に移動自在に係合するノズル支持部を有するノズルブロックと、前記１対の側面の一方から前記第１方向に突出するように前記ステージブロックに着脱自在に結合される延伸部材と、前記延伸部材により下方から支持されるとともに、前記１対のガイド部材の各々の前記第１方向における端部に接合されて前記第１方向に延びる１対の延長ガイド部材と、前記１対のガイド部材および前記１対の延長ガイド部材に沿って前記ノズルブロックを移動させる移動機構と、平面視において前記１対の延長ガイド部材の間に設けられ、前記ノズルに対するメンテナンスを実行するメンテナンス部とを備えている。

ここで、前記ステージは、平面視において前記第１方向を短辺方向とする長方形の形状を有し、前記ステージブロックでは、前記第２方向における長さよりも前記第１方向における長さの方が小さい。

このように構成された発明では、ステージに載置された基板の上方にノズルを配置した状態でノズルブロックが第１方向に移動することで、基板に塗布を行うことが可能である。そして、この基板処理装置は、ステージブロックと延伸部材との間で、第１方向の長さを分断するように分割可能である。このようにして分割された状態では、ステージを挟むように設けられた１対のガイド部材は、ステージブロックの上面にステージと一体的に取り付けられたままとなっている。

このため、ステージとガイド部材との位置関係は分割により変化しない。したがって、ステージに支持される基板と、ガイド部材に係合されるノズルブロックに設けられたノズルとの位置関係も変わらない。このことは、装置のうち特に塗布品質に影響するとして精密に調整されるべきステージとノズルとの間の位置精度が、装置が分割され再組み立てされた後でも保たれていることを意味する。そのため、分解、再組み立ての過程でこれらの位置関係がずれることに起因する塗布品質の低下を未然に防止することができる。

また、延伸部材と延長ガイド部材とにより、ステージ上からメンテナンス部までに至るノズルブロックの移動経路が確保されるため、ノズルのメンテナンスに関しては従来と同等の作用効果が得られる。つまり、塗布品質およびメンテナンス性のいずれにおいても、分割を行わない装置と同等の性能が得られ、これらの点で分割によるデメリットは生じない。

そして、メンテナンスを目的とするノズルの位置決めにおいては、塗布時ほど高い位置精度は必要とされないから、延伸部材および延長ガイド部材の組み立て精度に関する条件より緩やかである。このため、塗布動作の要部に該当する構成を組み立てる場合に比べて、組み立て時の調整作業は容易となる。

また、ステージブロックでは、ステージが第１方向を短辺方向とする長方形形状を有しており、これに加えて、ステージブロックの長さは、第２方向よりも第１方向の方が小さい。このことは、例えばステージブロックの平面視における包絡外形を矩形とみなしたとき、ステージブロックの外形における短辺方向と、そのうちのステージの短辺方向とが一致し、しかもその方向が第１方向である、ということを意味している。したがって、分割を前提とするステージブロックの第１方向におけるサイズを、ステージ自体を分割しない範囲において最小とすることができる。

言い換えれば、ステージブロックの第１方向の長さが同じであれば、ステージの短辺方向におけるサイズを最大化することができる。長辺方向においてはステージをより大きくすることが許容されているから、結局、輸送可能な寸法という制約の中では最大寸法の基板を扱うことが可能な基板処理装置を構成することができる。

以上のように、本発明によれば、ステージの短辺方向をノズルの移動方向とし、しかも当該方向のノズルの移動経路を切断するように装置を分割することで、ステージが大型である場合でも装置を適切に分割することができる。さらに、組み立て精度が問題となる箇所を、塗布動作への影響が少ない位置に設定することができるので、組み立て後の調整作業を容易にすることができる。

本発明に係る基板処理装置の一実施形態を模式的に示す斜視図である。 この基板処理装置のステージ組立体の構造を示す斜視図である。 ステージ分割の一例を示す図である。 本実施形態におけるステージ分割の態様を示す図である。 支持機構を構成する取り付け金具の構造を示す図である。 支持機構を構成する取り付け金具の構造を示す図である。 支持梁とステージブロックとの取り付け状態を下方から見た図である。 延伸ユニットとステージユニットを結合する際の状態変化を示す図である。 基板処理装置の変形例を示す図である。 延伸部材の取り付け構造の変形例を示す図である。 延伸部材の取り付け構造の他の変形例を示す図である。 延伸部材の取り付け構造の他の変形例を示す図である。 延伸部材の取り付け構造の他の変形例を示す図である。 延伸部材の取り付け構造の他の変形例を示す図である。

図１は本発明に係る基板処理装置の一実施形態を模式的に示す斜視図である。また、図２はこの基板処理装置のステージ組立体の構造を示す斜視図である。これらの図および以下の各図には、それらの方向関係を明確にするため、Ｚ方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を適宜付するとともに、必要に応じて各部の寸法や数を誇張または簡略化して描いている。

基板処理装置１は、スリットノズル２を用いて被塗布物の一例である基板Ｓの表面Ｓａに処理液を塗布するスリットコーターと呼ばれる塗布装置である。処理液は、例えば、フォトレジスト液である。また、処理液は、例えばカラーフィルター用顔料、ポリイミド前駆体、シリコン剤、ナノメタルインクまたは導電性材料を含むペースト状やスラリー状の種々の処理液であってもよい。基板Ｓは平面視で矩形状を有する、例えばガラス基板である。また、塗布対象となる基板Ｓについては、矩形ガラス基板、半導体基板、フィルム液晶用フレキシブル基板、フォトマスク用基板、カラーフィルター用基板、太陽電池用基板、有機ＥＬ(ElectroLuminescence)用基板などの種々の基板に適用可能である。なお、本明細書中で、「基板Ｓの表面Ｓａ」とは基板Ｓの両主面のうち処理液が塗布される側の主面を意味する。

基板処理装置１は、基板Ｓを水平姿勢で吸着保持可能なステージ４０１を有するステージ組立体４と、ステージ４０１に保持される基板Ｓにスリットノズル２を用いて塗布処理を施す塗布処理部５と、スリットノズル２に対してメンテナンス処理を施すノズルメンテナンスユニット６と、これら各部を制御する制御部１００とを備える。

なお、この実施形態では、１つのステージ組立体４に対して、同一構造を有する２つの塗布処理部５が設けられている。特に２つの塗布処理部５を区別する必要がある場合には、２つのうち（－Ｙ）側にある塗布処理部５に符号５ａを、（＋Ｙ）側にある塗布処理部５に符号５ｂを付すこととする。これに対応して、塗布処理部５ａに設けられたノズル２には符号２ａを、塗布処理部５ｂに設けられたノズル２には符号２ｂを付す。

また、２つのノズル２ａ，２ｂに対してそれぞれ１組ずつノズルメンテナンスユニット６が設けられており、これらを区別する必要がある場合には、（－Ｙ）側に設けられてノズル２ａに対するメンテナンスを行う方に符号６ａを、（＋Ｙ）側に設けられてノズル２ｂに対するメンテナンスを行う方に符号６ｂを付す。これらのノズルメンテナンスユニット６ａ，６ｂは、ＸＺ平面に対して互いに対称な構造を有している点を除き構成は同じである。このため、ノズルメンテナンスユニット６ｂについては詳細構造の図示を省略している。

図２に示すように、ステージ組立体４は、略直方体の形状を有し上面が略水平な平坦面に加工されたステージブロック４０と、４つの延伸部位４１～４４とを備えている。具体的には、ステージブロック４０の（－Ｙ）側側面４０ａでは、その（－Ｘ）側端部と（＋Ｘ）側端部とのそれぞれに、Ｙ方向に延びる延伸部位４１，４２が設けられている。また、ステージブロック４０の（＋Ｙ）側側面４０ｂでは、その（－Ｘ）側端部と（＋Ｘ）側端部とのそれぞれに、Ｙ方向に延びる延伸部位４３，４４が設けられている。これにより、平面視において、ステージ組立体４は概ねＨ字形状を有している。

ステージブロック４０および延伸部位４１～４４は、それぞれ花崗岩等の石材で構成され、上面が略水平な平坦面に仕上げられた、いわゆる石製定盤である。詳しくは後述するが、ステージブロック４０および延伸部位４１～４４の上面は同一平面となるよう調整されている。ステージブロック４０および延伸部位４１～４４は互いに同一厚さを有していることが好ましい。

ステージブロック４０の上面中央部は、多数の真空吸着口が分散して形成され、基板Ｓを吸着保持するステージ４０１となっている。これらの真空吸着口により基板Ｓが吸着されることで、塗布処理の際に基板Ｓが所定の位置に水平に保持される。ステージ４０１については、その短辺方向がＹ方向と一致するように、つまり、ステージ４０１のＸ方向長さＳｘに対してＹ方向長さＳｙの方が小さくなるようにすることが望ましい。このようにする理由は後述するが、このような構成により、この実施形態において基板Ｓは、短辺方向がＹ方向と一致するようにステージ４０１に載置されることが想定されている。なお、基板Ｓの保持態様はこれに限定されるものではなく、例えば機械的に基板Ｓを保持するように構成してもよい。

ステージブロック４０の（－Ｙ）側側面４０ａよりも（－Ｙ）側で延伸部位４１，４２に挟まれた空間、および、ステージブロック４０の（＋Ｙ）側側面４０ｂよりも（＋Ｙ）側で延伸部位４３，４４に挟まれた空間は、それぞれノズル調整領域ＲＡをなっており、このノズル調整領域ＲＡに、ノズルメンテナンスユニット６（６ａ，６ｂ）が配置される。

図１に戻って、スリットノズル２（２ａ，２ｂ）では、その下端部（ノズルリップ部）が下方へ先細りの形状を有している。そして、当該下方端部の下面においてスリット状の吐出口２１がＸ方向に延設されており、図示省略の処理液供給部から圧送されてくる処理液が上記吐出口２１から基板Ｓの表面Ｓａに吐出される。これによって、基板Ｓの表面Ｓａに処理液が塗布される。

塗布処理部５（５ａ，５ｂ）は、スリットノズル２（２ａ，２ｂ）を支持するノズル支持体５１を有する。このノズル支持体５１は、ステージ４０１の上方でＸ方向に平行に延設された支持部材５１１と、支持部材５１１をＸ方向の両側から支持して支持部材５１１を昇降させる２つの昇降機構５１２，５１２とを有する。支持部材５１１は、例えばカーボンファイバ補強樹脂等で構成され、矩形の断面を有する棒部材である。この支持部材５１１は、その下面にスリットノズル２を着脱可能に支持する。なお、スリットノズル２を支持部材５１１に着脱するための機構としては、ラッチあるいはねじ等の種々の締結機構を適宜用いることができる。

２つの昇降機構５１２，５１２は支持部材５１１の長手方向の両端部に連結されており、それぞれＡＣサーボモータおよび及びボールネジ等を有する。これらの昇降機構５１２，５１２により、支持部材５１１およびそれに固定されたスリットノズル２が鉛直方向（Ｚ方向）に昇降され、スリットノズル２の下端で開口する吐出口２１と基板Ｓとの間隔、すなわち、基板Ｓに対する吐出口２１の相対的な高さが調整される。なお、支持部材５１１の鉛直方向の位置は、例えば、図示を省略しているが、昇降機構５１２の側面に設けられたスケール部と、当該スケール部に対向してスリットノズル２の側面等に設けられた検出センサとで構成されるリニアエンコーダーにより検出することができる。

このように構成されたノズル支持体５１は、図１に示すように、ステージ組立体４のＸ方向両端部でＸ方向に沿って掛け渡された、ステージ４０１を跨ぐ架橋構造を有している。塗布処理部５は、このノズル支持体５１をＹ方向に移動させるスリットノズル移動部５３を有する。スリットノズル移動部５３は、架橋構造体としてのノズル支持体５１とこれに支持されたスリットノズル２とを、ステージ４０１上に保持される基板Ｓに対してＹ方向に沿って相対移動させる相対移動手段として機能する。具体的には、スリットノズル移動部５３は、±Ｘ側のそれぞれにおいて、スリットノズル２の移動をＹ方向に案内するガイドレール５２と、駆動源であるリニアモーター５４と、スリットノズル２の吐出口の位置を検出するためのリニアエンコーダー５５とを有する。

図１および図２に示すように、２つのガイドレール５２はそれぞれ、ステージ組立体４の上面のうちＸ方向の両端部に設けられ、ノズル調整領域ＲＡおよびステージ４０１が設けられた区間を含むようにＹ方向に互いに平行に延設されている。したがって、（－Ｘ）側に設けられたガイドレール５２は、（－Ｙ）側の延伸部位４１からステージブロック４０を経て（＋Ｙ）側の延伸部位４３にまで至っている。また、（＋Ｘ）側に設けられたガイドレール５２は、（－Ｙ）側の延伸部位４２からステージブロック４０を経て（＋Ｙ）側の延伸部位４４にまで至っている。

そして、２つのガイドレール５２がそれぞれ、２個の昇降機構５１２，５１２の移動をＹ方向に案内する。また、２つのリニアモーター５４はそれぞれ、ステージ組立体４のＸ方向両側に設けられ、固定子５４１と移動子５４２とを有するＡＣコアレスリニアモーターである。固定子５４１は、ステージ組立体４のＸ方向の側面にＹ方向に沿って設けられている。一方、移動子５４２は、昇降機構５１２の外側に固設されている。２個のリニアモーター５４はそれぞれ、これら固定子５４１と移動子５４２との間に生じる磁力によって、２個の昇降機構５１２，５１２をＹ方向に駆動する。

また、各リニアエンコーダー５５はそれぞれ、スケール部５５１と検出部５５２とを有している。スケール部５５１はステージ４０１に固設されたリニアモーター５４の固定子５４１の下部にＹ方向に沿って設けられている。一方、検出部５５２は、昇降機構５１２に固設されたリニアモーター５４の移動子５４２のさらに外側に固設され、スケール部５５１に対向配置される。リニアエンコーダー５５は、スケール部５５１と検出部５５２との相対的な位置関係に基づいて、Ｙ方向におけるスリットノズル２の位置、より具体的には吐出口の位置を検出する。

このように構成されたスリットノズル移動部５３は、ノズル支持体５１をＹ方向に駆動することで、ノズル調整領域ＲＡの上方とステージ４０１上に保持される基板Ｓの上方との間でスリットノズル２を移動させることができる。より具体的には、スリットノズル移動部５３は、スリットノズル２ａを、（－Ｙ）側のノズル調整領域ＲＡの上方と基板Ｓの上方との間で移動させる。また、スリットノズル２ｂを、（＋Ｙ）側のノズル調整領域ＲＡの上方と基板Ｓの上方との間で移動させる。

そして、基板処理装置１は、スリットノズル２ａの吐出口から処理液を吐出しながらスリットノズル２ａを（＋Ｙ）方向に移動させることで、基板Ｓの表面Ｓａに処理液層を形成する。また、スリットノズル２ｂの吐出口２１から処理液を吐出しながらスリットノズル２ｂを（－Ｙ）方向に移動させることで、基板Ｓの表面Ｓａに処理液層を形成する。

処理液の塗布完了後には、スリットノズル２はノズル調整領域ＲＡに戻って待機する。２箇所のノズル調整領域ＲＡは、ステージ４０１から（－Ｙ）方向側および（＋Ｙ）方向側に外れた位置にそれぞれ設けられている。ノズル調整領域ＲＡは、基板処理装置１と外部搬送機構との基板Ｓの受渡し期間（基板Ｓの搬入・搬出期間）等のステージ４０１上で塗布処理が行われない期間におけるスリットノズル２の待機場所として機能する。また、ノズル調整領域ＲＡに位置するスリットノズル２に対して、ノズルメンテナンスユニット６が各種のメンテナンスを実行する。

ノズル調整領域ＲＡに設けられたノズルメンテナンスユニット６は、図１に示すように、プリディスペンス機構６１、洗浄ブロック６２および待機ポッド６３を備えている。これらを備えるノズルメンテナンスユニット６は、ノズル２に付着した余分な処理液を除去しノズル２の先端を塗布に適した状態に整える機能を有する。これらの構成としては公知のものを適用可能であるため、説明を省略する。例えば、本願出願人が先に開示した特開２００８－２９００３１号公報に記載のものを適用することができる。

上記のように、この実施形態の基板処理装置１は、ステージ組立体４の周囲に各種の機構部品が取り付けられた構造を有している。ステージ４０１は処理対象の基板Ｓを水平姿勢で保持するだけの平面サイズを有している必要があり、基板Ｓが大型であれば当然に、ステージ４０１およびこれを含む装置全体も大型となる。

装置の大きさに最も影響を与えるのはステージ組立体４である。ここで、以下の説明のために、ステージ組立体４のＸ方向における最大長さを、符号Ｌｘにより表すこととする。また、Ｙ方向における最大長さを符号Ｌｙにより表すこととする。

ところで、近年では基板の大型化が進んでおり、例えば液晶表示パネル製造用ガラス基板では、一般にＧ８サイズと称される２６２０ｍｍ×２２９０ｍｍの基板が流通するようになってきている。そうすると、このような基板を扱う基板処理装置１では、ステージ４０１の平面サイズ（Ｓｘ×Ｓｙ）がこの程度であることが必要となる。ステージ組立体４の長さＬｘ，Ｌｙは当然にこれより大きくなり、例えばいずれも３ｍを超えるような場合もある。

一般的に各種の処理装置は、製造工場で組み立て、調整が行われた後、実際に当該装置が使用される場所に搬入される。しかしながら、このように大型の装置になると、組み立てた状態のまま輸送することが困難である。例えば鉄道やトラック等の輸送機関では積載物の寸法に上限があり、これらを利用することができないケースが生じ得る。このため、装置をいくつかのブロックに分割する必要が生じてくる。

この種の基板処理装置１は、極めて高い加工・組み立て精度が必要とされる精密機械である。ステージ組立体４もその一例であり、これを分割するのに際しては、設置現場での再組み立てにおいても高い精度が確保されなければならない。

図３はステージ分割の一例を示す図である。なお、上記実施形態の構造を例に取って説明する都合上、一部の構成についてはこれまでの説明で使用した参照符号をそのまま用いるが、図３に示される構造は本実施形態のものではない。ステージ組立体４の分割を考えるとき、例えば図３（ａ）に示すように、ステージ４０１を含むステージ本体４０５と、ガイドレール５２、リニアモーター５４およびリニアエンコーダー５５が取り付けられたサイド部４０６とにステージ組立体４を分割することが考えられる。

再組み立ての際には、ステージ本体４０５のＸ方向両端部にそれぞれサイド部４０６を取り付けることになる。このとき、ステージ組立体４の上面における平面度が規格値の範囲に収まっている必要がある。この場合の規格値としては例えば１０μｍまたはそれ以下である。設置現場においてこのような精度を実現することは必ずしも容易ではなく、例えば図３（ｂ）に示すように、ステージ本体４０５に対するサイド部４０６の取り付け位置がずれていると、ノズル２が傾いた状態で支持されることとなる。そうすると、ノズル２の下端に設けられた吐出口２１とステージ４０１上の基板Ｓとのギャップが位置により異なることになり、結果として塗布膜厚が不均一となって塗布品質が低下することになる。

図４は本実施形態におけるステージ分割の態様を示す図である。なお、図４（ａ）では、これまで図示を省略してきた、ステージ組立体４を支持する支持フレーム１０を併せて図示している。図４（ａ）に示すように、この実施形態において、ステージ組立体４は、ステージ４０１と、ステージ組立体４の上面に設けられたガイドレール５２のうちステージ４０１を挟んで設けられた部分（符号５２０を付す）とを含むステージブロック４０と、ガイドレール５２の一部（符号５２１を付す）が取り付けられた各延伸部位４１～４４との間で分割される。支持フレーム１０は、ステージブロック４０を支持するフレーム１１と、（－Ｙ）側の延伸部位４１，４２を一体的に支持するフレーム１２と、（＋Ｙ）側の延伸部位４３，４４を一体的に支持するフレーム１３とを備えている。

より具体的には、平板状のステージブロック４０の（－Ｙ）側側面４０ａは、Ｙ軸に垂直な平面に仕上げられており、その（－Ｘ）側端部に、略直方体形状の延伸部材４１が接合される。上面同士が同一平面をなすように、延伸部材４１がステージブロック４０に接合されることにより、延伸部材４１は延伸部位４１として機能する。本実施形態では、延伸部位４１がステージブロック４０とは独立した別部材として構成される。したがって、本実施形態に関しては「延伸部位」と「延伸部材」とは実質的に同義である。そこで、本明細書では、この延伸部材にも、対応する延伸部位と同じ参照符号４１を付している。以下に説明する他の延伸部位４２～４４についても同様とする。

図には現れていないが、延伸部材４１の（＋Ｙ）側端面もＹ軸に垂直な平面に仕上げられており、したがって、ステージブロック４０と接合されることで、両者は平面同士でぴったり密着することになる。

また、ステージブロック４０の（－Ｙ）側側面４０ａのうち（＋Ｘ）側端部にも、延伸部位として機能する延伸部材４２が取り付けられる。延伸部材４１，４２はフレーム１２によって一体的に支持されている。以下では、延伸部材４１，４２およびフレーム１２が一体化された構造体を「第１延伸ユニット」と称する。

同様に、ステージブロック４０の（＋Ｙ）側側面４０ｂもＹ軸に垂直な平面に仕上げられており、その（－Ｘ）側端部および（＋Ｘ）側端部のそれぞれに、略直方体形状の延伸部材４３，４４が接合される。延伸部材がステージブロック４０に結合された状態と分離された状態とを対比させるために、図４（ａ）では延伸部材４３，４４はステージブロック４０に結合された状態が示されている。しかしながら、延伸部材４１，４２と同様に、延伸部材４３，４４もステージブロック４０から切り離すことが可能である。延伸部材４３，４４は、フレーム１３によって一体的に支持されている。以下では、延伸部材４３，４４およびフレーム１３が一体化された構造体を「第２延伸ユニット」と称し符号７２を付す。

すなわち、この実施形態におけるステージ組立体４は、ステージブロック４０とフレーム１１とが一体化されたステージユニット７０と、第１および第２延伸ユニット７１，７２とに分割することが可能である。このように分割を行い、各ユニットの水平サイズの最大値を輸送可能な上限寸法以下に抑えることができる。

各部の詳細を説明するのに先立って、このようにステージ組立体４を分割することによる効果を説明する。図４（ｂ）は本実施形態のステージ分割による効果を説明する図である。この実施形態では、ステージ組立体４が分割された状態でも、ステージ４０１を挟む１対のガイドレール５２，５２はステージブロック４０の上面に取り付けられた状態が維持されている。したがって、分割および再組み立ての過程において、ガイドレール５２，５２とステージ４０１との位置関係は変動することがない。

このため、ガイドレール５２に係合されるノズル支持体５１によって支持されるノズル２と、ステージ４０１に吸着保持される基板Ｓとの位置関係も、工場出荷段階と同じ状態が保たれている。すなわち、分割および再組み立てにおいて、これらの位置精度が低下することはない。

また、仮にいずれかの延伸部材のステージブロック４０に対する取り付け精度がよくなかったとしても、これによるノズル２の傾きはノズル調整領域ＲＡにおいてのみ発生し、基板Ｓとの対向位置では生じない。そのため、少なくとも塗布品質への影響は回避することができる。

また、この実施形態では、図４（ａ）に示すように、ステージブロック４０において、ガイドレール５２（５２０）のＹ方向端部がステージブロック４０の端部まで延びておらず、ステージブロック４０のＹ方向端部よりも内側で切れている。このようにする理由は以下の通りである。

図４（ａ）に示すように、ガイドレール５２のうち延伸部材４１等の上面に取り付けられる部分５２１は、延伸部材４１等から取り外し可能となっている。また、延伸部材４１等の上面に取り付けられた状態では、ガイドレール５２（５２１）の（＋Ｙ）側端部は延伸部材４１等の（＋Ｙ）側端面よりも突出している。このため、ガイドレール５２１の（＋Ｙ）側端部はステージブロック４０の上面まで延びることとなる。これをステージブロック４０の上面に留め付けることで、仮にステージブロック４０と延伸部材４１等との間に段差があったとしても、ガイドレール５２の接続に関してはよりスムーズに行うことが可能となる。その結果、ガイドレール５２の段差により塗布処理部５が振動する等の問題を回避することが可能である。

上記のような分割方法によれば、ステージブロック４０では、そのＹ方向の両側面４０ａ，４０ｂは互いに平行であり、これらの側面４０ａ，４０ｂよりも外側まで突出する部品は本質的にはない。このため、ステージブロック４０のＹ方向長さＬｙ２については、輸送可能な上限寸法（以下、単に「上限寸法」という）いっぱいまで設定することが可能となる。なお、このステージブロック４０ではそのＹ方向両端部が互いに平行な（Ｙ軸に垂直な）平面で終端しているため、この側面間の距離がステージブロック４０の長さＬｙ２となる。

ステージブロック４０の上面のうちガイドレール５２０，５２０に挟まれた領域は、基本的に全て基板Ｓを支持するために用いることができる。つまり、この領域全体をステージ４０１として利用することが可能である。基板処理装置１はステージブロック４０のＹ方向長さＬｙ２までの基板Ｓを扱うことができるから、原理上は上限寸法まで基板Ｓを大きくすることができる。

特に、長方形の基板Ｓについては、その短辺がＹ方向を向くようにステージ４０１に載置することで、Ｘ方向に延びる長辺については上限寸法を超える長さまで許容することが可能になる。このとき、ステージ４０１に載置可能な基板Ｓのサイズを最大とすることができる。言い換えれば、本実施形態の技術思想に基づけば、基板Ｓの短辺の長さが上限寸法を超えない限り、そのような基板Ｓを扱うことのできる基板処理装置１を構成することが可能である。

また、このようにノズル移動方向であるＹ方向と基板Ｓの短辺方向とを揃えることで、塗布動作における塗布処理部５の移動ストロークを小さくすることが可能である。ステージブロック４０の上面においてその平面度を特に厳しく管理する必要のあるのはこの移動ストロークの範囲であるから、移動ストロークの短縮は、ステージブロック４０の加工精度に対する条件をいくらか緩和することができるという効果も有する。

次に、上記のように分割可能に構成されたステージ組立体４を分割および結合可能に支持するための構造について説明する。図４（ａ）に示すように、ステージブロック４０については、ステージブロック４０の下部に結合された強固なフレーム１１により、ステージ面が所定高さの水平面となるように支持されている。

一方、延伸部材４１の下部には、後述する支持機構８の支持梁８１が取り付けられており、支持梁８１の（＋Ｙ）側端部は延伸部材４１の（＋Ｙ）側端部よりも（＋Ｙ）側まで突出している。同様に、延伸部材４２の下部には、延伸部材４２の（＋Ｙ）側端部よりも（＋Ｙ）側まで突出する支持梁８２が取り付けられている。支持梁８１，８２は、いくつかの部材が組み合わされてなるフレーム１２に、可動脚１２２を介して取り付けられている。

可動脚１２２は、支持梁８１，８２をフレーム１２に固定したロック状態と、支持梁８１，８２が所定の可動範囲内でＸＹＺ方向に移動自在のアンロック状態とを切り替えることができる。これを実現するための機構については任意であるが、アンロック状態においても、支持梁８１，８２がフレーム１２から脱落するのを防止する機能が維持されていることが望ましい。延伸部材４１等とステージブロック４０との高さ調整のために、可動脚１２２はジャッキ機構を有するものでもよい。説明を省略するが、フレーム１３による延伸部材４３，４４の支持態様もこれと同様である。

輸送時には、可動脚１２２はロック状態とされ、これにより支持梁８１，８２およびこれに固定された延伸部材４１，４２が振動によりぐらつくことが回避される。一方、延伸部材４１，４２がステージブロック４０と結合されてステージ組立体４を構成するとき、可動脚１２２はアンロック状態とされて、延伸部材４１，４２の支持は次に説明する支持機構８に委ねられる。

図５ないし図８は支持機構の構造およびその機能を説明する図である。より具体的には、図５および図６は支持機構８を構成する取り付け金具の構造を示す図である。また、図７は支持梁８１とステージブロック４０との取り付け状態を下方から見た図である。また、図８は第１延伸ユニット７１とステージユニット７０とを結合する際の状態変化を示す図である。これらの図においては、図をわかりやすくするため、説明と直接関係のない構成については適宜省略する。また、以下の説明では１つの延伸部材とステージブロックとを結合する場合を例示するが、他の延伸部材についても同様とすることが可能である。

図５は延伸部材４１の（＋Ｘ）側側面４１ａとステージブロック４０の（－Ｙ）側端面４０ａとの間での結合状態を示す。図５（ａ）に示すように、延伸部材４１の（＋Ｘ）側側面４１ａのうち（＋Ｙ）側端部近傍には、金属製のプレート部材８３１が少なくとも１個（この例では２個）固着されている。プレート部材８３１の（－Ｙ）側端面には、（＋Ｙ）側端面まで貫通する貫通孔８３１ａが設けられている。一方、プレート部材８３１の（＋Ｘ）側端面には、ねじ穴８３１ｂが設けられている。

また、ステージブロック４０の（－Ｙ）側端面４０ａのうち、延伸部材４１が当接する領域を避けて、ただしこれに隣接して、金属製のプレート部材８３２が固着されている。プレート部材８３２の（－Ｙ）側端面にはねじ穴８３２ａ，８３２ｂが設けられている。このうちねじ穴８３２ａは、延伸部材４１がステージブロック４０に当接したときにプレート部材８３１の貫通孔８３１ａと対応する位置に設けられている。

延伸部材４１とステージブロック４０とが近接配置された状態で、プレート部材８３１の貫通孔８３１ａからプレート部材８３２のねじ穴８３２ａへボルト８３３が挿通されることで、ステージブロック４０に対する延伸部材４１の位置出しが行われる。

この状態で、ねじ穴８３１ｂ，８３２ｂのそれぞれに対応する位置に貫通孔８３４ａ，８３４ｂが形成されたＬ型金具８３４がボルト等の固結部材８３５によりプレート部材８３１，８３２に固結される。その結果、図５（ｂ）に示すように、延伸部材４１とステージブロック４０とが、適切な位置関係で、つまりそれらの上面が同一平面となる状態で互いに結合される。

いずれも石製であるステージブロック４０および延伸部材４１に直接ねじ穴を設けても機械的強度が確保できない。そこで、これらに金属製のプレート部材８３１，８３２を固着しておき、プレート部材８３１，８３２にねじ穴を設けることで、機械的強度を確保し、しかも着脱を繰り返すことのできる支持機構を構成することができる。

図６は延伸部材４２の（＋Ｘ）側側面４２ａとステージブロック４０の（－Ｙ）側端面４０ａとを結合する状態を示す。図６（ａ）に示すように、延伸部材４２の（＋Ｘ）側側面４２ａのうち（＋Ｙ）側端部近傍には、金属製のプレート部材８４１が少なくとも１個（この例では１個）固着されている。プレート部材８４１の（－Ｙ）側端面には、（＋Ｙ）側端面まで貫通する貫通孔８４１ａが設けられている。また、プレート部材８４１の（＋Ｘ）側端面には、ねじ穴８４１ｂが設けられている。

また、ステージブロック４０の（＋Ｘ）側端面４０ｃの（－Ｙ）側端部近傍には、金属製のプレート部材８４２が固着されている。プレート部材８４２の（－Ｙ）側端面には、貫通孔８４１ａに対応するねじ穴８４２ａが設けられている。また、プレート部材８４２の（＋Ｘ）側端面には、ねじ穴８４２ｂが設けられている。

延伸部材４２とステージブロック４０とが近接配置された状態で、プレート部材８４１の貫通孔８４１ａからプレート部材８４２のねじ穴８４２ａへボルト８４３が挿通されることで、ステージブロック４０に対する延伸部材４２の位置出しが行われる。

この状態で、ねじ穴８４１ｂ，８４２ｂのそれぞれに対応する位置に貫通孔８４４ａ，８４４ｂが形成されたプレート状金具８４４がボルト等の固結部材８４５によりプレート部材８４１，８４２に固結される。その結果、図６（ｂ）に示すように、延伸部材４２とステージブロック４０とが、適切な位置関係で、つまりそれらの上面が同一平面となる状態で互いに結合される。

延伸部材４１およびステージブロック４０の（－Ｘ）側端面にも、図６と同様の機構が設けられている。一方、延伸部材４２の（－Ｘ）側端面とステージブロック４０の（－Ｙ）側端面との間にも、図５と同様の機構が設けられている。これらの機構により、延伸部材４１とステージブロック４０との間、および、延伸部材４２とステージブロック４０との間が、それぞれ互いに強固に結合される。延伸部材４３，４４とステージブロック４０との間にも同様の機構が設けられる。

この段階では、延伸部材４１～４４はステージブロック４０に対し、いわゆる片持ち梁状態に取り付けられていることになる。延伸部材４１～４４は塗布処理部５の重量を支える必要があり、片持ち梁状の支持では十分とは言えない。そこで、この実施形態では、延伸部材４１等の下面に、ステージブロック４０の下面まで延びる支持梁８１等を取り付けており、支持梁８１等をステージブロック４０の下面に固定することで、機械的強度の向上が図られている。

具体的には、図７に示すように、延伸部材４１，４２がステージブロック４０の側面に接合した状態では、支持梁８１，８２の（＋Ｙ）側端部はステージブロック４０の下方まで延びている。支持梁８１，８２は角パイプ形状を有しており、ステージブロック４０の下方に当たる位置に貫通孔８１ａ，８２ａが適宜設けられる。この貫通孔８１ａ，８２ａを介して下方からボルト等の固結部材８１１，８２１が挿通され、支持梁８１，８２とステージブロック４０との間が固結される。

工場での製造段階で、支持梁８１，８２を介して延伸部材４１，４２とステージブロック４０との上面高さが揃っていれば、設置現場での再組み立てにおいても同様の結果が得られると期待される。また、再組み立ての際、必要に応じて、支持梁８１，８２の上面とステージブロック４０の底面との間にシムのような調整用部材を用いて高さ調整を行うようにしてもよい。前記した通り、延伸部材４１，４２とステージブロック４０との高さの不揃いは塗布品質には影響を与えないため、この調整に求められる精度としては比較的緩やかなものとすることが可能である。これにより、設置現場での調整作業を容易にすることができる。

このように、延伸部材４１等の側面とステージブロック４０の側面とを結合する図５、図６の構成と、延伸部材４１等とステージブロック４０とを下面側から支持する支持梁８１，８２とにより、延伸部材４１等とステージブロック４０とが強固に結合され、塗布処理部５による荷重にも耐えることが可能となる。これらの構成が一体として、支持機構８をなしている。

第１延伸ユニット７１とステージユニット７０との結合は、以下のようにして行うことができる。図８（ａ）に示すように、第１延伸ユニット７１とステージユニット７０とが離間した状態から、図８（ｂ）に示すように、第１延伸ユニットの支持梁８１，８２がステージブロック４０の下方に入り込み、延伸部材４１，４２とステージブロック４０とが近接する状態まで両者が相対移動される。

第１延伸ユニット７１の水平移動のために、例えばフレーム１２にキャスター（車輪）などの摩擦低減手段が設けられてもよい。次に説明するように、最終的には延伸部材４１等はフレーム１２による支持を必要としなくなるため、フレーム１２が延伸部材上面の高さ精度を保持する機能を有していなくてもよい。

このとき可動脚１２２はロック状態であり、しかも、支持梁８１，８２の上面がステージブロック４０の下面より低い位置となるように、支持梁８１，８２を支持する。この状態から、可動脚１２２がアンロック状態に切り替えられる。そして、ボルト８３３，８４３等による延伸部材４１，４２とステージブロック４０との位置決め、固結部材８３５，８４５によるプレート部材の固結、および、固結部材８１１，８２１等により、図８（ｃ）に示すように、ステージブロック４０と延伸部材４１等とが上面高さが揃うように結合され、最終的に、図８（ｄ）に示すように、延伸部材４１等にガイドレール５２が取り付けられて、ステージ組立体４が完成する。

この状態では、支持梁８１，８２は可動脚１２２による支持を受けず、支持機構８によって支持されるのみである。このような構成とすることによって、塗布処理部５の荷重に耐える強度を得ながらも、ステージ組立体４全体としてその上面の平面度を確保することが可能である。また、フレーム１２は最終的な部材の取り付け位置精度に影響しないので、高い寸法精度を必要としない。

なお、ここでは塗布処理部５を図示していないが、ユニット間の結合に先立って、ステージユニット７０に塗布処理部５を取り付けておくことが可能である。また、ステージブロック４０の平面サイズに対して塗布処理部５の高さはそれほど大きくないため、適宜の係止機構を追加することで、塗布処理部５を取り付けたままステージブロック４０を輸送に供することも可能である。このようにした場合、工場内で精密に組み立てられた状態のまま設置現場へ搬入することが可能となるので、設置現場での調整作業はさらに簡単となり、またその後の動作性能も安定したものとなる。

ステージユニット７０と第１延伸ユニット７１とを分離する際の作業は、上記とは逆のものとなる。また、ステージユニット７０と第２延伸ユニット７２との間の着脱も、ステージユニット７０と第１延伸ユニット７１との着脱と同様にして行うことができる。

以上のように、この実施形態においては、塗布装置である基板処理装置１が、本発明の「基板処理装置」に相当している。そして、スリットノズル２（２ａ，２ｂ）が本発明の「ノズル」として機能している。また、塗布処理部５（５ａ，５ｂ）が本発明の「ノズルブロック」として、またノズルメンテナンスユニット６（６ａ,６ｂ）が本発明の「メンテナンス部」として、それぞれ機能している。

また、上記実施形態では、ステージブロック４０の側面４０ａ，４０ｂが、本発明の「側面」に該当している。また、延伸部材４１～４４が、本発明の「延伸部材」として機能している。また、ノズル支持体５１が本発明の「ノズル支持部」として機能している。また、ガイドレール５２のうち、ステージブロック４０に取り付けられた部位が本発明の「ガイド部材」として機能する一方、延伸部位４１等に取り付けられた部位が本発明の「延長ガイド部材」として機能している。さらに、リニアモーター５４が、本発明の「移動機構」として機能している。

また、上記実施形態においては、Ｘ方向が本発明の「第２方向」に相当する一方、Ｙ方向が本発明の「第１方向」に相当している。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態の基板処理装置１は、１つのステージ４０１に対して２組の塗布処理部５（５ａ，５ｂ）を有している。しかしながら、次に示すように、塗布処理部５が１組のみであっても、上記と同様の効果が得られる。

図９は基板処理装置の変形例を示す図である。この変形例の基板処理装置１Ａは、塗布処理部５を１組だけ備えており、これに伴って、ステージ延伸部位もステージブロック４０のＹ方向両端部のうち一方のみに取り付けられている。このような基板処理装置１Ａにおいても、ノズル移動方向であるＹ方向に延伸された延伸部材４１，４２がステージブロック４０に対し着脱可能に構成されることで、装置を適切に分割することが可能である。

また、上記実施形態では、略直方体形状の延伸部材４１～４４とステージブロック４０とがプレート金具、Ｌ型金具等によって結合されている。これに代えて、あるいはこれに加えて、下記のように、延伸部材とステージブロックとを直接留め付ける構造としてもよい。

図１０は延伸部材の取り付け構造の変形例を示す図である。図１０（ａ）に示すように、この変形例の延伸部材４２Ａでは、その（＋Ｘ）側側面４２ｃに横穴４２１Ａが設けられ、その（＋Ｙ）側内壁面に貫通孔４２２Ａがさらに設けられる。また、ステージブロック４０Ａの（－Ｙ）側側面４０ｄには、貫通孔４２２Ａに対応する位置にねじ穴４０２が設けられる。そして、貫通孔４２２Ａに挿通されるボルト８５１が、貫通孔４２２Ａの配設数に応じて用意される。

図１０（ｂ）に示すように、延伸部材４２Ａがステージブロック４０Ａの（－Ｙ）側端面４０ｄに突き当てられ、両者の上面高さが揃えられた状態で、ボルト８５１により延伸部材４２Ａとステージブロック４０Ａとを締結することで、これらを直接かつ強固に結合することができる。また、延伸部材４２Ａとステージブロック４０Ａとを直接結合することで、ステージブロック４０Ａから延伸部材４２Ａにつながる上面のＹ方向における真直性を確保しやすくなり、またその再現性も向上する。

横穴４２１Ａは、延伸部材４２Ａの（－Ｘ）側側面に設けられてもよく、また延伸部材４２ＡをＸ方向に貫通して設けられてもよい。また、延伸部材４２Ａの（－Ｘ）側、（＋Ｘ）側両側面に、それぞれ浅い横穴が設けられてもよい。また、延伸部材４２ＡのＸ方向の片面に、複数の横穴が設けられてもよい。

また、固定に用いられるボルトの個数は任意であり、さらに多くのボルトを設けて延伸部材４２Ａとステージブロック４０Ａとの結合力を強くすることも可能である。ただし、横穴４２１Ａが大きすぎると延伸部材４２Ａの機械的強度自体が低下してしまうので、上記実施形態で例示したような他の結合手段と組み合わせて必要な強度を確保するようにすることが有効である。

図１１Ａないし図１１Ｄは延伸部材の取り付け構造の他の変形例を示す図である。図１１Ａおよび図１１Ｃに示すように、この変形例のステージブロック４０Ｂでは、その下面４０ｅに、延伸部材４２Ｂとステージブロック４０Ｂとを締結するための止め穴４０４が設けられるとともに、ステージブロック４０Ｂの（－Ｙ）側側面４０ｆから止め穴４０４の（－Ｙ）側内壁面へ貫通する複数の貫通孔４０４Ａ（この実施形態では４つ）が設けられる。また、延伸部材４２Ｂの（＋Ｙ）側側面４２ｄには、貫通孔４０４Ａに対応する位置にねじ穴（図示省略）が設けられる。そして、貫通孔４０４Ａに挿通されるボルト８５２が、貫通孔４０４Ａの配設数に応じて用意される。

また、ステージブロック４０Ｂの下面４０ｅには、ステージブロック４０Ｂの上面４０ｈと、延伸部材４２Ｂの上面４２ｇとの高さを揃えた状態にするための基準板４１０が固定される。この実施形態において、基準板４１０は、図１１Ｃおよび図１１Ｄに示すように直方体に形成されており、（－Ｙ）側の端部がステージブロック４０Ｂから（－Ｙ）方向に突出した状態で、その逆側の端部である（＋Ｙ）側の端部がステージブロック４０Ｂの下面４０ｅに固定される。このとき、基準板４１０は、その（＋Ｘ）側側面４１０ｂが、ステージブロック４０Ｂの（＋Ｘ）側側面４０ｇと略同一平面をなすように配置される。

延伸部材４２Ｂをステージブロック４０Ｂに取り付ける際は、図１１Ｂおよび図１１Ｄに示すように、延伸部材４２Ｂがステージブロック４０Ｂの（－Ｙ）側側面４０ｆに突き当てられるとともに、延伸部材４２Ｂの下面４２ｅが、基準板４１０のステージブロック４０Ｂから突出した部分の上面４１０ａ（図１１Ａ）に当接するように載置される。この状態では、延伸部材４２Ｂの上面４２ｇとステージブロック４０Ｂの上面４０ｈの高さが揃った状態になる。そして、各ボルト８５２がステージブロック４０Ｂの止め穴４０４から入れられ、各ボルト８５２の先端が止め穴４０４の（－Ｙ）側内壁面側から貫通孔４０４Ａに挿入される。そして、ステージブロック４０Ｂの（－Ｙ）側側面４０ｆから出た各ボルト８５２の先端部分が、対応する延伸部材４２Ｂのねじ穴に螺合することにより、延伸部材４２Ｂとステージブロック４０Ｂとが締結される。なお、図１１Ｃにおいて、一点鎖線のうち、Ｚ方向に平行な部分は、各ボルト８５２をステージブロック４０Ｂの下側から止め穴４０４に配置することを示している。また、一点鎖線のうち、Ｙ方向と平行な部分は、各ボルト８５２の挿入・締結方向を示している。また、図１１Ａの一点鎖線は、図１１Ｃの一点鎖線のうち、Ｙ方向と平行な部分に対応している。

このように、ボルト８５２により延伸部材４２Ｂとステージブロック４０Ｂとを締結することで、延伸部材４２Ｂとステージブロック４０Ｂの上面（（＋Ｚ）側側面）の高さが揃った状態で、これらを直接かつ強固に結合することができる。また、ステージブロック４０Ｂに基準板４１０を設けることで、延伸部材４２Ｂをステージブロック４０Ｂに取り付けたときに、ステージブロック４０Ｂから延伸部材４２Ｂにつながる上面のＹ方向における真直性を確保しやすくなり、またその再現性も向上する。また、このような構成を採用することで、ステージブロック４０Ｂが石材であっても、止め穴４０４内の割れや欠けが発生しにくく、強度面に優れている。

なお、本例では、ステージブロック４０Ｂ側にボルト８５２を挿入するための止め穴４０４を設けたが、延伸部材４２Ｂ側（延伸部材４２Ｂの下面４２ｅ）にボルト挿入用の止め穴を設けるように構成してもよい。この場合、当該止め穴の（＋Ｙ）側内壁面から延伸部材４２Ｂの（＋Ｙ）側側面へ貫通する複数の貫通孔が設けられ、ステージブロック４０Ｂの（－Ｙ）側側面４０ｆの当該貫通孔に対応する位置にねじ穴が設けられる。そして、延伸部材４２Ｂの止め穴にボルトを入れられて、延伸部材４２Ｂとステージブロック４０Ｂとが締結される。当該構成によると、延伸部材４２Ｂを石材で形成した場合であっても、止め穴内の割れや欠けが発生しにくく、強度面に優れている。

また、ステージブロック４０Ｂの止め穴４０４の代わりに、ボルト挿入用の穴をステージブロックの（＋Ｘ）側側面４０ｇに設けるようにしてもよい。この場合、当該ボルト挿入用の穴の（－Ｙ）側内壁面からステージブロック４０Ｂの（－Ｙ）側側面４０ｆへ貫通するボルト挿入用の貫通孔を設けるとよい。また、本例の止め穴４０４の代わりに、延伸部材４２Ｂの（＋Ｘ）側側面４２ｆにボルト挿入用の穴を設けるようにしてもよい。

また、基準板４１０の下面に延伸部材４２Ｂの支持を補強するためのサポート板を更に設け、延伸部材４２Ｂを基準板４１０と当該サポート板とにより確実に延伸部材４２Ｂを支持するように構成してもよい。

また、固定に用いられるボルトの個数は任意であり、さらに多くのボルトを設けて延伸部材４２Ｂとステージブロック４０Ｂとの結合力を強くすることも可能である。ただし、止め穴４０４が大きすぎるとステージブロック４０Ｂの機械的強度自体が低下してしまうので、上記実施形態で例示したような他の結合手段と組み合わせて必要な強度を確保するようにすることが有効である。

以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、本発明に係る基板処理装置において、例えば１対の側面間の距離が第１方向における長さとなるようにしてもよい。つまり、ステージブロックの側面よりも突出するような部位を設けないようにすることで、輸送等の制約条件で決まる上限寸法に対し、ステージを最大にすることができる。つまり、制約条件の中で最大サイズの基板を扱うことが可能となる。

また例えば、ステージブロックおよび延伸部材は、上面が平面仕上げされた石製定盤であってもよい。このような構成によれば、高い平面度で表面加工を行うことができ、温度による寸法変化の小さい石材を用いることで、ステージ上の基板とノズルとの距離を一定に保ち良好な塗布品質で塗布を行うことができる。

また例えば、延伸部材の下面から第１方向に沿ってステージブロックの下面まで延び、延伸部材とステージブロックとを下面側から結合して延伸部材を支持する支持梁がさらに設けられてもよい。ステージブロックから横向きに突き出すように設けられる延伸部材およびその上面に設けられる延長ガイド部材には、ノズルブロックによる荷重に耐える強度が必要とされる。延伸部材とステージブロックとを結合する支持梁を設けることで、延伸部材の耐荷重を増大させ、また上下方向における延伸部材とステージブロックとの位置ずれを抑えて、段差のないノズルブロックの移動経路を実現することができる。

ここで、支持梁は、他の部材による支持を実質的に受けないものであってもよい。他の部材からの支持を受けることで機械的強度は向上するが、特定の箇所に応力が集中することで却って上面のうねりを生じることがあり得る。ステージブロックに取り付けられた支持梁が延伸部材を下面側から補強しつつ支持することで、このようなうねりの発生を防止することができる。

また例えば、ガイド部材は、ステージブロックの上面の第１方向における端部よりも内側で終端する一方、延長ガイド部材は、延伸部材の第１方向における端部よりも外側まで突出する構造であってもよい。このような構成によれば、延伸部材がステージブロックに結合された状態では、ガイド部材と延長ガイド部材とが、ステージブロック上面で接続されることになる。延伸部材とステージブロックとの接続箇所と同じ位置でガイド部材と延長ガイド部材とが接続される場合、両者の間に段差が生じやすいが、接続箇所を分散させることで、段差を抑えることができる。

また例えば、ステージブロックの第１方向における両側面にそれぞれ延伸部材が結合され、ガイド部材を共有する２組のノズルブロックが設けられてもよい。このような構成によれば、２組のノズルブロックを選択的に使用して基板への塗布を行うことができる。例えば、一方のノズルブロックがメンテナンスを受けている間にも他方のノズルブロックを使用して塗布を行うことができ、装置の稼働率を高めて処理のスループットを向上させることができる。

この発明は、ノズルを保護するノズルガードおよび当該ノズルガードを装備する塗布装置全般に適用することができる。

１，１Ａ 塗布装置（基板処理装置）
２（２ａ，２ｂ） スリットノズル（ノズル）
４ ステージ組立体
５（５ａ，５ｂ） 塗布処理部（ノズルブロック）
６（６ａ,６ｂ） ノズルメンテナンスユニット（メンテナンス部）
４０ ステージブロック
４０ａ，４０ｂ （ステージブロック４０の）側面
４１～４４ 延伸部材
５１ ノズル支持体（ノズル支持部）
５２ ガイドレール（ガイド部材）
５４ リニアモーター（移動機構）
４０１ ステージ
５２０ガイドレール（ガイド部材）
５２１ ガイドレール（延長ガイド部材）
Ｓ 基板
Ｘ 第２方向
Ｙ 第１方向

Claims (7)

1. 互いに平行な１対の側面を有し、上面に基板を載置可能な平坦なステージが設けられたステージブロックと、
   前記１対の側面に垂直な方向を第１方向とし、前記第１方向に垂直かつ前記ステージの上面に沿う方向を第２方向とするとき、前記第２方向における前記ステージの両端部のそれぞれよりも外側で前記ステージを挟んで、前記ステージブロックの上面に沿って前記第１方向に延設された１対のガイド部材と、
   前記ステージの上方で前記第２方向を長手方向としてスリット状に開口する吐出口が設けられたノズル、および、前記ノズルを支持するとともに前記１対のガイド部材の各々に対し前記第１方向に移動自在に係合するノズル支持部を有するノズルブロックと、
   前記１対の側面の一方から前記第１方向に突出するように前記ステージブロックに着脱自在に結合される延伸部材と、
   前記延伸部材により下方から支持されるとともに、前記１対のガイド部材の各々の前記第１方向における端部に接合されて前記第１方向に延びる１対の延長ガイド部材と、
   前記１対のガイド部材および前記１対の延長ガイド部材に沿って前記ノズルブロックを移動させる移動機構と、
   平面視において前記１対の延長ガイド部材の間に設けられ、前記ノズルに対するメンテナンスを実行するメンテナンス部と
   を備え、
   前記ステージは、平面視において前記第１方向を短辺方向とする長方形の形状を有し、
   前記ステージブロックでは、前記第２方向における長さよりも前記第１方向における長さの方が小さい、基板処理装置。
2. 前記１対の側面間の距離が前記第１方向における長さである、請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記ステージブロックおよび前記延伸部材は、上面が平面仕上げされた石製定盤である、請求項１に記載の基板処理装置。
4. 前記延伸部材の下面から前記第１方向に沿って前記ステージブロックの下面まで延び、前記延伸部材と前記ステージブロックとを下面側から結合して前記延伸部材を支持する支持梁を有する、請求項１に記載の基板処理装置。
5. 前記支持梁は、他の部材による支持を実質的に受けない、請求項４に記載の基板処理装置。
6. 前記ガイド部材は、前記ステージブロックの上面の前記第１方向における端部よりも内側で終端する一方、前記延長ガイド部材は、前記延伸部材の前記第１方向における端部よりも外側まで突出する、請求項１に記載の基板処理装置。
7. 前記ステージブロックの前記第１方向における両側面に、それぞれ前記延伸部材が結合され、
   前記ガイド部材を共有する２組の前記ノズルブロックを備える、請求項１に記載の基板処理装置。

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