JP7346864B2 - 表示装置の制御方法 - Google Patents
表示装置の制御方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7346864B2 JP7346864B2 JP2019054812A JP2019054812A JP7346864B2 JP 7346864 B2 JP7346864 B2 JP 7346864B2 JP 2019054812 A JP2019054812 A JP 2019054812A JP 2019054812 A JP2019054812 A JP 2019054812A JP 7346864 B2 JP7346864 B2 JP 7346864B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- holographic material
- interference fringes
- material layer
- optical element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 110
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 72
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 62
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 210000003128 head Anatomy 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 1
- 210000001525 retina Anatomy 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/01—Head-up displays
- G02B27/017—Head mounted
- G02B27/0172—Head mounted characterised by optical features
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/42—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
- G02B27/4205—Diffraction optics, i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/32—Fiducial marks and measuring scales within the optical system
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0402—Recording geometries or arrangements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
- G03H1/2202—Reconstruction geometries or arrangements
- G03H1/2205—Reconstruction geometries or arrangements using downstream optical component
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
- G03H1/2286—Particular reconstruction light ; Beam properties
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/01—Head-up displays
- G02B27/017—Head mounted
- G02B27/0172—Head mounted characterised by optical features
- G02B2027/0174—Head mounted characterised by optical features holographic
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/101—Scanning systems with both horizontal and vertical deflecting means, e.g. raster or XY scanners
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0402—Recording geometries or arrangements
- G03H2001/0415—Recording geometries or arrangements for recording reflection holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/0402—Recording geometries or arrangements
- G03H2001/0439—Recording geometries or arrangements for recording Holographic Optical Element [HOE]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
- G03H1/2202—Reconstruction geometries or arrangements
- G03H2001/2223—Particular relationship between light source, hologram and observer
- G03H2001/2231—Reflection reconstruction
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/10—Spectral composition
- G03H2222/12—Single or narrow bandwidth source, e.g. laser, light emitting diode [LED]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/10—Spectral composition
- G03H2222/13—Multi-wavelengths wave with discontinuous wavelength ranges
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/31—Polarised light
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/34—Multiple light sources
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/40—Particular irradiation beam not otherwise provided for
- G03H2222/42—Reference beam at recording stage
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2222/00—Light sources or light beam properties
- G03H2222/40—Particular irradiation beam not otherwise provided for
- G03H2222/43—Object beam at recording stage
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2223/00—Optical components
- G03H2223/13—Phase mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2223/00—Optical components
- G03H2223/26—Means providing optical delay, e.g. for path length matching
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2270/00—Substrate bearing the hologram
- G03H2270/20—Shape
- G03H2270/21—Curved bearing surface
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2270/00—Substrate bearing the hologram
- G03H2270/55—Substrate bearing the hologram being an optical element, e.g. spectacles
Description
例えば、引用文献1の光学装置は、第1のホログラム回折格子及び第2のホログラム回折格子の干渉縞形成領域の外側にアライメントマークを干渉露光して生成する。そして、これらのアライメントマークを光学的に検出し、第1のホログラム回折格子と第2のホログラム回折格子との相対的な位置合わせを行なっている。
図1は、本発明を適用した表示装置1の外観を示す外観斜視図である。
表示装置1は、頭部装着型の表示装置である。表示装置1は、レーザー光を光源とする右眼用の画像光生成部10aと、右眼用の画像光生成部10aから出射された画像光を導光して使用者の右眼Eaに入射させる右眼用の導光光学系17aとを備える。画像光生成部10a及び画像光生成部10bは、「画像光生成部」に対応する。図1には、導光光学系17aに含まれる偏向光学素子13aを図示する。また、表示装置1は、レーザー光を光源とする左眼用の画像光生成部10bと、左眼用の画像光生成部10bから出射された画像光を偏向して使用者の左眼Ebに入射させる左眼用の導光光学系17bとを備える。図1には、導光光学系17bに含まれる偏向光学素子13bを図示する。以下では、偏向光学素子13aと偏向光学素子13bとを総称する場合、「偏向光学素子13」と表記する。偏向光学素子13は、本発明の「光学素子」の一例に対応する。
画像光生成部10bは、光源部110と、回折素子120と、走査光学系130とを備える。導光光学系17bは、光学系140と、偏向光学素子13bとを備える。
偏向光学素子13bは、基板211と、ホログラフィック材料層213と、透明フィルム層215とを備える積層体である。基板211は、例えば、PETや、アクリル樹脂等からなる透光性のプラスチック基板である。ホログラフィック材料層213は、厚みが約5~50μmのフォトポリマー材料からなる体積ホログラフィック素子の層である。透明フィルム層215は、ホログラフィック材料層213を保護する保護層であり、透光性を有している。透明フィルム層215は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PC(ポリカーボネート)、PA(ポリアミド)、TAC(トリアセチルセルロース)等の透明フィルムにより構成される。
また、ホログラフィック材料層213は、赤色光、緑色光及び青色光の各波長に対応する感度を有する感光材料をホログラフィック材料層213に分散させ、各波長の参照光SB及び物体光OBを用いてホログラフィック材料層213に干渉露光を行なう。これにより1つのホログラフィック材料層213に干渉縞を形成してもよい。
まず、露光装置300により露光される被露光部材219について説明する。
被露光部材219は、基板211に、ホログラフィック材料フィルム217を貼り付けた部材である。ホログラフィック材料フィルム217は、干渉縞が未形成のホログラフィック材料層213と、透明フィルム層215とを有している。
アライメントマーク230a、230bは、ホログラフィック材料層213に入射された画像光Lbを回折させる光学有効領域220内に形成される。光学有効領域220内には、アライメントマーク230a、230bの2つのマークが形成される。また、アライメントマーク230a,230bには、光学有効領域220の他の領域に形成された干渉縞とは位相が不連続な干渉縞が形成される。
フレーム15には、アライメントマーク350a、350bが形成されている。アライメントマーク350aは、フレーム15の鼻当て側に形成され、アライメントマーク350bは、フレーム15のテンプル15b側に形成されている。フレーム15のアライメントマーク350a、350bを基準とし、偏向光学素子13bのアライメントマーク230a,230bの位置をアライメントマーク350a、350bの位置に合わせる調整を行なう。その後、偏向光学素子13bをフレーム15に取り付ける。
まず、ホログラフィック材料フィルム217を基板211に貼り付け(ステップS1)、被露光部材219を生成する。ホログラフィック材料フィルム217は、ホログラフィック材料層213と、透明フィルム層215とを有するフィルムであり、ホログラフィック材料層213には、干渉縞が形成されていない状態である。ホログラフィック材料フィルム217のホログラフィック材料層213が設けられた側の面を、基板211に貼り付ける。
偏向光学素子13は、透光性の基板211と、基板211に重ねて配置され、干渉縞からなる回折格子が形成されたホログラフィック材料層213と、を有し、入射光を回折させる光学素子である。
ホログラフィック材料層213には、干渉縞が連続しないマーキング領域に相当するアライメントマーク230a、230bが形成される。アライメントマーク230a、230bは、ホログラフィック材料層213により入射光を回折させる光学有効領域220内に位置している。
従って、光学有効領域220内に干渉縞が連続しないアライメントマーク230a、230bが形成されているので、例えば、偏向光学素子13をフレーム15等に貼り合わせるときの位置合わせを精度よく行なうことができる。また、光学有効領域220の外側に干渉縞を形成する必要がないので、光の回折に利用する光学有効領域よりも大きなホログラフィック材料を用意する必要がなく、ホログラフィック材料を露光する露光装置の大型化を抑制することができる。
従って、光学有効領域220内において、アライメントマーク230a、230bを目立たせ、偏向光学素子13を、フレーム15等の部材に貼り合わせるときの位置合わせをより容易に行なうことができる。
従って、透明フィルム層215によりホログラフィック材料層213を保護すると共に、ホログラフィック材料層213に光を入射させ、入射した光をホログラフィック材料層213で回折させることができる。
従って、偏向光学素子13を、フレーム15等の部材に貼り合わせるときの位置合わせをより容易に行なうことができる。
この製造方法において、被露光部材219に照射される物体光OBの光路に、干渉縞を不連続にするマーキング部材240a、240bを配置する。そして、被露光部材に、干渉縞が連続しないアライメントマーク230a、230bを形成する。
従って、干渉縞が形成された光学有効領域220内に、干渉縞が連続しないアライメントマーク230a、230bを形成することができる。
図10を参照しながら本発明の第2実施形態について説明する。
図10は、露光装置300及びホログラフィック材料層213の部分拡大図である。
第2実施形態は、物体光OBの光路上であって、アライメントマーク230a、230bの形成予定位置に対応する位置に、1/2波長板や、1/4波長板、液晶等をマーキング部材240a、240bとして配置する。また、図10に示すように、参照光SBの光路上であって、アライメントマーク230a、230bの形成予定位置に対応する位置にも1/2波長板や、1/4波長板、液晶等のマーキング部材250a、250bを配置する。
これにより、アライメントマーク230a、230bの形成予定位置に照射される物体光OB及び参照光SBの偏光を揃えることができ、アライメントマーク230a、230bの形成予定位置にアライメントマーク230a、230bを形成することができる。また、マーキング部材240a、240bや、マーキング部材250a、250bに、1/2波長板や、1/4波長板、液晶等を使用することで、マーキング部材240a、240bに形成される干渉縞と、他の領域に形成される干渉縞との位相のずれ量を調整することができる。
例えば、上述した実施形態は、反射型のホログラムを生成する場合を例にして説明したが、透過型のホログラムを生成する場合にも適用可能である。
また、参照光SB及び物体光OBは、平面波であってもよいし、球面波であってもよい。また、参照光SB及び物体光OBのいずれか一方を平面波とし、他方を球面波としてもよい。
Claims (1)
- 透光性の基板と、前記基板に重ねて配置され、入射される光を回折させる回折格子が形成されたホログラフィック材料層と、前記回折格子内に形成され、前記回折格子の干渉縞とは不連続な干渉縞を有する第1アライメントマークと、を含む光学素子と、
前記光学素子を使用者の頭部に装着させるフレームと、
を備える頭部装着型の表示装置の製造方法であって、
コヒーレント光を分離した物体光と参照光とを異なる方向から前記ホログラフィック材料層に照射することにより前記回折格子と、前記第1アライメントマークと、を形成し、
前記光学素子を、前記第1アライメントマークの位置と、前記フレームに形成された第2アライメントマークの位置とが一致するように前記フレームに貼り合わせ、
前記第1アライメントマークを形成するために前記ホログラフィック材料層に照射される前記物体光と前記参照光とのいずれか一方は、マーキング部材を通過した光であり、
前記マーキング部材は、前記物体光の光路に配置された場合、前記物体光の位相を、前記参照光の位相とは異なる位相に変更し、
前記マーキング部材は、前記参照光の光路に配置された場合、前記参照光の位相を、前記物体光の位相とは異なる位相に変更する、
表示装置の製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019054812A JP7346864B2 (ja) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | 表示装置の制御方法 |
US16/825,236 US11269192B2 (en) | 2019-03-22 | 2020-03-20 | Optical element, having holographic material layer, display device, and method for manufacturing optical element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019054812A JP7346864B2 (ja) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | 表示装置の制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020154220A JP2020154220A (ja) | 2020-09-24 |
JP7346864B2 true JP7346864B2 (ja) | 2023-09-20 |
Family
ID=72516063
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019054812A Active JP7346864B2 (ja) | 2019-03-22 | 2019-03-22 | 表示装置の制御方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11269192B2 (ja) |
JP (1) | JP7346864B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114089470B (zh) * | 2022-01-20 | 2022-05-06 | 深圳珑璟光电科技有限公司 | 一种全息光波导及其制作装置、近眼显示设备 |
CN114089469B (zh) * | 2022-01-20 | 2022-05-06 | 深圳珑璟光电科技有限公司 | 一种体全息光波导及其制作方法、彩色体全息光波导 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001183529A (ja) | 1999-12-22 | 2001-07-06 | Victor Co Of Japan Ltd | マスタホログラム |
JP2007506989A (ja) | 2003-06-25 | 2007-03-22 | オーファオデー キネグラム アーゲー | 光学的セキュリティ素子および隠された情報を可視化するためのシステム |
US20100284085A1 (en) | 2006-09-28 | 2010-11-11 | Nokia Corporation | Beam expansion with three-dimensional diffractive elements |
JP2016206495A (ja) | 2015-04-24 | 2016-12-08 | セイコーエプソン株式会社 | 回折光学素子の製造方法、回折光学素子及び画像表示装置 |
JP2017223986A (ja) | 2017-08-29 | 2017-12-21 | ソニー株式会社 | 光学装置、表示装置及びホログラム回折格子 |
US20180003973A1 (en) | 2016-07-01 | 2018-01-04 | Intel Corporation | Lens and embedded optical element for near eye display |
US20180088328A1 (en) | 2016-09-28 | 2018-03-29 | Intel Corporation | Replaceable optical element for near eye display |
WO2018220266A1 (en) | 2017-06-02 | 2018-12-06 | Dispelix Oy | Diffractive element with doubly periodic gratings |
WO2019011615A1 (de) | 2017-07-12 | 2019-01-17 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur kalibrierung einer projektionsvorrichtung für eine datenbrille sowie projektionsvorrichtung für eine datenbrille zur durchführung eines verfahrens. |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07140886A (ja) * | 1993-11-19 | 1995-06-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学素子及び画像表示装置 |
JPH0968705A (ja) * | 1995-08-31 | 1997-03-11 | Dainippon Printing Co Ltd | アライメントマークとアライメント方法 |
JPH10319240A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-04 | Fuji Xerox Co Ltd | ヘッドマウンテッドディスプレイ |
JP6201836B2 (ja) | 2014-03-14 | 2017-09-27 | ソニー株式会社 | 光学装置及びその組立方法、ホログラム回折格子、表示装置並びにアライメント装置 |
US10871601B2 (en) * | 2016-10-03 | 2020-12-22 | Tipd, Llc | Volume holographic optical elements for imaging with reduced aberrations |
WO2020247930A1 (en) * | 2019-06-07 | 2020-12-10 | Digilens Inc. | Waveguides incorporating transmissive and reflective gratings and related methods of manufacturing |
-
2019
- 2019-03-22 JP JP2019054812A patent/JP7346864B2/ja active Active
-
2020
- 2020-03-20 US US16/825,236 patent/US11269192B2/en active Active
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001183529A (ja) | 1999-12-22 | 2001-07-06 | Victor Co Of Japan Ltd | マスタホログラム |
JP2007506989A (ja) | 2003-06-25 | 2007-03-22 | オーファオデー キネグラム アーゲー | 光学的セキュリティ素子および隠された情報を可視化するためのシステム |
US20100284085A1 (en) | 2006-09-28 | 2010-11-11 | Nokia Corporation | Beam expansion with three-dimensional diffractive elements |
JP2016206495A (ja) | 2015-04-24 | 2016-12-08 | セイコーエプソン株式会社 | 回折光学素子の製造方法、回折光学素子及び画像表示装置 |
US20180003973A1 (en) | 2016-07-01 | 2018-01-04 | Intel Corporation | Lens and embedded optical element for near eye display |
US20180088328A1 (en) | 2016-09-28 | 2018-03-29 | Intel Corporation | Replaceable optical element for near eye display |
WO2018220266A1 (en) | 2017-06-02 | 2018-12-06 | Dispelix Oy | Diffractive element with doubly periodic gratings |
WO2019011615A1 (de) | 2017-07-12 | 2019-01-17 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur kalibrierung einer projektionsvorrichtung für eine datenbrille sowie projektionsvorrichtung für eine datenbrille zur durchführung eines verfahrens. |
JP2017223986A (ja) | 2017-08-29 | 2017-12-21 | ソニー株式会社 | 光学装置、表示装置及びホログラム回折格子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US11269192B2 (en) | 2022-03-08 |
US20200301157A1 (en) | 2020-09-24 |
JP2020154220A (ja) | 2020-09-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6992251B2 (ja) | 映像表示装置、および導光装置 | |
US10409069B2 (en) | Display device and light guide device | |
JP7022794B2 (ja) | ディスプレイ用光学システム | |
US10459140B2 (en) | Image display device | |
US20180149866A1 (en) | Display device | |
US20180067325A1 (en) | Image display device | |
JP7371683B2 (ja) | 画像表示装置、画像表示方法及びヘッドマウントディスプレイ | |
JP7346864B2 (ja) | 表示装置の制御方法 | |
JP2007279313A (ja) | 光学素子の製造方法、光学素子、映像表示装置およびヘッドマウントディスプレイ | |
JP2016188901A (ja) | 表示装置 | |
JP6958178B2 (ja) | 表示装置 | |
JP6958179B2 (ja) | 表示装置 | |
CN112445114B (zh) | 光学元件的制造方法、光学元件以及显示装置 | |
JP2021086073A (ja) | 画像表示装置 | |
JP7293993B2 (ja) | 表示装置 | |
US20220146829A1 (en) | Head Mounted Display | |
JP7282439B2 (ja) | ディスプレイレンズの製造装置、方法およびこれにより製造されたディスプレイレンズを含む頭部装着型ディスプレイ装置の製造方法 | |
JP2012208227A (ja) | 点光源光学系、光学機器及び点光源光学系の製造方法 | |
JP5018870B2 (ja) | 画像表示装置 | |
JP2020154219A (ja) | 露光装置、及び光学素子の製造方法 | |
JP2007133072A (ja) | ホログラム露光方法、接眼光学系及び映像表示装置 | |
JP2016188906A (ja) | 体積ホログラフィック素子および表示装置 | |
JP2023019911A (ja) | 光学素子及び虚像表示装置 | |
WO2017090442A1 (ja) | ホログラフィック光学素子の製造方法及び露光光学装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220228 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20221026 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20221115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230411 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230612 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230808 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230821 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7346864 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |