JP7463833B2 - Manufacturing method of organic electroluminescence element - Google Patents

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本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関し、特に、共通の電極を用いた有機ＥＬ素子において、ＴＦＴ回路を用いずに簡単な構成で、かつ、低コストで、発光ボケやリークが生じずに画像の正確な諧調（発光の強弱）表現が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an organic electroluminescence element, and in particular to a method for manufacturing an organic electroluminescence element using a common electrode, which has a simple configuration without using a TFT circuit, is low cost, and is capable of accurately expressing image gradations (intensity and weakness of light emission) without causing blurred light emission or leakage.

有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）の面発光及び高効率光源としての魅力が高まるについて、その商品用途としての機能として高効率、長寿命及び良色純度をすべて満足させる必要性が高まっているだけでなく、低コストや余分な機能を省いたシンプルな構成に関心が寄せられつつある。さらに、世の中のサービスのオンデマンド化の潮流に伴い、大量生産可能な商材だけでなく少量多品種への対応が可能な商材が求められつつある。 As organic electroluminescence elements (organic EL elements) become more attractive as surface-emitting and highly efficient light sources, not only is there a growing need for them to satisfy all of the product application functions of high efficiency, long life, and good color purity, but there is also growing interest in low cost and simple configurations that eliminate unnecessary functions. Furthermore, with the trend toward on-demand services in the world, there is a growing demand for products that can be mass-produced as well as those that can be produced in small quantities and in a wide variety of products.

有機ＥＬ素子の低コスト、少量多品種への対応が求められる１つの商材として、有機ＥＬ素子を含む簡易印刷表示物が挙げられる。
特許文献１では、インクジェット記録法を用いて、ホスト層上にゲスト材料を積層するといったシンプルな方法で画素を形成する有機ＥＬ素子が開示されている。しかしながら、画素部の階調制御は、従来通りＴＦＴ回路を用いた方法が記載されており、複雑な構成が必要であるといった問題があった。 One commercial product that requires low cost and high-mix low-volume production of organic EL elements is a simple printed display including an organic EL element.
Patent Literature 1 discloses an organic EL element in which pixels are formed by a simple method of laminating a guest material on a host layer using an inkjet recording method. However, the gradation control of the pixel portion is described as a conventional method using a TFT circuit, which requires a complicated configuration.

また、マスクやＴＦＴ回路を必要とせずに発光パターンを作る技術として、特許文献２に記載の技術が開示されている。この技術では、共通の電極間の発光層において、非発光領域と発光領域とで塗り分け、非発光領域を発光領域と同一の発光材料と非発光材料を塗布することで、発光パターンを形成している。
しかしながら、非発光領域を発光材料と非発光材料とを重ねて塗布して形成するので、非発光領域の形成に用いた発光材料が無駄になり、高コストになるという問題があった。また、非発光領域が発光領域より、非発光材料の分だけ凸形状となり、発光層上の有機機能層の層厚を変えて諧調を制御しようとすると、有機機能層の層厚ムラが生じたり、非発光材料の一部が発光材料により溶解することによって、結果として発光領域と非発光領域の境界に、発光のボケが生じ、正確に諧調を表現することができないという問題があった。 Furthermore, as a technique for creating a light-emitting pattern without requiring a mask or a TFT circuit, the technique described in Patent Document 2 is disclosed. In this technique, a light-emitting layer between common electrodes is painted separately into non-light-emitting regions and light-emitting regions, and the non-light-emitting regions are painted with the same light-emitting material and non-light-emitting material as the light-emitting regions, thereby forming a light-emitting pattern.
However, since the non-light-emitting region is formed by applying the light-emitting material and the non-light-emitting material in layers, the light-emitting material used to form the non-light-emitting region is wasted, resulting in high costs. Also, the non-light-emitting region is convex in shape by the amount of the non-light-emitting material compared to the light-emitting region, and when an attempt is made to control the gradation by changing the layer thickness of the organic functional layer on the light-emitting layer, unevenness in the layer thickness of the organic functional layer occurs, or a part of the non-light-emitting material is dissolved by the light-emitting material, resulting in blurred emission at the boundary between the light-emitting region and the non-light-emitting region, making it impossible to accurately express the gradation.

特開２０１０－７３８５０号公報JP 2010-73850 A 国際公開第２０１４／１８５５２９号International Publication No. 2014/185529

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、共通の電極を用いた有機ＥＬ素子において、ＴＦＴ回路を用いずに簡単な構成で、かつ、低コストで、発光ボケやリークが生じずに画像の正確な諧調（発光の強弱）表現が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することである。 The present invention has been made in consideration of the above problems and circumstances, and the problem to be solved is to provide a method for manufacturing an organic electroluminescence element that uses a common electrode, has a simple configuration without using a TFT circuit, is low cost, and is capable of accurately expressing image gradations (intensity and weakness of light emission) without causing light blurring or leakage.

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、画像表示部が非発光材料からなる層をベース層として、発光領域と非発光領域を形成し、発光領域に発光性ドーパントを含有し、非発光領域に発光性ドーパントを含有しない構成とし、かつ、複数の発光領域のうち、少なくとも一部の発光領域における有機機能層の厚さを変えることにより、ＴＦＴ回路を用いずに簡単な構成で、かつ、低コストで画像の正確な諧調（発光の強弱）表現が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができることを見いだし本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。 In the course of investigating the causes of the above problems in order to solve the above problems, the inventors discovered that by configuring an image display section to have light-emitting and non-light-emitting regions using a layer made of a non-light-emitting material as a base layer, the light-emitting regions containing a light-emitting dopant and the non-light-emitting regions not containing a light-emitting dopant, and by varying the thickness of the organic functional layer in at least some of the light-emitting regions among the multiple light-emitting regions, it is possible to provide an organic electroluminescence element that is capable of accurately expressing image gradations (intensity and weakness of light emission) with a simple configuration without using a TFT circuit, and at low cost, and thus arrived at the present invention.
That is, the above-mentioned problems of the present invention are solved by the following means.

１．共通の２つの電極と、当該電極に挟持された画像表示部と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記画像表示部が、複数の発光領域と非発光領域からなり、
前記画像表示部が、非発光材料を含有するベース層と、有機機能層とを有し、かつ、前記発光領域における前記ベース層に発光性ドーパントを含有し、前記非発光領域における前記ベース層に発光現象を視認できる量の発光性ドーパントを含有せず、
前記複数の発光領域のうち、少なくとも一部の前記発光領域における前記有機機能層の厚さが異なり、
前記非発光材料を含有する前記ベース層を形成した後に、当該ベース層に前記発光性ドーパントを含有するインク組成物を、前記発光領域となる箇所に射出することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 1. A method for manufacturing an organic electroluminescence element having two common electrodes and an image display section sandwiched between the electrodes, comprising the steps of:
In the organic electroluminescence element, the image display section is composed of a plurality of light-emitting regions and a non-light-emitting region,
the image display section has a base layer containing a non-light-emitting material and an organic functional layer, the base layer in the light-emitting region contains a light-emitting dopant, and the base layer in the non-light-emitting region does not contain a light-emitting dopant in an amount that allows a light-emitting phenomenon to be visually recognized;
a thickness of the organic functional layer in at least some of the light-emitting regions is different from one another;
A method for manufacturing an organic electroluminescence element , comprising: forming a base layer containing the non-light-emitting material; and then ejecting an ink composition containing the light-emitting dopant onto the base layer at a location that is to become the light-emitting region .

２．厚さの異なる前記有機機能層の厚さ範囲が、１０～８０ｎｍの範囲内であることを特徴とする第１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 2. The method for producing an organic electroluminescence element according to item 1, wherein the organic functional layers having different thicknesses each have a thickness ranging from 10 to 80 nm.

３．前記非発光材料が、ホスト化合物であり、
厚さの異なる前記有機機能層が、電子輸送層であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 3. The non-emissive material is a host compound,
3. The method for producing an organic electroluminescence element according to claim 1 or 2, wherein the organic functional layer having a different thickness is an electron transport layer.

４．前記発光領域及び前記非発光領域におけるベース層が、１種以上の共通のホスト化合物からなることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 4. The method for producing an organic electroluminescence element according to any one of items 1 to 3, wherein the base layers in the light-emitting region and the non-light-emitting region are made of one or more common host compounds.

５．前記共通のホスト化合物のＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位と、前記発光性ドーパントのＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位の差が、±０．４ｅＶ以内であることを特徴とする第４項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 5. The method for producing an organic electroluminescence element according to item 4, wherein a difference between an energy level of a LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) of the common host compound and an energy level of a LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) of the light-emitting dopant is within ±0.4 eV.

６．前記複数の発光領域が、３色以上の発光画素で形成されることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 6. The method for producing an organic electroluminescence element according to any one of items 1 to 5, wherein the plurality of light-emitting regions are formed of light-emitting pixels of three or more colors.

本発明の上記手段により、共通の電極を用いた有機ＥＬ素子において、ＴＦＴ回路を用いずに簡単な構成で、かつ、低コストで、発光ボケやリークが生じずに画像の正確な諧調（発光の強弱）表現が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することができる。
本発明の効果の発現機構又は作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
本発明では、複数の発光領域のうち少なくとも一部の発光領域における有機機能層の厚さが異なるので、ＴＦＴ回路を用いずに簡単な構成で、同電圧下で画素ごとの発光強弱制御が可能となり、諧調制御が可能となる。
また、画像表示部が非発光材料からなる層をベース層として、画像表示部を発光領域と非発光領域とを形成し、ベース層の発光領域に発光性ドーパントを含有し、非発光領域に発光性ドーパントを含有しない構成としているので、ベース層の非発光領域には発光性ドーパントを含有させないことから、低コスト化が可能となる。
また、発光領域に含有する発光性ドーパントは、非発光材料からなるベース層に浸み込む又は一部が溶解して混合する又はベース層上部に形成され、発光性ドーパント自体の量が少ないため、発光領域におけるベース層において大きな凸部形状とはならず、当該発光領域における有機機能層の層厚を変えて諧調を制御しても、有機機能層の層厚ムラが生じずに、結果として発光領域と非発光領域の境界に、発光のボケが生じず、画素の正確な諧調制御を行うことができると推察される。 According to the above-mentioned means of the present invention, in an organic EL element using a common electrode, it is possible to provide an organic electroluminescence element that has a simple configuration without using a TFT circuit, is low cost, and is capable of accurately expressing image gradations (intensity and weakness of light emission) without causing blurred light emission or leakage.
Although the mechanism by which the effects of the present invention are manifested or the mechanism by which the effects of the present invention are acted upon has not been clarified, it is speculated as follows.
In the present invention, the thickness of the organic functional layer is different in at least some of the multiple light-emitting regions, so that it is possible to control the light emission intensity for each pixel at the same voltage with a simple configuration without using a TFT circuit, making it possible to control the gradation.
In addition, the image display section is formed into luminescent regions and non-luminescent regions using a layer made of a non-luminescent material as the base layer, and the luminescent regions of the base layer contain a luminescent dopant while the non-luminescent regions do not contain a luminescent dopant.Since the non-luminescent regions of the base layer do not contain a luminescent dopant, costs can be reduced.
Furthermore, the luminescent dopant contained in the light-emitting region permeates into the base layer made of a non-luminescent material, or part of it dissolves and mixes with the base layer, or is formed on the upper part of the base layer, and since the amount of the luminescent dopant itself is small, no large convex shape is formed in the base layer in the light-emitting region. Therefore, even if the layer thickness of the organic functional layer in the light-emitting region is changed to control the gradation, no unevenness in the layer thickness of the organic functional layer is generated. As a result, it is presumed that no blurring of the light is generated at the boundary between the light-emitting region and the non-luminescent region, and accurate gradation control of the pixel can be performed.

（ａ）発明の有機ＥＬ素子１の代表的な構成の概略断面図、（ｂ）当該有機ＥＬ素子１の画像表示領域内１Ａの表面に対して垂直方向から見たとき、当該画像表示領域内１Ａにドット状に前記発光部が配置されていることを表す概念図(a) is a schematic cross-sectional view of a typical configuration of an organic EL element 1 of the present invention; (b) is a conceptual diagram showing that the light-emitting sections are arranged in a dot pattern in an image display area 1A of the organic EL element 1 when viewed from a direction perpendicular to the surface of the image display area 1A of the organic EL element 1. 図１（ａ）の一部を示した拡大断面図FIG. 1( a ) is an enlarged cross-sectional view showing a part of FIG. インクジェット記録法による有機ＥＬ素子の作製法を示す概念図Conceptual diagram showing the method for producing an organic EL element using inkjet recording method

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、共通の２つの電極と、当該電極に挟持された画像表示部と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記画像表示部が、複数の発光領域と非発光領域からなり、前記画像表示部が、非発光材料を含有するベース層と、有機機能層とを有し、かつ、前記発光領域における前記ベース層に発光性ドーパントを含有し、前記非発光領域における前記ベース層に発光現象を視認できる量の発光性ドーパントを含有せず、前記複数の発光領域のうち、少なくとも一部の前記発光領域における前記有機機能層の厚さが異なることを特徴とする。
この特徴は、下記各実施形態に共通又は対応する技術的特徴である。 The organic electroluminescent element of the present invention is an organic electroluminescent element having two common electrodes and an image display section sandwiched between the electrodes, wherein the image display section is composed of a plurality of light-emitting regions and non-light-emitting regions, the image display section has a base layer containing a non-light-emitting material and an organic functional layer, and the base layer in the light-emitting regions contains a light-emitting dopant, while the base layer in the non-light-emitting regions does not contain a light-emitting dopant in an amount that allows a light-emitting phenomenon to be visible, and the thickness of the organic functional layer in at least some of the light-emitting regions is different.
This feature is a technical feature common to or corresponding to each of the following embodiments.

本発明の実施態様としては、厚さの異なる前記有機機能層の厚さ範囲が、１０～８０ｎｍの範囲内であることが、リークの発生を抑制でき、かつ、高輝度で諧調制御を行うことができる点で好ましい。 As an embodiment of the present invention, it is preferable that the thickness range of the organic functional layers having different thicknesses is within the range of 10 to 80 nm, since this can suppress the occurrence of leakage and enable tone control at high brightness.

前記非発光材料が、ホスト化合物であることが、発光領域の発光効率が良くなる点で好ましい。厚さの異なる前記有機機能層が、電子輸送層であることが、階調制御の正確性の観点で好ましい。 It is preferable that the non-light-emitting material is a host compound, since this improves the light-emitting efficiency of the light-emitting region. It is preferable that the organic functional layer having a different thickness is an electron transport layer, from the viewpoint of the accuracy of gradation control.

前記発光領域及び前記非発光領域におけるベース層が、１種以上の共通のホスト化合物からなることが、複数のドーパント種を用いた場合、発光領域の発光効率が良くなる点で好ましい。 The base layers in the light-emitting region and the non-light-emitting region are preferably made of one or more common host compounds, since this improves the light-emitting efficiency of the light-emitting region when multiple dopant species are used.

前記共通のホスト化合物のＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位と、前記発光性ドーパントのＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位の差が、±０．４ｅＶ以内であることが好ましい。ホスト化合物のＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位と、前記発光性ドーパントのＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位の差が、±０．４ｅＶ以内であることで、複数の発光領域において、複数のドーパント種を用いた場合、有機機能層の膜厚が共通な状態において、複数の発光領域を均一に発光させることができる。そのため、各発光領域の有機機能層の膜厚を変化させたときに生じる階調の制御が容易になる。 It is preferable that the difference between the energy level of the LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) of the common host compound and the energy level of the LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) of the luminescent dopant is within ±0.4 eV. When multiple dopant species are used in multiple light-emitting regions, the multiple light-emitting regions can emit light uniformly when the film thickness of the organic functional layer is common. This makes it easier to control the gradation that occurs when the film thickness of the organic functional layer in each light-emitting region is changed.

前記複数の発光領域が、３色以上の発光画素で形成されることが、３色以上の画像が形成され、発光領域の色の制御範囲を広げることができる点で好ましい。 It is preferable that the multiple light-emitting regions are formed with light-emitting pixels of three or more colors, since an image of three or more colors can be formed, thereby expanding the color control range of the light-emitting regions.

以下、本発明とその構成要素及び本発明を実施するための形態・態様について説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 The present invention, its components, and the form and mode for implementing the present invention are described below. Note that in this application, "~" is used to mean that the numerical values before and after it are included as the lower and upper limits.

１．本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子の概要
本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子は、共通の２つの電極と、当該電極に挟持された画像表示部と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記画像表示部が、複数の発光領域と非発光領域からなり、前記画像表示部が、非発光材料を含有するベース層と、有機機能層とを有し、かつ、前記発光領域における前記ベース層に発光性ドーパントを含有し、前記非発光領域における前記ベース層に発光現象を視認できる量の発光性ドーパントを含有せず、前記複数の発光領域のうち、少なくとも一部の前記発光領域における前記有機機能層の厚さが異なることを特徴とする。 1. Overview of Organic Electroluminescent Element of the Present Invention The organic electroluminescent element of the present invention is an organic electroluminescent element having two common electrodes and an image display section sandwiched between the electrodes, wherein the image display section is composed of a plurality of light-emitting regions and non-light-emitting regions, the image display section has a base layer containing a non-light-emitting material and an organic functional layer, the base layer in the light-emitting regions contains a light-emitting dopant, the base layer in the non-light-emitting regions does not contain a light-emitting dopant in an amount that allows a light-emitting phenomenon to be visible, and the thickness of the organic functional layer in at least some of the light-emitting regions is different.

［有機ＥＬ素子の基本的構成］
以下に、有機ＥＬ素子の基本的構成層を有する種々の構成形態例を示す。なお、下記の種々の層と、本発明に係る画像表示部、発光領域及び非発光領域との関係については後述する。
（１）陽極／ベース層（発光層又は非発光層）／電子輸送層／陰極
（２）陽極／正孔輸送層／ベース層（発光層又は非発光層）／電子輸送層陰極
（３）陽極／正孔輸送層／ベース層（発光層又は非発光層）／電子輸送層／電子注入層／陰極
（４）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／ベース層（発光層又は非発光層）／電子輸送層／陰極
（５）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／ベース層（発光層又は非発光層）／電子輸送層／電子注入層／陰極
（６）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／電子阻止層／ベース層（発光層又は非発光層）／電子輸送層／電子注入層／陰極
なお、上記基本構成は、必ずしも積層の上下関係を表しているのではなく、本発明においては、図１に示すように、ベース層の非発光層がベース層自体に染み込む、又は発光性ドーパントの量が少ないためドットの広がりを抑制できるという役割を有しているので、上記構成例において、非発光層は、発光層の光発光面側の発光面上に積層されることはなく、少なくとも発光層と並列的に発光層の側面側に配置される。 [Basic Structure of Organic EL Element]
Various examples of configurations having basic constituent layers of an organic EL element are shown below. The relationship between the various layers listed below and the image display section, light-emitting region, and non-light-emitting region of the present invention will be described later.
(1) anode/base layer (light-emitting layer or non-light-emitting layer)/electron transport layer/cathode (2) anode/hole transport layer/base layer (light-emitting layer or non-light-emitting layer)/electron transport layer/cathode (3) anode/hole transport layer/base layer (light-emitting layer or non-light-emitting layer)/electron transport layer/electron injection layer/cathode (4) anode/hole injection layer/hole transport layer/base layer (light-emitting layer or non-light-emitting layer)/electron transport layer/cathode (5) anode/hole injection layer/hole transport layer/base layer (light-emitting layer or non-light-emitting layer)/electron transport layer/electron injection layer/cathode (6) anode/hole injection layer/hole transport layer/electron blocking layer/base layer (light-emitting layer or non-light-emitting layer)/electron transport layer/electron injection layer/cathode It should be noted that the above-mentioned basic configuration does not necessarily represent the hierarchical relationship of the layers. In the present invention, as shown in FIG. 1, the non-emissive layer of the base layer permeates into the base layer itself, or has a small amount of emissive dopant, and thus has the role of suppressing the spread of dots. Therefore, in the above-mentioned configuration example, the non-emissive layer is not stacked on the light-emitting surface on the light-emitting surface side of the light-emitting layer, but is disposed at least on the side of the light-emitting layer in parallel with the light-emitting layer.

［画像表示部］
図１（ａ）に、本発明の有機ＥＬ素子１の代表的な構成の概略断面図を示す。また。図１（ｂ）に当該有機ＥＬ素子１の画像表示部内１Ａの表面に対して垂直方向から見たとき、当該画像表示部内１Ａにドット状に前記発光領域が配置されていることを表す概念図を示す。 [Image display section]
Fig. 1(a) shows a schematic cross-sectional view of a typical configuration of an organic EL element 1 of the present invention. Fig. 1(b) shows a conceptual diagram showing that the light-emitting regions are arranged in a dot pattern in an image display section 1A of the organic EL element 1 when viewed from a direction perpendicular to the surface of the image display section 1A.

ここで、「画像表示部」とは、有機ＥＬ表示装置における画像表示に関与する発光領域及び非発光領域を含む部分であり、非発光材料を含有するベース層１５（発光層６及び非発光層７）、ベース層１５以外の後述する複数の有機機能層（有機機能層ユニット１Ｕ）が積層されている平面（２次元的）領域及び立体的（３次元的）領域をいう。 Here, the "image display section" refers to a portion including luminescent and non-luminescent regions involved in image display in an organic EL display device, and refers to a planar (two-dimensional) region and a three-dimensional (three-dimensional) region in which a base layer 15 (luminescent layer 6 and non-luminescent layer 7) containing a non-luminescent material and a plurality of organic functional layers (organic functional layer units 1U) other than the base layer 15, which will be described later, are stacked.

＜ベース層＞
ベース層１５は、非発光材料を含有する。当該非発光材料としては、例えば、後述する公知のホスト化合物や絶縁性ポリマー等が挙げられ、特にホスト化合物であることが好ましい。
また、ベース層は前記ホスト化合物と絶縁性ポリマーの混合物であってもよく、さらに、酸化物粒子を含んでいてもよい。 <Base layer>
The base layer 15 contains a non-light-emitting material. Examples of the non-light-emitting material include known host compounds and insulating polymers, which will be described later, and the host compound is particularly preferable.
The base layer may also be a mixture of the host compound and an insulating polymer, and may further contain oxide particles.

ベース層は、前記非発光材料に加えて、発光性ドーパントが含有又は発光性ドーパントが塗布された発光層と、前記非発光材料が含有された（発光現象を視認できる量の発光性ドーパントが含有されていない）発光しない非発光層とを有する。 The base layer has a light-emitting layer that contains a light-emitting dopant or is coated with a light-emitting dopant in addition to the non-light-emitting material, and a non-light-emitting layer that does not emit light and contains the non-light-emitting material (does not contain a light-emitting dopant in an amount that would allow the light-emitting phenomenon to be visually recognized).

＜有機機能層＞
「有機機能層」とは、所定の機能を発現する有機化合物を含有する層をいう。単に、「有機化合物層」又は「有機層」ともいう。
有機機能層としては、前記ベース層と前記発光層以外の層をいい、例えば上記の層構成の中で、正孔輸送層、電子輸送層等が挙げられるが、その他、正孔注入層、電子注入層等、有機ＥＬ素子の構成層に含有される有機化合物が含有されていれば、本発明に係る有機機能層として定義される。 <Organic functional layer>
The term "organic functional layer" refers to a layer containing an organic compound that exhibits a specific function, and is also simply called an "organic compound layer" or an "organic layer."
The organic functional layer refers to a layer other than the base layer and the light-emitting layer, and examples of the layer configuration described above include a hole transport layer, an electron transport layer, etc., but if the layer contains an organic compound contained in the constituent layers of an organic EL element, such as a hole injection layer, an electron injection layer, etc., then the layer is defined as an organic functional layer according to the present invention.

さらに、陽極バッファー層、陰極バッファー層等に有機化合物が用いられる場合には、陽極バッファー層、陰極バッファー層等も、各々有機機能層を形成していることになる。
なお、前記有機機能層には、『有機ＥＬ素子の構成層に使用可能な有機ＥＬ素子材料』等を含有する層も含まれる。 Furthermore, when an organic compound is used in the anode buffer layer, the cathode buffer layer, etc., the anode buffer layer, the cathode buffer layer, etc. also form an organic functional layer.
The organic functional layer also includes a layer containing "an organic EL element material usable in a constituent layer of an organic EL element."

＜発光領域＞
図２は、図１におけるベース層と有機機能層の一部を示した概略断面図である。
図２に示すように、本発明の有機ＥＬ素子１を構成する発光領域Ｌは、ベース層１５中の発光層６と、当該発光層６の上部又は下部に位置する複数の有機機能層（有機機能層ユニット１Ｕ）とを備える。
複数の発光領域のうち、少なくとも一部の発光領域における有機機能層は、その厚さが異なる。複数の有機機能層のうち、発光層より上に積層される層の膜厚が異なることが好ましく、特に電子輸送層の厚さが異なることが好ましい。これにより、発光領域と非発光領域の境界のボケの発生を防止することができる。図１及び図２では、電子輸送層８の厚さが異なる場合を示している。
当該厚さの異なる有機機能層の厚さ範囲は、１０～８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。１０ｎｍ以上であると、リークの発生を抑制でき、８０ｎｍ以下であると高輝度で諧調を表現することができる。
有機機能層の厚さは、表面形状測定器（例えば、ＵＬＶＡＣ製の触針式表面形状測定器（Ｄｅｋｔａｋ８））や小型高速分光エリプソメーター等を用いて測定することができる。 <Light-emitting area>
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a part of the base layer and the organic functional layer in FIG.
As shown in FIG. 2 , the light-emitting region L constituting the organic EL element 1 of the present invention includes a light-emitting layer 6 in a base layer 15 and a plurality of organic functional layers (organic functional layer units 1U) located above or below the light-emitting layer 6.
Among the multiple light-emitting regions, the organic functional layers in at least some of the light-emitting regions have different thicknesses. Of the multiple organic functional layers, it is preferable that the layers stacked above the light-emitting layer have different thicknesses, and it is particularly preferable that the thicknesses of the electron transport layers are different. This can prevent blurring of the boundary between the light-emitting region and the non-light-emitting region. Figures 1 and 2 show the case where the thicknesses of the electron transport layers 8 are different.
The thickness range of the organic functional layers having different thicknesses is preferably within the range of 10 to 80 nm. If the thickness is 10 nm or more, the occurrence of leakage can be suppressed, and if the thickness is 80 nm or less, gradation can be expressed with high brightness.
The thickness of the organic functional layer can be measured using a surface profiler (for example, a stylus surface profiler (Dektak8) manufactured by ULVAC) or a small high-speed spectroscopic ellipsometer.

（発光層）
発光層６は、前記ベース層１５中の発光性ドーパントを含有する層６ａ又は、ベース層１５上に発光性ドーパントが塗布された層６ｂである。当該発光層が、有機ＥＬ素子において画像表示に寄与する発光に関与する層である。本発明では、ベース層を形成した後、発光層を形成することが、生産性の観点から好ましい。また、発光層はベース層に浸み込む又は一部が溶解して混合する又はベース層上部に形成されることが好ましく、ベース層と発光性ドーパントはベース層の上層の一部が混合した層として形成されることが好ましく、さらに、ベース層に発光ドーパントが染み込む又は混合することで、ベース層と発光ドーパント層の混合割合が増えるほど、発光領域を低い電圧で光らせることができるためより好ましい。
発光層は、電極又は電子輸送層から注入された電子と、電極又は正孔輸送層から注入された正孔とが再結合して発光する層である。 (Light Emitting Layer)
The light-emitting layer 6 is a layer 6a containing a light-emitting dopant in the base layer 15, or a layer 6b in which a light-emitting dopant is applied onto the base layer 15. The light-emitting layer is a layer involved in light emission that contributes to image display in an organic EL element. In the present invention, it is preferable from the viewpoint of productivity to form the light-emitting layer after forming the base layer. In addition, it is preferable that the light-emitting layer is permeated into the base layer or partially dissolved and mixed, or formed on the top of the base layer, and it is preferable that the base layer and the light-emitting dopant are formed as a layer in which a part of the upper layer of the base layer is mixed, and further, it is more preferable that the light-emitting dopant is permeated into or mixed with the base layer, so that the light-emitting region can be made to emit light at a lower voltage, and the more the mixing ratio of the base layer and the light-emitting dopant layer increases.
The light-emitting layer is a layer in which electrons injected from an electrode or an electron transport layer and holes injected from an electrode or a hole transport layer are recombined to emit light.

＜非発光領域＞
図２において、本発明の有機ＥＬ素子１を構成する非発光領域Ｎは、ベース層１５中の非発光層７と、当該非発光層７の上部又は下部に位置する複数の有機機能層（有機機能層ユニット１Ｕ）とを備える。 <Non-luminous region>
In FIG. 2 , the non-emissive region N constituting the organic EL element 1 of the present invention comprises a non-emissive layer 7 in the base layer 15 and a plurality of organic functional layers (organic functional layer units 1U) located above or below the non-emissive layer 7.

（非発光層）
非発光層７は、前記ベース層中の非発光材料を含有するが、発光現象を誘起する量の発光性ドーパントを含有しない層であり、すなわち、ベース層中の発光層以外の部分である。
当該非発光層は、ベース層自体に染み込む、又は発光性ドーパントの量が少ないためドットの広がりを抑制できるという役割を持っている。 (Non-light-emitting layer)
The non-light-emitting layer 7 is a layer that contains the non-light-emitting material in the base layer but does not contain a light-emitting dopant in an amount that induces a light-emitting phenomenon, that is, the portion of the base layer other than the light-emitting layer.
The non-light-emitting layer has the role of suppressing the spreading of dots by penetrating into the base layer itself or by containing a small amount of light-emitting dopant.

本発明においては、ベース層である発光層及び非発光層の厚さは、ほぼ同じ厚さであることが好ましく、１０～２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、１０～５０ｎｍの範囲であることがより好ましい。
なお、当該ベース層の厚さも前記有機機能層の厚さと同様にして測定することができる。 In the present invention, the thickness of the light-emitting layer and the non-light-emitting layer, which are the base layers, is preferably approximately the same, and is preferably within the range of 10 to 200 nm, and more preferably within the range of 10 to 50 nm.
The thickness of the base layer can be measured in the same manner as the thickness of the organic functional layer.

非発光層を設けることにより、図１（ａ）及び図１（ｂ）に示すように、整然とした発光層６（発光領域）、すなわちドット状の画素を形成できる点で好ましい。
したがって、前記画像表示部内の表面に対して垂直方向から見たとき、図１（ｂ）に示すように、当該画像表示部１Ａ内にドット状に前記発光層６（発光領域）が配置され、複数のドットからなる線や種々の図形を描くことができるように配置されていることが画像表示の観点から好ましい。また、当該ドットは、画像表示装置における画像を通常の目視による観察法で見た場合において、ドットとして視認できないような微小な画素として形成・配置されていることも好ましい。 Providing a non-light-emitting layer is preferable because it allows the formation of orderly light-emitting layers 6 (light-emitting regions), that is, dot-shaped pixels, as shown in FIGS. 1(a) and 1(b).
Therefore, from the viewpoint of image display, it is preferable that the light-emitting layers 6 (light-emitting regions) are arranged in the image display section 1A in a dot-like manner as shown in Fig. 1(b) when viewed from a direction perpendicular to the surface of the image display section, and are arranged so as to be able to draw lines and various figures consisting of a plurality of dots. It is also preferable that the dots are formed and arranged as minute pixels that cannot be visually recognized as dots when an image on an image display device is viewed by normal visual observation.

＜発光性ドーパントと非発光材料＞
発光領域における発光層は、少なくとも非発光材料と発光性ドーパントを含有する層である。一方、非発光領域を構成する非発光層は、非発光材料を含有している。
前記発光層及び非発光層に含有される非発光材料は、１種以上の共通のホスト化合物を含有することが好ましい。
また、発光層に含有される発光性ドーパントのＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位と、前記共通のホスト化合物のＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位の差が、±０．２ｅＶ以内であることがエネルギー移動がしやすい点で好ましい。 <Light-emitting dopants and non-light-emitting materials>
The light-emitting layer in the light-emitting region is a layer containing at least a non-light-emitting material and a light-emitting dopant, whereas the non-light-emitting layer constituting the non-light-emitting region contains a non-light-emitting material.
The non-light-emitting materials contained in the light-emitting layer and the non-light-emitting layer preferably contain one or more common host compounds.
In addition, it is preferable that the difference between the energy level of the LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) of the light-emitting dopant contained in the light-emitting layer and the energy level of the LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) of the common host compound is within ±0.2 eV in terms of facilitating energy transfer.

また、前記発光性ドーパントとしては、蛍光発光性化合物及び／又はリン光発光性化合物を用いることができる。また、蛍光発光性化合物としては、熱活性型遅延蛍光発光性化合物も用いることができる。発光性ドーパントの具体例等についての詳細は、後述する。 As the luminescent dopant, a fluorescent compound and/or a phosphorescent compound can be used. As the fluorescent compound, a thermally activated delayed fluorescent compound can also be used. Details of specific examples of luminescent dopants will be described later.

本発明に係る発光層及び非発光層に用いられる非発光材料は、発光層においては主に発光性化合物の分散及び電荷の移動（キャリア）を担う化合物であり、有機ＥＬ素子においてそれ自体の発光は実質的に観測されない。非発光層において、非発光材料は、前述のように、発光層からなる画素を形成する際のバンク（堤防）の役割を持っている。したがって、非発光材料としては、このような機能を果たせる化合物であることを要する。 The non-emissive material used in the emissive layer and non-emissive layer of the present invention is a compound that is mainly responsible for dispersing the emissive compound and moving charges (carriers) in the emissive layer, and does not emit light of its own in the organic EL element. As mentioned above, in the non-emissive layer, the non-emissive material plays the role of a bank when forming pixels made of the emissive layer. Therefore, the non-emissive material must be a compound that can perform this function.

非発光材料は、単独で用いてもよく、又は複数種併用して用いてもよい。非発光材料を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することができる。非発光材料としては、前記したとおり例えば、後述する公知のホスト化合物や絶縁性ポリマー等が挙げられ、特にホスト化合物であることが好ましい。
非発光材料の具体例等についての詳細は、後述する。 The non-light-emitting material may be used alone or in combination of multiple types. By using multiple types of non-light-emitting materials, it is possible to adjust the movement of charges, and the efficiency of the organic EL element can be increased. As described above, examples of the non-light-emitting material include known host compounds and insulating polymers, which will be described later, and the host compound is particularly preferred.
Specific examples of the non-light-emitting material will be described in detail later.

［有機ＥＬ素子の基本的構成における各要素の関係］
図１に示す例においては、有機ＥＬ素子１の各構成要素は基材２上に設けられており、基材２側から、第１電極３、ベース層１５、有機機能材料等を用いて構成された複数の有機機能層（有機機能層ユニット１Ｕ）、及び第２電極１０を積層して構成されている。第１電極３の端部には、取り出し電極１１が設けられている。第１電極３と外部電源（不図示）とは、取り出し電極１１を介して、電気的に接続される。図１に示す有機ＥＬ素子１においては、発生させた発光光を、少なくとも基材２側から取り出すように構成されている。 [Relationships of Elements in the Basic Structure of an Organic EL Element]
In the example shown in Fig. 1, each component of the organic EL element 1 is provided on a substrate 2, and is configured by stacking a first electrode 3, a base layer 15, a plurality of organic functional layers (organic functional layer units 1U) made of organic functional materials and the like, and a second electrode 10 from the substrate 2 side. An extraction electrode 11 is provided at an end of the first electrode 3. The first electrode 3 and an external power source (not shown) are electrically connected via the extraction electrode 11. The organic EL element 1 shown in Fig. 1 is configured to extract the generated luminescent light from at least the substrate 2 side.

図１に示す有機ＥＬ素子１における具体的な構成としては、例えば、第１電極３がアノード（陽極）として機能し、第２電極１０がカソード（陰極）として機能する。この場合、有機機能層ユニット１Ｕは、ベース層１５以外の層で、当該ベース層１５の下部又は上部に位置する層で、例えば、正孔注入層４、正孔輸送層５、電子輸送層８及び電子注入層９を有する。 As a specific configuration of the organic EL element 1 shown in FIG. 1, for example, the first electrode 3 functions as an anode (positive electrode) and the second electrode 10 functions as a cathode (negative electrode). In this case, the organic functional layer unit 1U is a layer other than the base layer 15 and is located below or above the base layer 15, and has, for example, a hole injection layer 4, a hole transport layer 5, an electron transport layer 8, and an electron injection layer 9.

正孔注入層４及び正孔輸送層５は、正孔輸送注入層として設けられても良い。同様に、電子輸送層８及び電子注入層９は、電子輸送注入層として設けられても良い。また、これらの有機機能層ユニット１Ｕのうち、例えば、電子注入層９は無機材料で構成されてもよい。 The hole injection layer 4 and the hole transport layer 5 may be provided as hole transport injection layers. Similarly, the electron transport layer 8 and the electron injection layer 9 may be provided as electron transport injection layers. In addition, of these organic functional layer units 1U, for example, the electron injection layer 9 may be made of an inorganic material.

また、有機機能層ユニット１Ｕは、これらの層の他にも正孔阻止層や電子阻止層等が必要に応じて積層されていてもよい。さらに、発光層は、各波長領域の発光光を発生させる複数の各色発光層を有してもよい。中間層は、正孔阻止層や電子阻止層としての機能を付加してもよい。 In addition to these layers, the organic functional layer unit 1U may also have a hole blocking layer, an electron blocking layer, and the like laminated thereon as necessary. Furthermore, the light-emitting layer may have a plurality of color light-emitting layers that generate light of each wavelength region. The intermediate layer may also have the function of a hole blocking layer or an electron blocking layer.

さらに、カソードである第２電極１０も、必要に応じた積層構造であってもよい。このような構成において、第１電極３と第２電極１０とで有機機能層１Ｕが挟持された部分のみが、有機ＥＬ素子１における画像表示部１Ａとなる。 Furthermore, the second electrode 10, which is the cathode, may also have a laminated structure as necessary. In such a configuration, only the portion where the organic functional layer 1U is sandwiched between the first electrode 3 and the second electrode 10 becomes the image display section 1A in the organic EL element 1.

以上のような構成の有機ＥＬ素子１は、有機機能材料等を用いて構成された有機機能層ユニット１Ｕの劣化を防止することを目的として、基材２上に、封止用接着層（封止用接着剤）１３を介して封止基材１４で封止されている。また、第１電極３とその取り出し電極１１及び第２電極１０とその取り出し電極１２の端子部分は、基材２上において、有機機能層ユニット１Ｕによって互いに絶縁性を保った状態で封止用接着層１３から露出させた状態で設けられている。 The organic EL element 1 configured as described above is sealed on the substrate 2 with a sealing substrate 14 via a sealing adhesive layer (sealing adhesive) 13 in order to prevent deterioration of the organic functional layer unit 1U configured using organic functional materials, etc. In addition, the terminal portions of the first electrode 3 and its extraction electrode 11, and the second electrode 10 and its extraction electrode 12 are provided on the substrate 2 in a state where they are exposed from the sealing adhesive layer 13 while being insulated from each other by the organic functional layer unit 1U.

＜ベース層及び有機機能層の形成方法＞
本発明においては、前記ベース層は、非発光材料を含有する非発光層をインクジェット記録法又はインクジェット記録法以外のウェット・プロセスで形成する工程と、発光性ドーパントを含有する発光層をインクジェット記録法によって形成する工程とを有することが好ましい。
また、前記有機機能層は、各有機機能材料をインクジェット記録法又はインクジェット記録法以外のウェット・プロセスで形成する工程を有することが好ましい。
本発明では、複数の発光領域のうち少なくとも一部の発光領域における有機機能層の厚さを異なるように形成する。複数の有機機能層のうち、発光層より上に積層される層の膜厚が異なるように形成することが好ましく、特に電子輸送層の厚さが異なるように形成することが好ましい。 <Method of forming base layer and organic functional layer>
In the present invention, it is preferable that the base layer comprises a step of forming a non-light-emitting layer containing a non-light-emitting material by an ink-jet recording method or a wet process other than the ink-jet recording method, and a step of forming a light-emitting layer containing a light-emitting dopant by an ink-jet recording method.
The organic functional layer preferably includes a step of forming each organic functional material by an inkjet recording method or a wet process other than the inkjet recording method.
In the present invention, the organic functional layers in at least some of the light-emitting regions are formed to have different thicknesses. It is preferable to form the layers stacked above the light-emitting layer of the organic functional layers to have different thicknesses, and it is particularly preferable to form the electron transport layers to have different thicknesses.

ベース層の形成は、具体的には、非発光材料を含有する非発光層をインクジェット記録法又はインクジェット記録法以外のウェット・プロセスで形成した後に、その非発光層に発光性ドーパント又は発光性ドーパントと非発光材料の混合物のインクの液滴をインクジェット記録法により非発光層上に注入又は塗布する。
インク液滴を注入することにより、発光性ドーパントを非発光層に浸透させて、非発光層を構成する非発光材料と発光性ドーパントの混合層である発光層を形成する。また、インク液滴を塗布した場合には、非発光層上に発光性ドーパントと非発材料の混合層である発光層が形成される。 Specifically, the base layer is formed by forming a non-light-emitting layer containing a non-light-emitting material by an inkjet recording method or a wet process other than the inkjet recording method, and then injecting or applying ink droplets of a light-emitting dopant or a mixture of a light-emitting dopant and a non-light-emitting material onto the non-light-emitting layer by the inkjet recording method.
Injecting ink droplets causes the luminescent dopant to penetrate the non-luminescent layer, forming a luminescent layer that is a mixed layer of the non-luminescent material and the luminescent dopant that constitute the non-luminescent layer. In addition, when ink droplets are applied, a luminescent layer that is a mixed layer of the luminescent dopant and the non-luminescent material is formed on the non-luminescent layer.

本発明においては、発光層をドット状に形成するが、その方法はパターニング可能であることが望ましい。パターニング開口部のあるマスクを用いた印刷法であっても良いが、非発光層への損傷（ダメージ）が少ないという観点から非接触で形成する方法が望ましい。
また、高解像度可能という点から、ディスペンサー法、インクジェット・プリント法がより好ましい。発光性ドーパントを含む溶液の体積は１０μＬ以下、好ましくは１００ｐＬ以下である。
なお、ドットの大きさは、発光層の主たる発光面側から撮影した光学顕微鏡写真（平面図）に基づいて計測した場合、円換算粒径として、３０～３００μｍの範囲内であることが好ましい。 In the present invention, the light-emitting layer is formed in a dot shape, and the method is preferably one that allows patterning. A printing method using a mask with patterning openings may be used, but a non-contact forming method is preferable from the viewpoint of minimizing damage to non-light-emitting layers.
Moreover, the dispenser method and the inkjet printing method are more preferable because they enable high resolution.The volume of the solution containing the luminescent dopant is 10 μL or less, preferably 100 pL or less.
The size of the dots is preferably within a range of 30 to 300 μm in terms of circular equivalent particle size when measured based on an optical microscope photograph (plan view) taken from the main light-emitting surface side of the light-emitting layer.

有機機能層の形成は、具体的には、有機機能材料をインクジェット記録法又はインクジェット記録法以外のウェット・プロセスで形成する。
また、複数の発光領域のうち、少なくとも一部の発光領域における有機機能層の厚さが異なるように制御するための手段としては、インクジェット記録法による場合は、ヘッドの液滴量、解像度や射出の回数を制御すること等が挙げられる。また、インクジェット記録法以外のウェット・プロセスとしてスピンコート法を用いた場合には、回転数や塗布する液の濃度・粘度を調整することにより制御することができる。 Specifically, the organic functional layer is formed by forming an organic functional material by an inkjet recording method or a wet process other than the inkjet recording method.
In addition, as a means for controlling the thickness of the organic functional layer to be different in at least some of the light-emitting regions among the plurality of light-emitting regions, in the case of ink-jet recording, the amount of droplets from the head, the resolution, the number of ejections, etc. In addition, in the case of using a spin-coating method as a wet process other than the ink-jet recording method, the thickness can be controlled by adjusting the rotation speed and the concentration and viscosity of the liquid to be applied.

（ウェット・プロセス）
本発明において、「ウェット・プロセス（「湿式法」ともいう。）」とは、液状物質を用いて目的物を形成する方法又は過程をいう。
前記ベース層及び有機機能層の形成で用いられるウェット・プロセスとしては、スピンコート法、キャスト法、インクジェット記録法、ダイコート法、ブレードコート法、ロールコート法、スプレーコート法、カーテンコート法、ＬＢ法（ラングミュア－ブロジェット法）等が挙げられる。
上記方法のうち、均質な薄膜が得られやすく、かつ高生産性の点から、ダイコート法、ロールコート法、インクジェット記録（印刷）法、スプレーコート法などのロール・ｔｏ・ロール方式適性の高い方法が好ましい。特に、インクジェット記録（印刷）法が好ましい。インクジェット記録法についての詳細は後述する。 (Wet Process)
In the present invention, the term "wet process" refers to a method or process for forming an object using a liquid substance.
Examples of the wet process used in forming the base layer and the organic functional layer include spin coating, casting, inkjet recording, die coating, blade coating, roll coating, spray coating, curtain coating, and LB (Langmuir-Blodgett) method.
Among the above methods, from the viewpoint of easily obtaining a homogeneous thin film and high productivity, methods highly suitable for roll-to-roll systems, such as die coating, roll coating, inkjet recording (printing), and spray coating, are preferred. In particular, inkjet recording (printing) is preferred. Details of the inkjet recording will be described later.

（溶媒）
非発光材料、発光性ドーパント及び有機機能材料を溶解又は分散する液媒体としては特に制限はなく、下記の溶媒を用いることができる。
例えば、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、１，２－ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、ジクロロヘキサノン等のハロゲン系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ｎ－プロピルメチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、シクロヘキシルベンゼン等の芳香族系溶媒、シクロヘキサン、デカリン、ドデカン等の脂肪族系溶媒、酢酸エチル、酢酸ｎ－プロピル、酢酸ｎ－ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ－ブチロラクトン、炭酸ジエチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、メタノール、エタノール、１－ブタノール、エチレングリコール等のアルコール系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系溶媒、ジメチルスルホキシド、水又はこれらの混合液媒体等が挙げられる。 (solvent)
The liquid medium for dissolving or dispersing the non-light-emitting material, the light-emitting dopant, and the organic functional material is not particularly limited, and the following solvents can be used.
For example, halogen-based solvents such as chloroform, carbon tetrachloride, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, dichlorobenzene, and dichlorohexanone; ketone-based solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, methyl isobutyl ketone, n-propyl methyl ketone, and cyclohexanone; aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, and cyclohexylbenzene; aliphatic solvents such as cyclohexane, decalin, and dodecane; ester-based solvents such as ethyl acetate, n-propyl acetate, n-butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate, γ-butyrolactone, and diethyl carbonate; ether-based solvents such as tetrahydrofuran and dioxane; amide-based solvents such as dimethylformamide and dimethylacetamide; alcohol-based solvents such as methanol, ethanol, 1-butanol, and ethylene glycol; nitrile-based solvents such as acetonitrile and propionitrile; dimethyl sulfoxide, water, or a mixture thereof.

これらの液媒体の沸点としては、迅速に液媒体を乾燥させる観点から乾燥処理の温度未満の沸点が好ましく、具体的には６０～２００℃の範囲内が好ましく、さらに好ましくは、８０～１８０℃の範囲内である。 The boiling point of these liquid media is preferably lower than the temperature of the drying process in order to quickly dry the liquid media, and more specifically, is preferably within the range of 60 to 200°C, and more preferably within the range of 80 to 180°C.

塗布液は、塗布範囲を制御する目的や、塗布後の表面張力勾配に伴う液流動（例えば、コーヒーリングと呼ばれる現象を引き起こす液流動）を抑制する目的に応じて、界面活性剤を含有することができる。
界面活性剤としては、溶媒に含まれる水分の影響、レベリング性、基板への濡れ性等の観点から、例えばアニオン性又はノニオン性の界面活性剤等が挙げられる。具体的には、含フッ素系活性剤等、国際公開第０８／１４６６８１号、特開平２－４１３０８号公報等に挙げられた界面活性剤を用いることができる。 The coating liquid may contain a surfactant for the purpose of controlling the coating range or for the purpose of suppressing liquid flow associated with a surface tension gradient after coating (for example, liquid flow that causes a phenomenon called coffee ring).
Examples of the surfactant include anionic or nonionic surfactants from the viewpoints of the influence of moisture contained in the solvent, leveling properties, wettability to the substrate, etc. Specifically, surfactants such as fluorine-containing surfactants, etc., as described in WO 08/146681 and JP-A-2-41308 can be used.

湿式法に用いる塗布液は、非発光材料、発光性ドーパント及び有機機能材料が液媒体に均一に溶解される溶液でも、材料が固形分として液媒体に分散される分散液でも良い。分散方法としては、超音波、高剪断力分散やメディア分散等の分散方法により分散することができる。 The coating liquid used in the wet method may be a solution in which the non-luminescent material, luminescent dopant, and organic functional material are uniformly dissolved in the liquid medium, or a dispersion in which the materials are dispersed as solids in the liquid medium. Dispersion methods include ultrasonic, high shear dispersion, and media dispersion.

塗布膜の粘度についても、膜厚と同様に、ベース層として必要とされる機能と、非発光材料、発光性ドーパント及び有機機能材料の溶解度又は分散性により、適宜選択することが可能で、具体的には例えば０．３～１００ｍＰａ・ｓの範囲内で選択することができる。
塗布膜の膜厚は、ベース層として必要とされる機能と非発光材料、発光性ドーパント及び有機機能材料の溶解度又は分散性により適宜選択することが可能で、具体的には例えば１～９０μｍの範囲内で選択することができる。 The viscosity of the coating film, like the film thickness, can be appropriately selected depending on the function required of the base layer and the solubility or dispersibility of the non-luminescent material, the luminescent dopant, and the organic functional material, and specifically, can be selected within the range of, for example, 0.3 to 100 mPa·s.
The thickness of the coating film can be appropriately selected depending on the function required as a base layer and the solubility or dispersibility of the non-luminescent material, the luminescent dopant, and the organic functional material, and specifically, can be selected within the range of, for example, 1 to 90 μm.

湿式法により塗布膜を形成した後、上述した液媒体を除去する乾燥工程を有することができる。乾燥工程の温度は特に制限されないが、ベース層や有機機能層や透明電極や基材が損傷しない程度の温度で乾燥処理することが好ましい。具体的には、塗布液の組成等によって異なるため一概には言えないが、例えば、８０℃以上の温度とすることができ、上限は３００℃程度までは可能な領域と考えられる。乾燥時間は、用いる溶媒等の材料に応じて適切な時間（例えば、１２０℃で３０分間等）にすることが好ましい。このような条件とすることにより、乾燥を迅速に行うことができる。
本発明に係る各溶媒の１ａｔｍ、２５℃における蒸気圧（ｋＰａ）は、下記の記載の方法に準じ、求めることができる。例えば、ＪＩＳ Ｋ２２５８－１：２００９のリード法やＪＩＳＫ２２５８－２：２００９の３回膨張法等を挙げることができる。また、一般的な蒸気圧の測定方法として知られている、静止法、沸点法、アイソテニスコープ、気体流通法、ＤＳＣ法も適用することができる。更には、公知文献、例えば、「新版 溶剤ポケットブック」（有機合成化学教会編、オーム社）に記載されている蒸気圧データを活用することもできる。 After forming the coating film by the wet method, a drying process for removing the liquid medium described above can be included. The temperature of the drying process is not particularly limited, but it is preferable to perform the drying process at a temperature that does not damage the base layer, the organic functional layer, the transparent electrode, or the substrate. Specifically, although it cannot be said in general because it varies depending on the composition of the coating liquid, for example, the temperature can be 80°C or higher, and the upper limit is considered to be a possible range up to about 300°C. It is preferable to set the drying time to an appropriate time (for example, 30 minutes at 120°C) depending on the material such as the solvent used. By setting such conditions, drying can be performed quickly.
The vapor pressure (kPa) of each solvent according to the present invention at 1 atm and 25°C can be determined according to the following method. For example, the Reid method of JIS K2258-1:2009 and the three-times expansion method of JIS K2258-2:2009 can be mentioned. In addition, the static method, the boiling point method, the isoteniscope, the gas flow method, and the DSC method, which are known as general vapor pressure measurement methods, can also be applied. Furthermore, vapor pressure data described in publicly known literature, for example, "New Edition Solvent Pocket Book" (edited by the Society of Organic Synthesis Chemistry, Ohmsha), can also be utilized.

２．有機ＥＬ素子を構成するベース層、有機機能層及び電極
以下において、本発明の有機ＥＬ素子を構成する主要なベース層のうちの発光層、有機機能層及び電極等について順次説明する。 2. Base Layer, Organic Functional Layer, and Electrodes Constituting the Organic EL Device The light-emitting layer, which is one of the main base layers constituting the organic EL device of the present invention, the organic functional layer, and the electrodes will be described below in order.

＜発光層＞
以下、有機ＥＬの発光方式及び発光材料について述べる。
（有機ＥＬの発光方式）
有機ＥＬの発光方式としては三重項励起状態から基底状態に戻る際に光を発する「リン光発光」と、一重項励起状態から基底状態に戻る際に光を発する「蛍光発光」の二通りがある。
有機ＥＬ素子のような電界で励起する場合には、三重項励起子が７５％の確率で、一重項励起子が２５％の確率で生成するため、リン光発光の方が蛍光発光に比べ発光効率を高くすることが可能で、低消費電力化を実現するには優れた方式である。 <Light-emitting layer>
The light emitting method and light emitting materials of the organic EL will be described below.
(Organic EL light emission method)
There are two types of light emission methods for organic electroluminescence: "phosphorescence," in which light is emitted when returning from a triplet excited state to the ground state, and "fluorescence," in which light is emitted when returning from a singlet excited state to the ground state.
When excited by an electric field, as in an organic EL element, triplet excitons are generated with a 75% probability and singlet excitons with a 25% probability. This means that phosphorescence can have a higher luminous efficiency than fluorescence, and is an excellent method for achieving low power consumption.

さらに、近年では、安達らの発見により一重項励起状態と三重項励起状態のエネルギーギャップを小さくすることで、発光中のジュール熱及び／又は発光素子が置かれる環境温度によりエネルギー準位の低い三重項励起状態から一重項励起状態に逆項間交差がおこり、結果としてほぼ１００％に近い蛍光発光を可能とする現象（熱活性型遅延蛍光又は熱励起型遅延蛍光ともいう：「ＴＡＤＦ」：ｔｈｅｒｍａｌｌｙ ａｃｔｉｖａｔｅｄ ｄｅｌａｙｅｄ ｆｌｕｏｒｅｓｃｅｎｃｅ）とそれを可能にする蛍光発光性化合物が見いだされている（例えば、非特許文献Ｈ．Ｕｏｙａｍａ，ｅｔ ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ，２０１２，４９２，２３４－２３８、Ｈ．Ｎａｋａｎоｔａｎｉ，ｅｔ ａｌ．，Ｎａｔｕｒｅ Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｉｏｎ，２０１４，５，４０１６－４０２２等参照。）。 Furthermore, in recent years, Adachi et al. have discovered that by reducing the energy gap between the singlet excited state and the triplet excited state, reverse intersystem crossing occurs from the triplet excited state, which has a lower energy level, to the singlet excited state due to Joule heat during emission and/or the environmental temperature in which the light-emitting element is placed, resulting in a phenomenon that enables nearly 100% fluorescence emission (also known as thermally activated delayed fluorescence or thermally excited delayed fluorescence: TADF), and have discovered fluorescent compounds that make this possible (see, for example, non-patent literature H. Uoyama, et al., Nature, 2012, 492, 234-238; H. Nakanotani, et al., Nature Communication, 2014, 5, 4016-4022, etc.).

（リン光発光性化合物）
前述のとおり、リン光発光は発光効率的には蛍光発光よりも理論的には３倍有利であるが、三重項励起状態から一重項基底状態へのエネルギー失活（＝リン光発光）は禁制遷移であり、また同様に一重項励起状態から三重項励起状態への項間交差も禁制遷移であるため、通常その速度定数は小さい。すなわち、遷移が起こりにくいため、リン光寿命はミリ秒から秒オーダーと長くなり、所望の発光を得ることが困難である。
ただし、イリジウムやプラチナなどの重金属を用いた錯体が発光する場合には、中心金属の重原子効果によって、前記の禁制遷移の速度定数が三桁以上増大し、配位子の選択によっては、１００％のリン光量子収率を得ることも可能となる。 (Phosphorescent Compounds)
As mentioned above, phosphorescence is theoretically three times more efficient than fluorescence, but the energy deactivation from the triplet excited state to the singlet ground state (phosphorescence) is a forbidden transition, and similarly, intersystem crossing from the singlet excited state to the triplet excited state is also a forbidden transition, so the rate constant is usually small. In other words, because the transition is difficult to occur, the phosphorescence lifetime is long, on the order of milliseconds to seconds, making it difficult to obtain the desired emission.
However, when a complex using a heavy metal such as iridium or platinum emits light, the rate constant of the forbidden transition increases by three orders of magnitude or more due to the heavy atom effect of the central metal, and depending on the selection of the ligand, it is possible to obtain a phosphorescence quantum yield of 100%.

（蛍光発光性化合物）
一般的な蛍光発光性材料は、リン光発光性材料のような重金属錯体である必要性は特になく、炭素、酸素、窒素及び水素などの一般的な元素の組み合わせから構成される、いわゆる有機化合物が適用でき、さらに、リンや硫黄、ケイ素などその他の非金属元素を用いることも可能で、また、アルミニウムや亜鉛などの典型金属の錯体も活用できるなど、その多様性はほぼ無限と言える。
ただし、従来の蛍光化合物では前記のように励起子の２５％しか発光に適用できないために、リン光発光のような高効率発光は望めない。 (Fluorescent Compound)
A typical fluorescent material does not necessarily have to be a heavy metal complex like a phosphorescent material; so-called organic compounds composed of combinations of common elements such as carbon, oxygen, nitrogen, and hydrogen can be used. Furthermore, other non-metallic elements such as phosphorus, sulfur, and silicon can also be used. Complexes of typical metals such as aluminum and zinc can also be utilized; the diversity of fluorescent materials is almost limitless.
However, in conventional fluorescent compounds, as described above, only 25% of the excitons can be used for emission, and therefore highly efficient emission such as phosphorescence cannot be expected.

（遅延蛍光化合物）
《励起三重項－三重項消滅（ＴＴＡ）遅延蛍光化合物》
蛍光発光性化合物の問題点を解決すべく登場したのが遅延蛍光を利用した発光方式である。三重項励起子同士の衝突を起源とするＴＴＡ方式は、下記のような一般式で記述できる。すなわち、従来、励起子のエネルギーが、無輻射失活により、熱にしか変換されなかった三重項励起子の一部が、発光に寄与しうる一重項励起子に逆項間交差できるメリットがあり、実際の有機ＥＬ素子においても従来の蛍光発光素子の約２倍の外部取り出し量子効率を得ることができている。
一般式：Ｔ＊＋Ｔ＊→Ｓ＊＋Ｓ（式中、Ｔ＊は三重項励起子、Ｓ＊は一重項励起子、Ｓは基底状態分子を表す。）
しかしながら、上式からもわかるように、二つの三重項励起子から発光に利用できる一重項励起子は一つしか生成しないため、この方式で１００％の内部量子効率を得ることは原理上できない。 (Delayed fluorescent compound)
"Triplet-triplet annihilation (TTA) delayed fluorescent compound"
A light emission method using delayed fluorescence has appeared to solve the problems of fluorescent compounds. The TTA method, which originates from collisions between triplet excitons, can be described by the following general formula. In other words, it has the advantage that some of the triplet excitons, whose energy was previously only converted to heat due to non-radiative deactivation, can undergo reverse intersystem crossing to become singlet excitons that can contribute to light emission, and in actual organic EL elements, it is possible to obtain an external extraction quantum efficiency that is about twice that of conventional fluorescent light emitting elements.
General formula: T*+T*→S*+S (wherein T* represents a triplet exciton, S* represents a singlet exciton, and S represents a ground state molecule.)
However, as can be seen from the above formula, only one singlet exciton that can be used for light emission is generated from two triplet excitons, and therefore, in principle, it is not possible to obtain an internal quantum efficiency of 100% with this method.

《熱活性型遅延蛍光（ＴＡＤＦ）化合物》
もう一つの高効率蛍光発光であるＴＡＤＦ方式は、ＴＴＡの問題点を解決できる方式である。
蛍光発光性化合物は、前記のごとく無限に分子設計できる利点を持っている。すなわち、分子設計された化合物の中で、特異的に三重項励起状態と一重項励起状態のエネルギー準位差（以下において、適宜、「ΔＥＳＴ」と略記する。）が極めて近接する化合物が存在する。
このような化合物は、分子内に重原子を持っていないにもかかわらず、ΔＥＳＴが小さいために通常では起こりえない三重項励起状態から一重項励起状態への逆項間交差が起こる。さらに、一重項励起状態から基底状態への失活（＝蛍光発光）の速度定数が極めて大きいことから、三重項励起子はそれ自体が基底状態に熱的に失活（無輻射失活）するよりも、一重項励起状態経由で蛍光を発しながら基底状態に戻る方が速度論的に有利である。そのため、ＴＡＤＦでは理論的には１００％の蛍光発光が可能となる。 <<Thermally activated delayed fluorescent (TADF) compound>>
The TADF method, another highly efficient fluorescent emission method, is a method that can solve the problems of TTA.
As described above, fluorescent compounds have the advantage that their molecules can be infinitely designed. That is, among the molecularly designed compounds, there exist compounds in which the energy level difference between the triplet excited state and the singlet excited state (hereinafter, appropriately abbreviated as "ΔE ST ") is very close.
Although such compounds do not have heavy atoms in the molecule, reverse intersystem crossing from the triplet excited state to the singlet excited state, which does not normally occur, occurs because ΔE ST is small. Furthermore, since the rate constant of deactivation (=fluorescence emission) from the singlet excited state to the ground state is extremely large, it is kinetically more advantageous for triplet excitons to return to the ground state while emitting fluorescence via the singlet excited state than to thermally deactivate (non-radiatively deactivate) themselves to the ground state. Therefore, TADF theoretically enables 100% fluorescence emission.

《ΔＥＳＴに関する分子設計思想》
上記ΔＥＳＴを小さくするための分子設計について説明する。
ΔＥＳＴを小さくするためには、原理上分子内の最高被占軌道（ｈｉｇｈｅｓｔ ｏｃｃｕｐｉｅｄ ｍｏｌｅｃｕｌａｒ おｒｂｉｔａｌ：ＨＯＭＯ）と最低空軌道（ｌｏｗｅｓｔ ｕｎｏｃｃｕｐｉｅｄ ｍｏｌｅｃｕｌａｒ ｏｒｂｉｔａｌ：ＬＵＭＯ）の空間的な重なりを小さくすることが最も効果的である。
一般に分子の電子軌道において、ＨＯＭＯは電子供与性部位に、ＬＵＭＯは電子吸引性部位に分布することが知られており、分子内に電子供与性と電子吸引性の骨格を導入することによって、ＨＯＭＯとＬＵＭＯが存在する位置を遠ざけることが可能である。 Molecular design concept for ΔE ST
Molecular design for reducing the above ΔE ST will now be described.
In principle, the most effective way to reduce ΔE ST is to reduce the spatial overlap between the highest occupied molecular orbital (HOMO) and the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) in a molecule.
It is generally known that in the electron orbitals of a molecule, the HOMO is distributed in electron-donating sites, and the LUMO is distributed in electron-withdrawing sites. By introducing an electron-donating and electron-withdrawing skeleton into a molecule, it is possible to separate the positions where the HOMO and LUMO are located.

例えば、「実用化ステージを迎えた有機光エレクトロニクス」応用物理 第８２巻、第６号、２０１３年においては、シアノ基やトリアジンなどの電子吸引性の骨格と、カルバゾールやジフェニルアミノ基等の電子供与性の骨格とを導入することで、ＬＵＭＯとＨＯＭＯとをそれぞれ局在化させている。
また、化合物の基底状態と三重項励起状態との分子構造変化を小さくすることも効果的である。構造変化を小さくするための方法としては、例えば、化合物を剛直にすることなどが効果的である。ここで述べる剛直とは、例えば、分子内の環と環との結合における自由回転を抑制することや、π共役面の大きい縮合環を導入するなど、分子内において自由に動ける部位が少ないことを意味する。特に、発光に関与する部位を剛直にすることによって、励起状態における構造変化を小さくすることが可能である。 For example, in “Organic Optoelectronics Reaching the Practical Application Stage,” Applied Physics, Vol. 82, No. 6, 2013, the LUMO and HOMO are each localized by introducing an electron-withdrawing skeleton such as a cyano group or triazine, and an electron-donating skeleton such as a carbazole or diphenylamino group.
It is also effective to reduce the molecular structure change between the ground state and the triplet excited state of the compound. For example, making the compound rigid is an effective method for reducing the structural change. The term "rigid" as used here means that there are few sites that can move freely within the molecule, for example, by suppressing free rotation at the bonds between rings in the molecule or by introducing a condensed ring with a large π-conjugated surface. In particular, it is possible to reduce the structural change in the excited state by making the site involved in light emission rigid.

（発光性ドーパント）
本発明に用いられる発光性ドーパントとしては、蛍光発光性化合物とリン光発光性化合物が好ましく用いられる。本発明においては、発光性ドーパントが発光層中に、５～８０質量％の範囲内で含有し、特に、２０～４０質量％の範囲内で含有することが好ましい。 (Light-emitting dopant)
As the light-emitting dopant used in the present invention, a fluorescent compound and a phosphorescent compound are preferably used. In the present invention, the light-emitting dopant is contained in the light-emitting layer in an amount of 5 to 80% by mass, and more preferably in an amount of 20 to 40% by mass.

発光層中の発光性化合物の濃度については、使用される特定の発光性化合物及びデバイスの必要条件に基づいて、任意に決定することができる。
また、本発明で用いられる発光性化合物は、複数種を併用して用いてもよく、構造の異なる蛍光発光性化合物同士の組み合わせや、蛍光発光性化合物とリン光発光性化合物とを組み合わせて用いてもよい。これにより、任意の発光色を得ることができる。 The concentration of the emissive compound in the light-emitting layer can be determined at any level based on the particular emissive compound used and the requirements of the device.
In addition, the light-emitting compounds used in the present invention may be used in combination of a plurality of types, or may be used in combination of fluorescent compounds having different structures, or in combination of a fluorescent compound and a phosphorescent compound, thereby making it possible to obtain any emission color.

本発明の有機ＥＬ素子や本発明に用いられる化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」（日本色彩学会編、東京大学出版会、１９８５）の１０８頁の図３．１６において、分光放射輝度計ＣＳ－１０００（コニカミノルタ（株）製）で測定した結果をＣＩＥ色度座標に当てはめたときの色で決定される。
本発明においては、ベース層中の複数の発光層が、発光色の異なる複数の発光性ドーパントを含有することが好ましい。すなわち、３色以上の発光画素で形成されることが好ましく、白色発光を示すことも好ましい。
白色を示す発光性化合物の組み合わせについては特に限定はないが、例えば青と橙や、青と緑と赤の組合わせ等が挙げられる。
本発明の有機ＥＬ素子における白色とは、２度視野角正面輝度を前述の方法により測定した際に、１０００ｃｄ／ｍ２でのＣＩＥ１９３１表色系における色度がｘ＝０．３９±０．０９、ｙ＝０．３８±０．０８の領域内にあることが好ましい。 The color of light emitted by the organic EL element of the present invention or the compound used in the present invention is determined by the color obtained by applying the results of measurement using a spectroradiometer CS-1000 (manufactured by Konica Minolta, Inc.) to the CIE chromaticity coordinates in FIG. 3.16 on page 108 of "New Color Science Handbook" (edited by the Color Science Association of Japan, published by the University of Tokyo Press, 1985).
In the present invention, it is preferable that the plurality of light-emitting layers in the base layer contain a plurality of light-emitting dopants that emit light of different colors. That is, it is preferable that the base layer is formed of light-emitting pixels of three or more colors, and it is also preferable that the base layer emits white light.
The combination of luminescent compounds that exhibit white color is not particularly limited, but examples include combinations of blue and orange, and blue, green and red.
In the organic EL element of the present invention, the white color is preferably such that the chromaticity in the CIE 1931 color system at 1000 cd/m2 is within the range of x=0.39±0.09, y=0.38±0.08 when the 2 -degree viewing angle front luminance is measured by the above-mentioned method.

（蛍光発光性化合物）
蛍光発光性化合物は、上述の特定の有機化合物を用いてもよいし、有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知の蛍光発光性化合物や遅延蛍光を発する化合物（遅延蛍光発光性化合物）の中から適宜選択して用いてもよい。 (Fluorescent Compound)
The fluorescent compound may be the specific organic compound described above, or may be appropriately selected from known fluorescent compounds and compounds that emit delayed fluorescence (delayed fluorescent compounds) used in the light-emitting layer of an organic EL device.

本発明に使用できる公知の蛍光性化合物の例としては、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、クリセン誘導体、フルオランテン誘導体、ペリレン誘導体、フルオレン誘導体、アリールアセチレン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、スチリルアミン誘導体、アリールアミン誘導体、ホウ素錯体、クマリン誘導体、ピラン誘導体、シアニン誘導体、クロコニウム誘導体、スクアリウム誘導体、オキソベンツアントラセン誘導体、フルオレセイン誘導体、ローダミン誘導体、ピリリウム誘導体、ペリレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、又は希土類錯体系化合物等が挙げられる。 Examples of known fluorescent compounds that can be used in the present invention include anthracene derivatives, pyrene derivatives, chrysene derivatives, fluoranthene derivatives, perylene derivatives, fluorene derivatives, arylacetylene derivatives, styrylarylene derivatives, styrylamine derivatives, arylamine derivatives, boron complexes, coumarin derivatives, pyran derivatives, cyanine derivatives, croconium derivatives, squarium derivatives, oxobenzanthracene derivatives, fluorescein derivatives, rhodamine derivatives, pyrylium derivatives, perylene derivatives, polythiophene derivatives, and rare earth complex compounds.

遅延蛍光を発する化合物（遅延蛍光発光性化合物及び熱活性型遅延蛍光化合物）の例としては、国際公開第２０１１／１５６７９３号、特開２０１１－２１３６４３号公報、特開２０１０－９３１８１号公報、特許５３６６１０６号、国際公開第２０１３／１６１４３７号、国際公開第２０１６／１５８５４０号等に記載の化合物が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。 Examples of compounds that emit delayed fluorescence (delayed fluorescent compounds and thermally activated delayed fluorescent compounds) include compounds described in WO 2011/156793, JP 2011-213643, JP 2010-93181, Japanese Patent No. 5366106, WO 2013/161437, WO 2016/158540, etc., but the present invention is not limited to these.

上記の熱活性型遅延蛍光化合物として、下記一般式（１）～（６）で表される構造を有する化合物が好ましい。 As the thermally activated delayed fluorescent compound, compounds having structures represented by the following general formulas (1) to (6) are preferred.

Figure 0007463833000001
Figure 0007463833000001

［一般式（１）において、Ａｒ１～Ａｒ３は、各々独立に、置換又は無置換のアリール基を表し、少なくとも１つは下記一般式（２）で表される構造を有する基で置換されたアリール基を表す。］ [In general formula (1), Ar 1 to Ar 3 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, and at least one of them represents an aryl group substituted with a group having a structure represented by the following general formula (2)]

Figure 0007463833000002
Figure 0007463833000002

［一般式（２）において、Ｒ１～Ｒ８は、各々独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｚは、Ｏ、Ｓ、Ｏ＝Ｃ、Ａｒ４－Ｎ、又は化学結合を表す。Ａｒ４は、置換又は無置換のアリール基を表す。Ｒ１～Ｒ８のうち隣り合う基同士は、互いに結合を形成、又は、連結基を介して環を形成してもよい。］ [In general formula (2), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Z represents O, S, O═C, Ar 4 —N, or a chemical bond. Ar 4 represents a substituted or unsubstituted aryl group. Adjacent groups among R 1 to R 8 may form a bond with each other or form a ring via a linking group.]

Figure 0007463833000003
Figure 0007463833000003

［一般式（３）において、Ｒ１～Ｒ５の少なくとも１つは、シアノ基を表し、Ｒ１～Ｒ５の少なくとも１つは下記一般式（４）で表される構造を有する基を表し、残りのＲ１～Ｒ５は水素原子又は置換基を表す。］ [In the general formula (3), at least one of R 1 to R 5 represents a cyano group, at least one of R 1 to R 5 represents a group having a structure represented by the following general formula (4), and the remaining R 1 to R 5 represent a hydrogen atom or a substituent.]

Figure 0007463833000004
Figure 0007463833000004

［一般式（４）において、Ｒ２１～Ｒ２８は、各々独立に、水素原子又は置換基を表す。ただし、下記要件（Ａ）又は（Ｂ）の少なくとも一方を満たす。
要件（Ａ）：Ｒ２５及びＲ２６は、単結合を形成する。
要件（Ｂ）：Ｒ２７及びＲ２８は、置換又は無置換のベンゼン環を形成するのに必要な原子団を表す。］ In the general formula (4), R 21 to R 28 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, provided that at least one of the following requirements (A) or (B) is satisfied:
Requirement (A): R 25 and R 26 form a single bond.
Requirement (B): R 27 and R 28 each represent an atomic group necessary to form a substituted or unsubstituted benzene ring.

Figure 0007463833000005
Figure 0007463833000005

［一般式（５）において、Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、下記一般式（６）で表される構造を有する基を表す。］ [In the general formula (5), R 1 and R 2 each independently represent a group having a structure represented by the following general formula (6)]

Figure 0007463833000006
Figure 0007463833000006

［一般式（６）において、Ｒ１～Ｒ８は、各々独立に、水素原子又は置換基を表す。Ｚは、Ｏ、Ｓ、Ｏ＝Ｃ、Ａｒ４－Ｎ、又は結合を表す。Ａｒ４は、置換又は無置換のアリール基を表す。Ｒ１～Ｒ８のうち隣り合う基同士は、互いに結合を形成、又は、連結基を介して環を形成してもよい。］ [In general formula (6), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or a substituent. Z represents O, S, O═C, Ar 4 —N, or a bond. Ar 4 represents a substituted or unsubstituted aryl group. Adjacent groups among R 1 to R 8 may form a bond with each other or form a ring via a linking group.]

以下にＴＡＤＦ性化合物を例に挙げるが、本発明はこれに限定されない。 The following are examples of TADF compounds, but the present invention is not limited to these.

Figure 0007463833000007
Figure 0007463833000007

Figure 0007463833000008
Figure 0007463833000008

Figure 0007463833000009
Figure 0007463833000009

（リン光発光性ドーパント）
本発明に用いられるリン光発光性ドーパントは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には、室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は０．１以上である。
上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光ＩＩの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明に用いられるリン光発光性ドーパントは、任意の溶媒のいずれかにおいて上記リン光量子収率（０．０１以上）が達成されればよい。 (Phosphorescent Dopant)
The phosphorescent dopant used in the present invention is a compound in which light emission from an excited triplet state is observed, and specifically, is defined as a compound that emits phosphorescence at room temperature (25° C.) and has a phosphorescence quantum yield of 0.01 or more at 25° C., with the phosphorescence quantum yield being preferably 0.1 or more.
The phosphorescence quantum yield can be measured by the method described in page 398 of Spectroscopy II in Experimental Chemistry Lectures 7, 4th Edition (1992 edition, Maruzen). The phosphorescence quantum yield in a solution can be measured using various solvents, but the phosphorescent dopant used in the present invention may be any solvent that achieves the phosphorescence quantum yield (0.01 or more) in any solvent.

リン光発光性ドーパントは、有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができる。本発明に使用できる公知のリン光発光性ドーパントの具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。
Ｎａｔｕｒｅ ３９５，１５１（１９９８）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７８，１６２２（２００１）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１９，７３９（２００７）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１７，３５３２（２００５）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１７，１０５９（２００５）、国際公開第２００９／１００９９１号、国際公開第２００８／１０１８４２号、国際公開第２００３／０４０２５７号、米国特許出願公開第２００６／８３５４６９号明細書、米国特許出願公開第２００６／０２０２１９４号明細書、米国特許出願公開第２００７／００８７３２１号明細書、米国特許出願公開第２００５／０２４４６７３号明細書、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４０，１７０４（２００１）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１６，２４８０（２００４）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１６，２００３（２００４）、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．２００６，４５，７８００、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．８６，１５３５０５（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．３４，５９２（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．２９０６（２００５）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４２，１２４８（２００３）、国際公開第２００９／０５０２９０号、国際公開第２００２／０１５６４５号、国際公開第２００９／０００６７３号、米国特許出願公開第２００２／００３４６５６号明細書、米国特許第７３３２２３２号、米国特許出願公開第２００９／０１０８７３７号明細書、米国特許出願公開第２００９／００３９７７６号明細書、米国特許第６９２１９１５号、米国特許第６６８７２６６号、米国特許出願公開第２００７／０１９０３５９号明細書、米国特許出願公開第２００６／０００８６７０号明細書、米国特許出願公開第２００９／０１６５８４６号明細書、米国特許出願公開第２００８／００１５３５５号明細書、米国特許第７２５０２２６号、米国特許第７３９６５９８号、米国特許出願公開第２００６／０２６３６３５号明細書、米国特許出願公開第２００３／０１３８６５７号明細書、米国特許出願公開第２００３／０１５２８０２号明細書、米国特許第７０９０９２８号、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．４７，１（２００８）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１８，５１１９（２００６）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４６，４３０８（２００７）、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ ２３，３７４５（２００４）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７４，１３６１（１９９９）、国際公開第２００２／００２７１４号、国際公開第２００６／００９０２４号、国際公開第２００６／０５６４１８号、国際公開第２００５／０１９３７３号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００７／００４３８０号、国際公開第２００６／０８２７４２号、米国特許出願公開第２００６／０２５１９２３号明細書、米国特許出願公開第２００５／０２６０４４１号明細書、米国特許第７３９３５９９号、米国特許第７５３４５０５号、米国特許第７４４５８５５号、米国特許出願公開第２００７／０１９０３５９号明細書、米国特許出願公開第２００８／０２９７０３３号明細書、米国特許第７３３８７２２号、米国特許出願公開第２００２／０１３４９８４号明細書、米国特許第７２７９７０４号、米国特許出願公開第２００６／０９８１２０号明細書、米国特許出願公開第２００６／１０３８７４号明細書、国際公開第２００５／０７６３８０号、国際公開第２０１０／０３２６６３号、国際公開第２００８１４０１１５号、国際公開第２００７／０５２４３１号、国際公開第２０１１／１３４０１３号、国際公開第２０１１／１５７３３９号、国際公開第２０１０／０８６０８９号、国際公開第２００９／１１３６４６号、国際公開第２０１２／０２０３２７号、国際公開第２０１１／０５１４０４号、国際公開第２０１１／００４６３９号、国際公開第２０１１／０７３１４９号、米国特許出願公開第２０１２／２２８５８３号明細書、米国特許出願公開第２０１２／２１２１２６号明細書、特開２０１２－０６９７３７号公報、特願２０１１－１８１３０３号公報、特開２００９－１１４０８６号公報、特開２００３－８１９８８号公報、特開２００２－３０２６７１号公報、特開２００２－３６３５５２号公報等である。
中でも、好ましいリン光発光性ドーパントとしてはＩｒを中心金属に有する有機金属錯体が挙げられる。さらに好ましくは、金属－炭素結合、金属－窒素結合、金属－酸素結合、金属－硫黄結合の少なくとも一つの配位様式を含む錯体が好ましい。 The phosphorescent dopant can be appropriately selected from known dopants used in the light-emitting layer of an organic EL device. Specific examples of known phosphorescent dopants that can be used in the present invention include compounds described in the following documents:
Nature 395,151 (1998), Appl. Phys. Lett. 78,1622 (2001), Adv. Mater. 19,739 (2007), Chem. Mater. 17,3532 (2005), Adv. Mater. 17,1059 (2005), WO 2009/100991, WO 2008/101842, WO 2003/040257, U.S. Patent Application Publication No. 2006/835469, U.S. Patent Application Publication No. 2006/0202194, U.S. Patent Application Publication No. 2007/0087321, U.S. Patent Application Publication No. 2005/0244673, Inorg. Chem. 40, 1704 (2001), Chem. Mater. 16, 2480 (2004), Adv. Mater. 16, 2003 (2004), Angew. Chem. lnt. Ed. 2006, 45, 7800, Appl. Phys. Lett. 86, 153505 (2005), Chem. Lett. 34, 592 (2005), Chem. Commun. 2906 (2005), Inorg. Chem. 42,1248 (2003), International Publication No. 2009/050290, International Publication No. 2002/015645, International Publication No. 2009/000673, U.S. Patent Application Publication No. 2002/0034656, U.S. Patent No. 7,332,232, U.S. Patent Application Publication No. 2009/0108737, U.S. Patent Application Publication No. 2009/0039776, U.S. Patent No. 6,921,915, U.S. Patent No. 6,687,266, U.S. Patent Application Publication No. 2007/0190359 No. 2006/0008670, U.S. Patent Application Publication No. 2009/0165846, U.S. Patent Application Publication No. 2008/0015355, U.S. Patent No. 7,250,226, U.S. Patent No. 7,396,598, U.S. Patent Application Publication No. 2006/0263635, U.S. Patent Application Publication No. 2003/0138657, U.S. Patent Application Publication No. 2003/0152802, U.S. Patent No. 7,090,928, Angew. Chem. lnt. Ed. 47,1 (2008), Chem. Mater. 18,5119 (2006), Inorg. Chem. 46, 4308 (2007), Organometallics 23, 3745 (2004), Appl. Phys. Lett. 74, 1361 (1999), International Publication No. WO 2002/002714, International Publication No. WO 2006/009024, International Publication No. WO 2006/056418, International Publication No. WO 2005/019373, International Publication No. WO 2005/123873, International Publication No. WO 2005/123873, International Publication No. WO 2007/004380, International Publication No. WO 2006/082742, U.S. Patent Application Publication No. WO 2006/0251923, U.S. Patent Application Publication No. WO 2007/004380, WO 2006/082742, U.S. Patent Application Publication No. WO 2007/004380, WO 2007 ... No. 7,393,599, No. 7,534,505, No. 7,445,855, U.S. Patent Application Publication No. 2007/0190359, U.S. Patent Application Publication No. 2008/0297033, U.S. Patent No. 7,338,722, U.S. Patent Application Publication No. 2002/0134,984, U.S. Patent No. 7,279,704, U.S. Patent Application Publication No. 2006/098120, U.S. Patent Application Publication No. 2006/103874, WO 2005/076380, WO 2010/032663, WO 2008140115, WO 2007/052431, WO 2011/134013, WO 2011/157339, WO 2010/086089, WO 2009/113646, WO 2012/020327, WO 2011/0514 No. 04, International Publication No. 2011/004639, International Publication No. 2011/073149, U.S. Patent Application Publication No. 2012/228583, U.S. Patent Application Publication No. 2012/212126, JP 2012-069737 A, Japanese Patent Application No. 2011-181303 A, JP 2009-114086 A, JP 2003-81988 A, JP 2002-302671 A, JP 2002-363552 A, and the like.
Among them, preferred phosphorescent dopants include organometallic complexes having Ir as a central metal, and more preferred are complexes having at least one of the coordination modes of a metal-carbon bond, a metal-nitrogen bond, a metal-oxygen bond, and a metal-sulfur bond.

（ホスト化合物）
本発明に係るベース層（発光層及び非発光層）に用いられる非発光材料であるホスト化合物は、発光層においては主に発光性化合物の分散及び電荷の移動（キャリア）を担う化合物であり、有機ＥＬ素子においてそれ自体の発光は実質的に観測されない。
ホスト化合物は、単独で用いてもよく、又は複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することができる。 (Host Compound)
The host compound, which is a non-emissive material used in the base layer (emissive layer and non-emissive layer) according to the present invention, is a compound that mainly disperses the emissive compound and transfers charges (carriers) in the emissive layer, and does not substantially emit light by itself in the organic EL element.
The host compound may be used alone or in combination of two or more kinds. By using two or more kinds of host compounds, it is possible to adjust the charge transfer and to improve the efficiency of the organic EL element.

ホスト化合物としては、逆エネルギー移動の観点からは、発光性ドーパントの励起一重項エネルギーより大きな励起エネルギーをもつものが好ましく、さらに発光性ドーパントの励起三重項エネルギーより大きな励起三重項エネルギーをもつものがより好ましい。 From the viewpoint of reverse energy transfer, the host compound is preferably one having an excitation energy larger than the excited singlet energy of the light-emitting dopant, and more preferably one having an excitation triplet energy larger than the excited triplet energy of the light-emitting dopant.

ホスト化合物は、駆動安定性の観点から、カチオンラジカル状態、アニオンラジカル状態、及び励起状態の全ての活性種の状態において安定に存在でき、分解や付加反応などの化学変化を起こさないこと、さらに、層中において通電経時でホスト分子がオングストロームレベルで移動しないことが好ましい。
本発明に用いることができるホスト化合物としては、特に制限はなく、従来有機ＥＬ素子で用いられる化合物を用いることができる。代表的にはカルバゾール誘導体、トリアリールアミン誘導体、芳香族誘導体、含窒素複素環化合物、チオフェン誘導体、フラン誘導体、オリゴアリーレン化合物等の基本骨格を有するもの、又は、カルボリン誘導体やジアザカルバゾール誘導体（ここで、ジアザカルバゾール誘導体とは、カルボリン誘導体のカルボリン環を構成する炭化水素環の少なくとも一つの炭素原子が窒素原子で置換されているものを表す。）等が挙げられる。 From the viewpoint of driving stability, it is preferable that the host compound can exist stably in all active species states, such as a cation radical state, an anion radical state, and an excited state, does not undergo chemical changes such as decomposition or addition reaction, and further that the host molecules do not move at the angstrom level in the layer over time as a current is applied.
The host compound that can be used in the present invention is not particularly limited, and can be a compound that is conventionally used in an organic EL element. Representative examples include compounds having a basic skeleton such as carbazole derivatives, triarylamine derivatives, aromatic derivatives, nitrogen-containing heterocyclic compounds, thiophene derivatives, furan derivatives, and oligoarylene compounds, as well as carboline derivatives and diazacarbazole derivatives (here, the diazacarbazole derivative refers to a carboline derivative in which at least one carbon atom of a hydrocarbon ring constituting the carboline ring is substituted with a nitrogen atom).

本発明に用いることができる公知のホスト化合物としては正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、かつ、発光の長波長化を防ぎ、なおかつ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。
また、本発明においては、従来公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、又は複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することができる。また、従来公知の化合物を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。 As the known host compound that can be used in the present invention, a compound that has hole transporting ability and electron transporting ability, prevents the emission wavelength from becoming longer, and has a high Tg (glass transition temperature) is preferable.
In the present invention, a conventionally known host compound may be used alone or in combination. By using a plurality of host compounds, it is possible to adjust the charge transfer, and the efficiency of the organic EL element can be increased. In addition, by using a plurality of conventionally known compounds, it is possible to mix different emissions, and thus an arbitrary emission color can be obtained.

また、本発明に用いられるホスト化合物としては、低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（重合性ホスト化合物）でもよく、このような化合物を１種又は複数種用いても良い。 The host compound used in the present invention may be a low molecular weight compound, a high molecular weight compound having a repeating unit, or a low molecular weight compound (polymerizable host compound) having a polymerizable group such as a vinyl group or an epoxy group, and one or more of such compounds may be used.

本発明の有機ＥＬ素子に公知のホスト化合物を用いる場合、その具体例としては、以下の文献に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
特開２００１－２５７０７６号公報、同２００２－３０８８５５号公報、同２００１－３１３１７９号公報、同２００２－３１９４９１号公報、同２００１－３５７９７７号公報、同２００２－３３４７８６号公報、同２００２－８８６０号公報、同２００２－３３４７８７号公報、同２００２－１５８７１号公報、同２００２－３３４７８８号公報、同２００２－４３０５６号公報、同２００２－３３４７８９号公報、同２００２－７５６４５号公報、同２００２－３３８５７９号公報、同２００２－１０５４４５号公報、同２００２－３４３５６８号公報、同２００２－１４１１７３号公報、同２００２－３５２９５７号公報、同２００２－２０３６８３号公報、同２００２－３６３２２７号公報、同２００２－２３１４５３号公報、同２００３－３１６５号公報、同２００２－２３４８８８号公報、同２００３－２７０４８号公報、同２００２－２５５９３４号公報、同２００２－２６０８６１号公報、同２００２－２８０１８３号公報、同２００２－２９９０６０号公報、同２００２－３０２５１６号公報、同２００２－３０５０８３号公報、同２００２－３０５０８４号公報、同２００２－３０８８３７号公報、、同２０１６－１７８２７４号公報、米国特許出願公開第２００３／０１７５５５３号、米国特許出願公開第２００６／０２８０９６５号、米国特許出願公開第２００５／０１１２４０７号、米国特許出願公開第２００９／００１７３３０号、米国特許出願公開第２００９／００３０２０２号、米国特許出願公開第２００５／０２３８９１９号、国際公開第２００１／０３９２３４号、国際公開第２００９／０２１１２６号、国際公開第２００８／０５６７４６号、国際公開第２００４／０９３２０７号、国際公開第２００５／０８９０２５号、国際公開第２００７／０６３７９６号、国際公開第２００７／０６３７５４号、国際公開第２００４／１０７８２２号、国際公開第２００５／０３０９００号、国際公開第２００６／１１４９６６号、国際公開第２００９／０８６０２８号、国際公開第２００９／００３８９８号、国際公開第２０１２／０２３９４７号、特開２００８－０７４９３９号公報、特開２００７－２５４２９７号公報、欧州特許第２０３４５３８号明細書、国際公開第２０１１／０５５９３３号、国際公開第２０１２／０３５８５３号、特開２０１５－３８９４１号公報、米国特許出願公開第２０１７／０５６８１４号である。 When a known host compound is used in the organic EL device of the present invention, specific examples thereof include compounds described in the following documents, but the present invention is not limited thereto.
JP-A-2001-257076, JP-A-2002-308855, JP-A-2001-313179, JP-A-2002-319491, JP-A-2001-357977, JP-A-2002-334786, JP-A-2002-8860, JP-A-2002-334787, No. 2002-15871, No. 2002-334788, No. 2002-43056, No. 2002-334789, No. 2002-75645, No. 2002-338579, No. 2002-105445, No. 2002-343568, No. 20 No. 02-141173, No. 2002-352957, No. 2002-203683, No. 2002-363227, No. 2002-231453, No. 2003-3165, No. 2002-234888, No. 2003-27048, No. 2002- No. 255934, No. 2002-260861, No. 2002-280183, No. 2002-299060, No. 2002-302516, No. 2002-305083, No. 2002-305084, No. 2002-308837, No. 2016 US Patent Application Publication No. 2003/0175553, US Patent Application Publication No. 2006/0280965, US Patent Application Publication No. 2005/0112407, US Patent Application Publication No. 2009/0017330, US Patent Application Publication No. 2009/0030202, US Patent Application Publication No. 2005/0238919, International Publication No. 2001/039234, International Publication No. 2009/021126, International Publication No. 2008/056746, International Publication No. 2004/093207, International Publication No. 2005/089025, International Publication No. 2007/063796 No. , WO 2007/063754, WO 2004/107822, WO 2005/030900, WO 2006/114966, WO 2009/086028, WO 2009/003898, WO 2012/023947, JP 2008-074939 A, JP 2007-254297 A, EP 2034538 A, WO 2011/055933, WO 2012/035853, JP 2015-38941 A, and U.S. Patent Application Publication No. 2017/056814.

その中でも本発明のホスト化合物としては、非ハロゲン溶媒にも溶解するホスト化合物が好ましく、エステル系溶媒であることがさらに好ましい。ベース層の下に層を設けた場合に、ハロゲン溶媒であるとその下層を溶解してしまう問題があるからである。また、ホスト化合物の分子量としては、１０００以下であると溶解しやすいために好ましい。 Among these, the host compound of the present invention is preferably a host compound that dissolves in non-halogenated solvents, and more preferably an ester-based solvent. This is because if a layer is provided below the base layer, a halogenated solvent may cause the underlying layer to dissolve. In addition, the molecular weight of the host compound is preferably 1000 or less, as it is easily soluble.

＜ホスト化合物のＬＵＭＯ＞
本発明に係る発光層は、前記ホスト化合物のＬＵＭＯと前記発光ドーパントのＬＵＭＯとのエネルギー準位の差が、±０．４ｅＶ以内である発光ドーパントを、２種以上含有することが電子のトラップ準位の形成を防いで発光素子全体の低電圧化につながるだけでなく、複数かつ異なる発光色の発光部を設けた際に、特定の画像部へ電流が集中することなく全画像部をより均一に発光させることができる観点から好ましく、３種以上含有することがより好ましい。 <LUMO of host compound>
The light-emitting layer according to the present invention preferably contains two or more kinds of light-emitting dopants, the difference in energy levels between the LUMO of the host compound and the LUMO of the light-emitting dopant being within ±0.4 eV, from the viewpoints that not only does it prevent the formation of an electron trap level and lead to a reduction in the voltage of the entire light-emitting device, but also that when a plurality of light-emitting portions with different emitting colors are provided, all image portions can emit light more uniformly without current concentrating in a specific image portion, and it is more preferable that the light-emitting layer contains three or more kinds of dopants.

当該算出には、前述の市販のソフトウェアであるＧａｕｓｓｉａｎ社のＧａｕｓｓｉａｎ０９ソフトウェアを用いることができ、計算手法として密度汎関数法（Ｂ３ＬＹＰ）、基底関数として６－３１Ｇ＊を用いて最適化を行った。 For the calculation, the aforementioned commercially available software, Gaussian 09 software from Gaussian Corporation, can be used, and optimization was performed using density functional theory (B3LYP) as the calculation method and 6-31G * as the basis function.

＜ホスト化合物のＨＯＭＯ＞
前記ホスト化合物ＨＯＭＯ）のエネルギー準位が、－５．３ｅＶ以上であることがホール注入障壁やホールトラップを軽減する観点から好ましい。また、前記ホスト化合物のＨＯＭＯのエネルギー準位が、－５．１ｅＶ以上であることがより好ましい。 <HOMO of host compound>
From the viewpoint of reducing a hole injection barrier and a hole trap, the energy level of the HOMO of the host compound is preferably −5.3 eV or more, and more preferably −5.1 eV or more.

当該算出には、同様に前記ソフトウェアであるＧａｕｓｓｉａｎ社のＧａｕｓｓｉａｎ０９ソフトウェアを用いることができる。 The Gaussian 09 software from Gaussian Corporation, which is also the aforementioned software, can be used for this calculation.

＜ホスト化合物のＮ/Ｃ比＞
前記ホスト化合物のＨＯＭＯにおいて、炭素に対する窒素の原子含有比率（Ｎ／Ｃ）が、０．０６以下であることがホスト-ホスト間の相互作用を適度に調整し、オリゴマー形成によるキャリアトラップを抑制できることから、階調制御の観点から好ましい。より好ましくは、０．０３以下である。 <N/C ratio of host compound>
In the HOMO of the host compound, the atomic ratio of nitrogen to carbon (N/C) is preferably 0.06 or less from the viewpoint of gradation control, since it is possible to appropriately adjust the host-host interaction and suppress carrier trapping due to oligomer formation, and more preferably 0.03 or less.

本発明に用いられるホスト化合物としては、以下の一般式で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
［一般式（Ａ）で表される構造を有する化合物］
発光層は、下記一般式（Ａ）で表される構造を有する化合物を含有する塗布液を用いて形成することが好ましい。

Figure 0007463833000010
〔一般式（Ａ）中、Ｘは、Ｏ、Ｓ又はＮＲ９を表す。Ｒ９は、水素原子、重水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリールアルキル基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族炭化水素環基、非芳香族複素環基又は下記一般式（Ｂ）で表される置換基を表す。Ｒ１～Ｒ８は、それぞれ、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アシル基、アミノ基、シリル基、ホスフィンオキシド基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基、非芳香族炭化水素環基、非芳香族複素環基又は下記一般式（Ｂ）で表される置換基を表す。Ｒ１～Ｒ９の少なくとも一つは、下記一般式（Ｂ）で表される置換基を表す。Ｒ１～Ｒ９は、互いに同じであっても異なっていても良く、更に置換基を有していても良い。〕 The host compound used in the present invention is preferably a compound having a structure represented by the following general formula.
[Compound having a structure represented by general formula (A)]
The light-emitting layer is preferably formed using a coating liquid containing a compound having a structure represented by the following general formula (A).
Figure 0007463833000010
 [In the general formula (A), X represents O, S, or NR 9. R 9 represents a hydrogen atom, a deuterium atom, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an arylalkyl group, an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, a non-aromatic hydrocarbon ring group, a non-aromatic heterocyclic group, or a substituent represented by the following general formula (B). R 1 to R 8 each represent a hydrogen atom, a deuterium atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group, an acyl group, an amino group, a silyl group, a phosphine oxide group, an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, a non-aromatic hydrocarbon ring group, a non-aromatic heterocyclic group, or a substituent represented by the following general formula (B). At least one of R 1 to R 9 represents a substituent represented by the following general formula (B). R 1 to R 9 may be the same as or different from each other, and may further have a substituent.]

Figure 0007463833000011
〔一般式（Ｂ）中、Ｌは、それぞれ、アルキレン基、アルケニレン基、ｏ－フェニレン基、ｍ－フェニレン基、ｐ－フェニレン基、アミド基又は二価の芳香族複素環基を表し、更に置換基を有していても良い。ｎは、１～８の整数を表す。ｎが２以上の整数を表す場合、２以上のＬは、互いに同じであっても異なっていても良い。Ｒは、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基、炭素原子数１～２０のフッ化アルキル基、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基又は非芳香族炭化水素環基を表し、更に置換基を有していても良い。ｍは、１～３の整数を表す。Ｌ及びＲのうち少なくとも一つはアルキレン基又はアルキル基を表す。一般式（Ｂ）で表される置換基が複数ある場合、Ｌ及びＲは、互いに同じであっても異なっていても良いが、互いに連結し環を形成することはない。〕
上記一般式（Ａ）において、Ｒ１～Ｒ９で表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、（ｔ）ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ベンジル基等を挙げることができる。
Figure 0007463833000011
 [In the general formula (B), L represents an alkylene group, an alkenylene group, an o-phenylene group, an m-phenylene group, a p-phenylene group, an amide group, or a divalent aromatic heterocyclic group, which may further have a substituent. n represents an integer of 1 to 8. When n represents an integer of 2 or more, two or more Ls may be the same or different from each other. R represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, a fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon ring group, an aromatic heterocyclic group, or a non-aromatic hydrocarbon ring group, which may further have a substituent. m represents an integer of 1 to 3. At least one of L and R represents an alkylene group or an alkyl group. When there are a plurality of substituents represented by the general formula (B), L and R may be the same or different from each other, but do not combine with each other to form a ring.]
In the above general formula (A), examples of the alkyl group represented by R 1 to R 9 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a (t)butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a tetradecyl group, a pentadecyl group, and a benzyl group.

また、Ｒ１～Ｒ９で表されるアルケニル基としては、例えば、上記アルキル基に１個以上の二重結合を有するものが挙げられ、より具体的には、ビニル基、アリル基、１－プロペニル基、イソプロペニル基、２－ブテニル基、１，３－ブタジエニル基、２－ペンテニ
ル基、２－ヘキセニル基等が挙げられる。 Examples of the alkenyl group represented by R 1 to R 9 include those having one or more double bonds in the above-mentioned alkyl group, more specifically, vinyl group, allyl group, 1-propenyl group, isopropenyl group, 2-butenyl group, 1,3-butadienyl group, 2-pentenyl group, 2-hexenyl group, etc.

また、Ｒ１～Ｒ９で表されるアルキニル基としては、例えば、エチニル基、アセチレニル基、１－プロピニル基、２－プロピニル基（プロパルギル基）、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－ペンチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基、１－ヘキシニル基、２－ヘキシニル基、３－ヘキシニル基、１－ヘプチニル基、２－ヘプチニル基、５－ヘプチニル基、１－オクチニル基、３－オクチニル基、５－オクチニル基等が挙げられる。 Examples of the alkynyl group represented by R 1 to R 9 include an ethynyl group, an acetylenyl group, a 1-propynyl group, a 2-propynyl group (propargyl group), a 1-butynyl group, a 2-butynyl group, a 3-butynyl group, a 1-pentynyl group, a 2-pentynyl group, a 3-pentynyl group, a 1-hexynyl group, a 2-hexynyl group, a 3-hexynyl group, a 1-heptynyl group, a 2-heptynyl group, a 5-heptynyl group, a 1-octynyl group, a 3-octynyl group, and a 5-octynyl group.

上記一般式（Ａ）において、Ｒ１～Ｒ９で表される芳香族炭化水素環基（アリール基ともいう。）としては、例えば、フェニル基、ｐ－クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等が挙げられる。 In the above general formula (A), examples of the aromatic hydrocarbon ring group (also referred to as an aryl group) represented by R 1 to R 9 include a phenyl group, a p-chlorophenyl group, a mesityl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, an anthryl group, an azulenyl group, an acenaphthenyl group, a fluorenyl group, a phenanthryl group, an indenyl group, a pyrenyl group, and a biphenylyl group.

また、Ｒ１～Ｒ９で表される芳香族複素環基としては、例えば、ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基（例えば、１，２，４－トリアゾール－１－イル基、１，２，３－トリアゾール－１－イル基等）、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チエニル基、キノリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、インドリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基（前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す。）、キノキサリニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等が挙げられる。 Examples of the aromatic heterocyclic group represented by R 1 to R 9 include a pyridyl group, a pyrimidinyl group, a furyl group, a pyrrolyl group, an imidazolyl group, a benzimidazolyl group, a pyrazolyl group, a pyrazinyl group, a triazolyl group (e.g., a 1,2,4-triazol-1-yl group, a 1,2,3-triazol-1-yl group, etc.), an oxazolyl group, a benzoxazolyl group, a thiazolyl group, an isoxazolyl group, an isothiazolyl group, a furazanyl group, a thienyl group, a quinolyl group, a benzofuryl group, a dibenzofuryl group, a benzothienyl group, a dibenzothienyl group, an indolyl group, a carbazolyl group, a carbolinyl group, a diazacarbazolyl group (representing a group in which one of the carbon atoms constituting the carboline ring of the carbolinyl group is replaced with a nitrogen atom), a quinoxalinyl group, a pyridazinyl group, a triazinyl group, a quinazolinyl group, and a phthalazinyl group.

上記一般式（Ａ）において、Ｒ１～Ｒ９で表される非芳香族炭化水素環基としては、例えば、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、テトラヒドロナフタレン環、９，１０－ジヒドロアントラセン環、ビフェニレン環等から導出される１価の基等が挙げられる。 In the above general formula (A), examples of the non-aromatic hydrocarbon ring group represented by R 1 to R 9 include a cycloalkyl group (e.g., a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.), a cycloalkoxy group (e.g., a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, etc.), a cycloalkylthio group (e.g., a cyclopentylthio group, a cyclohexylthio group, etc.), and monovalent groups derived from a tetrahydronaphthalene ring, a 9,10-dihydroanthracene ring, a biphenylene ring, etc.

また、Ｒ１～Ｒ９で表される非芳香族炭化水素環基としては、例えば、エポキシ環、アジリジン環、チイラン環、オキセタン環、アゼチジン環、チエタン環、テトラヒドロフラン環、ジオキソラン環、ピロリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、オキサゾリジン環、テトラヒドロチオフェン環、スルホラン環、チアゾリジン環、ε－カプロラクトン環、ε－カプロラクタム環、ピペリジン環、ヘキサヒドロピリダジン環、ヘキサヒドロピリミジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピラン環、１，３－ジオキサン環、１，４－ジオキサン環、トリオキサン環、テトラヒドロチオピラン環、チオモルホリン環、チオモルホリン－１，１－ジオキシド環、ピラノース環、ジアザビシクロ［２，２，２］－オクタン環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、オキサントレン環、チオキサンテン環、フェノキサチイン環等から導出される一価の基等が挙げられる。 Examples of the non-aromatic hydrocarbon ring group represented by R 1 to R 9 include an epoxy ring, an aziridine ring, a thiirane ring, an oxetane ring, an azetidine ring, a thietane ring, a tetrahydrofuran ring, a dioxolane ring, a pyrrolidine ring, a pyrazolidine ring, an imidazolidine ring, an oxazolidine ring, a tetrahydrothiophene ring, a sulfolane ring, a thiazolidine ring, an ε-caprolactone ring, an ε-caprolactam ring, a piperidine ring, a hexahydropyridazine ring, a hexahydropyri Examples of such monovalent groups include those derived from a tetrahydropyran ring, a piperazine ring, a morpholine ring, a tetrahydropyran ring, a 1,3-dioxane ring, a 1,4-dioxane ring, a trioxane ring, a tetrahydrothiopyran ring, a thiomorpholine ring, a thiomorpholine-1,1-dioxide ring, a pyranose ring, a diazabicyclo[2,2,2]-octane ring, a phenoxazine ring, a phenothiazine ring, an oxanthrene ring, a thioxanthene ring, or a phenoxathiin ring.

上記一般式（Ａ）において、Ｒ１～Ｒ８で表されるアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基等が挙げられる。 In the above general formula (A), examples of the alkoxy group represented by R 1 to R 8 include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a pentyloxy group, a hexyloxy group, a 2-ethylhexyloxy group, an octyloxy group, a nonyloxy group, a decyloxy group, an undecyloxy group, a dodecyloxy group, a tridecyloxy group, a tetradecyloxy group, a pentadecyloxy group, a hexadecyloxy group, a heptadecyloxy group, and an octadecyloxy group.

また、Ｒ１～Ｒ８で表されるアシル基としては、例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２－エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニ
ルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等が挙げられる。 Examples of the acyl group represented by R 1 to R 8 include an acetyl group, an ethylcarbonyl group, a propylcarbonyl group, a pentylcarbonyl group, a cyclohexylcarbonyl group, an octylcarbonyl group, a 2-ethylhexylcarbonyl group, a dodecylcarbonyl group, a phenylcarbonyl group, a naphthylcarbonyl group, and a pyridylcarbonyl group.

また、Ｒ１～Ｒ８で表されるアミノ基としては、例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２－エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２－ピリジルアミノ基等が挙げられる。 Examples of the amino group represented by R 1 to R 8 include an amino group, an ethylamino group, a dimethylamino group, a butylamino group, a cyclopentylamino group, a 2-ethylhexylamino group, a dodecylamino group, an anilino group, a naphthylamino group, and a 2-pyridylamino group.

また、Ｒ１～Ｒ８で表されるシリル基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、フェニルジエチルシリル基等が挙げられる。 Examples of the silyl group represented by R 1 to R 8 include a trimethylsilyl group, a triisopropylsilyl group, a triphenylsilyl group, and a phenyldiethylsilyl group.

また、Ｒ１～Ｒ８で表されるホスフィンオキシド基としては、例えば、ジフェニルホスフィンオキシド基、ジトリルホスフィンオキシド基、ジメチルホスフィンオキシド基、ジナフチルホスフィンオキシド基、９,１０－ジヒドロ－９－オキサ－１０－ホスファフェ
ナントレン－１０－オキサイド基等を挙げることができる。 Examples of the phosphine oxide group represented by R 1 to R 8 include a diphenylphosphine oxide group, a ditolylphosphine oxide group, a dimethylphosphine oxide group, a dinaphthylphosphine oxide group, and a 9,10-dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide group.

上記一般式（Ａ）において、Ｒ９で表されるアリールアルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、ジフェニルメチル基、１，１－ジフェニルエチル基、１，２－ジフェニルエチル基、トリル基、エチルフェニル基等が挙げられる。 In the above general formula (A), examples of the arylalkyl group represented by R 9 include a benzyl group, a phenethyl group, a diphenylmethyl group, a 1,1-diphenylethyl group, a 1,2-diphenylethyl group, a tolyl group, and an ethylphenyl group.

上記一般式（Ａ）において、Ｒ１～Ｒ９で表される基が更に有していても良い置換基としては、例えば、各々独立に、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、（ｔ）ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ベンジル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素基（アリール基ともいい、例えば、フェニル基、ｐ－クロロフェニル基、メシチル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントリル基、アズレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、フェナントリル基、インデニル基、ピレニル基、ビフェニリル基等）、複素環基（例えば、エポキシ環、アジリジン環、チイラン環、オキセタン環、アゼチジン環、チエタン環、テトラヒドロフラン環、ジオキソラン環、ピロリジン環、ピラゾリジン環、イミダゾリジン環、オキサゾリジン環、テトラヒドロチオフェン環、スルホラン環、チアゾリジン環、ε－カプロラクトン環、ε－カプロラクタム環、ピペリジン環、ヘキサヒドロピリダジン環、ヘキサヒドロピリミジン環、ピペラジン環、モルホリン環、テトラヒドロピラン環、１，３－ジオキサン環、１，４－ジオキサン環、トリオキサン環、テトラヒドロチオピラン環、チオモルホリン環、チオモルホリン１，１－ジオキシド環、ピラノース環、ジアザビシクロ［２，２，２］－オクタン環等）、芳香族複素環基（ピリジル基、ピリミジニル基、フリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピラジニル基、トリアゾリル基（例えば、１，２，４－トリアゾール－１－イル基、１，２，３－トリアゾール－１－イル基等）、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、チアゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チエニル基、キノリル基、ベンゾフリル基、ジベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ジベンゾチエニル基、インドリル基、カルバゾリル基、カルボリニル基、ジアザカルバゾリル基（前記カルボリニル基のカルボリン環を構成する炭素原子の一つが窒素原子で置き換わったものを示す。）、キノキサリニル基、ピリダジニル基、トリアジニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基等）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２－ピリジルアミノスルホニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２－ピリジルアミノウレイド基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２－エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２－エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２－エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２－ピリジルアミノカルボニル基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２－エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２－ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２－エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２－ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２－エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ジアリールアミノ基（例えば、ジフェニルアミノ基、ジナフチルアミノ基、フェニルナフチルアミノ基等）、ナフチルアミノ基、２－ピリジルアミノ基等）、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基、アルキルシリル基又はアリールシリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、（ｔ）ブチルジメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、（ｔ）ブチルジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基、トリナフチルシリル基、２－ピリジルシリル基等）、アルキルホスフィノ基又はアリールホスフィノ基（ジメチルホスフィノ基、ジエチルホスフィノ基、ジシクロヘキシルホスフィノ基、メチルフェニルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、ジナフチルホスフィノ基、ジ（２－ピリジル）ホスフィノ基）、アルキルホスホリル基又はアリールホスホリル基（ジメチルホスホリル基、ジエチルホスホリル基、ジシクロヘキシルホスホリル基、メチルフェニルホスホリル基、ジフェニルホスホリル基、ジナフチルホスホリル基、ジ（２－ピリジル）ホスホリル基）、アルキルチオホスホリル基又はアリールチオホスホリル基（ジメチルチオホスホリル基、ジエチルチオホスホリル基、ジシクロヘキシルチオホスホリル基、メチルフェニルチオホスホリル基、ジフェニルチオホスホリル基、ジナフチルチオホスホリル基、ジ（２－ピリジル）チオホスホリル基）から選ばれるいずれかの基を表す。なお、これらの置換基は更に上記の置換基によって置換されていても良いし、また、それらが互いに縮合して更に環を形成していても良い。 In the above general formula (A), examples of the substituents that the groups represented by R 1 to R 9 may further have independently include an alkyl group (e.g., a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a (t)butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a tetradecyl group, a pentadecyl group, a benzyl group, etc.), a cycloalkyl group (e.g., a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group (e.g., a vinyl group, an allyl group, etc.), an alkynyl group (e.g., a propoxy group, etc.), an aryl group (e.g., a phenyl ... lopargyl group, etc.), aromatic hydrocarbon groups (also called aryl groups, for example, phenyl group, p-chlorophenyl group, mesityl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, anthryl group, azulenyl group, acenaphthenyl group, fluorenyl group, phenanthryl group, indenyl group, pyrenyl group, biphenylyl group, etc.), heterocyclic groups (for example, epoxy ring, aziridine ring, thiirane ring, oxetane ring, azetidine ring, thietane ring, tetrahydrofuran ring, dioxolane ring, Pyrrolidine ring, pyrazolidine ring, imidazolidine ring, oxazolidine ring, tetrahydrothiophene ring, sulfolane ring, thiazolidine ring, ε-caprolactone ring, ε-caprolactam ring, piperidine ring, hexahydropyridazine ring, hexahydropyrimidine ring, piperazine ring, morpholine ring, tetrahydropyran ring, 1,3-dioxane ring, 1,4-dioxane ring, trioxane ring, tetrahydrothiopyran ring, thiomorpholine ring, thiomorpholine 1, 1-dioxide ring, pyranose ring, diazabicyclo[2,2,2]-octane ring, etc.), aromatic heterocyclic groups (pyridyl group, pyrimidinyl group, furyl group, pyrrolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group, pyrazolyl group, pyrazinyl group, triazolyl group (e.g., 1,2,4-triazol-1-yl group, 1,2,3-triazol-1-yl group, etc.), oxazolyl group, benzoxazolyl group, thiazolyl group, isoxazolyl group, isothiazolyl group, Furazanyl group, thienyl group, quinolyl group, benzofuryl group, dibenzofuryl group, benzothienyl group, dibenzothienyl group, indolyl group, carbazolyl group, carbolinyl group, diazacarbazolyl group (representing a group in which one of the carbon atoms constituting the carboline ring of the carbolinyl group is replaced with a nitrogen atom), quinoxalinyl group, pyridazinyl group, triazinyl group, quinazolinyl group, phthalazinyl group, etc.), halogen atom (e.g., chlorine atom, bromine atom, iodine atom, fluorine atom, etc.), alkoxy group (e.g., methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, octyloxy group, dodecyloxy group, etc.), cycloalkoxy group (e.g., cyclopentyloxy group, cyclohexyloxy group, etc.), aryloxy group (e.g., phenoxy group, naphthyloxy group, etc.), alkylthio group (e.g., methylthio group, ethylthio group, propylthio group, pentylthio group, hexylthio group, group, octylthio group, dodecylthio group, etc.), cycloalkylthio group (for example, cyclopentylthio group, cyclohexylthio group, etc.), arylthio group (for example, phenylthio group, naphthylthio group, etc.), alkoxycarbonyl group (for example, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, octyloxycarbonyl group, dodecyloxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (for example, phenyloxycarbonyl group, naphthyloxycarbonyl group, etc.), sulfamoyl group (for example, aminosulfonyl group, methylaminosulfonyl group, dimethylaminosulfonyl group, butylaminosulfonyl group, hexylaminosulfonyl group, cyclohexylaminosulfonyl group, octylaminosulfonyl group, dodecylaminosulfonyl group, phenylaminosulfonyl group, naphthylaminosulfonyl group, 2-pyridylaminosulfonyl group, etc.), ureido group (for example, methylurethane group, ureido group, ethylureido group, pentylureido group, cyclohexylureido group, octylureido group, dodecylureido group, phenylureido group, naphthylureido group, 2-pyridylaminoureido group, etc.), acyl group (for example, acetyl group, ethylcarbonyl group, propylcarbonyl group, pentylcarbonyl group, cyclohexylcarbonyl group, octylcarbonyl group, 2-ethylhexylcarbonyl group, dodecylcarbonyl group, phenylcarbonyl group, naphthylcarbonyl group, pyridylcarbonyl group, etc.), acyloxy group (for example, acetyloxy group, ethylcarbonyloxy group, butylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group, dodecylcarbonyloxy group, phenylcarbonyloxy group, etc.), amido group (for example, methylcarbonylamino group, ethylcarbonylamino group, dimethylcarbonylamino group, propylcarbonylamino group, pentylcarbonylamino group, cyclohexylcarbonylamino group, carboxylamino group, 2-ethylhexylcarbonylamino group, octylcarbonylamino group, dodecylcarbonylamino group, phenylcarbonylamino group, naphthylcarbonylamino group, etc.), carbamoyl group (for example, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, propylaminocarbonyl group, pentylaminocarbonyl group, cyclohexylaminocarbonyl group, octylaminocarbonyl group, 2-ethylhexylaminocarbonyl group, dodecylaminocarbonyl group, phenylaminocarbonyl group, naphthylaminocarbonyl group, 2-pyridylaminocarbonyl group, etc.), sulfinyl group (for example, methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, butylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, dodecylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, naphthylsulfinyl group, 2-pyridylsulfinyl group, etc.), arylsulfinyl group, ... alkylsulfonyl group or arylsulfonyl group (e.g., methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, butylsulfonyl group, cyclohexylsulfonyl group, 2-ethylhexylsulfonyl group, dodecylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, naphthylsulfonyl group, 2-pyridylsulfonyl group, etc.), amino group (e.g., amino group, ethylamino group, dimethylamino group, butylamino group, cyclopentylamino group, 2-ethylhexylamino group, dodecylamino group, anilino group, diarylamino group (e.g., diphenylamino group, dinaphthylamino group, phenylnaphthylamino group, etc.), naphthylamino group, 2-pyridylamino group, etc.), nitro group, cyano group, hydroxy group, mercapto group, alkylsilyl group or arylsilyl group (e.g., trimethylsilyl group, triethylsilyl group, (t)butyldimethylsilyl group, triisopropylsilyl group, (t)butyldiphenylsilyl group, triphenylsilyl group, group, a trinaphthylsilyl group, a 2-pyridylsilyl group, etc.), an alkylphosphino group or an arylphosphino group (a dimethylphosphino group, a diethylphosphino group, a dicyclohexylphosphino group, a methylphenylphosphino group, a diphenylphosphino group, a dinaphthylphosphino group, a di(2-pyridyl)phosphino group), an alkylphosphoryl group or an arylphosphoryl group (a dimethylphosphoryl group, a diethylphosphoryl group, a dicyclohexylphosphoryl group, a methylphenylphosphoryl group, a diphenylphosphoryl group, a dinaphthylphosphoryl group, a di(2-pyridyl)phosphoryl group), an alkylthiophosphoryl group or an arylthiophosphoryl group (a dimethylthiophosphoryl group, a diethylthiophosphoryl group, a dicyclohexylthiophosphoryl group, a methylphenylthiophosphoryl group, a diphenylthiophosphoryl group, a dinaphthylthiophosphoryl group, a di(2-pyridyl)thiophosphoryl group). These substituents may be further substituted with the above-mentioned substituents, and may be condensed with each other to form a ring.

上記一般式（Ｂ）において、Ｌで表されるアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ブタン－１，２－ジイル基、ヘキシレン基等が挙げられる。 In the above general formula (B), examples of the alkylene group represented by L include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a propylene group, a butylene group, a butane-1,2-diyl group, and a hexylene group.

また、Ｌで表されるアルケニレン基としては、例えば、ビニレン基、プロペニレン基、ブテニレン基、ペンテニレン基、１－メチルビニレン基、１－メチルプロペニレン基、２－メチルプロペニレン基、１－メチルペンテニレン基、３－メチルペンテニレン基、１－エチルビニレン基、１－エチルプロペニレン基、１－エチルブテニレン基、３－エチルブテニレン基等が挙げられる。 Alkenylene groups represented by L include, for example, vinylene groups, propenylene groups, butenylene groups, pentenylene groups, 1-methylvinylene groups, 1-methylpropenylene groups, 2-methylpropenylene groups, 1-methylpentenylene groups, 3-methylpentenylene groups, 1-ethylvinylene groups, 1-ethylpropenylene groups, 1-ethylbutenylene groups, and 3-ethylbutenylene groups.

また、Ｌで表されるアミド基としては、例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２－エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルアミノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等が挙げられる。 Examples of the amide group represented by L include a methylcarbonylamino group, an ethylcarbonylamino group, a dimethylcarbonylamino group, a propylcarbonylamino group, a pentylcarbonylamino group, a cyclohexylcarbonylamino group, a 2-ethylhexylcarbonylamino group, an octylcarbonylamino group, a dodecylcarbonylamino group, a phenylcarbonylamino group, and a naphthylcarbonylamino group.

また、Ｌで表される二価の芳香族複素環基としては、例えば、上記一般式（Ａ）においてＲ１～Ｒ９で表される芳香族複素環基として挙げられたものから導出される二価の基が挙げられる。 In addition, examples of the divalent aromatic heterocyclic group represented by L include divalent groups derived from those exemplified as the aromatic heterocyclic groups represented by R 1 to R 9 in the above general formula (A).

上記一般式（Ｂ）において、Ｒで表される炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、上記一般式（Ａ）においてＲ１～Ｒ９で表されるアルキル基として挙げられたもののうち、炭素原子数が１～２０の基が挙げられる。 In the above general formula (B), examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R include groups having 1 to 20 carbon atoms among those exemplified as the alkyl groups represented by R 1 to R 9 in the above general formula (A).

Ｒで表される炭素原子数１～２０のフッ化アルキル基としては、例えば、上記炭素原子数１～２０のアルキル基の水素原子がフッ素原子に置換した基が挙げられる。 Examples of the fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by R include the above alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms in which hydrogen atoms have been replaced with fluorine atoms.

Ｒで表される炭素原子数１～２０のアルコキシ基としては、例えば、上記一般式（Ａ）においてＲ１～Ｒ８で表されるアルコキシ基として挙げられたもののうち、炭素原子数が１～２０の基が挙げられる。 Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms represented by R include the alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms among those exemplified as the alkoxy groups represented by R 1 to R 8 in the above general formula (A).

Ｒで表される芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基又は非芳香族炭化水素環基としては、例えば、上記一般式（Ａ）においてＲ１～Ｒ９で表される芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基又は非芳香族炭化水素環基と同様のものが挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon ring group, aromatic heterocyclic group, or non-aromatic hydrocarbon ring group represented by R include the same as the aromatic hydrocarbon ring group, aromatic heterocyclic group, or non-aromatic hydrocarbon ring group represented by R 1 to R 9 in the above general formula (A).

上記一般式（Ｂ）において、Ｌ及びＲが更に有していても良い置換基としては、例えば、上記一般式（Ａ）においてＲ１～Ｒ９が有していても良い置換基と同様のものが挙げられる。 In the above general formula (B), examples of the substituent that L and R may further have include the same as the substituents that R 1 to R 9 may have in the above general formula (A).

上記一般式（Ａ）で表される構造を有する化合物としては、一般式（Ｂ）で表される置換基のうち、少なくとも一つのＬが炭素原子数１～６のアルキレン基であるものが好ましく、また、一般式（Ｂ）で表される置換基のうち、少なくとも一つのＲが炭素原子数１～６のアルキル基であるものが好ましい。 As a compound having a structure represented by the above general formula (A), it is preferable that, among the substituents represented by the general formula (B), at least one L is an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and it is also preferable that, among the substituents represented by the general formula (B), at least one R is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.

以下、本発明に係る一般式（Ａ）で表される構造を有する化合物の具体例を示すが、これらに限られるものではない。 Specific examples of compounds having a structure represented by general formula (A) according to the present invention are shown below, but are not limited to these.

Figure 0007463833000012
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（絶縁性ポリマー）
本発明に係るベース層（発光層及び非発光層）に用いられる非発光材料である絶縁性ポリマーの「絶縁性」とは、電気抵抗率が１×１０６Ω・ｍ以上であり、好ましくは１×１０８Ω・ｍ以上であり、さらに好ましくは１×１０１０Ω・ｍ以上である。
絶縁性ポリマー単体の電気抵抗率が１×１０６Ω・ｍ以上であることにより、発光層中を流れるリーク電流を抑えることができると考えられる。 (Insulating polymer)
The "insulating" property of the insulating polymer, which is the non-light-emitting material used in the base layer (light-emitting layer and non-light-emitting layer) according to the present invention, means that the electrical resistivity is 1×10 6 Ω·m or more, preferably 1×10 8 Ω·m or more, and more preferably 1×10 10 Ω·m or more.
It is believed that when the electrical resistivity of the insulating polymer alone is 1×10 6 Ω·m or more, the leakage current flowing through the light-emitting layer can be suppressed.

絶縁性ポリマーの種類は、発光性ドーパントとともに発光層を形成可能であれば特に限定されない。一実施形態において、絶縁性ポリマーとしては、安定性がより高い、主鎖が炭素原子で構成されているポリマーが用いられる。 The type of insulating polymer is not particularly limited as long as it can form a light-emitting layer together with the light-emitting dopant. In one embodiment, the insulating polymer is a polymer whose main chain is made of carbon atoms, which is more stable.

絶縁性ポリマーを含む発光層を塗布法により形成できるように、絶縁性ポリマーは可溶性のポリマーであることが好ましく、非プロトン性極性溶媒への溶解性を示すことが好ましい。具体的には、１ｇのＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミドに対する絶縁性ポリマーの２５℃における溶解度は、０．５ｍｇ以上であることが好ましく、１．０ｍｇ以上であることがさらに好ましく、２．０ｍｇ以上であることがより好ましい。 In order to form a light-emitting layer containing an insulating polymer by a coating method, the insulating polymer is preferably a soluble polymer and preferably exhibits solubility in an aprotic polar solvent. Specifically, the solubility of the insulating polymer in 1 g of N,N-dimethylformamide at 25°C is preferably 0.5 mg or more, more preferably 1.0 mg or more, and even more preferably 2.0 mg or more.

絶縁性ポリマーの種類に特段の制限はなく、例えば、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチル、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリビニルピロリドン、ポリビニルポリピロリドン、ポリエチレングリコール、ポリメチルビニルエーテル、ポリイソプロピルアクリルアミド等の非イオン性ポリマー；ポリアクリル酸ナトリウム、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、ポリイソプロピレンスルホン酸ナトリウム、ポリナフタレンスルホン酸縮合体塩、ポリエチレンイミンザンテート塩等のカチオン性ポリマー；ジメチルアミノメチル（メタ）アクリレート四級塩、ジメチルジアリルアンモニウムクロライド、ポリアミジン、ポリビニルイミダゾリン、ジシアンジアミド系縮合体、エピクロルヒドリンジメチルアミン縮合体、ポリエチレンイミン等のアニオン性ポリマー；ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート四級塩アクリル酸共重合体、ポリアクリルアミドのホフマン分解物等の両性ポリマーが挙げられる。好ましくは、ポリスチレン、ポリメタクリル酸メチルである。
絶縁性ポリマーは、２以上の互いに異なる繰り返し単位を含んでいてもよい。 There is no particular limitation on the type of insulating polymer, and examples thereof include nonionic polymers such as polystyrene, polymethylmethacrylate, polyvinyl alcohol, polyacrylamide, polyvinylpyrrolidone, polyvinylpolypyrrolidone, polyethylene glycol, polymethylvinylether, and polyisopropylacrylamide; cationic polymers such as sodium polyacrylate, sodium polystyrenesulfonate, sodium polyisopropylenesulfonate, polynaphthalenesulfonic acid condensate salt, and polyethyleneimine xanthate salt; anionic polymers such as dimethylaminomethyl (meth)acrylate quaternary salt, dimethyldiallylammonium chloride, polyamidine, polyvinylimidazoline, dicyandiamide condensate, epichlorohydrin dimethylamine condensate, and polyethyleneimine; and amphoteric polymers such as dimethylaminoethyl (meth)acrylate quaternary salt acrylic acid copolymer and Hofmann decomposition product of polyacrylamide. Preferably, polystyrene and polymethylmethacrylate.
The insulating polymer may contain two or more different repeat units.

絶縁性ポリマーの重量平均分子量は、特に限定されないが、好ましくは５×１０３以上であり、より好ましくは１０×１０３以上である。また、好ましくは１０００×１０３以下であり、より好ましくは４００×１０３以下である。重量平均分子量がこの範囲にあることにより、発光性ドーパントの拡散を適切に制御できるものと考えられる。 The weight average molecular weight of the insulating polymer is not particularly limited, but is preferably 5×10 3 or more, more preferably 10×10 3 or more. Also, it is preferably 1000×10 3 or less, more preferably 400×10 3 or less. It is considered that the weight average molecular weight within this range allows the diffusion of the luminescent dopant to be appropriately controlled.

（酸化物微粒子）
前記酸化物粒子としては、例えば、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、チタン、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、スズ、バリウム、タンタル等の金属の酸化物を挙げることができる。特に、酸化物粒子は、酸化チタン又は、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化ジルコニウムのいずれかであることが好ましい。
前記酸化物粒子の平均粒径は、１０～２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、特に１０～３０ｎｍの範囲内であることが、ベース層に好適に用いることができるため好ましい。
前記酸化物粒子の平均粒径は、光散乱方式を用いた市販の測定装置を使用して簡便に計測することが可能である。具体的には、ゼータサイザー１０００（マルバーン社製）を用いて、レーザードップラー法により２５℃、サンプル希釈液量１ｍｌにて測定した値を用いることができる。 (Oxide fine particles)
Examples of the oxide particles include oxides of metals such as magnesium, aluminum, silicon, titanium, zinc, yttrium, zirconium, molybdenum, tin, barium, tantalum, etc. In particular, the oxide particles are preferably any one of titanium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, and zirconium oxide.
The average particle size of the oxide particles is preferably within a range of 10 to 200 nm, and particularly preferably within a range of 10 to 30 nm, since the oxide particles can be suitably used for the base layer.
The average particle size of the oxide particles can be easily measured using a commercially available measuring device that uses a light scattering method. Specifically, the value measured by the laser Doppler method using a Zetasizer 1000 (manufactured by Malvern Instruments) at 25° C. and 1 ml of sample dilution solution can be used.

前記酸化物粒子は、ベース層中に５～８０質量％の範囲内で含有されていることが好ましい。 The oxide particles are preferably contained in the base layer in a range of 5 to 80% by mass.

前記酸化チタン微粒子としては、特開昭５９－２２３２３１号公報、特開平１０－２６５２２３号公報、特開２００９－１７９４９７号公報、特開２０１０－０５８０４７号公報、特開２００８－３０３１２６号公報、国際公開第２００１／０１６０２７号等に記載の合成方法や、「酸化チタン－物性と応用技術」（清野学著、技報堂出版（株）、ｐ．２５５～２５８）を参考にして合成することができる。 The titanium oxide fine particles can be synthesized by referring to the synthesis methods described in JP-A-59-223231, JP-A-10-265223, JP-A-2009-179497, JP-A-2010-058047, JP-A-2008-303126, WO 2001/016027, etc., or "Titanium Oxide - Properties and Applications" (by Seino Manabu, Gihodo Publishing Co., Ltd., pp. 255-258).

また、酸化物粒子は、分散液とした場合の分散性や安定性向上の観点から、表面処理を施したものを用いてもよい。
酸化物粒子に表面処理を行う場合において、表面処理の具体的な材料としては、酸化ケイ素や酸化ジルコニウム等の異種無機酸化物、水酸化アルミニウム等の金属水酸化物、オルガノシロキサン、ステアリン酸等の有機酸等が挙げられる。これら表面処理材は、１種を単独で用いてもよく、複数種を組み合わせて用いてもよい。中でも、分散液の安定性の観点から、表面処理材としては、異種無機酸化物及び金属水酸化物のうち少なくとも一方であることが好ましく、金属水酸化物がより好ましい。 The oxide particles may be surface-treated to improve dispersibility and stability when formed into a dispersion.
In the case of performing a surface treatment on oxide particles, specific materials for the surface treatment include heterogeneous inorganic oxides such as silicon oxide and zirconium oxide, metal hydroxides such as aluminum hydroxide, organosiloxanes, organic acids such as stearic acid, etc. These surface treatment materials may be used alone or in combination of two or more. Among them, from the viewpoint of the stability of the dispersion liquid, the surface treatment material is preferably at least one of heterogeneous inorganic oxides and metal hydroxides, and more preferably metal hydroxides.

＜電子輸送層＞
本発明において、「電子輸送層」とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよい。 <Electron Transport Layer>
In the present invention, the "electron transport layer" is made of a material having a function of transporting electrons, and may have a function of transmitting electrons injected from the cathode to the light emitting layer.

本発明の有機ＥＬ素子において、電子輸送層の総膜厚については特に制限はないが、通常は２ｎｍ～５μｍの範囲内であり、より好ましくは２～５００ｎｍの範囲内であり、さらに好ましくは５～２００ｎｍの範囲内である。
本発明では、複数の発光領域のうち、少なくとも一部の発光領域における電子輸送層の厚さが異なることが好ましい。この場合、当該厚さの異なる電子輸送層の厚さは１０～８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。 In the organic EL element of the present invention, the total thickness of the electron transport layer is not particularly limited, but is usually in the range of 2 nm to 5 μm, more preferably in the range of 2 to 500 nm, and further preferably in the range of 5 to 200 nm.
In the present invention, it is preferable that the thickness of the electron transport layer in at least some of the light-emitting regions is different from that in the other light-emitting regions. In this case, the thickness of the electron transport layer having the different thickness is preferably within a range of 10 to 80 nm.

また、有機ＥＬ素子においては、発光層で生じた光を電極から取り出す際、発光層から直接取り出される光と、光を取り出す電極と対極に位置する電極によって反射されてから取り出される光とが干渉を起こすことが知られている。光が陰極で反射される場合は、電子輸送層の総膜厚を数ｎｍ～数μｍの間で適宜調整することにより、この干渉効果を効率的に利用することが可能である。 In addition, in organic EL elements, when light generated in the light-emitting layer is extracted from an electrode, it is known that interference occurs between the light directly extracted from the light-emitting layer and the light that is reflected by the electrode opposite the electrode that extracts the light and then extracted. When light is reflected by the cathode, this interference effect can be efficiently utilized by appropriately adjusting the total film thickness of the electron transport layer to between a few nm and a few μm.

一方で、電子輸送層の膜厚を厚くすると電圧が上昇しやすくなるため、特に膜厚が厚い場合においては、電子輸送層の電子移動度は１０－５ｃｍ２／Ｖｓ以上であることが好ましい。 On the other hand, since increasing the thickness of the electron transport layer makes the voltage more likely to rise, it is preferable that the electron mobility of the electron transport layer is 10 −5 cm 2 /Vs or more, particularly when the layer is thick.

電子輸送層に用いられる材料（以下、「電子輸送材料」という。）としては、電子の注入性又は輸送性、正孔の障壁性のいずれかを有していればよく、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。 The material used in the electron transport layer (hereinafter referred to as "electron transport material") may be any material that has the ability to inject or transport electrons or block holes, and may be selected from among conventionally known compounds.

本発明に係る電子輸送層に適用可能な電子輸送材としては、例えば、含窒素芳香族複素環誘導体（カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体（カルバゾール環を構成する炭素原子の一つ以上が窒素原子に置換されたもの）、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、ピリダジン誘導体、トリアジン誘導体、キノリン誘導体、キノキサリン誘導体、フェナントロリン誘導体、アザトリフェニレン誘導体、オキサゾール誘導体、チアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、チアジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、ベンズオキサゾール誘導体、ベンズチアゾール誘導体等）、ジベンゾフラン誘導体、アザジベンゾフラン誘導体（ジベンゾフラン環を構成する炭素原子の一つ以上が窒素原子に置換されたもの）、ジベンゾチオフェン誘導体、アザジベンゾチオフェン誘導体（ジベンゾチオフェン環を構成する炭素原子の一つ以上が窒素原子に置換されたもの）、シロール誘導体、芳香族炭化水素環誘導体（ナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、トリフェニレン等）等が挙げられる。 Examples of electron transport materials that can be used in the electron transport layer according to the present invention include nitrogen-containing aromatic heterocyclic derivatives (carbazole derivatives, azacarbazole derivatives (one or more of the carbon atoms constituting the carbazole ring are replaced with nitrogen atoms), pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, pyridazine derivatives, triazine derivatives, quinoline derivatives, quinoxaline derivatives, phenanthroline derivatives, azatriphenylene derivatives, oxazole derivatives, thiazole derivatives, oxadiazole derivatives, thiadiazole derivatives, triazole derivatives, benzimidazole derivatives, benzoxazole derivatives, benzothiazole derivatives, etc.), dibenzofuran derivatives, azadibenzofuran derivatives (one or more of the carbon atoms constituting the dibenzofuran ring are replaced with nitrogen atoms), dibenzothiophene derivatives, azadibenzothiophene derivatives (one or more of the carbon atoms constituting the dibenzothiophene ring are replaced with nitrogen atoms), silole derivatives, aromatic hydrocarbon ring derivatives (naphthalene derivatives, anthracene derivatives, triphenylene, etc.), etc.

また、配位子にキノリノール骨格やジベンゾキノリノール骨格を有する金属錯体、例えば、トリス（８－キノリノール）アルミニウム（略称：Ａｌｑ）、トリス（５，７－ジクロロ－８－キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７－ジブロモ－８－キノリノール）アルミニウム、トリス（２－メチル－８－キノリノール）アルミニウム、トリス（５－メチル－８－キノリノール）アルミニウム、ビス（８－キノリノール）亜鉛（略称：Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることができる。 Metal complexes having a quinolinol skeleton or a dibenzoquinolinol skeleton in the ligand, such as tris(8-quinolinol)aluminum (abbreviation: Alq), tris(5,7-dichloro-8-quinolinol)aluminum, tris(5,7-dibromo-8-quinolinol)aluminum, tris(2-methyl-8-quinolinol)aluminum, tris(5-methyl-8-quinolinol)aluminum, bis(8-quinolinol)zinc (abbreviation: Znq), and metal complexes in which the central metal of these metal complexes is replaced with In, Mg, Cu, Ca, Sn, Ga, or Pb can also be used as electron transport materials.

その他、メタルフリー若しくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることができる。また、後述する発光層に適用される有機機能材料であるジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることができし、正孔注入層、正孔輸送層と同様にｎ型－Ｓｉ、ｎ型－ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることができる。 In addition, metal-free or metal phthalocyanine, or those in which the terminals are substituted with alkyl groups or sulfonic acid groups, etc., can also be preferably used as the electron transport material. Distyrylpyrazine derivatives, which are organic functional materials applied to the light-emitting layer described below, can also be used as the electron transport material, and inorganic semiconductors such as n-type Si and n-type SiC can also be used as the electron transport material, as in the hole injection layer and hole transport layer.

また、これらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。 It is also possible to use polymer materials in which these materials have been introduced into the polymer chain or in which these materials form the main chain of the polymer.

本発明に係る電子輸送層においては、電子輸送層にドープ材をゲスト材料としてドープして、ｎ性の高い（電子リッチ）電子輸送層を形成してもよい。ドープ材としては、金属錯体やハロゲン化金属など金属化合物等のｎ型ドーパントが挙げられる。このような構成の電子輸送層の具体例としては、例えば、特開平４－２９７０７６号公報、同１０－２７０１７２号公報、特開２０００－１９６１４０号公報、同２００１－１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等の文献に記載されたものが挙げられる。 In the electron transport layer according to the present invention, a dopant may be doped as a guest material into the electron transport layer to form an electron transport layer having a high n-type (electron-rich) property. Examples of the dopant include n-type dopants such as metal complexes and metal compounds such as metal halides. Specific examples of electron transport layers having such a configuration include those described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 4-297076, 10-270172, 2000-196140, and 2001-102175, and J. Appl. Phys., 95, 5773 (2004), etc.

本発明の有機ＥＬ素子に用いられる、公知の好ましい電子輸送材料の具体例としては、以下の文献に記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。 Specific examples of well-known preferred electron transport materials that can be used in the organic EL element of the present invention include compounds described in the following documents, but the present invention is not limited to these.

米国特許第６５２８１８７号明細書、米国特許第７２３０１０７号明細書、米国特許出願公開第２００５／００２５９９３号明細書、米国特許出願公開第２００４／００３６０７７号明細書、米国特許出願公開第２００９／０１１５３１６号明細書、米国特許出願公開第２００９／０１０１８７０号明細書、米国特許出願公開第２００９／０１７９５５４号明細書、国際公開第２００３／０６０９５６号、国際公開第２００８／１３２０８５号、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７５，４（１９９９）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７９，４４９（２００１）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．８１，１６２（２００２）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．８１，１６２（２００２）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７９，１５６（２００１）、米国特許第７９６４２９３号明細書、米国特許出願公開第２００９／０３０２０２号明細書、国際公開第２００４／０８０９７５号、国際公開第２００４／０６３１５９号、国際公開第２００５／０８５３８７号、国際公開第２００６／０６７９３１号、国際公開第２００７／０８６５５２号、国際公開第２００８／１１４６９０号、国際公開第２００９／０６９４４２号、国際公開第２００９／０６６７７９号、国際公開第２００９／０５４２５３号、国際公開第２０１１／０８６９３５号、国際公開第２０１０／１５０５９３号、国際公開第２０１０／０４７７０７号、欧州特許第２３１１８２６号明細書、特開２０１０－２５１６７５号公報、特開２００９－２０９１３３号公報、特開２００９－１２４１１４号公報、特開２００８－２７７８１０号公報、特開２００６－１５６４４５号公報、特開２００５－３４０１２２号公報、特開２００３－４５６６２号公報、特開２００３－３１３６７号公報、特開２００３－２８２２７０号公報、国際公開第２０１２／１１５０３４号等に記載の化合物を挙げることができる。 U.S. Patent No. 6,528,187, U.S. Patent No. 7,230,107, U.S. Patent Application Publication No. 2005/0025993, U.S. Patent Application Publication No. 2004/0036077, U.S. Patent Application Publication No. 2009/0115316, U.S. Patent Application Publication No. 2009/0101870, U.S. Patent Application Publication No. 2009/0179554, International Publication No. 2003/060956, International Publication No. 2008/132085, Appl. Phys. Lett. 75,4 (1999), Appl. Phys. Lett. 79,449 (2001), Appl. Phys. Lett. 81,162 (2002), Appl. Phys. Lett. 81,162 (2002), Appl. Phys. Lett. 79,156 (2001), U.S. Pat. No. 7,964,293, U.S. Patent Application Publication No. 2009/030202, International Publication No. WO 2004/080975, International Publication No. WO 2004/063159, International Publication No. WO 2005/085387, International Publication No. WO 2006/067931, International Publication No. WO 2007/086552, International Publication No. WO 2008/114690, International Publication No. WO 2009/069442, International Publication No. WO 2009/066779, International Publication No. WO 2009/054253, International Publication No. WO 2011/086935, International Publication No. WO 2012/086936, International Publication No. WO 2011/086938, International Publication No. WO 2011/086939, International Publication No. WO 2011/086939, International Publication No. WO 2011/086935 ... Examples of the compounds include those described in JP 2010/150593, WO 2010/047707, EP 2311826, JP 2010-251675, JP 2009-209133, JP 2009-124114, JP 2008-277810, JP 2006-156445, JP 2005-340122, JP 2003-45662, JP 2003-31367, JP 2003-282270, and WO 2012/115034.

本発明におけるよりより好ましい電子輸送材料としては、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、ピラジン誘導体、トリアジン誘導体、ジベンゾフラン誘導体、アザジベンゾフラン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、アザジベンゾチオフェン誘導体、カルバゾール誘導体、アザカルバゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、及び、これらの組合せでできる化合物が挙げられる。 More preferred electron transport materials in the present invention include pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, pyrazine derivatives, triazine derivatives, dibenzofuran derivatives, azadibenzofuran derivatives, dibenzothiophene derivatives, azadibenzothiophene derivatives, carbazole derivatives, azacarbazole derivatives, benzimidazole derivatives, and compounds formed by combinations of these.

本発明の有機ＥＬ素子の電子輸送層に用いる化合物として好ましい化合物は下記の一般式（７）で表される。

Figure 0007463833000017
A compound preferably used in the electron transport layer of the organic EL device of the present invention is represented by the following general formula (7).
Figure 0007463833000017

一般式（７）中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｘ１～Ｘ１２は、それぞれ独立に、ＣＲ１又は窒素原子を表す。Ｘ５及びＸ７のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ８及びＸ１０のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｒ１は、水素原子又は置換基を表す。 In general formula (7), X represents an oxygen atom or a sulfur atom. X 1 to X 12 each independently represent CR 1 or a nitrogen atom. One of X 5 and X 7 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 8 and X 10 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.

Ｌ１は単なる結合手であるか、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフチル環、アントラセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピリミジン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アザジベンゾフラン環、アザジベンゾチオフェン環、アザカルバゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環を含む二価の連結基を表す。Ｌ１が単なる結合手であるか、置換基を有しないベンゼン環のみの場合は、複数のＲ１のうち少なくとも一つがヘテロアリール基を表すことが好ましい。 L 1 is a simple bond or a divalent linking group containing a benzene ring, a biphenyl ring, a terphenyl ring, a naphthyl ring, an anthracene ring, a triphenylene ring, a fluorene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a pyrimidine ring, a dibenzofuran ring, a dibenzothiophene ring, a carbazole ring, an azadibenzofuran ring, an azadibenzothiophene ring, an azacarbazole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, an indole ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a pyrazole ring, or a triazole ring. When L 1 is a simple bond or a benzene ring without a substituent, it is preferable that at least one of the multiple R 1s represents a heteroaryl group.

Ｌ１は、縮合環を形成していてもよい。また、Ｘ８～Ｘ１２が含まれる環は縮合環の一部であってもよい。一般式（７）で用いられる置換基としては、限定されるものではなく、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、トリフルオロメチル基、イソプロピル基等）、アリール基（例えば、フェニル基等）、ヘテロアリール基（例えば、ピリジル基、カルバゾリル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子等）、シアノ基、若しくはフッ化アルキル基が挙げられ、後述する例示化合物で使用されているものも好ましい。 L 1 may form a fused ring. In addition, the ring containing X 8 to X 12 may be a part of the fused ring. The substituent used in the general formula (7) is not limited, and examples thereof include an alkyl group (e.g., a methyl group, an ethyl group, a trifluoromethyl group, an isopropyl group, etc.), an aryl group (e.g., a phenyl group, etc.), a heteroaryl group (e.g., a pyridyl group, a carbazolyl group, etc.), a halogen atom (e.g., a fluorine atom, etc.), a cyano group, or a fluorinated alkyl group, and those used in the exemplified compounds described later are also preferred.

前記Ｒ１は、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピリミジン環、アザジベンフラン環、アザジベンゾチオフェン環、アザカルバゾール環、キナゾリン環、キノキサリン環、キノリン環、イソキノリン環、ベンゾキノリン環、ベンゾイソキノリン環、インドール環、インダゾール環、イミダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズトリアゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環又はカルバゾール環を含む置換基を表すことが好ましい。 It is preferable that R1 represents a substituent containing a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a pyrimidine ring, an azadibenfuran ring, an azadibenzothiophene ring, an azacarbazole ring, a quinazoline ring, a quinoxaline ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzoquinoline ring, a benzoisoquinoline ring, an indole ring, an indazole ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a benzotriazole ring, a pyrazole ring, a triazole ring, an oxazole ring, a thiazole ring, or a carbazole ring.

また、前記一般式（７）中、Ｘ８及びＸ１２が窒素原子を表し、Ｘ９～Ｘ１１がＣＲ１を表すこと、又は、Ｘ８及びＸ１１が窒素原子を表し、Ｘ９、Ｘ１０及びＸ１２がＣＲ１を表すこと、又はＸ８及びＸ１０が窒素原子を表し、Ｘ９、Ｘ１１及びＸ１２がＣＲ１を表すことが好ましい。 In addition, in the general formula (7), it is preferable that X8 and X12 represent a nitrogen atom, and X9 to X11 represent CR1 , or that X8 and X11 represent a nitrogen atom, and X9 , X10 and X12 represent CR1 , or that X8 and X10 represent a nitrogen atom, and X9 , X11 and X12 represent CR1 .

前記一般式（７）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（８）で表される構造を有することが好ましい。

Figure 0007463833000018
The compound having the structure represented by the general formula (7) preferably has a structure represented by the following general formula (8).
Figure 0007463833000018

一般式（８）中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表し、分子内の複数のＸは互いに同じであっても異なっていてもよい。Ｘ１～Ｘ１０及びＸ１３～Ｘ１６は、それぞれ独立に、ＣＲ１又は窒素原子を表す。Ｘ５及びＸ７のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ８及びＸ１０のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｒ１は、水素原子又は置換基を表す。 In general formula (8), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and multiple Xs in a molecule may be the same or different. X 1 to X 10 and X 13 to X 16 each independently represent CR 1 or a nitrogen atom. One of X 5 and X 7 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 8 and X 10 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.

Ｌ１は単なる結合手であるか、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフチル環、ターフェニル環、アントラセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピリミジン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アザジベンゾフラン環、アザジベンゾチオフェン環、アザカルバゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環を含む二価の連結基を表す。Ｌ１が、単なる結合手であるか、置換基を有しないベンゼン環のみの場合は、複数のＲ１のうち少なくとも一つがヘテロアリール基を表すことが好ましい。 L 1 is a simple bond or a divalent linking group containing a benzene ring, a biphenyl ring, a naphthyl ring, a terphenyl ring, an anthracene ring, a triphenylene ring, a fluorene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a pyrimidine ring, a dibenzofuran ring, a dibenzothiophene ring, a carbazole ring, an azadibenzofuran ring, an azadibenzothiophene ring, an azacarbazole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, an indole ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a pyrazole ring, or a triazole ring. When L 1 is a simple bond or a benzene ring without a substituent, it is preferable that at least one of the multiple R 1s represents a heteroaryl group.

Ｌ１は、縮合環を形成していてもよい。また、Ｘ８～Ｘ１０及びＸ１３～Ｘ１６を含む環は、それぞれ縮合環の一部であってもよい。一般式（８）で用いられる置換基としては、一般式（７）と同様のものが好ましい。一般式（８）で用いられるＲ１も、一般式（７）と同様のものが好ましい。 L 1 may form a condensed ring. In addition, the rings including X 8 to X 10 and X 13 to X 16 may each be a part of a condensed ring. The substituent used in the general formula (8) is preferably the same as that in the general formula (7). R 1 used in the general formula (8) is also preferably the same as that in the general formula (7).

なお、Ｌ１の具体例を以下に示すが、一例であってこれに限定されるものではない。

Figure 0007463833000019
Specific examples of L1 are shown below, but these are merely examples and the invention is not limited to these.
Figure 0007463833000019

Figure 0007463833000020
Figure 0007463833000020

一般式（７）又は（８）で表される化合物の具体例を、下記に示す。

Figure 0007463833000021
Specific examples of the compound represented by formula (7) or (8) are shown below.
Figure 0007463833000021

Figure 0007463833000022
Figure 0007463833000022

Figure 0007463833000023
Figure 0007463833000023

Figure 0007463833000024
Figure 0007463833000024

Figure 0007463833000025
Figure 0007463833000025

Figure 0007463833000026
Figure 0007463833000026

Figure 0007463833000027
Figure 0007463833000027

Figure 0007463833000028
Figure 0007463833000028

また、前記一般式（７）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（９）で表される構造を有する化合物であることも好ましい。 In addition, the compound having the structure represented by the general formula (7) is also preferably a compound having a structure represented by the following general formula (9):

Figure 0007463833000029
Figure 0007463833000029

上記一般式（９）中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表す。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ４～Ｘ１２及びＸ１７～Ｘ２１は、それぞれ独立に、ＣＲ１又は窒素原子を表す。Ｘ５及びＸ７のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ８及びＸ１０のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表すか、又は、Ｘ１７及びＸ１９のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｒ１は、水素原子又は置換基を表す。 In the above general formula (9), X represents an oxygen atom or a sulfur atom. X 1 , X 2 , X 4 to X 12 , and X 17 to X 21 each independently represent CR 1 or a nitrogen atom. One of X 5 and X 7 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 8 and X 10 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1 , or one of X 17 and X 19 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.

Ｌ１及びＬ２は、単なる結合手であるか、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフチル環、アントラセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピリミジン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アザジベンゾフラン環、アザジベンゾチオフェン環、アザカルバゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環を含む二価の連結基を表す。Ｌ１及びＬ２が、いずれも単なる結合手であるか、置換基を有しないベンゼン環のみの場合は、複数のＲ１のうち少なくとも一つがヘテロアリール基を表すことが好ましい。 L 1 and L 2 are simply bonds or represent a divalent linking group containing a benzene ring, a biphenyl ring, a terphenyl ring, a naphthyl ring, an anthracene ring, a triphenylene ring, a fluorene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a pyrimidine ring, a dibenzofuran ring, a dibenzothiophene ring, a carbazole ring, an azadibenzofuran ring, an azadibenzothiophene ring, an azacarbazole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, an indole ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a pyrazole ring, or a triazole ring. When L 1 and L 2 are both simply bonds or represent only a benzene ring having no substituent, it is preferable that at least one of the multiple R 1s represents a heteroaryl group.

Ｌ１及びＬ２は、縮合環を形成していてもよい。また、Ｘ８～Ｘ１２が含まれる環、又はＸ１７～Ｘ２１が含まれる環は縮合環の一部であってもよい。 L1 and L2 may form a fused ring. In addition, the ring containing X8 to X12 or the ring containing X17 to X21 may be a part of the fused ring.

一般式（９）で用いられる置換基としては、一般式（７）と同様の基が好ましい。一般式（９）で用いられるＲ１も、一般式（７）と同様のものが好ましい。Ｌ２で用いられる連結基の具体例としては、一般式（７）で挙げたＬ１の具体例と同様のものが挙げられる。 The substituent used in the general formula (9) is preferably the same as that in the general formula (7). The R1 used in the general formula (9) is also preferably the same as that in the general formula (7). Specific examples of the linking group used in L2 include the same as the specific examples of L1 in the general formula (7).

また、前記一般式（９）中、Ｘ８及びＸ１２が窒素原子を表し、Ｘ９～Ｘ１１がＣＲ１を表すこと、又は、Ｘ８及びＸ１１が窒素原子を表し、Ｘ９、Ｘ１０及びＸ１２がＣＲ１を表すこと、又は、Ｘ８及びＸ１０が窒素原子を表し、Ｘ９、Ｘ１１及びＸ１２がＣＲ１を表すこと、及び／又は、Ｘ１７及びＸ２１が窒素原子を表し、Ｘ１８～Ｘ２０がＣＲ１を表すこと、又は、Ｘ１７及びＸ２０が窒素原子を表し、Ｘ１８、Ｘ１９及びＸ２１がＣＲ１を表すこと、又は、Ｘ１７及びＸ１９が窒素原子を表し、Ｘ１８、Ｘ２０及びＸ２１がＣＲ１を表すことが好ましい。 In addition, in the general formula (9), it is preferable that X8 and X12 represent a nitrogen atom, and X9 to X11 represent CR1 , or X8 and X11 represent a nitrogen atom, and X9 , X10 and X12 represent CR1 , or X8 and X10 represent a nitrogen atom, and X9 , X11 and X12 represent CR1 , and/or X17 and X21 represent a nitrogen atom, and X18 to X20 represent CR1 , or X17 and X20 represent a nitrogen atom, and X18 , X19 and X21 represent CR1 , or X17 and X19 represent a nitrogen atom, and X18 , X20 and X21 represent CR1 .

また、前記一般式（９）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（１０）で表される構造を有することが好ましい。

Figure 0007463833000030
The compound having the structure represented by the general formula (9) preferably has a structure represented by the following general formula (10):
Figure 0007463833000030

上記一般式（１０）中、Ｘは酸素原子又は硫黄原子を表し、分子内の複数のＸは互いに同じであっても異なっていても良い。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ４～Ｘ１２、Ｘ１７、Ｘ１８、及びＸ２２～Ｘ２９はそれぞれ独立に、ＣＲ１又は窒素原子を表す。Ｘ５及びＸ７のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ２２及びＸ２４のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｒ１は、水素原子又は置換基を表す。 In the above general formula (10), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and the multiple Xs in the molecule may be the same or different from each other. X 1 , X 2 , X 4 to X 12 , X 17 , X 18 , and X 22 to X 29 each independently represent CR 1 or a nitrogen atom. One of X 5 and X 7 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 22 and X 24 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.

Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、単なる結合手であるか、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフチル環、アントラセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピリミジン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アザジベンゾフラン環、アザジベンゾチオフェン環、アザカルバゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環を含む二価の連結基を表す。Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３が、いずれも単なる結合手であるか、置換基を有しないベンゼン環のみの場合は、複数のＲ１のうち少なくとも一つがヘテロアリール基を表すことが好ましい。 L 1 , L 2 , and L 3 are simply bonds or represent a divalent linking group containing a benzene ring, a biphenyl ring, a terphenyl ring, a naphthyl ring, an anthracene ring, a triphenylene ring, a fluorene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a pyrimidine ring, a dibenzofuran ring, a dibenzothiophene ring, a carbazole ring, an azadibenzofuran ring, an azadibenzothiophene ring, an azacarbazole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, an indole ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a pyrazole ring, or a triazole ring. When L 1 , L 2 , and L 3 are simply bonds or represent only a benzene ring having no substituent, it is preferable that at least one of the multiple R 1s represents a heteroaryl group.

Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、縮合環を形成していてもよい。また、Ｘ８～Ｘ１２が含まれる環、又はＸ２５～Ｘ２９が含まれる環は、縮合環の一部であってもよい。 L 1 , L 2 and L 3 may form a fused ring. In addition, the ring containing X 8 to X 12 or the ring containing X 25 to X 29 may be a part of the fused ring.

一般式（１０）で用いられる置換基としては、一般式（７）と同様のものが好ましい。一般式（１０）で用いられるＲ１も、一般式（７）と同様のものが好ましい。Ｌ２、Ｌ３で用いられる連結基の具体例としては、一般式（７）で挙げたＬ１の具体例と同様のものが挙げられる。 The substituent used in the general formula (10) is preferably the same as that in the general formula (7). The R1 used in the general formula (10) is also preferably the same as that in the general formula (7). Specific examples of the linking groups used in L2 and L3 include the same as the specific examples of L1 in the general formula (7).

また、前記一般式（１０）中、Ｘ８～Ｘ１２の内、少なくとも１つが窒素原子を表し、残りがＣＲ１を表すこと、及び／又は、Ｘ２５～Ｘ２９の内、少なくとも１つが窒素原子を表し、残りがＣＲ１を表すことが好ましい。 In addition, in the general formula (10), it is preferable that at least one of X 8 to X 12 represents a nitrogen atom and the rest represent CR 1 , and/or at least one of X 25 to X 29 represents a nitrogen atom and the rest represent CR 1 .

さらに、前記一般式（８）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（１１）で表される構造を有する化合物であることが好ましい。

Figure 0007463833000031
Furthermore, the compound having the structure represented by the general formula (8) is preferably a compound having a structure represented by the following general formula (11):
Figure 0007463833000031

上記一般式（１１）中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表し、分子内の複数のＸは互いに同じであっても異なっていても良い。Ｘ１～Ｘ１０及びＸ１３～Ｘ１６は、それぞれ独立に、ＣＲ１又は窒素原子を表す。Ｘ５及びＸ７のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ８及びＸ１０のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｒ１は、水素原子又は置換基を表す。 In the above general formula (11), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and the multiple Xs in the molecule may be the same or different. X 1 to X 10 and X 13 to X 16 each independently represent CR 1 or a nitrogen atom. One of X 5 and X 7 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 8 and X 10 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.

ｍ１、ｍ２は各々１、２又は３を表し、３≦ｍ１＋ｍ２≦４である。 m1 and m2 each represent 1, 2, or 3, and 3≦m1+m2≦4.

Ｌ１は単なる結合手であるか、ベンゼン環、ビフェニル環、ナフチル環、ターフェニル環、アントラセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピリミジン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アザジベンゾフラン環、アザジベンゾチオフェン環、アザカルバゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環を含む（ｍ１＋ｍ２）価の連結基を表す。 L1 is a simple bond or represents a (m1+m2)-valent linking group containing a benzene ring, a biphenyl ring, a naphthyl ring, a terphenyl ring, an anthracene ring, a triphenylene ring, a fluorene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a pyrimidine ring, a dibenzofuran ring, a dibenzothiophene ring, a carbazole ring, an azadibenzofuran ring, an azadibenzothiophene ring, an azacarbazole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, an indole ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a pyrazole ring, or a triazole ring.

Ｌ１が単なる結合手であるか、置換基を有しないベンゼン環のみの場合は、複数のＲ１のうち少なくとも一つがヘテロアリール基を表すことが好ましい。 When L 1 is a simple bond or an unsubstituted benzene ring, it is preferable that at least one of the multiple R 1s represents a heteroaryl group.

Ｌ１は、縮合環を形成していてもよい。また、Ｘ１～Ｘ７を含む環、又は、Ｘ８～Ｘ１０及びＸ１３～Ｘ１６を含む環は、それぞれ縮合環の一部であってもよい。 L 1 may form a fused ring. In addition, the ring containing X 1 to X 7 , or the ring containing X 8 to X 10 and X 13 to X 16 may each be a part of the fused ring.

前記一般式（１１）で用いられる置換基としては、一般式（７）と同様のものが好ましい。一般式（１１）で用いられるＲ１も、一般式（７）と同様のものが好ましい。Ｌ１で用いられる連結基の具体例としては、一般式（７）で挙げたＬ１の具体例と同様のものが挙げられる。 The substituent used in the general formula (11) is preferably the same as that in the general formula (7). The R1 used in the general formula (11) is also preferably the same as that in the general formula (7). Specific examples of the linking group used in L1 include the same as the specific examples of L1 listed in the general formula (7).

また、前記一般式（１０）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（１２）で表される構造を有する化合物であることも好ましい。

Figure 0007463833000032
The compound having the structure represented by the general formula (10) is also preferably a compound having a structure represented by the following general formula (12):
Figure 0007463833000032

上記一般式（１２）中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表し、分子内の複数のＸは互いに同じであっても異なっていても良い。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ４～Ｘ１２及びＸ１７、Ｘ１８、Ｘ２１～Ｘ２９は、それぞれ独立に、ＣＲ１又は窒素原子を表す。Ｘ５及びＸ７のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ２２及びＸ２４のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｒ１は、水素原子又は置換基を表す。 In the above general formula (12), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and the multiple Xs in the molecule may be the same or different. X 1 , X 2 , X 4 to X 12 , and X 17 , X 18 , and X 21 to X 29 each independently represent CR 1 or a nitrogen atom. One of X 5 and X 7 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 22 and X 24 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.

ｍ１、ｍ２は各々１、２又は３を表し、３≦ｍ１＋ｍ２≦４である。 m1 and m2 each represent 1, 2, or 3, and 3≦m1+m2≦4.

Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、単なる結合手であるか、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフチル環、アントラセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピリミジン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アザジベンゾフラン環、アザジベンゾチオフェン環、アザカルバゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環を含む（ｍ１＋ｍ２）価の連結基を表す。Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３が、いずれも単なる結合手であるか、置換基を有しないベンゼン環のみの場合は、複数のＲ１のうち少なくとも一つがヘテロアリール基を表すことが好ましい。 L 1 , L 2 , and L 3 are simply bonds or represent a (m1+m2)-valent linking group containing a benzene ring, a biphenyl ring, a terphenyl ring, a naphthyl ring, an anthracene ring, a triphenylene ring, a fluorene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a pyrimidine ring, a dibenzofuran ring, a dibenzothiophene ring, a carbazole ring, an azadibenzofuran ring, an azadibenzothiophene ring, an azacarbazole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, an indole ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a pyrazole ring, or a triazole ring. When L 1 , L 2 , and L 3 are simply bonds or represent only a benzene ring without a substituent, it is preferable that at least one of the multiple R 1s represents a heteroaryl group.

Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、縮合環を形成していてもよい。また、Ｘ８～Ｘ１２が含まれる環、又はＸ２５～Ｘ２９が含まれる環は縮合環の一部であってもよい。 L 1 , L 2 and L 3 may form a fused ring. In addition, the ring containing X 8 to X 12 or the ring containing X 25 to X 29 may be a part of the fused ring.

一般式（１２）で用いられる置換基としては、一般式（７）と同様のものが好ましい。一般式（１２）で用いられるＲ１も、一般式（７）と同様のものが好ましい。Ｌ２、Ｌ３で用いられる連結基の具体例としては、一般式（７）で挙げたＬ１の具体例と同様のものが挙げられる。 The substituent used in the general formula (12) is preferably the same as that in the general formula (7). The R1 used in the general formula (12) is also preferably the same as that in the general formula (7). Specific examples of the linking groups used in L2 and L3 include the same as the specific examples of L1 in the general formula (7).

また、前記一般式（１２）中、Ｘ８～Ｘ１２の内、少なくとも１つが窒素原子を表し、残りがＣＲ１を表すこと、又は、Ｘ２５～Ｘ２９の内、少なくとも１つが窒素原子を表し、残りがＣＲ１を表すことが好ましい。 In addition, in the general formula (12), it is preferable that at least one of X 8 to X 12 represents a nitrogen atom and the rest represent CR 1 , or that at least one of X 25 to X 29 represents a nitrogen atom and the rest represent CR 1 .

また、前記一般式（８）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（１３）で表される構造を有する化合物であることも好ましい。

Figure 0007463833000033
The compound having the structure represented by the general formula (8) is also preferably a compound having a structure represented by the following general formula (13):
Figure 0007463833000033

一般式（１３）中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表し、分子内の複数のＸは互いに同じであっても異なっていても良い。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ４～Ｘ１０、Ｘ１３～Ｘ１８、Ｘ２１～Ｘ２９は、それぞれ独立に、ＣＲ１又は窒素原子を表す。Ｘ５及びＸ７のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ８及びＸ１０のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ２２及びＸ２４のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｒ１は、水素原子又は置換基を表す。 In the general formula (13), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and a plurality of X in a molecule may be the same or different. X 1 , X 2 , X 4 to X 10 , X 13 to X 18 , and X 21 to X 29 each independently represent CR 1 or a nitrogen atom. One of X 5 and X 7 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 8 and X 10 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 22 and X 24 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.

ｍ１、ｍ２は各々１、２又は３を表し、２≦ｍ１＋ｍ２≦４である。 m1 and m2 each represent 1, 2, or 3, and 2≦m1+m2≦4.

Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、単なる結合手であるか、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフチル環、アントラセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピリミジン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アザジベンゾフラン環、アザジベンゾチオフェン環、アザカルバゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環を含む（ｍ１＋ｍ２）価の連結基を表す。Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３が、いずれも単なる結合手であるか、置換基を有しないベンゼン環のみの場合は、複数のＲ１のうち少なくとも一つがヘテロアリール基を表すことが好ましい。 L 1 , L 2 , and L 3 are simply bonds or represent a (m1+m2)-valent linking group containing a benzene ring, a biphenyl ring, a terphenyl ring, a naphthyl ring, an anthracene ring, a triphenylene ring, a fluorene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a pyrimidine ring, a dibenzofuran ring, a dibenzothiophene ring, a carbazole ring, an azadibenzofuran ring, an azadibenzothiophene ring, an azacarbazole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, an indole ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a pyrazole ring, or a triazole ring. When L 1 , L 2 , and L 3 are simply bonds or represent only a benzene ring without a substituent, it is preferable that at least one of the multiple R 1s represents a heteroaryl group.

Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、縮合環を形成していてもよい。また、Ｘ８～Ｘ１２が含まれる環、又はＸ２５～Ｘ２９が含まれる環は縮合環の一部であってもよい。 L 1 , L 2 and L 3 may form a fused ring. In addition, the ring containing X 8 to X 12 or the ring containing X 25 to X 29 may be a part of the fused ring.

一般式（１３）で用いられる置換基としては、一般式（７）と同様のものが好ましい。一般式（１３）で用いられるＲ１も、一般式（７）と同様のものが好ましい。Ｌ２、Ｌ３で用いられる連結基の具体例としては、一般式（７）で挙げたＬ１の具体例と同様のものが挙げられる。 The substituent used in the general formula (13) is preferably the same as that in the general formula (7). The R1 used in the general formula (13) is also preferably the same as that in the general formula (7). Specific examples of the linking groups used in L2 and L3 include the same as the specific examples of L1 in the general formula (7).

また、前記一般式（１３）中、Ｘ２５～Ｘ２９の内、少なくとも１つが、窒素原子を表し、残りが、ＣＲ１を表すことが好ましい。 In addition, in the general formula (13), it is preferable that at least one of X 25 to X 29 represents a nitrogen atom, and the rest represent CR 1 .

また、前記一般式（１０）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（１４）で表される構造を有する化合物であることも好ましい。

Figure 0007463833000034
The compound having the structure represented by the general formula (10) is also preferably a compound having a structure represented by the following general formula (14):
Figure 0007463833000034

上記一般式（１４）中、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表し、分子内の複数のＸは互いに同じであっても異なっていても良い。Ｘ１、Ｘ２、Ｘ４～Ｘ１０、Ｘ１３～Ｘ１８、Ｘ２１～Ｘ２９は、それぞれ独立に、ＣＲ１又は窒素原子を表す。Ｘ５及びＸ７のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ８及びＸ１０のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｘ２２及びＸ２４のうち、一方が窒素原子を表し、他方がＣＲ１を表す。Ｒ１は、水素原子又は置換基を表す。 In the above general formula (14), X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and the multiple Xs in the molecule may be the same or different from each other. X 1 , X 2 , X 4 to X 10 , X 13 to X 18 , and X 21 to X 29 each independently represent CR 1 or a nitrogen atom. One of X 5 and X 7 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 8 and X 10 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. One of X 22 and X 24 represents a nitrogen atom, and the other represents CR 1. R 1 represents a hydrogen atom or a substituent.

ｍ１、ｍ２は各々１、２又は３を表し、２≦ｍ１＋ｍ２≦４である。 m1 and m2 each represent 1, 2, or 3, and 2≦m1+m2≦4.

Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、単なる結合手であるか、ベンゼン環、ビフェニル環、ターフェニル環、ナフチル環、アントラセン環、トリフェニレン環、フルオレン環、ピリジン環、ピラジン環、トリアジン環、ピリミジン環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環、カルバゾール環、アザジベンゾフラン環、アザジベンゾチオフェン環、アザカルバゾール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、インドール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピラゾール環又はトリアゾール環を含む（ｍ１＋ｍ２）価の連結基を表す。Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３が、いずれも単なる結合手であるか、置換基を有しないベンゼン環のみの場合は、複数のＲ１のうち少なくとも一つがヘテロアリール基を表すことが好ましい。Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は、縮合環を形成していてもよい。また、Ｘ２５～Ｘ２９が含まれる環は縮合環の一部であってもよい。 L 1 , L 2 , and L 3 are simply bonds or represent a (m1+m2)-valent linking group containing a benzene ring, a biphenyl ring, a terphenyl ring, a naphthyl ring, an anthracene ring, a triphenylene ring, a fluorene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a triazine ring, a pyrimidine ring, a dibenzofuran ring, a dibenzothiophene ring, a carbazole ring, an azadibenzofuran ring, an azadibenzothiophene ring, an azacarbazole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, an indole ring, an imidazole ring, a benzimidazole ring, a pyrazole ring, or a triazole ring. When L 1 , L 2 , and L 3 are simply bonds or are only benzene rings without a substituent, it is preferable that at least one of the multiple R 1s represents a heteroaryl group. L 1 , L 2 , and L 3 may form a condensed ring. In addition, the ring containing X 25 to X 29 may be a part of the condensed ring.

一般式（１４）で用いられる置換基としては、一般式（７）と同様のものが好ましい。一般式（１４）で用いられるＲ１も、一般式（７）と同様のものが好ましい。Ｌ２、Ｌ３で用いられる連結基の具体例としては、一般式（７）で挙げたＬ１の具体例と同様のものが挙げられる。 The substituent used in the general formula (14) is preferably the same as that in the general formula (7). The R1 used in the general formula (14) is also preferably the same as that in the general formula (7). Specific examples of the linking groups used in L2 and L3 include the same as the specific examples of L1 in the general formula (7).

また、前記一般式（１４）中、Ｘ２５～Ｘ２９の内、少なくとも１つが、窒素原子を表し、残りが、ＣＲ１を表すことが好ましい。 In addition, in the general formula (14), it is preferable that at least one of X 25 to X 29 represents a nitrogen atom, and the rest represent CR1 .

一般式（９）～（１４）で表される化合物の例としては以下の化合物Ｍ－３６０～Ｍ－４３６が挙げられる。

Figure 0007463833000035
Examples of the compounds represented by the general formulas (9) to (14) include the following compounds M-360 to M-436.
Figure 0007463833000035

Figure 0007463833000036
Figure 0007463833000036

Figure 0007463833000037
Figure 0007463833000037

Figure 0007463833000038
Figure 0007463833000038

Figure 0007463833000039
Figure 0007463833000039

Figure 0007463833000040
Figure 0007463833000040

Figure 0007463833000041
Figure 0007463833000041

また、本発明の有機ＥＬ素子の電子輸送層に適用可能なその他の化合物としては、特許第５６０４８４８号公報に記載された化合物１～２１３や、特許第５５８９２５１号公報に記載された化合物１～２６４、なども好ましい。 Other preferred compounds that can be used in the electron transport layer of the organic EL element of the present invention include compounds 1 to 213 described in Japanese Patent No. 5,604,848 and compounds 1 to 264 described in Japanese Patent No. 5,589,251.

本発明に係る電子輸送層は、例えば、スピンコート法、キャスト法、グラビアコート法、インクジェット記録法等の公知の方法により、薄膜化することで形成することができるが、本発明においては、特に、インクジェット記録法を用いて形成することが好ましい。 The electron transport layer according to the present invention can be formed into a thin film by known methods such as spin coating, casting, gravure coating, and inkjet recording, but in the present invention, it is particularly preferable to form the layer using inkjet recording.

＜電子注入層＞
本発明においては、電子注入層をインクジェット記録法により形成する方法も、好ましい実施形態の一つとである。 <Electron injection layer>
In the present invention, a method of forming the electron injection layer by ink jet recording is also one of the preferred embodiments.

電子注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、陰極と発光層との間に設けられる層のことであり、陰極が本発明に係る光透過性を有する電極で構成されている場合には、当該光透過性を有する電極に隣接して設けられ、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３～１６６頁）に詳細に記載されている。 The electron injection layer is a layer provided between the cathode and the light-emitting layer to reduce the driving voltage and improve the luminance of light emitted. When the cathode is composed of the light-transmitting electrode according to the present invention, the electron injection layer is provided adjacent to the light-transmitting electrode, and is described in detail in "Electrode Materials" (pp. 123-166), Chapter 2, Volume 2 of "Organic EL Elements and the Frontier of Their Industrialization" (published by NTS on November 30, 1998).

電子注入層は、特開平６－３２５８７１号公報、同９－１７５７４号公報、同１０－７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、電子注入層に好ましく用いられる材料の具体例としては、ストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム等に代表されるアルカリ金属化合物、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム等に代表されるアルカリ金属ハライド層等に代表されるアルカリ土類金属化合物層、酸化モリブデン、酸化アルミニウム等に代表される金属酸化物、リチウム８－ヒドロキシキノレート（Ｌｉｑ）等に代表される金属錯体等が挙げられる。
また、本発明における光透過性を有する電極が陰極の場合は、金属錯体等の有機材料が特に好適に用いられる。
電子注入層はごく薄い膜であることが望ましく、構成材料にもよるが、その層厚は１ｎｍ～１０μｍの範囲が好ましい。 The electron injection layer is also described in detail in JP-A-6-325871, JP-A-9-17574, JP-A-10-74586, and the like. Specific examples of materials preferably used for the electron injection layer include metals typified by strontium, aluminum, and the like; alkali metal compounds typified by lithium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride, and the like; alkaline earth metal compound layers typified by alkali metal halide layers typified by magnesium fluoride, calcium fluoride, and the like; metal oxides typified by molybdenum oxide, aluminum oxide, and the like; and metal complexes typified by lithium 8-hydroxyquinolate (Liq).
When the light-transmitting electrode in the present invention is a cathode, an organic material such as a metal complex is particularly preferably used.
The electron injection layer is desirably a very thin film, and the thickness thereof is preferably in the range of 1 nm to 10 μm, although this depends on the constituent material.

また、本発明では、複数の発光領域のうち、少なくとも一部の発光領域における電子注入層の厚さが異なっていてもよい。 In addition, in the present invention, the thickness of the electron injection layer may be different in at least some of the multiple light-emitting regions.

＜正孔輸送層＞
正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層及び電子阻止層も正孔輸送層の機能を有する。正孔輸送層は単層又は複数層設けることができる。 <Hole transport layer>
The hole transport layer is made of a hole transport material having a function of transporting holes, and in a broad sense, the hole injection layer and the electron blocking layer also have the function of the hole transport layer. The hole transport layer may be a single layer or a plurality of layers.

正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、導電性高分子オリゴマー及びチオフェンオリゴマー等が挙げられる。 The hole transport material is one that has either hole injection or transport properties or electron barrier properties, and may be either organic or inorganic. Examples include triazole derivatives, oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, polyarylalkane derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, arylamine derivatives, amino-substituted chalcone derivatives, oxazole derivatives, styrylanthracene derivatives, fluorenone derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, silazane derivatives, aniline-based copolymers, conductive polymer oligomers, and thiophene oligomers.

正孔輸送材料としては、上記記載の化合物を使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物を用いることができ、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。 As the hole transport material, the compounds described above can be used, but porphyrin compounds, aromatic tertiary amine compounds, and styrylamine compounds can also be used, and it is particularly preferable to use aromatic tertiary amine compounds.

芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラフェニル－４，４′－ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′－ジフェニル－Ｎ，Ｎ′－ビス（３－メチルフェニル）－〔１，１′－ビフェニル〕－４，４′－ジアミン（略称：ＴＰＤ）、２，２－ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）プロパン、１，１－ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラ－ｐ－トリル－４，４′－ジアミノビフェニル、１，１－ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）－４－フェニルシクロヘキサン、ビス（４－ジメチルアミノ－２－メチルフェニル）フェニルメタン、ビス（４－ジ－ｐ－トリルアミノフェニル）フェニルメタン、Ｎ，Ｎ′－ジフェニル－Ｎ，Ｎ′－ジ（４－メトキシフェニル）－４，４′－ジアミノビフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′－テトラフェニル－４，４′－ジアミノジフェニルエーテル、４，４′－ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル、Ｎ，Ｎ，Ｎ－トリ（ｐ－トリル）アミン、４－（ジ－ｐ－トリルアミノ）－４′－〔４－（ジ－ｐ－トリルアミノ）スチリル〕スチルベン、４－Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノ－（２－ジフェニルビニル）ベンゼン、３－メトキシ－４′－Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノスチルベンゼン及びＮ－フェニルカルバゾール等が挙げられる。 Representative examples of aromatic tertiary amine compounds and styrylamine compounds include N,N,N',N'-tetraphenyl-4,4'-diaminophenyl, N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diamine (abbreviation: TPD), 2,2-bis(4-di-p-tolylaminophenyl)propane, 1,1-bis(4-di-p-tolylaminophenyl)cyclohexane, N,N,N',N'-tetra-p-tolyl-4,4'-diaminobiphenyl, 1,1-bis(4-di-p-tolylaminophenyl)-4-phenylcyclohexane, and bis(4-dimethylamino-2-methylphenyl)phenyl. Examples include methane, bis(4-di-p-tolylaminophenyl)phenylmethane, N,N'-diphenyl-N,N'-di(4-methoxyphenyl)-4,4'-diaminobiphenyl, N,N,N',N'-tetraphenyl-4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-bis(diphenylamino)quadriphenyl, N,N,N-tri(p-tolyl)amine, 4-(di-p-tolylamino)-4'-[4-(di-p-tolylamino)styryl]stilbene, 4-N,N-diphenylamino-(2-diphenylvinyl)benzene, 3-methoxy-4'-N,N-diphenylaminostilbenzene, and N-phenylcarbazole.

正孔輸送層は、上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、グラビアコート法、インクジェット記録法を含む印刷法及びＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができるが、本発明においては、ピンコート法、キャスト法、グラビアコート法、インクジェット記録法等の湿式塗布方式を適用することが好ましい。
正孔輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ～５μｍ程度、好ましくは５～２００ｎｍの範囲である。
また、本発明では、複数の発光領域のうち、少なくとも一部の発光領域における正孔輸送層の厚さが異なっていてもよい。
この正孔輸送層は、上記材料の１種又は２種以上からなる１層構造であってもよい。 The hole transport layer can be formed by forming a thin film from the hole transport material by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a gravure coating method, a printing method including an inkjet recording method, and an LB method (Langmuir Blodgett method). In the present invention, it is preferable to apply a wet coating method such as a pin coating method, a casting method, a gravure coating method, or an inkjet recording method.
The thickness of the hole transport layer is not particularly limited, but is usually about 5 nm to 5 μm, preferably in the range of 5 to 200 nm.
In the present invention, the thickness of the hole transport layer may be different in at least some of the plurality of light-emitting regions.
The hole transport layer may have a single layer structure made of one or more of the above materials.

また、正孔輸送層の材料に不純物をドープすることにより、ｐ性を高くすることもできる。その例としては、特開平４－２９７０７６号公報、特開２０００－１９６１４０号公報、同２００１－１０２１７５号公報及びＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。 In addition, the p-type can be increased by doping the material of the hole transport layer with impurities. Examples include those described in JP-A-4-297076, JP-A-2000-196140, JP-A-2001-102175, and J. Appl. Phys., 95, 5773 (2004), etc.

このように、正孔輸送層のｐ性を高くすると、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。 In this way, increasing the p-characteristics of the hole transport layer is preferable because it allows the production of devices with lower power consumption.

＜正孔注入層＞
正孔注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、一方の電極である陽極に隣接して配置される層であり、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３～１６６頁）に詳細に記載されている。 <Hole injection layer>
The hole injection layer is a layer disposed adjacent to one of the electrodes, the anode, in order to reduce the driving voltage and improve the luminance of emitted light, and is described in detail in "Electrode Materials" (pp. 123-166, Chapter 2, Volume 2) of "Organic EL Elements and Their Industrialization Frontiers" (published by NTS Corporation on Nov. 30, 1998).

正孔注入層は、特開平９－４５４７９号公報、同９－２６００６２号公報、同８－２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、正孔注入層に用いられる材料としては、例えば、ポルフィリン誘導体、フタロシアニン誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、トリアリールアミン誘導体、カルバゾール誘導体、インドロカルバゾール誘導体、イソインドール誘導体、アントラセンやナフタレン等のアセン系誘導体、フルオレン誘導体、フルオレノン誘導体、及びポリビニルカルバゾール、芳香族アミンを主鎖又は側鎖に導入した高分子材料又はオリゴマー、ポリシラン、導電性ポリマー又はオリゴマー（例えば、ＰＥＤＯＴ（ポリエチレンジオキシチオフェン）：ＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）、アニリン系共重合体、ポリアニリン、ポリチオフェン等）等が挙げられる。 Details of the hole injection layer are also described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 9-45479, 9-260062, and 8-288069. Examples of materials used in the hole injection layer include porphyrin derivatives, phthalocyanine derivatives, oxazole derivatives, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, pyrazoline derivatives, pyrazolone derivatives, phenylenediamine derivatives, hydrazone derivatives, stilbene derivatives, polyarylalkane derivatives, triarylamine derivatives, carbazole derivatives, indolocarbazole derivatives, isoindole derivatives, acene derivatives such as anthracene and naphthalene, fluorene derivatives, fluorenone derivatives, and polyvinylcarbazole, polymeric materials or oligomers with aromatic amines introduced into the main chain or side chain, polysilane, conductive polymers or oligomers (e.g., PEDOT (polyethylenedioxythiophene), PSS (polystyrene sulfonic acid), aniline-based copolymers, polyaniline, polythiophene, etc.), etc.

トリアリールアミン誘導体としては、４，４′－ビス〔Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ〕ビフェニル（略称：α－ＮＰＤ）に代表されるベンジジン型や、４，４′，４″－トリス〔Ｎ－（３－メチルフェニル）－Ｎ－フェニルアミノ〕トリフェニルアミン）（略称：ＭＴＤＡＴＡ）に代表されるスターバースト型、トリアリールアミン連結コア部にフルオレンやアントラセンを有する化合物等が挙げられる。 Examples of triarylamine derivatives include benzidine-type derivatives such as 4,4'-bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino]biphenyl (abbreviation: α-NPD), starburst-type derivatives such as 4,4',4"-tris[N-(3-methylphenyl)-N-phenylamino]triphenylamine (abbreviation: MTDATA), and compounds with fluorene or anthracene in the triarylamine linking core.

また、特表２００３－５１９４３２号公報や特開２００６－１３５１４５号公報等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体も同様に正孔輸送材料として用いることができる。
また、本発明では、複数の発光領域のうち、少なくとも一部の発光領域における正孔注入層の厚さが異なっていてもよい。 In addition, hexaazatriphenylene derivatives as described in JP-T-2003-519432 and JP-A-2006-135145 can also be used as hole transport materials.
In the present invention, the thickness of the hole injection layer may be different in at least some of the plurality of light-emitting regions.

＜阻止層＞
阻止層としては、正孔阻止層及び電子阻止層が挙げられ、上記説明したキャリア輸送機能層ユニット３の各構成層の他に、必要に応じて設けられる層である。例えば、特開平１１－２０４２５８号公報、同１１－２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層等を挙げることができる。 <Blocking layer>
Examples of the blocking layer include a hole blocking layer and an electron blocking layer, which are layers that are provided as necessary in addition to the respective constituent layers of the above-described carrier transport functional layer unit 3. Examples of the blocking layer include hole blocking layers described in JP-A-11-204258 and JP-A-11-204359, and on page 237 of "Organic EL Elements and Their Industrialization Frontiers (published by NTS on Nov. 30, 1998)."

正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層の機能を有する。正孔阻止層は、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、電子輸送層の構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。 In a broad sense, the hole blocking layer functions as an electron transport layer. The hole blocking layer is made of a hole blocking material that has the function of transporting electrons but has a significantly low ability to transport holes, and can improve the probability of recombination of electrons and holes by transporting electrons while blocking holes. In addition, the configuration of the electron transport layer can be used as a hole blocking layer as necessary. It is preferable that the hole blocking layer is provided adjacent to the light emitting layer.

一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層の機能を有する。電子阻止層は、正孔を輸送する機能を有しつつ、電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。
本発明に適用する正孔阻止層の層厚としては、好ましくは３～１００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは５～３０ｎｍの範囲である。
また、本発明では、複数の発光領域のうち、少なくとも一部の発光領域における正孔阻止層の厚さが異なっていてもよい。 On the other hand, the electron blocking layer has the function of a hole transport layer in a broad sense. The electron blocking layer is made of a material that has the function of transporting holes but has a significantly small ability to transport electrons, and can improve the probability of recombination of electrons and holes by blocking electrons while transporting holes. In addition, the configuration of the hole transport layer can be used as the electron blocking layer as necessary.
The thickness of the hole blocking layer applied to the present invention is preferably in the range of 3 to 100 nm, and more preferably in the range of 5 to 30 nm.
In the present invention, the thickness of the hole blocking layer may be different in at least some of the light-emitting regions.

＜基材＞
有機ＥＬ素子に適用可能な基材（基板又は支持基板ともいう、）としては、特に制限はなく、例えば、ガラス、樹脂基材等の種類を挙げることができ、好ましくは、有機ＥＬ素子にフレキシブル性を付与することができる観点からフレキシブル性樹脂基材である。 <Substrate>
The base material (also referred to as a substrate or a supporting substrate) applicable to the organic EL element is not particularly limited, and examples thereof include glass, resin base materials, and the like. Preferably, the base material is a flexible resin base material from the viewpoint of imparting flexibility to the organic EL element.

本発明に適用可能なフレキシブル性を備えた樹脂基材を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。 Resin materials constituting the flexible resin substrate applicable to the present invention include, for example, polyesters such as polyethylene terephthalate (abbreviation: PET) and polyethylene naphthalate (abbreviation: PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose esters such as cellulose diacetate, cellulose triacetate (abbreviation: TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (abbreviation: CAP), cellulose acetate phthalate, and cellulose nitrate, and derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl a Examples of such resins include alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate (abbreviation: PC), norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide, polyether sulfone (abbreviation: PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, polyether imide, polyether ketone imide, polyamide, fluororesin, nylon, polymethyl methacrylate, acrylics and polyarylates, cycloolefin resins such as Arton (trade name, manufactured by JSR Corporation) and APEL (trade name, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.), etc.

これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）等のフィルムがフレキシブル性を有する樹脂基材として好ましく用いられる。 Among these resin substrates, films such as polyethylene terephthalate (abbreviated as PET), polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate (abbreviated as PEN), and polycarbonate (abbreviated as PC) are preferably used as flexible resin substrates in terms of cost and availability.

本発明において、樹脂基材の厚さとしては、３～２００μｍの範囲内とすることができ、好ましくは、１０～１００μｍの範囲内であり、より好ましくは２０～５０μｍの範囲内である。 In the present invention, the thickness of the resin substrate can be within the range of 3 to 200 μm, preferably within the range of 10 to 100 μm, and more preferably within the range of 20 to 50 μm.

本発明に用いられる基材は、有機ＥＬ素子の封止部材（透明基材）としても好適に用いることもできる。また、上記の樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。 The substrate used in the present invention can also be suitably used as a sealing member (transparent substrate) for an organic EL element. The resin substrate may be an unstretched film or a stretched film.

本発明に適用可能な樹脂基材は、従来公知の一般的な製膜方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の樹脂基材を製造することができる。また、未延伸の樹脂基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸等の公知の方法により、樹脂基材の搬送方向（縦軸方向、ＭＤ方向）、又は樹脂基材の搬送方向と直角の方向（横軸方向、ＴＤ方向）に延伸することにより、延伸樹脂基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、樹脂基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向及び横軸方向にそれぞれ２～１０倍の範囲内であることが好ましい。 The resin substrate applicable to the present invention can be produced by a conventionally known general film-forming method. For example, a substantially amorphous and unoriented unstretched resin substrate can be produced by melting the resin material in an extruder, extruding it through a circular die or a T-die, and quenching it. In addition, a stretched resin substrate can be produced by stretching the unstretched resin substrate in the conveying direction of the resin substrate (longitudinal axis direction, MD direction) or in a direction perpendicular to the conveying direction of the resin substrate (horizontal axis direction, TD direction) by known methods such as uniaxial stretching, tenter-type sequential biaxial stretching, tenter-type simultaneous biaxial stretching, and tubular-type simultaneous biaxial stretching. In this case, the stretching ratio can be appropriately selected according to the resin that is the raw material of the resin substrate, but it is preferably within the range of 2 to 10 times in each of the longitudinal and transverse directions.

また、本発明に適用可能な光透過性を有する基材であるガラス基材としては、例えば、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。 In addition, examples of glass substrates that are optically transparent and applicable to the present invention include soda-lime glass, barium-strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, and quartz.

＜陽極＞
有機ＥＬ素子を構成する陽極としては、酸化物半導体又は薄膜の金属若しくは合金で構成されていることが好ましい形態であり、例えば、Ａｇ、Ａｕ等の金属又は金属を主成分とする合金、ＣｕＩ、又はインジウム・スズの複合酸化物（ＩＴＯ）、ＳｎＯ２及びＺｎＯ等の酸化物半導体を挙げることができる。 <Anode>
The anode constituting the organic EL element is preferably made of an oxide semiconductor or a thin film of a metal or alloy. Examples of the anode include metals such as Ag and Au, alloys mainly composed of a metal, CuI, or an indium-tin composite oxide (ITO), SnO2 , ZnO, and other oxide semiconductors.

陽極を、銀を主成分として構成する場合、銀の純度としては、９９％以上であることが好ましい。また、銀の安定性を確保するためにパラジウム（Ｐｄ）、銅（Ｃｕ）及び金（Ａｕ）等が添加されていてもよい。 When the anode is composed mainly of silver, the purity of the silver is preferably 99% or more. In addition, palladium (Pd), copper (Cu), gold (Au), etc. may be added to ensure the stability of the silver.

陽極として銀を主成分として構成する場合には、銀単独で形成しても、又は銀（Ａｇ）を含有する合金から構成されていてもよい。そのような合金としては、例えば、銀－マグネシウム（Ａｇ－Ｍｇ）、銀－銅（Ａｇ－Ｃｕ）、銀－パラジウム（Ａｇ－Ｐｄ）、銀－パラジウム－銅（Ａｇ－Ｐｄ－Ｃｕ）、銀－インジウム（Ａｇ－Ｉｎ）などが挙げられる。 When the anode is mainly composed of silver, it may be made of silver alone or an alloy containing silver (Ag). Examples of such alloys include silver-magnesium (Ag-Mg), silver-copper (Ag-Cu), silver-palladium (Ag-Pd), silver-palladium-copper (Ag-Pd-Cu), and silver-indium (Ag-In).

上記陽極を構成する各構成材料の中でも、本発明に係る有機ＥＬ素子を構成する陽極としては、インジウム・スズの複合酸化物（ＩＴＯ）又は銀を主成分として構成し、厚さが２～２０ｎｍの範囲内にある光透過性を有する陽極とすることが好ましく、より好ましくは厚さが４～１２ｎｍの範囲内である。厚さが２０ｎｍ以下であれば、光透過性を有する陽極の吸収成分及び反射成分が低く抑えられ、高い光透過率が維持されるため好ましい。 Among the various constituent materials that make up the anode, the anode that constitutes the organic EL element of the present invention is preferably an anode that is mainly composed of indium tin oxide (ITO) or silver and has optical transparency with a thickness in the range of 2 to 20 nm, more preferably in the range of 4 to 12 nm. If the thickness is 20 nm or less, the absorption and reflection components of the optically transparent anode are kept low, and a high optical transmittance is maintained, which is preferable.

本発明でいうインジウム・スズの複合酸化物（ＩＴＯ）又は銀を主成分として構成されている層とは、陽極中のＩＴＯ又は銀の含有量が６０質量％以上であることをいい、好ましくは８０質量％以上であり、より好ましくは９０質量％以上であり、特に好ましくはＩＴＯ又は銀の含有量が９８質量％以上である。また、本発明に係る光透過性を有する陽極でいう「光透過性」とは、波長５５０ｎｍでの光透過率が５０％以上であることをいう。 In the present invention, a layer composed mainly of indium tin oxide (ITO) or silver means that the content of ITO or silver in the anode is 60% by mass or more, preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and particularly preferably 98% by mass or more. In addition, "light transparency" in the light-transmitting anode according to the present invention means that the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 50% or more.

光透過性を有する陽極においては、ＩＴＯ又は銀が主成分として構成されている層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であっても良い。 In an anode having optical transparency, a layer mainly composed of ITO or silver may be laminated into multiple layers as necessary.

また、本発明においては、陽極が、銀を主成分として構成する光透過性を有する陽極である場合には、形成する光透過性を有する陽極の銀膜の均一性を高める観点から、その下部に、下地層を設けることができる。下地層としては、特に制限はないが、窒素原子又は硫黄原子を有する有機化合物を含有する層であることが好ましく、当該下地層上に、光透過性を有する陽極を形成する方法が好ましい態様である。 In addition, in the present invention, when the anode is a light-transmitting anode mainly composed of silver, a base layer can be provided underneath the anode in order to improve the uniformity of the silver film of the light-transmitting anode to be formed. There are no particular limitations on the base layer, but it is preferable that the base layer is a layer containing an organic compound having a nitrogen atom or a sulfur atom, and a method of forming a light-transmitting anode on the base layer is a preferred embodiment.

また、本発明に用いられる第１電極（陽極）３の引出電極１０は、上記第１電極３を延長する形態で同様の材料で形成する。本発明においては、第１電極３と引出電極１０との区別は、発光領域を構成する電極を第１電極３と定義し、それ以外で導電部材と接続する電極を引出電極１０と定義する。 The extraction electrode 10 of the first electrode (anode) 3 used in the present invention is formed of the same material as the first electrode 3 in the form of an extension of the first electrode 3. In the present invention, the distinction between the first electrode 3 and the extraction electrode 10 is such that the electrode that constitutes the light-emitting region is defined as the first electrode 3, and the other electrodes that are connected to the conductive member are defined as the extraction electrode 10.

＜陰極＞
陰極は、有機機能層群や発光層に電子を供給するために機能する電極膜であり、金属、合金、有機又は無機の導電性化合物若しくはこれらの混合物が用いられる。具体的には、 蒸着法等の乾式形成方法を用いる場合には、金、アルミニウム、銀、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、イットリウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属、ＩＴＯ、ＺｎＯ、ＴｉＯ２及びＳｎＯ２等の酸化物半導体などが挙げられる。 <Cathode>
The cathode is an electrode film that functions to supply electrons to the organic functional layer group and the light-emitting layer, and is made of a metal, an alloy, an organic or inorganic conductive compound, or a mixture thereof. Specifically, when a dry forming method such as a vapor deposition method is used, examples of the cathode include gold, aluminum, silver, magnesium, lithium, a magnesium/copper mixture, a magnesium/silver mixture, an yttrium/silver mixture, a magnesium/aluminum mixture, a magnesium/indium mixture, indium, a lithium/aluminum mixture, a rare earth metal, an oxide semiconductor such as ITO, ZnO, TiO2 , and SnO2 .

また、湿式塗布方式を用いて形成する場合には、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合物（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）や銀ナノインク等を用いて、ピンコート法、キャスト法、グラビアコート法、インクジェット記録法等により形成することができる。 When forming the film using a wet coating method, it can be formed by pin coating, casting, gravure coating, inkjet recording, etc. using a composite of poly(3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid (PEDOT:PSS) or silver nano-ink.

陰極は、これらの導電性材料を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させて作製することができる。また、第２電極としてのシート抵抗は、数百Ω／ｓｑ．以下が好ましく、膜厚は通常５ｎｍ～５μｍ、好ましくは５～２００ｎｍの範囲で選ばれる。 The cathode can be made by forming a thin film of these conductive materials by methods such as vapor deposition or sputtering. The sheet resistance of the second electrode is preferably several hundred Ω/sq. or less, and the film thickness is usually selected in the range of 5 nm to 5 μm, preferably 5 to 200 nm.

なお、有機ＥＬ素子が、陰極側からも発光光Ｌを取り出す、両面発光型の場合には、光透過性の良好な陰極を選択して構成すればよい。 If the organic EL element is a double-sided emission type in which emitted light L is extracted from the cathode side as well, a cathode with good optical transparency can be selected and configured.

＜封止部材＞
有機ＥＬ素子を封止するのに用いられる封止手段としては、例えば、フレキシブル封止部材と、陰極及び透明基材とを封止用接着剤で接着する方法を挙げることができる。 <Sealing member>
As a sealing means used for sealing the organic EL element, for example, a method in which a flexible sealing member, a cathode and a transparent substrate are bonded with a sealing adhesive can be mentioned.

封止部材としては、有機ＥＬ素子の表示領域を覆うように配置されていればよく、凹板状でも、平板状でもよい。また透明性及び電気絶縁性は特に限定されない。 The sealing member may be in the form of a concave plate or a flat plate, as long as it is arranged to cover the display area of the organic EL element. There are no particular limitations on the transparency and electrical insulation properties.

具体的には、フレキシブル性を備えた薄膜ガラス板、ポリマー板、フィルム、金属フィルム（金属箔）等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属フィルムとしては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる１種以上の金属又は合金が挙げられる。 Specific examples include flexible thin glass plates, polymer plates, films, metal films (metal foils), etc. Examples of glass plates include soda-lime glass, barium-strontium-containing glass, lead glass, aluminosilicate glass, borosilicate glass, barium borosilicate glass, quartz, etc. Examples of polymer plates include polycarbonate, acrylic, polyethylene terephthalate, polyether sulfide, polysulfone, etc. Examples of metal films include one or more metals or alloys selected from the group consisting of stainless steel, iron, copper, aluminum, magnesium, nickel, zinc, chromium, titanium, molybdenum, silicon, germanium, and tantalum.

本発明においては、封止部材としては、有機ＥＬ素子を薄膜化することできる観点から、ポリマーフィルム及び金属フィルムを好ましく使用することができる。さらに、ポリマーフィルムは、ＪＩＳ Ｋ ７１２９－１９９２に準拠した方法で測定された温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０－３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましく、さらには、ＪＩＳ Ｋ ７１２６－１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０－３ｍＬ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ（１ａｔｍは、１．０１３２５×１０５Ｐａである）以下であって、温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０－３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましい。 In the present invention, from the viewpoint of being able to thin the organic EL element, a polymer film and a metal film can be preferably used as the sealing member. Furthermore, the polymer film preferably has a water vapor transmission rate of 1×10 −3 g/m 2 ·24h or less at a temperature of 25±0.5°C and a relative humidity of 90±2% RH measured by a method conforming to JIS K 7129-1992, and more preferably has an oxygen transmission rate of 1×10 −3 mL/m 2 ·24h ·atm (1 atm is 1.01325×10 5 Pa) or less and a water vapor transmission rate of 1×10 −3 g/m 2 ·24h or less at a temperature of 25±0.5°C and a relative humidity of 90±2% RH measured by a method conforming to JIS K 7126-1987.

封止用接着剤としては、例えば、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、２－シアノアクリル酸エステル等の湿気硬化型等の接着剤を挙げることができる。また、エポキシ系等の熱及び化学硬化型（二液混合）を挙げることができる。また、ホットメルト型のポリアミド、ポリエステル、ポリオレフィンを挙げることができる。また、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることができる。 Examples of sealing adhesives include photocurable and heat-curable adhesives with reactive vinyl groups such as acrylic acid oligomers and methacrylic acid oligomers, and moisture-curable adhesives such as 2-cyanoacrylic acid esters. Other examples include heat- and chemical-curable adhesives (two-part mixtures) such as epoxy systems. Other examples include hot-melt polyamides, polyesters, and polyolefins. Other examples include cationic curable ultraviolet-curable epoxy resin adhesives.

＜保護膜、保護板＞
有機機能層を挟み支持基板と対向する側の前記封止膜又は前記封止用フィルムの外側に、素子の機械的強度を高めるために、保護膜又は保護板を設けてもよい。特に、封止が前記封止膜により行われている場合には、その機械的強度は必ずしも高くないため、このような保護膜、保護板を設けることが好ましい。これに使用することができる材料としては、前記封止に用いたのと同様なガラス板、ポリマー板・フィルム、金属板・フィルム等を用いることができるが、軽量かつ薄膜化ということからポリマーフィルムを用いることが好ましい。 <Protective film, protective plate>
A protective film or protective plate may be provided on the outer side of the sealing film or the sealing film on the side facing the support substrate with the organic functional layer sandwiched therebetween in order to increase the mechanical strength of the element. In particular, when sealing is performed by the sealing film, the mechanical strength is not necessarily high, so it is preferable to provide such a protective film or protective plate. As materials that can be used for this, glass plates, polymer plates/films, metal plates/films, etc., similar to those used for the sealing, can be used, but it is preferable to use polymer films because they are lightweight and thin.

＜光取り出し向上技術＞
有機ＥＬ素子は、空気よりも屈折率の高い（屈折率１．６～２．１程度の範囲内）層の内部で発光し、発光層で発生した光のうち１５～２０％程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。
これは、臨界角以上の角度θで界面（透明基板と空気との界面）に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことができないことや、透明電極又は発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極又は発光層を導波し、結果として、光が素子側面方向に逃げるためである。 <Light extraction improvement technology>
It is generally said that organic EL elements emit light within a layer that has a higher refractive index than air (within the range of approximately 1.6 to 2.1), and that only about 15 to 20% of the light generated in the light-emitting layer can be extracted.
This is because light that is incident on the interface (the interface between the transparent substrate and air) at an angle θ equal to or greater than the critical angle undergoes total reflection and cannot be extracted to the outside of the element, and because light undergoes total reflection between the transparent electrode or light-emitting layer and the transparent substrate, and the light is guided through the transparent electrode or light-emitting layer, resulting in the light escaping in the direction of the side of the element.

この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法（例えば、米国特許第４７７４４３５号明細書）、基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法（例えば、特開昭６３－３１４７９５号公報）、素子の側面等に反射面を形成する方法（例えば、特開平１－２２０３９４号公報）、基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法（例えば、特開昭６２－１７２６９１号公報）、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法（例えば、特開２００１－２０２８２７号公報）、基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法（特開平１１－２８３７５１号公報）などが挙げられる。 Methods for improving the efficiency of this light extraction include, for example, forming irregularities on the surface of a transparent substrate to prevent total reflection at the interface between the transparent substrate and the air (for example, U.S. Patent No. 4,774,435), improving efficiency by giving the substrate light-collecting properties (for example, JP-A-63-314795), forming a reflective surface on the side of the element (for example, JP-A-1-220394), introducing a flat layer with an intermediate refractive index between the substrate and the light emitter to form an anti-reflection film (for example, JP-A-62-172691), introducing a flat layer with a lower refractive index than the substrate between the substrate and the light emitter (for example, JP-A-2001-202827), and forming a diffraction grating between the substrate, transparent electrode layer, or light emitter (including between the substrate and the outside world) (JP-A-11-283751).

本発明においては、これらの方法を前記有機ＥＬ素子と組み合わせて用いることができるが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、又は基板、透明電極層や発光層のいずれかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法を好適に用いることができる。
透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚さで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど、外部への取り出し効率が高くなる。
本発明は、これらの手段を組み合わせることにより、さらに高輝度又は耐久性に優れた素子を得ることができる。 In the present invention, these methods can be used in combination with the organic EL element. Preferably, however, a method of introducing a flat layer having a lower refractive index than the substrate between the substrate and the light-emitting body, or a method of forming a diffraction grating between any of the substrate, the transparent electrode layer, and the light-emitting layer (including between the substrate and the outside world) can be used.
When a low refractive index medium is formed between a transparent electrode and a transparent substrate with a thickness longer than the wavelength of light, the lower the refractive index of the medium, the higher the efficiency with which light emitted from the transparent electrode can be extracted to the outside.
In the present invention, by combining these means, it is possible to obtain an element having higher luminance or superior durability.

低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマーなどが挙げられる。透明基板の屈折率は一般に１．５～１．７程度の範囲内であるので、低屈折率層は、屈折率がおよそ１．５以下であることが好ましい。またさらに１．３５以下であることが好ましい。
また、低屈折率媒質の厚さは、媒質中の波長の２倍以上となるのが望ましい。これは、低屈折率媒質の厚さが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。 Examples of the low refractive index layer include aerogel, porous silica, magnesium fluoride, fluorine-based polymers, etc. Since the refractive index of a transparent substrate is generally within the range of about 1.5 to 1.7, the refractive index of the low refractive index layer is preferably about 1.5 or less, and more preferably 1.35 or less.
In addition, the thickness of the low refractive index medium is preferably at least twice the wavelength in the medium, because when the thickness of the low refractive index medium becomes approximately the wavelength of light and the electromagnetic waves that have evanescently seeped out enter the substrate, the effect of the low refractive index layer is reduced.

全反射を起こす界面又は、いずれかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は、回折格子が１次の回折や、２次の回折といった、いわゆるブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることができる性質を利用して、発光層から発生した光のうち、層間での全反射等により外に出ることができない光を、いずれかの層間又は、媒質中（透明基板内や透明電極内）に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。 The method of introducing a diffraction grating into an interface or medium where total reflection occurs has the characteristic of being highly effective in improving light extraction efficiency. This method utilizes the property of a diffraction grating, which can change the direction of light to a specific direction different from refraction through so-called Bragg diffraction, such as first-order diffraction or second-order diffraction, to diffract the light generated from the light-emitting layer that cannot escape due to total reflection between layers by introducing a diffraction grating between any of the layers or into the medium (inside the transparent substrate or transparent electrode), thereby attempting to extract the light to the outside.

導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは、発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な一次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。
しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。 It is desirable for the diffraction grating to have a two-dimensional periodic refractive index, because the light emitted from the light-emitting layer is generated randomly in all directions, and so with a general one-dimensional diffraction grating that has a periodic refractive index distribution only in one direction, only light traveling in a specific direction is diffracted, and the light extraction efficiency does not increase significantly.
However, by making the refractive index distribution two-dimensional, light traveling in all directions is diffracted, and the light extraction efficiency is increased.

回折格子を導入する位置としては、いずれかの層間、又は媒質中（透明基板内や透明電極内）でも良いが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が好ましい。このとき、回折格子の周期は、媒質中の光の波長の約１／２～３倍程度の範囲内が好ましい。回折格子の配列は、正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状など、二次元的に配列が繰り返されることが好ましい。 The diffraction grating may be introduced between any of the layers or in the medium (in the transparent substrate or transparent electrode), but is preferably introduced near the organic light-emitting layer where light is generated. In this case, the period of the diffraction grating is preferably within the range of about 1/2 to 3 times the wavelength of the light in the medium. The diffraction grating is preferably arranged in a two-dimensional repeated pattern, such as a square lattice, triangular lattice, or honeycomb lattice.

＜集光シート＞
本発明の有機ＥＬ素子は、支持基板（基材）の光取出し側に、例えばマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工すること、又は、いわゆる集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることができる。
マイクロレンズアレイの例としては、支持基板の光取り出し側に一辺が３０μｍでその頂角が９０度となるような四角錐を二次元に配列する。一辺は１０～１００μｍの範囲内が好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚さが厚くなり好ましくない。 <Light collecting sheet>
The organic EL element of the present invention can increase the luminance in a specific direction by processing the light extraction side of the supporting substrate (base material) to have, for example, a microlens array structure, or by combining it with a so-called light-collecting sheet to collect light in a specific direction, for example, in the front direction relative to the light-emitting surface of the element.
As an example of a microlens array, a square pyramid with a side of 30 μm and a apex angle of 90 degrees is arranged two-dimensionally on the light extraction side of the support substrate. The side is preferably within the range of 10 to 100 μm. If it is smaller than this, the effect of diffraction occurs and coloring occurs, and if it is too large, the thickness becomes too large, which is not preferable.

集光シートとしては、例えば液晶表示装置のＬＥＤバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム（ＢＥＦ）などを用いることができる。プリズムシートの形状としては、例えば基材に頂角９０度、ピッチ５０μｍの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であっても良い。
また、有機ＥＬ素子からの光放射角を制御するために光拡散板・フィルムを、集光シートと併用してもよい。例えば、（株）きもと製拡散フィルム（ライトアップ）などを用いることができる。 The light collecting sheet may be, for example, one that is in practical use in the LED backlight of a liquid crystal display device. For example, brightness enhancing film (BEF) manufactured by Sumitomo 3M may be used as such a sheet. The shape of the prism sheet may be, for example, a base material on which triangle-shaped stripes with an apex angle of 90 degrees and a pitch of 50 μm are formed, or a shape with a rounded apex angle, a shape with a randomly changed pitch, or other shapes.
In order to control the light radiation angle from the organic EL element, a light diffusing plate or film may be used in combination with the light collecting sheet. For example, a light diffusing film (Light Up) manufactured by Kimoto Co., Ltd. may be used.

３．有機ＥＬ素子の製造方法
前記した本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法としては、前記ベース層の形成において、非発光材料を含有する非発光層をインクジェット記録法又はインクジェット記録法以外のウェット・プロセスで形成する工程と、発光性ドーパントを含有する発光層をインクジェット記録法によって形成する工程とを有することが好ましい。また、前記有機機能層の形成において、有機機能材料をインクジェット記録法又はインクジェット記録法以外のウェット・プロセスで形成する工程を有し、当該工程において、複数の発光領域のうち少なくとも一部の発光領域における有機機能層の厚さを異なるように形成することが好ましい。 3. Manufacturing method of organic EL element The manufacturing method of the organic electroluminescence element of the present invention described above preferably includes, in the formation of the base layer, a step of forming a non-light-emitting layer containing a non-light-emitting material by inkjet recording or a wet process other than inkjet recording, and a step of forming a light-emitting layer containing a light-emitting dopant by inkjet recording. In addition, in the formation of the organic functional layer, it is preferable to include a step of forming an organic functional material by inkjet recording or a wet process other than inkjet recording, and in this step, the organic functional layer is formed so that the thicknesses of the organic functional layer are different in at least some of the light-emitting regions among the plurality of light-emitting regions.

＜インクジェット記録法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法＞
図３はインクジェット記録法による有機ＥＬ素子の製造方法を示す概念図である。
図３（ａ）は、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法に適用可能なシングルパス方式（ラインヘッド方式）のインクジェット記録装置の一例を示す模式図である。図４（ａ）において、１００がラインヘッド型のヘッドユニットであり、それぞれ色相の異なるインク（例えば、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）及びブルー（Ｂ）色の発光をする化合物を含有するインク）を吐出するヘッド１０２～１０４で構成され、各ヘッドのノズルピッチは３６０ｄｐｉ程度であることが好ましい。なお、本発明でいうｄｐｉとは、２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。
基材２は、ロール状に積層された状態で、搬送機構１０１より矢印方向に繰り出される。 <Method of manufacturing an organic EL element using an inkjet recording method>
FIG. 3 is a conceptual diagram showing a method for manufacturing an organic EL element by ink-jet recording.
Fig. 3(a) is a schematic diagram showing an example of a single-pass type (line head type) ink jet recording apparatus applicable to the manufacturing method of the organic EL element of the present invention. In Fig. 4(a), 100 is a line head type head unit, which is composed of heads 102 to 104 that eject inks of different hues (for example, inks containing compounds that emit red (R), green (G), and blue (B) light), and the nozzle pitch of each head is preferably about 360 dpi. In the present invention, dpi refers to the number of dots per 2.54 cm.
The substrate 2 is stacked in a roll shape and is fed out in the direction of the arrow by a transport mechanism 101 .

図３（ｂ）は、各ヘッド底部におけるノズルの配置を示す底面図である。図３（ｂ）に示すように、それぞれヘッド１０２とヘッド１０３、ヘッド１０４のノズルＮは、半ピッチずつずらした千鳥配列となっている。このようなヘッド構成とすることにより、より緻密な画像を形成することができる。 Figure 3(b) is a bottom view showing the arrangement of nozzles at the bottom of each head. As shown in Figure 3(b), the nozzles N of head 102, head 103, and head 104 are arranged in a staggered pattern, shifted by half a pitch. By configuring the heads in this way, it is possible to form a more detailed image.

図３（ｃ）は、ヘッドユニット構成の一例を示す模式図である。幅の広い基材２を用いる場合は、基材２の全幅をカバーするように複数個のヘッドＨを千鳥配列に配置したヘッドユニットＨＵを用いることも好ましい。 Figure 3(c) is a schematic diagram showing an example of a head unit configuration. When using a wide substrate 2, it is also preferable to use a head unit HU in which multiple heads H are arranged in a staggered pattern to cover the entire width of the substrate 2.

前記インクジェット記録装置を用いて、基材２を連続的に搬送しながら、基材２上に、有機ＥＬ素子のベース層（発光層、非発光層）を形成する発光性ドーパントや非発光材料等と溶媒を含有する塗布液（インク）、又は、有機機能層を形成する有機機能材料等と溶媒を含有する塗布液（インク）を、インク液滴として順次、基材２上に射出して、ベース層や有機機能層を形成する。 Using the inkjet recording device, while continuously transporting the substrate 2, a coating liquid (ink) containing a luminescent dopant or non-luminescent material and a solvent that forms the base layer (light-emitting layer, non-light-emitting layer) of the organic EL element, or a coating liquid (ink) containing an organic functional material and a solvent that forms the organic functional layer, is ejected onto the substrate 2 in the form of ink droplets in sequence to form the base layer or organic functional layer.

４．その他
＜有機ＥＬ素子のその他の構成＞
本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の構成のその他の概要については、例えば、特開２０１３－１５７６３４号公報、特開２０１３－１６８５５２号公報、特開２０１３－１７７３６１号公報、特開２０１３－１８７２１１号公報、特開２０１３－１９１６４４号公報、特開２０１３－１９１８０４号公報、特開２０１３－２２５６７８号公報、特開２０１３－２３５９９４号公報、特開２０１３－２４３２３４号公報、特開２０１３－２４３２３６号公報、特開２０１３－２４２３６６号公報、特開２０１３－２４３３７１号公報、特開２０１３－２４５１７９号公報、特開２０１４－００３２４９号公報、特開２０１４－００３２９９号公報、特開２０１４－０１３９１０号公報、特開２０１４－０１７４９３号公報、特開２０１４－０１７４９４号公報等に記載されている構成を挙げることができる。 4. Others <Other configurations of the organic EL element>
Other outlines of the configuration of organic EL elements applicable to the present invention are described in, for example, JP-A-2013-157634, JP-A-2013-168552, JP-A-2013-177361, JP-A-2013-187211, JP-A-2013-191644, JP-A-2013-191804, JP-A-2013-225678, JP-A-2013-235994, and JP-A-2013-243 Examples of the configurations described in JP-A-234, JP-A-2013-243236, JP-A-2013-242366, JP-A-2013-243371, JP-A-2013-245179, JP-A-2014-003249, JP-A-2014-003299, JP-A-2014-013910, JP-A-2014-017493, JP-A-2014-017494, and the like can be given.

＜有機ＥＬ素子の用途＞
本発明の有機ＥＬ素子は、表示デバイス、ディスプレイ、各種発光光源として用いることができる。
発光光源として、例えば、照明装置（家庭用照明、車内照明）、時計や液晶用バックライト、看板広告、信号機、光記憶媒体の光源、電子写真複写機の光源、光通信処理機の光源、光センサーの光源等が挙げられるがこれに限定するものではないが、特に液晶表示装置のバックライト、照明用光源としての用途に有効に用いることができる。 <Applications of organic EL elements>
The organic EL element of the present invention can be used as a display device, a display, or various light emitting sources.
Examples of light-emitting light sources include, but are not limited to, lighting devices (household lighting, vehicle lighting), backlights for clocks and liquid crystal displays, billboard advertisements, traffic lights, light sources for optical storage media, light sources for electrophotographic copiers, light sources for optical communication processing devices, and light sources for optical sensors. In particular, the light sources can be effectively used as backlights for liquid crystal display devices and light sources for illumination.

本発明における有機ＥＬ素子においては、必要に応じ成膜時にメタルマスクやインクジェット記録法等でパターニングを施してもよい。パターニングする場合は、電極のみをパターニングしてもよいし、電極と発光層をパターニングしてもよいし、素子全層をパターニングしてもよく、素子の作製においては、従来公知の方法を用いることができる。 In the organic EL element of the present invention, patterning may be performed during film formation using a metal mask, inkjet recording, or the like, if necessary. When patterning, only the electrodes may be patterned, or the electrodes and the light-emitting layer may be patterned, or all layers of the element may be patterned. Conventionally known methods can be used to fabricate the element.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）で行われた。また、特記しない限り、「％」及び「部」は、それぞれ、「質量％」及び「質量部」を意味する。 The present invention will be specifically explained below with reference to examples, but the present invention is not limited to these. In the following examples, unless otherwise specified, operations were performed at room temperature (25°C). Furthermore, unless otherwise specified, "%" and "parts" mean "% by mass" and "parts by mass", respectively.

なお、以下で使用する化合物例の一覧を示す。

Figure 0007463833000042
Examples of compounds that can be used are listed below.
Figure 0007463833000042

Figure 0007463833000043
Figure 0007463833000043

（１）実施例１
［有機ＥＬ素子１０１の作製］
以下のように、基材上に、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／ベース層（発光層及び非発光層）／電子輸送層／電子注入層／陰極を積層して封止し、ボトムエミッション型の有機ＥＬ素子１０１を作製した。 (1) Example 1
[Fabrication of Organic EL Element 101]
As described below, an anode, a hole injection layer, a hole transport layer, a base layer (a light-emitting layer and a non-light-emitting layer), an electron transport layer, an electron injection layer, and a cathode were laminated on a substrate and sealed to prepare a bottom-emission type organic EL element 101.

各有機ＥＬ素子は一つの基板上に4つの発光領域を持つように作成した。非発光領域が４ｍｍ×４ｍｍ、発光領域が２ｍｍ×２ｍｍ、発光領域は非発光領域の中央に位置するように作成した。４つの領域は陽極、陰極ともに共通の電極からなるように作成した。 Each organic EL element was created to have four light-emitting regions on one substrate. The non-light-emitting region was 4 mm x 4 mm, the light-emitting region was 2 mm x 2 mm, and the light-emitting region was created to be located in the center of the non-light-emitting region. The four regions were created so that both the anode and cathode were made of a common electrode.

＜陽極の形成＞
陽極として、１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍのガラス基板上に、ＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）を厚さ１００ｎｍの成膜を施した基板（ＮＨテクノグラス製ＮＡ４５）を用意し、その基板上にパターニングを行った。その後、このＩＴＯ透明電極を設けた基板をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、さらにＵＶオゾン洗浄を５分間行った。 <Formation of the anode>
A substrate (NH Technoglass NA45) was prepared as an anode by forming a 100 nm thick ITO (indium tin oxide) film on a 100 mm x 100 mm x 1.1 mm glass substrate, and patterning was performed on the substrate. The substrate with the ITO transparent electrode was then ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and further cleaned with UV ozone for 5 minutes.

＜正孔注入層の形成＞
陽極を形成した基材をイソプロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、ＵＶオゾン洗浄を５分間行った。そして、陽極を形成した基材上に、特許第４５０９７８７号公報の実施例１６と同様に調製したポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）／ナフィオン(登録商標)）の分散液をイソプロピルアルコールで希釈した２質量％溶液をダイコート法にて塗布、自然乾燥し、層厚４０ｎｍの正孔注入層を形成した。 <Formation of Hole Injection Layer>
The substrate on which the anode was formed was ultrasonically cleaned with isopropyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes. A 2 mass % solution of a poly(3,4-ethylenedioxythiophene)/Nafion (registered trademark) dispersion prepared in the same manner as in Example 16 of Japanese Patent No. 4509787, diluted with isopropyl alcohol, was applied onto the substrate on which the anode was formed by a die coating method, and naturally dried to form a hole injection layer having a layer thickness of 40 nm.

＜正孔輸送層の形成＞
次に、正孔注入層を形成した基材を、窒素ガス（グレードＧ１）を用いた窒素雰囲気下に移し、下記組成の正孔輸送層形成用塗布液を用いて、ダイコート法にて５ｍ／ｍｉｎで塗布、自然乾燥した後に、１３０℃で３０分間保持し、層厚３０ｎｍの正孔輸送層を形成した。 <Formation of Hole Transport Layer>
Next, the substrate on which the hole injection layer was formed was transferred to a nitrogen atmosphere using nitrogen gas (grade G1), and a hole transport layer forming coating solution having the following composition was applied at 5 m/min by a die coating method, naturally dried, and then held at 130° C. for 30 minutes to form a hole transport layer with a layer thickness of 30 nm.

（正孔輸送層形成用塗布液）
正孔輸送材料（化合物（６０））（質量平均分子量Ｍｗ＝８００００）
１０質量部
クロロベンゼン ３０００質量部 (Coating solution for forming hole transport layer)
Hole transport material (compound (60)) (mass average molecular weight Mw=80,000)
10 parts by weight Chlorobenzene 3,000 parts by weight

＜ベース層（非発光層）の形成＞
上記ＩＴＯ基板を窒素雰囲気下に移し、非発光層形成用のインク組成物を用い、コニカミノルタ社製のピエゾ方式インクジェットプリンターヘッド「ＫＭ１０２４ｉ」を用いて、インクジェット印刷法による有機ＥＬ素子の製造方法にしたがって、乾燥後の層厚が４０ｎｍとなる条件で、射出したのち、１２０℃で３０分間加熱乾燥し、ベース層（非発光層）とした。非発光層形成用のインク組成物はホスト化合物（Ｈｏｓｔ－１）９０ｍｇを３gのプロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡＣ）に溶解した溶液を用いた。 <Formation of base layer (non-light-emitting layer)>
The ITO substrate was transferred to a nitrogen atmosphere, and the ink composition for forming a non-light-emitting layer was used, and ejected using a piezo inkjet printer head "KM1024i" manufactured by Konica Minolta, Inc., under conditions that the layer thickness after drying would be 40 nm, according to a manufacturing method of an organic EL element by inkjet printing, and then heated and dried at 120°C for 30 minutes to form a base layer (non-light-emitting layer). The ink composition for forming a non-light-emitting layer was a solution in which 90 mg of a host compound (Host-1) was dissolved in 3 g of propylene glycol monomethyl acetate (PGMAC).

（ベース層（非発光層）層形成用のインク組成物）
Ｈｏｓｔ－１ ３質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
１００質量部 (Ink composition for forming base layer (non-light-emitting layer))
Host-1 3 parts by weight Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
100 parts by weight

＜発光層の形成＞
次いで、下記組成の発光層形成用のインク組成物を用い、コニカミノルタ社製のピエゾ方式インクジェットプリンターヘッド「ＫＭ１０２４ｉ」を用いて、インクジェット印刷法による有機ＥＬ素子の製造方法にしたがって、乾燥後の層厚が２０ｎｍとなる条件で、前記ベース層に、２ｍｍ角となるように４箇所に所定間隔で射出したのち、１２０℃で３０分間乾燥して、発光層を形成した。 <Formation of Light-Emitting Layer>
Next, an ink composition for forming an emitting layer having the following composition was used, and using a piezo type inkjet printer head "KM1024i" manufactured by Konica Minolta, Inc., in accordance with a method for manufacturing an organic EL element by inkjet printing, the ink was ejected onto the base layer at four locations at predetermined intervals so as to form a 2 mm square, under conditions such that the layer thickness after drying would be 20 nm, and then dried at 120°C for 30 minutes to form a emitting layer.

（発光層形成用のインク組成物）
リン光発光性ドーパント（Ｄｐ－１） ０．７２質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
１００質量部 (Ink composition for forming light-emitting layer)
Phosphorescent dopant (Dp-1) 0.72 parts by mass
Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
100 parts by weight

＜電子輸送層の形成＞
続いて、下記組成の電子輸送層形成用のインク組成物を用い、コニカミノルタ社製のピエゾ方式インクジェットプリンターヘッド「ＫＭ１０２４ｉ」を用いて、インクジェット印刷法による有機ＥＬ素子の製造方法に従って、２５℃で乾燥後の層厚が、１０ｎｍ、３０ｎｍ、５０ｎｍ、７０ｎｍとなるよう４箇所、発光層上に形成し、発光層以外の非発光層上には、厚さ１５０ｎｍの電子輸送層を形成した。発光層上に射出したのち、１２０℃で３０分間乾燥して、電子輸送層を形成した。 <Formation of Electron Transport Layer>
Next, an ink composition for forming an electron transport layer having the following composition was used, and a piezoelectric inkjet printer head "KM1024i" manufactured by Konica Minolta was used to form an electron transport layer at four locations on the light-emitting layer so that the layer thicknesses after drying at 25°C were 10 nm, 30 nm, 50 nm, and 70 nm, according to a method for producing an organic EL element by inkjet printing, and an electron transport layer having a thickness of 150 nm was formed on the non-light-emitting layer other than the light-emitting layer. After being ejected onto the light-emitting layer, the layer was dried at 120°C for 30 minutes to form an electron transport layer.

（電子輸送層形成用のインク組成物）
電子輸送性化合物Ｍ－３３ ０．３質量部
２、２、３、３－テトラフルオロ－１－プロパノール（ＴＦＰＯ）
１００質量部 (Ink composition for forming electron transport layer)
Electron transport compound M-33 0.3 parts by mass 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol (TFPO)
100 parts by weight

＜電子注入層、陰極の形成＞
続いて、基板を大気に曝露することなく真空蒸着装置へ取り付けた。また、モリブデン製抵抗加熱ボートにフッ化ナトリウム及びフッ化カリウムを入れたものを真空蒸着装置に取り付け、真空槽を４×１０－５Ｐａまで減圧した。その後、ボートに通電して加熱し、フッ化ナトリウムを０．０２ｎｍ／秒で前記電子輸送層上に蒸着し、膜厚１ｎｍの薄膜を形成した。同様に、フッ化カリウムを０．０２ｎｍ／秒でフッ化ナトリウム薄膜上に蒸着し、層厚１．５ｎｍの電子注入層を形成した。
引き続き、アルミニウムを蒸着して厚さ１００ｎｍの陰極を形成した。陰極は画素部が４ｍｍ角となるようにし、４ｍｍ角の中に２ｍｍ角の発光領域がある素子を作成した。 <Formation of electron injection layer and cathode>
Subsequently, the substrate was attached to a vacuum deposition apparatus without being exposed to the atmosphere. A molybdenum resistance heating boat containing sodium fluoride and potassium fluoride was attached to the vacuum deposition apparatus, and the vacuum chamber was reduced in pressure to 4×10-5 Pa. Thereafter, the boat was energized to heat it, and sodium fluoride was evaporated onto the electron transport layer at 0.02 nm/sec to form a thin film having a thickness of 1 nm. Similarly, potassium fluoride was evaporated onto the sodium fluoride thin film at 0.02 nm/sec to form an electron injection layer having a thickness of 1.5 nm.
Subsequently, aluminum was evaporated to form a cathode having a thickness of 100 nm. The cathode was formed so that the pixel portion was 4 mm square, and an element having a 2 mm square light-emitting region within a 4 mm square was produced.

＜封止＞
以上の工程により形成した積層体に対し、市販のロールラミネート装置を用いて封止基材を接着した。
封止基材として、可撓性を有する厚さ３０μｍのアルミニウム箔（東洋アルミニウム（株）製）に、ドライラミネーション用の２液反応型のウレタン系接着剤を用いて層厚１．５μｍの接着剤層を設け、厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムをラミネートしたものを作製した。 <Sealing>
A sealing substrate was adhered to the laminate formed by the above steps using a commercially available roll laminator.
The sealing substrate was prepared by forming an adhesive layer having a thickness of 1.5 μm on a flexible aluminum foil (manufactured by Toyo Aluminum Co., Ltd.) using a two-liquid reactive urethane adhesive for dry lamination, and laminating a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 12 μm.

封止用接着剤として熱硬化性接着剤を、ディスペンサーを使用して封止基材のアルミニウム箔の接着面（つや面）に沿って厚さ２０μｍで均一に塗布した。これを１００Ｐａ以下の真空下で１２時間乾燥させた。さらに、その封止基材を露点温度－８０℃以下、酸素濃度０．８ｐｐｍの窒素雰囲気下へ移動して、１２時間以上乾燥させ、封止用接着剤の含水率が１００ｐｐｍ以下となるように調整した。 A thermosetting adhesive was applied as a sealing adhesive to a uniform thickness of 20 μm along the adhesive surface (glossy surface) of the aluminum foil of the sealing substrate using a dispenser. This was dried for 12 hours under a vacuum of 100 Pa or less. The sealing substrate was then moved to a nitrogen atmosphere with a dew point temperature of -80°C or less and an oxygen concentration of 0.8 ppm, where it was dried for 12 hours or more, and the moisture content of the sealing adhesive was adjusted to 100 ppm or less.

熱硬化性接着剤としては下記の（Ａ）～（Ｃ）を混合したエポキシ系接着剤を用いた。
（Ａ）ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（ＤＧＥＢＡ）
（Ｂ）ジシアンジアミド（ＤＩＣＹ）
（Ｃ）エポキシアダクト系硬化促進剤 As the thermosetting adhesive, an epoxy adhesive containing the following (A) to (C) was used.
(A) Bisphenol A diglycidyl ether (DGEBA)
(B) Dicyandiamide (DICY)
(C) Epoxy adduct curing accelerator

上記封止基材を上記積層体に対して密着・配置して、圧着ロールを用いて、圧着ロール温度１００℃、圧力０．５ＭＰａ、装置速度０．３ｍ／ｍｉｎの圧着条件で密着封止した。
以上のようにして、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／ベース層（発光層及び非発光層）／電子輸送層／電子注入層／ 陰極の構成の有機ＥＬ素子１０１を得た。 The above-mentioned sealing substrate was placed and adhered closely to the above-mentioned laminate, and was sealed closely using a pressure roll under pressure conditions of a pressure roll temperature of 100° C., a pressure of 0.5 MPa, and an apparatus speed of 0.3 m/min.
In this manner, an organic EL element 101 having a structure of anode/hole injection layer/hole transport layer/base layer (light emitting layer and non-light emitting layer)/electron transport layer/electron injection layer/cathode was obtained.

［有機ＥＬ素子１０２～１０５の作製］
前記有機ＥＬ素子１０１の作製において、各発光層上に形成する各電子輸送層をそれぞれ下記表Ｉに示したとおりの厚さとなるように形成した以外は同様にして有機ＥＬ素子１０２～１０５を作製した。
なお、下記表において、ＨＩは正孔注入層、ＨＴは正孔輸送層、ＥＴは電子輸送層、ＥＩは電子注入層を表す。 [Preparation of organic EL elements 102 to 105]
Organic EL elements 102 to 105 were prepared in the same manner as in the preparation of the organic EL element 101, except that the electron transport layers formed on the light-emitting layers were formed to have thicknesses as shown in Table I below.
In the following table, HI represents a hole injection layer, HT represents a hole transport layer, ET represents an electron transport layer, and EI represents an electron injection layer.

［有機ＥＬ素子１０６の作製］
前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様の方法を用いて、陽極、正孔注入層、正孔輸送層を形成したのち、非発光層の形成を行った。非発光層は、前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様の方法を用いて、発光部となる２ｍｍ×２ｍｍの部分に非発光層が形成されないようにパターニングを行い、ベース層のない発光部が作成できるようにした。 [Fabrication of Organic EL Element 106]
A non-light-emitting layer was formed after forming an anode, a hole injection layer, and a hole transport layer using the same method as in the preparation of the organic EL element 101. The non-light-emitting layer was patterned using the same method as in the preparation of the organic EL element 101 so that a non-light-emitting layer was not formed in a 2 mm x 2 mm portion that was to become a light-emitting portion, thereby enabling the creation of a light-emitting portion without a base layer.

＜発光層の形成＞
次いで、前記正孔輸送層上で前記発光領域に相当する２ｍｍ×２ｍｍの箇所に、それぞれ下記発光層形成用塗布液を用いて、前述の図３に記載の構造からなるピエゾ方式インクジェットプリンターヘッドであるコニカミノルタ社製のピエゾ方式インクジェットプリンターヘッド「ＫＭ１０２４ｉ」を用いて、４０℃で、乾燥後の層厚が４０ｎｍとなる条件、射出したのち、１２０℃で３０分間乾燥して、発光層を形成した。 <Formation of Light-Emitting Layer>
Next, on the hole transport layer, a coating solution for forming a light-emitting layer described below was used and ejected onto a 2 mm × 2 mm area corresponding to the light-emitting region using a piezoelectric inkjet printer head "KM1024i" manufactured by Konica Minolta, which is a piezoelectric inkjet printer head having the structure shown in Figure 3 described above, under conditions such that the layer thickness after drying would be 40 nm at 40°C, and then dried at 120°C for 30 minutes to form a light-emitting layer.

（発光層形成用塗布液）
リン光発光性ドーパント（Ｄｐ－１） ０．７２質量部
Ｈｏｓｔ－１ ２．１６質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
２００質量部
続いて、前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様な方法を用いて、電子輸送層、電子注入層、陰極を形成し、有機ＥＬ素子１０６を得た。 (Coating solution for forming light-emitting layer)
Phosphorescent dopant (Dp-1) 0.72 parts by mass
Host-1 2.16 parts by mass Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
200 parts by weight Subsequently, an electron transport layer, an electron injection layer and a cathode were formed in the same manner as in the preparation of the organic EL element 101, and an organic EL element 106 was obtained.

［有機ＥＬ素子１０７の作製］
発光層の範囲を４ｍｍ×４ｍｍとした以外は、前記有機ＥＬ素子１０６の作製と同様の方法を用いて、有機ＥＬ素子１０７を作製した。 [Fabrication of Organic EL Element 107]
Organic EL element 107 was produced in the same manner as in the production of organic EL element 106, except that the area of the light-emitting layer was 4 mm×4 mm.

［有機ＥＬ素子１０８の作製］
ベース層の塗布液のホスト層（非発光層）の材料をポリスチレン（分子量２６万）に変更した以外は、前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様の方法を用いて、有機ＥＬ素子１０８を作製した。 [Fabrication of Organic EL Element 108]
Organic EL element 108 was produced in the same manner as organic EL element 101, except that the material of the host layer (non-light-emitting layer) of the coating liquid for the base layer was changed to polystyrene (molecular weight: 260,000).

［有機ＥＬ素子１０９の作製］
ベース層の塗布液のホスト層（非発光層）の材料をポリスチレン（分子量２６万）とホスト材料に変更した以外は、前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様の方法を用いて、有機ＥＬ素子１０９を作製した。
（ベース層（非発光層）層形成用のインク組成物）
Ｈｏｓｔ－１ １．５質量部
ポリスチレン（分子量２６万） １．５質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
１００質量部 [Fabrication of Organic EL Element 109]
Organic EL element 109 was prepared in the same manner as organic EL element 101, except that the material of the host layer (non-light-emitting layer) of the coating solution for the base layer was changed to polystyrene (molecular weight 260,000) as the host material.
(Ink composition for forming base layer (non-light-emitting layer))
Host-1 1.5 parts by weight Polystyrene (molecular weight 260,000) 1.5 parts by weight Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
100 parts by weight

［有機ＥＬ素子１１０の作製］
前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様の方法を用いて、陽極、正孔注入層、正孔輸送層を形成したのち、以下の発光層を形成した。
＜発光層の形成＞
次いで、前記正孔輸送層上で前記発光領域に相当する２ｍｍ×２ｍｍの箇所に、それぞれ下記発光層形成用塗布液を用いて、前述の図３に記載の構造からなるピエゾ方式インクジェットプリンターヘッドであるコニカミノルタ社製のピエゾ方式インクジェットプリンターヘッド「ＫＭ１０２４ｉ」を用いて、４０℃で、乾燥後の層厚が４０ｎｍとなる条件、射出したのち、１２０℃で３０分間乾燥して、発光層を形成した。 [Fabrication of organic EL element 110]
Using the same method as in the preparation of the organic EL element 101, an anode, a hole injection layer, and a hole transport layer were formed, and then the following light-emitting layer was formed.
<Formation of Light-Emitting Layer>
Next, on the hole transport layer, a 2 mm × 2 mm area corresponding to the light-emitting region was coated with the following light-emitting layer-forming coating solution using a piezoelectric inkjet printer head "KM1024i" manufactured by Konica Minolta, which is a piezoelectric inkjet printer head having the structure shown in Figure 3 described above, under conditions such that the layer thickness after drying would be 40 nm at 40°C, and then dried at 120°C for 30 minutes to form a light-emitting layer.

（発光層形成用塗布液）
リン光発光性ドーパント（Ｄｐ－１） ０．７２質量部
Ｈｏｓｔ－１ ２．１６質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
２００質量部
続いて、前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様な方法を用いて、電子輸送層、電子注入層、陰極を形成し、有機ＥＬ素子１１０を得た。
なお、有機ＥＬ素子１１０については発光領域の発光がうまく検出されなかった。 (Coating solution for forming light-emitting layer)
Phosphorescent dopant (Dp-1) 0.72 parts by mass
Host-1 2.16 parts by mass Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
200 parts by weight Subsequently, an electron transport layer, an electron injection layer and a cathode were formed in the same manner as in the preparation of the organic EL element 101, and an organic EL element 110 was obtained.
Regarding the organic EL element 110, the light emitted from the light-emitting region was not detected well.

［評価］
＜発光領域の輝度＞
各サンプルの画素ごとに５Ｖの電圧を同時印加し、発光させた際の輝度に差があるかを目視にて評価した。
（評価基準）
◎：４発光領域間の輝度差がはっきりわかる
〇：４発光領域間に輝度の差はあるが、発光領域間の輝度差は小さい
×：４発光領域間に輝度の差は観察されない [evaluation]
<Brightness of the luminous area>
A voltage of 5 V was simultaneously applied to each pixel of each sample, and the difference in luminance when light was emitted was visually evaluated.
(Evaluation criteria)
◎: The difference in luminance between the four light-emitting regions is clearly noticeable. ◯: There is a difference in luminance between the four light-emitting regions, but the difference in luminance between the light-emitting regions is small. ×: No difference in luminance is observed between the four light-emitting regions.

＜リーク＞
有機ＥＬ素子について、整流比を下記のように評価した。
各有機ＥＬ素子を準備し、順電圧と逆電圧（＋５Ｖ／－５Ｖ）の電圧を印加したときの電流値を測定し、下記の計算式により整流比を算出した上で平均値を求め、以下の指標で整流比として評価した。大面積化に対応するためには、下記のランクで△又は〇のレベルであることが必須で、○のレベルであることが好ましい。
整流比＝＋５Ｖ印加時の電流値／－５Ｖ印加時の電流値
（評価基準）
○：整流比が１．０×１０２以上
△：整流比が１．０×１０１以上１．０×１０２未満
×：整流比が１．０×１０１未満 <LEAK>
The rectification ratio of the organic EL element was evaluated as follows.
Each organic EL element was prepared, and the current value was measured when a forward voltage and a reverse voltage (+5V/-5V) were applied, and the rectification ratio was calculated using the following formula, and the average value was calculated and evaluated as the rectification ratio using the following index. In order to accommodate large areas, it is essential that the rectification ratio is at the level of △ or ◯ in the following rankings, and ◯ is preferable.
Rectification ratio = current value when +5V is applied / current value when -5V is applied (evaluation standard)
○: Rectification ratio is 1.0×10 2 or more △: Rectification ratio is 1.0×10 1 or more and less than 1.0×10 2 ×: Rectification ratio is less than 1.0×10 1

＜境界部のボケの有無＞
（コントラストの評価）
通常の実験室内の蛍光灯点灯下で、所定の台上に発光面を上にして素子を置くとともに有機ＥＬ素子に５Ｖの電圧を印加して、カメラを経由してＰＣ画面上で発光領域と非発光領域の境界を目視で観察し、ボケの有無を評価した。 <Whether or not there is blurring at the boundary>
(Contrast Evaluation)
Under the lighting of a normal fluorescent lamp in a laboratory, the element was placed on a specified stand with the light-emitting surface facing up, and a voltage of 5 V was applied to the organic EL element. The boundary between the light-emitting area and the non-light-emitting area was visually observed on a PC screen via a camera, and the presence or absence of blurring was evaluated.

Figure 0007463833000044
Figure 0007463833000044

（２）実施例２
［有機ＥＬ素子１１０の作製］
前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様の方法を用いて、陽極、正孔注入層、正孔輸送層を形成、ベース層（非発光層）の形成を行った。ベース層の塗布液は以下のように変更した変更した。
（ベース層（非発光層）形成用のインク組成物）
ホスト化合物ＴＨ－２ １．０質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
１００質量部
次に、以下のように発光層を形成した。 (2) Example 2
[Fabrication of organic EL element 110]
An anode, a hole injection layer, a hole transport layer, and a base layer (non-light emitting layer) were formed in the same manner as in the preparation of the organic EL element 101. The coating liquid for the base layer was changed as follows.
(Ink composition for forming base layer (non-light-emitting layer))
Host compound TH-2 1.0 part by mass
Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
100 parts by weight Next, a light-emitting layer was formed as follows.

＜発光層の形成＞
下記組成の発光層形成用のインク組成物（ｉ）、（ii）を用い、コニカミノルタ社製のピエゾ方式インクジェットプリンターヘッド「ＫＭ１０２４ｉ」を用いて、インクジェット印刷法による有機ＥＬ素子の製造方法にしたがって、乾燥後の層厚が２０ｎｍとなる条件で、前記ベース層に、２ｍｍ角となるようにそれぞれ２箇所に所定間隔で射出したのち、１２０℃で３０分間乾燥して、発光層を形成した。 <Formation of Light-Emitting Layer>
Ink compositions (i) and (ii) for forming an emitting layer having the following composition were used, and using a piezo type inkjet printer head "KM1024i" manufactured by Konica Minolta, Inc., in accordance with a method for producing an organic EL element by inkjet printing, the ink compositions were ejected onto the base layer at two locations at a predetermined interval so as to form a 2 mm square, under conditions such that the layer thickness after drying would be 20 nm, and then dried at 120°C for 30 minutes to form an emitting layer.

（発光層形成用のインク組成物（ｉ））
ドーパント材料ＲＤ－３ １質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
２０００質量部 (Ink composition (i) for forming light-emitting layer)
Dopant material RD-3 1 part by mass Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
2000 parts by weight

（発光層形成用のインク組成物（ii））
ドーパント材料ＧＤ－３ ６質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ） ２０００質量部 (Ink composition (ii) for forming light-emitting layer)
Dopant material GD-3 6 parts by weight Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc) 2000 parts by weight

＜電子輸送層の形成＞
続いて、下記組成の電子輸送層形成用のインク組成物を用い、コニカミノルタ社製のピエゾ方式インクジェットプリンターヘッド「ＫＭ１０２４ｉ」を用いて、インクジェット印刷法による有機ＥＬ素子の製造方法に従って、２５℃で乾燥後の層厚が、４０ｎｍ、８０ｎｍとなるよう２箇所、同一の材料がある発光層上に形成し、発光層以外の非発光層上には、厚さ１５０ｎｍの電子輸送層を形成した。発光層上に射出したのち、１２０℃で３０分間乾燥して、電子輸送層を形成した。
続いて、前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様の方法を用いて、電子注入層、陰極を形成し、有機ＥＬ素子１１０を得た。 <Formation of Electron Transport Layer>
Next, an ink composition for forming an electron transport layer having the following composition was used, and a piezoelectric inkjet printer head "KM1024i" manufactured by Konica Minolta was used to form an electron transport layer at two locations on the light-emitting layer having the same material, so that the layer thicknesses after drying at 25°C were 40 nm and 80 nm, according to a method for producing an organic EL element by inkjet printing. An electron transport layer having a thickness of 150 nm was formed on the non-light-emitting layer other than the light-emitting layer. After being ejected onto the light-emitting layer, the layer was dried at 120°C for 30 minutes to form an electron transport layer.
Subsequently, an electron injection layer and a cathode were formed in the same manner as in the preparation of the organic EL element 101, and an organic EL element 110 was obtained.

［有機ＥＬ素子１１１、１１２の作製］
発光層形成用のインク組成物を表IIにある材料に変更した以外は、有機ＥＬ素子１１０と同様の方法で、有機ＥＬ素子１１１、１１２を作製した。 [Fabrication of organic EL elements 111 and 112]
Organic EL elements 111 and 112 were produced in the same manner as organic EL element 110, except that the ink composition for forming the light-emitting layer was changed to the materials shown in Table II.

［評価］
＜発光領域の輝度（電子輸送層の膜厚違い）＞
各サンプルの画素ごとに５Ｖの電圧を同時印加し、同一のドーパント材料を用いた発光領域の発光の輝度に差があるかを目視にて評価した。
（評価基準）
◎：４発光領域間の輝度差がはっきりわかる
〇：４発光領域間に輝度の差はあるが、発光領域間の輝度差は小さい
×：４発光領域間に輝度の差は観察されない [evaluation]
<Luminance of the light-emitting region (differences in thickness of the electron transport layer)>
A voltage of 5 V was simultaneously applied to each pixel of each sample, and a visual evaluation was made to see whether there was a difference in luminance of light emitted from light-emitting regions using the same dopant material.
(Evaluation criteria)
◎: The difference in luminance between the four light-emitting regions is clearly noticeable. ◯: There is a difference in luminance between the four light-emitting regions, but the difference in luminance between the light-emitting regions is small. ×: No difference in luminance is observed between the four light-emitting regions.

＜発光領域の輝度（発光層材料違い）＞
各サンプルの画素ごとに５Ｖの電圧を同時印加し、電子輸送層の膜厚は同じでドーパント材料の異なる発光領域の発光に輝度に差があるかを評価した。発光させた際の輝度は、二次元色彩輝度計ＣＡ－２０００（コニカミノルタ社製）を用いて測定した。
◎：２か所の輝度差が３０％以内
○：２か所の輝度差が３０％より大きい <Luminance of the light-emitting area (different light-emitting layer materials)>
A voltage of 5 V was simultaneously applied to each pixel of each sample, and the difference in luminance was evaluated between the light-emitting regions having the same film thickness of the electron transport layer but different dopant materials. The luminance during light emission was measured using a two-dimensional color luminance meter CA-2000 (manufactured by Konica Minolta, Inc.).
◎: The difference in brightness between the two points is within 30%. ○: The difference in brightness between the two points is greater than 30%.

Figure 0007463833000045
Figure 0007463833000045

（３）実施例３
［有機ＥＬ素子１１３の作製］
前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様な方法を用いて、１素子に１６か所の発光領域を持つ素子を作製した。陽極、正孔注入層、正孔輸送層を形成、ベース層（非発光層）の形成を行った。ベース層の塗布液は以下のように変更した。
（ベース層（非発光層）形成用のインク組成物）
ホスト化合物ＴＨ－３ １．０質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
１００質量部
次に、以下のように発光層を形成した。 (3) Example 3
[Fabrication of Organic EL Element 113]
An element having 16 light-emitting regions was produced in one element using the same method as that for producing the organic EL element 101. An anode, a hole injection layer, and a hole transport layer were formed, and a base layer (non-light-emitting layer) was formed. The coating liquid for the base layer was changed as follows.
(Ink composition for forming base layer (non-light-emitting layer))
Host compound TH-3 1.0 part by mass
Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
100 parts by weight Next, a light-emitting layer was formed as follows.

＜発光層の形成＞
下記組成の発光層形成用のインク組成物（iii）、(iV)、（v）、(vi)を用い、コニカミノルタ社製のピエゾ方式インクジェットプリンターヘッド「ＫＭ１０２４ｉ」を用いて、インクジェット印刷法による有機ＥＬ素子の製造方法にしたがって、乾燥後の層厚が２０ｎｍとなる条件で、前記ベース層に、２ｍｍ角となるようにそれぞれ各色、４箇所 に所定間隔で射出したのち、１２０℃で３０分間乾燥して、発光層を形成した。 <Formation of Light-Emitting Layer>
Ink compositions (iii), (iV), (v), and (vi) for forming a light-emitting layer having the following composition were used, and using a piezo-type inkjet printer head "KM1024i" manufactured by Konica Minolta, Inc., in accordance with a method for producing an organic EL element by inkjet printing, ink compositions for each color were ejected onto the base layer at four locations at predetermined intervals so as to form a 2 mm square area under conditions such that the layer thickness after drying would be 20 nm, and then the resulting ink was dried at 120°C for 30 minutes to form a light-emitting layer.

（発光層形成用のインク組成物（iii））：青色発光部
ドーパント材料ＢＤ－５ ７質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
２０００質量部 (Ink composition (iii) for forming light-emitting layer): Blue light-emitting portion Dopant material BD-5 7 parts by mass
Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
2000 parts by weight

（発光層形成用のインク組成物（iv））：緑色発光部
ドーパント材料ＧＤ－４ ６質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
２０００質量部 (Ink composition (iv) for forming light-emitting layer): Green light-emitting portion Dopant material GD-4 6 parts by mass Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
2000 parts by weight

（発光層形成用のインク組成物（v））：赤色発光部
ドーパント材料ＲＤ－１ １質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
２０００質量部
（発光層形成用のインク組成物（vi））：白色発光部
ドーパント材料ＢＤ－５ ７質量部
ドーパント材料ＧＤ－４ ０．１質量部
ドーパント材料ＲＤ－１ ０．１質量部
プロピレングリコールモノメチルアセテート（ＰＧＭＡｃ）
２０００質量部 (Ink composition (v) for forming light-emitting layer): Red light-emitting portion Dopant material RD-1 1 part by mass Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
2000 parts by mass (Ink composition (vi) for forming light-emitting layer): White light-emitting part Dopant material BD-5 7 parts by mass Dopant material GD-4 0.1 parts by mass Dopant material RD-1 0.1 parts by mass Propylene glycol monomethyl acetate (PGMAc)
2000 parts by weight

＜電子輸送層の形成＞
続いて、下記組成の電子輸送層形成用のインク組成物を用い、コニカミノルタ社製のピエゾ方式インクジェットプリンターヘッド「ＫＭ１０２４ｉ」を用いて、インクジェット印刷法による有機ＥＬ素子の製造方法に従って、２５℃で乾燥後の層厚が、２０ｎｍ、４０ｎｍ、６０ｎｍ、８０ｎｍとなるよう４箇所、同一の材料がある発光層上に形成し、発光層以外の非発光層上には、厚さ１５０ｎｍの電子輸送層を形成した。発光層上に射出したのち、１２０℃で３０分間乾燥して、電子輸送層を形成した。
続いて、前記有機ＥＬ素子１０１の作製と同様な方法を用いて、電子注入層、陰極を形成し、有機ＥＬ素子１１３を得た。 <Formation of Electron Transport Layer>
Next, an ink composition for forming an electron transport layer having the following composition was used, and a piezoelectric inkjet printer head "KM1024i" manufactured by Konica Minolta was used to form an electron transport layer at four locations on the light-emitting layer having the same material, so that the layer thicknesses after drying at 25°C were 20 nm, 40 nm, 60 nm, and 80 nm, according to the method for producing an organic EL element by inkjet printing, and an electron transport layer having a thickness of 150 nm was formed on the non-light-emitting layer other than the light-emitting layer. After being ejected onto the light-emitting layer, the layer was dried at 120°C for 30 minutes to form an electron transport layer.
Subsequently, an electron injection layer and a cathode were formed in the same manner as in the preparation of the organic EL element 101, and an organic EL element 113 was obtained.

［評価］
＜発光領域の輝度（電子輸送層の膜厚違い）＞
各サンプルの画素ごとに５Ｖの電圧を同時印加し、同一のドーパント材料を用いた発光領域の発光の輝度に差があるかを目視にて評価した。
評価の結果、同一のドーパント材料を用いた発光領域の発光の輝度には目視でわかる明確な差が確認できた。
上記結果に示されるように、本発明の有機ＥＬ素子は、比較例の有機ＥＬ素子に比べて、正確に諧調を表現でき、また、リークの発生や境界部のボケを抑制することができることが認められる。 [evaluation]
<Luminance of the light-emitting region (differences in thickness of the electron transport layer)>
A voltage of 5 V was simultaneously applied to each pixel of each sample, and a visual evaluation was made to see whether there was a difference in luminance of light emitted from light-emitting regions using the same dopant material.
As a result of the evaluation, a clear difference in luminance of light emitted from light-emitting regions using the same dopant material was confirmed, which was visible to the naked eye.
As shown by the above results, it is recognized that the organic EL element of the present invention can express gradation more accurately than the organic EL element of the comparative example, and can suppress the occurrence of leakage and blurring at boundaries.

１ 有機ＥＬ素子
２ 基材
３ 第１電極（陽極）
４ 正孔注入層
５ 正孔輸送層
６ 発光層
７ 非発光層
８ 電子輸送層
９ 電子注入層
１０ 第２電極（陰極）
１１ 取り出し電極（第１電極）
１２ 取り出し電極（第２電極）
１３ 封止用接着層
１４ 封止基材
１５ ベース層
１Ａ 画像表示部
１Ｕ 有機機能層ユニット
Ｌ 発光領域
Ｎ 非発光領域
１００、ＨＵ ヘッドユニット
１０１ 搬送機構
１０２、１０３、１０４ ヘッド
１０５ ノズル 1 Organic EL element 2 Substrate 3 First electrode (anode)
4 Hole injection layer 5 Hole transport layer 6 Light-emitting layer 7 Non-light-emitting layer 8 Electron transport layer 9 Electron injection layer 10 Second electrode (cathode)
11 Extraction electrode (first electrode)
12 Extraction electrode (second electrode)
REFERENCE SIGNS LIST 13 Sealing adhesive layer 14 Sealing substrate 15 Base layer 1A Image display section 1U Organic functional layer unit L Light-emitting region N Non-light-emitting region 100, HU Head unit 101 Transport mechanism 102, 103, 104 Head 105 Nozzle

Claims (6)

共通の２つの電極と、当該電極に挟持された画像表示部と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子において、前記画像表示部が、複数の発光領域と非発光領域からなり、
前記画像表示部が、非発光材料を含有するベース層と、有機機能層とを有し、かつ、前記発光領域における前記ベース層に発光性ドーパントを含有し、前記非発光領域における前記ベース層に発光現象を視認できる量の発光性ドーパントを含有せず、
前記複数の発光領域のうち、少なくとも一部の前記発光領域における前記有機機能層の厚さが異なり、
前記非発光材料を含有する前記ベース層を形成した後に、当該ベース層に前記発光性ドーパントを含有するインク組成物を、前記発光領域となる箇所に射出することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 A method for manufacturing an organic electroluminescence element having two common electrodes and an image display section sandwiched between the electrodes, comprising the steps of:
In the organic electroluminescence element, the image display section is composed of a plurality of light-emitting regions and a non-light-emitting region,
the image display section has a base layer containing a non-light-emitting material and an organic functional layer, the base layer in the light-emitting region contains a light-emitting dopant, and the base layer in the non-light-emitting region does not contain a light-emitting dopant in an amount that allows a light-emitting phenomenon to be visually recognized;
a thickness of the organic functional layer in at least some of the light-emitting regions is different from one another;
A method for manufacturing an organic electroluminescence element , comprising: forming a base layer containing the non-light-emitting material; and then ejecting an ink composition containing the light-emitting dopant onto the base layer at a location that is to become the light-emitting region . 厚さの異なる前記有機機能層の厚さ範囲が、１０～８０ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 2. The method for manufacturing an organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the organic functional layers having different thicknesses have a thickness range of 10 to 80 nm. 前記非発光材料が、ホスト化合物であり、
厚さの異なる前記有機機能層が、電子輸送層であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 the non-emissive material is a host compound;
3. The method for manufacturing an organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the organic functional layer having a different thickness is an electron transport layer. 前記発光領域及び前記非発光領域におけるベース層が、１種以上の共通のホスト化合物からなることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 4. The method for producing an organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the base layers in the light-emitting region and the non-light-emitting region are made of one or more common host compounds. 前記共通のホスト化合物のＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位と、前記発光性ドーパントのＬＵＭＯ（最低空軌道）のエネルギー準位の差が、±０．４ｅＶ以内であることを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 5. The method for manufacturing an organic electroluminescence element according to claim 4, wherein a difference between an energy level of a LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) of the common host compound and an energy level of a LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) of the luminescent dopant is within ±0.4 eV. 前記複数の発光領域が、３色以上の発光画素で形成されることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 6. The method for manufacturing an organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the plurality of light-emitting regions are formed of light-emitting pixels of three or more colors.
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