JP7388247B2 - 光書込装置の製造方法、光書込装置及び画像形成装置 - Google Patents
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Description
例えば、感光体の曲率に合わせて、1枚の発光基板上に、各発光素子(発光点)を光軸方向の位置が異なるように配置した構成が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
また、1枚の発光基板上に、各発光素子(発光点)を隣接する発光素子列に積層されている発光素子の数が異なるように配置した構成が開示されている(例えば、特許文献2参照)。
複数の発光点が2次元に配列された発光点群を複数配置した発光基板が少なくとも3つ配置された発光基板ユニットと、
前記発光点群から出射された光束を感光体上の異なる位置に結像させる結像光学系と、
を備え、
前記結像光学系は、
複数の前記発光点群の各々に対向して配置された複数の結像レンズを有する複数のレンズアレイと、
絞り板と、
を備え、
前記発光基板ユニットは、
前記少なくとも3つの発光基板が、平行に配置されるとともに、光軸方向に積層され、
前記少なくとも3つの発光基板の各々が有する発光点群が、それぞれ副方向でずれており、
隣接する前記発光基板間の光軸方向の間隔の各々が、等間隔ではなく、
前記発光基板の前記発光点群が配置された平面の法線と、前記感光体受光面に対する法線とが、平行ではなく、
前記発光点群の各々から出射された光束が、前記感光体受光面上に集光されている光書込装置の製造方法であって、
前記感光体と最も距離が近い第1発光基板に相対する前記結像レンズから射出された光束を第1光束とし、
前記感光体と最も距離が遠い第2発光基板に相対する前記結像レンズから射出された光束を第2光束としたとき、
前記発光基板ユニット全体を前記光軸方向にシフトさせ、前記第1光束及び前記第2光束が前記感光体受光面上に集光するように調整する第1工程と、
前記発光基板の各々から出射された光束の焦点を結んだ線が直線となるように、前記第1発光基板又は前記第2発光基板を前記光軸方向にシフトさせる第2工程と、
前記第2工程で前記光軸方向にシフトさせていない前記第1発光基板又は前記第2発光基板の前記発光点群の重心を軸として前記発光基板ユニット全体を回転させ、全ての前記光束の焦点が前記感光体受光面上に集光するように調整する第3工程と、
を含むことを特徴とする。
前記絞り板は、前記複数のレンズアレイの間に存在することを特徴とする。
前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率は、全て等しいことを特徴とする。
前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率は、1.0以下であることを特徴とする。
前記発光点は、ランバーシアンの配光特性を有することを特徴とする。
隣接する前記発光基板間には、前記光軸方向の間隔を調整可能な間隔調整部が設けられていることを特徴とする。
前記発光点は、有機ELで構成されていることを特徴とする。
全ての前記光束の焦点が前記感光体受光面上から±25μmの範囲に存在することを特徴とする。
前記感光体受光面上に投影された光束の断面プロファイルのピークの1/e2で切ったときの幅をBDとし、前記発光点の直径をLD、前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率の絶対値をβとしたとき、前記感光体受光面上に投影された全ての光束が、「BD/(LD×β)≦1.25」を満たすことを特徴とする。
光書込装置において、
複数の発光点が2次元に配列された発光点群を複数配置した発光基板が少なくとも3つ配置された発光基板ユニットと、
前記発光点群から出射された光束を感光体上の異なる位置に結像させる結像光学系と、
を備え、
前記結像光学系は、
複数の前記発光点群の各々に対向して配置された複数の結像レンズを有する複数のレンズアレイと、
絞り板と、
を備え、
前記発光基板ユニットは、
前記少なくとも3つの発光基板が、平行に配置されるとともに、光軸方向に積層され、
前記少なくとも3つの発光基板の各々が有する発光点群が、それぞれ副方向でずれており、
隣接する前記発光基板間の光軸方向の間隔の各々が、等間隔ではなく、
前記発光基板の前記発光点群が配置された平面の法線と、前記光束を受光する前記感光体受光面に対する法線とが、平行ではなく、
前記発光点群の各々から出射された光束が、前記感光体受光面上に集光されていることを特徴とする。
前記絞り板は、前記複数のレンズアレイの間に存在することを特徴とする。
前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率は、全て等しいことを特徴とする。
前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率は、1.0以下であることを特徴とする。
前記発光点は、ランバーシアンの配光特性を有することを特徴とする。
隣接する前記発光基板間には、前記光軸方向の間隔を調整可能な間隔調整部が設けられていることを特徴とする。
前記発光点は、有機ELで構成されていることを特徴とする。
全ての前記光束の焦点が前記感光体受光面上から±25μmの範囲に存在することを特徴とする。
前記感光体受光面上に投影された光束の断面プロファイルのピークの1/e2で切ったときの幅をBDとし、前記発光点の直径をLD、前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率の絶対値をβとしたとき、前記感光体受光面上に投影された全ての光束が、「BD/(LD×β)≦1.25」を満たすことを特徴とする。
画像形成装置において、
感光体と、
前記感光体を帯電させる帯電部と、
前記帯電部により帯電された前記感光体に対して光を照射することで前記感光体上に静電潜像を形成する請求項10~18のいずれか一項に記載の光書込装置と、
前記光を照射された前記感光体に現像剤を供給することで前記静電潜像を現像剤による像に顕像化する現像部と、
前記現像剤による像を用紙に転写する転写部と、
前記転写部により転写された前記現像剤による像を前記用紙に定着する定着部と、
を備えることを特徴とする。
本実施形態に係る画像形成装置1000は、例えば、プリンターやデジタル複写機等として用いられ、図1に示すように、シアン、マゼンタ、イエロー、ブラックの色ごとに設けられた複数の光書込装置100と、光書込装置100に対応して設けられた感光体ドラム等の感光体200と、感光体200を帯電させる帯電部210と、光を照射された感光体200に現像剤を供給することで静電潜像を現像剤による像に顕像化する現像部220と、中間転写ベルト300と、現像剤による像を用紙Pに転写する転写ローラー(転写部)400と、転写ローラー400により転写された現像剤による像を用紙Pに定着する定着部500と、を備えて構成されている。
図2に、たわみなどの誤差がない理想状態のレンズアレイ12が配置された光書込装置100の構成を示す。また、図3に、たわみなどの誤差があるレンズアレイ12が配置された光書込装置100の構成を示す。
光書込装置100は、図1~図4に示すように、帯電部210により帯電された感光体200に対して光(光束)Hを照射することで、感光体200上に静電潜像を形成する装置である。光書込装置100は、光Hを出射させる複数の発光点111が2次元に配列された発光点群112を複数配置した発光基板11a~11cが少なくとも3つ(本実施形態では3つ)配置された発光基板ユニット11と、複数の発光点群112の各々に対向して配置された複数の結像レンズ121を有し、複数の発光点111から出射された光Hを感光体200上に集光させる複数のレンズアレイ12(第1レンズアレイ12A(光軸に沿って発光点群112に最も近いレンズアレイ12)、第2レンズアレイ12B(光軸に沿って感光体200に最も近いレンズアレイ12))と、第1レンズアレイ12Aと第2レンズアレイ12Bとの間に配置された絞り板13と、を備えて構成されている。レンズアレイ12(第1レンズアレイ12A、第2レンズアレイ12B)及び絞り板13は、発光点群112から出射された光Hを感光体200上の異なる位置に結像させて倒立像を形成させる本発明の結像光学系として機能する。
なお、本発明の間隔調整部は、光軸方向の間隔を調整可能な構成であればいかなる構成であってもよく、スペーサー113の代わりに、保持ホルダーや厚肉の接着剤などを用いるようにしても構わない。
ここで、発光基板ユニット11全体が傾いている状態とは、発光点群112の法線N1と結像光学系の光軸OAとが平行ではないことを示している。なお、発光点群112の法線N1とは、対象となる発光点群112が存在する発光基板11a~11cにて複数の発光点群112を結んで形成される面(複数の発光点群112が配置された平面)に対する法線である。また、結像光学系の光軸OAとは、感光体受光面に対する法線である。なお、感光体200は、非常に大きなものを想定しており、受光面をほぼ平面(XY平面)と見做している。すなわち、本実施形態において、感光体受光面に対する法線は、XY平面に対する法線(Z方向に平行な線)である。
次に、本実施形態に係る光書込装置100の製造方法(製造時の調整方法)について、図6~図9を参照して説明する。なお、図6~図9の(a)は光書込装置100の側面断面図であり、(b)は各結像光学系のビーム径(図中の二次曲線:縦軸はビーム径の長さ)とデフォーカス量(横軸)の関係を示す図であり、(c)は感光体受光面S1上のビームプロファイルを示す図である。
以下、図7~図9を参照して、全ての結像光学系で結像状態を良好にするための調整手順を説明する。なお、本実施形態では、たわみによる二次曲線状の焦点位置ズレを想定している。すなわち、中央結像光学系K2を中心とした二次曲線に近いたわみにより、上部結像光学系K1及び下部結像光学系K3で誤差量は等しいと想定している。
なお、シフト対象の発光基板11a又は11cは、中央の発光基板11bとの間隔が広くなるようにシフトさせる。これにより、シフト対象の発光基板11a又は11cと中央の発光基板11bとの衝突を避けることができるので、発光素子(発光点111)の破損や劣化を防ぐことができる。
以上のように、図6~図9に示す調整を実施することで、レンズアレイ12にたわみが生じている場合であっても、全ての結像光学系にて感光体受光面S1上に焦点を合わせることができるので、良好なビーム結像状態を実現することができる。
本実施形態では、所望の画像品質を得るために、下記の方法で、上記した製造時の調整により達成したいデフォーカス量(焦点位置が感光体等価面上からいずれの範囲にあるか)を決定している。具体的には、感光体受光面上に投影された光束(ビーム)の断面プロファイルのピークの1/e2(13.5%)で切ったときの幅(ビーム径)をBDとし、発光点111の直径をLD、結像光学系の結像レンズ121ごとの結像倍率の絶対値をβとしたとき、感光体受光面上に投影された全ての光束が、「BD/(LD×β)≦1.25」を満たす条件となるように、デフォーカス量を決定している。図11に示す例では、結像光学系の結像レンズ121ごとの結像倍率の絶対値β=1.0であるので、「BD/LD≦1.25」を満たす条件となるように、デフォーカス量を決定している。
例えば、図11に示す例では、「デフォーカス量が-50μm」のときの「BD/LD=1.43」であり、「デフォーカス量が50μm」のときの「BD/LD=1.51」であるため、「デフォーカス量が±50μm」のときには、「BD/LD≦1.25」を満たさない。一方、「デフォーカス量が-25μm」のときの「BD/LD=1.23」であり、「デフォーカス量が0μm」のときの「BD/LD=1.04」であり、「デフォーカス量が25μm」のときの「BD/LD=1.24」であるため、「デフォーカス量が±25μm」の範囲にあるときには、「BD/LD≦1.25」を満たす。したがって、全ての光束の焦点が感光体受光面上から±25μmの範囲に存在することが好ましい。すなわち、本実施形態の第3工程において、「全ての光束の焦点が感光体受光面S1上に集光する」とは、全ての光束の焦点が感光体受光面上から±25μmの範囲に存在する状況を含んだ表現である。
したがって、本実施形態に係る光書込装置100によれば、成形時の温度分布ムラなどの要因によってたわみなどの設計値との形状誤差を有するレンズアレイを用いる場合であっても、積層された発光基板11a~11cを破損することなく良好なビーム結像状態を実現することができるので、画像品質を向上させることができる。
したがって、本実施形態に係る光書込装置100によれば、結像光学系にて両側テレセントリックの構成を実現することができるので、発光基板ユニット11を光軸方向の前後に動かした際に焦点位置も光軸方向の前後にしか動かないようにすることが可能となり、調整を簡易化することができる。
したがって、本実施形態に係る光書込装置100によれば、発光基板ユニット11を移動及び回転させた際に各結像光学系の焦点位置のズレ量を等しくすることができるので、調整を簡易化することができる。
したがって、本実施形態に係る光書込装置100によれば、被写界深度が浅く、マイクロメートルオーダーの焦点位置調整が要求される明るい光学系を採用した場合であっても、焦点位置ズレ量を小さくすることができるので、調整を容易化することができる。
したがって、本実施形態に係る光書込装置100によれば、発光基板ユニット11全体を回転させたときの光量の減少を抑制することができるので、画像品質の劣化を抑制することができる。
したがって、本実施形態に係る光書込装置100によれば、発光基板11a~11c間の間隔の調整を容易にしつつ、間隔の保持性を高めることができるので、発光点111を光らせた際の発熱による間隔の変化を最低限に抑えることが可能となり、ビームの結像状態を保持して画像品質を安定化することができる。
したがって、本実施形態に係る光書込装置100によれば、ランバーシアンの配光特性を実現することができるので、画像品質の劣化を抑制することができる。
したがって、本実施形態に係る光書込装置100によれば、良好なビーム結像状態を実現することができるので、画像品質を向上させることができる。
したがって、本実施形態に係る光書込装置100によれば、フラットトップビームにおけるデフォーカスに対する変化の感度が高い方法で画像品質を測定することができるので、良好なビーム結像状態を実現して画像品質を向上させることができる。
100 光書込装置
11 発光基板ユニット
11a~11c 発光基板
111 発光点
112 発光点群
113 スペーサー(間隔調整部)
12 レンズアレイ(結像光学系)
12A 第1レンズアレイ
12B 第2レンズアレイ
121 結像レンズ
122 ガラス板
13 絞り板(結像光学系)
200 感光体
210 帯電部
220 現像部
300 中間転写ベルト
400 転写ローラー(転写部)
500 定着部
K1 上部結像光学系
K2 中央結像光学系
K3 下部結像光学系
Claims (19)
- 複数の発光点が2次元に配列された発光点群を複数配置した発光基板が少なくとも3つ配置された発光基板ユニットと、
前記発光点群から出射された光束を感光体上の異なる位置に結像させる結像光学系と、
を備え、
前記結像光学系は、
複数の前記発光点群の各々に対向して配置された複数の結像レンズを有する複数のレンズアレイと、
絞り板と、
を備え、
前記発光基板ユニットは、
前記少なくとも3つの発光基板が、平行に配置されるとともに、光軸方向に積層され、
前記少なくとも3つの発光基板の各々が有する発光点群が、それぞれ副方向でずれており、
隣接する前記発光基板間の光軸方向の間隔の各々が、等間隔ではなく、
前記発光基板の前記発光点群が配置された平面の法線と、前記感光体受光面に対する法線とが、平行ではなく、
前記発光点群の各々から出射された光束が、前記感光体受光面上に集光されている光書込装置の製造方法であって、
前記感光体と最も距離が近い第1発光基板に相対する前記結像レンズから射出された光束を第1光束とし、
前記感光体と最も距離が遠い第2発光基板に相対する前記結像レンズから射出された光束を第2光束としたとき、
前記発光基板ユニット全体を前記光軸方向にシフトさせ、前記第1光束及び前記第2光束が前記感光体受光面上に集光するように調整する第1工程と、
前記発光基板の各々から出射された光束の焦点を結んだ線が直線となるように、前記第1発光基板又は前記第2発光基板を前記光軸方向にシフトさせる第2工程と、
前記第2工程で前記光軸方向にシフトさせていない前記第1発光基板又は前記第2発光基板の前記発光点群の重心を軸として前記発光基板ユニット全体を回転させ、全ての前記光束の焦点が前記感光体受光面上に集光するように調整する第3工程と、
を含むことを特徴とする光書込装置の製造方法。 - 前記絞り板は、前記複数のレンズアレイの間に存在することを特徴とする請求項1に記載の光書込装置の製造方法。
- 前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率は、全て等しいことを特徴とする請求項1又は2に記載の光書込装置の製造方法。
- 前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率は、1.0以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の光書込装置の製造方法。
- 前記発光点は、ランバーシアンの配光特性を有することを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の光書込装置の製造方法。
- 隣接する前記発光基板間には、前記光軸方向の間隔を調整可能な間隔調整部が設けられていることを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の光書込装置の製造方法。
- 前記発光点は、有機ELで構成されていることを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の光書込装置の製造方法。
- 全ての前記光束の焦点が前記感光体受光面上から±25μmの範囲に存在することを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の光書込装置の製造方法。
- 前記感光体受光面上に投影された光束の断面プロファイルのピークの1/e2で切ったときの幅をBDとし、前記発光点の直径をLD、前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率の絶対値をβとしたとき、前記感光体受光面上に投影された全ての光束が、「BD/(LD×β)≦1.25」を満たすことを特徴とする請求項1~8のいずれか一項に記載の光書込装置の製造方法。
- 複数の発光点が2次元に配列された発光点群を複数配置した発光基板が少なくとも3つ配置された発光基板ユニットと、
前記発光点群から出射された光束を感光体上の異なる位置に結像させる結像光学系と、
を備え、
前記結像光学系は、
複数の前記発光点群の各々に対向して配置された複数の結像レンズを有する複数のレンズアレイと、
絞り板と、
を備え、
前記発光基板ユニットは、
前記少なくとも3つの発光基板が、平行に配置されるとともに、光軸方向に積層され、
前記少なくとも3つの発光基板の各々が有する発光点群が、それぞれ副方向でずれており、
隣接する前記発光基板間の光軸方向の間隔の各々が、等間隔ではなく、
前記発光基板の前記発光点群が配置された平面の法線と、前記光束を受光する前記感光体受光面に対する法線とが、平行ではなく、
前記発光点群の各々から出射された光束が、前記感光体受光面上に集光されていることを特徴とする光書込装置。 - 前記絞り板は、前記複数のレンズアレイの間に存在することを特徴とする請求項10に記載の光書込装置。
- 前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率は、全て等しいことを特徴とする請求項10又は11に記載の光書込装置。
- 前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率は、1.0以下であることを特徴とする請求項10~12のいずれか一項に記載の光書込装置。
- 前記発光点は、ランバーシアンの配光特性を有することを特徴とする請求項10~13のいずれか一項に記載の光書込装置。
- 隣接する前記発光基板間には、前記光軸方向の間隔を調整可能な間隔調整部が設けられていることを特徴とする請求項10~14のいずれか一項に記載の光書込装置。
- 前記発光点は、有機ELで構成されていることを特徴とする請求項10~15のいずれか一項に記載の光書込装置。
- 全ての前記光束の焦点が前記感光体受光面上から±25μmの範囲に存在することを特徴とする請求項10~16のいずれか一項に記載の光書込装置。
- 前記感光体受光面上に投影された光束の断面プロファイルのピークの1/e2で切ったときの幅をBDとし、前記発光点の直径をLD、前記結像光学系の前記結像レンズごとの結像倍率の絶対値をβとしたとき、前記感光体受光面上に投影された全ての光束が、「BD/(LD×β)≦1.25」を満たすことを特徴とする請求項10~17のいずれか一項に記載の光書込装置。
- 感光体と、
前記感光体を帯電させる帯電部と、
前記帯電部により帯電された前記感光体に対して光を照射することで前記感光体上に静電潜像を形成する請求項10~18のいずれか一項に記載の光書込装置と、
前記光を照射された前記感光体に現像剤を供給することで前記静電潜像を現像剤による像に顕像化する現像部と、
前記現像剤による像を用紙に転写する転写部と、
前記転写部により転写された前記現像剤による像を前記用紙に定着する定着部と、
を備えることを特徴とする画像形成装置。
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