JP7444701B2 - 基板処理装置、基板処理方法、学習用データの生成方法、学習方法、学習装置、学習済モデルの生成方法、及び学習済モデル - Google Patents
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Description
ある実施形態において、前記処理時圧力調整情報は、前記処理対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って規定する。前記学習時圧力調整情報は、前記学習対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って示す。
ある実施形態において、前記処理時圧力調整情報は、前記処理対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って規定する。前記学習時圧力調整情報は、前記学習対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って示す。
ある実施形態において、前記学習時圧力調整情報は、前記学習対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って示す。
41 :第1個別排気管
42 :第2個別排気管
43 :第3個別排気管
51 :切換機構
73 :第1ダンパ
81 :共通排気管
82 :共通排気管
83 :共通排気管
87 :第2ダンパ
88 :第2ダンパ
89 :第2ダンパ
100 :基板処理装置
102 :制御部
103 :記憶部
500 :学習装置
502 :制御部
503 :記憶部
LFD :学習用データ
LM :学習済モデル
LTD :学習対象情報
MPR :処理時手順情報
PA :ダンパ開度調整情報
RS :処理結果情報
TPR :学習時手順情報
TR :時系列データ
W :基板
Claims (16)
- 処理対象基板を処理液で処理する手順を示す処理時手順情報に基づいて前記処理対象基板に前記処理液を供給して、前記処理対象基板を処理する複数の処理ユニットと、
前記複数の処理ユニットから排気される気体が流入する複数の個別排気管と、
前記複数の個別排気管から排気される気体が流入する共通排気管と、
前記複数の処理ユニットから前記複数の個別排気管に流入する気体の圧力を調整する複数の第1圧力調整機構と、
前記共通排気管の内部の気体の圧力を調整する第2圧力調整機構と、
前記処理時手順情報が入力されると前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を規定する処理時圧力調整情報を出力する学習済モデルに対し前記処理時手順情報を入力して、前記学習済モデルから前記処理時圧力調整情報を取得し、取得した前記処理時圧力調整情報に基づいて前記複数の第1圧力調整機構及び前記第2圧力調整機構を制御する制御部と
を備え、
前記学習済モデルは、学習対象基板を前記処理液で処理した結果を示す処理結果情報と、学習対象情報とが関連付けられた学習用データを機械学習することで構築され、前記学習対象情報は、前記学習対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を示す学習時圧力調整情報と、前記学習対象基板を前記処理液で処理する手順を示す学習時手順情報とを含む、基板処理装置。 - 前記処理時圧力調整情報は、前記処理対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って規定し、
前記学習時圧力調整情報は、前記学習対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って示す、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記処理液は、複数種類の処理液を含み、
前記処理ユニットから排気される気体は、前記複数種類の処理液に対応する複数種類の気体を含み、
前記共通排気管は複数であり、前記複数の共通排気管は前記複数種類の気体に対応し、
前記第2圧力調整機構は複数であり、前記複数の第2圧力調整機構は前記複数の共通排気管に対応する、請求項1又は請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記複数の個別排気管の各々は、前記複数種類の気体に対応する複数種類の個別排気管を含む、請求項3に記載の基板処理装置。
- 前記複数種類の個別排気管の間で、対応する前記処理ユニットから排気される気体の流入先を切り換える切換機構を更に備える、請求項4に記載の基板処理装置。
- 前記第1圧力調整機構は、前記切換機構に設けられる、請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記学習済モデルを記憶する記憶部を更に備える、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 前記学習対象情報は、前記処理液の濃度を示す濃度情報と、前記複数の処理ユニットの各々の内部の温度を示す温度情報と、前記複数の処理ユニットの位置を示す位置情報と、前記処理ユニットから排気された気体が前記共通排気管の下流端から排出されるまでの距離を示す距離情報とのうちの少なくとも1つを更に含む、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の基板処理装置。
- 処理対象基板を処理液で処理する手順を示す処理時手順情報に基づいて前記処理対象基板に前記処理液を供給して、前記処理対象基板を処理する複数の処理ユニットと、
前記複数の処理ユニットから排気される気体が流入する複数の個別排気管と、
前記複数の個別排気管から排気される気体が流入する共通排気管と、
前記複数の処理ユニットから前記複数の個別排気管に流入する気体の圧力を調整する複数の第1圧力調整機構と、
前記共通排気管の内部の気体の圧力を調整する第2圧力調整機構と、
前記複数の第1圧力調整機構及び前記第2圧力調整機構を制御する制御部と
を備える基板処理装置において前記処理対象基板を処理する方法であって、
前記処理時手順情報が入力されると前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を規定する処理時圧力調整情報を出力する学習済モデルに対し前記処理時手順情報を入力して、前記学習済モデルから前記処理時圧力調整情報を取得するステップと、
取得した前記処理時圧力調整情報に基づいて前記複数の第1圧力調整機構及び前記第2圧力調整機構を制御するステップと
を包含し、
前記学習済モデルは、学習対象基板を前記処理液で処理した結果を示す処理結果情報と、学習対象情報とが関連付けられた学習用データを機械学習することで構築され、前記学習対象情報は、前記学習対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を示す学習時圧力調整情報と、前記学習対象基板を前記処理液で処理する手順を示す学習時手順情報とを含む、基板処理方法。 - 前記処理時圧力調整情報は、前記処理対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って規定し、
前記学習時圧力調整情報は、前記学習対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って示す、請求項9に記載の基板処理方法。 - 基板処理装置が学習対象基板を処理した結果を示す処理結果情報を取得するステップと、
学習対象情報を取得するステップと、
前記処理結果情報と、前記学習対象情報とを関連付けて学習用データとして記憶部に記憶するステップと
を包含し、
前記基板処理装置は、
前記学習対象基板を処理液で処理する手順を示す学習時手順情報に基づいて前記学習対象基板に前記処理液を供給して、前記学習対象基板を処理する複数の処理ユニットと、
前記複数の処理ユニットから排気される気体が流入する複数の個別排気管と、
前記複数の個別排気管から排気される気体が流入する共通排気管と、
前記複数の処理ユニットから前記複数の個別排気管に流入する気体の圧力を調整する複数の第1圧力調整機構と、
前記共通排気管の内部の気体の圧力を調整する第2圧力調整機構と、
前記複数の第1圧力調整機構及び前記第2圧力調整機構を制御する制御部と
を備え、
前記学習対象情報は、前記学習対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を示す学習時圧力調整情報と、前記学習時手順情報とを含む、学習用データの生成方法。 - 前記学習時圧力調整情報は、前記学習対象基板の処理時における前記複数の第1圧力調整機構の動作及び前記第2圧力調整機構の動作を時系列に沿って示す、請求項11に記載の学習用データの生成方法。
- 請求項11又は請求項12に記載の学習用データの生成方法に従って生成された学習用データを取得するステップと、
前記学習用データを学習プログラムに入力して前記学習用データを機械学習するステップと
を包含する、学習方法。 - 請求項11又は請求項12に記載の学習用データの生成方法に従って生成された学習用データを記憶する記憶部と、
前記学習用データを学習プログラムに入力して前記学習用データを機械学習する学習部と
を備える、学習装置。 - 請求項11又は請求項12に記載の学習用データの生成方法に従って生成された学習用データを取得するステップと、
前記学習用データを機械学習することで学習済モデルを生成するステップと
を包含する、学習済モデルの生成方法。 - 請求項11又は請求項12に記載の学習用データの生成方法に従って生成された学習用データを機械学習させることで構築される学習済モデル。
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