JP7449806B2 - 吸着装置及び真空処理装置 - Google Patents
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Description
本発明では、前記シャッターが前記本体部の誘電体の材料と同一の材料で形成されている場合にも効果的である。
本発明では、前記シャッターによって前記本体部のピン通過孔を閉じた状態において、当該シャッターと吸着した基板の裏面との距離が、前記本体部の熱伝導用凹部の底部と吸着した基板の裏面との距離と同等となるように構成されている場合にも効果的である。
本発明では、前記シャッターは、前記本体部を横にした状態で前記ピン通過孔を開き、前記本体部を立てた状態で前記ピン通過孔を閉じるように構成されている場合にも効果的である。
本発明では、前記シャッターは、その自重に基づく重力の作用によって、前記本体部を横にした状態で前記ピン通過孔を開き、前記本体部を立てた状態で前記ピン通過孔を閉じるように構成されている場合にも効果的である。
また、本発明は、真空槽と、前記真空槽内に設けられた上記いずれかの吸着装置と、前記吸着装置に設けられたピン通過孔を介して基板を昇降させる昇降ピンを有する昇降機構と、前記吸着装置を、横にした状態及び立てた状態に配置するための駆動部とを有し、前記吸着装置を横にした状態で基板を吸着し、かつ、前記吸着装置を立てた状態で真空処理を行うように構成されている真空処理装置である。
本発明では、前記吸着装置を横にした状態において、前記シャッターによって前記本体部のピン通過孔を開いた状態で前記昇降ピンによって基板を昇降して当該吸着装置に当該基板を吸着する一方で、前記吸着装置を起立した状態において、前記シャッターによって前記本体部のピン通過孔を閉じた状態で当該基板に対して真空処理を行うように構成されている場合にも効果的である。
2……真空槽
3……スパッタリングターゲット
4……吸着装置
4a…本体部
4b…ピン通過孔
4c…収容凹部
4d…溝部
4e…収容溝部
5……吸着電極
6……昇降ピン
6a…昇降機構
7……ガス導入孔
9……駆動軸
10…基板
11、11A、11B…シャッター
20…熱伝導用凹部
Claims (7)
- 基板を吸着するための吸着電極を誘電体からなる本体部内に有し、
前記本体部に、当該本体部の吸着面に吸着した基板に対してガスによって熱を伝える熱伝導用凹部と、当該熱伝導用凹部に所定のガスを導入するためのガス導入孔と、基板を昇降させる昇降ピンを通すためのピン通過孔とが設けられ、
前記本体部のピン通過孔を開閉するシャッターを有する吸着装置。 - 前記シャッターが前記本体部の誘電体の材料と同一の材料で形成されている請求項1記載の吸着装置。
- 前記シャッターによって前記本体部のピン通過孔を閉じた状態において、当該シャッターと吸着した基板の裏面との距離が、前記本体部の熱伝導用凹部の底部と吸着した基板の裏面との距離と同等となるように構成されている請求項1又は2のいずれか1項記載の吸着装置。
- 前記シャッターは、前記本体部を横にした状態で前記ピン通過孔を開き、前記本体部を立てた状態で前記ピン通過孔を閉じるように構成されている請求項1乃至3のいずれか1項記載の吸着装置。
- 前記シャッターは、その自重に基づく重力の作用によって、前記本体部を横にした状態で前記ピン通過孔を開き、前記本体部を立てた状態で前記ピン通過孔を閉じるように構成されている請求項1乃至4のいずれか1項記載の吸着装置。
- 真空槽と、
前記真空槽内に設けられた請求項1乃至5のいずれか1項記載の吸着装置と、
前記吸着装置に設けられたピン通過孔を介して基板を昇降させる昇降ピンを有する昇降機構と、
前記吸着装置を、横にした状態及び立てた状態に配置するための駆動部とを有し、
前記吸着装置を横にした状態で基板を吸着し、かつ、前記吸着装置を立てた状態で真空処理を行うように構成されている真空処理装置。 - 前記吸着装置を横にした状態において、前記シャッターによって前記本体部のピン通過孔を開いた状態で前記昇降ピンによって基板を昇降して当該吸着装置に当該基板を吸着する一方で、前記吸着装置を起立した状態において、前記シャッターによって前記本体部のピン通過孔を閉じた状態で当該基板に対して真空処理を行うように構成されている請求項6記載の真空処理装置。
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