JP7461961B2 - Plasma generating device and plasma processing method - Google Patents

Plasma generating device and plasma processing method Download PDF

Info

Publication number
JP7461961B2
JP7461961B2 JP2021548108A JP2021548108A JP7461961B2 JP 7461961 B2 JP7461961 B2 JP 7461961B2 JP 2021548108 A JP2021548108 A JP 2021548108A JP 2021548108 A JP2021548108 A JP 2021548108A JP 7461961 B2 JP7461961 B2 JP 7461961B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
cover
plasma
gas
tip
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021548108A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2021059469A1 (en
Inventor
俊之 池戸
卓也 岩田
聡一 白木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Publication of JPWO2021059469A1 publication Critical patent/JPWO2021059469A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7461961B2 publication Critical patent/JP7461961B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/4645—Radiofrequency discharges
    • H05H1/466—Radiofrequency discharges using capacitive coupling means, e.g. electrodes
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24—Generating plasma
    • H05H1/26—Plasma torches
    • H05H1/32—Plasma torches using an arc
    • H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/341—Arrangements for providing coaxial protecting fluids

Description

本開示は、プラズマガスを噴出するプラズマ発生装置等に関するものである。 This disclosure relates to a plasma generating device that ejects plasma gas.

プラズマ発生装置には、反応室において処理ガスをプラズマ化させ、プラズマ化されたプラズマガスを、ノズルなどに形成された噴出口から噴出する構造のものがある。下記特許文献には、そのようなプラズマ発生装置の一例が記載されている。 Some plasma generating devices are designed to convert a processing gas into plasma in a reaction chamber and eject the plasma gas from an outlet formed in a nozzle or the like. The following patent document describes an example of such a plasma generating device.

国際公開第２０１５／１４１７６８号International Publication No. 2015/141768

本明細書は、プラズマガスを噴出口から噴出する構造のプラズマ発生装置の実用性を向上させることを課題とする。 The objective of this specification is to improve the practicality of a plasma generating device that ejects plasma gas from an ejection port.

上記課題を解決するために、本明細書は、処理ガスをプラズマ化させるための反応室が形成された装置本体と、前記反応室内にその先端部を突出させた状態で固定される一対の電極と、前記一対の電極間で放電を生じさせることによってプラズマ化されたプラズマガスを噴出するための第１噴出口が形成され、前記装置本体の下面に設けられたノズルと、前記ノズルを覆うように前記装置本体に設けられ、前記第１噴出口から噴出されたプラズマガスを外部に噴出するための第２噴出口が形成されたノズルカバーとを備え、前記ノズルカバーが、前記装置本体の下面に設けられるセラミック製のカバー本体と、前記第２噴出口が形成され、前記カバー本体に設けられる金属製のカバー部とにより構成され、前記ノズルと前記カバー本体とはボルトで前記装置本体の下面に固定されるプラズマ発生装置を開示する。 In order to solve the above problems, this specification discloses a plasma generating device comprising: an apparatus main body in which a reaction chamber for turning a processing gas into plasma is formed; a pair of electrodes fixed with their tips protruding into the reaction chamber; a nozzle provided on an underside of the apparatus main body and having a first outlet for spraying plasma gas turned into plasma by generating a discharge between the pair of electrodes; and a nozzle cover provided on the apparatus main body to cover the nozzle and having a second outlet for spraying the plasma gas sprayed from the first outlet to the outside, the nozzle cover being composed of a ceramic cover main body provided on the underside of the apparatus main body and a metal cover part provided on the cover main body and having the second outlet formed therein , and the nozzle and the cover main body are fixed to the underside of the apparatus main body with bolts .

また、本明細書は、装置本体の内部に形成された反応室内にその先端部を突出させた状態で固定される一対の電極間で放電を生じさせることによって、前記装置本体の下面に設けられたノズルの第１噴出口からプラズマガスを被処理体に向って噴出するプラズマガス噴出工程と、前記装置本体の下面に設けられるセラミック製のカバー本体と、前記第２噴出口が形成されて前記カバー本体に設けられる金属製のカバー部とにより構成されるノズルカバーの前記第２噴出口からシールドガスを、前記第１噴出口から噴出されたプラズマガスに向って噴出することで、プラズマガスをシールドするシールドガス噴出工程とを含むプラズマ処理方法を開示する。 This specification also discloses a plasma processing method including: a plasma gas ejection process in which plasma gas is ejected from a first nozzle of a nozzle provided on the underside of the apparatus body toward a workpiece by generating an electric discharge between a pair of electrodes fixed with their tip portions protruding into a reaction chamber formed inside the apparatus body; and a shielding gas ejection process in which shielding gas is ejected from the second nozzle of a nozzle cover composed of a ceramic cover body provided on the underside of the apparatus body and a metal cover portion provided on the cover body in which the second nozzle is formed, thereby shielding the plasma gas.

本開示によれば、プラズマガスを噴出口から噴出する構造のプラズマ発生装置の実用性を向上させることができる。 The present disclosure makes it possible to improve the practicality of a plasma generating device that ejects plasma gas from an ejection port.

プラズマ装置を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a plasma device. プラズマヘッドを示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a plasma head. 電極及び本体側プラズマ通路の位置においてＸ方向及びＺ方向にプラズマヘッドを切断した断面図である。1 is a cross-sectional view of the plasma head cut in the X direction and the Z direction at the positions of the electrodes and the plasma passage on the main body side. FIG. 図３のＡＡ線における断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 3 . ノズルカバーの斜視図である。FIG. ノズルカバーの斜視図である。FIG.

以下、本発明を実施するための形態として、本発明の実施例を、図を参照しつつ詳しく説明する。 Below, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as a mode for carrying out the present invention.

図１に示すように、プラズマ装置１０は、プラズマヘッド１１、ロボット１３、制御ボックス１５を備えている。プラズマヘッド１１は、ロボット１３に取り付けられている。ロボット１３は、例えば、シリアルリンク型ロボット（多関節型ロボットと呼ぶこともできる）である。プラズマヘッド１１は、ロボット１３の先端に保持された状態でプラズマガスを照射可能となっている。プラズマヘッド１１は、ロボット１３の駆動に応じて３次元的に移動可能となっている。 As shown in FIG. 1, the plasma device 10 includes a plasma head 11, a robot 13, and a control box 15. The plasma head 11 is attached to the robot 13. The robot 13 is, for example, a serial link type robot (which can also be called an articulated robot). The plasma head 11 is capable of irradiating plasma gas while being held at the tip of the robot 13. The plasma head 11 is capable of moving three-dimensionally in response to the drive of the robot 13.

制御ボックス１５は、コンピュータを主体として構成され、プラズマ装置１０を統括的に制御する。制御ボックス１５は、プラズマヘッド１１に電力を供給する電源部１５Ａ及びプラズマヘッド１１へガスを供給するガス供給部１５Ｂを有している。電源部１５Ａは、電源ケーブル（図示略）を介してプラズマヘッド１１と接続されている。電源部１５Ａは、制御ボックス１５の制御に基づいて、プラズマヘッド１１の電極３３（図３及び図４参照）に印加する電圧を変更する。 The control box 15 is mainly composed of a computer, and controls the plasma device 10. The control box 15 has a power supply unit 15A that supplies power to the plasma head 11, and a gas supply unit 15B that supplies gas to the plasma head 11. The power supply unit 15A is connected to the plasma head 11 via a power cable (not shown). The power supply unit 15A changes the voltage applied to the electrode 33 (see Figures 3 and 4) of the plasma head 11 based on the control of the control box 15.

また、ガス供給部１５Ｂは、複数（本実施形態では４本）のガスチューブ１９を介してプラズマヘッド１１と接続されている。ガス供給部１５Ｂは、制御ボックス１５の制御に基づいて、後述する反応ガス、キャリアガス、ヒートガスをプラズマヘッド１１へ供給する。制御ボックス１５は、ガス供給部１５Ｂを制御し、ガス供給部１５Ｂからプラズマヘッド１１へ供給するガスの量などを制御する。これにより、ロボット１３は、制御ボックス１５の制御に基づいて動作し、テーブル１７の上に載置された被処理物Ｗに対してプラズマヘッド１１からプラズマガスを照射する。 The gas supply unit 15B is also connected to the plasma head 11 via multiple (four in this embodiment) gas tubes 19. The gas supply unit 15B supplies reactive gas, carrier gas, and heat gas, which will be described later, to the plasma head 11 under the control of the control box 15. The control box 15 controls the gas supply unit 15B, and controls the amount of gas supplied from the gas supply unit 15B to the plasma head 11. As a result, the robot 13 operates under the control of the control box 15, and irradiates the workpiece W placed on the table 17 with plasma gas from the plasma head 11.

また、制御ボックス１５は、タッチパネルや各種スイッチを有する操作部１５Ｃを備えている。制御ボックス１５は、各種の設定画面や動作状態（例えば、ガス供給状態など）等を操作部１５Ｃのタッチパネルに表示する。また、制御ボックス１５は、操作部１５Ｃに対する操作入力により各種の情報を受け付ける。 The control box 15 also includes an operation unit 15C having a touch panel and various switches. The control box 15 displays various setting screens and operating states (e.g., gas supply state, etc.) on the touch panel of the operation unit 15C. The control box 15 also accepts various pieces of information through operational input to the operation unit 15C.

図２に示すように、プラズマヘッド１１は、プラズマ生成部２１、ヒートガス供給部２３等を備えている。プラズマ生成部２１は、制御ボックス１５のガス供給部１５Ｂ（図１参照）から供給された処理ガスをプラズマ化して、プラズマガスを生成する。ヒートガス供給部２３は、ガス供給部１５Ｂから供給されたガスを加熱してヒートガスを生成する。本実施形態のプラズマヘッド１１は、プラズマ生成部２１において生成したプラズマガスを、ヒートガス供給部２３によって生成したヒートガスとともに、図１に示す被処理物Ｗへ噴出する。プラズマヘッド１１には、図２に示す矢印の方向に上流側から下流側へと処理ガスが供給される。なお、プラズマヘッド１１は、ヒートガス供給部２３を備えない構成でも良い。即ち、本開示のプラズマ装置は、ヒートガスを用いない構成でも良い。 2, the plasma head 11 includes a plasma generating unit 21, a heat gas supply unit 23, and the like. The plasma generating unit 21 generates plasma gas by converting the processing gas supplied from the gas supply unit 15B (see FIG. 1) of the control box 15 into plasma. The heat gas supply unit 23 generates heat gas by heating the gas supplied from the gas supply unit 15B. The plasma head 11 of this embodiment ejects the plasma gas generated in the plasma generating unit 21, together with the heat gas generated by the heat gas supply unit 23, onto the workpiece W shown in FIG. 1. The processing gas is supplied to the plasma head 11 from the upstream side to the downstream side in the direction of the arrow shown in FIG. 2. The plasma head 11 may be configured without including the heat gas supply unit 23. That is, the plasma device of the present disclosure may be configured without using heat gas.

図３及び図４に示すように、プラズマ生成部２１は、ヘッド本体部３１、一対の電極３３、プラズマ照射部３５等を含む。なお、図３は、一対の電極３３及び後述する複数の本体側プラズマ通路７１の位置に合わせて切断した断面図であり、図４は、図３のＡＡ線における断面図である。ヘッド本体部３１は、耐熱性の高いセラミックにより成形されており、そのヘッド本体部３１の内部には、プラズマガスを発生させる反応室３７が形成されている。一対の電極３３の各々は、例えば、円柱形状をなしており、その先端部を反応室３７に突出させた状態で固定されている。以下の説明では、一対の電極３３を、単に電極３３と称する場合がある。また、一対の電極３３が並ぶ方向をＸ方向、プラズマ生成部２１とヒートガス供給部２３とが並ぶ方向をＹ方向、円柱形状の電極３３の軸方向をＺ方向と称して説明する。また、本実施形態では、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向は互いに直交する方向である。 3 and 4, the plasma generating unit 21 includes a head main body 31, a pair of electrodes 33, a plasma irradiation unit 35, and the like. FIG. 3 is a cross-sectional view cut in accordance with the positions of the pair of electrodes 33 and a plurality of main body side plasma passages 71 described later, and FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 3. The head main body 31 is made of highly heat-resistant ceramic, and a reaction chamber 37 for generating plasma gas is formed inside the head main body 31. Each of the pair of electrodes 33 is, for example, cylindrical, and is fixed with its tip protruding into the reaction chamber 37. In the following description, the pair of electrodes 33 may be simply referred to as electrodes 33. The direction in which the pair of electrodes 33 are aligned is referred to as the X direction, the direction in which the plasma generating unit 21 and the heat gas supply unit 23 are aligned is referred to as the Y direction, and the axial direction of the cylindrical electrode 33 is referred to as the Z direction. In this embodiment, the X direction, the Y direction, and the Z direction are perpendicular to each other.

ヒートガス供給部２３は、ガス管４１、ヒータ４３、連結部４５等を備えている。ガス管４１及びヒータ４３は、ヘッド本体部３１の外周面に取り付けられ、図４に示すカバー４７によって覆われている。ガス管４１は、ガスチューブ１９（図１参照）を介して、制御ボックス１５のガス供給部１５Ｂに接続されている。ガス管４１には、ガス供給部１５Ｂからガス（例えば、空気）が供給される。ヒータ４３は、ガス管４１の途中に取り付けられている。ヒータ４３は、ガス管４１を流れるガスを温めてヒートガスを生成する。 The heat gas supply unit 23 includes a gas pipe 41, a heater 43, a connection unit 45, etc. The gas pipe 41 and the heater 43 are attached to the outer circumferential surface of the head main body unit 31 and are covered by a cover 47 shown in FIG. 4. The gas pipe 41 is connected to the gas supply unit 15B of the control box 15 via a gas tube 19 (see FIG. 1). Gas (e.g., air) is supplied to the gas pipe 41 from the gas supply unit 15B. The heater 43 is attached midway along the gas pipe 41. The heater 43 heats the gas flowing through the gas pipe 41 to generate heat gas.

図４に示すように、連結部４５は、ガス管４１をプラズマ照射部３５に連結するものである。プラズマ照射部３５がヘッド本体部３１に取り付けられた状態では、連結部４５は、一端部をガス管４１に接続され、他端部をプラズマ照射部３５に形成されたヒートガス通路５１に接続される。ヒートガス通路５１には、ガス管４１を介してヒートガスが供給される。 As shown in FIG. 4, the connecting portion 45 connects the gas pipe 41 to the plasma irradiation portion 35. When the plasma irradiation portion 35 is attached to the head main body portion 31, one end of the connecting portion 45 is connected to the gas pipe 41, and the other end is connected to a heat gas passage 51 formed in the plasma irradiation portion 35. Heat gas is supplied to the heat gas passage 51 via the gas pipe 41.

図４に示すように電極３３の一部の外周部は、セラミックス等の絶縁体で製造された電極カバー５３によって覆われている。電極カバー５３は、略中空筒状をなし、長手方向の両端部に開口が形成されている。電極カバー５３の内周面と電極３３の外周面との間の隙間は、ガス通路５５として機能する。電極カバー５３の下流側の開口は、反応室３７に接続されている。電極３３の下端は、電極カバー５３の下流側の開口から突出している。 As shown in FIG. 4, a part of the outer periphery of the electrode 33 is covered by an electrode cover 53 made of an insulator such as ceramics. The electrode cover 53 is generally hollow and cylindrical, with openings formed at both ends in the longitudinal direction. The gap between the inner periphery of the electrode cover 53 and the outer periphery of the electrode 33 functions as a gas passage 55. The downstream opening of the electrode cover 53 is connected to the reaction chamber 37. The lower end of the electrode 33 protrudes from the downstream opening of the electrode cover 53.

また、ヘッド本体部３１の内部には、反応ガス流路６１と、一対のキャリアガス流路６３とが形成されている。反応ガス流路６１は、ヘッド本体部３１の略中央部に設けられ、ガスチューブ１９（図１参照）を介してガス供給部１５Ｂと接続され、ガス供給部１５Ｂから供給される反応ガスを反応室３７へ流入させる。また、一対のキャリアガス流路６３は、Ｘ方向において反応ガス流路６１を間に挟んだ位置に配置されている。一対のキャリアガス流路６３の各々は、ガスチューブ１９（図１参照）を介してガス供給部１５Ｂと接続され、ガス供給部１５Ｂからキャリアガスが供給される。キャリアガス流路６３は、ガス通路５５を介してキャリアガスを反応室３７へ流入させる。 In addition, inside the head main body 31, a reaction gas flow passage 61 and a pair of carrier gas flow passages 63 are formed. The reaction gas flow passage 61 is provided in approximately the center of the head main body 31 and is connected to the gas supply unit 15B via a gas tube 19 (see FIG. 1), and causes the reaction gas supplied from the gas supply unit 15B to flow into the reaction chamber 37. The pair of carrier gas flow passages 63 are arranged at positions sandwiching the reaction gas flow passage 61 in the X direction. Each of the pair of carrier gas flow passages 63 is connected to the gas supply unit 15B via a gas tube 19 (see FIG. 1), and carrier gas is supplied from the gas supply unit 15B. The carrier gas flow passage 63 causes the carrier gas to flow into the reaction chamber 37 via the gas passage 55.

反応ガス（種ガス）としては、酸素（Ｏ２）を採用できる。ガス供給部１５Ｂは、例えば、反応ガス流路６１を介して、酸素と窒素（Ｎ２）との混合気体（例えば、乾燥空気（Ａｉｒ））を、反応室３７の電極３３の間に流入させる。以下、この混合気体を、便宜的に反応ガスと呼び、酸素を種ガスと呼ぶ場合がある。キャリアガスとしては、窒素を採用できる。ガス供給部１５Ｂは、ガス通路５５の各々から、一対の電極３３の各々を取り巻くようにキャリアガスを流入させる。 Oxygen (O2) can be used as the reactive gas (seed gas). The gas supply unit 15B, for example, flows a mixed gas of oxygen and nitrogen (N2) (e.g., dry air (Air)) between the electrodes 33 of the reaction chamber 37 via the reactive gas flow passage 61. Hereinafter, for convenience, this mixed gas may be referred to as the reactive gas, and oxygen may be referred to as the seed gas. Nitrogen can be used as the carrier gas. The gas supply unit 15B flows the carrier gas from each of the gas passages 55 so as to surround each of the pair of electrodes 33.

一対の電極３３には、制御ボックス１５の電源部１５Ａから交流の電圧が印加される。電圧を印加することによって、例えば、図４に示すように、反応室３７内において、一対の電極３３の下端の間に、擬似アークＡが発生する。この擬似アークＡを反応ガスが通過する際に、反応ガスは、プラズマ化される。従って、一対の電極３３は、擬似アークＡの放電を発生させ、反応ガスをプラズマ化し、プラズマガスを発生させる。 An AC voltage is applied to the pair of electrodes 33 from the power supply unit 15A of the control box 15. By applying the voltage, a pseudo arc A is generated between the lower ends of the pair of electrodes 33 in the reaction chamber 37, as shown in FIG. 4, for example. When the reactive gas passes through this pseudo arc A, the reactive gas is turned into plasma. Therefore, the pair of electrodes 33 generate a discharge of the pseudo arc A, turn the reactive gas into plasma, and generate plasma gas.

また、ヘッド本体部３１における反応室３７の下流側の部分には、Ｘ方向に間隔を隔てて並び、Ｚ方向に伸びて形成された複数（本実施例においては、６本）の本体側プラズマ通路７１が形成されている。複数の本体側プラズマ通路７１の上流側の端部は、反応室３７に接続されている。 In addition, in the downstream portion of the reaction chamber 37 in the head main body 31, a plurality of body-side plasma passages 71 (six in this embodiment) are formed, spaced apart in the X direction and extending in the Z direction. The upstream ends of the plurality of body-side plasma passages 71 are connected to the reaction chamber 37.

プラズマ照射部３５は、ノズル７３、ノズルカバー７５等を備えている。ノズル７３は、Ｘ方向からの側面視において概してＴ字形をなし、ノズル本体７７とノズル先端７９とにより構成されている。なお、ノズル７３は、ノズル本体７７とノズル先端７９とによる一体物であり、耐熱性の高いセラミックにより成形されている。ノズル本体７７は、概してフランジ形状をなし、ボルト８０により、ヘッド本体部３１の下面に固定されている。また、ノズル先端７９は、ノズル本体７７の下面から下方に向って延び出す形状とされている。そして、ノズル７３には、ノズル本体７７とノズル先端７９とを上下方向、つまり、Ｚ方向に貫通する複数（本実施例においては、６本）のノズル側プラズマ通路８１が形成されており、それら複数のノズル側プラズマ通路８１は、Ｘ方向に間隔を隔てて並んでいる。なお、複数のノズル側プラズマ通路８１は、Ｚ方向において複数の本体側プラズマ通路７１と同じ位置に形成されている。このため、本体側プラズマ通路７１とノズル側プラズマ通路８１とは連通している。 The plasma irradiation unit 35 includes a nozzle 73, a nozzle cover 75, and the like. The nozzle 73 is generally T-shaped when viewed from the side in the X direction, and is composed of a nozzle body 77 and a nozzle tip 79. The nozzle 73 is an integral body of the nozzle body 77 and the nozzle tip 79, and is made of highly heat-resistant ceramic. The nozzle body 77 is generally flange-shaped and is fixed to the lower surface of the head body 31 by a bolt 80. The nozzle tip 79 is shaped to extend downward from the lower surface of the nozzle body 77. The nozzle 73 is formed with a plurality of (six in this embodiment) nozzle-side plasma passages 81 that penetrate the nozzle body 77 and the nozzle tip 79 in the vertical direction, i.e., in the Z direction, and the plurality of nozzle-side plasma passages 81 are arranged at intervals in the X direction. The plurality of nozzle-side plasma passages 81 are formed at the same positions as the plurality of body-side plasma passages 71 in the Z direction. Therefore, the body-side plasma passage 71 and the nozzle-side plasma passage 81 are connected to each other.

ノズルカバー７５は、図４～図６に示すように、Ｘ方向からの側面視において概してＴ字形をなし、カバー本体８５、カバー先端８７を備えている。カバー本体８５とカバー先端８７とは別部材であり、カバー本体８５はセラミックにより成形されており、カバー先端８７は金属、具体的には、ステンレスにより成形されている。 As shown in Figures 4 to 6, the nozzle cover 75 is generally T-shaped when viewed from the side in the X direction, and includes a cover body 85 and a cover tip 87. The cover body 85 and the cover tip 87 are separate members, with the cover body 85 being made of ceramic and the cover tip 87 being made of metal, specifically, stainless steel.

カバー本体８５は、板厚の概して板形状とされており、カバー本体８５には、上面に開口するとともに、Ｚ方向に凹んだ形状の凹部８９が形成されている。そして、その凹部８９にノズル７３のノズル本体７７が収納されるように、カバー本体８５が、ボルト９０によりヘッド本体部３１の下面に固定されている。さらに、カバー本体８５には、Ｙ方向に延びるように、ヒートガス通路５１が形成されており、そのヒートガス通路５１の一端部が、凹部８９に開口し、ヒートガス通路５１の他端部が、カバー本体８５の側面に開口している。そして、カバー本体８５の側面に開口するヒートガス通路５１の端部が、上記したヒートガス供給部２３の連結部４５に連結されている。 The cover body 85 is generally plate-shaped and has a thickness of 10 mm. The cover body 85 has a recess 89 that opens on the top surface and is recessed in the Z direction. The cover body 85 is fixed to the bottom surface of the head body 31 by a bolt 90 so that the nozzle body 77 of the nozzle 73 is housed in the recess 89. The cover body 85 also has a heat gas passage 51 that extends in the Y direction. One end of the heat gas passage 51 opens into the recess 89, and the other end of the heat gas passage 51 opens into the side surface of the cover body 85. The end of the heat gas passage 51 that opens into the side surface of the cover body 85 is connected to the connection portion 45 of the heat gas supply unit 23 described above.

カバー先端８７は、カバー本体８５の厚さ寸法と同程度の板形状とされており、カバー本体８５の下面から下方に向って延び出すように、そのカバー本体８５の下面にボルト９１により固定されている。カバー先端８７には、Ｚ方向に貫通する１つの貫通孔９３が形成されており、その貫通孔９３の上端部は、カバー本体８５の凹部８９に連通している。そして、その貫通孔９３に、ノズル７３のノズル先端７９が挿入されている。これにより、ノズル７３は、ノズルカバー７５により全体的に覆われている。なお、ノズル７３のノズル先端７９の下端と、ノズルカバー７５のカバー先端８７の下端とは、同じ高さに位置している。 The cover tip 87 is in the shape of a plate with a thickness dimension approximately equal to that of the cover body 85, and is fixed to the underside of the cover body 85 with bolts 91 so as to extend downward from the underside of the cover body 85. The cover tip 87 is formed with a through hole 93 penetrating in the Z direction, and the upper end of the through hole 93 is connected to the recess 89 of the cover body 85. The nozzle tip 79 of the nozzle 73 is inserted into the through hole 93. As a result, the nozzle 73 is entirely covered by the nozzle cover 75. The lower end of the nozzle tip 79 of the nozzle 73 and the lower end of the cover tip 87 of the nozzle cover 75 are located at the same height.

また、ノズル７３がノズルカバー７５により覆われた状態において、ノズルカバー７５の凹部８９の内部にノズル７３のノズル本体７７が位置し、ノズルカバー７５の貫通孔９３の内部にノズル７３のノズル先端７９が位置する。このような状態において、凹部８９とノズル本体７７との間及び、貫通孔９３とノズル先端７９との間に隙間が存在し、その隙間がヒートガス出力通路９５として機能する。ヒートガス出力通路９５には、ヒートガス通路５１を経てヒートガスが供給される。 When the nozzle 73 is covered by the nozzle cover 75, the nozzle body 77 of the nozzle 73 is located inside the recess 89 of the nozzle cover 75, and the nozzle tip 79 of the nozzle 73 is located inside the through hole 93 of the nozzle cover 75. In this state, there are gaps between the recess 89 and the nozzle body 77, and between the through hole 93 and the nozzle tip 79, and these gaps function as the heat gas output passage 95. Heat gas is supplied to the heat gas output passage 95 via the heat gas passage 51.

このような構造により、反応室３７で発生したプラズマガスは、キャリアガスとともに、本体側プラズマ通路７１及びノズル側プラズマ通路８１を流れ、ノズル側プラズマ通路８１の下端の開口８１Ａから噴出される。また、ガス管４１からヒートガス通路５１へ供給されたヒートガスは、ヒートガス出力通路９５を流れる。このヒートガスは、プラズマガスを保護するシールドガスとして機能するものである。ヒートガスは、ヒートガス出力通路９５を流れ、ヒートガス出力通路９５の下端の開口９５Ａからプラズマガスの噴出方向に沿って噴出される。この際、ヒートガスは、ノズル側プラズマ通路８１の開口８１Ａから噴出されるプラズマガスの周囲を取り巻くように噴出される。このように、加熱したヒートガスをプラズマガスの周囲に噴出することで、プラズマガスの効能（濡れ性など）を高めることができる。 With this structure, the plasma gas generated in the reaction chamber 37 flows through the main body side plasma passage 71 and the nozzle side plasma passage 81 together with the carrier gas, and is ejected from the opening 81A at the lower end of the nozzle side plasma passage 81. In addition, the heat gas supplied to the heat gas passage 51 from the gas pipe 41 flows through the heat gas output passage 95. This heat gas functions as a shield gas that protects the plasma gas. The heat gas flows through the heat gas output passage 95 and is ejected from the opening 95A at the lower end of the heat gas output passage 95 along the ejection direction of the plasma gas. At this time, the heat gas is ejected so as to surround the periphery of the plasma gas ejected from the opening 81A of the nozzle side plasma passage 81. In this way, the efficacy (wettability, etc.) of the plasma gas can be increased by ejecting the heated heat gas around the plasma gas.

因みに、プラズマ装置１０は、プラズマ発生装置の一例である。ヒートガス供給部２３は、噴出装置の一例である。ヘッド本体部３１は、装置本体の一例である。反応室３７は、反応室の一例である。ノズル７３は、ノズルの一例である。ノズルカバー７５は、ノズルカバーの一例である。ノズル本体７７は、ノズル本体の一例である。ノズル先端７９は、ノズル先端の一例である。ノズル側プラズマ通路８１の開口８１Ａは、第１噴出口の一例である。カバー本体８５は、カバー本体の一例である。カバー先端８７は、カバー部の一例である。ヒートガス出力通路９５の開口９５Ａは、第２噴出口の一例である。ヒートガスは、シールガスの一例である。 Incidentally, the plasma device 10 is an example of a plasma generating device. The heat gas supply unit 23 is an example of a jetting device. The head body 31 is an example of a device body. The reaction chamber 37 is an example of a reaction chamber. The nozzle 73 is an example of a nozzle. The nozzle cover 75 is an example of a nozzle cover. The nozzle body 77 is an example of a nozzle body. The nozzle tip 79 is an example of a nozzle tip. The opening 81A of the nozzle side plasma passage 81 is an example of a first jet. The cover body 85 is an example of a cover body. The cover tip 87 is an example of a cover part. The opening 95A of the heat gas output passage 95 is an example of a second jet. The heat gas is an example of a seal gas.

以上、上記した本実施形態では、以下の効果を奏する。 As described above, this embodiment provides the following advantages:

プラズマヘッド１１では、セラミック製のノズル７３が、金属製のカバー先端８７を有するノズルカバー７５により覆われている。これにより、ノズル７３の破損を防止することができる。つまり、ノズル７３は、セラミックにより成形されているため、脆く破損しやすい。一方、ノズルカバー７５の先端部であるカバー先端８７は、金属により成形されており、破損し難い。このため、プラズマヘッド１１によるプラズマ照射時などにおいて、プラズマヘッド１１の先端が被処理物Ｗなどに接触しても、ノズル７３は、金属製のノズルカバー７５により保護されることで、ノズル７３の破損が防止される。また、セラミックは比較的高価であるが、金属は安価である。このため、カバー先端８７が破損，変形等しても、コストを抑えてカバー先端８７を交換することができる。 In the plasma head 11, the ceramic nozzle 73 is covered by a nozzle cover 75 having a metal cover tip 87. This prevents damage to the nozzle 73. In other words, since the nozzle 73 is made of ceramic, it is brittle and easily broken. On the other hand, the cover tip 87, which is the tip of the nozzle cover 75, is made of metal and is less likely to break. Therefore, even if the tip of the plasma head 11 comes into contact with the workpiece W during plasma irradiation by the plasma head 11, the nozzle 73 is protected by the metal nozzle cover 75, preventing damage to the nozzle 73. In addition, ceramics are relatively expensive, but metals are inexpensive. Therefore, even if the cover tip 87 is broken or deformed, it is possible to replace the cover tip 87 at low cost.

また、ノズルカバー７５は、上述したように、カバー本体８５とカバー先端８７とにより構成されており、カバー本体８５はセラミックにより成形され、カバー先端８７はステンレスにより成形されている。これにより、適切なプラズマ化を担保するとともに、コストダウンを図ることができる。つまり、ノズルカバー全体を金属により成形すれば、コストダウンを図ることができるが、ヘッド本体部３１の反応室３７に近いノズルカバーの上端部、つまり、カバー本体８５が金属製であると、反応室３７での電極３３への印加により、カバー本体８５の周辺において放電が生じる場合がある。このような場合には、反応室３７以外での放電により、適切なプラズマ化を担保することができない。そこで、反応室３７に近いカバー本体８５がセラミックにより成形され、反応室３７から離れているカバー先端８７は金属により成形されている。これにより、適切なプラズマ化を担保するとともに、コストダウンを図ることができる。 As described above, the nozzle cover 75 is composed of the cover body 85 and the cover tip 87, and the cover body 85 is made of ceramic, and the cover tip 87 is made of stainless steel. This ensures proper plasma generation and reduces costs. In other words, if the entire nozzle cover is made of metal, costs can be reduced, but if the upper end of the nozzle cover close to the reaction chamber 37 of the head main body 31, that is, the cover body 85, is made of metal, discharge may occur around the cover body 85 due to application of voltage to the electrode 33 in the reaction chamber 37. In such a case, discharge outside the reaction chamber 37 cannot ensure proper plasma generation. Therefore, the cover body 85 close to the reaction chamber 37 is made of ceramic, and the cover tip 87 away from the reaction chamber 37 is made of metal. This ensures proper plasma generation and reduces costs.

さらに言えば、金属製のカバー先端８７は、カバー本体８５から離れる方向に延び出す形状とされている。つまり、金属製のカバー先端８７は、反応室３７から離れる方向に延び出す形状とされている。これにより、反応室３７以外での放電を更に好適に防止することが可能となり、適切なプラズマ化を更に担保することができる。 Moreover, the metal cover tip 87 is shaped to extend in a direction away from the cover body 85. In other words, the metal cover tip 87 is shaped to extend in a direction away from the reaction chamber 37. This makes it possible to more effectively prevent discharge outside the reaction chamber 37, and further ensures proper plasma generation.

また、ノズル７３のノズル先端７９も、ノズルカバー７５のカバー先端８７と同様に、ノズル本体７７から離れる方向、つまり、下方に延び出す形状とされている。そして、下方に延び出すノズル先端７９は、下方に延び出すカバー先端８７の内部に挿入されている。これにより、ノズル先端７９の開口８１Ａから噴出されるプラズマガスを適切にノズルカバー７５の外部に噴出することができる。 The nozzle tip 79 of the nozzle 73, like the cover tip 87 of the nozzle cover 75, is shaped to extend downward, away from the nozzle body 77. The nozzle tip 79 extending downward is inserted into the cover tip 87 extending downward. This allows the plasma gas ejected from the opening 81A of the nozzle tip 79 to be ejected appropriately to the outside of the nozzle cover 75.

また、プラズマヘッド１１では、ノズル７３とノズルカバー７５との間に加熱したヒートガスが流されており、その加熱したヒートガスがプラズマガスの周囲に噴出される。これにより、上述したように、プラズマガスの効能（濡れ性など）を高めることができる。 In addition, in the plasma head 11, heated gas is passed between the nozzle 73 and the nozzle cover 75, and the heated gas is ejected around the plasma gas. This enhances the efficacy (wettability, etc.) of the plasma gas, as described above.

尚、本開示は、上記実施形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて種々の変更、改良を施した種々の態様で実施することが可能である。具体的には、例えば、プラズマヘッド１１では、ノズル７３とノズルカバー７５との間にヒートガスが流されているが、ヒートガスを流さなくてもよい。つまり、ノズルカバー７５を、ノズル７３を保護するためのカバーとしてのみ配設してもよい。 The present disclosure is not limited to the above embodiment, and can be implemented in various forms with various modifications and improvements based on the knowledge of those skilled in the art. Specifically, for example, in the plasma head 11, heat gas flows between the nozzle 73 and the nozzle cover 75, but heat gas does not have to flow. In other words, the nozzle cover 75 may be disposed only as a cover to protect the nozzle 73.

また、上記実施形態では、１台のプラズマヘッド１１からプラズマガスとヒートガスとが噴出されているが、２台のヘッドからプラズマガスとヒートガスとが噴出されてもよい。つまり、１台のヘッドからプラズマガスを噴出し、そのヘッドと異なるヘッドからヒートガスを噴出してもよい。また、１台のヘッドに、ノズル側プラズマ通路８１とヒートガス出力通路９５とを異なる位置に形成し、それぞれの通路から、プラズマガスとヒートガスとを噴出してもよい。 In addition, in the above embodiment, the plasma gas and heat gas are ejected from one plasma head 11, but the plasma gas and heat gas may be ejected from two heads. In other words, the plasma gas may be ejected from one head and the heat gas may be ejected from a different head. Also, the nozzle-side plasma passage 81 and the heat gas output passage 95 may be formed in different positions in one head, and the plasma gas and heat gas may be ejected from each passage.

また、上記実施形態では、ノズル７３及び、ノズルカバー７５がヘッド本体部３１に固定されているが、単に設けられていてもよい。つまり、ノズル本体７７が、ヘッド本体部３１に設けられていればよい。また、ノズル先端７９もノズル本体７７に設けられていればよい。 In addition, in the above embodiment, the nozzle 73 and the nozzle cover 75 are fixed to the head body 31, but they may simply be provided. In other words, it is sufficient that the nozzle body 77 is provided on the head body 31. Also, it is sufficient that the nozzle tip 79 is provided on the nozzle body 77.

１０：プラズマ装置（プラズマ発生装置）、２３：ヒートガス供給部（噴出装置）、３１：ヘッド本体部（装置本体）、３７：反応室、７３：ノズル、７５：ノズルカバー、７７：ノズル本体、７９：ノズル先端、８１Ａ：開口（第１噴出口）、８５：カバー本体、８７：カバー先端（カバー部）、９５Ａ：開口（第２噴出口） 10: Plasma device (plasma generating device), 23: Heat gas supply unit (ejection device), 31: Head body (device body), 37: Reaction chamber, 73: Nozzle, 75: Nozzle cover, 77: Nozzle body, 79: Nozzle tip, 81A: Opening (first nozzle), 85: Cover body, 87: Cover tip (cover part), 95A: Opening (second nozzle)

Claims (5)

処理ガスをプラズマ化させるための反応室が形成された装置本体と、
前記反応室内にその先端部を突出させた状態で固定される一対の電極と、
前記一対の電極間で放電を生じさせることによってプラズマ化されたプラズマガスを噴出するための第１噴出口が形成され、前記装置本体の下面に設けられたノズルと、
前記ノズルを覆うように前記装置本体に設けられ、前記第１噴出口から噴出されたプラズマガスを外部に噴出するための第２噴出口が形成されたノズルカバーと
を備え、
前記ノズルカバーが、
前記装置本体の下面に設けられるセラミック製のカバー本体と、
前記第２噴出口が形成され、前記カバー本体に設けられる金属製のカバー部と
により構成され、
前記ノズルと前記カバー本体とはボルトで前記装置本体の下面に固定されるプラズマ発生装置。 An apparatus body having a reaction chamber for generating plasma from a processing gas;
A pair of electrodes fixed in the reaction chamber with their tips protruding into the reaction chamber;
a nozzle provided on a lower surface of the device body, the nozzle having a first nozzle for ejecting plasma gas generated by generating a discharge between the pair of electrodes;
a nozzle cover that is provided on the device body so as to cover the nozzle and has a second nozzle formed therein for ejecting the plasma gas ejected from the first nozzle to the outside,
The nozzle cover is
a ceramic cover body provided on the lower surface of the device body;
a metal cover portion provided on the cover body and in which the second ejection port is formed ;
The plasma generating device , in which the nozzle and the cover body are fixed to the underside of the device body by bolts . 前記カバー部が、
前記カバー本体から離れる方向に延び出す形状とされた請求項１に記載のプラズマ発生装置。 The cover portion is
The plasma generating device according to claim 1 , wherein the cover body is shaped to extend in a direction away from the cover body. 前記ノズルが、
前記装置本体に固定されるノズル本体と、
前記第１噴出口が形成され、前記ノズル本体に固定されるノズル先端と
により構成されており、
前記ノズル先端が、
前記ノズル本体から離れる方向に延び出す形状とされており、前記カバー部の内部に挿入された請求項１または請求項２に記載のプラズマ発生装置。 The nozzle is
A nozzle body fixed to the device body;
a nozzle tip portion having the first nozzle hole formed therein and fixed to the nozzle body;
The nozzle tip is
3. The plasma generating device according to claim 1 , wherein the nozzle body is shaped to extend in a direction away from the nozzle body and is inserted into the cover portion. 前記ノズルのノズル先端の下端と、前記ノズルカバーのカバー先端の下端とは、同じ高さに位置する請求項１乃至請求項３のいずれか１つに記載のプラズマ発生装置。 4. The plasma generating device according to claim 1, wherein a lower end of the nozzle tip of the nozzle and a lower end of the cover tip of the nozzle cover are positioned at the same height. 装置本体の内部に形成された反応室内にその先端部を突出させた状態で固定される一対の電極間で放電を生じさせることによって、前記装置本体の下面に設けられたノズルの第１噴出口からプラズマガスを被処理体に向って噴出するプラズマガス噴出工程と、
前記装置本体の下面に設けられるセラミック製のカバー本体と、前記第２噴出口が形成されて前記カバー本体に設けられる金属製のカバー部とにより構成されるノズルカバーの前記第２噴出口からシールドガスを、前記第１噴出口から噴出されたプラズマガスに向って噴出することで、プラズマガスをシールドするシールドガス噴出工程と
を含むプラズマ処理方法。
a plasma gas ejection step of ejecting plasma gas from a first ejection port of a nozzle provided on a lower surface of the apparatus body toward the workpiece by generating an electric discharge between a pair of electrodes fixed in a reaction chamber formed inside the apparatus body with their tip portions protruding therefrom;
a shielding gas ejection step of ejecting a shielding gas from the second ejection port of a nozzle cover composed of a ceramic cover body provided on the underside of the apparatus body and a metal cover part provided on the cover body in which the second ejection port is formed, toward the plasma gas ejected from the first ejection port, thereby shielding the plasma gas.
JP2021548108A 2019-09-27 2019-09-27 Plasma generating device and plasma processing method Active JP7461961B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2019/038099 WO2021059469A1 (en) 2019-09-27 2019-09-27 Plasma generation device and plasma treatment method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2021059469A1 JPWO2021059469A1 (en) 2021-04-01
JP7461961B2 true JP7461961B2 (en) 2024-04-04

Family

ID=75165628

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021548108A Active JP7461961B2 (en) 2019-09-27 2019-09-27 Plasma generating device and plasma processing method

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP4037440A4 (en)
JP (1) JP7461961B2 (en)
CN (1) CN114430935A (en)
WO (1) WO2021059469A1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019180839A1 (en) 2018-03-20 2019-09-26 株式会社Ｆｕｊｉ Plasma device, plasma generation method

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE795891A (en) * 1972-02-23 1973-06-18 Electricity Council PLASMA TORCH IMPROVEMENTS
JPS56126981U (en) * 1980-02-22 1981-09-26
JPS57165370U (en) * 1981-04-09 1982-10-18
US5220150A (en) * 1991-05-03 1993-06-15 Regents Of The University Of Minnesota Plasma spray torch with hot anode and gas shroud
JP3066993B2 (en) * 1991-12-24 2000-07-17 オリジン電気株式会社 Plasma arc apparatus and pilot arc generation method
JPH08294779A (en) * 1995-04-21 1996-11-12 Koike Sanso Kogyo Co Ltd Nozzle for plasma torch
US7737383B2 (en) * 2006-08-25 2010-06-15 Thermal Dynamics Corporation Contoured shield orifice for a plasma arc torch
JP2008153147A (en) * 2006-12-20 2008-07-03 Seiko Epson Corp Plasma treatment device
JP5275092B2 (en) * 2009-03-12 2013-08-28 長野日本無線株式会社 Plasma processing equipment
JP6487417B2 (en) 2014-03-19 2019-03-20 大陽日酸株式会社 Non-transfer type plasma arc system, adapter kit for conversion, non-transfer type plasma arc torch
WO2018029845A1 (en) * 2016-08-11 2018-02-15 富士機械製造株式会社 Plasma generation device and plasma irradiation method

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019180839A1 (en) 2018-03-20 2019-09-26 株式会社Ｆｕｊｉ Plasma device, plasma generation method

Also Published As

Publication number Publication date
EP4037440A1 (en) 2022-08-03
EP4037440A4 (en) 2022-11-16
CN114430935A (en) 2022-05-03
WO2021059469A1 (en) 2021-04-01
JPWO2021059469A1 (en) 2021-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US10716200B2 (en) Plasma arc cutting system, including retaining caps, and other consumables, and related operational methods
JP2010539644A (en) Surface treatment or surface coating method and apparatus
CA2661909A1 (en) Contoured shield orifice for a plasma arc torch
JP2008284580A (en) Plasma torch
US20190202008A1 (en) Device for Working a Surface of a Workpiece by Means of a Laser Beam and Method for Operating the Device
US20110220143A1 (en) Device for Treating an Inner Surface of a Work Piece
JPWO2008123142A1 (en) Plasma processing equipment
JP7461961B2 (en) Plasma generating device and plasma processing method
JPH11216589A (en) Method and device for preventing contamination and breakage of optical system member in laser processing machine
US20060289391A1 (en) Arc spraying torch head
WO2021079420A1 (en) Plasma generation device and plasma processing method
JP6816260B2 (en) Plasma generator
WO2020084762A1 (en) Plasma generating device
WO2022123674A1 (en) Fastened structure and plasma generation device
JP6242946B2 (en) Carbon fiber surface treatment method
JP2008036693A (en) Welding torch
JP2008053367A5 (en)
JP2007154225A5 (en)
JP6587689B2 (en) Atmospheric pressure plasma generator
JP2007190609A (en) Method for supplying shielding gas for narrow groove and shielding gas supplying wedge
WO2022149258A1 (en) Protective cover and plasma generation device
JPH0529092Y2 (en)
JP2008075130A (en) Arc spraying method and thermal spraying device used therefor
JP3564814B2 (en) TIG welding equipment
JP5645157B2 (en) Plasma device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20211015

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220823

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20221011

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20221213

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230308

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20230308

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20230317

C21 Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21

Effective date: 20230322

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20230421

C211 Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C211

Effective date: 20230425

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240325

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7461961

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150