JP7452244B2 - Optical laminate, retardation film, transfer body, optical member, display device, and method for producing optical member - Google Patents
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Description
本開示は、光学積層体、位相差フィルム、転写体、光学部材、表示装置、および光学部材の製造方法に関する。 The present disclosure relates to an optical laminate, a retardation film, a transfer body, an optical member, a display device, and a method for manufacturing an optical member.
従来、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置等の表示装置には、位相差フィルムや偏光フィルム等の光学部材が用いられている。位相差フィルムとしては、例えば、延伸フィルムや、液晶塗布型フィルムが知られている。 Conventionally, optical members such as retardation films and polarizing films have been used in display devices such as organic EL display devices and liquid crystal display devices. As retardation films, for example, stretched films and liquid crystal coated films are known.
液晶塗布型フィルムの製造方法としては、例えば、基材上に配向膜を形成し、配向膜上に液晶組成物を塗布して配向させる方法が挙げられる。また、位相差フィルムの製造方法としては、生産効率が高いことから、ロールツーロール方式の製造法が提案されている。 Examples of the method for producing a liquid crystal coated film include a method in which an alignment film is formed on a base material, and a liquid crystal composition is applied onto the alignment film for alignment. Further, as a method for manufacturing a retardation film, a roll-to-roll manufacturing method has been proposed because of its high production efficiency.
しかしながら、液晶化合物は硬化性が悪く、また液晶塗布型フィルムは変形しやすいため、液晶塗布型フィルムをロール状に巻き取った際に貼り付きが発生しやすく、すなわちブロッキングが生じやすいという問題がある。 However, since liquid crystal compounds have poor curing properties and liquid crystal coated films are easily deformed, there is a problem in that when the liquid crystal coated film is wound into a roll, it tends to stick, that is, it tends to cause blocking. .
また、液晶塗布型フィルムを構成する基材として、表面平滑性の高い基材を用いた場合にも、ブロッキングが生じやすい。 Further, blocking is likely to occur even when a substrate with high surface smoothness is used as a substrate constituting the liquid crystal coated film.
ブロッキングが発生すると、液晶塗布型フィルムが変形し、リタデーションムラが生じて光学特性が変化するおそれがある。また、ブロッキングが発生すると、液晶塗布型フィルム同士が密着することで帯電し、ロール状の液晶塗布型フィルムを巻き出す際に剥離帯電が生じることがある。この剥離帯電により、液晶塗布型フィルムに穴があく等の破損が生じるおそれがある。 When blocking occurs, the liquid crystal coated film may be deformed, causing uneven retardation and changing optical properties. In addition, when blocking occurs, the liquid crystal coated films come into close contact with each other and are charged, and when the roll of the liquid crystal coated film is unwound, separation charge may occur. This peel-off charging may cause damage such as holes in the liquid crystal coated film.
なお、液晶塗布型フィルムではなく、延伸フィルムに関する技術であるが、例えば特許文献１には、巻取安定性に優れる位相差フィルムを得るために、アセチル基置換度が２．０～２．５の範囲内のセルロースアシレートを含有する位相差フィルムであって、一方の面をＡ面、他方の面をＢ面としたとき、Ａ面及びＢ面のマルテンス硬度がいずれも１９０～２１０Ｎ／ｍｍ２の範囲内であり、かつＡ面及びＢ面の算術平均粗さＲａが、いずれも、０．５～２．０ｎｍの範囲内である位相差フィルムが提案されている。
Although the technology relates to stretched films rather than liquid crystal coated films, for example,
本開示は、上記実情に鑑みてなされたものであり、耐ブロッキング性が良好な光学積層体、ならびにそれを用いた位相差フィルム、転写体、光学部材、表示装置、および光学部材の製造方法を提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in view of the above circumstances, and provides an optical laminate with good blocking resistance, and a method for manufacturing a retardation film, a transfer body, an optical member, a display device, and an optical member using the same. The purpose is to provide.
本開示の一実施形態は、透明基材と、上記透明基材の一方の面側に配置された光学機能層と、を有する光学積層体であって、上記透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり、上記透明基材側の面のマルテンス硬度が１１０Ｎ／ｍｍ２以上であり、上記光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下または２．０ｎｍ以上であり、上記光学機能層側の面のマルテンス硬度が７５Ｎ／ｍｍ２以上である、光学積層体を提供する。 One embodiment of the present disclosure is an optical laminate including a transparent base material and an optical functional layer disposed on one surface side of the transparent base material, the arithmetic average of the surface on the transparent base material side. The roughness Ra is 2.0 nm or more and 35.0 nm or less, the Martens hardness of the surface on the transparent substrate side is 110 N/mm 2 or more, and the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 0. 5 nm or less or 2.0 nm or more, and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 75 N/mm 2 or more.
本開示の他の実施形態は、透明基材と、上記透明基材の一方の面側に配置された光学機能層と、を有する光学積層体であって、上記透明基材側の面の算術平均粗さＲａが１．２ｎｍ以下であり、上記透明基材側の面のマルテンス硬度が１２５Ｎ／ｍｍ２以上であり、上記光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上であり、上記光学機能層側の面のマルテンス硬度が９０Ｎ／ｍｍ２以上である、あるいは、上記光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、上記光学機能層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上である、光学積層体を提供する。 Another embodiment of the present disclosure is an optical laminate including a transparent base material and an optical functional layer disposed on one surface side of the transparent base material, The average roughness Ra is 1.2 nm or less, the Martens hardness of the surface on the transparent substrate side is 125 N/mm 2 or more, and the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 2.0 nm or more. The Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 90 N/mm 2 or more, or the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 0.5 nm or less, and the surface on the optical functional layer side Provided is an optical laminate whose surface has a Martens hardness of 130 N/mm 2 or more.
本開示の他の実施形態は、光学的等方性を示す透明基材と、上記透明基材の一方の面側に配置された光学機能層と、を有する光学積層体であって、上記透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり、上記透明基材側の面のマルテンス硬度が１１０Ｎ／ｍｍ２以上であり、上記光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、上記光学機能層側の面のマルテンス硬度が７５Ｎ／ｍｍ２以上である、光学積層体を提供する。 Another embodiment of the present disclosure is an optical laminate including a transparent base material exhibiting optical isotropy and an optical functional layer disposed on one side of the transparent base material, The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the substrate side is 2.0 nm or more and 35.0 nm or less, the Martens hardness of the surface on the transparent substrate side is 110 N/mm 2 or more, and the surface on the optical functional layer side has Provided is an optical laminate having an arithmetic mean roughness Ra of 0.5 nm or less and a Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of 75 N/mm 2 or more.
本開示における光学積層体においては、上記光学機能層が複屈折層を有することが好ましい。この場合、上記複屈折層が液晶層であることが好ましい。 In the optical laminate according to the present disclosure, it is preferable that the optical functional layer has a birefringent layer. In this case, the birefringent layer is preferably a liquid crystal layer.
本開示における光学積層体においては、上記光学機能層が複屈折層を有し、上記複屈折層が液晶層であり、上記透明基材と、光学等方層と、配向膜と、上記液晶層とをこの順に有していてもよい。 In the optical laminate according to the present disclosure, the optical functional layer has a birefringent layer, the birefringent layer is a liquid crystal layer, the transparent base material, the optically isotropic layer, the alignment film, and the liquid crystal layer. and in this order.
また、本開示における光学積層体においては、上記光学機能層が複屈折層を有し、上記複屈折層が液晶層であり、上記透明基材と、配向膜と、上記液晶層と、光学等方層とをこの順に有していてもよい。 Further, in the optical laminate according to the present disclosure, the optical functional layer has a birefringent layer, the birefringent layer is a liquid crystal layer, the transparent base material, the alignment film, the liquid crystal layer, the optical layer, etc. and horizontal layers in this order.
また、本開示における光学積層体においては、上記光学機能層が複屈折層を有し、上記複屈折層が液晶層であり、上記透明基材と、配向膜と、上記液晶層とをこの順に有していてもよい。 Further, in the optical laminate according to the present disclosure, the optical functional layer has a birefringent layer, the birefringent layer is a liquid crystal layer, and the transparent base material, the alignment film, and the liquid crystal layer are arranged in this order. may have.
また、本開示における光学積層体においては、上記光学機能層が複屈折層を有し、上記複屈折層が液晶層であり、上記透明基材が光学等方層であり、上記透明基材と、配向膜と、上記液晶層とをこの順に有していてもよい。 Further, in the optical laminate according to the present disclosure, the optical functional layer has a birefringent layer, the birefringent layer is a liquid crystal layer, the transparent base material is an optically isotropic layer, and the transparent base material and , an alignment film, and the liquid crystal layer may be provided in this order.
本開示における光学積層体においては、上記液晶層が、重合性液晶組成物の硬化物を含有することが好ましい。 In the optical laminate according to the present disclosure, the liquid crystal layer preferably contains a cured product of a polymerizable liquid crystal composition.
本開示における光学積層体においては、上記液晶層が逆波長分散性を有していてもよい。 In the optical laminate according to the present disclosure, the liquid crystal layer may have reverse wavelength dispersion.
本開示における光学積層体においては、上記液晶層に含まれる液晶化合物が、上記透明基材の面に対して垂直配向していてもよい。 In the optical laminate according to the present disclosure, the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer may be aligned perpendicularly to the surface of the transparent base material.
本開示の他の実施形態は、上述の光学積層体の光学機能層を有する、位相差フィルムを提供する。 Another embodiment of the present disclosure provides a retardation film having the optical functional layer of the optical laminate described above.
本開示の他の実施形態は、上述の光学積層体である、転写体を提供する。 Another embodiment of the present disclosure provides a transfer body that is the above-mentioned optical laminate.
本開示の他の実施形態は、上述の光学積層体の光学機能層を有する位相差フィルムと、偏光フィルムとを有する、光学部材を提供する。 Another embodiment of the present disclosure provides an optical member including a retardation film having the optical functional layer of the optical laminate described above and a polarizing film.
本開示の他の実施形態は、上述の位相差フィルム、または上述の光学部材を備える表示装置を提供する。 Other embodiments of the present disclosure provide a display device including the above-mentioned retardation film or the above-mentioned optical member.
本開示の他の実施形態は、上述の光学積層体である転写体を準備する準備工程と、少なくとも偏光フィルムを有する被転写体と、上記転写体とを貼り合わせる貼合工程と、上記転写体から透明基材を剥離する剥離工程と、を有する光学部材の製造方法を提供する。 Other embodiments of the present disclosure include a preparation step of preparing a transfer body that is the optical laminate described above, a bonding step of bonding a transfer body having at least a polarizing film and the transfer body, and a step of bonding the transfer body, which is the above-mentioned optical laminate. Provided is a method for manufacturing an optical member, comprising: a peeling step of peeling a transparent base material from the transparent base material.
本開示においては、耐ブロッキング性が良好な光学積層体を提供することができるという効果を奏する。 The present disclosure has the advantage that it is possible to provide an optical laminate with good anti-blocking properties.
下記に、図面等を参照しながら本開示の実施の形態を説明する。ただし、本開示は多くの異なる態様で実施することが可能であり、下記に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の形態に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表わされる場合があるが、あくまで一例であって、本開示の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。 Embodiments of the present disclosure will be described below with reference to the drawings and the like. However, the present disclosure can be implemented in many different ways, and should not be construed as being limited to the description of the embodiments exemplified below. Further, in order to make the explanation clearer, the drawings may schematically represent the width, thickness, shape, etc. of each part compared to the actual form, but this is just an example and does not limit the interpretation of the present disclosure. It's not something you do. In addition, in this specification and each figure, the same elements as those described above with respect to the previously shown figures are denoted by the same reference numerals, and detailed explanations may be omitted as appropriate.
本明細書において、ある部材の上に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「上に」あるいは「下に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。また、本明細書において、ある部材の面に他の部材を配置する態様を表現するにあたり、単に「面側に」または「面に」と表記する場合、特に断りの無い限りは、ある部材に接するように、直上あるいは直下に他の部材を配置する場合と、ある部材の上方あるいは下方に、さらに別の部材を介して他の部材を配置する場合との両方を含むものとする。 In this specification, when expressing a mode in which another member is placed on top of a certain member, when it is simply expressed as "above" or "below", unless otherwise specified, it means that the member is in contact with a certain member. This includes both cases in which another member is placed directly above or below a certain member, and cases in which another member is placed above or below a certain member via another member. In addition, in this specification, when expressing a mode in which another member is arranged on the surface of a certain member, when it is simply expressed as "on the surface side" or "on the surface", unless otherwise specified, This includes both a case where another member is placed directly above or directly below the member so as to be in contact with the member, and a case where another member is placed above or below a certain member via another member.
また、本明細書において、「フィルム」には、「シート」や「板」と呼ばれる部材も含まれる。 Furthermore, in this specification, the term "film" includes members called "sheets" and "plates."
以下、本開示における光学積層体、位相差フィルム、転写体、光学部材、表示装置、および光学部材の製造方法について詳細に説明する。 Hereinafter, the optical laminate, retardation film, transfer body, optical member, display device, and method for manufacturing the optical member in the present disclosure will be described in detail.
Ａ．光学積層体
本開示における光学積層体は、透明基材と、上記透明基材の一方の面側に配置された光学機能層とを有する積層体であり、３つの実施態様を有する。以下、各実施態様について説明する。
A. Optical Laminate The optical laminate in the present disclosure is a laminate including a transparent base material and an optical functional layer disposed on one side of the transparent base material, and has three embodiments. Each embodiment will be described below.
Ｉ．第１実施態様
本開示における光学積層体の第１実施態様は、透明基材と、上記透明基材の一方の面側に配置された光学機能層と、を有する光学積層体であって、上記透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり、上記透明基材側の面のマルテンス硬度が１１０Ｎ／ｍｍ２以上であり、上記光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下または２．０ｎｍ以上であり、上記光学機能層側の面のマルテンス硬度が７５Ｎ／ｍｍ２以上である。
I. First Embodiment A first embodiment of the optical laminate in the present disclosure is an optical laminate including a transparent base material and an optical functional layer disposed on one side of the transparent base material, the optical laminate comprising: The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent substrate side is 2.0 nm or more and 35.0 nm or less, the Martens hardness of the surface on the transparent substrate side is 110 N/mm 2 or more, and the surface on the optical functional layer side The arithmetic mean roughness Ra is 0.5 nm or less or 2.0 nm or more, and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 75 N/mm 2 or more.
図１は、本実施態様の光学積層体の一例を示す概略断面図である。図１に示すように、光学積層体１は、透明基材２と、透明基材２の一方の面側に配置された光学機能層３とを有する。光学積層体１の透明基材２側の面１Ａの算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度は所定の範囲であり、光学積層体１の光学機能層３側の面１Ｂの算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度は所定の範囲である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical laminate according to this embodiment. As shown in FIG. 1, the
なお、図１において、光学機能層３は、光学等方層４および液晶層６を有しているが、光学機能層３の構成はこの限りではない。また、光学積層体１は、透明基材２と液晶層６との間に、液晶層６に接する配向膜５を有することができる。
Note that in FIG. 1, the optical
本実施態様の光学積層体においては、透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり比較的大きいことにより、ブロッキングの発生を抑制することができる。また、本実施態様の光学積層体において、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上であり比較的大きい場合には、ブロッキングの発生をさらに抑制することができる。さらに、本実施態様の光学積層体においては、透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を所定の範囲とし、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を所定の範囲として、透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度ならびに光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度をバランスさせることにより、良好な耐ブロッキング性を得ることができる。そのため、ブロッキングによる光学特性の変化や剥離帯電の発生を抑制することが可能である。また、巻取安定性を向上させることができ、ロールツーロール方式での安定的な製造が可能である。 In the optical laminate of this embodiment, the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent base material side is 2.0 nm or more and 35.0 nm or less, which is relatively large, so that the occurrence of blocking can be suppressed. Further, in the optical laminate of this embodiment, when the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 2.0 nm or more, which is relatively large, the occurrence of blocking can be further suppressed. Furthermore, in the optical laminate of this embodiment, the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent base material side are set within predetermined ranges, and the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the optical functional layer side are set within predetermined ranges. Good blocking resistance can be obtained by balancing the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent substrate side and the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the optical functional layer side as the range of can. Therefore, it is possible to suppress changes in optical properties due to blocking and generation of peeling electrification. Further, the winding stability can be improved, and stable production using a roll-to-roll method is possible.
以下、本実施態様の光学積層体の各構成について説明する。 Each structure of the optical laminate of this embodiment will be described below.
１．光学積層体の特性
本実施態様における光学積層体は、透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり、透明基材側の面のマルテンス硬度が１１０Ｎ／ｍｍ２以上である。
1. Characteristics of optical laminate The optical laminate in this embodiment has an arithmetic mean roughness Ra of 2.0 nm or more and 35.0 nm or less on the surface on the transparent substrate side, and a Martens hardness of 110 N/1 on the surface on the transparent substrate side. mm 2 or more.
光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａは、２．０ｎｍ以上であり、２．５ｎｍ以上であることが好ましく、３．０ｎｍ以上であってもよい。一方、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａは、３５．０ｎｍ以下であり、２０．０ｎｍ以下であることが好ましく、１０．０ｎｍ以下であることがより好ましい。光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａが上記範囲のように比較的大きいことにより、耐ブロッキング性を高めることができる。一方、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａが大きすぎると、ロール加工の際に異物の有無の判別が難しくなるおそれや、ヘイズが高くなるおそれがある。 The arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate is 2.0 nm or more, preferably 2.5 nm or more, and may be 3.0 nm or more. On the other hand, the arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate is 35.0 nm or less, preferably 20.0 nm or less, and more preferably 10.0 nm or less. When the arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate is relatively large within the above range, blocking resistance can be improved. On the other hand, if the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate facing the transparent substrate is too large, it may become difficult to determine the presence or absence of foreign matter during roll processing, or the haze may become high.
光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度は、１１０Ｎ／ｍｍ２以上であり、１２０Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましく、１３０Ｎ／ｍｍ２以上であってもよい。一方、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度は、例えば、２００Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましく、１９０Ｎ／ｍｍ２以下であることがより好ましく、１８０Ｎ／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度が上記範囲であれば、良好な耐ブロッキング性を得ることができる。一方、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度が高すぎると、ロール加工の際に割れる可能性がある。 The Martens hardness of the transparent substrate side surface of the optical laminate is 110 N/mm 2 or more, preferably 120 N/mm 2 or more, and may be 130 N/mm 2 or more. On the other hand, the Martens hardness of the transparent substrate side surface of the optical laminate is, for example, preferably 200 N/mm 2 or less, more preferably 190 N/mm 2 or less, and 180 N/mm 2 or less. is even more preferable. If the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side is within the above range, good blocking resistance can be obtained. On the other hand, if the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side is too high, there is a possibility of cracking during roll processing.
本実施態様における光学積層体は、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下または２．０ｎｍ以上であり、光学機能層側の面のマルテンス硬度が７５Ｎ／ｍｍ２以上である。 In the optical laminate in this embodiment, the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 0.5 nm or less or 2.0 nm or more, and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 75 N/mm 2 or more. be.
光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下である場合、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、０．４５ｎｍ以下であってもよく、０．４０ｎｍ以下であってもよい。この場合、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、例えば、０．１ｎｍ以上であってもよく、０．１５ｎｍ以上であってもよく、０．２０ｎｍ以上であってもよい。上述したように、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａが比較的大きいことにより、耐ブロッキング性を高めることができるので、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは上記範囲のように比較的小さくてもよい。 When the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate is 0.5 nm or less, the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate is 0.45 nm or less. The thickness may be 0.40 nm or less. In this case, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side may be, for example, 0.1 nm or more, 0.15 nm or more, or 0.20 nm or more. Good too. As mentioned above, since the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the transparent base material side is relatively large, the blocking resistance can be improved. The average roughness Ra may be relatively small as in the above range.
また、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上である場合、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、４．０ｎｍ以上であることが好ましく、４．５ｎｍ以上であることがより好ましく、５．５ｎｍ以上であることがさらに好ましい。この場合、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、例えば、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが上記範囲のように比較的大きいことにより、耐ブロッキング性を高めることができる。一方、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが大きすぎると、ロール加工の際に異物の有無の判別が難しくなるおそれや、ヘイズが高くなるおそれがある。 Further, when the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side is 2.0 nm or more, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side is 4.0 nm or more. It is preferably at least 4.5 nm, more preferably at least 5.5 nm. In this case, the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate is, for example, preferably 20 nm or less, more preferably 15 nm or less, and even more preferably 10 nm or less. When the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate is relatively large within the above range, blocking resistance can be improved. On the other hand, if the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is too large, it may become difficult to determine the presence or absence of foreign matter during roll processing, or the haze may become high.
光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は、７５Ｎ／ｍｍ２以上であり、８５Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましく、９５Ｎ／ｍｍ２以上であってもよい。一方、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は、例えば、２００Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましく、１９０Ｎ／ｍｍ２以下であることがより好ましく、１８０Ｎ／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。上述したように、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａが比較的大きいことにより、耐ブロッキング性を高めることができるので、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は上記範囲のように比較的小さくてもよい。一方、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が高すぎると、ロール加工の際に割れる可能性がある。 The Martens hardness of the optical functional layer side surface of the optical laminate is 75 N/mm 2 or more, preferably 85 N/mm 2 or more, and may be 95 N/mm 2 or more. On the other hand, the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is, for example, preferably 200 N/mm 2 or less, more preferably 190 N/mm 2 or less, and 180 N/mm 2 or less. is even more preferable. As mentioned above, since the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the side of the transparent substrate is relatively large, the blocking resistance can be improved. The hardness may be relatively small as in the above range. On the other hand, if the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is too high, there is a possibility of cracking during roll processing.
算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３に準拠して測定することができる。具体的な測定方法については、実施例に記載の方法を用いることができる。 Arithmetic mean roughness Ra can be measured in accordance with JIS B0601:2013. As for a specific measurement method, the method described in Examples can be used.
光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａは、例えば、透明基材の材料、透明基材の成膜方法等により調整することができる。具体的には、透明基材には、後述するように、難燃剤、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、光安定剤、粘着付与剤、帯電防止剤等の添加剤が粒子として含まれていてもよく、粒子の平均粒径や含有量等によって、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを調整することができる。また、透明基材を製造する際の冷却ロールの表面の凹凸の高さや密度等によって、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを調整することができる。 The arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side can be adjusted, for example, by the material of the transparent substrate, the method of forming the transparent substrate, and the like. Specifically, as described below, even if the transparent substrate contains additives such as flame retardants, anti-blocking agents, antioxidants, light stabilizers, tackifiers, and antistatic agents as particles. The arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate can be adjusted by adjusting the average particle diameter, content, etc. of the particles. Furthermore, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side can be adjusted by adjusting the height and density of the unevenness on the surface of the cooling roll when manufacturing the transparent substrate.
また、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、例えば、後述する液晶層または光学等方層の材料、液晶層の下地層の表面粗さ等により調整することができる。具体的には、後述するように、液晶層または光学等方層は粒子を含有していてもよく、粒子の平均粒径や含有量等によって、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを調整することができる。また、後述するように、液晶層の下地層である配向膜の表面を荒らすことにより、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを調整することができる。 In addition, the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate can be adjusted by, for example, the material of the liquid crystal layer or the optically isotropic layer, the surface roughness of the underlying layer of the liquid crystal layer, etc., which will be described later. . Specifically, as described later, the liquid crystal layer or the optically isotropic layer may contain particles, and depending on the average particle size and content of the particles, the arithmetic of the surface of the optical functional layer side of the optical laminate may be determined. The average roughness Ra can be adjusted. Furthermore, as will be described later, by roughening the surface of the alignment film that is the underlying layer of the liquid crystal layer, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side can be adjusted.
マルテンス硬度は、ＩＳＯ １４５７７－１に準拠して測定することができる。具体的な測定方法については、実施例に記載の方法を用いることができる。 Martens hardness can be measured according to ISO 14577-1. As for a specific measuring method, the method described in the Examples can be used.
光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度は、例えば、透明基材の材料等により調整することができる。具体的には、透明基材に含まれる樹脂の分子構造、架橋密度、重合度、平均分子量、ガラス転移温度等により、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度を調整することができる。樹脂が芳香環等の剛直な構造を有すると、マルテンス硬度が大きくなる傾向にある。樹脂の架橋密度や重合度が高くなると、マルテンス硬度が大きくなる傾向にある。樹脂の平均分子量が大きくなると、マルテンス硬度が大きくなる傾向にある。樹脂のガラス転移温度が高くなると、マルテンス硬度が大きくなる傾向にある。 The Martens hardness of the transparent substrate side surface of the optical laminate can be adjusted, for example, by changing the material of the transparent substrate. Specifically, the Martens hardness of the surface of the optical laminate facing the transparent substrate can be adjusted by adjusting the molecular structure, crosslinking density, degree of polymerization, average molecular weight, glass transition temperature, etc. of the resin contained in the transparent substrate. . When the resin has a rigid structure such as an aromatic ring, the Martens hardness tends to increase. As the crosslinking density and degree of polymerization of the resin increases, the Martens hardness tends to increase. As the average molecular weight of the resin increases, the Martens hardness tends to increase. As the glass transition temperature of the resin increases, the Martens hardness tends to increase.
また、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は、例えば、後述する液晶層または光学等方層の材料、液晶層に含まれる液晶化合物の配向状態、液晶層の波長分散性等により調整することができる。具体的には、液晶層または光学等方層の材料の分子構造、架橋密度、重合度、平均分子量等により、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度を調整することができる。液晶層または光学等方層の材料が芳香環等の剛直な構造を有すると、マルテンス硬度が大きくなる傾向にある。液晶層または光学等方層の材料の架橋密度や重合度が高くなると、マルテンス硬度が大きくなる傾向にある。液晶層または光学等方層の材料の平均分子量が大きくなると、マルテンス硬度が大きくなる傾向にある。また、後述するように、液晶層に含まれる液晶化合物が、透明基材の面に対して垂直配向している場合には、水平配向している場合と比較して、マルテンス硬度が小さくなる傾向にある。また、後述するように、液晶層が逆波長分散性を有する場合、正波長分散性の場合と比較して、マルテンス硬度が小さくなる傾向にある。 In addition, the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate depends on, for example, the material of the liquid crystal layer or optically isotropic layer, the orientation state of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer, the wavelength dispersion of the liquid crystal layer, etc. Can be adjusted. Specifically, the Martens hardness of the optical functional layer side surface of the optical laminate can be adjusted by adjusting the molecular structure, crosslinking density, degree of polymerization, average molecular weight, etc. of the material of the liquid crystal layer or optically isotropic layer. When the material of the liquid crystal layer or the optically isotropic layer has a rigid structure such as an aromatic ring, the Martens hardness tends to increase. As the crosslinking density and degree of polymerization of the material for the liquid crystal layer or the optically isotropic layer increases, the Martens hardness tends to increase. As the average molecular weight of the material for the liquid crystal layer or the optically isotropic layer increases, the Martens hardness tends to increase. Additionally, as will be described later, when the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer is oriented perpendicularly to the surface of the transparent base material, the Martens hardness tends to be smaller than when it is oriented horizontally. It is in. Further, as will be described later, when the liquid crystal layer has reverse wavelength dispersion, the Martens hardness tends to be smaller than when the liquid crystal layer has normal wavelength dispersion.
２．光学機能層
本実施態様における光学機能層は、透明基材の一方の面側に配置される層である。
2. Optical Functional Layer The optical function layer in this embodiment is a layer disposed on one side of the transparent base material.
（１）複屈折層
本実施態様における光学機能層は、複屈折層を有することが好ましい。光学機能層が複屈折層を有する場合には、本実施態様の光学積層体を例えば位相差フィルムに用いることができる。
(1) Birefringent layer The optical functional layer in this embodiment preferably has a birefringent layer. When the optical functional layer has a birefringent layer, the optical laminate of this embodiment can be used, for example, in a retardation film.
複屈折層は、液晶層であることが好ましい。液晶層は、例えば、透明基材上または配向膜上に重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を塗布し、重合性液晶化合物を配向させ、重合させることにより形成することができる。そのため、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが所定の値以下になるように容易に調整することができる。 Preferably, the birefringent layer is a liquid crystal layer. The liquid crystal layer can be formed, for example, by applying a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound onto a transparent substrate or an alignment film, aligning the polymerizable liquid crystal compound, and polymerizing it. Therefore, the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate can be easily adjusted to be equal to or less than a predetermined value.
液晶層は、少なくとも液晶化合物を含有する。液晶化合物は、重合性液晶化合物であることが好ましい。すなわち、液晶層は、重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の硬化物を含有することが好ましい。さらに言い換えると、液晶層は、重合性液晶化合物の配向状態が固定化されたものであることが好ましい。 The liquid crystal layer contains at least a liquid crystal compound. The liquid crystal compound is preferably a polymerizable liquid crystal compound. That is, the liquid crystal layer preferably contains a cured product of a polymerizable liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound. In other words, the liquid crystal layer preferably has a fixed alignment state of the polymerizable liquid crystal compound.
重合性液晶化合物としては、特に限定されるものではなく、一般に複屈折層に用いられる重合性液晶化合物を使用することができ、目的とするリタデーション値、波長分散性、配向性、溶解性等に応じて適宜選択される。 The polymerizable liquid crystal compound is not particularly limited, and polymerizable liquid crystal compounds commonly used for birefringent layers can be used, and it can be used to achieve the desired retardation value, wavelength dispersion, orientation, solubility, etc. It is selected accordingly.
重合性液晶化合物は、重合性基を有する液晶化合物であり、重合性基が１つの単官能性液晶化合物、重合性基が２以上の多官能性液晶化合物が挙げられる。中でも、多官能性液晶化合物が好ましく、重合性基の数が２または３の多官能液晶化合物がより好ましく、重合性基の数が２の多官能液晶化合物がさらに好ましい。重合性基は、紫外線等の活性エネルギー線の照射を受けて重合可能となるものであり、例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合等が挙げられる。また、重合性液晶化合物は、例えば、低分子液晶化合物であってもよく、高分子液晶化合物であってもよい。 The polymerizable liquid crystal compound is a liquid crystal compound having a polymerizable group, and includes a monofunctional liquid crystal compound having one polymerizable group and a polyfunctional liquid crystal compound having two or more polymerizable groups. Among these, polyfunctional liquid crystal compounds are preferred, polyfunctional liquid crystal compounds having 2 or 3 polymerizable groups are more preferred, and polyfunctional liquid crystal compounds having 2 polymerizable groups are even more preferred. The polymerizable group is one that can be polymerized by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays, and includes, for example, ethylenically unsaturated double bonds such as vinyl groups, acryloyl groups, and methacryloyl groups. Further, the polymerizable liquid crystal compound may be, for example, a low molecular liquid crystal compound or a high molecular liquid crystal compound.
重合性液晶化合物の液晶相としては、特に限定されるものではなく、例えば、ネマチック相、スメクチック相、コレステリック相、ディスコチック相のいずれであってもよい。また、液晶層は、例えば、重合性液晶化合物がネマチック相を示す状態で固定化されたものであってもよく、重合性液晶化合物がコレステリック相を示す状態で固定化されたものであってもよく、重合性液晶化合物がスメクチック相を示す状態で固定化されたものであってもよい。 The liquid crystal phase of the polymerizable liquid crystal compound is not particularly limited, and may be, for example, any of a nematic phase, a smectic phase, a cholesteric phase, and a discotic phase. Further, the liquid crystal layer may be, for example, one in which a polymerizable liquid crystal compound is immobilized in a state showing a nematic phase, or one in which a polymerizable liquid crystal compound is immobilized in a state in which a polymerizable liquid crystal compound shows a cholesteric phase. Often, the polymerizable liquid crystal compound may be immobilized in a state showing a smectic phase.
重合性液晶化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。２種以上の重合性液晶化合物を組み合わせて用いることにより、リタデーション値、波長分散性、配向性、溶解性、相転移温度等を調整することができる。 The polymerizable liquid crystal compounds may be used alone or in combination of two or more. By using two or more types of polymerizable liquid crystal compounds in combination, retardation value, wavelength dispersion, orientation, solubility, phase transition temperature, etc. can be adjusted.
重合性液晶組成物は、必要に応じて、液晶性を有さない重合性化合物、光重合開始剤、増感剤、レベリング剤、酸化防止剤、光安定剤等を含有することができる。 The polymerizable liquid crystal composition can contain a polymerizable compound without liquid crystallinity, a photopolymerization initiator, a sensitizer, a leveling agent, an antioxidant, a light stabilizer, and the like, as necessary.
液晶層に含まれる液晶化合物の配向状態としては、例えば、透明基材の面に対して、水平配向、垂直配向、傾斜配向、ツイスト配向、ハイブリッド配向のいずれであってもよい。 The orientation state of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer may be, for example, any one of horizontal orientation, vertical orientation, tilted orientation, twisted orientation, and hybrid orientation with respect to the surface of the transparent base material.
例えば、液晶層に含まれる液晶化合物は、透明基材の面に対して垂直配向していてもよい。このように液晶化合物が垂直配向している場合には、液晶化合物が水平配向している場合と比較して、液晶層が柔らかくなる傾向にあるため、ブロッキングが生じやすくなることが懸念されるが、本実施態様の構成とすることにより、耐ブロッキング性を高めることができる。また、液晶化合物が垂直配向している場合には、上述したように液晶層が柔らかくなる傾向にあり、すなわち液晶層のマルテンス硬度が小さくなる傾向がある。そのため、液晶層に含まれる液晶化合物が垂直配向していることにより、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度を容易に所定の範囲になるように調整することができる。 For example, the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer may be aligned perpendicularly to the surface of the transparent base material. When the liquid crystal compound is vertically aligned in this way, the liquid crystal layer tends to be softer than when the liquid crystal compound is horizontally aligned, so there is a concern that blocking may occur more easily. By adopting the configuration of this embodiment, blocking resistance can be improved. Furthermore, when the liquid crystal compound is vertically aligned, the liquid crystal layer tends to become soft as described above, that is, the Martens hardness of the liquid crystal layer tends to decrease. Therefore, since the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer is vertically aligned, the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side can be easily adjusted to fall within a predetermined range.
液晶層の波長分散性としては、特に限定されず、例えば、正分散性、逆分散性、フラット分散性のいずれであってもよい。なお、正分散性とは、リタデーション値が短波長側から長波長側に向かって減少する波長分散性をいう。逆分散性とは、リタデーション値が短波長側から長波長側に向かって増大する波長分散性をいう。フラット分散性とは、リタデーション値が短波長側から長波長側に向かってほとんど変わらない波長分散性をいう。 The wavelength dispersion of the liquid crystal layer is not particularly limited, and may be, for example, normal dispersion, reverse dispersion, or flat dispersion. Note that positive dispersion refers to wavelength dispersion in which the retardation value decreases from the short wavelength side to the long wavelength side. Inverse dispersion refers to wavelength dispersion in which the retardation value increases from the short wavelength side to the long wavelength side. Flat dispersion refers to wavelength dispersion in which the retardation value hardly changes from the short wavelength side to the long wavelength side.
例えば、液晶層は、逆波長分散性を有していてもよい。液晶層が逆波長分散性を有する場合には、通常、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物が用いられており、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物はその構造が複雑であることから、硬化性が低い傾向にある。そのため、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を用いた場合には、正波長分散性を示す重合性液晶化合物を用いた場合と比較して、重合性液晶化合物の硬化性が悪く、液晶層が柔らかくなる傾向にある。この場合、ブロッキングが生じやすくなることが懸念されるが、本実施態様の構成とすることにより、耐ブロッキング性を高めることができる。また、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を用いた場合には、上述したように液晶層が柔らかくなる傾向にあり、すなわち液晶層のマルテンス硬度が小さくなる傾向がある。そのため、液晶層が逆波長分散性を有することにより、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度を容易に所定の範囲になるように調整することができる。 For example, the liquid crystal layer may have reverse wavelength dispersion. When the liquid crystal layer has reverse wavelength dispersion, a polymerizable liquid crystal compound that exhibits reverse wavelength dispersion is usually used, and polymerizable liquid crystal compounds that exhibit reverse wavelength dispersion have a complex structure. , tend to have low curability. Therefore, when a polymerizable liquid crystal compound that exhibits reverse wavelength dispersion is used, the curing properties of the polymerizable liquid crystal compound are poorer than when a polymerizable liquid crystal compound that exhibits forward wavelength dispersion is used, and the liquid crystal layer tends to become softer. In this case, there is a concern that blocking may easily occur, but with the configuration of this embodiment, blocking resistance can be improved. Furthermore, when a polymerizable liquid crystal compound exhibiting reverse wavelength dispersion is used, the liquid crystal layer tends to become soft as described above, that is, the Martens hardness of the liquid crystal layer tends to decrease. Therefore, since the liquid crystal layer has reverse wavelength dispersion, the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side can be easily adjusted to fall within a predetermined range.
なお、逆波長分散性示す重合性液晶化合物を用いる場合、重合反応の条件等を調整することで硬化性を上げることも可能であるが、その場合には、波長分散性が変化してしまうおそれがある。 In addition, when using a polymerizable liquid crystal compound that exhibits reverse wavelength dispersion, it is possible to increase the curing property by adjusting the conditions of the polymerization reaction, but in that case, there is a risk that the wavelength dispersion will change. There is.
液晶層の厚さとしては、本実施態様の光学積層体の用途等に応じて適宜設定されるものであり、例えば、０．１μｍ以上１０μｍ以下とすることができる。また、液晶層の位相差値（リタデーション値、Ｒｅ（λ））は、下記式により決定されることから、所望のＲｅ（λ）を得るためには、液晶層の厚さｄを調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ）
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける位相差値を表し、ｄは厚さを表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表す。）
例えば、１／４波長板の波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差（Ｒｅ（５５０））は、１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下であることが好ましく、本実施態様の光学積層体を１／４波長板に用いる場合には、液晶層の厚さは、０．５μｍ以上４．０μｍ以下であることが好ましい。
The thickness of the liquid crystal layer is appropriately set depending on the use of the optical laminate of this embodiment, and can be, for example, 0.1 μm or more and 10 μm or less. Furthermore, since the retardation value (retardation value, Re(λ)) of the liquid crystal layer is determined by the following formula, in order to obtain the desired Re(λ), it is necessary to adjust the thickness d of the liquid crystal layer. good.
Re(λ)=d×Δn(λ)
(In the formula, Re(λ) represents the retardation value at the wavelength λnm, d represents the thickness, and Δn(λ) represents the birefringence at the wavelength λnm.)
For example, the in-plane retardation (Re(550)) of the quarter-wave plate for light with a wavelength of 550 nm is preferably 120 nm or more and 160 nm or less, and the optical laminate of this embodiment is used for the quarter-wave plate. In this case, the thickness of the liquid crystal layer is preferably 0.5 μm or more and 4.0 μm or less.
液晶層の形成方法としては、例えば、透明基材上または配向膜上に重合性液晶組成物を塗布し、重合性液晶組成物に含まれる重合性液晶化合物を配向させ、重合する方法が挙げられる。重合性液晶化合物の塗布方法としては、所定の厚さで精度良く成膜できる方法であればよく、一般的な液晶化合物の塗布方法を用いることができる。重合性液晶化合物を配向させる際の条件としては、重合性液晶化合物等の種類により適宜設定されるが、例えば、温度は３０℃以上２００℃以下、時間は１０秒以上３０分以下とすることができる。重合性液晶化合物の重合方法としては、例えば光照射を用いることができ、紫外線照射が好ましい。紫外線の照射量としては、液晶層の厚さ等に応じて適宜設定されるが、例えば、紫外線波長３６５ｎｍでの積算露光量として、１０ｍＪ／ｃｍ２以上１Ｊ／ｃｍ２以下とすることができる。 Examples of the method for forming the liquid crystal layer include a method in which a polymerizable liquid crystal composition is applied onto a transparent substrate or an alignment film, and the polymerizable liquid crystal compound contained in the polymerizable liquid crystal composition is aligned and polymerized. . The method for applying the polymerizable liquid crystal compound may be any method that can accurately form a film with a predetermined thickness, and a general method for applying a liquid crystal compound can be used. The conditions for aligning the polymerizable liquid crystal compound are appropriately set depending on the type of polymerizable liquid crystal compound, etc., but for example, the temperature may be 30°C or more and 200°C or less, and the time may be 10 seconds or more and 30 minutes or less. can. As a method for polymerizing the polymerizable liquid crystal compound, for example, light irradiation can be used, and ultraviolet irradiation is preferable. The amount of ultraviolet ray irradiation is appropriately set depending on the thickness of the liquid crystal layer, etc., and for example, the cumulative exposure amount at an ultraviolet wavelength of 365 nm can be set to 10 mJ/cm 2 or more and 1 J/cm 2 or less.
（２）光学等方層
本実施態様における光学機能層は、上記複屈折層の他に、光学等方層を有することが好ましい。透明基材がポリエチレンテレフタレートを含有する樹脂基材である場合には、本実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を容易に所定の範囲になるように調整することができる。一方で、ポリエチレンテレフタレートを含有する樹脂基材は、複屈折を示す。一般に、位相差フィルムにおいては、光学特性の検査として、例えばクロスニコル配置の２枚の偏光フィルムの間に位相差フィルムを挟んで検査を行う、すなわちクロスニコル検査を行うことがあり、位相差フィルムを構成する透明基材が複屈折を示す場合にはクロスニコル検査ができないおそれがある。これに対し、光学機能層が光学等方層を有する場合には、光学等方層を基材として機能させることができ、本実施態様の光学積層体を例えば位相差フィルムとして用いる場合には、光学積層体から透明基材を剥離して使用することができる。
(2) Optically Isotropic Layer The optically functional layer in this embodiment preferably has an optically isotropic layer in addition to the above-mentioned birefringent layer. When the transparent base material is a resin base material containing polyethylene terephthalate, the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent base material side of the optical laminate of this embodiment can be easily adjusted to fall within a predetermined range. can be adjusted to On the other hand, a resin base material containing polyethylene terephthalate exhibits birefringence. Generally, in order to inspect the optical properties of retardation films, the retardation film may be inspected by sandwiching the retardation film between two polarizing films in a crossed Nicol arrangement, that is, a crossed Nicol test is performed. If the transparent base material constituting the material exhibits birefringence, there is a possibility that the crossed Nicol test cannot be performed. On the other hand, when the optical functional layer has an optically isotropic layer, the optically isotropic layer can function as a base material, and when the optical laminate of this embodiment is used as a retardation film, for example, The transparent base material can be peeled off from the optical laminate and used.
光学等方層としては、光学的等方性を示す層であれば特に限定されるものではない。光学的等方性を示すとは、複屈折性の発現が全体として非常に小さく抑えられていることをいう。具体的には、光学等方層は、波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差が５０ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。光学等方層は、波長５５０ｎｍの光に対する厚み方向位相差Ｒｔｈが１００ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、６０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。さらに、本実施態様の光学積層体を偏光フィルムと組み合わせて用いる場合において、光学等方層の光軸が、偏光フィルムの吸収軸または透過軸に対して±７°超である場合には、光学等方層の波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差は、例えば３０ｎｍ以下であることが好ましく、２０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。この場合、光学等方層の波長５５０ｎｍの光に対する厚み方向位相差Ｒｔｈは、例えば５０ｎｍ以下であることが好ましく、３０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。 The optically isotropic layer is not particularly limited as long as it exhibits optical isotropy. Exhibiting optical isotropy means that the expression of birefringence is suppressed to a very small level as a whole. Specifically, the optically isotropic layer preferably has an in-plane retardation for light with a wavelength of 550 nm of 50 nm or less, more preferably 40 nm or less, and even more preferably 30 nm or less. The optically isotropic layer preferably has a thickness direction retardation Rth for light with a wavelength of 550 nm of 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, and even more preferably 60 nm or less. Furthermore, when the optical laminate of this embodiment is used in combination with a polarizing film, if the optical axis of the optically isotropic layer is more than ±7° with respect to the absorption axis or transmission axis of the polarizing film, the optical The in-plane retardation of the isotropic layer for light with a wavelength of 550 nm is, for example, preferably 30 nm or less, more preferably 20 nm or less, and even more preferably 10 nm or less. In this case, the thickness direction retardation Rth of the optically isotropic layer with respect to light having a wavelength of 550 nm is preferably, for example, 50 nm or less, more preferably 30 nm or less, and even more preferably 10 nm or less.
また、光学等方層は透明性を有しており、全光線透過率が例えば８０％以上であることが好ましい。ここで、光学等方層の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１に準拠して測定することができる。 Further, it is preferable that the optically isotropic layer has transparency and has a total light transmittance of, for example, 80% or more. Here, the total light transmittance of the optically isotropic layer can be measured in accordance with JIS K7361-1.
このような光学等方層の材料としては、透明性を有する光学等方層を得ることができ、溶解または溶融するポリマーであれば特に限定されず、一般的なポリマーの中から適宜選択して用いることができる。例えば、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリカーボネート（ＰＣ）等が挙げられる。ポリマーは、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。 The material for such an optically isotropic layer is not particularly limited as long as it is a polymer that can obtain a transparent optically isotropic layer and can be dissolved or melted, and may be appropriately selected from common polymers. Can be used. Examples include acrylic resin, epoxy resin, cycloolefin polymer (COP), polycarbonate (PC), and the like. The polymers may be used alone or in combination of two or more.
また、光学等方層は、本実施態様の光学積層体と偏光フィルムとを有する光学部材において、光学部材のカールや耐久性を向上するため、水蒸気透過度が、例えば１００ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下であることが好ましく、８０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下であることがより好ましく、６０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下であることがさらに好ましい。 Further, in the optical member having the optical laminate and the polarizing film of this embodiment, the optical isotropic layer has a water vapor permeability of, for example, 100 g/m 2 ·24 hr or less in order to improve the curling and durability of the optical member. It is preferably 80 g/m 2 ·24 hr or less, more preferably 60 g/m 2 ·24 hr or less.
ここで、水蒸気透過度は、ＪＩＳ Ｋ７１２９ Ａ法（感湿センサ法）に準拠して測定することができる。測定条件は、温度４０℃、湿度９０％ＲＨとすることができる。 Here, the water vapor permeability can be measured in accordance with JIS K7129 A method (humidity sensor method). The measurement conditions can be a temperature of 40° C. and a humidity of 90% RH.
上記水蒸気透過度を満たす光学等方層の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等が挙げられる。ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）の場合、無延伸ＰＥＴフィルムを用いることができる。 Examples of the material for the optically isotropic layer that satisfies the above water vapor permeability include acrylic resins, epoxy resins, cycloolefin polymers (COP), and polyethylene terephthalate (PET). In the case of polyethylene terephthalate (PET), an unstretched PET film can be used.
また、光学等方層の材料としては、例えば、硬化性樹脂を用いることができ、中でも、紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましい。また、光学等方層は、硬化性樹脂を含有する場合、重量平均分子量が１万以上であるポリマーをさらに含有することが好ましい。光学等方層の厚さが比較的厚い場合であっても、硬化性樹脂と所定の重量平均分子量を有するポリマーとを混合して用いることにより、ロール加工の際の光学等方層の割れを抑制することができる。 Moreover, as a material for the optically isotropic layer, for example, a curable resin can be used, and among them, it is preferable to use an ultraviolet curable resin. Moreover, when the optically isotropic layer contains a curable resin, it is preferable that the optically isotropic layer further contains a polymer having a weight average molecular weight of 10,000 or more. Even if the thickness of the optically isotropic layer is relatively thick, cracking of the optically isotropic layer during roll processing can be prevented by using a mixture of a curable resin and a polymer having a predetermined weight average molecular weight. Can be suppressed.
また、光学等方層は、粒子を含有していてもよい。本実施態様の光学積層体が、例えば透明基材と配向膜と液晶層と光学等方層とをこの順に有する場合には、光学等方層が粒子を含有することにより、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが所定の値以上になるように容易に調整することができる。 Moreover, the optically isotropic layer may contain particles. When the optical laminate of this embodiment has, for example, a transparent base material, an alignment film, a liquid crystal layer, and an optically isotropic layer in this order, the optically isotropic layer contains particles, so that the optical laminate is optically The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the functional layer side can be easily adjusted to a predetermined value or more.
光学等方層に用いられる粒子としては、例えば、無機粒子、有機粒子、有機無機ハイブリッド粒子のいずれであってもよい。 The particles used in the optically isotropic layer may be, for example, inorganic particles, organic particles, or organic-inorganic hybrid particles.
粒子の平均粒径としては、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを２．０ｎｍ以上とすることができれば特に限定されないが、例えば、５０ｎｍ以上１００００ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以上８０００ｎｍ以下であることがより好ましく、２００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。粒子は、凝集した状態の粒子（二次粒子）であってもよく、その場合には、二次粒子の平均粒径が上記範囲内であることが好ましい。粒子の平均粒径が上記範囲内であれば、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを調整しやすい。 The average particle size of the particles is not particularly limited as long as the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate can be 2.0 nm or more, but it is preferably 50 nm or more and 10,000 nm or less, for example. , more preferably 100 nm or more and 8000 nm or less, and even more preferably 200 nm or more and 5000 nm or less. The particles may be aggregated particles (secondary particles), and in that case, the average particle size of the secondary particles is preferably within the above range. If the average particle diameter of the particles is within the above range, it is easy to adjust the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical layered product on the optical functional layer side.
ここで、粒子の平均粒径は、光学積層体の断面を抽出し、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で光学等方層の断面を撮影した写真を用いて、任意の１００個の粒子について粒径を測定し、その平均値として得られる値である。 Here, the average particle diameter of the particles is determined by extracting a cross section of the optical laminate and using a photograph of the cross section of the optically isotropic layer taken with a scanning transmission electron microscope (STEM) or a transmission electron microscope (TEM). This is a value obtained by measuring the particle size of 100 arbitrary particles and taking the average value.
光学等方層中の粒子の含有量は、例えば、０．１質量％以上３．０質量％以下であることが好ましく、０．２質量％以上２．５質量％以下であることがより好ましく、０．５質量％以上２．０質量％以下であることがさらに好ましい。粒子の含有量が多すぎると、光学等方層と光学等方層に隣接する層との密着性が低下するおそれがある。また、粒子の含有量が少なすぎると、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを所定の値以上とすることが困難になるおそれがある。 The content of particles in the optically isotropic layer is, for example, preferably 0.1% by mass or more and 3.0% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or more and 2.5% by mass or less. , more preferably 0.5% by mass or more and 2.0% by mass or less. If the content of the particles is too large, the adhesion between the optically isotropic layer and the layer adjacent to the optically isotropic layer may be reduced. Moreover, if the content of the particles is too small, it may be difficult to make the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side equal to or greater than a predetermined value.
光学等方層の配置としては、例えば、図１に示すように透明基材２と配向膜５との間に光学等方層４が配置されていてもよく、図２に示すように液晶層６の配向膜５側の面とは反対の面に光学等方層４が配置されていてもよい。
As for the arrangement of the optically isotropic layer, for example, as shown in FIG. 1, an optically
光学等方層の厚さとしては、例えば、１０μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、１３μｍ以上６０μｍ以下であることがより好ましく、１５μｍ以上４０μｍ以下であることがさらに好ましい。光学等方層の厚さが上記範囲であれば、光学積層体から透明基材を剥離した場合に、光学等方層を基材として機能させることができる。 The thickness of the optically isotropic layer is, for example, preferably 10 μm or more and 100 μm or less, more preferably 13 μm or more and 60 μm or less, and even more preferably 15 μm or more and 40 μm or less. If the thickness of the optically isotropic layer is within the above range, the optically isotropic layer can function as a base material when the transparent base material is peeled off from the optical laminate.
光学等方層の形成方法としては、例えば、透明基材上または液晶層上に光学等方層用組成物を塗布し、硬化させる方法が挙げられる。 Examples of the method for forming the optically isotropic layer include a method of applying a composition for an optically isotropic layer onto a transparent substrate or a liquid crystal layer and curing the composition.
３．透明基材
本実施態様における透明基材は、上記光学機能層を支持する部材である。透明基材としては、本実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を所定の範囲とすることができる基材であれば特に限定されるものではない。
3. Transparent Substrate The transparent substrate in this embodiment is a member that supports the optical functional layer. The transparent base material is not particularly limited as long as it is a base material that can keep the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent base material side of the optical laminate of this embodiment within a predetermined range. .
また、透明基材は透明性を有しており、全光線透過率が例えば８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、透明基材の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１に準拠して測定することができる。 Further, the transparent base material has transparency, and the total light transmittance is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. Here, the total light transmittance of the transparent substrate can be measured in accordance with JIS K7361-1.
また、本実施態様の光学積層体をロールツーロール方式で製造する場合には、透明基材は、ロール状に巻き取ることができる可撓性を有することが好ましい。 Moreover, when manufacturing the optical laminate of this embodiment by a roll-to-roll method, it is preferable that the transparent base material has flexibility so that it can be wound up into a roll.
このような透明基材としては、例えば、樹脂基材を用いることができ、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸メチル等の樹脂を含む樹脂基材を挙げることができる。中でも、ポリエチレンテレフタレートを含む樹脂基材が好ましい。ポリエチレンテレフタレートは、本実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を容易に所定の範囲内になるように調整することができる。また、ポリエチレンテレフタレートは、透明性が高く、機械的特性に優れる。 As such a transparent base material, for example, a resin base material can be used, and specifically, polyethylene terephthalate, polyurethane, polyimide, polyamide, polycarbonate, polyethylene naphthalate, polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, etc. Examples include resin base materials containing the following resins. Among these, a resin base material containing polyethylene terephthalate is preferred. Polyethylene terephthalate can easily adjust the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the transparent substrate side surface of the optical laminate of this embodiment so that they fall within predetermined ranges. Moreover, polyethylene terephthalate has high transparency and excellent mechanical properties.
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を含む樹脂基材としては、例えば、一般的な２軸延伸ＰＥＴフィルムであってもよく、超複屈折ＰＥＴフィルムであってもよい。 The resin base material containing polyethylene terephthalate (PET) may be, for example, a general biaxially stretched PET film or a super-birefringent PET film.
透明基材には、必要に応じて、例えば難燃剤、アンチブロッキング剤、酸化防止剤、光安定剤、粘着付与剤、帯電防止剤等が含有されていてもよい。 The transparent base material may contain, for example, a flame retardant, an anti-blocking agent, an antioxidant, a light stabilizer, a tackifier, an antistatic agent, etc., as necessary.
また、本実施態様の光学積層体を偏光フィルムと貼り合わせて光学部材を製造する場合において、透明基材を剥離しない場合には、透明基材は、超複屈折フィルムであることが好ましい。上述したように、一般に、位相差フィルムにおいては、光学特性の検査として、クロスニコル検査を行うことがあり、位相差フィルムを構成する透明基材が複屈折を示す場合にはクロスニコル検査ができないおそれがあるが、透明基材が超複屈折フィルムである場合には、透明基材が複屈折を示すとしても、クロスニコル検査を行うことができる。 Further, in the case of manufacturing an optical member by bonding the optical laminate of this embodiment with a polarizing film, if the transparent base material is not peeled off, the transparent base material is preferably a super-birefringent film. As mentioned above, in general, a crossed nicol test is sometimes performed to inspect the optical properties of a retardation film, but if the transparent base material that makes up the retardation film exhibits birefringence, the crossed nicol test cannot be performed. However, if the transparent substrate is a super-birefringent film, a crossed Nicol test can be performed even if the transparent substrate exhibits birefringence.
透明基材の厚さは、自己支持性を有する厚さであれば特に限定されず、光学積層体の用途等に応じ適宜選択される。具体的には、透明基材の厚さは、１０μｍ以上１０００μｍ以下程度とすることができ、２５μｍ以上１２５μｍ以下であってもよく、３０μｍ以上１００μｍ以下であってもよい。 The thickness of the transparent base material is not particularly limited as long as it has self-supporting properties, and is appropriately selected depending on the use of the optical laminate. Specifically, the thickness of the transparent base material can be approximately 10 μm or more and 1000 μm or less, may be 25 μm or more and 125 μm or less, or may be 30 μm or more and 100 μm or less.
また、本実施態様の光学積層体を偏光フィルムと貼り合わせて光学部材を製造する場合において、透明基材を剥離する場合には、透明基材の光学機能層が配置される面は、表面処理が施されていない未処理面であることが好ましい。透明基材の光学機能層が配置される面が未処理面であると、光学積層体から透明基材を剥離しやすくなるからである。 In addition, in the case of manufacturing an optical member by bonding the optical laminate of this embodiment with a polarizing film, when peeling off the transparent base material, the surface of the transparent base material on which the optical functional layer is disposed must be surface-treated. It is preferable that the surface be untreated. This is because if the surface of the transparent base material on which the optical functional layer is disposed is an untreated surface, the transparent base material can be easily peeled off from the optical laminate.
上記の場合、透明基材の光学機能層が配置される面とは反対の面は、表面処理が施された処理面であることが好ましい。透明基材の表面処理によって光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを調整することができ、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを所定の範囲にすることができる。透明基材の光学機能層が配置される面とは反対の面には、例えば、プライマー層、アンカーコート層等を配置することができる。 In the above case, the surface of the transparent substrate opposite to the surface on which the optically functional layer is disposed is preferably a surface-treated surface. The arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate can be adjusted by surface treatment of the transparent substrate, and the arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate can be adjusted within a predetermined range. It can be done. For example, a primer layer, an anchor coat layer, etc. can be disposed on the surface of the transparent base material opposite to the surface on which the optical functional layer is disposed.
プライマー層としては、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを所定の範囲内とすることができるものであれば特に限定されない。プライマー層の材料としては、一般的に透明基材の表面処理に用いられるプライマー剤を使用することができる。 The primer layer is not particularly limited as long as it can keep the arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate within a predetermined range. As a material for the primer layer, a primer agent generally used for surface treatment of transparent substrates can be used.
アンカーコート層としては、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを所定の範囲内とすることができるものであれば特に限定されない。アンカーコート層の材料としては、一般的に透明基材の表面処理に用いられるアンカーコート剤を使用することができる。アンカーコート層の厚さとしては、例えば、０．０４μｍ以上２μｍ以下とすることができ、０．０５μｍ以上０．２μｍ以下であってもよい。 The anchor coat layer is not particularly limited as long as it can keep the arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate within a predetermined range. As a material for the anchor coat layer, an anchor coat agent generally used for surface treatment of transparent substrates can be used. The thickness of the anchor coat layer may be, for example, 0.04 μm or more and 2 μm or less, and may be 0.05 μm or more and 0.2 μm or less.
一方、本実施態様の光学積層体を偏光フィルムと貼り合わせて光学部材を製造する場合において、透明基材を剥離しない場合には、透明基材の光学機能層が配置される面には、例えばプライマー層やアンカーコート層が配置されていてもよい。プライマー層やアンカーコート層により、透明基材と配向膜との密着性を向上させることができる。なお、プライマー層およびアンカーコート層については、上述のものと同様とすることができる。 On the other hand, in the case of manufacturing an optical member by bonding the optical laminate of this embodiment with a polarizing film, if the transparent base material is not peeled off, the surface of the transparent base material on which the optical functional layer is arranged, for example, A primer layer or an anchor coat layer may be provided. The primer layer and the anchor coat layer can improve the adhesion between the transparent base material and the alignment film. Note that the primer layer and anchor coat layer can be the same as those described above.
上記の場合、透明基材の光学機能層が配置される面とは反対の面は、表面処理が施された処理面であることが好ましい。透明基材の表面処理によって光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを調整することができ、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを所定の範囲にすることができる。また、透明基材の光学機能層が配置される面とは反対の面が処理面であることにより、例えば光学積層体の透明基材側の面と偏光フィルムとを接着層を介して貼り合わせる場合には、光学積層体と偏光フィルムとの接着性を向上させることができる。透明基材の光学機能層が配置される面とは反対の面には、例えば、プライマー層、アンカーコート層等を配置することができる。なお、プライマー層およびアンカーコート層については、上述のものと同様とすることができる。 In the above case, the surface of the transparent substrate opposite to the surface on which the optically functional layer is disposed is preferably a surface-treated surface. The arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate can be adjusted by surface treatment of the transparent substrate, and the arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate can be adjusted within a predetermined range. It can be done. In addition, since the surface of the transparent base material opposite to the surface on which the optical functional layer is arranged is the treated surface, for example, the surface on the transparent base material side of the optical laminate and the polarizing film are bonded together via an adhesive layer. In some cases, the adhesiveness between the optical laminate and the polarizing film can be improved. For example, a primer layer, an anchor coat layer, etc. can be arranged on the surface of the transparent base material opposite to the surface on which the optical functional layer is arranged. Note that the primer layer and anchor coat layer can be the same as those described above.
４．配向膜
本実施態様の光学積層体は、上記液晶層に接する配向膜を有することができる。配向膜は、液晶層に含まれる液晶化合物を一定方向に配列させるための層である。
4. Alignment Film The optical laminate of this embodiment can have an alignment film in contact with the liquid crystal layer. The alignment film is a layer for aligning liquid crystal compounds contained in the liquid crystal layer in a certain direction.
配向膜としては、液晶化合物を配向させることができるものであれば特に限定されず、例えば、ラビング配向膜、光配向膜、凹凸形状を有する配向膜等が挙げられる。 The alignment film is not particularly limited as long as it can align the liquid crystal compound, and examples thereof include a rubbed alignment film, a photo alignment film, an alignment film having an uneven shape, and the like.
配向規制力の付与方法としては、例えば、ラビング処理、光配向処理、賦形処理等を挙げることができる。 Examples of methods for imparting alignment regulating force include rubbing treatment, photo alignment treatment, shaping treatment, and the like.
また、配向膜は、例えば、水平配向膜、垂直配向膜、傾斜配向膜のいずれであってもよい。例えば、配向膜が垂直配向膜である場合には、液晶層に含まれる液晶化合物が、透明基材の面に対して垂直配向することになる。液晶化合物が垂直配向している場合には、液晶化合物が水平配向している場合と比較して、液晶層が柔らかくなる傾向にある。この場合には、ブロッキングが生じやすくなることが懸念されるが、本実施態様の構成とすることにより、耐ブロッキング性を高めることができる。また、液晶化合物が垂直配向している場合には、上述のように液晶層が柔らかくなる傾向にあり、すなわち液晶層のマルテンス硬度が小さくなる傾向がある。そのため、配向膜が垂直配向膜であり、液晶層に含まれる液晶化合物が垂直配向している場合には、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度を容易に所定の範囲になるように調整することができる。 Further, the alignment film may be, for example, a horizontal alignment film, a vertical alignment film, or an inclined alignment film. For example, when the alignment film is a vertical alignment film, the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer is aligned perpendicularly to the surface of the transparent base material. When the liquid crystal compound is vertically aligned, the liquid crystal layer tends to be softer than when the liquid crystal compound is horizontally aligned. In this case, there is a concern that blocking may easily occur, but with the configuration of this embodiment, blocking resistance can be improved. Further, when the liquid crystal compound is vertically aligned, the liquid crystal layer tends to become soft as described above, that is, the Martens hardness of the liquid crystal layer tends to decrease. Therefore, if the alignment film is a vertical alignment film and the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer is vertically aligned, the Martens hardness of the optical functional layer side of the optical laminate can be easily adjusted to a predetermined range. can be adjusted to
配向膜の材料としては、一般的な配向膜の材料を用いることができ、目的とする配向規制力等に応じて適宜選択される。 As the material for the alignment film, a general alignment film material can be used, and is appropriately selected depending on the desired alignment regulating force and the like.
ラビング配向膜の材料としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂等を挙げることができる。ラビング処理による配向膜の形成方法としては、例えば、透明基材上に配向膜用組成物を塗布し、塗膜にラビングロール等を用いてラビングする方法が挙げられる。 Examples of the material for the rubbed alignment film include polyvinyl alcohol resin, polyimide resin, polyamide resin, and the like. Examples of the method for forming an alignment film by rubbing treatment include a method in which a composition for an alignment film is applied onto a transparent substrate, and the coating film is rubbed using a rubbing roll or the like.
光配向膜の材料としては、例えば、偏光を照射することにより配向規制力を発現する光配向性材料を用いることができ、光二量化型材料および光異性化型材料のいずれであってもよい。光配向処理による配向膜の形成方法としては、例えば、透明基材上に光配向性材料を含む配向膜用組成物を塗布し、塗膜に偏光を照射し、硬化させる方法が挙げられる。 As the material for the photo-alignment film, for example, a photo-alignment material that exhibits an alignment regulating force when irradiated with polarized light can be used, and it may be either a photodimerization type material or a photoisomerization type material. Examples of the method for forming an alignment film by photoalignment treatment include a method in which a composition for an alignment film containing a photoalignment material is applied onto a transparent substrate, and the coating film is irradiated with polarized light and cured.
凹凸形状を有する配向膜の材料としては、凹凸形状を賦形可能な材料であれば特に限定されず、例えば、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等を用いることができる。賦形処理による配向膜の形成方法としては、例えば、透明基材上に配向膜用組成物を塗布し、凹凸形状を有する金型で塗膜に賦形し、硬化させる方法が挙げられる。 The material for the alignment film having an uneven shape is not particularly limited as long as it can be formed into an uneven shape, and for example, ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, thermosetting resins, etc. can be used. . Examples of the method for forming an alignment film by shaping treatment include a method in which a composition for an alignment film is applied onto a transparent substrate, the composition is shaped into a coating film using a mold having an uneven shape, and the composition is cured.
配向膜の厚さは、配向規制力を発揮することができる厚さであれば特に限定されず、例えば、１ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることが好ましく、６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であることがより好ましい。 The thickness of the alignment film is not particularly limited as long as it can exhibit an alignment regulating force, and for example, it is preferably 1 nm or more and 1000 nm or less, and more preferably 60 nm or more and 500 nm or less.
５．光学積層体
本実施態様の光学積層体の層構成としては、特に限定されない。本実施態様の光学積層体は、例えば、図１に示すように透明基材２と光学等方層４と配向膜５と液晶層６とをこの順に有していてもよく、図２に示すように透明基材２と配向膜５と液晶層６と光学等方層４とをこの順に有していてもよく、図３に示すように透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有していてもよい。本実施態様の光学積層体が、光学等方層を有する場合、すなわち、透明基材と光学等方層と配向膜と液晶層とをこの順に有する、あるいは、透明基材と配向膜と液晶層と光学等方層とをこの順に有する場合には、本実施態様の光学積層体を例えば位相差フィルムに用いる場合や偏光フィルムと貼り合わせて光学部材を製造する場合において、透明基材を剥離して用いることができる。この場合、光学等方層は基材として機能する。一方、本実施態様の光学積層体が、光学等方層を有さない場合、すなわち、例えば透明基材と配向膜と液晶層とをこの順に有する場合には、本実施態様の光学積層体を例えば位相差フィルムに用いる場合や偏光フィルムと貼り合わせて光学部材を製造する場合において、透明基材を剥離して用いてもよく、透明基材を剥離せずに用いてもよい。
5. Optical Laminate The layer structure of the optical laminate of this embodiment is not particularly limited. The optical laminate of this embodiment may have, for example, a
本実施態様の光学積層体は、全光線透過率が、例えば８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。ここで、表示装置用部材の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１－１に準拠して測定することができる。 The optical laminate of this embodiment preferably has a total light transmittance of, for example, 80% or more, more preferably 90% or more. Here, the total light transmittance of the display device member can be measured in accordance with JIS K7361-1.
本実施態様の光学積層体は、例えば透明基材が超複屈折フィルムである場合には、ヘイズが０．８％未満であることが好ましい。一方、本実施態様の光学積層体は、例えば透明基材が超複屈折フィルムではない場合には、本実施態様の光学積層体を例えば位相差フィルムに用いる場合や偏光フィルムと貼り合わせて光学部材を製造する場合において、透明基材を剥離して用いることができることから、ヘイズは上記範囲より大きくてもよい。ここで、表示装置用部材のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ－７１３６に準拠して測定することができる。 The optical laminate of this embodiment preferably has a haze of less than 0.8%, for example, when the transparent substrate is a super-birefringent film. On the other hand, when the optical laminate of this embodiment is not a super-birefringent film, for example, the optical laminate of this embodiment can be used as a retardation film or bonded with a polarizing film to form an optical member. When manufacturing a transparent substrate, the haze may be larger than the above range because the transparent base material can be peeled off and used. Here, the haze of the display device member can be measured in accordance with JIS K-7136.
本実施態様の光学積層体は、例えば、１／４波長板またはポジティブＣプレートとして用いることができ、また、後述するように偏光フィルムと貼り合わせて用いることができる。１／４波長板は、例えば、波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差（Ｒｅ（５５０））が、１２０ｎｍ以上１６０ｎｍ以下であることが好ましい。 The optical laminate of this embodiment can be used, for example, as a quarter-wave plate or a positive C plate, or can be used in combination with a polarizing film as described below. For example, the quarter-wave plate preferably has an in-plane retardation (Re(550)) of 120 nm or more and 160 nm or less for light with a wavelength of 550 nm.
本実施態様の光学積層体は、耐ブロッキング性が良好であることから、ロールツーロール方式で製造することが好ましい。 Since the optical laminate of this embodiment has good blocking resistance, it is preferable to manufacture it by a roll-to-roll method.
ＩＩ．第２実施態様
本開示における光学積層体の第２実施態様は、透明基材と、上記透明基材の一方の面側に配置された光学機能層と、を有する光学積層体であって、上記透明基材側の面の算術平均粗さＲａが１．２ｎｍ以下であり、上記透明基材側の面のマルテンス硬度が１２５Ｎ／ｍｍ２以上であり、上記光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上であり、上記光学機能層側の面のマルテンス硬度が９０Ｎ／ｍｍ２以上である、あるいは、上記光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、上記光学機能層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上である。
II. Second Embodiment A second embodiment of the optical laminate in the present disclosure is an optical laminate including a transparent base material and an optical functional layer disposed on one surface side of the transparent base material, The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent substrate side is 1.2 nm or less, the Martens hardness of the surface on the transparent substrate side is 125 N/mm 2 or more, and the arithmetic mean roughness of the surface on the optical functional layer side is Ra is 2.0 nm or more, and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 90 N/mm 2 or more, or the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 0.5 nm or less. The Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 130 N/mm 2 or more.
図３は、本実施態様の光学積層体の一例を示す概略断面図である。図３に示すように、光学積層体１は、透明基材２と、透明基材２の一方の面側に配置された光学機能層３とを有する。光学積層体１の透明基材２側の面１Ａの算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度は所定の範囲であり、光学積層体１の光学機能層３側の面１Ｂの算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度は所定の範囲である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the optical laminate of this embodiment. As shown in FIG. 3, the
なお、図３において、光学機能層３は、液晶層６を有しているが、光学機能層３の構成はこの限りではない。また、光学積層体１は、透明基材２と液晶層６との間に、液晶層６に接する配向膜５を有することができる。
In addition, although the optical
本実施態様の光学積層体において、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上であり比較的大きい場合には、ブロッキングの発生を抑制することができる。また、本実施態様の光学積層体において、光学機能層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上であり表面硬度が比較的高い場合には、ブロッキングの発生を抑制することができる。さらに、本実施態様の光学積層体においては、透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を所定の範囲とし、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を所定の範囲として、透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度ならびに光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度をバランスさせることにより、良好な耐ブロッキング性を得ることができる。そのため、ブロッキングによる光学特性の変化や剥離帯電の発生を抑制することが可能である。また、巻取安定性を向上させることができ、ロールツーロール方式での安定的な製造が可能である。 In the optical laminate of this embodiment, when the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 2.0 nm or more, which is relatively large, the occurrence of blocking can be suppressed. Further, in the optical laminate of this embodiment, when the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 130 N/mm 2 or more and the surface hardness is relatively high, the occurrence of blocking can be suppressed. Furthermore, in the optical laminate of this embodiment, the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent base material side are set within predetermined ranges, and the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the optical functional layer side are set within predetermined ranges. Good blocking resistance can be obtained by balancing the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent substrate side and the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the optical functional layer side as the range of can. Therefore, it is possible to suppress changes in optical properties due to blocking and generation of peeling electrification. Further, the winding stability can be improved, and stable production using a roll-to-roll method is possible.
以下、本実施態様の光学積層体の各構成について説明する。 Each structure of the optical laminate of this embodiment will be described below.
１．光学積層体の特性
本実施態様における光学積層体は、透明基材側の面の算術平均粗さＲａが１．２ｎｍ以下であり、透明基材側の面のマルテンス硬度が１２５Ｎ／ｍｍ２以上である。
1. Characteristics of optical laminate The optical laminate in this embodiment has an arithmetic mean roughness Ra of 1.2 nm or less on the surface on the transparent substrate side, and a Martens hardness of 125 N/mm 2 or more on the surface on the transparent substrate side. be.
光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａは、１．２ｎｍ以下であり、１．０ｎｍ以下であってもよく、０．８ｎｍ以下であってもよい。一方、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａは、例えば、０．１ｎｍ以上であってもよく、０．２ｎｍ以上であってもよく、０．３ｎｍ以上であってもよい。光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａが上記範囲のように比較的小さい場合であっても、後述するように光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを比較的大きくする、あるいは光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度を比較的大きくすることにより、耐ブロッキング性を高めることができる。 The arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate is 1.2 nm or less, may be 1.0 nm or less, or may be 0.8 nm or less. On the other hand, the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent substrate side of the optical laminate may be, for example, 0.1 nm or more, 0.2 nm or more, or 0.3 nm or more. good. Even if the arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate is relatively small as in the above range, the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate as described below The blocking resistance can be improved by making Ra relatively large or by making the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side relatively large.
光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度は、１２５Ｎ／ｍｍ２以上であり、１３５Ｎ／ｍｍ２以上であってもよく、１４０Ｎ／ｍｍ２以上であってもよい。一方、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度は、例えば、２００Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましく、１９０Ｎ／ｍｍ２以下であることがより好ましく、１８０Ｎ／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度が上記範囲であれば、良好な耐ブロッキング性を得ることができる。一方、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度が高すぎると、ロール加工の際に割れる可能性がある。 The Martens hardness of the transparent substrate side surface of the optical laminate is 125 N/mm 2 or more, may be 135 N/mm 2 or more, or may be 140 N/mm 2 or more. On the other hand, the Martens hardness of the transparent substrate side surface of the optical laminate is, for example, preferably 200 N/mm 2 or less, more preferably 190 N/mm 2 or less, and 180 N/mm 2 or less. is even more preferable. If the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side is within the above range, good blocking resistance can be obtained. On the other hand, if the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side is too high, there is a possibility of cracking during roll processing.
本実施態様における光学積層体は、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上であり、光学機能層側の面のマルテンス硬度が９０Ｎ／ｍｍ２以上である、あるいは、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、光学機能層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上である。 In the optical laminate in this embodiment, the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 2.0 nm or more, and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 90 N/mm 2 or more, or The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the functional layer side is 0.5 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 130 N/mm 2 or more.
光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上であり、光学機能層側の面のマルテンス硬度が９０Ｎ／ｍｍ２以上である場合、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、２．０ｎｍ以上であり、３．０ｎｍ以上であることが好ましい。この場合、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、例えば、２０．０ｎｍ以下であることが好ましく、１５．０ｎｍ以下であってもよく、１０．０ｎｍ以下であってもよい。光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが上記範囲のように比較的大きいことにより、耐ブロッキング性を高めることができる。一方、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが大きすぎると、ロール加工の際に異物の有無の判別が難しくなるおそれや、ヘイズが高くなるおそれがある。 When the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 2.0 nm or more and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 90 N/mm 2 or more, the surface on the optical functional layer side of the optical laminate The arithmetic mean roughness Ra is 2.0 nm or more, preferably 3.0 nm or more. In this case, the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate is, for example, preferably 20.0 nm or less, may be 15.0 nm or less, and may be 10.0 nm or less. Good too. When the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate is relatively large within the above range, blocking resistance can be improved. On the other hand, if the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is too large, it may become difficult to determine the presence or absence of foreign matter during roll processing, or the haze may become high.
光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上であり、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度が９０Ｎ／ｍｍ２以上である場合、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度は、９０Ｎ／ｍｍ２以上であり、１００Ｎ／ｍｍ２以上であってもよい。この場合、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は、例えば、２００Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましく、１９０Ｎ／ｍｍ２以下であることがより好ましく、１８０Ｎ／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。上述したように、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを比較的大きくすることにより、耐ブロッキング性を高めることができるので、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は上記範囲のように比較的小さくてもよい。一方、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が高すぎると、ロール加工の際に割れる可能性がある。 When the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 2.0 nm or more and the Martens hardness of the surface on the transparent substrate side of the optical laminate is 90 N/mm 2 or more, the transparent substrate of the optical laminate The Martens hardness of the side surface is 90 N/mm 2 or more, and may be 100 N/mm 2 or more. In this case, the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side is, for example, preferably 200 N/mm 2 or less, more preferably 190 N/mm 2 or less, and 180 N/mm 2 or less. It is even more preferable. As mentioned above, blocking resistance can be increased by relatively increasing the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side. The Martens hardness may be relatively small as in the above range. On the other hand, if the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is too high, there is a possibility of cracking during roll processing.
一方、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、光学機能層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上である場合、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、０．５ｎｍ以下であり、０．４ｎｍ以下であってもよい。この場合、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、例えば、０．１ｎｍ以上であってもよく、０．２ｎｍ以上であってもよい。後述するように、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度を比較的大きくすることにより、耐ブロッキング性を高めることができるので、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは上記範囲のように比較的小さくてもよい。 On the other hand, when the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is 0.5 nm or less and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 130 N/mm 2 or more, the optical The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the functional layer side is 0.5 nm or less, and may be 0.4 nm or less. In this case, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side may be, for example, 0.1 nm or more, or 0.2 nm or more. As will be described later, blocking resistance can be improved by relatively increasing the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side. Ra may be relatively small as in the above range.
光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上である場合、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は、１３０Ｎ／ｍｍ２以上であり、１４０Ｎ／ｍｍ２以上であることがより好ましい。この場合、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は、例えば、２００Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましく、１９０Ｎ／ｍｍ２以下であることがより好ましく、１８０Ｎ／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が上記範囲のように比較的大きいことにより、耐ブロッキング性を高めることができる。一方、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が高すぎると、ロール加工の際に割れる可能性がある。 When the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is 0.5 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is 130 N/mm 2 or more, the optical laminate The Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 130 N/mm 2 or more, and more preferably 140 N/mm 2 or more. In this case, the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side is, for example, preferably 200 N/mm 2 or less, more preferably 190 N/mm 2 or less, and 180 N/mm 2 or less. It is even more preferable. When the Martens hardness of the optical functional layer side surface of the optical laminate is relatively high within the above range, blocking resistance can be improved. On the other hand, if the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is too high, there is a possibility of cracking during roll processing.
なお、算術平均粗さＲａの測定方法およびマルテンス硬度の測定方法については、上記第１実施態様の光学積層体における算術平均粗さＲａの測定方法およびマルテンス硬度の測定方法と同様である。また、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよび光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａの調整方法、ならびに光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度および光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度の調整方法についても、上記第１実施態様の項に記載した方法と同様とすることができる。 The method for measuring the arithmetic mean roughness Ra and the Martens hardness are the same as the method for measuring the arithmetic mean roughness Ra and the Martens hardness in the optical laminate of the first embodiment. Also, a method for adjusting the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side, and the surface of the optical laminate on the transparent substrate side. The method for adjusting the Martens hardness of the optical laminate and the Martens hardness of the optical functional layer side surface of the optical laminate can be the same as the method described in the section of the first embodiment.
２．光学機能層
本実施態様における光学機能層は、透明基材の一方の面側に配置される層である。
2. Optical Functional Layer The optical function layer in this embodiment is a layer disposed on one side of the transparent base material.
本実施態様における光学機能層は、複屈折層を有することが好ましい。また、複屈折層は、液晶層であることが好ましい。 The optical functional layer in this embodiment preferably has a birefringent layer. Further, the birefringent layer is preferably a liquid crystal layer.
液晶層に含まれる液晶化合物の配向状態としては、例えば、透明基材の面に対して、水平配向、垂直配向、傾斜配向、ツイスト配向、ハイブリッド配向のいずれであってもよい。 The alignment state of the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer may be, for example, horizontal alignment, vertical alignment, tilted alignment, twisted alignment, or hybrid alignment with respect to the surface of the transparent base material.
例えば、液晶層に含まれる液晶化合物は、透明基材の面に対して水平配向していてもよい。このように液晶化合物が水平配向している場合には、液晶化合物が垂直配向している場合と比較して、液晶層が硬くなる傾向にあり、すなわち液晶層のマルテンス硬度が大きくなる傾向がある。そのため、液晶層に含まれる液晶化合物が水平配向していることにより、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上になるように容易に調整することができる。 For example, the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer may be aligned horizontally with respect to the surface of the transparent base material. When the liquid crystal compound is oriented horizontally in this way, the liquid crystal layer tends to be harder, that is, the Martens hardness of the liquid crystal layer tends to be larger than when the liquid crystal compound is oriented vertically. . Therefore, since the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer is horizontally aligned, the Martens hardness of the optical functional layer side surface of the optical laminate can be easily adjusted to 130 N/mm 2 or more.
液晶層の波長分散性としては、特に限定されず、例えば、正分散性、逆分散性、フラット分散性のいずれであってもよい。 The wavelength dispersion of the liquid crystal layer is not particularly limited, and may be, for example, normal dispersion, reverse dispersion, or flat dispersion.
例えば、液晶層は、正波長分散性を有していてもよい。液晶層が正波長分散性を有する場合には、通常、正波長分散性を示す重合性液晶化合物が用いられており、このような正波長分散性を示す重合性液晶化合物を用いた場合には、逆波長分散性を示す重合性液晶化合物を用いた場合と比較して、液晶層が硬くなる傾向にあり、すなわち液晶層のマルテンス硬度が大きくなる傾向がある。そのため、液晶層が正波長分散性を有することにより、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上になるように容易に調整することができる。 For example, the liquid crystal layer may have positive wavelength dispersion. When the liquid crystal layer has positive wavelength dispersion, a polymerizable liquid crystal compound exhibiting positive wavelength dispersion is usually used. Compared to the case where a polymerizable liquid crystal compound exhibiting reverse wavelength dispersion is used, the liquid crystal layer tends to be harder, that is, the Martens hardness of the liquid crystal layer tends to be higher. Therefore, since the liquid crystal layer has positive wavelength dispersion, the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side can be easily adjusted to 130 N/mm 2 or more.
また、液晶層は、粒子を含有していてもよい。液晶層が粒子を含有することにより、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上になるように容易に調整することができる。 Moreover, the liquid crystal layer may contain particles. By containing particles in the liquid crystal layer, the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate can be easily adjusted to 2.0 nm or more.
液晶層に用いられる粒子としては、重合性液晶化合物の配向を阻害しないものであれば特に限定されず、例えば、無機粒子、有機粒子、有機無機ハイブリッド粒子のいずれであってもよい。 The particles used in the liquid crystal layer are not particularly limited as long as they do not inhibit the alignment of the polymerizable liquid crystal compound, and may be, for example, inorganic particles, organic particles, or organic-inorganic hybrid particles.
粒子の平均粒径としては、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを２．０ｎｍ以上とすることができれば特に限定されないが、液晶層の厚さよりも小さいことが好ましく、例えば、液晶層の厚さの１／２以下であることが好ましく、３／１０以下であることがより好ましく、１／５以下であることがさらに好ましい。粒子の平均粒径が上記範囲内であれば、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを調整しやすい。 The average particle diameter of the particles is not particularly limited as long as the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate can be 2.0 nm or more, but it is preferably smaller than the thickness of the liquid crystal layer. For example, it is preferably 1/2 or less of the thickness of the liquid crystal layer, more preferably 3/10 or less, and even more preferably 1/5 or less. If the average particle diameter of the particles is within the above range, it is easy to adjust the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical layered product on the optical functional layer side.
ここで、粒子の平均粒径は、光学積層体の断面を抽出し、走査型透過電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）または透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で液晶層の断面を撮影した写真を用いて、任意の１００個の粒子について粒径を測定し、その平均値として得られる値である。 Here, the average particle diameter of the particles can be determined by extracting a cross section of the optical laminate and using a photograph of the cross section of the liquid crystal layer with a scanning transmission electron microscope (STEM) or a transmission electron microscope (TEM). The particle size is measured for 100 particles, and the value is the average value obtained.
液晶層中の粒子の含有量は、例えば、０．１０質量％以上１．０質量％以下であることが好ましく、０．１５質量％以上０．８質量％以下であることがより好ましく、０．２０質量％以上０．６質量％以下であることがさらに好ましい。粒子の含有量が多すぎると、重合性液晶化合物の配向が阻害されるおそれや、液晶層と液晶層に隣接する層との密着性が低下するおそれがある。また、粒子の含有量が少なすぎると、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを２．０ｎｍ以上とすることが困難になるおそれがある。 The content of particles in the liquid crystal layer is, for example, preferably 0.10% by mass or more and 1.0% by mass or less, more preferably 0.15% by mass or more and 0.8% by mass or less, and 0.1% by mass or more and 0.8% by mass or less, for example. More preferably, the content is .20% by mass or more and 0.6% by mass or less. If the content of the particles is too large, the alignment of the polymerizable liquid crystal compound may be inhibited or the adhesion between the liquid crystal layer and a layer adjacent to the liquid crystal layer may be reduced. Moreover, if the content of the particles is too small, it may be difficult to adjust the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate to 2.0 nm or more.
液晶層のその他の点については、上記第１実施態様における液晶層と同様とすることができる。 Other aspects of the liquid crystal layer can be the same as the liquid crystal layer in the first embodiment.
３．透明基材
本実施態様における透明基材は、上記光学機能層を支持する部材である。透明基材としては、本実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を所定の範囲とすることができる基材であれば特に限定されるものではない。
3. Transparent Substrate The transparent substrate in this embodiment is a member that supports the optical functional layer. The transparent base material is not particularly limited as long as it is a base material that can keep the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent base material side of the optical laminate of this embodiment within a predetermined range. .
本実施態様における透明基材は、光学的等方性を示すことが好ましい。具体的には、透明基材は、波長５５０ｎｍの光に対する面内位相差が５０ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以下であることがより好ましく、３０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。透明基材は、波長５５０ｎｍの光に対する厚み方向位相差Ｒｔｈが１００ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、６０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。上述したように、一般に、位相差フィルムにおいては、光学特性の検査として、クロスニコル検査を行うことがあり、透明基材が光学的等方性を示す場合には、クロスニコル検査を行うことが可能である。 The transparent substrate in this embodiment preferably exhibits optical isotropy. Specifically, the transparent base material preferably has an in-plane retardation with respect to light with a wavelength of 550 nm of 50 nm or less, more preferably 40 nm or less, and even more preferably 30 nm or less. The thickness direction retardation Rth of the transparent base material with respect to light with a wavelength of 550 nm is preferably 100 nm or less, more preferably 80 nm or less, and even more preferably 60 nm or less. As mentioned above, in general, for retardation films, a crossed nicol test is sometimes performed to test the optical properties, and if the transparent substrate exhibits optical isotropy, a crossed nicol test may be performed. It is possible.
このような透明基材としては、例えば、樹脂基材を用いることができ、具体的には、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、アクリル系樹脂等の樹脂を含む樹脂基材を挙げることができる。中でも、トリアセチルセルロースを含む樹脂基材が好ましい。トリアセチルセルロースは、光学的等方性に優れるからである。トリアセチルセルロースの場合、延伸フィルムを用いることができる。また、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、アクリル系樹脂の場合、無延伸フィルムを用いることができる。 As such a transparent base material, for example, a resin base material can be used, and specifically, acetyl cellulose resin such as triacetyl cellulose, cycloolefin polymer, polycarbonate, epoxy resin, acrylic resin, etc. Examples include resin base materials containing the following. Among these, a resin base material containing triacetylcellulose is preferred. This is because triacetylcellulose has excellent optical isotropy. In the case of triacetylcellulose, a stretched film can be used. Moreover, in the case of a cycloolefin polymer, polycarbonate, or acrylic resin, an unstretched film can be used.
透明基材の片面または両面には表面処理が施されていてもよく、施されていなくてもよい。 One or both sides of the transparent substrate may or may not be surface-treated.
透明基材のその他の点については、上記第１実施態様における透明基材と同様とすることができる。 Other aspects of the transparent base material can be the same as those of the transparent base material in the first embodiment.
４．配向膜
本実施態様の光学積層体は、上記液晶層に接する配向膜を有することができる。配向膜は、液晶層に含まれる液晶化合物を一定方向に配列させるための層である。
4. Alignment Film The optical laminate of this embodiment can have an alignment film in contact with the liquid crystal layer. The alignment film is a layer for aligning liquid crystal compounds contained in the liquid crystal layer in a certain direction.
配向膜としては、液晶化合物を配向させることができるものであれば特に限定されず、例えば、ラビング配向膜、光配向膜、凹凸形状を有する配向膜等が挙げられる。例えば、配向膜がラビング配向膜または凹凸形状を有する配向膜である場合には、ラビング処理または賦形処理により配向膜の表面を荒らすことができ、配向膜上に形成される液晶層の表面も荒らすことができる。そのため、配向膜がラビング配向膜または凹凸形状を有する配向膜である場合には、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上になるように容易に調整することができる。 The alignment film is not particularly limited as long as it can align the liquid crystal compound, and examples thereof include a rubbed alignment film, a photo alignment film, an alignment film having an uneven shape, and the like. For example, when the alignment film is a rubbed alignment film or an alignment film having an uneven shape, the surface of the alignment film can be roughened by rubbing or shaping treatment, and the surface of the liquid crystal layer formed on the alignment film can also be roughened. It can be destroyed. Therefore, when the alignment film is a rubbed alignment film or an alignment film having an uneven shape, it is easily adjusted so that the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is 2.0 nm or more. be able to.
また、配向膜は、例えば、水平配向膜、垂直配向膜、傾斜配向膜のいずれであってもよい。例えば、配向膜が水平配向膜である場合には、液晶層に含まれる液晶化合物が、透明基材の面に対して水平配向することになる。液晶化合物が水平配向している場合には、液晶化合物が垂直配向している場合と比較して、液晶層が硬くなる傾向にあり、すなわち液晶層のマルテンス硬度が大きくなる傾向がある。そのため、配向膜が水平配向膜であり、液晶層に含まれる液晶化合物が水平配向している場合には、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上になるように容易に調整することができる。 Further, the alignment film may be, for example, a horizontal alignment film, a vertical alignment film, or an inclined alignment film. For example, when the alignment film is a horizontal alignment film, the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer is aligned horizontally with respect to the surface of the transparent base material. When the liquid crystal compound is horizontally aligned, the liquid crystal layer tends to be harder, that is, the Martens hardness of the liquid crystal layer tends to be higher than when the liquid crystal compound is vertically aligned. Therefore, when the alignment film is a horizontal alignment film and the liquid crystal compound contained in the liquid crystal layer is horizontally aligned, the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate should be 130 N/mm 2 or more. can be easily adjusted.
配向膜のその他の点については、上記第１実施態様における配向膜と同様とすることができる。 The other aspects of the alignment film can be the same as the alignment film in the first embodiment.
５．その他の構成
本実施態様の光学積層体は、上記の透明基材、光学機能層および配向膜以外に、必要に応じて他の層を有することができる。
5. Other Structures The optical laminate of this embodiment may have other layers as necessary in addition to the transparent base material, optical functional layer, and alignment film described above.
本実施態様の光学積層体においては、例えば、透明基材と配向膜との間に、バリア層を有していてもよい。バリア層は、透明基材への溶剤の浸透を抑制するための層である。バリア層により、例えば、透明基材の一方の面に配向膜や液晶層を形成する際に、配向膜の形成に用いられる配向膜用組成物や液晶層の形成に用いられる重合性液晶組成物に含有される溶剤が透明基材に浸透するのを抑制することができる。例えば、透明基材がトリアセチルセルロースを含有する場合、一般にトリアセチルセルロースは耐溶剤性に劣るが、バリア層によって、トリアセチルセルロースを含有する透明基材の特性が溶剤の浸透によって変化するのを抑制することができる。 In the optical laminate of this embodiment, for example, a barrier layer may be provided between the transparent base material and the alignment film. The barrier layer is a layer for suppressing penetration of a solvent into the transparent base material. For example, when forming an alignment film or a liquid crystal layer on one side of a transparent substrate by a barrier layer, an alignment film composition used for forming an alignment film or a polymerizable liquid crystal composition used for forming a liquid crystal layer. It is possible to prevent the solvent contained in the transparent base material from permeating into the transparent base material. For example, when a transparent substrate contains triacetylcellulose, triacetylcellulose generally has poor solvent resistance, but the barrier layer prevents the properties of the transparent substrate containing triacetylcellulose from changing due to penetration of solvents. Can be suppressed.
バリア層の材料としては、溶剤の浸透を抑制することができる材料であれば特に限定されず、例えば、紫外線硬化性樹脂を用いることができる。紫外線硬化性樹脂としては、特に限定されないが、中でも、３官能以上の多官能モノマーを用いることが好ましい。溶剤の浸透をより抑制することができるからである。３官能以上の多官能モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）等を挙げることができる。 The material for the barrier layer is not particularly limited as long as it can suppress penetration of the solvent, and for example, an ultraviolet curable resin can be used. The ultraviolet curable resin is not particularly limited, but it is particularly preferable to use a trifunctional or higher polyfunctional monomer. This is because penetration of the solvent can be further suppressed. Examples of trifunctional or higher polyfunctional monomers include trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), pentaerythritol (tri/tetra)acrylate (PETA), and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA).
バリア層の厚さとしては、例えば、５０ｎｍ以上５０００ｎｍ以下とすることができる。 The thickness of the barrier layer can be, for example, 50 nm or more and 5000 nm or less.
バリア層の形成方法としては、例えば、透明基材上に紫外線硬化性樹脂組成物を塗布する方法が挙げられる。 Examples of methods for forming the barrier layer include a method of applying an ultraviolet curable resin composition onto a transparent substrate.
６．光学積層体
本実施態様の光学積層体の層構成としては、特に限定されない。本実施態様の光学積層体は、例えば図３に示すように、透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有することができる。また、本実施態様の光学積層体を例えば位相差フィルムに用いる場合や偏光フィルムと貼り合わせて光学部材を製造する場合、透明基材を剥離して用いてもよく、透明基材を剥離せずに用いてもよい。
6. Optical Laminate The layer structure of the optical laminate of this embodiment is not particularly limited. The optical laminate of this embodiment can have a
本実施態様の光学積層体の用途および製造方法については、上記第１実施態様の光学積層体と同様とすることができる。 The use and manufacturing method of the optical laminate of this embodiment can be the same as those of the optical laminate of the first embodiment.
ＩＩＩ．第３実施態様
本開示における光学積層体の第３実施態様は、光学的等方性を示す透明基材と、上記透明基材の一方の面側に配置された光学機能層と、を有する光学積層体であって、上記透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり、上記透明基材側の面のマルテンス硬度が１１０Ｎ／ｍｍ２以上であり、上記光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、上記光学機能層側の面のマルテンス硬度が７５Ｎ／ｍｍ２以上である。
III. Third Embodiment A third embodiment of the optical laminate according to the present disclosure is an optical laminate having a transparent base material exhibiting optical isotropy and an optical functional layer disposed on one surface side of the transparent base material. A laminate, wherein the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent base material side is 2.0 nm or more and 35.0 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the transparent base material side is 110 N/mm 2 or more, The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 0.5 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 75 N/mm 2 or more.
図３は、本実施態様の光学積層体の一例を示す概略断面図である。図３に示すように、光学積層体１は、光学的等方性を示す透明基材２と、透明基材２の一方の面側に配置された光学機能層３とを有する。光学積層体１の透明基材２側の面１Ａの算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度は所定の範囲であり、光学積層体１の光学機能層３側の面１Ｂの算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度は所定の範囲である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing an example of the optical laminate of this embodiment. As shown in FIG. 3, the
なお、図３において、光学機能層３は、液晶層６を有しているが、光学機能層３の構成はこの限りではない。また、光学積層体１は、透明基材２と液晶層６との間に、液晶層６に接する配向膜５を有することができる。
In addition, although the optical
本実施態様の光学積層体においては、透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり比較的大きいことにより、ブロッキングの発生を抑制することができる。さらに、本実施態様の光学積層体においては、透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を所定の範囲とし、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を所定の範囲として、透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度ならびに光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度をバランスさせることにより、良好な耐ブロッキング性を得ることができる。そのため、ブロッキングによる光学特性の変化や剥離帯電の発生を抑制することが可能である。また、巻取安定性を向上させることができ、ロールツーロール方式での安定的な製造が可能である。 In the optical laminate of this embodiment, the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent base material side is 2.0 nm or more and 35.0 nm or less, which is relatively large, so that the occurrence of blocking can be suppressed. Furthermore, in the optical laminate of this embodiment, the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent base material side are set within predetermined ranges, and the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the optical functional layer side are set within predetermined ranges. Good blocking resistance can be obtained by balancing the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent substrate side and the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the optical functional layer side as the range of can. Therefore, it is possible to suppress changes in optical properties due to blocking and generation of peeling electrification. Further, the winding stability can be improved, and stable production using a roll-to-roll method is possible.
以下、本実施態様の光学積層体の各構成について説明する。 Each structure of the optical laminate of this embodiment will be described below.
１．光学積層体の特性
本実施態様における光学積層体は、透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり、透明基材側の面のマルテンス硬度が１００Ｎ／ｍｍ２以上である。
1. Characteristics of optical laminate The optical laminate in this embodiment has an arithmetic mean roughness Ra of 2.0 nm or more and 35.0 nm or less on the surface on the transparent substrate side, and a Martens hardness of 100 N/m on the surface on the transparent substrate side. mm 2 or more.
光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａは、２．０ｎｍ以上であり、３．０ｎｍ以上であることが好ましく、３．５ｎｍ以上であることがより好ましく、５．０ｎｍ以上であることがさらに好ましい。一方、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａは、３５．０ｎｍ以下であり、２５．０ｎｍ以下であってもよく、１５．０ｎｍ以下であってもよい。光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａが上記範囲のように比較的大きいことにより、耐ブロッキング性を高めることができる。一方、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａが大きすぎると、ロール加工の際に異物の有無の判別が難しくなるおそれや、ヘイズが高くなるおそれがある。 The arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate is 2.0 nm or more, preferably 3.0 nm or more, more preferably 3.5 nm or more, and 5.0 nm or more. It is more preferable that On the other hand, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side is 35.0 nm or less, may be 25.0 nm or less, or may be 15.0 nm or less. When the arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate side surface of the optical laminate is relatively large within the above range, blocking resistance can be improved. On the other hand, if the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate facing the transparent substrate is too large, it may become difficult to determine the presence or absence of foreign matter during roll processing, or the haze may become high.
光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度は、１１０Ｎ／ｍｍ２以上であり、１３０Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましく、１６０Ｎ／ｍｍ２以上であることがより好ましい。一方、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度は、例えば、２００Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましく、１９０Ｎ／ｍｍ２以下であることがより好ましく、１８０Ｎ／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度が上記範囲であれば、良好な耐ブロッキング性を得ることができる。一方、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度が高すぎると、ロール加工の際に割れる可能性がある。 The Martens hardness of the transparent substrate side surface of the optical laminate is 110 N/mm 2 or more, preferably 130 N/mm 2 or more, and more preferably 160 N/mm 2 or more. On the other hand, the Martens hardness of the transparent substrate side surface of the optical laminate is, for example, preferably 200 N/mm 2 or less, more preferably 190 N/mm 2 or less, and 180 N/mm 2 or less. is even more preferable. If the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side is within the above range, good blocking resistance can be obtained. On the other hand, if the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side is too high, there is a possibility of cracking during roll processing.
本実施態様における光学積層体は、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、光学機能層側の面のマルテンス硬度が７５Ｎ／ｍｍ２以上である。 In the optical laminate in this embodiment, the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side is 0.5 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side is 75 N/mm 2 or more.
光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、０．５ｎｍ以下であり、０．４ｎｍ以下であることが好ましい。一方、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは、例えば、０．１ｎｍ以上であってもよく、０．２ｎｍ以上であってもよく、０．３ｎｍ以上であってもよい。上述したように、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを比較的大きくすることにより、耐ブロッキング性を高めることができるので、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａは上記範囲のように比較的小さくてもよい。一方、光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａが大きすぎると、ロール加工の際に異物の有無の判別が難しくなるおそれや、ヘイズが高くなるおそれがある。 The arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate is 0.5 nm or less, preferably 0.4 nm or less. On the other hand, the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate may be, for example, 0.1 nm or more, 0.2 nm or more, or 0.3 nm or more. good. As mentioned above, blocking resistance can be improved by relatively increasing the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side. The arithmetic mean roughness Ra may be relatively small as in the above range. On the other hand, if the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is too large, it may become difficult to determine the presence or absence of foreign matter during roll processing, or the haze may become high.
光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は、７５Ｎ／ｍｍ２以上であり、８５Ｎ／ｍｍ２以上であることが好ましく、９５Ｎ／ｍｍ２以上であることがより好ましい。一方、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度は、例えば、２００Ｎ／ｍｍ２以下であることが好ましく、１９０Ｎ／ｍｍ２以下であることがより好ましく、１８０Ｎ／ｍｍ２以下であることがさらに好ましい。光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が上記範囲であれば、良好な耐ブロッキング性を得ることができる。一方、光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度が高すぎると、ロール加工の際に割れる可能性がある。 The Martens hardness of the optical functional layer side surface of the optical laminate is 75 N/mm 2 or more, preferably 85 N/mm 2 or more, and more preferably 95 N/mm 2 or more. On the other hand, the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is, for example, preferably 200 N/mm 2 or less, more preferably 190 N/mm 2 or less, and 180 N/mm 2 or less. is even more preferable. If the Martens hardness of the optical functional layer side surface of the optical laminate is within the above range, good blocking resistance can be obtained. On the other hand, if the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side of the optical laminate is too high, there is a possibility of cracking during roll processing.
なお、算術平均粗さＲａの測定方法およびマルテンス硬度の測定方法については、上記第１実施態様の光学積層体における算術平均粗さＲａの測定方法およびマルテンス硬度の測定方法と同様である。 The method for measuring the arithmetic mean roughness Ra and the Martens hardness are the same as the method for measuring the arithmetic mean roughness Ra and the Martens hardness in the optical laminate of the first embodiment.
光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａは、例えば、透明基材の材料、透明基材の下地層の表面粗さ等により調整することができる。具体的には、後述するように、透明基材は粒子を含有していてもよく、粒子の平均粒径や含有量等によって、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを調整することができる。また、後述するように、透明基材が光学等方層であり、本実施態様の光学積層体が上記第１実施態様の光学積層体の透明基材を剥離することにより得られる場合には、上記第１実施態様の光学積層体の透明基材の算術平均粗さＲａを調整することにより、本実施態様の光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａを調整することができる。 The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent base material side of the optical laminate can be adjusted, for example, by the material of the transparent base material, the surface roughness of the underlying layer of the transparent base material, and the like. Specifically, as described later, the transparent base material may contain particles, and the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the transparent base material side of the optical laminate is determined depending on the average particle size and content of the particles. can be adjusted. Furthermore, as will be described later, when the transparent base material is an optically isotropic layer and the optical laminate of this embodiment is obtained by peeling off the transparent base material of the optical laminate of the first embodiment, By adjusting the arithmetic mean roughness Ra of the transparent substrate of the optical laminate of the first embodiment, it is possible to adjust the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate of the present embodiment. can.
光学積層体の光学機能層側の面の算術平均粗さＲａの調整方法については、上記第１実施態様の項に記載した方法と同様とすることができる。 The method for adjusting the arithmetic mean roughness Ra of the optical functional layer side surface of the optical laminate can be the same as the method described in the section of the first embodiment.
また、光学積層体の透明基材側の面のマルテンス硬度および光学積層体の光学機能層側の面のマルテンス硬度の調整方法についても、上記第１実施態様の項に記載した方法と同様とすることができる。 In addition, the method for adjusting the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side and the Martens hardness of the surface of the optical laminate on the optical functional layer side is also the same as the method described in the section of the first embodiment above. be able to.
２．光学機能層
本実施態様における光学機能層は、透明基材の一方の面側に配置される層である。
2. Optical Functional Layer The optical function layer in this embodiment is a layer disposed on one side of the transparent base material.
本実施態様における光学機能層は、複屈折層を有することが好ましい。また、複屈折層は、液晶層であることが好ましい。 The optical functional layer in this embodiment preferably has a birefringent layer. Further, the birefringent layer is preferably a liquid crystal layer.
液晶層のその他の点については、上記第１実施態様の光学積層体における液晶層と同様とすることができる。 Other aspects of the liquid crystal layer can be the same as those in the optical laminate of the first embodiment.
３．透明基材
本実施態様における透明基材は、光学的等方性を示し、上記光学機能層を支持する部材である。透明基材としては、光学的等方性を示し、本実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を所定の範囲とすることができる基材であれば特に限定されるものではない。
3. Transparent Substrate The transparent substrate in this embodiment is a member that exhibits optical isotropy and supports the optical functional layer. The transparent base material may be any base material that exhibits optical isotropy and allows the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent base material side of the optical laminate of this embodiment to fall within a predetermined range. However, it is not particularly limited.
本実施態様における透明基材は、光学的等方性を示す。透明基材の光学的等方性については、上記第２実施態様の光学積層体における透明基材と同様とすることができる。上述したように、一般に、位相差フィルムにおいては、光学特性の検査として、クロスニコル検査を行うことがあり、透明基材が光学的等方性を示す場合には、クロスニコル検査を行うことが可能である。 The transparent substrate in this embodiment exhibits optical isotropy. The optical isotropy of the transparent base material can be the same as that of the transparent base material in the optical laminate of the second embodiment. As mentioned above, in general, for retardation films, a crossed nicol test is sometimes performed to test the optical properties, and if the transparent substrate exhibits optical isotropy, a crossed nicol test may be performed. It is possible.
このような透明基材としては、例えば、光学等方層を用いることができる。光学等方層については、上記第１実施態様の光学積層体における光学等方層と同様とすることができる。 As such a transparent base material, for example, an optically isotropic layer can be used. The optically isotropic layer can be the same as the optically isotropic layer in the optical laminate of the first embodiment.
また、透明基材は、粒子を含有していてもよい。透明基材が粒子を含有することにより、光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを容易に所定の範囲になるように調整することができる。 Moreover, the transparent base material may contain particles. When the transparent substrate contains particles, the arithmetic mean roughness Ra of the surface of the optical laminate on the transparent substrate side can be easily adjusted to fall within a predetermined range.
透明基材に用いられる粒子としては、上記第１実施態様の光学積層体における光学等方層に用いられる粒子と同様とすることができる。 The particles used in the transparent base material can be the same as those used in the optically isotropic layer in the optical laminate of the first embodiment.
透明基材中の粒子の含有量は、上記第１実施態様の光学積層体における光学等方層中の粒子の含有量と同様である。 The content of particles in the transparent base material is the same as the content of particles in the optically isotropic layer in the optical laminate of the first embodiment.
透明基材の厚さは、上記第１実施態様の光学積層体における光学等方層の厚さと同様とすることができる。 The thickness of the transparent base material can be the same as the thickness of the optically isotropic layer in the optical laminate of the first embodiment.
透明基材の形成方法としては、例えば、支持体上に光学等方層用組成物を塗布し、硬化させて、透明基材として光学等方層を形成した後、光学等方層上に配向膜および液晶層を順に形成し、得られた積層体から支持体を剥離する方法が挙げられる。支持体としては、例えば、上記第１実施態様の光学積層体における透明基材を用いることができる。 As a method for forming a transparent substrate, for example, after coating a composition for an optically isotropic layer on a support and curing it to form an optically isotropic layer as a transparent substrate, alignment is performed on the optically isotropic layer. Examples include a method in which a film and a liquid crystal layer are sequentially formed and a support is peeled from the obtained laminate. As the support, for example, the transparent base material in the optical laminate of the first embodiment can be used.
４．配向膜
本実施態様の光学積層体は、上記液晶層に接する配向膜を有することができる。配向膜は、液晶層に含まれる液晶化合物を一定方向に配列させるための層である。
4. Alignment Film The optical laminate of this embodiment can have an alignment film in contact with the liquid crystal layer. The alignment film is a layer for aligning liquid crystal compounds contained in the liquid crystal layer in a certain direction.
配向膜としては、上記第１実施態様の光学積層体における配向膜と同様とすることができる。 The alignment film may be the same as the alignment film in the optical laminate of the first embodiment.
５．光学積層体
本実施態様の光学積層体の層構成としては、特に限定されない。本実施態様の光学積層体は、例えば図３に示すように、透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有することができる。本実施態様の光学積層体を例えば位相差フィルムに用いる場合や偏光フィルムと貼り合わせて光学部材を製造する場合には、通常、透明基材を剥離せずに用いる。
5. Optical Laminate The layer structure of the optical laminate of this embodiment is not particularly limited. The optical laminate of this embodiment can have a
本実施態様の光学積層体の用途および製造方法については、上記第１実施態様の光学積層体と同様とすることができる。 The use and manufacturing method of the optical laminate of this embodiment can be the same as those of the optical laminate of the first embodiment.
本実施態様の光学積層体は、上記第１実施態様の光学積層体が、例えば透明基材と光学等方層と配向膜と液晶層とをこの順に有する場合、上記第１実施態様の光学積層体から透明基材を剥離することにより得ることができる。 The optical laminate of the present embodiment is the optical laminate of the first embodiment, when the optical laminate of the first embodiment has, for example, a transparent base material, an optically isotropic layer, an alignment film, and a liquid crystal layer in this order. It can be obtained by peeling the transparent base material from the body.
Ｂ．位相差フィルム
本開示における位相差フィルムは、上述の光学積層体の光学機能層を有する。
B. Retardation Film The retardation film in the present disclosure has the optical functional layer of the optical laminate described above.
本開示における位相差フィルムは、上述の光学積層体の光学機能層を有しており、耐ブロッキング性が良好な光学積層体を用いて得ることができるため、ブロッキングによる光学特性の変化や剥離帯電の発生を抑制することが可能である。また、巻取安定性を向上させることができ、ロールツーロール方式での安定的な製造が可能である。また、本開示における位相差フィルムが、上述の第１実施態様の光学積層体の光学機能層を有する場合には、例えば、透明基材を剥離する、あるいは、透明基材として超複屈折フィルムを用いることにより、クロスニコル検査の実施が可能となる。また、本開示における位相差フィルムが、上述の第２実施態様の光学積層体の光学機能層を有する場合には、例えば、光学的等方性を示す透明基材を用いることにより、クロスニコル検査の実施が可能となる。また、本開示における位相差フィルムが、上述の第２実施態様の光学積層体の光学機能層を有する場合には、例えば、透明基材が光学等方層であることにより、クロスニコル検査の実施が可能となる。 The retardation film in the present disclosure has the optical functional layer of the above-mentioned optical laminate and can be obtained using an optical laminate with good blocking resistance. It is possible to suppress the occurrence of Further, the winding stability can be improved, and stable production using a roll-to-roll method is possible. In addition, when the retardation film in the present disclosure has the optical functional layer of the optical laminate of the above-mentioned first embodiment, for example, the transparent base material is peeled off, or a super-birefringent film is used as the transparent base material. By using this, it becomes possible to perform a crossed Nicol test. In addition, when the retardation film in the present disclosure has the optical functional layer of the optical laminate of the above-mentioned second embodiment, for example, by using a transparent base material exhibiting optical isotropy, a cross Nicol test can be performed. It becomes possible to implement In addition, when the retardation film in the present disclosure has the optical functional layer of the optical laminate of the above-mentioned second embodiment, for example, since the transparent base material is an optically isotropic layer, a crossed Nicol test can be performed. becomes possible.
以下、本開示における位相差フィルムの構成について説明する。 Hereinafter, the structure of the retardation film in the present disclosure will be explained.
本開示における光学積層体が、上記第１実施態様の光学積層体である場合、本開示における位相差フィルムは、光学積層体の光学機能層を少なくとも有していればよく、例えば、光学積層体であってもよく、光学積層体から透明基材を剥離したものであってもよい。すなわち、位相差フィルム１０は、例えば、図４に示すように透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有していてもよく、図５に示すように光学等方層４と配向膜５と液晶層６とをこの順に有していてもよく、図６に示すように配向膜５と液晶層６と光学等方層４とをこの順に有していてもよく、図示しないが配向膜と液晶層とを有していてもよく、液晶層を有していてもよい。
When the optical laminate in the present disclosure is the optical laminate of the first embodiment, the retardation film in the present disclosure only needs to have at least the optical functional layer of the optical laminate, for example, the optical laminate in the optical laminate. Alternatively, the transparent base material may be peeled off from the optical laminate. That is, the
本開示における光学積層体が、上記第２実施態様の光学積層体である場合、本開示における位相差フィルムは、光学積層体の光学機能層を少なくとも有していればよく、例えば、光学積層体であってもよく、光学積層体から透明基材を剥離したものであってもよい。すなわち、位相差フィルム１０は、例えば、図４に示すように透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有していてもよく、図７に示すように配向膜５と液晶層６とを有していてもよく、図示しないが液晶層を有していてもよい。
When the optical laminate in the present disclosure is the optical laminate of the second embodiment, the retardation film in the present disclosure only needs to have at least the optical functional layer of the optical laminate, for example, the optical laminate in the optical laminate. Alternatively, the transparent base material may be peeled off from the optical laminate. That is, the
本開示における光学積層体が、上記第３実施態様の光学積層体である場合、本開示における位相差フィルムは、光学積層体の光学機能層を少なくとも有していればよく、光学積層体とすることができる。すなわち、位相差フィルム１０は、例えば図４に示すように透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有していてもよく、図示しないが配向膜と液晶層とを有していてもよく、液晶層を有していてもよい。
When the optical laminate in the present disclosure is the optical laminate of the third embodiment, the retardation film in the present disclosure only needs to have at least the optical functional layer of the optical laminate, and is an optical laminate. be able to. That is, the
Ｃ．転写体
本開示における転写体は、上述の第１実施態様または第２実施態様の光学積層体である。
C. Transfer body The transfer body in the present disclosure is the optical laminate of the above-described first embodiment or second embodiment.
本開示における転写体は、上述の第１実施態様または第２実施態様の光学積層体であり、耐ブロッキング性が良好であるため、巻取安定性を向上させることができ、ロールツーロール方式で安定して転写することが可能である。また、ブロッキングによる光学特性の変化や剥離帯電の発生を抑制することが可能である。 The transfer body in the present disclosure is the optical laminate of the above-mentioned first embodiment or second embodiment, and has good blocking resistance, so that winding stability can be improved and it can be used in a roll-to-roll method. Stable transfer is possible. Further, it is possible to suppress changes in optical properties due to blocking and generation of peeling electrification.
以下、本開示における転写体の構成について説明する。 The configuration of the transfer body in the present disclosure will be described below.
本開示における転写体が、上記第１実施態様の光学積層体である場合、本開示における転写体および被転写体を貼り合わせた後、転写体から透明基材を剥離することで、被転写体上に光学機能層を転写することができる。被転写体上には少なくとも液晶層を転写することができればよく、被転写体上には配向膜や光学等方層がさらに転写されていてもよい。例えば図１に示すように、転写体を構成する光学積層体１が、透明基材２と光学等方層４と配向膜５と液晶層６とをこの順に有する場合には、転写体および被転写体の貼合後に透明基材２を剥離することで、図８に示すように被転写体２０上に液晶層６と配向膜５と光学等方層４とを転写することができる。また、例えば図２に示すように、転写体を構成する光学積層体１が、透明基材２と配向膜５と液晶層６と光学等方層４とをこの順に有する場合には、転写体および被転写体の貼合後に透明基材２を剥離することで、図９に示すように被転写体２０上に光学等方層４と液晶層６と配向膜５とを転写してもよく、転写体および被転写体の貼合後に透明基材２および配向膜５を剥離することで、図１０に示すように被転写体２０上に光学等方層４と液晶層６とを転写してもよい。また、例えば図３に示すように、転写体を構成する光学積層体１が、透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有する場合には、転写体および被転写体の貼合後に透明基材２を剥離することで、図１１に示すように被転写体２０上に液晶層６と配向膜５とを転写してもよく、転写体および被転写体の貼合後に透明基材２および配向膜５を剥離することで、図１２に示すように被転写体２０上に液晶層６を転写してもよい。
When the transfer body according to the present disclosure is the optical laminate according to the first embodiment, the transfer body according to the present disclosure and the transfer target are bonded together, and then the transparent base material is peeled from the transfer body. An optical functional layer can be transferred thereon. It is sufficient that at least a liquid crystal layer can be transferred onto the transfer target, and an alignment film or an optically isotropic layer may be further transferred onto the transfer target. For example, as shown in FIG. 1, when an
本開示における光学積層体が、上記第２実施態様の光学積層体である場合、本開示における転写体および被転写体を貼り合わせた後、転写体から透明基材を剥離することで、被転写体上に光学機能層を転写することができる。被転写体上には少なくとも液晶層を転写することができればよく、被転写体上には配向膜がさらに転写されていてもよい。例えば図３に示すように、転写体を構成する光学積層体１が、透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有する場合には、転写体および被転写体の貼合後に透明基材２を剥離することで、図１１に示すように被転写体２０上に液晶層６と配向膜５とを転写してもよく、転写体および被転写体の貼合後に透明基材２および配向膜５を剥離することで、図１２に示すように被転写体２０上に液晶層６を転写してもよい。
When the optical laminate according to the present disclosure is the optical laminate according to the second embodiment, the transfer body and the transfer target according to the present disclosure are bonded together, and then the transparent base material is peeled from the transfer body. The optical functional layer can be transferred onto the body. It is sufficient that at least a liquid crystal layer can be transferred onto the transfer target, and an alignment film may be further transferred onto the transfer target. For example, as shown in FIG. 3, when the
Ｄ．光学部材
本開示における光学部材は、上述の光学積層体の光学機能層を有する位相差フィルムと、偏光フィルムとを有する。
D. Optical Member The optical member in the present disclosure includes a retardation film having the optical functional layer of the optical laminate described above, and a polarizing film.
図１３は、本開示における光学部材の一例を示す概略断面図である。図１３に示すように、光学部材３０は、光学積層体の光学機能層３を有する位相差フィルム３１と、偏光フィルム３３とを有する。位相差フィルム３１と偏光フィルム３３との間には接着層３２を配置することができる。
FIG. 13 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical member in the present disclosure. As shown in FIG. 13, the
なお、図１３に示す例において、位相差フィルム３１は、偏光フィルム３３側から順に、透明基材２と配向膜５と液晶層６とを有するが、位相差フィルム３１の構成はこの限りではない。
In addition, in the example shown in FIG. 13, the
本開示における光学部材は、上述の光学積層体の光学機能層を有する位相差フィルムを有しており、耐ブロッキング性が良好な光学積層体を用いて得ることができるため、ブロッキングによる光学特性の変化や剥離帯電の発生を抑制することが可能である。また、巻取安定性を向上させることができ、ロールツーロール方式での安定的な製造が可能である。 The optical member in the present disclosure has a retardation film having the optical functional layer of the optical laminate described above, and can be obtained using an optical laminate with good blocking resistance, so that the optical properties due to blocking can be improved. It is possible to suppress the occurrence of change and peeling electrification. Further, the winding stability can be improved, and stable production using a roll-to-roll method is possible.
以下、本開示における光学部材について説明する。 Hereinafter, the optical member in the present disclosure will be explained.
１．位相差フィルム
本開示における光学部材の位相差フィルムに用いられる光学積層体は、上記の第１実施態様、第２実施態様および第３実施態様の光学積層体のいずれであってもよい。
1. Retardation Film The optical laminate used for the retardation film of the optical member in the present disclosure may be any of the optical laminates of the first embodiment, second embodiment, and third embodiment described above.
本開示における光学部材の位相差フィルムに用いられる光学積層体が、上記第１実施態様の光学積層体である場合、位相差フィルムは、光学積層体の光学機能層を少なくとも有していればよく、例えば、光学積層体であってもよく、光学積層体から透明基材を剥離したものであってもよい。例えば図３に示すように、位相差フィルムに用いられる光学積層体１が、透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有する場合、位相差フィルム３１は、偏光フィルム３３側から順に、例えば、図１３に示すように透明基材２と配向膜５と液晶層６とを有していてもよく、図１４に示すように液晶層６と配向膜５とを有していてもよく、図１５に示すように液晶層６を有していてもよい。また、例えば図１に示すように、位相差フィルムに用いられる光学積層体１が、透明基材２と光学等方層４と配向膜５と液晶層６とをこの順に有する場合、位相差フィルム３１は、偏光フィルム３３側から順に、例えば、図１６に示すように液晶層６と配向膜５と光学等方層４とを有することができる。また、例えば図２に示すように、位相差フィルムに用いられる光学積層体１が、透明基材２と配向膜５と液晶層６と光学等方層４とをこの順に有する場合、位相差フィルム３１は、偏光フィルム３３側から順に、例えば、図１７に示すように光学等方層４と液晶層６と配向膜５とを有していてもよく、図１８に示すように光学等方層４と液晶層６とを有していてもよい。
When the optical laminate used for the retardation film of the optical member in the present disclosure is the optical laminate of the first embodiment, the retardation film only needs to have at least the optical functional layer of the optical laminate. For example, it may be an optical laminate, or it may be one obtained by peeling a transparent base material from an optical laminate. For example, as shown in FIG. 3, when an
本開示における光学部材の位相差フィルムに用いられる光学積層体が、上記第２実施態様の光学積層体である場合、位相差フィルムは、光学積層体の光学機能層を少なくとも有していればよく、例えば、光学積層体であってもよく、光学積層体から透明基材を剥離したものであってもよい。例えば図１に示すように、位相差フィルムに用いられる光学積層体１が、透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有する場合、位相差フィルム３１は、偏光フィルム３３側から順に、例えば、図１３に示すように透明基材２と配向膜５と液晶層６とを有していてもよく、図１４に示すように液晶層６と配向膜５とを有していてもよく、図１５に示すように液晶層６を有していてもよい。
When the optical laminate used for the retardation film of the optical member in the present disclosure is the optical laminate of the second embodiment, the retardation film only needs to have at least the optical functional layer of the optical laminate. For example, it may be an optical laminate, or it may be one obtained by peeling a transparent base material from an optical laminate. For example, as shown in FIG. 1, when an
本開示における光学部材の位相差フィルムに用いられる光学積層体が、上記３実施態様の光学積層体である場合、位相差フィルムは、光学積層体の光学機能層を少なくとも有していればよく、光学積層体とすることができる。例えば図３に示すように、位相差フィルムに用いられる光学積層体１が、透明基材２と配向膜５と液晶層６とをこの順に有する場合、位相差フィルム３１は、偏光フィルム３３側から順に、例えば、図１３に示すように透明基材２と配向膜５と液晶層６とを有していてもよく、図１４に示すように液晶層６と配向膜６とを有していてもよく、図１５に示すように液晶層６を有していてもよい。
When the optical laminate used in the retardation film of the optical member in the present disclosure is the optical laminate of the above three embodiments, the retardation film only needs to have at least the optical functional layer of the optical laminate, It can be an optical laminate. For example, as shown in FIG. 3, when an
位相差フィルムが、透明基材または光学等方層を有する場合には、光学部材の強度を高めることができる。この場合、本開示における光学部材は、例えば大型の表示装置に好適に用いることができる。一方、位相差フィルムが、透明基材および光学等方層を有さない場合には、光学部材の薄型化を図ることができる。この場合、本開示における光学部材は、例えば携帯用の表示装置に好適に用いることができる。 When the retardation film has a transparent base material or an optically isotropic layer, the strength of the optical member can be increased. In this case, the optical member according to the present disclosure can be suitably used, for example, in a large-sized display device. On the other hand, when the retardation film does not have a transparent base material and an optically isotropic layer, it is possible to reduce the thickness of the optical member. In this case, the optical member according to the present disclosure can be suitably used, for example, in a portable display device.
また、位相差フィルムが配向膜を有する場合には、耐久性を高めることができる。一方、位相差フィルムが配向膜を有さない場合には、光学部材の薄型化を図ることができる。 Moreover, when the retardation film has an alignment film, durability can be improved. On the other hand, when the retardation film does not have an alignment film, the optical member can be made thinner.
また、本開示における光学部材の位相差フィルムに用いられる光学積層体が、上記第１実施態様の光学積層体である場合であって、位相差フィルムが光学等方層を有する場合であり、例えば光学等方層の波長５５０ｎｍでの面内位相差が３０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍでの厚み方向位相差が５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である場合には、光学等方層の光軸は、偏光フィルムの吸収軸または透過軸に対して±７°以内であることが好ましく、±５°以内であることがより好ましく、±３°以内であることがさらに好ましい。また、上記の場合であって、例えば光学等方層の波長５５０ｎｍでの面内位相差が３０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍでの厚み方向位相差が５０ｎｍ以下である場合には、光学等方層の光軸は、偏光フィルムの吸収軸または透過軸に対して±７°超であってもよい。 Further, the optical laminate used for the retardation film of the optical member in the present disclosure is the optical laminate of the first embodiment, and the retardation film has an optically isotropic layer, for example. When the in-plane retardation at a wavelength of 550 nm of the optically isotropic layer is 30 nm or more and 50 nm or less, and the thickness direction retardation at a wavelength of 550 nm is 50 nm or more and 100 nm or less, the optical axis of the optically isotropic layer It is preferably within ±7°, more preferably within ±5°, and even more preferably within ±3° with respect to the absorption axis or transmission axis of the film. In the above case, for example, if the in-plane retardation at a wavelength of 550 nm of the optically isotropic layer is 30 nm or less, and the thickness direction retardation at a wavelength of 550 nm is 50 nm or less, the optically isotropic layer The optical axis of the polarizing film may be more than ±7° with respect to the absorption axis or the transmission axis of the polarizing film.
また、本開示における光学部材の位相差フィルムに用いられる光学積層体が、上記第２実施態様の光学積層体または上記第３実施態様の光学積層体である場合には、透明基材の光軸は、偏光フィルムの吸収軸または透過軸に対して±７°以内であることが好ましく、±５°以内であることがより好ましく、±３°以内であることがさらに好ましい。 Further, when the optical laminate used for the retardation film of the optical member in the present disclosure is the optical laminate of the second embodiment or the third embodiment, the optical axis of the transparent substrate is preferably within ±7°, more preferably within ±5°, and even more preferably within ±3° with respect to the absorption axis or transmission axis of the polarizing film.
２．偏光フィルム
本開示における偏光フィルムは、特定方向に振動する光のみを通過させる板状の部材であり、一般的な偏光フィルムを用いることができる。偏光フィルムとしては、例えば、ヨウ素または染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコール系樹脂フィルム、ポリビニルホルマール系樹脂フィルム、ポリビニルアセタール系樹脂フィルム、エチレン－酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を挙げることができる。また、偏光フィルムとして、例えば、位相差フィルムの液晶層の配向規制力を利用して、染料を配向させてなる樹脂フィルムを用いることができる。
2. Polarizing Film The polarizing film in the present disclosure is a plate-shaped member that allows only light vibrating in a specific direction to pass through, and a general polarizing film can be used. Examples of polarizing films include polyvinyl alcohol resin films dyed with iodine or dyes and stretched, polyvinyl formal resin films, polyvinyl acetal resin films, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer films, and the like. Can be done. Further, as the polarizing film, for example, a resin film in which a dye is oriented using the alignment regulating force of a liquid crystal layer of a retardation film can be used.
３．接着層
本開示において、位相差フィルムと偏光フィルムとは接着層を介して貼り合わせることができる。接着層に用いられる接着剤としては、一般的な接着剤を使用することができ、例えば、感圧接着剤（粘着剤）、２液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱溶融型接着剤等のいずれであってもよい。
3. Adhesive Layer In the present disclosure, the retardation film and the polarizing film can be bonded together via an adhesive layer. As the adhesive used for the adhesive layer, general adhesives can be used, such as pressure-sensitive adhesives (adhesives), two-component curing adhesives, ultraviolet curing adhesives, and thermosetting adhesives. The adhesive may be an adhesive, a hot melt adhesive, or the like.
４．他の構成
本開示における光学部材は、位相差フィルムおよび偏光フィルム以外にも、他の層をさらに有していてもよい。他の層としては、例えば、上記位相差フィルム以外の複屈折層、反射防止層、拡散層、防眩層、帯電防止層、保護層等が挙げられる。
4. Other Structures The optical member in the present disclosure may further include other layers in addition to the retardation film and the polarizing film. Other layers include, for example, a birefringent layer other than the retardation film, an antireflection layer, a diffusion layer, an antiglare layer, an antistatic layer, a protective layer, and the like.
５．光学部材
本開示における光学部材は、例えば、外光反射を抑制する光学部材や、広視野角偏光板として用いることができる。
5. Optical Member The optical member in the present disclosure can be used, for example, as an optical member that suppresses reflection of external light or a wide viewing angle polarizing plate.
本開示における光学部材は、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の光の反射率の平均値が、例えば、３５％以下であることが好ましい。 The optical member according to the present disclosure preferably has an average reflectance of, for example, 35% or less for light having a wavelength of 380 nm or more and 780 nm or less.
ここで、上記反射率は、光学部材の位相差フィルム側の面から入射した光の反射率であり、入射角５°における反射率である。光学部材の光の反射率は、ＣＩＥ１９３１標準色系視感反射率Ｙ値に従って得られる。光学部材の位相差フィルム側を入射光側として、各波長の光を入射し、各波長における反射率を測定する。測定装置としては、例えば、日本分光（株）製のＶ－７１００（自動絶対反射率測定ユニット：ＶＡＲ－７０１０）を用いることができる。 Here, the reflectance is the reflectance of light incident from the surface of the optical member on the retardation film side, and is the reflectance at an incident angle of 5°. The light reflectance of the optical member is obtained according to the CIE1931 standard color system luminous reflectance Y value. With the retardation film side of the optical member as the incident light side, light of each wavelength is incident, and the reflectance at each wavelength is measured. As the measuring device, for example, V-7100 (automatic absolute reflectance measurement unit: VAR-7010) manufactured by JASCO Corporation can be used.
本開示における光学部材の製造方法としては、例えば、位相差フィルムおよび偏光フィルムを接着層を介して貼り合わせる方法を用いることができ、具体的には、上記光学積層体および偏光フィルムを接着層を介して貼り合わせる方法であってもよく、上記光学積層体を転写体として用い、上記光学積層体および偏光フィルムを接着層を介して貼り合わせた後、上記光学積層体から透明基材を剥離する転写法であってもよい。転写法については、後述の光学部材の製造方法の項に記載する。 As a method for manufacturing the optical member in the present disclosure, for example, a method of bonding a retardation film and a polarizing film via an adhesive layer can be used. Specifically, the optical laminate and the polarizing film are bonded together via an adhesive layer. The optical laminate may be used as a transfer body, the optical laminate and the polarizing film are bonded together via an adhesive layer, and then the transparent base material is peeled from the optical laminate. A transcription method may also be used. The transfer method will be described in the section of the optical member manufacturing method described later.
Ｅ．表示装置
本開示における表示装置は、上述の位相差フィルム、または上述の光学部材を備える。
E. Display Device The display device according to the present disclosure includes the above-mentioned retardation film or the above-mentioned optical member.
図１９は、本開示における表示装置の一例を示す概略断面図である。図１９に示すように、表示装置４０は、表示パネル４１と、光学部材３０とをこの順に有しており、光学部材３０は、表示パネル４１側から順に、位相差フィルム３１と、偏光フィルム３３とを有する。位相差フィルム３１と偏光フィルム３３との間には接着層３２を配置することができる。
FIG. 19 is a schematic cross-sectional view showing an example of a display device according to the present disclosure. As shown in FIG. 19, the
本開示における液晶表示装置は、上述の位相差フィルムまたは光学部材を有しており、耐ブロッキング性が良好な光学積層体を用いて得ることができるため、ブロッキングによる光学特性の変化や剥離帯電の発生を抑制することができる。よって、位相差フィルムや光学部材による外光反射抑制や視野角向上等の効果を十分に得ることができる。 The liquid crystal display device according to the present disclosure has the above-mentioned retardation film or optical member, and can be obtained using an optical laminate with good blocking resistance. The occurrence can be suppressed. Therefore, effects such as suppression of external light reflection and improvement of viewing angle by the retardation film and the optical member can be sufficiently obtained.
本開示における表示装置としては、例えば、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置、マイクロＬＥＤ表示装置等が挙げられる。中でも、有機ＥＬ表示装置、マイクロＬＥＤ表示装置が好ましい。 Examples of the display device in the present disclosure include an organic EL display device, a liquid crystal display device, a micro LED display device, and the like. Among these, organic EL display devices and micro LED display devices are preferred.
有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置およびマイクロＬＥＤ表示装置の構成については、一般的な有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置およびマイクロＬＥＤ表示装置と同様とすることができる。 The configurations of the organic EL display device, liquid crystal display device, and micro LED display device can be the same as those of general organic EL display devices, liquid crystal display devices, and micro LED display devices.
Ｆ．光学部材の製造方法
本開示における光学部材の製造方法は、上述の第１実施態様または第２実施態様の光学積層体である転写体を準備する準備工程と、少なくとも偏光フィルムを有する被転写体と、上記転写体とを貼り合わせる貼合工程と、上記転写体から透明基材を剥離する剥離工程と、を有する。
F. Method for manufacturing an optical member The method for manufacturing an optical member in the present disclosure includes a preparation step of preparing a transfer body that is the optical laminate of the above-mentioned first embodiment or second embodiment, and a transfer body having at least a polarizing film. , a bonding process of bonding the transfer body together, and a peeling process of peeling the transparent base material from the transfer body.
図２０（ａ）～（ｃ）は本開示における光学部材の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図２０（ａ）に示すように、上述の第１実施態様または第２実施態様の光学積層体１である転写体２１を準備する準備工程を行う。次に、図２０（ｂ）に示すように、少なくとも偏光フィルムを有する被転写体２０と、転写体２１とを貼り合わせる貼合工程を行う。次いで、図２０（ｃ）に示すように、転写体２１から透明基材２を剥離する剥離工程を行う。
FIGS. 20(a) to 20(c) are process diagrams showing an example of a method for manufacturing an optical member according to the present disclosure. First, as shown in FIG. 20(a), a preparation step is performed to prepare the
本開示における光学部材の製造方法においては、上述の第１実施態様または第２実施態様の光学積層体である転写体を用いており、光学積層体は耐ブロッキング性が良好であるため、ロールツーロール方式で安定して転写することが可能である。 In the method for manufacturing an optical member according to the present disclosure, a transfer body that is the optical laminate of the above-mentioned first embodiment or second embodiment is used, and since the optical laminate has good blocking resistance, it Stable transfer is possible using the roll method.
以下、本開示における光学部材の製造方法における各工程について説明する。 Each step in the method for manufacturing an optical member according to the present disclosure will be described below.
転写体は、上述の第１実施態様または第２実施態様の光学積層体である。転写体については、上記「Ｃ．転写体」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。 The transfer body is the optical laminate of the first embodiment or the second embodiment described above. The transfer body has been described in the section "C. Transfer body" above, so the description thereof will be omitted here.
準備工程において、転写体を構成する上述の第１実施態様または第２実施態様の光学積層体の製造方法については、上記「Ａ．光学積層体」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。 In the preparation process, the method for manufacturing the optical laminate of the above-mentioned first embodiment or second embodiment that constitutes the transfer body has been described in the section "A. Optical laminate" above, so the explanation here will be omitted. Omitted.
被転写体としては、少なくとも偏光フィルムを有していればよく、例えば、偏光フィルムおよび接着層を有する被転写体を用いることができる。また、被転写体は、例えば、上記光学積層体以外の複屈折層、反射防止層、拡散層、防眩層、帯電防止層、保護層等をさらに有していてもよい。 The object to be transferred needs only to have at least a polarizing film, and for example, an object to be transferred having a polarizing film and an adhesive layer can be used. Further, the transfer target may further include, for example, a birefringent layer, an antireflection layer, a diffusion layer, an antiglare layer, an antistatic layer, a protective layer, etc. other than the optical laminate.
貼合工程において、転写体および被転写体の貼合方法としては、例えば、接着層を介する方法が挙げられる。接着層については、上記「Ｄ．光学部材」の項に記載した接着層と同様とすることができる。 In the bonding step, a method for bonding the transfer body and the transferred body includes, for example, a method using an adhesive layer. The adhesive layer can be the same as the adhesive layer described in the section "D. Optical member" above.
剥離工程においては、少なくとも透明基材を剥離すればよく、例えば透明基材を剥離してもよく、透明基材および配向膜を剥離してもよい。 In the peeling step, at least the transparent base material may be peeled off, for example, the transparent base material may be peeled off, or the transparent base material and the alignment film may be peeled off.
転写体が上記第１実施態様の光学積層体である場合の転写方法および転写体が上記第２実施態様の光学積層体である場合の転写方法については、上記「Ｃ．転写体」の項に記載したので、ここでの説明は省略する。 Regarding the transfer method when the transfer body is the optical laminate of the above first embodiment and the transfer method when the transfer body is the optical laminate of the above second embodiment, see the section "C. Transfer body" above. Since it has already been described, the explanation here will be omitted.
なお、本開示は、上記実施形態に限定されない。上記実施形態は、例示であり、本開示における特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本開示における技術的範囲に包含される。 Note that the present disclosure is not limited to the above embodiments. The above-mentioned embodiments are illustrative, and any configuration that has substantially the same technical idea as the claims of the present disclosure and provides similar effects is the present invention. within the technical scope of the disclosure.
以下、実施例および比較例を挙げて本開示をさらに説明する。 Hereinafter, the present disclosure will be further explained with reference to Examples and Comparative Examples.
［実施例１］
（光配向膜の形成）
透明基材として、東洋紡社製のコスモシャイン超複屈折フィルム（厚さ８０μｍ、ＰＥＴフィルム（Ａ））を用いた。上記透明基材の未処理面（非プライマー面）に、ポリシンナメート系化合物を含有する光配向膜用組成物のプロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（固形分４．５％）を、膜厚が３００ｎｍになるようにミヤバーで塗布して、１００℃のオーブンで１分間乾燥した。得られた膜に、照射波長３１０ｎｍ、照射量２０ｍＪ／ｃｍ２で偏光露光を行い、光配向膜を形成した。
[Example 1]
(Formation of photo alignment film)
As a transparent base material, Cosmoshine super-birefringent film (thickness: 80 μm, PET film (A)) manufactured by Toyobo Co., Ltd. was used. A propylene glycol monomethyl ether solution (solid content 4.5%) of a photoalignment film composition containing a polycinnamate compound was applied to the untreated surface (non-primer surface) of the transparent substrate to a film thickness of 300 nm. It was coated with Miyabur so that it would look like this, and then dried in an oven at 100°C for 1 minute. The obtained film was exposed to polarized light at an irradiation wavelength of 310 nm and an irradiation amount of 20 mJ/cm 2 to form a photo-alignment film.
（液晶層の形成）
次に、特許第５９６２７６０号公報の実施例４の化合物４の合成を参考にして、重合性液晶化合物Ａを合成した。この重合性液晶化合物Ａは、逆波長分散性を示すものであった。上記重合性液晶化合物Ａ １００質量部に対して、開始剤としてイルガキュア９０７を４質量部、界面活性剤としてＤＩＣ社製のメガファックＦ－４７７を０．３質量部添加して、トルエンにて２０％の固形分になるように調整して、重合性液晶組成物を得た。次いで、上記光配向膜上に、上記重合性液晶組成物を、所定の膜厚になるようにミヤバーで塗布した。続いて、１２０℃のオーブンで１分間乾燥して、その後、へレウス社製Ｆｕｓｉｏｎ－ＵＶ装置を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ硬化して、液晶層を形成した。なお、液晶層の厚さは、光配向膜が形成された透明基材上に液晶層を形成した後、３ｃｍ角のアクリル粘着層付きガラスに液晶層のみを転写して測定用積層体を作製し、位相差測定装置（王子計測機器社製、ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）により波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したときに、正面位相差値が１４０ｎｍになるように調整した。このようにして、光学積層体を作製した。
(Formation of liquid crystal layer)
Next, polymerizable liquid crystal compound A was synthesized with reference to the synthesis of
［実施例２］
透明基材として、東洋紡社製のコスモシャインＡ４１００（厚さ１００μｍ、ＰＥＴフィルム（Ｂ））を用いたこと、重合性液晶組成物の調製において、特表２０１０－５２２８９２号公報およびＷＯ２００８／１１９４２６の実施例の例５の混合物９の調製を参考にして混合物を調製し、この混合物をトルエンおよびシクロヘキサノンの７：３の混合溶剤に溶解して、固形分３０％の重合性液晶組成物Ｂを調製したこと、および、液晶層の形成において、乾燥条件を６０℃、１分間にしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作製した。なお、重合性液晶組成物Ｂは、逆波長分散性を示すものであった。
[Example 2]
Cosmoshine A4100 manufactured by Toyobo Co., Ltd. (thickness 100 μm, PET film (B)) was used as the transparent base material, and in the preparation of the polymerizable liquid crystal composition, the implementation of Japanese Patent Application Publication No. 2010-522892 and WO2008/119426. A mixture was prepared with reference to the preparation of mixture 9 in Example 5, and this mixture was dissolved in a 7:3 mixed solvent of toluene and cyclohexanone to prepare polymerizable liquid crystal composition B with a solid content of 30%. An optical laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that the drying conditions were 60° C. and 1 minute in forming the liquid crystal layer. Note that the polymerizable liquid crystal composition B exhibited reverse wavelength dispersion.
［実施例３］
液晶層の形成において、ＵＶ硬化時の照射量を２００ｍＪ／ｃｍ２にしたこと以外は、実施例２と同様にして光学積層体を作製した。
[Example 3]
In forming the liquid crystal layer, an optical laminate was produced in the same manner as in Example 2, except that the irradiation amount during UV curing was 200 mJ/cm 2 .
［実施例４］
透明基材として、富士フイルム社製のフジタックＴＤ８０ＵＬ（ＴＡＣフィルム（Ａ））を用いたこと、および、液晶層の形成において、重合性液晶組成物の調製時に、重合性液晶組成物Ｂの固形分１００質量部に対して、粒子として平均粒径５００ｎｍのＣＩＫナノテック社製のＳｉＯ２粒子を０．１質量部添加したこと以外は、実施例２と同様にして光学積層体を作製した。
[Example 4]
FujiTac TD80UL (TAC film (A)) manufactured by Fujifilm Corporation was used as the transparent base material, and in forming the liquid crystal layer, the solid content of polymerizable liquid crystal composition B was An optical laminate was produced in the same manner as in Example 2, except that 0.1 part by mass of SiO 2 particles manufactured by CIK Nanotech and having an average particle size of 500 nm were added to 100 parts by mass.
［実施例５］
（配向膜の形成）
透明基材として、富士フイルム社製のフジタックＴＤ４０ＵＬ（ＴＡＣフィルム（Ａ））を用いた。また、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を７：３の重量比で混合して、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）およびシクロヘキサノンの９：１の混合溶剤に溶解して、固形分２５％の混合液を調製した。上記混合液に、開始剤としてイルガキュア９０７を固形分１００質量部に対して４質量部、界面活性剤としてＤＩＣ社製のメガファックＦ－４７７を固形分１００質量部に対して０．３質量部を添加し、配向膜用組成物を調製した。上記透明基材上に、上記配向膜用組成物を、膜厚が２．５μｍになるようにミヤバーで塗布し、７０℃のオーブンで１分間乾燥し、へレウス社製Ｆｕｓｉｏｎ－ＵＶを用いて照射量１００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ硬化して、配向膜を形成した。
[Example 5]
(Formation of alignment film)
As a transparent base material, FujiTac TD40UL (TAC film (A)) manufactured by Fuji Film Corporation was used. In addition, trimethylolpropane triacrylate (TMPTA) and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) were mixed at a weight ratio of 7:3 and dissolved in a mixed solvent of methyl isobutyl ketone (MIBK) and cyclohexanone at a ratio of 9:1. A mixed solution having a solid content of 25% was prepared. To the above mixed solution, 4 parts by mass of Irgacure 907 was added as an initiator per 100 parts by mass of solid content, and 0.3 parts by mass of Megafac F-477 manufactured by DIC Corporation was added as a surfactant per 100 parts by mass of solid content. was added to prepare a composition for alignment film. The composition for an alignment film was applied onto the transparent substrate using a Miyabur to a film thickness of 2.5 μm, dried in an oven at 70°C for 1 minute, and coated with a Heraeus Fusion-UV. UV curing was performed at an irradiation dose of 100 mJ/cm 2 to form an alignment film.
（液晶層の形成）
液晶材料Ｃとして、メルク社製のＲＭＭ２８Ｂを、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）およびメチルエチルケトン（ＭＥＫ）の１：１の混合溶剤に溶解して、固形分２５％の混合溶液を調製した。上記混合溶液に、界面活性剤としてＤＩＣ社製のメガファックＦ－４７７を液晶材料Ｃ １００質量部に対して０．３質量部添加し、さらに、粒子として平均粒径５００ｎｍのＣＩＫナノテック社製のＳｉＯ２を液晶材料Ｃ １００質量部に対して０．１質量部添加して、重合性液晶組成物を調製した。次いで、上記配向膜上に、上記重合性液晶組成物を、所定の膜厚になるようにミヤバーで塗布した。続いて、５０℃のオーブンで１分間乾燥して、その後、へレウス社製Ｆｕｓｉｏｎ－ＵＶ装置を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ硬化して、液晶層を形成した。なお、液晶層の厚さは、配向膜が形成された透明基材上に液晶層を形成した後、３ｃｍ角のアクリル粘着層付きガラスに液晶層のみを転写して測定用積層体を作製し、位相差測定装置（王子計測機器社製、ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）により波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したときに、厚さ方向の位相差値が１４０ｎｍになるように調整した。このようにして、光学積層体を作製した。
(Formation of liquid crystal layer)
As liquid crystal material C, RMM28B manufactured by Merck & Co., Ltd. was dissolved in a 1:1 mixed solvent of methyl isobutyl ketone (MIBK) and methyl ethyl ketone (MEK) to prepare a mixed solution with a solid content of 25%. To the above mixed solution, 0.3 parts by mass of Megafac F-477 manufactured by DIC Corporation was added as a surfactant per 100 parts by mass of liquid crystal material C, and further, as particles, Megafac F-477 manufactured by DIC Corporation with an average particle size of 500 nm was added. A polymerizable liquid crystal composition was prepared by adding 0.1 part by mass of SiO 2 to 100 parts by mass of liquid crystal material C. Next, the polymerizable liquid crystal composition was applied onto the alignment film to a predetermined thickness using a coater. Subsequently, it was dried in an oven at 50° C. for 1 minute, and then UV-cured using a Heraeus Fusion-UV device at a dose of 300 mJ/cm 2 to form a liquid crystal layer. The thickness of the liquid crystal layer was determined by forming a liquid crystal layer on a transparent substrate on which an alignment film was formed, and then transferring only the liquid crystal layer to a 3 cm square piece of glass with an acrylic adhesive layer to prepare a measurement laminate. When the retardation value at a wavelength of 550 nm was measured using a retardation measuring device (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., KOBRA-WR), the retardation value in the thickness direction was adjusted to be 140 nm. In this way, an optical laminate was produced.
［実施例６］
（配向膜の形成）
透明基材として、東洋紡社製のＥ５０００（厚さ３８μｍ、ＰＥＴフィルム（Ｃ））を用いた。また、トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）およびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）を７：３の重量比で混合して、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）およびメチルエチルケトン（ＭＥＫ）の１：１の混合溶剤に溶解して、固形分２５％の混合液を調製した。上記混合液に、開始剤としてイルガキュア９０７を固形分１００質量部に対して４質量部、界面活性剤としてＤＩＣ社製のメガファックＦ－４７７を固形分１００質量部に対して０．３質量部を添加し、配向膜用組成物を調製した。上記透明基材上に、上記配向膜用組成物を、膜厚が２．５μｍになるようにミヤバーで塗布し、７０℃のオーブンで１分間乾燥し、へレウス社製Ｆｕｓｉｏｎ－ＵＶを用いて照射量１００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ硬化して、配向膜を形成した。
[Example 6]
(Formation of alignment film)
E5000 (thickness: 38 μm, PET film (C)) manufactured by Toyobo Co., Ltd. was used as the transparent base material. Additionally, trimethylolpropane triacrylate (TMPTA) and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) were mixed at a weight ratio of 7:3 to form a mixed solvent of methyl isobutyl ketone (MIBK) and methyl ethyl ketone (MEK) at a ratio of 1:1. A mixed solution having a solid content of 25% was prepared by dissolving. To the above mixed solution, 4 parts by mass of Irgacure 907 was added as an initiator per 100 parts by mass of solid content, and 0.3 parts by mass of Megafac F-477 manufactured by DIC Corporation was added as a surfactant per 100 parts by mass of solid content. was added to prepare a composition for alignment film. The composition for an alignment film was applied onto the transparent substrate using a Miyabur to a film thickness of 2.5 μm, dried in an oven at 70°C for 1 minute, and coated with a Heraeus Fusion-UV. UV curing was performed at an irradiation dose of 100 mJ/cm 2 to form an alignment film.
（液晶層の形成）
液晶材料Ｃとして、メルク社製のＲＭＭ２８Ｂを、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）およびメチルエチルケトン（ＭＥＫ）の１：１の混合溶剤に溶解して、固形分２５％の混合溶液を調製した。上記混合溶液に、界面活性剤としてＤＩＣ社製のメガファックＦ－４７７を液晶材料Ｃ １００質量部に対して０．３質量部添加して、重合性液晶組成物を調製した。次いで、上記配向膜上に、上記重合性液晶組成物を、所定の膜厚になるようにミヤバーで塗布した。続いて、５０℃のオーブンで１分間乾燥して、その後、へレウス社製Ｆｕｓｉｏｎ－ＵＶ装置を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ硬化して、液晶層を形成した。なお、液晶層の厚さは、配向膜が形成された透明基材上に液晶層を形成した後、３ｃｍ角のアクリル粘着層付きガラスに液晶層のみを転写して測定用積層体を作製し、位相差測定装置（王子計測機器社製、ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）により波長５５０ｎｍでの位相差値を測定したときに、厚さ方向の位相差値が１４０ｎｍになるように調整した。このようにして、光学積層体を作製した。
(Formation of liquid crystal layer)
As liquid crystal material C, RMM28B manufactured by Merck was dissolved in a 1:1 mixed solvent of methyl isobutyl ketone (MIBK) and methyl ethyl ketone (MEK) to prepare a mixed solution with a solid content of 25%. A polymerizable liquid crystal composition was prepared by adding 0.3 parts by mass of Megafac F-477 manufactured by DIC Corporation as a surfactant to the above mixed solution based on 100 parts by mass of liquid crystal material C. Next, the polymerizable liquid crystal composition was applied onto the alignment film to a predetermined thickness using a coater. Subsequently, it was dried in an oven at 50° C. for 1 minute, and then UV-cured using a Heraeus Fusion-UV device at a dose of 300 mJ/cm 2 to form a liquid crystal layer. The thickness of the liquid crystal layer was determined by forming a liquid crystal layer on a transparent substrate on which an alignment film was formed, and then transferring only the liquid crystal layer to a 3 cm square piece of glass with an acrylic adhesive layer to prepare a measurement laminate. When the retardation value at a wavelength of 550 nm was measured using a retardation measuring device (Oji Scientific Instruments Co., Ltd., KOBRA-WR), the retardation value in the thickness direction was adjusted to be 140 nm. In this way, an optical laminate was produced.
［実施例７］
（光配向膜および液晶層の形成）
実施例２と同様にして、透明基材（ＰＥＴフィルム（Ｂ））上に、光配向膜および液晶層を形成した。
[Example 7]
(Formation of photo-alignment film and liquid crystal layer)
In the same manner as in Example 2, a photo-alignment film and a liquid crystal layer were formed on a transparent substrate (PET film (B)).
（光学等方層の形成）
次に、平均分子量約１０万のポリメタクリル酸メチルのペレットおよびペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート（ＰＥＴＡ）を８：２の比率で混合し、開始剤としてイルガキュア９０７をＰＥＴＡ１００質量部に対して５質量部添加し、トルエンおよびシクロヘキサノンの７：３の混合溶剤に溶解して、固形分５０％の光学等方層用組成物を調製した。上記液晶層上に、上記光学等方層用組成物を、乾燥後の膜厚が２０μｍになるようにミヤバーで塗布した。１００℃のオーブンで１分間乾燥して、その後、ヘレウス社製のＦｕｓｉｏｎ－ＵＶ装置を用いて、照射量２００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ硬化して、光学等方層を形成した。このようにして、光学積層体を作製した。
(Formation of optically isotropic layer)
Next, pellets of polymethyl methacrylate with an average molecular weight of about 100,000 and pentaerythritol (tri/tetra) acrylate (PETA) were mixed in a ratio of 8:2, and Irgacure 907 was added as an initiator to 100 parts by mass of PETA. Part by mass was added and dissolved in a 7:3 mixed solvent of toluene and cyclohexanone to prepare a composition for an optically isotropic layer having a solid content of 50%. The composition for an optically isotropic layer was applied onto the liquid crystal layer using a Miyabar so that the film thickness after drying was 20 μm. It was dried in an oven at 100° C. for 1 minute, and then UV-cured using a Fusion-UV device manufactured by Heraeus at a dose of 200 mJ/cm 2 to form an optically isotropic layer. In this way, an optical laminate was produced.
［実施例８］
光学等方層の形成において、光学等方層用組成物の調製時に、粒子として平均粒径５００ｎｍのＣＩＫナノテック社製のＳｉＯ２粒子を、上記のポリメタクリル酸メチルのペレットおよびＰＥＴＡの合計量１００質量部に対して０．５質量部添加したこと以外は、実施例７と同様して光学積層体を作製した。
[Example 8]
In forming the optically isotropic layer, when preparing the composition for the optically isotropic layer, SiO 2 particles manufactured by CIK Nanotech with an average particle size of 500 nm were used as particles, and the total amount of the polymethyl methacrylate pellets and PETA was 100 nm. An optical laminate was produced in the same manner as in Example 7 except that 0.5 part by mass was added.
［実施例９］
（透明基材の準備）
エンボス加工を施したＳＵＳ板に、富士フイルム社製のフジタックＴＤ８０ＵＬ（ＴＡＣフィルム）を０．５ｋｇ／ｃｍ２の面圧にて１２０℃、６０秒間加圧することで、Ｒａ１．０ｎｍのＴＡＣフィルム（Ｂ）を作製した。
[Example 9]
(Preparation of transparent base material)
A TAC film (B ) was created.
（光配向膜および液晶層の形成）
重合性液晶化合物として、特許第６３６３５６６号公報の実施例４の化合物（Ｉ－４）の合成を参考にして、下記に示す重合性液晶化合物Ｄを合成したこと以外は、実施例１と同様にして、上記透明基材上に光配向膜および液晶層を形成し、光学積層体を作製した。なお、下記に示す重合性液晶化合物Ｄは、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。
(Formation of photoalignment film and liquid crystal layer)
As a polymerizable liquid crystal compound, polymerizable liquid crystal compound D shown below was synthesized with reference to the synthesis of compound (I-4) in Example 4 of Patent No. 6363566, but in the same manner as in Example 1. A photo-alignment film and a liquid crystal layer were formed on the transparent base material to produce an optical laminate. Note that the polymerizable liquid crystal compound D shown below represents a mixture of positional isomers having different positions of methyl groups.
［実施例１０］
（光学等方層（透明基材）の形成）
支持体として、東洋紡社製のＥ５０００（厚さ３８μｍ、ＰＥＴフィルム（Ｃ））を用いた。平均分子量約１０万のポリメタクリル酸メチルのペレットおよびペンタエリスリトール（トリ／テトラ）アクリレート（ＰＥＴＡ）を８：２の比率で混合し、開始剤としてイルガキュア９０７をＰＥＴＡ１００質量部に対して５質量部添加し、トルエンおよびシクロヘキサノンの７：３の混合溶剤に溶解して、固形分５０％の光学等方層用組成物を調製した。上記支持体上に、上記光学等方層用組成物を、乾燥後の膜厚が２０μｍになるようにミヤバーで塗布した。１００℃のオーブンで１分間乾燥して、その後、ヘレウス社製のＦｕｓｉｏｎ－ＵＶ装置を用いて、照射量２００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ硬化して、光学等方層（透明基材）を形成した。
[Example 10]
(Formation of optically isotropic layer (transparent base material))
As a support, E5000 (thickness: 38 μm, PET film (C)) manufactured by Toyobo Co., Ltd. was used. Pellets of polymethyl methacrylate with an average molecular weight of about 100,000 and pentaerythritol (tri/tetra) acrylate (PETA) are mixed at a ratio of 8:2, and 5 parts by mass of Irgacure 907 is added as an initiator to 100 parts by mass of PETA. and dissolved in a 7:3 mixed solvent of toluene and cyclohexanone to prepare an optically isotropic layer composition having a solid content of 50%. The composition for an optically isotropic layer was coated onto the support using a Miyabar so that the film thickness after drying was 20 μm. It was dried in an oven at 100° C. for 1 minute, and then UV-cured using a Fusion-UV device manufactured by Heraeus at a dose of 200 mJ/cm 2 to form an optically isotropic layer (transparent substrate).
（光配向膜および液晶層の形成）
実施例１と同様にして、上記光学等方層上に光配向膜および液晶層を形成し、積層体を得た。
(Formation of photo-alignment film and liquid crystal layer)
In the same manner as in Example 1, a photo-alignment film and a liquid crystal layer were formed on the optically isotropic layer to obtain a laminate.
（支持体の剥離）
次に、上記積層体から上記支持体を剥離して、光学積層体を得た。
(Peeling of support)
Next, the support was peeled off from the laminate to obtain an optical laminate.
［実施例１１］
光学等方層の形成において、光学等方層用組成物の調製時に、粒子として平均粒径２００ｎｍのＣＩＫナノテック社製のＳｉＯ２粒子を、ポリメタクリル酸メチルのペレットおよびＰＥＴＡの合計量１００質量部に対して１．０質量部添加したこと以外は、実施例１０と同様にして光学積層体を作製した。
[Example 11]
In the formation of the optically isotropic layer, when preparing the composition for the optically isotropic layer, SiO 2 particles manufactured by CIK Nanotech with an average particle size of 200 nm were used as particles, and a total amount of 100 parts by mass of polymethyl methacrylate pellets and PETA was added. An optical laminate was produced in the same manner as in Example 10, except that 1.0 part by mass was added.
［実施例１２］
光学等方層の形成において、光学等方層用組成物の調製時に、粒子として平均粒径１０００ｎｍのＣＩＫナノテック社製のＳｉＯ２粒子を、ポリメタクリル酸メチルのペレットおよびＰＥＴＡの合計量１００質量部に対して０．５質量部添加したこと以外は、実施例１０と同様にして光学積層体を作製した。
[Example 12]
In the formation of the optically isotropic layer, when preparing the composition for the optically isotropic layer, SiO 2 particles manufactured by CIK Nanotech with an average particle size of 1000 nm are used as particles, and polymethyl methacrylate pellets and PETA are added in a total amount of 100 parts by mass. An optical laminate was produced in the same manner as in Example 10, except that 0.5 parts by mass was added.
［実施例１３］
液晶層の形成において、重合性液晶組成物の調製時に、重合性液晶組成物Ｂの固形分１００質量部に対して、粒子として平均粒径２００ｎｍのＣＩＫナノテック社製のＳｉＯ２粒子を１．０質量部添加したこと以外は、実施例４と同様にして光学積層体を作製した。
[Example 13]
In forming the liquid crystal layer, when preparing the polymerizable liquid crystal composition, 1.0 SiO 2 particles manufactured by CIK Nanotech with an average particle size of 200 nm were added as particles to 100 parts by mass of solid content of polymerizable liquid crystal composition B. An optical laminate was produced in the same manner as in Example 4, except that part by mass was added.
［実施例１４］
液晶層の形成において、重合性液晶組成物の調製時に、液晶材料Ｃ １００質量部に対して、粒子として平均粒径２００ｎｍのＣＩＫナノテック社製のＳｉＯ２粒子を１．０質量部添加したこと以外は、実施例５と同様にして光学積層体を作製した。
[Example 14]
In forming the liquid crystal layer, when preparing the polymerizable liquid crystal composition, 1.0 part by mass of SiO 2 particles manufactured by CIK Nanotech with an average particle size of 200 nm was added as particles to 100 parts by mass of liquid crystal material C. An optical laminate was produced in the same manner as in Example 5.
［実施例１５］
透明基材として、富士フィルム社製のＺＲＤ－６０ＳＬ（ＴＡＣフィルム（Ｃ））を用いたこと、および、下記に示すように液晶層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を作製した。
[Example 15]
Optical lamination was carried out in the same manner as in Example 1, except that ZRD-60SL (TAC film (C)) manufactured by Fuji Film Co., Ltd. was used as the transparent base material, and the liquid crystal layer was formed as shown below. The body was created.
（液晶層の形成）
液晶材料Ｅとして、下記に示す化合物の混合物を用い、開始剤としてイルガキュア９０７を液晶材料Ｅ １００質量部に対して４質量部、界面活性剤としてＤＩＣ社製のメガファックＦ－４７７を液晶材料Ｅ １００質量部に対して０．３質量部添加して、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）およびメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）の１：１の混合溶剤に溶解し、固形分２５％の重合性液晶組成物を調製したこと、および、１００℃のオーブンで１分間乾燥して、その後、へレウス社製Ｆｕｓｉｏｎ－ＵＶ装置を用いて、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ硬化したこと以外は、実施例１と同様にして、液晶層を形成した。
(Formation of liquid crystal layer)
As liquid crystal material E, a mixture of the compounds shown below was used, Irgacure 907 was used as an initiator, 4 parts by mass per 100 parts by mass of liquid crystal material E, and Megafac F-477 manufactured by DIC Corporation was used as a surfactant. A polymerizable liquid crystal composition with a solid content of 25% was prepared by adding 0.3 parts by mass to 100 parts by mass and dissolving it in a 1:1 mixed solvent of methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone (MIBK). The same procedure as in Example 1 was carried out, except that the sample was dried in an oven at 100°C for 1 minute, and then UV-cured using a Heraeus Fusion-UV device at a dose of 300 mJ/cm 2 . , a liquid crystal layer was formed.
［実施例１６］
液晶層の形成において、ＵＶ硬化時の温度を８０℃、照射量を５００ｍＪ／ｃｍ２にしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を形成した。
[Example 16]
In forming the liquid crystal layer, an optical laminate was formed in the same manner as in Example 1, except that the temperature during UV curing was 80° C. and the irradiation amount was 500 mJ/cm 2 .
［比較例１］
液晶層の形成において、重合性液晶組成物の調製時に粒子を添加しなかったこと以外は、実施例４と同様にして光学積層体を作製した。
[Comparative example 1]
In forming the liquid crystal layer, an optical laminate was produced in the same manner as in Example 4, except that no particles were added during the preparation of the polymerizable liquid crystal composition.
［比較例２］
液晶層の形成において、重合性液晶組成物の調製時に粒子を添加しなかったこと以外は、実施例５と同様にして光学積層体を作製した。
[Comparative example 2]
In forming the liquid crystal layer, an optical laminate was produced in the same manner as in Example 5, except that no particles were added during the preparation of the polymerizable liquid crystal composition.
［比較例３］
光学等方層の形成において、光学等方層用組成物の調製時に、粒子として平均粒径２０００ｎｍの積水化学工業株式会社製のミクロパールＥＸを、ポリメタクリル酸メチルのペレットおよびＰＥＴＡの合計量１００質量部に対して１．０質量部添加したこと以外は、実施例１０と同様にして光学積層体を作製した。
[Comparative example 3]
In the formation of the optically isotropic layer, when preparing the composition for the optically isotropic layer, Micropearl EX manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. with an average particle size of 2000 nm was used as particles, polymethyl methacrylate pellets and PETA were added in a total amount of 100 nm. An optical laminate was produced in the same manner as in Example 10, except that 1.0 part by mass was added.
［比較例４］
液晶層の形成において、ＵＶ硬化時の照射量を１００ｍＪ／ｃｍ２にしたこと以外は、実施例１と同様にして光学積層体を形成した。
[Comparative example 4]
In forming the liquid crystal layer, an optical laminate was formed in the same manner as in Example 1, except that the irradiation amount during UV curing was 100 mJ/cm 2 .
［評価］
（１）算術平均粗さＲａ
実施例および比較例の光学積層体の透明基材側の面および光学機能層側の面の算術平均粗さＲａをＪＩＳ Ｂ０６０１：２０１３に準拠して測定した。測定装置としては、Ｚｙｇｏ社製の白色干渉計ＮｅｗＶｉｅｗ７３００を用いた。測定条件としては、対物レンズ１０倍、ズームレンズ１倍、測定視野角１０６５．２μｍ×１０６５．２μｍとした。ＣｙｌｉｎｄｅｒはＣｙｌｉｎｄｅｒ形状の関数でフィルムの傾きを補正した。バンドパスフィルタは上の３．２６μｍ～２７０μｍの範囲に入る凹凸周期は残して、それ以外の短い周期で出ているスパイク形状や長い周期で出ているフィルムのゆがみを除去した。結果を表１に示す。
[evaluation]
(1) Arithmetic mean roughness Ra
The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent substrate side and the surface on the optical functional layer side of the optical laminates of Examples and Comparative Examples was measured in accordance with JIS B0601:2013. As a measuring device, a white interferometer NewView 7300 manufactured by Zygo was used. The measurement conditions were a 10x objective lens, a 1x zoom lens, and a measurement viewing angle of 1065.2 μm x 1065.2 μm. The cylinder corrected the tilt of the film using a function of the cylinder shape. The bandpass filter left the uneven period within the range of 3.26 μm to 270 μm above, and removed the spike shapes appearing at other short periods and the distortion of the film appearing at long periods. The results are shown in Table 1.
（２）マルテンス硬度
実施例および比較例の光学積層体の透明基材側の面および光学機能層側の面のマルテンス硬度をＩＳＯ １４５７７－１に準拠して測定した。圧子の荷重および押し込み深さについては、押し込み深さが光学積層体の最表面の層の厚さの約１／１０～１／２０程度になるように、試験荷重を設定した。例えば、光学積層体の透明基材側の面において、透明基材が厚さ３８μｍのＰＥＴフィルムである場合であって、試験荷重３０ｍＮのときに押し込み深さが３．０μｍになる場合には、この条件で測定することができる。一方、例えば、光学積層体の光学機能層側の面において、液晶層が最表面に位置し、液晶層の厚さが約２．０μｍである場合であって、試験荷重０．０８ｍＮのときに押し込み深さが０．１４μｍになる場合には、この条件で測定することができる。光学積層体の最表面の層の材料により荷重に対する押し込み深さは変わるので、適宜荷重を変えて、押し込み深さが層の厚さの１／１０～１／２０になるように調整し、その条件で測定した。測定は少なくとも５回実施し、標準偏差（σ）が１０以内に収まったら、標準偏差（σ）が１０以内に収まった５回分の平均値を算出し、この平均値をマルテンス硬度とした。また、測定の際に明らかにイレギュラーな曲線は除外した。測定装置としては、フィッシャー・インストルメンツ社製の微小硬さ試験機ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ ＨＭ－５００を用いた。測定条件は以下の通りとした。結果を表１に示す。
（測定条件）
・温度：２５℃
・相対湿度：５０％
・クリープ時間：５秒
(2) Martens Hardness The Martens hardness of the transparent substrate side surface and the optical functional layer side surface of the optical laminates of Examples and Comparative Examples was measured in accordance with ISO 14577-1. Regarding the load and indentation depth of the indenter, the test load was set so that the indentation depth was about 1/10 to 1/20 of the thickness of the outermost layer of the optical laminate. For example, in the case where the transparent substrate is a PET film with a thickness of 38 μm on the surface of the optical laminate on the transparent substrate side, and the indentation depth is 3.0 μm when the test load is 30 mN, Measurement can be performed under these conditions. On the other hand, for example, when the liquid crystal layer is located on the outermost surface of the optical laminate on the optical functional layer side, the thickness of the liquid crystal layer is approximately 2.0 μm, and the test load is 0.08 mN. When the indentation depth is 0.14 μm, measurement can be performed under these conditions. The indentation depth under load varies depending on the material of the outermost layer of the optical laminate, so adjust the load appropriately so that the indentation depth is 1/10 to 1/20 of the layer thickness. Measured under the following conditions. The measurement was carried out at least 5 times, and when the standard deviation (σ) fell within 10, the average value of the 5 measurements where the standard deviation (σ) fell within 10 was calculated, and this average value was taken as the Martens hardness. Additionally, clearly irregular curves were excluded during measurement. As a measuring device, a microhardness tester PICODENTOR HM-500 manufactured by Fisher Instruments was used. The measurement conditions were as follows. The results are shown in Table 1.
(Measurement condition)
・Temperature: 25℃
・Relative humidity: 50%
・Creep time: 5 seconds
（３）ヘイズ
実施例１～３、６～８、１６および比較例４の光学積層体については、光学積層体の光学機能層側の面を３ｃｍ角のアクリル粘着層付きガラスに貼合した後、透明基材（ＰＥＴフィルム）を剥離し、さらに光学積層体の透明基材を剥離した面を３ｃｍ角のアクリル粘着層付きガラスに貼合して、測定用積層体を作製し、この測定用積層体のヘイズを測定した。また、実施例４～５、９、１３～１５および比較例１～２の光学積層体については、光学積層体の光学機能層側の面を３ｃｍ角のアクリル粘着層付きガラスに貼合して、測定用積層体を作製し、この測定用積層体のヘイズを測定した。実施例１０～１２および比較例３の光学積層体については、光学積層体の光学機能層側の面を３ｃｍ角のアクリル粘着層付きガラスに貼合して、測定用積層体を作製し、この測定用積層体のヘイズを測定した。測定用積層体のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ－７１３６に準拠して測定した。測定装置としては、村上色彩技術研究所製のヘイズメーターＨＭ１５０を用いた。
(3) Haze For the optical laminates of Examples 1 to 3, 6 to 8, 16 and Comparative Example 4, after the surface of the optical laminate on the optical functional layer side was bonded to a 3 cm square glass with an acrylic adhesive layer. , the transparent base material (PET film) was peeled off, and the surface of the optical laminate from which the transparent base material had been peeled off was bonded to a 3 cm square piece of glass with an acrylic adhesive layer to prepare a measurement laminate. The haze of the laminate was measured. In addition, for the optical laminates of Examples 4 to 5, 9, 13 to 15 and Comparative Examples 1 to 2, the surface of the optical laminate on the optical functional layer side was bonded to a 3 cm square glass with an acrylic adhesive layer. A measurement laminate was prepared, and the haze of this measurement laminate was measured. For the optical laminates of Examples 10 to 12 and Comparative Example 3, the surface of the optical laminate on the optical functional layer side was bonded to a 3 cm square piece of glass with an acrylic adhesive layer to prepare a measurement laminate. The haze of the measurement laminate was measured. The haze of the measurement laminate was measured in accordance with JIS K-7136. As a measuring device, a haze meter HM150 manufactured by Murakami Color Research Institute was used.
（４）耐ブロッキング性
実施例および比較例の光学積層体について、テスター産業株式会社の永久歪試験機（定荷重式）を使って、耐ブロッキング性を評価した。まず、ＴＡＣフィルム（富士フイルム社製のフジタックＴＤ８０ＵＬ）１０枚と、光学積層体２枚とを用意した。次いで、ロール状態での保管状況を想定して、２枚の光学積層体を、一方の光学積層体の光学機能層側の面と、他方の光学積層体の透明基材側の面とが対向するように重ねた。続いて、２枚の光学積層体の両側にそれぞれ５枚のＴＡＣフィルムをさらに重ねて、積層体を得た。次に、プレート１とプレート２との間に４５ｍｍφの金属ジグおよび上記積層体を挿入した。荷重は面圧１．２５ｋｇ／ｃｍ２になるように調整して、荷重時間は１２時間として、試験を実施した。この際、評価環境は室温環境（２５℃、５０％ＲＨ）とした。そして、ブロッキング跡の有無を目視観察し、下記基準にて耐ブロッキング性を評価した。
（評価基準）
Ａ：ブロッキング跡が視認されなかった
Ｂ：ブロッキング跡がやや薄く視認された
Ｃ：貼り付きが強く、ブロッキング跡が視認された
(4) Blocking resistance The blocking resistance of the optical laminates of Examples and Comparative Examples was evaluated using a permanent strain tester (constant load type) manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd. First, 10 TAC films (Fujitac TD80UL manufactured by Fujifilm) and two optical laminates were prepared. Next, assuming storage conditions in a roll state, the two optical laminates are placed so that the surface of one optical laminate facing the optical functional layer and the surface of the other optical laminate facing the transparent substrate side face each other. I layered it like this. Subsequently, five TAC films were further stacked on both sides of the two optical laminates to obtain a laminate. Next, a metal jig having a diameter of 45 mm and the above-mentioned laminate were inserted between
(Evaluation criteria)
A: No blocking marks were visible. B: Blocking marks were slightly visible. C: Sticking was strong and blocking marks were visible.
（５）クロスニコル検査
実施例および比較例の光学積層体をクロスニコル配置の２枚の偏光板の間の挟み、クロスニコル検査の実施の可否を評価した。
(5) Crossed Nicol Test The optical laminates of Examples and Comparative Examples were sandwiched between two polarizing plates in a crossed Nicol arrangement to evaluate whether or not a crossed Nicol test could be performed.
実施例１～３、６～８、１６の光学積層体は、上記第１実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度、ならびに光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を満たすため、耐ブロッキング性が良好であった。また、実施例４～５、９、１３～１５の光学積層体は、上記第２実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度、ならびに光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を満たすため、耐ブロッキング性が良好であった。また、実施例１０～１２の光学積層体は、上記第３実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度、ならびに光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を満たすため、耐ブロッキング性が良好であった。 The optical laminates of Examples 1 to 3, 6 to 8, and 16 had the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent substrate side of the optical laminate of the first embodiment, and the surface on the optical functional layer side. Since the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness were satisfied, the blocking resistance was good. Further, the optical laminates of Examples 4 to 5, 9, and 13 to 15 have the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent substrate side of the optical laminate of the second embodiment, and the optical functional layer side. Since the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface were satisfied, the blocking resistance was good. Further, the optical laminates of Examples 10 to 12 have the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent substrate side of the optical laminate of the third embodiment, and the arithmetic mean roughness of the surface on the optical functional layer side. The anti-blocking property was good because it satisfied Ra and Martens hardness.
一方、比較例１～２の光学積層体は、上記第２実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を満たすものの、光学機能層側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を満たさないため、耐ブロッキング性に劣っていた。また、比較例３の光学積層体は、上記の第３実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａを満たさないため、ヘイズが高くなった。また、比較例４の光学積層体は、上記第１実施態様の光学積層体の透明基材側の面の算術平均粗さＲａおよびマルテンス硬度を満たすものの、光学機能層側の面のマルテンス硬度を満たさないため、耐ブロッキング性に劣っていた。 On the other hand, although the optical laminates of Comparative Examples 1 and 2 satisfy the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent substrate side of the optical laminate of the second embodiment, Since the average roughness Ra and Martens hardness were not satisfied, the blocking resistance was poor. Further, the optical laminate of Comparative Example 3 did not satisfy the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent substrate side of the optical laminate of the third embodiment, and therefore had a high haze. In addition, the optical laminate of Comparative Example 4 satisfies the arithmetic mean roughness Ra and Martens hardness of the surface on the transparent substrate side of the optical laminate of the first embodiment, but satisfies the Martens hardness of the surface on the optical functional layer side. Since the conditions were not met, the blocking resistance was poor.
また、実施例４～５、９、１３～１５および比較例１～２の光学積層体は、透明基材がＴＡＣフィルムであり光学的等方性を示すため、クロスニコル検査が可能であった。また、実施例１０～１２および比較例３の光学積層体は、透明基材が光学等方層であり光学的等方性を示すため、クロスニコル検査が可能であった。 In addition, the optical laminates of Examples 4 to 5, 9, 13 to 15 and Comparative Examples 1 to 2 had a TAC film as the transparent base material and exhibited optical isotropy, so cross Nicol testing was possible. . Further, in the optical laminates of Examples 10 to 12 and Comparative Example 3, the transparent base material was an optically isotropic layer and exhibited optical isotropy, so a crossed Nicol test was possible.
また、実施例１、１６および比較例４の光学積層体は、透明基材が超複屈折フィルムであるため、クロスニコル検査が可能であった。具体的には、実施例１では、クロスニコル検査で、光学積層体の透明基材の搬送軸と偏光板の吸収軸または透過軸とが平行になるように設置して、光学積層体の液晶層の位相差、ムラ、欠点を全方位から確認して、視認可能であることを確認した。このとき、透明基材の光軸（進相軸または遅相軸）は搬送軸から２°ずれていた。 Further, in the optical laminates of Examples 1 and 16 and Comparative Example 4, since the transparent base material was a super-birefringent film, a crossed Nicol test was possible. Specifically, in Example 1, the liquid crystal of the optical laminate was installed so that the transport axis of the transparent substrate of the optical laminate was parallel to the absorption axis or the transmission axis of the polarizing plate in a crossed Nicol test. The retardation, unevenness, and defects of the layers were confirmed from all directions and confirmed to be visible. At this time, the optical axis (fast axis or slow axis) of the transparent base material was shifted by 2° from the conveyance axis.
一方、実施例２～３、６～８の光学積層体は、透明基材がＰＥＴフィルムであり複屈折を示すため、クロスニコル検査を行うことができなかった。具体的には、実施例２～３では、クロスニコル検査では虹ムラが強く発生しており、全方位での視認は不可能であった。このとき、実施例２では、透明基材の光軸（進相軸または遅相軸）は搬送軸から１５°ずれていた。ただし、透明基材を剥離することで、クロスニコル検査が可能となる。 On the other hand, the optical laminates of Examples 2 to 3 and 6 to 8 could not be subjected to a crossed Nicol test because the transparent substrate was a PET film and exhibited birefringence. Specifically, in Examples 2 and 3, rainbow unevenness was strongly observed in the crossed Nicol test, and it was impossible to visually recognize it in all directions. At this time, in Example 2, the optical axis (fast axis or slow axis) of the transparent substrate was shifted by 15° from the conveyance axis. However, by peeling off the transparent base material, a crossed Nicol test becomes possible.
１ … 光学積層体
２ … 透明基材
３ … 光学機能層
４ … 光学等方層
５ … 配向膜
６ … 液晶層
１０ … 位相差フィルム
２０ … 被転写体
２１ … 転写体
３０ … 光学部材
３１ … 位相差フィルム
３２ … 接着層
３３ … 偏光フィルム
４０ … 表示装置
1...
Claims (15)
前記透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり、前記透明基材側の面のマルテンス硬度が１１０Ｎ／ｍｍ２以上２００Ｎ／ｍｍ２以下であり、
前記液晶層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下、または２．０ｎｍ以上２０ｎｍ以下であり、前記液晶層側の面のマルテンス硬度が７５Ｎ／ｍｍ２以上２００Ｎ／ｍｍ２以下である、光学積層体。 An optical laminate comprising a transparent base material and a liquid crystal layer disposed on one side of the transparent base material,
The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent base material side is 2.0 nm or more and 35.0 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the transparent base material side is 110 N/mm 2 or more and 200 N/mm 2 or less,
The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the liquid crystal layer side is 0.5 nm or less, or 2.0 nm or more and 20 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the liquid crystal layer side is 75 N/mm 2 or more and 200 N/mm 2 or less. , optical laminate.
前記透明基材側の面の算術平均粗さＲａが１．２ｎｍ以下であり、前記透明基材側の面のマルテンス硬度が１２５Ｎ／ｍｍ２以上２００Ｎ／ｍｍ２以下であり、
前記液晶層側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上２０．０ｎｍ以下であり、前記液晶層側の面のマルテンス硬度が９０Ｎ／ｍｍ２以上２００Ｎ／ｍｍ２以下である、あるいは、前記液晶層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、前記液晶層側の面のマルテンス硬度が１３０Ｎ／ｍｍ２以上２００Ｎ／ｍｍ２ 以下である、光学積層体。 An optical laminate comprising a transparent base material and a liquid crystal layer disposed on one side of the transparent base material,
The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent substrate side is 1.2 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the transparent substrate side is 125 N/mm 2 or more and 200 N/mm 2 or less,
The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the liquid crystal layer side is 2.0 nm or more and 20.0 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the liquid crystal layer side is 90 N/mm 2 or more and 200 N/mm 2 or less, or An optical laminate, wherein the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the liquid crystal layer side is 0.5 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the liquid crystal layer side is 130 N/mm 2 or more and 200 N/mm 2 or less .
前記透明基材側の面の算術平均粗さＲａが２．０ｎｍ以上３５．０ｎｍ以下であり、前記透明基材側の面のマルテンス硬度が１１０Ｎ／ｍｍ２以上２００Ｎ／ｍｍ２以下であり、
前記液晶層側の面の算術平均粗さＲａが０．５ｎｍ以下であり、前記液晶層側の面のマルテンス硬度が７５Ｎ／ｍｍ２以上２００Ｎ／ｍｍ２以下である、光学積層体。 An optical laminate comprising a transparent base material exhibiting optical isotropy and a liquid crystal layer disposed on one side of the transparent base material,
The arithmetic mean roughness Ra of the surface on the transparent base material side is 2.0 nm or more and 35.0 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the transparent base material side is 110 N/mm 2 or more and 200 N/mm 2 or less,
An optical laminate, wherein the arithmetic mean roughness Ra of the surface on the liquid crystal layer side is 0.5 nm or less, and the Martens hardness of the surface on the liquid crystal layer side is 75 N/mm 2 or more and 200 N/mm 2 or less.
前記透明基材と、配向膜と、前記液晶層とをこの順に有する、請求項３に記載の光学積層体。 the transparent base material is an optically isotropic layer,
The optical laminate according to claim 3, comprising the transparent base material, the alignment film, and the liquid crystal layer in this order.
少なくとも偏光フィルムを有する被転写体と、前記転写体とを貼り合わせる貼合工程と、
前記転写体から透明基材を剥離する剥離工程と、
を有する光学部材の製造方法。 A preparation step of preparing a transfer body that is an optical laminate according to claim 1, claim 2, or any one of claims 4 to 6;
a bonding step of bonding a transfer body having at least a polarizing film and the transfer body;
a peeling step of peeling off the transparent base material from the transfer body;
A method for manufacturing an optical member having the following.
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