JP7324072B2 - 表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、表示装置に関する。

ユーザーに映像を提供するスマートフォン、タブレットＰＣ、デジタルカメラ、ノートパソコン、ナビゲーション、及びスマートテレビなどの電子機器は映像を表示するための表示装置を含む。

表示装置は、表示パネルと表示パネルとを駆動する部品を含む。最近は表示装置に画面表示のほかに多様な機能を具現するための部品も共に搭載する傾向である。カメラ、赤外線センサー、指紋センサーなどが搭載されたスマートフォンがその例の一つである。一般にスマートフォンに光センシング部材が多く搭載されるほど表示画面の大きさは減る。

本発明が解決しようとする課題は、光透過経路を保有すると共に画面を極大化できる表示装置を提供することにある。

本発明の課題は、以上で言及した課題に制限されず、言及されないまた他の技術的課題は、下記の記載から当業者に明確に理解されるであろう。

前記課題を解決するための一実施形態による表示装置は、表示専用領域と表示透光領域とを含む表示部を備え、前記表示専用領域は、複数の第１画素を備え、前記表示透光領域は、複数の第２画素及び少なくとも一つの透光部を備え、前記透光部は、前記第１画素及び前記第２画素より高い光透過率を有し、前記表示透光領域は、前記表示専用領域より高い光透過率を有する。

前記表示透光領域の解像度は、前記表示専用領域の解像度より低くてもよい。

同じ色相の前記第１画素と前記第２画素は、同じ大きさを有し得る。

前記第１画素は、同じ色相の前記第２画素より大きくてもよい。

前記表示透光領域の解像度は、前記表示専用領域の解像度と同じであり得る。

前記透光部は複数であり、前記各透光部は、前記第２画素と交互に配列され得る。

前記表示専用領域と前記表示透光領域とにわたって配置された基板をさらに含み得る。

前記基板は、前記各透光部と重なり得る。

前記表示透光領域で前記透光部が占める面積は、５０％以上であり得る。

前記表示透光領域と重なるように配置された光センシング部材をさらに含み得る。

前記光センシング部材は、光電変換素子を含むカメラ、赤外線近接センサー、虹彩認識センサー及び指紋センサーのうち少なくとも一つを含み得る。

前記表示透光領域は、第１表示透光領域及び前記第１表示透光領域と離隔した第２表示透光領域を含み得る。

前記第１表示透光領域の光透過率と前記第２表示透光領域の光透過率は相違し得る。

前記表示部の周辺に配置された非表示部をさらに含み、前記表示透光領域は、部分的に前記非表示部と接するように配置され得る。

前記表示透光領域は、中心から前記表示透光領域と前記非表示部との間に設けられた境界線の両端を連絡する図形の内角が、１０°～１８０°の弓形形状を有し得る。

前記表示専用領域と前記表示透光領域とを横切る信号配線をさらに含み、前記信号配線は、前記表示透光領域で前記第２画素を迂回する迂回区間を含み得る。

前記第１画素及び前記第２画素は、それぞれ発光領域及び前記発光領域の周辺に配置され、前記透光部より透過率が低い非発光領域を含み得る。

前記課題を解決するための他の実施形態による表示装置は、表示専用領域と表示透光領域とを含む表示部を備え、前記表示部は、複数の画素電極と共通電極とを備え、前記各画素電極は、前記表示専用領域及び前記表示透光領域にわたってそれぞれ配置され、前記共通電極は、前記表示専用領域で全面に配置され、前記共通電極は、前記表示透光領域で一部の領域に配置され、少なくとも一つの透光開口を定義する。

前記各画素電極は、前記共通電極と重なり、前記画素電極は、前記透光開口と重ならなくてもよい。

前記画素電極と前記共通電極との間に配置された有機層をさらに含み、前記有機層は、前記透光開口には配置されなくてもよい。

前記表示透光領域で前記透光開口の面積は、５０％以上であり得る。

前記表示透光領域は、前記表示専用領域より高い光透過率を有し得る。

前記表示透光領域と重なるように配置された光センシング部材をさらに含み得る。

前記表示専用領域と前記表示透光領域とにわたって配置された基板をさらに含み得る。

前記基板は、前記各透光部と重なり得る。

その他実施形態の具体的な内容は、詳細な説明及び図面に含まれている。

一実施形態による表示装置によれば、光透過経路を保有すると共に画面を極大化できる。したがって、多様な光センシング部材を採択しても広い画面を確保できる。のみならず、いくつかの実施形態によれば、光透過のために一部領域の解像度が犠牲されても該当領域の適切な配置により該当領域が視認されることを最小化できる。

実施形態による効果は、以上で例示された内容によって制限されず、さらに多様な効果が本明細書内に含まれている。

一実施形態による表示装置の平面図である。 一実施形態による表示装置の部分断面図である。 他の実施形態による表示装置の平面図である。 また他の実施形態による表示装置の平面図である。 一実施形態による表示装置の一画素の回路図である。 一実施形態による表示パネルの画素及び透光部の断面図である。 他の実施形態による表示パネルの画素及び透光部の断面図である。 一実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。 図７の表示パネルのアノード電極およびカソード電極の例示的な配置形状を示す。 他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。 また他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。 また他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。 また他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。 また他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。 また他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。 また他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。 一実施形態による表示パネルの配線配置を示す概略図である。 いくつかの実施形態による表示パネルの表示透光領域における一部配線の配置を示す概略図である。 いくつかの実施形態による表示パネルの表示透光領域におけるデータ線と第１電源電圧線との配置を示す概略図である。

本発明の利点及び特徴、並びにこれらを達成する方法は、添付する図面と共に詳細に後述する実施形態を参照すると明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施形態に限定されるものでなく、互いに異なる多様な形態で実現され得、本実施形態は、単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、請求項の範疇によってのみ定義される。

素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が他の素子または層の「上（ｏｎ）」と称する場合、他の素子の真上にまたは中間に他の層または他の素子を介在した場合をすべて含む。明細書全体にわたって同一の参照符号は、同一の構成要素を指称する。

第１、第２などは多様な構成要素を叙述するために使われるが、これらの構成要素は、これらの用語によって制限されないことはもちろんである。これらの用語は、単に一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用する。したがって、以下で言及する第１構成要素は、本発明の技術的思想内で第２構成要素であり得ることはもちろんである。

以下、添付する図面を参照して具体的な実施形態について説明する。

図１は一実施形態による表示装置の平面図である。図２は一実施形態による表示装置の部分断面図である。

表示装置１は、画像や映像を表示する表示部ＤＰＡを備える電子装置である。表示部ＤＰＡは、表示パネル１０を備える。表示パネル１０の例は、有機発光表示パネル（ＯＬＥＤ）、無機発光表示パネル（ｉｎｏｒｇａｎｉｃ ＥＬ）、量子ドット発光表示パネル（ＱＥＤ）、マイクロＬＥＤ表示パネル（ｍｉｃｒｏ－ＬＥＤ）、ナノＬＥＤ表示パネル（ｎａｎｏ－ＬＥＤ）、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）、電界放出表示パネル（ＦＥＤ）、陰極線表示パネル（ＣＲＴ）などの自発光表示パネルだけでなく、液晶表示パネル（ＬＣＤ）、電気泳動表示パネル（ＥＰＤ）などの受光表示パネルを含み得る。以下では表示パネル１０として有機発光表示パネルを例に挙げて説明し、特に区分する必要がなければ、実施形態に適用した有機発光表示パネルは、単に表示パネル１０と略称する。しかし、実施形態が有機発光表示パネル１０に制限されるものではなく、技術的思想を共有する範囲内で前記列挙したまたは本技術分野に知られている他の表示パネル１０が適用され得る。

表示装置１は、表示パネル１０以外に各種コントローラ、ハウジング、センサー、その他部品をさらに備え得る。画像や映像を表示する表示部ＤＰＡを備える装置であれば、装置の主な用途、付加機能や名称などに関係なく表示装置１に該当すると解析できる。表示装置１の例は、これに制限されないが、スマートフォン、携帯電話機、タブレットＰＣ、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔ）、ＰＭＰ（Ｐｏｒｔａｂｌｅ Ｍｕｌｔｉｍｅｄｉａ Ｐｌａｙｅｒ）、テレビ、ゲーム機、腕時計型電子機器、ヘッドマウントディスプレイ、パーソナルコンピュータのモニタ、ノートパソコン、自動車ナビゲーション、自動車計器板、デジタルカメラ、カムコーダ、外部広告板、電光掲示板、各種医療装置、各種検査装置、冷蔵庫や洗濯機などのような表示部を備える多様な家電製品、事物インターネット装置などを含み得る。

表示装置１は、図１に示すように、表示部ＤＰＡと非表示部ＮＤＡとを備える。表示部ＤＰＡは画面が表示される部分であり、非表示部ＮＤＡは画面が表示されない部分である。

表示部ＤＰＡは、複数の画素を備える。画素は、画面を表示する基本単位となる。画素はこれに制限されないが、赤画素、緑画素、及び青画素を備え得る。複数の画素は、平面上に交互に配列される。例えば、画素は、行列方向に配置されるが、これに制限されない。

各画素は、発光領域（図６ａの「ＥＭＡ」参照）を含む。発光領域は、発光物質、例えば有機発光層が配置された領域と定義する。有機発光層の平面上の大きさは、画素の大きさより小さくてもよい。画素内で有機発光層などの発光物質が配置されない領域は、非発光領域（図６ａの「ＮＥＡ」）と定義する。非発光領域には画素を駆動する回路や配線が配置され得るが、これに制限されない。

非表示部ＮＤＡは、表示部ＤＰＡの周辺に配置される。非表示部ＮＤＡは、表示部ＤＰＡの周辺に配置され、表示部ＤＰＡを囲む。一実施形態において、表示部ＤＰＡは、長方形形状で形成され、非表示部ＮＤＡは、表示部ＤＰＡの４辺の周囲に配置され得るが、これに制限されない。非表示部ＮＤＡにはブラックマトリックスが配置されて隣接画素から発光された光が漏れることを防止できる。

表示部ＤＰＡは、透光部ＴＡを含むかどうかによって第１表示領域と第２表示領域とに区分される。例えば、表示部ＤＰＡは、第１表示領域である表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと第２表示領域である表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔとを含む。表示部ＤＰＡは、一つの表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを含み、互いに分離した複数の表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを含む。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの周辺には表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄが配置される。表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄは、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを部分的にまたは全体的に囲む。表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、互いに隣接し、別途の物理的な区分なしに連続して配置される。一実施形態において、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、肉眼で区分されない場合もあるが、これに制限されない。

表示部ＤＰＡ内で表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの配置領域には制限がない。例えば、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、図１に示すように非表示部ＮＤＡと離隔した表示部ＤＰＡの中央領域に配置される。他の例として、図３や図４に示すように表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、表示部ＤＰＡのエッジ周辺に配置されて非表示部ＮＤＡと接するか、それから近接して配置され得る。

表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、共に発光領域を含む複数の画素を備え、各画素の発光領域の発光により画像を表示する。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、発光領域を含む画素以外に複数の透光部（図６ａの「ＴＡ」参照）をさらに含む。表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄは、透光部を含まない。

表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの透光部は、その自体で発光しない領域であり、厚さ方向に光を透過させる部分である。前記光は、可視光線波長の光だけでなく、近赤外線及び／または赤外線波長の光を含み得る。透光部が透過させる前記光は、近紫外線及び／または紫外線波長の光をさらに含み得る。

表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄや表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの非発光領域もその自体で発光しない領域であるが、透光部は、これら非発光領域より高い光透過率を有する。ここで、光透過率は、各領域を通過する方向の光の透過率として厚さ方向に進行する光の透過率を意味する。したがって、透光部を備える表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄに比べて高い光透過率を有する。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、多様な用途に活用できる。一つの例は、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを透明ディスプレイのように活用することである。この場合、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの背面に他の部品は配置されず、まるでウィンドウのように表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを介して背面に位置する物体を確認できる。

表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの光透過を用いる他の例は、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを光センシングのための通路として活用することである。具体的に説明すれば、図２に示すように表示装置１は、表示パネル１０の表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの下部に配置された光センシング部材２０を含む。光センシング部材２０は、光を受光して情報を取得するか特定機能を発現する装置であり、光電変換素子を含むカメラ、赤外線近接センサー、虹彩認識センサー、指紋センサーなどが挙げられる。光センシング部材２０は、その種類によって必要とする光量が異なるが、対応する表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの開口率（全体面積で透光部が占める割合）及び透光部の光透過率を調節することで、必要とする光量を伝達し得る。例えば、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ全体の面積に対する透光部の面積比を調節するか、厚さ方向の積層構造や物質を調節して透光部を通過する光の透過率を制御することで、全体表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの単位面積あたりの光透過率と総透光量（平均光透過率ｘ面積）とを適切に設計し得る。

いくつかの実施形態において、表示装置１は、互いに異なる複数の光センシング部材２０を含み得る。この場合、各光センシング部材２０に対応する表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの透過率は、対応する光センシング部材２０が必要とする最大光量によって異なるように調節し得る。各表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ別の透過率を異なるように調節する方法の一つは、各表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素と透光部の大きさや配置を調節することである。これについての詳細な説明は後述する。他の実施形態において、各光センシング部材２０に対応する表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの透過率は、最大光量を必要とする光センシング部材の必要透過率に合わせて同一に調節し得る。

表示装置１が画面を表示しない発光モードでは、透光部周辺の画素も発光をするため、該当領域は表示部ＤＰＡとして視認され、透光部は視認されないこともある。一方、表示装置１が画面を表示しない非発光モードでは、透光部周辺の画素が非発光するため、光センシング部材２０が外光に反射して視認され得る。表示部ＤＰＡの内部で光センシング部材２０が視認されると、美観不良に繋がるので、これを防止するために光センシング部材２０は、無光処理、ブラックコーティング、反射防止コーティングなどの表面処理が行われていてもよい。

図３は他の実施形態による表示装置の平面図である。図３の表示装置２は、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔが表示パネル１１の上辺付近に配置された場合を例示的に示す。図３の実施形態では表示パネル１１の非表示部ＮＤＡが表示パネル１１の短辺に該当する上辺と下辺とに設けられ、少なくとも一つの表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔが上辺の非表示部ＮＤＡから離隔されるが、それに近接して配置されている場合を例示する。各表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔにはカメラ、虹彩認識センサー、近赤外線センサーなどが重なって配置され得る。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、画面を表示すると同時に光を透過させて光センシングが行われるようにする。表示部ＤＰＡにセンサーが重なって配置されると、非表示部ＮＤＡにセンサーを配置する必要性が減り、非表示部ＮＤＡの幅を減らすことができる。そのため、多様なセンシング機能を含む表示装置１のベゼル幅を減少させることができ、表示画面の大きさを極大化できる。

図４はまた他の実施形態による表示装置の平面図であり、表示透光領域の適用可能な多様な形状および配置を説明するための平面図である。図４には６個の互いに異なる表示透光領域（ＤＰＡ＿Ｔ１～ＤＰＡ＿Ｔ６）が表示装置３の表示パネル１２の上辺に沿って配列されている。説明の便宜上、図面の左側から右方向に配列された表示透光領域を第１～第６表示透光領域（ＤＰＡ＿Ｔ１～ＤＰＡ＿Ｔ６）と称する。

第１表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ１は、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔが表示パネル１２の上辺に位置する非表示部ＮＤＡから離隔した場合を例示する。図示するように第１表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ１は、円（または楕円）形状を有し、周辺が表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄに囲まれる。

第２～第６表示透光領域（ＤＰＡ＿Ｔ２～ＤＰＡ＿Ｔ６）は、それぞれ一部が表示パネル１２の上辺に位置する非表示部ＮＤＡと接する場合を例示する。

第２表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ２と第３表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ３は、円（または楕円）の直線切断形状（弓形ともいう）を有する場合の例示である。円（または弓形）の中心から表示透光領域ＤＰＡと非表示部ＮＤＡとの間に設けられた境界線の両端を連絡する図形の内角（θ）は、１０°～１８０°であり得る。第３表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ３は、前記内角（θ）が１８０°の半円形状を例示する。

第４表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ４は、横の長さが長い長方形形状であり、両端辺がふくらんだ曲線を成すことを例示する。第５表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ５は、三角形形状であり、第６表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ６は、正四角形形状である場合を例示する。

表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの形状と配置は、図４に例示されたものに制限されない。

以下、各表示部ＤＰＡの画素及び透光部の構造について詳しく説明する。

図５は一実施形態による表示装置の一画素の回路図である。

図５を参照すると、画素回路は、第１トランジスタＴＲ１、第２トランジスタＴＲ２、キャパシタＣｓｔ、及び有機発光ダイオードＯＬＥＤを含む。各画素回路には走査線ＳＬ、データ線ＤＬ、第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬが連結される。

第１トランジスタＴＲ１は駆動トランジスタであり、第２トランジスタＴＲ２はスイッチングトランジスタであり得る。図面では第１トランジスタＴＲ１と第２トランジスタＴＲ２とが、いずれもＰＭＯＳトランジスタである場合を例示したが、第１トランジスタＴＲ１と第２トランジスタＴＲ２のうちいずれか一つまたは全部は、ＮＭＯＳトランジスタであり得る。

第１トランジスタＴＲ１の第１電極（ソース電極）は、第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬに接続され、第２電極（ドレイン電極）は、有機発光ダイオードＯＬＥＤのアノード電極に接続される。第２トランジスタＴＲ２の第１電極（ソース電極）は、データ線ＤＬに接続され、第２電極（ドレイン電極）は、第１トランジスタＴＲ１のゲート電極に接続される。キャパシタＣｓｔは、第１トランジスタＴＲ１のゲート電極と第１電極との間に接続される。有機発光ダイオードＯＬＥＤのカソード電極は、第２電源電圧ＥＬＶＳＳの提供を受ける。第２電源電圧ＥＬＶＳＳは、第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬから提供される第１電源電圧ＥＬＶＤＤより低い電圧であり得る。

第２トランジスタＴＲ２は、走査線ＧＬに印加された走査信号に応答してデータ線ＤＬに印加されたデータ信号を出力し得る。キャパシタＣｓｔは、第２トランジスタＴＲ２から受信したデータ信号に対応する電圧を充電し得る。第１トランジスタＴＲ１は、キャパシタＣｓｔに保存された電荷量に対応して有機発光ダイオードＯＬＥＤに流れる駆動電流を制御し得る。

図５の等価回路は、一つの例示的な実施形態に過ぎず、画素回路は、さらに多くの数（例えば７個）のトランジスタとキャパシタとを含み得る。

図６ａは一実施形態による表示パネルの画素及び透光部の断面図である。図６ａでは図５の２個のトランジスタのうち第１トランジスタＴＲ１が薄膜トランジスタ形態で示しており、第２トランジスタＴＲ２に対する図示は省略する。

先に、図６ａを参照して画素ＰＸの断面構造について詳しく説明する。表示パネルは、基板１００、バッファー層１０５、半導体層１１０、第１絶縁層１２１、第１導電層１３１，１３２、第２絶縁層１２２、第２導電層１４０、第３絶縁層１２３、第３導電層１５１，１５２，１５３、第４絶縁層１２４、第４導電層１６１，１６２，１６３、第５絶縁層１２５、第５導電層１７０、第５導電層１７０を露出する開口部を備える画素定義膜１２６、画素定義膜１２６の開口部内に配置された有機層１９０、及び有機層１９０と画素定義膜１２６上に配置された第６導電層１８０を備える。上述した各層は、単一膜からなるが、複数の膜を含む積層膜からなってもよい。各層の間には他の層がさらに配置され得る。

基板１００は、その上に配置される各層を支持する。基板１００は、高分子樹脂などの絶縁物質からなる。前記高分子物質の例としては、ポリエーテルサルホン（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｓｕｌｐｈｏｎｅ：ＰＥＳ）、ポリアクリレート（ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅ：ＰＡ）、ポリアリレート（ｐｏｌｙａｒｙｌａｔｅ：ＰＡＲ）、ポリエーテルイミド（ｐｏｌｙｅｔｈｅｒｉｍｉｄｅ：ＰＥＩ）、ポリエチレンナフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｎａｐｔｈａｌａｔｅ：ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｔｅｒｅｐｔｈａｌａｔｅ：ＰＥＴ）、ポリフェニレンサルファイド（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅ ｓｕｌｆｉｄｅ：ＰＰＳ）、ポリアリレート（ｐｏｌｙａｌｌｙｌａｔｅ）、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ：ＰＩ）、ポリカーボネート（ｐｏｌｙｃａｒｂｏｎａｔｅ：ＰＣ）、セルローストリアセテート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅｔｒｉａｃｅｔａｔｅ：ＣＡＴ）、セルロースアセテートプロピオネート（ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ ａｃｅｔａｔｅ ｐｒｏｐｉｏｎａｔｅ：ＣＡＰ）またはこれらの組み合わせが挙げられる。基板１００は、曲げ（ｂｅｎｄｉｎｇ）、折りたたみ（ｆｏｌｄｉｎｇ）、丸め（ｒｏｌｌｉｎｇ）などが可能なフレキシブル（ｆｌｅｘｉｂｌｅ）基板であり得る。フレキシブル基板を成す物質の例としてはポリイミド（ＰＩ）が挙げられるが、これに制限されない。

基板１００上にはバッファー層１０５が配置される。バッファー層１０５は、不純物イオンが拡散することを防止し、水分や外気の浸透を防止し、表面平坦化機能を行う。バッファー層１０５は、シリコン窒化物、シリコン酸化物、またはシリコン酸窒化物などを含み得る。バッファー層１０５は、板１００の種類や工程条件などによっては省略できる。

バッファー層１０５上には半導体層１１０が配置される。半導体層１１０は、画素ＰＸの薄膜トランジスタのチャネルを成す。半導体層１１０は、多結晶シリコンを含み得る。しかし、これに制限されるものではなく、半導体層１１０は、単結晶シリコン、低温多結晶シリコン、非晶質シリコンや、酸化物半導体を含み得る。前記酸化物半導体は、例えば、インジウム、亜鉛、ガリウム、錫、チタン、アルミニウム、ハフニウム（Ｈｆ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、マグネシウム（Ｍｇ）などを含む２成分系化合物（ＡＢｘ）、３成分系化合物（ＡＢｘＣｙ）、４成分系化合物（ＡＢｘＣｙＤｚ）を含み得る。

第１絶縁層１２１は、ゲート絶縁機能を有するゲート絶縁膜であり得る。第１絶縁層１２１は、シリコン化合物、金属酸化物などを含み得る。例えば、第１絶縁層１２１は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、アルミニウム酸化物、タンタル酸化物、ハフニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、チタン酸化物などを含み得る。これらは単独または互いに組み合わせて使用し得る。第１絶縁層１２１は、単一膜または互いに異なる物質の積層膜からなる多層膜であり得る。

第１絶縁層１２１は、半導体層１１０上に配置され、ほぼ基板１００の全体面にわたって配置される。

第１導電層１３１，１３２は、第１絶縁層１２１上に配置される。第１導電層１３１，１３２は、第１ゲート導電層であり得る。第１導電層１３１，１３２は、画素ＰＸの薄膜トランジスタのゲート電極１３１とそれに接続されたスキャン線、及び維持キャパシタ第１電極１３２を含み得る。

第１導電層１３１，１３２は、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、クロム（Ｃｒ）、カルシウム（Ｃａ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）のうち選ばれた一つ以上の金属を含み得る。第１導電層１３１，１３２は、単一膜または多層膜であり得る。

第１導電層１３１，１３２上には第２絶縁層１２２が配置される。第２絶縁層１２２は層間絶縁膜であり得る。第２絶縁層１２２は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、ハフニウム酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、タンタル酸化物、亜鉛酸化物などの無機絶縁物質を含み得る。

第２導電層１４０は、第２絶縁層１２２上に配置される。第２導電層１４０は、第２ゲート導電層であり得る。第２導電層１４０は、維持キャパシタ第２電極１５１を含み得る。第２導電層１４０は、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、クロム（Ｃｒ）、カルシウム（Ｃａ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）のうち選ばれた一つ以上の金属を含み得る。第２導電層１４０は、第１導電層１３１，１３２と同じ物質からなるが、これに制限されない。第２導電層１４０は単一膜または多層膜であり得る。

第２導電層１４０上には第３絶縁層１２３が配置される。第３絶縁層１２３は層間絶縁膜であり得る。第３絶縁層１２３は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、ハフニウム酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、タンタル酸化物、亜鉛酸化物などの無機絶縁物質やアクリル系樹脂（ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅｓ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド系樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅｓ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド系樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅｓ ｒｅｉｎ）、不飽和ポリエステル系樹脂（ｕｎｓａｔｕｒａｔｅｄ ｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ ｒｅｓｉｎ）、ポリフェニレン系樹脂（ｐｏｌｙ ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｔｈｅｒｓ ｒｅｓｉｎ）、ポリフェニレンスルフィド系樹脂（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｕｌｆｉｄｅｓ ｒｅｓｉｎ）またはベンゾシクロブテン（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ、ＢＣＢ）などの有機絶縁物質を含み得る。第３絶縁層１２３は、単一膜または互いに異なる物質の積層膜からなる多層膜であり得る。

第３絶縁層１２３上には第３導電層１５１，１５２，１５３が配置される。第３導電層１５１，１５２，１５３は、第１ソース／ドレイン導電層であり得る。第３導電層１５１，１５２，１５３は、画素ＰＸの薄膜トランジスタの第１電極１５１と第２電極１５２とを含み得る。薄膜トランジスタの第１電極１５１と第２電極１５２は、第３絶縁層１２３、第２絶縁層１２２及び第１絶縁層１２１を貫くコンタクトホールを介して半導体層１１０のソース領域及びドレイン領域と電気的に接続され得る。画素ＰＸの第１電源電圧電極１５３も第３導電層１５１，１５２，１５３からなる。

第３導電層１５１，１５２，１５３は、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、クロム（Ｃｒ）、カルシウム（Ｃａ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）のうち選ばれた一つ以上の金属を含み得る。第３導電層１５１，１５２，１５３は、単一膜または多層膜であり得る。例えば、第３導電層１５１，１５２，１５３は、Ｔｉ／Ａｌ／Ｔｉ、Ｍｏ／Ａｌ／Ｍｏ、Ｍｏ／ＡｌＧｅ／Ｍｏ、Ｔｉ／Ｃｕなどの積層構造で形成され得る。

第３導電層１５１，１５２，１５３上には第４絶縁層１２４が配置される。第４絶縁層１２４は、第３導電層１５１，１５２，１５３を覆う。第４絶縁層１２４はビア層であり得る。第４絶縁層１２４は、アクリル系樹脂（ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅｓ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド系樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅｓ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド系樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅｓ ｒｅｉｎ）、不飽和ポリエステル系樹脂（ｕｎｓａｔｕｒａｔｅｄ ｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ ｒｅｓｉｎ）、ポリフェニレン系樹脂（ｐｏｌｙ ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｔｈｅｒｓ ｒｅｓｉｎ）、ポリフェニレンスルフィド系樹脂（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｕｌｆｉｄｅｓ ｒｅｓｉｎ）またはベンゾシクロブテン（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ、ＢＣＢ）などの有機絶縁物質を含み得る。

第４絶縁層１２４上には第４導電層１６１，１６２，１６３が配置される。第４導電層１６１，１６２，１６３は、第２ソース／ドレイン導電層であり得る。第４導電層１６１，１６２，１６３は、画素ＰＸのデータ線、接続電極１６２、第１電源電圧線１６１，１６３を含み得る。第１電源電圧線１６１は、画素ＰＸで第４絶縁層１２４を貫くコンタクトホールを介して画素ＰＸの薄膜トランジスタの第１電極１５１と電気的に接続され得る。接続電極１６２は、第４絶縁層１２４を貫くコンタクトホールを介して画素ＰＸの薄膜トランジスタの第２電極１５２と電気的に接続され得る。第１電源電圧線１６３は、また第４絶縁層１２４を貫くコンタクトホールを介して第１電源電圧電極１５３と電気的に接続され得る。

第４導電層１６１，１６２，１６３は、アルミニウム（Ａｌ）、モリブデン（Ｍｏ）、白金（Ｐｔ）、パラジウム（Ｐｄ）、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、クロム（Ｃｒ）、カルシウム（Ｃａ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）、銅（Ｃｕ）のうち選ばれた一つ以上の金属を含み得る。第４導電層１６１，１６２，１６３は単一膜または多層膜であり得る。第４導電層１６１，１６２，１６３は、第３導電層１５１，１５２，１５３と同じ物質からなるが、これに制限されない。

第４導電層１６１，１６２，１６３上には第５絶縁層１２５が配置される。第５絶縁層１２５は第４導電層１６１，１６２，１６３を覆う。第５絶縁層１２５はビア層であり得る。第５絶縁層１２５は、上述した第４絶縁層１２４と同じ物質を含むか、第４絶縁層１２４の構成物質として例示された物質から選ばれた一つ以上の物質を含み得る。

第５絶縁層１２５上には第５導電層１７０が配置される。画素電極であるアノード電極は、第５導電層１７０からなる。アノード電極は、第５絶縁層１２５を貫くコンタクトホールを介して第４導電層１６１，１６２，１６３からなる接続電極１６２と電気的に接続され、これにより薄膜トランジスタの第２電極１５２と接続され得る。アノード電極は、画素ＰＸの発光領域ＥＭＡと少なくとも部分的に重なり得る。

第５導電層１７０は、これに制限されないが、インジウム－錫－酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ－Ｔｉｎ－Ｏｘｉｄｅ： ＩＴＯ）、インジウム－亜鉛－酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ－Ｚｉｎｃ－Ｏｘｉｄｅ： ＩＺＯ）、酸化亜鉛（Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ： ＺｎＯ）、酸化インジウム（Ｉｎｄｕｉｍ Ｏｘｉｄｅ： Ｉｎ_２Ｏ_３）の仕事関数が高い物質層と、銀（Ａｇ）、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、白金（Ｐｔ）、鉛（Ｐｄ）、金（Ａｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、ネオジム（Ｎｄ）、イリジウム（Ｉｒ）、クロム（Ｃｒ）、リチウム（Ｌｉ）、カルシウム（Ｃａ）またはこれらの混合物などのような反射性物質層が積層された積層膜構造を有し得る。仕事関数が高い層が反射性物質層より上層に配置されて有機層１９０に近く配置され得る。第５導電層１７０は、ＩＴＯ／Ｍｇ、ＩＴＯ／ＭｇＦ、ＩＴＯ／Ａｇ、ＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯの複数層構造を有し得るが、これに限定されない。

第５導電層１７０上には画素定義膜１２６が配置され得る。画素定義膜１２６は、画素ＰＸの非発光領域ＮＥＡと少なくとも部分的に重なり得る。画素定義膜１２６は、第５導電層１７０を露出する開口部を含み得る。画素定義膜１２６は、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン酸窒化物、ハフニウム酸化物、アルミニウム酸化物、チタン酸化物、タンタル酸化物、亜鉛酸化物などの無機絶縁物質やアクリル系樹脂（ｐｏｌｙａｃｒｙｌａｔｅｓ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド系樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅｓ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド系樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅｓ ｒｅｉｎ）、不飽和ポリエステル系樹脂（ｕｎｓａｔｕｒａｔｅｄ ｐｏｌｙｅｓｔｅｒｓ ｒｅｓｉｎ）、ポリフェニレン系樹脂（ｐｏｌｙ ｐｈｅｎｙｌｅｎｅｔｈｅｒｓ ｒｅｓｉｎ）、ポリフェニレンスルフィド系樹脂（ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｓｕｌｆｉｄｅｓ ｒｅｓｉｎ）またはベンゾシクロブテン（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ、ＢＣＢ）などの有機絶縁物質を含み得る。画素定義膜１２６は、単一膜または互いに異なる物質の積層膜からなる多層膜であり得る。

画素定義膜１２６の開口部内には有機層１９０が配置される。有機層１９０は、有機発光層、正孔注入／輸送層、電子注入／輸送層を含み得る。有機層１９０は、発光領域ＥＭＡと重なり得る。

有機層１９０と画素定義膜１２６上には第６導電層１８０が配置される。共通電極であるカソード電極は、第６導電層１８０からなる。カソード電極は、画素ＰＸの発光領域ＥＭＡだけでなく非発光領域ＮＥＡにも配置され得る。すなわち、カソード電極は、各画素ＰＸの全面に配置され得る。第６導電層１８０は、Ｌｉ、Ｃａ、ＬｉＦ／Ｃａ、ＬｉＦ／Ａｌ、Ａｌ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ａｕ Ｎｄ、Ｉｒ、Ｃｒ、ＢａＦ、Ｂａまたはこれらの化合物や混合物（例えば、ＡｇとＭｇの混合物など）のような仕事関数が小さな物質層を含み得る。第６導電層１８０は、前記仕事関数が小さな物質層上に配置された透明金属酸化物層をさらに含み得る。

図面に示していないが、第６導電層１８０の上部には封止膜が配置され得る。封止膜は無機膜を含み得る。一実施形態で封止膜は、第１無機膜、第１無機膜上部の有機膜、有機膜上部の第２無機膜を含み得る。

次いで、透光部ＴＡの断面構造について説明する。透光部ＴＡは、画素ＰＸの積層構造のうち一部の層が除去された構造を有する。透光部ＴＡは発光しない領域であるため、アノード電極、有機発光層、カソード電極などに相応する層を省略することが可能である。層を省略することによって透光部ＴＡは画素ＰＸに比べて高い透過率を有し得る。

具体的に、透光部ＴＡにはカソード電極である第６導電層１８０が配置されない。カソード電極は、共通電極として画素ＰＸの場合、第６導電層１８０が全領域にわたって配置されるが、透光部ＴＡでは除去されて透光開口ＯＰを形成する。透光開口ＯＰは、第６導電層１８０によって定義し得る。全面発光型パネルでカソード電極は、ある程度の光を透過させるが、反射または吸収される光も該当する。透光部ＴＡにカソード電極である第６導電層１８０が配置されないことで、画素ＰＸの非発光領域ＮＥＡより高い透過率を確保できる。

また、透光部ＴＡにはアノード電極である第５導電層１７０が配置されなくてもよい。全面発光型パネルでアノード電極は、上述したように反射性物質層を含むが、透光部ＴＡでは第５導電層１７０自体を配置しないことで、厚さ方向に光透過が行われるようにする。また、透光部ＴＡには有機層１９０が配置されないことで、さらに高い透過率を維持できる。さらに、透光部ＴＡには半導体層やその他他の導電層も配置されなくてもよい。

したがって、例示的な透光部ＴＡの積層構造は、図６ａに示すように基板１００、バッファー層１０５、第１絶縁層１２１、第２絶縁層１２２、第３絶縁層１２３、第４絶縁層１２４、第５絶縁層１２５及び画素定義膜１２６になる。

図６ｂは他の実施形態による表示パネルの画素及び透光部の断面図である。図６ｂは図６ａの構造で透光部ＴＡの絶縁膜がさらに省略できることを例示する。

すなわち、図６ｂの実線で示すように、透光部ＴＡでは画素定義膜１２６、第５絶縁層１２５、第４絶縁層１２４、第３絶縁層１２３、第２絶縁層１２２、第１絶縁層１２１、及びバッファー層１０５がいずれも除去されて基板１００の表面が露出される。透光開口ＯＰは、第６導電層１８０、画素定義膜１２６、第５絶縁層１２５、第４絶縁層１２４、第３絶縁層１２３、第２絶縁層１２２、第１絶縁層１２１、及びバッファー層１０５によって定義し得る。基板１００は透光部ＴＡでも依然として除去されていなくてもよい。すなわち、基板１００は、透光部ＴＡと重なり、透光部ＴＡで貫通ホールを含まなくてもよい。図６ｂの実施形態の場合、前記したように多くの絶縁層がさらに除去されることで、図６ａの実施形態に比べて透光部ＴＡの透過率がさらに改善できる。

他の例として、図６ｂの点線で示すように透光部ＴＡで画素定義膜１２６、第５絶縁層１２５、第４絶縁層１２４、第３絶縁層１２３、第２絶縁層１２２、第１絶縁層１２１、及びバッファー層１０５のうち一部が除去され得る。例えば、これに制限されないが、ビア層に該当する第４絶縁層１２４からその上側に位置する層がすべて除去されて透光開口ＯＰを形成できる。

以下、図７～図１５を参照して表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸと透光部ＴＡの多様な配列について詳しく説明する。各図面で横長方向を第１方向Ｄ１とし、縦長方向を第２方向Ｄ２と称する。第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２とは、直交する方向で例示されている。各図面において左側図は表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄを、右側図は表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔをそれぞれ示す。他の説明がない限り、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、同じ大きさを示すものと想定する。各図面に例示した画素ＰＸ及び／または透光部ＴＡの配列は、該当領域の繰り返される配列の一部であり、第１方向Ｄ１及び／または第２方向Ｄ２に沿ってさらに多くの画素ＰＸ及び／または透光部ＴＡが示す基本配列と同一または類似の配列を有して配置され得る。

表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄに比べて透光部ＴＡをさらに含むため、画素ＰＸの大きさ、画素ＰＸの配置、解像度と関する画素ＰＸの密度、画素ＰＸを駆動する配線の配置などが相違してもよい。

図７～図１０は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔとがそれぞれ同じ大きさの画素ＰＸを有するが、画素ＰＸの密度が相違する場合に対する例示である。

図７は一実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。

図７を参照すると、本実施形態において、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、それぞれ赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ及び青画素ＰＸ＿Ｂを含む。例示された実施形態において、各色相毎の画素ＰＸの大きさは同じであり、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの大きさも同じである。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、画素ＰＸのほかに透光部ＴＡをさらに含む。透光部ＴＡの大きさは、画素ＰＸの大きさと同じである。

表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄは、第２方向Ｄ２に同じ色の画素ＰＸが配列され、第１方向Ｄ１に沿って互いに異なる色の画素ＰＸが交互に配列される。例えば、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄでは第１方向Ｄ１に沿って赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、青画素ＰＸ＿Ｂ、赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、青画素ＰＸ＿Ｂの順に配列される。

表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、第１方向Ｄ１に画素ＰＸ及び透光部ＴＡが交互に配列される。画素ＰＸは、第１方向Ｄ１に沿って互いに異なる色のものが配列される。例えば、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔでは第１方向Ｄ１に沿って赤画素ＰＸ＿Ｒ、透光部ＴＡ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、透光部ＴＡ、青画素ＰＸ＿Ｂ、透光部ＴＡの順に配列される。第２方向Ｄ２には同じ色の画素ＰＸが配列されるか、透光部ＴＡが配列される。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで画素ＰＸの数と透光部ＴＡの数は同じであり得る。また、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで画素ＰＸの面積と透光部ＴＡの面積は、同じであり得る。すなわち、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ全体面積に対する透光部ＴＡの面積は、５０％であり得る。

表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで画素ＰＸと透光部ＴＡとが交互に配列されると（すなわち、透光部ＴＡが画素ＰＸの間間にまざって配置されると）、画素ＰＸの介入なしに広い面積の透光部ＴＡが形成された場合に比べて透光部ＴＡの存在がよく視認されない。したがって、透光部ＴＡの存在にもかかわらず、交互に配列された画素ＰＸによって表示パネルのユーザーは該当領域が表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄであるか、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔであるか区別できないほどに自然な画面を表示できる。同時に、上述したように透光部ＴＡによって光を透過させることで、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを透明ディスプレイや光センシング通路に活用できる。

一方、図７の実施形態の場合、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで画素ＰＸの数と透光部ＴＡの数とが同じである。表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各画素ＰＸと透光部ＴＡの大きさが互いに同じであると仮定する時、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの数は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸの数の半分になる。すなわち、単位面積あたりの表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの数は、単位面積あたりの表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸの数の半分になって半分の解像度を有する。結果的に、表示パネルは、相対的に解像度が高い高解像度領域と相対的に解像度が低い低解像度領域に区分される。表示パネル１０内で高解像度領域と低解像度領域とが散在していると、場合によってはユーザーが該当領域を認識して画質が低下し得るが、領域の配置及び領域別表示内容を調節することで、ユーザーの認識可能性を下げることができる。

具体的に説明すると、一般的に小さな文字や精細な画面を表示する場合やスポーツ画面のように激烈な動作を表現する場合は、高解像度と低解像度とによって画面が異なって視認され得る。しかし、大きな文字、図形や静的な画面を表現する場合には解像度による差が目立たない。例えば、表示パネルが図３のような形態を有してスマートフォンに適用された場合、表示パネル短辺（図面の上辺）付近は、中央部とは異なってスマートフォンの定められた情報（例えば、通信社名、音／振動アイコン、アンテナ強度、バッテリー充電アイコン、時間など）を静的に表現するのに用いられる。また、縦横比が長いワイドスクリーンの場合には短辺付近を除いた大部分の領域が主な表示画面として使われて、短辺付近は、付随的な情報を案内する画面として活用できる。すなわち、表示パネルの表示部ＤＰＡは、主な表示画面に該当するメイン表示部と付随的な情報を表示するサブ表示部とを備え得る。このような例で、図７の表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを表示パネルの短辺付近に位置するサブ表示部に配置し、メイン表示部及び／または残りのサブ表示部に図７の表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄを配置すれば、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの解像度が低いことはほとんど現れず、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔと表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄとが別途の領域に区分されて視認されない。

図８は図７の表示パネルのアノード電極およびカソード電極の例示的な配置形状を示す。

図８に示すように、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各画素ＰＸごとにアノード電極が配置される。アノード電極は、画素ＰＸより大きさが小さく、発光領域ＥＭＡと類似する大きさとを有し得る。一実施形態において、アノード電極の大きさは、発光領域ＥＭＡと同じであり得る。他の実施形態において、アノード電極の大きさは、発光領域ＥＭＡより多少大きくてもよい。例えば、図６ａ及び図６ｂに示すようにアノード電極は、縁が画素定義膜に覆われるが、発光領域ＥＭＡが画素定義膜によって露出したアノード電極上に配置された有機層によって定義される場合、発光領域ＥＭＡの大きさはアノード電極の大きさより小さくなる。

画素ＰＸで発光領域ＥＭＡではない領域は、非発光領域ＮＥＡになり、アノード電極は、非発光領域ＮＥＡと重ならないか、アノード電極の縁部位が非発光領域ＮＥＡと部分的に重なり得る。

一方、カソード電極は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄでは全面に配置されるが、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔでは一部のみ配置される。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔでカソード電極が配置されない領域は透光開口ＯＰになる。透光開口ＯＰは、上述した透光部ＴＡと対応する。透光開口ＯＰの大きさは、アノード電極の大きさと同じであるか、それより大きくてもよい。図８では透光開口ＯＰがアノード電極より大きい場合が示されている。

一実施形態において、透光開口ＯＰの大きさは、透光部ＴＡの大きさより小さくてもよい。透光部ＴＡは、透光開口ＯＰと透光開口ＯＰの周辺領域を含み得る。透光開口ＯＰの周辺領域は、非発光領域ＮＥＡであり得る。図７及び図８は、同じ表示パネル１０の表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを示したものである。図７では表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを画素ＰＸと透光部ＴＡとに区分し、透光部ＴＡは、第２方向Ｄ２に沿って互いに接して配置された場合を示す。一方、図８に示す透光開口ＯＰは、第２方向Ｄ２に沿って物理的に連結されず、カソード電極によって分離している。このような隣り合う透光開口ＯＰの間の分離領域やその他透光開口ＯＰの周辺領域は、配線などが通る領域になる（図１６～図１８参照）。

他の実施形態において、透光開口ＯＰの大きさは、透光部ＴＡの大きさと同じであり得る。例えば、図６ａ及び図６ｂに示すように透光開口ＯＰ自体が透光部ＴＡを定義することで、透光開口ＯＰの大きさが透光部ＴＡの大きさと同じであり得る。この場合、配線などは透光開口ＯＰを横切ることができるが、これに制限されない。

図９は他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。本実施形態は、画素ＰＸの配列が図８の実施形態とは相違する。

図９に示すように、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ内で第２方向Ｄ２に沿って他の色の画素ＰＸが配列され得る。すなわち、図９の第１列では第２方向Ｄ２に沿って赤画素ＰＸ＿Ｒと青画素ＰＸ＿Ｂとが隣接して配置され、第３列では第２方向Ｄ２に沿って緑画素ＰＸ＿Ｇと赤画素ＰＸ＿Ｒとが隣接して配置され、画素ＰＸ５列では第２方向Ｄ２に沿って青画素ＰＸ＿Ｂと緑画素ＰＸ＿Ｇとが隣接して配置される。さらに第２方向Ｄ２に沿って配列される追加的な行においても同じ配列が繰り返され得（すなわち、２色画素ＰＸの繰り返し配列）、第２方向Ｄ２に沿って赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、青画素ＰＸ＿Ｂの３種の色画素ＰＸを繰り返し単位として配列され得る（すなわち、３色画素ＰＸの繰り返し配列）。

さらに、図９は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸ配列と表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸ配列とが相違する場合を例示する。図９で表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸ配列は、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔとは異なって第２方向Ｄ２に沿って同じ色の画素ＰＸが配列されている。また他の実施形態において、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸも第２方向Ｄ２に沿って表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔと同じ規則で配列され得る。

図１０はまた他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。

図１０の実施形態では表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで画素ＰＸの色相別の大きさ及び配列が相違し、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで透光部ＴＡの面積が画素ＰＸの面積よりさらに大きい場合を例示する。

図１０を参照すると、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄで第１列及び第３列では第２方向Ｄ２に沿って赤画素ＰＸ＿Ｒと緑画素ＰＸ＿Ｇとが交互に配列され、第２列及び第４列では青画素ＰＸ＿Ｂが配列される。図面では４個の行が配列されており、赤画素ＰＸ＿Ｒと緑画素ＰＸ＿Ｇは、一つの行ごとに配置されるが、青画素ＰＸ＿Ｂは、２個の行にわたって配置された場合が例示されている。例示された実施形態において、青画素ＰＸ＿Ｂの第２方向Ｄ２の幅は、赤画素ＰＸ＿Ｒと緑画素ＰＸ＿Ｇの第２方向Ｄ２の幅の２倍である。また、赤画素ＰＸ＿Ｒと緑画素ＰＸ＿Ｇの第１方向Ｄ１の幅は、青画素ＰＸ＿Ｂの第１方向Ｄ１の幅と同じであり得る。青画素ＰＸ＿Ｂの大きさ（面積）は、赤画素ＰＸ＿Ｒと緑画素ＰＸ＿Ｇのそれぞれの大きさ（面積）の２倍であり得る。

図１０に例示的に示す表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、第１行、第２行及び第１列、第２列にわたって赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、青画素ＰＸ＿Ｂが配置され、残りの部分には一つの透光部ＴＡが配置されている。赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、青画素ＰＸ＿Ｂが配置された部分での画素ＰＸ配列は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと同じである。残りの部分は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと比べる時、３セットの赤／緑／青画素（ＰＸ＿Ｒ、ＰＸ＿Ｇ、ＰＸ＿Ｂ）集団に対応する。したがって、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで透光部ＴＡの面積は、画素ＰＸが占める面積の３倍になる。すなわち、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ全体面積に対する透光部ＴＡの面積は、７５％であり得る。また、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの解像度は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの解像度の１／４になる。

図１０の実施形態の場合、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの解像度が１／４に減る代わりに透光部ＴＡの大きさが大幅に増加する。したがって、該当領域に多くの光量を必要とする光センシング部材を適用するのに相応しい。

図１１はまた他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。

図１１の実施形態は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔとが同じ解像度を有するが、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの大きさが表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸの大きさより小さくてもよい場合を例示する。

具体的に説明すれば、図１１において、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄで第１列には赤画素ＰＸ＿Ｒ及び緑画素ＰＸ＿Ｇが第２方向Ｄ２に沿って配列され、第２列には青画素ＰＸ＿Ｂが配置される。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔでは表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの赤画素ＰＸ＿Ｒに対応する領域が３個の画素（ＰＸ＿Ｒ、ＰＸ＿Ｇ、ＰＸ＿Ｂ）に分割され、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの緑画素ＰＸ＿Ｇ及び青画素ＰＸ＿Ｂに対応する領域には透光部ＴＡが配置される。本実施形態の場合、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔでは透光部ＴＡが占める面積は、画素ＰＸが占める面積の３倍になる。すなわち、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔ全体面積に対する透光部ＴＡの面積は７５％であり得る。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各色相別画素ＰＸの大きさは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの対応する色相別画素ＰＸの大きさより小さく、図示する例では１／４になる。ただし、同一面積あたりの表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄに配置される画素ＰＸの数と表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔに配置される画素ＰＸの数とが同じであるため、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの解像度は、同一に維持できる。

本実施形態の場合、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの解像度を表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと同一に維持しながら透光部ＴＡの大きさを大きくできるため、多くの光量を必要とする光センシング部材を適用するのに相応しい。

図１２はまた他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。

図１２の実施形態は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔとが同じ解像度を有するが、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの大きさが表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸの大きさより小さな点は、図１１の実施形態と同じであるが、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各色相画素ＰＸが互いに接して配置されず、透光部ＴＡを挟んで互いに離隔するように分散して配置された点で、図１１の実施形態とは相違する。

図１２を参照すると、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各画素ＰＸは、透光部ＴＡによって囲まれる。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各色相別画素（ＰＸ＿Ｒ、ＰＸ＿Ｇ、ＰＸ＿Ｂ）は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの対応する色相別画素（ＰＸ＿Ｒ、ＰＸ＿Ｇ、ＰＸ＿Ｂ）より大きさが小さいが、同一面積を基準にした画素ＰＸの数は同じである。

本実施形態の場合、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの解像度を表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと同一に維持しながら透光部ＴＡの大きさが大きくできるだけでなく、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各画素ＰＸを分散して配置することで、透光部ＴＡがよく視認されない。

図１３はまた他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図であり、各画素の発光領域と非発光領域とを区分して示した概略図である。

図１３の実施形態は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの発光領域ＥＭＡがペンタイル方式で配列される一方、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各色相別発光領域ＥＭＡは、一つの列内で交互に配列され、第１方向Ｄ１に沿って透光部ＴＡと画素ＰＸとが交互に配列される場合を例示する。

図１３を参照すると、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄは、第１方向Ｄ１に沿って画素ＰＸが赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、青画素ＰＸ＿Ｂ、緑画素ＰＸ＿Ｇの順に交互に配列される。緑画素ＰＸ＿Ｇは、赤画素ＰＸ＿Ｒと青画素ＰＸ＿Ｂそれぞれより２倍の数で配列される。第１列、第３列は、第２方向Ｄ２に沿って赤画素ＰＸ＿Ｒと青画素ＰＸ＿Ｂとが交互に配列され、第２列、第４列は、第２方向Ｄ２に沿って緑画素ＰＸ＿Ｇが配列される。

一実施形態において、各色相画素ＰＸの発光領域ＥＭＡの形状および大きさは相違し得る。

例えば、赤発光領域ＥＭＡ＿Ｒと青発光領域ＥＭＡ＿Ｂは、それぞれひし形形状や角が丸いひし形形状や、第１方向Ｄ１と第２方向Ｄ２の辺の長さが対角線方向の辺の長さより短い八角形形状であり得る。一方、緑発光領域ＥＭＡ＿Ｇは、正四角形形状であるか、角が丸い正四角形形状であるか、正八角形形状であり得る。しかし、これに制限されず、赤発光領域ＥＭＡ＿Ｒ、青発光領域ＥＭＡ＿Ｂ及び緑発光領域ＥＭＡ＿Ｇのうち少なくとも一つは実質的な円形状を有し得る。

赤発光領域ＥＭＡ＿Ｒと青発光領域ＥＭＡ＿Ｂは、実質的に同じ大きさを有し得る。緑発光領域ＥＭＡ＿Ｇは、赤発光領域ＥＭＡ＿Ｒや青発光領域ＥＭＡ＿Ｂより小さくてもよい。一実施形態において、緑発光領域ＥＭＡ＿Ｇの面積は、赤発光領域ＥＭＡ＿Ｒや青発光領域ＥＭＡ＿Ｂの面積の１／２であり得るが、これに制限されない。

赤発光領域ＥＭＡ＿Ｒと青発光領域ＥＭＡ＿Ｂは、該当画素ＰＸ内で第２方向Ｄ２の一側（図面の上側）にかたよって配置され、緑発光領域ＥＭＡ＿Ｇは、該当画素ＰＸ内で第２方向Ｄ２の他側（図面の下側）にかたよって配置され得る。赤発光領域ＥＭＡ＿Ｒと青発光領域ＥＭＡ＿Ｂは、第１方向Ｄ１に沿ってその中心が一つの直線上に配置され、緑発光領域ＥＭＡ＿Ｇは、他の直線上に配置され得る。このような関係を基準にして見る時、一つの画素ＰＸ行は、２個の発光領域行に分割できる。各画素ＰＸ行の第１発光領域行は、赤発光領域ＥＭＡ＿Ｒと青発光領域ＥＭＡ＿Ｂとが交互に配列される行であり、第２発光領域行は、緑発光領域ＥＭＡ＿Ｇが配列される行である。各発光領域行には第２列ごとに一つずつ発光領域ＥＭＡが配置される。同一列に対して同じ画素ＰＸ行に属する２個の発光領域行のうち一つの発光領域行にのみ発光領域ＥＭＡが配置され得る。第１発光領域行と第２発光領域行に配置される発光領域ＥＭＡは、第２方向Ｄ２に沿って整列されずに互いに交差するように配置され得る。

一実施形態において、第２発光領域行と同一画素ＰＸ行に該当する第１発光領域行の間の距離は、第２発光領域行と隣接した画素ＰＸ行に該当する第１発光領域行の間の距離と実質的に同じであり得る。すなわち、第１発光領域行と第２発光領域行は、第２方向Ｄ２に沿って一定の間隔で交互に配列され得る。

表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄで各画素ＰＸは画像を表示するために隣接する画素ＰＸと部分的に共有され得る。これにより実質的な解像度増加の効果をもたらす。このようなペンタイル方式の画面表現は、本技術分野に公示されているので、具体的な説明は省略する。

表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄのペンタイル配列と相違する画素ＰＸ配列を有し得る。図１３の例で、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの場合、第１列に透光部ＴＡが配置され、第２列に赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、及び青画素ＰＸ＿Ｂが順に交互に配列される。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各色相別発光領域ＥＭＡは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの各色相別発光領域ＥＭＡと形状及び大きさが同じであり得る。

表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで赤発光領域ＥＭＡ＿Ｒ、緑発光領域ＥＭＡ＿Ｇ及び青発光領域ＥＭＡ＿Ｂは、それぞれ画素ＰＸの中央部に配置され得、その中心が第２方向Ｄ２に沿って延びる直線上に配置され得る。透光部ＴＡの大きさは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの４個の画素ＰＸの大きさと同じであり得る。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの３個の画素ＰＸの面積は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄでの４個の画素ＰＸの面積と同じであり得る。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで透光部ＴＡが占める面積が全体面積の１／２になる。

図１４はまた他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。

本実施形態による表示パネルは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸ及び発光領域ＥＭＡの配列は、図１３と同じであるが、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸ及び透光部ＴＡの配列が図１３の実施形態とは相違する。

図１４を参照すると、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの第１列、第３列には透光部ＴＡが配置される。透光部ＴＡの大きさは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸと同じ大きさを有し得る。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの第２列、第４列には画素ＰＸが配列される。各画素ＰＸは、第２方向Ｄ２に沿って赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、青画素ＰＸ＿Ｂ、緑画素ＰＸ＿Ｇの順に配列される。

表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各画素ＰＸは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの発光領域行ごとに配置される。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの大きさは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸの大きさの１／２であり得る。

図示する実施形態では同一面積に対して表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸの数と表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの数とが同じである。したがって、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと同じ解像度を現す。

また図示する例において、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの大きさは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸの大きさより小さいが、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの各発光領域ＥＭＡの大きさは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの各発光領域ＥＭＡの大きさと同じである。このような実施形態では表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔが透光部ＴＡを保有しながらも解像度及び発光輝度を表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと同一に確保できるであろう。

図１５はまた他の実施形態による表示パネルの領域別画素および透光部の配列を示す概略図である。

本実施形態による表示パネルは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの画素ＰＸ及び発光領域ＥＭＡの配列は、図１４と同じであるが、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸ及び透光部ＴＡの配列が図１４の実施形態とは相違する。

図１５を参照すると、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの第１行、第３行には透光部ＴＡが配置される。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの第２行、第４行には画素ＰＸが配列される。各画素ＰＸは、第１方向Ｄ１に沿って赤画素ＰＸ＿Ｒ、緑画素ＰＸ＿Ｇ、青画素ＰＸ＿Ｂ、緑画素ＰＸ＿Ｇの順に配列される。本実施形態において、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの第１行及び第３行は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの第１行と第２行の第１発光領域行に対応し、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの第２行及び第４行は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの第１行と第２行の第２発光領域行にそれぞれ対応する。

本実施形態の場合、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの透光部ＴＡと画素ＰＸの配列は、図１４の実施形態から行と列の方向が変わった場合であり、その点を除いた配列は図１４の実施形態と実質的に同じである。したがって、図１４の実施形態と同一に表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと同じ解像度を現すことができ、さらに表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔが透光部ＴＡを保有しながらも解像度及び発光輝度を表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと同一に確保できる。

上述した実施形態は多様に組み合わせることが可能である。例えば、表示パネルは、上述した実施形態のいずれか一つの実施形態による表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと、他の一つの実施形態による表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔとを含み得る。また、表示パネルが複数の表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔを含み、一つの表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、上述したいずれか一つの実施形態の配置を有し、他の一つの表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、上述した他の一つの実施形態の配置を有し得る。このような実施形態の組み合わせは、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの位置、個数、必要とする透過率、解像度などによって決定される。

図１６は一実施形態による表示パネルの配線配置を示す概略図である。

図１６では表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄの内部に円型の表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔが配置された場合を示す。表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄによって囲まれている。

表示パネルは複数の信号配線を含む。複数の信号配線は、複数のスキャン線ＳＬと複数のデータ線ＤＬ及び複数の第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬを含む。

各スキャン線ＳＬは第１方向Ｄ１に延び、一部のスキャン線ＳＬは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔとをすべて横切るように配置される。各データ線ＤＬ及び各第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬは、第２方向Ｄ２に延び、一部のデータ線ＤＬと第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬは、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔとをすべて横切るように配置される。

図５を参照して説明したように、画素回路はスキャン線ＳＬ、データ線ＤＬ及び第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬと接続され、各配線は複数の画素ＰＸによって共有される。しかし、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔでは透光部ＴＡを含む上で画素ＰＸの配置が表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄと異なり得るので、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔでの信号配線の配置も表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄとは異なり得る。

具体的に説明するために図１７及び図１８を参照する。

図１７はいくつかの実施形態による表示パネルの表示透光領域における一部配線の配置を示す概略図である。図１７は透光部ＴＡの第２方向Ｄ２の幅が画素ＰＸの第２方向Ｄ２の幅より大きい場合を例示する。このような例として、図１７には図１３の表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの発光領域ＥＭＡおよび透光部ＴＡの配置が適用されている。図１７では前記一部配線としてスキャン線ＳＬを示し、説明の便宜上データ線と第１電源電圧線の図示は省略した。

図１７を参照すると、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔでは各列毎に透光部ＴＡまたは画素ＰＸが配列される。隣接した列間の空間は、第２方向Ｄ２に沿って透光部ＴＡまたは画素ＰＸが配置されない。したがって、第２方向Ｄ２に延びるデータ線と第１電源電圧線は、透光部ＴＡと画素ＰＸ列との間に沿って配置されるので、透光部ＴＡを横切らずに配置され得る。

一方、行方向には一つの透光部ＴＡが３個の画素ＰＸと対応する。透光部ＴＡの中間に位置する画素ＰＸは、行方向に透光部ＴＡによって覆われる。透光部ＴＡによって覆われた画素ＰＸに対しても行方向である第１方向Ｄ１に延びるスキャン線ＳＬが接続される必要がある。スキャン線ＳＬは、透光部ＴＡを横切って覆われた画素ＰＸと接続されることもできるが、この場合、透光部ＴＡの光透過率が低くなる。

スキャン線ＳＬを透光部ＴＡと重ならないようにするためにスキャン線ＳＬを迂回させる例示的な配置が図１７に示されている。すなわち、複数のスキャン線ＳＬは、第２方向Ｄ２に隣り合う透光部ＴＡの間の空間を通過する。複数のスキャン線ＳＬは、透光部ＴＡの間の空間で第１方向Ｄ１に沿って並んで延びる。複数のスキャン線は、赤スキャン線ＳＬ＿Ｒ、緑スキャン線ＳＬ＿Ｇ、及び青スキャン線ＳＬ＿Ｂを含み得る。赤スキャン線ＳＬ＿Ｒは、赤画素ＰＸ＿Ｒに接続され、緑スキャン線ＳＬ＿Ｇは、緑画素ＰＸ＿Ｇに接続され、青スキャン線ＳＬ＿Ｂは、青画素ＰＸ＿Ｂに接続されるが、これに制限されない。

赤スキャン線ＳＬ＿Ｒは、画素ＰＸが配置された列に至って赤画素ＰＸ＿Ｒ側に折れ、赤画素ＰＸ＿Ｒの縁を囲んだ後再び隣り合う透光部ＴＡの間の空間に進む。緑スキャン線ＳＬ＿Ｇは、画素ＰＸが配置された列に至って緑画素ＰＸ＿Ｇ側に折れ、緑画素ＰＸ＿Ｇの縁を囲んだ後再び隣り合う透光部ＴＡの間の空間に進む。すなわち、赤スキャン線ＳＬ＿Ｒ及び緑スキャン線ＳＬ＿Ｇは、画素ＰＸが配置された列で第２方向Ｄ２に沿って一定距離迂回する。一方、青スキャン線ＳＬ＿Ｂは、迂回せずに第１方向Ｄ１に沿って延びながら画素ＰＸ列でそれに接した青画素ＰＸ＿Ｂに接続され得る。

迂回区間で赤スキャン線ＳＬ＿Ｒと緑スキャン線ＳＬ＿Ｇは、それぞれ第２方向Ｄ２の他側（図面の下側）に延びる第１迂回延長部、第１方向Ｄ１に延びる第２迂回延長部及び第２方向Ｄ２の一側（図面の上側）に延びる第３迂回延長部を含み得る。

図面では緑スキャン線ＳＬ＿Ｇの迂回距離が赤スキャン線ＳＬ＿Ｒの迂回距離より大きい場合を示しているが、これに制限されない。画素ＰＸの配置や配線の設計によって迂回距離は多様に変形可能である。

一実施形態において、前記複数のスキャン線ＳＬは、ダミースキャン線ＳＬ＿ＤＭをさらに含み得る。例えば、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄが表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔより解像度がさらに高いか、画素ＰＸの配列上さらに多くのスキャン線ＳＬを必要とする場合、一部のスキャン線ＳＬは表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔで画素ＰＸと接続されずに通過するダミースキャン線ＳＬ＿ＤＭになる。逆に、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔが表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄより画素ＰＸの配列上さらに多くのスキャン線ＳＬを必要とする場合は、表示専用領域ＤＰＡ＿Ｄにダミースキャン線が配置されることもできる。

図１８はいくつかの実施形態による表示パネルの表示透光領域におけるデータ線と第１電源電圧線との配置を示す概略図である。図１８は透光部ＴＡの第１方向Ｄ１の幅が画素ＰＸの第１方向Ｄ１の幅より大きい場合を例示する。その例として、図１８には図１５の表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの画素ＰＸの発光領域ＥＭＡと透光部ＴＡの配置が適用されている。図１８では前記一部配線としてデータ線ＤＬおよび第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬを図示し、説明の便宜上スキャン線の図示は省略した。

図１８を参照すると、表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔが図１５のような画素ＰＸ配列を有する場合、各行別に透光部ＴＡまたは画素ＰＸが配列され、隣接した行の間の空間は、第１方向Ｄ１に沿って透光部ＴＡまたは画素ＰＸが配置されない。したがって、第１方向Ｄ１に延びるスキャン線は、透光部ＴＡと画素ＰＸ行との間に沿って配置され得るので、透光部ＴＡを横切らずに配置され得る。

一方、列方向には一つの透光部ＴＡが２個の画素ＰＸと対応し、かつ一部の画素ＰＸが透光部ＴＡによって覆われる。したがって、配線と透光部ＴＡとが重なることを防止するために列方向である第２方向Ｄ２に延びるデータ線ＤＬと第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬのうち少なくとも一つは迂回配線を含み得る。

具体的に説明すれば、赤／青データ線ＤＬ＿ＲＢ、緑データ線ＤＬ＿Ｇ、赤／青第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬ＿ＲＢ及び緑第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬ＿Ｇは、第１方向Ｄ１に隣り合う透光部ＴＡの間の空間で第２方向Ｄ２に沿って並んで延びる。

赤／青データ線ＤＬ＿ＲＢと緑第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬ＿Ｇは、迂回せずに第２方向Ｄ２に沿って延びながらが隣接する赤／青画素ＰＸ＿Ｂ及び緑画素ＰＸ＿Ｇと連結される。

緑データ線ＤＬ＿Ｇと赤／青第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬ＿ＲＢは、画素ＰＸ行に至って画素ＰＸ側に折れ、該当画素ＰＸを囲んだ後再び隣り合う透光部ＴＡの間の空間に進む。すなわち、緑データ線ＤＬ＿Ｇと赤／青第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬ＿ＲＢは、画素ＰＸ行で迂回区間を含む。迂回区間は、第１方向Ｄ１の一側（または他側）に延びる第１迂回延長部、第２方向Ｄ２に延びる第２迂回延長部、第１方向Ｄ１の他側（または一側）に延びる第３迂回延長部を含み得る。

一実施形態において、図１７の実施形態と同様の理由で、ダミーデータ線ＤＬ＿ＤＭ及び／またはダミー第１電源電圧線ＥＬＶＤＤＬ＿ＤＭが、第２方向Ｄ２に延び得る。

上述したように表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔに第１方向Ｄ１や第２方向Ｄ２に画素ＰＸより幅が大きい透光部ＴＡが配置された場合、一部の配線に迂回区間を含ませることで、配線を透光部ＴＡと重ならせない。したがって、透光部ＴＡ及びこれを含む表示透光領域ＤＰＡ＿Ｔの光透過率を高く維持できる。

以上添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者は、本発明のその技術的思想や必須的な特徴を変更せずに他の具体的な形態に実施できることを理解できるであろう。したがって、上記実施形態は、すべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。

Claims (17)

1. 表示専用領域と表示透光領域とを含む表示部を備え、
   前記表示専用領域は、複数の第１画素を備え、
   前記表示透光領域は、複数の第２画素及び少なくとも一つの透光部を備え、
   前記透光部は、前記第１画素及び前記第２画素より高い光透過率を有し、前記表示透光領域は、前記表示専用領域より高い光透過率を有し、
   前記第１画素は、第１色に対応する第１色画素、第２色に対応する第２色画素、第３色に対応する第３色画素を有し、
   前記第１画素において、前記第１色画素は、前記第２色画素および前記第３色画素が配置される列と異なる列に配置され、
   前記第２画素は、前記第１色に対応する第４色画素、前記第２色に対応する第５色画素、前記第３色に対応する第６色画素を有し、
   前記第２画素において、前記第４色画素、前記第５色画素、および前記第６色画素が一つの列に配置される、表示装置。
2. 前記表示透光領域の解像度は、前記表示専用領域の解像度より低い請求項１に記載の表示装置。
3. 同じ色相の前記第１画素と前記第２画素は、同じ大きさを有する請求項２に記載の表示装置。
4. 前記第１画素は、同じ色相の前記第２画素より大きい請求項１に記載の表示装置。
5. 前記表示透光領域の解像度は、前記表示専用領域の解像度と同じである請求項４に記載の表示装置。
6. 前記透光部は、複数であり、前記各透光部は、前記第２画素と交互に配列される請求項１に記載の表示装置。
7. 前記表示専用領域と前記表示透光領域とにわたって配置された基板をさらに含む請求項１に記載の表示装置。
8. 前記基板は、前記各透光部と重なる請求項７に記載の表示装置。
9. 前記表示透光領域で前記透光部が占める面積は、５０％以上である請求項１に記載の表示装置。
10. 前記表示透光領域と重なるように配置された光センシング部材をさらに含む請求項１に記載の表示装置。
11. 前記光センシング部材は、光電変換素子を含むカメラ、赤外線近接センサー、虹彩認識センサー及び指紋センサーのうち少なくとも一つを含む請求項１０に記載の表示装置。
12. 前記表示透光領域は、第１表示透光領域及び前記第１表示透光領域と離隔した第２表示透光領域を含む請求項１１に記載の表示装置。
13. 前記第１表示透光領域の光透過率と前記第２表示透光領域の光透過率は、相違する請求項１２に記載の表示装置。
14. 前記表示部の周辺に配置された非表示部をさらに含み、
    前記表示透光領域は、部分的に前記非表示部と接するように配置される請求項１に記載の表示装置。
15. 前記表示透光領域は、中心から前記表示透光領域と前記非表示部との間に設けられた境界線の両端を連絡する図形の内角が１０°～１８０°の弓形形状を有する請求項１４に記載の表示装置。
16. 前記表示専用領域と前記表示透光領域とを横切る信号配線をさらに含み、前記信号配線は、前記表示透光領域で前記第２画素を迂回する迂回区間を含む請求項１に記載の表示装置。
17. 前記第１画素及び前記第２画素は、それぞれ発光領域及び前記発光領域の周辺に配置され、前記透光部より透過率が低い非発光領域を含む請求項１に記載の表示装置。

Images