JP7433174B2 - cleaning equipment - Google Patents

cleaning equipment Download PDF

Info

Publication number
JP7433174B2
JP7433174B2 JP2020152963A JP2020152963A JP7433174B2 JP 7433174 B2 JP7433174 B2 JP 7433174B2 JP 2020152963 A JP2020152963 A JP 2020152963A JP 2020152963 A JP2020152963 A JP 2020152963A JP 7433174 B2 JP7433174 B2 JP 7433174B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pipes
cleaning
traveling
sensor
arrangement direction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020152963A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2022047189A (en
Inventor
裕貴 成毛
昌明 上田
昇 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Zosen Corp
Original Assignee
Hitachi Zosen Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Zosen Corp filed Critical Hitachi Zosen Corp
Priority to JP2020152963A priority Critical patent/JP7433174B2/en
Priority to PCT/JP2021/030374 priority patent/WO2022054525A1/en
Publication of JP2022047189A publication Critical patent/JP2022047189A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7433174B2 publication Critical patent/JP7433174B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B1/00—Cleaning by methods involving the use of tools
    • B08B1/30—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface
    • B08B1/32—Cleaning by methods involving the use of tools by movement of cleaning members over a surface using rotary cleaning members
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto 
    • B08B9/02—Cleaning pipes or tubes or systems of pipes or tubes
    • B08B9/023—Cleaning the external surface
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F22—STEAM GENERATION
    • F22B—METHODS OF STEAM GENERATION; STEAM BOILERS
    • F22B37/00—Component parts or details of steam boilers
    • F22B37/02—Component parts or details of steam boilers applicable to more than one kind or type of steam boiler
    • F22B37/48—Devices for removing water, salt, or sludge from boilers; Arrangements of cleaning apparatus in boilers; Combinations thereof with boilers
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F23—COMBUSTION APPARATUS; COMBUSTION PROCESSES
    • F23J—REMOVAL OR TREATMENT OF COMBUSTION PRODUCTS OR COMBUSTION RESIDUES; FLUES 
    • F23J3/00—Removing solid residues from passages or chambers beyond the fire, e.g. from flues by soot blowers
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28G—CLEANING OF INTERNAL OR EXTERNAL SURFACES OF HEAT-EXCHANGE OR HEAT-TRANSFER CONDUITS, e.g. WATER TUBES OR BOILERS
    • F28G15/00—Details
    • F28G15/04—Feeding and driving arrangements, e.g. power operation
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F28—HEAT EXCHANGE IN GENERAL
    • F28G—CLEANING OF INTERNAL OR EXTERNAL SURFACES OF HEAT-EXCHANGE OR HEAT-TRANSFER CONDUITS, e.g. WATER TUBES OR BOILERS
    • F28G3/00—Rotary appliances
    • F28G3/10—Rotary appliances having scrapers, hammers, or cutters, e.g. rigidly mounted
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/26—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring angles or tapers; for testing the alignment of axes
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Incineration Of Waste (AREA)

Description

ここに開示された技術は、清掃装置に関する。 The technology disclosed herein relates to a cleaning device.

従来より、ボイラ管等の管の表面に付着した付着物を除去する清掃装置が知られている。例えば、特許文献１に開示された清掃装置は、管上を走行しながら管の清掃を行う。具体的には、清掃装置は、管上を走行する走行機構と、走行機構から管と管の隙間に降下及び上昇させられる清掃機構とを備えている。 2. Description of the Related Art Cleaning devices for removing deposits from the surfaces of tubes such as boiler tubes are conventionally known. For example, the cleaning device disclosed in Patent Document 1 cleans the pipe while traveling on the pipe. Specifically, the cleaning device includes a traveling mechanism that travels on the pipes, and a cleaning mechanism that is lowered and raised from the traveling mechanism into the gap between the pipes.

特開２００１－３３６８９７号公報Japanese Patent Application Publication No. 2001-336897

前述のような清掃装置において、走行機構は、清掃機構を管と管との隙間の上方の適切な位置に移動させる。その状態から清掃機構が管と管との隙間に進入していく。しかしながら、管上には付着物が付着しており、走行機構による移動に誤差が生じる場合もある。清掃機構が適切な位置に位置していないと、清掃機構が管と管との隙間に適切に進入することができない。 In the cleaning device as described above, the traveling mechanism moves the cleaning mechanism to an appropriate position above the gap between the pipes. From this state, the cleaning mechanism enters the gap between the pipes. However, there are deposits on the tube, which may cause errors in movement by the traveling mechanism. If the cleaning mechanism is not properly positioned, it will not be able to properly enter the gap between the tubes.

ここに開示された技術は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、管上を走行する走行機構の移動精度を向上させることにある。 The technology disclosed herein has been made in view of this point, and its purpose is to improve the movement accuracy of a traveling mechanism that travels on a pipe.

ここに開示された清掃装置は、装置本体と、前記装置本体に設けられ、所定の配列方向に配列された複数の管の上を走行する走行機構と、前記装置本体から降下して、前記複数の管に含まれる２本の管の間に進入して、管の表面の付着物を清掃する清掃機構と、前記装置本体に設けられ、前記２本の管の一方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第１センサと、前記装置本体に設けられ、前記２本の管の他方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第２センサとを備える。 The cleaning device disclosed herein includes a main body of the device, a traveling mechanism that is provided in the device main body and runs on a plurality of pipes arranged in a predetermined arrangement direction, and a traveling mechanism that descends from the device main body and moves over the plurality of pipes. a cleaning mechanism that enters between two tubes included in the tube and cleans deposits on the surface of the tube; and a cleaning mechanism that is provided in the device main body and that is arranged in the arrangement direction with respect to one of the two tubes. The apparatus includes a first sensor that detects a relative position, and a second sensor that is provided on the apparatus main body and that detects a relative position of the two tubes in the arrangement direction with respect to the other tube.

前記清掃装置によれば、管上を走行する走行機構の移動精度を向上させることができる。 According to the cleaning device, the movement accuracy of the traveling mechanism traveling on the pipe can be improved.

図１は、実施形態１に係る清掃装置の側面図である。FIG. 1 is a side view of a cleaning device according to a first embodiment. 図２は、清掃装置の正面図である。FIG. 2 is a front view of the cleaning device. 図３は、清掃機構を断面図で表した、清掃装置の正面図である。FIG. 3 is a front view of the cleaning device, showing the cleaning mechanism in cross section. 図４は、清掃機構をＹ軸方向に見た図である。FIG. 4 is a diagram of the cleaning mechanism viewed in the Y-axis direction. 図５は、スクレーパが収容された状態の、図４のＳ－Ｓ線における清掃ユニットの断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the cleaning unit taken along line SS in FIG. 4 with the scraper housed therein. 図６は、スクレーパが拡がった状態の、図４のＳ－Ｓ線における清掃ユニットの断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of the cleaning unit taken along line SS in FIG. 4 with the scraper expanded. 図７は、ガイドが縮まった状態の清掃機構をＸ軸方向に見た図である。FIG. 7 is a view of the cleaning mechanism in a state where the guide is retracted, as viewed in the X-axis direction. 図８は、ガイドが拡がった状態の清掃機構をＸ軸方向に見た図である。FIG. 8 is a view of the cleaning mechanism with the guide expanded in the X-axis direction. 図９は、清掃機構が管を清掃している状態をＸ軸方向に見た図である。FIG. 9 is a view of the state in which the cleaning mechanism is cleaning the pipe, viewed in the X-axis direction. 図１０は、センサと管との位置関係を説明する説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram illustrating the positional relationship between the sensor and the tube. 図１１は、第１及び第２センサと２本の管との寸法関係を説明する説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating the dimensional relationship between the first and second sensors and the two pipes. 図１２は、第１及び第２センサが配列方向において中央位置から第１管側へ変位した場合の第１及び第２センサと２本の管との位置関係を示す説明図である。FIG. 12 is an explanatory diagram showing the positional relationship between the first and second sensors and the two pipes when the first and second sensors are displaced from the center position toward the first pipe in the arrangement direction. 図１３は、第１及び第２センサが配列方向において中央位置から第２管側へ変位した場合の第１及び第２センサと２本の管との位置関係を示す説明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing the positional relationship between the first and second sensors and the two pipes when the first and second sensors are displaced from the center position toward the second pipe in the arrangement direction. 図１４は、走行機構の走行方向と２本の管とが平行な場合の装置本体をＺ軸方向に見た図である。FIG. 14 is a diagram of the main body of the apparatus viewed in the Z-axis direction when the traveling direction of the traveling mechanism and the two tubes are parallel. 図１５は、走行機構の走行方向が２本の管に対して傾いている場合の装置本体をＺ軸方向に見た図である。FIG. 15 is a diagram of the main body of the apparatus viewed in the Z-axis direction when the traveling direction of the traveling mechanism is inclined with respect to the two tubes. 図１６は、本体コントローラのブロック図である。FIG. 16 is a block diagram of the main body controller. 図１７は、清掃制御におけるフローチャートである。FIG. 17 is a flowchart in cleaning control. 図１８は、変形例１に係る清掃制御のフローチャートである。FIG. 18 is a flowchart of cleaning control according to Modification 1. 図１９は、変形例２に係る清掃装置の側面図である。FIG. 19 is a side view of a cleaning device according to modification 2. 図２０は、実施形態２に係る清掃装置の側面図である。FIG. 20 is a side view of the cleaning device according to the second embodiment. 図２１は、清掃機構が管を清掃している状態をＹ軸方向を向いて見た図である。FIG. 21 is a view of the state in which the cleaning mechanism is cleaning the pipe, looking in the Y-axis direction.

以下、例示的な実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, exemplary embodiments will be described in detail based on the drawings.

《実施形態１》
実施形態１に係る清掃装置１００は、管群に含まれる管の表面に付着した付着物を清掃する。ここでは、清掃装置１００がボイラの伝熱管を清掃する場合について説明する。図１は、清掃装置１００の側面図である。図２は、清掃装置１００の正面図である。図３は、清掃機構を断面図で表した、清掃装置の正面図である。 《Embodiment 1》
The cleaning device 100 according to the first embodiment cleans deposits attached to the surfaces of the tubes included in the tube group. Here, a case will be described in which the cleaning device 100 cleans a heat exchanger tube of a boiler. FIG. 1 is a side view of the cleaning device 100. FIG. 2 is a front view of the cleaning device 100. FIG. 3 is a front view of the cleaning device, showing the cleaning mechanism in cross section.

ボイラ内には、複数の管Ｐによって形成された管群Ｑ（図２，３参照）が設けられている。管Ｐの内部には、水等の流体が流通している。管Ｐは、伝熱管であり、ボイラの燃焼室で発生した熱と熱交換を行う。例えば、複数の管Ｐは、水平方向に延びており、水平方向及び鉛直方向に配列されている。つまり、管群Ｑにおいては、水平方向において複数の管Ｐが互いに平行な状態で配列されていると共に、鉛直方向において複数の管Ｐが互いに平行な状態で配列されている。管Ｐは、導電性を有する材料で形成されている。また、管Ｐは、略円形断面を有する円管である。 A tube group Q (see FIGS. 2 and 3) formed of a plurality of tubes P is provided inside the boiler. A fluid such as water flows inside the pipe P. The tube P is a heat transfer tube and exchanges heat with the heat generated in the combustion chamber of the boiler. For example, the plurality of pipes P extend horizontally and are arranged in the horizontal and vertical directions. That is, in the tube group Q, a plurality of tubes P are arranged parallel to each other in the horizontal direction, and a plurality of tubes P are arranged parallel to each other in the vertical direction. The pipe P is made of a conductive material. Further, the pipe P is a circular pipe having a substantially circular cross section.

尚、一の管Ｐと他の管Ｐとは、それぞれの端部が繋がって、１本の管を形成する場合もある。つまり、管群Ｑには、１本の管が水平方向に延びた後、折り返して再び水平方向に延びる場合や、１本の管が水平方向に延びた後、折り返して再び水平方向に延びることを繰り返し、全体として蛇行するように延びる場合がある。本明細書では、このような場合であっても、水平方向に延びる部分の１つ１つを１本の管Ｐとして捉えるものとする。そのため、実際には連続した１本の管であっても、水平方向に延びる部分が複数存在すれば、複数の管Ｐとして扱う。 Note that the ends of one pipe P and the other pipe P may be connected to form one pipe. In other words, in the tube group Q, there are cases in which one tube extends horizontally and then turns back to extend horizontally again, or one tube extends horizontally and then turns back and extends horizontally again. may be repeated, extending in a meandering manner as a whole. In this specification, even in such a case, each horizontally extending portion is regarded as one pipe P. Therefore, even if it is actually one continuous pipe, if there are multiple horizontally extending portions, it will be treated as multiple pipes P.

ボイラでは、燃焼により生じた灰が管Ｐに付着し得る。灰の一部は、溶融してクリンカになるものもある。このように、管Ｐの表面には、灰やクリンカ等の付着物が付着している。ここで、付着物とは、管Ｐの表面に直接的に接触しているものに限られず、管Ｐの表面に直接的に接触しているものにさらに積み重なっているものも含む。例えば、管Ｐの表面に直接的に接触している灰だけでなく、その上にさらに堆積している灰も付着物に含まれる。 In the boiler, ash produced by combustion may adhere to the pipes P. Some of the ash is melted into clinker. In this way, deposits such as ash and clinker are attached to the surface of the pipe P. Here, the deposits are not limited to those that are in direct contact with the surface of the pipe P, but also include those that are piled up on those that are in direct contact with the surface of the pipe P. For example, the deposits include not only the ash directly in contact with the surface of the pipe P, but also the ash further deposited thereon.

清掃装置１００は、所定の配列方向（ここでは、水平方向）に配列された複数の管Ｐの上に載置される。清掃装置１００は、装置本体１と、装置本体１に設けられ、管群Ｑに含まれる管Ｐの上を走行する走行機構２と、装置本体１から降下して、水平方向に配列された複数の管Ｐに含まれる２本の管Ｐの隙間から管群Ｑ内に進入して、管Ｐの表面の付着物を清掃する清掃機構３と、装置本体１に設けられ、２本の管Ｐの一方の管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出する第１センサ７１ａと、装置本体１に設けられ、２本の管Ｐの他方の管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出する第２センサ７１ｂとを備えている。清掃装置１００は、清掃装置１００を制御する本体コントローラ９（図１参照）をさらに備えていてもよい。清掃装置１００は、２本の管Ｐの間に清掃機構３を降下及び上昇させ、２本の管Ｐ及びそれらの下方に並ぶ管Ｐに付着した付着物を清掃する。 The cleaning device 100 is placed on a plurality of pipes P arranged in a predetermined arrangement direction (here, horizontal direction). The cleaning device 100 includes a device main body 1, a traveling mechanism 2 provided in the device main body 1 and running on a pipe P included in a pipe group Q, and a plurality of moving mechanisms descending from the device main body 1 and arranged in a horizontal direction. A cleaning mechanism 3 that enters into the tube group Q through the gap between the two tubes P included in the tube P and cleans deposits on the surface of the tubes P, and A first sensor 71a that detects the relative position of the two pipes P in the arrangement direction with respect to one of the pipes P, and a second sensor 71b that is provided in the device main body 1 and detects the relative position of the two pipes P with respect to the other pipe P in the arrangement direction. It is equipped with The cleaning device 100 may further include a main body controller 9 (see FIG. 1) that controls the cleaning device 100. The cleaning device 100 lowers and raises the cleaning mechanism 3 between the two pipes P, and cleans deposits attached to the two pipes P and the pipes P arranged below them.

清掃装置１００は、走行機構２の走行方向の位置が第１センサ７１ａと異なる位置において装置本体１に設けられ、一方の管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出する第３センサ７１ｃと、走行機構２の走行方向の位置が第２センサ７１ｂと異なる位置において装置本体１に設けられ、他方の管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出する第４センサ７１ｄとをさらに備えていてもよい。清掃装置１００は、複数の管Ｐに載置された状態の装置本体１及び走行機構２の少なくも一方を撮像するビジョンセンサ８（図１参照）をさらに備えていてもよい。ビジョンセンサ８は、撮像装置の一例である。本体コントローラ９は、制御部の一例である。 The cleaning device 100 includes a third sensor 71c that is provided in the device main body 1 at a position in the traveling direction of the traveling mechanism 2 that is different from the first sensor 71a, and that detects a relative position in the arrangement direction with respect to one pipe P, and a third sensor 71c that detects the relative position of the traveling mechanism 2 in the arrangement direction. The apparatus main body 1 may further include a fourth sensor 71d that is provided in the apparatus main body 1 at a position different from that of the second sensor 71b in the traveling direction of the pipe P and detects a relative position in the arrangement direction with respect to the other pipe P. The cleaning device 100 may further include a vision sensor 8 (see FIG. 1) that images at least one of the device main body 1 and the traveling mechanism 2 placed on the plurality of pipes P. Vision sensor 8 is an example of an imaging device. The main body controller 9 is an example of a control section.

以下、説明の便宜上、清掃装置１００を基準に互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を規定する。清掃装置１００の走行方向（即ち、走行機構２の走行方向）にＸ軸を設定し、清掃装置１００の上下方向（即ち、清掃機構３の昇降方向）にＺ軸を設定し、清掃装置１００の幅方向（即ち、走行方向及び上下方向の両方に直交する方向）にＹ軸を設定する。 Hereinafter, for convenience of explanation, an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis that are perpendicular to each other will be defined based on the cleaning device 100. The X-axis is set in the traveling direction of the cleaning device 100 (i.e., the traveling direction of the traveling mechanism 2), and the Z-axis is set in the vertical direction of the cleaning device 100 (i.e., the vertical direction of the cleaning mechanism 3). The Y-axis is set in the width direction (that is, the direction perpendicular to both the running direction and the vertical direction).

また、管群Ｑを基準に互いに直交するＵ軸、Ｖ軸及びＷ軸を規定する。管Ｐが延びる方向にＵ軸を設定し、Ｕ軸に直交し且つ水平な方向にＶ軸を設定し、Ｕ軸に直交し且つ鉛直な方向にＷ軸を設定する。 Furthermore, a U-axis, a V-axis, and a W-axis that are orthogonal to each other are defined with the tube group Q as a reference. A U-axis is set in the direction in which the pipe P extends, a V-axis is set in a direction perpendicular to and horizontal to the U-axis, and a W-axis is set in a direction perpendicular to and perpendicular to the U-axis.

装置本体１は、ＸＹ平面上に拡がる平板状のベース１１と、ベース１１に設けられ、清掃機構３を収容するケース１２と、清掃機構３を装置本体１から昇降させる昇降機構１４とを有している。ベース１１の略中央には、ベース１１を貫通する開口１１ａ（図３参照）が形成されている。ケース１２は、Ｘ軸方向を長手方向とする略長方形の断面を有する角筒状に形成されている。ケース１２は、ベース１１の開口１１ａを貫通している。 The device main body 1 includes a flat base 11 that extends on the XY plane, a case 12 that is provided on the base 11 and houses the cleaning mechanism 3, and an elevating mechanism 14 that raises and lowers the cleaning mechanism 3 from the device main body 1. ing. An opening 11a (see FIG. 3) passing through the base 11 is formed approximately at the center of the base 11. The case 12 is formed into a rectangular tube shape with a substantially rectangular cross section whose longitudinal direction is the X-axis direction. The case 12 passes through the opening 11a of the base 11.

走行機構２は、ベース１１の下面に取り付けられた２本のクローラ２１を有している。クローラ２１は、Ｘ軸方向に進行するように構成されている。つまり、クローラ２１の駆動輪の回転軸は、Ｙ軸方向に延びている。２本のクローラ２１は、ベース１１の開口１１ａを挟んでＹ軸方向に並んでいる。 The traveling mechanism 2 has two crawlers 21 attached to the lower surface of the base 11. The crawler 21 is configured to move in the X-axis direction. That is, the rotation axis of the drive wheel of the crawler 21 extends in the Y-axis direction. The two crawlers 21 are arranged in the Y-axis direction with the opening 11a of the base 11 in between.

清掃機構３は、装置本体１から降下及び上昇して、走行機構２よりも下方に位置する管Ｐの表面の付着物を清掃する。清掃機構３は、清掃を行わないときには、ケース１２内に収容されている。清掃機構３は、清掃を行うときには、ケース１２から下方へ降下し、管群Ｑ内を進行しながら、管群Ｑに含まれる管Ｐの表面を清掃する。 The cleaning mechanism 3 descends and ascends from the device main body 1 to clean deposits on the surface of the pipe P located below the traveling mechanism 2. The cleaning mechanism 3 is housed in the case 12 when not cleaning. When cleaning, the cleaning mechanism 3 descends downward from the case 12 and cleans the surfaces of the tubes P included in the tube group Q while moving within the tube group Q.

昇降機構１４は、２基のウインチ１５と、各ウインチ１５に巻き上げられるワイヤ１６とを有している。ウインチ１５は、ベース１１の上面に設置されている。２基のウインチ１５は、Ｘ軸方向においてケース１２を挟むように配置されている。ワイヤ１６は、ウインチ１５のリールに巻き掛けられている。ワイヤ１６の一端は、清掃機構３に取り付けられている。つまり、清掃機構３は、２本のワイヤ１６でつり下げられた状態となっており、昇降機構１４によってＺ軸方向に昇降させられる。 The lifting mechanism 14 includes two winches 15 and a wire 16 wound around each winch 15. The winch 15 is installed on the upper surface of the base 11. The two winches 15 are arranged to sandwich the case 12 in the X-axis direction. The wire 16 is wound around the reel of the winch 15. One end of the wire 16 is attached to the cleaning mechanism 3. That is, the cleaning mechanism 3 is suspended by two wires 16, and is raised and lowered in the Z-axis direction by the lifting mechanism 14.

第１～第４センサ７１ａ～７１ｄのそれぞれは、同じ構成をしている。以下、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄのそれぞれを区別しない場合には、単に「センサ７１」と称する。センサ７１は、配列方向におけるセンサ７１と管Ｐとの相対位置を検出する。具体的には、センサ７１は、センサ７１から管Ｐの表面までの距離を検出する。センサ７１は、ベース１１の下面に取り付けられている。 Each of the first to fourth sensors 71a to 71d has the same configuration. Hereinafter, if the first to fourth sensors 71a to 71d are not distinguished from each other, they will simply be referred to as "sensors 71." The sensor 71 detects the relative position of the sensor 71 and the pipe P in the arrangement direction. Specifically, the sensor 71 detects the distance from the sensor 71 to the surface of the pipe P. The sensor 71 is attached to the lower surface of the base 11.

ビジョンセンサ８は、複数の管Ｐに載置された装置本体１を上方から撮像する。そのため、ビジョンセンサ８は、装置本体１及び走行機構２の少なくも一方と走行機構２が載置された複数の管Ｐとが含まれる画像を取得する。 The vision sensor 8 images the device main body 1 placed on the plurality of pipes P from above. Therefore, the vision sensor 8 acquires an image that includes at least one of the device main body 1 and the traveling mechanism 2, and the plurality of pipes P on which the traveling mechanisms 2 are placed.

本体コントローラ９は、装置本体１に搭載されている。本体コントローラ９には、オペレータが指令を入力する際に操作する外部コントローラ９８が接続されていてもよい。外部コントローラ９８は、ケーブル９９を介して本体コントローラ９に接続されている。オペレータは、外部コントローラ９８を操作することによって、本体コントローラ９に指令を入力する。例えば、外部コントローラ９８は、指令として、清掃装置１００への動作指令が入力可能である。それに加えて、外部コントローラ９８は、動作に関連する各種設定を入力可能であってもよい。尚、外部コントローラ９８は、本体コントローラ９に無線接続されていてもよい。 The main body controller 9 is mounted on the apparatus main body 1. The main controller 9 may be connected to an external controller 98 that is operated by an operator when inputting commands. External controller 98 is connected to main controller 9 via cable 99. The operator inputs commands to the main body controller 9 by operating the external controller 98 . For example, the external controller 98 can input an operation command to the cleaning device 100 as a command. In addition, the external controller 98 may be capable of inputting various settings related to operation. Note that the external controller 98 may be wirelessly connected to the main controller 9.

以下、清掃機構３についてさらに詳細に説明する。図４は、清掃機構３をＹ軸方向に見た図である。図５は、スクレーパ３４が収容された状態の、図４のＳ－Ｓ線における清掃ユニット４の断面図である。図６は、スクレーパ３４が拡がった状態の、図４のＳ－Ｓ線における清掃ユニット４の断面図である。図７は、ガイド５が縮まった状態の清掃機構３をＸ軸方向に見た図である。図８は、ガイド５が拡がった状態の清掃機構３をＸ軸方向に見た図である。 The cleaning mechanism 3 will be explained in more detail below. FIG. 4 is a diagram of the cleaning mechanism 3 viewed in the Y-axis direction. FIG. 5 is a sectional view of the cleaning unit 4 taken along line SS in FIG. 4, with the scraper 34 housed therein. FIG. 6 is a sectional view of the cleaning unit 4 taken along line SS in FIG. 4 with the scraper 34 expanded. FIG. 7 is a view of the cleaning mechanism 3 in a state where the guide 5 is retracted as viewed in the X-axis direction. FIG. 8 is a view of the cleaning mechanism 3 in a state where the guide 5 is expanded, as viewed in the X-axis direction.

清掃機構３は、フレーム３１と、フレーム３１に支持された３つの清掃ユニット４と、清掃機構３が管群Ｑ内を進行する際に清掃機構３を進行方向に案内するガイド５とを有している。 The cleaning mechanism 3 includes a frame 31, three cleaning units 4 supported by the frame 31, and a guide 5 that guides the cleaning mechanism 3 in the traveling direction when the cleaning mechanism 3 moves through the tube group Q. ing.

フレーム３１は、図４に示すように、概ね四角形の枠状に形成されている。フレーム３１は、カバー３１ａが取り付けられており、これにより、全体として箱状に形成されている。フレーム３１のうちＸ軸方向の両端に設けられ、Ｚ軸方向に延びる一対の縦フレーム３１ｂのそれぞれには、昇降機構１４のワイヤ１６が取り付けられる係止部３１ｃが設けられている。 As shown in FIG. 4, the frame 31 is formed into a generally rectangular frame shape. A cover 31a is attached to the frame 31, so that the frame 31 has a box shape as a whole. A pair of vertical frames 31b that are provided at both ends of the frame 31 in the X-axis direction and extend in the Z-axis direction are each provided with a locking portion 31c to which the wire 16 of the lifting mechanism 14 is attached.

フレーム３１のＹ軸方向の寸法は、２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも小さく設定されている。一方、フレーム３１のＸ軸方向の寸法は、２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも大きく設定されている。つまり、清掃装置１００のＸ軸方向と管群ＱのＵ軸方向とが一致する場合には、フレーム３１は、２本の管Ｐの間に進入することができる。 The dimension of the frame 31 in the Y-axis direction is set smaller than the interval GV between the two pipes P. On the other hand, the dimension of the frame 31 in the X-axis direction is set larger than the interval GV between the two pipes P. That is, when the X-axis direction of the cleaning device 100 and the U-axis direction of the tube group Q match, the frame 31 can enter between the two tubes P.

３つの清掃ユニット４は、フレーム３１に支持されている。３つの清掃ユニット４は、フレーム３１の下部から下方に突出している。 The three cleaning units 4 are supported by a frame 31. The three cleaning units 4 protrude downward from the lower part of the frame 31.

３つの清掃ユニット４は、Ｘ軸方向に配列されている。３つの清掃ユニット４は、Ｚ軸方向（即ち、清掃機構３の昇降方向）における位置が異なっている。具体的には、真ん中の清掃ユニット４は、両側の清掃ユニット４に比べて下方に突出している。以下、３つの清掃ユニット４をそれぞれ区別する場合には、Ｘ軸方向に並ぶ順に、「第１清掃ユニット４Ａ」、「第２清掃ユニット４Ｂ」、「第３清掃ユニット４Ｃ」と称する。 The three cleaning units 4 are arranged in the X-axis direction. The three cleaning units 4 are located at different positions in the Z-axis direction (that is, the vertical direction of the cleaning mechanism 3). Specifically, the cleaning unit 4 in the middle protrudes downward compared to the cleaning units 4 on both sides. Hereinafter, when distinguishing the three cleaning units 4 from each other, they will be referred to as "first cleaning unit 4A," "second cleaning unit 4B," and "third cleaning unit 4C" in the order in which they are lined up in the X-axis direction.

清掃ユニット４は、Ｚ軸と平行（即ち、清掃機構３の昇降方向と平行）な回転軸Ａ回りに回転しながら管Ｐに接触して管Ｐの表面の付着物を除去するように構成されている。具体的には、清掃ユニット４は、図４に示すように、Ｚ軸と平行に延びる回転軸Ａ回りに回転する回転シャフト３２と、管Ｐの表面に接触することによって管Ｐの表面の付着物を除去するスクレーパ３４と、回転軸Ａと同軸に設けられた円板３５と、回転軸Ａ上であって清掃ユニット４の先端に設けられた掘削部３６とを有している。回転シャフト３２は、フレーム３１に支持されたモータ（図示省略）によって回転駆動される。清掃ユニット４は、清掃部の一例であり、スクレーパ３４は、接触部の一例である。 The cleaning unit 4 is configured to contact the pipe P while rotating around a rotation axis A that is parallel to the Z axis (that is, parallel to the ascending and descending direction of the cleaning mechanism 3) to remove deposits on the surface of the pipe P. ing. Specifically, as shown in FIG. 4, the cleaning unit 4 includes a rotary shaft 32 that rotates around a rotation axis A extending parallel to the Z-axis, and a rotary shaft 32 that cleans the surface of the pipe P by contacting the surface of the pipe P. It has a scraper 34 for removing kimono, a disc 35 provided coaxially with the rotation axis A, and an excavation part 36 provided on the rotation axis A and at the tip of the cleaning unit 4. The rotating shaft 32 is rotationally driven by a motor (not shown) supported by the frame 31. The cleaning unit 4 is an example of a cleaning section, and the scraper 34 is an example of a contact section.

回転シャフト３２の先端部に、円板３５、スクレーパ３４及び掘削部３６が設けられている。４枚の円板３５が、回転軸Ａと同軸上に等間隔で配置されている。円板３５は、回転シャフト３２に回転不能な状態で取り付けられている。つまり、円板３５は、回転シャフト３２と一体的に回転する。円板３５の直径は、２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも小さく設定されている。 A disk 35, a scraper 34, and an excavation part 36 are provided at the tip of the rotating shaft 32. Four discs 35 are arranged coaxially with the rotation axis A at equal intervals. The disk 35 is attached to the rotating shaft 32 in a non-rotatable manner. That is, the disk 35 rotates integrally with the rotating shaft 32. The diameter of the disc 35 is set smaller than the interval GV between the two pipes P.

４枚の円板３５によって３つの隙間が形成されている。図５，６に示すように、各隙間に３つのスクレーパ３４が配置されている。隣り合う各２つの円板３５の間には、回転軸Ａと平行な揺動軸Ｂに沿って延びる３本の揺動シャフト３７が設けられている。３本の揺動シャフト３７は、回転軸Ａから偏心した位置において、回転軸Ａ回りに等間隔を空けて設けられている。各スクレーパ３４は、揺動シャフト３７に揺動可能な状態で連結されている。スクレーパ３４は、概ね円弧状に形成されている。スクレーパ３４は、例えば、アルミ合金、炭素鋼、ウレタンゴム又は真鍮で形成されている。 Three gaps are formed by the four discs 35. As shown in FIGS. 5 and 6, three scrapers 34 are arranged in each gap. Three swing shafts 37 extending along a swing axis B parallel to the rotation axis A are provided between each two adjacent discs 35. The three swing shafts 37 are provided at equal intervals around the rotation axis A at positions eccentric from the rotation axis A. Each scraper 34 is swingably connected to a swing shaft 37. The scraper 34 is generally formed in an arc shape. The scraper 34 is made of, for example, aluminum alloy, carbon steel, urethane rubber, or brass.

図５に示すように、スクレーパ３４のうち揺動軸Ｂから遠い端部である先端部３４ａが回転軸Ａに最も接近した状態においては、スクレーパ３４は、２つの円板３５の隙間内に完全に収容される。すなわち、スクレーパ３４は、円板３５の外周縁Ｅの内側に収容される。スクレーパ３４が円板３５内に収容された状態において、Ｚ軸方向（即ち、清掃機構３の昇降方向）に見た場合の清掃ユニット４の形状は、２本の管Ｐの間隔ＧＶを直径とする円内に収まっている。ここで、「外周縁Ｅの内側に収容される」とは、スクレーパ３４が外周縁Ｅからはみ出さないことを意味している。つまり、スクレーパ３４は、円板３５の間に収容されたときに、外周縁Ｅと面一な状態であってもよい。 As shown in FIG. 5, when the tip 34a of the scraper 34, which is the end farthest from the swing axis B, is closest to the rotation axis A, the scraper 34 is completely inserted into the gap between the two discs 35. be accommodated in. That is, the scraper 34 is housed inside the outer peripheral edge E of the disk 35. With the scraper 34 housed in the disc 35, the shape of the cleaning unit 4 when viewed in the Z-axis direction (i.e., the vertical direction of the cleaning mechanism 3) is defined by the distance GV between the two pipes P and the diameter It falls within the circle. Here, "accommodated inside the outer circumferential edge E" means that the scraper 34 does not protrude from the outer circumferential edge E. That is, when the scraper 34 is accommodated between the disks 35, it may be flush with the outer peripheral edge E.

一方、図６に示すように、スクレーパ３４は、回転シャフト３２の遠心力によって先端部３４ａが回転軸Ａから離れるように揺動し、回転軸Ａを中心とする半径方向外側へ拡がる。このとき、スクレーパ３４は、円板３５の外周縁Ｅよりも外側へ突出する（即ち、外周縁Ｅから外側へはみ出す）。 On the other hand, as shown in FIG. 6, the tip 34a of the scraper 34 swings away from the rotation axis A due to the centrifugal force of the rotation shaft 32, and expands outward in the radial direction about the rotation axis A. At this time, the scraper 34 protrudes outward from the outer circumferential edge E of the disk 35 (that is, protrudes outward from the outer circumferential edge E).

以下、特段の断りがない限り、「半径方向」とは、回転軸Ａを中心とする半径方向を意味する。 Hereinafter, unless otherwise specified, "radial direction" means a radial direction centered on the rotation axis A.

掘削部３６は、図４に示すように、回転シャフト３２の先端に配置されている。掘削部３６は、回転シャフト３２に回転不能な状態で取り付けられている。つまり、掘削部３６は、回転シャフト３２と一体的に回転する。掘削部３６は、概ね円錐状に、即ち、先鋭な形状に形成されている。掘削部３６には、掘削部３６によって削った切屑を逃がすための溝が形成されている。 The excavation part 36 is arranged at the tip of the rotating shaft 32, as shown in FIG. The excavation part 36 is attached to the rotating shaft 32 in a non-rotatable manner. That is, the excavating portion 36 rotates integrally with the rotating shaft 32. The excavated portion 36 is generally formed into a conical shape, that is, a sharply pointed shape. A groove is formed in the excavation part 36 to allow chips cut by the excavation part 36 to escape.

さらに、図４，７，８に示すように、フレーム３１のうち一対の縦フレーム３１ｂのそれぞれに、ガイド５が設けられている。ガイド５は、一対の第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂと、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂを縦フレーム３１ｂに連結する４つの第１～第４リンク６１～６４とを有している。第１ブレード５１Ａと第２ブレード５１Ｂとは、左右対称な形状をしている。第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、Ｙ軸方向におけるガイド５の外側の管Ｐと接触することによって、清掃機構３を案内する。第１ブレード５１Ａと第２ブレード５１Ｂとを区別しない場合には、単に「ブレード５１」と称する。第１～第４リンク６１～６４は全て、同じ形状をしている。第１リンク６１、第２リンク６２、第３リンク６３及び第４リンク６４のそれぞれを区別しない場合には、単に「リンク６」と称する。 Furthermore, as shown in FIGS. 4, 7, and 8, a guide 5 is provided in each of the pair of vertical frames 31b of the frame 31. The guide 5 has a pair of first blades 51A and a second blade 51B, and four first to fourth links 61 to 64 that connect the first blade 51A and the second blade 51B to the vertical frame 31b. . The first blade 51A and the second blade 51B have symmetrical shapes. The first blade 51A and the second blade 51B guide the cleaning mechanism 3 by contacting the outer pipe P of the guide 5 in the Y-axis direction. When the first blade 51A and the second blade 51B are not distinguished, they are simply referred to as "blade 51." The first to fourth links 61 to 64 all have the same shape. When the first link 61, the second link 62, the third link 63, and the fourth link 64 are not distinguished from each other, they are simply referred to as "link 6."

各ブレード５１は、Ｚ軸方向に延びる形状をしている。各ブレード５１は、Ｙ軸方向の外側（即ち、フレーム３１のＹ軸方向中央から遠い側）に概ねＺ軸方向に延びるエッジ５３を有している。エッジ５３が、管Ｐと接触する。各ブレード５１には、第１～第４リンク６１～６４が連結されている。 Each blade 51 has a shape extending in the Z-axis direction. Each blade 51 has an edge 53 extending generally in the Z-axis direction on the outside in the Y-axis direction (that is, on the side far from the center of the frame 31 in the Y-axis direction). Edge 53 contacts tube P. First to fourth links 61 to 64 are connected to each blade 51.

各リンク６の長手方向中央部は、縦フレーム３１ｂに回転自在に取り付けられている。第１リンク６１と第２リンク６２とは、同じ回転軸Ｃに取り付けられている。第３リンク６３と第４リンク６４とは、同じ回転軸Ｄに取り付けられている。各リンク６の長手方向一端部（以下、「第１端部」と称する）が第１ブレード５１Ａに連結され、各リンク６の長手方向他端部（以下、「第２端部」と称する）が第２ブレード５１Ｂに連結されている。 The longitudinal center portion of each link 6 is rotatably attached to the vertical frame 31b. The first link 61 and the second link 62 are attached to the same rotation axis C. The third link 63 and the fourth link 64 are attached to the same rotation axis D. One end in the longitudinal direction of each link 6 (hereinafter referred to as the "first end") is connected to the first blade 51A, and the other end in the longitudinal direction of each link 6 (hereinafter referred to as the "second end") is connected to the second blade 51B.

詳しくは、第１リンク６１の第１端部６１ａは、第１ブレード５１Ａに形成された、Ｚ軸方向に延びる長孔５４に、回転自在且つ長孔５４内を摺動可能に取り付けられている。第１リンク６１の第２端部６１ｂは、第２ブレード５１Ｂに回転自在に取り付けられている。第２リンク６２の第１端部６２ａは、第１ブレード５１Ａに回転自在に取り付けられている。第２リンク６２の第２端部６２ｂは、第２ブレード５１Ｂに形成された、Ｚ軸方向に延びる長孔５４に、回転自在且つ長孔５４内を摺動可能に取り付けられている。 Specifically, the first end 61a of the first link 61 is attached to an elongated hole 54 formed in the first blade 51A and extending in the Z-axis direction so as to be rotatable and slidable within the elongated hole 54. . The second end 61b of the first link 61 is rotatably attached to the second blade 51B. The first end 62a of the second link 62 is rotatably attached to the first blade 51A. The second end 62b of the second link 62 is attached to a long hole 54 formed in the second blade 51B and extending in the Z-axis direction so as to be rotatable and slidable within the long hole 54.

同様に、第３リンク６３の第１端部６３ａは、第１ブレード５１Ａに形成された、Ｚ軸方向に延びる長孔５４に、回転自在且つ長孔５４内を摺動可能に取り付けられている。第３リンク６３の第２端部６３ｂは、第２ブレード５１Ｂに回転自在に取り付けられている。第４リンク６４の第１端部６４ａは、第１ブレード５１Ａに回転自在に取り付けられている。第４リンク６４の第２端部６４ｂは、第２ブレード５１Ｂに形成された、Ｚ軸方向に延びる長孔５４に、回転自在且つ長孔５４内を摺動可能に取り付けられている。 Similarly, the first end 63a of the third link 63 is attached to a long hole 54 formed in the first blade 51A and extending in the Z-axis direction so as to be rotatable and slidable within the long hole 54. . The second end 63b of the third link 63 is rotatably attached to the second blade 51B. The first end 64a of the fourth link 64 is rotatably attached to the first blade 51A. The second end 64b of the fourth link 64 is attached to a long hole 54 formed in the second blade 51B and extending in the Z-axis direction so as to be rotatable and slidable within the long hole 54.

第１リンク６１及び第２リンク６２は、第１リンク６１の第１端部６１ａと第２リンク６２の第２端部６２ｂとがＹ軸方向に離れ且つ、第１リンク６１の第２端部６１ｂと第２リンク６２の第１端部６２ａとがＹ軸方向に離れるように、コイルバネ（図示省略）によって回転軸Ｃ回りに付勢されている。 The first link 61 and the second link 62 are such that the first end 61a of the first link 61 and the second end 62b of the second link 62 are separated from each other in the Y-axis direction, and the second end of the first link 61 61b and the first end 62a of the second link 62 are biased around the rotation axis C by a coil spring (not shown) so that they are separated in the Y-axis direction.

同様に、第３リンク６３及び第４リンク６４は、第３リンク６３の第１端部６３ａと第４リンク６４の第２端部６４ｂとがＹ軸方向に離れ且つ、第３リンク６３の第２端部６３ｂと第４リンク６４の第１端部６４ａとがＹ軸方向に離れるように、コイルバネ（図示省略）によって回転軸Ｄ回りに付勢されている。 Similarly, the third link 63 and the fourth link 64 are such that the first end 63a of the third link 63 and the second end 64b of the fourth link 64 are separated from each other in the Y-axis direction, and The second end 63b and the first end 64a of the fourth link 64 are biased around the rotation axis D by a coil spring (not shown) so that they are separated in the Y-axis direction.

こうして、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、Ｚ軸方向に延びる姿勢を維持したまま、Ｙ軸方向へ互いに離れるように付勢されている。つまり、第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、Ｙ軸方向においてガイド５の外側に位置する管Ｐにエッジ５３を押し付けるように付勢されている。 In this way, the first blade 51A and the second blade 51B are urged to move away from each other in the Y-axis direction while maintaining the postures extending in the Z-axis direction. That is, the first blade 51A and the second blade 51B are urged to press the edge 53 against the pipe P located outside the guide 5 in the Y-axis direction.

次に、このように構成された清掃機構３の清掃動作について説明する。図９は、清掃機構３が管Ｐを清掃している状態をＸ軸方向に見た図である。 Next, a cleaning operation of the cleaning mechanism 3 configured as described above will be explained. FIG. 9 is a diagram showing a state in which the cleaning mechanism 3 is cleaning the pipe P, as viewed in the X-axis direction.

清掃機構３は、３つの清掃ユニット４の配列方向が２本の管Ｐと平行な状態で、２本の管Ｐの隙間に進入していく。このとき、清掃機構３は、回転シャフト３２を回転させ、２本の管Ｐ及びそれらの下方に並ぶ管Ｐに付着した付着物を清掃する。 The cleaning mechanism 3 enters the gap between the two pipes P with the arrangement direction of the three cleaning units 4 being parallel to the two pipes P. At this time, the cleaning mechanism 3 rotates the rotating shaft 32 to clean the two pipes P and the pipes P arranged below them.

回転シャフト３２の回転による遠心力によってスクレーパ３４が回転軸Ａを中心とする半径方向外側に拡がる。ただし、十分なスペースが存在しない場合には、スクレーパ３４は最大には拡がらず、可能な範囲で拡がる。つまり、スクレーパ３４の半径方向外側のスペースがＺ軸方向位置によって異なる場合、スクレーパ３４は、半径方向外側のスペースに応じて拡がりを変化させながら降下していく。清掃機構３が管群Ｑ内を降下する場合、図９に示すように、スクレーパ３４の半径方向外側に管Ｐが存在しない位置、又は、スクレーパ３４の半径方向外側に管Ｐが存在するもののスクレーパ３４が届かない位置においては、スクレーパ３４は、最大限拡がった状態となる（図９における第１清掃ユニット４Ａの比較的上部のスクレーパ３４を参照）。スクレーパ３４の半径方向外側に管Ｐが存在し且つスクレーパ３４が管Ｐに届く位置においては、スクレーパ３４が管Ｐに接触する状態まで拡がる（図９における第１清掃ユニット４Ａの比較的下部のスクレーパ３４及び第２清掃ユニット４Ｂのスクレーパ３４を参照）。その結果、スクレーパ３４は、管Ｐの横を通過する際に、管Ｐの表面形状に倣って半径方向への拡がりを変更しながら管Ｐの表面に接触する。 The scraper 34 expands outward in the radial direction about the rotation axis A due to the centrifugal force caused by the rotation of the rotation shaft 32. However, if sufficient space does not exist, the scraper 34 will not expand to its maximum extent, but will expand as much as possible. In other words, if the space outside the scraper 34 in the radial direction varies depending on the position in the Z-axis direction, the scraper 34 descends while changing its spread depending on the space outside the scraper 34 in the radial direction. When the cleaning mechanism 3 descends within the tube group Q, as shown in FIG. 34, the scraper 34 is in the maximum expanded state (see the relatively upper scraper 34 of the first cleaning unit 4A in FIG. 9). In a position where the pipe P exists outside the scraper 34 in the radial direction and the scraper 34 reaches the pipe P, the scraper 34 expands to a state where it comes into contact with the pipe P (the scraper 34 at the relatively lower part of the first cleaning unit 4A in FIG. 9 34 and the scraper 34 of the second cleaning unit 4B). As a result, when the scraper 34 passes beside the pipe P, it comes into contact with the surface of the pipe P while changing its spread in the radial direction following the surface shape of the pipe P.

つまり、清掃機構３の進行方向に沿って配列された（即ち、Ｗ軸方向に配列された）複数の管Ｐの間にスクレーパ３４が入り込んで、該複数の管Ｐの間に存在する付着物を除去すると共に該複数の管Ｐの表面に接触して管Ｐの付着物を除去する。その結果、スクレーパ３４は、管Ｐの表面のうち、清掃機構３が通過するスペースに面している部分だけでなく、該スペースから清掃機構３の進行方向と交差する方向（例えば、Ｖ軸方向）に離れた部分（即ち、奥まった部分）に付着した付着物も除去する。 That is, the scraper 34 enters between the plurality of pipes P arranged along the traveling direction of the cleaning mechanism 3 (that is, arranged in the W-axis direction), and removes the deposits existing between the plurality of pipes P. At the same time, it contacts the surfaces of the plurality of pipes P to remove deposits on the pipes P. As a result, the scraper 34 scrapes not only the portion of the surface of the pipe P facing the space through which the cleaning mechanism 3 passes, but also the portion of the surface of the pipe P that faces the space through which the cleaning mechanism 3 passes, as well as from the space in a direction intersecting the direction of movement of the cleaning mechanism 3 (for example, in the V-axis direction). ) Also remove deposits that have adhered to areas far away (i.e., deep areas).

好ましくは、スクレーパ３４が最も拡がった状態におけるスクレーパ３４の外接円Ｆ（図６参照）の直径は、Ｖ軸方向に並ぶ２本の管Ｐの軸心間の距離よりも大きく設定されている。これにより、スクレーパ３４は、管Ｐの側方をＷ軸方向に通過することによって、管Ｐの表面のうち概ね半周部分の付着物を除去することができる。 Preferably, the diameter of the circumscribed circle F (see FIG. 6) of the scraper 34 in the most expanded state is set to be larger than the distance between the axes of the two pipes P aligned in the V-axis direction. Thereby, the scraper 34 can remove deposits from approximately half the circumference of the surface of the pipe P by passing along the side of the pipe P in the W-axis direction.

こうして、スクレーパ３４は、管Ｐの表面に付着した付着物を削り落としていく。 In this way, the scraper 34 scrapes off the deposits adhering to the surface of the pipe P.

ここで、清掃機構３が２本の管Ｐの間を降下していく際に、清掃機構３の進行方向の前方（即ち、清掃機構３の下方）に灰等の付着物が存在している場合がある。清掃ユニット４の先端には、掘削部３６が設けられている。掘削部３６は、清掃機構３が降下する際に、回転シャフト３２と一体的に回転している。そのため、清掃機構３が降下する際に清掃機構３の下方に存在する付着物を掘削部３６が掘削していく。これにより、清掃機構３を円滑に降下させることができる。 Here, when the cleaning mechanism 3 descends between the two pipes P, there is deposits such as ash in front of the cleaning mechanism 3 in the direction of movement (i.e., below the cleaning mechanism 3). There are cases. An excavation part 36 is provided at the tip of the cleaning unit 4. The excavating portion 36 rotates integrally with the rotating shaft 32 when the cleaning mechanism 3 descends. Therefore, when the cleaning mechanism 3 descends, the excavating part 36 excavates the deposits present below the cleaning mechanism 3. Thereby, the cleaning mechanism 3 can be lowered smoothly.

さらに、清掃機構３が管群Ｑ内を進行する際には、ガイド５が清掃機構３を案内している。詳しくは、ガイド５の第１ブレード５１Ａ及び第２ブレード５１Ｂは、Ｙ軸方向において互いに離間する方向へ付勢されている。そのため、第１ブレード５１Ａは、Ｖ軸方向一方側の管Ｐに接触し、第２ブレード５１Ｂは、Ｖ軸方向他方側の管Ｐに接触する。こうして、清掃機構３は、Ｖ軸方向両側に位置する管Ｐに対してＶ軸方向位置が決められる。 Further, when the cleaning mechanism 3 moves through the tube group Q, the guide 5 guides the cleaning mechanism 3. Specifically, the first blade 51A and the second blade 51B of the guide 5 are urged in a direction away from each other in the Y-axis direction. Therefore, the first blade 51A contacts the pipe P on one side in the V-axis direction, and the second blade 51B contacts the pipe P on the other side in the V-axis direction. In this way, the position of the cleaning mechanism 3 in the V-axis direction is determined with respect to the pipes P located on both sides in the V-axis direction.

清掃対象の管Ｐのうち最も下方の管Ｐを清掃ユニット４が通過するまで降下すると、降下時における清掃が完了する。 When the cleaning unit 4 descends until it passes the lowest pipe P among the pipes P to be cleaned, the cleaning at the time of descent is completed.

清掃機構３は、降下時だけでなく、上昇時にも管Ｐの清掃を実行する。清掃機構３が上昇する際にも、スクレーパ３４は、管Ｐの表面形状に倣って半径方向への拡がりを変更しながら管Ｐの表面に接触し、管Ｐの表面に付着した付着物を削り落としていく。つまり、清掃機構３は、降下時と上昇時との両方で、管Ｐの表面をスクレーパ３４で清掃することができる。 The cleaning mechanism 3 cleans the pipe P not only when descending but also when ascending. Even when the cleaning mechanism 3 rises, the scraper 34 comes into contact with the surface of the pipe P while changing its radial spread to follow the surface shape of the pipe P, and scrapes the deposits attached to the surface of the pipe P. Drop it. That is, the cleaning mechanism 3 can clean the surface of the pipe P with the scraper 34 both when descending and when ascending.

清掃機構３には、Ｘ軸方向に並ぶ３つの清掃ユニット４が設けられているので、清掃機構３の１回の降下及び／又は上昇によって、管ＰのうちＵ軸方向位置が異なる３箇所が清掃される。 The cleaning mechanism 3 is provided with three cleaning units 4 arranged in the X-axis direction, so one lowering and/or raising of the cleaning mechanism 3 cleans the pipe P at three different positions in the U-axis direction. Cleaned.

続いて、センサ７１について詳細に説明する。 Next, the sensor 71 will be explained in detail.

各センサ７１は、渦電流センサである。詳しくは、センサ７１は、図示を省略するが、励磁コイルと受信コイルとを有している。励磁コイルに高周波電流が印加されることによって、対象物に渦電流が発生する。受信コイルは、この渦電流を検出する。センサ７１と対象物との距離に応じて、受信コイルによって検出される渦電流の大きさが変化する。つまり、センサ７１は、センサ７１と対象物との距離に応じた検出電圧を取得することによって、実質的にセンサ７１と対象物との距離を検出する。清掃装置１００においては、対象物は管Ｐである。センサ７１は、管Ｐの表面までの距離を検出する。 Each sensor 71 is an eddy current sensor. Specifically, the sensor 71 includes an excitation coil and a reception coil, although not shown. Eddy currents are generated in the object by applying a high-frequency current to the excitation coil. A receiving coil detects this eddy current. The magnitude of the eddy current detected by the receiving coil changes depending on the distance between the sensor 71 and the object. That is, the sensor 71 substantially detects the distance between the sensor 71 and the object by acquiring a detection voltage corresponding to the distance between the sensor 71 and the object. In the cleaning device 100, the object is a pipe P. The sensor 71 detects the distance to the surface of the pipe P.

走行機構２は配列方向に配列された複数の管Ｐの上を走行するので、配列方向に配列された複数の管Ｐは、走行機構２が走行する走行面を形成する。このとき、センサ７１は、走行面、即ち、配列方向及び管軸方向を含む平面に対して平行移動する。 Since the running mechanism 2 runs on the plurality of pipes P arranged in the arrangement direction, the plurality of pipes P arranged in the arrangement direction form a running surface on which the running mechanism 2 runs. At this time, the sensor 71 moves parallel to the running surface, that is, a plane including the arrangement direction and the tube axis direction.

図１０は、センサと管との位置関係を説明する説明図である。センサ７１は、励磁コイルの軸心が鉛直方向を向くように配置されている。センサ７１が発生させる磁界は拡がりを有するため、センサ７１は、鉛直下方を中心に或る程度拡がりを有する範囲に存在する対象物までの距離も検出する。ここでは、説明の便宜上、図１０の実線の矢印で示すように、センサ７１は、管Ｐの表面のうちセンサ７１の鉛直下方に位置する点までの距離を検出するものとする。 FIG. 10 is an explanatory diagram illustrating the positional relationship between the sensor and the tube. The sensor 71 is arranged so that the axis of the excitation coil faces the vertical direction. Since the magnetic field generated by the sensor 71 has a spread, the sensor 71 also detects the distance to an object that exists in a range that spreads to some extent centering on the vertically downward direction. Here, for convenience of explanation, it is assumed that the sensor 71 detects the distance to a point located vertically below the sensor 71 on the surface of the pipe P, as shown by the solid arrow in FIG.

管Ｐは円管なので、センサ７１が配列方向へ平行移動すると、センサ７１と管Ｐの表面との距離も変化する。詳しくは、センサ７１が、一点鎖線で示すように、実線で示す位置から配列方向へ管Ｐの頂部へ近づく側へ移動すると、センサ７１と管Ｐの表面との距離は短くなる。さらに、センサ７１が、破線で示すように、配列方向へ移動して管Ｐの頂部を通り過ぎると、センサ７１と管Ｐの表面との距離は長くなっていく。このように、センサ７１と管Ｐの表面との距離は、配列方向における管Ｐとセンサ７１との相対位置に応じて変化する。 Since the tube P is a circular tube, when the sensor 71 moves in parallel in the arrangement direction, the distance between the sensor 71 and the surface of the tube P also changes. Specifically, as the sensor 71 moves toward the top of the pipe P in the arrangement direction from the position shown by the solid line, as shown by the dashed line, the distance between the sensor 71 and the surface of the pipe P becomes shorter. Further, as the sensor 71 moves in the arrangement direction and passes the top of the pipe P, as shown by the broken line, the distance between the sensor 71 and the surface of the pipe P becomes longer. In this way, the distance between the sensor 71 and the surface of the tube P changes depending on the relative position of the tube P and the sensor 71 in the arrangement direction.

図１～３に示すように、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄとは、走行機構２の走行方向の位置が異なるように配置されている。具体的には、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、ベース１１のうち走行方向における一端部に配置されている。第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄは、ベース１１のうち走行方向における他端部に配置されている。第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが一対となり、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄが一対となる。それぞれの対が、清掃機構３の配列方向の位置を検出する。 As shown in FIGS. 1 to 3, the first and second sensors 71a, 71b and the third and fourth sensors 71c, 71d are arranged at different positions in the traveling direction of the traveling mechanism 2. Specifically, the first and second sensors 71a and 71b are arranged at one end of the base 11 in the running direction. The third and fourth sensors 71c and 71d are arranged at the other end of the base 11 in the running direction. The first and second sensors 71a and 71b form a pair, and the third and fourth sensors 71c and 71d form a pair. Each pair detects the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction.

詳しくは、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、図２に示すように、走行方向に直交する方向（具体的には、清掃装置１００の幅方向）の位置が異なるように配置されている。第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、清掃機構３から幅方向の両側へ等距離だけ離れている。すなわち、幅方向において、第１センサ７１ａと第２センサ７１ｂとの間の中央に清掃機構３が位置する。第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄの幅方向の配置は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと同様である。つまり、第１センサ７１ａの幅方向の位置と第３センサ７１ｃの幅方向の位置は同じであり、第２センサ７１ｂの幅方向の位置と第４センサ７１ｄの幅方向の位置は同じである。 Specifically, as shown in FIG. 2, the first and second sensors 71a and 71b are arranged at different positions in the direction perpendicular to the traveling direction (specifically, in the width direction of the cleaning device 100). . The first and second sensors 71a and 71b are spaced apart from the cleaning mechanism 3 by an equal distance on both sides in the width direction. That is, the cleaning mechanism 3 is located at the center between the first sensor 71a and the second sensor 71b in the width direction. The arrangement of the third and fourth sensors 71c and 71d in the width direction is the same as that of the first and second sensors 71a and 71b. That is, the widthwise position of the first sensor 71a and the third sensor 71c are the same, and the widthwise position of the second sensor 71b and the fourth sensor 71d are the same.

第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、走行機構２の走行方向が２本の管Ｐに沿う方向を向いている際に、図２に示すように、配列方向の位置が互いに異なるように配置される。同様に、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄは、走行機構２の走行方向が２本の管Ｐに沿う方向を向いている際に、図３に示すように、配列方向の位置が互いに異なるように配置される。 The first and second sensors 71a and 71b are arranged so that their positions in the arrangement direction are different from each other as shown in FIG. 2 when the traveling direction of the traveling mechanism 2 is along the two pipes P. be done. Similarly, when the traveling direction of the traveling mechanism 2 is along the two pipes P, the positions of the third and fourth sensors 71c and 71d in the arrangement direction are different from each other, as shown in FIG. It is arranged like this.

ここで、配列方向における、２つのセンサ７１の測定点と２本の管Ｐとの寸法関係について詳細に説明する。測定点とは、管Ｐの表面のうち、センサ７１からの距離が検出される点である。この例では、各センサ７１は、主として管Ｐの表面のうちセンサ７１の鉛直下方に位置する点までの距離を検出する。つまり、配列方向において、センサ７１の位置と測定点の位置とは、同じである。以下では、説明の便宜上、センサ７１の配列方向位置を測定点の配列方向位置として説明する。 Here, the dimensional relationship between the measurement points of the two sensors 71 and the two pipes P in the arrangement direction will be described in detail. The measurement point is a point on the surface of the pipe P where the distance from the sensor 71 is detected. In this example, each sensor 71 mainly detects the distance to a point located vertically below the sensor 71 on the surface of the pipe P. That is, in the arrangement direction, the position of the sensor 71 and the position of the measurement point are the same. In the following, for convenience of explanation, the position of the sensor 71 in the array direction will be described as the position of the measurement point in the array direction.

図１１は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと２本の管Ｐとの寸法関係を説明する説明図である。各対の２つのセンサ７１の配列方向のピッチ（即ち、各対の２つのセンサ７１の測定点の配列方向のピッチ）Ｍは、配列方向における２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも大きく、且つ、配列方向における２本の管Ｐ全体の寸法Ｌよりも小さく設定されている。さらに、２つのセンサ７１の配列方向のピッチＭは、２本の管Ｐの配列方向のピッチ（即ち、２本の管Ｐの管軸間の距離）Ｎと一致しない。具体的には、２つのセンサ７１の配列方向のピッチＭは、２本の管Ｐの配列方向のピッチＮよりも小さい。以下、説明の便宜上、２本の管Ｐのうち第１センサ７１ａが接近する管Ｐを「第１管Ｐ１」と称し、２本の管Ｐのうち第２センサ７１ｂが接近する管Ｐを「第２管Ｐ２」と称する。 FIG. 11 is an explanatory diagram illustrating the dimensional relationship between the first and second sensors 71a, 71b and the two pipes P. The pitch M of the two sensors 71 in each pair in the arrangement direction (that is, the pitch in the arrangement direction of the measurement points of the two sensors 71 in each pair) is larger than the interval GV between the two pipes P in the arrangement direction; Moreover, it is set smaller than the overall dimension L of the two pipes P in the arrangement direction. Furthermore, the pitch M of the two sensors 71 in the arrangement direction does not match the pitch N of the two pipes P in the arrangement direction (that is, the distance between the pipe axes of the two pipes P). Specifically, the pitch M of the two sensors 71 in the arrangement direction is smaller than the pitch N of the two pipes P in the arrangement direction. Hereinafter, for convenience of explanation, the pipe P that the first sensor 71a approaches among the two pipes P will be referred to as the "first pipe P1", and the pipe P that the second sensor 71b approaches among the two pipes P will be referred to as "the first pipe P1". 2nd pipe P2".

２つのセンサ７１のピッチＭは、２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも大きく且つ２本の管Ｐ全体の寸法Ｌよりも小さく設定されているので、２つのセンサ７１の鉛直下方に２本の管Ｐが位置する状況が起こり得る。例えば、第１センサ７１ａが第１管Ｐ１の表面までの距離Ｓ１検出し、同時に、第２センサ７１ｂが第２管Ｐ２の表面までの距離Ｓ２を検出し得る。このとき、第３センサ７１ｃも第１管Ｐ１の表面までの距離を検出し、同時に、第４センサ７１ｄも第２管Ｐ２の表面までの距離を検出し得る。 Since the pitch M between the two sensors 71 is set to be larger than the interval GV between the two pipes P and smaller than the overall dimension L of the two pipes P, two sensors 71 are placed vertically below the two sensors 71. A situation may arise in which the tube P is located. For example, the first sensor 71a may detect the distance S1 to the surface of the first pipe P1, and at the same time, the second sensor 71b may detect the distance S2 to the surface of the second pipe P2. At this time, the third sensor 71c can also detect the distance to the surface of the first pipe P1, and at the same time, the fourth sensor 71d can also detect the distance to the surface of the second pipe P2.

さらに、２つのセンサ７１の配列方向のピッチＭは、２本の管Ｐの配列方向のピッチＮと一致しないので、２つのセンサ７１のそれぞれが２本の管Ｐの頂部までの距離を同時に検出する状況が起こり得ない。例えば、第１センサ７１ａが第１管Ｐ１の頂部の表面までの距離Ｓ１を検出するときには、第２センサ７１ｂは、第２管Ｐ２の頂部以外の部分の表面までの距離Ｓ２を検出する。 Furthermore, since the pitch M of the two sensors 71 in the arrangement direction does not match the pitch N of the two pipes P in the arrangement direction, each of the two sensors 71 simultaneously detects the distance to the top of the two pipes P. This situation cannot occur. For example, when the first sensor 71a detects the distance S1 to the top surface of the first pipe P1, the second sensor 71b detects the distance S2 to the surface of the second pipe P2 other than the top.

この例では、清掃装置１００の幅方向において、第１センサ７１ａと第２センサ７１ｂとの間の中央に清掃機構３が位置するので、配列方向において清掃機構３が２本の管Ｐの中央に位置するときには、図１１に示すように、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、２本の管Ｐのそれぞれの頂部以外の部分までの距離Ｓ１，Ｓ２を検出する。第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、配列方向において第１管Ｐ１の軸心と第２管Ｐ２の軸心との間に配置されている。このとき、第１センサ７１ａから第１管Ｐ１までの距離Ｓ１と、第２センサ７１ｂから第２管Ｐ２までの距離Ｓ２とは、略等しい。つまり、配列方向において、第１センサ７１ａと第２センサ７１ｂとの中点と、２本の管Ｐの中点とが一致する。以下、２本の管Ｐに対する第１及び第２センサ７１ｂのこの位置を「中央位置」と称する。 In this example, since the cleaning mechanism 3 is located at the center between the first sensor 71a and the second sensor 71b in the width direction of the cleaning device 100, the cleaning mechanism 3 is located at the center of the two pipes P in the arrangement direction. When located, the first and second sensors 71a and 71b detect the distances S1 and S2 to the respective parts of the two pipes P other than the tops, as shown in FIG. The first and second sensors 71a and 71b are arranged between the axis of the first pipe P1 and the axis of the second pipe P2 in the arrangement direction. At this time, the distance S1 from the first sensor 71a to the first pipe P1 and the distance S2 from the second sensor 71b to the second pipe P2 are approximately equal. That is, in the arrangement direction, the midpoint between the first sensor 71a and the second sensor 71b coincides with the midpoint of the two pipes P. Hereinafter, this position of the first and second sensors 71b with respect to the two pipes P will be referred to as a "center position."

図１２は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが配列方向において中央位置から第１管Ｐ１側へ変位した場合の第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと２本の管Ｐとの位置関係を示す説明図である。図１３は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが配列方向において中央位置から第２管Ｐ２側へ変位した場合の第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと２本の管Ｐとの位置関係を示す説明図である。第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂのそれぞれが検出する管Ｐの表面までの距離Ｓ１，Ｓ２は、前述の如く、配列方向におけるセンサ７１と管Ｐとの相対位置に応じて変化する。ここで、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの配列方向のピッチＭは、２本の管Ｐの配列方向のピッチＮと一致しない。そのため、配列方向において、２つのセンサ７１の一方の測定点が管Ｐの頂部に近づく場合には、２つのセンサ７１の他方の測定点は、管Ｐの頂部から遠ざかる。例えば、図１２に示すように、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが中央位置から配列方向の第１管Ｐ１の側へ変位すると、第１センサ７１ａの測定点が第１管Ｐ１の頂部に近づく一方、第２センサ７１ｂの測定点は、第２管Ｐ２の頂部から遠ざかる。このとき、第１センサ７１ａから第１管Ｐ１までの距離Ｓ１は短くなる一方、第２センサ７１ｂから第２管Ｐ２までの距離Ｓ２は長くなる。図１３に示すように、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが中央位置から配列方向の第２管Ｐ２の側へ変位すると、第１センサ７１ａの測定点が第１管Ｐ１の頂部から遠ざかる一方、第２センサ７１ｂの測定点は、第２管Ｐ２の頂部へ近づく。このとき、第１センサ７１ａから第１管Ｐ１までの距離Ｓ１は長くなる一方、第２センサ７１ｂから第２管Ｐ２までの距離Ｓ２は短くなる。 FIG. 12 shows the positional relationship between the first and second sensors 71a, 71b and the two pipes P when the first and second sensors 71a, 71b are displaced from the center position toward the first pipe P1 in the arrangement direction. FIG. FIG. 13 shows the positional relationship between the first and second sensors 71a, 71b and the two pipes P when the first and second sensors 71a, 71b are displaced from the center position toward the second pipe P2 in the arrangement direction. FIG. The distances S1 and S2 to the surface of the pipe P detected by the first and second sensors 71a and 71b, respectively, change depending on the relative position of the sensor 71 and the pipe P in the arrangement direction, as described above. Here, the pitch M of the first and second sensors 71a, 71b in the arrangement direction does not match the pitch N of the two pipes P in the arrangement direction. Therefore, in the arrangement direction, when one measurement point of the two sensors 71 approaches the top of the pipe P, the other measurement point of the two sensors 71 moves away from the top of the pipe P. For example, as shown in FIG. 12, when the first and second sensors 71a and 71b are displaced from the center position toward the first pipe P1 in the arrangement direction, the measurement point of the first sensor 71a is placed at the top of the first pipe P1. On the other hand, the measurement point of the second sensor 71b moves away from the top of the second pipe P2. At this time, the distance S1 from the first sensor 71a to the first pipe P1 becomes shorter, while the distance S2 from the second sensor 71b to the second pipe P2 becomes longer. As shown in FIG. 13, when the first and second sensors 71a and 71b are displaced from the center position toward the second pipe P2 in the arrangement direction, the measurement point of the first sensor 71a moves away from the top of the first pipe P1. , the measurement point of the second sensor 71b approaches the top of the second pipe P2. At this time, the distance S1 from the first sensor 71a to the first pipe P1 becomes longer, while the distance S2 from the second sensor 71b to the second pipe P2 becomes shorter.

このように、２つのセンサ７１のそれぞれが２本の管Ｐの頂部までの距離を同時に検出する状況が起こり得ないように２つのセンサ７１を配置することによって、配列方向における２つのセンサ７１と２本の管Ｐとの相対位置が変化すると、一方のセンサ７１の検出距離と他方のセンサ７１の検出距離との相対関係が変化する。つまり、第１センサ７１ａの検出距離Ｓ１と第２センサ７１ｂの検出距離Ｓ２との相対関係は、配列方向における第１センサ７１ａ及び第２センサ７１ｂと２本の管Ｐとの相対位置と相関がある。 In this way, by arranging the two sensors 71 so that a situation in which each of the two sensors 71 simultaneously detects the distance to the top of the two pipes P cannot occur, the two sensors 71 in the arrangement direction When the relative position with the two pipes P changes, the relative relationship between the detection distance of one sensor 71 and the detection distance of the other sensor 71 changes. In other words, the relative relationship between the detection distance S1 of the first sensor 71a and the detection distance S2 of the second sensor 71b is correlated with the relative positions of the first sensor 71a, the second sensor 71b, and the two pipes P in the arrangement direction. be.

第１センサ７１ａの検出距離Ｓ１と第２センサ７１ｂの検出距離Ｓ２との相対関係の一例は、第１センサ７１ａの検出距離Ｓ１と第２センサ７１ｂの検出距離Ｓ２との距離差ΔＳ（＝Ｓ１－Ｓ２）である。第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが中央位置に位置するとき、距離差ΔＳは０となる。 An example of the relative relationship between the detection distance S1 of the first sensor 71a and the detection distance S2 of the second sensor 71b is the distance difference ΔS (=S1 -S2). When the first and second sensors 71a, 71b are located at the center position, the distance difference ΔS is zero.

第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが配列方向において中央位置から第１管Ｐ１の側へ変位すると、距離差ΔＳは０よりも小さくなる。第１センサ７１ａが配列方向において第１管Ｐ１の頂部の位置に達するまでは、距離差ΔＳは単調に減少する。尚、第１センサ７１ａが配列方向において第１管Ｐ１の頂部の位置を超えると、第１センサ７１ａの検出距離Ｓ１は増加に転じる。一方、第２センサ７１ｂの第１管Ｐ１側への変位に応じて、第２センサ７１ｂの検出距離Ｓ２の増加率はしだいに大きくなる。やがて、第２センサ７１ｂの下方に第２管Ｐ２が存在しなくなり、第２センサ７１ｂは、第２管Ｐ２までの距離を検出しないようになる。 When the first and second sensors 71a and 71b are displaced from the center position toward the first pipe P1 in the arrangement direction, the distance difference ΔS becomes smaller than zero. The distance difference ΔS monotonically decreases until the first sensor 71a reaches the top position of the first pipe P1 in the arrangement direction. Note that when the first sensor 71a exceeds the position of the top of the first pipe P1 in the arrangement direction, the detection distance S1 of the first sensor 71a starts to increase. On the other hand, as the second sensor 71b is displaced toward the first pipe P1, the rate of increase in the detection distance S2 of the second sensor 71b gradually increases. Eventually, the second pipe P2 no longer exists below the second sensor 71b, and the second sensor 71b no longer detects the distance to the second pipe P2.

一方、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが配列方向において中央位置から第２管Ｐ２の側へ変位すると、距離差ΔＳは０よりも大きくなる。第２センサ７１ｂが配列方向において第２管Ｐ２の頂部の位置に達するまでは、距離差ΔＳは単調に増加する。尚、第２センサ７１ｂが配列方向において第２管Ｐ２の頂部の位置を超えると、第２センサ７１ｂの検出距離Ｓ２は増加に転じる。一方、第１センサ７１ａの第２管Ｐ２側への変位に応じて、第１センサ７１ａの検出距離Ｓ１の増加率はしだいに大きくなる。やがて、第１センサ７１ａの下方に第１管Ｐ１が存在しなくなり、第１センサ７１ａは、第１管Ｐ１までの距離を検出しないようになる。 On the other hand, when the first and second sensors 71a and 71b are displaced from the center position toward the second pipe P2 in the arrangement direction, the distance difference ΔS becomes larger than zero. The distance difference ΔS monotonically increases until the second sensor 71b reaches the top position of the second pipe P2 in the arrangement direction. Note that when the second sensor 71b exceeds the position of the top of the second pipe P2 in the arrangement direction, the detection distance S2 of the second sensor 71b starts to increase. On the other hand, as the first sensor 71a is displaced toward the second pipe P2, the rate of increase in the detection distance S1 of the first sensor 71a gradually increases. Eventually, the first pipe P1 no longer exists below the first sensor 71a, and the first sensor 71a no longer detects the distance to the first pipe P1.

このように、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、配列方向に配列された２本の管Ｐのそれぞれの表面までの距離を検出することによって、配列方向における２本の管Ｐに対する第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの相対位置を検出している。第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂ並びに清掃機構３は、ベース１１に設けられている。つまり、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、実質的に、配列方向における２本の管Ｐに対する清掃機構３の相対位置を検出する。 In this way, the first and second sensors 71a and 71b detect the distances to the respective surfaces of the two pipes P arranged in the arrangement direction, thereby detecting the first And the relative positions of the second sensors 71a and 71b are detected. The first and second sensors 71a, 71b and the cleaning mechanism 3 are provided on the base 11. That is, the first and second sensors 71a and 71b substantially detect the relative position of the cleaning mechanism 3 with respect to the two pipes P in the arrangement direction.

第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄも、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと同様に配置されている。そのため、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄも、配列方向に配列された２本の管Ｐのそれぞれの表面までの距離を検出することによって、配列方向における２本の管Ｐに対する第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄの相対位置、ひいては、配列方向における２本の管Ｐに対する清掃機構３の相対位置を検出する。 The third and fourth sensors 71c and 71d are also arranged similarly to the first and second sensors 71a and 71b. Therefore, the third and fourth sensors 71c and 71d also detect distances to the respective surfaces of the two pipes P arranged in the arrangement direction, thereby detecting the third and fourth sensors 71c and 71d for the two pipes P arranged in the arrangement direction. The relative positions of the four sensors 71c and 71d and, in turn, the relative position of the cleaning mechanism 3 with respect to the two pipes P in the arrangement direction are detected.

さらに、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄは、走行方向における異なる位置に配置されているので、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離に基づいて、２本の管Ｐ（詳しくは、２本の管Ｐの管軸）に対する走行機構２の走行方向の傾きを求めることができる。図１４は、走行機構２の走行方向と２本の管Ｐとが平行な場合の装置本体１をＺ軸方向に見た図である。図１５は、走行機構２の走行方向が２本の管Ｐに対して傾いている場合の装置本体１をＺ軸方向に見た図である。 Furthermore, since the first and second sensors 71a, 71b and the third and fourth sensors 71c, 71d are arranged at different positions in the running direction, the detection distances of the first to fourth sensors 71a to 71d are , the inclination of the traveling mechanism 2 in the running direction with respect to the two pipes P (specifically, the pipe axes of the two pipes P) can be determined. FIG. 14 is a diagram of the device main body 1 viewed in the Z-axis direction when the traveling direction of the traveling mechanism 2 and the two pipes P are parallel. FIG. 15 is a diagram of the apparatus main body 1 viewed in the Z-axis direction when the traveling direction of the traveling mechanism 2 is inclined with respect to the two pipes P.

詳しくは、図１４に示すように、２本の管Ｐに対して走行機構２の走行方向が平行である場合には、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによって検出される清掃機構３の配列方向における相対位置と、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄによって検出される清掃機構３の配列方向における相対位置とは一致する。一方、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによって検出される清掃機構３の配列方向における相対位置と第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄによって検出される清掃機構３の配列方向における相対位置とが異なることは、図１５に示すように、走行機構２の走行方向が２本の管Ｐに対して傾いていることを意味する。 Specifically, as shown in FIG. 14, when the traveling direction of the traveling mechanism 2 is parallel to the two pipes P, the arrangement of the cleaning mechanism 3 detected by the first and second sensors 71a and 71b The relative position in the direction and the relative position in the arrangement direction of the cleaning mechanism 3 detected by the third and fourth sensors 71c and 71d match. On the other hand, the relative position in the arrangement direction of the cleaning mechanism 3 detected by the first and second sensors 71a and 71b is different from the relative position in the arrangement direction of the cleaning mechanism 3 detected by the third and fourth sensors 71c and 71d. This means that the traveling direction of the traveling mechanism 2 is inclined with respect to the two pipes P, as shown in FIG.

このように、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄは、実質的に、２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きも検出する。 In this way, the first to fourth sensors 71a to 71d substantially also detect the inclination of the traveling mechanism 2 in the traveling direction with respect to the two pipes P.

それに加えて、ビジョンセンサ８は、装置本体１及び走行機構２の少なくも一方と走行機構２が載置された複数の管Ｐとが含まれる画像を取得する。このビジョンセンサ８の画像によれば、複数の管Ｐに対する走行機構２の位置関係を検出することができる。詳しくは、画像に複数の管Ｐと走行機構２とが含まれている場合には、複数の管Ｐに対する走行機構２の位置関係を取得することができる。装置本体１と走行機構２との寸法及び配置によっては画像に走行機構２が含まれず、装置本体１が含まれる場合もあり得る。しかし、走行機構２は装置本体１に設けられているので、複数の管Ｐに対する装置本体１の位置関係が分かれば、複数の管Ｐに対する走行機構２の位置関係もわかる。 In addition, the vision sensor 8 acquires an image that includes at least one of the device main body 1 and the traveling mechanism 2, and the plurality of pipes P on which the traveling mechanisms 2 are placed. According to the image of the vision sensor 8, the positional relationship of the traveling mechanism 2 with respect to the plurality of pipes P can be detected. Specifically, when the image includes a plurality of pipes P and the traveling mechanism 2, the positional relationship of the traveling mechanism 2 with respect to the plurality of pipes P can be acquired. Depending on the dimensions and arrangement of the device body 1 and the traveling mechanism 2, the image may not include the traveling mechanism 2 but may include the device body 1. However, since the traveling mechanism 2 is provided in the apparatus main body 1, if the positional relationship of the apparatus main body 1 with respect to the plurality of pipes P is known, the positional relationship of the traveling mechanism 2 with respect to the plurality of pipes P can also be known.

これら第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離及びビジョンセンサ８の取得画像は、本体コントローラ９に入力される。 The detection distances of the first to fourth sensors 71a to 71d and the images acquired by the vision sensor 8 are input to the main body controller 9.

本体コントローラ９は、清掃機構３によって管群Ｑに含まれる管Ｐを清掃する清掃制御を実行する。その際、本体コントローラ９は、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出結果及びビジョンセンサ８の取得画像に基づいて、走行機構２の走行制御を実行する。例えば、本体コントローラ９は、走行機構２を作動させて清掃装置１００を目標位置へ移動させ、その位置で清掃機構３及び昇降機構１４を作動させる。 The main body controller 9 executes cleaning control for cleaning the pipes P included in the pipe group Q by the cleaning mechanism 3. At this time, the main body controller 9 executes travel control of the travel mechanism 2 based on the detection results of the first to fourth sensors 71a to 71d and the acquired image of the vision sensor 8. For example, the main body controller 9 operates the traveling mechanism 2 to move the cleaning device 100 to a target position, and operates the cleaning mechanism 3 and the lifting mechanism 14 at that position.

図１６は、本体コントローラ９のブロック図である。詳しくは、本体コントローラ９は、処理部９１と記憶部９２とを有している。 FIG. 16 is a block diagram of the main body controller 9. Specifically, the main body controller 9 includes a processing section 91 and a storage section 92.

記憶部９２は、各種プログラム及び各種データを記憶する、コンピュータに読み取り可能な記憶媒体である。記憶部９２は、ハードディスク等の磁気ディスク、ＣＤ－ＲＯＭ及びＤＶＤ等の光ディスク、又は半導体メモリによって形成されている。 The storage unit 92 is a computer-readable storage medium that stores various programs and data. The storage unit 92 is formed of a magnetic disk such as a hard disk, an optical disk such as a CD-ROM and a DVD, or a semiconductor memory.

処理部９１は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）及び／又はＤＳＰ（Digital Signal Processor）等の各種プロセッサと、ＶＲＡＭ、ＲＡＭ及び／又はＲＯＭ等の各種半導体メモリとを有している。処理部９１は、記憶部９２に記憶された各種プログラムを読み出して実行することによって、清掃装置１００の各部を統括的に制御し、清掃制御及び走行制御を実行するための各種機能を実現する。具体的には、処理部９１は、第１傾き算出部９３と、位置算出部９４と、第２傾き算出部９５と、走行実行部９６と、清掃実行部９７とを機能ブロックとして有している。 The processing unit 91 includes various processors such as a CPU (Central Processing Unit) and/or a DSP (Digital Signal Processor), and various semiconductor memories such as a VRAM, a RAM, and/or a ROM. The processing unit 91 reads out and executes various programs stored in the storage unit 92 to collectively control each unit of the cleaning device 100 and realize various functions for executing cleaning control and travel control. Specifically, the processing unit 91 includes a first inclination calculation unit 93, a position calculation unit 94, a second inclination calculation unit 95, a traveling execution unit 96, and a cleaning execution unit 97 as functional blocks. There is.

第１傾き算出部９３は、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて、清掃対象となる２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾き（以下、「走行機構２の傾き」と称する）を算出する。第１傾き算出部９３は、ビジョンセンサ８の取得画像の画像処理を行って、装置本体１の下方に位置する管Ｐと走行機構２とを抽出する。第１傾き算出部９３は、抽出された管Ｐ及び走行機構２に基づいて、走行機構２の傾きが所定の第１傾斜範囲に入っているか否かを判定する。 The first inclination calculation unit 93 calculates the inclination of the traveling mechanism 2 in the traveling direction with respect to the two pipes P to be cleaned (hereinafter referred to as "the inclination of the traveling mechanism 2") based on the acquired image of the vision sensor 8. calculate. The first inclination calculation unit 93 performs image processing on the image obtained by the vision sensor 8 and extracts the pipe P and the traveling mechanism 2 located below the device main body 1 . The first inclination calculation unit 93 determines whether the inclination of the traveling mechanism 2 is within a predetermined first inclination range based on the extracted pipe P and the traveling mechanism 2.

位置算出部９４は、清掃対象となる２本の管Ｐに対する清掃機構３の配列方向の相対位置（以下、「清掃機構３の配列方向位置」と称する）を算出する。具体的には、位置算出部９４は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの検出距離に基づいて、清掃機構３の配列方向位置を算出する。それに加えて、位置算出部９４は、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄの検出距離に基づいて清掃機構３の配列方向位置を算出する。さらに、位置算出部９４は、算出された清掃機構３の配列方向位置に基づいて、清掃機構３が配列方向において２本の管Ｐの中央を含む所定の位置範囲に入っているか否かを判定する。清掃機構３が位置範囲に入っている場合、清掃機構３が配列方向において２本の管Ｐの間隔ＧＶに内側に入っており、清掃機構３は降下して間隔ＧＶへ進入することができる。 The position calculation unit 94 calculates the relative position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction with respect to the two pipes P to be cleaned (hereinafter referred to as "the arrangement direction position of the cleaning mechanism 3"). Specifically, the position calculation unit 94 calculates the position of the cleaning mechanism 3 in the array direction based on the detection distances of the first and second sensors 71a and 71b. In addition, the position calculation unit 94 calculates the position of the cleaning mechanism 3 in the array direction based on the detection distances of the third and fourth sensors 71c and 71d. Further, the position calculation unit 94 determines whether the cleaning mechanism 3 is within a predetermined position range including the center of the two pipes P in the arrangement direction, based on the calculated arrangement direction position of the cleaning mechanism 3. do. When the cleaning mechanism 3 is within the position range, the cleaning mechanism 3 is inside the gap GV between the two pipes P in the arrangement direction, and the cleaning mechanism 3 cannot descend and enter the gap GV . can.

具体的には、位置算出部９４は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの検出距離の距離差ΔＳ（以下、「第１距離差ΔＳ１」と称する）が以下の式（１）を満たし、且つ、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄの検出距離の距離差ΔＳ（以下、「第２距離差ΔＳ２」と称する）が以下の式（２）を満たす場合に、清掃機構３が位置範囲に入っていると判定する。 Specifically, the position calculation unit 94 calculates that the distance difference ΔS between the detection distances of the first and second sensors 71a and 71b (hereinafter referred to as "first distance difference ΔS1") satisfies the following formula (1), In addition, when the distance difference ΔS between the detection distances of the third and fourth sensors 71c and 71d (hereinafter referred to as "second distance difference ΔS2") satisfies the following formula (2), the cleaning mechanism 3 is in the position range. It is determined that it is included.

α１≦ΔＳ１≦β１ ・・・（１）
α２≦ΔＳ２≦β２ ・・・（２）
ここで、例えば、α１，α２は負の値であり、β１，β２は正の値である。つまり、式（１）は、第１距離差ΔＳ１が０を含む所定の範囲内に入っていることを意味する。同様に、式（２）は、第２距離差ΔＳ２が０を含む所定の範囲内に入っていることを意味する。 α1≦ΔS1≦β1 ...(1)
α2≦ΔS2≦β2 ...(2)
Here, for example, α1 and α2 are negative values, and β1 and β2 are positive values. In other words, equation (1) means that the first distance difference ΔS1 is within a predetermined range that includes zero. Similarly, equation (2) means that the second distance difference ΔS2 is within a predetermined range that includes zero.

尚、この例では、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄとで清掃機構３に対する配列方向の配置が同じであるので、α１とα２とは同じ値であり、β１とβ２とは同じ値である。また、配列方向において第１センサ７１ａと第２センサ７１ｂとの間の中央に清掃機構３が位置するので、α１とβ１の絶対値は同じである。同様に、配列方向において第３センサ７１ｃと第４センサ７１ｄとの間の中央に清掃機構３が位置するので、α２とβ２の絶対値は同じである。ただし、α１、β１、α２及びβ２の値は、これらに限定されない。 In this example, since the first and second sensors 71a, 71b and the third and fourth sensors 71c, 71d are arranged in the same arrangement direction with respect to the cleaning mechanism 3, α1 and α2 have the same value. , β1 and β2 are the same value. Further, since the cleaning mechanism 3 is located in the center between the first sensor 71a and the second sensor 71b in the arrangement direction, the absolute values of α1 and β1 are the same. Similarly, since the cleaning mechanism 3 is located in the center between the third sensor 71c and the fourth sensor 71d in the arrangement direction, the absolute values of α2 and β2 are the same. However, the values of α1, β1, α2, and β2 are not limited to these.

第１距離差ΔＳ１は、清掃機構３の配列方向位置に関連するパラメータである。つまり、第１距離差ΔＳ１を求めることは、実質的に、清掃機構３の配列方向位置を求めることに相当する。同様に、第２距離差ΔＳ２は、清掃機構３の配列方向位置に関連するパラメータである。つまり、第２距離差ΔＳ２を求めることは、実質的に、清掃機構３の配列方向位置を求めることに相当する。 The first distance difference ΔS1 is a parameter related to the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction. That is, determining the first distance difference ΔS1 substantially corresponds to determining the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction. Similarly, the second distance difference ΔS2 is a parameter related to the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction. That is, determining the second distance difference ΔS2 substantially corresponds to determining the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction.

第２傾き算出部９５は、走行機構２の傾きを、第１傾き算出部９３よりも詳細な範囲で算出する。第２傾き算出部９５は、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離に基づいて走行機構２の傾きを算出する。第２傾き算出部９５は、走行機構２の傾きが、２本の管Ｐと走行機構２の走行方向とが平行な場合を含む所定の第２傾斜範囲に入っているか否かを判定する。第２傾斜範囲は、第１傾斜範囲よりも小さい範囲である。 The second inclination calculation unit 95 calculates the inclination of the traveling mechanism 2 in a more detailed range than the first inclination calculation unit 93. The second inclination calculation unit 95 calculates the inclination of the traveling mechanism 2 based on the detection distances of the first to fourth sensors 71a to 71d. The second inclination calculation unit 95 determines whether the inclination of the traveling mechanism 2 is within a predetermined second inclination range that includes the case where the two pipes P and the traveling direction of the traveling mechanism 2 are parallel. The second slope range is smaller than the first slope range.

第２傾き算出部９５は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの検出距離に基づいて算出される清掃機構３の配列方向位置と、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄの検出距離に基づいて算出される清掃機構３の配列方向位置とに基づいて、走行機構２の傾きを算出する。具体的には、第２傾き算出部９５は、第１距離差ΔＳ１及び第２距離差ΔＳ２を用いて、走行機構２の傾きを算出する。 The second inclination calculation unit 95 calculates the position of the cleaning mechanism 3 in the array direction, which is calculated based on the detection distance of the first and second sensors 71a and 71b, and the detection distance of the third and fourth sensors 71c and 71d. The inclination of the traveling mechanism 2 is calculated based on the calculated position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction. Specifically, the second inclination calculation unit 95 calculates the inclination of the traveling mechanism 2 using the first distance difference ΔS1 and the second distance difference ΔS2.

第１距離差ΔＳ１と第２距離差ΔＳ２とが同じである場合には、第２傾き算出部９５は、２本の管Ｐと走行機構２の走行方向とは平行であると判定する。第１距離差ΔＳ１と第２距離差ΔＳ２との差ΔＳ３（以下、「前後距離差ΔＳ３」と称する）が０でない場合には、第２傾き算出部９５は、２本の管Ｐに対して走行機構２の走行方向が傾いていると判定する。走行機構２の傾きが大きいほど、前後距離差ΔＳ３の絶対値が大きくなる。第２傾き算出部９５は、前後距離差ΔＳ３が以下の式（３）を満たす場合に、走行機構２の傾きが第２傾斜範囲に入っていると判定する。 When the first distance difference ΔS1 and the second distance difference ΔS2 are the same, the second inclination calculation unit 95 determines that the two pipes P and the traveling direction of the traveling mechanism 2 are parallel. If the difference ΔS3 between the first distance difference ΔS1 and the second distance difference ΔS2 (hereinafter referred to as "front-rear distance difference ΔS3") is not 0, the second inclination calculation unit 95 It is determined that the traveling direction of the traveling mechanism 2 is tilted. The greater the inclination of the traveling mechanism 2, the greater the absolute value of the longitudinal distance difference ΔS3. The second inclination calculation unit 95 determines that the inclination of the traveling mechanism 2 is within the second inclination range when the longitudinal distance difference ΔS3 satisfies the following equation (3).

γ≦ΔＳ３≦δ ・・・（３）
ここで、例えば、γは負の値であり、δは正の値である。つまり、式（３）は、前後距離差ΔＳ３が０を含む所定の範囲内に入っていることを意味する。 γ≦ΔS3≦δ...(3)
Here, for example, γ is a negative value and δ is a positive value. In other words, equation (3) means that the longitudinal distance difference ΔS3 is within a predetermined range that includes zero.

走行実行部９６は、２本のクローラ２１のそれぞれの駆動力を算出し、算出された駆動力を２本のクローラ２１へ出力する。走行機構２を直進させる場合には、走行実行部９６は、基本的には、２本のクローラ２１の駆動力を同じにする。走行機構２を旋回させる場合には、走行実行部９６は、２本のクローラ２１の駆動力を異ならせる。例えば、走行実行部９６は、旋回時に半径方向内側に位置するクローラ２１の出力を０とし、半径方向外側に位置するクローラ２１の出力を所定値に設定する。 The traveling execution unit 96 calculates the driving force of each of the two crawlers 21 and outputs the calculated driving force to the two crawlers 21. When moving the traveling mechanism 2 straight, the traveling execution unit 96 basically makes the driving force of the two crawlers 21 the same. When rotating the traveling mechanism 2, the traveling execution unit 96 makes the driving forces of the two crawlers 21 different. For example, the traveling execution unit 96 sets the output of the crawler 21 located on the inside in the radial direction to 0 and sets the output of the crawler 21 located on the outside in the radial direction to a predetermined value when turning.

走行実行部９６は、清掃機構３が位置範囲に入り、且つ、走行機構２の傾きが第２傾斜範囲に入るように、走行機構２を制御する。具体的には、走行実行部９６は、まず、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて（即ち、第１傾き算出部９３の判定結果に基づいて）、走行機構２の傾きが第１傾斜範囲に入るように、２本のクローラ２１の駆動力を算出し、駆動力を２本のクローラ２１へ出力する。以下、走行機構２の傾きが第１傾斜範囲に入ることを「第１条件」と称する。 The traveling execution unit 96 controls the traveling mechanism 2 so that the cleaning mechanism 3 enters the position range and the tilt of the traveling mechanism 2 falls within the second tilt range. Specifically, the traveling execution unit 96 first determines whether the inclination of the traveling mechanism 2 falls within the first inclination range based on the image obtained by the vision sensor 8 (that is, based on the determination result of the first inclination calculation unit 93). The driving forces of the two crawlers 21 are calculated and the driving forces are output to the two crawlers 21 so that the two crawlers 21 enter the position. Hereinafter, the fact that the inclination of the traveling mechanism 2 falls within the first inclination range will be referred to as a "first condition."

第１条件が満たされると、走行実行部９６は、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離に基づいて（即ち、位置算出部９４及び第２傾き算出部９５の判定結果に基づいて）、清掃機構３が位置範囲に入り、且つ、走行機構２の傾きが第２傾斜範囲に入るように、２本のクローラ２１の駆動力を算出し、駆動力を２本のクローラ２１へ出力する。以下、清掃機構３が位置範囲に入り、且つ、走行機構２の傾きが第２傾斜範囲に入ることを「第２条件」と称する。 When the first condition is satisfied, the traveling execution unit 96 operates based on the detection distances of the first to fourth sensors 71a to 71d (that is, based on the determination results of the position calculation unit 94 and the second tilt calculation unit 95). , the driving force of the two crawlers 21 is calculated and the driving force is output to the two crawlers 21 so that the cleaning mechanism 3 is within the position range and the inclination of the traveling mechanism 2 is within the second inclination range. . Hereinafter, the condition that the cleaning mechanism 3 falls within the position range and the tilt of the traveling mechanism 2 falls within the second tilt range will be referred to as a "second condition."

清掃実行部９７は、清掃機構３による清掃制御を実行する。清掃実行部９７は、走行実行部９６を介して走行機構２を制御して、清掃機構３を複数の管Ｐ上の所望の清掃位置まで移動させ、清掃位置において清掃機構３を降下及び上昇させて管Ｐの清掃を行う。清掃実行部９７は、清掃位置を変更して、清掃機構３による清掃を繰り返す。 The cleaning execution unit 97 executes cleaning control by the cleaning mechanism 3. The cleaning execution section 97 controls the traveling mechanism 2 via the traveling execution section 96 to move the cleaning mechanism 3 to a desired cleaning position on the plurality of pipes P, and lowers and raises the cleaning mechanism 3 at the cleaning position. Clean the pipe P. The cleaning execution unit 97 changes the cleaning position and repeats the cleaning by the cleaning mechanism 3.

以下、本体コントローラ９の制御について具体的に説明する。図１７は、清掃制御におけるフローチャートである。 The control of the main body controller 9 will be explained in detail below. FIG. 17 is a flowchart in cleaning control.

まず、清掃制御に関連する各種設定（例えば、配列方向における管Ｐの本数、配列方向への管Ｐのピッチ、走行機構２の管Ｐに沿った移動距離、昇降機構１４による清掃機構３の降下距離等）が本体コントローラ９に設定される。この設定は、例えば、オペレータが外部コントローラ９８を介して行う。 First, various settings related to cleaning control (for example, the number of pipes P in the arrangement direction, the pitch of the pipes P in the arrangement direction, the moving distance of the traveling mechanism 2 along the pipes P, and the lowering of the cleaning mechanism 3 by the lifting mechanism 14 distance, etc.) are set in the main controller 9. This setting is performed, for example, by an operator via the external controller 98.

続いて、オペレータは、清掃装置１００を管Ｐの上に載置する。オペレータは、外部コントローラ９８を操作して、清掃装置１００を清掃開始位置まで移動させる。例えば、清掃開始位置は、２本のクローラ２１が２本の管Ｐと平行となり、且つ、清掃機構３が２本の管ＰのＵ軸方向の一端部に位置し、且つ、清掃機構３が管Ｐの配列方向（即ち、Ｖ軸方向）において２本の管Ｐの間に位置する位置である。 Subsequently, the operator places the cleaning device 100 on the pipe P. The operator operates the external controller 98 to move the cleaning device 100 to the cleaning start position. For example, the cleaning start position is such that the two crawlers 21 are parallel to the two pipes P, the cleaning mechanism 3 is located at one end of the two pipes P in the U-axis direction, and the cleaning mechanism 3 is located at one end of the two pipes P in the U-axis direction. This is a position located between two pipes P in the arrangement direction of the pipes P (namely, the V-axis direction).

清掃装置１００が清掃開始位置まで移動すると、オペレータは、外部コントローラ９８を介して清掃開始の指令を入力する。 When the cleaning device 100 moves to the cleaning start position, the operator inputs a command to start cleaning via the external controller 98.

本体コントローラ９が清掃開始の指令を受け付けると（ステップＳ１）、処理部９１は、第２条件が満たされているか否かを判定する。具体的には、走行実行部９６は、まずステップＳ２において、第１傾き算出部９３の判定結果に基づいて、第１条件が満たされているか否かを判定する。第１条件が満たされていない場合には、走行実行部９６は、ステップＳ３において、第１傾き算出部９３の判定結果に基づいて、第１条件を満たすように２本のクローラ２１のそれぞれの駆動力を算出し、算出された駆動力を２本のクローラ２１へ出力する。 When the main body controller 9 receives a command to start cleaning (step S1), the processing unit 91 determines whether the second condition is satisfied. Specifically, in step S2, the travel execution unit 96 first determines whether the first condition is satisfied based on the determination result of the first inclination calculation unit 93. If the first condition is not satisfied, in step S3, the traveling execution unit 96 adjusts each of the two crawlers 21 so as to satisfy the first condition, based on the determination result of the first inclination calculation unit 93. The driving force is calculated and the calculated driving force is output to the two crawlers 21.

算出された駆動力によって２本のクローラ２１が走行した後、走行実行部９６は、第１条件が満たされているか否かを再び判定する（ステップＳ２）。第１条件が満たされるまで、走行実行部９６は、ステップＳ２，Ｓ３を繰り返す。 After the two crawlers 21 travel with the calculated driving force, the travel execution unit 96 determines again whether the first condition is satisfied (step S2). The travel execution unit 96 repeats steps S2 and S3 until the first condition is satisfied.

第１条件が満たされると、走行実行部９６は、ステップＳ４において、位置算出部９４及び第２傾き算出部９５の判定結果に基づいて、第２条件が満たされているか否かを判定する。第２条件が満たされていない場合には、走行実行部９６は、ステップＳ５において、第１傾き算出部９３の判定結果に基づいて、第２条件を満たすように２本のクローラ２１のそれぞれの駆動力を算出し、算出された駆動力を２本のクローラ２１へ出力する。 When the first condition is satisfied, the traveling execution unit 96 determines whether the second condition is satisfied based on the determination results of the position calculation unit 94 and the second tilt calculation unit 95 in step S4. If the second condition is not satisfied, in step S5, the traveling execution unit 96 adjusts each of the two crawlers 21 so that the second condition is satisfied based on the determination result of the first inclination calculation unit 93. The driving force is calculated and the calculated driving force is output to the two crawlers 21.

算出された駆動力によって２本のクローラ２１が走行した後、走行実行部９６は、第２条件が満たされているか否かを再び判定する（ステップＳ４）。第２条件が満たされるまで、走行実行部９６は、ステップＳ４，Ｓ５を繰り返す。 After the two crawlers 21 travel with the calculated driving force, the travel execution unit 96 again determines whether the second condition is satisfied (step S4). The travel execution unit 96 repeats steps S4 and S5 until the second condition is satisfied.

第２条件が満たされると、清掃実行部９７は、ステップＳ６において、清掃機構３の回転シャフト３２を回転駆動させ、この状態で清掃機構３を昇降機構１４によって２本の管Ｐの間に降下させる。スクレーパ３４は、管群Ｑ内のスペースに応じて半径方向への拡がりを変更しながら、管Ｐの表面の付着物を削り落としていく。 When the second condition is satisfied, the cleaning execution unit 97 rotates the rotating shaft 32 of the cleaning mechanism 3 in step S6, and in this state lowers the cleaning mechanism 3 between the two pipes P by the lifting mechanism 14. let The scraper 34 scrapes off deposits on the surfaces of the tubes P while changing its radial expansion depending on the space within the tube group Q.

設定された降下距離まで清掃機構３が降下すると、清掃実行部９７は、昇降機構１４によって清掃機構３を上昇させる。清掃機構３が上昇する際にも、スクレーパ３４は、管Ｐの表面形状に倣って半径方向への拡がりを変更しながら管Ｐの表面に接触し、管Ｐの表面の付着物を削り落としていく。つまり、清掃機構３は、降下時と上昇時との両方で、管Ｐの表面をスクレーパ３４で清掃する。 When the cleaning mechanism 3 descends to the set descent distance, the cleaning execution unit 97 causes the lifting mechanism 14 to raise the cleaning mechanism 3. Even when the cleaning mechanism 3 rises, the scraper 34 comes into contact with the surface of the pipe P while changing its radial spread to follow the surface shape of the pipe P, scraping off the deposits on the surface of the pipe P. go. That is, the cleaning mechanism 3 cleans the surface of the pipe P with the scraper 34 both when descending and when ascending.

清掃機構３の降下及び上昇の一往復が終了すると、ステップＳ７において、清掃実行部９７は、清掃機構３が２本の管ＰのＵ軸方向の他端部（即ち、清掃を開始した端部とは反対側の端部）に達したか否かを判定する。清掃機構３が２本の管Ｐの他端部に達したか否かは、清掃制御の開始時に設定された、走行機構２の管Ｐに沿った移動距離に基づいて判定される。尚、清掃機構３が２本の管Ｐの端部に達したか否かの判定は、リミットスイッチ等のセンサを用いて行ってもよい。 When the cleaning mechanism 3 completes one reciprocation of lowering and raising, in step S7, the cleaning execution unit 97 moves the cleaning mechanism 3 to the other end of the two pipes P in the U-axis direction (i.e., the end where cleaning has started). (the opposite end) is reached. Whether the cleaning mechanism 3 has reached the other end of the two pipes P is determined based on the moving distance of the traveling mechanism 2 along the pipes P, which is set at the start of the cleaning control. Note that the determination as to whether the cleaning mechanism 3 has reached the ends of the two pipes P may be performed using a sensor such as a limit switch.

清掃機構３が２本の管Ｐの他端部に達していない場合には、ステップＳ８において、清掃実行部９７は、第２条件が満たされているか否かの判定を行ってからの、清掃機構３の降下及び上昇の一往復を行った回数（以下、「清掃回数」と称する）が所定回数に達したか否かを判定する。 If the cleaning mechanism 3 has not reached the other end of the two pipes P, in step S8, the cleaning execution unit 97 performs cleaning after determining whether the second condition is satisfied. It is determined whether the number of times the mechanism 3 has made one round trip of lowering and raising (hereinafter referred to as "cleaning number") has reached a predetermined number of times.

清掃機構３の降下及び上昇の回数が所定回数に達していない場合には、清掃実行部９７は、ステップＳ９において、走行実行部９６を介して、走行機構２を２本の管Ｐに沿ってＵ軸方向へ所定量だけ移動させる。所定量は、３つの清掃ユニット４のＸ軸方向の寸法に対応する。その後、清掃実行部９７は、ステップＳ６において、清掃機構３を再度、降下及び上昇させる。これにより、清掃機構３は、管Ｐのうち、先の清掃機構３の降下及び上昇時とはＵ軸方向位置が異なる部分を清掃する。 If the number of descents and ascents of the cleaning mechanism 3 has not reached the predetermined number of times, the cleaning execution section 97 moves the traveling mechanism 2 along the two pipes P via the traveling execution section 96 in step S9. Move by a predetermined amount in the U-axis direction. The predetermined amount corresponds to the dimensions of the three cleaning units 4 in the X-axis direction. After that, the cleaning execution unit 97 lowers and raises the cleaning mechanism 3 again in step S6. Thereby, the cleaning mechanism 3 cleans a portion of the pipe P whose position in the U-axis direction is different from that when the cleaning mechanism 3 was lowered and raised earlier.

こうして、清掃実行部９７がステップＳ６～Ｓ９を繰り返すと、やがて、清掃回数が所定回数に達する。清掃回数が所定回数に達すると、走行実行部９７は、ステップＳ２～Ｓ５の走行制御を再び実行する。 As the cleaning execution section 97 repeats steps S6 to S9 in this manner, the number of times of cleaning eventually reaches a predetermined number of times. When the number of times of cleaning reaches a predetermined number, the traveling execution unit 97 executes the traveling control of steps S2 to S5 again.

つまり、清掃機構３の降下及び上昇の一往復、及び、２本の管Ｐに沿った所定量の移動が所定回数行われるごとに、第２条件が満たされているか否かが確認される。第２条件が満たされていない場合には、第２条件が満たされるように清掃機構３の配列方向位置及び走行機構２の傾きが調整される。 That is, each time the cleaning mechanism 3 moves back and forth between lowering and rising, and moves a predetermined amount along the two pipes P a predetermined number of times, it is checked whether the second condition is satisfied. If the second condition is not satisfied, the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction and the inclination of the traveling mechanism 2 are adjusted so that the second condition is satisfied.

このように、走行機構２が清掃機構３の配列方向位置及び走行機構２の傾きを定期的に調整しながら、清掃機構３のＵ軸方向の位置を変更して管Ｐの清掃を継続する。 In this way, the traveling mechanism 2 continues cleaning the pipe P by changing the position of the cleaning mechanism 3 in the U-axis direction while periodically adjusting the arrangement direction position of the cleaning mechanism 3 and the inclination of the traveling mechanism 2.

やがて、清掃機構３が２本の管Ｐの他端部に達すると、ステップＳ７においてＹＥＳと判定される。その場合、ステップＳ１０において、清掃実行部９７は、配列方向における全ての管Ｐの隙間の清掃が完了したか否かを判定する。具体的には、清掃実行部９７は、清掃制御の開始時に設定された、配列方向における管Ｐの本数に基づいて、全ての管Ｐの隙間の清掃が完了したか否かを判定する。 Eventually, when the cleaning mechanism 3 reaches the other end of the two pipes P, a YES determination is made in step S7. In that case, in step S10, the cleaning execution unit 97 determines whether cleaning of the gaps between all the pipes P in the arrangement direction has been completed. Specifically, the cleaning execution unit 97 determines whether cleaning of the gaps between all the pipes P has been completed based on the number of pipes P in the arrangement direction, which is set at the start of the cleaning control.

全ての管Ｐの隙間の清掃が完了していない場合には、ステップＳ１１において、清掃実行部９７は、走行実行部９６を介して、清掃機構３を隣の管Ｐの隙間へ移動させる。詳しくは、走行実行部９６は、２本のクローラ２１を管Ｐと平行な状態から２本の管Ｐと略直交する状態まで旋回させる。そして、走行実行部９６は、走行機構２に管Ｐを横断させ、清掃が終了した２本の管Ｐの隙間の隣の隙間に清掃機構３が位置するようになるまで走行機構２を移動させる。このとき、走行実行部９６は、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて、清掃機構３が隣の管Ｐの隙間に位置するか否かを判定する。あるいは、走行実行部９６は、清掃制御の開始時に設定された、配列方向への管Ｐのピッチに基づいて、走行機構２の移動量を決定してもよい。尚、新たな２本の管Ｐの一方は、先に清掃が終了した２本の管Ｐの一方の管Ｐである。 If cleaning of the gaps between all the pipes P has not been completed, the cleaning execution unit 97 moves the cleaning mechanism 3 to the gap between the adjacent pipes P via the traveling execution unit 96 in step S11. Specifically, the traveling execution unit 96 rotates the two crawlers 21 from a state parallel to the pipes P to a state substantially perpendicular to the two pipes P. Then, the traveling execution unit 96 causes the traveling mechanism 2 to cross the pipe P, and moves the traveling mechanism 2 until the cleaning mechanism 3 is located in the gap next to the gap between the two pipes P that has been cleaned. . At this time, the traveling execution unit 96 determines whether the cleaning mechanism 3 is located in the gap between the adjacent pipes P based on the image acquired by the vision sensor 8. Alternatively, the traveling execution unit 96 may determine the amount of movement of the traveling mechanism 2 based on the pitch of the pipes P in the arrangement direction, which is set at the start of the cleaning control. Note that one of the two new pipes P is one of the two pipes P that has been cleaned previously.

清掃機構３が隣の管Ｐの隙間に移動すると、走行実行部９６は、２本のクローラ２１を管Ｐと略平行な状態となるまで旋回させる。旋回後、走行実行部９６は、清掃機構３が２本の管ＰのＵ軸方向の端部に位置するように走行機構２を移動させる。 When the cleaning mechanism 3 moves to the gap between the adjacent pipes P, the traveling execution unit 96 rotates the two crawlers 21 until they are in a state substantially parallel to the pipe P. After turning, the traveling execution unit 96 moves the traveling mechanism 2 so that the cleaning mechanism 3 is located at the ends of the two pipes P in the U-axis direction.

隣の管Ｐの隙間への清掃機構３の移動が完了すると、走行実行部９６は、ステップＳ２～Ｓ５の走行制御を実行する。 When the movement of the cleaning mechanism 3 to the gap between the adjacent pipes P is completed, the traveling execution unit 96 executes the traveling control of steps S2 to S5.

その後、清掃実行部９７は、ステップＳ６以降の処理を実行することによって、２本の管Ｐの新たな隙間において前述と同様の清掃が行われる。このときにも、第２条件が満たされるように走行実行部９６による走行制御が定期的に実行される。こうして、清掃装置１００は、２本の管Ｐを変更しながら清掃を繰り返すことによって、管群Ｑに含まれる管Ｐの清掃を行う。 Thereafter, the cleaning execution unit 97 performs the same cleaning as described above in the new gap between the two pipes P by executing the processes from step S6 onwards. Also at this time, the traveling control by the traveling execution unit 96 is periodically executed so that the second condition is satisfied. In this way, the cleaning device 100 cleans the pipes P included in the pipe group Q by repeating cleaning while changing the two pipes P.

最終的に、全ての管Ｐの隙間の清掃が完了すると、清掃装置１００による管群Ｑの清掃が終了する。 Finally, when cleaning of the gaps between all the pipes P is completed, cleaning of the pipe group Q by the cleaning device 100 is completed.

このように、清掃装置１００は、第１管Ｐ１との相対距離を検出する第１センサ７１ａと第２管Ｐ２との相対距離を検出する第２センサ７１ｂとを設けることによって、１つの管Ｐに対する清掃機構３の相対位置ではなく、第１管Ｐ１及び第２管Ｐ２に対する清掃機構３の相対位置を求めることができる。その結果、清掃機構３を、配列方向において第１管Ｐ１と第２管Ｐ２との間に適切に配置することができる。ひいては、清掃機構３を第１管Ｐ１と第２管Ｐ２との隙間に適切に進入させることができる。 In this way, the cleaning device 100 is equipped with the first sensor 71a that detects the relative distance to the first pipe P1 and the second sensor 71b that detects the relative distance to the second pipe P2. The relative position of the cleaning mechanism 3 with respect to the first pipe P1 and the second pipe P2 can be determined instead of the relative position of the cleaning mechanism 3 with respect to the first pipe P1 and the second pipe P2. As a result, the cleaning mechanism 3 can be appropriately disposed between the first pipe P1 and the second pipe P2 in the arrangement direction. Consequently, the cleaning mechanism 3 can be appropriately entered into the gap between the first pipe P1 and the second pipe P2.

ここで、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂとして渦電流センサを採用することによって、灰等の粉塵が舞う環境下であっても、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、管Ｐの表面までの距離を検出することができる。 Here, by employing eddy current sensors as the first and second sensors 71a and 71b, the first and second sensors 71a and 71b can be used on the surface of the pipe P even in an environment where dust such as ash is scattered. The distance can be detected.

さらには、走行機構２が載置される管Ｐの表面は、灰等の付着物が堆積している。そのため、レーザ等を用いた光学式のセンサでは、管Ｐの表面までの距離に誤差が含まれやすい。それに対し、渦電流センサであれば、管Ｐの表面が付着物で覆われていても、管Ｐの表面までの距離を精度よく検出することができる。 Furthermore, deposits such as ash are deposited on the surface of the pipe P on which the traveling mechanism 2 is placed. Therefore, in an optical sensor using a laser or the like, the distance to the surface of the tube P tends to include an error. In contrast, an eddy current sensor can accurately detect the distance to the surface of the tube P even if the surface of the tube P is covered with deposits.

また、渦電流センサから発生させられる磁束は拡がりを有するので、渦電流センサは、光学式のセンサに比べて広い範囲に存在する管Ｐまでの距離を検出することができる。前述のように間隔を空けて配列された複数の管Ｐにおいて、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが管Ｐまでの距離を検出できない状況を減らすことができる。 Moreover, since the magnetic flux generated from the eddy current sensor has a spread, the eddy current sensor can detect the distance to the pipe P which is present in a wider range than an optical sensor. In the plurality of pipes P arranged at intervals as described above, it is possible to reduce the situation in which the first and second sensors 71a and 71b cannot detect the distance to the pipe P.

さらに、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂがそれぞれ第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２の頂部までの距離を同時に検出しないように、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが配置されている。例えば、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが鉛直下方に向かって管Ｐの表面までの距離を検出する場合には、配列方向における第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂのピッチＭは、配列方向における第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２のピッチＮと一致しない（即ち、ずれている）。これにより、配列方向における第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２との相対位置の変化に応じて、第１センサ７１ａの検出距離Ｓ１と第２センサ７１ｂの検出距離Ｓ２との相対関係、例えば、第１距離差ΔＳ１が変化する。つまり、第１センサ７１ａの検出距離Ｓ１と第２センサ７１ｂの検出距離Ｓ２との相対関係に基づいて、配列方向における第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２との相対位置を求めることができる。さらには、第１センサ７１ａの検出距離Ｓ１と第２センサ７１ｂの検出距離Ｓ２との大小関係（すなわち、第１距離差ΔＳ１の符号）によって、配列方向において第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂが中央位置から第１管Ｐ１と第２管Ｐ２のどちら側にずれているかを判定することができる。 Furthermore, the first and second sensors 71a and 71b are arranged so that the first and second sensors 71a and 71b do not simultaneously detect the distances to the tops of the first and second pipes P1 and P2, respectively. For example, when the first and second sensors 71a, 71b detect the distance vertically downward to the surface of the pipe P, the pitch M of the first and second sensors 71a, 71b in the arrangement direction is The pitch N of the first and second pipes P1 and P2 does not match (that is, deviates from) the pitch N of the first and second pipes P1 and P2. As a result, the detection distance S1 of the first sensor 71a and the detection distance S1 of the second sensor 71b are adjusted according to changes in the relative positions of the first and second sensors 71a, 71b and the first and second pipes P1, P2 in the arrangement direction. The relative relationship with the distance S2, for example, the first distance difference ΔS1 changes. That is, based on the relative relationship between the detection distance S1 of the first sensor 71a and the detection distance S2 of the second sensor 71b, the first and second sensors 71a, 71b and the first and second pipes P1, P2 in the arrangement direction are The relative position of can be found. Furthermore, depending on the magnitude relationship between the detection distance S1 of the first sensor 71a and the detection distance S2 of the second sensor 71b (that is, the sign of the first distance difference ΔS1), the first and second sensors 71a and 71b are It is possible to determine which side of the first pipe P1 or the second pipe P2 the first pipe P1 or the second pipe P2 is shifted from the center position.

さらに、清掃装置１００は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂに加えて、走行機構２の走行方向における位置が異なる位置に配置された第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄをさらに設けることによって、走行機構２の傾きを求めることができる。これにより、走行機構２の走行によって２本の管Ｐに沿った方向における清掃機構３の位置を変えつつ管Ｐの清掃を継続した場合に、清掃機構３の配列方向位置が適切な範囲から外れる可能性があるか否かを判断することができる。つまり、走行機構２の傾きを求めることによって、将来的に、清掃機構３の配列方向位置が適切な範囲から外れることを未然に防ぐことができる。 Furthermore, in addition to the first and second sensors 71a and 71b, the cleaning device 100 further includes third and fourth sensors 71c and 71d arranged at different positions in the traveling direction of the traveling mechanism 2. The inclination of the traveling mechanism 2 can be determined. As a result, when the cleaning mechanism 3 continues to clean the pipes P while changing the position of the cleaning mechanism 3 in the direction along the two pipes P by running the traveling mechanism 2, the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction deviates from the appropriate range. You can judge whether there is a possibility or not. That is, by determining the inclination of the traveling mechanism 2, it is possible to prevent the position of the cleaning mechanism 3 in the array direction from deviating from an appropriate range in the future.

それに加えて、清掃装置１００は、ビジョンセンサ８を備えることによって、走行機構２の傾きを的確に求めることができる。つまり、ビジョンセンサ８の取得画像に基づく走行機構２の傾きの判定は、２本の管Ｐと走行機構２又は装置本体１との全体的な画像に基づいて行われるため、概略的な走行機構２の傾きの判定に適している。一方、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離に基づく走行機構２の傾き判定は、局所的な２本の管Ｐに対する装置本体１の相対位置に基づいて行われるため、詳細な走行機構２の傾きの判定に適している。そこで、処理部９１は、まずはビジョンセンサ８の取得画像に基づいて、走行機構２の傾きが第１傾斜範囲に入っているか否かを判定し、走行機構２の傾きが第１傾斜範囲に入っている場合に、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離に基づいて、走行機構２の傾きが第１傾斜範囲よりも小さい第２傾斜範囲に入っているか否かを判定する。こうすることで、走行機構２の傾きを的確に判定することができる。 In addition, by including the vision sensor 8, the cleaning device 100 can accurately determine the inclination of the traveling mechanism 2. In other words, the determination of the inclination of the traveling mechanism 2 based on the image acquired by the vision sensor 8 is performed based on the overall image of the two pipes P and the traveling mechanism 2 or the device main body 1. Suitable for determining the slope of 2. On the other hand, since the inclination determination of the traveling mechanism 2 based on the detection distances of the first to fourth sensors 71a to 71d is performed based on the relative position of the device main body 1 with respect to the local two pipes P, the detailed traveling mechanism Suitable for determining the slope of 2. Therefore, the processing unit 91 first determines whether the inclination of the traveling mechanism 2 is within the first inclination range based on the image acquired by the vision sensor 8, and determines whether the inclination of the traveling mechanism 2 is within the first inclination range. If so, it is determined whether the inclination of the traveling mechanism 2 is within a second inclination range smaller than the first inclination range based on the detection distances of the first to fourth sensors 71a to 71d. By doing so, the inclination of the traveling mechanism 2 can be accurately determined.

以上のように、清掃装置１００は、装置本体１と、装置本体１に設けられ、所定の配列方向に配列された複数の管Ｐの上を走行する走行機構２と、装置本体１から降下して、複数の管Ｐに含まれる２本の管Ｐの間に進入して、管Ｐの表面の付着物を清掃する清掃機構３と、装置本体１に設けられ、２本の管Ｐの一方の管Ｐである第１管Ｐ１に対する配列方向の相対位置を検出する第１センサ７１ａと、装置本体１に設けられ、２本の管Ｐの他方の管Ｐである第２管Ｐ２に対する配列方向の相対位置を検出する第２センサ７１ｂとを備える。 As described above, the cleaning device 100 includes the device main body 1, the traveling mechanism 2 provided in the device main body 1 and running on a plurality of pipes P arranged in a predetermined arrangement direction, and the traveling mechanism 2 that descends from the device main body 1. A cleaning mechanism 3 that enters between two pipes P included in the plurality of pipes P and cleans deposits on the surface of the pipe P, and a cleaning mechanism 3 that is provided in the device main body 1 and that is one of the two pipes P. A first sensor 71a that detects the relative position in the arrangement direction with respect to the first pipe P1, which is the pipe P of the two pipes P, and a first sensor 71a that is provided in the device main body 1 and detects the relative position of the two pipes P in the arrangement direction with respect to the second pipe P2, which is the other pipe P. and a second sensor 71b that detects the relative position of.

この構成によれば、第１センサ７１ａにより検出される相対位置と第２センサ７１ｂにより検出される相対位置に基づいて、配列方向における第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２に対する装置本体１の相対位置を求めることができる。清掃機構３は装置本体１に設けられているので、結果として、配列方向における第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２に対する清掃機構３の相対位置が求められる。このように、第１センサ７１ａと第２センサ７１ｂの２つのセンサを設けることによって、１つの管Ｐに対する清掃機構３の相対位置ではなく、第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２に対する清掃機構３の相対位置が求められる。これにより、清掃機構３を配列方向において第１管Ｐ１と第２管Ｐ２との間の適切な位置に配置することができる。その結果、管Ｐ上を走行する走行機構２の移動精度を向上させることができる。 According to this configuration, the relative position of the device main body 1 with respect to the first and second pipes P1 and P2 in the arrangement direction is based on the relative position detected by the first sensor 71a and the relative position detected by the second sensor 71b. can be found. Since the cleaning mechanism 3 is provided in the apparatus main body 1, the relative position of the cleaning mechanism 3 with respect to the first and second pipes P1 and P2 in the arrangement direction is determined as a result. In this way, by providing two sensors, the first sensor 71a and the second sensor 71b, the position of the cleaning mechanism 3 with respect to the first and second pipes P1 and P2 is determined, rather than the relative position of the cleaning mechanism 3 with respect to one pipe P. Relative position is required. Thereby, the cleaning mechanism 3 can be arranged at an appropriate position between the first pipe P1 and the second pipe P2 in the arrangement direction. As a result, the movement accuracy of the traveling mechanism 2 traveling on the pipe P can be improved.

また、第１センサ７１ａは、第１管Ｐ１に対する配列方向の相対位置として、第１管Ｐ１の表面までの距離を検出し、第２センサ７１ｂは、第２管Ｐ２に対する配列方向の相対位置として、第２管Ｐ２の表面までの距離を検出する。 Further, the first sensor 71a detects the distance to the surface of the first pipe P1 as the relative position in the arrangement direction with respect to the first pipe P1, and the second sensor 71b detects the distance to the surface of the first pipe P1 as the relative position in the arrangement direction with respect to the second pipe P2. , detects the distance to the surface of the second pipe P2.

この構成によれば、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、測距センサである。第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは装置本体１に設けられているので、配列方向において第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２に対する装置本体１の位置が変化すれば、第１管Ｐ１に対する第１センサ７１ａの配列方向における相対位置及び第２管Ｐ２に対する第２センサ７１ｂの配列方向における相対位置も変化する。第１センサ７１ａの配列方向における相対位置が変化すると、第１センサ７１ａと第１管Ｐ１との距離が変化し、同様に、第２センサ７１ｂの配列方向における相対位置が変化すると、第２センサ７１ｂと第２管Ｐ２との距離も変化する。よって、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの検出結果である検出距離に基づいて、配列方向における第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２に対する装置本体１の相対位置、即ち、清掃機構３の配列方向位置を求めることができる。 According to this configuration, the first and second sensors 71a and 71b are distance measuring sensors. Since the first and second sensors 71a and 71b are provided in the device main body 1, if the position of the device main body 1 with respect to the first and second pipes P1 and P2 changes in the arrangement direction, the first sensor with respect to the first pipe P1 changes. The relative position of the sensor 71a in the arrangement direction and the relative position of the second sensor 71b with respect to the second pipe P2 in the arrangement direction also change. When the relative position of the first sensor 71a in the arrangement direction changes, the distance between the first sensor 71a and the first pipe P1 changes, and similarly, when the relative position of the second sensor 71b in the arrangement direction changes, the second sensor The distance between 71b and second pipe P2 also changes. Therefore, based on the detection distances that are the detection results of the first and second sensors 71a and 71b, the relative position of the device main body 1 with respect to the first and second pipes P1 and P2 in the arrangement direction, that is, the arrangement direction of the cleaning mechanism 3 You can find the location.

さらに、清掃装置１００は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによる検出結果（即ち、検出距離）に基づいて、配列方向における２本の管Ｐに対する清掃機構３の相対位置を求める本体コントローラ９（制御部）をさらに備える。 Further, the cleaning device 100 includes a main body controller 9 ( The device further includes a control unit).

この構成によれば、本体コントローラ９は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによる検出距離に基づいて、清掃機構３の配列方向位置を求める。例えば、本体コントローラ９は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによる検出距離に基づいて、清掃機構３の配列方向位置が所定の範囲内に入っているか否かを求める。つまり、ユーザが、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによる検出距離に基づいて、清掃機構３の配列方向位置を判断する必要がない。 According to this configuration, the main body controller 9 determines the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction based on the distances detected by the first and second sensors 71a and 71b. For example, the main body controller 9 determines whether the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction is within a predetermined range based on the distances detected by the first and second sensors 71a and 71b. That is, the user does not need to judge the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction based on the detection distances by the first and second sensors 71a and 71b.

また、清掃装置１００は、走行機構２の走行方向の位置が第１センサ７１ａと異なる位置において装置本体１に設けられ、第１管Ｐ１に対する配列方向の相対位置を検出する第３センサ７１ｃと、走行機構２の走行方向の位置が第２センサ７１ｂと異なる位置において装置本体１に設けられ、第２管Ｐ２に対する配列方向の相対位置を検出する第４センサ７１ｄとをさらに備える。 The cleaning device 100 also includes a third sensor 71c that is provided in the device main body 1 at a position where the traveling mechanism 2 is located at a position different from that of the first sensor 71a in the traveling direction, and that detects the relative position in the arrangement direction with respect to the first pipe P1. The apparatus further includes a fourth sensor 71d, which is provided in the apparatus main body 1 at a position in the traveling direction of the traveling mechanism 2 that is different from that of the second sensor 71b, and detects the relative position in the arrangement direction with respect to the second pipe P2.

この構成によれば、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂに加えて、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄが設けられる。第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄとは、走行機構２の走行方向における位置が異なる位置に設けられている。そのため、走行機構２の走行方向における位置が異なる２か所において、清掃機構３の配列方向位置を求めることができる。その結果、清掃機構３の配列方向位置を精度よく求めることができる。 According to this configuration, third and fourth sensors 71c and 71d are provided in addition to the first and second sensors 71a and 71b. The first and second sensors 71a, 71b and the third and fourth sensors 71c, 71d are provided at different positions in the traveling direction of the traveling mechanism 2. Therefore, the positions of the cleaning mechanisms 3 in the array direction can be determined at two different locations in the traveling direction of the traveling mechanisms 2. As a result, the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction can be determined with high accuracy.

本体コントローラ９は、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出結果に基づいて、配列方向における２本の管Ｐに対する清掃機構３の相対位置を求める。 The main body controller 9 determines the relative position of the cleaning mechanism 3 with respect to the two pipes P in the arrangement direction based on the detection results by the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d.

この構成によれば、本体コントローラ９によって求められる清掃機構３の配列方向位置の精度が向上する。 According to this configuration, the accuracy of the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction determined by the main body controller 9 is improved.

さらに、本体コントローラ９は、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出結果に基づいて、２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きを求める。 Furthermore, the main body controller 9 determines the inclination of the traveling mechanism 2 in the traveling direction with respect to the two pipes P based on the detection results by the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d.

この構成によれば、本体コントローラ９は、清掃機構３の配列方向位置に加えて、走行機構２の傾きを求める。前述の如く、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄとは、走行機構２の走行方向における位置が異なる位置に設けられている。そのため、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによって求められる清掃機構３の配列方向位置と、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄによって求められる清掃機構３の配列方向位置とに基づいて、走行機構２の傾きを求めることができる。走行機構２の傾きがわかれば、清掃機構３の配列方向位置が適切な範囲から外れることを未然に防ぐことができる。 According to this configuration, the main body controller 9 determines the inclination of the traveling mechanism 2 in addition to the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction. As described above, the first and second sensors 71a, 71b and the third and fourth sensors 71c, 71d are provided at different positions in the traveling direction of the traveling mechanism 2. Therefore, the traveling mechanism 2 The slope of can be found. If the inclination of the traveling mechanism 2 is known, it is possible to prevent the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction from deviating from an appropriate range.

また、清掃装置１００は、複数の管Ｐに載置された状態の走行機構２及び装置本体１の少なくも一方を撮像するビジョンセンサ８（撮像装置）をさらに備え、本体コントローラ９は、ビジョンセンサ８によって取得された画像に基づいて、２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きが所定の第１傾斜範囲に入っているか否かを判定すると共に、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出結果に基づいて、２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きが第１傾斜範囲よりも小さい第２傾斜範囲に入っているか否かを判定する。 The cleaning device 100 further includes a vision sensor 8 (imaging device) that captures images of at least one of the traveling mechanism 2 and the device main body 1 placed on the plurality of pipes P, and the main body controller 9 uses the vision sensor Based on the image acquired by 8, it is determined whether the inclination of the traveling direction of the traveling mechanism 2 with respect to the two pipes P is within a predetermined first inclination range, and Based on the detection results by the fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d, whether the inclination of the traveling direction of the traveling mechanism 2 with respect to the two pipes P is within a second inclination range that is smaller than the first inclination range. Determine.

この構成によれば、走行機構２の傾きは、２つの方法で判定される。比較的大きな走行機構２の傾きは、ビジョンセンサ８による取得画像に基づいて判定される。一方、比較的小さな走行機構２の傾きは、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄの検出距離に基づいて判定される。ビジョンセンサ８による取得画像に基づく判定は、２本の管Ｐと走行機構２又は装置本体１との全体的な画像に基づいて行われるため、概略的な走行機構２の傾きの判定に適している。一方、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄの検出距離に基づく判定は、局所的な２本の管Ｐに対する装置本体１の相対位置に基づいて行われるため、詳細な走行機構２の傾きの判定に適している。走行機構２の傾きの大きさに応じて、これらの判定を使い分けることによって、走行機構２の傾きを的確に判定することができる。 According to this configuration, the inclination of the traveling mechanism 2 is determined by two methods. The relatively large inclination of the traveling mechanism 2 is determined based on an image obtained by the vision sensor 8. On the other hand, the relatively small inclination of the traveling mechanism 2 is determined based on the detection distances of the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d. The determination based on the image acquired by the vision sensor 8 is performed based on the overall image of the two pipes P and the traveling mechanism 2 or the device main body 1, so it is suitable for roughly determining the inclination of the traveling mechanism 2. There is. On the other hand, since the determination based on the detection distances of the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d is performed based on the relative position of the device main body 1 with respect to the two local pipes P, , is suitable for determining the detailed inclination of the traveling mechanism 2. By properly using these determinations depending on the magnitude of the inclination of the traveling mechanism 2, the inclination of the traveling mechanism 2 can be accurately determined.

また、本体コントローラ９は、配列方向において清掃機構３が所定の位置範囲に入るように、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの検出結果に基づいて走行機構２を制御する。 Further, the main body controller 9 controls the traveling mechanism 2 based on the detection results of the first and second sensors 71a and 71b so that the cleaning mechanism 3 is within a predetermined position range in the arrangement direction.

この構成によれば、本体コントローラ９は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによる検出距離に基づいて走行機構２を制御する。これにより、配列方向において清掃機構３が所定の範囲内に入るように、清掃機構３の配列方向位置が調整される。 According to this configuration, the main body controller 9 controls the traveling mechanism 2 based on the distance detected by the first and second sensors 71a and 71b. Thereby, the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction is adjusted so that the cleaning mechanism 3 falls within a predetermined range in the arrangement direction.

清掃装置１００は、走行機構２の走行方向の位置が第１センサ７１ａと異なる位置において装置本体１に設けられ、第１管Ｐ１に対する配列方向の相対位置を検出する第３センサ７１ｃと、走行機構２の走行方向の位置が第２センサ７１ｂと異なる位置において装置本体１に設けられ、第２管Ｐ２に対する配列方向の相対位置を検出する第４センサ７１ｄとをさらに備え、本体コントローラ９は、配列方向において清掃機構３が所定の位置範囲に入るように、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出結果に基づいて走行機構２を制御する。 The cleaning device 100 includes a third sensor 71c that is provided in the device main body 1 at a position in the traveling direction of the traveling mechanism 2 that is different from that of the first sensor 71a, and detects a relative position in the arrangement direction with respect to the first pipe P1, and a third sensor 71c that detects the relative position of the traveling mechanism 2 in the direction of arrangement. The main body controller 9 further includes a fourth sensor 71d that is provided in the device main body 1 at a position different from that of the second sensor 71b in the running direction of the second pipe P2 and detects a relative position in the arrangement direction with respect to the second pipe P2. The traveling mechanism 2 is controlled based on the detection results by the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d so that the cleaning mechanism 3 is within a predetermined position range in the direction.

この構成によれば、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂに加えて、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄが設けられる。第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄとは、走行機構２の走行方向における位置が異なる位置に設けられている。そのため、走行機構２の走行方向における異なる位置において、清掃機構３の配列方向位置を判断することができる。その結果、清掃機構３の配列方向位置が精度よく調整される。 According to this configuration, third and fourth sensors 71c and 71d are provided in addition to the first and second sensors 71a and 71b. The first and second sensors 71a, 71b and the third and fourth sensors 71c, 71d are provided at different positions in the traveling direction of the traveling mechanism 2. Therefore, the arrangement direction position of the cleaning mechanism 3 can be determined at different positions in the traveling direction of the traveling mechanism 2. As a result, the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction can be adjusted with high precision.

また、清掃装置１００は、走行機構２の走行方向の位置が第１センサ７１ａと異なる位置において装置本体１に設けられ、第１管Ｐ１に対する配列方向の相対位置を検出する第３センサ７１ｃと、走行機構２の走行方向の位置が第２センサ７１ｂと異なる位置において装置本体１に設けられ、第２管Ｐ２に対する配列方向の相対位置を検出する第４センサ７１ｄとをさらに備え、本体コントローラ９は、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出結果に基づいて走行機構２を制御して、２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きを調整する。 The cleaning device 100 also includes a third sensor 71c that is provided in the device main body 1 at a position where the traveling mechanism 2 is located at a position different from that of the first sensor 71a in the traveling direction, and that detects the relative position in the arrangement direction with respect to the first pipe P1. The main body controller 9 further includes a fourth sensor 71d that is provided in the apparatus main body 1 at a position where the traveling mechanism 2 is located at a different position from the second sensor 71b and detects the relative position of the traveling mechanism 2 in the arrangement direction with respect to the second pipe P2. , controls the traveling mechanism 2 based on the detection results by the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d, and adjusts the inclination of the traveling mechanism 2 in the traveling direction with respect to the two pipes P. do.

この構成によれば、本体コントローラ９は、清掃機構３の配列方向位置に加えて、走行機構２の傾きを調整する。前述の如く、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄとは、走行機構２の走行方向における位置が異なる位置に設けられている。そのため、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによって求められる清掃機構３の配列方向位置と、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄによって求められる清掃機構３の配列方向位置とに基づいて、走行機構２の傾きを求めることができる。走行機構２の傾きがわかれば、清掃機構３の配列方向位置が適切な範囲から外れることを未然に防ぐことができる。 According to this configuration, the main body controller 9 adjusts the inclination of the traveling mechanism 2 in addition to the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction. As described above, the first and second sensors 71a, 71b and the third and fourth sensors 71c, 71d are provided at different positions in the traveling direction of the traveling mechanism 2. Therefore, the traveling mechanism 2 The slope of can be found. If the inclination of the traveling mechanism 2 is known, it is possible to prevent the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction from deviating from an appropriate range.

さらに、清掃装置１００は、複数の管Ｐに載置された状態の走行機構２及び装置本体１の少なくも一方を撮像するビジョンセンサ８をさらに備え、本体コントローラ９は、配列方向において清掃機構３が所定の位置範囲に入るように、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出結果に基づいて走行機構２を制御し、２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きが所定の第１傾斜範囲に入るように、ビジョンセンサ８によって取得された画像に基づいて走行機構２を制御し、２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きが第１傾斜範囲よりも小さい第２傾斜範囲に入るように、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出結果に基づいて走行機構２を制御する。 Furthermore, the cleaning device 100 further includes a vision sensor 8 that images at least one of the traveling mechanism 2 and the device main body 1 placed on the plurality of pipes P, and the main body controller 9 controls the cleaning mechanisms 3 in the arrangement direction. The traveling mechanism 2 is controlled based on the detection results by the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d so that the traveling mechanism for the two pipes P falls within a predetermined position range. The traveling mechanism 2 is controlled based on the image acquired by the vision sensor 8 so that the tilt of the traveling direction of the traveling mechanism 2 with respect to the two pipes P falls within a predetermined first tilt range. The traveling mechanism 2 is controlled based on the detection results by the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d so that the angle falls within the second inclination range that is smaller than the first inclination range.

この構成によれば、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの検出距離に加えて、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄの検出距離に基づいて、配列方向において清掃機構３が所定の位置範囲に入るように走行機構２が制御される。つまり、走行機構２の走行方向の異なる位置における清掃機構３の配列方向位置に基づいて、走行機構２が制御される。その結果、清掃機構３の配列方向位置が精度よく調整される。それに加え、走行機構２の傾きが、２つの方法で調整される。比較的大きな走行機構２の傾きは、ビジョンセンサ８による取得画像に基づいて調整される。一方、比較的小さな走行機構２の傾きは、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄの検出距離に基づいて調整される。ビジョンセンサ８による取得画像に基づく調整は、２本の管Ｐと走行機構２又は装置本体１との全体的な画像に基づいて行われるため、概略的な走行機構２の傾きの調整に適している。一方、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄの検出距離に基づく調整は、局所的な２本の管Ｐに対する装置本体１の相対位置に基づいて行われるため、詳細な走行機構２の傾きの調整に適している。走行機構２の傾きの大きさに応じて、これらの調整を使い分けることによって、走行機構２の傾きを的確に調整することができる。 According to this configuration, the cleaning mechanism 3 is moved to a predetermined position range in the arrangement direction based on the detection distances of the third and fourth sensors 71c, 71d in addition to the detection distances of the first and second sensors 71a, 71b. The traveling mechanism 2 is controlled so as to enter. That is, the traveling mechanism 2 is controlled based on the arrangement direction positions of the cleaning mechanisms 3 at different positions in the traveling direction of the traveling mechanism 2. As a result, the position of the cleaning mechanism 3 in the arrangement direction can be adjusted with high precision. In addition, the tilt of the traveling mechanism 2 can be adjusted in two ways. The relatively large inclination of the traveling mechanism 2 is adjusted based on an image obtained by the vision sensor 8. On the other hand, the relatively small inclination of the traveling mechanism 2 is adjusted based on the detection distances of the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d. Since the adjustment based on the image acquired by the vision sensor 8 is performed based on the overall image of the two pipes P and the traveling mechanism 2 or the device main body 1, it is suitable for roughly adjusting the inclination of the traveling mechanism 2. There is. On the other hand, since the adjustment based on the detection distances of the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d is performed based on the relative position of the device main body 1 with respect to the local two pipes P, , suitable for detailed adjustment of the inclination of the traveling mechanism 2. By properly using these adjustments depending on the magnitude of the inclination of the traveling mechanism 2, the inclination of the traveling mechanism 2 can be adjusted accurately.

また、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄは、管Ｐに発生する渦電流を検出する渦電流センサである。 Further, the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d are eddy current sensors that detect eddy currents generated in the pipe P.

この構成によれば、灰等の粉塵が舞う環境下であっても、管Ｐの表面が付着物で覆われた状況下であっても、管Ｐの表面までの距離を正確に検出することができる。 According to this configuration, the distance to the surface of the pipe P can be accurately detected even in an environment where dust such as ash is flying, or even when the surface of the pipe P is covered with deposits. I can do it.

続いて、清掃装置１００の変形例について説明する。 Next, a modification of the cleaning device 100 will be described.

〈変形例１〉
例えば、処理部９１は、記憶部９２に記憶された走行モデルを用いて、２本のクローラ２１の駆動力を求めてもよい。詳しくは、走行モデルは、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて求められる走行機構２の傾き、及び、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離が入力されると、第２条件を満たすような２本のクローラ２１の駆動力を出力する。例えば、走行モデルは、予め機械学習等によって生成され、記憶部９２に記憶されている。 <Modification 1>
For example, the processing unit 91 may calculate the driving force of the two crawlers 21 using the travel model stored in the storage unit 92. Specifically, when the inclination of the traveling mechanism 2 determined based on the image obtained by the vision sensor 8 and the detection distances of the first to fourth sensors 71a to 71d are input, the traveling model is configured to satisfy the second condition. The driving force of the two crawlers 21 is output. For example, the driving model is generated in advance by machine learning or the like and stored in the storage unit 92.

図１８は、変形例１に係る清掃制御のフローチャートである。変形例においては、図１７のフローチャートのステップＳ２～Ｓ５に代えて、ステップＳ１２において走行実行部９６が走行制御を実行する。具体的には、第１傾き算出部９３は、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて、走行機構２の傾きを算出する。走行実行部９６は、記憶部９２から走行モデルを読み出すと共に、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離及び第１傾き算出部９３によって算出された走行機構２の傾きを走行モデルに入力することによって、２本のクローラ２１の駆動力を求める。走行実行部９６は、得られた駆動力を２本のクローラ２１へ出力する。尚、第２条件が満たされている場合には、走行モデルは、２本のクローラ２１の駆動力を出力しない。その場合、走行実行部９６は、走行制御による清掃機構３の配列方向位置の調整及び走行機構２の傾きの調整を行わない。実質的に、走行モデルは、第２条件を満たすか否かを判定している。その他のステップは、図１７のフローチャートと同じである。尚、位置算出部９４及び第２傾き算出部９５は、省略される。 FIG. 18 is a flowchart of cleaning control according to Modification 1. In the modified example, the travel execution unit 96 executes travel control in step S12 instead of steps S2 to S5 in the flowchart of FIG. Specifically, the first inclination calculation unit 93 calculates the inclination of the traveling mechanism 2 based on the image acquired by the vision sensor 8. The travel execution unit 96 reads the travel model from the storage unit 92 and inputs the detected distances of the first to fourth sensors 71a to 71d and the inclination of the travel mechanism 2 calculated by the first inclination calculation unit 93 to the travel model. By doing so, the driving force of the two crawlers 21 is determined. The traveling execution unit 96 outputs the obtained driving force to the two crawlers 21. Note that if the second condition is satisfied, the traveling model does not output the driving force of the two crawlers 21. In that case, the traveling execution unit 96 does not adjust the position of the cleaning mechanism 3 in the array direction and adjust the inclination of the traveling mechanism 2 by the traveling control. Substantially, the driving model determines whether the second condition is satisfied. The other steps are the same as the flowchart in FIG. 17. Note that the position calculation section 94 and the second tilt calculation section 95 are omitted.

このような走行モデルを用いることによって、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離及び第１傾き算出部９３によって算出された走行機構２の傾きから、２本のクローラ２１の駆動力を直接求めることができる。 By using such a traveling model, the driving force of the two crawlers 21 can be directly calculated from the detected distances of the first to fourth sensors 71a to 71d and the inclination of the traveling mechanism 2 calculated by the first inclination calculation unit 93. You can ask for it.

尚、処理部９１による２本のクローラ２１の駆動力の導出は、走行モデルを用いる方法に限定されない。例えば、処理部９１は、ファジィ制御（ファジィ推論）によって２本のクローラ２１の駆動力を求めてもよい。記憶部９２には、ファジィ制御に関するメンバシップ関数が記憶されている。メンバシップ関数は、ユーザにより調整可能であってもよい。例えば、処理部９１は、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて求められる走行機構２の傾き、及び、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出距離を入力として、ファジィ推論によって２本のクローラ２１の駆動力を出力する。尚、入力は、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて求められる走行機構２の傾き、第１距離差ΔＳ１、第２距離差ΔＳ２及び前後距離差ΔＳ３等であってもよい。 Note that the method for deriving the driving forces of the two crawlers 21 by the processing unit 91 is not limited to the method using a traveling model. For example, the processing unit 91 may obtain the driving force of the two crawlers 21 by fuzzy control (fuzzy inference). The storage unit 92 stores membership functions related to fuzzy control. The membership function may be adjustable by the user. For example, the processing unit 91 inputs the inclination of the traveling mechanism 2 determined based on the image acquired by the vision sensor 8 and the detected distances of the first to fourth sensors 71a to 71d, and uses fuzzy inference to calculate the distance between the two crawlers 21. outputs a driving force of Note that the input may be the inclination of the traveling mechanism 2, the first distance difference ΔS1, the second distance difference ΔS2, the front-rear distance difference ΔS3, etc. determined based on the image acquired by the vision sensor 8.

〈変形例２〉
走行機構２は、前述の２本のクローラ２１に加えて、もう１組のクローラを有していてもよい。図１９は、変形例２に係る清掃装置１００の側面図である。 <Modification 2>
In addition to the two crawlers 21 described above, the traveling mechanism 2 may include another set of crawlers. FIG. 19 is a side view of a cleaning device 100 according to a second modification.

変形例２に係る清掃装置１００の走行機構２は、２本の第２クローラ２２をさらに有する。以下、説明の便宜上、クローラ２１を「第１クローラ２１」と称する。 The traveling mechanism 2 of the cleaning device 100 according to the second modification further includes two second crawlers 22. Hereinafter, for convenience of explanation, the crawler 21 will be referred to as the "first crawler 21."

第２クローラ２２の走行方向は、第１クローラ２１の走行方向と直交する。具体的には、第２クローラ２２は、Ｙ軸方向に進行するように構成されている。一方の第２クローラ２２は、ベース１１のうちＸ軸方向における一端部に配置されている。他方の第２クローラ２２は、ベース１１のうちＸ軸方向における他端部に配置されている。 The running direction of the second crawler 22 is orthogonal to the running direction of the first crawler 21. Specifically, the second crawler 22 is configured to move in the Y-axis direction. One second crawler 22 is disposed at one end of the base 11 in the X-axis direction. The other second crawler 22 is arranged at the other end of the base 11 in the X-axis direction.

第２クローラ２２は、ベース１１に対して昇降可能に構成されている。具体的には、第２クローラ２２は、第１クローラ２１よりも上方の退避位置（図１９の二点鎖線）と、第１クローラ２１よりも下方の走行位置（図１９の実線）との間で昇降可能に構成されている。つまり、装置本体１がＸ軸方向へ移動する（即ち、管Ｐに沿って移動する）際には、第２クローラ２２は、退避位置に位置して管Ｐと接触しておらず、第１クローラ２１が管Ｐと接している。走行機構２は、第１クローラ２１によってＸ軸方向へ走行する。一方、装置本体１がＹ軸方向へ移動する（即ち、管Ｐを横断する）際には、第２クローラ２２は、走行位置に位置して管Ｐと接し、第１クローラ２１は管Ｐと接触していない。走行機構２は、第２クローラ２２によってＹ軸方向へ走行する。 The second crawler 22 is configured to be movable up and down relative to the base 11. Specifically, the second crawler 22 moves between a retracted position above the first crawler 21 (double-dashed line in FIG. 19) and a running position below the first crawler 21 (solid line in FIG. 19). It is configured so that it can be raised and lowered. That is, when the device body 1 moves in the X-axis direction (that is, moves along the pipe P), the second crawler 22 is located at the retracted position and is not in contact with the pipe P, and the second crawler 22 The crawler 21 is in contact with the pipe P. The traveling mechanism 2 travels in the X-axis direction by the first crawler 21. On the other hand, when the device main body 1 moves in the Y-axis direction (that is, crosses the pipe P), the second crawler 22 is in the traveling position and comes into contact with the pipe P, and the first crawler 21 is in contact with the pipe P. Not in contact. The traveling mechanism 2 travels in the Y-axis direction by a second crawler 22.

この構成によれば、第２クローラ２２を介して装置本体１が管Ｐを横断する際にも、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂは、管Ｐの配列方向の位置が互いに異なるように配置される。つまり、装置本体１が管Ｐを横断する際に、清掃機構３が配列方向において新たな管Ｐの隙間ＧＶに入った否かを第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの検出距離に基づいて判定することができる。 According to this configuration, even when the device main body 1 crosses the pipe P via the second crawler 22, the first and second sensors 71a and 71b are arranged so that the positions in the arrangement direction of the pipe P are different from each other. be done. That is, when the device body 1 crosses the pipe P, it is determined whether the cleaning mechanism 3 has entered a new gap GV between the pipes P in the arrangement direction based on the detection distances of the first and second sensors 71a and 71b. can be determined.

《実施形態２》
続いて、実施形態２に係る清掃装置２００について説明する。図２０は、清掃装置２００の側面図である。 《Embodiment 2》
Next, a cleaning device 200 according to a second embodiment will be described. FIG. 20 is a side view of the cleaning device 200.

清掃装置２００は、主に清掃機構２０３及び昇降機構２１４の構成が清掃装置１００の清掃機構３及び昇降機構１４と異なる。以下、清掃装置２００のうち清掃装置１００と異なる構成を中心に説明する。清掃装置２００のうち清掃装置１００と同様の構成については同様の符号を付して、説明を省略する。 The cleaning device 200 differs from the cleaning mechanism 3 and the lifting mechanism 14 of the cleaning device 100 mainly in the configurations of the cleaning mechanism 203 and the lifting mechanism 214. Hereinafter, the configuration of the cleaning device 200 that is different from the cleaning device 100 will be mainly described. Components of the cleaning device 200 that are similar to those of the cleaning device 100 are designated by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

清掃装置２００は、水平方向の所定の配列方向に並ぶ複数の管Ｐの上に載置される。清掃装置２００は、装置本体２０１と、装置本体２０１に設けられ、管群Ｑに含まれる管Ｐの上を走行する走行機構２と、装置本体２０１から降下して、水平方向に配列された複数の管Ｐに含まれる２本の管Ｐの隙間から管群Ｑ内に進入して、管Ｐの表面の付着物を清掃する清掃機構２０３と、装置本体２０１に設けられ、２本の管Ｐの一方の管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出する第１センサ７１ａと、装置本体１に設けられ、２本の管Ｐの他方の管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出する第２センサ７１ｂとを備えている。清掃装置２００は、清掃装置２００を制御する本体コントローラ９をさらに備えていてもよい。清掃装置２００は、走行機構２の走行方向の位置が第１センサ７１ａと異なる位置において装置本体１に設けられ、一方の管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出する第３センサ７１ｃと、走行機構２の走行方向の位置が第２センサ７１ｂと異なる位置において装置本体１に設けられ、他方の管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出する第４センサ７１ｄとをさらに備えていてもよい。清掃装置２００は、複数の管Ｐに載置された状態の装置本体２０１及び走行機構２の少なくも一方を撮像するビジョンセンサ８をさらに備えていてもよい。尚、図２０においては、第２センサ７１ｂ及び第４センサ７１ｄの図示を省略している。 The cleaning device 200 is placed on a plurality of pipes P lined up in a predetermined horizontal arrangement direction. The cleaning device 200 includes a device main body 201, a traveling mechanism 2 provided in the device main body 201 and running on the pipes P included in the pipe group Q, and a plurality of moving mechanisms descending from the device main body 201 and arranged in the horizontal direction. A cleaning mechanism 203 that enters into the tube group Q through the gap between the two tubes P included in the tube P and cleans deposits on the surface of the tubes P, and A first sensor 71a that detects the relative position of the two pipes P in the arrangement direction with respect to one of the pipes P, and a second sensor 71b that is provided in the device main body 1 and detects the relative position of the two pipes P with respect to the other pipe P in the arrangement direction. It is equipped with The cleaning device 200 may further include a main body controller 9 that controls the cleaning device 200. The cleaning device 200 includes a third sensor 71c that is provided in the device main body 1 at a position in the traveling direction of the traveling mechanism 2 that is different from that of the first sensor 71a, and that detects the relative position of the traveling mechanism 2 in the arrangement direction with respect to one pipe P; The apparatus main body 1 may further include a fourth sensor 71d that is provided in the apparatus main body 1 at a position different from that of the second sensor 71b in the traveling direction of the pipe P and detects a relative position in the arrangement direction with respect to the other pipe P. The cleaning device 200 may further include a vision sensor 8 that images at least one of the device main body 201 and the traveling mechanism 2 placed on the plurality of pipes P. Note that in FIG. 20, illustration of the second sensor 71b and the fourth sensor 71d is omitted.

清掃装置２００は、走行機構２が載置された複数の管Ｐのうちの２本の管Ｐの隙間に清掃機構２０３を昇降機構２１４によって降下及び上昇させ、２本の管Ｐ及びそれらの下方に並ぶ管Ｐに付着した付着物を清掃する。 The cleaning device 200 uses an elevating mechanism 214 to lower and raise the cleaning mechanism 203 into the gap between two of the plurality of tubes P on which the traveling mechanism 2 is mounted, and cleans the two tubes P and their lower part. Clean the deposits that have adhered to the pipes P lined up.

尚、清掃装置１００の場合と同様に、説明の便宜上、清掃装置２００を基準に互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸を規定する。具体的には、清掃装置２００の走行方向（即ち、走行機構２の走行方向）にＸ軸を設定し、清掃装置２００の上下方向（即ち、昇降機構２１４の昇降方向）にＺ軸を設定し、清掃装置２００の幅方向（即ち、走行方向及び上下方向の両方に直交する方向）にＹ軸を設定する。 Note that, as in the case of the cleaning device 100, for convenience of explanation, an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis that are orthogonal to each other are defined based on the cleaning device 200. Specifically, the X-axis is set in the traveling direction of the cleaning device 200 (i.e., the traveling direction of the traveling mechanism 2), and the Z-axis is set in the vertical direction of the cleaning device 200 (i.e., the ascending and descending direction of the elevating mechanism 214). , the Y-axis is set in the width direction of the cleaning device 200 (that is, the direction perpendicular to both the traveling direction and the vertical direction).

装置本体２０１は、ＸＹ平面上に拡がる平板状のベース２１１と、ベース２１１に設けられ、昇降機構２１４を支持するフレーム２１２とを有している。ベース２１１の略中央には、ベース２１１を貫通する開口（図示省略）が形成されている。 The device main body 201 includes a flat base 211 that extends on the XY plane, and a frame 212 that is provided on the base 211 and supports a lifting mechanism 214. An opening (not shown) passing through the base 211 is formed approximately at the center of the base 211 .

走行機構２は、ベース２１１の下面に取り付けられている。清掃装置２００の走行機構２の構成は、清掃装置１００の走行機構２の構成と概ね同じである。 The traveling mechanism 2 is attached to the lower surface of the base 211. The configuration of the traveling mechanism 2 of the cleaning device 200 is generally the same as the configuration of the traveling mechanism 2 of the cleaning device 100.

清掃機構２０３は、液体を噴射するノズル２０４と、ノズルに液体を供給する供給部とを有している。ノズル２０４は、流体を噴射することによって管Ｐの表面の付着物を除去するように構成されている。この例では、噴射される液体は、水である。 The cleaning mechanism 203 includes a nozzle 204 that sprays liquid, and a supply section that supplies the liquid to the nozzle. The nozzle 204 is configured to remove deposits from the surface of the pipe P by jetting fluid. In this example, the liquid that is ejected is water.

ノズル２０４は、ノズル本体２４１と、複数の噴口２４２とを有している。ノズル本体２４１は、Ｚ軸方向に延びる軸心Ｈを有する円柱状に形成されている。複数の噴口２４２は、ＺＸ平面に対して対称に配置されている。より詳しくは、複数の噴口２４２は、ノズル本体２４１において軸心Ｈを中心とする周方向に等間隔で配置されている。噴口２４２からは、軸心Ｈを中心とする半径方向に液体が噴射される。つまり、ノズル２０４からは、軸心Ｈを中心に放射状に液体が噴射される。また、Ｚ軸方向（即ち、ノズル２０４の昇降方向）に見た場合のノズル２０４の形状は、清掃装置２００が載置される２本の管ＰのＶ軸方向の間隔ＧＶ（図２，３参照）を直径とする円内に収まっている。ノズル２０４は、清掃部の一例である。 The nozzle 204 has a nozzle body 241 and a plurality of jet ports 242 . The nozzle body 241 is formed in a cylindrical shape with an axis H extending in the Z-axis direction. The plurality of nozzles 242 are arranged symmetrically with respect to the ZX plane. More specifically, the plurality of jet ports 242 are arranged at equal intervals in the circumferential direction around the axis H in the nozzle body 241. Liquid is injected from the nozzle 242 in a radial direction centered on the axis H. That is, the liquid is ejected from the nozzle 204 radially around the axis H. Furthermore, the shape of the nozzle 204 when viewed in the Z-axis direction (that is, the vertical direction of the nozzle 204) is determined by the distance G V in the V-axis direction between the two pipes P on which the cleaning device 200 is placed. 3) is within a circle with a diameter of Nozzle 204 is an example of a cleaning section.

供給部は、清掃装置２００の外部に設けられた、液体の供給源と、供給源とノズル２０４とを接続するホース２５１とを有している。 The supply unit includes a liquid supply source provided outside the cleaning device 200 and a hose 251 that connects the supply source and the nozzle 204.

昇降機構２１４は、いわゆるパンタグラフである。昇降機構２１４は、パンタグラフを構成する複数のリンク２１５を有している。具体的には、交差する状態で長手方向中央部が回転自在に連結された２つのリンク２１５を１組として、一の組の２つのリンク２１５の長手方向端部が別の組の２つのリンク２１５の長手方向端部とそれぞれ回転自在に連結されている。最下位の組の２つのリンク２１５の長手方向一端部（別の組のリンクが連結されていない端部）にはそれぞれ、比較的短いリンク２１５が回転自在に連結されている。これらの短いリンク２１５には、ノズル２０４（詳しくは、ノズル本体２４１）が連結されている。昇降機構２１４は、清掃機構２０３においてノズル２０４を支持する支持部としても機能する。 The elevating mechanism 214 is a so-called pantograph. The lifting mechanism 214 has a plurality of links 215 that constitute a pantograph. Specifically, two links 215 whose longitudinal center portions are rotatably connected in an intersecting state are defined as one set, and the longitudinal ends of the two links 215 of one set are connected to two links of another set. 215, respectively, and are rotatably connected to the longitudinal ends thereof. A relatively short link 215 is rotatably connected to one end in the longitudinal direction of the two links 215 in the lowest group (ends to which links in another group are not connected). The nozzle 204 (specifically, the nozzle body 241) is connected to these short links 215. The elevating mechanism 214 also functions as a support section that supports the nozzle 204 in the cleaning mechanism 203.

最上位の組の２つのリンク２１５の長手方向一端部（別の組のリンクが連結されていない端部）は、フレーム２１２に連結されている。フレーム２１２は、ベース２１１からＺ軸方向に延びる一対の縦フレーム２１２ａと、一対の縦フレーム２１２ａの上端部に接続され、Ｘ軸方向に延びる横フレーム２１２ｂとを有している。最上位の組の一方のリンク２１５（以下、「第１リンク２１５Ａ」と称する）は、回転自在且つＸ軸方向に摺動不能な状態で横フレーム２１２ｂに連結されている。最上位の組の他方のリンク２１５（以下、「第２リンク２１５Ｂ」と称する）は、回転自在且つＸ軸方向に摺動可能な状態で横フレーム２１２ｂに連結されている（図２０の矢印参照）。 One end in the longitudinal direction of the two links 215 in the uppermost set (an end to which a link in another set is not connected) is connected to the frame 212. The frame 212 includes a pair of vertical frames 212a extending in the Z-axis direction from the base 211, and a horizontal frame 212b connected to the upper ends of the pair of vertical frames 212a and extending in the X-axis direction. One link 215 of the uppermost set (hereinafter referred to as "first link 215A") is connected to the horizontal frame 212b in a rotatable but non-slidable manner in the X-axis direction. The other link 215 in the uppermost set (hereinafter referred to as "second link 215B") is connected to the horizontal frame 212b in a rotatable and slidable state in the X-axis direction (see the arrow in FIG. 20). ).

第２リンク２１５Ｂは、駆動部（図示省略）によって、横フレーム２１２ｂに沿ってＸ軸方向へ移動させられる。第２リンク２１５Ｂの長手方向一端部が第１リンク２１５Ａの長手方向一端部から離れる方向へ移動させられると、パンタグラフ全体のＺ軸方向寸法が縮まり、その結果、ノズル２０４が上昇する。一方、第２リンク２１５Ｂの長手方向一端部が第１リンク２１５Ａの長手方向一端部へ近づく方向へ移動させられると、パンタグラフ全体のＺ軸方向寸法が大きくなり、その結果、ノズル２０４が降下する。 The second link 215B is moved in the X-axis direction along the horizontal frame 212b by a drive unit (not shown). When the one longitudinal end of the second link 215B is moved away from the one longitudinal end of the first link 215A, the Z-axis dimension of the entire pantograph is reduced, and as a result, the nozzle 204 is raised. On the other hand, when the one longitudinal end of the second link 215B is moved in a direction approaching the one longitudinal end of the first link 215A, the Z-axis direction dimension of the entire pantograph increases, and as a result, the nozzle 204 descends.

昇降機構２１４のＹ軸方向の寸法は、２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも小さい一方、昇降機構２１４のＸ軸方向の寸法は、２本の管Ｐの間隔ＧＶよりも大きい。清掃装置２００のＸ軸方向と管群ＱのＵ軸方向とが一致する場合には、昇降機構２１４は、２本の管Ｐの間に進入することができる。 The dimension of the elevating mechanism 214 in the Y-axis direction is smaller than the distance G V between the two pipes P, while the dimension of the elevating mechanism 214 in the X-axis direction is larger than the distance G V between the two pipes P. When the X-axis direction of the cleaning device 200 and the U-axis direction of the tube group Q match, the elevating mechanism 214 can enter between the two pipes P.

続いて、清掃装置２００の動作について説明する。図２１は、清掃機構２０３が管Ｐを清掃している状態をＹ軸方向を向いて見た図である。 Next, the operation of the cleaning device 200 will be explained. FIG. 21 is a view of the state in which the cleaning mechanism 203 is cleaning the pipe P, looking in the Y-axis direction.

清掃装置２００は、２本の管Ｐの間に清掃機構２０３を降下及び上昇させることによって、２本の管Ｐ及び２本の管Ｐの下方に配列された管Ｐを清掃する。２本のクローラ２１が２本の管Ｐ上に管Ｐと平行な状態で載り、且つ、ノズル２０４がＶ軸方向において２本の管Ｐの間に位置する状態から清掃が開始される。 The cleaning device 200 cleans the two pipes P and the pipes P arranged below the two pipes P by lowering and raising the cleaning mechanism 203 between the two pipes P. Cleaning is started from a state in which the two crawlers 21 are placed on the two pipes P in parallel with the pipes P, and the nozzle 204 is located between the two pipes P in the V-axis direction.

ノズル２０４が昇降機構２１４によって２本の管Ｐの間に降下させられる。このとき、ノズル２０４からは液体が噴射されている。噴射された液体は、管Ｐの表面の付着物を除去する。ノズル２０４は、Ｚ軸と交差する方向に液体を噴射しているので、ノズル２０４の進行方向に沿って配列された（即ち、Ｗ軸方向に配列された）複数の管Ｐの間に液体を噴射して、該複数の管Ｐの間に存在する付着物を除去すると共に該複数の管Ｐの表面の付着物を除去する。その結果、ノズル２０４は、管Ｐの表面のうち、ノズル２０４が通過するスペースに面している部分だけでなく、該スペースからノズル２０４の進行方向と交差する方向（例えば、Ｖ軸方向）に離れた部分（即ち、奥まった部分）に付着した付着物も除去する。ノズル２０４は、軸心Ｈを中心に放射状に液体を噴射するので、Ｖ軸方向においてノズル２０４の両側の管Ｐの付着物を除去する。 The nozzle 204 is lowered between the two pipes P by a lifting mechanism 214. At this time, liquid is being sprayed from the nozzle 204. The jetted liquid removes deposits on the surface of the pipe P. Since the nozzle 204 injects liquid in a direction intersecting the Z-axis, the liquid is injected between the plurality of pipes P arranged along the traveling direction of the nozzle 204 (that is, arranged in the W-axis direction). By spraying, the deposits existing between the plurality of pipes P are removed, and also the deposits on the surfaces of the plurality of pipes P are removed. As a result, the nozzle 204 not only extends from the surface of the pipe P facing the space through which the nozzle 204 passes, but also from the space in a direction intersecting the traveling direction of the nozzle 204 (for example, in the V-axis direction). Also remove deposits that have adhered to distant areas (that is, deep areas). Since the nozzle 204 injects liquid radially around the axis H, deposits on the pipes P on both sides of the nozzle 204 in the V-axis direction are removed.

こうして、ノズル２０４は、管Ｐの側方をＷ軸方向に通過することによって、管Ｐの表面のうち概ね半周部分の付着物を除去していく。 In this way, the nozzle 204 passes along the side of the tube P in the W-axis direction, thereby removing deposits from approximately half the circumference of the surface of the tube P.

ノズル２０４は、清掃対象の管Ｐのうち最も下方の管Ｐを通過するまで降下すると、昇降機構２１４によって上昇させられる。ノズル２０４が上昇する際にも、ノズル２０４は、管Ｐに液体を噴射して、管Ｐの付着物を削り落としていく。つまり、ノズル２０４は、降下時と上昇時との両方で管Ｐの表面を清掃する。 When the nozzle 204 descends until it passes through the lowermost pipe P among the pipes P to be cleaned, it is raised by the elevating mechanism 214 . Even when the nozzle 204 moves up, the nozzle 204 injects liquid onto the pipe P to scrape off the deposits on the pipe P. That is, the nozzle 204 cleans the surface of the pipe P both when descending and when ascending.

ノズル２０４の上下の往復が終了すると、清掃装置２００は、２本の管Ｐに沿ってＵ軸方向へ所定量だけ移動する。その後、ノズル２０４は、再度、降下及び上昇を実行する。つまり、ノズル２０４は、管Ｐのうち、先のノズル２０４の降下及び上昇時とはＵ軸方向位置が異なる部分を清掃する。 When the nozzle 204 has finished reciprocating up and down, the cleaning device 200 moves by a predetermined amount in the U-axis direction along the two pipes P. After that, the nozzle 204 performs the lowering and raising again. That is, the nozzle 204 cleans a portion of the pipe P whose position in the U-axis direction is different from that when the nozzle 204 was lowered and raised earlier.

清掃装置２００は、清掃装置１００と同様に、Ｕ軸方向の位置を変更しながらノズル２０４の降下及び上昇を繰り返していき、清掃装置２００が載置された２本の管ＰのＵ軸方向の一端部から他端部までの移動を終了する。続いて、清掃装置２００は、Ｖ軸方向へ移動し、ノズル２０４を異なる２本の管Ｐの間に配置させ、新たな２本の管Ｐ及びその下方の管Ｐに対して前述と同様の清掃を行う。こうして、清掃装置２００は、清掃装置２００が載置される２本の管Ｐを変更しながら前述の清掃を繰り返すことによって、管群Ｑに含まれる管Ｐの清掃を行う。 Similar to the cleaning device 100, the cleaning device 200 repeats lowering and raising of the nozzle 204 while changing the position in the U-axis direction, and moves the two pipes P on which the cleaning device 200 is placed in the U-axis direction. The movement from one end to the other ends. Subsequently, the cleaning device 200 moves in the V-axis direction, places the nozzle 204 between two different pipes P, and performs the same operation as described above on the new two pipes P and the pipe P below them. Perform cleaning. In this way, the cleaning device 200 cleans the tubes P included in the tube group Q by repeating the above-mentioned cleaning while changing the two tubes P on which the cleaning device 200 is placed.

このように構成された清掃装置２００において、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄは、清掃装置１００と同様に配置されている。清掃装置２００は、第１管Ｐ１との相対距離を検出する第１センサ７１ａと第２管Ｐ２との相対距離を検出する第２センサ７１ｂとを設けることによって、１つの管Ｐに対する清掃機構２０３の相対位置ではなく、第１管Ｐ１及び第２管Ｐ２に対する清掃機構２０３の相対位置を求めることができる。その結果、清掃機構２０３を、配列方向において第１管Ｐ１と第２管Ｐ２との間に適切に配置することができる。ひいては、清掃機構２０３を第１管Ｐ１と第２管Ｐ２との隙間に適切に進入させることができる。その他、配列方向における第１管Ｐ１及び第２管Ｐ２に対する清掃機構２０３の相対位置、及び、２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きに関し、清掃装置２００は、清掃装置１００と同様の作用効果を奏する。 In the cleaning device 200 configured in this manner, the first to fourth sensors 71a to 71d are arranged similarly to the cleaning device 100. The cleaning device 200 has a cleaning mechanism 203 for one pipe P by providing a first sensor 71a that detects the relative distance to the first pipe P1 and a second sensor 71b that detects the relative distance to the second pipe P2. The relative position of the cleaning mechanism 203 with respect to the first pipe P1 and the second pipe P2 can be determined instead of the relative position of the cleaning mechanism 203 with respect to the first pipe P1 and the second pipe P2. As a result, the cleaning mechanism 203 can be appropriately disposed between the first pipe P1 and the second pipe P2 in the arrangement direction. Consequently, the cleaning mechanism 203 can be appropriately entered into the gap between the first pipe P1 and the second pipe P2. In addition, the cleaning device 200 is similar to the cleaning device 100 with respect to the relative position of the cleaning mechanism 203 with respect to the first pipe P1 and the second pipe P2 in the arrangement direction, and the inclination of the traveling mechanism 2 in the traveling direction with respect to the two pipes P. It has the following effects.

以上のように、清掃装置２００は、装置本体２０１と、装置本体２０１に設けられ、管群Ｑに含まれる、所定の配列方向に配列された複数の管Ｐの上を走行する走行機構２と、装置本体１から降下して、複数の管Ｐに含まれる２本の管Ｐの隙間から管群Ｑ内に進入して、管Ｐの表面の付着物を清掃する清掃機構２０３と、装置本体２０１に設けられ、２本の管Ｐの一方の管Ｐである第１管Ｐ１に対する配列方向の相対位置を検出する第１センサ７１ａと、装置本体２０１に設けられ、２本の管Ｐの他方の管Ｐである第２管Ｐ２に対する配列方向の相対位置を検出する第２センサ７１ｂとを備える。 As described above, the cleaning device 200 includes the device main body 201, the traveling mechanism 2 provided in the device main body 201, and running on a plurality of pipes P arranged in a predetermined arrangement direction and included in the pipe group Q. , a cleaning mechanism 203 that descends from the device body 1 and enters the tube group Q through a gap between two tubes P included in the plurality of tubes P to clean deposits on the surface of the tubes P; and the device body A first sensor 71a is provided on the device main body 201 and detects the relative position of the two pipes P in the arrangement direction with respect to the first pipe P1, which is one of the pipes P. and a second sensor 71b that detects the relative position in the arrangement direction with respect to the second pipe P2, which is the pipe P.

この構成によれば、第１センサ７１ａにより検出される相対位置と第２センサ７１ｂにより検出される相対位置に基づいて、配列方向における第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２に対する装置本体２０１の相対位置を求めることができる。清掃機構２０３は装置本体２０１に設けられているので、結果として、配列方向における第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２に対する清掃機構２０３の相対位置が求められる。このように、第１センサ７１ａと第２センサ７１ｂの２つのセンサを設けることによって、１つの管Ｐに対する清掃機構２０３の相対位置ではなく、第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２に対する清掃機構２０３の相対位置が求められる。これにより、清掃機構２０３を配列方向において第１管Ｐ１と第２管Ｐ２との間の適切な位置に配置することができる。その結果、管Ｐ上を走行する走行機構２の移動精度を向上させることができる。 According to this configuration, the relative position of the device main body 201 with respect to the first and second pipes P1 and P2 in the arrangement direction is based on the relative position detected by the first sensor 71a and the relative position detected by the second sensor 71b. can be found. Since the cleaning mechanism 203 is provided in the apparatus main body 201, the relative position of the cleaning mechanism 203 with respect to the first and second pipes P1 and P2 in the arrangement direction is determined as a result. In this way, by providing two sensors, the first sensor 71a and the second sensor 71b, the position of the cleaning mechanism 203 with respect to the first and second pipes P1 and P2 can be changed, rather than the relative position of the cleaning mechanism 203 with respect to one pipe P. Relative position is required. Thereby, the cleaning mechanism 203 can be arranged at an appropriate position between the first pipe P1 and the second pipe P2 in the arrangement direction. As a result, the movement accuracy of the traveling mechanism 2 traveling on the pipe P can be improved.

《その他の実施形態》
以上のように、本出願において開示する技術の例示として、前記実施形態を説明した。しかしながら、本開示における技術は、これに限定されず、適宜、変更、置き換え、付加、省略などを行った実施の形態にも適用可能である。また、前記実施形態で説明した各構成要素を組み合わせて、新たな実施の形態とすることも可能である。また、添付図面および詳細な説明に記載された構成要素の中には、課題解決のために必須な構成要素だけでなく、前記技術を例示するために、課題解決のためには必須でない構成要素も含まれ得る。そのため、それらの必須ではない構成要素が添付図面や詳細な説明に記載されていることをもって、直ちに、それらの必須ではない構成要素が必須であるとの認定をするべきではない。 《Other embodiments》
As mentioned above, the embodiment has been described as an example of the technology disclosed in this application. However, the technology in the present disclosure is not limited to this, and can also be applied to embodiments in which changes, replacements, additions, omissions, etc. are made as appropriate. Furthermore, it is also possible to create a new embodiment by combining the components described in the above embodiments. In addition, some of the components described in the attached drawings and detailed description include not only components that are essential for solving the problem, but also components that are not essential for solving the problem in order to exemplify the technology. may also be included. Therefore, just because these non-essential components are described in the accompanying drawings or detailed description, it should not be immediately determined that those non-essential components are essential.

例えば、走行機構２又は昇降機構１４，２１４の構成は、前述の構成に限られるものではない。例えば、走行機構２は、クローラではなく、車輪であってもよい。昇降機構１４は、ウインチではなく、ラックアンドピニオンやパンタグラフであってもよい。昇降機構２１４は、パンタグラフではなく、ウインチやラックアンドピニオンであってもよい。 For example, the configuration of the traveling mechanism 2 or the elevating mechanism 14, 214 is not limited to the above-described configuration. For example, the traveling mechanism 2 may be a wheel instead of a crawler. The lifting mechanism 14 may be a rack and pinion or a pantograph instead of a winch. The elevating mechanism 214 may be a winch or a rack and pinion instead of a pantograph.

清掃機構３が備える清掃ユニット４の個数は、３個に限られるものではない。清掃ユニット４は、１個、２個又は４個以上であってもよい。清掃機構３の昇降方向、即ち、Ｚ軸方向における各清掃ユニット４の位置は、前述の位置に限られるものではない。例えば、３個の清掃ユニット４のＺ軸方向の位置は、同じであってもよい。あるいは、３個の清掃ユニット４のＺ軸方向の位置は、全て異なっていてもよい。 The number of cleaning units 4 included in the cleaning mechanism 3 is not limited to three. The number of cleaning units 4 may be one, two, or four or more. The position of each cleaning unit 4 in the ascending and descending direction of the cleaning mechanism 3, that is, in the Z-axis direction, is not limited to the above-mentioned positions. For example, the positions of the three cleaning units 4 in the Z-axis direction may be the same. Alternatively, the positions of the three cleaning units 4 in the Z-axis direction may all be different.

清掃ユニット４の構成は、前述の構成に限られるものではない。例えば、清掃ユニット４が有するスクレーパ３４の個数は、３個に限られず、１個、２個又は４個以上であってもよい。清掃ユニット４は、円板３５又は掘削部３６を有していなくてもよい。前述の清掃ユニット４は、４枚の円板３５によって形成される３つの隙間のそれぞれに複数のスクレーパ３４が設けられている。つまり、３組のスクレーパ３４が設けられている。しかし、スクレーパ３４の組数は、１組、２組又は４組以上であってもよい。 The configuration of the cleaning unit 4 is not limited to the above-described configuration. For example, the number of scrapers 34 that the cleaning unit 4 has is not limited to three, and may be one, two, or four or more. The cleaning unit 4 does not need to have the disc 35 or the excavation part 36. In the cleaning unit 4 described above, a plurality of scrapers 34 are provided in each of the three gaps formed by the four discs 35. That is, three sets of scrapers 34 are provided. However, the number of scrapers 34 may be one, two, or four or more.

スクレーパ３４の形状は、円弧状でなく、例えば直線状であってもよい。スクレーパ３４は、揺動する構成ではなく、摺動する構成であってもよい。例えば、スクレーパ３４に長孔が形成され、２つの円板３５の間に設けられたピンが長孔に挿通されるようにスクレーパ３４がピンに連結される構成であってもよい。この構成の場合、スクレーパ３４は、長孔内をピンが相対的に移動するようにピンに対して摺動可能である。スクレーパ３４が摺動可能な構成であれば、回転シャフト３２の遠心力がスクレーパ３４に作用すると、スクレーパ３４は遠心力に従って摺動し、半径方向外側へ拡がる。 The shape of the scraper 34 may not be arcuate but may be linear, for example. The scraper 34 may have a sliding configuration instead of a swinging configuration. For example, an elongated hole may be formed in the scraper 34, and the scraper 34 may be connected to the pin so that the pin provided between the two discs 35 is inserted through the elongated hole. In this configuration, the scraper 34 is slidable relative to the pin such that the pin moves relative to each other within the slot. If the scraper 34 is configured to be slidable, when the centrifugal force of the rotating shaft 32 acts on the scraper 34, the scraper 34 will slide according to the centrifugal force and expand radially outward.

清掃機構３は、ガイド５を備えているが、ガイド５を備えていなくてもよい。ガイド５の構成は、前述の構成に限られるものではない。ガイド５は、リンク６を有していなくてもよい。例えば、ブレード５１は、フレーム３１に対して摺動可能に連結され、且つ、バネ等でＹ軸方向外側へ付勢された構成であってもよい。 Although the cleaning mechanism 3 includes the guide 5, it may not include the guide 5. The configuration of the guide 5 is not limited to the above-described configuration. The guide 5 does not need to have the link 6. For example, the blade 51 may be slidably connected to the frame 31 and biased outward in the Y-axis direction by a spring or the like.

ノズル２０４の構成は、前述の構成に限られるものではない。噴口２４２の個数及び配置は、任意に設定することができる。また、清掃機構２０３は、ノズル２０４を複数有していてもよい。複数のノズル２０４が設けられている場合、複数のノズル２０４のＺ軸方向位置は、一致していなくてもよい。その場合、清掃装置１００と同様に、走行機構２が２本の管Ｐに沿って走行する際には複数のノズル２０４が２本の管Ｐの間に進入しており、走行機構２が旋回する際には最も下方に位置するノズル２０４だけが２本の管Ｐの間に進入していてもよい。 The configuration of the nozzle 204 is not limited to the above-described configuration. The number and arrangement of the nozzles 242 can be set arbitrarily. Further, the cleaning mechanism 203 may have a plurality of nozzles 204. When a plurality of nozzles 204 are provided, the positions of the plurality of nozzles 204 in the Z-axis direction do not need to match. In that case, similarly to the cleaning device 100, when the traveling mechanism 2 travels along the two pipes P, the plurality of nozzles 204 enter between the two pipes P, and the traveling mechanism 2 rotates. In this case, only the lowest nozzle 204 may enter between the two pipes P.

また、清掃機構２０３のノズル２０４から噴射する物質は、液体に限られない。例えば、ノズル２０４は、空気等の気体や、管Ｐの清掃に適した粒体を噴射してもよい。ここで、「粒体」とは、粉のような微粒子も含む。例えば、「粒体」は、金属又はセラミック等の微小な球体である。 Further, the substance sprayed from the nozzle 204 of the cleaning mechanism 203 is not limited to liquid. For example, the nozzle 204 may spray a gas such as air or particles suitable for cleaning the pipe P. Here, the term "granules" includes fine particles such as powder. For example, "particles" are minute spheres made of metal, ceramic, or the like.

センサ７１の個数は、４個に限定されない。例えば、第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄが省略されてもよい。あるいは、さらにもう２つのセンサ７１が設けられてもよい。 The number of sensors 71 is not limited to four. For example, the third and fourth sensors 71c and 71d may be omitted. Alternatively, two more sensors 71 may be provided.

センサ７１は、渦電流センサに限定されない。レーザ等を用いた光学式センサ又は超音波を用いた超音波センサであってもよい。 Sensor 71 is not limited to an eddy current sensor. An optical sensor using a laser or the like or an ultrasonic sensor using ultrasonic waves may be used.

配列方向の位置が異なる２つのセンサ７１（第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂ又は第３及び第４センサ７１ｃ，７１ｄ）の配置は、前述の配置に限定されない。例えば、２つのセンサ７１の配列方向のピッチＭは、２本の管Ｐの配列方向のピッチＮよりも大きくてもよい。このような構成であっても、配列方向における第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂと第１及び第２管Ｐ１，Ｐ２との相対位置の変化に応じて、第１センサ７１ａの検出距離Ｓ１と第２センサ７１ｂの検出距離Ｓ２との相対関係、例えば、第１距離差ΔＳ１が変化する。 The arrangement of the two sensors 71 (first and second sensors 71a, 71b or third and fourth sensors 71c, 71d) having different positions in the arrangement direction is not limited to the above-mentioned arrangement. For example, the pitch M of the two sensors 71 in the arrangement direction may be larger than the pitch N of the two pipes P in the arrangement direction. Even with such a configuration, the detection distance S1 of the first sensor 71a changes depending on the change in the relative position between the first and second sensors 71a, 71b and the first and second pipes P1, P2 in the arrangement direction. The relative relationship with the detection distance S2 of the second sensor 71b, for example, the first distance difference ΔS1 changes.

センサ７１の向きは、鉛直下方に限定されない。センサ７１は、斜め下方を向くように配置されていてもよい。 The orientation of the sensor 71 is not limited to vertically downward. The sensor 71 may be arranged so as to face diagonally downward.

配列方向の位置が異なる２つのセンサ７１は、走行方向における位置がそれぞれ異なっていてもよい。 The two sensors 71 having different positions in the arrangement direction may have different positions in the running direction.

ビジョンセンサ８は、省略されてもよい。清掃装置１００，２００は、走行機構２の傾きを調整しなくてもよい。清掃機構３の配列方向位置が位置範囲から外れてしまうことを未然に防止することができなくなるものの、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂの検出距離に基づいて清掃機構３の配列方向位置を調整することによって、清掃機構３を２つの管Ｐの隙間に適切に進入させることができる。ただし、配列方向の位置が異なる２つのセンサ７１を、走行方向の位置が異なる複数個所に設けることによって、それらのセンサ７１の検出距離に基づいて走行機構２の傾きを求めることができる。その場合には、清掃装置１００，２００は、走行機構２の傾きを調整する。 Vision sensor 8 may be omitted. The cleaning devices 100 and 200 do not need to adjust the inclination of the traveling mechanism 2. Although it is not possible to prevent the position of the cleaning mechanism 3 in the array direction from going out of the position range, it is possible to adjust the position of the cleaning mechanism 3 in the array direction based on the detection distances of the first and second sensors 71a and 71b. By doing so, the cleaning mechanism 3 can be appropriately entered into the gap between the two pipes P. However, by providing two sensors 71 with different positions in the array direction at a plurality of locations with different positions in the traveling direction, the inclination of the traveling mechanism 2 can be determined based on the detection distances of these sensors 71. In that case, the cleaning devices 100, 200 adjust the inclination of the traveling mechanism 2.

また、４個のセンサ７１とビジョンセンサ８との組み合わせではなく、２個のセンサ７１（例えば、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂ）とビジョンセンサ８との組み合わせであってもよい。この場合、２個のセンサ７１の検出距離に基づいて清掃機構３の配列方向位置が判定され、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて走行機構２の傾きが判定される。 Further, instead of a combination of four sensors 71 and vision sensor 8, a combination of two sensors 71 (for example, first and second sensors 71a, 71b) and vision sensor 8 may be used. In this case, the position of the cleaning mechanism 3 in the array direction is determined based on the detection distances of the two sensors 71, and the inclination of the traveling mechanism 2 is determined based on the image acquired by the vision sensor 8.

また、第１条件及び第２条件は、任意に設定し得る。例えば、第１条件及び第２条件は、段階的に設定された条件であり、第２条件の方が第１条件よりも厳しい条件である。あるいは、第１条件は、ビジョンセンサ８の検出結果に基づいて判定される条件であり、第２条件は、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの検出結果に基づいて判定される条件である。 Moreover, the first condition and the second condition can be set arbitrarily. For example, the first condition and the second condition are conditions set in stages, and the second condition is stricter than the first condition. Alternatively, the first condition is a condition determined based on the detection result of the vision sensor 8, and the second condition is a condition determined based on the detection result of the first to fourth sensors 71a to 71d.

第２条件を判定する前に、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの全てが管Ｐまでの距離を検出できるか否かが判定されてもよい。第１～第４センサ７１ａ～７１ｄのうちいずれかのセンサが管Ｐまでの距離を検出できない場合、第２条件が満たされているか否かを判定することができない。第１～第４センサ７１ａ～７１ｄの全てが管Ｐまでの距離を検出しているか否かは、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄのそれぞれの検出結果が適切な範囲（即ち、センサ７１が管Ｐまでの距離を検出できている場合の出力範囲）に入っているか、あるいは、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて判定された走行機構２又は清掃機構３の位置が２本の管Ｐに対して適切な位置範囲（即ち、第１～第４センサ７１ａ～７１ｄが管Ｐまでの距離を検出できる位置範囲）に入っているかによって判定され得る。第１～第４センサ７１ａ～７１ｄのうちいずれかのセンサが管Ｐまでの距離を検出できない場合には、処理部９１は、ビジョンセンサ８の取得画像に基づいて判定された走行機構２又は清掃機構３の位置が２本の管Ｐに対して適切な位置範囲に入るように２本のクローラ２１の駆動力を算出して、清掃機構３の位置を調整してもよい。あるいは、本体コントローラ９は、警報を発して、ユーザへ手動による清掃機構３の位置の調整を促してもよい。 Before determining the second condition, it may be determined whether all of the first to fourth sensors 71a to 71d can detect the distance to the pipe P. If any one of the first to fourth sensors 71a to 71d cannot detect the distance to the pipe P, it cannot be determined whether the second condition is satisfied. Whether or not all of the first to fourth sensors 71a to 71d are detecting the distance to the pipe P is determined by the detection results of each of the first to fourth sensors 71a to 71d being within an appropriate range (that is, if the sensor 71 is (output range when the distance to the pipes P can be detected), or the position of the traveling mechanism 2 or cleaning mechanism 3 determined based on the acquired image of the vision sensor 8 is within the two pipes P. It can be determined whether the distance to the pipe P is within an appropriate position range (that is, a position range in which the first to fourth sensors 71a to 71d can detect the distance to the pipe P). When any one of the first to fourth sensors 71a to 71d cannot detect the distance to the pipe P, the processing unit 91 detects the traveling mechanism 2 or cleaning distance determined based on the image acquired by the vision sensor 8. The position of the cleaning mechanism 3 may be adjusted by calculating the driving forces of the two crawlers 21 so that the position of the mechanism 3 falls within an appropriate position range with respect to the two pipes P. Alternatively, the main body controller 9 may issue an alarm to prompt the user to manually adjust the position of the cleaning mechanism 3.

第１条件及び第２条件が満たされるように走行機構２の駆動力の調整を行うタイミングは、２本の管Ｐに沿った所定量の移動が所定回数行われたとき（即ち、ステップＳ８の判定）に限定されない。例えば、走行機構２の移動時に並行して、第１条件及び第２条件が満たされているかを監視して、第１条件及び第２条件が満たされるように走行機構２の駆動力を調整してもよい。 The timing for adjusting the driving force of the traveling mechanism 2 so that the first condition and the second condition are satisfied is when a predetermined amount of movement along the two pipes P has been performed a predetermined number of times (i.e., in step S8). judgment). For example, in parallel with the movement of the traveling mechanism 2, it is monitored whether the first condition and the second condition are satisfied, and the driving force of the traveling mechanism 2 is adjusted so that the first condition and the second condition are satisfied. You can.

本体コントローラ９は、第１条件及び第２条件が満たされるように走行機構２を制御しているが、これに限定されない。本体コントローラ９は、配列方向における２本の管Ｐに対する清掃機構３の相対位置等を求めるだけで、走行機構２を制御しなくてもよい。例えば、本体コントローラ９は、第１及び第２センサ７１ａ，７１ｂによる検出距離、若しくは、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出距離に基づいて配列方向における２本の管Ｐに対する清掃機構３の相対位置を求め、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出結果に基づいて２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きを求め、又は、ビジョンセンサ８によって取得された画像に基づいて２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きを求め、求めた結果を出力（例えば、表示）してもよい。あるいは、本体コントローラ９は、ビジョンセンサ８によって取得された画像に基づいて２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きが第１傾斜範囲に入っているか否かを判定すると共に、第１、第２、第３及び第４センサ７１ａ，７１ｂ，７１ｃ，７１ｄによる検出結果に基づいて２本の管Ｐに対する走行機構２の走行方向の傾きが第２傾斜範囲に入っているか否かを判定してもよい。オペレータは、本体コントローラ９によって求められた結果又は判定され結果に基づいて、外部コントローラ９８を操作して走行機構２を操縦してもよい。 Although the main body controller 9 controls the traveling mechanism 2 so that the first condition and the second condition are satisfied, the present invention is not limited thereto. The main body controller 9 only needs to determine the relative position of the cleaning mechanism 3 with respect to the two pipes P in the arrangement direction, and does not need to control the traveling mechanism 2. For example, the main body controller 9 may detect distances detected by the first and second sensors 71a and 71b, or based on the detected distances detected by the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d in the arrangement direction. The relative position of the cleaning mechanism 3 with respect to the two pipes P is determined, and the position of the traveling mechanism 2 with respect to the two pipes P is determined based on the detection results by the first, second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d. Alternatively, the inclination of the traveling direction of the traveling mechanism 2 with respect to the two pipes P may be determined based on the image acquired by the vision sensor 8, and the determined result may be output (for example, displayed). good. Alternatively, the main body controller 9 determines whether the inclination of the traveling direction of the traveling mechanism 2 with respect to the two pipes P is within the first inclination range based on the image acquired by the vision sensor 8, and , determine whether the inclination of the traveling direction of the traveling mechanism 2 with respect to the two pipes P is within the second inclination range based on the detection results by the second, third, and fourth sensors 71a, 71b, 71c, and 71d. You may. The operator may manipulate the traveling mechanism 2 by operating the external controller 98 based on the results obtained or determined by the main body controller 9.

管Ｐは、円管に限定されない。センサ７１が渦電流センサである場合には、角管であっても、配列方向におけるセンサ７１と管Ｐとの相対位置に応じて、管Ｐのうちセンサ７１の検出範囲に存在する部分の大きさが変化するので、センサ７１によって管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出することができる。センサ７１が渦電流センサでない場合であっても、（すなわち、センサ７１が光学式センサ等であっても）、管の表面から走行機構２の走行面までの距離が配列方向の位置に応じて変化する形状の管であれば、配列方向におけるセンサ７１と管Ｐとの相対位置に応じてセンサ７１から管Ｐの表面までの距離が変化する。そのため、センサ７１によって管Ｐに対する配列方向の相対位置を検出することができる。 The pipe P is not limited to a circular pipe. When the sensor 71 is an eddy current sensor, even if it is a square tube, the size of the portion of the tube P that exists within the detection range of the sensor 71 may vary depending on the relative position between the sensor 71 and the tube P in the arrangement direction. Since the height changes, the sensor 71 can detect the relative position with respect to the tube P in the arrangement direction. Even if the sensor 71 is not an eddy current sensor (that is, even if the sensor 71 is an optical sensor, etc.), the distance from the surface of the tube to the running surface of the running mechanism 2 depends on the position in the arrangement direction. If the tube has a variable shape, the distance from the sensor 71 to the surface of the tube P changes depending on the relative position between the sensor 71 and the tube P in the arrangement direction. Therefore, the sensor 71 can detect the relative position with respect to the pipe P in the arrangement direction.

１００，２００ 清掃装置
１，２０１ 装置本体
２ 走行機構
３，２０３ 清掃機構
７１ａ 第１センサ
７１ｂ 第２センサ
７１ｃ 第３センサ
７１ｄ 第４センサ
９ 本体コントローラ（制御部）
Ｐ 管
Ｑ 管群 100,200 Cleaning device 1,201 Device main body 2 Travel mechanism 3,203 Cleaning mechanism 71a First sensor 71b Second sensor 71c Third sensor 71d Fourth sensor 9 Main body controller (control unit)
P tube Q tube group

Claims (10)

装置本体と、
前記装置本体に設けられ、所定の配列方向に配列された複数の管の上を走行する走行機構と、
前記装置本体から降下して、前記複数の管に含まれる２本の管の間に進入して、管の表面の付着物を清掃する清掃機構と、
前記装置本体に設けられ、前記２本の管の一方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第１センサと、
前記装置本体に設けられ、前記２本の管の他方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第２センサと、
前記第１及び第２センサによる検出結果に基づいて、前記配列方向における前記２本の管に対する前記清掃機構の相対位置を求める制御部とを備え、
前記第１センサは、前記一方の管に対する前記配列方向の相対位置として、前記一方の管の表面までの距離を検出し、
前記第２センサは、前記他方の管に対する前記配列方向の相対位置として、前記他方の管の表面までの距離を検出し、
前記第１及び第２センサの前記配列方向のピッチは、前記配列方向における前記２本の管の間隔よりも大きく、且つ、前記配列方向における前記２本の管全体の寸法よりも小さく、且つ、前記２本の管の管軸間の距離と一致しない清掃装置。 The device body,
a traveling mechanism provided in the device main body and traveling on a plurality of tubes arranged in a predetermined arrangement direction;
a cleaning mechanism that descends from the device main body and enters between two pipes included in the plurality of pipes to clean deposits on the surface of the pipes;
a first sensor that is provided in the device main body and detects a relative position in the arrangement direction with respect to one of the two tubes;
a second sensor provided in the device main body and detecting the relative position of the two tubes in the arrangement direction with respect to the other tube ;
a control unit that determines the relative position of the cleaning mechanism with respect to the two pipes in the arrangement direction based on the detection results by the first and second sensors ,
The first sensor detects a distance to a surface of the one tube as a relative position in the arrangement direction with respect to the one tube,
The second sensor detects a distance to the surface of the other tube as a relative position in the arrangement direction with respect to the other tube,
The pitch of the first and second sensors in the arrangement direction is larger than the interval between the two pipes in the arrangement direction, and smaller than the entire dimension of the two pipes in the arrangement direction, and A cleaning device that does not match the distance between the tube axes of the two tubes . 装置本体と、
前記装置本体に設けられ、所定の配列方向に配列された複数の管の上を走行する走行機構と、
前記装置本体から降下して、前記複数の管に含まれる２本の管の間に進入して、管の表面の付着物を清掃する清掃機構と、
前記装置本体に設けられ、前記２本の管の一方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第１センサと、
前記装置本体に設けられ、前記２本の管の他方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第２センサと、
前記第１及び第２センサによる検出結果に基づいて、前記配列方向における前記２本の管に対する前記清掃機構の相対位置を求める制御部と、
前記走行機構の走行方向の位置が前記第１センサと異なる位置において前記装置本体に設けられ、前記一方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第３センサと、
前記走行機構の走行方向の位置が前記第２センサと異なる位置において前記装置本体に設けられ、前記他方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第４センサとを備える清掃装置。 The device body,
a traveling mechanism provided in the device main body and traveling on a plurality of tubes arranged in a predetermined arrangement direction;
a cleaning mechanism that descends from the device main body and enters between two pipes included in the plurality of pipes to clean deposits on the surface of the pipes;
a first sensor that is provided in the device main body and detects a relative position in the arrangement direction with respect to one of the two tubes;
a second sensor provided in the device main body and detecting the relative position of the two tubes in the arrangement direction with respect to the other tube;
a control unit that determines the relative position of the cleaning mechanism with respect to the two pipes in the arrangement direction based on detection results by the first and second sensors;
a third sensor that is provided in the apparatus main body at a position in the traveling direction of the traveling mechanism that is different from that of the first sensor, and that detects a relative position in the arrangement direction with respect to the one tube;
A cleaning device comprising : a fourth sensor that is provided in the device main body at a position in the traveling direction of the traveling mechanism that is different from that of the second sensor, and that detects a relative position in the arrangement direction with respect to the other pipe. 請求項２に記載の清掃装置において、
前記制御部は、前記第１、第２、第３及び第４センサによる検出結果に基づいて、前記配列方向における前記２本の管に対する前記清掃機構の相対位置を求める清掃装置。 The cleaning device according to claim 2 ,
The control unit is a cleaning device that determines the relative position of the cleaning mechanism with respect to the two pipes in the arrangement direction based on detection results from the first, second, third, and fourth sensors. 請求項２又は３に記載の清掃装置において、
前記制御部は、前記第１、第２、第３及び第４センサによる検出結果に基づいて、前記２本の管に対する前記走行機構の走行方向の傾きを求める清掃装置。 The cleaning device according to claim 2 or 3 ,
The control unit is a cleaning device that determines the inclination of the traveling mechanism in the running direction with respect to the two pipes based on the detection results from the first, second, third, and fourth sensors. 請求項４に記載の清掃装置において、
前記複数の管に載置された状態の前記走行機構及び前記装置本体の少なくも一方を撮像する撮像装置をさらに備え、
前記制御部は、前記撮像装置によって取得された画像に基づいて、前記２本の管に対する前記走行機構の走行方向の傾きが所定の第１傾斜範囲に入っているか否かを判定すると共に、前記第１、第２、第３及び第４センサによる検出結果に基づいて、前記２本の管に対する前記走行機構の走行方向の傾きが前記第１傾斜範囲よりも小さい第２傾斜範囲に入っているか否かを判定する清掃装置。 The cleaning device according to claim 4 ,
further comprising an imaging device that captures images of at least one of the travel mechanism and the device main body that are placed on the plurality of tubes,
The control unit determines whether the inclination of the traveling mechanism in the traveling direction with respect to the two tubes is within a predetermined first inclination range based on the image acquired by the imaging device, and Based on the detection results by the first, second, third, and fourth sensors, whether the inclination of the traveling direction of the traveling mechanism with respect to the two pipes is within a second inclination range that is smaller than the first inclination range. A cleaning device that determines whether 装置本体と、
前記装置本体に設けられ、所定の配列方向に配列された複数の管の上を走行する走行機構と、
前記装置本体から降下して、前記複数の管に含まれる２本の管の間に進入して、管の表面の付着物を清掃する清掃機構と、
前記装置本体に設けられ、前記２本の管の一方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第１センサと、
前記装置本体に設けられ、前記２本の管の他方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第２センサと、
前記第１及び第２センサによる検出結果に基づいて、前記配列方向における前記２本の管に対する前記清掃機構の相対位置を求める制御部と、
前記走行機構の走行方向の位置が前記第１センサと異なる位置において前記装置本体に設けられ、前記一方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第３センサと、
前記走行機構の走行方向の位置が前記第２センサと異なる位置において前記装置本体に設けられ、前記他方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第４センサとを備え、
前記制御部は、前記配列方向において前記清掃機構が所定の位置範囲に入るように、前記第１、第２、第３及び第４センサによる検出結果に基づいて前記走行機構を制御する清掃装置。 The device body,
a traveling mechanism provided in the device main body and traveling on a plurality of tubes arranged in a predetermined arrangement direction;
a cleaning mechanism that descends from the device main body and enters between two pipes included in the plurality of pipes to clean deposits on the surface of the pipes;
a first sensor that is provided in the device main body and detects a relative position in the arrangement direction with respect to one of the two tubes;
a second sensor provided in the device main body and detecting the relative position of the two tubes in the arrangement direction with respect to the other tube;
a control unit that determines the relative position of the cleaning mechanism with respect to the two pipes in the arrangement direction based on detection results by the first and second sensors;
a third sensor that is provided in the apparatus main body at a position in the traveling direction of the traveling mechanism that is different from that of the first sensor, and that detects a relative position in the arrangement direction with respect to the one tube;
a fourth sensor that is provided in the apparatus main body at a position where the traveling mechanism is located at a position different from that of the second sensor, and that detects a relative position in the arrangement direction with respect to the other tube;
The control unit is a cleaning device that controls the traveling mechanism based on detection results by the first, second, third, and fourth sensors so that the cleaning mechanism falls within a predetermined position range in the arrangement direction. 装置本体と、
前記装置本体に設けられ、所定の配列方向に配列された複数の管の上を走行する走行機構と、
前記装置本体から降下して、前記複数の管に含まれる２本の管の間に進入して、管の表面の付着物を清掃する清掃機構と、
前記装置本体に設けられ、前記２本の管の一方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第１センサと、
前記装置本体に設けられ、前記２本の管の他方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第２センサと、
前記第１及び第２センサによる検出結果に基づいて、前記配列方向における前記２本の管に対する前記清掃機構の相対位置を求める制御部と、
前記走行機構の走行方向の位置が前記第１センサと異なる位置において前記装置本体に設けられ、前記一方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第３センサと、
前記走行機構の走行方向の位置が前記第２センサと異なる位置において前記装置本体に設けられ、前記他方の管に対する前記配列方向の相対位置を検出する第４センサとを備え、
前記制御部は、
前記配列方向において前記清掃機構が所定の位置範囲に入るように、前記第１及び第２センサの検出結果に基づいて前記走行機構を制御し、
前記第１、第２、第３及び第４センサによる検出結果に基づいて前記走行機構を制御して、前記２本の管に対する前記走行機構の走行方向の傾きを調整する清掃装置。 The device body,
a traveling mechanism provided in the device main body and traveling on a plurality of tubes arranged in a predetermined arrangement direction;
a cleaning mechanism that descends from the device main body and enters between two pipes included in the plurality of pipes to clean deposits on the surface of the pipes;
a first sensor that is provided in the device main body and detects a relative position in the arrangement direction with respect to one of the two tubes;
a second sensor provided in the device main body and detecting the relative position of the two tubes in the arrangement direction with respect to the other tube;
a control unit that determines the relative position of the cleaning mechanism with respect to the two pipes in the arrangement direction based on detection results by the first and second sensors;
a third sensor that is provided in the apparatus main body at a position in the traveling direction of the traveling mechanism that is different from that of the first sensor, and that detects a relative position in the arrangement direction with respect to the one tube;
a fourth sensor that is provided in the apparatus main body at a position in the traveling direction of the traveling mechanism that is different from that of the second sensor, and that detects a relative position in the arrangement direction with respect to the other pipe;
The control unit includes:
controlling the traveling mechanism based on the detection results of the first and second sensors so that the cleaning mechanism enters a predetermined position range in the arrangement direction;
A cleaning device that controls the traveling mechanism based on detection results from the first, second, third, and fourth sensors to adjust the inclination of the traveling mechanism in the traveling direction with respect to the two pipes. 請求項７に記載の清掃装置において、
前記複数の管に載置された状態の前記走行機構及び前記装置本体の少なくも一方を撮像する撮像装置をさらに備え、
前記制御部は、
前記配列方向において前記清掃機構が所定の位置範囲に入るように、前記第１、第２、第３及び第４センサによる検出結果に基づいて前記走行機構を制御し、
前記２本の管に対する前記走行機構の走行方向の傾きが所定の第１傾斜範囲に入るように、前記撮像装置によって取得された画像に基づいて前記走行機構を制御し、
前記２本の管に対する前記走行機構の走行方向の傾きが前記第１傾斜範囲よりも小さい第２傾斜範囲に入るように、前記第１、第２、第３及び第４センサによる検出結果に基づいて前記走行機構を制御する清掃装置。 The cleaning device according to claim 7 ,
further comprising an imaging device that captures images of at least one of the travel mechanism and the device main body that are placed on the plurality of tubes,
The control unit includes:
controlling the traveling mechanism based on detection results by the first, second, third, and fourth sensors so that the cleaning mechanism enters a predetermined position range in the arrangement direction;
controlling the traveling mechanism based on the image acquired by the imaging device so that the inclination of the traveling mechanism in the traveling direction with respect to the two tubes falls within a predetermined first inclination range;
Based on the detection results by the first, second, third, and fourth sensors, such that the inclination of the running direction of the traveling mechanism with respect to the two pipes falls within a second inclination range that is smaller than the first inclination range. A cleaning device that controls the traveling mechanism. 請求項１に記載の清掃装置において、
前記第１及び第２センサは、前記管に発生する渦電流を検出する渦電流センサである清掃装置。 The cleaning device according to claim 1 ,
In the cleaning device, the first and second sensors are eddy current sensors that detect eddy currents generated in the pipe. 請求項２～８の何れか１つに記載の清掃装置において、
前記第１、第２、第３及び第４センサは、前記管に発生する渦電流を検出する渦電流センサである清掃装置。
 The cleaning device according to any one of claims 2 to 8 ,
In the cleaning device, the first, second, third, and fourth sensors are eddy current sensors that detect eddy currents generated in the pipe.
JP2020152963A 2020-09-11 2020-09-11 cleaning equipment Active JP7433174B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020152963A JP7433174B2 (en) 2020-09-11 2020-09-11 cleaning equipment
PCT/JP2021/030374 WO2022054525A1 (en) 2020-09-11 2021-08-19 Cleaning device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020152963A JP7433174B2 (en) 2020-09-11 2020-09-11 cleaning equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2022047189A JP2022047189A (en) 2022-03-24
JP7433174B2 true JP7433174B2 (en) 2024-02-19

Family

ID=80631571

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020152963A Active JP7433174B2 (en) 2020-09-11 2020-09-11 cleaning equipment

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP7433174B2 (en)
WO (1) WO2022054525A1 (en)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003176996A (en) 2001-12-07 2003-06-27 Kawasaki Heavy Ind Ltd Pipe cleaning device
JP2004251476A (en) 2003-02-18 2004-09-09 Jfe Engineering Kk Cleaning method and cleaning device
JP2019074228A (en) 2017-10-12 2019-05-16 日立造船株式会社 Cleaner
JP2019074227A (en) 2017-10-12 2019-05-16 日立造船株式会社 Cleaning mechanism

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1594518A (en) * 1926-01-08 1926-08-03 Hathaway Erving Boiler-tube-cleaning apparatus
JPS63243603A (en) * 1987-03-30 1988-10-11 バブコツク日立株式会社 Shifter among heat transfer tube group
JPH087033B2 (en) * 1988-03-17 1996-01-29 関西電力株式会社 Horizontal type parallel pipe cleaning device
JPH0355495A (en) * 1989-07-21 1991-03-11 Chubu Electric Power Co Inc Method and device for removing ash adhering to heat transfer pipe of boiler

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003176996A (en) 2001-12-07 2003-06-27 Kawasaki Heavy Ind Ltd Pipe cleaning device
JP2004251476A (en) 2003-02-18 2004-09-09 Jfe Engineering Kk Cleaning method and cleaning device
JP2019074228A (en) 2017-10-12 2019-05-16 日立造船株式会社 Cleaner
JP2019074227A (en) 2017-10-12 2019-05-16 日立造船株式会社 Cleaning mechanism

Also Published As

Publication number Publication date
JP2022047189A (en) 2022-03-24
WO2022054525A1 (en) 2022-03-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5823278B2 (en) Weld bead shaping device and shaping method thereof
JP6869162B2 (en) Cleaning mechanism
CN110823704A (en) TBM-carried rock slag online compressive strength testing system and method
JP7433174B2 (en) cleaning equipment
CN111201417B (en) Cleaning device
JPH09264877A (en) Automated ultrasonic flaw detecting equipment
SE534317C2 (en) Method and machine for machining joints in railways
JP6797052B2 (en) Groove filler spraying equipment and submerged arc welding equipment
KR100543316B1 (en) The SAW Narrow Gap Automatic Welding System Using Laser Vision Sensor
JP2012187599A (en) Remote laser processing device
JP6809492B2 (en) How to cut steel sheet
NL8801989A (en) METHOD AND APPARATUS FOR DETERMINING THE ESTABLISHABILITY OF SOIL, IN PARTICULAR SOUND UNDERWATER SOIL
JP2009041342A (en) Blade control device
KR101330298B1 (en) Skimmer for discharging slag from ladle
JP3060387B2 (en) Reclaimer bench-cut re-dispensing control method
KR102178742B1 (en) An apparatus for controlling a cleaning robot and a control method for the same
EP4163021A1 (en) Powder removal assembliy and method of removing unbound particles using a powder removal assembliy
EP1834045B1 (en) A method and a device for moving a jet member
JPH0663750A (en) Groove shape detector in submerged arc welding for thick steel plates
JP7259943B2 (en) Mobile inspection device, mobile inspection method, and steel manufacturing method
JPH07185756A (en) Method for removing burr and its device
JP2008057981A (en) Device and method for allowing equipment to access annulus
JP3663259B2 (en) Arc length controller
JPH0932350A (en) Lining automatic chipping device of chimney, etc.
JPS6046849A (en) Apparatus for measuring inside diametral size of mold for continuous casting machine of round billet

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221212

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20230331

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231114

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240110

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240123

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240206

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7433174

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150