JP7423914B2 - 皮膜付きガラスおよびその製造方法並びに改質されたガラス基材 - Google Patents
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Description
本実施形態に係る皮膜付きガラス1では、ガラス基材2は、膨張係数が3.2×10-6/K以上5.6×10-6/K以下のホウケイ酸ガラスであることが好ましい。本実施形態に係る皮膜付きガラス1では、ガラス基材2は、膨張係数が3.2×10-6/K以上3.3×10-6/K以下のホウケイ酸ガラスであるか、又は膨張係数が4.8×10-6/K以上5.6×10-6/K以下のホウケイ酸ガラスである形態を包含する。このようなガラス基材は、膨張係数が小さく、アルカリ溶出性が低いため好ましい。具体的には、NSV51(ニプロファーマパッケージングアメリカスCorp.社製)、W33(ニプロファーマパッケージングアメリカスCorp.社製)、BS(日本電気硝子株式会社製)、フィオラックス(登録商標)(ショットAG社製)、デュラン(登録商標)(ショットAG社製)などである。それぞれのガラスの組成(質量%)のカタログ値を表1に示す。表1において、NSV51についてNa2O,K2Oの含有量は、Na2O及びK2Oの合計含有量が示されている。W33又はデュランについても同様である。また、表1において「-」は当該組成物を含有しないことを示す。
バイアルは、底が封止された概ね円筒形状の外形の容器であり、底部、側面部、首部、口部、内壁および外壁を有する。バイアルは、内部空間を有し、口部の一端において開口する。底部は、平らな円盤状の形状であり、底部の縁において側面部と連続する。側面部は、円筒形状である。側面部は、軸線方向において、外径及び内径が一定に成形されている。首部は、側面部に連続し、側面部からテーパー状に狭まる。首部の内径及び外径は、側面部より狭く成形されている。口部は、首部に連続し、縁部で区画される開口を有する。口部の内径及び外径は、側面部より狭く成形されている。口部の外径は、首部の外径において最も狭く形成された箇所より広く成形されている。内壁は、底部、側面部、首部及び口部における内部空間側のガラス表面であり、一方、外壁は、内部空間側のガラス表面に対向する外表面である。
一例として、一般的な縦型成型機を用いて、垂直に保持されて回転するガラス管を加熱することによりバイアルが成形される。ガラス管は、バーナーの炎で加熱されることにより軟化する。ガラス管の一部が軟化変形することにより、バイアルの底部及び口部がガラス管から成形される。底部が成形される際に、ガラス管の原料であるホウケイ酸ガラスからアルカリホウ酸塩等が揮発する。揮発したアルカリホウ酸塩等のアルカリ成分は、バイアルの内壁における底部近傍に付着して加工劣化領域を生じさせる。
本実施形態に係る改質されたガラス基材2は、ガラス基材2の少なくとも一部の表面に改質層4を有する改質されたガラス基材であって、改質層4は、ガラス基材2の表面2aから所定の深さd1までの領域にあり、かつ、少なくとも一部に微結晶構造を有する。
ガラス基材2は、改質層4と改質層4よりも深い領域5とを包含する。改質層4は、ガラス基材2の最表面(図1の皮膜側の表面2a)上に加えて、最表面から所定の深さd1までの領域である。最外面から所定の深さd1は、ガラス基材2の表面2aから深さ方向Dに100nmの深さであることが好ましく、ガラス基材2の表面2aから深さ方向Dに50nmの深さであることがより好ましく、ガラス基材2の表面2aから深さ方向Dに20nmの深さであることがさらに好ましく、ガラス基材2の表面2aから深さ方向Dに10nmの深さであることがよりさらに好ましい。ここで、深さ方向Dとは、ガラス基材2の皮膜側の表面2aから皮膜側とは反対側の表面(不図示)へ向かう方向である。例えば、ガラス基材2がバイアル瓶である場合、深さ方向Dは、内壁面から外壁面へ向かう方向である。改質層4は、酸化物換算の質量%で、少なくとも、B2O3を1~8質量%、Na2Oを1~6質量%を含み、さらにSiO2を80質量%以上含む範囲であることが好ましい。改質層4は、酸化物換算の質量%で、少なくとも、B2O3を2~6質量%、Na2Oを2~4質量%を含み、さらにSiO2を90質量%以上含む範囲であることがより好ましい。改質層4の組成は、例えば、XPS(X線光電子分光法)によって分析され、その分析される表面組成(原子組成百分率)の各原子酸化物に換算した質量%である。
微結晶構造は、例えば、ガラス基材の断面をTEM(transmission electron microscope)で観察される。微結晶構造は、サブナノメートルサイズの均等な間隔の配列構造である。
改質層4よりも深い領域5は、深さ方向Dにおいて改質層4に連続する領域である。改質層4よりも深い領域5は、ガラス基材2の皮膜3側とは反対側の表面(不図示)を含んでいてもよい。改質層4と改質層4よりも深い領域5との間には境界がなくてもよく、例えばガラスの組成が改質層4と改質層4よりの深い領域5との間で傾斜組成をなしていてもよい。
本実施形態に係る皮膜付きガラス1の製造方法は、図1に示すようにガラス基材2の少なくとも一部の表面2aに皮膜3を形成する皮膜付きガラスの製造方法において、ガラス基材2の皮膜3が設けられる側の表面2aから所定の深さd1までの領域を改質層4とする改質工程と、改質層4を形成したガラス基材2の表面2a上に皮膜3を形成する成膜工程と、を含み、改質工程は、(i)ガラス基材2の皮膜3が設けられる側の表面2aに酸素ガス存在下で低級炭化水素ガスを燃焼して生じる炎をバーナーから噴出させ、バーナーから噴出される炎のうちプラズマに富む部分を当てる工程、(ii)ガラス基材2の皮膜3が設けられる側の表面2aにレーザ処理を施す工程、及び(iii)ガラス基材2の皮膜3が設けられる側の表面2aに高温ガス処理を施す工程、の(i)~(iii)の少なくともいずれか一つの工程を含む。
改質工程における表面処理は、プラズマ処理または加熱処理が包含される。さらに当該プラズマ処理は、(i)ガラス基材2の皮膜3が設けられる側の表面2aに酸素ガス存在下で低級炭化水素ガスを燃焼して生じる炎をバーナーから噴出させ、バーナーから噴出される炎のうちプラズマに富む部分を当てる処理(以降、(i)の改質工程ということもある。が包含され、当該加熱処理は、(ii)ガラス基材2の皮膜3が設けられる側の表面2aに施すレーザ処理(以降、(ii)の改質工程ということもある。)と(iii)ガラス基材2の皮膜3が設けられる側の表面2aに施す高温ガス処理(以降、(iii)の改質工程ということもある。)が包含される。
本実施形態に係る皮膜付きガラス1の製造方法では、成膜工程は、少なくとも炭化水素系ガスを含む原料ガスをプラズマ化して、ガラス基材2の皮膜3が設けられる側の表面2aに皮膜3として少なくとも炭素を含む非晶質皮膜を形成する工程であることが好ましい。皮膜が炭素元素を組成中に含むことで、潤滑性(摺動性)が優れ、水系内容物との接触角が大きく、医薬品の有効成分であるタンパク質等の凝集(吸着)の抑制が向上する。
外径15mm、肉厚1.5mmのホウケイ酸ガラス管BS日本電気硝子株式会社製)から、縦型成型機により底部を成形することで、外径15mm、高さ33mm、口内径7.0mmであって、容量が2.0mLのバイアルX1およびY1を作成した。
外径15mm、肉厚1.5mmのホウケイ酸ガラス管W33(ニプロファーマパッケージングアメリカスCorp.製)から、縦型成型機により底部を成形することで、外径15mm、高さ33mm、口内径7.0mmであって、容量が2.0mLのバイアルX2およびY2を作成した。
上記作成したバイアルX1およびX2の内壁に対して、(i)の改質工程を用いたプラズマ処理を施した。
バイアルX1およびX2を保持して回転させながらバイアルの内部空間へポイントバーナーの炎を噴出させて、炎におけるプラズマに富む部分をバイアル内壁に当てながら、炎をバイアルの内壁に走査させ、処理を施した。この処理には、タウンガス(メタン)と酸素の完全燃焼比で構成される混合ガス炎(長さ約10cm)を吹き出す口内径1.4mmのポイントバーナーを用いた。
プラズマ処理前および処理後のバイアルの内壁のガラス表面(底部から3~5mm付近)の組成をXPS(AXIS‐NOVA、KRATOS社製)によって分析した。プラズマ処理前後における、バイアル表面上の化合物組成の分析結果を表2に表す。
バイアル(X1、X2、Y1、Y2)の内表面に成膜を行ったときの条件は、次の通りである。
装置:図3に示す低圧プラズマCVD装置
高周波出力:100W、13.56MHz
初期減圧:0.02torr
成膜時圧力:2torr
成膜時間:表3のとおり
混合ガス:表3のとおり。ただし、比率は体積流量混合比率を示す。
前処理:なし
満容量の90%の水を各バイアルへ充填して、121℃、1hで処理した高圧蒸気滅菌処理を行った。実施例1および2は、最外層のF―DLCの剥離は確認できなかったが、比較例1および2は、最外層のF―DLCの剥離が確認された。
図4(a)は、実施例1の改質工程後成膜工程前の改質されたガラス基材の断面のTEM画像であり、(b)は(a)を部分拡大した画像である。図4(a)(b)において、改質層の上の部分は、TEM分析のために施した保護膜である。図4(a)(b)に示すように、改質層が、少なくとも一部に微結晶構造を有することが確認できた。図4(b)において、改質層と改質層よりも深い領域との境界と思われる部分に点線を付す加工を施した。
Claims (10)
- ガラス基材と、該ガラス基材の少なくとも一部の表面に設けられた皮膜と、を有する皮膜付きガラスにおいて、
前記皮膜付きガラスは、前記ガラス基材の前記皮膜側の表面から深さ方向に100nmの深さまでの領域に改質層を含み、
該改質層は、少なくとも一部に微結晶構造を有し、
前記皮膜が、ケイ素非含有かつフッ素含有のダイヤモンド様炭素膜又は非結晶性フッ素樹脂膜であることを特徴とする皮膜付きガラス。 - ガラス基材と、該ガラス基材の少なくとも一部の表面に設けられた皮膜と、を有する皮膜付きガラスにおいて、
前記皮膜付きガラスは、前記ガラス基材の前記皮膜側の表面から深さ方向に100nmの深さまでの領域に改質層を含み、
該改質層のB2O3の含有量は、酸化物換算の質量%で、前記改質層よりも深い領域のそれよりも少なく、かつ、前記改質層のNa2Oの含有量は、酸化物換算の質量%で、前記改質層よりも深い領域のそれよりも少なく、
前記改質層は、酸化物換算の質量%で、少なくとも、B2O3を1~8質量%、Na2Oを1~6質量%、及びSiO2を80質量%以上含み、
前記改質層よりも深い領域は、酸化物換算の質量%で、少なくとも、B2O3を9~15質量%、Na2Oを3~9質量%、及びSiO2を70質量%以上含み、
前記皮膜が、ケイ素非含有かつフッ素含有のダイヤモンド様炭素膜又は非結晶性フッ素樹脂膜であることを特徴とする皮膜付きガラス。 - 前記微結晶構造が炭素を含むことを特徴とする請求項1に記載の皮膜付きガラス。
- 前記改質層が炭素を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の皮膜付きガラス。
- 前記皮膜の膜厚は、1~70nmであることを特徴とする請求項1~4のいずれか一つに記載の皮膜付きガラス。
- 前記ガラス基材は、膨張係数が3.2×10-6/K以上3.3×10-6/K以下のホウケイ酸ガラスであるか、又は膨張係数が4.8×10-6/K以上5.6×10-6/K以下のホウケイ酸ガラスであることを特徴とする請求項1~5のいずれか一つに記載の皮膜付きガラス。
- 前記ガラス基材は、バイアル瓶、注射筒、針付きシリンジ、アンプル又はカートリッジタイプシリンジであることを特徴とする請求項1~6のいずれか一つに記載の皮膜付きガラス。
- ガラス基材の少なくとも一部の表面に皮膜を形成する皮膜付きガラスの製造方法において、
前記ガラス基材の前記皮膜が設けられる側の表面から深さ方向に100nmの深さまでの領域に改質層を形成する改質工程と、
前記改質層を形成した前記ガラス基材の前記表面上に前記皮膜を形成する成膜工程と、を含み、
前記改質工程は、(i)前記ガラス基材の前記皮膜が設けられる側の表面に酸素ガス存在下で低級炭化水素ガスを燃焼して生じる炎をバーナーから噴出させ、該バーナーから噴出される炎のうちプラズマに富む部分を当てる工程、(ii)前記ガラス基材の前記皮膜が設けられる側の表面にレーザ処理を施す工程、及び(iii)前記ガラス基材の前記皮膜が設けられる側の表面に高温ガス処理を施す工程、の(i)~(iii)の少なくともいずれか一つの工程を含み、
前記成膜工程は、少なくとも炭化水素系ガスを含む原料ガスをプラズマ化して、前記ガラス基材の前記皮膜が設けられる側の表面に前記皮膜として少なくとも炭素を含む非晶質皮膜を形成する工程であり、
前記原料ガスが、6フッ化エタン、C 6 F 10 (CF 3 ) 2 、C 6 F 6 、CF 4 (四フッ化メタン)及びC 3 F 8 (八フッ化プロパン)の群から選ばれる少なくとも一種を含むことを特徴とする皮膜付きガラスの製造方法。 - 前記改質工程では、前記ガラス基材の前記皮膜が設けられる側の表面とは反対側の表面の温度を非接触型の温度計によって測定し、その測定される温度が特定の温度範囲内とすることを含むことを特徴とする請求項8に記載の皮膜付きガラスの製造方法。
- ガラス基材の少なくとも一部の表面に改質層を有する改質されたガラス基材であって、
前記改質層は、前記ガラス基材の前記表面から深さ方向に100nmの深さまでの領域にあり、かつ、炭素を含み、かつ、少なくとも一部に微結晶構造を有することを特徴とする改質されたガラス基材。
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Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PL3287421T3 (pl) * | 2015-04-24 | 2021-05-17 | Nipro Corporation | Sposób wytwarzania medycznego pojemnika szklanego, oraz urządzenie do piaskowania ogniowego wyposażone w mechanizm obrotowy |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002341172A (ja) | 2001-03-12 | 2002-11-27 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 光ファイバ融着部補強部材の製造方法 |
JP2016510288A (ja) | 2012-11-30 | 2016-04-07 | コーニング インコーポレイテッド | 層剥離耐性および向上した強度を有するガラス製容器 |
WO2016163426A1 (ja) | 2015-04-09 | 2016-10-13 | ニプロ株式会社 | 医療用バイアルの製造方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6475573B1 (en) * | 1999-05-03 | 2002-11-05 | Guardian Industries Corp. | Method of depositing DLC inclusive coating on substrate |
US20040003627A1 (en) * | 2002-07-03 | 2004-01-08 | Nihon Yamamura Glass Co., Ltd. | Locally crystallized glass |
JP4677742B2 (ja) * | 2004-08-05 | 2011-04-27 | 日本電気硝子株式会社 | 燃焼装置窓用Li2O−Al2O3−SiO2系結晶性ガラスおよびそれを熱処理してなる燃焼装置窓用Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス |
WO2006123621A1 (ja) | 2005-05-16 | 2006-11-23 | Nipro Corporation | バイアルおよびその製造方法 |
JP4566865B2 (ja) * | 2005-09-06 | 2010-10-20 | 興亜硝子株式会社 | ステンレス蒸着化粧品用ガラス容器及びその製造方法 |
JP4572150B2 (ja) | 2005-09-13 | 2010-10-27 | 石塚硝子株式会社 | 撥水性ガラス材料の製造方法 |
DE102006009822B4 (de) * | 2006-03-01 | 2013-04-18 | Schott Ag | Verfahren zur Plasmabehandlung von Glasoberflächen, dessen Verwendung sowie Glassubstrat und dessen Verwendung |
DE102014214083C5 (de) | 2014-07-18 | 2021-04-08 | Schott Ag | Vorrichtung und Verfahren zum thermischen Behandeln eines ringförmigen Bereichs einer inneren Oberfläche eines aus einem Borosilikat-Rohrglas hergestellten Glasbehälters |
CN107922236B (zh) * | 2015-04-24 | 2020-11-06 | 尼普洛株式会社 | 玻璃容器的制造方法 |
US20180346368A1 (en) * | 2017-05-31 | 2018-12-06 | Nipro Corporation | Method of manufacturing glass vessel, and apparatus for manufacturing glass vessel |
JP2019055896A (ja) | 2017-09-21 | 2019-04-11 | 大和特殊硝子株式会社 | ガラス容器の製造方法 |
DE102017128413A1 (de) * | 2017-11-30 | 2019-06-06 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung eines Glasartikels |
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