JP7372662B2 - 洗浄剤組成物及び洗浄剤組成物用原液 - Google Patents

Description

本発明は、洗浄剤組成物及び洗浄剤組成物用原液に関する。

従来から、カメラモジュール部品、集積回路（ＩＣ）及びコンデンサ等の電子部品をプリント基板等にはんだ付けする際に、ソルダペーストからフラックスが飛散し、電極の周囲に残渣として付着することが知られている（以下、上述のフラックスの残渣を「フラックス残渣」という場合がある。）。

フラックス残渣は、はんだ接合部における腐食等の原因となるほか、ワイヤボンディングを行う工程での接合不良及び、樹脂封止をする工程におけるモールド樹脂との密着不良等の原因となりうる。そのため、フラックス残渣は洗浄剤で除去する必要があり、従来から種々の洗浄剤が提案されている。

特開２０１８－０２１０９３号公報

近年、比較的多量の水を含むことにより環境安全性に優れる一方、洗浄性を発揮できる洗浄剤組成物が提案されている。例えば、特開２０１８－０２１０９３号公報（特許文献１）には、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が１０ｇ未満であるアミン（成分Ａ）又はその塩、２５℃の水１００ｇに対する溶解度が０．０２ｇ以上１０ｇ未満である溶剤（成分Ｂ）、及び水を含み、前記成分Ａが、炭素数が６以上２６以下の、１級アミン、２級アミン及び３級アミンから選ばれる少なくとも１種である、スクリーン版用洗浄剤組成物が開示されている。

しかし、特許文献１に記載のスクリーン版用洗浄剤組成物は、銅などの金属に対する腐食性を有しており、洗浄対象物が金属からなる場合、当該洗浄対象物が腐食される。
一方で、樹脂に対する反応性（例えば、溶解性、分解性等）を有する洗浄剤組成物が知られている。
このような事情から、洗浄対象物の材料によって適切な洗浄剤組成物を選ぶ必要があるため、洗浄剤組成物の更なる改善が求められている。

さらに、上記電子部品の製造過程において、樹脂又は金属を加工する際に微細な異物（パーティクル）が発生し、上記電子部品に付着することが知られている。例えば、カメラモジュール部品においては、上述の微細な異物がレンズ又はイメージセンサーに付着するとカメラモジュール部品の性能に大きく影響する。このような事情から、洗浄対象物を洗浄する際に上述の微細な異物も除去することが求められている。

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、洗浄性に優れ、かつ金属及び樹脂に対する反応性が抑制された洗浄剤組成物及び洗浄剤組成物用原液を提供することを目的とする。

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を進めた結果、グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、親水性のカルボン酸と、水とを含む洗浄剤組成物が、洗浄性に優れ、かつ金属及び樹脂に対する反応性が抑制されていることを見いだし、本発明を完成させた。すなわち、本発明は以下の通りである。

［１］グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、親水性のカルボン酸と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
上記グリコールエーテル化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、４．９～９０質量％であり、
上記疎水性の第三級アミン化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、０．１～１０質量％であり、
上記親水性のカルボン酸は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、０．０１～１０質量％であり、
上記水は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、９．９～９４．９９質量％である、洗浄剤組成物。

［２］上記グリコールエーテル化合物は、式（１）で表される化合物又は式（６）で表される化合物である、［１］に記載の洗浄剤組成物。

（式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を示し、Ｒ^４は、炭素数１～１１の鎖状又は環状の炭化水素基を示し、上記炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよく、式（６）中、Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）

［３］上記グリコールエーテル化合物は、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジメチルプロピレンジグリコール、ジメチルジグリコール、ベンジルグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、フェニルプロピレングリコール、ヘキシルグリコール、ヘキシルジグリコール、２－エチルヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルジグリコール、プロピルプロピレンジグリコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、３－メトキシ－３－メチルブタノール、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルブチルエーテル、及びトリエチレングリコールエチルブチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む、［２］に記載の洗浄剤組成物。

［４］上記疎水性の第三級アミン化合物は、式（２）で表される化合物である、［１］～［３］のいずれかに記載の洗浄剤組成物。

（式（２）中、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、炭素数１～１０の鎖状の炭化水素基を示し、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の炭素数の和が８～２４である。）

［５］上記疎水性の第三級アミン化合物は、Ｎ，Ｎ’－ジメチルデシルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルオクチルアミン、トリオクチルアミン、トリプロピルアミン、トリアリルアミン及びジイソプロピルエチルアミンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む、［４］に記載の洗浄剤組成物。

［６］上記親水性のカルボン酸は、式（３）又は式（４）で表される化合物である、［１］～［５］のいずれかに記載の洗浄剤組成物。

（式（３）中、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～３の鎖状の炭化水素基又はカルボキシメチル基を示し、式（４）中、Ｒ^１０及びＲ^１１は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～３の鎖状の炭化水素基又はカルボキシメチル基を示し、炭素－炭素二重結合に直接結合している２つのカルボキシル基はシス型又はトランス型である。）

［７］上記親水性のカルボン酸は、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、アコニット酸、シトラコン酸、フマル酸及びメサコン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む、［６］に記載の洗浄剤組成物。

［８］上記疎水性の第三級アミン化合物を含む有機相と、上記親水性のカルボン酸及び上記水を含む水相とを含み、
洗浄対象物を洗浄する温度において静置時に、上記有機相からなる第一層と上記水相からなる第二層とを含む少なくとも２層以上に分離している、［１］～［７］のいずれかに記載の洗浄剤組成物。

［９］親水性のアミン化合物の含有割合が上記洗浄剤組成物の全量に対して０質量％を超えて０．１質量％未満である、［１］～［８］のいずれかに記載の洗浄剤組成物。

［１０］フラックス洗浄用、又は微細な異物の洗浄用である、［１］～［９］のいずれかに記載の洗浄剤組成物。

［１１］グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、親水性のカルボン酸とを含む洗浄剤組成物用原液であって、
上記グリコールエーテル化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物用原液の全体に対して、６０～９９．８質量％であり、
上記疎水性の第三級アミン化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物用原液の全体に対して、０．１～２０質量％であり、
上記親水性のカルボン酸は、その含有割合が上記洗浄剤組成物用原液の全体に対して、０．１～２０質量％であり、
洗浄対象物を洗浄する際に、水で１．１～２０倍に希釈して用いられる、洗浄剤組成物用原液。

本発明によれば、洗浄性に優れ、かつ金属及び樹脂に対する反応性が抑制された洗浄剤組成物及び洗浄剤組成物用原液を提供することが可能になる。

図１は、本実施形態の一態様に係る洗浄装置の模式図である。 図２は、本実施形態の他の態様に係る洗浄装置の模式図である。

以下、本発明の一実施形態（以下「本実施形態」と記す。）について説明する。ただし、本実施形態はこれに限定されるものではない。本明細書において「Ｘ～Ｙ」という形式の表記は、範囲の上限下限（すなわちＸ以上Ｙ以下）を意味する。Ｘにおいて単位の記載がなく、Ｙにおいてのみ単位が記載されている場合、Ｘの単位とＹの単位とは同じである。

≪洗浄剤組成物≫
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、親水性のカルボン酸と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
上記グリコールエーテル化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、４．９～９０質量％であり、
上記疎水性の第三級アミン化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、０．１～１０質量％であり、
上記親水性のカルボン酸は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、０．０１～１０質量％であり、
上記水は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、９．９～９４．９９質量％である。

上記洗浄剤組成物は、上述の構成を備えることで、洗浄性に優れ、かつ金属及び樹脂に対する反応性が抑制されたものとなる。ここで、「金属及び樹脂に対する反応性」とは、金属に対する腐食性（金属腐食性）及び樹脂に対する溶解性（樹脂溶解性）を意味する。

上記洗浄剤組成物は、洗浄対象物の表面に付着した汚れ（例えば、フラックス残渣（ロジン系フラックス、水溶性フラックス等）及び微細な異物）を除去するために用いられる。本実施形態において、「微細な異物」とは、サイズが１～１００μｍである異物を意味する。「異物」とは、上記洗浄対象物に付着すると上記洗浄対象物の機能を損ねるような不要な物を意味する。上述の微細な異物は、例えば、有機化合物からなる異物（樹脂の摩耗粉、動物の皮脂等）、無機化合物からなる異物、金属からなる異物（金属の摩耗粉等）が挙げられる。上記洗浄対象物の材料としては、通常用いられる材料であればどのようなものであってもよい。上記材料としては、例えば、鉄、ＳＵＳ、銅及びアルミニウム等の金属、シリカ及びアルミナ等の無機物、並びに、ポリアミド（ナイロン）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリイミド、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合樹脂（ＡＢＳ樹脂）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、アセタール樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリテトラフルオロエチレン（テフロン（登録商標））、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）及びエポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。

＜グリコールエーテル化合物＞
上記洗浄物組成物は、グリコールエーテル化合物を含む。本実施形態において「グリコールエーテル化合物」とは、二価アルコールのエーテル化合物を意味する。上記グリコールエーテル化合物は、疎水性のグリコールエーテル化合物であってもよいし、親水性のグリコールエーテル化合物であってもよい。本実施形態において、「疎水性」とは、水に対する溶解度が５０質量％以下である性質を意味する。「親水性」とは、水に対する溶解度が５０質量％を超える性質を意味する。上記グリコールエーテル化合物は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。上記グリコールエーテル化合物は、市販品をそのまま用いてもよい。

本実施形態において、上記グリコールエーテル化合物は、式（１）で表される化合物又は式（６）で表される化合物であることが好ましい。

上記式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を示す。Ｒ^４は、炭素数１～１１の鎖状又は環状の炭化水素基を示す。上記炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよい。上記炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－が－Ｏ－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を当該炭化水素基の炭素数とする。

本実施形態の一側面において、Ｒ^１は水素原子であることが好ましい。すなわち、上記グリコールエーテル化合物は、式（５）で表される化合物であることが好ましい。

Ｒ^４における鎖状の炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。当該炭化水素基は、直鎖状の炭化水素基であってもよいし、分岐鎖状の炭化水素基であってもよい。Ｒ^４における鎖状の炭化水素基は、炭素数が４～６であることが好ましい。Ｒ^４における鎖状の炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、メトキシエチル基等が挙げられる。

Ｒ^４における環状の炭化水素基は、飽和の脂環式炭化水素基であってもよいし、不飽和の脂環式炭化水素基であってもよいし、芳香族炭化水素基であってもよい。Ｒ^４における環状の炭化水素基は、炭素数が６～９であることが好ましい。Ｒ^４における環状の炭化水素基は、例えば、フェニル基、ベンジル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。

式（６）中、Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。本実施形態の一側面において、Ｒ^１２は水素原子であり、Ｒ^１３はメチル基であることが好ましい。本実施形態の他の一側面において、Ｒ^１２はメチル基であり、Ｒ^１３はメチル基であることが好ましい。

上記グリコールエーテル化合物は、プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＦＧ）、プロピレングリコールモノブチルエーテル（ＢＦＧ）、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル（ＢＦＤＧ）、ジメチルプロピレンジグリコール（ＤＭＦＤＧ）、ジメチルジグリコール（ＤＭＤＧ）、ベンジルグリコール（ＢｚＧ）、フェニルグリコール（ＰｈＧ）、フェニルジグリコール（ＰｈＤＧ）、フェニルプロピレングリコール（ＰｈＦＧ）、ヘキシルグリコール（ＨｅＧ）、ヘキシルジグリコール（ＨｅＤＧ）、２－エチルヘキシルグリコール（ＥＨＧ）、２－エチルヘキシルジグリコール（ＥＨＤＧ）、プロピルプロピレンジグリコール（ＰＦＤＧ）、エチレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＳ）、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル（ＥＴＢ）、３－メトキシ－３－メチルブタノール（ＭＭＢ）、２－メトキシブタノール（２ＭＢ）、３－メトキシブタノール（３ＭＢ）、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル（ｉＰＧ）、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル（ＩＰＤＭ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＤＰＭ）、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル（ＭＥＤＧ）、トリエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＴＧ）、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル（ｉＰＤＧＭｅ）、ジエチレングリコールエチルイソプロピルエーテル（ｉＰＤＧＥｔ）、ジエチレングリコールエチルブチルエーテル（ＢＤＧＥｔ）、及びトリエチレングリコールエチルブチルエーテル（ＢＴＧＥｔ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。上記グリコールエーテル化合物は、プロピレングリコールモノブチルエーテル、２－エチルヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルジグリコール、ジメチルプロピレンジグリコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル又は、３－メトキシ－３－メチルブタノールを含むことがより好ましい。上述したグリコールエーテル化合物の構造式を以下に示す。

上記グリコールエーテル化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、４．９～９０質量％であり、７～７０質量％であることが好ましく、１０～５０質量％であることがより好ましい。このようにすることで、フラックス残渣に対する洗浄性が更に優れる洗浄剤組成物となる。上記グリコールエーテル化合物は、ガスクロマトグラフィーによる分析で求めることができる。ガスクロマトグラフィーによる分析の条件は以下の通りである。
装置：ガスクトマログラフ ＧＣ－１４Ｂ（株式会社島津製作所製）
検出器：熱伝導度型検出器（ＴＣＤ）
カラム：Ｔｈｅｒｍｏｎ－３０００（信和化工株式会社製）
気化室温度：１６０℃
検出器温度：１６０℃

＜疎水性の第三級アミン化合物＞
上記洗浄物組成物は、疎水性の第三級アミン化合物を含む。ここで「第三級アミン化合物」とは、アンモニアの３つの水素原子が炭化水素基で置換された化合物を意味する。本実施形態において、「疎水性」とは、水に対する溶解度が５０質量％以下である性質を意味する。上記疎水性の第三級アミン化合物は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。上記疎水性の第三級アミン化合物は、市販品をそのまま用いてもよい。

本実施形態において、上記疎水性の第三級アミン化合物は、式（２）で表される化合物であることが好ましい。

上記式（２）中、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に、炭素数１～１０の鎖状の炭化水素基を示す。また、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の炭素数の和は、８～２４である。

Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７それぞれにおける鎖状の炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。当該炭化水素基は、直鎖状の炭化水素基であってもよいし、分岐鎖状の炭化水素基であってもよい。当該鎖状の炭化水素基は、炭素数が３～８であることが好ましい。当該鎖状の炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アリル基、オクチル基等が挙げられる。Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７の炭素数の和は、９～１２であることが好ましい。

上記疎水性の第三級アミン化合物は、Ｎ，Ｎ’－ジメチルデシルアミン（ＤＭＤＡ）、Ｎ，Ｎ’－ジメチルオクチルアミン（ＤＭＯＡ）、トリオクチルアミン（ＴＯＡ）、トリプロピルアミン（ＴＰＡ）、トリアリルアミン（ＴＡＡ）及びジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことが好ましい。上記疎水性の第三級アミン化合物は、Ｎ，Ｎ’－ジメチルデシルアミン又はＮ，Ｎ’－ジメチルオクチルアミンを含むことが好ましい。上述した疎水性の第三級アミン化合物の構造式を以下に示す。

上記疎水性の第三級アミン化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、０．１～１０質量％であり、０．１～３質量％であることが好ましく、０．１～２質量％であることがより好ましい。このようにすることで、フラックス残渣に対する除去性（洗浄性）、及び微細な異物に対する除去性が更に優れる洗浄剤組成物となる。上記疎水性の第三級アミン化合物は、ガスクロマトグラフィーによる分析で求めることができる。ガスクロマトグラフィーによる分析の条件は上述の条件が用いられる。

＜親水性のカルボン酸＞
上記洗浄物組成物は、親水性のカルボン酸を含む。本実施形態において「親水性」とは、水に対する溶解度が５０質量％を超える性質を意味する。また「カルボン酸」とは、カルボキシル基を有する有機化合物を意味する。上記親水性のカルボン酸は、公知の出発物質から公知の方法によって合成してもよい。上記親水性のカルボン酸は、市販品をそのまま用いてもよい。

本実施形態において、上記親水性のカルボン酸は、式（３）又は式（４）で表される化合物であることが好ましい。

式（３）中、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～３の鎖状の炭化水素基又はカルボキシメチル基を示す。式（４）中、Ｒ^１０及びＲ^１１は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～３の鎖状の炭化水素基又はカルボキシメチル基を示す。式（４）中、炭素－炭素二重結合に直接結合している２つのカルボキシル基はシス型又はトランス型である。

Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１それぞれにおける鎖状の炭化水素基は、飽和炭化水素基であってもよいし、不飽和炭化水素基であってもよい。当該炭化水素基は、直鎖状の炭化水素基であってもよいし、分岐鎖状の炭化水素基であってもよい。当該鎖状の炭化水素基は、炭素数が１であることが好ましい。当該鎖状の炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アリル基等が挙げられる。

上記親水性のカルボン酸は、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、アコニット酸、シトラコン酸、フマル酸及びメサコン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含むことがより好ましい。上記親水性のカルボン酸は、クエン酸、リンゴ酸、又は乳酸を含むことが好ましい。上述した親水性のカルボン酸の構造式を以下に示す。

上記親水性のカルボン酸は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全体に対して、０．０１～１０質量％であり、０．０５～３質量％であることが好ましく、０．１～２質量％であることがより好ましい。このようにすることで、フラックス残渣に対する除去性（洗浄性）、及び微細な異物に対する除去性が更に優れる洗浄剤組成物となる。上記親水性のカルボン酸は、電位差滴定法による分析で求めることができる。電位差滴定法による分析の条件は以下の通りである。
装置：電位差自動滴定装置 Ｍｏｄｅｌ ＡＴ－７１０Ｍ（京都電子工業株式会社）
測定温度：２０℃

＜水＞
上記洗浄剤組成物は、水を含む。上記水は、各種工業製品の原料として用いられる水、水道水等であれば特に制限はない。上記水は、蒸留水であってもよいし、イオン交換水であってもよい。本実施形態の一側面において、上記水は、その電気伝導率が１～３００μＳ／ｃｍであってもよいし、１～１００μＳ／ｃｍであってもよい。

上記水は、その含有割合が上記洗浄剤組成物の全量に対して９．９～９４．９９質量％であり、１３～９０質量％であることが好ましく、１５～９０質量％であることがより好ましく、２０～８５質量％であることが更に好ましい。このようにすることで、作業安全性及び環境安全性に優れる洗浄剤組成物となる。上記水の含有割合は、カールフィッシャー水分計による分析で求めることができる。カールフィッシャー水分計による分析の条件は以下の通りである。
カールフィッシャー水分計の分析条件
装置：カールフィッシャー水分計 ＭＫＳ－５００（京都電子工業株式会社製）
測定方法：容量滴定法
測定温度：２０℃

＜親水性のアミン化合物＞
本実施形態の一側面において、上記洗浄剤組成物は、親水性のアミン化合物の含有割合が上記洗浄剤組成物の全量に対して０質量％を超えて０．１質量％未満であることが好ましい。親水性のアミン化合物の含有割合を上述の範囲にすることによって、洗浄対象物における金属への変色及び腐食等の影響を低減することが可能になる。本実施形態の一側面において、上記洗浄剤組成物は、上記親水性のアミン化合物を含まないことがより好ましい。

本実施形態において上記親水性のアミン化合物としては、２－（エチルアミノ）エタノール（ＭＥＭ）、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－Ｎ－シクロヘキシルアミン（ＣＨＥ－２０）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，６－ジアミノヘキサン（ＴＭＨＤＡ）、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン（ＤＥＡ）、トリエタノールアミン（ＴＥＡ）等が挙げられる。すなわち、上記洗浄剤組成物は、ＭＥＭ、ＣＨＥ－２０、ＴＭＨＤＡ、ＭＥＡ、ＤＥＡ及びＴＥＡを含まないことが好ましい。
本実施形態の一側面において、上記洗浄剤組成物は、ＭＥＭ、ＣＨＥ－２０、ＴＭＨＤＡ、ＭＥＡ、ＤＥＡ及びＴＥＡからなる群より選ばれる少なくとも一種の親水性のアミン化合物を含まないことが好ましい。

＜その他の成分＞
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、本発明の効果が奏される限り、その他の成分が更に含まれていてもよい。上記その他の成分としては、例えば、界面活性剤、防錆剤、ｐＨ調整剤、キレート剤、増粘剤、湿潤剤、蒸発遅延剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、顔料、香料及び防腐剤等が挙げられる。

＜洗浄剤組成物の特性＞
本実施形態の一側面において、上記洗浄剤組成物は上記疎水性の第三級アミン化合物を含む有機相と、上記親水性のカルボン酸及び上記水を含む水相とを含むと把握することができる。上記洗浄剤組成物は、洗浄対象物を洗浄する温度において静置時に、上記有機相からなる第一層と上記水相からなる第二層とを含む少なくとも２層以上に分離していることが好ましい。ここで「洗浄対象物を洗浄する温度」とは、洗浄処理において洗浄対象物から汚れ（例えば、フラックス残渣等）を除去しうる、洗浄剤組成物の温度を意味する。当該温度は、例えば、２０～７０℃であってもよいし、３０～６０℃であってもよいし、４０～５０℃であってもよい。「静置時」とは、上記洗浄剤組成物が、重力以外の外力を受けていない状態を４時間維持した時を意味する。より具体的には、上記「静置時」は上記洗浄剤組成物が、振動、回転及び撹拌されていない状態を４時間維持した時と把握することもできる。なお、上記グリコールエーテル化合物は、有機相に含まれていてもよいし、水相に含まれていてもよいし、両相共に含まれていてもよい。
本実施形態の一側面において、上記洗浄剤組成物は、洗浄対象物を洗浄する温度において静置時に、３層以上に分離してもよい。

アミン化合物による金属の腐食を抑制するために、上記アミン化合物と酸（例えば、有機酸）とを共に配合する洗浄剤組成物は、従来から知られていた。しかし、アミン化合物と酸とで塩が形成されてしまうため、従来の洗浄剤組成物は洗浄性が低下する傾向があった。
本実施形態に係る洗浄剤組成物は、疎水性の第三級アミン化合物が有機相に存在し、かつ親水性のカルボン酸が水相に存在する。このように塩を形成する成分がそれぞれ異なる相に存在するため、両成分が接触する機会が制限される。その結果、当該洗浄剤組成物は塩の形成が抑制され洗浄性の低下が抑制されると、本発明者らは考えている。

≪洗浄剤組成物用原液≫
本実施形態に係る洗浄剤組成物用原液は、グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、親水性のカルボン酸とを含む洗浄剤組成物用原液であって、
上記グリコールエーテル化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物用原液の全体に対して、６０～９９．８質量％であり、
上記疎水性の第三級アミン化合物は、その含有割合が上記洗浄剤組成物用原液の全体に対して、０．１～２０質量％であり、
上記親水性のカルボン酸は、その含有割合が上記洗浄剤組成物用原液の全体に対して、０．１～２０質量％であり、
洗浄対象物を洗浄する際に、水で１．１～２０倍（好ましくは、１．５～１０倍、より好ましくは２．５～１０倍）に希釈して用いられる。上記洗浄剤組成物用原液を上述の倍率（体積比率）で希釈することで、上記洗浄剤組成物を得ることができる。

≪洗浄剤組成物の製造方法≫
本実施形態に係る洗浄剤組成物の製造方法は、上記グリコールエーテル化合物と、上記疎水性の第三級アミン化合物と、上記親水性のカルボン酸と、上記水とを準備する工程と、上記グリコールエーテル化合物と、上記疎水性の第三級アミン化合物と、上記親水性のカルボン酸とを上記水に添加する工程を含む。当該添加する工程は、どのような手法を用いてもよい。添加する工程としては、例えば、フラスコに上記グリコールエーテル化合物、上記疎水性の第三級アミン化合物、上記親水性のカルボン酸及び上記水を加えること、及び化学プラント等において、工業的規模で上記グリコールエーテル化合物、上記疎水性の第三級アミン化合物、上記親水性のカルボン酸及び上記水を加えること等が挙げられる。

≪洗浄対象物の洗浄方法≫
本実施形態に係る洗浄対象物の洗浄方法は、
洗浄対象物の洗浄方法であって、上記洗浄剤組成物を上記洗浄対象物の表面に接触させることを含む。

上記洗浄剤組成物を上記洗浄対象物の表面に接触させる方法は特に制限されない。当該方法は、例えば、浸漬、塗布、及びスプレー又はシャワーによる噴霧などの方法によって、大気中、減圧下、または加圧下で常温下又は加熱下で接触させることが挙げられる。浸漬によって上記洗浄剤組成物を上記洗浄対象物の表面に接触させる場合、必要に応じて、超音波処理、バブリング処理、揺動等の操作を行ってもよい。当該方法は、加温した上記洗浄剤組成物が投入された洗浄剤槽に、上記洗浄対象物を浸漬して、洗浄することが好ましい。このとき、上記洗浄剤組成物を撹拌して上記水相と上記有機相とが均一に分散した状態とすることが好ましい。浸漬する時間は、１分間～６０分間であることが好ましい。

本実施形態の洗浄対象物の洗浄方法は、上記洗浄剤組成物の温度を２０～７０℃とすることが好ましく、３０～６０℃とすることがより好ましく、４０～５０℃とすることが更に好ましい。

その後、水又は含水アルコールによるリンスを行って、乾燥で洗浄剤組成物を、上記洗浄対象物から除去すればよい。

本実施形態の一側面において、上記洗浄対象物の洗浄方法を行うにあたり、例えば、図１及び図２に示されるような洗浄装置を用いてもよい。図１及び図２に示す洗浄装置１０は、超音波洗浄するための超音波振動子２９を備えた洗浄槽１２と、リンス槽１４と、乾燥槽１６と、を備えている。

洗浄槽１２は、筐体１２ａと、洗浄対象物２３の収容部２０と、超音波振動子２９と、洗浄剤組成物２１の攪拌装置（図示せず）と、サーモスタット付きのヒーター１９とを備えている。上記洗浄槽１２はこのような構成を備えることで、攪拌および循環している洗浄剤組成物２１に対して、超音波振動子２９が、超音波振動を付与し、洗浄対象物２３を効率的に洗浄することができる。

また、図２に示すように、洗浄槽１２は洗浄剤組成物２１を循環させるための循環路２２を更に備えていてもよい。循環経路２２は、その経路の途中に、洗浄剤組成物２１を循環するためのポンプ２４と、洗浄剤組成物２１中に含まれる汚染物（フラックス残渣及び微細な異物等）を除去するためのフィルタ２８及び塩形成化合物収容部２６とが配置されている。すなわち、循環経路２２中に設けられているポンプ２４によって、一部汚染された洗浄剤組成物２１を循環させ、フィルタ２８及び塩形成化合物収容部２６において、汚染物を除去することで洗浄剤組成物２１を再生することができる。

リンス槽１４にはリンス液１５が貯留されている。リンス液１５ですすぐことで、洗浄対象物２３から洗浄剤組成物２１を除去する。さらに乾燥用ヒーター１７を備えている乾燥槽１６において、リンス液１５等を蒸発させて、洗浄対象物２３を乾燥させる。
リンス液１５の組成としては、特に制限はないが、以下のリンス剤が好ましく用いられる。すなわち、少なくとも水溶性グリコールエーテル化合物及び水を含み、ベンジルアルコールの溶解度が１０ｖｏｌ％以上であるリンス剤であって、上記水溶性グリコールエーテル化合物１００重量部に対して、上記水の配合量が５０～１０００重量部である、リンス剤が好ましく用いられる。本実施形態の他の側面において、グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、水とを含むリンス剤であって、上記グリコールエーテル化合物は、その含有割合が上記リンス剤の全体に対して、４．９～９０質量％であり、上記疎水性の第三級アミン化合物は、その含有割合が上記リンス剤の全体に対して、０．１～１０質量％であり、上記水は、その含有割合が上記リンス剤の全体に対して、９．９～９５質量％であるリンス剤が好ましく用いられる。

このような洗浄装置１０を使用することにより、本発明の洗浄剤組成物を用いて、はんだ処理された電子部品及び基板を洗浄し、それらに付着しているフラックス残渣及び微細な異物等を効率的に除去することができる。

本実施形態に係る洗浄剤組成物は、フラックス残渣及び微細な異物を除去するために好適に用いることができる。すなわち、上記洗浄剤組成物は、フラックス洗浄用、又は微細な異物の洗浄用であることが好ましい。

以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

≪原料≫
本実施例において使用した原料となる化合物の名称等を以下に示す。
Ｎ，Ｎ’－ジメチルオクチルアミン（ＤＭＯＡ） ：富士フイルム和光純薬株式会社製
Ｎ，Ｎ’－ジメチルデシルアミン（ＤＭＤＡ） ：富士フイルム和光純薬株式会社製
ジ－ｎ－ブチルアミン（ＤＢＡ） ：広栄化学工業株式会社製
ｎ－オクチルアミン ：富士フイルム和光純薬株式会社製
２－（エチルアミノ）エタノール（ＭＥＭ） ：日本乳化剤株式会社製
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，６－ジアミノヘキサン（ＴＭＨＤＡ） ：富士フイルム和光純薬株式会社製
Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－Ｎ－シクロヘキシルアミン（ＣＨＥ－２０） ：新日本理化株式会社製
エチレングリコールモノイソブチルエーテル（ｉ－ＢＧ） ：日本乳化剤株式会社製
トリエチレングリコールものブチルエーテル（ＢＴＧ） ：日本乳化剤株式会社製
エチレングリコール－ｔ－ブチルエーテル（ＥＴＢ） ：丸善石油化学株式会社製
ジエチレングリコールジエチルエーテル（ＤＥＤＧ） ：日本乳化剤株式会社製
ジメチルプロピレンジグリコール（ＤＭＦＤＧ） ：日本乳化剤株式会社製
２－エチルヘキシルグリコール（ＥＨＧ） ：日本乳化剤株式会社製
２－エチルヘキシルジグリコール（ＥＨＤＧ） ：日本乳化剤株式会社製
プロピレングリコールモノブチルエーテル（ＢＦＧ） ：日本乳化剤株式会社製
デカヒドロナフタリン（ＤＨＮＡ） ：新日鉄住金化学株式会社製
ヘプタノール ：東洋合成工業株式会社製
Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ） ：三菱ケミカル株式会社製
酢酸 ：富士フイルム和光純薬株式会社製
クエン酸 ：富士フイルム和光純薬株式会社製
リンゴ酸 ：富士フイルム和光純薬株式会社製
乳酸 ：富士フイルム和光純薬株式会社製
ｐ－トルエンスルホン酸 ：富士フイルム和光純薬株式会社製
ラウリン酸 ：富士フイルム和光純薬株式会社製
ピロメリット酸 ：東京化成工業株式会社製
サリチル酸 ：富士フイルム和光純薬株式会社製
トリオクチルアミン（ＴＯＡ） ：富士フイルム和光純薬株式会社製
３－メトキシ－３－メチルブタノール（ＭＭＢ） ：株式会社クラレ製
エチレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＳ） ：ダウ・ケミカル日本株式会社製
ヘキシルジグリコール（ＨｅＤＧ） ：日本乳化剤株式会社製
フェニルプロピレングリコール（ＰｈＦＧ） ：日本乳化剤株式会社製

≪実験１：従来の洗浄剤組成物との性能の比較≫
＜洗浄剤組成物の作製＞
まず、表１に示される配合組成に基づいて試料番号１１、試料番号１２、及び試料番号１０１～試料番号１０４の洗浄剤組成物を作製した。表１の「配合組成」において「－」で示されている成分は、当該試料において加えなかったことを意味する。

＜洗浄剤組成物の性能評価＞
（金属に対する反応性評価）
（テストピースの準備）
金属に対する反応性（金属腐食性）の評価に用いるためのテストピースとして、アルミニウム板（Ａ１０５０ｐ、２０×５０×ｔ３ｍｍ）及び、銅板（２０×５０×ｔ０．５ｍｍ）を準備した。

（金属腐食性の評価試験）
以下の手順で、試料番号１１、試料番号１２、及び試料番号１０１～試料番号１０４における洗浄剤組成物の金属腐食性を評価した。まず、ビーカー（５００ｍｌ）に上記洗浄剤組成物を４００ｍｌ加えて、６０℃になるまで加温した。次に加温された洗浄剤組成物を７５０ｒｐｍで撹拌して水相と有機相とが分散するようにした。上述の分散した状態を維持しながら上記洗浄剤組成物にテストピースを浸漬した。テストピースを上記洗浄剤組成物に浸漬してから１０分毎に上記テストピースを取り出し、水洗、送風乾燥後、目視によって上記テストピースの表面における色調の変化を観察した。当該表面の色調が変化（例えば、黒変、白化等）していた場合、テストピースが腐食したと判定した。テストピースの腐食が認められるまでの浸漬時間に応じて以下の基準で評価を行った。評価結果を表１に示す。試料番号１１及び試料番号１２は、実施例に相当する。試料番号１０１～試料番号１０４は、従来から用いられている洗浄剤組成物であり、比較例に相当する。
評価ランクの基準
Ｓランク ：９０分間浸漬後にテストピースの表面における色調変化が認められない。
Ａランク ：６０分間浸漬後にテストピースの表面における色調変化が見られないが、９０分浸漬後に当該色調変化が認められる。
Ｂランク ：３０分間浸漬後にテストピースの表面における色調変化が見られないが、６０分浸漬後に当該色調変化が認められる。
Ｃランク ：１０分間浸漬後にテストピースの表面における色調変化が見られないが、３０分浸漬後に当該色調変化が認められる。
Ｄランク ：１０分後にテストピースの表面における色調変化が認められた。

（樹脂に対する反応性評価）
（テストピースの準備）
樹脂に対する反応性（樹脂溶解性）の評価に用いるためのテストピースとして、ポリプロピレン製の樹脂板（２０×５０×ｔ２ｍｍ）を準備した。

（樹脂溶解性の評価試験）
以下の手順で、試料番号１１、試料番号１２、及び試料番号１０１～試料番号１０４の洗浄剤組成物の樹脂溶解性を評価した。まず、ビーカー（５００ｍｌ）に上記洗浄剤組成物を４００ｍｌ加えて、６０℃になるまで加温した。次に加温された洗浄剤組成物を７５０ｒｐｍで撹拌して水相と有機相とが分散するようにした。上述の分散した状態を維持しながら上記洗浄剤組成物にテストピースを浸漬した。テストピースを上記洗浄剤組成物に浸漬してから１０分後に上記テストピースを取り出し、水洗、送風乾燥後、当該テストピースの質量変化率及び体積変化率を以下の式で求めた。テストピースの体積は、ノギスでテストピースの縦、横及び厚みの寸法を計測して算出した。また、当該テストピースの外観を目視で観察した。求めた質量変化率及び体積変化率並びにテストピースの外観に応じて以下の基準で評価を行った。結果を表１に示す。
テストピースの質量変化率（％）＝１００×｛（洗浄剤組成物に浸漬してから１０分後のテストピースの質量）－（洗浄剤組成物に浸漬する前のテストピースの質量）｝／（洗浄剤組成物に浸漬する前のテストピースの質量）
テストピースの体積変化率（％）＝１００×｛（洗浄剤組成物に浸漬してから１０分後のテストピースの体積）－（洗浄剤組成物に浸漬する前のテストピースの体積）｝／（洗浄剤組成物に浸漬する前のテストピースの体積）
評価ランクの基準
Ｓランク ：質量変化率及び体積変化率が±１％以内
Ａランク ：質量変化率及び体積変化率が±１％を超えて±３％以内
Ｂランク ：質量変化率及び体積変化率が±３％を超えて±５％以内
Ｃランク ：質量変化率及び体積変化率が±５％を超えて±１０％以内
Ｄランク ：質量変化率及び体積変化率が±１０％を超える、又はクラック、溶解等の外観変化が生じた。

（ロジン系フラックス残渣の洗浄性の評価）
（テストピースの準備）
以下の手順で洗浄性を評価するためのテストピースを準備した。まず、ＪＩＳ２形くし形電極基板（株式会社サトーセン製）を用意した。上記くし形基板にメタルマスクをかぶせ、その上からソルダペースト（千住金属工業株式会社社製、商品名Ｍ７０５－ＧＲＮ３６０－Ｋ２－Ｖ、又は株式会社弘輝製、商品名Ｓ３Ｘ５８－Ｍ５００－２）を印刷した。その後、当該くし形電極基板を２５０℃で３分間ホットプレート上で静置することでリフローを行った。以上の手順で、ソルダペーストがそれぞれ異なる２種類のテストピースを作製した。

（洗浄性の評価試験）
以下の手順で、試料番号１１、試料番号１２、及び試料番号１０１～試料番号１０４の洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。まず、ビーカー（５００ｍｌ）に上記洗浄剤組成物を４００ｍｌ加えて、５０℃になるまで加温した。次に加温された洗浄剤組成物を７５０ｒｐｍで撹拌して水相と有機相とが分散するようにした。上述の分散した状態を維持しながら上記洗浄剤組成物にテストピースを浸漬した。テストピースを上記洗浄剤組成物に浸漬してから所定時間経過後に上記テストピースを取り出し、水洗及び乾燥を行った後、実体顕微鏡（倍率４０倍）を用いて表面観察し、フラックス残渣が完全に除去することが可能な時間を測定するとともに、以下の基準に照らして、洗浄性評価を行った。評価結果を表１に示す。
評価ランクの基準
Ｓランク ：洗浄時間が２０分未満である。
Ａランク ：洗浄時間が２０分以上３０分未満である。
Ｂランク ：洗浄時間が３０分以上４５分未満である。
Ｃランク ：洗浄時間が４５分以上６０分未満である。
Ｄランク ：洗浄時間が６０分以上である。

（洗浄剤組成物の外観評価）
試料番号１１、試料番号１２、及び試料番号１０１～試料番号１０４の洗浄剤組成物を常温（２０℃）で静置した。その後、各洗浄剤組成物の外観を観察した。評価結果を表１に示す。表中「２層分離」と表記されているものは、水相と有機相の２層に分離していたことを意味する。一方「均一」と表記されているものは、水相と有機相とが一体となって観察されたことを意味する。「２層分離」の洗浄剤組成物は、「均一」の洗浄剤組成物と比べて洗浄性に優れていると本発明者らは考えている。

表１の結果から、グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、親水性のカルボン酸と、水とを含む洗浄剤組成物（試料番号１１及び試料番号１２）は、樹脂溶解性及び金属腐食性がぞれぞれＳランクを示していた。また、試料番号１１及び試料番号１２の洗浄剤組成物は、洗浄性がＳランクであった。以上の結果から、試料番号１１及び試料番号１２の洗浄剤組成物は、洗浄性に優れ、かつ金属及び樹脂に対する反応性が抑制されていることが分かった。

一方、試料番号１０１～試料番号１０４の洗浄剤組成物は、洗浄性が不十分であった（Ｃランク又はＤランク）。また試料番号１０４の洗浄剤組成物は、銅に対して腐食性を有していた。

≪実験２：グリコールエーテル化合物の検討≫
洗浄剤組成物に含まれるグリコールエーテル化合物として、ＢＦＧ以外の化合物を用いて性能の比較を行った。また、併せてグリコールエーテル化合物の代わりに炭化水素化合物を用いた場合の性能も評価した。

＜洗浄剤組成物の作製＞
表２－１、表２－２及び表２－３に示される配合組成に基づいて試料番号２１～試料番号２８及び試料番号２０１～試料番号２１０の洗浄剤組成物を作製した。表２－１～表２－３の「配合組成」において「－」で示されている成分は、当該試料において加えなかったことを意味する。

＜洗浄剤組成物の性能評価＞
「実験１」と同様の方法によって、金属に対する反応性、樹脂に対する反応性、洗浄性、洗浄剤組成物の外観、及び洗浄剤組成物の曇点を評価した。結果を表２－１～表２－３に示す。試料番号２１～試料番号２８は、実施例に相当する。試料番号２０１～試料番号２１０は、比較例に相当する。

表２－１及び２－３の結果から、グリコールエーテル化合物と、親水性のカルボン酸とを共に用いた試料番号２１～試料番号２８の洗浄剤組成物は、樹脂溶解性及び金属腐食性がぞれぞれＳランクを示していた。また、試料番号２１～試料番号２８の洗浄剤組成物は、洗浄性がＡランク又はＳランクであった。以上の結果から、試料番号２１～試料番号２８の洗浄剤組成物は、洗浄性に優れ、かつ金属及び樹脂に対する反応性が抑制されていることが分かった。

表２－２及び２－３の結果から、親水性のカルボン酸であるクエン酸が洗浄剤組成物に含まれない場合（試料番号２０１～試料番号２１０）、疎水性のグリコールエーテル化合物、親水性のグリコールエーテル化合物及び炭化水素化合物のいずれの場合も洗浄性が不十分であった（Ｂランク～Ｅランク）。

≪実験３：有機酸の検討≫
洗浄剤組成物に含まれる親水性のカルボン酸として、モノカルボン酸（乳酸）、ジカルボン酸（リンゴ酸）及びトリカルボン酸（クエン酸）をそれぞれ用いて性能の比較を行った。また、併せて親水性のカルボン酸の代わりに、スルホン酸及び疎水性の有機酸を用いた場合の性能も評価した。

＜洗浄剤組成物の作製＞
表３に示される配合組成に基づいて試料番号３１～試料番号３３及び試料番号３０１～試料番号３０５の洗浄剤組成物を作製した。表３の「配合組成」において「－」で示されている成分は、当該試料において加えなかったことを意味する。

＜洗浄剤組成物の性能評価＞
「実験１」と同様の方法によって、金属に対する反応性、樹脂に対する反応性、洗浄性、洗浄剤組成物の外観、及び洗浄剤組成物の曇点を評価した。結果を表３に示す。試料番号３１～試料番号３３は、実施例に相当する。試料番号３０１～試料番号３０５は、比較例に相当する。

表３の結果から、親水性のカルボン酸を用いた試料番号３１～試料番号３３の洗浄剤組成物は、樹脂溶解性及び金属腐食性がぞれぞれＳランクを示していた。また、試料番号３１～試料番号３３の洗浄剤組成物は、フラックス残渣の除去率が９０％以上（それぞれＳランク、Ａランク）であった。以上の結果から、試料番号３１～試料番号３３の洗浄剤組成物は、洗浄性に優れ、かつ金属及び樹脂に対する反応性が抑制されていることが分かった。

一方、スルホン酸又は疎水性の有機酸を用いた試料番号３０１～試料番号３０４の洗浄剤組成物は、樹脂溶解性及び金属腐食性に優れるものの（それぞれＳランク）、洗浄性がＤランクであった。なお、酸成分を含んでいない試料番号３０５の洗浄剤組成物は、洗浄性がＣランクであった。

≪実験４：疎水性のアミン化合物の検討≫
洗浄剤組成物に含まれる疎水性のアミン化合物として、第一級アミン化合物、第二級アミン化合物及び第三級アミン化合物をそれぞれ用いて性能の比較を行った。また、併せて疎水性のアミン化合物の代わりに親水性のアミン化合物を用いた場合の性能も評価した。

＜洗浄剤組成物の作製＞
表４－１及び表４－２に示される配合組成に基づいて試料番号４１、試料番号４２及び試料番号４０１～試料番号４１２の洗浄剤組成物を作製した。表４－１及び表４－２の「配合組成」において「－」で示されている成分は、当該試料において加えなかったことを意味する。

＜洗浄剤組成物の性能評価＞
「実験１」と同様の方法によって、金属に対する反応性、樹脂に対する反応性、洗浄性、洗浄剤組成物の外観、及び洗浄剤組成物の曇点を評価した。結果を表４－１及び４－２に示す。試料番号４１及び試料番号４２は、実施例に相当する。試料番号４０１～試料番号４１２は、比較例に相当する。

表４－１の結果から、疎水性の第三級アミン化合物及び親水性のカルボン酸を用いた試料番号４１及び試料番号４２の洗浄剤組成物は、樹脂溶解性及び金属腐食性がそれぞれＳランクを示していた。また、試料番号４１及び試料番号４２の洗浄剤組成物は、洗浄性がＳランクであった。以上の結果から、試料番号４１及び試料番号４２の洗浄剤組成物は、洗浄性に優れ、かつ金属及び樹脂に対する反応性が抑制されていることが分かった。

一方、疎水性の第二級アミン化合物及び親水性のカルボン酸を用いた試料番号４０１の洗浄剤組成物は、洗浄性がＣランクであった。疎水性の第一級アミン化合物及び親水性のカルボン酸を用いた試料番号４０２の洗浄剤組成物は、洗浄性がＢランクまたはＣランクであった。

親水性の第三級アミン化合物を用いた試料番号４０３及び試料番号４０４の洗浄剤組成物は、洗浄性がＣランク又はＤランクであった。試料番号４０３の洗浄剤組成物は、金属腐食性がＢランク又はＣランクであった。親水性の第二級アミン化合物を用いた試料番号４０５の洗浄剤組成物は、洗浄性がＣランク又はＤランクであり、金属腐食性を有していた（Ｃランク）。また、親水性のカルボン酸を含まない試料番号４０６～試料番号４１１の洗浄剤組成物は、洗浄性がＢランク～Ｄランクであった。試料番号４０８～試料番号４１２の洗浄剤組成物は、金属腐食性を有していた（特にアルミニウム）。

≪実験５：水分の含有量の検討≫
洗浄剤組成物に含まれる水分の含有量を変化させた場合、洗浄剤組成物の性能がどのようになるか比較検討を行った。

＜洗浄剤組成物の作製＞
表５に示される配合組成に基づいて試料番号５１～試料番号５５及び試料番号５０１～試料番号５０５の洗浄剤組成物を作製した。また、表６に示される配合組成に基づいて試料番号６１～試料番号６５及び試料番号６０１～試料番号６０５の洗浄剤組成物を作製した。表５及び表６の「配合組成」において「－」で示されている成分は、当該試料において加えなかったことを意味する。

＜洗浄剤組成物の性能評価＞
「実験１」と同様の方法によって、金属に対する反応性、樹脂に対する反応性、洗浄性、洗浄剤組成物の外観、及び洗浄剤組成物の曇点を評価した。結果を表５及び表６に示す。試料番号５１～試料番号５５及び試料番号６１～試料番号６５は、実施例に相当する。試料番号５０１～試料番号５０５及び試料番号６０１～試料番号６０５は、比較例に相当する。

表５及び表６の結果から、グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、親水性のカルボン酸と、水とを含む洗浄剤組成物は、上記水分の含有割合が１０～９０質量％の範囲において、洗浄性に優れ、かつ金属及び樹脂に対する反応性が抑制されていることが確認された。

≪実験６：水溶性フラックス残渣の洗浄性の評価≫
（テストピースの準備）
以下の手順で洗浄性を評価するためのテストピースを準備した。まず、ＪＩＳ２形くし形電極基板（株式会社サトーセン製）を用意した。上記くし形基板にメタルマスクをかぶせ、その上から水溶性ソルダペースト（Ｈｅｒａｅｕｓ社製、商品名ＳｎＡｇ３Ｃｕ０．５－Ｐ４－ＷＬ４４９－８）を印刷した。その後、当該くし形電極基板を１６０℃で４５秒その後２６０℃で３分間ホットプレート上で静置することでリフローを行った。以上の手順で、テストピースを作製した。

（洗浄性の評価試験）
以下の手順で、試料番号２１、試料番号２６～２８及び試料番号２０８～２１０の洗浄剤組成物の洗浄性を評価した。まず、ビーカー（５００ｍｌ）に上記洗浄剤組成物を４００ｍｌ加えて、５０℃になるまで加温した。次に加温された洗浄剤組成物を７５０ｒｐｍで撹拌して水相と有機相とが分散するようにした。上述の分散した状態を維持しながら上記洗浄剤組成物にテストピースを浸漬した。テストピースを上記洗浄剤組成物に浸漬してから所定時間経過後に上記テストピースを取り出し、水洗及び乾燥を行った後、実体顕微鏡（倍率４０倍）を用いて表面観察し、フラックス残渣が完全に除去することが可能な時間を測定するとともに、以下の基準に照らして、洗浄性評価を行った。評価結果を表７に示す。
評価ランクの基準
Ｓランク ：洗浄時間が５分未満である。
Ａランク ：洗浄時間が５分以上１０分未満である。
Ｂランク ：洗浄時間が１０分以上１５分未満である。
Ｃランク ：洗浄時間が１５分以上３０分未満である。
Ｄランク ：洗浄時間が３０分以上である。

表７の結果から、親水性のカルボン酸を用いた試料番号２１及び２６～２８の洗浄剤組成物は、水溶性フラックス残渣に対する洗浄性が、Ａランク又はＳランクであった。一方、親水性のカルボン酸を含まない試料番号２０８～２１０の洗浄剤組成物は、水溶性フラックス残渣に対する洗浄性が、Ｃランクであった。

≪実験７：異物除去性の評価≫
（テストピースの準備）
１．シリカ懸濁液の調製
シリカを０．２質量％含有するアセトン懸濁液を１００ｇ調製した。ここで、上記シリカは、高純度合成球状シリカ（シリカアドマテックス製、商品名：アドマファイン ＳＣ６５００－ＳＥＤ、平均粒子径 １．９μｍ）を用いた。以上の手順でシリカ懸濁液を調製した。

２．テストピースの作製
上述のシリカ懸濁液を室温において４００ｒｐｍで撹拌したままの状態で、スライドガラスを上記シリカ懸濁液に３分間浸漬した。その後、当該スライドガラスを上記シリカ懸濁液から取り出し、１００℃で３分間乾燥させた。以上の手順でテストピースを作製した。

（異物除去性の評価試験）
ビーカー（５００ｍｌ）に試料番号２１、試料番号２６～２８及び試料番号２０８～２１０の洗浄剤組成物を４００ｍｌ加えて、６０℃になるまで加温した。次に加温された洗浄剤組成物を７５０ｒｐｍで撹拌して水相と有機相とが分散するようにした。上述の分散した状態を維持しながら上記洗浄剤組成物にテストピース（各５枚）を浸漬した。テストピースを上記洗浄剤組成物に浸漬してから５分後に上記テストピースを取り出し、水洗及び乾燥を行った。その後、デジタルマイクロスコープ（オリンパス(株)製 ＤＳＸ５１０）を用いて、テストピースの表面を観察（倍率；２００倍）して所定視野内において残存した球状シリカの数をカウントした。洗浄前に観察したテストピースの所定視野内に存在する球状シリカの数と、上述の残存した球状シリカの数とを用いて以下の式から球状シリカ（微細な異物）の除去率を算出した。５枚分のテストピースで求められた除去率の平均値を当該洗浄剤組成物の除去率とした。また、以下の基準に照らして、異物除去性の評価を行った。評価結果を表７に示す。試料番号２１及び試料番号２６～２８は実施例に相当し、試料番号２０８～２１０は比較例に相当する。
除去率（％）＝１００×｛（洗浄前に存在する球状シリカの数）－（洗浄後に残存した球状シリカの数）｝／（洗浄前に存在する球状シリカの数）
評価ランクの基準
Ｓランク ：除去率９０％以上
Ａランク ：除去率８０％以上９０％未満
Ｂランク ：除去率７０％以上８０％未満
Ｃランク ：除去率５０％以上７０％未満
Ｄランク ：除去率５０％未満

表７の結果から、親水性のカルボン酸を用いた試料番号２１及び２６～２８の洗浄剤組成物は、異物除去性がぞれぞれＳランクを示していた。一方、親水性のカルボン酸を含まない試料番号２０８～２１０の洗浄剤組成物は、異物除去性がそれぞれＡランク又はＤランクであり、Ｓランクには至らなかった。以上の結果から、親水性のカルボン酸と疎水性の第三級アミン化合物とを含む洗浄剤組成物は、微細な異物に対する除去性に優れることが分かった。

以上のように本発明の実施形態及び実施例について説明を行なったが、上述の各実施形態及び各実施例の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。

今回開示された実施の形態及び実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施の形態及び実施例ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味、および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

１０ 洗浄装置
１２ 洗浄槽
１２ａ 筐体
１４ リンス槽
１５ リンス液
１６ 乾燥槽
１７ ヒーター
１９ ヒーター
２０ 収容部
２１ 洗浄剤組成物
２２ 循環路
２３ 洗浄対象物
２４ ポンプ
２６ 塩形成化合物収容部
２８ フィルタ
２９ 超音波振動子。

Claims (8)

1. グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、親水性のカルボン酸と、水とを含む洗浄剤組成物であって、
   前記疎水性の第三級アミン化合物は、Ｎ，Ｎ’－ジメチルデシルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルオクチルアミン及びトリオクチルアミンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含み、
   前記グリコールエーテル化合物は、その含有割合が前記洗浄剤組成物の全体に対して、４．９～９０質量％であり、
   前記疎水性の第三級アミン化合物は、その含有割合が前記洗浄剤組成物の全体に対して、０．１～１０質量％であり、
   前記親水性のカルボン酸は、その含有割合が前記洗浄剤組成物の全体に対して、０．０１～１０質量％であり、
   前記水は、その含有割合が前記洗浄剤組成物の全体に対して、９．９～９４．９９質量％であり、
   フラックス洗浄用である、洗浄剤組成物。
2. 前記グリコールエーテル化合物は、式（１）で表される化合物又は式（６）で表される化合物である、請求項１に記載の洗浄剤組成物。
   

   

   
   （式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を示し、Ｒ^４は、炭素数１～１１の鎖状又は環状の炭化水素基を示し、前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ_２－は、－Ｏ－に置き換わっていてもよく、式（６）中、Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。）
3. 前記グリコールエーテル化合物は、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジメチルプロピレンジグリコール、ジメチルジグリコール、ベンジルグリコール、フェニルグリコール、フェニルジグリコール、フェニルプロピレングリコール、ヘキシルグリコール、ヘキシルジグリコール、２－エチルヘキシルグリコール、２－エチルヘキシルジグリコール、プロピルプロピレンジグリコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノ－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、３－メトキシ－３－メチルブタノール、２－メトキシブタノール、３－メトキシブタノール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールエチルブチルエーテル、及びトリエチレングリコールエチルブチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む、請求項２に記載の洗浄剤組成物。
4. 前記親水性のカルボン酸は、式（３）又は式（４）で表される化合物である、請求項１～請求項３のいずれか一項に記載の洗浄剤組成物。
   

   

   
   （式（３）中、Ｒ^８及びＲ^９は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～３の鎖状の炭化水素基又はカルボキシメチル基を示し、式（４）中、Ｒ^１０及びＲ^１１は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１～３の鎖状の炭化水素基又はカルボキシメチル基を示し、炭素－炭素二重結合に直接結合している２つのカルボキシル基はシス型又はトランス型である。）
5. 前記親水性のカルボン酸は、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、アコニット酸、シトラコン酸、フマル酸及びメサコン酸からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含む、請求項４に記載の洗浄剤組成物。
6. 前記疎水性の第三級アミン化合物を含む有機相と、前記親水性のカルボン酸及び前記水を含む水相とを含み、
   洗浄対象物を洗浄する温度において静置時に、前記有機相からなる第一層と前記水相からなる第二層とを含む少なくとも２層以上に分離している、請求項１～請求項５のいずれか一項に記載の洗浄剤組成物。
7. 親水性のアミン化合物の含有割合が前記洗浄剤組成物の全量に対して０質量％を超えて０．１質量％未満である、請求項１～請求項６のいずれか一項に記載の洗浄剤組成物。
8. グリコールエーテル化合物と、疎水性の第三級アミン化合物と、親水性のカルボン酸とを含む、フラックス洗浄用洗浄剤組成物用原液であって、
   前記疎水性の第三級アミン化合物は、Ｎ，Ｎ’－ジメチルデシルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジメチルオクチルアミン及びトリオクチルアミンからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物を含み、
   前記グリコールエーテル化合物は、その含有割合が前記洗浄剤組成物用原液の全体に対して、６０～９９．８質量％であり、
   前記疎水性の第三級アミン化合物は、その含有割合が前記洗浄剤組成物用原液の全体に対して、０．１～２０質量％であり、
   前記親水性のカルボン酸は、その含有割合が前記洗浄剤組成物用原液の全体に対して、０．１～２０質量％であり、
   洗浄対象物を洗浄する際に、水で１．１～２０倍に希釈して用いられる、フラックス洗浄用洗浄剤組成物用原液。

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