JP7395425B2 - 磁気記録装置 - Google Patents
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Description
図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚さと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。
本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
図1は、第1実施形態に係る磁気記録装置の一部を例示する模式的断面図である。
図2は、第1実施形態に係る磁気記録装置を例示する模式的断面図である。
図2に示すように、実施形態に係る磁気記録装置210は、磁気ヘッド110と、磁気記録媒体80と、電気回路20Dと、を含む。磁気記録装置210において、記録動作が行われる。記録動作において、磁気ヘッド110を用いて磁気記録媒体80に情報が記録される。
これらの図は、実施形態に係る積層体20に流れる電流jc1の大きさと、積層体20の電気抵抗との関係を模式的に示している。これらの図の横軸は、電流jc1の大きさである。図3(a)の縦軸は、積層体20の電気抵抗Rx1である。
これらの図は、電気抵抗Rx2の信号の一部をFFT(Fast Fourier Transform)処理した信号を例示している。電気抵抗Rx2の信号は、時間的に変化する成分(高周波成分)と、時間的に実質的に変化しない成分(時間的な平均値の成分)と、を含む。FFT処理においては、電気抵抗Rx2の、時間的に変化する成分が処理される。これらの図の横軸は、周波数ffである。縦軸は、信号の強度Intである。図4(a)は電流jc1が第1電流i1であるときに対応する。図4(b)は電流jc1が第3電流i3であるときに対応する。図4(c)は電流jc1が第2電流i2であるときに対応する。
図5(b)は、参考例の磁気ヘッド119における特性のシミュレーション結果を例示している。磁気ヘッド119においては、第2磁性層22及び第3非磁性層43が設けられず、第1磁性層21が設けられる。磁気ヘッド119においては、第1非磁性層41は、磁極30と接する。磁気ヘッド119において、第1磁性層21の磁気厚(厚さと飽和磁化との積)は、4nmTである。磁気ヘッド119においても大きな電流(第2電流i2)を積層体に供給することで、第1磁性層21の磁化が反転する。図5(b)は、このような第2電流i2を積層体に供給しつつ記録電流Iwを反転したときの第1磁性層21の磁化の向きの変化をシミュレーションした結果を例示している。
図6には、実施形態に係る磁気ヘッド110と、参考例の磁気ヘッド119と、に関して、記録磁界の周波数と、ゲインと、の関係を例示している。図6の横軸は、記録磁界の周波数fwである。周波数fwは、記録電流Iwの周波数に対応する。図6の縦軸は、積層体20に電流を供給しないときを基準にした、ゲインGn0である。
図7(a)に示すように、1つの例において、磁極30の磁化30Mの向き、及び、第1シールド31の磁化31Mの向きは、1つの向き(この例では、右向き)である。第1磁性層21の磁化21Mの向き、及び、第2磁性層22の磁化22Mの向きは、その1つの向き(右向き)である。
図8は、磁気ヘッド110を例示している。
図9は、第2実施形態に係る磁気記録装置の一部を例示する模式的断面図である。
図9に示すように、第2実施形態において、磁気記録装置210は、磁気ヘッド120、磁気記録媒体80、及び、電気回路20D(図2参照)を含む。
図10は、実施形態に係る磁気ヘッドを例示する模式的断面図である。
図10に示すように、実施形態に係る磁気ヘッド(例えば、磁気ヘッド110)において、第1シールド31から磁極30への第1方向D1は、X軸方向に対して傾斜しても良い。第1方向D1は、積層体20の積層方向に対応する。X軸方向は、磁極30の媒体対向面30Fに沿う。第1方向D1と媒体対向面30Fとの間の角度を角度θ1とする。角度θ1は、例えば、15度以上30度以下である。角度θ1は、0度でも良い。
図11に示すように、実施形態に係る磁気ヘッド110は、磁気記録媒体80と共に用いられる。この例では、磁気ヘッド110は、記録部60及び再生部70を含む。磁気ヘッド110の記録部60により、磁気記録媒体80に情報が記録される。再生部70により、磁気記録媒体80に記録された情報が再生される。
図12は、ヘッドスライダを例示している。
磁気ヘッド110は、ヘッドスライダ159に設けられる。ヘッドスライダ159は、例えばAl2O3/TiCなどを含む。ヘッドスライダ159は、磁気記録媒体の上を、浮上または接触しながら、磁気記録媒体に対して相対的に運動する。
図14(a)及び図14(b)は、実施形態に係る磁気記録装置の一部を例示する模式的斜視図である。
図13に示すように、実施形態に係る磁気記録装置150においては、ロータリーアクチュエータが用いられる。記録用媒体ディスク180は、スピンドルモータ180Mに装着される。記録用媒体ディスク180は、スピンドルモータ180Mにより矢印ARの方向に回転する。スピンドルモータ180Mは、駆動装置制御部からの制御信号に応答する。本実施形態に係る磁気記録装置150は、複数の記録用媒体ディスク180を備えても良い。磁気記録装置150は、記録媒体181を含んでもよい。記録媒体181は、例えば、SSD(Solid State Drive)である。記録媒体181には、例えば、フラッシュメモリなどの不揮発性メモリが用いられる。例えば、磁気記録装置150は、ハイブリッドHDD(Hard Disk Drive)でも良い。
図14(b)は、ヘッドスタックアセンブリ160の一部となる磁気ヘッドアセンブリ(ヘッドジンバルアセンブリ:HGA)158を例示する斜視図である。
(構成1)
磁気ヘッドと、
磁気記録媒体と、
電気回路と、
を備え、
前記磁気ヘッドは、
磁極と、
第1シールドと、
前記磁極と前記第1シールドとの間に設けられた積層体と、
を含み、
前記積層体は、
第1磁性層と、
前記磁極と前記第1磁性層との間に設けられた第2磁性層と、
前記第2磁性層と前記第1磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、
前記第1磁性層と前記第1シールドとの間に設けられた第2非磁性層と、
前記磁極と前記第2磁性層との間に設けられた第3非磁性層と、
を含み、
前記第2非磁性層は、Cu、Ag、Au、Al及びCrよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記第3非磁性層は、Ta、Pt、W、Mo、Ir、Ru、Tb、Rh、Cr及びPdよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記積層体に流れる電流が第1電流のときの前記積層体の電気抵抗は、第1抵抗であり、
前記積層体に流れる前記電流が前記第1電流よりも大きい第2電流のときに、前記積層体の前記電気抵抗は、前記第1抵抗よりも高い第2抵抗であり、
前記積層体に流れる前記電流が前記第1電流と前記第2電流との間の第3電流のときに、前記積層体の前記電気抵抗は発振し、
前記磁気ヘッドを用いて前記磁気記録媒体に情報を記録する記録動作において、前記電気回路は、前記第2電流を前記積層体に供給することが可能である、磁気記録装置。
前記第2電流は、前記第1磁性層から前記第2磁性層への向きを有する、構成1記載の磁気記録装置。
磁気ヘッドと、
磁気記録媒体と、
電気回路と、
を備え、
前記磁気ヘッドは、
磁極と、
第1シールドと、
前記磁極と前記第1シールドとの間に設けられた積層体と、
を含み、
前記積層体は、
第1磁性層と、
前記第1磁性層と前記第1シールドとの間に設けられた第2磁性層と、
前記第1磁性層と前記第2磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、
前記磁極と前記第1磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、
前記第2磁性層と前記第1シールドとの間に設けられた第3非磁性層と、
を含み、
前記第2非磁性層は、Cu、Ag、Au、Al及びCrよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記第3非磁性層は、Ta、Pt、W、Mo、Ir、Ru、Tb、Rh、Cr及びPdよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記積層体に流れる電流が第1電流のときの前記積層体の電気抵抗は、第1抵抗であり、
前記積層体に流れる前記電流が前記第1電流よりも大きい第2電流のときに、前記積層体の前記電気抵抗は、前記第1抵抗よりも高い第2抵抗であり、
前記積層体に流れる前記電流が前記第1電流と前記第2電流との間の第3電流のときに、前記積層体の前記電気抵抗は発振し、
前記磁気ヘッドを用いて前記磁気記録媒体に情報を記録する記録動作において、前記電気回路は、前記第2電流を前記積層体に供給することが可能である、磁気記録装置。
前記第2電流は、前記第1磁性層から前記第2磁性層への向きを有する、構成3記載の磁気記録装置。
前記第1非磁性層は、第1材料または第2材料を含み、
前記第1材料は、Cu、Ag、Au、Al及びCrよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記第2材料は、Ta、Pt、W、Mo、Ir、Ru、Tb、Rh及びPdよりなる群から選択された少なくとも1つを含む、構成1~4のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
前記第1非磁性層は、前記第1材料を含み、
前記第1非磁性層の厚さは、1nm以上5nm以下である、構成5記載の磁気記録装置。
前記第1非磁性層は、前記第2材料を含み、
前記第1非磁性層の厚さは、1nm以上5nm以下である、構成5記載の磁気記録装置。
前記第2非磁性層の厚さは、1nm以上5nm以下である、構成1~7のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
前記第3非磁性層の厚さは、2nm以上6nm以下である、構成1~8のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
前記第1磁性層及び前記第2磁性層は、Fe及びCoの少なくともいずれかを含む、構成1~9のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
前記第1磁性層及び前記第2磁性層は、正の分極を有する材料を含む、構成1~10のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
前記第1磁性層の厚さは、2nm以上8nm以下である、構成1~11のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
前記第2磁性層の厚さは、2nm以上4nm以下である、構成1~12のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
前記情報に対応する記録電流が第1周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給しないときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第1強度であり、
前記記録電流が前記第1周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給したときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第2強度であり、
前記情報に対応する記録電流が前記第1周波数よりも高い第2周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給しないときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第3強度であり、
前記記録電流が前記第2周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給したときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第4強度であり、
前記第3強度に対する前記第4強度の第2比は、前記第1強度に対する前記第2強度の第1比よりも高い、構成1~13のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
前記磁気ヘッドは、前記記録電流が供給されるコイルを含む、構成14記載の磁気記録装置。
図15は、第3実施形態に係る磁気記録装置の一部を例示する模式的断面図である。
図15に示すように、第3実施形態に係る磁気記録装置210の磁気ヘッド111においては、積層体20は、第1磁性層21、第2磁性層22、第1非磁性層41、第2非磁性層42及び第3非磁性層43に加えて、第3磁性層23及び第4非磁性層44をさらに含む。磁気ヘッド111におけるこれ以外の構成は、磁気ヘッド110の構成と同様である。以下、磁気ヘッド111の例について説明する。
図16は、第3実施形態に係る磁気ヘッド111における特性のシミュレーション結果を例示している。第2電流i2を積層体20に供給しつつ記録電流Iwを反転したときの第1磁性層21、第2磁性層22及び第3磁性層23を合計した磁化の応答をシミュレーションした結果を例示している。図16において、横軸は、時間tmである。第1時刻tm1及び第2時刻tm2において、記録電流Iwの極性は反転する。図16において、縦軸は、磁化の反転量に対応するパラメータP1である。パラメータP1が負であるときに、積層体20に電流を供給しないときを基準にしたゲインが上昇する。
図17は、磁気ヘッド110及び磁気ヘッド119に加えて、磁気ヘッド111に関して、記録磁界の周波数と、ゲインと、の関係を例示している。図17の横軸は、記録磁界の周波数fwである。周波数fwは、記録電流Iwの周波数に対応する。図17の縦軸は、積層体20に電流を供給しないときを基準にした、ゲインGn0である。
これらの図は、磁気ヘッド111における磁化の向きの変化の例を示している。これらの図に示すように、例えば、第3磁性層23の磁化23Mは、第2磁性層22の磁化22Mと連動する。
図19は、第4実施形態に係る磁気記録装置の一部を例示する模式的断面図である。
図19に示すように、第4実施形態に係る磁気記録装置210の磁気ヘッド121においては、積層体20は、第1磁性層21、第2磁性層22、第1非磁性層41、第2非磁性層42及び第3非磁性層43に加えて、第3磁性層23及び第4非磁性層44をさらに含む。磁気ヘッド121におけるこれ以外の構成は、磁気ヘッド120の構成と同様である。以下、磁気ヘッド121の例について説明する。
Claims (10)
- 磁気ヘッドと、
磁気記録媒体と、
電気回路と、
を備え、
前記磁気ヘッドは、
磁極と、
第1シールドと、
前記磁極と前記第1シールドとの間に設けられた積層体と、
を含み、
前記積層体は、
第1磁性層と、
前記磁極と前記第1磁性層との間に設けられた第2磁性層と、
前記第2磁性層と前記第1磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、
前記第1磁性層と前記第1シールドとの間に設けられた第2非磁性層と、
前記磁極と前記第2磁性層との間に設けられた第3非磁性層と、
を含み、
前記第2非磁性層は、Cu、Ag、Au、Al及びCrよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記第3非磁性層は、Ta、Pt、W、Mo、Ir、Ru、Tb、Rh、Cr及びPdよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記積層体に流れる電流が第1電流のときの前記積層体の電気抵抗は、第1抵抗であり、
前記積層体に流れる前記電流が前記第1電流よりも大きい第2電流のときに、前記積層体の前記電気抵抗は、前記第1抵抗よりも高い第2抵抗であり、
前記積層体に流れる前記電流が前記第1電流と前記第2電流との間の第3電流のときに、前記積層体の前記電気抵抗は発振し、
前記磁気ヘッドを用いて前記磁気記録媒体に情報を記録する記録動作において、前記電気回路は、前記第2電流を前記積層体に供給することが可能であり、
前記情報に対応する記録電流が第1周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給しないときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第1強度であり、
前記記録電流が前記第1周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給したときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第2強度であり、
前記情報に対応する記録電流が前記第1周波数よりも高い第2周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給しないときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第3強度であり、
前記記録電流が前記第2周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給したときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第4強度であり、
前記第3強度に対する前記第4強度の第2比は、前記第1強度に対する前記第2強度の第1比よりも高い、磁気記録装置。 - 磁気ヘッドと、
磁気記録媒体と、
電気回路と、
を備え、
前記磁気ヘッドは、
磁極と、
第1シールドと、
前記磁極と前記第1シールドとの間に設けられた積層体と、
を含み、
前記積層体は、
第1磁性層と、
前記第1磁性層と前記第1シールドとの間に設けられた第2磁性層と、
前記第1磁性層と前記第2磁性層との間に設けられた第1非磁性層と、
前記磁極と前記第1磁性層との間に設けられた第2非磁性層と、
前記第2磁性層と前記第1シールドとの間に設けられた第3非磁性層と、
を含み、
前記第2非磁性層は、Cu、Ag、Au、Al及びCrよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記第3非磁性層は、Ta、Pt、W、Mo、Ir、Ru、Tb、Rh、Cr及びPdよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記積層体に流れる電流が第1電流のときの前記積層体の電気抵抗は、第1抵抗であり、
前記積層体に流れる前記電流が前記第1電流よりも大きい第2電流のときに、前記積層体の前記電気抵抗は、前記第1抵抗よりも高い第2抵抗であり、
前記積層体に流れる前記電流が前記第1電流と前記第2電流との間の第3電流のときに、前記積層体の前記電気抵抗は発振し、
前記磁気ヘッドを用いて前記磁気記録媒体に情報を記録する記録動作において、前記電気回路は、前記第2電流を前記積層体に供給することが可能であり、
前記情報に対応する記録電流が第1周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給しないときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第1強度であり、
前記記録電流が前記第1周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給したときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第2強度であり、
前記情報に対応する記録電流が前記第1周波数よりも高い第2周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給しないときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第3強度であり、
前記記録電流が前記第2周波数であるときの前記記録動作において、前記電気回路が前記第2電流を前記積層体に供給したときの、前記磁気記録媒体に記録される信号の強度は、第4強度であり、
前記第3強度に対する前記第4強度の第2比は、前記第1強度に対する前記第2強度の第1比よりも高い、磁気記録装置。 - 前記第1非磁性層は、第1材料または第2材料を含み、
前記第1材料は、Cu、Ag、Au、Al及びCrよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記第2材料は、Ta、Pt、W、Mo、Ir、Ru、Tb、Rh及びPdよりなる群から選択された少なくとも1つを含む、請求項1または2に記載の磁気記録装置。 - 前記積層体は、
前記第1非磁性層と前記第1磁性層との間に設けられた第3磁性層と、
前記第3磁性層と前記第1磁性層との間に設けられた第4非磁性層と、
をさらに含み、
前記第3磁性層は、Fe、Co及びNiの少なくとも1つを含む第1元素と、Cr、V、Mn、Ti及びScよりなる群から選択された少なくとも1つを含む第2元素と、を含み、
前記第1非磁性層は、Cu、Ag、Au、Al及びCrよりなる群から選択された少なくとも1つを含み、
前記第4非磁性層は、Ta、Pt、W、Mo、Ir、Ru、Tb、Rh、Cr及びPdよりなる群から選択された少なくとも1つを含む、請求項1または2に記載の磁気記録装置。 - 前記第2電流は、前記第1磁性層から前記第2磁性層への向きを有する、請求項1~4のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
- 前記第2非磁性層の厚さは、1nm以上5nm以下である、請求項1~5のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
- 前記第3非磁性層の厚さは、2nm以上6nm以下である、請求項1~6のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
- 前記第1磁性層及び前記第2磁性層は、Fe及びCoの少なくともいずれかを含む、請求項1~7のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
- 前記第1磁性層の厚さは、2nm以上8nm以下である、請求項1~8のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
- 前記第2磁性層の厚さは、2nm以上4nm以下である、請求項1~9のいずれか1つに記載の磁気記録装置。
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