JP7323026B2 - Organic electronic device and charge transport film - Google Patents

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Description

本発明は、有機電子デバイス及び電荷輸送性膜に関する。 The present invention relates to organic electronic devices and charge-transporting films.

近年、電子写真感光体、有機ＥＬデバイス、有機トランジスター、有機太陽電池など、有機化合物を用いた電子デバイスが盛んに開発されている。
特に、耐熱性、強度の点においては、架橋構造とすることが有効であり、例えば、熱硬化又は光硬化した膜を用いた有機ＥＬデバイス（例えば特許文献１参照）、電荷輸送性基を含有するアクリルポリマーを用いた電子写真感光体（例えば特許文献２乃至４参照）、電荷輸送性基と反応性基を含有するアクリルポリマーを、膜形成後に架橋した電子写真感光体（例えば特許文献５参照）、光硬化型アクリル系モノマーを含有する液を塗布し硬化した膜（例えば特許文献６参照）等が開示されている。また、炭素－炭素二重結合を有するモノマー、炭素－炭素二重結合を有する電荷移動材及びバインダー樹脂の混合物を熱又は光のエネルギーによって前記モノマーの炭素－炭素二重結合と前記電荷移動材の炭素－炭素二重結合とを反応させることにより形成された膜が開示され、特に、単官能メタクリル変性した電荷移動材と、電荷輸送性を有さないメタクリルモノマーと、ポリカーボネート樹脂と、に有機過酸化物を用いて硬化したものが開示されている（例えば特許文献７参照）。また、重合性官能基をポリマー主鎖中に有する電荷輸送性ポリエステル樹脂も開示されている（例えば特許文献８参照）。 In recent years, electronic devices using organic compounds, such as electrophotographic photoreceptors, organic EL devices, organic transistors, and organic solar cells, have been actively developed.
In particular, in terms of heat resistance and strength, it is effective to have a crosslinked structure. electrophotographic photoreceptors using an acrylic polymer (see, for example, Patent Documents 2 to 4), an electrophotographic photoreceptor in which an acrylic polymer containing a charge-transporting group and a reactive group is crosslinked after film formation (see, for example, Patent Document 5) ), a film obtained by coating and curing a liquid containing a photocurable acrylic monomer (see, for example, Patent Document 6). Alternatively, a mixture of a monomer having a carbon-carbon double bond, a charge transfer material having a carbon-carbon double bond and a binder resin is heated or light energy is applied to the carbon-carbon double bond of the monomer and the charge transfer material. Disclosed is a film formed by reacting a carbon-carbon double bond, in particular a monofunctional methacrylic-modified charge transfer material, a methacrylic monomer having no charge-transporting property, a polycarbonate resin, and an organic peroxide. A product cured using an oxide is disclosed (see, for example, Patent Document 7). Also disclosed is a charge-transporting polyester resin having a polymerizable functional group in the polymer main chain (see, for example, Patent Document 8).

また、電荷輸送性樹脂の末端に官能基を導入し、硬化した膜からなる有機半導体膜及び電子写真感光体（例えば特許文献９参照）等が開示されている。
さらに、主鎖及び末端の少なくとも一方に重合性不飽和結合を含有する電荷輸送性ポリエステル（特許文献１０）が開示されている。 Further, an organic semiconductor film and an electrophotographic photoreceptor (see, for example, Patent Document 9), etc., are disclosed which are composed of a cured film obtained by introducing a functional group to the end of a charge-transporting resin.
Furthermore, a charge-transporting polyester containing a polymerizable unsaturated bond in at least one of the main chain and terminal is disclosed (Patent Document 10).

国際公開第１９９７／０３３１９３号WO 1997/033193 特開平５－２０２１３５号公報JP-A-5-202135 特開平６－２５６４２８号公報JP-A-6-256428 特開平９－１２６３０号公報JP-A-9-12630 特開２００５－２２９１号公報Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2005-2291 特開平５－４０３６０号公報JP-A-5-40360 特開平５－２１６２４９号公報JP-A-5-216249 特開２０１３－７３０１５号公報JP 2013-73015 A 特開２００１－１１７２５２号公報JP-A-2001-117252 特開２０００－２６４９６１号公報JP-A-2000-264961

本発明の課題は、電荷輸送性樹脂としてポリ［ビス（４－フェニル）（２，４，６－トリメチルフェニル）アミン］のみを用いた場合に比べ、可視光吸収性が低い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスを提供することである。 An object of the present invention is to provide a charge-transporting film having a lower visible light absorption than when only poly[bis(4-phenyl)(2,4,6-trimethylphenyl)amine] is used as the charge-transporting resin. It is to provide an organic electronic device having

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
＜１＞
下記一般式（１Ａ－１）で表される構造及び下記一般式（１Ａ－２）で表される構造を有する第１の電荷輸送性樹脂、前記第１の電荷輸送性樹脂の架橋体、下記一般式（１Ｂ）で表される構造を有する第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂、並びに前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有する電荷輸送性膜を有する有機電子デバイス。 The above problems are solved by the following means. Namely
<1>
A first charge-transporting resin having a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2), a crosslinked product of the first charge-transporting resin, An organic having a charge-transporting film containing at least one selected from a second charge-transporting polyester resin having a structure represented by the general formula (1B) and a crosslinked product of the second charge-transporting polyester resin electronic device.


前記一般式（１Ａ－１）及び前記一般式（１Ａ－２）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０又は１を示す。 In the general formulas (1A-1) and (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transport property, and T 1 and T 2 each independently represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group; , p and q each independently represent 0 or 1.


前記一般式（１Ｂ）中、Ａ３は電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ３は炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ３は（ｎ３＋２）価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、ｎ３は１又は２を示し、Ｙ４は「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」を示し、＊はＹ３との結合位置を示し、ｎ４は１又は２を示し、Ｌは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された２価の連結基又は単結合を示し、Ｚは重合性官能基を示す。
＜２＞
前記重合性官能基は、下記一般式（Ｐ１）で表される基、下記一般式（Ｐ２）で表される基、下記一般式（Ｐ３）で表される基、下記一般式（Ｐ４）で表される基、及び下記一般式（Ｐ５）で表される基から選ばれる少なくとも１つである＜１＞に記載の有機電子デバイス。 In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having charge transport properties, T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 3 represents a (n3+2)-valent non-charge-transporting diol residue, n3 represents 1 or 2, Y 4 represents "*-(CH 2 ) n4 -LZ", and * represents Y 3 and n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from carbon atoms, oxygen atoms, and hydrogen atoms, Z represents a polymerizable functional group.
<2>
The polymerizable functional group includes a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), a group represented by the following general formula (P3), and a group represented by the following general formula (P4). The organic electronic device according to <1>, which is at least one selected from groups represented by the following general formula (P5) and groups represented by the following general formula (P5).


前記一般式（Ｐ１）～（Ｐ５）中、Ｒ３～Ｒ６は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、＊は、結合位置を示す。
＜３＞
前記重合性官能基は、下記式（Ｐ１－１）で表される基、下記式（Ｐ１－２）で表される基、及び下記式（Ｐ３－１）で表される基から選ばれる少なくとも１つである＜２＞に記載の有機電子デバイス。 In general formulas (P1) to (P5), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and * represents a bonding position.
<3>
The polymerizable functional group is at least selected from a group represented by the following formula (P1-1), a group represented by the following formula (P1-2), and a group represented by the following formula (P3-1) The organic electronic device according to <2>, which is one.


前記式（Ｐ１－１）、（Ｐ１－２）、及び（Ｐ３－１）中、＊は、結合位置を示す。
＜４＞
前記一般式（１Ａ－１）におけるＡ１、前記一般式（１Ａ－２）におけるＡ２、及び前記一般式（１Ｂ）におけるＡ３は、正孔輸送能を有する２価の有機基を示す＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の有機電子デバイス。
＜５＞
前記一般式（１Ａ－１）におけるＡ１、前記一般式（１Ａ－２）におけるＡ２、及び前記一般式（１Ｂ）におけるＡ３は、下記一般式（２）で表される２価の有機基を示す＜４＞に記載の有機電子デバイス。 In the formulas (P1-1), (P1-2) and (P3-1), * indicates the binding position.
<4>
A 1 in the general formula (1A-1), A 2 in the general formula (1A-2), and A 3 in the general formula (1B) represent a divalent organic group having a hole-transporting ability< The organic electronic device according to any one of 1> to <3>.
<5>
A 1 in the general formula (1A-1), A 2 in the general formula (1A-2), and A 3 in the general formula (1B) are divalent organic compounds represented by the following general formula (2) The organic electronic device according to <4> showing a group.


前記一般式（２）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｘは置換又は未置換の２価の有機基を示し、ｋ及びｍはそれぞれ独立に０又は１を示す。
＜６＞
前記一般式（１Ａ－１）におけるＴ１、前記一般式（１Ａ－２）におけるＴ２、及び前記一般式（１Ｂ）におけるＴ３は、炭素数１以上８以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示す＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の有機電子デバイス。
＜７＞
前記第１の電荷輸送性樹脂及び前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の全体に含まれる水酸基の総数をＭＨとし、前記第１の電荷輸送性樹脂及び前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の全体に含まれる前記重合性官能基の総数をＭＰとしたとき、下記式（Ａ１）を満たす＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の有機電子デバイス。
式（Ａ１）：０≦ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）≦０．９
＜８＞
前記ＭＨ及び前記ＭＰは、下記式（Ａ２）を満たす＜７＞に記載の有機電子デバイス。
式（Ａ２）：０≦ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）≦０．６ In the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group, and X is a substituted or unsubstituted divalent represents an organic group, and k and m each independently represents 0 or 1;
<6>
T 1 in the general formula (1A-1), T 2 in the general formula (1A-2), and T 3 in the general formula (1B) are linear or branched having 1 to 8 carbon atoms. The organic electronic device according to any one of <1> to <5>, which exhibits a divalent hydrocarbon group.
<7>
Let MH be the total number of hydroxyl groups contained in the first charge-transporting resin and the second charge-transporting polyester resin, and The organic electronic device according to any one of <1> to <6>, which satisfies the following formula (A1), where MP is the total number of the polymerizable functional groups contained in the whole.
Formula (A1): 0≦M H /(M H +M P )≦0.9
<8>
The organic electronic device according to <7>, wherein the MH and the MP satisfy the following formula (A2).
Formula (A2): 0≦M H /(M H +M P )≦0.6

＜９＞
前記一般式（１Ｂ）におけるＹ３を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が２以上２０以下である＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の有機電子デバイス。
＜１０＞
前記一般式（１Ｂ）におけるＹ４中の前記Ｌを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が１以上１０以下である＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の有機電子デバイス。
＜１１＞
前記一般式（１Ｂ）におけるＹ３を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、前記一般式（１Ｂ）におけるＹ４中の前記ｎ４の数と、前記一般式（１Ｂ）におけるＹ４中の前記Ｌを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、の合計が２５以下である＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の有機電子デバイス。
＜１２＞
前記電荷輸送性膜は、前記第１の電荷輸送性樹脂の架橋体及び前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有する＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の有機電子デバイス。 <9>
The organic electronic device according to any one of <1> to <8>, wherein the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting Y 3 in the general formula (1B) is 2 or more and 20 or less.
<10>
The organic electron according to any one of <1> to <9>, wherein the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting L in Y 4 in general formula (1B) is 1 or more and 10 or less. device.
<11>
The number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting Y 3 in the general formula (1B), the number of the n4 in Y 4 in the general formula (1B), and Y 4 in the general formula (1B) The organic electronic device according to any one of <1> to <10>, wherein the total number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting L in the organic electronic device is 25 or less.
<12>
Any one of <1> to <11>, wherein the charge-transporting film contains at least one selected from a crosslinked body of the first charge-transporting resin and a crosslinked body of the second charge-transporting polyester resin. 1. An organic electronic device according to one.

＜１３＞
前記有機電子デバイスが電子写真感光体である＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の有機電子デバイス。
＜１４＞
前記電子写真感光体の最表面層として、前記第１の電荷輸送性樹脂の架橋体及び前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有する電荷輸送性膜を有する＜１３＞に記載の有機電子デバイス。
＜１５＞
前記有機電子デバイスが有機電界発光素子である＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の有機電子デバイス。
＜１６＞
下記一般式（１Ａ－１）で表される構造及び下記一般式（１Ａ－２）で表される構造を有する第１の電荷輸送性樹脂、前記第１の電荷輸送性樹脂の架橋体、下記一般式（１Ｂ）で表される構造を有する第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂、並びに前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有する電荷輸送性膜。 <13>
The organic electronic device according to any one of <1> to <12>, wherein the organic electronic device is an electrophotographic photoreceptor.
<14>
The electrophotographic photoreceptor has, as the outermost layer, a charge-transporting film containing at least one selected from the crosslinked first charge-transporting resin and the crosslinked second charge-transporting polyester resin. The organic electronic device according to <13>.
<15>
The organic electronic device according to any one of <1> to <12>, wherein the organic electronic device is an organic electroluminescent element.
<16>
A first charge-transporting resin having a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2), a crosslinked product of the first charge-transporting resin, A charge-transporting film containing at least one selected from a second charge-transporting polyester resin having a structure represented by general formula (1B) and a crosslinked product of the second charge-transporting polyester resin.


前記一般式（１Ａ－１）及び前記一般式（１Ａ－２）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０又は１を示す。 In the general formulas (1A-1) and (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transport property, and T 1 and T 2 each independently represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group; , p and q each independently represent 0 or 1.


前記一般式（１Ｂ）中、Ａ３は電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ３は炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ３は（ｎ３＋２）価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、ｎ３は１又は２を示し、Ｙ４は「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」を示し、＊はＹ３との結合位置を示し、ｎ４は１又は２を示し、Ｌは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された２価の連結基又は単結合を示し、Ｚは重合性官能基を示す。 In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having charge transport properties, T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 3 represents a (n3+2)-valent non-charge-transporting diol residue, n3 represents 1 or 2, Y 4 represents "*-(CH 2 ) n4 -LZ", and * represents Y 3 and n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from carbon atoms, oxygen atoms, and hydrogen atoms, Z represents a polymerizable functional group.

＜１＞、＜２＞、＜３＞、＜４＞、＜５＞、＜６＞、＜７＞、＜８＞、＜１３＞、又は＜１５＞に係る発明によれば、電荷輸送性樹脂としてポリ［ビス（４－フェニル）（２，４，６－トリメチルフェニル）アミン］のみを用いた場合に比べ、可視光吸収性が低い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
＜９＞に係る発明によれば、一般式（１Ｂ）におけるＹ３を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が２０より多い場合に比べ、電荷輸送性が高い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
＜１０＞に係る発明によれば、一般式（１Ｂ）におけるＹ４中の前記Ｌを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が１０より多い場合に比べ、電荷輸送性の高い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
＜１１＞に係る発明によれば、一般式（１Ｂ）におけるＹ３を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、一般式（１Ｂ）におけるＹ４中のｎ４の数と、一般式（１Ｂ）におけるＹ４中のＬを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、の合計が２５より多い場合に比べ、電荷輸送性の高い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
＜１２＞に係る発明によれば、電荷輸送性膜が第１の電荷輸送性樹脂の架橋体及び第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体のいずれも含有しない場合に比べ、耐溶剤性の高い電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスが提供される。
＜１４＞に係る発明によれば、電子写真感光体の最表面層が、第１の電荷輸送性樹脂の架橋体及び第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体のいずれも含有しない電荷輸送性膜である場合に比べ、最表面層の機械的強度が高い有機電子デバイスが提供される。
＜１６＞に係る発明によれば、電荷輸送性樹脂としてポリ［ビス（４－フェニル）（２，４，６－トリメチルフェニル）アミン］のみを用いた場合に比べ、可視光吸収性が低い電荷輸送性膜が提供される。 According to the inventions <1>, <2>, <3>, <4>, <5>, <6>, <7>, <8>, <13>, or <15>, the charge transport property Provided is an organic electronic device having a charge-transporting film with lower visible light absorption than when only poly[bis(4-phenyl)(2,4,6-trimethylphenyl)amine] is used as the resin.
According to the invention according to <9>, the charge-transporting film has a high charge-transporting property compared to the case where the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting Y 3 in the general formula (1B) is more than 20. An organic electronic device is provided.
According to the invention according to <10>, charge transport with high charge transport property compared to the case where the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting L in Y 4 in general formula (1B) is more than 10 An organic electronic device having a thin film is provided.
According to the invention according to <11>, the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting Y 3 in general formula (1B), the number of n4 in Y 4 in general formula (1B), and the general formula Provided is an organic electronic device having a charge-transporting film with a high charge-transporting property compared to the case where the total number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting L in Y4 in (1B) is greater than 25. be done.
According to the invention according to <12>, the solvent resistance is higher than that in the case where the charge-transporting film contains neither the crosslinked first charge-transporting resin nor the crosslinked second charge-transporting polyester resin. Organic electronic devices having high charge transport films are provided.
According to the invention according to <14>, the outermost layer of the electrophotographic photoreceptor contains neither the crosslinked first charge-transporting resin nor the crosslinked second charge-transporting polyester resin. An organic electronic device is provided in which the mechanical strength of the outermost surface layer is higher than in the case of a film.
According to the invention according to <16>, compared with the case where only poly[bis(4-phenyl)(2,4,6-trimethylphenyl)amine] is used as the charge-transporting resin, the visible light absorbing charge is low. A transport membrane is provided.

本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の一例を示す概略部分断面図である。1 is a schematic partial cross-sectional view showing an example of the layer structure of an electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment; FIG. 本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。4 is a schematic partial cross-sectional view showing another example of the layer structure of the electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment; FIG. 本実施形態に係る電子写真感光体の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。4 is a schematic partial cross-sectional view showing another example of the layer structure of the electrophotographic photoreceptor according to the exemplary embodiment; FIG. 本実施形態に係るプロセスカートリッジを備えた画像形成装置の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of an image forming apparatus equipped with a process cartridge according to this embodiment; FIG. 本実施形態に係るタンデム型画像形成装置の概略断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a tandem-type image forming apparatus according to an embodiment; FIG. （Ａ）（Ｂ）（Ｃ）はそれぞれゴースト評価の基準を示す説明図である。(A), (B), and (C) are explanatory diagrams showing standards for ghost evaluation, respectively. 本実施形態に係る有機電界発光素子の層構成の一例を示す概略部分断面図である。1 is a schematic partial cross-sectional view showing an example of the layer structure of an organic electroluminescence device according to this embodiment; FIG. 本実施形態に係る有機電界発光素子の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。FIG. 3 is a schematic partial cross-sectional view showing another example of the layer structure of the organic electroluminescence device according to this embodiment. 本実施形態に係る有機電界発光素子の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。FIG. 3 is a schematic partial cross-sectional view showing another example of the layer structure of the organic electroluminescence device according to this embodiment. 本実施形態に係る有機電界発光素子の層構成の他の一例を示す概略部分断面図である。FIG. 3 is a schematic partial cross-sectional view showing another example of the layer structure of the organic electroluminescence device according to this embodiment.

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。これらの説明及び実施例は実施形態を例示するものであり、発明の範囲を制限するものではない。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. These descriptions and examples are illustrative of embodiments and do not limit the scope of the invention.

［有機電子デバイス］
本実施形態に係る有機電子デバイスは、下記一般式（１Ａ－１）で表される構造及び下記一般式（１Ａ－２）で表される構造を有する第１の電荷輸送性樹脂、前記第１の電荷輸送性樹脂の架橋体、下記一般式（１Ｂ）で表される構造を有する第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂、並びに前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有する電荷輸送性膜を有する。
以下、第１の電荷輸送性樹脂及び第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂から選ばれる少なくとも１種を「特定樹脂」と称する場合があり、特定樹脂の架橋体を「特定樹脂架橋体」と称する場合がある。 [Organic electronic device]
The organic electronic device according to this embodiment comprises a first charge-transporting resin having a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2); at least one selected from a crosslinked charge-transporting resin, a second charge-transporting polyester resin having a structure represented by the following general formula (1B), and a crosslinked body of the second charge-transporting polyester resin has a charge-transporting film containing
Hereinafter, at least one selected from the first charge-transporting resin and the second charge-transporting polyester resin may be referred to as the "specific resin", and the crosslinked product of the specific resin may be referred to as the "specific resin crosslinked product". There is


前記一般式（１Ａ－１）及び前記一般式（１Ａ－２）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０又は１を示す。 In the general formulas (1A-1) and (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transport property, and T 1 and T 2 each independently represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group; , p and q each independently represent 0 or 1.


前記一般式（１Ｂ）中、Ａ３は電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ３は炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ３は（ｎ３＋２）価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、ｎ３は１又は２を示し、Ｙ４は「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」を示し、＊はＹ３との結合位置を示し、ｎ４は１又は２を示し、Ｌは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された２価の連結基又は単結合を示し、Ｚは重合性官能基を示す。 In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having charge transport properties, T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 3 represents a (n3+2)-valent non-charge-transporting diol residue, n3 represents 1 or 2, Y 4 represents "*-(CH 2 ) n4 -LZ", and * represents Y 3 and n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from carbon atoms, oxygen atoms, and hydrogen atoms, Z represents a polymerizable functional group.

本実施形態に係る有機電子デバイスが有する電荷輸送性膜は、特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有するため電荷輸送能が高い。そのため、上記有機電子デバイスは、電荷輸送能の高い電荷輸送性膜を有することで、電気特性が良好となる。
また、上記有機電子デバイスが有する電荷輸送性膜は、特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有することにより、可視光を吸収しにくく、可視光の透過性が高い。そのため、例えば有機電子デバイスが有機電界発光素子である場合、可視光の透過性が高い電荷輸送性膜を有することで、光の取り出し効率が向上する。
また、上記有機電子デバイスが有する電荷輸送性膜は、特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有することにより、電荷輸送性膜形成時における塗膜の平滑性が高い。そのため、上記有機電子デバイスは、平滑性の高い電荷輸送性膜を有することで、電荷輸送性膜の面方向における性能のばらつきが抑制される。 The charge-transporting film of the organic electronic device according to the present embodiment contains at least one selected from the specific resin and the specific resin crosslinked product, and therefore has high charge-transporting ability. Therefore, the organic electronic device has good electrical properties by having a charge-transporting film with high charge-transporting ability.
In addition, the charge-transporting film of the organic electronic device contains at least one selected from the specific resin and the specific resin crosslinked body, so that it hardly absorbs visible light and has high visible light transmittance. Therefore, for example, when the organic electronic device is an organic electroluminescent device, the light extraction efficiency is improved by having a charge-transporting film with high visible light transmittance.
Further, since the charge-transporting film of the organic electronic device contains at least one selected from the specific resin and the specific resin crosslinked body, the smoothness of the coating film when the charge-transporting film is formed is high. Therefore, since the organic electronic device has a charge-transporting film with high smoothness, variations in performance in the planar direction of the charge-transporting film are suppressed.

上記有機電子デバイスの中でも特に、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスは、高い電荷輸送性を得つつ耐溶剤性の高い電荷輸送性膜を有する。そのため、例えば有機電子デバイスが有機電界発光素子である場合、下層（すなわち、最表面層以外の層）として特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を適用することで、有機電界発光素子の性能及び生産性が向上する。具体的には、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜の耐溶剤性が高いため、さらに上層を形成する際に「塗布法（すなわち、溶剤を含む塗布液を塗布して層を形成する方法）」を用いても、電荷輸送性膜の溶解に伴う有機電界発光素子の性能が低下しにくい。したがって、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を下層として用いることで、有機電界発光素子における性能の低下を抑制しつつ、生産性が向上する。
また、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を有する有機電子デバイスは、高い電荷輸送性を得つつ機械的強度に優れた電荷輸送性膜を有する。そのため、例えば有機電子デバイスが電子写真感光体である場合、最表面層として特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を適用することで、ブレード等との摺擦による膜減少に対する耐性が高く、電子写真感光体の長寿命化が図れる。 Among the above organic electronic devices, in particular, an organic electronic device having a charge-transporting film containing a specific crosslinked resin has a charge-transporting film with high solvent resistance while obtaining high charge-transporting properties. Therefore, for example, when the organic electronic device is an organic electroluminescent element, the performance of the organic electroluminescent element can be improved by applying a charge-transporting film containing a specific resin crosslinked body as a lower layer (that is, a layer other than the outermost layer). and increase productivity. Specifically, since the charge-transporting film containing the specific crosslinked resin has high solvent resistance, when forming the upper layer, a coating method (i.e., coating a coating liquid containing a solvent to form a layer) is used. method)”, the performance of the organic electroluminescence device is less likely to deteriorate due to the dissolution of the charge-transporting film. Therefore, by using the charge-transporting film containing the specific crosslinked resin as the lower layer, the productivity of the organic electroluminescence device is improved while suppressing the deterioration of the performance of the organic electroluminescent device.
Further, an organic electronic device having a charge-transporting film containing a specific crosslinked resin has a charge-transporting film having high charge-transporting properties and excellent mechanical strength. Therefore, for example, when the organic electronic device is an electrophotographic photoreceptor, by applying a charge-transporting film containing a specific resin crosslinked body as the outermost surface layer, resistance to film reduction due to rubbing with a blade or the like is high, It is possible to extend the life of the electrophotographic photoreceptor.

なお、上記有機電子デバイスが有する電荷輸送性膜は、特定樹脂に対し更に多官能の重合性官能基を有するモノマーを混合して成膜することで、さらに架橋密度を高め、機械的強度、耐溶剤性を一層高めたものであってもよい。多官能の重合性官能基を有するモノマーを混合して成膜することで得られた電荷輸送性膜は、特定樹脂に含まれる重合性官能基が、主鎖から枝分かれした状態（すなわち、運動自由度の高い状態）で存在することで、効率的に架橋されると推察される。 The charge-transporting film of the organic electronic device is formed by mixing a specific resin with a monomer having a polyfunctional polymerizable functional group, thereby further increasing the cross-linking density and increasing the mechanical strength and resistance. It may be one with a higher solvent property. A charge-transporting film obtained by forming a film by mixing a monomer having a polyfunctional polymerizable functional group is in a state in which the polymerizable functional group contained in the specific resin is branched from the main chain (i.e., free to move). It is speculated that by existing in a state of high degree), efficient cross-linking occurs.

＜第１の電荷輸送性樹脂＞
第１の電荷輸送性樹脂は、下記一般式（１Ａ－１）で表される構造及び下記一般式（１Ａ－２）で表される構造を有する。 <First charge-transporting resin>
The first charge-transporting resin has a structure represented by the following general formula (1A-1) and a structure represented by the following general formula (1A-2).


前記一般式（１Ａ－１）及び前記一般式（１Ａ－２）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０又は１を示す。 In the general formulas (1A-1) and (1A-2), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transport property, and T 1 and T 2 each independently represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and Y 1 and Y 2 each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group; , p and q each independently represent 0 or 1.

－一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）における各基の説明－
前記一般式（１Ａ－１）及び前記一般式（１Ａ－２）におけるＡ１及びＡ２は、それぞれ独立に電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物などから誘導される２価の有機基が挙げられる。
前記一般式（１Ａ－１）及び前記一般式（１Ａ－２）におけるＡ１及びＡ２は、これらの中でも、正孔輸送能を有する有機基であることが好ましく、さらにその中でも、トリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、スチルベン骨格から選ばれる少なくとも１種を有する有機基であることがより好ましい。 -Description of each group in general formula (1A-1) and general formula (1A-2)-
A 1 and A 2 in the general formulas (1A-1) and (1A-2) each independently represent a divalent organic group having a charge-transporting property, specifically a phthalocyanine compound, From porphyrin compounds, azobenzene compounds, triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazone compounds, quinone compounds, fluorenone compounds, etc. Induced divalent organic groups are included.
Among these, A 1 and A 2 in the general formulas (1A-1) and (1A-2) are preferably organic groups having hole-transporting ability, and among these, triarylamine More preferably, it is an organic group having at least one selected from a skeleton, a benzidine skeleton, and a stilbene skeleton.

一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）におけるＡ１及びＡ２は、それぞれ独立に下記一般式（２）で示される２価の有機基であることが好ましい。 A 1 and A 2 in general formulas (1A-1) and (1A-2) are preferably each independently a divalent organic group represented by the following general formula (2).


前記一般式（２）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｘは置換又は未置換の２価の有機基を示し、ｋ及びｍはそれぞれ独立に０又は１を示す。 In the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group, and X is a substituted or unsubstituted divalent and k and m each independently represent 0 or 1.

前記一般式（２）におけるＸは、置換又は未置換の２価の有機基を表し、芳香環を有する基であっても有しない基であってもよい。なお、前記一般式（２）におけるＸは、芳香環を有する基であることがより好ましく、この中でも、置換若しくは未置換の２価の芳香族基、置換若しくは未置換の芳香環数２以上１０以下の２価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数２以上１０以下の２価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の２価の芳香族複素環基であることがより好ましい。 X in the general formula (2) represents a substituted or unsubstituted divalent organic group, which may or may not have an aromatic ring. In addition, X in the general formula (2) is more preferably a group having an aromatic ring, and among these, a substituted or unsubstituted divalent aromatic group, a substituted or unsubstituted The following divalent polynuclear aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted divalent condensed aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 aromatic rings, or substituted or unsubstituted divalent aromatic heterocyclic group It is more preferable to have

「多核芳香族炭化水素基」とは、炭素と水素とから構成される芳香環が２個以上存在し、環同士が炭素－炭素結合によって結合している炭化水素基を表す。具体的には、芳香環を構成する炭素同士が直接炭素－炭素結合によって結合している炭化水素基、芳香環同士が炭素数１以上１８以下の炭化水素基（アルキル鎖又はアルキレン鎖）によって連結されている炭化水素基等が挙げられる。
多核芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、ビフェニル、ターフェニル、スチルベン、トリフェニルエチレン等の水素原子を２つ除いた２価の基が挙げられる。
なお、上記多核芳香族炭化水素基を構成する芳香環は、後述する縮合芳香族炭化水素基であってもよく、芳香族複素環であってもよい。多核芳香族炭化水素基を構成する縮合芳香族炭化水素基及び芳香族複素環の具体例としては、例えば後述する縮合芳香族炭化水素基及び芳香族複素環の具体例の化合物と同様のものが挙げられる。 A “polynuclear aromatic hydrocarbon group” is a hydrocarbon group in which two or more aromatic rings composed of carbon and hydrogen are present and the rings are bonded to each other by carbon-carbon bonds. Specifically, a hydrocarbon group in which the carbon atoms constituting the aromatic ring are directly bonded to each other by a carbon-carbon bond, and a hydrocarbon group (alkyl chain or alkylene chain) in which the aromatic rings have 1 to 18 carbon atoms are linked to each other. and the hydrocarbon groups described above.
Specific examples of polynuclear aromatic hydrocarbon groups include divalent groups in which two hydrogen atoms are removed, such as biphenyl, terphenyl, stilbene, and triphenylethylene.
In addition, the aromatic ring constituting the polynuclear aromatic hydrocarbon group may be a condensed aromatic hydrocarbon group described later, or may be an aromatic heterocyclic ring. Specific examples of the condensed aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic ring that constitute the polynuclear aromatic hydrocarbon group include, for example, the same compounds as specific examples of the condensed aromatic hydrocarbon group and aromatic heterocyclic ring described later. mentioned.

「縮合芳香族炭化水素基」とは、炭素と水素から構成される芳香環が２個以上存在し、これらの芳香環同士が隣接して結合する１対の炭素原子を共有している炭化水素基を表す。具体的には、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ペリレン、フルオレン等の水素原子を２つ除いた２価の基が挙げられる。 "Condensed aromatic hydrocarbon group" means a hydrocarbon having two or more aromatic rings composed of carbon and hydrogen and sharing a pair of carbon atoms in which these aromatic rings are adjacently bonded. represents a group. Specific examples include divalent groups in which two hydrogen atoms are removed, such as naphthalene, anthracene, phenanthrene, pyrene, perylene, and fluorene.

「芳香族複素環」は、炭素と水素以外の元素も含む芳香環を表す。
芳香族複素環の環骨格を構成する原子数（Ｎｒ）としては、例えば、Ｎｒ＝５、又はＮｒ＝６等が挙げられる。また、環骨格を構成する炭素原子以外の原子（異種原子）の種類及び数は限定されない。異種原子の種類としては、例えば、硫黄原子、窒素原子、酸素原子等が挙げられる。また芳香族複素環は、環骨格中に２個以上の異種原子が含まれていてもよく、２種以上の異種原子が含まれていてもよい "Heteroaromatic ring" refers to an aromatic ring that also contains elements other than carbon and hydrogen.
Examples of the number of atoms (Nr) constituting the ring skeleton of the aromatic heterocyclic ring include Nr=5 and Nr=6. In addition, the type and number of atoms other than carbon atoms (heteroatoms) constituting the ring skeleton are not limited. Types of heteroatoms include, for example, a sulfur atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, and the like. In addition, the aromatic heterocyclic ring may contain two or more heteroatoms in the ring skeleton, and may contain two or more heteroatoms.

特に、Ｎｒ＝５の環骨格構造（すなわち５員環構造）を有する複素環としては、例えば、チオフェン、チオフィン、ピロール、フラン、又はこれらの３位及び４位の炭素をさらに窒素で置換した複素環等が挙げられる。またＮｒ＝６の環骨格構造（すなわち６員環構造）を有する複素環としては、例えば、ピリジン環等が挙げられる。 In particular, the heterocyclic ring having a ring skeleton structure of Nr=5 (that is, a 5-membered ring structure) includes, for example, thiophene, thiophine, pyrrole, furan, or a heterocyclic ring and the like. Examples of the heterocyclic ring having a ring skeleton structure of Nr=6 (that is, a 6-membered ring structure) include a pyridine ring.

芳香環、多核芳香環及び縮合芳香環の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、置換アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
アルコキシル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。
アリール基としては、炭素数６以上２０以下のものが好ましく、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数７以上２０以下のものが好ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
置換アミノ基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、具体例は前述の通りである。
置換アリール基、置換アラルキル基の置換基としては、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、置換アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる Substituents for the aromatic rings, polynuclear aromatic rings and condensed aromatic rings include alkyl groups, alkoxy groups, aryl groups, aralkyl groups, substituted amino groups, halogen atoms and the like.
The alkyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl and isopropyl groups.
The alkoxyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group.
The aryl group preferably has 6 or more and 20 or less carbon atoms, such as a phenyl group and a toluyl group.
The aralkyl group preferably has 7 or more and 20 or less carbon atoms, such as a benzyl group and a phenethyl group.
Substituents for the substituted amino group include alkyl groups, aryl groups, aralkyl groups, etc. Specific examples are as described above.
Substituents for the substituted aryl group and substituted aralkyl group include a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a substituted amino group, a halogen atom, and the like.

一般式（２）におけるＸとしては、好ましい例として下記式（Ｘ１）～（Ｘ７）から選択された基が挙げられる。 Preferred examples of X in general formula (2) include groups selected from the following formulas (X1) to (X7).


式（Ｘ１）～（Ｘ７）中、Ｒ１３は、水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、置換若しくは未置換のフェニル基、又は置換若しくは未置換のアラルキル基を示し、Ｒ１４～Ｒ１９は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換のアラルキル基、又はハロゲン原子を示し、ａは０又は１を示し、Ｖは下記の式（Ｖ８）～（Ｖ１７）から選択された少なくとも１つの基を示す。 In formulas (X1) to (X7), R 13 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group, and R 14 to R 19 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, or a halogen atom; , a represents 0 or 1, and V represents at least one group selected from the following formulas (V8) to (V17).


上記式（Ｖ８）～（Ｖ１７）中、ｂは１以上１０以下の整数を示し、ｃは１以上３以下の整数を示す。 In the above formulas (V8) to (V17), b represents an integer of 1 or more and 10 or less, and c represents an integer of 1 or more and 3 or less.

なお、一般式（２）におけるＸとしては、以下に示す群（Ａ）から選択される２価の有機基が好ましく、更には以下に示す群（Ｂ）から選択される２価の有機基が特に好ましい。 In addition, X in the general formula (2) is preferably a divalent organic group selected from the group (A) shown below, and further a divalent organic group selected from the group (B) shown below is Especially preferred.



一般式（２）におけるＲ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。
アルキル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
アルコキシル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
アリール基としては、炭素数６以上２０以下のものが好ましく、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられる。
置換アリール基の置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、置換アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。 R 1 and R 2 in general formula (2) each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group.
The alkyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl and isopropyl groups.
The alkoxyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group.
Halogen atoms include, for example, fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms.
The aryl group preferably has 6 or more and 20 or less carbon atoms, such as a phenyl group and a toluyl group.
Substituents for the substituted aryl group include alkyl groups, alkoxy groups, substituted amino groups, halogen atoms and the like.

上記Ｒ１及びＲ２の中でも、水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基が特に好ましい。
尚、Ｒ１及びＲ２が置換する位置としては、窒素（Ｎ）が結合する位置に対し、メタ位又はパラ位が好ましい。 Among R 1 and R 2 above, a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group are particularly preferred.
In addition, the positions to be substituted with R 1 and R 2 are preferably meta-positions or para-positions with respect to the position to which nitrogen (N) is bonded.

なお、一般式（１Ａ－１）におけるＡ１と一般式（１Ａ－２）におけるＡ２とは、同じであっても異なっていてもよい。また、第１の電荷輸送性樹脂が一般式（１Ａ－１）で表される構造を複数有する場合、複数のＡ１は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の８０％以上が同一であることが好ましく、全体の９０％以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。第１の電荷輸送性樹脂が一般式（１Ａ－２）で表される構造を複数有する場合、複数のＡ２は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の８０％以上が同一であることが好ましく、全体の９０％以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 A 1 in general formula (1A-1) and A 2 in general formula (1A-2) may be the same or different. Further, when the first charge-transporting resin has a plurality of structures represented by the general formula (1A-1), the plurality of A1 's may be all the same, partially the same, or different from each other. However, it is preferable that 80% or more of the whole is the same, more preferably 90% or more of the whole is the same, and more preferably that the whole is the same. When the first charge-transporting resin has a plurality of structures represented by general formula (1A-2), the plurality of A2 's may all be the same, some of them may be the same, or they may be different from each other. 80% or more of the whole is preferably the same, more preferably 90% or more of the whole is the same, and more preferably all the same.

一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）におけるＴ１及びＴ２はそれぞれ独立に、炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分枝状の２価の炭化水素基を示す。一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）におけるＴ１及びＴ２は、それぞれ独立に、炭素数１以上８以下の直鎖状又は分枝状の２価の炭化水素基であることが好ましい。なお、２価の炭化水素基が直鎖状である場合は、炭素数は１以上６以下の範囲がより好ましく、２以上６以下の範囲がさらに好ましい。また、２価の炭化水素基が分枝状である場合には、炭素数は２以上１０以下の範囲がより好ましく、３以上７以下の範囲がさらに好ましい。
以下に、Ｔ１で表される基及びＴ２で表される基の具体的な構造の例（炭化水素基Ｔ－１～炭化水素基Ｔ－３２）を示す。但し、一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）におけるＡ１又はＡ２は、下記炭化水素基のどちらの側と結合してもよく、例えば、Ｔ－５ｒと記すと構造Ｔ－５の右側に、Ｔ－５ｌと記すと構造Ｔ－５の左側に、一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）におけるＡ１又はＡ２が結合していることを示す。 T 1 and T 2 in general formulas (1A-1) and (1A-2) each independently represent a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. T 1 and T 2 in general formulas (1A-1) and (1A-2) are each independently a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. is preferred. When the divalent hydrocarbon group is linear, the number of carbon atoms is more preferably in the range of 1 or more and 6 or less, and more preferably in the range of 2 or more and 6 or less. Moreover, when the divalent hydrocarbon group is branched, the number of carbon atoms is more preferably in the range of 2 to 10, more preferably in the range of 3 to 7.
Specific structural examples of the group represented by T 1 and the group represented by T 2 (hydrocarbon group T-1 to hydrocarbon group T-32) are shown below. However, A 1 or A 2 in general formula (1A-1) and general formula (1A-2) may be bonded to either side of the following hydrocarbon group. T-5l on the right side of -5 indicates that A 1 or A 2 in general formulas (1A-1) and (1A-2) is bound to the left side of structure T-5.



一般式（１Ａ－１）において、ｐが１である場合、カルボニル基に隣接するＴ１としては、上記構造Ｔ－１、Ｔ－２、及びＴ－４が好ましい。同様に、一般式（１Ａ－２）において、ｑが１である場合、カルボニル基に隣接するＴ２としては、上記構造Ｔ－１、Ｔ－２、及びＴ－４が好ましい。 In general formula (1A-1), when p is 1, structures T-1, T-2 and T-4 above are preferred as T 1 adjacent to the carbonyl group. Similarly, in general formula (1A-2), when q is 1, structures T-1, T-2 and T-4 above are preferred as T 2 adjacent to the carbonyl group.

なお、一般式（１Ａ－１）におけるＴ１と一般式（１Ａ－２）におけるＴ２とは、同じであっても異なっていてもよい。また、第１の電荷輸送性樹脂が一般式（１Ａ－１）で表される構造を複数有する場合、複数のＴ１は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の８０％以上が同一であることが好ましく、全体の９０％以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。第１の電荷輸送性樹脂が一般式（１Ａ－２）で表される構造を複数有する場合、複数のＴ２は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の８０％以上が同一であることが好ましく、全体の９０％以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 Note that T 1 in general formula (1A-1) and T 2 in general formula (1A-2) may be the same or different. Further, when the first charge-transporting resin has a plurality of structures represented by general formula (1A-1), the plurality of T 1 may be all the same, partly the same, or different from each other. However, it is preferable that 80% or more of the whole is the same, more preferably 90% or more of the whole is the same, and more preferably that the whole is the same. When the first charge-transporting resin has a plurality of structures represented by general formula (1A-2), the plurality of T 2 may be all the same, partially the same, or different from each other, 80% or more of the whole is preferably the same, more preferably 90% or more of the whole is the same, and more preferably all the same.

以下、上記一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）のＡ１及びＡ２が上記一般式（２）で表される２価の有機基を示す場合における、Ａ１とＴ１とｐとの組み合わせ（すなわち、一般式（２）中のＸ、Ｒ１、Ｒ２、ｋ、及びｍ、並びに一般式（１Ａ－１）中のＴ１及びｐの組み合わせ）又はＡ２とＴ２とｑとの組み合わせ（すなわち、一般式（２）中のＸ、Ｒ１、Ｒ２、ｋ、及びｍ、並びに一般式（１Ａ－２）中のＴ２及びｑの組み合わせ）の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において「Ｒ１」及び「Ｒ２」の欄に記載された数字は、結合の位置を表す。また、「Ｔ１又はＴ２」の欄に記載された番号は、上記に具体的に示した炭化水素基の構造式に付した番号（Ｔ－１）～（Ｔ－３２）を意味する。尚、「Ｔ１又はＴ２」の欄において、たとえば「Ｔ－５ｒ」と記す場合には構造Ｔ－５の右側に、「Ｔ－５ｌ」と記す場合には構造Ｔ－５の左側にアリールアミン骨格（即ち、一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）におけるＡ１又はＡ２）が結合していることを示すものとする。また、下記表において、「結合位置」に示される値は、前記一般式（２）におけるベンゼン環に記載されている数値の箇所に結合していることを示し、更にｋが１の場合、（ ）内のベンゼン環も数字が記載されているベンゼン環と同様の箇所に結合していることを示す。 Hereinafter, A 1 and T 1 in the case where A 1 and A 2 in the general formulas (1A- 1 ) and (1A-2) represent a divalent organic group represented by the general formula (2) and p (that is, the combination of X, R 1 , R 2 , k, and m in general formula (2) and T 1 and p in general formula (1A-1)) or A 2 and T Specific examples of the combination of 2 and q (that is, the combination of X, R 1 , R 2 , k, and m in general formula (2) and T 2 and q in general formula (1A-2)) are shown, but not limited to these specific examples.
In addition, the numbers described in the columns of “R 1 ” and “R 2 ” in the table below represent the binding positions. Further, the numbers described in the "T 1 or T 2 " column mean the numbers (T-1) to (T-32) attached to the structural formulas of the hydrocarbon groups specifically shown above. In the column of “T 1 or T 2 ”, for example, when “T-5r” is written, the aryl group is on the right side of structure T-5, and when “T-5l” is written, the aryl It indicates that the amine skeleton (that is, A 1 or A 2 in general formulas (1A-1) and (1A- 2 )) is bonded. Further, in the table below, the value shown in "bonding position" indicates that it is bonded to the numerical value described in the benzene ring in the general formula (2), and when k is 1, ( ) indicates that the benzene ring within is also bonded to the same position as the benzene ring where the number is described.







一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）におけるＹ１及びＹ２はそれぞれ独立に、水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示す。
重合性官能基としては、例えば、炭素－炭素二重結合、エポキシ基、及びオキセタン基から選択される少なくとも１種を含む基が挙げられる。重合性官能基の具体例としては、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、下記一般式（Ｐ１）で表される基、下記一般式（Ｐ２）で表される基、下記一般式（Ｐ３）で表される基、下記一般式（Ｐ４）で表される基、下記一般式（Ｐ５）で表される基等が挙げられる。
重合性官能基は、これらの中でも、下記一般式（Ｐ１）で表される基、下記一般式（Ｐ２）で表される基、下記一般式（Ｐ３）で表される基、下記一般式（Ｐ４）で表される基、及び下記一般式（Ｐ５）で表される基から選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。 Y 1 and Y 2 in general formulas (1A-1) and (1A-2) each independently represent a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group.
Polymerizable functional groups include, for example, groups containing at least one selected from carbon-carbon double bonds, epoxy groups, and oxetane groups. Specific examples of the polymerizable functional group include, for example, a vinyl group, a vinyl ether group, a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), and a group represented by the following general formula (P3). a group represented by the following general formula (P4), a group represented by the following general formula (P5), and the like.
Among these, the polymerizable functional group is a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), a group represented by the following general formula (P3), and a group represented by the following general formula ( It is preferably at least one selected from a group represented by P4) and a group represented by the following general formula (P5).


前記一般式（Ｐ１）～（Ｐ５）中、Ｒ３～Ｒ６は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、＊は、結合位置を示す。
アルキル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルキル基としては、炭素数１以上５以下のものがより好ましく、炭素数１以上３以下のものがさらに好ましく、炭素数１以上２以上のものが特に好ましい。
アルコキシル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１以上５以下のものがより好ましく、炭素数１以上３以下のものがさらに好ましく、炭素数１以上２以上のものが特に好ましい。
一般式（Ｐ３）で表される基の置換位置は、オルト位、メタ位、及びパラ位のいずれであってもよく、その中でもメタ位及びパラ位から選択される少なくとも一方が好ましく、パラ位がより好ましい。なお、第１の電荷輸送性樹脂が一般式（Ｐ３）で表される基を複数有する場合、それらの置換位置は、オルト位、メタ位、及びパラ位から選択される少なくとも２種以上が混在していてもよい。 In general formulas (P1) to (P5), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and * represents a bonding position.
The alkyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl and isopropyl groups. The alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms.
The alkoxyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group. The alkoxy group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms.
The substitution position of the group represented by the general formula (P3) may be any of the ortho position, the meta position, and the para position, and among them, at least one selected from the meta position and the para position is preferable, and the para position is more preferred. When the first charge-transporting resin has a plurality of groups represented by general formula (P3), at least two or more selected from ortho-position, meta-position, and para-position are mixed in the substitution positions thereof. You may have

一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）におけるＹ１及びＹ２が重合性官能基を有する基を示す場合としては、例えば、さらに置換基を有する前記重合性官能基が酸素原子に結合する場合のほか、置換又は無置換の前記重合性官能基が連結基を介して酸素原子に結合する場合等が挙げられる。 When Y 1 and Y 2 in general formula (1A-1) and general formula (1A- 2 ) represent a group having a polymerizable functional group, for example, the polymerizable functional group further having a substituent is an oxygen atom In addition to the case where the substituted or unsubstituted polymerizable functional group is bound to an oxygen atom via a linking group, the case is mentioned.

重合性官能基がさらに有する置換基としては、例えば、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アラルキル基、置換アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
アルキル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルキル基としては、炭素数１以上５以下のものがより好ましく、炭素数１以上３以下のものがさらに好ましく、炭素数１以上２以上のものが特に好ましい。
アルコキシル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１以上５以下のものがより好ましく、炭素数１以上３以下のものがさらに好ましく、炭素数１以上２以上のものが特に好ましい。
アリール基としては、炭素数６以上２０以下のものが好ましく、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、炭素数７以上２０以下のものが好ましく、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
置換アミノ基の置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられ、具体例は前述の通りである。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。 Examples of substituents further possessed by the polymerizable functional group include hydroxyl groups, alkyl groups, alkoxy groups, aryl groups, aralkyl groups, substituted amino groups, and halogen atoms.
The alkyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl and isopropyl groups. The alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms.
The alkoxyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group. The alkoxy group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms.
The aryl group preferably has 6 or more and 20 or less carbon atoms, such as a phenyl group and a toluyl group.
The aralkyl group preferably has 7 or more and 20 or less carbon atoms, such as a benzyl group and a phenethyl group.
Substituents for the substituted amino group include alkyl groups, aryl groups, aralkyl groups, etc. Specific examples are as described above.
Halogen atoms include, for example, fluorine, chlorine, and bromine atoms.

重合性官能基と酸素原子との間を連結する連結基としては、例えば、炭素原子及び酸素原子から選択される少なくとも１種の原子により構成される２価の連結基（以下、これをＬ１とも称する）を示す。Ｌ１としては、例えば、アルキレン、－Ｏ－、及び－Ｃ（＝Ｏ）－を任意に組み合わせて構成された基が挙げられる。Ｌ１を構成する水素原子以外の原子の合計数は、例えば１以上１５以下が挙げられ、１以上１０以下が好ましく、１以上６以下が最も好ましい。Ｌ１を構成する水素原子以外の原子の合計数が上記範囲であることにより、上記範囲よりも多すぎる場合に比べ、電荷輸送性骨格の比率が高く、電気特性が良好となる。 The linking group that connects the polymerizable functional group and the oxygen atom includes, for example, a divalent linking group composed of at least one atom selected from carbon atoms and oxygen atoms (hereinafter also referred to as L1 ) is shown. L1 includes, for example, groups formed by any combination of alkylene, -O- and -C(=O)-. The total number of atoms other than hydrogen atoms constituting L1 is, for example, 1 or more and 15 or less, preferably 1 or more and 10 or less, and most preferably 1 or more and 6 or less. When the total number of atoms other than hydrogen atoms constituting L1 is within the above range, the ratio of the charge-transporting skeleton is higher and the electrical properties are better than when the total number is more than the above range.

以下に、Ｙ１で表される基及びＹ２で表される基のうち、重合性官能基又は重合性官能基を有する基の具体的な構造の例（基Ｙ－１～基Ｙ－２２）を示す。但し、下記式中、Ｍｅはメチル基を意味し、Ｅｔはエチル基を意味する。 Specific structural examples of the group represented by Y 1 and the group represented by Y 2 , the polymerizable functional group or the group having a polymerizable functional group (group Y-1 to group Y-22 ). However, in the following formulas, Me means a methyl group and Et means an ethyl group.


なお、一般式（１Ａ－１）におけるＹ１と一般式（１Ａ－２）におけるＹ２とは、同じであっても異なっていてもよい。また、第１の電荷輸送性樹脂中における複数のＹ１は、全て同一でも一部同一でも互いに異なっていてもよい。同様に、第１の電荷輸送性樹脂中における複数のＹ２は、全て同一でも一部同一でも互いに異なっていてもよい。
つまり、第１の電荷輸送性樹脂の分子中に、一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）におけるＹ１及びＹ２として、水素原子と重合性官能基及び重合性官能基を有する基から選択される少なくとも１種の基とが混在してもよい。また、複数のＹ１及び複数のＹ２のすべてが水素原子であってもよく、複数のＹ１及び複数のＹ２のすべてが重合性官能基及び重合性官能基を有する基から選択される少なくとも１種であってもよい。 Y 1 in general formula (1A-1) and Y 2 in general formula (1A-2) may be the same or different. Also, the plurality of Y1 's in the first charge-transporting resin may be all the same, partially the same, or different from each other. Similarly, a plurality of Y2 's in the first charge-transporting resin may be all the same, partially the same, or different from each other.
That is, in the molecule of the first charge-transporting resin, a hydrogen atom, a polymerizable functional group, and a polymerizable functional group are added as Y 1 and Y 2 in general formulas (1A-1) and (1A-2). may be mixed with at least one group selected from the groups having Further, all of the plurality of Y 1 and the plurality of Y 2 may be hydrogen atoms, and all of the plurality of Y 1 and the plurality of Y 2 are selected from a polymerizable functional group and a group having a polymerizable functional group. At least one may be used.

第１の電荷輸送性樹脂が有する一般式（１Ａ－１）で表される構造の数としては、例えば５以上５０００以下が挙げられ、好ましくは５以上２０００以下であり、さらに好ましくは１０以上１０００以下である。なお、複数の前記一般式（１Ａ－１）で表される構造は、隣り合っていなくてもよい。
また、第１の電荷輸送性樹脂が有する一般式（１Ａ－２）で表される構造の数としては、例えば５以上５０００以下が挙げられ、好ましくは５以上２０００以下であり、さらに好ましくは１０以上１０００以下である。同様に、複数の前記一般式（１Ａ－２）で表される構造は、隣り合っていなくてもよい。
なお、第１の電荷輸送性樹脂は、一般式（１Ａ－１）で表される構造及び一般式（１Ａ－２）で表される構造をそれぞれ５以上有し、かつ、重量平均分子量が２０万以下であることが好ましい。 The number of structures represented by general formula (1A-1) in the first charge-transporting resin is, for example, 5 or more and 5000 or less, preferably 5 or more and 2000 or less, and more preferably 10 or more and 1000. It is below. The structures represented by the general formula (1A-1) do not have to be adjacent to each other.
The number of structures represented by general formula (1A-2) in the first charge-transporting resin is, for example, 5 or more and 5000 or less, preferably 5 or more and 2000 or less, and more preferably 10. It is more than 1000 or less. Similarly, multiple structures represented by general formula (1A-2) may not be adjacent to each other.
The first charge-transporting resin has 5 or more structures represented by general formula (1A-1) and 5 or more structures represented by general formula (1A-2), and has a weight-average molecular weight of 20. It is preferably 10,000 or less.

第１の電荷輸送性樹脂は、例えば、前記一般式（１Ａ－１）で表される構造と前記一般式（１Ａ－２）で表される構造とが交互に隣り合って結合した領域を有していてもよい。すなわち、第１の電荷輸送性樹脂は、下記一般式（１Ａ－３）で表される構造を有する樹脂であってもよい。第１の電荷輸送性樹脂中に含まれる下記一般式（１Ａ－３）で表される構造の数は、例えば５以上５０００以下が挙げられ、５以上２０００以下が好ましく、１０以上１０００以下がより好ましい。また、第１の電荷輸送性樹脂全体に対する下記一般式（１Ａ－３）で表される構造の割合は、８０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましく、９５質量％以上がさらに好ましい。 The first charge-transporting resin has regions in which, for example, the structure represented by the general formula (1A-1) and the structure represented by the general formula (1A-2) are alternately adjacent to each other and bonded. You may have That is, the first charge-transporting resin may be a resin having a structure represented by general formula (1A-3) below. The number of structures represented by the following general formula (1A-3) contained in the first charge-transporting resin is, for example, 5 or more and 5000 or less, preferably 5 or more and 2000 or less, and more preferably 10 or more and 1000 or less. preferable. The ratio of the structure represented by the following general formula (1A-3) to the first charge-transporting resin as a whole is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 95% by mass or more. .


前記一般式（１Ａ－３）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ１及びＹ２はそれぞれ独立に水素原子、重合性官能基、又は重合性官能基を有する基を示し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０又は１を示す。
すなわち、前記一般式（１Ａ－３）中、Ａ１、Ａ２、Ｔ１、Ｔ２、Ｙ１、Ｙ２、ｐ、及びｑは、それぞれ、一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）中のＡ１、Ａ２、Ｔ１、Ｔ２、Ｙ１、Ｙ２、ｐ、及びｑと同じである。 In the general formula (1A-3), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having a charge transport property, and T 1 and T 2 each independently represent a linear chain having 1 to 10 carbon atoms. represents a divalent hydrocarbon group having a straight or branched shape, Y 1 and Y 2 each independently represents a hydrogen atom, a polymerizable functional group, or a group having a polymerizable functional group, p and q each independently represent 0 or 1.
That is, in general formula (1A-3), A 1 , A 2 , T 1 , T 2 , Y 1 , Y 2 , p, and q are respectively general formula (1A-1) and general formula (1A -2) are the same as A 1 , A 2 , T 1 , T 2 , Y 1 , Y 2 , p, and q.

－第１の電荷輸送性樹脂の説明－
第１の電荷輸送性樹脂は、少なくとも一般式（１Ａ－１）で表される構造及び一般式（１Ａ－２）で表される構造を分子内に有していればよく、一般式（１Ａ－１）で表される構造及び一般式（１Ａ－２）で表される構造に加えて他の構造を分子内に有していてもよい。例えば、一般式（１Ａ－１）で表される構造の末端に１価の置換基又は１価の他の構造単位が結合した形態、一般式（１Ａ－２）で表される構造の末端に１価の置換基又は１価の他の構造単位が結合した形態等が挙げられる。また、第１の電荷輸送性樹脂の主鎖中に一般式（１Ａ－１）で表される構造及び一般式（１Ａ－２）で表される構造以外の他の構造を有する形態としては、例えば、一般式（１Ａ－１）で表される構造の単位と一般式（１Ａ－２）で表される構造の単位が、他の構造を介して結合した形態が挙げられる。
第１の電荷輸送性樹脂が他の構造を分子内に有する場合、第１の電荷輸送性樹脂全体に対する一般式（１Ａ－１）で表される構造及び一般式（１Ａ－２）で表される構造の合計の割合としては、８０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましく、９５質量％以上がさらに好ましい。
なお、上記一般式（１Ａ－１）で表される構造及び一般式（１Ａ－２）で表される構造の合計の割合は、ＮＭＲスペクトル又は赤外吸収スペクトルにおける各ピークの面積比などから算出される。また、重合せずに残存したモノマー（例えば、後述する一般式（３Ａ）で表される化合物及び一般式（４Ａ）で表される化合物）の量を定量することで算出してもよい。 -Description of the first charge-transporting resin-
The first charge-transporting resin may have at least the structure represented by the general formula (1A-1) and the structure represented by the general formula (1A-2) in the molecule, and the general formula (1A -1) and the structure represented by the general formula (1A-2) may have other structures in the molecule. For example, a form in which a monovalent substituent or other monovalent structural unit is bound to the end of the structure represented by general formula (1A-1), at the end of the structure represented by general formula (1A-2) Examples include a form in which a monovalent substituent or other monovalent structural unit is bonded. Further, as a form having a structure other than the structure represented by general formula (1A-1) and the structure represented by general formula (1A-2) in the main chain of the first charge-transporting resin, For example, a structural unit represented by general formula (1A-1) and a structural unit represented by general formula (1A-2) are combined via another structure.
When the first charge-transporting resin has another structure in the molecule, the structure represented by the general formula (1A-1) for the entire first charge-transporting resin and the structure represented by the general formula (1A-2) The ratio of the total structure of the structure is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 95% by mass or more.
The total ratio of the structure represented by the general formula (1A-1) and the structure represented by the general formula (1A-2) is calculated from the area ratio of each peak in the NMR spectrum or infrared absorption spectrum. be done. Alternatively, it may be calculated by quantifying the amount of a monomer remaining without polymerization (for example, a compound represented by general formula (3A) and a compound represented by general formula (4A) described later).

第１の電荷輸送性樹脂全体に含まれる水酸基の総数をＭＨとし、第１の電荷輸送性樹脂全体に含まれる重合性官能基の総数をＭＰとしたとき、下記式（Ａ１）を満たすことが好ましく、下記式（Ａ２）を満たすことがより好ましく、下記式（Ａ３）を満たすことがさらに好ましい。
式（Ａ１）：０≦ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）≦０．９
式（Ａ２）：０≦ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）≦０．６
式（Ａ３）：０≦ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）≦０．３
なお、上記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は、ＮＭＲスペクトル又は赤外吸収スペクトルにおける各ピークの面積比から算出される。 When the total number of hydroxyl groups contained in the entire first charge-transporting resin is MH , and the total number of polymerizable functional groups contained in the entire first charge-transporting resin is MP , the following formula (A1) is satisfied. More preferably, it satisfies the following formula (A2), and even more preferably satisfies the following formula (A3).
Formula (A1): 0≦M H /(M H +M P )≦0.9
Formula (A2): 0≦M H /(M H +M P )≦0.6
Formula (A3): 0≦M H /(M H +M P )≦0.3
The value of M H /(M H +M P ) is calculated from the area ratio of each peak in the NMR spectrum or infrared absorption spectrum.

第１の電荷輸送性樹脂の重量平均分子量としては、例えば２０００以上５０万以下が挙げられ、３０００以上２０万以下が好ましく、４０００以上１０万以下がより好ましい。
上記重量平均分子量の測定は、測定対象の化合物の０．１質量％ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）溶液を調製し、示差屈折率検出器（ＲＩ）を用いて、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、標準サンプルとしてスチレンポリマーを用いて行う。 The weight average molecular weight of the first charge-transporting resin is, for example, 2,000 or more and 500,000 or less, preferably 3,000 or more and 200,000 or less, and more preferably 4,000 or more and 100,000 or less.
Measurement of the weight average molecular weight is performed by preparing a 0.1% by mass THF (tetrahydrofuran) solution of the compound to be measured, and using a differential refractive index detector (RI) by gel permeation chromatography (GPC). A styrene polymer is used as the

以下、上記一般式（１Ａ－１）におけるＡ１及び上記一般式（１Ａ－２）におけるＡ２が上記一般式（２）である第１の電荷輸送性樹脂の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において、「Ａ１，Ｔ１，ｐ」及び「Ａ２，Ｔ２，ｑ」の欄に記載された番号は、一般式（１Ａ－１）のＡ１とＴ１とｐとの組み合わせ又は一般式（１Ａ－２）のＡ２とＴ２とｑとの組み合わせの具体例に付した番号（２－１）～（２－１０２）を意味する。また、「Ｙ１又はＹ２」の欄に記載された番号のうち、Ｈは水素原子を意味し、その他の番号は前記重合性官能基又は重合性官能基を有する基の具体的な構造の例に付した番号（Ｙ－１）～（Ｙ－２２）を意味する。また、下記表において、「ｎ１」は第１の電荷輸送性樹脂が有する一般式（１Ａ－１）で表される構造の数を意味し、「ｎ２」は第１の電荷輸送性樹脂が有する一般式（Ａ１－２）で表される構造の数を意味する。 Specific examples of the first charge-transporting resin in which A 1 in the general formula (1A-1) and A 2 in the general formula (1A-2) are represented by the general formula (2) are shown below. Examples are not limiting.
In the table below, the numbers described in the columns of "A 1 , T 1 , p" and "A 2 , T 2 , q" correspond to A 1 , T 1 and p of general formula (1A-1). or the numbers (2-1) to (2-102) assigned to specific examples of combinations of A 2 , T 2 and q in general formula (1A-2). Further, among the numbers described in the column of “Y 1 or Y 2 ”, H means a hydrogen atom, and other numbers represent specific structures of the polymerizable functional group or groups having a polymerizable functional group. It means the numbers (Y-1) to (Y-22) attached to the examples. In the table below, "n1" means the number of structures represented by general formula (1A-1) possessed by the first charge-transporting resin, and "n2" possessed by the first charge-transporting resin. It means the number of structures represented by general formula (A1-2).


－合成方法（第１の電荷輸送性樹脂の製造方法）－
ついで第１の電荷輸送性樹脂の合成方法について説明する。
第１の電荷輸送性樹脂のうち、複数のＹ１及び複数のＹ２のすべてが水素原子である電荷輸送性樹脂（以下「特定電荷輸送性樹脂（ＡＩ）」ともいう）は、例えば、下記一般式（３Ａ）で表される化合物と下記一般式（４Ａ）で表される化合物との重合により得られる（重合工程）。
具体的には、例えば、下記一般式（３Ａ）で表される化合物と下記一般式（４Ａ）で表される化合物とを当量用い、溶剤中において触媒を用いて合成を行う。 -Synthesis method (method for producing the first charge-transporting resin)-
Next, a method for synthesizing the first charge-transporting resin will be described.
Among the first charge-transporting resins, a charge-transporting resin in which all of a plurality of Y1 's and a plurality of Y2 's are all hydrogen atoms (hereinafter also referred to as "specific charge-transporting resin (AI)") is, for example, It is obtained by polymerizing a compound represented by the general formula (3A) and a compound represented by the following general formula (4A) (polymerization step).
Specifically, for example, equivalent amounts of a compound represented by the following general formula (3A) and a compound represented by the following general formula (4A) are used, and synthesis is performed in a solvent using a catalyst.


前記一般式（３Ａ）及び（４Ａ）中、Ａ１及びＡ２はそれぞれ独立に電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ１及びＴ２はそれぞれ独立に炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、ｐ及びｑはそれぞれ独立に０又は１を示す。
なお、前記一般式（３Ａ）及び（４Ａ）中のＡ１及びＡ２、Ｔ１及びＴ２、並びにｐ及びｑは、前記一般式（１Ａ－１）及び一般式（１Ａ－２）中のＡ１及びＡ２、Ｔ１及びＴ２、並びにｐ及びｑと同じである。 In the general formulas (3A) and (4A), A 1 and A 2 each independently represent a divalent organic group having charge transport properties, and T 1 and T 2 each independently have 1 to 10 carbon atoms. represents a linear or branched divalent hydrocarbon group, and p and q each independently represent 0 or 1;
A 1 and A 2 , T 1 and T 2 , and p and q in general formulas (3A) and (4A) are Same as A 1 and A 2 , T 1 and T 2 , and p and q.

特定電荷輸送性樹脂（ＡＩ）の合成は、例えば、一般式（３Ａ）で表される化合物と一般式（４Ａ）で表される化合物とを当量用い、溶剤中において触媒を用いることで行う。
溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、モノクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、モノクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
触媒としては、例えば、４級アンモニウム塩、３級アミン、３級ホスフィン、４級ホスホニウム塩、ハロゲン化リチウム、トリフルオロホウ素錯塩等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 The specific charge-transporting resin (AI) is synthesized, for example, by using equivalent amounts of the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A), and using a catalyst in a solvent.
Examples of solvents include toluene, xylene, tetrahydrofuran, monochlorobenzene and the like. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
Examples of solvents include toluene, xylene, tetrahydrofuran, monochlorobenzene and the like. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
Examples of catalysts include quaternary ammonium salts, tertiary amines, tertiary phosphines, quaternary phosphonium salts, lithium halides, and trifluoroboron complex salts. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

４級アンモニウム塩としては、例えば、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラメチルアンモニウムヨーダイド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、メチルトリブチルアンモニウムクロライド、テトラプロピルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロライド、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムヨーダイド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムハイドロジェンサルフェート、メチルトリオクチルアンモニウムクロライド、メチルトリオクチルアンモニウムブロマイド、エチルトリオクチルアンモニウムクロライド、エチルトリオクチルアンモニウムブロマイド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロライド、ジステアリルジメチルアンモニウムクロライド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロマイド、ベンジルトリエチルアンモニウムヒドロキシド等が挙げられる。 Examples of quaternary ammonium salts include tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium chloride, tetraethylammonium bromide, tetraethylammonium hydroxide, methyltributylammonium chloride, tetra Propyl ammonium bromide, tetrabutylammonium chloride, tetrabutylammonium bromide, tetrabutylammonium iodide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydrogen sulfate, methyltrioctylammonium chloride, methyltrioctylammonium bromide, ethyltrioctylammonium chloride , ethyltrioctylammonium bromide, dilauryldimethylammonium chloride, distearyldimethylammonium chloride, stearyltrimethylammonium chloride, hexadecyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, benzyltrimethylammonium hydroxide, benzyltriethylammonium chloride , benzyltriethylammonium bromide, benzyltriethylammonium hydroxide and the like.

３級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリス（Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノメチル）フェノール、トリス（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノメチル）フェノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノメチルフェノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルベンジルアミン等が挙げられる。
３級ホスフィンとしては、例えば、トリフェニルホスフィン等が挙げられる。
４級ホスホニウム塩としては、例えば、テトラブチルホスホニウムクロライド、テトラブチルホスホニウムブロマイド、テトラブチルホスホニウムヨーダイド、テトラフェニルホスホニウムクロライド、テトラフェニルホスホニウムブロマイド、メチルトリブチルホスホニウムヨーダイド、メチルトリオクチルホスホニウムクロライド、メチルトリオクチルホスホニウムブロマイド、エチルトリオクチルホスホニウムクロライド、エチルトリオクチルホスホニウムブロマイド、デシルトリブチルホスホニウムクロライド、ヘキサデシルトリブチルホスホニウムクロライド、エチルトリオクチルホスホニウムクロライド等が挙げられる。
ハロゲン化リチウムとしては、例えば、塩化リチウム、臭化リチウム等が挙げられる。
トリフルオロホウ素錯塩としては、例えば、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体等が挙げられる。 Examples of tertiary amines include triethylamine, tributylamine, dimethylethanolamine, tris(N,N-dimethylaminomethyl)phenol, tris(N,N-diethylaminomethyl)phenol, N,N-dimethylaminomethylphenol, N , N-dimethylbenzylamine and the like.
Examples of tertiary phosphines include triphenylphosphine and the like.
Examples of quaternary phosphonium salts include tetrabutylphosphonium chloride, tetrabutylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium iodide, tetraphenylphosphonium chloride, tetraphenylphosphonium bromide, methyltributylphosphonium iodide, methyltrioctylphosphonium chloride, and methyltrioctyl. Phosphonium bromide, ethyltrioctylphosphonium chloride, ethyltrioctylphosphonium bromide, decyltributylphosphonium chloride, hexadecyltributylphosphonium chloride, ethyltrioctylphosphonium chloride and the like.
Examples of lithium halides include lithium chloride and lithium bromide.
Examples of trifluoroboron complex salts include boron trifluoride diethyl ether complex and the like.

触媒の添加量としては、例えば、モノマー総質量（すなわち、一般式（３Ａ）で表される化合物の質量と一般式（４Ａ）で表される化合物の質量との合計）１質量部に対して、１／１００００質量部以上１／１０質量部以下が挙げられ、好ましくは１／１０００質量部以上１／５０質量部以下である。
溶剤の添加量としては、例えば、生成する電荷輸送性樹脂の１質量部に対して、１質量部以上１００質量部以下が挙げられ、好ましくは２質量部以上５０質量部以下である。
反応温度（すなわち、一般式（３Ａ）で表される化合物と一般式（４Ａ）で表される化合物との重合温度）は特に限定されるものではなく、例えば３０℃以上１００℃以下の範囲が挙げられる。 The amount of the catalyst added is, for example, the total mass of the monomer (that is, the sum of the mass of the compound represented by the general formula (3A) and the mass of the compound represented by the general formula (4A)) per 1 part by mass. , 1/10000 parts by mass or more and 1/10 parts by mass or less, preferably 1/1000 parts by mass or more and 1/50 parts by mass or less.
The amount of the solvent to be added is, for example, 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, relative to 1 part by mass of the charge-transporting resin to be produced.
The reaction temperature (that is, the polymerization temperature of the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A)) is not particularly limited. mentioned.

一般式（３Ａ）で表される化合物と一般式（４Ａ）で表される化合物との重合反応が終了した後は、例えば、得られた電荷輸送性樹脂が溶解しにくい貧溶剤（例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトンなど）に反応溶液を滴下することで、電荷輸送性樹脂を析出させ、分離した後、水、有機溶剤等により洗浄し、乾燥させる。
さらに、必要に応じて有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性樹脂を析出させる再沈殿処理を繰り返してもよい。再沈殿処理は、メカニカルスターラー等により撹拌しながら行うことが好ましい。再沈殿処理の際に電荷輸送性樹脂を溶解させる溶剤の添加量としては、例えば、電荷輸送性化合物３質量部に対して、１質量部以上１００質量部以下の範囲が挙げられ、好ましくは２質量部以上５０質量部以下である。また、貧溶剤の量としては、例えば、電荷輸送性樹脂１質量部に対して、１質量部以上１０００質量部以下が挙げられ、好ましくは１０質量部以上５００質量部以下の範囲である。
また、一般式（３Ａ）で表される化合物と一般式（４Ａ）で表される化合物との重合反応が終了した後、例えば、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチル等の溶剤で抽出、水洗し、さらに必要に応じて活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土等の吸着剤を用いて精製を行ってもよい。
このようにして、一般式（３Ａ）で表される化合物と一般式（４Ａ）で表される化合物とを重合することで、一般式（１Ａ－１）で表される構造及び一般式（１Ａ－２）で表される構造を有する第１の電荷輸送性樹脂の中でも、一般式（１－３）で表される構造を有する第１の電荷輸送性樹脂が得られる。 After the polymerization reaction between the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A) is completed, a poor solvent (e.g., methanol , alcohols such as ethanol, acetone, etc.) to precipitate the charge-transporting resin. After separation, the resin is washed with water, an organic solvent, or the like, and dried.
Further, if necessary, reprecipitation may be repeated by dissolving in an organic solvent and adding dropwise to a poor solvent to precipitate the charge-transporting resin. The reprecipitation treatment is preferably performed while stirring with a mechanical stirrer or the like. The amount of the solvent for dissolving the charge-transporting resin in the reprecipitation process is, for example, 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass, with respect to 3 parts by mass of the charge-transporting compound. It is at least 50 parts by mass and no more than 50 parts by mass. The amount of the poor solvent is, for example, 1 part by mass or more and 1000 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or more and 500 parts by mass or less, relative to 1 part by mass of the charge-transporting resin.
Further, after the polymerization reaction between the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A) is completed, for example, the reaction solution is poured into water and a solvent such as toluene, hexane or ethyl acetate is added. and washed with water, and if necessary, purification may be performed using an adsorbent such as activated carbon, silica gel, porous alumina, or activated clay.
Thus, by polymerizing the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A), the structure represented by the general formula (1A-1) and the general formula (1A) -2), the first charge-transporting resin having the structure represented by the general formula (1-3) is obtained.

第１の電荷輸送性樹脂のうち、複数存在するＹ１及び複数存在するＹ２の少なくとも一部として、重合性官能基及び重合性官能基を有する基から選択される少なくとも１種を有する電荷輸送性樹脂（以下「特定電荷輸送性樹脂（ＡＩＩ）」ともいう）は、例えば、前記一般式（３Ａ）で表される化合物と前記一般式（４Ａ）で表される化合物とを重合した後（すなわち、前記重合工程の後）に、得られた重合体と重合性官能基を有する化合物とを反応させ、重合体に重合性官能基を導入することで得られる。
このようにして、一般式（３Ａ）で表される化合物と一般式（４Ａ）で表される化合物とを重合した後に重合性官能基を有する化合物と反応させることで、一般式（１Ａ－１）で表される構造及び一般式（１Ａ－２）で表される構造を有する第１の電荷輸送性樹脂の中でも、一般式（１－３）で表される構造を有する第１の電荷輸送性樹脂が得られる。
なお、一般式（３Ａ）で表される化合物と下記一般式（４Ａ）で表される化合物とを重合する工程（重合工程）については、前記特定電荷輸送性樹脂（ＡＩ）の合成方法に記載した通りである。
得られた重合体に重合性官能基を導入する工程（すなわち、導入工程）では、具体的には、例えば、得られた重合体と重合性官能基を有する化合物とを溶剤に添加し、必要に応じて触媒を用いて反応を行う。 In the first charge-transporting resin, as at least part of the plurality of Y1 's and the plurality of Y2's , at least one selected from a polymerizable functional group and a group having a polymerizable functional group is a charge transporter. The flexible resin (hereinafter also referred to as “specific charge-transporting resin (AII)”) is obtained, for example, after polymerizing the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A) ( That is, after the polymerization step), the obtained polymer is reacted with a compound having a polymerizable functional group to introduce the polymerizable functional group into the polymer.
Thus, by reacting with a compound having a polymerizable functional group after polymerizing the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A), the general formula (1A-1 ) and the first charge-transporting resin having the structure represented by the general formula (1A-2), the first charge-transporting resin having the structure represented by the general formula (1-3) A flexible resin is obtained.
The step of polymerizing the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the following general formula (4A) (polymerization step) is described in the method for synthesizing the specific charge-transporting resin (AI). As I said.
In the step of introducing a polymerizable functional group into the obtained polymer (that is, the introduction step), specifically, for example, the obtained polymer and a compound having a polymerizable functional group are added to a solvent, and the necessary The reaction is carried out using a catalyst depending on the

重合性官能基を有する化合物としては、例えば、Ｙ－１～Ｙ－４、Ｙ－１３～Ｙ－１４、及びＹ－１６～Ｙ－１８に脱離基（例えば、ＯＨ基、ハロゲン原子、又は他のカルボン酸等）が置換したカルボン酸誘導体、Ｙ－５～Ｙ－１２、Ｙ－１５、及びＹ－１９～Ｙ－２２に脱離基（例えば、ハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、又はｐ－トルエンスルホニルオキシ基等）が置換して求電子剤となった化合物が挙げられる。これらに、必要に応じて公知の触媒又は縮合剤等を添加して反応を行うことで、重合性官能基が導入される。 Compounds having a polymerizable functional group include, for example, leaving groups (e.g., OH groups, halogen atoms, or Other carboxylic acids, etc.) substituted carboxylic acid derivatives, Y-5 to Y-12, Y-15, and Y-19 to Y-22 have leaving groups (e.g., halogen atoms, trifluoromethanesulfonyloxy groups, or (p-toluenesulfonyloxy group, etc.) is substituted to form an electrophile. A polymerizable functional group is introduced by adding a known catalyst or a condensing agent to these, if necessary, and performing a reaction.

得られた重合体に重合性官能基を導入する工程において用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、トルエン、クロロベンゼン、１－クロロナフタレン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
上記溶剤の添加量としては、例えば、得られる電荷輸送性樹脂１質量部に対して、１質量部以上１００質量部以下が挙げられ、好ましくは２質量部以上５０質量部以下である。 Solvents used in the step of introducing a polymerizable functional group into the resulting polymer include, for example, methylene chloride, diethyl ether, tetrahydrofuran (THF), toluene, chlorobenzene, 1-chloronaphthalene, acetone, methyl ethyl ketone, N,N- dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide and the like.
The amount of the solvent to be added is, for example, 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, relative to 1 part by mass of the charge-transporting resin to be obtained.

なお、重合性官能基を有する化合物としてカルボキシ基を有する化合物を用いる場合、触媒として、例えば、硫酸、パラトルエンスルホン酸等を用いてもよい。
また、重合性官能基を有する化合物としてカルボン酸無水物及びハロゲン化物の少なくとも１種を用いる場合、触媒として、例えば、ピリジン、ピペリジン、ジメチルアミノピリジン、トリメチルアミン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン（ＤＢＵ）、トリエチルアミン等の有機塩基；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基；などを用いてもよい。
触媒の添加量としては、例えば、重合性官能基を有する化合物に対し１当量以上１０当量以下が挙げられ、好ましくは２当量以上５当量以下である。
反応温度（すなわち、重合体と重合性官能基を有する化合物との反応温度）は特に限定されるものではなく、例えば３０℃以上１００℃以下の範囲が挙げられる。 When a compound having a carboxyl group is used as the compound having a polymerizable functional group, a catalyst such as sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, or the like may be used.
Further, when at least one of carboxylic acid anhydrides and halides is used as the compound having a polymerizable functional group, the catalyst may be, for example, pyridine, piperidine, dimethylaminopyridine, trimethylamine, 1,8-diazabicyclo [5.4. 0]-7-undecene (DBU), organic bases such as triethylamine; inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide; and the like may be used.
The amount of the catalyst to be added is, for example, 1 equivalent or more and 10 equivalents or less, preferably 2 equivalents or more and 5 equivalents or less, relative to the compound having a polymerizable functional group.
The reaction temperature (that is, the reaction temperature between the polymer and the compound having a polymerizable functional group) is not particularly limited, and is, for example, in the range of 30°C or higher and 100°C or lower.

重合体と重合性官能基を有する化合物との反応が終了した後は、前記一般式（３Ａ）で表される化合物と一般式（４Ａ）で表される化合物とを重合した後と同様に、再沈殿処理及び精製を行ってもよい。 After the reaction between the polymer and the compound having a polymerizable functional group is completed, in the same manner as after polymerizing the compound represented by the general formula (3A) and the compound represented by the general formula (4A), Reprecipitation treatment and purification may be performed.

＜第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂＞
第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂は、下記一般式（１Ｂ）で表される構造を有する。 <Second charge-transporting polyester resin>
The second charge-transporting polyester resin has a structure represented by general formula (1B) below.


前記一般式（１Ｂ）中、Ａ３は電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ３は炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ３は（ｎ３＋２）価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、ｎ３は１又は２を示し、Ｙ４は「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」を示し、＊はＹ３との結合位置を示し、ｎ４は１又は２を示し、Ｌは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された２価の連結基又は単結合を示し、Ｚは重合性官能基を示す。 In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having charge transport properties, T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, Y 3 represents a (n3+2)-valent non-charge-transporting diol residue, n3 represents 1 or 2, Y 4 represents "*-(CH 2 ) n4 -LZ", and * represents Y 3 and n4 represents 1 or 2, L represents a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from carbon atoms, oxygen atoms, and hydrogen atoms, Z represents a polymerizable functional group.

－一般式（１Ｂ）における各基の説明－
前記一般式（１Ｂ）におけるＡ３は、電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、具体的には、フタロシアニン系化合物、ポルフィリン系化合物、アゾベンゼン系化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、キノン系化合物、フルオレノン系化合物などから誘導される２価の有機基が挙げられる。
前記一般式（１Ｂ）におけるＡ３は、これらの中でも、正孔輸送能を有する有機基であることが好ましく、さらにその中でも、トリアリールアミン骨格、ベンジジン骨格、スチルベン骨格から選ばれる少なくとも１種を有する有機基であることがより好ましい。 -Description of each group in general formula (1B)-
A3 in the general formula (1B) represents a divalent organic group having a charge-transporting property, and specifically includes a phthalocyanine-based compound, a porphyrin-based compound, an azobenzene-based compound, a triarylamine-based compound, and a benzidine-based compound. , arylalkane-based compounds, aryl-substituted ethylene-based compounds, stilbene-based compounds, anthracene-based compounds, hydrazone-based compounds, quinone-based compounds, fluorenone-based compounds, and the like.
Among these, A 3 in the general formula (1B) is preferably an organic group having a hole-transporting ability. more preferably an organic group having

一般式（１Ｂ）におけるＡ３は、下記一般式（２）で示される２価の有機基であることが好ましい。 A 3 in general formula (1B) is preferably a divalent organic group represented by general formula (2) below.


前記一般式（２）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｘは置換又は未置換の２価の有機基を示し、ｋ及びｍはそれぞれ独立に０又は１を示す。
なお、一般式（２）における各基の詳細は、前述の通りである。 In the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group, and X is a substituted or unsubstituted divalent and k and m each independently represent 0 or 1.
The details of each group in formula (2) are as described above.

第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式（１Ｂ）で表される構造を複数有する場合、複数のＡ３は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の８０％以上が同一であることが好ましく、全体の９０％以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 When the second charge-transporting polyester resin has a plurality of structures represented by general formula (1B), the plurality of A3 may be all the same, partly the same, or different from each other. preferably 80% or more of the same, more preferably 90% or more of the whole, and even more preferably all the same.

一般式（１Ｂ）におけるＴ３は、炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分枝状の２価の炭化水素基を示す。一般式（１Ｂ）におけるＴ３は、炭素数１以上８以下の直鎖状又は分枝状の２価の炭化水素基であることが好ましい。なお、２価の炭化水素基が直鎖状である場合は、炭素数は１以上６以下の範囲がより好ましく、２以上６以下の範囲がさらに好ましい。また、２価の炭化水素基が分枝状である場合には、炭素数は２以上１０以下の範囲がより好ましく、３以上７以下の範囲がさらに好ましい。
なお、Ｔ３で表される基の具体的な構造の例としては、例えば、前述のＴ１で表される基及びＴ２で表される基の具体的な構造の例として挙げた「炭化水素基Ｔ－１～炭化水素基Ｔ－３２」が挙げられる。 T 3 in general formula (1B) represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. T 3 in general formula (1B) is preferably a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. When the divalent hydrocarbon group is linear, the number of carbon atoms is more preferably in the range of 1 or more and 6 or less, and more preferably in the range of 2 or more and 6 or less. Moreover, when the divalent hydrocarbon group is branched, the number of carbon atoms is more preferably in the range of 2 to 10, more preferably in the range of 3 to 7.
Examples of specific structures of the group represented by T3 include the above-mentioned "carbonized hydrogen group T-1 to hydrocarbon group T-32”.

なお、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式（１Ｂ）で表される構造を複数有する場合、複数のＴ３は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の８０％以上が同一であることが好ましく、全体の９０％以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 When the second charge-transporting polyester resin has a plurality of structures represented by general formula (1B), the plurality of T3s may be all the same, partially the same, or different from each other. , preferably 80% or more of the same, more preferably 90% or more of the whole, still more preferably all the same.

以下、上記一般式（１Ｂ）のＡ３が上記一般式（２）で表される２価の有機基を示す場合における、Ａ３とＴ３との組み合わせ（すなわち、一般式（２）中のＸ、Ｒ１、Ｒ２、ｋ、及びｍ、並びに一般式（１Ｂ）中のＴ３の組み合わせ）の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において「Ｒ１」及び「Ｒ２」の欄に記載された数字は、結合の位置を表す。また、「Ｔ３」の欄に記載された番号は、上記に具体的に示した炭化水素基の構造式に付した番号（Ｔ－１）～（Ｔ－３２）を意味する。尚、「Ｔ３」の欄において、たとえば「Ｔ－５ｒ」と記す場合には構造Ｔ－５の右側に、「Ｔ－５ｌ」と記す場合には構造Ｔ－５の左側にアリールアミン骨格（即ち、一般式（１Ｂ）におけるＡ３）が結合していることを示すものとする。また、下記表において、「結合位置」に示される値は、前記一般式（２）におけるベンゼン環に記載されている数値の箇所に結合していることを示し、更にｋが１の場合、（ ）内のベンゼン環も数字が記載されているベンゼン環と同様の箇所に結合していることを示す。 Hereinafter, when A 3 in the general formula (1B) represents a divalent organic group represented by the general formula (2), a combination of A 3 and T 3 (i.e., Specific examples of combinations of X, R 1 , R 2 , k, and m, and T 3 in general formula (1B)) are shown below, but are not limited to these specific examples.
In addition, the numbers described in the columns of “R 1 ” and “R 2 ” in the table below represent the binding positions. Further, the numbers described in the "T 3 " column mean the numbers (T-1) to (T-32) attached to the structural formulas of the hydrocarbon groups specifically shown above. In the column of “T 3 ”, for example, when “T-5r” is written, the arylamine skeleton ( That is, it indicates that A 3 ) in general formula (1B) is bonded. Further, in the table below, the value shown in "bonding position" indicates that it is bonded to the numerical value described in the benzene ring in the general formula (2), and when k is 1, ( ) indicates that the benzene ring within is also bonded to the same position as the benzene ring where the number is described.







一般式（１Ｂ）におけるＹ３は、（ｎ３＋２）価の非電荷輸送性のジオール残基を示す。ジオール残基は、酸素原子と酸素原子とを連結する連結基であり、炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された連結基であることが好ましい。
Ｙ３で示される連結基は、炭化水素基、又は炭化水素基と酸素原子とを組み合わせた連結基であることが好ましく、炭化水素基、又は炭化水素基とエーテル結合とを組み合わせた連結基であることがより好ましい。上記炭化水素基は、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基のいずれでもよく、これらのうち２以上の炭化水素基を組み合わせた基でもよい。２以上の炭化水素基は、同種の炭化水素基でもよく、異種の炭化水素基でもよい。 Y 3 in general formula (1B) represents a (n3+2)-valent non-charge-transporting diol residue. A diol residue is a linking group that links oxygen atoms, and is preferably a linking group composed of at least one atom selected from a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom.
The linking group represented by Y 3 is preferably a hydrocarbon group or a linking group in which a hydrocarbon group and an oxygen atom are combined, and is a linking group in which a hydrocarbon group or a hydrocarbon group and an ether bond are combined. It is more preferable to have The hydrocarbon group may be a saturated hydrocarbon group, an unsaturated hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, or a combination of two or more of these hydrocarbon groups. The two or more hydrocarbon groups may be the same type of hydrocarbon group or different types of hydrocarbon groups.

飽和炭化水素基は、直鎖状でもよく、分岐状でもよく、環状でもよく、これらの組み合わせでもよい。飽和炭化水素基としては、例えば、炭素数１以上１０以下の直鎖状アルキレン基、炭素数２以上１０以下の分岐状アルキレン基、炭素数５以上８以下の環状アルキレン基、これらを組み合わせた基等が挙げられる。
不飽和炭化水素基は、直鎖状でもよく、分岐状でもよく、環状でもよく、これらの組み合わせでもよい。不飽和炭化水素基としては、例えば、炭素数２以上１０以下の直鎖状アルケニル基、炭素数３以上１０以下の分岐状アルケニル基、炭素数５以上８以下の環状アルケニル基、これらを組み合わせた基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、少なくとも芳香環を含む環状の連結基であり、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ペリレン、フルオレン等の水素原子を除いた２価の基等が挙げられる。
２以上の炭化水素基を組み合わせた基としては、例えば、２以上の芳香族炭化水素基を組み合わせた基のほか、芳香族炭化水素基に、飽和炭化水素基及び不飽和炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基が結合した基が挙げられる。 The saturated hydrocarbon group may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof. Examples of saturated hydrocarbon groups include linear alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms, branched alkylene groups having 2 to 10 carbon atoms, cyclic alkylene groups having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof. etc.
The unsaturated hydrocarbon group may be linear, branched, cyclic, or a combination thereof. Examples of the unsaturated hydrocarbon group include linear alkenyl groups having 2 to 10 carbon atoms, branched alkenyl groups having 3 to 10 carbon atoms, cyclic alkenyl groups having 5 to 8 carbon atoms, and combinations thereof. and the like.
The aromatic hydrocarbon group is a cyclic linking group containing at least an aromatic ring, and examples thereof include divalent groups excluding hydrogen atoms such as benzene, naphthalene, anthracene, phenanthrene, pyrene, perylene, and fluorene.
Examples of groups in which two or more hydrocarbon groups are combined include, for example, groups in which two or more aromatic hydrocarbon groups are combined, and the aromatic hydrocarbon group is selected from saturated hydrocarbon groups and unsaturated hydrocarbon groups. Groups to which at least one group is attached are included.

Ｙ３で示される連結基は、これらの中でも、飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基、飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基を２以上組み合わせた炭化水素基、並びにこれらの炭化水素基と酸素原子とを組み合わせた基が好ましく、飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基、飽和炭化水素基及び芳香族炭化水素基から選ばれる少なくとも１種の基を２以上組み合わせた炭化水素基、並びにこれらの炭化水素基とエーテル結合とを組み合わせた基がより好ましく、飽和炭化水素基、及び飽和炭化水素基とエーテル結合とを組み合わせた基が更に好ましい。 Among these, the linking group represented by Y3 is a hydrocarbon group in which two or more of at least one group selected from a saturated hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a saturated hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group are combined. , and groups in which these hydrocarbon groups and oxygen atoms are combined are preferable, and two or more of at least one group selected from saturated hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, saturated hydrocarbon groups and aromatic hydrocarbon groups More preferred are combined hydrocarbon groups and groups in which these hydrocarbon groups and ether bonds are combined, and more preferred are saturated hydrocarbon groups and groups in which saturated hydrocarbon groups and ether bonds are combined.

また、Ｙ３で示される連結基が酸素原子を含む場合、Ｙ３で示される連結基は、酸素原子を介して複数の炭化水素基が連結した基でもよい。複数の炭化水素基は、同種の炭化水素基であってもよく、異種の炭化水素基であってもよい。
ただし、Ｙ３で示される連結基の主鎖の末端の原子（すなわち、Ｙ３で示される連結基を構成する原子のうち、一般式（１Ｂ）中の酸素原子に直接結合する原子）は、いずれも炭素原子であることがよい。
また、Ｙ３で示される連結基を構成する原子のうち、Ｙ４で示される基に直接結合する原子は、炭素原子であることがよく、その中でもＹ３で示される連結基の主鎖を構成する炭素原子であることがより好ましい。 Moreover, when the linking group represented by Y3 contains an oxygen atom, the linking group represented by Y3 may be a group in which a plurality of hydrocarbon groups are linked via an oxygen atom. The plurality of hydrocarbon groups may be the same type of hydrocarbon groups or different types of hydrocarbon groups.
However, the terminal atom of the main chain of the linking group represented by Y3 (that is, among the atoms constituting the linking group represented by Y3 , the atom directly bonded to the oxygen atom in the general formula (1B)) is Both are preferably carbon atoms.
Further, among the atoms constituting the linking group represented by Y 3 , the atoms directly bonded to the group represented by Y 4 are preferably carbon atoms . It is more preferably a constituent carbon atom.

Ｙ３で示される連結基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数としては、例えば２以上３２以下が挙げられ、２以上２２以下が好ましく、２以上２０以下がより好ましく、２以上１５以下がさらに好ましい。Ｙ３で示される連結基を構成する水素原子以外の原子の数が前記範囲であることにより、前記範囲より多い場合に比べて、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂に対する電荷輸送性骨格の割合が多く、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の電荷特性が良好となる。また、Ｙ３で示される連結基を構成する水素原子以外の原子の数が前記範囲であることにより、前記範囲より少ない場合に比べて、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の合成時に分子量の調整がしやすくなる。
なお、上記Ｙ３で示される連結基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数は、連結に直接関与する原子だけでなく、連結に直接関与していない原子（例えば、分岐鎖、芳香環等）も含む数である。例えば、下記具体例Ｙ３－１２を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数は、３１である。 Among the atoms constituting the linking group represented by Y 3 , the number of atoms other than hydrogen atoms is, for example, 2 or more and 32 or less, preferably 2 or more and 22 or less, more preferably 2 or more and 20 or less, and 2 or more and 15. More preferred are: When the number of atoms other than hydrogen atoms constituting the linking group represented by Y3 is within the above range, the ratio of the charge-transporting skeleton to the second charge-transporting polyester resin is higher than when the number is larger than the above range. In many cases, the charge properties of the second charge-transporting polyester resin are improved. In addition, when the number of atoms other than hydrogen atoms constituting the linking group represented by Y3 is within the above range, the molecular weight can be adjusted during the synthesis of the second charge-transporting polyester resin compared to when the number is less than the above range. easier to clean.
In addition, the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting the linking group represented by Y 3 is not only the atoms directly involved in the linking, but also the atoms not directly involved in the linking (e.g., branched chain, aromatic ring, etc.). For example, among the atoms constituting Specific Example Y 3 -12 below, the number of atoms other than hydrogen atoms is 31.

以下に、Ｙ３で示される連結基とその両端の酸素原子を含めた構造の具体的な例（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ）を示す。但し、下記構造中の「＊」は、Ｙ４で示される基との結合位置を示す。 Specific examples of structures including the linking group represented by Y 3 and oxygen atoms at both ends thereof (ie, O—Y 3 —O) are shown below. However, "*" in the structure below indicates the bonding position with the group represented by Y4 .


なお、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式（１Ｂ）で表される構造を複数有する場合、複数のＹ３は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の８０％以上が同一であることが好ましく、全体の９０％以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 When the second charge-transporting polyester resin has a plurality of structures represented by general formula (1B), the plurality of Y 3 may be all the same, partially the same, or different from each other. , preferably 80% or more of the same, more preferably 90% or more of the whole, still more preferably all the same.

一般式（１Ｂ）におけるＹ４は、「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」で表される基を示し、ｎ４は１又は２を示し、Ｌは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された２価の連結基又は単結合を示し、Ｚは重合性官能基を示す。 Y 4 in general formula (1B) represents a group represented by "*-(CH 2 ) n4 -LZ", n4 represents 1 or 2, and L represents a carbon atom, an oxygen atom, and a hydrogen atom. represents a divalent linking group or single bond composed of at least one atom selected from and Z represents a polymerizable functional group.

まず、「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」で表される基におけるＬで示される連結基について説明する。
Ｌで示される連結基は、炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された２価の連結基である。Ｌで示される連結基としては、例えば、アルキレン基、エーテル結合（すなわち「－Ｏ－」）、カルボニル基（すなわち「－Ｃ（＝Ｏ）－」）、及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
また、これらを組み合わせた基（すなわち、アルキレン基、エーテル結合、及びカルボニル基から選択される少なくとも２以上を組み合わせた基）としては、例えば、エーテル結合とアルキレン基との組み合わせ、エーテル結合とカルボニル基との組み合わせ（例えばエステル結合）、エーテル結合とカルボニル基とアルキレン基との組み合わせ（例えばエステル結合とアルキレン基との組み合わせ）等が挙げられる。
Ｌで示される連結基は、エーテル結合を少なくとも含むことが好ましい。 First, the linking group represented by L in the group represented by "*-(CH 2 ) n4 -LZ" will be explained.
The linking group represented by L is a divalent linking group composed of at least one atom selected from carbon atoms, oxygen atoms and hydrogen atoms. The linking group represented by L includes, for example, an alkylene group, an ether bond (ie, "-O-"), a carbonyl group (ie, "-C(=O)-"), and groups in which these are combined. .
Further, a group combining these (that is, a group combining at least two or more selected from an alkylene group, an ether bond, and a carbonyl group) includes, for example, a combination of an ether bond and an alkylene group, an ether bond and a carbonyl group (for example, an ester bond), a combination of an ether bond, a carbonyl group, and an alkylene group (for example, a combination of an ester bond and an alkylene group).
The linking group represented by L preferably contains at least an ether bond.

Ｌで示される基（Ｌで示される連結基又はＬで示される単結合）を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数としては、例えば０以上１６以下が挙げられ、１以上１１以下が好ましく、１以上１０以下がより好ましく、１以上７以下がさらに好ましい。Ｌで示される基を構成する水素原子以外の原子の数が前記範囲であることにより、前記範囲より多い場合に比べて、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂に対する電荷輸送性骨格の割合が多く、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の電荷特性が良好となる。また、Ｌで示される基を構成する水素原子以外の原子の数が前記範囲であることにより、前記範囲より少ない場合に比べて、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋反応が起こりやすく、耐溶剤性及び機械的強度の優れた膜が得られやすくなる。
なお、上記Ｌで示される基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数は、連結に直接関与する原子だけでなく、連結に直接関与していない原子（例えば、カルボニル基の酸素原子等）も含む数である。例えば、下記具体例Ｌ－９を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数は、１１である。 Among the atoms constituting the group represented by L (the linking group represented by L or the single bond represented by L), the number of atoms other than hydrogen atoms includes, for example, 0 to 16, and 1 to 11. It is preferably 1 or more and 10 or less, and even more preferably 1 or more and 7 or less. When the number of atoms other than hydrogen atoms constituting the group represented by L is within the above range, the ratio of the charge-transporting skeleton to the second charge-transporting polyester resin is higher than when the number is larger than the above range, The charge property of the second charge-transporting polyester resin is improved. Further, when the number of atoms other than hydrogen atoms constituting the group represented by L is within the above range, the cross-linking reaction of the second charge-transporting polyester resin is more likely to occur than when the number is less than the above range. It becomes easier to obtain a film with excellent solvent resistance and mechanical strength.
In addition, the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting the group represented by L is not only the atoms directly involved in the connection, but also the atoms not directly involved in the connection (for example, the oxygen atom of the carbonyl group, etc. ). For example, among the atoms constituting Specific Example L-9 below, the number of atoms other than hydrogen atoms is 11.

以下に、Ｌで表される連結基の具体的な例を示す。なお、下記構造中における２つの「＊」のうち、左側に示された「＊」が「－（ＣＨ２）ｎ４－」との結合位置を示し、右側に示された「＊」がＺで示される重合性官能基との結合位置を示す。 Specific examples of the linking group represented by L are shown below. Of the two "*" in the structure below, the "*" shown on the left indicates the bonding position with "-(CH 2 ) n4 -", and the "*" shown on the right is Z. The bonding positions with the indicated polymerizable functional groups are shown.


次に、「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」で表される基におけるＺで示される重合性官能基について説明する。
重合性官能基としては、例えば、炭素－炭素二重結合、エポキシ基、及びオキセタン基から選択される少なくとも１種を含む基が挙げられる。重合性官能基の具体例としては、例えば、ビニル基、ビニルエーテル基、下記一般式（Ｐ１）で表される基、下記一般式（Ｐ２）で表される基、下記一般式（Ｐ３）で表される基、下記一般式（Ｐ４）で表される基、下記一般式（Ｐ５）で表される基等が挙げられる。
重合性官能基は、これらの中でも、下記一般式（Ｐ１）で表される基、下記一般式（Ｐ２）で表される基、下記一般式（Ｐ３）で表される基、下記一般式（Ｐ４）で表される基、及び下記一般式（Ｐ５）で表される基から選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。 Next, the polymerizable functional group represented by Z in the group represented by "*-(CH 2 ) n4 -LZ" will be explained.
Polymerizable functional groups include, for example, groups containing at least one selected from carbon-carbon double bonds, epoxy groups, and oxetane groups. Specific examples of the polymerizable functional group include, for example, a vinyl group, a vinyl ether group, a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), and a group represented by the following general formula (P3). a group represented by the following general formula (P4), a group represented by the following general formula (P5), and the like.
Among these, the polymerizable functional group is a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), a group represented by the following general formula (P3), and a group represented by the following general formula ( It is preferably at least one selected from a group represented by P4) and a group represented by the following general formula (P5).


前記一般式（Ｐ１）～（Ｐ５）中、Ｒ３～Ｒ６は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、＊は、結合位置を示す。
アルキル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。アルキル基としては、炭素数１以上５以下のものがより好ましく、炭素数１以上３以下のものがさらに好ましく、炭素数１以上２以上のものが特に好ましい。
アルコキシル基としては、炭素数１以上１０以下のものが好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１以上５以下のものがより好ましく、炭素数１以上３以下のものがさらに好ましく、炭素数１以上２以上のものが特に好ましい。
一般式（Ｐ３）で表される基の置換位置は、オルト位、メタ位、及びパラ位のいずれであってもよく、その中でもメタ位及びパラ位から選択される少なくとも一方が好ましく、パラ位がより好ましい。なお、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式（Ｐ３）で表される基を複数有する場合、それらの置換位置は、オルト位、メタ位、及びパラ位から選択される少なくとも２種以上が混在していてもよい。 In general formulas (P1) to (P5), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and * represents a bonding position.
The alkyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include methyl, ethyl, propyl and isopropyl groups. The alkyl group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms.
The alkoxyl group preferably has 1 or more and 10 or less carbon atoms, and examples thereof include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group. The alkoxy group preferably has 1 to 5 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 2 carbon atoms.
The substitution position of the group represented by the general formula (P3) may be any of the ortho position, the meta position, and the para position, and among them, at least one selected from the meta position and the para position is preferable, and the para position is more preferred. When the second charge-transporting polyester resin has a plurality of groups represented by the general formula (P3), the substitution positions thereof are at least two selected from ortho-position, meta-position and para-position. May be mixed.

以下に、Ｚで示される重合性官能基の具体的な構造の例を示す。なお、下記構造中、＊は、Ｌで表される基との結合位置を示す。
Ｚで示される重合性官能基は、下記具体例の中でも特に、下記式（Ｐ１－１）で表される基、下記式（Ｐ１－２）で表される基、及び下記式（Ｐ３－１）で表される基が好ましい。
また、Ｚで示される重合性官能基が下記式（Ｐ１－１）で表される基又は下記式（Ｐ１－２）で表される基である場合、Ｌで表される基が連結基であり、かつ、Ｌで表される連結基を構成する原子のうちＺで表される重合性官能基と直接結合する原子が酸素原子である（つまり、アクリル酸エステル構造又はメタクリル酸エステル構造を有する）ことが好ましい。 Examples of specific structures of the polymerizable functional group represented by Z are shown below. In the structure below, * indicates the bonding position with the group represented by L.
The polymerizable functional group represented by Z is, among the specific examples below, particularly a group represented by the following formula (P1-1), a group represented by the following formula (P1-2), and a group represented by the following formula (P3-1 ) is preferred.
Further, when the polymerizable functional group represented by Z is a group represented by the following formula (P1-1) or a group represented by the following formula (P1-2), the group represented by L is a linking group. and, among the atoms constituting the linking group represented by L, the atom directly bonded to the polymerizable functional group represented by Z is an oxygen atom (that is, having an acrylic ester structure or a methacrylic ester structure ) is preferred.


なお、一般式（１Ｂ）におけるＹ４中のｎ４が２である場合、２つのＹ４は同じであってもよく、異なっていてもよいが、同じであることが好ましい。
また、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂が一般式（１Ｂ）で表される構造を複数有する場合、複数のＹ４は、全て同一でもよく、一部同一でもよく、互いに異なっていてもよいが、全体の８０％以上が同一であることが好ましく、全体の９０％以上が同一であることがより好ましく、全て同一であることがさらに好ましい。 When n4 in Y 4 in general formula (1B) is 2, two Y 4 may be the same or different, but are preferably the same.
Further, when the second charge-transporting polyester resin has a plurality of structures represented by general formula (1B), the plurality of Y 4 may be all the same, partially the same, or different from each other. , preferably 80% or more of the same, more preferably 90% or more of the whole, still more preferably all the same.

一般式（１Ｂ）におけるＹ３で示される連結基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、一般式（１Ｂ）におけるＹ４中のｎ４の数と、一般式（１Ｂ）におけるＹ４中のＬで示される基を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、の合計としては、例えば３０以下が挙げられ、２５以下が好ましく、１５以下がより好ましい。前記合計が前記範囲であることにより、前記範囲より多い場合に比べて、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂に対する電荷輸送性骨格の割合が多く、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の電荷特性が良好となる。また、前記合計が前記範囲であることにより、前記範囲より少ない場合に比べて、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋反応が起こりやすく、耐溶剤性及び機械的強度の優れた膜が得られやすくなる。 The number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting the linking group represented by Y 3 in general formula (1B), the number of n4 in Y 4 in general formula (1B), and Y in general formula (1B) The total number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting the group represented by L in 4 is, for example, 30 or less, preferably 25 or less, and more preferably 15 or less. When the total is within the range, the ratio of the charge-transporting skeleton to the second charge-transporting polyester resin is higher than when the total is above the range, and the second charge-transporting polyester resin has good charge characteristics. becomes. Further, when the total is within the above range, the cross-linking reaction of the second charge-transporting polyester resin occurs more easily than when the total is less than the above range, and a film having excellent solvent resistance and mechanical strength can be obtained. easier.

以下、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、ｎ４、Ｌ、及びＺの組み合わせ）の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において「Ｏ－Ｙ３－Ｏ」の欄における「＊」は、Ｙ４で表される基との結合位置を示す。また、記載された数字は、結合の位置を表す。また、「Ｌ」の欄における２つの「＊」のうち、左側に示された「＊」は、Ｙ４で表される基における「－（ＣＨ２）ｎ４－」との結合位置を示し、右側に示された「＊」は、Ｚで示される重合性官能基との結合位置を示す。また、「Ｚ」の欄における「＊」は、Ｌで表される基との結合位置を示す。また、下記具体例においては、ｎ３が２である例については、２つのＹ４が同じである例を示している。 Specific examples of combinations of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 (that is, combinations of O—Y 3 —O, n3, n4, L, and Z) are shown below, but are not limited to these specific examples. does not mean
In the table below, “*” in the “O—Y 3 —O” column indicates the bonding position with the group represented by Y 4 . Also, the numbers described represent the positions of bonding. Further, of the two "*" in the "L" column, the "*" shown on the left indicates the bonding position with "-(CH 2 ) n4 -" in the group represented by Y 4 , "*" shown on the right side indicates the bonding position with the polymerizable functional group represented by Z. In addition, "*" in the "Z" column indicates the bonding position with the group represented by L. Further, in the following specific examples, examples in which n3 is 2 are examples in which two Y4 are the same.





－第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の説明－
第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂は、少なくとも一般式（１Ｂ）で表される構造を分子内に有していればよく、一般式（１Ｂ）で表される構造に加えて他の構造を分子内に有していてもよい。第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂が他の構造を分子内に有する場合、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂全体に対する一般式（１Ｂ）で表される構造の割合としては、８０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましく、９５質量％以上がさらに好ましい。
また、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂が有する一般式（１Ｂ）で表される構造の数としては、例えば５以上５０００以下が挙げられ、好ましくは５以上２０００以下であり、さらに好ましくは１０以上１０００以下である。 -Description of the second charge-transporting polyester resin-
The second charge-transporting polyester resin may have at least the structure represented by general formula (1B) in the molecule, and in addition to the structure represented by general formula (1B), other structures may be added to the molecule. may have it in When the second charge-transporting polyester resin has another structure in the molecule, the ratio of the structure represented by general formula (1B) to the entire second charge-transporting polyester resin is preferably 80% by mass or more. , more preferably 90% by mass or more, and even more preferably 95% by mass or more.
The number of structures represented by the general formula (1B) in the second charge-transporting polyester resin is, for example, 5 or more and 5000 or less, preferably 5 or more and 2000 or less, and more preferably 10 or more. 1000 or less.

第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の重量平均分子量は、２０００以上５０万以下が好ましく、３０００以上２０万以下がより好ましく、４０００以上１０万以下がさらに好ましい。
上記重量平均分子量の測定は、測定対象の化合物の０．１質量％ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）溶液を調製し、示差屈折率検出器（ＲＩ）を用いて、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、標準サンプルとしてスチレンポリマーを用いて行う。 The weight average molecular weight of the second charge-transporting polyester resin is preferably 2,000 to 500,000, more preferably 3,000 to 200,000, and even more preferably 4,000 to 100,000.
Measurement of the weight average molecular weight is performed by preparing a 0.1% by mass THF (tetrahydrofuran) solution of the compound to be measured, and using a differential refractive index detector (RI) by gel permeation chromatography (GPC). A styrene polymer is used as the

以下、前記一般式（１Ｂ）におけるＡ３が前記一般式（２）で表される２価の有機基を示す場合における第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例を示すが、これら具体例に限定されるわけではない。
なお、下記表において、「組み合わせＡＴ」及び「組み合わせＹ」の欄に記載された番号は、それぞれ、Ａ３とＴ３との組み合わせの具体例に付した番号ＡＴ－１～ＡＴ－１０２及びＯ－Ｙ３－Ｏとｎ３とＹ４と組み合わせの具体例に付した番号Ｙ－１～Ｙ－６３を意味する。また、「構造の数」の欄に記載された数字は、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂が有する一般式（１Ｂ）で表される構造の数を意味する。 Specific examples of the second charge-transporting polyester resin in the case where A3 in the general formula (1B) represents a divalent organic group represented by the general formula (2) are shown below. It is not limited.
In the table below, the numbers described in the columns of "Combination AT" and "Combination Y" are numbers AT - 1 to AT-102 and O —Y 3 —O, n3 and Y 4 and numbers Y-1 to Y-63 attached to specific examples of combinations. Also, the number described in the column of "number of structures" means the number of structures represented by the general formula (1B) possessed by the second charge-transporting polyester resin.


－合成方法（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の製造方法）－
ついで合成方法について説明する。
第２の電荷輸送性樹脂は、例えば、下記一般式（３Ｂ）で表される化合物（以下、「電荷輸送性モノマー」ともいう）と下記一般式（４Ｂ）で表される化合物（以下、「非電荷輸送性モノマー」ともいう）との重縮合により得られる。 -Synthesis method (second charge-transporting polyester resin production method)-
Next, a synthesis method will be explained.
The second charge-transporting resin includes, for example, a compound represented by the following general formula (3B) (hereinafter also referred to as "charge-transporting monomer") and a compound represented by the following general formula (4B) (hereinafter referred to as " It is obtained by polycondensation with a non-charge-transporting monomer.


前記一般式（３Ｂ）及び（４Ｂ）中のＡ３、Ｔ３、Ｙ３、ｎ３、及びＹ４は、前記一般式（１Ｂ）中のＡ３、Ｔ３、Ｙ３、ｎ３、及びＹ４と同じである。
つまり、前記一般式（３Ｂ）及び（４Ｂ）中、Ａ３は電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ３は炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ３は（ｎ３＋２）価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、ｎ３は１又は２を示し、Ｙ４は「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」を示し、＊はＹ３との結合位置を示し、ｎ４は１又は２を示し、Ｌは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された２価の連結基又は単結合を示し、Ｚは重合性官能基を示す。 A 3 , T 3 , Y 3 , n3, and Y 4 in general formulas (3B) and (4B) correspond to A 3 , T 3 , Y 3 , n3, and Y 4 in general formula (1B). is the same as
That is, in the general formulas (3B) and (4B), A 3 represents a divalent organic group having a charge-transporting property, and T 3 represents a linear or branched divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms. represents a hydrocarbon group, Y 3 represents a (n3+2)-valent non-charge-transporting diol residue, n3 represents 1 or 2, and Y 4 represents "*-(CH 2 ) n4 -LZ"; * indicates the bonding position with Y 3 , n4 indicates 1 or 2, L is a divalent linking group composed of at least one atom selected from carbon atoms, oxygen atoms, and hydrogen atoms or represents a single bond, and Z represents a polymerizable functional group.

また、前記一般式（３Ｂ）及び（４Ｂ）中、Ｚ１及びＺ２は、互いに重縮合反応し得る組み合わせとなる基を示す。
具体的には、Ｚ１で示される基が水酸基である場合、Ｚ２で示される基としては、例えば、水酸基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、メタンスルホン酸エステル基、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基、ｐ－トルエンスルホン酸エステル基等が挙げられる。
また、Ｚ２で示される基が水酸基である場合、Ｚ１で示される基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、他の有機酸との混合無水物の残基等が挙げられる。なお、上記他の有機酸としては、例えば、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸イソブチル、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等が挙げられる。 Moreover, in the general formulas (3B) and (4B), Z 1 and Z 2 represent groups that form a combination capable of undergoing a polycondensation reaction with each other.
Specifically, when the group represented by Z 1 is a hydroxyl group, examples of the group represented by Z 2 include a hydroxyl group, a halogen atom (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), methanesulfone acid ester group, trifluoromethanesulfonate group, p-toluenesulfonate group and the like.
Further, when the group represented by Z 2 is a hydroxyl group, examples of the group represented by Z 1 include an alkoxy group, a halogen atom (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), other organic acid and mixed anhydride residues. Examples of the other organic acids include acetic acid, trifluoroacetic acid, isobutyl formate, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid.

上記電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重縮合反応においては、その反応形式に応じて、公知の添加剤、触媒等（具体的には、例えば、酸触媒、縮合剤、縮合で副生する水、アルコール、酸などを捕捉する捕捉剤等）を用いてもよい。 In the polycondensation reaction between the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer, known additives, catalysts, etc. Scavengers, etc. that capture generated water, alcohol, acid, etc.) may also be used.

前記の通り、非電荷輸送性モノマーは、重合性官能基を含有する。そのため、電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重縮合反応中に、非電荷輸送性モノマーが有する重合性官能基（すなわち、Ｙ４で示される「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」中のＺで示される基）が反応しないよう、重縮合反応条件を選択してもよい。具体的には、例えば、必要に応じて、公知の重合禁止剤を添加して重縮合反応を実施してもよい。 As noted above, the non-charge-transporting monomer contains polymerizable functional groups. Therefore, during the polycondensation reaction between the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer, the polymerizable functional group possessed by the non-charge-transporting monomer (that is, "* - (CH 2 ) n4 -L- The polycondensation reaction conditions may be selected such that the group represented by Z in Z” does not react. Specifically, for example, if necessary, a known polymerization inhibitor may be added to carry out the polycondensation reaction.

また、上記非電荷輸送性モノマーの代わりに、Ｚで示される重合性官能基を有さないモノマーを用いて、電荷輸送性モノマーとの重縮合反応を実施することでポリエステルを得た後に、公知の反応により前記ポリエステル（すなわち、重合性官能基を有さないポリエステル）にＺで示される重合性官能基を導入してもよい。
上記Ｚで示される重合性官能基を有さないモノマーと電荷輸送性モノマーとの重縮合反応を実施する場合、後からＺで示される重合性官能基を導入するための官能基が重縮合中に反応しないよう、該官能基を適宜保護して重縮合を行ってもよい。
後からＺで示される重合性官能基を導入する方法としては、重合性官能基を有さないポリエステルと、重合性官能基を有する化合物と、を反応させる方法が挙げられる。 Further, instead of the non-charge-transporting monomer, a monomer having no polymerizable functional group represented by Z is used to carry out a polycondensation reaction with the charge-transporting monomer to obtain a polyester. A polymerizable functional group represented by Z may be introduced into the polyester (that is, a polyester having no polymerizable functional group) by the reaction of.
When carrying out the polycondensation reaction between the monomer having no polymerizable functional group represented by Z and the charge-transporting monomer, the functional group for introducing the polymerizable functional group represented by Z is added during polycondensation. The polycondensation may be carried out by appropriately protecting the functional group so as not to react with .
As a method for subsequently introducing the polymerizable functional group represented by Z, there is a method of reacting a polyester having no polymerizable functional group with a compound having a polymerizable functional group.

重合性官能基を有する化合物としては、例えば、導入する重合性官能基に脱離基（例えば、水酸基、ハロゲン原子、他のカルボン酸等）が置換したカルボン酸誘導体、導入する重合性官能基に脱離基（例えば、ハロゲン原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、ｐ－トルエンスルホニルオキシ基等）が置換して求電子剤となった化合物等が挙げられる。 Examples of compounds having a polymerizable functional group include carboxylic acid derivatives in which the polymerizable functional group to be introduced is substituted with a leaving group (e.g., hydroxyl group, halogen atom, other carboxylic acid, etc.), and the polymerizable functional group to be introduced. Compounds that have become electrophiles by substitution with a leaving group (eg, a halogen atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, etc.) can be mentioned.

電荷輸送性モノマー及び非電荷輸送性モノマーは、それぞれ、公知の方法で合成することで得られる。また、Ｚで示される重合性官能基を有する非電荷輸送性モノマーとして、市販品を使用してもよい。非電荷輸送性モノマーとして、重縮合の反応部位となるＺ２で示される基が水酸基であるジオールモノマーをそのまま使用してもよく、重縮合反応条件によっては、該ジオールモノマーの水酸基を、公知の方法でハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、メタンスルホン酸エステル基、トリフルオロメタンスルホン酸エステル基、ｐ－トルエンスルホン酸エステル基等に変換して使用してもよい。 The charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer are each obtained by synthesizing by a known method. Also, as the non-charge-transporting monomer having a polymerizable functional group represented by Z, a commercial product may be used. As the non-charge-transporting monomer, a diol monomer in which the group represented by Z2 , which is the reaction site for polycondensation, is a hydroxyl group may be used as it is. It may be converted to a halogen atom (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), methanesulfonate group, trifluoromethanesulfonate group, p-toluenesulfonate group, etc. by a method. .

Ｚで示される重合性官能基を有する非電荷輸送性モノマーのうち、Ｚ２で示される基が水酸基であるジオールモノマーを合成する方法としては、例えば、エポキシ基又はオキセタン基を含有する市販の重合性官能基含有化合物（例えば、（メタ）アクリル酸エステル、スチレン誘導体等）に、水を付加させ、エポキシ基又はオキセタン基を開環させることで得る方法が挙げられる。
また、前記ジオールモノマーを合成する方法として、グリシドールに代表される、水酸基を含有するエポキシド又は水酸基を含有するオキセタンに対して、カルボキシ基又は水酸基を有する重合性官能基含有化合物（例えば、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシ置換スチレン、ヒドロキシメチル置換スチレン、ビニル安息香酸等）を付加させ、エポキシ基又はオキセタン基を開環させて得る方法も挙げられる。
その他、前記ジオールモノマーを合成する方法として、３－クロロ－１，２－プロパンジオールに代表されるハロゲン含有ジオールに対して、カルボキシ基又は水酸基を有する重合性官能基含有化合物（例えば、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシ置換スチレン、ヒドロキシメチル置換スチレン、ビニル安息香酸等）を反応させ、置換反応させることによって得る方法も挙げられる。
なお、「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」及び「メタクリル」から選ばれる少なくとも一方を意味する。また、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」から選ばれる少なくとも一方を意味する。 Among the non-charge-transporting monomers having a polymerizable functional group represented by Z, a method for synthesizing a diol monomer in which the group represented by Z2 is a hydroxyl group includes, for example, a commercially available polymerization method containing an epoxy group or an oxetane group. A method of adding water to a functional group-containing compound (eg, (meth)acrylic acid ester, styrene derivative, etc.) to open an epoxy group or an oxetane group.
Further, as a method for synthesizing the diol monomer, a polymerizable functional group-containing compound having a carboxy group or a hydroxyl group (for example, (meth) acrylic acid, hydroxy-substituted styrene, hydroxymethyl-substituted styrene, vinyl benzoic acid, etc.) to open the epoxy group or oxetane group.
In addition, as a method for synthesizing the diol monomer, a polymerizable functional group-containing compound having a carboxy group or a hydroxyl group (for example, (meth) acrylic acid, hydroxy-substituted styrene, hydroxymethyl-substituted styrene, vinyl benzoic acid, etc.), followed by a substitution reaction.
In addition, "(meth)acryl" means at least one selected from "acryl" and "methacryl". Moreover, "(meth)acrylate" means at least one selected from "acrylate" and "methacrylate".

一分子中に２つの重合性官能基を有する非電荷輸送性のジオールモノマーについては、市販の２官能エポキシ（メタ）アクリレートに代表される、重合性官能基を２つ有する重合性官能基含有化合物をそのまま使用してもよい。
一分子中に２つの重合性官能基を有する非電荷輸送性のジオールモノマーを合成する方法としては、例えば、２官能のエポキシド又は２官能のオキセタン化合物に対して、カルボキシ基又は水酸基を有する重合性官能基含有化合物（例えば、（メタ）アクリル酸、ヒドロキシ置換スチレン、ヒドロキシメチル置換スチレン、ビニル安息香酸等）を付加させ、エポキシ基又はオキセタン基を開環させて得る方法が挙げられる。 For non-charge-transporting diol monomers having two polymerizable functional groups in one molecule, polymerizable functional group-containing compounds having two polymerizable functional groups, typified by commercially available bifunctional epoxy (meth)acrylates can be used as is.
As a method for synthesizing a non-charge-transporting diol monomer having two polymerizable functional groups in one molecule, for example, a polymerizable A method of adding a functional group-containing compound (eg, (meth)acrylic acid, hydroxy-substituted styrene, hydroxymethyl-substituted styrene, vinyl benzoic acid, etc.) to open an epoxy group or an oxetane group.

前記電荷輸送性モノマー及び非電荷輸送性モノマーを用いた第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の合成は、例えば、電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとを当量用い、溶剤中において、公知の添加剤や触媒（例えば、酸触媒、縮合剤、縮合で副生する水、アルコール、酸などを捕捉する捕捉剤等）等を用いることで行う。
溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、モノクロロベンゼン等が挙げられる。これらは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 Synthesis of the second charge-transporting polyester resin using the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer is carried out, for example, by using the same amount of the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer in a solvent, adding It is carried out by using an agent or catalyst (for example, an acid catalyst, a condensing agent, a trapping agent for trapping water, alcohol, acid, etc., which are by-products of condensation, etc.).
Examples of solvents include toluene, xylene, tetrahydrofuran, monochlorobenzene and the like. These may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.

・第二の電荷輸送性ポリエステル樹脂の合成（重縮合）の例
上記電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重合方法については、第４版実験化学講座２８巻等に記載された公知の種々の方法を採用してもよい。例えば、以下の様な方法が挙げられる。 - Example of synthesis (polycondensation) of the second charge-transporting polyester resin The method of polymerizing the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer is described in Jikken Kagaku Koza, Vol. 28, 4th edition. Various methods may be employed. For example, the following methods are mentioned.

（１）触媒を用いた二価のアルコールと二価のカルボン酸の重合
触媒を用いた二価のアルコールと二価のカルボン酸の重合では、二価のアルコールと二価のカルボン酸とを、ほぼ当量混合し、酸触媒を用いて重合する。
酸触媒としては、硫酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等、通常のエステル化反応に用いるものが使用され、モノマー１質量部に対して、１／１００００～１／１０質量部、好ましくは１／１０００～１／５０質量部の範囲で用いられる。重合中に生成する水を除去するために、水と共沸可能な溶剤を用いることが好ましく、トルエン、クロロベンゼン等が有効であり、モノマー１質量部に対して、１～１００質量部、好ましくは２～５０質量部の範囲で用いられる。反応温度は任意に設定されるが、重合中に生成する水を除去するために、溶剤の沸点で反応させることが好ましい。反応終了後、溶剤を用いなかった場合には、可溶な溶剤に溶解させる。溶剤を用いた場合には、反応溶液をそのまま、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン等のポリマーが溶解しにくい貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性ポリエステル樹脂を析出させ、電荷輸送性ポリエステル樹脂を分離した後、水、有機溶剤等で十分洗浄し、乾燥させる。さらに、必要であれば適当な有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性ポリエステル樹脂を析出させる再沈殿処理を繰り返してもよい。再沈殿処理の際には、メカニカルスターラー等で効率よく撹拌しながら行うことが好ましい。再沈殿処理の際に電荷輸送性ポリエステル樹脂を溶解させる溶剤は、電荷輸送性ポリエステル樹脂１質量部に対して、１～１００質量部、好ましくは２～５０質量部の範囲で用いられる。また、貧溶剤は電荷輸送性樹脂１質量部に対して、１～１０００質量部、好ましくは１０～５００質量部の範囲で用いられる。 (1) Polymerization of dihydric alcohol and dicarboxylic acid using a catalyst In polymerization of a dihydric alcohol and a dihydric carboxylic acid using a catalyst, a dihydric alcohol and a dihydric carboxylic acid are Mix approximately equivalent amounts and polymerize using an acid catalyst.
As the acid catalyst, those used in ordinary esterification reactions such as sulfuric acid, toluenesulfonic acid and trifluoroacetic acid are used. It is used in the range of 1000 to 1/50 parts by mass. In order to remove water generated during polymerization, it is preferable to use a solvent that can be azeotroped with water. Toluene, chlorobenzene, etc. are effective. It is used in the range of 2 to 50 parts by mass. Although the reaction temperature can be set arbitrarily, it is preferable to carry out the reaction at the boiling point of the solvent in order to remove water produced during polymerization. After completion of the reaction, when no solvent is used, the material is dissolved in a soluble solvent. When a solvent is used, the reaction solution is dropped as it is into an alcohol such as methanol or ethanol, or a poor solvent such as acetone in which the polymer is difficult to dissolve, to precipitate the charge-transporting polyester resin. is separated, thoroughly washed with water, an organic solvent, etc., and dried. Further, if necessary, reprecipitation may be repeated by dissolving in a suitable organic solvent, adding dropwise to a poor solvent, and precipitating the charge-transporting polyester resin. The reprecipitation treatment is preferably carried out while efficiently stirring with a mechanical stirrer or the like. The solvent for dissolving the charge-transporting polyester resin in the reprecipitation treatment is used in an amount of 1 to 100 parts by mass, preferably 2 to 50 parts by mass, per 1 part by mass of the charge-transporting polyester resin. The poor solvent is used in an amount of 1 to 1,000 parts by mass, preferably 10 to 500 parts by mass, per 1 part by mass of the charge-transporting resin.

また、酸性度の高い二価のアルコール類をモノマーとして用いる場合には、界面重合法を用いてもよい。すなわち、二価アルコール類を水に加え、当量の塩基を加えて溶解させた後、激しく撹拌しながら２価アルコール類と当量の電荷輸送性モノマーの溶液を加えることによって重合する。この際、水は２価アルコール類１質量部に対して、１～１０００質量部、好ましくは２～５００質量部の範囲で用いられる。もう一方のモノマーを溶解させる溶剤としては、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、トルエン、クロロベンゼン、１－クロロナフタレン等が有効である。反応温度は任意に設定され、反応を促進するために、アンモニウム塩、スルホニウム塩等の相間移動触媒を用いることが効果的である。相間移動触媒は、モノマー１質量部に対して、０．１～１０質量部、好ましくは０．２～５質量部の範囲で用いられる。 Moreover, when using dihydric alcohols with high acidity as a monomer, an interfacial polymerization method may be used. Specifically, a dihydric alcohol is added to water, an equivalent amount of a base is added and dissolved, and then a solution of a charge-transporting monomer equivalent to the dihydric alcohol is added with vigorous stirring to polymerize. At this time, water is used in an amount of 1 to 1000 parts by weight, preferably 2 to 500 parts by weight, per 1 part by weight of the dihydric alcohol. As a solvent for dissolving the other monomer, methylene chloride, dichloroethane, trichloroethane, toluene, chlorobenzene, 1-chloronaphthalene, etc. are effective. The reaction temperature is arbitrarily set, and it is effective to use a phase transfer catalyst such as an ammonium salt or a sulfonium salt to promote the reaction. The phase transfer catalyst is used in an amount of 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.2 to 5 parts by weight, per 1 part by weight of the monomer.

（２）縮合剤を用いた二価のアルコールと二価のカルボン酸の重合
縮合剤を用いた二価のアルコールと二価のカルボン酸の重合では、二価のアルコールと二価のカルボン酸とを、ほぼ当量混合し、縮合剤を用いて重合する。縮合剤としては公知のものが使用され、具体的には、カルボジイミド系、イミダゾール系、トリアジン系、ホスホニウム系、ウロニウム系、ハロウロニウム系、光延反応試剤（アゾジカルボン酸ジエチルとトリフェニルホスフィン）等が挙げられる。
縮合剤の添加量は、二価のアルコールと二価のカルボン酸を当量使用する場合、二価のアルコールに対して１～５モル当量、好ましくは１．０５～３モル当量、最も好ましくは１．１～２モル当量である。
必要に応じ、塩基を添加してもよい。塩基としては有機塩基が好ましい。具体的には、ピリジン、トリエチルアミン、４－ジメチルアミノピリジン、イミダゾールなどが挙げられる。これらの使用量は縮合剤に対して０．０５～２モル当量、好ましくは０．１～１．５モル当量、最も好ましくは０．１５～１．３モル当量である。 (2) Polymerization of dihydric alcohol and dicarboxylic acid using a condensing agent In the polymerization of dihydric alcohol and dicarboxylic acid using a condensing agent, are mixed in approximately equivalent amounts and polymerized using a condensing agent. A known condensing agent is used, and specific examples include carbodiimide-based, imidazole-based, triazine-based, phosphonium-based, uronium-based, haluronium-based, Mitsunobu reaction reagents (diethyl azodicarboxylate and triphenylphosphine), and the like. be done.
The amount of the condensing agent to be added is 1 to 5 molar equivalents, preferably 1.05 to 3 molar equivalents, most preferably 1 to the dihydric alcohol when equivalents of the dihydric alcohol and the divalent carboxylic acid are used. .1 to 2 molar equivalents.
A base may be added, if desired. Organic bases are preferred as the base. Specific examples include pyridine, triethylamine, 4-dimethylaminopyridine and imidazole. These are used in an amount of 0.05 to 2 molar equivalents, preferably 0.1 to 1.5 molar equivalents, most preferably 0.15 to 1.3 molar equivalents, relative to the condensing agent.

（３）二価のアルコールと二価のカルボン酸エステルの重合
二価のアルコールと二価のカルボン酸エステルの重合では、二価のアルコールを二価のカルボン酸エステルに加え、硫酸、リン酸等の無機酸、チタンアルコキシド、カルシウムおよびコバルト等の酢酸塩または炭酸塩、亜鉛または鉛の酸化物を触媒に用いて加熱し、エステル交換により合成する。
特に二価のカルボン酸エステルとして、沸点の高い電荷輸送性モノマーを用いる場合は、比較的沸点の低い二価のアルコールを、カルボン酸エステルに対し過剰に用いることが好ましい。二価のアルコールは、電荷輸送性モノマー１当量に対して、２～１００当量、好ましくは３～５０当量の範囲で用いられる。触媒は電荷輸送性モノマー１質量部に対して、１／１０００～１質量部、好ましくは１／１０００～１／２質量部の範囲で用いられる。反応温度２００～３００℃で行い、エステル交換終了後は、二価のアルコールの脱離による重合を促進するため、減圧下で反応させることが好ましい。また、二価のアルコールと共沸する１－クロロナフタレン等の高沸点溶剤を用いて、常圧下で二価のアルコールを共沸で除きながら反応させてもよい。 (3) Polymerization of a dihydric alcohol and a divalent carboxylic acid ester In the polymerization of a dihydric alcohol and a divalent carboxylic acid ester, the dihydric alcohol is added to the divalent carboxylic acid ester, followed by sulfuric acid, phosphoric acid, etc. inorganic acids, titanium alkoxides, acetates or carbonates such as calcium and cobalt, oxides of zinc or lead are used as catalysts and heated to synthesize by transesterification.
In particular, when a charge-transporting monomer having a high boiling point is used as the divalent carboxylic acid ester, it is preferable to use an excess amount of dihydric alcohol having a relatively low boiling point relative to the carboxylic acid ester. The dihydric alcohol is used in an amount of 2 to 100 equivalents, preferably 3 to 50 equivalents, per equivalent of the charge-transporting monomer. The catalyst is used in an amount of 1/1000 to 1 part by mass, preferably 1/1000 to 1/2 part by mass, per 1 part by mass of the charge-transporting monomer. The reaction is preferably carried out at a temperature of 200 to 300° C., and after the transesterification is completed, the reaction is preferably carried out under reduced pressure in order to promote polymerization by elimination of the dihydric alcohol. Alternatively, a high boiling point solvent such as 1-chloronaphthalene which is azeotropic with the dihydric alcohol may be used to perform the reaction under normal pressure while removing the dihydric alcohol azeotropically.

（４）二価のアルコール誘導体と二価のカルボン酸の重合
二価のアルコール誘導体と二価のカルボン酸の重合では、二価のアルコール誘導体として、二価のハロゲン化合物が好ましく用いられる。この場合には、二価のハロゲン化合物と二価のカルボン酸をほぼ当量になるように混合し、塩基性触媒を用いて重合すればよい。塩基性触媒としては、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、ピリジン、ピペリジン等の一般の有機塩基、Ｋ２ＣＯ３、Ｎａ２ＣＯ３等の無機塩基が使用され、モノマー１ｍｏｌに対して１～１００ｍｏｌ、好ましくは１～１０ｍｏｌの範囲で用いられる。反応に使用する溶剤は特に制限はないが、塩基として無機塩基を用いる場合はＮ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶剤が特に好ましい。反応温度は特に制限はなく自由に設定されるが、０度～反応溶剤の沸点に設定することが望ましい。 (4) Polymerization of Divalent Alcohol Derivative and Divalent Carboxylic Acid In the polymerization of the divalent alcohol derivative and divalent carboxylic acid, a divalent halogen compound is preferably used as the divalent alcohol derivative. In this case, a divalent halogen compound and a divalent carboxylic acid may be mixed in approximately equal amounts and polymerized using a basic catalyst. Basic catalysts include general organic bases such as triethylamine, diethylamine, diazabicycloundecene, 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane, pyridine and piperidine, K 2 CO 3 , Na 2 CO 3 and the like. of the inorganic base is used in the range of 1 to 100 mol, preferably 1 to 10 mol, per 1 mol of the monomer. The solvent used for the reaction is not particularly limited, but when an inorganic base is used as the base, aprotic polar solvents such as N,N-dimethylformamide and dimethylsulfoxide are particularly preferred. Although the reaction temperature is not particularly limited and can be set freely, it is desirable to set it between 0° C. and the boiling point of the reaction solvent.

触媒の添加量としては、例えば、モノマー総質量（すなわち、電荷輸送性モノマーの質量と非電荷輸送性モノマーの質量との合計）１質量部に対して、１／１００００質量部以上１／１０質量部以下が挙げられ、好ましくは１／１０００質量部以上１／５０質量部以下である。
溶剤の添加量としては、例えば、生成する第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の１質量部に対して、１質量部以上１００質量部以下が挙げられ、好ましくは２質量部以上５０質量部以下である。
反応温度（すなわち、電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重合温度）は特に限定されるものではなく、例えば３０℃以上１００℃以下の範囲が挙げられる。 The amount of the catalyst to be added is, for example, 1/10000 parts by mass or more and 1/10 parts by mass with respect to 1 part by mass of the total mass of the monomer (that is, the sum of the mass of the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer). parts or less, preferably 1/1000 parts by mass or more and 1/50 parts by mass or less.
The amount of the solvent to be added is, for example, 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or more and 50 parts by mass or less, relative to 1 part by mass of the second charge-transporting polyester resin to be produced. be.
The reaction temperature (that is, the temperature for polymerizing the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer) is not particularly limited, and is, for example, in the range of 30°C or higher and 100°C or lower.

電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重合反応が終了した後は、例えば、得られた電荷輸送性樹脂が溶解しにくい貧溶剤（例えば、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトンなど）に反応溶液を滴下することで、電荷輸送性樹脂を析出させ、分離した後、水、有機溶剤等により洗浄し、乾燥させる。
さらに、必要に応じて有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、電荷輸送性樹脂を析出させる再沈殿処理を繰り返してもよい。再沈殿処理は、メカニカルスターラー等により撹拌しながら行うことが好ましい。再沈殿処理の際に電荷輸送性樹脂を溶解させる溶剤の添加量としては、例えば、電荷輸送性化合物３質量部に対して、１質量部以上１００質量部以下の範囲が挙げられ、好ましくは２質量部以上５０質量部以下である。また、貧溶剤の量としては、例えば、電荷輸送性樹脂１質量部に対して、１質量部以上１０００質量部以下が挙げられ、好ましくは１０質量部以上５００質量部以下の範囲である。
また、電荷輸送性モノマーと非電荷輸送性モノマーとの重合反応が終了した後、例えば、反応液を水にあけ、トルエン、ヘキサン、酢酸エチル等の溶剤で抽出、水洗し、さらに必要に応じて活性炭、シリカゲル、多孔質アルミナ、活性白土等の吸着剤を用いて精製を行ってもよい。 After the polymerization reaction between the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer is completed, the resulting charge-transporting monomer is treated with a poor solvent (e.g., alcohols such as methanol and ethanol, acetone, etc.) in which the resulting charge-transporting resin is difficult to dissolve. By dropping the reaction solution, the charge-transporting resin is deposited, separated, washed with water, an organic solvent, or the like, and dried.
Further, if necessary, reprecipitation may be repeated by dissolving in an organic solvent and adding dropwise to a poor solvent to precipitate the charge-transporting resin. The reprecipitation treatment is preferably performed while stirring with a mechanical stirrer or the like. The amount of the solvent for dissolving the charge-transporting resin in the reprecipitation process is, for example, 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass, with respect to 3 parts by mass of the charge-transporting compound. It is at least 50 parts by mass and no more than 50 parts by mass. The amount of the poor solvent is, for example, 1 part by mass or more and 1000 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or more and 500 parts by mass or less, relative to 1 part by mass of the charge-transporting resin.
After completion of the polymerization reaction between the charge-transporting monomer and the non-charge-transporting monomer, for example, the reaction solution is poured into water, extracted with a solvent such as toluene, hexane, or ethyl acetate, washed with water, and if necessary, Purification may be performed using adsorbents such as activated carbon, silica gel, porous alumina, and activated clay.

＜電荷輸送性膜＞
次に、電荷輸送性膜について説明する。
電荷輸送性膜は、第１の電荷輸送性樹脂、第１の電荷輸送性樹脂の架橋体、第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂、及び第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも１種（すなわち、特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも１種）を含有する。
電荷輸送性膜は、例えば、特定樹脂が溶剤に溶解した特定樹脂溶解液を用いて膜とすることで形成される。 <Charge-transporting film>
Next, the charge-transporting film will be explained.
The charge-transporting film is at least selected from a first charge-transporting resin, a crosslinked first charge-transporting resin, a second charge-transporting polyester resin, and a crosslinked second charge-transporting polyester resin. It contains one type (that is, at least one type selected from a specific resin and a specific resin crosslinked body).
The charge-transporting film is formed, for example, by forming a film using a specific resin solution in which a specific resin is dissolved in a solvent.

－特定樹脂溶解液－
特定樹脂溶解液に用いる溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル等のセロソルブ系溶剤、イソプロピルアルコール、ブタノール等のアルコール系溶剤等の溶剤が挙げられ、これらを単独で用いてもよく、混合溶剤として用いてもよい。 -Specific resin solution-
Examples of the solvent used for the specific resin solution include aromatic solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, tetrahydrofuran, dioxane, and the like. , cellosolve solvents such as ethylene glycol monomethyl ether, and alcohol solvents such as isopropyl alcohol and butanol, and these may be used alone or as a mixed solvent.

なお、これらの溶剤に特定樹脂を溶解する溶解方法としては、例えば、１０℃から１５０℃、好ましくは１５℃から１２０℃の温度で溶剤と攪拌混合（例えば超音波照射しながら攪拌混合）するなど通常の方法が挙げられる。 As a dissolution method for dissolving the specific resin in these solvents, for example, stirring and mixing with the solvent at a temperature of 10°C to 150°C, preferably 15°C to 120°C (for example, stirring and mixing while irradiating ultrasonic waves). Usual methods can be mentioned.

－特定樹脂の架橋－
電荷輸送性膜の中でも特に、特定樹脂架橋体を含有する電荷輸送性膜を得る方法としては、例えば、重合性官能基を有する特定樹脂を含有する特定樹脂溶解液を用い、これに熱、光、放射線等を付与することで特定樹脂をさらに架橋させる方法が挙げられる。上記架橋により、強度、耐溶剤性が向上した電荷輸送性膜が得られる。
なお、熱及び光の少なくとも一方により架橋を行う場合、重合開始剤は必ずしも必要ではないが、光硬化触媒及び熱重合開始剤の少なくとも一方を用いてもよい。この光硬化触媒及び熱重合開始剤としては、公知の光硬化触媒や熱重合開始剤が用いられる。放射線としては電子線が好ましい。 -Crosslinking of specific resin-
Among charge-transporting films, in particular, as a method for obtaining a charge-transporting film containing a specific resin crosslinked product, for example, a specific resin solution containing a specific resin having a polymerizable functional group is used, and heat and light are applied to the solution. , a method of further crosslinking the specific resin by applying radiation or the like. A charge-transporting film having improved strength and solvent resistance can be obtained by the above crosslinking.
When cross-linking is performed by at least one of heat and light, a polymerization initiator is not necessarily required, but at least one of a photocuring catalyst and a thermal polymerization initiator may be used. As the photo-curing catalyst and thermal polymerization initiator, known photo-curing catalysts and thermal polymerization initiators are used. Electron beams are preferred as the radiation.

（電子線架橋）
特定樹脂の架橋に電子線を用いる場合、加速電圧は３００ＫＶ以下が好ましく、最適には１５０ＫＶ以下である。また、線量は好ましくは１Ｍｒａｄ以上１００Ｍｒａｄ以下の範囲、より好ましくは３Ｍｒａｄ以上５０Ｍｒａｄ以下の範囲である。加速電圧が３００ＫＶ以下であることにより感光体特性に対する電子線照射のダメージが抑制される。また、線量が１Ｍｒａｄ以上であることにより架橋が十分に行なわれ、１００Ｍｒａｄ以下であることにより感光体の劣化が抑制される。 (Electron beam cross-linking)
When electron beams are used for cross-linking the specific resin, the acceleration voltage is preferably 300 KV or less, and most preferably 150 KV or less. The dose is preferably in the range of 1 Mrad to 100 Mrad, more preferably in the range of 3 Mrad to 50 Mrad. When the acceleration voltage is 300 KV or less, the damage of electron beam irradiation to the photoreceptor characteristics is suppressed. Further, when the dose is 1 Mrad or more, crosslinking is sufficiently performed, and when the dose is 100 Mrad or less, deterioration of the photoreceptor is suppressed.

照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が１０００ｐｐｍ、好ましくは５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、又は照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。 Irradiation is performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon with an oxygen concentration of 1000 ppm, preferably 500 ppm or less.

（光架橋）
光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は自由に選択されるが、例えば照度（３６５ｎｍ）は３００ｍＷ／ｃｍ２以上、１０００ｍＷ／ｃｍ２以下が好ましく、例えば６００ｍＷ／ｃｍ２のＵＶ光を照射する場合、５秒以上３６０秒以下照射すればよい。 (Photocrosslinking)
As a light source, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is used, and a suitable wavelength may be selected using a filter such as a bandpass filter. The irradiation time and light intensity can be freely selected, but for example , the illuminance (365 nm) is preferably 300 mW/cm 2 or more and 1000 mW/cm 2 or less. It is sufficient to irradiate for seconds or less.

照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは１０００ｐｐｍ以下、より好ましくは５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、又は照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。 Irradiation is performed in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon at an oxygen concentration of preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and may be heated to 50° C. or higher and 150° C. or lower during or after irradiation.

光硬化触媒として、分子内開裂型としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。
より具体的には、ベンジルケタール系として、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オンが挙げられる。 Intramolecular cleavage type photocuring catalysts include benzyl ketal, alkylphenone, aminoalkylphenone, phosphine oxide, titanocene, and oxime catalysts.
More specifically, benzyl ketals include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one.

また、アルキルフェノン系としては、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）－フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン、アセトフェノン、２－フェニル－２－（ｐ－トルエンスルフォニルオキシ）アセトフェノンが挙げられる。 As alkylphenones, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1-[4-(2-hydroxyethoxy)-phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 2-hydroxy-1-{4-[4-(2-hydroxy-2-methyl-propionyl)-benzyl]phenyl}-2-methyl- Propane-1-one, acetophenone, 2-phenyl-2-(p-toluenesulfonyloxy)acetophenone.

アミノアルキルフェノン系としては、ｐ－ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ－ジメチルアミノプロピオフェノン、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１，２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モリホニル）フェニル］－１－ブタノンなどが挙げられる。 Aminoalkylphenones include p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, 2-methyl-1-(4-methylthiophenyl)-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2- Dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1,2-(dimethylamino)-2-[(4-methylphenyl)methyl]-1-[4-(4-morpholinophenyl)phenyl]-1 - butanone and the like.

ホスフィノキサイド系としては、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。 Phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide, and the like.

チタノセン系としては、ビス（η５－２，４－シクロペンタジエン－１－イル）－ビス（２，６－ジフルオロ－３－（１Ｈ－ピロール－１－イル）－フェニル）チタニウムなどが挙げられる。 The titanocenes include bis(η5-2,4-cyclopentadien-1-yl)-bis(2,6-difluoro-3-(1H-pyrrol-1-yl)-phenyl)titanium.

オキシム系としては、１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）などが挙げられる。 Oximes include 1,2-octanedione, 1-[4-(phenylthio)-, 2-(O-benzoyloxime)], ethanone, 1-[9-ethyl-6-(2-methylbenzoyl)- 9H-carbazol-3-yl]-, 1-(O-acetyloxime) and the like.

水素引抜型としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系として、２－ベンゾイル安息香酸、２－クロロベンゾフェノン、４，４’－ジクロロベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルスルフィド、ｐ，ｐ’－ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。 Examples of the hydrogen abstraction type include benzophenone-based, thioxanthone-based, benzyl-based, Michler's ketone-based, and the like.
More specifically, benzophenones include 2-benzoylbenzoic acid, 2-chlorobenzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenylsulfide, p,p′-bisdiethylaminobenzophenone, and the like. mentioned.

チオキサントン系としては、２，４－ジエチルチオキサンテン－９－オン、２－クロロチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。 Thioxanthones include 2,4-diethylthioxanthen-9-one, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and the like.

ベンジル系としては、ベンジル、（±）－カンファーキノン、ｐ－アニシルなどが挙げられる。 Benzyl-based groups include benzyl, (±)-camphorquinone, p-anisyl, and the like.

これらの光重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用られる。 These photopolymerization initiators are used alone or in combination of two or more.

（熱架橋）
熱重合開始剤としては、Ｖ－３０、Ｖ－４０、Ｖ－５９、Ｖ６０１、Ｖ６５、Ｖ－７０、ＶＦ－０９６、ＶＥ－０７３、Ｖａｍ－１１０、Ｖａｍ－１１１（富士フイルム和光純薬（株）製）、ＯＴａｚｏ－１５、ＯＴａｚｏ－３０、ＡＩＢＮ、ＡＭＢＮ、ＡＤＶＮ、ＡＣＶＡ（大塚化学）等のアゾ系開始剤；パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ、パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイルＩＢ、パーロイル３５５、パーロイルＬ、パーロイルＳＡ、ナイパーＢＷ、ナイパーＢＭＴ－Ｋ４０／Ｍ、パーロイルＩＰＰ、パーロイルＮＰＰ、パーロイルＴＣＰ、パーロイルＯＰＰ、パーロイルＳＢＰ、パークミルＮＤ、パーオクタＮＤ、パーヘキシルＮＤ、パーブチルＮＤ、パーブチルＮＨＰ、パーヘキシルＰＶ、パーブチルＰＶ、パーヘキサ２５０、パーオクタＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＯ、パーブチルＬ、パーブチル３５５、パーヘキシルＩ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーヘキシルＺ、パーブチルＺＴ、パーブチルＺ（日油化学社製）、カヤケタールＡＭ－Ｃ５５、トリゴノックス３６－Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックスＬ－Ｗ７５、パーカドックスＣＨ－５０Ｌ、トリゴノックスＴＭＢＨ、カヤクメンＨ、カヤブチルＨ－７０、ペルカドックスＢＣ－ＦＦ、カヤヘキサＡＤ、パーカドックス１４、カヤブチルＣ、カヤブチルＤ、カヤヘキサＹＤ－Ｅ８５、パーカドックス１２－ＸＬ２５、パーカドックス１２－ＥＢ２０、トリゴノックス２２－Ｎ７０、トリゴノックス２２－７０Ｅ、トリゴノックスＤ－Ｔ５０、トリゴノックス４２３－Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ－Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ－Ｗ５０、トリゴノックス２３－Ｃ７０、トリゴノックス２３－Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス２５７－Ｃ７０、カヤエステルＰ－７０、カヤエステルＴＭＰＯ－７０、トリゴノックス１２１、カヤエステルＯ、カヤエステルＨＴＰ－６５Ｗ、カヤエステルＡＮ、トリゴノックス４２、トリゴノックスＦ－Ｃ５０、カヤブチルＢ、カヤカルボンＥＨ－Ｃ７０、カヤカルボンＥＨ－Ｗ６０、カヤカルボンＩ－２０、カヤカルボンＢＩＣ－７５、トリゴノックス１１７、カヤレン６－７０（化薬アクゾ社製）、ルペロックス６１０、ルペロックス１８８、ルペロックス８４４、ルペロックス２５９、ルペロックス１０、ルペロックス７０１、ルペロックス１１、ルペロックス２６、ルペロックス８０、ルペロックス７、ルペロックス２７０、ルペロックスＰ、ルペロックス５４６、ルペロックス５５４、ルペロックス５７５、ルペロックスＴＡＮＰＯ、ルペロックス５５５、ルペロックス５７０、ルペロックスＴＡＰ、ルペロックスＴＢＩＣ、ルペロックスＴＢＥＣ、ルペロックスＪＷ、ルペロックスＴＡＩＣ、ルペロックスＴＡＥＣ、ルペロックスＤＣ、ルペロックス１０１、ルペロックスＦ、ルペロックスＤＩ、ルペロックス１３０、ルペロックス２２０、ルペロックス２３０、ルペロックス２３３、ルペロックス５３１（アルケマ吉富社製）などが挙げられる。 (thermal cross-linking)
Thermal polymerization initiators include V-30, V-40, V-59, V601, V65, V-70, VF-096, VE-073, Vam-110, Vam-111 (Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd. ), OTazo-15, OTazo-30, AIBN, AMBN, ADVN, ACVA (Otsuka Chemical) and other azo initiators; Pertetra A, Perhexa HC, Perhexa C, Perhexa V, Perhexa 22, Perhexa MC, Perbutyl H , Permoyl H, Permoyl P, Permenta H, Perocta H, Perbutyl C, Perbutyl D, Perhexyl D, Perroyl IB, Perroyl 355, Perroyl L, Perroyl SA, Nyper BW, Nyper BMT-K40/M, Perroyl IPP, Perroyl NPP, Perroyl TCP, Perroyl OPP, Perroyl SBP, Permil ND, Perocta ND, Perhexyl ND, Perbutyl ND, Perbutyl NHP, Perhexyl PV, Perbutyl PV, Perhexa 250, Perocta O, Perhexyl O, Perbutyl O, Perbutyl L, Perbutyl 355, Perhexyl I , Perbutyl I, Perbutyl E, Perhexa 25Z, Perbutyl A, Perhexyl Z, Perbutyl ZT, Perbutyl Z (manufactured by NOF Chemical Co., Ltd.), Kayaketal AM-C55, Trigonox 36-C75, Laurox, Percadox L-W75, Percadox CH -50L, Trigonox TMBH, Kayacumene H, Kayabutyl H-70, Percadox BC-FF, Kayahexa AD, Percadox 14, Kayabutyl C, Kayabutyl D, Kayahexa YD-E85, Percadox 12-XL25, Percadox 12-EB20, Trigonox 22-N70, Trigonox 22-70E, Trigonox D-T50, Trigonox 423-C70, Kayaester CND-C70, Kayaester CND-W50, Trigonox 23-C70, Trigonox 23-W50N, Trigonox 257-C70, Kayaester P- 70, Kayaester TMPO-70, Trigonox 121, Kayaester O, Kayaester HTP-65W, Kayaester AN, Trigonox 42, Trigonox F-C50, Kayabutyl B, Kayakone EH-C70, Kayakone EH-W60, Kayakone I-20 , Kayacarvone BIC-75, Trigonox 117, Kayalen 6-70 (manufactured by Kayaku Akzo Co., Ltd.), Luperox 610, Luperox 188, Luperox 844, Luperox 259, Luperox 10, Luperox 701, Luperox 11, Luperox 26, Luperox 80, Luperox 7 , Luperox 270, Luperox P, Luperox 546, Luperox 554, Luperox 575, Luperox TANPO, Luperox 555, Luperox 570, Luperox TAP, Luperox TBIC, Luperox TBEC, Luperox JW, Luperox TAIC, Luperox TAEC, Luperox DC, Luperox 101, Luperox F, Luperox DI, Luperox 130, Luperox 220, Luperox 230, Luperox 233, Luperox 531 (manufactured by Arkema Yoshitomi) and the like.

これらのうち、分子量２５０以上のアゾ系重合開始剤を用いると、低い温度でムラなく反応が進行することから、ムラが抑制された高強度の膜が形成される。より好適には、アゾ系重合開始剤の分子量は、２５０以上であり、３００以上が更に好適である。 Among these, when an azo polymerization initiator having a molecular weight of 250 or more is used, the reaction proceeds evenly at a low temperature, so that a high-strength film with suppressed unevenness is formed. More preferably, the molecular weight of the azo polymerization initiator is 250 or more, more preferably 300 or more.

加熱は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が好ましくは１０００ｐｐｍ以下、より好ましくは５００ｐｐｍ以下で行い、好ましくは５０℃以上１７０℃以下、より好ましくは７０℃以上１５０℃以下で、好ましくは１０分以上１２０分以下、より好ましくは１５分以上１００分以下加熱する。 Heating is carried out in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon at an oxygen concentration of preferably 1000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, preferably 50 ° C. or higher and 170 ° C. or lower, more preferably 70 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, It is preferably heated for 10 minutes or more and 120 minutes or less, more preferably 15 minutes or more and 100 minutes or less.

光硬化触媒又は熱重合開始剤の総含有量は、層形成のための溶解液中の全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下が好ましく、更には０．１質量％以上８質量％以下がより好ましく、０．１質量％以上５質量％以下の範囲が特に好ましい。 The total content of the photocuring catalyst or thermal polymerization initiator is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or more, relative to the total solid content in the solution for layer formation. 8 mass % or less is more preferable, and the range of 0.1 mass % or more and 5 mass % or less is particularly preferable.

－他の成分－
電荷輸送性膜は、特定樹脂を、特定樹脂以外のバインダー樹脂に相溶させた膜であってもよく、二重結合を有するモノマー、オリゴマー、又はポリマー（以下「反応性化合物」ともいう）と混合し硬化させた硬化膜であってもよい。
また、電荷輸送性膜は、発光材料、色素化合物、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料及び電子注入材料から選択される少なくとも１種を含有していてもよい。これら材料の具体例については後述する。 -Other ingredients-
The charge-transporting film may be a film in which a specific resin is dissolved in a binder resin other than the specific resin, and a monomer, oligomer, or polymer having a double bond (hereinafter also referred to as a “reactive compound”) may be used. It may be a cured film obtained by mixing and curing.
Also, the charge-transporting film may contain at least one selected from a light-emitting material, a dye compound, a hole-transporting material, a hole-injecting material, an electron-transporting material, and an electron-injecting material. Specific examples of these materials will be described later.

（バインダー樹脂）
バインダー樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂等、公知の非反応性のバインダー樹脂が挙げられる。 (binder resin)
Examples of binder resins include known non-reactive binder resins such as polyester resins, polyarylate resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, and polystyrene resins.

バインダー樹脂の総含有量は、電荷輸送性膜を形成する際に用いられる組成物の全固形分に対して、０質量％以上６０質量％以下が望ましく、より望ましくは０質量％以上５５質量％以下、更に望ましくは０質量％以上５０質量％以下である。 The total content of the binder resin is preferably 0% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 0% by mass or more and 55% by mass, based on the total solid content of the composition used for forming the charge-transporting film. Below, it is more desirably 0% by mass or more and 50% by mass or less.

（反応性化合物）
反応性化合物としては、例えば、１官能の化合物（すなわち、分子内に二重結合を１つ有する化合物）、及び２官能以上の化合物（すなわち、同一分子内に２つ以上の二重結合を含む化合物）が挙げられ、これらの中でも、電荷輸送性膜の強度向上の観点から２官能以上の化合物が好ましい。なお、反応性化合物は、分子内に電荷輸送性の構造を有するものであってもよい。 (reactive compound)
Examples of reactive compounds include monofunctional compounds (i.e., compounds having one double bond in the molecule), and bifunctional or higher compounds (i.e., two or more double bonds in the same molecule). compounds), and among these, bifunctional or higher functional compounds are preferred from the viewpoint of improving the strength of the charge-transporting film. The reactive compound may have a charge-transporting structure in its molecule.

反応性化合物として、１官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２－メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ－フェニルフェノールアクリレート、ｏ－フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレンなどが挙げられる。 Examples of reactive compounds include monofunctional monomers such as isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, isobornyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate. , 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, benzyl acrylate, ethylcarbitol acrylate, phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxy acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, methoxypolyethylene glycol acrylate, methoxypolyethylene glycol methacrylate , phenoxypolyethylene glycol acrylate, phenoxypolyethylene glycol methacrylate, hydroxyethyl o-phenylphenol acrylate, o-phenylphenol glycidyl ether acrylate, styrene, and the like.

反応性化合物として、２官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート等が挙げられる。 As a reactive compound, bifunctional monomers such as diethylene glycol di(meth)acrylate, polyethylene glycol di(meth)acrylate, polypropylene glycol di(meth)acrylate, neopentyl glycol di(meth)acrylate, 1,6-hexane diol di(meth)acrylate, divinylbenzene, diallyl phthalate, and the like.

反応性化合物として、３官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。 Examples of reactive compounds include trifunctional monomers such as trimethylolpropane tri(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, aliphatic tri(meth)acrylate, and trivinylcyclohexane.

反応性化合物として、４官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of reactive compounds include tetrafunctional monomers such as pentaerythritol tetra(meth)acrylate, ditrimethylolpropane tetra(meth)acrylate, and aliphatic tetra(meth)acrylate.

反応性化合物として、５官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。 As reactive compounds, pentafunctional or higher monomers include, for example, dipentaerythritol penta(meth)acrylate, dipentaerythritol hexa(meth)acrylate and the like, as well as (meth)acrylates having a polyester skeleton, urethane skeleton, and phosphazene skeleton. is mentioned.

また、反応性化合物として、反応性のポリマーは、例えば、特開平５－２１６２４９号公報、特開平５－３２３６３０号公報、特開平１１―５２６０３号公報、特開２０００－２６４９６１号公報、特開２００５－２２９１号公報などに開示されたものが挙げられる。 Further, as a reactive compound, a reactive polymer, for example, JP-A-5-216249, JP-A-5-323630, JP-A-11-52603, JP-A-2000-264961, JP-A-2005 -2291 and the like.

反応性化合物を用いる場合には、単独又は２種以上の混合物として使用される。反応性化合物は、膜を形成する際に用いられる組成物の全固形分の全固形分に対して、好ましくは６０質量％以下、より好ましくは５５質量％以下で用い、更に好ましくは５０質量％以下で使用される。 When a reactive compound is used, it is used singly or as a mixture of two or more. The reactive compound is preferably used in an amount of 60% by mass or less, more preferably 55% by mass or less, more preferably 50% by mass, based on the total solid content of the composition used for forming the film. Used below.

＜有機電子デバイスの種類＞
有機電子デバイスとしては、例えば、支持体上に、上記電荷輸送性膜を設けたものが挙げられ、具体的には、例えば、電子写真感光体、有機電界発光素子、太陽電池、トランジスター等が挙げられる。
なお、有機電子デバイスが感光層を有する電子写真感光体である場合、最表面層が前記電荷輸送性膜であってもよく、感光層が前記電荷輸送性膜であってもよい。感光層が前記電荷輸送性膜である場合、感光層である電荷輸送性膜が、電荷輸送材料として特定樹脂及び特定樹脂架橋体から選ばれる少なくとも１種と、電荷発生材料と、を含有してもよい。
電荷輸送性膜に含有される電荷発生材料としては、例えばフタロシアニン化合物が挙げられ、さらに具体的には、例えば、特開平５ー９８１８１号公報に開示されているハロゲン化ガリウムフタロシアニン結晶、特開平５ー１４０４７２号公報及び特開平５ー１４０４７３号公報に開示されているハロゲン化スズフタロシアニン結晶、特開平５ー２６３００７号公報及び特開平５ー２７９５９１号公報に開示されているヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、特開平４－１８９８７３号公報及び特開平５ー４３８１３号公報に開示されているオキシチタニウムフタロシアニン水和物結晶等が挙げられる。これらのフタロシアニン化合物を用いることにより、高感度で、繰り返し安定性の優れる電子写真感光体が得られる。
以下、有機電子デバイスの一例として、電子写真感光体及び有機電界発光素子について説明する。 <Types of organic electronic devices>
Organic electronic devices include, for example, those provided with the charge-transporting film on a support, and specific examples thereof include electrophotographic photoreceptors, organic electroluminescent devices, solar cells, transistors, and the like. be done.
When the organic electronic device is an electrophotographic photoreceptor having a photosensitive layer, the outermost layer may be the charge-transporting film, and the photosensitive layer may be the charge-transporting film. When the photosensitive layer is the charge-transporting film, the charge-transporting film, which is the photosensitive layer, contains at least one selected from a specific resin and a specific resin crosslinked product as a charge-transporting material, and a charge-generating material. good too.
Examples of the charge-generating material contained in the charge-transporting film include phthalocyanine compounds. Halogenated tin phthalocyanine crystals disclosed in JP-A-140472 and JP-A-5-140473; hydroxygallium phthalocyanine crystals disclosed in JP-A-5-263007 and JP-A-5-279591; and oxytitanium phthalocyanine hydrate crystals disclosed in JP-A-4-189873 and JP-A-5-43813. By using these phthalocyanine compounds, an electrophotographic photoreceptor having high sensitivity and excellent stability over repeated use can be obtained.
An electrophotographic photoreceptor and an organic electroluminescent element will be described below as examples of organic electronic devices.

－電子写真感光体－
電子写真感光体としては、例えば、導電性基体上に前述の電荷輸送性膜を設けたものが挙げられる。その中でも、導電性基体上に設けられた層のうち最表面層が前述の電荷輸送性膜であるものが好ましい。
なお、最表面層は、電子写真感光体自体の最上面を形成していればよく、保護層として機能する層であってもよく、電荷輸送層として機能する層であってもよい。
最表面層が保護層として機能する層である場合、例えば、この保護層の下層に、電荷輸送層及び電荷発生層からなる感光層、又は単層型感光層を有する。つまり、最表面層が保護層として機能する層である場合、例えば、導電性基体上に、感光層、及び最表面層としての保護層を有し、該保護層が前記電荷輸送性膜である形態が挙げられる。
一方、最表面層が電荷輸送層として機能する層である場合、例えば、導電性基体上に、電荷発生層、及び最表面層としての電荷輸送層を有し、該電荷輸送層が前記電荷輸送性膜である形態が挙げられる。なお、電荷輸送層は、チオール基又は不飽和結合などの反応性基を有さない電荷輸送材料をさらに含有してもよい。 - Electrophotographic photoreceptor -
The electrophotographic photoreceptor includes, for example, a conductive substrate provided with the above-described charge-transporting film. Among the layers provided on the conductive substrate, the outermost layer is preferably the aforementioned charge-transporting film.
The outermost layer may be a layer that forms the top surface of the electrophotographic photosensitive member itself, and may be a layer that functions as a protective layer or a layer that functions as a charge transport layer.
When the outermost layer is a layer that functions as a protective layer, for example, a photosensitive layer comprising a charge-transporting layer and a charge-generating layer or a single-layer type photosensitive layer is provided below the protective layer. That is, when the outermost layer is a layer that functions as a protective layer, for example, a photosensitive layer and a protective layer as the outermost layer are provided on a conductive substrate, and the protective layer is the charge-transporting film. morphology.
On the other hand, when the outermost layer is a layer that functions as a charge transport layer, for example, a charge generation layer and a charge transport layer as the outermost layer are provided on a conductive substrate, and the charge transport layer serves as the charge transport layer. A form that is a sex membrane can be mentioned. The charge-transporting layer may further contain a charge-transporting material that does not have a reactive group such as a thiol group or an unsaturated bond.

以下、電子写真感光体の例として、最表面層が保護層として機能する層である電子写真感光体について、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。 Hereinafter, as an example of an electrophotographic photoreceptor, an electrophotographic photoreceptor whose outermost layer functions as a protective layer will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant explanations are omitted.

図１は、電子写真用感光体の好適な一例を示す模式断面図である。図２及び図３はそれぞれ電子写真感光体の好適な他の一例を示す模式断面図である。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a preferred example of an electrophotographic photoreceptor. 2 and 3 are schematic cross-sectional views showing another preferred example of the electrophotographic photoreceptor.

図１に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２、電荷輸送層３、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ａにおいては、電荷発生層２及び電荷輸送層３により感光層が構成される。 The electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1 is a so-called function-separated photoreceptor (or laminated photoreceptor). It has a structure in which a transport layer 3 and a protective layer 5 are sequentially formed. In the electrophotographic photoreceptor 7A, the charge generation layer 2 and the charge transport layer 3 constitute a photosensitive layer.

図２に示す電子写真感光体７Ｂは、図１に示す電子写真感光体７Ａのごとく、電荷発生層２と電荷輸送層３とに機能が分離された機能分離型感光体である。
図２に示す電子写真感光体７Ｂにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に、電荷輸送層３、電荷発生層２、及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ｂにおいては、電荷輸送層３及び電荷発生層２により感光層が構成される。 The electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2 is a function-separated photoreceptor in which the functions are separated into the charge generation layer 2 and the charge transport layer 3 like the electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG.
The electrophotographic photoreceptor 7B shown in FIG. 2 has a structure in which an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, and a charge transport layer 3, a charge generation layer 2, and a protective layer 5 are sequentially formed thereon. It has In the electrophotographic photoreceptor 7B, the charge transport layer 3 and the charge generation layer 2 constitute a photosensitive layer.

図３に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（単層型感光層６）に含有するものである。図３に示す電子写真感光体７Ｃにおいては、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に単層型感光層６及び保護層５が順次形成された構造を有するものである。 An electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3 contains a charge generating material and a charge transporting material in the same layer (single-layer photosensitive layer 6). The electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3 has a structure in which an undercoat layer 1 is provided on a conductive substrate 4, and a monolayer type photosensitive layer 6 and a protective layer 5 are sequentially formed thereon. .

そして、図１、図２、及び図３に示す電子写真感光体７Ａ、７Ｂ、及び７Ｃにおいて、保護層５が、導電性基体４から最も遠い側に配置される最表面層となっており、当該最表面層が、上記の構成となっている。
尚、図１、図２、及び図３に示す電子写真感光体において、下引層１は設けてもよいし、設けなくてもよい。 In the electrophotographic photoreceptors 7A, 7B, and 7C shown in FIGS. 1, 2, and 3, the protective layer 5 is the outermost layer arranged on the farthest side from the conductive substrate 4, The outermost layer has the above configuration.
In the electrophotographic photoreceptor shown in FIGS. 1, 2 and 3, the undercoat layer 1 may or may not be provided.

以下、代表例として図１に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。 Each element will be described below based on the electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. 1 as a representative example. In addition, the code|symbol is abbreviate|omitted and demonstrated.

（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。 (Conductive substrate)
Examples of conductive substrates include metal plates, metal drums, and metal belts containing metals (aluminum, copper, zinc, chromium, nickel, molybdenum, vanadium, indium, gold, platinum, etc.) or alloys (stainless steel, etc.). is mentioned. Examples of conductive substrates include paper, resin films, belts, etc., coated, vapor-deposited, or laminated with conductive compounds (e.g., conductive polymers, indium oxide, etc.), metals (e.g., aluminum, palladium, gold, etc.) or alloys. is also mentioned. Here, "conductivity" means that the volume resistivity is less than 10 13 Ωcm.

導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。 When the electrophotographic photoreceptor is used in a laser printer, the surface of the conductive substrate has a center line average roughness Ra of 0.04 μm or more and 0.5 μm for the purpose of suppressing interference fringes generated when laser light is irradiated. It is preferable that the surface is roughened to the following. When non-interfering light is used as the light source, roughening is not particularly necessary to prevent interference fringes, but it is suitable for longer life because it suppresses the occurrence of defects due to irregularities on the surface of the conductive substrate.

粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。 Surface roughening methods include, for example, wet honing in which an abrasive is suspended in water and sprayed onto the support, centerless grinding in which a conductive substrate is pressed against a rotating grindstone and continuously ground. Examples include anodizing treatment and the like.

粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。 As a roughening method, conductive or semiconductive powder is dispersed in a resin to form a layer on the surface of the conductive substrate without roughening the surface of the conductive substrate. A method of roughening with particles dispersed in a layer is also included.

陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。 In the surface roughening treatment by anodization, an oxide film is formed on the surface of a conductive substrate by anodizing a metal (eg, aluminum) conductive substrate as an anode in an electrolytic solution. Examples of electrolyte solutions include sulfuric acid solutions and oxalic acid solutions. However, the porous anodized film formed by anodizing is chemically active as it is, is easily contaminated, and has large resistance fluctuations depending on the environment. Therefore, the micropores of the porous anodized film are filled with pressurized steam or boiling water (a metal salt such as nickel may be added) by volume expansion due to the hydration reaction, thereby achieving more stable hydration and oxidation. It is preferable to perform a pore-sealing treatment that transforms into a product.

陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。 The film thickness of the anodized film is preferably 0.3 μm or more and 15 μm or less, for example. When this film thickness is within the above range, there is a tendency for the film to exhibit barrier properties against injection, and the increase in residual potential due to repeated use tends to be suppressed.

導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。 The conductive substrate may be treated with an acidic treatment liquid or treated with boehmite.
The treatment with an acidic treatment liquid is performed, for example, as follows. First, an acidic treatment liquid containing phosphoric acid, chromic acid and hydrofluoric acid is prepared. The mixing ratio of phosphoric acid, chromic acid, and hydrofluoric acid in the acidic treatment liquid is, for example, phosphoric acid in the range of 10% by mass to 11% by mass, chromic acid in the range of 3% by mass to 5% by mass, and hydrofluoric acid in the range of 3% by mass to 5% by mass. The range is 0.5% by mass or more and 2% by mass or less, and the concentration of these acids as a whole is preferably in the range of 13.5% by mass or more and 18% by mass or less. The treatment temperature is preferably 42° C. or higher and 48° C. or lower, for example. The film thickness of the coating is preferably 0.3 μm or more and 15 μm or less.

ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。 The boehmite treatment is performed, for example, by immersing the substrate in pure water at a temperature of 90° C. or higher and 100° C. or lower for 5 to 60 minutes, or by contacting the substrate with heated steam at a temperature of 90° C. or higher and 120° C. or lower for 5 to 60 minutes. The film thickness of the coating is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less. This may be further anodized using an electrolytic solution with low film solubility such as adipic acid, boric acid, borate, phosphate, phthalate, maleate, benzoate, tartrate, citrate, etc. good.

（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。 (Undercoat layer)
The undercoat layer is, for example, a layer containing inorganic particles and a binder resin.

無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。 Examples of inorganic particles include inorganic particles having a powder resistance (volume resistivity) of 10 2 Ωcm or more and 10 11 Ωcm or less.
Among these, metal oxide particles such as tin oxide particles, titanium oxide particles, zinc oxide particles, and zirconium oxide particles are preferable as the inorganic particles having the above resistance value, and zinc oxide particles are particularly preferable.

無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。 The specific surface area of the inorganic particles by the BET method is preferably 10 m 2 /g or more, for example.
The volume average particle diameter of the inorganic particles is, for example, 50 nm or more and 2000 nm or less (preferably 60 nm or more and 1000 nm or less).

無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。 The content of the inorganic particles is, for example, preferably 10% by mass or more and 80% by mass or less, more preferably 40% by mass or more and 80% by mass or less, relative to the binder resin.

無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。 The inorganic particles may be surface-treated. Two or more kinds of inorganic particles having different surface treatments or different particle diameters may be mixed and used.

表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。 Examples of surface treatment agents include silane coupling agents, titanate-based coupling agents, aluminum-based coupling agents, and surfactants. In particular, a silane coupling agent is preferred, and a silane coupling agent having an amino group is more preferred.

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 Silane coupling agents having an amino group include, for example, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-amino Examples include, but are not limited to, propylmethyldimethoxysilane, N,N-bis(2-hydroxyethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, and the like.

シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。 You may use a silane coupling agent in mixture of 2 or more types. For example, a silane coupling agent having an amino group and another silane coupling agent may be used in combination. Other silane coupling agents include, for example, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris(2-methoxyethoxy)silane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-glycol sidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2-( aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N,N-bis(2-hydroxyethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, etc., but are not limited thereto. not a thing

表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。 The surface treatment method using the surface treatment agent may be any known method, and may be either a dry method or a wet method.

表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。 The treatment amount of the surface treatment agent is preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the inorganic particles, for example.

ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。 Here, the undercoat layer preferably contains an electron-accepting compound (acceptor compound) together with the inorganic particles from the viewpoint of enhancing the long-term stability of electrical properties and the carrier-blocking property.

電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７－トリニトロフルオレノン、２，４，５，７－テトラニトロ－９－フルオレノン等のフルオレノン化合物；２－（４－ビフェニル）－５－（４－ｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ナフチル）－１，３，４－オキサジアゾール、２，５－ビス（４－ジエチルアミノフェニル）－１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ－ｔ－ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。 Examples of electron-accepting compounds include quinone compounds such as chloranil and bromoanil; tetracyanoquinodimethane compounds; 2,4,7-trinitrofluorenone, 2,4,5,7-tetranitro-9-fluorenone, and the like. fluorenone compounds; 2-(4-biphenyl)-5-(4-t-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis(4-naphthyl)-1,3,4- Oxadiazole compounds such as oxadiazole and 2,5-bis(4-diethylaminophenyl)-1,3,4 oxadiazole; xanthone compounds; thiophene compounds; 3,3′,5,5′ tetra- electron-transporting substances such as diphenoquinone compounds such as t-butyldiphenoquinone;
A compound having an anthraquinone structure is particularly preferable as the electron-accepting compound. As the compound having an anthraquinone structure, for example, hydroxyanthraquinone compounds, aminoanthraquinone compounds, aminohydroxyanthraquinone compounds, etc. are preferable, and specifically, for example, anthraquinone, alizarin, quinizarin, anthrafin, purpurin, etc. are preferable.

電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。 The electron-accepting compound may be dispersed in the undercoat layer together with the inorganic particles, or may be attached to the surfaces of the inorganic particles.

電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。 Examples of the method of adhering the electron-accepting compound to the surface of the inorganic particles include a dry method and a wet method.

乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気又は窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。 In the dry method, for example, an electron-accepting compound dissolved in an organic solvent is added dropwise while stirring inorganic particles with a mixer having a large shearing force, or the electron-accepting compound is sprayed with dry air or nitrogen gas. It is a method of adhering to the surface of inorganic particles. Dropping or spraying of the electron-accepting compound is preferably carried out at a temperature not higher than the boiling point of the solvent. After dropping or spraying the electron-accepting compound, baking may be further performed at 100° C. or higher. Baking is not particularly limited as long as the temperature and time are such that electrophotographic properties can be obtained.

湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。 In the wet method, for example, by stirring, ultrasonic waves, sand mill, attritor, ball mill, etc., while inorganic particles are dispersed in a solvent, an electron-accepting compound is added, stirred or dispersed, and then the solvent is removed to obtain electrons. This is a method of adhering a receptive compound to the surface of inorganic particles. Solvent removal methods include distilling off by filtration or distillation. After removing the solvent, baking may be further performed at 100° C. or higher. Baking is not particularly limited as long as the temperature and time are such that electrophotographic properties can be obtained. In the wet method, the water contained in the inorganic particles may be removed before adding the electron-accepting compound, examples of which include a method of removing while stirring and heating in a solvent, and a method of removing by azeotroping with a solvent. mentioned.

なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。 Attachment of the electron-accepting compound may be performed before or after the surface treatment with the surface treatment agent is applied to the inorganic particles, or may be performed simultaneously with attachment of the electron-accepting compound and surface treatment with the surface treatment agent.

電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。 The content of the electron-accepting compound is, for example, 0.01% by mass or more and 20% by mass or less, preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, relative to the inorganic particles.

下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。 Examples of binder resins used in the undercoat layer include acetal resins (for example, polyvinyl butyral), polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, casein resins, polyamide resins, cellulose resins, gelatin, polyurethane resins, polyester resins, and unsaturated polyesters. Resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resins, silicone resins, silicone-alkyd resins, urea resins, phenolic resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins, Urethane resins, alkyd resins, known polymer compounds such as epoxy resins; zirconium chelate compounds; titanium chelate compounds; aluminum chelate compounds; titanium alkoxide compounds;
Examples of the binder resin used in the undercoat layer include charge-transporting resins having a charge-transporting group, conductive resins (eg, polyaniline, etc.), and the like.

これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。 Among these, resins that are insoluble in the coating solvent of the upper layer are suitable as the binder resin used in the undercoat layer. Thermosetting resins such as resins, alkyd resins and epoxy resins; at least one resin selected from the group consisting of polyamide resins, polyester resins, polyether resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl alcohol resins and polyvinyl acetal resins; Resins obtained by reaction with a curing agent are preferred.
When two or more of these binder resins are used in combination, the mixing ratio is set according to need.

下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。 The undercoat layer may contain various additives for improving electrical properties, improving environmental stability, and improving image quality.
Examples of the additive include known materials such as electron-transporting pigments such as polycyclic condensed and azo-based pigments, zirconium chelate compounds, titanium chelate compounds, aluminum chelate compounds, titanium alkoxide compounds, organic titanium compounds, and silane coupling agents. be done. The silane coupling agent is used for the surface treatment of the inorganic particles as described above, and may be added to the undercoat layer as an additive.

添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３－メタクリルオキシプロピル－トリス（２－メトキシエトキシ）シラン、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ－ビス（２－ヒドロキシエチル）－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。 Silane coupling agents as additives include, for example, vinyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyl-tris(2-methoxyethoxy)silane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3- glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N-2-(aminoethyl)-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (Aminoethyl)-3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N,N-bis(2-hydroxyethyl)-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane and the like.

ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。 Examples of zirconium chelate compounds include zirconium butoxide, ethyl zirconium acetoacetate, zirconium triethanolamine, zirconium acetylacetonate butoxide, ethyl zirconium butoxide acetoacetate, zirconium acetate, zirconium oxalate, zirconium lactate, zirconium phosphonate, zirconium octanoate, Zirconium naphthenate, zirconium laurate, zirconium stearate, zirconium isostearate, zirconium methacrylate butoxide, zirconium stearate butoxide, zirconium isostearate butoxide and the like.

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２－エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。 Examples of titanium chelate compounds include tetraisopropyl titanate, tetra-normal butyl titanate, butyl titanate dimer, tetra(2-ethylhexyl) titanate, titanium acetylacetonate, polytitanium acetylacetonate, titanium octylene glycolate, and titanium lactate ammonium salt. , titanium lactate, titanium lactate ethyl ester, titanium triethanolamine, polyhydroxytitanium stearate, and the like.

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。 Examples of aluminum chelate compounds include aluminum isopropylate, monobutoxyaluminum diisopropylate, aluminum butyrate, diethylacetoacetate aluminum diisopropylate, and aluminum tris(ethylacetoacetate).

これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。 These additives may be used alone or as mixtures or polycondensates of multiple compounds.

下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／（４ｎ）（ｎは上層の屈折率）から１／２までに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。 The undercoat layer preferably has a Vickers hardness of 35 or higher.
The surface roughness (ten-point average roughness) of the undercoat layer is 1/(4n) (n is the refractive index of the upper layer) to 1/2 of the exposure laser wavelength λ used to suppress moiré images. should be adjusted to
Resin particles or the like may be added to the undercoat layer to adjust the surface roughness. Examples of resin particles include silicone resin particles and crosslinked polymethyl methacrylate resin particles. Further, the surface of the undercoat layer may be polished to adjust the surface roughness. Polishing methods include buffing, sandblasting, wet honing, and grinding.

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。 Formation of the undercoat layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. and, if necessary, by heating.

下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｉｓｏ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。 Solvents for preparing the undercoat layer-forming coating solution include known organic solvents such as alcohol solvents, aromatic hydrocarbon solvents, halogenated hydrocarbon solvents, ketone solvents, ketone alcohol solvents, ether solvents, Solvents, ester solvents and the like can be mentioned.
Specific examples of these solvents include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, Ordinary organic solvents such as n-butyl acetate, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene and toluene can be used.

下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。 Examples of the method for dispersing the inorganic particles when preparing the undercoat layer-forming coating solution include known methods such as a roll mill, ball mill, vibrating ball mill, attritor, sand mill, colloid mill, and paint shaker.

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Examples of methods for applying the undercoat layer-forming coating liquid onto the conductive substrate include blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, air knife coating, and curtain coating. Ordinary methods such as

下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。 The film thickness of the undercoat layer is set, for example, preferably in the range of 15 μm or more, more preferably 20 μm or more and 50 μm or less.

（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン－アルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。 (middle layer)
Although not shown, an intermediate layer may be further provided between the undercoat layer and the photosensitive layer.
The intermediate layer is, for example, a layer containing resin. Resins used for the intermediate layer include, for example, acetal resins (for example, polyvinyl butyral, etc.), polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, casein resins, polyamide resins, cellulose resins, gelatin, polyurethane resins, polyester resins, methacrylic resins, acrylic resins, Polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride resins, silicone resins, silicone-alkyd resins, phenol-formaldehyde resins, melamine resins and other high-molecular compounds can be mentioned.
The intermediate layer may be a layer containing an organometallic compound. Examples of the organometallic compound used for the intermediate layer include organometallic compounds containing metal atoms such as zirconium, titanium, aluminum, manganese and silicon.
These compounds used for the intermediate layer may be used singly or as a mixture or polycondensate of a plurality of compounds.

これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。 Among these, the intermediate layer is preferably a layer containing an organometallic compound containing zirconium atoms or silicon atoms.

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。 Formation of the intermediate layer is not particularly limited, and a well-known forming method is used. It is done by heating according to.
As a coating method for forming the intermediate layer, a usual method such as a dip coating method, a thrust coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a blade coating method, a knife coating method and a curtain coating method can be used.

中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。 The film thickness of the intermediate layer is preferably set in the range of 0.1 μm or more and 3 μm or less, for example. Note that the intermediate layer may be used as an undercoat layer.

（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ－Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。 (Charge generating layer)
The charge generation layer is, for example, a layer containing a charge generation material and a binder resin. Also, the charge generation layer may be a deposited layer of a charge generation material. The deposited layer of the charge generating material is suitable for use with non-coherent light sources such as LEDs (Light Emitting Diodes) and organic EL (Electro-Luminescence) image arrays.

電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。 Examples of charge-generating materials include azo pigments such as bisazo and trisazo; condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; perylene pigments; pyrrolopyrrole pigments;

これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５－２６３００７号公報、特開平５－２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５－９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５－１４０４７２号公報、特開平５－１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４－１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。 Among these, it is preferable to use a metal phthalocyanine pigment or a metal-free phthalocyanine pigment as the charge generation material in order to cope with laser exposure in the near-infrared region. Specifically, for example, hydroxygallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-263007 and JP-A-5-279591; chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181; -140472, JP-A-5-140473, etc., and titanyl phthalocyanine disclosed in JP-A-4-189873, etc. are more preferable.

一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４－７８１４７号公報、特開２００５－１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。 On the other hand, in order to cope with laser exposure in the near-ultraviolet region, charge-generating materials include condensed aromatic pigments such as dibromoanthanthrone; thioindigo pigments; porphyrazine compounds; zinc oxide; Bisazo pigments disclosed in JP-A-2004-78147 and JP-A-2005-181992 are preferred.

４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基体からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ－型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。 In the case of using an incoherent light source such as an LED or an organic EL image array having a central emission wavelength of 450 nm or more and 780 nm or less, the above charge generation material may be used. When a thin film is used, the electric field strength in the photosensitive layer becomes high, and charge deterioration due to charge injection from the substrate tends to cause image defects called black spots. This becomes remarkable when a charge-generating material such as trigonal selenium, phthalocyanine pigment, or the like, which is a p-type semiconductor and tends to generate dark current, is used.

これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ－型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ－型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２－１５５２８２号公報の段落［０２８８］～［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ－１）～（ＣＧ－２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ－型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ－型とする。 On the other hand, when n-type semiconductors such as condensed aromatic pigments, perylene pigments, and azo pigments are used as the charge generation material, dark current is less likely to occur, and image defects called black spots can be suppressed even if the film is formed into a thin film. . Examples of the n-type charge generation material include compounds (CG-1) to (CG-27) described in paragraphs [0288] to [0291] of JP-A-2012-155282. It is not limited.
The n-type is determined by the polarity of the flowing photocurrent using the time-of-flight method that is commonly used, and the n-type is defined as a material in which electrons are more likely to flow as carriers than holes.

電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。 The binder resin used in the charge generation layer is selected from a wide range of insulating resins, and the binder resin is selected from organic photoconductive polymers such as poly-N-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyvinylpyrene and polysilane. You may choose.
Examples of binder resins include polyvinyl butyral resins, polyarylate resins (polycondensates of bisphenols and aromatic divalent carboxylic acids, etc.), polycarbonate resins, polyester resins, phenoxy resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, Polyamide resin, acrylic resin, polyacrylamide resin, polyvinylpyridine resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, casein, polyvinyl alcohol resin, polyvinylpyrrolidone resin and the like can be mentioned. Here, “insulating” means having a volume resistivity of 10 13 Ωcm or more.
These binder resins may be used singly or in combination of two or more.

なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。 The mixing ratio of the charge-generating material and the binder resin is preferably in the range of 10:1 to 1:10 in mass ratio.

電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 The charge generation layer may contain other known additives.

電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。 Formation of the charge-generating layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. and, if necessary, by heating. The charge generation layer may be formed by vapor deposition of a charge generation material. Formation of the charge-generating layer by vapor deposition is particularly suitable when a condensed ring aromatic pigment or perylene pigment is used as the charge-generating material.

電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ－プロパノール、ｎ－ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ－ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。 Solvents for preparing the charge-generating layer-forming coating solution include methanol, ethanol, n-propanol, n-butanol, benzyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, and n-acetic acid. -butyl, dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, chlorobenzene, toluene and the like. These solvents are used singly or in combination of two or more.

電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液－液衝突又は液－壁衝突させて分散する衝突方式、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。 Examples of methods for dispersing particles (for example, a charge-generating material) in the coating liquid for forming the charge-generating layer include media dispersing machines such as ball mills, vibrating ball mills, attritors, sand mills, and horizontal sand mills, stirring, ultrasonic dispersing machines, and the like. Medialess dispersers such as roll mills and high-pressure homogenizers are used. The high-pressure homogenizer includes, for example, a collision system in which a dispersion liquid is dispersed by liquid-liquid collision or liquid-wall collision in a high pressure state, and a penetration system in which a fine flow path is penetrated and dispersed in a high pressure state.
In this dispersion, it is effective to set the average particle diameter of the charge generating material in the coating liquid for forming the charge generating layer to 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.15 μm or less. .

電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Examples of the method for applying the charge generation layer forming coating liquid onto the undercoat layer (or onto the intermediate layer) include blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, and air knife coating. conventional methods such as coating method, curtain coating method, and the like.

電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。 The film thickness of the charge generation layer is set, for example, preferably in the range of 0.1 μm to 5.0 μm, more preferably 0.2 μm to 2.0 μm.

（電荷輸送層）
電荷輸送層は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。 (Charge transport layer)
The charge transport layer is, for example, a layer containing a charge transport material and a binder resin. The charge transport layer may be a layer comprising a polymeric charge transport material.

電荷輸送材料としては、ｐ－ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７－トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。 Examples of charge transport materials include quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanyl and anthraquinone; tetracyanoquinodimethane compounds; fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone; xanthone compounds; cyanovinyl-based compounds; and electron-transporting compounds such as ethylene-based compounds. Charge transport materials also include hole-transporting compounds such as triarylamine-based compounds, benzidine-based compounds, arylalkane-based compounds, aryl-substituted ethylene-based compounds, stilbene-based compounds, anthracene-based compounds, and hydrazone-based compounds. These charge transport materials may be used singly or in combination of two or more, but are not limited to these.

電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ－１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ－２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。 From the viewpoint of charge mobility, the charge transport material is preferably a triarylamine derivative represented by the following structural formula (a-1) and a benzidine derivative represented by the following structural formula (a-2).


構造式（ａ－１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、－Ｃ６Ｈ４－Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は－Ｃ６Ｈ４－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。 In structural formula (a-1), Ar T1 , Ar T2 and Ar T3 each independently represent a substituted or unsubstituted aryl group, —C 6 H 4 —C(R T4 )=C(R T5 )(R T6 ), or -C 6 H 4 -CH=CH-CH=C(R T7 )(R T8 ). R T4 , R T5 , R T6 , R T7 and R T8 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group.
Examples of substituents for the above groups include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Moreover, the substituted amino group substituted by the C1-C3 or less alkyl group is also mentioned as a substituent of each said group.


構造式（ａ－２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、－Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
In structural formula (a-2), R 1 T91 and R 2 T92 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. R T101 , R T102 , R T111 and R T112 are each independently substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 2 carbon atoms. a substituted or unsubstituted aryl group, —C(R T12 )=C(R T13 )(R T14 ), or —CH=CH—CH=C(R T15 )(R T16 ); R T12 , R T13 , R T14 , R T15 and R T16 each independently represent a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, or a substituted or unsubstituted aryl group. Tm1, Tm2, Tn1 and Tn2 each independently represent an integer of 0 or more and 2 or less.
Examples of substituents for the above groups include a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Moreover, the substituted amino group substituted by the C1-C3 or less alkyl group is also mentioned as a substituent of each said group.

ここで、構造式（ａ－１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ－２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「－Ｃ６Ｈ４－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。 Here, among the triarylamine derivative represented by the structural formula (a-1) and the benzidine derivative represented by the structural formula (a-2), in particular, “—C 6 H 4 —CH=CH—CH= A triarylamine derivative having “C(R T7 )(R T8 )” and a benzidine derivative having “—CH═CH—CH═C(R T15 )(R T16 )” are preferred from the viewpoint of charge mobility.

高分子電荷輸送材料としては、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８－１７６２９３号公報、特開平８－２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。 As the polymer charge transport material, known materials having charge transport properties such as poly-N-vinylcarbazole and polysilane are used. In particular, the polyester polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293 and JP-A-8-208820 are particularly preferred. The polymer charge transport material may be used alone, or may be used in combination with a binder resin.

電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン－ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン－アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール－ホルムアルデヒド樹脂、スチレン－アルキッド樹脂、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。 Binder resins used in the charge transport layer include polycarbonate resins, polyester resins, polyarylate resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl chloride resins, polyvinylidene chloride resins, polystyrene resins, polyvinyl acetate resins, styrene-butadiene copolymers, Vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene-alkyd resin, poly-N - includes vinylcarbazole, polysilane, and the like. Among these, polycarbonate resins and polyarylate resins are suitable as the binder resin. These binder resins are used singly or in combination of two or more.
The mixing ratio of the charge transport material and the binder resin is preferably from 10:1 to 1:5 in mass ratio.

電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。 The charge transport layer may contain other known additives.

電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。 Formation of the charge transport layer is not particularly limited, and a well-known formation method is used. , by heating if necessary.

電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２－ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。 Solvents for preparing the coating liquid for forming the charge transport layer include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene and chlorobenzene; ketones such as acetone and 2-butanone; methylene chloride, chloroform and ethylene chloride. Halogenated aliphatic hydrocarbons; ordinary organic solvents such as cyclic or linear ethers such as tetrahydrofuran and ethyl ether. These solvents are used alone or in combination of two or more.

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。 Coating methods for coating the charge transport layer forming coating liquid on the charge generation layer include blade coating, wire bar coating, spray coating, dip coating, bead coating, air knife coating, and curtain. Ordinary methods such as a coating method can be used.

電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。 The film thickness of the charge transport layer is set, for example, preferably in the range of 5 μm to 50 μm, more preferably 10 μm to 30 μm.

（保護層）
電子写真感光体７Ａにおける最表面層である保護層について説明する。
保護層は、電子写真感光体７Ａにおける最表面層であり、例えば前述の特定樹脂溶解液を用いて形成されたものであることが好ましく、前述の電荷輸送性膜を含むことが好ましく、さらに特定樹脂架橋体を含有することが最も好ましい。 (protective layer)
The protective layer, which is the outermost layer of the electrophotographic photoreceptor 7A, will be described.
The protective layer is the outermost layer of the electrophotographic photoreceptor 7A, and is preferably formed, for example, using the above-described specific resin solution. Most preferably, it contains a crosslinked resin.

架橋方法としては、熱、光、又は放射線などによるラジカル重合が行なわれる。反応が早く進行しすぎないよう調整すると膜のムラ及びシワの発生が抑制されるため、ラジカル発生が比較的ゆっくりと起こる条件下で架橋させることが望ましい。この点からは、架橋速度を調整しやすい熱架橋が好適である。 As a cross-linking method, radical polymerization by heat, light, radiation, or the like is performed. If the reaction is adjusted so that it does not proceed too quickly, the occurrence of unevenness and wrinkles in the film is suppressed. From this point of view, thermal cross-linking is suitable because the speed of cross-linking can be easily adjusted.

・非反応性の電荷輸送材料
保護層（最表面層）５を構成する膜は、非反応性の電荷輸送材料を併用してもよい。非反応性の電荷輸送材料は電荷輸送を担っていない反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料を保護層（最表面層）５に用いた場合には実質的に電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。また、非反応性の電荷輸送材料を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。 • Non-reactive charge-transporting material A non-reactive charge-transporting material may be used in combination with the film constituting the protective layer (outermost surface layer) 5 . Since the non-reactive charge-transporting material does not have a reactive group that does not carry out charge-transporting, when the non-reactive charge-transporting material is used for the protective layer (outermost layer) 5, the charge-transporting material is substantially The concentration of the component is increased, which is effective in further improving the electrical properties. A non-reactive charge transport material may also be added to reduce crosslink density and adjust strength.

非反応性の電荷輸送材料としては、公知の電荷輸送材料を用いてもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等が用いられる。
中でも、モビリティー、相溶性など点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが望ましい。 As the non-reactive charge-transporting material, known charge-transporting materials may be used. Specifically, triarylamine-based compounds, benzidine-based compounds, arylalkane-based compounds, aryl-substituted ethylene-based compounds, and stilbene-based compounds. , anthracene-based compounds, hydrazone-based compounds, and the like are used.
Among them, those having a triphenylamine skeleton are desirable from the viewpoint of mobility, compatibility and the like.

非反応性の電荷輸送材料は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して０質量％以上３０質量％以下で用いられることが望ましく、より望ましくは１質量％以上２５質量％以下であり、更に望ましくは５質量％以上２５質量％以下である。 The non-reactive charge-transporting material is preferably used in an amount of 0% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 25% by mass or less, based on the total solid content in the coating liquid for layer formation. and more desirably from 5% by mass to 25% by mass.

・その他の添加剤
保護層（最表面層）５は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤を用いたものであってもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。また、ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物を用いてもよい。 ・Other additives The protective layer (outermost surface layer) 5 may contain other coupling agents, particularly fluorine-containing coupling agents, for the purpose of further adjusting film-forming properties, flexibility, lubricity, and adhesiveness. may be used. As such compounds, various silane coupling agents and commercially available silicone hard coating agents are used. A silicon compound having a radically polymerizable group and a fluorine-containing compound may also be used.

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－β（アミノエチル）γ－アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。
市販のハードコート剤としては、ＫＰ－８５、Ｘ－４０－９７４０、Ｘ－８２３９（以上、信越化学工業社製）、ＡＹ４２－４４０、ＡＹ４２－４４１、ＡＹ４９－２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が挙げられる。 Silane coupling agents include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane. silane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltriethoxysilane, tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, and the like.
Commercially available hard coating agents include KP-85, X-40-9740, X-8239 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AY42-440, AY42-441, AY49-208 (manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.). ) and the like.

また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ－１，１，２，２－テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３－トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３－（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ－パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。 In addition, for imparting water repellency, etc., (tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl)triethoxysilane, (3,3,3-trifluoropropyl)trimethoxysilane, 3-(hepta fluoroisopropoxy)propyltriethoxysilane, 1H,1H,2H,2H-perfluoroalkyltriethoxysilane, 1H,1H,2H,2H-perfluorodecyltriethoxysilane, 1H,1H,2H,2H-perfluorooctyl A fluorine-containing compound such as triethoxysilane may be added.

シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。更に、特開２００１－１６６５１０号公報などに開示されている反応性のフッ素化合物などを混合してもよい。
ラジカル重合性基を有するシリコン化合物、フッ素含有化合物としては、特開２００７－１１００５号公報に記載の化合物などが挙げられる。 Although the silane coupling agent is used in any amount, the amount of the fluorine-containing compound may be 0.25 times or less by mass that of the fluorine-free compound from the viewpoint of forming a crosslinked film. desirable. Furthermore, a reactive fluorine compound or the like disclosed in JP-A-2001-166510 may be mixed.
Silicon compounds having a radically polymerizable group and fluorine-containing compounds include compounds described in JP-A-2007-11005.

保護層（最表面層）５は、劣化防止剤を含有してもよい。劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。
劣化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。 The protective layer (outermost layer) 5 may contain a deterioration inhibitor. Preferred anti-degradation agents are hindered phenols and hindered amines, including organic sulfur antioxidants, phosphite antioxidants, dithiocarbamate antioxidants, thiourea antioxidants, and benzimidazole antioxidants. , You may use well-known antioxidants, such as.
The amount of the anti-degradation agent to be added is desirably 20% by mass or less, more desirably 10% by mass or less.

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、イルガノックス１０７６、イルガノックス１０１０、イルガノックス１０９８、イルガノックス２４５、イルガノックス１３３０、イルガノックス３１１４、イルガノックス１０７６、３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールＬＳ２６２６、サノールＬＳ７６５、サノールＬＳ７７０、サノールＬＳ７４４、チヌビン１４４、チヌビン６２２ＬＤ、マークＬＡ５７、マークＬＡ６７、マークＬＡ６２、マークＬＡ６８、マークＬＡ６３が挙げられ、チオエーテル系として、スミライザーＴＰＳ、スミライザーＴＰ－Ｄが挙げられ、ホスファイト系として、マーク２１１２、マークＰＥＰ－８、マークＰＥＰ－２４Ｇ、マークＰＥＰ－３６、マーク３２９Ｋ、マークＨＰ－１０等が挙げられる。 Hindered phenol antioxidants include Irganox 1076, Irganox 1010, Irganox 1098, Irganox 245, Irganox 1330, Irganox 3114, Irganox 1076, 3,5-di-t-butyl-4- hydroxybiphenyl and the like.
Examples of hindered amine antioxidants include Sanol LS2626, Sanol LS765, Sanol LS770, Sanol LS744, Tinuvin 144, Tinuvin 622LD, Mark LA57, Mark LA67, Mark LA62, Mark LA68, and Mark LA63. , Sumilizer TP-D, and phosphite-based products include Mark 2112, Mark PEP-8, Mark PEP-24G, Mark PEP-36, Mark 329K, Mark HP-10, and the like.

更に、保護層（最表面層）５は導電性粒子、有機、無機粒子を添加してもよい。
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、好ましくは平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、又はアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。 Further, the protective layer (outermost surface layer) 5 may contain conductive particles, organic or inorganic particles.
Examples of such particles include silicon-containing particles. Silicon-containing particles are particles containing silicon as a constituent element, and specific examples thereof include colloidal silica and silicone particles. Colloidal silica used as silicon-containing particles preferably has an average particle size of 1 nm or more and 100 nm or less, more preferably 10 nm or more and 30 nm or less. are selected from those distributed over As the particles, commercially available ones may be used.

保護層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、好ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。 The solid content of colloidal silica in the protective layer is not particularly limited, but is 0.1% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 0.1% by mass, based on the total solid content of the protective layer. % or more and 30 mass % or less.

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は好ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
表面層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層の全固形分全量を基準として、好ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より好ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。 Silicone particles used as silicon-containing particles are selected from silicone resin particles, silicone rubber particles, and silicone surface-treated silica particles, and generally commercially available ones may be used.
These silicone particles are spherical and have an average particle diameter of preferably 1 nm or more and 500 nm or less, more preferably 10 nm or more and 100 nm or less.
The content of the silicone particles in the surface layer is preferably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, based on the total solid content of the protective layer. .

また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集、８９頁”に示されるような、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂で構成される粒子、ＺｎＯ－Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２－Ｓｂ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３－ＳｎＯ２、ＺｎＯ２－ＴｉＯ２、ＺｎＯ－ＴｉＯ２、ＭｇＯ－Ａｌ２Ｏ３、ＦｅＯ－ＴｉＯ２、ＴｉＯ２、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。さらに、粒子を分散させるために公知の種々の分散材を用いてもよい。 As for other particles, fluorine-based particles such as ethylene tetrafluoride, ethylene trifluoride, propylene hexafluoride, vinyl fluoride, and vinylidene fluoride are described in "8th Polymer Material Forum Lecture Preprints, p.89". Particles composed of a resin obtained by copolymerizing a fluororesin and a monomer having a hydroxyl group, ZnO—Al 2 O 3 , SnO 2 —Sb 2 O 3 , In 2 O 3 —SnO 2 , ZnO 2 — Semiconductive metal oxides such as TiO 2 , ZnO--TiO 2 , MgO--Al 2 O 3 , FeO--TiO 2 , TiO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 , ZnO and MgO can be mentioned. Furthermore, various known dispersing agents may be used to disperse the particles.

また、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５－トリメチル－１．３．５－トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７－テトラメチル－１，３，５，７－テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９－ペンタメチル－１，３，５，７，９－ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；３－（３，３，３－トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。 Moreover, you may add oil, such as a silicone oil.
Examples of silicone oils include silicone oils such as dimethylpolysiloxane, diphenylpolysiloxane, and phenylmethylsiloxane; Reactive silicone oils such as siloxane and phenol-modified polysiloxane; Cyclic dimethylcyclosiloxanes such as hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, decamethylcyclopentasiloxane and dodecamethylcyclohexasiloxane; 1,3,5- Trimethyl-1,3.5-triphenylcyclotrisiloxane, 1,3,5,7-tetramethyl-1,3,5,7-tetraphenylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7,9-pentamethyl -cyclic methylphenylcyclosiloxanes such as 1,3,5,7,9-pentaphenylcyclopentasiloxane; cyclic phenylcyclosiloxanes such as hexaphenylcyclotrisiloxane; 3-(3,3,3-trifluoropropyl ) fluorine-containing cyclosiloxanes such as methylcyclotrisiloxane; hydrosilyl group-containing cyclosiloxanes such as methylhydrosiloxane mixtures, pentamethylcyclopentasiloxane and phenylhydrocyclosiloxane; vinyl group-containing cyclosiloxanes such as pentavinylpentamethylcyclopentasiloxane Examples include siloxanes and the like.

また、金属、金属酸化物、及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀、及びステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモン又はタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。
これらは単独で、又は２種以上を組み合わせて用いる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体又は融着での混合でもよい。導電性粒子の平均粒径は０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が好ましい。 Also, metals, metal oxides, carbon black, and the like may be added. Examples of metals include aluminum, zinc, copper, chromium, nickel, silver, stainless steel, and the like, and those obtained by vapor-depositing these metals on the surfaces of plastic particles. Examples of metal oxides include zinc oxide, titanium oxide, tin oxide, antimony oxide, indium oxide, bismuth oxide, tin-doped indium oxide, antimony- or tantalum-doped tin oxide, and antimony-doped zirconium oxide. .
These are used alone or in combination of two or more. When two or more of them are used in combination, they may be simply mixed or mixed in solid solution or fusion bonding. The average particle size of the conductive particles is preferably 0.3 μm or less, particularly 0.1 μm or less.

保護層を形成するために用いる組成物としては、例えば前述の特定樹脂溶解液が挙げられる。
なお、特定樹脂溶解液を得るために、前述の成分と溶剤とを反応させる場合、各成分を単純に混合、溶解させるだけでもよいが、望ましくは室温（２０℃）以上１００℃以下、より望ましくは３０℃以上８０℃以下で、望ましくは１０分以上１００時間以下、より望ましくは１時間以上５０時間以下の条件で加温する。また、この際に超音波を照射することも望ましい。 Examples of the composition used for forming the protective layer include the aforementioned specific resin solution.
When reacting the above components with a solvent to obtain a specific resin solution, the components may be simply mixed and dissolved. is 30° C. or more and 80° C. or less, preferably 10 minutes or more and 100 hours or less, more preferably 1 hour or more and 50 hours or less. It is also desirable to irradiate ultrasonic waves at this time.

保護層形成用塗布液は、被塗布面（図１に示す態様では電荷輸送層３）の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法により塗布される。
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線、又は熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を架橋、硬化させる。 The protective layer-forming coating solution is applied onto the surface to be coated (the charge transport layer 3 in the embodiment shown in FIG. 1) by a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, or an air knife. It is applied by an ordinary method such as a coating method, a curtain coating method, an inkjet coating method, or the like.
Thereafter, light, electron beams, or heat is applied to the obtained coating film to cause radical polymerization, thereby cross-linking and curing the coating film.

熱により塗膜を架橋、硬化させる際、加熱条件は５０℃以上であることが望ましい。特に、加熱温度としては、１００℃以上１８０℃以下が望ましい。 When the coating film is crosslinked and cured by heat, the heating condition is desirably 50° C. or higher. In particular, the heating temperature is preferably 100° C. or higher and 180° C. or lower.

光により塗膜を架橋、硬化させる際、水銀灯、メタルハライドなどの公知の方法で照射して硬化膜を得る。 When the coating film is crosslinked and cured with light, a cured film is obtained by irradiation by a known method such as a mercury lamp or metal halide.

上記のような、架橋、硬化反応の際には、光、電子線、又は熱によって発生したラジカルが失活することなく連鎖反応を行えるよう、真空又は不活性ガス雰囲気下で、酸素濃度が望ましくは１０％以下、より望ましくは５％以下、更に望ましくは２％以下、最も望ましくは５００ｐｐｍ以下の低酸素濃度で行われる。 In the cross-linking and curing reactions as described above, the oxygen concentration is desirable in a vacuum or inert gas atmosphere so that the radicals generated by light, electron beams, or heat can be chain-reacted without deactivation. is performed at a low oxygen concentration of 10% or less, more preferably 5% or less, even more preferably 2% or less, and most preferably 500 ppm or less.

本実施態様では、ラジカルの発生が比較的ゆっくりと起こる熱による硬化方法が特に好ましい。 In this embodiment, thermal curing methods are particularly preferred in which radical generation occurs relatively slowly.

保護層の膜厚は３μｍ以上４０μｍ以下が好ましく、５μｍ以上３５μｍ以下とすることがさらに好ましい。 The film thickness of the protective layer is preferably 3 μm or more and 40 μm or less, more preferably 5 μm or more and 35 μm or less.

以上、図１に示される電子写真感光体７Ａを参照し、機能分離型の感光層における各層の構成を説明したが、図２に示される機能分離型の電子写真感光体７Ｂにおける各層においてもこの構成が採用しうる。
以下、図３に示される電子写真感光体７Ｃの単層型感光層６について説明する。 The structure of each layer in the function-separated photosensitive layer has been described above with reference to the electrophotographic photoreceptor 7A shown in FIG. configuration can be employed.
The single-layer photosensitive layer 6 of the electrophotographic photoreceptor 7C shown in FIG. 3 will be described below.

（単層型感光層）
単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、電荷発生材料と電荷輸送材料と、必要に応じて、結着樹脂、及びその他周知の添加剤と、を含む層である。なお、これら材料は、電荷発生層及び電荷輸送層で説明した材料と同様である。
そして、単層型感光層中、電荷発生材料の含有量は、全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下がよく、好ましくは０．８質量％以上５質量％以下である。また、単層型感光層中、電荷輸送材料の含有量は、全固形分に対して５質量％以上５０質量％以下がよい。
単層型感光層の形成方法は、電荷発生層及び電荷輸送層の形成方法と同様である。
単層型感光層の膜厚は、例えば、５μｍ以上５０μｍ以下がよく、好ましくは１０μｍ以上４０μｍ以下である。 (Single layer type photosensitive layer)
The single-layer type photosensitive layer (charge-generating/charge-transporting layer) is a layer containing, for example, a charge-generating material, a charge-transporting material, and, if necessary, a binder resin and other well-known additives. These materials are the same as those described for the charge generation layer and the charge transport layer.
The content of the charge-generating material in the single-layer type photosensitive layer is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less, preferably 0.8% by mass or more and 5% by mass or less, based on the total solid content. . Also, the content of the charge transport material in the single-layer type photosensitive layer is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total solid content.
The method for forming the single-layer type photosensitive layer is the same as the method for forming the charge generation layer and the charge transport layer.
The film thickness of the monolayer type photosensitive layer is, for example, 5 μm or more and 50 μm or less, preferably 10 μm or more and 40 μm or less.

なお、上述の実施形態では、最表面層が保護層である形態を説明したが、保護層がない層構成の場合には、その層構成において最表面に位置する電荷輸送層が該最表面層となる。最表面層が電荷輸送層である場合、この層の厚みは、７μｍ以上７０μｍ以下が望ましく、１０μｍ以上６０μｍ以下がより望ましい。 In the above-described embodiment, the outermost layer is the protective layer. becomes. When the outermost surface layer is the charge transport layer, the thickness of this layer is desirably 7 μm or more and 70 μm or less, more desirably 10 μm or more and 60 μm or less.

－画像形成装置及びプロセスカートリッジ－
次に、上記電子写真感光体を用いた画像形成装置及びプロセスカートリッジについて説明する。
画像形成装置は、例えば、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記電子写真感光体が適用される。 -Image forming apparatus and process cartridge-
Next, an image forming apparatus and a process cartridge using the above electrophotographic photosensitive member will be described.
The image forming apparatus includes, for example, an electrophotographic photosensitive member, charging means for charging the surface of the electrophotographic photosensitive member, electrostatic latent image forming means for forming an electrostatic latent image on the surface of the charged electrophotographic photosensitive member, Developing means for developing an electrostatic latent image formed on the surface of an electrophotographic photosensitive member with a developer containing toner to form a toner image, and transferring means for transferring the toner image to the surface of a recording medium. As an electrophotographic photoreceptor, the above electrophotographic photoreceptor is applied.

画像形成装置としては、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に電子写真感光体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。 Examples of the image forming apparatus include an apparatus having fixing means for fixing a toner image transferred to the surface of a recording medium; a direct transfer type apparatus for directly transferring a toner image formed on the surface of an electrophotographic photosensitive member to a recording medium; An intermediate transfer device that primarily transfers a toner image formed on the surface of an electrophotographic photosensitive member to the surface of an intermediate transfer member, and secondarily transfers the toner image that has been transferred on the surface of the intermediate transfer member to the surface of a recording medium; A device equipped with a cleaning means for cleaning the surface of an electrophotographic photosensitive member after transferring a toner image but before charging; A known image forming apparatus such as a device having means; a device having an electrophotographic photoreceptor heating member for increasing the temperature of the electrophotographic photoreceptor and reducing the relative temperature is applied.

中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。 In the case of an intermediate transfer type apparatus, the transfer means includes, for example, an intermediate transfer body on which a toner image is transferred, and a primary transfer means for primarily transferring a toner image formed on the surface of an electrophotographic photosensitive member to the surface of the intermediate transfer body. A configuration having transfer means and secondary transfer means for secondarily transferring the toner image transferred on the surface of the intermediate transfer member to the surface of the recording medium is applied.

画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。 The image forming apparatus may be either a dry developing type image forming apparatus or a wet developing type image forming apparatus (a developing type using a liquid developer).

なお、画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して着脱されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、前記電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。 In addition, in the image forming apparatus, for example, the portion provided with the electrophotographic photosensitive member may have a cartridge structure (process cartridge) that is detachable from the image forming apparatus. As the process cartridge, for example, a process cartridge including the electrophotographic photosensitive member is preferably used. In addition to the electrophotographic photosensitive member, the process cartridge may include, for example, at least one selected from the group consisting of charging means, electrostatic latent image forming means, developing means, and transfer means.

以下、画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。 An example of the image forming apparatus will be shown below, but the present invention is not limited to this. Note that the main parts shown in the drawings will be explained, and the explanation of the others will be omitted.

図４は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図４に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。 FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing an example of an image forming apparatus according to this embodiment.
As shown in FIG. 4, the image forming apparatus 100 according to the present embodiment includes a process cartridge 300 including an electrophotographic photosensitive member 7, an exposure device 9 (an example of electrostatic latent image forming means), and a transfer device 40 (primary a transfer device) and an intermediate transfer member 50 . In the image forming apparatus 100 , the exposure device 9 is arranged at a position where the electrophotographic photosensitive member 7 can be exposed through the opening of the process cartridge 300 , and the transfer device 40 transfers the image to the electrophotographic photosensitive member 7 via the intermediate transfer member 50 . 7 , and the intermediate transfer member 50 is arranged so that a part of the intermediate transfer member 50 is in contact with the electrophotographic photosensitive member 7 . Although not shown, it also has a secondary transfer device for transferring the toner image transferred to the intermediate transfer member 50 onto a recording medium (for example, paper). Note that the intermediate transfer member 50, the transfer device 40 (primary transfer device), and the secondary transfer device (not shown) correspond to an example of transfer means.

図４におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。 The process cartridge 300 in FIG. 4 integrates an electrophotographic photosensitive member 7, a charging device 8 (an example of charging means), a developing device 11 (an example of developing means), and a cleaning device 13 (an example of cleaning means) in a housing. supported by The cleaning device 13 has a cleaning blade (an example of a cleaning member) 131 , and the cleaning blade 131 is arranged so as to contact the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 . The cleaning member may be a conductive or insulating fibrous member instead of the cleaning blade 131 , and may be used alone or in combination with the cleaning blade 131 .

なお、図４には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。 FIG. 4 shows, as an image forming apparatus, a fibrous member 132 (roll-like) that supplies the lubricant 14 to the surface of the electrophotographic photosensitive member 7, and a fibrous member 133 (flat brush-like) that assists cleaning. are shown, but these are placed as needed.

以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。 Each configuration of the image forming apparatus according to the present embodiment will be described below.

（帯電装置）
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器又はコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。 (charging device)
As the charging device 8, for example, a contact type charger using a conductive or semi-conductive charging roller, charging brush, charging film, charging rubber blade, charging tube, or the like is used. In addition, a known charger such as a non-contact roller charger, a scorotron charger using corona discharge, or a corotron charger may also be used.

（露光装置）
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザ又は青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。 (Exposure device)
Examples of the exposure device 9 include an optical device that exposes the surface of the electrophotographic photosensitive member 7 to light such as semiconductor laser light, LED light, and liquid crystal shutter light in a predetermined image. The wavelength of the light source is within the spectral sensitivity region of the electrophotographic photosensitive member. As for the wavelength of a semiconductor laser, near-infrared light having an oscillation wavelength around 780 nm is predominant. However, the wavelength is not limited to this wavelength, and a laser having an oscillation wavelength of 600 nm or more or a blue laser having an oscillation wavelength of 400 nm or more and 450 nm or less may be used. A surface emitting laser light source capable of outputting multiple beams is also effective for color image formation.

（現像装置）
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。 (developing device)
As the developing device 11, for example, a general developing device that develops by contacting or non-contacting a developer can be used. The developing device 11 is not particularly limited as long as it has the functions described above, and is selected according to the purpose. For example, a known developing device having a function of adhering a one-component developer or a two-component developer to the electrophotographic photosensitive member 7 using a brush, a roller, or the like can be used. Among them, it is preferable to use a developing roller holding a developer on its surface.

現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。 The developer used in the developing device 11 may be a one-component developer containing only toner, or may be a two-component developer containing toner and carrier. Also, the developer may be magnetic or non-magnetic. As these developers, well-known ones are applied.

（クリーニング装置）
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。 (cleaning device)
A cleaning blade type device having a cleaning blade 131 is used as the cleaning device 13 .
In addition to the cleaning blade method, a fur brush cleaning method and a simultaneous development cleaning method may be employed.

（転写装置）
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器又はコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。 (transfer device)
As the transfer device 40, for example, a known transfer charger such as a contact type transfer charger using a belt, roller, film, rubber blade, etc., a scorotron transfer charger using corona discharge, or a corotron transfer charger. mentioned.

（中間転写体）
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。 (intermediate transfer member)
As the intermediate transfer member 50, a belt-like member (intermediate transfer belt) containing semiconductive polyimide, polyamideimide, polycarbonate, polyarylate, polyester, rubber, or the like is used. Further, as the form of the intermediate transfer body, a drum-shaped one may be used instead of the belt-shaped one.

図５は、画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図５に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。 FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing another example of the image forming apparatus.
The image forming apparatus 120 shown in FIG. 5 is a tandem type multi-color image forming apparatus in which four process cartridges 300 are mounted. In the image forming apparatus 120, four process cartridges 300 are arranged in parallel on the intermediate transfer member 50, and one electrophotographic photosensitive member is used for each color. Note that the image forming apparatus 120 has the same configuration as the image forming apparatus 100 except that it is a tandem system.

－有機電界発光素子－
有機電界発光素子は、少なくとも一方が透明である一対の電極と、該一対の電極に挟持された、発光層を含む１つ又は複数の有機化合物層とから構成されるデバイスである。
本実施形態に係る有機電界発光素子は、有機化合物層の少なくとも１つが、前述の電荷輸送性膜である。 -Organic Electroluminescent Device-
An organic electroluminescent element is a device composed of a pair of electrodes, at least one of which is transparent, and one or more organic compound layers, including a light-emitting layer, sandwiched between the pair of electrodes.
In the organic electroluminescent device according to this embodiment, at least one of the organic compound layers is the aforementioned charge-transporting film.

本実施形態に係る有機電界発光素子において、有機化合物層が単層の場合は、この有機化合物層が正孔輸送性能を有する発光層であり、この正孔輸送性能を有する発光層が本実施形態における前述した電荷輸送性膜となる。 In the organic electroluminescence device according to the present embodiment, when the organic compound layer is a single layer, the organic compound layer is the light-emitting layer having hole-transporting performance, and the light-emitting layer having hole-transporting performance is the light-emitting layer of the present embodiment. is the charge-transporting film described above.

有機電界発光素子において、有機化合物層が複数層の場合（即ち、各層が異なる機能を有する機能分離型の場合）は、少なくともいずれか１層が発光層であり、例えば、下記の層構成（１）～（３）が挙げられる。層構成（１）～（３）において、本実施形態に係る有機電界発光素子では、少なくとも１層が、前述した電荷輸送性膜となる。 In the organic electroluminescence device, when the organic compound layer is a plurality of layers (that is, when each layer is a function-separated type in which each layer has a different function), at least one layer is a light-emitting layer. ) to (3). In the layer structures (1) to (3), at least one layer of the organic electroluminescent device according to this embodiment is the charge-transporting film described above.

層構成（１）：正孔輸送層と、発光層と、を有する機能分離型の層構成。本構成においては、正孔輸送層及び発光層の少なくとも一方が電荷輸送性膜であればよく、正孔輸送層が前述の電荷輸送性膜であることが好ましい。 Layer structure (1): A function-separated layer structure having a hole-transporting layer and a light-emitting layer. In this configuration, at least one of the hole-transporting layer and the light-emitting layer may be a charge-transporting film, and the hole-transporting layer is preferably the aforementioned charge-transporting film.

層構成（２）：正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層と、を有する機能分離型の層構成。本構成においては、正孔輸送層、発光層及び電子輸送層の少なくとも１層が前述の電荷輸送性膜であればよく、正孔輸送層が前述の電荷輸送性膜であることが好ましい。 Layer structure (2): A function-separated layer structure having a hole-transporting layer, a light-emitting layer, and an electron-transporting layer. In this configuration, at least one layer of the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer may be the above-described charge-transporting film, and the hole-transporting layer is preferably the above-described charge-transporting film.

層構成（３）：発光層と、電子輸送層と、を有する機能分離型の層構成。本構成においては、発光層及び電子輸送層の少なくとも一方が前述の電荷輸送性膜であればよく、発光層が前述の電荷輸送性膜であることが好ましい。 Layer structure (3): A function-separated layer structure having a light-emitting layer and an electron-transporting layer. In this configuration, at least one of the light-emitting layer and the electron-transporting layer may be the charge-transporting film described above, and the light-emitting layer is preferably the charge-transporting film described above.

以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る有機電界発光素子を説明するが、本実施形
態はこれに限定されるわけではない、 Hereinafter, the organic electroluminescent device according to this embodiment will be described with reference to the drawings, but this embodiment is not limited to this.

図７乃至図１０は、本実施形態に係る有機電界発光素子の層構成を説明するための模式的断面図であって、図７、図８、及び図９は、有機化合物層が複数層からなる場合の一例であり、図１０は、有機化合物層が単層からなる場合の一例である。図７乃至図１０において、同様の機能を有する層には同じ符号を付して説明する。 7 to 10 are schematic cross-sectional views for explaining the layer structure of the organic electroluminescent device according to this embodiment, and FIGS. FIG. 10 is an example of a case where the organic compound layer is a single layer. In FIGS. 7 to 10, layers having similar functions are denoted by the same reference numerals.

図７は、前記の層構成（１）を示す。
図７に示す有機電界発光素子は、透明絶縁体基板２１上に、透明電極２２、正孔輸送層２３、発光層２４、及び背面電極２７がこの順に積層された素子である。透明電極２２と正孔輸送層２３との間には、正孔注入層が配置されていてもよい。図７に示す形態例においては、正孔輸送層２３を、本実施形態における前述の電荷輸送性膜とすることが好ましく、更に、正孔注入層が配置されていれば、この正孔注入層を本実施形態における前述の電荷輸送性膜としてもよい。 FIG. 7 shows the layer configuration (1) described above.
The organic electroluminescence device shown in FIG. 7 is a device in which a transparent electrode 22, a hole transport layer 23, a light emitting layer 24, and a back electrode 27 are laminated in this order on a transparent insulator substrate 21. FIG. A hole injection layer may be arranged between the transparent electrode 22 and the hole transport layer 23 . In the embodiment shown in FIG. 7, the hole transport layer 23 is preferably the charge-transporting film described above in the present embodiment. may be used as the aforementioned charge-transporting film in this embodiment.

図８は、前記の層構成（２）を示す。
図８に示す有機電界発光素子は、透明絶縁体基板２１上に、透明電極２２、正孔輸送層２３、発光層２４、電子輸送層２５、及び背面電極２７がこの順に積層された素子である。透明電極２２と正孔輸送層２３との間には、正孔注入層が配置されていてもよい。電子輸送層２５と背面電極２７との間には、電子注入層が配置されていてもよい。図８に示す形態例においては、正孔輸送層２３を、本実施形態における前述の電荷輸送性膜とすることが好ましく、更に、正孔注入層が配置されていれば、この正孔注入層を本実施形態における前述の電荷輸送性膜としてもよい。 FIG. 8 shows the layer configuration (2) described above.
The organic electroluminescence device shown in FIG. 8 is a device in which a transparent electrode 22, a hole transport layer 23, a light emitting layer 24, an electron transport layer 25, and a back electrode 27 are laminated in this order on a transparent insulator substrate 21. . A hole injection layer may be arranged between the transparent electrode 22 and the hole transport layer 23 . An electron injection layer may be disposed between the electron transport layer 25 and the back electrode 27 . In the embodiment shown in FIG. 8, the hole transport layer 23 is preferably the charge transport film described above in the present embodiment. may be used as the aforementioned charge-transporting film in this embodiment.

図９は、前記の層構成（３）を示す。
図９に示す有機電界発光素子は、透明絶縁体基板２１上に、透明電極２２、発光層２６、電子輸送層２５、及び背面電極２７がこの順に積層された素子である。電子輸送層２５と背面電極２７との間には、電子注入層が配置されていてもよい。図９に示す形態例においては、発光層２６を、本実施形態における前述の電荷輸送性膜とすることが好ましい。この場合、本実施形態における前述の電荷輸送性膜には、発光材料を少なくとも１種含有させる。 FIG. 9 shows the layer configuration (3) described above.
The organic electroluminescence device shown in FIG. 9 is a device in which a transparent electrode 22, a light emitting layer 26, an electron transport layer 25, and a back electrode 27 are laminated in this order on a transparent insulating substrate 21. FIG. An electron injection layer may be disposed between the electron transport layer 25 and the back electrode 27 . In the embodiment shown in FIG. 9, the light-emitting layer 26 is preferably the charge-transporting film described above in this embodiment. In this case, the aforementioned charge-transporting film in this embodiment contains at least one light-emitting material.

図１０は、単層型の層構成を示す。図１０に示す有機電界発光素子は、透明絶縁体基板２１上に、透明電極２２、正孔輸送性能を有する発光層２６、及び背面電極２７がこの順に積層された素子である。図１０に示す形態例においては、発光層２６を、本実施形態における前述の電荷輸送性膜とする。この場合、本実施形態における前述の電荷輸送性膜には、発光材料を少なくとも１種含有させる。 FIG. 10 shows a single layer type layer structure. The organic electroluminescence device shown in FIG. 10 is a device in which a transparent electrode 22, a light-emitting layer 26 having hole-transporting properties, and a back electrode 27 are laminated in this order on a transparent insulating substrate 21. FIG. In the embodiment shown in FIG. 10, the light-emitting layer 26 is the charge-transporting film described above in this embodiment. In this case, the aforementioned charge-transporting film in this embodiment contains at least one light-emitting material.

図７乃至図１０に示す各有機電界発光素子において、背面電極２７上には、水分や酸素による有機電界発光素子の劣化を防ぐ目的で、保護層を設けてもよい。 In each organic electroluminescent device shown in FIGS. 7 to 10, a protective layer may be provided on the back electrode 27 for the purpose of preventing deterioration of the organic electroluminescent device due to moisture or oxygen.

トップエミッション構造とする場合、又は、２つの電極を共に透明電極とする場合は、図７乃至図１０に示される層構成を複数段積み重ねた構造としてもよい。 When a top emission structure is used, or when both electrodes are transparent electrodes, a structure in which the layer structures shown in FIGS. 7 to 10 are stacked in multiple stages may be used.

以下、図７乃至図１０における各層をより詳細に説明する。 Each layer in FIGS. 7 to 10 will be described in more detail below.

透明絶縁体基板２１について透明とは、可視領域の光の透過率が１０％以上であることを意味し、透過率が７５％以上であることが好ましい。
透明絶縁体基板２１としては、例えば、ガラス板、石英板、金属箔、樹脂製フィルムが用いられる。樹脂製フィルムの材料としては、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等のメタクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂が挙げられる。
透明絶縁体基板２１は、透水性や透ガス性を抑える目的で、表面処理を行なってもよく、積層構造にしてもよい。 Regarding the transparent insulator substrate 21, being transparent means that the transmittance of light in the visible region is 10% or more, and the transmittance is preferably 75% or more.
As the transparent insulator substrate 21, for example, a glass plate, a quartz plate, a metal foil, or a resin film is used. Materials for the resin film include methacrylic resins such as polymethyl methacrylate (PMMA), polyester resins such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), and polycarbonate resins.
The transparent insulator substrate 21 may be surface-treated or may have a laminated structure for the purpose of suppressing water permeability and gas permeability.

透明電極２２は、透明絶縁体基板２１と同様に発光を取り出すため透明であって、かつ正孔の注入を行うため仕事関数の大きな電極が好ましく、仕事関数が４ｅＶ以上の電極が好ましい。 As with the transparent insulator substrate 21, the transparent electrode 22 is preferably transparent in order to extract emitted light and has a large work function in order to inject holes, preferably an electrode having a work function of 4 eV or more.

透明電極２２について透明とは、可視領域の光の透過率が１０％以上であることを意味し、透過率が７５％以上であることが好ましい。
透明電極２２の材料としては、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛等の金属酸化物；アルミニウム、ニッケル、金、銀、白金、パラジウム等の金属；ヨウ化銅等のハロゲン化金属；カーボンブラック、ポリ（３－メチルチオフェン）、ポリピロール、ポリアニリン等の導電性高分子；が挙げられる。
透明電極２２のシート抵抗は、低いほど望ましく、数百Ω／□以下が好ましく、１００Ω／□以下がより好ましい。 Regarding the transparent electrode 22, being transparent means that the transmittance of light in the visible region is 10% or more, and the transmittance is preferably 75% or more.
Materials for the transparent electrode 22 include metal oxides such as indium tin oxide (ITO), tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and indium zinc oxide; metals such as aluminum, nickel, gold, silver, platinum, and palladium; metal halides such as copper; conductive polymers such as carbon black, poly(3-methylthiophene), polypyrrole and polyaniline;
The sheet resistance of the transparent electrode 22 is preferably as low as possible, preferably several hundred Ω/□ or less, more preferably 100 Ω/□ or less.

有機化合物層（図７乃至図１０において、符号２３乃至２６で示される層）は、その機能に応じて、正孔輸送材料、正孔注入材料、電子輸送材料、電子注入材料、及び発光材料から選択される材料を含む。
有機化合物層が本実施形態における前述の電荷輸送性膜である場合には、これら材料と共に、架橋性基を有する正孔輸送化合物及び架橋性基を有する電子輸送化合物を混合した組成物を用いて層形成してもよい。 The organic compound layers (layers denoted by reference numerals 23 to 26 in FIGS. 7 to 10) are composed of a hole transport material, a hole injection material, an electron transport material, an electron injection material, and a light emitting material, depending on their functions. Including selected materials.
When the organic compound layer is the aforementioned charge-transporting film in the present embodiment, a composition obtained by mixing a hole-transporting compound having a crosslinkable group and an electron-transporting compound having a crosslinkable group together with these materials is used. It may be layered.

正孔輸送材料としては、テトラフェニレンジアミン誘導体、トリフェニルアミン誘導体、カルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、アリールヒドラゾン誘導体、ポルフィリン系化合物が挙げられ、テトラフェニレンジアミン誘導体、スピロフルオレン誘導体、トリフェニルアミン誘導体が挙げられる。 Examples of hole-transporting materials include tetraphenylenediamine derivatives, triphenylamine derivatives, carbazole derivatives, stilbene derivatives, arylhydrazone derivatives, and porphyrin compounds, including tetraphenylenediamine derivatives, spirofluorene derivatives, and triphenylamine derivatives. .

正孔注入材料としては、フェニレンジアミン誘導体、フタロシアニン誘導体、インダンスレン誘導体、ポリアルキレンジオキシチオフェン誘導体等が挙げられ、これらには、ルイス酸、スルホン酸等の有機酸、塩化鉄等の無機酸を混合してもよい。 Examples of hole injection materials include phenylenediamine derivatives, phthalocyanine derivatives, indanthrene derivatives, polyalkylenedioxythiophene derivatives, and the like. may be mixed.

電子輸送材料としては、オキサジアゾール誘導体、ニトロ置換フルオレノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、シロール誘導体、キレート型有機金属錯体、多核又は縮合芳香環化合物、ペリレン誘導体、トリアゾール誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体等が挙げられる。 Examples of electron transport materials include oxadiazole derivatives, nitro-substituted fluorenone derivatives, diphenoquinone derivatives, thiopyran dioxide derivatives, silole derivatives, chelate-type organometallic complexes, polynuclear or condensed aromatic ring compounds, perylene derivatives, triazole derivatives, and fluorenylidene. methane derivatives and the like.

電子注入材料としては、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ等の金属やＬｉＦ、ＭｇＦ等の金属フッ化物、ＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＬｉＯ等の金属酸化物が挙げられる。 Examples of electron injection materials include metals such as Li, Ca and Sr, metal fluorides such as LiF and MgF, and metal oxides such as MgO, Al2O3 and LiO.

発光材料としては、固体状態で高い発光量子効率を示す化合物が望ましい。発光材料は、低分子化合物及び高分子化合物のいずれでもよい。
有機低分子化合物としては、キレート型有機金属錯体、多核又は縮合芳香環化合物、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、スチリルアリーレン誘導体、シロール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサチアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体が挙げられる。
有機高分子化合物としては、ポリパラフェニレン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリアセチレン誘導体が挙げられる。 Compounds that exhibit high emission quantum efficiency in a solid state are desirable as light-emitting materials. The luminescent material may be either a low-molecular-weight compound or a high-molecular-weight compound.
Organic low-molecular-weight compounds include chelate-type organometallic complexes, polynuclear or condensed aromatic ring compounds, perylene derivatives, coumarin derivatives, styrylarylene derivatives, silole derivatives, oxazole derivatives, oxathiazole derivatives, and oxadiazole derivatives.
Examples of organic polymer compounds include polyparaphenylene derivatives, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, and polyacetylene derivatives.

発光材料の具体例として、下記例示化合物（VI－１）乃至（VI－１７）が挙げられる。
なお、下記例示化合物（VI－１）乃至（VI－１７）は、電子輸送材料として用いてもよい。 Specific examples of the luminescent material include the following exemplary compounds (VI-1) to (VI-17).
The following exemplary compounds (VI-1) to (VI-17) may be used as electron transport materials.





例示化合物（ＶＩ－１３）乃至（ＶＩ－１７）中、ｎ及びｇはそれぞれ独立に１以上の整数であり、Ｖは２価の連結基である。Ｖとしては、例えば、下記の２価の基が挙げられる。
下記の２価の基において、ｇは１以上の整数を表し、ｈは０以上５以下の整数を表す。 In Exemplified Compounds (VI-13) to (VI-17), n and g are each independently an integer of 1 or more, and V is a divalent linking group. Examples of V include the following divalent groups.
In the following divalent groups, g represents an integer of 1 or more, and h represents an integer of 0 or more and 5 or less.


有機電界発光素子の耐久性の向上又は発光効率の向上を目的に、発光材料の中に、発光材料とは異なる色素化合物をゲスト材料としてドーピングしてもよい。
色素化合物のドーピング量は、ホスト１００質量部に対して、０．００１質量部以上４０質量部以下が好ましく、０．０１質量部以上１０質量部以下がより好ましい。 For the purpose of improving the durability or improving the luminous efficiency of the organic electroluminescence device, the luminescent material may be doped with a dye compound different from the luminescent material as a guest material.
The doping amount of the dye compound is preferably 0.001 to 40 parts by mass, more preferably 0.01 to 10 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the host.

ドーピング用の色素化合物としては、クマリン誘導体、ＤＣＭ誘導体、キナクリドン誘導体、ペリミドン誘導体、ベンゾピラン誘導体、ローダミン誘導体、ベンゾチオキサンテン誘導体、ルブレン誘導体、ポルフィリン誘導体；ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、レニウム、オスニウム、イリジウム、白金、及び金等の金属錯体化合物；などが挙げられる。
ドーピング用の色素化合物の具体例として、例示化合物（ＶＩＩ－１）～（ＶＩＩ－６）が挙げられる。 Dye compounds for doping include coumarin derivatives, DCM derivatives, quinacridone derivatives, perimidone derivatives, benzopyran derivatives, rhodamine derivatives, benzothioxanthene derivatives, rubrene derivatives, porphyrin derivatives; ruthenium, rhodium, palladium, silver, rhenium, osnium, iridium. , platinum, and metal complex compounds such as gold; and the like.
Specific examples of dye compounds for doping include Exemplary Compounds (VII-1) to (VII-6).


各有機化合物層は、結着樹脂を含有していてもよい。
結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリススチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレンブタジエン共重合体、塩化ビニルデン－アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル－酢酸ビニル－無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、ポリ－Ｎ－ビニルカルバゾール樹脂、ポリシラン樹脂、ポリチオフェン、ポリピロール等の導電性樹脂が挙げられる。
各有機化合物層は、必要に応じて、公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤等を含有していてもよい。 Each organic compound layer may contain a binder resin.
Binder resins include polycarbonate resins, polyester resins, methacrylic resins, acrylic resins, polyvinyl chloride resins, cellulose resins, urethane resins, epoxy resins, polystyrene resins, polyvinyl acetate resins, styrene-butadiene copolymers, and vinylidene chloride-acrylonitrile. Conductive resins such as copolymers, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymers, silicon resins, poly-N-vinylcarbazole resins, polysilane resins, polythiophenes, and polypyrroles can be mentioned.
Each organic compound layer may contain known antioxidants, ultraviolet absorbers, plasticizers and the like, if necessary.

背面電極２７の材料としては、真空蒸着可能で、電子注入を行なうため仕事関数の小さな材料が好ましく、金属、金属酸化物、金属フッ化物が好ましい。
金属としては、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、インジウム、リチウム、カルシウム及びこれらの合金が挙げられる。
金属酸化物としては、酸化リチウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化スズインジウム、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化インジウム亜鉛が挙げられる。
金属フッ化物としては、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化カルシウム、フッ化アルミニウムが挙げられる。 As the material of the back electrode 27, a material that can be vacuum-deposited and has a small work function for electron injection is preferable, and a metal, a metal oxide, and a metal fluoride are preferable.
Metals include magnesium, aluminum, gold, silver, indium, lithium, calcium and alloys thereof.
Metal oxides include lithium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, indium tin oxide, tin oxide, indium oxide, zinc oxide, and indium zinc oxide.
Metal fluorides include lithium fluoride, magnesium fluoride, strontium fluoride, calcium fluoride, and aluminum fluoride.

背面電極２７上には、保護層を設けてもよい。
保護層の材料としては、インジウム、スズ、鉛、金、銀、銅、アルミニウム等の金属；酸化マグネシウム、二酸化ケイ素、酸化チタン等の金属酸化物；ポリエチレン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂；が挙げられる。 A protective layer may be provided on the back electrode 27 .
Materials for the protective layer include metals such as indium, tin, lead, gold, silver, copper, and aluminum; metal oxides such as magnesium oxide, silicon dioxide, and titanium oxide; resins such as polyethylene resin, polyurea resin, and polyimide resin; are mentioned.

透明電極２２、各有機化合物層、背面電極２７、及び保護層の厚さは、一般的に、０．００１μｍ以上１０μｍ以下であり、０．００１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。 The thickness of the transparent electrode 22, each organic compound layer, the back electrode 27, and the protective layer is generally 0.001 μm or more and 10 μm or less, preferably 0.001 μm or more and 5 μm or less.

図７乃至図１０に示される有機電界発光素子は、透明絶縁体基板２１上に、透明電極２２、各有機化合物層、及び背面電極２７を順次形成することで作製される。
透明電極２２、各有機化合物層、及び背面電極２７は、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、塗布法等により形成される。
塗布法は、材料を適切な溶媒に溶解又は分散した塗布液を透明電極２２上に塗布し、塗布膜を乾燥させる成膜法である。
塗布液の塗布方法としては、スピンコーティング法、ダイコート法、インクジェット法、キャスト法、ディップ法等が挙げられる。 The organic electroluminescence device shown in FIGS. 7 to 10 is produced by sequentially forming a transparent electrode 22 , each organic compound layer, and a back electrode 27 on a transparent insulating substrate 21 .
The transparent electrode 22, each organic compound layer, and the back electrode 27 are formed by, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a coating method, or the like.
The coating method is a film-forming method in which a coating liquid obtained by dissolving or dispersing a material in an appropriate solvent is coated on the transparent electrode 22 and the coating film is dried.
Examples of the coating method of the coating liquid include a spin coating method, a die coating method, an inkjet method, a casting method, and a dipping method.

有機化合物層における各材料の含有状態は、分子が分散した状態（分子分散状態）でもよく、粒子を形成して分散した状態（粒子分散状態）でもよい。
塗布液を用いた成膜法において分子分散状態にするためには、塗布液の溶媒を、各材料の分散性及び溶解性を考慮して選択する。
塗布液を用いた成膜法において粒子分散状態にするためには、ボールミル、サンドミル、ペイントシェイカー、アトライター、ホモジナイザー、超音波のいずれかを利用して塗布液を調製する。 The state in which each material is contained in the organic compound layer may be a state in which molecules are dispersed (molecularly dispersed state) or a state in which particles are formed and dispersed (particle dispersed state).
In order to obtain a molecularly dispersed state in the film forming method using the coating liquid, the solvent of the coating liquid is selected in consideration of the dispersibility and solubility of each material.
In the film forming method using a coating liquid, a ball mill, sand mill, paint shaker, attritor, homogenizer, or ultrasonic wave is used to prepare the coating liquid in order to make the particles dispersed.

本実施形態に係る有機電界発光素子を、マトリクス状又はセグメント状に配置して画像表示媒体が構成される。
有機電界発光素子をマトリクス状に配置する場合、電極のみをマトリクス状に配置する形態であってもよいし、電極及び有機化合物層をマトリクス状に配置する形態であってもよい。
有機電界発光素子をセグメント状に配置する場合、電極のみをセグメント状に配置する形態であってもよいし、電極及び有機化合物層をセグメント状に配置する形態であってもよい。
マトリクス状又はセグメント状の有機化合物層は、インクジェット法により形成してもよい。 An image display medium is constructed by arranging the organic electroluminescent devices according to the present embodiment in a matrix or in a segment.
When the organic electroluminescent elements are arranged in a matrix, only the electrodes may be arranged in a matrix, or the electrodes and the organic compound layer may be arranged in a matrix.
When the organic electroluminescence elements are arranged in a segment, only the electrodes may be arranged in a segment, or the electrodes and the organic compound layer may be arranged in a segment.
The matrix-like or segment-like organic compound layer may be formed by an inkjet method.

マトリクス状の有機電界発光素子及びセグメント状の有機電界発光素子の駆動装置及び駆動方法としては、特開平２－１４８６８７号公報、特開平６－３０１３５５号公報、特開平５－２９０８０号、特開平７－１３４５５８号公報、特開平８－２３４６８５号公報、特開平８－２４１０４７号公報、特許第２７８４６１５号公報、米国特許５８２８４２９号明細書、米国特許６０２３３０８号明細書などに記載の駆動装置及び駆動方法を適用し得る。 Driving devices and driving methods for matrix-shaped organic electroluminescent elements and segment-shaped organic electroluminescent elements are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2-148687, 6-301355, 5-29080, and 7. -134558, JP-A-8-234685, JP-A-8-241047, Japanese Patent No. 2784615, US Pat. No. 5,828,429, US Pat. No. 6,023,308, etc. applicable.

以下、実施例及び比較例について説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。尚、以下において「部」は、特に断りのない限り質量基準である。 Examples and comparative examples will be described below, but the present invention is not limited to the following examples. In the following, "parts" are based on mass unless otherwise specified.

＜合成例Ａ１＞
化合物３－５として、前記一般式（３Ａ）で表され、かつ、Ａ１とＴ１とｐとの組み合わせが前述の具体例番号（２－５）である化合物を準備した。
５００ｍｌフラスコに、化合物３―５を８０ｇ、エピクロロヒドリン２３０ｇ、水酸化ナトリウム２６．８ｇ、トリエチルアミン３ｇを入れ、窒素置換したのち、室温（２５℃）で２４時間撹拌した。反応後、希塩酸水溶液、次いで水で洗浄した。濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物４―５を６４ｇ得た。
なお、化合物４－５は、前記一般式（４Ａ）で表され、かつ、Ａ２とＴ２とｑとの組み合わせが前述の具体例番号（２－５）である。 <Synthesis Example A1>
As the compound 3-5, a compound represented by the general formula (3A) and having the combination of A 1 , T 1 and p as the specific example number (2-5) was prepared.
A 500 ml flask was charged with 80 g of compound 3-5, 230 g of epichlorohydrin, 26.8 g of sodium hydroxide and 3 g of triethylamine, and after nitrogen substitution, the mixture was stirred at room temperature (25° C.) for 24 hours. After the reaction, it was washed with a dilute hydrochloric acid aqueous solution and then with water. After concentration, purification was performed by silica gel chromatography to obtain 64 g of compound 4-5.
The compound 4-5 is represented by the above general formula (4A), and the combination of A 2 , T 2 and q is the above specific example number (2-5).

化合物３－２９として、前記一般式（３Ａ）で表され、かつ、Ａ１とＴ１とｐとの組み合わせが前述の具体例番号（２－２９）である化合物を準備した。
２０００ｍｌフラスコに、化合物３－２９を７９．８ｇ、テトラヒドロフランを７００ｍｌ、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を１．８ｇ入れ、窒素置換したのち、５０℃に加熱した。この溶液に、テトラヒドロフラン２００ｍｌに化合物４－５を５０．０ｇ溶かした溶液を、３０分かけて滴下した。滴下終了後、２時間反応させた後、１０Ｌのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－１）の樹脂である樹脂（Ａ－１）を１０７．０ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で６００００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は１．０であった。 As the compound 3-29, a compound represented by the general formula (3A) and having the combination of A 1 , T 1 and p represented by the above specific example number (2-29) was prepared.
A 2000 ml flask was charged with 79.8 g of compound 3-29, 700 ml of tetrahydrofuran, and 1.8 g of boron trifluoride diethyl ether complex, and the atmosphere was purged with nitrogen and heated to 50°C. A solution of 50.0 g of compound 4-5 dissolved in 200 ml of tetrahydrofuran was added dropwise to this solution over 30 minutes. After completion of the dropwise addition, the mixture was allowed to react for 2 hours, and then added dropwise to 10 L of methanol to precipitate a polymer. The obtained polymer was thoroughly washed with methanol and dried to obtain 107.0 g of resin (A-1), which is resin number (A-1) shown as a specific example of the first charge-transporting resin. rice field.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 60000 in terms of polystyrene. Moreover, the value of said M H /(M H +M P ) was 1.0.

＜合成例Ａ２＞
合成例Ａ１で得られた樹脂（Ａ－１）１０ｇを３００ｍｌのフラスコに入れ、４－ヨードメチルスチレン１８ｇ、ニトロベンゼン０．１ｇをフラスコに入れ、テトラヒドロフランを１００ｍｌ加えて溶解した。これに、ｔ－ブトキシナトリウム５．８ｇを室温（２５℃）で２時間かけて加えた後、５０℃で３時間反応させた。反応終了後、トルエン１００ｍｌを加え、希塩酸、ついで水で洗浄した後、５００ｍｌのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－２）の樹脂である樹脂（Ａ－２）を１０．１ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で６１０００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は０であった。 <Synthesis Example A2>
10 g of Resin (A-1) obtained in Synthesis Example A1 was put into a 300 ml flask, 18 g of 4-iodomethylstyrene and 0.1 g of nitrobenzene were put into the flask, and 100 ml of tetrahydrofuran was added to dissolve them. To this, 5.8 g of t-butoxysodium was added at room temperature (25°C) over 2 hours, and then reacted at 50°C for 3 hours. After completion of the reaction, 100 ml of toluene was added, washed with dilute hydrochloric acid and then with water, and then added dropwise to 500 ml of methanol to precipitate a polymer. The resulting polymer was thoroughly washed with methanol and dried to obtain 10.1 g of resin (A-2), which is the resin number (A-2) shown as a specific example of the first charge-transporting resin. rice field.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 61000 in terms of polystyrene. In addition, the value of M H /(M H +M P ) was zero.

＜合成例Ａ３＞
４－ヨードメチルスチレンの添加量を１．０ｇ、ｔ－ブトキシナトリウムの添加量を０．３ｇとした以外は、合成例Ａ２と同様にして、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－３）の樹脂である樹脂（Ａ－３）を９．９ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で６００００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は０．９５であった。 <Synthesis Example A3>
A specific example of the first charge-transporting resin was shown in the same manner as in Synthesis Example A2, except that the amount of 4-iodomethylstyrene added was 1.0 g and the amount of sodium t-butoxy was 0.3 g. 9.9 g of resin (A-3), which is the resin of number (A-3), was obtained.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 60000 in terms of polystyrene. In addition, the value of M H /(M H +M P ) was 0.95.

＜合成例Ａ４＞
４－ヨードメチルスチレンの添加量を１．８ｇ、ｔ－ブトキシナトリウムの添加量を０．５ｇとした以外は、合成例Ａ２と同様にして、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－４）の樹脂である樹脂（Ａ－４）を９．９ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で６００００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は０．８５であった。 <Synthesis Example A4>
A specific example of the first charge-transporting resin was shown in the same manner as in Synthesis Example A2, except that the amount of 4-iodomethylstyrene added was 1.8 g and the amount of t-butoxysodium added was 0.5 g. 9.9 g of resin (A-4), which is resin number (A-4), was obtained.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 60000 in terms of polystyrene. Moreover, the value of said M H /(M H +M P ) was 0.85.

＜合成例Ａ５＞
４－ヨードメチルスチレンの添加量を９．０ｇ、ｔ－ブトキシナトリウムの添加量を２．９ｇとした以外は、合成例Ａ２と同様にして、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－５）の樹脂である樹脂（Ａ－５）を９．９ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で６００００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は０．４５であった。 <Synthesis Example A5>
A specific example of the first charge-transporting resin was shown in the same manner as in Synthesis Example A2, except that the amount of 4-iodomethylstyrene added was 9.0 g and the amount of t-butoxysodium added was 2.9 g. 9.9 g of resin (A-5), which is the resin of number (A-5), was obtained.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 60000 in terms of polystyrene. In addition, the value of M H /(M H +M P ) was 0.45.

＜合成例Ａ６＞
化合物３－１７として、前記一般式（３Ａ）で表され、かつ、Ａ１とＴ１とｐとの組み合わせが前述の具体例番号（２－１７）である化合物を準備した。
５００ｍｌフラスコに、化合物３―１７を６０ｇ、エピクロロヒドリン２００ｇ、水酸化ナトリウム１７．６ｇ、トリエチルアミン２ｇを入れ、窒素置換したのち、室温（２５℃）で２４時間撹拌した。反応後、希塩酸水溶液、次いで水で洗浄した。濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物４―１７を７４．５ｇ得た。
なお、化合物４－１７は、前記一般式（４Ａ）で表され、かつ、Ａ２とＴ２とｑとの組み合わせが前述の具体例番号（２－１７）である。 <Synthesis Example A6>
As the compound 3-17, a compound represented by the general formula (3A) and having the combination of A 1 , T 1 and p represented by the specific example number (2-17) was prepared.
A 500 ml flask was charged with 60 g of compound 3-17, 200 g of epichlorohydrin, 17.6 g of sodium hydroxide and 2 g of triethylamine, and after nitrogen substitution, the mixture was stirred at room temperature (25° C.) for 24 hours. After the reaction, it was washed with a dilute hydrochloric acid aqueous solution and then with water. After concentration, purification was performed by silica gel chromatography to obtain 74.5 g of compound 4-17.
Compound 4-17 is represented by general formula (4A) above, and the combination of A 2 , T 2 and q is specific example number (2-17) above.

１０００ｍｌフラスコに、化合物３－１７を３９．４ｇ、テトラヒドロフランを７００ｍｌ、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体を１．０ｇ入れ、窒素置換したのち、５０℃に加熱した。この溶液に、テトラヒドロフラン２００ｍｌに化合物４－１７を４５．２ｇ溶かした溶液を、３０分かけて滴下した。滴下終了後、２時間反応させた後、１０Ｌのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－６）の樹脂である樹脂（Ａ－６）を７５．０ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で４００００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は１．０であった。 A 1000 ml flask was charged with 39.4 g of compound 3-17, 700 ml of tetrahydrofuran, and 1.0 g of boron trifluoride diethyl ether complex, and the atmosphere was purged with nitrogen and heated to 50°C. A solution prepared by dissolving 45.2 g of compound 4-17 in 200 ml of tetrahydrofuran was added dropwise to this solution over 30 minutes. After completion of the dropwise addition, the mixture was allowed to react for 2 hours, and then added dropwise to 10 L of methanol to precipitate a polymer. The obtained polymer was thoroughly washed with methanol and dried to obtain 75.0 g of resin (A-6), which is resin number (A-6) shown as a specific example of the first charge-transporting resin. rice field.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 40,000 in terms of polystyrene. Moreover, the value of said M H /(M H +M P ) was 1.0.

＜合成例Ａ７＞
２００ｍｌフラスコに、合成例Ａ６で得られた樹脂（Ａ－６）を８．０ｇ、テトラヒドロフランを１００ｍｌ、メタクリル酸クロライドを５２．０ｇ、トリエチルアミンを５０．０入れ、室温（２５℃）で２４時間反応した。反応終了後、１Ｌのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－７）の樹脂である樹脂（Ａ－７）を７．１ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で４１０００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は０であった。 <Synthesis Example A7>
8.0 g of the resin (A-6) obtained in Synthesis Example A6, 100 ml of tetrahydrofuran, 52.0 g of methacrylic acid chloride, and 50.0 g of triethylamine are placed in a 200 ml flask and reacted at room temperature (25° C.) for 24 hours. bottom. After completion of the reaction, the mixture was added dropwise to 1 L of methanol to precipitate a polymer. The resulting polymer was thoroughly washed with methanol and dried to obtain 7.1 g of resin (A-7), which is the resin number (A-7) shown as a specific example of the first charge-transporting resin. rice field.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 41000 in terms of polystyrene. In addition, the value of M H /(M H +M P ) was zero.

＜合成例Ａ８＞
５００ｍｌフラスコに、合成例Ａ６で得られた樹脂（Ａ－６）を８．０ｇ、テトラヒドロフランを１００ｍｌ、メタクリル酸クロライドを１．０ｇ、トリエチルアミンを１．０入れ、室温（２５℃）で２４時間反応した。反応終了後、１Ｌのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－８）の樹脂である樹脂（Ａ－８）を７．４ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で４００００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は０．９５であった。 <Synthesis Example A8>
Into a 500 ml flask, 8.0 g of the resin (A-6) obtained in Synthesis Example A6, 100 ml of tetrahydrofuran, 1.0 g of methacrylic acid chloride, and 1.0 ml of triethylamine are added, and reacted at room temperature (25° C.) for 24 hours. bottom. After completion of the reaction, the mixture was added dropwise to 1 L of methanol to precipitate a polymer. The resulting polymer was sufficiently washed with methanol and dried to obtain 7.4 g of resin (A-8), which is resin number (A-8) shown as a specific example of the first charge-transporting resin. rice field.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 40,000 in terms of polystyrene. In addition, the value of M H /(M H +M P ) was 0.95.

＜合成例Ａ９～合成例Ａ３１＞
合成例Ａ１～Ａ８と同様にして、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－９）～（Ａ－３１）の樹脂である樹脂（Ａ－９）～（Ａ－３１）を得た。 <Synthesis Example A9 to Synthesis Example A31>
Resins (A-9) to (A-31), which are resins numbered (A-9) to (A-31) shown as specific examples of the first charge-transporting resin, in the same manner as in Synthesis Examples A1 to A8. ).

＜合成例Ａ３２＞
２００ｍｌフラスコに、合成例Ａ９で得られた樹脂（Ａ－９）を８．０ｇ、テトラヒドロフラン１００ｍｌ、エピクロロヒドリン５０ｇ、水酸化ナトリウム４．４ｇ、トリエチルアミン２．５ｇを入れ、窒素置換したのち、４０℃で４８時間撹拌した。反応終了後、１Ｌのメタノールに滴下してポリマーを析出させた。得られたポリマーを十分にメタノールで洗浄し、乾燥して、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－３２）の樹脂である樹脂（Ａ－３２）を７．８ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で３１０００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は０．４５であった。 <Synthesis Example A32>
A 200 ml flask was charged with 8.0 g of the resin (A-9) obtained in Synthesis Example A9, 100 ml of tetrahydrofuran, 50 g of epichlorohydrin, 4.4 g of sodium hydroxide, and 2.5 g of triethylamine. Stir at 40° C. for 48 hours. After completion of the reaction, the mixture was added dropwise to 1 L of methanol to precipitate a polymer. The obtained polymer was thoroughly washed with methanol and dried to obtain 7.8 g of resin (A-32), which is the resin number (A-32) shown as a specific example of the first charge-transporting resin. rice field.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 31000 in terms of polystyrene. In addition, the value of M H /(M H +M P ) was 0.45.

＜合成例Ａ３３＞
使用するエピクロロヒドリンを１００ｇ、水酸化ナトリウムを８．８ｇ、トリエチルアミンを５ｇに変更した以外は合成例Ａ３２と同様にして、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－３３）の樹脂である樹脂（Ａ－３３）を７．９ｇ得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で３１０００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は０であった。 <Synthesis Example A33>
The number (A- 7.9 g of resin (A-33), which is the resin of 33), was obtained.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 31000 in terms of polystyrene. In addition, the value of M H /(M H +M P ) was zero.

＜合成例Ａ３４＞
エピクロロヒドリンを３－（クロロメチル）－３－メチルオキセタンに変更する以外は合成例Ａ３３と同様にして、第１の電荷輸送性樹脂の具体例として示した番号（Ａ－３４）の樹脂である樹脂（Ａ－３４）を得た。
ＧＰＣで分子量を測定したところ、ポリスチレン換算で３１０００であった。また、前記ＭＨ／（ＭＨ＋ＭＰ）の値は０であった。 <Synthesis Example A34>
Resin No. (A-34) shown as a specific example of the first charge-transporting resin in the same manner as in Synthesis Example A33 except that epichlorohydrin was changed to 3-(chloromethyl)-3-methyloxetane. A resin (A-34) was obtained.
When the molecular weight was measured by GPC, it was 31000 in terms of polystyrene. In addition, the value of M H /(M H +M P ) was zero.

＜合成例Ｂ１＞
化合物Ａ－４として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－４の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－４に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
また、化合物Ｂ－２として、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－２の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー（品名：ブレンマーＧＬＭ、日油製）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－４（分子量４１７．５）８．３５ｇ（０．０２ｍｏｌ）、化合物Ｂ－２（分子量１６０．１７）３．２０ｇ（０．０２ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．４４ｇ（０．０２ｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン５０ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）６．８３ｇ（０．０４４ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、４時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－１（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－１）を７．８５ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－１の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２８０００であった。 <Synthesis Example B1>
Compound A-4 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-4, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (that is, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-4) was prepared.
Further, the compound B-2 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-2, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Blenmer GLM, manufactured by NOF Corporation) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, 8.35 g (0.02 mol) of compound A-4 (molecular weight 417.5), 3.20 g (0.02 mol) of compound B-2 (molecular weight 160.17), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.44 g (0.02 mol) and 50 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0° C. under a stream of nitrogen while stirring. 6.83 g (0.044 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 7.85 g of Resin B-1 (Resin B-1 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-1 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 28,000.

＜合成例Ｂ２＞
化合物Ａ－４として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－４の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－４に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
また、化合物Ｂ－４３として、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－４３の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー（品名：エポキシエステル４０ＥＭ、共栄社化学製）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－４（分子量４１７．５）８．３５ｇ（０．０２ｍｏｌ）、化合物Ｂ－４３（分子量３８８．４５）７．７７ｇ（０．０２ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．４４ｇ（０．０２ｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン５０ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）６．８３ｇ（０．０４４ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、４時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール２００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－２（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－２）を１１．１７ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－２の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２７０００であった。 <Synthesis Example B2>
Compound A-4 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-4, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (that is, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-4) was prepared.
Further, the compound B-43 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-43, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Epoxy Ester 40EM, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, 8.35 g (0.02 mol) of compound A-4 (molecular weight 417.5), 7.77 g (0.02 mol) of compound B-43 (molecular weight 388.45), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.44 g (0.02 mol) and 50 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0° C. under a stream of nitrogen while stirring. 6.83 g (0.044 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 11.17 g of Resin B-2 (Resin B-2 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-2 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 27,000.

＜合成例Ｂ３＞
化合物Ａ－６として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－６の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－６に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
また、化合物Ｂ－２として、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－２の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー（品名：ブレンマーＧＬＭ、日油製）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－６（分子量４６５．５４）５．００ｇ（０．０１０７ｍｏｌ）、化合物Ｂ－２（分子量１６０．１７）１．８９ｇ（０．０１１８ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．６９ｇ（０．０２２０ｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン２５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．６７ｇ（０．０２４ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、４時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－３（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－３）を５．８５ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－３の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２２０００であった。 <Synthesis Example B3>
The compound A-6 is represented by the general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-6, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (that is, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-6) was prepared.
Further, the compound B-2 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-2, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Blenmer GLM, manufactured by NOF Corporation) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
Into a flask, compound A-6 (molecular weight 465.54) 5.00 g (0.0107 mol), compound B-2 (molecular weight 160.17) 1.89 g (0.0118 mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.69 g (0.0220 mol) and 25 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0° C. under a stream of nitrogen while stirring. 3.67 g (0.024 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight: 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 5.85 g of Resin B-3 (Resin B-3 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-3 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 22,000.

＜合成例Ｂ４＞
２Ｌフラスコに、４－ヒドロキシスチレン（分子量１２０．１５）１２０．１５ｇ（１．０ｍｏｌ）、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（分子量９１．１５）９３．８８ｇ（１．０３ｍｏｌ）、ニトロベンゼン（分子量１２３．０６）１．２３ｇ（０．０１ｍｏｌ）、及びＮ－メチルピロリドン７００ｍｌを加えて、８０℃で１時間撹拌した。その後、一旦室温（２５℃）まで温度を戻した後、３－クロロ－１，２－プロパンジオール（分子量１１０．５４）１１０．５４ｇ（１．０ｍｏｌ）を添加し、８０℃で５時間反応させた。反応後、トルエンを添加して水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物Ｂ－３（分子量１９４．２３）１４７．６１ｇを得た。
上記化合物Ｂ－３は、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－３の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。 <Synthesis Example B4>
In a 2 L flask, 120.15 g (1.0 mol) of 4-hydroxystyrene (molecular weight 120.15), 93.88 g (1.03 mol) of tetramethylammonium hydroxide (molecular weight 91.15), nitrobenzene (molecular weight 123.06) 1.23 g (0.01 mol) and 700 ml of N-methylpyrrolidone were added and stirred at 80° C. for 1 hour. After that, once the temperature was returned to room temperature (25°C), 110.54 g (1.0 mol) of 3-chloro-1,2-propanediol (molecular weight: 110.54) was added and reacted at 80°C for 5 hours. rice field. After the reaction, toluene was added, washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 147.61 g of compound B-3 (molecular weight: 194.23).
The compound B-3 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of Specific Example Y-3, and Z 2 is A non-charge-transporting diol monomer in which the groups shown are hydroxyl groups.

化合物Ａ－６として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－６の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－６に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－６（分子量４６５．５４）５．００ｇ（０．０１０７ｍｏｌ）、化合物Ｂ－３（分子量１９４．２３）２．２９ｇ（０．０１１８ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．６９ｇ（０．０２２０ｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン２５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．６７ｇ（０．０２４ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、４時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－４（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－４）を６．３１ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－４の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２６０００であった。 The compound A-6 is represented by the general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-6, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (that is, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-6) was prepared.
In a flask, compound A-6 (molecular weight 465.54) 5.00 g (0.0107 mol), compound B-3 (molecular weight 194.23) 2.29 g (0.0118 mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.69 g (0.0220 mol) and 25 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0° C. under a stream of nitrogen while stirring. 3.67 g (0.024 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight: 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 6.31 g of Resin B-4 (Resin B-4 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-4 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 26,000.

＜合成例Ｂ５＞
化合物Ａ－１８として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－１８の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－１８に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
また、化合物Ｂ－２として、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－２の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー（品名：ブレンマーＧＬＭ、日油製）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－１８（分子量７８４．９４）６．６５ｇ（０．００８５ｍｏｌ）、化合物Ｂ－２（分子量１６０．１７）１．４３ｇ（０．００８９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．１２ｇ（０．０１７４ｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン５０ｍｌ、Ｎ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）２．８９ｇ（０．０１８６ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、７時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－１１（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－１１）を５．３７ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－１１の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１２０００であった。 <Synthesis Example B5>
Compound A-18 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-18, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-18) was prepared.
Further, the compound B-2 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-2, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Blenmer GLM, manufactured by NOF Corporation) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, compound A-18 (molecular weight 784.94) 6.65 g (0.0085 mol), compound B-2 (molecular weight 160.17) 1.43 g (0.0089 mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.12 g (0.0174 mol), 50 ml of tetrahydrofuran and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added and cooled to 0° C. while stirring under a nitrogen stream. 2.89 g (0.0186 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 5.37 g of Resin B-11 (Resin B-11 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-11 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 12,000.

＜合成例Ｂ６＞
２Ｌフラスコに、グリシドール（分子量７４．０８）７４．０８ｇ（１．０ｍｏｌ）、４－ビニル安息香酸（分子量１４８．１６）１４８．１６ｇ（１．０ｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムクロリド（分子量２７７．９２）２７．７９ｇ（０．１ｍｏｌ）、ニトロベンゼン（分子量１２３．０６）１．２３ｇ（０．０１ｍｏｌ）、及びメチルエチルケトン７００ｍｌを加えて、窒素気流下で７時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物Ｂ－５（分子量２２２．２４）１８４．４６ｇを得た。
上記化合物Ｂ－５は、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－５の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。 <Synthesis Example B6>
Glycidol (molecular weight 74.08) 74.08 g (1.0 mol), 4-vinylbenzoic acid (molecular weight 148.16) 148.16 g (1.0 mol), tetrabutylammonium chloride (molecular weight 277.92) were placed in a 2 L flask. 27.79 g (0.1 mol), 1.23 g (0.01 mol) of nitrobenzene (molecular weight: 123.06), and 700 ml of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated under reflux for 7 hours under a nitrogen stream. After the reaction, the product was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 184.46 g of compound B-5 (molecular weight: 222.24).
The compound B-5 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of Specific Example Y-5, and Z 2 is A non-charge-transporting diol monomer in which the groups shown are hydroxyl groups.

化合物Ａ－１８として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－１８の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－１８に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－１８（分子量７８４．９４）６．６５ｇ（０．００８５ｍｏｌ）、化合物Ｂ－５（分子量２２２．２４）１．９８ｇ（０．００８９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．１２ｇ（０．０１７４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、及びＮ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）２．８９ｇ（０．０１８６ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、７時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－１３（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－１３）を６．３９ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－１３の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１６０００であった。 Compound A-18 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-18, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-18) was prepared.
In a flask, compound A-18 (molecular weight 784.94) 6.65g (0.0085mol), compound B-5 (molecular weight 222.24) 1.98g (0.0089mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.12 g (0.0174 mol), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added and cooled to 0° C. while stirring under a nitrogen stream. 2.89 g (0.0186 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 6.39 g of Resin B-13 (Resin B-13 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-13 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 16,000.

＜合成例Ｂ７＞
化合物Ａ－４３として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－４３の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－４３に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
また、化合物Ｂ－２として、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－２の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー（品名：ブレンマーＧＬＭ、日油製）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－４３（分子量８６１．０３）７．７５ｇ（０．００９ｍｏｌ）、化合物Ｂ－２（分子量１６０．１７）１．５９ｇ（０．００９９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．２５ｇ（０．０１８４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、及びＮ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．０７ｇ（０．０１９８ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、７時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－２０（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－２０）を７．２３ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－２０の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１４０００であった。 <Synthesis Example B7>
Compound A-43 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-43, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-43) was prepared.
Further, the compound B-2 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-2, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Blenmer GLM, manufactured by NOF Corporation) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, compound A-43 (molecular weight 861.03) 7.75g (0.009mol), compound B-2 (molecular weight 160.17) 1.59g (0.0099mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added and cooled to 0° C. while stirring under nitrogen flow. 3.07 g (0.0198 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 7.23 g of Resin B-20 (Resin B-20 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-20 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 14,000.

＜合成例Ｂ８＞
２Ｌフラスコに、３－エチル－３－オキセタンメタノール（分子量１１６．１６）１１６．１６ｇ（１．０ｍｏｌ）、メタクリル酸（分子量８６．０６）８６．０６ｇ（１．０ｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムクロリド（分子量２７７．９２）２７．７９ｇ（０．１ｍｏｌ）、ニトロベンゼン（分子量１２３．０６）１．２３ｇ（０．０１ｍｏｌ）、及びメチルエチルケトン７００ｍｌを加えて、窒素気流下で７時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物Ｂ－２３（分子量２１４．２６）１４３．５５ｇを得た。
上記化合物Ｂ－２３は、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－２３の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。 <Synthesis Example B8>
A 2 L flask was charged with 116.16 g (1.0 mol) of 3-ethyl-3-oxetanemethanol (molecular weight: 116.16), 86.06 g (1.0 mol) of methacrylic acid (molecular weight: 86.06), tetrabutylammonium chloride (molecular weight: 277.92) 27.79 g (0.1 mol), nitrobenzene (molecular weight 123.06) 1.23 g (0.01 mol), and methyl ethyl ketone 700 ml were added, and the mixture was heated under reflux for 7 hours under a nitrogen stream. After the reaction, the product was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 143.55 g of compound B-23 (molecular weight: 214.26).
The compound B-23 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-23, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer in which the groups shown are hydroxyl groups.

化合物Ａ－４３として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－４３の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－４３に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－４３（分子量８６１．０３）７．７５ｇ（０．００９ｍｏｌ）、化合物Ｂ－２３（分子量２１４．２６）２．１２ｇ（０．００９９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．２５ｇ（０．０１８４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、及びＮ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．０７ｇ（０．０１９８ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、７時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－２１（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－２１）を７．０２ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－２１の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１６０００であった。 Compound A-43 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-43, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-43) was prepared.
In a flask, compound A-43 (molecular weight 861.03) 7.75g (0.009mol), compound B-23 (molecular weight 214.26) 2.12g (0.0099mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added and cooled to 0° C. while stirring under nitrogen flow. 3.07 g (0.0198 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 7.02 g of Resin B-21 (Resin B-21 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-21 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 16,000.

＜合成例Ｂ９＞
２Ｌフラスコに、１，５－ヘキサジエンジエポキシド（分子量１１４．１４）１１４．１４ｇ（１．０ｍｏｌ）、メタクリル酸（分子量８６．０６）１７２．１２ｇ（２．０ｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムクロリド（分子量２７７．９２）２７．７９ｇ（０．１ｍｏｌ）、ニトロベンゼン（分子量１２３．０６）１．２３ｇ（０．０１ｍｏｌ）、及びメチルエチルケトン７００ｍｌを加えて、窒素気流下で７時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物Ｂ－３０（分子量３１４．３７）１９８．０５ｇを得た。
上記化合物Ｂ－３０は、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－３０の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。 <Synthesis Example B9>
In a 2 L flask, 114.14 g (1.0 mol) of 1,5-hexadiene diepoxide (molecular weight 114.14), 172.12 g (2.0 mol) of methacrylic acid (molecular weight 86.06), tetrabutylammonium chloride (molecular weight 277 .92) 27.79 g (0.1 mol), 1.23 g (0.01 mol) of nitrobenzene (molecular weight: 123.06), and 700 ml of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated under reflux for 7 hours under a nitrogen stream. After the reaction, the product was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 198.05 g of compound B-30 (molecular weight: 314.37).
The compound B-30 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-30, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer in which the groups shown are hydroxyl groups.

化合物Ａ－４３として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－４３の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－４３に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－４３（分子量８６１．０３）７．７５ｇ（０．００９ｍｏｌ）、前記合成例で得られた化合物Ｂ－３０（分子量３１４．３７）３．１１ｇ（０．００９９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．２５ｇ（０．０１８４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、及びＮ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．０７ｇ（０．０１９８ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、７時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－２４（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－２４）を７．４６ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－２４の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１４０００であった。 Compound A-43 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-43, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-43) was prepared.
In a flask, compound A-43 (molecular weight 861.03) 7.75 g (0.009 mol), compound B-30 obtained in the above synthesis example (molecular weight 314.37) 3.11 g (0.0099 mol), 4- 2.25 g (0.0184 mol) of dimethylaminopyridine (molecular weight: 122.17), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added, and the mixture was cooled to 0° C. while stirring under a nitrogen stream. 3.07 g (0.0198 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 7.46 g of Resin B-24 (Resin B-24 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-24 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 14,000.

＜合成例Ｂ１０＞
化合物Ａ－４７として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－４７の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－４７に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
また、化合物Ｂ－４１として、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－４１の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー（品名：エポキシエステル７０ＰＡ、共栄社化学製）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－４７（分子量７６４．９５）６．８８ｇ（０．００９ｍｏｌ）、化合物Ｂ－４１（分子量３６０．４０）３．５７ｇ（０．００９９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．２５ｇ（０．０１８４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、及びＮ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．０７ｇ（０．０１９８ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、１０時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール２００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－２６（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－２６）を８．６５ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－２６の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１４０００であった。 <Synthesis Example B10>
Compound A-47 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-47, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-47) was prepared.
Further, the compound B-41 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-41, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Epoxy Ester 70PA, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, compound A-47 (molecular weight 764.95) 6.88 g (0.009 mol), compound B-41 (molecular weight 360.40) 3.57 g (0.0099 mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added and cooled to 0° C. while stirring under nitrogen flow. 3.07 g (0.0198 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 10 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 8.65 g of Resin B-26 (Resin B-26 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-26 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 14,000.

＜合成例Ｂ１１＞
２Ｌフラスコに、１，７－オクタジエンジエポキシド（分子量１４２．２０）１４２．２０ｇ（１．０ｍｏｌ）、β－カルボキシエチルアクリレート（分子量１４４．１３）２８８．２６ｇ（２．０ｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムクロリド（分子量２７７．９２）２７．７９ｇ（０．１ｍｏｌ）、ニトロベンゼン（分子量１２３．０６）１．２３ｇ（０．０１ｍｏｌ）、及びメチルエチルケトン７００ｍｌを加えて、窒素気流下で７時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物Ｂ－３９（分子量４３０．４５）３６１．５９ｇを得た。
上記化合物Ｂ－３９は、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－３９の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。 <Synthesis Example B11>
In a 2 L flask, 142.20 g (1.0 mol) of 1,7-octadiene diepoxide (molecular weight 142.20), 288.26 g (2.0 mol) of β-carboxyethyl acrylate (molecular weight 144.13), tetrabutylammonium 27.79 g (0.1 mol) of chloride (molecular weight: 277.92), 1.23 g (0.01 mol) of nitrobenzene (molecular weight: 123.06), and 700 ml of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated under reflux for 7 hours under nitrogen stream. After the reaction, the product was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 361.59 g of compound B-39 (molecular weight: 430.45).
The compound B-39 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-39, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer in which the groups shown are hydroxyl groups.

化合物Ａ－６４として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－６４の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－６４に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－６４（分子量８１２．９９）７．３２ｇ（０．００９ｍｏｌ）、化合物Ｂ－３９（分子量４３０．４５）４．２６ｇ（０．００９９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．２５ｇ（０．０１８４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、及びＮ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．０７ｇ（０．０１９８ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、１４時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール２００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－２８（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－２８）を８．６５ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－２８の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２９０００であった。 Compound A-64 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-64, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-64) was prepared.
A flask was charged with 7.32 g (0.009 mol) of compound A-64 (molecular weight 812.99), 4.26 g (0.0099 mol) of compound B-39 (molecular weight 430.45), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122.99 mol). 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added and cooled to 0° C. while stirring under nitrogen flow. 3.07 g (0.0198 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 14 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 8.65 g of Resin B-28 (Resin B-28 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-28 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 29,000.

＜合成例Ｂ１２＞
２Ｌフラスコに、９，９－ビス（４－グリシジルオキシフェニル）フルオレン（分子量４６２．５５）２３１．２８ｇ（０．５ｍｏｌ）、メタクリル酸（分子量８６．０６）８６．０６ｇ（１．０ｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムクロリド（分子量２７７．９２）１３．９０ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ニトロベンゼン（分子量１２３．０６）０．６２ｇ（０．００５ｍｏｌ）、及びメチルエチルケトン７００ｍｌを加えて、窒素気流下で７時間加熱還流した。反応後、水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物Ｂ－６０（分子量７５８．８５）２４６．６３ｇを得た。
上記化合物Ｂ－６０は、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－６０の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。 <Synthesis Example B12>
In a 2 L flask, 9,9-bis(4-glycidyloxyphenyl)fluorene (molecular weight 462.55) 231.28 g (0.5 mol), methacrylic acid (molecular weight 86.06) 86.06 g (1.0 mol), tetra 13.90 g (0.05 mol) of butylammonium chloride (molecular weight: 277.92), 0.62 g (0.005 mol) of nitrobenzene (molecular weight: 123.06), and 700 ml of methyl ethyl ketone were added, and the mixture was heated under reflux for 7 hours under a nitrogen stream. . After the reaction, the reaction mixture was washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 246.63 g of compound B-60 (molecular weight: 758.85).
The compound B-60 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-60, and Z 2 is A non-charge-transporting diol monomer in which the groups shown are hydroxyl groups.

化合物Ａ－６４として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－６４の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－６４に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－６４（分子量８１２．９９）７．３２ｇ（０．００９ｍｏｌ）、化合物Ｂ－６０（分子量７５８．８５）７．５１ｇ（０．００９９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．２５ｇ（０．０１８４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、及びＮ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．０７ｇ（０．０１９８ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、１４時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール２００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－２９（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－２９）を１１．３４ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－２９の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は３２０００であった。 Compound A-64 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-64, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-64) was prepared.
A flask was charged with 7.32 g (0.009 mol) of compound A-64 (molecular weight 812.99), 7.51 g (0.0099 mol) of compound B-60 (molecular weight 758.85), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122.99 mol). 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added and cooled to 0° C. while stirring under nitrogen flow. 3.07 g (0.0198 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 14 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 11.34 g of Resin B-29 (Resin B-29 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-29 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 32,000.

＜合成例Ｂ１３＞
化合物Ａ－６７として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－６７の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－６７に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。
また、化合物Ｂ－５４として、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－５４の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマー（品名：エポキシエステル３０００Ａ、共栄社化学製）を準備した。
フラスコに、化合物Ａ－６７（分子量７１６．９１）６．４５ｇ（０．００９ｍｏｌ）、化合物Ｂ－５４（分子量５１２．５９）５．０７ｇ（０．００９９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．２５ｇ（０．０１８４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、及びＮ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．０７ｇ（０．０１９８ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、１４時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール２００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－３０（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－３０）を８．５０ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－３０の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２６０００であった。 <Synthesis Example B13>
Compound A-67 is represented by general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-67, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-67) was prepared.
Further, the compound B-54 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O—Y 3 —O, n3, and Y 4 ) is the combination of specific example Y-54, and Z 2 A non-charge-transporting diol monomer (product name: Epoxy Ester 3000A, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) in which the group represented by is a hydroxyl group was prepared.
In a flask, compound A-67 (molecular weight 716.91) 6.45 g (0.009 mol), compound B-54 (molecular weight 512.59) 5.07 g (0.0099 mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.25 g (0.0184 mol), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added and cooled to 0° C. while stirring under nitrogen flow. 3.07 g (0.0198 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 14 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 200 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 8.50 g of Resin B-30 (Resin B-30 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-30 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 26,000.

＜合成例Ｂ１４＞
２Ｌフラスコに、３－メチル－３－オキセタンカルボン酸（分子量１１６．１２）１１６．１２ｇ（１．０ｍｏｌ）、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（分子量９１．１５）９３．８８ｇ（１．０３ｍｏｌ）、及びＮ－メチルピロリドン７００ｍｌを加えて、室温で１時間撹拌した。その後、３－クロロ－１，２－プロパンジオール（分子量１１０．５４）１１０．５４ｇ（１．０ｍｏｌ）を添加し、８０℃で５時間反応させた。反応後、トルエンを添加して水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物Ｂ－６１（分子量１９０．１９）１５０．２５ｇを得た。
上記化合物Ｂ－６１は、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－６１の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。 <Synthesis Example B14>
In a 2 L flask, 116.12 g (1.0 mol) of 3-methyl-3-oxetanecarboxylic acid (molecular weight 116.12), 93.88 g (1.03 mol) of tetramethylammonium hydroxide (molecular weight 91.15), and N - 700 ml of methylpyrrolidone was added and stirred at room temperature for 1 hour. After that, 110.54 g (1.0 mol) of 3-chloro-1,2-propanediol (molecular weight 110.54) was added and reacted at 80° C. for 5 hours. After the reaction, toluene was added, washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 150.25 g of compound B-61 (molecular weight: 190.19).
The compound B-61 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O-Y3-O, n3, and Y4) is a combination of specific examples Y-61, and the group represented by Z2 is a non-charge-transporting diol monomer in which is a hydroxyl group.

化合物Ａ－６として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－６の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－６に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。 The compound A-6 is represented by the general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A 3 and T 3 ) is the combination of specific example AT-6, and the group represented by Z 1 is a hydroxyl group. A charge-transporting monomer (that is, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Specific Example AT-6) was prepared.

フラスコに、化合物Ａ－６（分子量４６５．５４）５．００ｇ（０．０１０７ｍｏｌ）、化合物Ｂ－６１（分子量１９０．１９）２．２４ｇ（０．０１１８ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．６９ｇ（０．０２２０ｍｏｌ）、及びテトラヒドロフラン２５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）３．６７ｇ（０．０２４ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、４時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－３１（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－３１）を ６．２８ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－３１の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は２５０００であった。 In a flask, compound A-6 (molecular weight 465.54) 5.00 g (0.0107 mol), compound B-61 (molecular weight 190.19) 2.24 g (0.0118 mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.69 g (0.0220 mol) and 25 ml of tetrahydrofuran were added, and the mixture was cooled to 0° C. under a stream of nitrogen while stirring. 3.67 g (0.024 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight: 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 4 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 6.28 g of Resin B-31 (Resin B-31 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-31 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 25,000.

＜合成例Ｂ１５＞
２Ｌフラスコに、オキシラン－２－カルボン酸（分子量８８．０６）８８．０６ｇ（１．０ｍｏｌ）、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（分子量９１．１５）９３．８８ｇ（１．０３ｍｏｌ）、及びＮ－メチルピロリドン７００ｍｌを加えて、室温で１時間撹拌した。その後、３－クロロ－１，２－プロパンジオール（分子量１１０．５４）１１０．５４ｇ（１．０ｍｏｌ）を添加し、８０℃で５時間反応させた。反応後、トルエンを添加して水で洗浄し、濃縮後、シリカゲルクロマトにて精製し、化合物Ｂ－６２（分子量１６２．１４）１１０．２６ｇを得た。
上記化合物Ｂ－６２は、一般式（４Ｂ）で表され、組み合わせＹ（すなわち、Ｏ－Ｙ３－Ｏ、ｎ３、及びＹ４の組み合わせ）が具体例Ｙ－６２の組み合わせであり、Ｚ２で示される基が水酸基である非電荷輸送性のジオールモノマーである。 <Synthesis Example B15>
In a 2 L flask, 88.06 g (1.0 mol) of oxirane-2-carboxylic acid (molecular weight 88.06), 93.88 g (1.03 mol) of tetramethylammonium hydroxide (molecular weight 91.15), and N-methylpyrrolidone. 700 ml was added and stirred at room temperature for 1 hour. After that, 110.54 g (1.0 mol) of 3-chloro-1,2-propanediol (molecular weight 110.54) was added and reacted at 80° C. for 5 hours. After the reaction, toluene was added, washed with water, concentrated, and purified by silica gel chromatography to obtain 110.26 g of compound B-62 (molecular weight: 162.14).
The compound B-62 is represented by the general formula (4B), the combination Y (that is, the combination of O-Y3-O, n3, and Y4) is a combination of specific examples Y-62, and the group represented by Z2 is a non-charge-transporting diol monomer in which is a hydroxyl group.

化合物Ａ－１８として、一般式（３Ｂ）で表され、かつ、組み合わせＡＴ（すなわち、Ａ３とＴ３との組み合わせ）が具体例ＡＴ－１８の組み合わせであり、Ｚ１で示される基が水酸基である電荷輸送性モノマー（すなわち、具体例ＡＴ－１８に相当するジカルボン酸モノマー）を準備した。 Compound A-18 is represented by the general formula (3B), and the combination AT (that is, the combination of A3 and T3) is the combination of specific example AT-18, and the group represented by Z1 is a hydroxyl group. A transportable monomer (ie, a dicarboxylic acid monomer corresponding to Example AT-18) was provided.

フラスコに、化合物Ａ－１８（分子量７８４．９４）６．６５ｇ（０．００８５ｍｏｌ）、化合物Ｂ－６２（分子量１６２．１４）１．４４ｇ（０．００８９ｍｏｌ）、４－ジメチルアミノピリジン（分子量１２２．１７）２．１２ｇ（０．０１７４ｍｏｌ）、テトラヒドロフラン５０ｍｌ、及びＮ－メチルピロリドン１５ｍｌを加え、窒素気流下で撹拌しながら０℃に冷却した。そこへ、１－［３－（ジメチルアミノ）プロピル］－３－エチルカルボジイミド（分子量１５５．２４）２．８９ｇ（０．０１８６ｍｏｌ）を添加し、徐々に反応温度を室温（２５℃）まで戻し、７時間撹拌した。その後、反応溶液を水に滴下して再沈させ、さらに希塩酸を加えて中和した。ろ過で採取した固体をメタノール１００ｍｌ中で撹拌して洗浄した。ろ過で採取した固体を真空乾燥し、樹脂Ｂ－３２（第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の具体例として示した樹脂Ｂ－３２）を６．６３ｇ得た。ＧＰＣで樹脂Ｂ－３２の分子量を測定したところ、ポリスチレン換算の重量平均分子量は１５０００であった。 In a flask, compound A-18 (molecular weight 784.94) 6.65g (0.0085mol), compound B-62 (molecular weight 162.14) 1.44g (0.0089mol), 4-dimethylaminopyridine (molecular weight 122. 17) 2.12 g (0.0174 mol), 50 ml of tetrahydrofuran, and 15 ml of N-methylpyrrolidone were added and cooled to 0° C. while stirring under a nitrogen stream. 2.89 g (0.0186 mol) of 1-[3-(dimethylamino)propyl]-3-ethylcarbodiimide (molecular weight 155.24) was added thereto, and the reaction temperature was gradually returned to room temperature (25°C). Stirred for 7 hours. Thereafter, the reaction solution was added dropwise to water for reprecipitation, and diluted hydrochloric acid was added for neutralization. The solid collected by filtration was washed with stirring in 100 ml of methanol. The solid collected by filtration was vacuum-dried to obtain 6.63 g of Resin B-32 (Resin B-32 shown as a specific example of the second charge-transporting polyester resin). When the molecular weight of Resin B-32 was measured by GPC, the polystyrene-equivalent weight average molecular weight was 15,000.

＜実施例Ａ１－１＞
－下引層の作製－
酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ２／ｇ）１００部をテトラヒドロフラン５００部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学工業社製）１．３部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛１１０部を５００部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン１．０部を５０部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛を濾別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。 <Example A1-1>
-Preparation of undercoat layer-
100 parts of zinc oxide (average particle diameter: 70 nm: Tayca: specific surface area value: 15 m 2 /g) was stirred and mixed with 500 parts of tetrahydrofuran, and 1.3 parts of a silane coupling agent (KBM503: manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added. and stirred for 2 hours. After that, toluene was distilled off under reduced pressure, and baking was carried out at 120° C. for 3 hours to obtain silane coupling agent surface-treated zinc oxide.
110 parts of the surface-treated zinc oxide was stirred and mixed with 500 parts of tetrahydrofuran, a solution of 1.0 part of alizarin dissolved in 50 parts of tetrahydrofuran was added, and the mixture was stirred at 50° C. for 5 hours. Thereafter, the alizarin-imparted zinc oxide was separated by filtration under reduced pressure, and dried under reduced pressure at 60° C. to obtain alizarin-imparted zinc oxide.

このアリザリン付与酸化亜鉛６０部と硬化剤（ブロック化イソシアネート、スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ－１、積水化学工業製）１５部とをメチルエチルケトン８５部に溶解した溶液３８部と、メチルエチルケトン２５部と、を混合し１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。
得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ製）４５部を添加し、下引層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて、直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ１８μｍの下引層を得た。 60 parts of this alizarin-imparted zinc oxide, 13.5 parts of a curing agent (blocked isocyanate, Sumidur 3175, manufactured by Sumitomo Bayern Urethane) and 15 parts of butyral resin (S-Lec BM-1, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) were added to 85 parts of methyl ethyl ketone. and 25 parts of methyl ethyl ketone were mixed and dispersed in a sand mill for 2 hours using glass beads of 1 mmφ to obtain a dispersion liquid.
To the resulting dispersion were added 0.005 parts of dioctyltin dilaurate as a catalyst and 45 parts of silicone resin particles (Tospearl 145, manufactured by Momentive Performance Materials) to obtain an undercoat layer coating liquid. This coating liquid was applied to an aluminum substrate having a diameter of 30 mm, a length of 340 mm and a thickness of 1 mm by dip coating, and dried and cured at 170° C. for 40 minutes to obtain an undercoat layer having a thickness of 18 μm.

－電荷発生層の作製－
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜、１６．０゜，２４．９゜、２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、株式会社ＮＵＣ製）１０部、ｎ－酢酸ブチル２００部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ－酢酸ブチル１７５部、メチルエチルケトン１８０部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を、前記下引層上に浸漬塗布し、常温（２０℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。 -Preparation of charge generation layer-
Positions where the Bragg angles (2θ±0.2°) of the X-ray diffraction spectrum using Cukα characteristic X-rays as the charge generating substance are at least 7.3°, 16.0°, 24.9°, and 28.0° A mixture of 15 parts of hydroxygallium phthalocyanine having a diffraction peak at 1 mmφ, 10 parts of vinyl chloride/vinyl acetate copolymer resin (VMCH, manufactured by NUC Co., Ltd.) as a binder resin, and 200 parts of n-butyl acetate It was dispersed for 4 hours in a sand mill using glass beads. 175 parts of n-butyl acetate and 180 parts of methyl ethyl ketone were added to the resulting dispersion, and the mixture was stirred to obtain a charge generation layer coating liquid. This charge generation layer coating solution was dip-coated on the undercoat layer and dried at room temperature (20° C.) to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.

－電荷輸送層の作製－
合成例Ａ２で得られた樹脂（Ａ－２）１０部、ＯＴａｚｏ－１５（大塚化学社製、分子量３５４．４）０．２部をクロロベンゼン４０部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を突き上げコートにて前記電荷発生層上に塗布し、室温（２０℃）で３０分風乾した後、酸素濃度２００ｐｐｍの窒素下で室温（２０℃）から１０℃／分の速度で１５０℃まで昇温し、１５０℃で１時間加熱処理して硬化させ、膜厚１８μｍの電荷輸送層を形成して実施例Ａ１－１の電子写真感光体を作製した。 -Preparation of charge transport layer-
10 parts of the resin (A-2) obtained in Synthesis Example A2 and 0.2 parts of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight: 354.4) were added to 40 parts of chlorobenzene and dissolved to prepare a charge transport layer coating solution. got This coating solution was applied onto the charge generating layer by push-up coating, air-dried at room temperature (20° C.) for 30 minutes, and then dried under nitrogen with an oxygen concentration of 200 ppm from room temperature (20° C.) at a rate of 10° C./min to 150°C. C. and cured by heat treatment at 150.degree.

－画質の評価－
上述のようにして作製した電子写真感光体を富士ゼロックス社製、ＡｐｅｏｓＰｏｒｔ－ＩＶ Ｃ４４７０に装着し、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）及び高温高湿（３０℃、８５％ＲＨ）のそれぞれにおいて、以下の評価を連続して行なった。 -Evaluation of image quality-
The electrophotographic photoreceptor prepared as described above was mounted on ApeosPort-IV C4470 manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd., and under low temperature and low humidity (8° C., 20% RH) and high temperature and high humidity (30° C., 85% RH). , the following evaluations were performed consecutively.

まず低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）環境下で１００００枚の画像形成テストを行い、１００００枚目の画質評価（すなわち、下記ゴースト、カブリ、スジ、及び画像流れ）を実施した。次いで、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）環境下で２４時間放置した後の最初の１枚目の画質についてさらに画質評価を行った。
その結果を表２に示す。 First, an image formation test was performed on 10,000 sheets under a low-temperature and low-humidity environment (8° C., 20% RH), and the image quality of the 10,000 sheets was evaluated (that is, ghosts, fogging, streaks, and image deletion described below). Next, the image quality of the first sheet after being left for 24 hours under a low temperature and low humidity environment (8° C., 20% RH) was further evaluated.
Table 2 shows the results.

この低温低湿環境下での画質評価に続いて、高温高湿（３０℃、８５％ＲＨ）の環境下にて１００００枚の画像形成テストを行い、１００００枚目の画質評価を実施した。次いで、高温高湿（３０℃、８５％ＲＨ）環境下で２４時間放置した後の最初の１枚目の画質についてさらに画質評価を行った。
その結果を表３に示す。 After the image quality evaluation under the low temperature and low humidity environment, 10,000 sheets of image forming test were conducted under the high temperature and high humidity (30° C., 85% RH) environment, and the 10,000 sheet image quality evaluation was performed. Next, the image quality of the first sheet after being left for 24 hours under a high temperature and high humidity (30° C., 85% RH) environment was further evaluated.
Table 3 shows the results.

（ゴースト評価）
ゴーストは、図６（Ａ）に示したＧと画像濃度５０％の灰色領域を有するパターンのチャートをプリントし、５０％の灰色部分にＧの文字の現れ具合を目視にて評価した。
Ａ：図６（Ａ）のように良好又は軽微である。
Ｂ：図６（Ｂ）のようにやや目立つ。
Ｃ：図６（Ｃ）のようにはっきり確認される。 (ghost evaluation)
As for the ghost, a pattern chart having G and a gray area with an image density of 50% was printed as shown in FIG.
A: Good or slight as shown in FIG. 6(A).
B: Slightly conspicuous as shown in FIG. 6(B).
C: Clearly confirmed as shown in FIG. 6(C).

（カブリ評価）
カブリ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて白地部のトナーの付着した度合いを目視にて観察し判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：うっすらとカブリあり。
Ｃ：画質上問題となるカブリあり。 (Fog evaluation)
The evaluation of fog was made by visually observing the degree of toner adhering to the white background using the same sample as the evaluation of the ghost described above.
A: Good.
B: Slight fogging is observed.
C: Fog that poses a problem in terms of image quality is observed.

（スジ評価）
スジ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：部分的にスジの発生あり。
Ｃ：画質上問題となるスジ発生。 (Streak evaluation)
The streak evaluation was determined visually using the same sample as the ghost evaluation described above.
A: Good.
B: streaks are partially generated.
C: A streak that causes a problem in image quality occurs.

（画像流れ評価）
画像流れは上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：連続的にプリントテストしている時は問題ないが、１日（２４時間）放置後に発生。
Ｃ：連続的にプリントテストしている時にも発生。 (Image deletion evaluation)
Image smearing was judged visually using the same sample as the ghost evaluation described above.
A: Good.
B: No problem during continuous print test, but occurred after leaving for 1 day (24 hours).
C: Occurs even during continuous print test.

－残留電位の上昇分の評価－
以下の方法により、残留電位を測定し、画像形成テスト前後での残留電位の上昇分評価を行った。具体的には、富士ゼロックス社製、ＡｐｅｏｓＰｏｒｔ－ＩＶ Ｃ４４７０改造機に電位センサーを取り付け、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）下で画像形成テスト前の電位（初期の電位）の測定を行った。ついで、低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）下で１万枚のプリントテストを行った後に、同様にして低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）下で電子写真感光体表面の残留電位（１万枚後の残留電位）の測定を行った。初期の電位と１万枚後の残留電位との差（１万枚後の残留電位－初期の電位）を「残留電位の上昇分」とした。結果を表２に示す。 -Evaluation of Residual Potential Rise-
The residual potential was measured by the following method, and the increase in residual potential before and after the image forming test was evaluated. Specifically, a potential sensor was attached to a modified ApeosPort-IV C4470 manufactured by Fuji Xerox Co., Ltd., and the potential (initial potential) before the image formation test was measured under low temperature and low humidity (8° C., 20% RH). . Then, after performing a print test of 10,000 sheets under low temperature and low humidity (8° C., 20% RH), the residual potential (1 The residual potential after 10,000 sheets) was measured. The difference between the initial potential and the residual potential after 10,000 sheets (residual potential after 10,000 sheets−initial potential) was defined as the “increase in residual potential”. Table 2 shows the results.

－電荷輸送層の磨耗量の評価－
画像形成テストを行う前の初期の感光体膜厚（すなわち、下引層、電荷発生層、及び電荷輸送層の合計膜厚）と、前述した低温低湿（８℃、２０％ＲＨ）環境下及び高温高湿（３０℃、８５％ＲＨ）環境下での画像形成テストを終了した後の感光体膜厚と、を渦電流測定装置（フィッシャースコープＭＭＳ）にて測定し、磨耗量を評価した。結果を表２に示す。 -Evaluation of Abrasion Amount of Charge Transport Layer-
The initial film thickness of the photoreceptor (that is, the total film thickness of the undercoat layer, charge generation layer, and charge transport layer) before performing the image formation test, The film thickness of the photoreceptor was measured by an eddy current measuring device (Fisherscope MMS) after the image forming test was completed under a high-temperature and high-humidity (30° C., 85% RH) environment, and the amount of wear was evaluated. Table 2 shows the results.

＜実施例Ａ１－２～Ａ１－７＞
電荷発生層の作製までは、実施例Ａ１－１に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂（Ａ－２）の代わりに表１に示す第１の電荷輸送性樹脂を用いた以外は、実施例Ａ１－１と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表２及び表３に示す。 <Examples A1-2 to A1-7>
The method described in Example A1-1 was followed up to the preparation of the charge generating layer.
Then, an electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example A1-1, except that the first charge-transporting resin shown in Table 1 was used in place of the resin (A-2) in the preparation of the charge-transporting layer. made and evaluated. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

＜実施例Ａ１－８＞
樹脂（Ａ－２）を樹脂（Ａ－１）に代え、電荷輸送層の作製においてＯＴａｚｏ－１５（大塚化学社製、分子量３５４．４）０．２部を加えなかった以外は、実施例Ａ１－１と同様にして電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表２及び表３に示す。 <Example A1-8>
Example A1 except that the resin (A-2) was replaced with the resin (A-1) and 0.2 parts of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight: 354.4) was not added in the preparation of the charge transport layer. An electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated in the same manner as in -1. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

＜実施例Ａ１－９～Ａ１－１０＞
電荷発生層の作製までは、実施例Ａ１－１に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂（Ａ－２）の代わりに表１に示す第１の電荷輸送性樹脂を用い、ＯＴａｚｏ－１５（大塚化学社製、分子量３５４．４）０．２部に代えて三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体０．０５部を用いた以外は、実施例Ａ１－１と同様にして電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表２及び表３に示す。 <Examples A1-9 to A1-10>
The method described in Example A1-1 was followed up to the preparation of the charge generation layer.
Then, in the preparation of the charge transport layer, the first charge transport resin shown in Table 1 was used instead of the resin (A-2), and 0.2 parts of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight: 354.4) was used. An electrophotographic photoreceptor was prepared and evaluated in the same manner as in Example A1-1, except that 0.05 part of boron trifluoride diethyl ether complex was used instead of . Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

＜実施例Ａ１－１１＞
電荷発生層の作製までは、実施例Ａ１－１に記載の方法により行った。
ついで、合成例Ａ４で得られた樹脂（Ａ－４）１０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ－ＴＭＰＴ、新中村化学社製）２部、１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦ製）０．２部をモノクロロベンゼン４０部に溶解し、得られた溶解液を突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温（２０℃）で３０分風乾した後、メタルハライドランプ：１６０Ｗ／ｃｍ、照射距離：１２０ｍｍ、照射強度：５００ｍＷ／ｃｍ２、照射時間：６０秒の条件で酸素濃度２００ｐｐｍの窒素下で光照射を行ない、塗布膜を硬化させた。更に１３０℃で２０分乾燥を加え膜厚１７μｍの表面層を形成して電子写真感光体を作製し、実施例Ａ１－１に記載の方法により評価を行った。評価結果を表２及び表３に示す。 <Example A1-11>
The method described in Example A1-1 was followed until the preparation of the charge generation layer.
Then, 10 parts of the resin (A-4) obtained in Synthesis Example A4, 2 parts of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, (manufactured by BASF) was dissolved in 40 parts of monochlorobenzene, and the resulting solution was applied onto the charge transport layer by push-up coating. After air-drying at room temperature (20°C) for 30 minutes, light irradiation was performed under nitrogen with an oxygen concentration of 200 ppm under the following conditions: metal halide lamp: 160 W/cm, irradiation distance: 120 mm, irradiation intensity: 500 mW/cm 2 , irradiation time: 60 seconds. Then, the coating film was cured. Further, it was dried at 130° C. for 20 minutes to form a surface layer having a thickness of 17 μm to prepare an electrophotographic photosensitive member, which was evaluated by the method described in Example A1-1. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

＜実施例Ａ１－１２＞
電荷発生層の作製までは、実施例Ａ１－１に記載の方法により行った。
ついで、合成例Ａ７で得られた樹脂（Ａ－７）１０部、下記構造式（Ｇ）で示される化合物２部、ＯＴａｚｏ－１５（大塚化学社製、分子量３５４．４）０．２部をモノクロロベンゼン４０部に溶解し、得られた溶解液を突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温（２０℃）で３０分風乾した後、酸素濃度２００ｐｐｍの窒素下で室温（２０℃）から１０℃／分の速度で１５０℃まで昇温し、１５０℃で１時間加熱処理して硬化させ、膜厚１８μｍの電荷輸送層を形成して電子写真感光体を作製し、実施例Ａ１－１に記載の方法により評価を行った。評価結果を表２及び表３に示す。 <Example A1-12>
The method described in Example A1-1 was followed up to the preparation of the charge generating layer.
Then, 10 parts of the resin (A-7) obtained in Synthesis Example A7, 2 parts of the compound represented by the following structural formula (G), and 0.2 parts of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight 354.4) It was dissolved in 40 parts of monochlorobenzene, and the resulting solution was applied onto the charge transport layer by push-up coating. After air-drying at room temperature (20°C) for 30 minutes, the temperature was raised from room temperature (20°C) to 150°C at a rate of 10°C/min under nitrogen with an oxygen concentration of 200 ppm, and heat treatment was performed at 150°C for 1 hour to cure. , an electrophotographic photoreceptor was prepared by forming a charge transport layer having a thickness of 18 μm, and was evaluated by the method described in Example A1-1. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.


＜実施例Ａ１－１３＞
電荷発生層の作製までは、実施例Ａ１－１に記載の方法により行った。
ついで、合成例Ａ２で得られた樹脂（Ａ－２）１０部、ポリテトラフルオロエチレン微粒子（ルブロンＬ－２、ダイキン工業社製）０．８部をモノクロロベンゼン４０部に溶解し、ナノマイザー（ＮＭ２－Ｌ２００ＡＲ－Ｄ０８、ナノマイザー社製）にて分散したのち、ＯＴａｚｏ－１５（大塚化学社製、分子量３５４．４）０．２部を加えて溶解させ、得られた溶解液を突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温（２０℃）で３０分風乾した後、酸素濃度２００ｐｐｍの窒素下で室温（２０℃）から１０℃／分の速度で１５０℃まで昇温し、１５０℃で１時間加熱処理して硬化させ、膜厚１８μｍの電荷輸送層を形成して電子写真感光体を作製し、実施例Ａ１－１に記載の方法により評価を行った。評価結果を表２及び表３に示す。 <Example A1-13>
The method described in Example A1-1 was followed up to the preparation of the charge generating layer.
Then, 10 parts of the resin (A-2) obtained in Synthesis Example A2 and 0.8 parts of polytetrafluoroethylene fine particles (Lubron L-2, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) were dissolved in 40 parts of monochlorobenzene, and a nanomizer (NM2 -L200AR-D08, manufactured by Nanomizer), 0.2 parts of OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight 354.4) are added and dissolved, and the resulting solution is charged with a push-up coat. Coated on the transport layer. After air-drying at room temperature (20°C) for 30 minutes, the temperature was raised from room temperature (20°C) to 150°C at a rate of 10°C/min under nitrogen with an oxygen concentration of 200 ppm, and heat treatment was performed at 150°C for 1 hour to cure. , an electrophotographic photoreceptor was prepared by forming a charge transport layer having a thickness of 18 μm, and was evaluated by the method described in Example A1-1. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

＜実施例Ａ１－１４＞
電荷発生層の作製までは、実施例Ａ１－１に記載の方法により行った。
この電荷発生層上に、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ビス（３－メチルフェニル）－［１，１’］ビフェニル－４，４’－ジアミン（ＴＰＤ）４０質量部、Ｎ，Ｎ－ビス（３，４－ジメチルフェニル）ビフェニル－４－アミン１０質量部、及びビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＰＣ（Ｚ）：粘度平均分子量：６万）５５質量部をクロロベンゼン８００質量部に加えて溶解した塗布液を塗布し、１３０℃、４５分の乾燥を行って膜厚が１５μｍの電荷輸送層を形成した。 <Example A1-14>
The method described in Example A1-1 was followed up to the preparation of the charge generating layer.
On this charge generation layer, 40 parts by weight of N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-[1,1']biphenyl-4,4'-diamine (TPD), N, 10 parts by weight of N-bis(3,4-dimethylphenyl)biphenyl-4-amine and 55 parts by weight of bisphenol Z polycarbonate resin (PC(Z): viscosity average molecular weight: 60,000) were added to 800 parts by weight of chlorobenzene and dissolved. The resulting coating solution was applied and dried at 130° C. for 45 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 15 μm.

－保護層の作製－
合成例Ａ１０で得られた樹脂（Ａ－１０）を１０部、トリメチロールプロパントリアクリレート（Ａ－ＴＭＰＴ、新中村化学社製）３部をモノクロロベンゼン２０部、トルエン４０部に溶解し、得られた溶解液を突き上げコートにて電荷輸送層上に塗布した。室温（２０℃）で３０分風乾した後、酸素濃度２０ｐｐｍの窒素下で感光体を３００ｒｐｍの速度で回転させながら照射距離が３０ｍｍ、電子線加速電圧が９０ｋＶ、電子線ビーム電流が２ｍＡ、電子線照射時間が１．０秒の条件で感光体に電子線を照射した。照射後すぐに、酸素濃度２０ｐｐｍの窒素下で１５０℃に加熱し、１０分保持して硬化反応を完結させ、膜厚４μｍの保護層を形成して電子写真感光体を作製し、実施例Ａ１－１に記載の方法により評価を行った。評価結果を表２及び表３に示す。 -Preparation of protective layer-
10 parts of the resin (A-10) obtained in Synthesis Example A10, 3 parts of trimethylolpropane triacrylate (A-TMPT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) were dissolved in 20 parts of monochlorobenzene and 40 parts of toluene. The resulting solution was applied onto the charge transport layer by push-up coating. After air-drying at room temperature (20° C.) for 30 minutes, the photoreceptor was rotated at a speed of 300 rpm under nitrogen with an oxygen concentration of 20 ppm. The photoreceptor was irradiated with an electron beam under the condition that the irradiation time was 1.0 second. Immediately after the irradiation, the mixture was heated to 150° C. under nitrogen with an oxygen concentration of 20 ppm and held for 10 minutes to complete the curing reaction, forming a protective layer having a thickness of 4 μm to prepare an electrophotographic photoreceptor. Evaluation was performed by the method described in -1. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

＜実施例Ｂ１－１～Ｂ１－１５＞
電荷発生層の作製までは、実施例Ａ１－１に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂（Ａ－２）の代わりに表１に示す第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂を用いた以外は、実施例Ａ１－１と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表２及び表３に示す。 <Examples B1-1 to B1-15>
The method described in Example A1-1 was followed up to the preparation of the charge generating layer.
Then, an electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example A1-1, except that the second charge-transporting polyester resin shown in Table 1 was used instead of the resin (A-2) in the preparation of the charge-transporting layer. was produced and evaluated. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

＜比較例１－１＞
電荷発生層の作製までは、実施例Ａ１－１に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂（Ａ－２）の代わりに比較樹脂１（ポリ（９－ビニルカルバゾール）、シグマ－アルドリッチ製、数平均分子量：２５０００）を用いた以外は、実施例Ａ１－１と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表２及び表３に示す。 <Comparative Example 1-1>
The method described in Example A1-1 was followed up to the preparation of the charge generation layer.
Then, in the preparation of the charge transport layer, Example A1 was prepared except that Comparative Resin 1 (poly(9-vinylcarbazole), manufactured by Sigma-Aldrich, number average molecular weight: 25000) was used instead of Resin (A-2). An electrophotographic photoreceptor was produced and evaluated in the same manner as in -1. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.

＜比較例１－２＞
電荷発生層の作製までは、実施例Ａ１－１に記載の方法により行った。
ついで、電荷輸送層の作製において、樹脂（Ａ－２）の代わりに下記構造式の化合物（Ｈ）を用いた以外は、実施例Ａ１－１と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表２及び表３に示す。 <Comparative Example 1-2>
The method described in Example A1-1 was followed up to the preparation of the charge generation layer.
Next, an electrophotographic photoreceptor was prepared in the same manner as in Example A1-1, except that the compound (H) of the following structural formula was used instead of the resin (A-2) in the preparation of the charge transport layer, evaluated. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.


＜比較例１－３＞
実施例Ａ１－１４において、電荷発生層の厚みを２５μｍとし、保護層を形成しなかった以外は、実施例Ａ１－１４と同様にして、電子写真感光体を作製し、評価した。評価結果を表２及び表３に示す。 <Comparative Example 1-3>
An electrophotographic photoreceptor was prepared and evaluated in the same manner as in Example A1-14, except that the thickness of the charge generating layer was 25 μm and no protective layer was formed. Evaluation results are shown in Tables 2 and 3.




表２及び表３に示す結果から、実施例の電子写真感光体は、長期間に渡って繰り返し使用後における画質の低下が抑えられていることがわかる。 From the results shown in Tables 2 and 3, it can be seen that the electrophotographic photoreceptors of Examples are capable of suppressing deterioration in image quality after repeated use over a long period of time.

＜実施例Ａ２－１＞
－有機ＥＬ素子の作製－
厚さ１５０ｎｍのＩＴＯ膜を設けたガラス基板を、プラズマ洗浄機（サムコインターナショナル社製、ＢＰ１）を用い、酸素プラズマにて３０秒間洗浄した。さらに、中性洗剤、水、アセトン（電子工業用、関東化学製）及びイソプロパノール（電子工業用、関東化学製）の順に、各液に浸して超音波を各５分間印加して洗浄した後、スピンコーターで乾燥させた。
前記樹脂（Ａ－２）を３質量部と、ＯＴａｚｏ－１５（大塚化学、分子量３５４．４）０．０６質量部と、をジクロロメタン９７質量部に溶解した溶液を、孔径０．１μｍのＰＴＦＥフィルターで濾過し塗布液を得た。塗布液を前記ガラス基板にスピンコートした。回転数は、後述する膜厚（４００ｎｍ）となるように調整して行った。酸素濃度１５０ｐｐｍの不活性ガス雰囲気下で、１６０℃で１時間加熱することにより、膜厚４００ｎｍ（触針膜厚計にて測定）の正孔輸送層を形成した。 <Example A2-1>
-Production of organic EL element-
A glass substrate provided with an ITO film having a thickness of 150 nm was cleaned with oxygen plasma for 30 seconds using a plasma cleaner (BP1, manufactured by Samco International). Furthermore, after washing by immersing in each liquid in the order of neutral detergent, water, acetone (for electronic industry, manufactured by Kanto Chemical) and isopropanol (for electronic industry, manufactured by Kanto Chemical) and applying ultrasonic waves for 5 minutes each, Dried with a spin coater.
A solution obtained by dissolving 3 parts by mass of the resin (A-2) and 0.06 parts by mass of OTazo-15 (Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight 354.4) in 97 parts by mass of dichloromethane was added to a PTFE filter having a pore size of 0.1 μm. to obtain a coating liquid. The coating liquid was spin-coated onto the glass substrate. The number of revolutions was adjusted so as to obtain a film thickness (400 nm), which will be described later. By heating at 160° C. for 1 hour in an inert gas atmosphere with an oxygen concentration of 150 ppm, a hole transport layer having a thickness of 400 nm (measured with a stylus thickness gauge) was formed.

次に、この正孔輸送層上に、発光層の材料として、例示化合物（ＶＩ－１）：トリス（８－ヒドロキシキノリン）アルミニウム（Ａｌｑ）を５０ｎｍの厚さに真空蒸着したのち、マグネシウム・銀合金陰極を２００ｎｍの厚さに蒸着し、有機ＥＬ素子を作製した。 Next, on the hole-transporting layer, an exemplary compound (VI-1): tris(8-hydroxyquinoline)aluminum (Alq) was vacuum-deposited to a thickness of 50 nm as a material for the light-emitting layer, and then magnesium/silver was deposited. An alloy cathode was vapor-deposited to a thickness of 200 nm to prepare an organic EL device.

－有機ＥＬ素子の性能評価－
この有機ＥＬ素子のＩＴＯ電極を陽極とし、マグネシウム・銀合金電極を陰極として、直流７Ｖを印加して、電流密度を以下の方法により求めるとともに、輝度を以下の方法により測定した。さらに、１０００時間動作後の輝度を以下の方法により測定した。その結果を表４に示す。
なお、電流密度、電圧、及び輝度は、測定装置として有機ＥＬ発光効率測定装置（東京インスツルメンツ社製）を用い、且つ測定条件を２５℃に調整して測定した。また、有機ＥＬ素子は、ディスプレイ又はレーザに利用する場合には、高電流注入が必要となることから、印加電圧７Ｖで電流密度及び輝度を測定した。 -Performance evaluation of organic EL element-
Using the ITO electrode of this organic EL device as an anode and the magnesium-silver alloy electrode as a cathode, a direct current of 7 V was applied, and the current density was obtained by the following method, and the luminance was measured by the following method. Furthermore, the luminance after 1000 hours of operation was measured by the following method. Table 4 shows the results.
The current density, voltage, and luminance were measured by using an organic EL luminous efficiency measuring device (manufactured by Tokyo Instruments) as a measuring device and adjusting the measuring conditions to 25°C. Further, since the organic EL element requires high current injection when used for a display or a laser, current density and luminance were measured at an applied voltage of 7V.

－電荷輸送性膜の可視光透過性評価－
正孔輸送層を形成した後、発光層を蒸着する前に、正孔輸送層として設けられた電荷輸送性膜の可視光透過性評価を行った。具体的には、分光光度計（Ｕ－４１００、日立製作所）を用い、正孔輸送層として設けられた電荷輸送性膜における可視光域（３８０ｎｍ～７８０ｎｍ）の平均透過率（％）を測定し、以下の基準で評価した。結果を表５に示す。
Ａ：平均透過率が９７％以上
Ｂ：平均透過率が９０％以上９７％未満
Ｃ：平均透過率が９０％未満 -Evaluation of Visible Light Transmittance of Charge-Transporting Film-
After forming the hole-transporting layer and before vapor-depositing the light-emitting layer, the visible light transmittance of the charge-transporting film provided as the hole-transporting layer was evaluated. Specifically, using a spectrophotometer (U-4100, Hitachi, Ltd.), the average transmittance (%) in the visible light region (380 nm to 780 nm) in the charge-transporting film provided as the hole-transporting layer was measured. , was evaluated according to the following criteria. Table 5 shows the results.
A: average transmittance of 97% or more B: average transmittance of 90% or more and less than 97% C: average transmittance of less than 90%

以下のようにして、電荷輸送性膜形成時における塗膜の平滑性評価を行った。具体的には、本発明の電荷輸送性膜（正孔輸送層）を作製した後、膜をカッター等で切り出し、表面形状測定装置ＤＥＫＴＡＫ６Ｍ（ＵＬＶＡＣ社製）を用いて表面粗さＲａを測定し、以下の基準で評価した。
測定条件としては、ＪＩＳ Ｂ０６０１（１９９４年）に準拠し、測定長４ｍｍ、測定速度０．３ｍｍ／ｓｅｃ、カットオフ波長０．８ｍｍ、カットオフ種別：ガウシアンとした。結果を表５に示す。
Ａ：Ｒａが２５未満
Ｂ：Ｒａが２５以上４５未満
Ｃ：Ｒａが４５以上 The smoothness of the coating film during the formation of the charge-transporting film was evaluated as follows. Specifically, after the charge-transporting film (hole-transporting layer) of the present invention was produced, the film was cut out with a cutter or the like, and the surface roughness Ra was measured using a surface profiler DEKTAK6M (manufactured by ULVAC). , was evaluated according to the following criteria.
The measurement conditions were based on JIS B0601 (1994) with a measurement length of 4 mm, a measurement speed of 0.3 mm/sec, a cutoff wavelength of 0.8 mm, and a cutoff type of Gaussian. Table 5 shows the results.
A: Ra is less than 25 B: Ra is 25 or more and less than 45 C: Ra is 45 or more

（電荷輸送性膜の耐溶剤性評価）
正孔輸送層を形成した後、発光層を蒸着する前に、正孔輸送層として設けられた電荷輸送性膜の耐溶剤性評価を行った。具体的には、２．５ｃｍ角の測定対象の膜に対して紫外－可視吸収測定を行い、長波長側で極大値を示す波長（λｍａｘ）における吸光度（トルエン静置前吸光度）を求めた。その後、電荷輸送性膜をスピンコータの台座に置き、膜の上にトルエン２ｍｌを載せて３０秒間静置した後、２００ｒｐｍで１０秒間、２０００ｒｐｍで２０秒間スピンさせ、トルエンを除去し、再び紫外－可視吸収測定を行い、λｍａｘにおける吸光度（トルエン除去後吸光度）を求めた。
下記式より残膜率を算出し、下記の判断基準で膜の耐溶剤性を評価した。結果を表５に示す。
式 ： 残膜率＝（トルエン除去後吸光度／トルエン静置前吸光度）×１００（％）
Ａ：残膜率が９５％以上
Ｂ：残膜率が９０％以上９５％未満
Ｃ：残膜率が９０％未満 (Solvent resistance evaluation of charge-transporting film)
After forming the hole transport layer and before vapor-depositing the light-emitting layer, the charge-transporting film provided as the hole transport layer was evaluated for solvent resistance. Specifically, an ultraviolet-visible absorption measurement was performed on a 2.5 cm square film to be measured, and the absorbance (absorbance before standing in toluene) at the wavelength (λmax) showing the maximum value on the long wavelength side was determined. After that, the charge-transporting film was placed on the pedestal of a spin coater, and 2 ml of toluene was placed on the film and allowed to stand still for 30 seconds. An absorption measurement was performed to determine the absorbance at λmax (absorbance after removal of toluene).
The residual film ratio was calculated from the following formula, and the solvent resistance of the film was evaluated according to the following criteria. Table 5 shows the results.
Formula: Remaining film ratio = (absorbance after toluene removal/absorbance before toluene standing) x 100 (%)
A: Remaining film rate is 95% or more B: Remaining film rate is 90% or more and less than 95% C: Remaining film rate is less than 90%

＜実施例Ａ２－２＞
樹脂（Ａ－２）を樹脂（Ａ－１）に代え、正孔輸送層の作製においてＯＴａｚｏ－１５（大塚化学社製、分子量３５４．４）を加えなかった以外は、実施例Ａ２－１に記載の方法により有機ＥＬ素子の作製及び評価を行った。また、実施例Ａ２－１に記載の方法により電荷輸送性膜の評価を行った。その結果を表４及び表５に示す。 <Example A2-2>
Example A2-1 was repeated except that resin (A-2) was replaced with resin (A-1) and OTazo-15 (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd., molecular weight 354.4) was not added in the preparation of the hole transport layer. An organic EL device was produced and evaluated by the described method. Also, the charge-transporting film was evaluated by the method described in Example A2-1. The results are shown in Tables 4 and 5.

＜実施例Ａ２－３～Ａ２－１０＞
実施例Ａ２－１における樹脂（Ａ－２）を表４に示す樹脂に変えた以外は、実施例Ａ２－１に記載の方法により有機ＥＬ素子の作製及び評価を行った。また、実施例Ａ２－１に記載の方法により電荷輸送性膜の評価を行った。その結果を表４及び表５に示す。 <Examples A2-3 to A2-10>
An organic EL device was produced and evaluated by the method described in Example A2-1 except that the resin (A-2) in Example A2-1 was changed to the resin shown in Table 4. Also, the charge-transporting film was evaluated by the method described in Example A2-1. The results are shown in Tables 4 and 5.

＜実施例Ｂ２－１～Ｂ２－１０＞
実施例Ａ２－１における樹脂（Ａ－２）を表４に示す樹脂に変えた以外は、実施例Ａ２－１に記載の方法により有機ＥＬ素子の作製及び評価を行った。また、実施例Ａ２－１に記載の方法により電荷輸送性膜の評価を行った。その結果を表４及び表５に示す。 <Examples B2-1 to B2-10>
An organic EL device was produced and evaluated by the method described in Example A2-1 except that the resin (A-2) in Example A2-1 was changed to the resin shown in Table 4. Also, the charge-transporting film was evaluated by the method described in Example A2-1. The results are shown in Tables 4 and 5.

＜比較例２－１＞
実施例Ａ２－２における樹脂（Ａ－１）を比較樹脂２（ポリ［ビス（４－フェニル）（２，４，６－トリメチルフェニル）アミン］、シグマ－アルドリッチ製、数平均分子量：７０００）に代えた以外は、実施例Ａ２－２に記載の方法により有機ＥＬ素子の作製及び評価を行った。また、実施例Ａ２－２に記載の方法により電荷輸送性膜の評価を行った。結果を表４及び表５に示す。 <Comparative Example 2-1>
Resin (A-1) in Example A2-2 to Comparative Resin 2 (poly[bis(4-phenyl)(2,4,6-trimethylphenyl)amine], manufactured by Sigma-Aldrich, number average molecular weight: 7000) An organic EL device was produced and evaluated by the method described in Example A2-2, except that it was changed. Also, the charge-transporting film was evaluated by the method described in Example A2-2. The results are shown in Tables 4 and 5.

＜比較例２－２＞
実施例Ａ２－１における樹脂（Ａ－２）を用いて形成した正孔輸送層に代えて、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－Ｎ，Ｎ’－ビス（３－メチルフェニル）－［１，１’］ビフェニル－４，４’－ジアミン（ＴＰＤ）を膜厚４００ｎｍで真空蒸着した正孔輸送層を適用した以外は実施例Ａ２－１に記載の方法により有機ＥＬ素子を作製し、評価した。結果を表４及び表５に示す。 <Comparative Example 2-2>
Instead of the hole transport layer formed using the resin (A-2) in Example A2-1, N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl)-[1,1' ] An organic EL device was fabricated and evaluated by the method described in Example A2-1, except that a hole transport layer formed by vacuum deposition of biphenyl-4,4'-diamine (TPD) to a film thickness of 400 nm was used. The results are shown in Tables 4 and 5.



表４及び表５に示す結果から、実施例の有機ＥＬ素子は、長期に渡って安定した発光特性が得られることがわかる。
また、電荷輸送性膜の耐溶剤性の結果から、将来、本発明の電荷輸送性膜の上に塗布形式で層を形成する場合、両層界面の混合が抑制される効果を有することが分かる。よって、塗布積層型の有機電界発光素子においても良好な発光特性を示すことが期待できる。 From the results shown in Tables 4 and 5, it can be seen that the organic EL devices of Examples can provide stable light emission characteristics over a long period of time.
Further, from the results of the solvent resistance of the charge-transporting film, it can be seen that when a layer is formed by coating on the charge-transporting film of the present invention in the future, mixing at the interface between both layers is suppressed. . Therefore, it can be expected that the organic electroluminescence device of the applied lamination type will also exhibit good luminescence characteristics.

１ 下引層、２ 電荷発生層、３ 電荷輸送層、４ 導電性基体、５ 保護層、６ 単層型感光層、７，７Ａ，７Ｂ，７Ｃ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、２１ 透明絶縁体基板、２２ 透明電極、２３ 正孔輸送層、２４ 発光層、２５ 電子輸送層、２６ 発光層、２７ 背面電極、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材（ロール状）、１３３ 繊維状部材（平ブラシ状）、３００ プロセスカートリッジ
REFERENCE SIGNS LIST 1 undercoat layer 2 charge generation layer 3 charge transport layer 4 conductive substrate 5 protective layer 6 single layer photosensitive layer 7, 7A, 7B, 7C electrophotographic photoreceptor 8 charging device 9 exposure device , 11 developing device, 13 cleaning device, 14 lubricant, 21 transparent insulator substrate, 22 transparent electrode, 23 hole transport layer, 24 light emitting layer, 25 electron transport layer, 26 light emitting layer, 27 back electrode, 40 transfer device, 50 intermediate transfer member 100 image forming apparatus 120 image forming apparatus 131 cleaning blade 132 fibrous member (roll shape) 133 fibrous member (flat brush shape) 300 process cartridge

Claims (13)

下記一般式（１Ｂ）で表される構造を有する第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂及び前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有する電荷輸送性膜を有する有機電子デバイス。


（前記一般式（１Ｂ）中、Ａ３は電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ３は炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ３は（ｎ３＋２）価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、ｎ３は１又は２を示し、Ｙ４は「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」を示し、＊はＹ３との結合位置を示し、ｎ４は１又は２を示し、Ｌは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された２価の連結基又は単結合を示し、Ｚは重合性官能基を示し、前記重合性官能基は、下記一般式（Ｐ１）で表される基、下記一般式（Ｐ２）で表される基、下記一般式（Ｐ３）で表される基、下記一般式（Ｐ４）で表される基、及び下記一般式（Ｐ５）で表される基から選ばれる少なくとも１つである。）


（前記一般式（Ｐ１）～（Ｐ５）中、Ｒ３～Ｒ６は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、＊は、結合位置を示す。） Organic having a charge-transporting film containing at least one selected from a second charge-transporting polyester resin having a structure represented by the following general formula (1B) and a crosslinked product of the second charge-transporting polyester resin electronic device.


(In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having charge transport properties, and T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. , Y 3 represents a (n3+2)-valent non-charge-transporting diol residue, n3 represents 1 or 2, Y 4 represents "*-(CH 2 ) n4 -LZ", * represents Y 3 , n4 is 1 or 2, L is a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from carbon atoms, oxygen atoms, and hydrogen atoms. , Z represents a polymerizable functional group, and the polymerizable functional group is a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), or a group represented by the following general formula (P3). is at least one selected from a group represented by the following general formula (P4), and a group represented by the following general formula (P5).)


(In general formulas (P1) to (P5), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and * represents a bonding position.) 前記重合性官能基は、下記式（Ｐ１－１）で表される基、下記式（Ｐ１－２）で表される基、及び下記式（Ｐ３－１）で表される基から選ばれる少なくとも１つである請求項１に記載の有機電子デバイス。


（前記式（Ｐ１－１）、（Ｐ１－２）、及び（Ｐ３－１）中、＊は、結合位置を示す。） The polymerizable functional group is at least selected from a group represented by the following formula (P1-1), a group represented by the following formula (P1-2), and a group represented by the following formula (P3-1) The organic electronic device of claim 1 , wherein there is one.


(In the above formulas (P1-1), (P1-2), and (P3-1), * indicates the binding position.) 前記一般式（１Ｂ）におけるＡ３は、正孔輸送能を有する２価の有機基を示す請求項１又は請求項２に記載の有機電子デバイス。 3. The organic electronic device according to claim 1 , wherein A3 in the general formula (1B) represents a divalent organic group capable of transporting holes. 前記一般式（１Ｂ）におけるＡ３は、下記一般式（２）で表される２価の有機基を示す請求項３に記載の有機電子デバイス。


（前記一般式（２）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、又は置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ｘは置換又は未置換の２価の有機基を示し、ｋ及びｍはそれぞれ独立に０又は１を示す。） The organic electronic device according to claim 3 , wherein A3 in the general formula (1B) represents a divalent organic group represented by the following general formula (2).


(In the general formula (2), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, or a substituted or unsubstituted aryl group, and X is a substituted or unsubstituted divalent and k and m each independently represent 0 or 1.) 前記一般式（１Ｂ）におけるＴ３は、炭素数１以上８以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示す請求項１～請求項４のいずれか１項に記載の有機電子デバイス。 The organic electron according to any one of claims 1 to 4 , wherein T 3 in the general formula (1B) represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. device. 前記一般式（１Ｂ）におけるＹ３を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が２以上２０以下である請求項１～請求項５のいずれか１項に記載の有機電子デバイス。 The organic electronic device according to any one of claims 1 to 5 , wherein the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting Y 3 in the general formula (1B) is 2 or more and 20 or less. 前記一般式（１Ｂ）におけるＹ４中の前記Ｌを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数が１以上１０以下である請求項１～請求項６のいずれか１項に記載の有機電子デバイス。 The organic electron according to any one of claims 1 to 6 , wherein the number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting said L in Y 4 in said general formula (1B) is 1 or more and 10 or less. device. 前記一般式（１Ｂ）におけるＹ３を構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、前記一般式（１Ｂ）におけるＹ４中の前記ｎ４の数と、前記一般式（１Ｂ）におけるＹ４中の前記Ｌを構成する原子のうち水素原子以外の原子の数と、の合計が２５以下である請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の有機電子デバイス。 The number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting Y 3 in the general formula (1B), the number of the n4 in Y 4 in the general formula (1B), and Y 4 in the general formula (1B) The organic electronic device according to any one of claims 1 to 7 , wherein the total number of atoms other than hydrogen atoms among the atoms constituting said L in the organic electronic device is 25 or less. 前記電荷輸送性膜は、前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体を含有する請求項１～請求項８のいずれか１項に記載の有機電子デバイス。 9. The organic electronic device according to claim 1, wherein the charge-transporting film contains a crosslinked product of the second charge-transporting polyester resin. 前記有機電子デバイスが電子写真感光体である請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の有機電子デバイス。 10. The organic electronic device according to any one of claims 1 to 9 , wherein the organic electronic device is an electrophotographic photoreceptor. 前記電子写真感光体の最表面層として、前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体を含有する電荷輸送性膜を有する請求項１０に記載の有機電子デバイス。 11. The organic electronic device according to claim 10 , comprising a charge-transporting film containing a crosslinked body of the second charge-transporting polyester resin as the outermost layer of the electrophotographic photosensitive member. 前記有機電子デバイスが有機電界発光素子である請求項１～請求項９のいずれか１項に記載の有機電子デバイス。 The organic electronic device according to any one of claims 1 to 9 , wherein the organic electronic device is an organic electroluminescence element. 下記一般式（１Ｂ）で表される構造を有する第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂及び前記第２の電荷輸送性ポリエステル樹脂の架橋体から選ばれる少なくとも１種を含有する電荷輸送性膜。


（前記一般式（１Ｂ）中、Ａ３は電荷輸送性を有する２価の有機基を示し、Ｔ３は炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分岐状の２価の炭化水素基を示し、Ｙ３は（ｎ３＋２）価の非電荷輸送性のジオール残基を示し、ｎ３は１又は２を示し、Ｙ４は「＊－（ＣＨ２）ｎ４－Ｌ－Ｚ」を示し、＊はＹ３との結合位置を示し、ｎ４は１又は２を示し、Ｌは炭素原子、酸素原子、及び水素原子から選択される少なくとも１種の原子で構成された２価の連結基又は単結合を示し、Ｚは重合性官能基を示し、前記重合性官能基は、下記一般式（Ｐ１）で表される基、下記一般式（Ｐ２）で表される基、下記一般式（Ｐ３）で表される基、下記一般式（Ｐ４）で表される基、及び下記一般式（Ｐ５）で表される基から選ばれる少なくとも１つである。）


（前記一般式（Ｐ１）～（Ｐ５）中、Ｒ ３ ～Ｒ ６ は、それぞれ独立に水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基を示し、＊は、結合位置を示す。）
A charge-transporting film containing at least one selected from a second charge-transporting polyester resin having a structure represented by the following general formula (1B) and a crosslinked product of the second charge-transporting polyester resin.


(In the general formula (1B), A 3 represents a divalent organic group having charge transport properties, and T 3 represents a linear or branched divalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. , Y 3 represents a (n3+2)-valent non-charge-transporting diol residue, n3 represents 1 or 2, Y 4 represents "*-(CH 2 ) n4 -LZ", * represents Y 3 , n4 is 1 or 2, L is a divalent linking group or a single bond composed of at least one atom selected from carbon atoms, oxygen atoms, and hydrogen atoms. , Z represents a polymerizable functional group, and the polymerizable functional group is a group represented by the following general formula (P1), a group represented by the following general formula (P2), or a group represented by the following general formula (P3). is at least one selected from a group represented by the following general formula (P4), and a group represented by the following general formula (P5).)


(In general formulas (P1) to (P5), R 3 to R 6 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkoxy group, and * represents a bonding position.)
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