JP7320839B2 - How to use rinse agent and rinse agent - Google Patents

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Description

本発明は、リンス剤及びリンス剤の使用方法に関する。特に、所定量の水を含むことにより、環境安全性(例えば、作業環境安全性)に優れる一方、特定洗浄剤(ベンジルアルコール等)による被洗浄物に対する洗浄後に、優れたリンス性を発揮できるリンス剤及びそのようなリンス剤の使用方法に関する。 The present invention relates to rinse agents and methods of using rinse agents. In particular, since it contains a predetermined amount of water, it is excellent in environmental safety (e.g., work environment safety), and at the same time, it is a rinse that can exhibit excellent rinsing properties after cleaning the object to be cleaned with a specific cleaning agent (benzyl alcohol, etc.). agents and methods of using such rinse agents.

工業用洗浄剤、例えば、フラックス用洗浄剤は、ソルダペーストを用いて、被洗浄物である電子部品をプリント配線基板の電極に接合した後、フラックス及びフラックス残渣を除去するために、幅広く使用されている。
そのため、良好な洗浄性を発揮し、環境問題等が比較的少ないことから、各種グリコール系化合物を主成分とした、グリコール系洗浄剤からなるフラックス用洗浄剤が使用されている。
Industrial cleaners, such as flux cleaners, are widely used to remove flux and flux residue after solder paste is used to bond electronic components to be cleaned to electrodes of printed wiring boards. ing.
Therefore, a flux cleaning agent composed of a glycol-based cleaning agent containing various glycol-based compounds as a main component is used because it exhibits good cleaning properties and causes relatively few environmental problems.

WO2009/020199号公報WO2009/020199 特開平7-080423号公報JP-A-7-080423 特開平5-175641号公報JP-A-5-175641

特定構造式で表される非ハロゲン系有機溶剤(A)と、特定構造式で表されるアミン化合物(B)と、アミノ基非含有キレート剤(C)と、必要に応じて、所定量の水とを含んでなる鉛フリーハンダフラックス除去用洗浄剤組成物が開示されている(例えば、WO2009/020199号公報(特許文献1)参照)。 A non-halogenated organic solvent (A) represented by a specific structural formula, an amine compound (B) represented by a specific structural formula, an amino group-free chelating agent (C), and, if necessary, a predetermined amount of A lead-free solder flux removing cleaning composition containing water has been disclosed (see, for example, WO2009/020199 (Patent Document 1)).

また、非イオン性界面活性剤及び/又は炭化水素化合物等を含んでなる洗浄剤組成物を用いて洗浄工程を実施した後、5~100℃の水を使用するリンス工程と、を有する洗浄方法が開示されている(例えば、特開平7-080423号公報(特許文献2)参照)。 In addition, a cleaning method comprising a cleaning step using a cleaning composition containing a nonionic surfactant and/or a hydrocarbon compound, etc., followed by a rinsing step using water at 5 to 100°C. has been disclosed (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-080423 (Patent Document 2)).

さらにまた、ロジン系ハンダフラックスが付着した基板に、特定のグリコールエーテル系化合物を含有してなる洗浄剤を接触せしめ、該基板よりフラックス洗浄除去し、次いですすぎ剤として低級アルコールもしくはその水溶液等を接触せしめる基板の洗浄処理方法が開示されている(例えば、特開平5-175641号公報(特許文献3)参照)。 Furthermore, the substrate to which the rosin-based solder flux has adhered is brought into contact with a cleaning agent containing a specific glycol ether-based compound to wash and remove the flux from the substrate, followed by contact with a lower alcohol or its aqueous solution as a rinsing agent. A method for cleaning a substrate to be processed has been disclosed (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-175641 (Patent Document 3)).

しかしながら、特許文献1に開示されたフラックス用洗浄剤自体は、通常、沸点が高く、短時間に乾燥させることが困難であるという課題があった。さらに、当該フラックス用洗浄剤は、被洗浄物に対する清浄度が低下しやすいという問題が見られた。
そのため、水及び含水アルコール等のリンス剤を用いて、フラックス用洗浄剤を置換しつつ、被洗浄物を乾燥させるプロセスを設けることが必要であるという問題が見られた。
However, the flux cleaning agent itself disclosed in Patent Document 1 usually has a high boiling point, and there is a problem that it is difficult to dry it in a short time. Furthermore, there is a problem that the cleaning agent for flux tends to deteriorate the cleanliness of the object to be cleaned.
Therefore, there has been a problem that it is necessary to provide a process for drying the object to be cleaned while replacing the flux cleaning agent with a rinsing agent such as water or hydrous alcohol.

また、特許文献2に開示された洗浄方法の場合、洗浄剤組成物の種類が過度に制限されるという課題があった。さらに、当該洗浄方法の場合、リンス工程における水温を、厳格に所定範囲内の値(5~100℃)に制御しなければならないという問題が見られた。
その上、リンス剤として水を用いた場合、乾燥性が悪いばかりか、疎水性のフラックス用洗浄剤、例えば、ベンジルアルコール等に対する溶解性が低いため、濯ぎ不良となりやすいという問題も見られた。
Moreover, in the case of the cleaning method disclosed in Patent Document 2, there is a problem that the type of cleaning composition is excessively limited. Furthermore, in the case of the cleaning method, there is a problem that the water temperature in the rinsing step must be strictly controlled within a predetermined range (5 to 100° C.).
In addition, when water is used as a rinse agent, not only is the drying property poor, but also the solubility in a hydrophobic flux cleaning agent such as benzyl alcohol is low, so there is a problem of poor rinsing.

特許文献3に開示された基板の洗浄処理方法の場合、リンス剤として含水アルコールを用いていることから、疎水性のフラックス用洗浄剤に対する溶解性は、比較的良好である。しかしながら、当該リンス剤は、引火点が低く、環境安全性(例えば、作業環境安全性)が不十分であるという問題が見られた。 In the case of the substrate cleaning treatment method disclosed in Patent Document 3, the water-containing alcohol is used as the rinsing agent, so that the solubility in the hydrophobic cleaning agent for flux is relatively good. However, the said rinse agent has the problem that a flash point is low and environmental safety (for example, working-environment safety) is inadequate.

そこで、本発明の発明者は鋭意検討した結果、水溶性グリコールエーテル化合物の配合量と、水の配合量との割合を所定割合としたリンス剤であって、かつ、リンス剤におけるベンジルアルコールの溶解度を所定値以上とすることによって、従来の問題を解決することを見出した。
すなわち、本発明は、疎水性の特定洗浄剤(ベンジルアルコール等)による被洗浄物の洗浄後に用いられる、環境安全性(例えば、作業環境安全性)に優れた水系リンス剤であって、かつ、優れたリンス性を発揮することができるリンス剤及びこのようなリンス剤の使用方法を提供することを目的とする。
Therefore, the inventors of the present invention have made intensive studies and found that the rinse agent has a predetermined ratio of the blended amount of the water-soluble glycol ether compound and the blended amount of water, and the solubility of benzyl alcohol in the rinse agent is is set to a predetermined value or more to solve the conventional problem.
That is, the present invention provides a water-based rinse agent excellent in environmental safety (e.g., work environment safety), which is used after cleaning an object to be cleaned with a specific hydrophobic cleaning agent (benzyl alcohol, etc.), and An object of the present invention is to provide a rinse agent capable of exhibiting excellent rinsing properties and a method for using such a rinse agent.

本発明によれば、少なくとも水溶性グリコールエーテル化合物及び水を含み、ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上であるリンス剤であって、水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、水の配合量が50~1000重量部であるリンス剤が提供される。本発明によれば、上述した問題点を解決することができる。
このように水溶性グリコールエーテル化合物の配合量と、水の配合量との割合を所定範囲内の値とした、環境安全性(例えば、作業環境安全性)に優れたリンス剤である。
そして、単位体積当たりのリンス剤に対するベンジルアルコールの溶解度を所定値以上とすることによって、従来水ではすすぎが困難であったベンジルアルコール等の疎水性化合物をはじめ、様々な洗浄剤をすすぐことが出来る。そのため、被洗浄物における所定洗浄剤の残留が極めて少ないリンス剤を提供することができる。
According to the present invention, there is provided a rinse agent containing at least a water-soluble glycol ether compound and water and having a solubility of benzyl alcohol of 10 vol % or more, wherein the amount of water blended with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound is A rinse agent is provided that is from 50 to 1000 parts by weight. According to the present invention, the problems described above can be resolved.
Thus, the rinse agent is excellent in environmental safety (for example, safety in working environment) by setting the ratio of the water-soluble glycol ether compound to the water in a predetermined range.
By setting the solubility of benzyl alcohol in the rinse agent per unit volume to a predetermined value or higher, it is possible to rinse various detergents, including hydrophobic compounds such as benzyl alcohol, which were difficult to rinse with conventional water. . Therefore, it is possible to provide a rinsing agent that leaves an extremely small amount of the predetermined cleaning agent on the object to be cleaned.

また、本発明のリンス剤を構成するにあたり、室温から80℃の温度範囲における光透過率が90%以上であることが好ましい。
このように所定温度範囲において、所定の光透過率を有することによって、室温から80℃までの温度範囲において相分離することなく、事実上、曇点を有しないと判断することができる。したがって、通常の使用温度範囲では、曇点を有さず、透明性を維持することから、使い勝手が良好なリンス剤を提供することができる。
Further, in constructing the rinse agent of the present invention, it is preferable that the light transmittance in the temperature range from room temperature to 80° C. is 90% or more.
By having a predetermined light transmittance in a predetermined temperature range, phase separation does not occur in a temperature range from room temperature to 80° C., and it can be determined that there is virtually no cloud point. Therefore, it does not have a clouding point and maintains transparency in a normal use temperature range, so that it is possible to provide a rinse agent that is easy to use.

また、本発明のリンス剤を構成するにあたり、リンス剤の引火点が50℃以上であることが好ましい。
このように引火点を有する場合であっても、所定温度以上の値とすることによって、より環境安全性(例えば、作業環境安全性)に優れるリンス剤を提供することができる。
Moreover, in constructing the rinse agent of the present invention, the rinse agent preferably has a flash point of 50° C. or higher.
Even if it has a flash point in this way, it is possible to provide a rinse agent that is more excellent in environmental safety (for example, working environment safety) by setting it to a value equal to or higher than a predetermined temperature.

また、本発明のリンス剤を構成するにあたり、感光性ソルダーレジスト硬化体によって表面が保護されたプリント基板のレジスト表面に対する水の初期接触角をθとし、上記プリント基板を30℃のリンス剤に10分間浸漬した後、100℃で5分の条件で乾燥させた該プリント基板のレジスト表面に対する水の接触角をθとしたときに、|θ-θ|が3°以下であることが好ましい。
このように所定接触角の差の絶対値とすることによって、プリント基板等の被洗浄物に対する悪影響が少ないリンス剤を、定量的に提供することができる。
In forming the rinse agent of the present invention, the initial contact angle of water with respect to the resist surface of a printed circuit board whose surface is protected by a cured photosensitive solder resist is θ 1 , and the printed circuit board is subjected to a rinse agent at 30 ° C. |θ 2 −θ 1 | is 3° or less, where θ 2 is the contact angle of water with respect to the resist surface of the printed circuit board which has been immersed for 10 minutes and then dried at 100° C. for 5 minutes. is preferred.
By setting the absolute value of the difference between the predetermined contact angles in this way, it is possible to quantitatively provide a rinse agent that has little adverse effect on the object to be cleaned, such as a printed circuit board.

また、本発明のリンス剤を構成するにあたり、水溶性グリコールエーテル化合物は、その沸点(大気圧下)が250℃以下であることが好ましい。
このように水溶性グリコールエーテル化合物の沸点を制限することによって、リンス剤の再生をさらに容易に行うことができ、かつ、乾燥性にもさらに優れたものとなる。
Moreover, in constituting the rinse agent of the present invention, the water-soluble glycol ether compound preferably has a boiling point (under atmospheric pressure) of 250° C. or less.
By limiting the boiling point of the water-soluble glycol ether compound in this way, the rinse agent can be regenerated more easily and the drying properties are further improved.

また、本発明のリンス剤を構成するにあたり、水溶性グリコールエーテル化合物は、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノ-tert-ブチルエーテル、3-メトキシ-3-メチルブタノール、3-メトキシブタノール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル及びジエチレングリコールジメチルエーテルからなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
このような水溶性グリコールエーテル化合物を用いることによって、環境安全性(例えば、作業環境安全性)に優れるとともに、洗浄剤の残留が少なく、さらには、比較的安価なリンス剤を提供することができる。
In composing the rinse agent of the present invention, the water-soluble glycol ether compound includes ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol mono-tert-butyl ether, 3-methoxy-3-methylbutanol, 3-methoxybutanol, ethylene glycol mono It is preferably at least one compound selected from the group consisting of isopropyl ether, diethylene glycol isopropyl methyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether and diethylene glycol dimethyl ether.
By using such a water-soluble glycol ether compound, it is possible to provide a rinse agent that is excellent in environmental safety (e.g., work environment safety), leaves little residual detergent, and is relatively inexpensive. .

また、本発明のリンス剤を構成するにあたり、上記リンス剤は沸点が250℃以下であるアミン化合物を更に含み、当該アミン化合物の配合量は、水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、0.1~10重量部であることが好ましい。
このように所定沸点を有するアミン化合物を所定量配合することによって、洗浄剤中に含まれるフラックス残渣との相溶性を上げることができるとともに、リンス剤の再生をさらに容易に行うことができ、かつ、プリント基板等の被洗浄物に対する悪影響が少ないリンス剤で被洗浄物を効率的に洗浄することができるリンス剤を提供することができる。
In forming the rinse agent of the present invention, the rinse agent further contains an amine compound having a boiling point of 250° C. or less, and the amount of the amine compound is 0 per 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound. .1 to 10 parts by weight.
By blending a predetermined amount of an amine compound having a predetermined boiling point in this manner, compatibility with the flux residue contained in the cleaning agent can be improved, and the rinse agent can be more easily regenerated. Furthermore, it is possible to provide a rinse agent that can efficiently clean objects to be cleaned with a rinse agent that has little adverse effect on objects to be cleaned such as printed circuit boards.

本発明の別の態様は、下記工程(1)~工程(2)を有することを特徴としたリンス剤の使用方法である。
(1)被洗浄物に付着したフラックスを、ベンジルアルコール及び疎水性グリコールエーテル化合物、あるいはいずれか一方を含む洗浄液で洗浄する工程
(2)上記工程(1)で洗浄された被洗浄物を、少なくとも水溶性グリコールエーテル化合物及び水を含み、ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上であるリンス剤であって、水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、水の配合量が50~1000重量部であるリンス剤を用いて、リンスする工程
このように水溶性グリコールエーテル化合物の配合量と、水の配合量との割合を所定範囲内の値とし、かつ、ベンジルアルコールの溶解度を所定値以上としたリンス剤を用いることによって、所定洗浄剤を用いて被洗浄物を効率的に洗浄した後であっても、環境安全性(例えば、作業環境安全性)に優れたリンス処理を行うことができる。
その上、洗浄工程において、所定洗浄剤を用いた場合であっても、従来水ではすすぎが困難であったベンジルアルコール等の疎水性化合物をはじめ、様々な洗浄剤をすすぐことが出来、被洗浄物における所定洗浄剤の残留が極めて少ないリンス剤でリンス処理を行うことができる。
Another aspect of the present invention is a method of using a rinse agent characterized by comprising the following steps (1) and (2).
(1) A step of cleaning the flux adhering to the object to be cleaned with a cleaning liquid containing benzyl alcohol and/or a hydrophobic glycol ether compound. A rinsing agent containing a water-soluble glycol ether compound and water, wherein the solubility of benzyl alcohol is 10 vol% or more, wherein the water content is 50 to 1000 parts by weight per 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound. A step of rinsing with a rinsing agent Rinsing in which the ratio of the blending amount of the water-soluble glycol ether compound and the blending amount of water is set to a value within a predetermined range and the solubility of benzyl alcohol is set to a predetermined value or more. By using the cleaning agent, it is possible to perform a rinsing treatment excellent in environmental safety (for example, work environment safety) even after the object to be cleaned is efficiently washed with a predetermined cleaning agent.
Moreover, in the cleaning process, even when a predetermined cleaning agent is used, it is possible to rinse various cleaning agents, including hydrophobic compounds such as benzyl alcohol, which were difficult to rinse with conventional water. Rinsing treatment can be performed with a rinse agent that leaves a very small amount of the predetermined cleaning agent on the object.

本発明によれば、疎水性の特定洗浄剤(ベンジルアルコール等)による被洗浄物の洗浄後に用いられる、環境安全性(例えば、作業環境安全性)に優れた水系リンス剤であって、かつ、優れたリンス性を発揮することができるリンス剤及びこのようなリンス剤の使用方法を提供することが可能になる。 According to the present invention, a water-based rinse agent excellent in environmental safety (e.g., working environment safety) is used after cleaning an object to be cleaned with a specific hydrophobic cleaning agent (benzyl alcohol, etc.), and It is possible to provide a rinse agent capable of exhibiting excellent rinsing properties and a method for using such a rinse agent.

図1は、リンス剤の単位体積(100ml)に対する、ベンジルアルコールの溶解度(vol%)と、相溶性(すすぎ性)の評価点(相対値)との関係を説明するために供する図である。FIG. 1 is a diagram for explaining the relationship between the solubility (vol%) of benzyl alcohol and the compatibility (rinsability) evaluation point (relative value) with respect to the unit volume (100 ml) of the rinse agent.

[第1の実施形態]
第1の実施形態は、少なくとも水溶性グリコールエーテル化合物及び水を含み、ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上であるリンス剤であって、水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、水の配合量を50~1000重量部の範囲内の値とすることを特徴とするリンス剤である。
言い換えると、上記リンス剤は、少なくとも水溶性グリコールエーテル化合物及び水を含み、ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上であるリンス剤であって、
上記水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、上記水の配合量が50~1000重量部である。
以下、本発明の第1の実施形態のリンス剤を、適宜図面を参照しながら、具体的に説明する。なお、本明細書において「A~B」という形式の表記は、範囲の上限下限(すなわちA以上B以下)を意味し、Aにおいて単位の記載がなく、Bにおいてのみ単位が記載されている場合、Aの単位とBの単位とは同じである。
[First embodiment]
The first embodiment is a rinse agent containing at least a water-soluble glycol ether compound and water, wherein the solubility of benzyl alcohol is 10 vol% or more, and the amount of water blended with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound. is a value within the range of 50 to 1000 parts by weight.
In other words, the rinse agent contains at least a water-soluble glycol ether compound and water, and has a solubility of benzyl alcohol of 10 vol% or more,
The water content is 50 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound.
Hereinafter, the rinse agent of the first embodiment of the present invention will be specifically described with appropriate reference to the drawings. In the present specification, the notation of the format "A to B" means the upper and lower limits of the range (that is, A or more and B or less), and when there is no unit description in A and only a unit is described in B , A and B are the same.

1.水溶性グリコールエーテル化合物
水溶性グリコールエーテル化合物は、リンス剤の主成分である。ここで、「グリコールエーテル化合物」とは、ジオール又はその縮合体の水酸基の片方又は両方がエーテル化した化合物を意味する。
そして、本発明のリンス剤を構成するグリコールエーテル化合物は、上記の第1工程(工程(1))で使用したもの(洗浄液に含まれる疎水性グリコールエーテル化合物)とは異なり、水溶性グリコールエーテル化合物である。
この理由は、かかる水溶性グリコールエーテル化合物を用いることにより、水100重量部に100ml溶解させても、懸濁又は分離が生じないことになるためである。
そして、被洗浄物に残留する疎水性を有するベンジルアルコール又は疎水性グリコールエーテル化合物を除去して、被洗浄物を効率的にリンスすることが可能になるためである。
なお、ここで使用される水溶性グリコールエーテル化合物としては、例えば、水への溶解度(測定温度:20℃)が50重量%を超える水溶性を示すものが好ましい。
1. Water-Soluble Glycol Ether Compounds Water-soluble glycol ether compounds are the main ingredients of rinse agents. Here, the "glycol ether compound" means a compound in which one or both of the hydroxyl groups of a diol or its condensate are etherified.
The glycol ether compound constituting the rinse agent of the present invention is different from the one used in the first step (step (1)) (hydrophobic glycol ether compound contained in the cleaning liquid), and is a water-soluble glycol ether compound is.
The reason for this is that by using such a water-soluble glycol ether compound, even if 100 ml of the compound is dissolved in 100 parts by weight of water, no suspension or separation occurs.
This is because it is possible to remove the hydrophobic benzyl alcohol or hydrophobic glycol ether compound remaining on the object to be washed, and to effectively rinse the object to be washed.
As the water-soluble glycol ether compound used here, for example, a water-soluble compound having a solubility in water (measurement temperature: 20° C.) exceeding 50% by weight is preferable.

また、本発明で使用する水溶性グリコールエーテル化合物は、その沸点(大気圧下)を、通常、250℃以下の値とすることが好ましい。すなわち、上記水溶性グリコールエーテル化合物は、その沸点(大気圧下)が250℃以下であることが好ましい。本実施形態において、「大気圧」は1013.25hPaである。
この理由は、このような沸点を有する水溶性グリコールエーテル化合物を使用することにより、リンス剤の再生をさらに容易に行うことができ、かつ、得られるリンス剤が引火性でなくなり、環境安全性(例えば、作業環境安全性)にもさらに優れたものとなるためである。
従って、本発明のリンス剤は、引火点を有する場合であっても、それが50℃以上であるか、又は引火点を有していないことが好ましい。
すなわち、洗浄装置の運転中に、リンス剤への引火の危険性がなくなり、非常に安定したリンス工程を含む洗浄作業を行うことができる。
よって、水溶性グリコールエーテル化合物の沸点を120~230℃の範囲内の値とすることがより好ましく、140~220℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
Moreover, the water-soluble glycol ether compound used in the present invention preferably has a boiling point (under atmospheric pressure) of 250° C. or lower. That is, the water-soluble glycol ether compound preferably has a boiling point (under atmospheric pressure) of 250° C. or lower. In this embodiment, "atmospheric pressure" is 1013.25 hPa.
The reason for this is that by using a water-soluble glycol ether compound having such a boiling point, it is possible to regenerate the rinse agent more easily, and the obtained rinse agent is not flammable, and environmental safety ( This is because, for example, working environment safety is also further improved.
Therefore, even if the rinse agent of the present invention has a flash point, it preferably has a flash point of 50° C. or higher or no flash point.
That is, there is no risk of the rinse agent igniting during operation of the cleaning apparatus, and cleaning work including the rinsing process can be performed very stably.
Therefore, it is more preferable to set the boiling point of the water-soluble glycol ether compound to a value within the range of 120 to 230°C, more preferably to a value within the range of 140 to 220°C.

また、このような水溶性グリコールエーテル化合物の具体例としては、エチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)、エチレングリコールモノ-tert-ブチルエーテル(ETB)、3-メトキシ-3-メチルブタノール(MMB)、2-メトキシブタノール(2MB)、3-メトキシブタノール(3MB)、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル(iPG)、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル(IPDM)、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(DPM)、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(MEDG)、トリエチレングリコールジメチルエーテル(DMTG)及びジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)からなる群より選ばれる少なくとも一種類の化合物を挙げることができる。
上記水溶性グリコールエーテル化合物は、一種を単独で使用してもよいし、複数種を組み合わせて使用してもよい。複数種の上記水溶性グリコールエーテルの組み合わせとしては、例えば、PSとMMB、PSと3MB、PSとIPDM、PSとDPM、PSとDMTG、ETBとMMB、ETBとDPM、MMBとDPM、及びMMBとDMTGが挙げられる。なお、上記水溶性グリコールエーテル化合物の三種以上を組み合わせてもよいことは言うまでもない。
Further, specific examples of such water-soluble glycol ether compounds include ethylene glycol monopropyl ether (PS), ethylene glycol mono-tert-butyl ether (ETB), 3-methoxy-3-methylbutanol (MMB), 2- Methoxybutanol (2MB), 3-Methoxybutanol (3MB), Ethylene Glycol Monoisopropyl Ether (iPG), Diethylene Glycol Isopropyl Methyl Ether (IPDM), Dipropylene Glycol Monomethyl Ether (DPM), Diethylene Glycol Ethyl Methyl Ether (MEDG), Triethylene At least one compound selected from the group consisting of glycol dimethyl ether (DMTG) and diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) can be mentioned.
The above water-soluble glycol ether compounds may be used singly or in combination. Combinations of a plurality of types of water-soluble glycol ethers include, for example, PS and MMB, PS and 3MB, PS and IPDM, PS and DPM, PS and DMTG, ETB and MMB, ETB and DPM, MMB and DPM, and MMB and DMTG can be mentioned. Needless to say, three or more of the above water-soluble glycol ether compounds may be combined.

本実施形態の一側面において、上記水溶性グリコールエーテル化合物は、以下の式1、式2又は式3で表される構造を有する化合物であってもよい。
HO-[C-O]-R (式1)
-O-[(CH-O]-R (式2)
CH-CR-CR-CH-OH (式3)
(式1中、Rは炭素数1~3のアルキル基を示す。式2中、Rは炭素数1又は2のアルキル基を示し、Rは水素原子又は炭素数1又は2のアルキル基を示す。式3中、R及びRは、一方が水素原子を示し、他方が炭素数1又は2のアルコキシ基を示す。式3中、R及びRは、一方が水素原子を示し、他方が水素原子又は炭素数1若しくは2のアルキル基を示す。)
In one aspect of the present embodiment, the water-soluble glycol ether compound may be a compound having a structure represented by Formula 1, Formula 2, or Formula 3 below.
HO-[C 3 H 6 -O] 2 -R 1 (Formula 1)
R 2 —O—[(CH 2 ) 2 —O] 3 —R 3 (Formula 2)
CH 3 —CR 4 R 5 —CR 6 R 7 —CH 2 —OH (Formula 3)
(In formula 1, R 1 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. In formula 2, R 2 represents an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms, and R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms. In Formula 3, one of R 4 and R 6 represents a hydrogen atom and the other represents an alkoxy group having 1 or 2 carbon atoms, and one of R 5 and R 7 in Formula 3 represents a hydrogen atom. and the other represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 or 2 carbon atoms.)

式1中、-[C-O]-で表される基としては、例えば、-[(CH-O]-で表される基、-[CHCH(CH)-O]-で表される基、及び-[CH(CH)CH-O]-で表される基が挙げられる。本実施形態において、式1中の-[C-O]-で表される基は、-[CHCH(CH)-O]-で表される基であることが好ましい。In Formula 1, the group represented by -[C 3 H 6 -O] 2 - includes, for example, a group represented by -[(CH 2 ) 3 -O] 2 -, -[CH 2 CH(CH 3 ) A group represented by -O] 2 - and a group represented by -[CH(CH 3 )CH 2 -O] 2 - can be mentioned. In this embodiment, the group represented by -[C 3 H 6 -O] 2 - in Formula 1 is a group represented by -[CH 2 CH(CH 3 )-O] 2 -. preferable.

そして、これらの水溶性グリコールエーテル化合物中、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノ-tert-ブチルエーテル、3-メトキシ-3-メチルブタノール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等であれば、安全性、疎水性化合物との相溶性(すすぎ性)、乾燥性の理由から、より好適な水溶性グリコールエーテル化合物として使用することができる。 Among these water-soluble glycol ether compounds, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol mono-tert-butyl ether, 3-methoxy-3-methylbutanol, dipropylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, etc. are safe. It can be used as a more suitable water-soluble glycol ether compound for the reasons of compatibility with hydrophobic compounds (rinsability) and drying property.

2.水
リンス剤を構成するにあたり、水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、水の配合量を50~1000重量部の範囲内の値とすることを特徴とする。言い換えると、上記水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、上記水の配合量が50~1000重量部である。
この理由は、過度に水の配合量が少なくなると、得られるリンス剤の引火性が高まったり、レジストに対する悪影響(接触角変化)が生じたりする場合があるためである。
一方、過度に水の配合量が多くなると、リンス剤によるリンス性又はフラックスの再付着防止性が著しく低下する場合があるためである。
2. Water In composing the rinse agent, the amount of water to be blended is set to a value within the range of 50 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound. In other words, the water content is 50 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound.
The reason for this is that if the blending amount of water is excessively small, the flammability of the resulting rinse agent may increase, or adverse effects (change in contact angle) may occur on the resist.
On the other hand, if the blending amount of water is excessively large, the rinsing property of the rinsing agent or the anti-redeposition property of the flux may be remarkably deteriorated.

したがって、リンス剤を構成するにあたり、水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、水の配合量を80~600重量部の範囲内の値とすることが好ましく、100~400重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。言い換えると、上記水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、水の配合量が80~600重量部であることが好ましく、100~400重量部であることがさらに好ましい。
そして、水溶性グリコールエーテル化合物に対して、配合する水としては、純水(イオン交換水、蒸留水等)が好ましく、電気伝導率が10μS/cm程度の清浄性を有することが好ましく、1μS/cm程度の清浄性を有することがより好ましい。言い換えると、上記水は、その電気伝導率が1~10μS/cmであることが好ましく、1~5μS/cmであることがより好ましい。
Therefore, in composing the rinse agent, the amount of water to be blended is preferably in the range of 80 to 600 parts by weight, more preferably in the range of 100 to 400 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound. is more preferable. In other words, the water content is preferably 80 to 600 parts by weight, more preferably 100 to 400 parts by weight, per 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound.
The water to be mixed with the water-soluble glycol ether compound is preferably pure water (ion-exchanged water, distilled water, etc.). It is more preferable to have cleanliness of about cm. In other words, the water preferably has an electric conductivity of 1 to 10 μS/cm, more preferably 1 to 5 μS/cm.

3.溶解度
また、リンス剤の特性に関して、当該リンス剤の単位体積(100ml)に対する、ベンジルアルコールの溶解度を10vol%以上の値とすることを特徴とする。言い換えると、上記リンス剤の単位体積(100ml)に対する、ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上である。
すなわち、本発明で使用するリンス剤は、特定の洗浄剤、例えば、ベンジルアルコール又は疎水性グリコールエーテル化合物を用いた場合であっても、それらが付着した被洗浄物をリンスするため、上述の構成を備える。
ここで、ベンジルアルコールの溶解度を指標としたのは、ベンジルアルコール、疎水性グリコールエーテル化合物のうち、当該リンス剤への溶解性が最も低いのがベンジルアルコールであるためである。
また、かかるリンス剤の単位体積(100ml)に対する、ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上の値であれば、洗浄時の濁度の値の変化を極力低下させることができ、透明性に富んだリンス剤の状態を維持できるためである。
3. Solubility Regarding the properties of the rinse agent, the solubility of benzyl alcohol in the unit volume (100 ml) of the rinse agent is set to a value of 10 vol % or more. In other words, the solubility of benzyl alcohol in the unit volume (100 ml) of the rinse agent is 10 vol % or more.
That is, even when a specific cleaning agent such as benzyl alcohol or a hydrophobic glycol ether compound is used, the rinsing agent used in the present invention rinses the object to be cleaned to which the cleaning agent adheres. Prepare.
Here, the reason why the solubility of benzyl alcohol is used as an index is that, of benzyl alcohol and hydrophobic glycol ether compounds, benzyl alcohol has the lowest solubility in the rinse agent.
In addition, if the solubility of benzyl alcohol in the unit volume (100 ml) of the rinse agent is 10 vol% or more, the change in turbidity value during washing can be minimized, and the rinse agent is highly transparent. This is because the state of the agent can be maintained.

但し、かかるリンス剤の単位体積(100ml)に対する、ベンジルアルコールの溶解度が過度に大きくなると、使用可能な水溶性グリコールエーテル化合物の種類が過度に制限される場合がある。
したがって、かかるリンス剤の単位体積(100ml)に対する、ベンジルアルコールの溶解度を15vol%~40vol%の範囲内の値とすることが好ましく、20vol%~30vol%の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
However, if the solubility of benzyl alcohol with respect to the unit volume (100 ml) of the rinse agent is excessively high, the types of water-soluble glycol ether compounds that can be used may be excessively limited.
Therefore, the solubility of benzyl alcohol with respect to the unit volume (100 ml) of the rinse agent is preferably within the range of 15 vol% to 40 vol%, more preferably within the range of 20 vol% to 30 vol%. .

ここで、図1を参照して、リンス剤の単位体積(100ml)に対する、ベンジルアルコールの溶解度(vol%)と、相溶性(すすぎ性、又はリンス性)の評価点(相対値)との関係を説明する。
すなわち、図1の横軸に、リンス剤の単位体積に対する、ベンジルアルコールの溶解度(vol%)をとって示してあり、縦軸に、相溶性(すすぎ性、又はリンス性)の評価点(相対値)をとって示してある。ここで、縦軸の評価点0、1、2、3、4及び5は、それぞれ後述する実施例におけるリンス性の評価E、D、C、B、A’及びAに対応している。
そして、図1中の特性曲線から判断して、ベンジルアルコールの溶解度が5vol%程度では、評価点は未だ低いものの、ベンジルアルコールの溶解度が10vol%を超えると、急激に評価点が高くなる傾向がある。
そして、ベンジルアルコールの溶解度(vol%)が15vol%程度を超え、少なくとも25vol%程度までは、最高の評価点が得られている。
したがって、リンス剤におけるベンジルアルコールの溶解度を10vol%以上に適宜調整することにより、相溶性(すすぎ性、又はリンス性)の評価に関して、良好な結果が得られることが理解される。
Here, referring to FIG. 1, the relationship between the solubility (vol%) of benzyl alcohol and the compatibility (rinsability or rinseability) evaluation point (relative value) with respect to the unit volume (100 ml) of the rinse agent. explain.
That is, the horizontal axis of FIG. 1 shows the solubility (vol%) of benzyl alcohol with respect to the unit volume of the rinse agent, and the vertical axis shows the compatibility (rinsability or rinseability) evaluation score (relative values). Here, evaluation points 0, 1, 2, 3, 4, and 5 on the vertical axis correspond to evaluations of rinsability E, D, C, B, A', and A in Examples described later, respectively.
Judging from the characteristic curve in FIG. 1, when the solubility of benzyl alcohol is about 5 vol%, the score is still low, but when the solubility of benzyl alcohol exceeds 10 vol%, the score tends to rise sharply. be.
The highest score is obtained when the solubility (vol%) of benzyl alcohol exceeds about 15 vol% and is at least up to about 25 vol%.
Therefore, it is understood that by appropriately adjusting the solubility of benzyl alcohol in the rinse agent to 10 vol % or more, good results can be obtained in terms of evaluation of compatibility (rinsability or rinseability).

4.所定沸点のアミン化合物
また、本発明で使用するリンス剤には、大気圧下の沸点が250℃以下のアミン化合物を配合することが好ましい。すなわち、上記リンス剤は、沸点が250℃以下であるアミン化合物を更に含むことが好ましい。
この理由は、かかる沸点を有するアミン化合物を配合することにより、リンス剤の再生を大きく妨げることなく、フラックスの溶解度を高めることができ、ひいては、洗浄性の向上が図られるためである。
その上、かかるアミン化合物を配合することにより、フラックスの再付着についても有効に防止でき、かかるリンス剤を洗浄剤としての機能も発揮させるためである。
したがって、かかるアミン化合物の沸点を120~230℃の範囲内の値とすることがより好ましく、140~220℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
4. Amine Compound with Predetermined Boiling Point It is preferable to add an amine compound with a boiling point of 250° C. or less under atmospheric pressure to the rinse agent used in the present invention. That is, the rinse agent preferably further contains an amine compound having a boiling point of 250° C. or lower.
The reason for this is that by blending an amine compound having such a boiling point, it is possible to increase the solubility of the flux without greatly hindering the regeneration of the rinse agent, thereby improving the detergency.
In addition, by blending such an amine compound, it is possible to effectively prevent the redeposition of flux, and the rinse agent also functions as a cleaning agent.
Therefore, it is more preferable to set the boiling point of such an amine compound to a value within the range of 120 to 230°C, more preferably within the range of 140 to 220°C.

本実施形態において「アミン化合物」とは、アンモニアの水素原子を炭化水素基又は芳香族原子団で置換した化合物を意味する。上記アミン化合物には、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが含まれる。また、他の側面において、上記アミン化合物には、脂肪族アミン及び芳香族アミンが含まれる。さらに他の側面において、上記アミン化合物には、モノアミン、ジアミン及びポリアミンが含まれる。 In the present embodiment, the "amine compound" means a compound obtained by substituting a hydrogen atom of ammonia with a hydrocarbon group or an aromatic atomic group. The amine compounds include primary amines, secondary amines and tertiary amines. Also, in another aspect, the amine compounds include aliphatic amines and aromatic amines. In yet another aspect, the amine compounds include monoamines, diamines and polyamines.

また、このような沸点を有するアミン化合物の配合量を、リンス剤中に含まれる水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、通常、0.1~10重量部の範囲内の値とすることが好ましい。言い換えると、当該アミン化合物の配合量は、上記水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、0.1~10重量部であることが好ましい。
すなわち、過度に少なく配合すると、アミン化合物の配合効果が得られない場合があるためである。
一方、過度に配合すると、洗浄装置を構成する金属、基板における導体等を腐食させたり、臭気が強くなったりする場合があるためである。
したがって、上記アミン化合物の配合量は、リンス剤中に含まれる水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、0.2~5重量部の範囲内の値とすることがより好ましく、0.5~3重量部の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
In addition, the amount of the amine compound having such a boiling point is usually within the range of 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound contained in the rinse agent. is preferred. In other words, the content of the amine compound is preferably 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound.
That is, if the amount of the amine compound is too small, the effect of the amine compound may not be obtained.
On the other hand, if it is excessively blended, it may corrode the metals constituting the cleaning apparatus, the conductors in the substrate, or the like, or the odor may become strong.
Therefore, the blending amount of the amine compound is more preferably set to a value within the range of 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound contained in the rinse agent, and 0.5 parts by weight. A value within the range of up to 3 parts by weight is more preferable.

また、沸点が250℃以下のアミン化合物の引火点を30~100℃の範囲内の値とすることが好ましい。すなわち、上記アミン化合物は、その引火点が30~100℃であることが好ましい。
このような引火点を有するアミン化合物であれば、比較的多く配合したとしても、リンス剤の引火点の変動が殆ど発現しないためである。
Moreover, it is preferable to set the flash point of the amine compound having a boiling point of 250°C or lower to a value within the range of 30 to 100°C. That is, the amine compound preferably has a flash point of 30 to 100°C.
This is because if the amine compound has such a flash point, even if it is blended in a relatively large amount, the flash point of the rinsing agent hardly fluctuates.

よって、沸点が250℃以下のアミン化合物の好適例としては、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,6-ヘキサメチレンジアミン(TMHMDA)、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,4-ジアミノブタン(TMDAB)、N,N,N’,N’-テトラメチル-1,3-ジアミノプロパン(TMDAP)、ジブチルアミン(DBA)、N,N-ジエチルヒドロキシアミン(DEHA)、N-エチルエタノールアミン(MEM)の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。二種以上の上記アミン化合物の組み合わせとしては、例えば、DBAとDEHAが挙げられる。 Therefore, suitable examples of amine compounds having a boiling point of 250° C. or lower include N,N,N′,N′-tetramethyl-1,6-hexamethylenediamine (TMHMDA), N,N,N′,N′- Tetramethyl-1,4-diaminobutane (TMDAB), N,N,N',N'-tetramethyl-1,3-diaminopropane (TMDAP), dibutylamine (DBA), N,N-diethylhydroxyamine ( DEHA), N-ethylethanolamine (MEM) alone or in combination of two or more. Combinations of two or more of the above amine compounds include, for example, DBA and DEHA.

本実施形態の一側面において、沸点が250℃以下のアミン化合物は、以下の式4~式7のいずれかで表される構造を有する化合物であってもよい。式7中、-C2q-で表される基は、直鎖状であってもよいし(qが1~4の整数の場合)、分岐鎖状であってもよい(qが2~4の整数の場合)。式7中、-C2r-で表される基は、直鎖状であってもよいし(rが1~4の整数の場合)、分岐鎖状であってもよい(rが2~4の整数の場合)。
(CH-N-(CH-N-(CH (式4)
(H-(CH-NH(式5)
(H-(CH-N-OH (式6)
H-C2q-NH-C2r-OH (式7)
(式4中、nは3~6の整数を示す。式5中、mは4又は5の整数を示す。式6中、pは2~4の整数を示す。式7中、qは1~4の整数を示し、rは1~4の整数を示す。)
In one aspect of the present embodiment, the amine compound having a boiling point of 250° C. or less may be a compound having a structure represented by any one of formulas 4 to 7 below. In Formula 7, the group represented by —C q H 2q — may be linear (where q is an integer of 1 to 4) or branched (where q is 2 for integers from ~4). In Formula 7, the group represented by —C r H 2r — may be linear (when r is an integer of 1 to 4) or branched (r is 2 for integers from ~4).
(CH 3 ) 2 -N-(CH 2 ) n -N-(CH 3 ) 2 (Formula 4)
(H—(CH 2 ) m ) 2 —NH (Formula 5)
(H—(CH 2 ) p ) 2 —N—OH (Formula 6)
H—C q H 2q —NH—C r H 2r —OH (equation 7)
(In formula 4, n represents an integer of 3 to 6. In formula 5, m represents an integer of 4 or 5. In formula 6, p represents an integer of 2 to 4. In formula 7, q represents 1 represents an integer of ~4, and r represents an integer of 1 to 4.)

5.他の配合成分
また、リンス剤に配合される、その他の成分としては、酸化防止剤、帯電防止剤、界面活性剤、粘度調整剤等の少なくとも一種を挙げることができる。
そして、これらの成分の配合量は、それぞれ配合目的に応じて適宜決めることができるが、通常、リンス剤の全体量に対して、0.01~10重量%の範囲内の値とすることが好ましい。
5. Other Compounding Ingredients Further, as other ingredients to be compounded in the rinse agent, at least one of antioxidants, antistatic agents, surfactants, viscosity modifiers and the like can be mentioned.
The amount of these components to be blended can be appropriately determined according to the purpose of blending, but is usually within the range of 0.01 to 10% by weight with respect to the total amount of the rinse agent. preferable.

6.引火点
JIS K 2265-1及び4(引火点の求め方)に準じて測定されるリンス剤の引火点を50℃以上の値とすることが好ましい。すなわち、上記リンス剤は、その引火点が50℃以上であることが好ましい。
この理由は、リンス剤が引火点を有する場合であっても、その値が50℃以上であれば、取り扱いがさらに容易になるとともに、安全性をさらに向上させることができるためである。
但し、リンス剤が引火点を有する場合、その値が120℃を超えると、再生上、使用可能なリンス剤の配合成分の種類が過度に制限されたり、コストが高くなって、経済的に不利となったりする場合がある。
したがって、リンス剤の引火点を60~120℃の範囲内の値とすることが好ましく、70~100℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
6. Flash point The flash point of the rinse agent measured according to JIS K 2265-1 and 4 (determination of flash point) is preferably 50°C or higher. That is, the rinse agent preferably has a flash point of 50° C. or higher.
The reason for this is that even if the rinse agent has a flash point, if the flash point is 50° C. or higher, handling becomes easier and safety can be further improved.
However, when the rinse agent has a flash point, if the value exceeds 120°C, the types of ingredients that can be used in the rinse agent are excessively limited and the cost increases, which is economically disadvantageous. It may become
Therefore, the flash point of the rinse agent is preferably within the range of 60 to 120°C, more preferably within the range of 70 to 100°C.

7.光透過率
また、室温から80℃の温度範囲における、リンス剤の光透過率(可視光透過率)を90%以上の値とすることが好ましい。すなわち、上記リンス剤は、室温から80℃の温度範囲における光透過率が90%以上であることが好ましい。
この理由は、このような温度範囲(室温から80℃)において、所定の光透過率を有することによって、相分離することなく、事実上、曇点を有しないと判断することができるためである。したがって、所定温度範囲内に曇点を有しない以上、使い勝手が良好なリンス剤を提供することができる。
すなわち、このようにリンス剤が相分離せず透明な間は、前工程である洗浄工程で使用したベンジルアルコール、疎水性グリコールエーテル化合物等を有効に相溶することができるためである。それと共にフラックスの再付着も起こらず、充分にリンス剤として機能することができるためである。
したがって、室温から80℃の温度範囲における、リンス剤の光透過率を95%以上の値とすることがより好ましく、98%以上の値とすることがさらに好ましい。上記光透過率の上限は、本発明の効果を損なわない範囲において特に制限されないが、例えば、100%以下が挙げられる。
なお、光透過率の測定は、分光光度計(日本分光株式会社製、製品名:紫外可視分光光度計V-530)を用いて、可視光(波長660nm)、室温(25℃)~80℃の条件で行う。
7. Light Transmittance It is preferable that the light transmittance (visible light transmittance) of the rinse agent in the temperature range from room temperature to 80° C. is 90% or more. That is, the rinse agent preferably has a light transmittance of 90% or more in the temperature range from room temperature to 80°C.
The reason for this is that, in such a temperature range (from room temperature to 80° C.), it can be determined that, by having a predetermined light transmittance, there is virtually no cloud point without phase separation. . Therefore, as long as it does not have a cloud point within the predetermined temperature range, it is possible to provide a rinse agent that is easy to use.
This is because the benzyl alcohol, hydrophobic glycol ether compound, etc. used in the previous washing step can be effectively dissolved while the rinse agent is transparent without phase separation. At the same time, reattachment of flux does not occur, and it can sufficiently function as a rinsing agent.
Therefore, the light transmittance of the rinse agent in the temperature range from room temperature to 80° C. is more preferably 95% or more, more preferably 98% or more. The upper limit of the light transmittance is not particularly limited as long as the effect of the present invention is not impaired, and is, for example, 100% or less.
The light transmittance is measured using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, product name: UV-visible spectrophotometer V-530), visible light (wavelength 660 nm), room temperature (25 ° C.) to 80 ° C. conditions.

8.接触角
また、本発明で使用するリンス剤につき、被洗浄物に対する表面改質を少なくすることが好ましい。
すなわち、本発明で使用するリンス剤と被洗浄物とが接触しても、被洗浄物の乾燥後における水の接触角変化が非常に少なく、本発明のリンス剤が被洗浄物に及ぼす影響が極めて少ないといえる。
より具体的には、感光性ソルダーレジスト硬化体によって表面が保護されたプリント基板のレジスト表面に対する水の初期接触角をθとし、30℃のリンス剤に10分間浸漬した後のこのレジスト表面に対する水の接触角をθとしたときに、これら接触角の差の絶対値|θ-θ|を3°以下の値とすることが好ましい。
言い換えると、感光性ソルダーレジスト硬化体により表面が保護されたプリント基板のレジスト表面に対する水の初期の接触角をθ1とし、上記プリント基板を30℃のリンス剤に10分間浸漬した後、100℃で5分の条件で乾燥させた上記プリント基板のレジスト表面に対する水の接触角をθ2としたときに、接触角θとθとの差の絶対値|θ2-θ1|が3°以下であることが好ましい。
この理由は、かかる接触角の差の絶対値が3°を超えると、レジストの封止樹脂との密着性又は電気絶縁性、さらには機械的強度が過度に低下する場合があるためである。
したがって、かかる接触角の差の絶対値|θ-θ|を2°以下の値とすることがより好ましく、1°以下の値とすることがさらに好ましい。上記接触角の差の絶対値|θ-θ|の下限は特に制限されないが、例えば、0°以上が挙げられる。
8. Contact Angle Further, it is preferable that the rinse agent used in the present invention causes less surface modification to the object to be cleaned.
That is, even when the rinse agent used in the present invention and the object to be washed come into contact with each other, the change in the contact angle of water after drying the object to be washed is very small, and the effect of the rinse agent of the present invention on the object to be washed is minimal. It can be said that there are very few.
More specifically, the initial contact angle of water with respect to the resist surface of a printed circuit board whose surface is protected by a cured photosensitive solder resist is θ 1 , and the resist surface after immersion in a rinse agent at 30 ° C. for 10 minutes Assuming that the contact angle of water is θ 2 , the absolute value |θ 2 −θ 1 | of the difference between these contact angles is preferably 3° or less.
In other words, the initial contact angle of water with respect to the resist surface of a printed circuit board whose surface is protected by a cured photosensitive solder resist is θ 1 . The absolute value of the difference between the contact angles θ2 and θ1 , | θ2 - θ1 | ° or less.
The reason for this is that if the absolute value of the contact angle difference exceeds 3°, the adhesion of the resist to the sealing resin, the electrical insulation, and the mechanical strength may be excessively lowered.
Therefore, the absolute value |θ 2 −θ 1 | of the contact angle difference is more preferably 2° or less, and more preferably 1° or less. The lower limit of the absolute value of the contact angle difference |θ 21 | is not particularly limited, but may be, for example, 0° or more.

9.製造方法
本実施形態に係るリンス剤の製造方法は、上述した水溶性グリコールエーテル化合物及び水などの成分を混合する工程を含む。当該混合する工程は、上述した水溶性グリコールエーテル化合物及び水などの成分が均一に混合されれば、どのような手法を用いてもよい。混合する工程としては、例えば、フラスコに所定の成分を加えて、マグネチックスターラーで攪拌混合することが挙げられる。また、化学プラント等において、工業的規模で上述した水溶性グリコールエーテル化合物及び水などの成分を混合してもよい。
9. Manufacturing Method The manufacturing method of the rinse agent according to the present embodiment includes a step of mixing components such as the above-described water-soluble glycol ether compound and water. Any method may be used for the mixing step as long as the components such as the above-described water-soluble glycol ether compound and water are uniformly mixed. The mixing step includes, for example, adding predetermined components to a flask and stirring and mixing with a magnetic stirrer. Moreover, in a chemical plant or the like, the components such as the above-described water-soluble glycol ether compound and water may be mixed on an industrial scale.

[第2の実施形態]
第2の実施形態は、下記工程(1)~工程(2)を有することを特徴としたリンス剤の使用方法である。
(1)被洗浄物に付着したフラックスを、ベンジルアルコール及び疎水性グリコールエーテル化合物、あるいはいずれか一方を含む洗浄液で洗浄する工程。
(2)上記工程(1)で洗浄された被洗浄物を、少なくとも水溶性グリコールエーテル化合物及び水を含み、ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上であるリンス剤であって、水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、水の配合量を50~1000重量部としたリンス剤を用いてリンスする工程
すなわち、第2の実施形態は、工程(1)~工程(2)を有することを特徴とした特定洗浄剤及びリンス剤を用いてなるフラックスの洗浄方法でもある。
[Second embodiment]
The second embodiment is a method of using a rinse agent characterized by having the following steps (1) and (2).
(1) A step of cleaning the flux adhering to the object to be cleaned with a cleaning liquid containing benzyl alcohol and/or a hydrophobic glycol ether compound.
(2) A rinsing agent containing at least a water-soluble glycol ether compound and water and having a solubility of benzyl alcohol of 10 vol % or more, wherein the water-soluble glycol ether compound 100 A step of rinsing with a rinsing agent containing 50 to 1000 parts by weight of water. That is, the second embodiment is characterized by comprising steps (1) and (2). It is also a flux cleaning method using the specified cleaning agent and rinse agent.

上記第2の実施形態の他の側面において、上記リンス剤の使用方法は、下記工程(1)~(2)を含む、リンス剤の使用方法である。
(1)ベンジルアルコール及び疎水性グリコールエーテル化合物、あるいはいずれか一方を含む洗浄剤を用いて、被洗浄物に付着したフラックスを洗浄する工程
(2)上記工程(1)で洗浄された上記被洗浄物を、少なくとも水溶性グリコールエーテル化合物及び水を含み、上記ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上であるリンス剤であって、上記水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、上記水の配合量が50~1000重量部であるリンス剤を用いてリンスする工程
In another aspect of the second embodiment, the method for using a rinse agent includes the following steps (1) to (2).
(1) A step of cleaning the flux adhering to the object to be cleaned using a cleaning agent containing benzyl alcohol and/or a hydrophobic glycol ether compound (2) The object to be cleaned that has been cleaned in the above step (1) A rinse agent containing at least a water-soluble glycol ether compound and water, wherein the solubility of the benzyl alcohol is 10 vol% or more, wherein the amount of the water blended with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound is A step of rinsing with a rinsing agent of 50 to 1000 parts by weight

1.工程(1)
工程(1)は、ハンダ付けされた半導体素子、例えば、BGA(ball grid array)、CSP(chip size package)、PGA(pin grid array)、LGA(land grid array)等の半導体部品、半導体搭載TAB(tape automated bonding)テープ、半導体搭載リードフレーム、半導体搭載コンデンサ、半導体搭載抵抗、半導体素子用基板などの被洗浄物を、洗浄剤を用いて洗浄する工程である。
すなわち、これらの被洗浄物のハンダ付けに際して、フラックスが使用されるので、ハンダ付けされた部分にはフラックスが付着していることになる。
そして、このようなフラックスは、ロジンを主成分とし、有機酸塩、グリシジルエーテル化合物、オキシ酸、(ジ)カルボン酸などが含有されている。
また、加熱下でハンダ付けされることから、当該フラックスはロジン等の熱変成体も含有されることになる。
そのため、水溶性のグリコールエーテル化合物を用いて、フラックスを除去するのは非常に困難であることから、フラックスの除去には疎水性のグリコールエーテル化合物又はベンジルアルコールが好適に使用される。
1. Step (1)
Step (1) includes soldered semiconductor elements such as BGA (ball grid array), CSP (chip size package), PGA (pin grid array), LGA (land grid array), and other semiconductor parts, semiconductor mounted TAB (tape automated bonding) This is a step of cleaning objects to be cleaned, such as a tape, a semiconductor-mounted lead frame, a semiconductor-mounted capacitor, a semiconductor-mounted resistor, and a substrate for semiconductor elements, using a cleaning agent.
That is, since flux is used in soldering these objects to be cleaned, the soldered portions will have flux attached to them.
Such a flux contains rosin as a main component and also contains an organic acid salt, a glycidyl ether compound, an oxyacid, a (di)carboxylic acid, and the like.
In addition, since the flux is soldered under heating, the flux also contains thermally modified substances such as rosin.
Therefore, since it is very difficult to remove the flux using a water-soluble glycol ether compound, a hydrophobic glycol ether compound or benzyl alcohol is preferably used for removing the flux.

したがって、使用するベンジルアルコール類(単に、「ベンジルアルコール」と称する場合もある。)の好適例としては、エチルベンジルアルコール、メチルベンジルアルコール、ベンジルアルコールなどを挙げることができるが、これらは単独使用又は二種以上の組み合わせで使用されることになる。
そして、特に本発明では、ベンジルアルコールを使用することが最も好ましい。
この理由は、ベンジルアルコールであれば、比較的短時間であっても、優れた洗浄性を示すことができるためである。
Therefore, preferred examples of benzyl alcohols to be used (sometimes simply referred to as "benzyl alcohol") include ethylbenzyl alcohol, methylbenzyl alcohol, and benzyl alcohol. It will be used in combination of two or more.
And especially in the present invention, it is most preferable to use benzyl alcohol.
The reason for this is that benzyl alcohol can exhibit excellent detergency even in a relatively short period of time.

また、本発明で使用される疎水性グリコールエーテル化合物の例としてはプロピレングリコールモノブチルエーテル(BFG)、ジプロピレングリコールジメチルエーテル(DMFDG)、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル(BFDG)、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル(PFDG)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(HeDG)、エチレングリコールモノフェニルエーテル(PhG)、ジエチレングリコールモノフェニルエーテル(PhDG)、エチレングリコールモノベンジルエーテル(BzG)、プロピレングリコールモノフェニルエーテル(PhFG)、ジエチレングリコールジブチルエーテル(DBDG)等の一種単独又は二種以上の組み合わせを挙げることができる。なお、ここで使用される疎水性グリコールエーテル化合物としては、例えば、水への溶解度(測定温度:20℃)が50重量%以下の疎水性を示すものが好ましい。 Examples of hydrophobic glycol ether compounds used in the present invention include propylene glycol monobutyl ether (BFG), dipropylene glycol dimethyl ether (DMFDG), dipropylene glycol monobutyl ether (BFDG), and dipropylene glycol monopropyl ether (PFDG). ), diethylene glycol monohexyl ether (HeDG), ethylene glycol monophenyl ether (PhG), diethylene glycol monophenyl ether (PhDG), ethylene glycol monobenzyl ether (BzG), propylene glycol monophenyl ether (PhFG), diethylene glycol dibutyl ether (DBDG ) and the like alone or in combination of two or more. As the hydrophobic glycol ether compound used here, for example, those exhibiting hydrophobicity with a solubility in water (measurement temperature: 20° C.) of 50% by weight or less are preferable.

さらにまた、本発明において、ベンジルアルコールと、疎水性グリコールエーテル化合物とは両者を混合して使用することもできる。
また、ベンジルアルコール又は疎水性グリコールエーテル化合物に、その他の成分を配合することもできる。
なお、洗浄剤に配合される、その他の成分としては、水溶性グリコールエーテル化合物、アミン化合物、酸化防止剤、帯電防止剤、界面活性剤、防錆剤、粘度調整剤等の少なくとも一つを挙げることができる。
Furthermore, in the present invention, benzyl alcohol and a hydrophobic glycol ether compound can be used in combination.
Other ingredients can also be added to the benzyl alcohol or hydrophobic glycol ether compound.
In addition, other components that are blended in the cleaning agent include at least one of a water-soluble glycol ether compound, an amine compound, an antioxidant, an antistatic agent, a surfactant, an antirust agent, a viscosity modifier, and the like. be able to.

2.工程(2)
工程(2)は、工程(1)において、所定洗浄剤を用いて洗浄した被洗浄物を、所定のリンス剤を用いてリンスする工程である。
そして、工程(2)において、第1の実施形態で説明したリンス剤を用いることにより、工程(1)の洗浄工程において使用したベンジルアルコール等の溶解度を10vol%以上と高い値に調整することができる。
したがって、工程(1)の特定洗浄剤に起因して、工程(2)のリンス剤に対して、比較的多量のベンジルアルコールが流入したとしても、リンス剤は、室温から80℃までの間に相分離することがなく、濁度が低下せず、所定の透明性を維持することができる。
2. Step (2)
Step (2) is a step of rinsing, using a prescribed rinsing agent, the object to be washed that has been washed with a prescribed cleaning agent in step (1).
Then, in step (2), by using the rinse agent described in the first embodiment, the solubility of benzyl alcohol or the like used in the washing step of step (1) can be adjusted to a high value of 10 vol % or more. can.
Therefore, even if a relatively large amount of benzyl alcohol flows into the rinse agent in step (2) due to the specific cleaning agent in step (1), the rinse agent No phase separation occurs, turbidity does not decrease, and desired transparency can be maintained.

また、本発明で使用するリンス剤は、上述のように水溶性グリコールエーテル化合物に特定量の水を配合することにより、ベンジルアルコールの溶解度を10vol%以上に保持することができる。
そのため、洗浄剤に起因して、リンス剤に混入するベンジルアルコール又は疎水性グリコールエーテル化合物を容易に相溶することができる。
しかも本発明のリンス剤によれば、洗浄剤に溶解したフラックスの再付着も有効に抑制することができ、洗浄液としての機能も発揮するため、非常に清浄度の高い被洗浄物を得ることができる。
Further, the rinse agent used in the present invention can maintain the solubility of benzyl alcohol at 10 vol % or more by blending a specific amount of water with the water-soluble glycol ether compound as described above.
Therefore, benzyl alcohol or a hydrophobic glycol ether compound mixed in the rinse agent due to the cleaning agent can be easily dissolved.
Moreover, according to the rinse agent of the present invention, reattachment of the flux dissolved in the cleaning agent can be effectively suppressed, and the function as a cleaning liquid is exhibited, so that an object to be cleaned with an extremely high degree of cleanliness can be obtained. can.

3.乾燥工程
リンス処理(工程(2))を行った後、被洗浄物を乾燥させる工程を実施することが好ましい。
かかる乾燥条件については、適宜設定できるが、乾燥温度を、通常、60~120℃の範囲内の値とすることが好ましく、80~100℃の範囲内の値とすることがより好ましい。
そして、この範囲内の乾燥温度において、通常は、1~20分間、好ましくは5~10分間、熱風を吹き付けることにより乾燥が行われる。
このように短時間で乾燥ができるのは、本発明のリンス剤を水系にして、沸点が比較的高いものの、所定のグリコールエーテルを少量加えるという構成を採用したからである。
したがって、上記のようにして乾燥させることにより、リンス剤の配合成分はほぼ完全に除去されて、防錆剤などの残留を意図した成分以外は、被洗浄物の表面には余剰成分は殆ど残存しない状態になる。
3. Drying Step It is preferable to carry out a step of drying the object to be washed after performing the rinsing treatment (step (2)).
Such drying conditions can be appropriately set, but the drying temperature is usually preferably set to a value within the range of 60 to 120°C, and more preferably set to a value within the range of 80 to 100°C.
Then, at a drying temperature within this range, drying is carried out by blowing hot air for usually 1 to 20 minutes, preferably 5 to 10 minutes.
The reason why the drying can be done in such a short time is that the rinsing agent of the present invention is water-based, and although it has a relatively high boiling point, a small amount of a predetermined glycol ether is added.
Therefore, by drying as described above, the ingredients of the rinsing agent are almost completely removed, and most of the surplus ingredients remain on the surface of the object to be cleaned, except for the ingredients intended to remain, such as rust inhibitors. It becomes a state not to.

次に本発明の実施例を示して本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
なお、次表に実施例のリンス剤を構成するのに使用する化合物の名称とその略号及びその物性を表記する。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in more detail by showing Examples of the present invention, but the present invention is not limited to them.
The following table shows the names and abbreviations of the compounds used to compose the rinse agents of the examples, and their physical properties.

Figure 0007320839000001
Figure 0007320839000001

[実施例1]
1.工程(1)
洗浄装置として、マイクロクリーナーMC3USHD-1.5E(化研テック株式会社製)を用いるとともに、その洗浄槽において、洗浄液としてベンジルアルコールを収容した。
次いで、洗浄装置を動作させ、被洗浄物としての半導体素子付き基板を洗浄した。
すなわち、洗浄槽に収容した洗浄液であるベンジルアルコールを用いて、それに被洗浄物を浸漬させ、70℃、5分間の条件で、超音波洗浄を行った。
[Example 1]
1. Step (1)
Microcleaner MC3USHD-1.5E (manufactured by Kaken Tech Co., Ltd.) was used as a cleaning device, and benzyl alcohol was contained as a cleaning liquid in the cleaning tank.
Next, the cleaning apparatus was operated to clean the semiconductor element-attached substrate as an object to be cleaned.
That is, the object to be cleaned was immersed in benzyl alcohol, which is a cleaning liquid contained in a cleaning tank, and ultrasonically cleaned at 70° C. for 5 minutes.

2.工程(2)
次いで、洗浄槽において洗浄した被洗浄物を、搬送装置を用いてリンス槽に移動させた。
すなわち、リンス液を収容したリンス槽において、30℃で5分間の条件で、被洗浄物に対して、リンス剤に対する浸漬処理を行い、さらにリンス処理を行った。このリンス剤の組成及び特性を表2に示す。
なお、リンス剤を貯留したリンス槽には、所定の蒸留装置が設けられており、リンス液を蒸留して、相溶しているベンジルアルコールの分離を行った。
2. Step (2)
Next, the object to be washed that had been washed in the washing tank was moved to the rinse tank using the transfer device.
That is, in a rinsing tank containing a rinsing liquid, the object to be cleaned was immersed in the rinsing agent at 30° C. for 5 minutes, and then rinsed. Table 2 shows the composition and properties of this rinse agent.
The rinse tank storing the rinse agent was provided with a predetermined distillation apparatus, and the rinse liquid was distilled to separate benzyl alcohol dissolved therein.

3.乾燥工程
上記のようにしてリンス処理を行った被洗浄物を、リンス槽から取り出し、100℃、5分の乾燥条件で、熱風乾燥を行った。
その結果、被洗浄物の表面から、リンス剤等は完全に除去されたことを目視にて確認した。
3. Drying Step The object to be washed, which had been rinsed as described above, was taken out from the rinse bath and dried with hot air at 100° C. for 5 minutes.
As a result, it was visually confirmed that the rinse agent and the like were completely removed from the surface of the object to be cleaned.

4.物性評価(1)
(1)ベンジルアルコールの溶解度の測定方法
容量200mlのメスシリンダーにリンス剤を100ml秤取る。ここにベンジルアルコールを1ml滴下して攪拌する。攪拌して溶液が均一透明であれば、再度ベンジルアルコールを1ml滴下して攪拌する。
そして、上記の滴下及び攪拌を繰り返して、攪拌後白濁/分離した時点での滴下したベンジルアルコールの全容量(ml)を測定して、最終的にリンス剤に対してベンジルアルコールが、何ml溶解したかを測定した。
それからベンジルアルコールの溶解量(vol%)を算出して、リンス剤に対するベンジルアルコールの溶解度とした。
4. Physical property evaluation (1)
(1) Method for Measuring Solubility of Benzyl Alcohol 100 ml of rinse agent is weighed into a 200 ml graduated cylinder. 1 ml of benzyl alcohol is added dropwise thereto and stirred. When the solution is homogeneous and transparent after stirring, 1 ml of benzyl alcohol is added dropwise and stirred again.
Then, the above dropping and stirring were repeated, and the total volume (ml) of the dropped benzyl alcohol at the time when it became cloudy/separated after stirring was measured. measured whether
Then, the dissolved amount (vol%) of benzyl alcohol was calculated and used as the solubility of benzyl alcohol in the rinse agent.

(2)リンス性(すすぎ性)の評価方法
ベンジルアルコール及びリンス剤各200gを、それぞれ容量300mlのビーカー内部に収容した。その後、ベンジルアルコールは温度を60℃に、リンス剤は30℃に温度を維持した。
次いで、ガラスエポキシ基板を、ベンジルアルコール入りビーカーの内部に収容し、その状態で、当該ベンジルアルコール入りビーカー内のマグネチックスターラーを回転させて、10分の浸漬を行った。
次いで、マグネチックスターラーの回転を止めて、ガラスエポキシ基板をベンジルアルコールから取り出した後、ガラスエポキシ基板を、リンス剤入りビーカーの内部に収容し、その状態で、当該リンス剤入りビーカー内のマグネチックスターラーを回転させて、所定時間の浸漬を行った。
次いで、マグネチックスターラーの回転を止めて、ガラスエポキシ基板をリンス剤から取り出し、100℃に保持された循環オーブンを用いて、10分間の乾燥を行った。
その後、乾燥させたガラスエポキシ基板を循環オーブンから取り出し、目視により表面観察し、以下の基準に照らして、リンス剤のリンス性(すすぎ性)評価を行った。
A : リンス時間5分でベンジルアルコールの液残りなし。
A’: リンス時間7分でベンジルアルコールの液残りなし。
B : リンス時間10分でベンジルアルコールの液残りなし。
C : リンス時間10分でベンジルアルコールの液残りが少々ある。
D : リンス時間10分でベンジルアルコールの多くの液残りがある。
E : リンス時間15分でベンジルアルコールの多くの液残りがある。
(2) Method for evaluating rinsability (rinsability) 200 g each of benzyl alcohol and 200 g of a rinse agent were placed in a 300 ml beaker. Thereafter, the temperature of the benzyl alcohol was maintained at 60°C and the temperature of the rinse agent was maintained at 30°C.
Next, the glass epoxy substrate was housed inside a beaker containing benzyl alcohol, and in that state, the magnetic stirrer in the beaker containing benzyl alcohol was rotated to perform immersion for 10 minutes.
Next, after stopping the rotation of the magnetic stirrer and removing the glass epoxy substrate from the benzyl alcohol, the glass epoxy substrate was placed inside a beaker containing a rinse agent, and in that state, the magnetic in the beaker containing the rinse agent was The stirrer was rotated to perform immersion for a predetermined time.
Next, the rotation of the magnetic stirrer was stopped, the glass epoxy substrate was taken out from the rinsing agent, and dried for 10 minutes using a circulation oven maintained at 100°C.
Thereafter, the dried glass epoxy substrate was taken out from the circulation oven, the surface was visually observed, and the rinsability (rinsability) of the rinsing agent was evaluated according to the following criteria.
A: No residue of benzyl alcohol after rinsing for 5 minutes.
A': No residue of benzyl alcohol after rinsing for 7 minutes.
B: No residue of benzyl alcohol after rinsing for 10 minutes.
C: A small amount of benzyl alcohol remains after rinsing for 10 minutes.
D: A large amount of benzyl alcohol remains after rinsing for 10 minutes.
E: A large amount of benzyl alcohol remains after rinsing for 15 minutes.

(3)乾燥性の評価方法
リンス剤200gを、容量300mlのビーカー内部に収容した後、温度を30℃に維持した。
次いで、ガラスエポキシ基板を、200gのリンス剤入りビーカーの内部に収容し、その状態で、当該ビーカー内のマグネチックスターラーを回転させて、10分の浸漬を行った。次いで、マグネチックスターラーの回転を止めて、ガラスエポキシ基板をリンス剤から取り出し、100℃に保持された循環オーブンを用いて、所定時間の乾燥を行った。その後、乾燥させたガラスエポキシ基板を循環オーブンから取り出し、目視により表面観察し、以下の基準に照らして、リンス剤の乾燥性評価を行った。
A : 5分以内で、乾燥可能である。
A’: 7分以内で、乾燥可能である。
B : 10分以内で、乾燥可能である。
C : 10分間の乾燥で、液残りが少々ある。
D : 10分間の乾燥で、多くの液残りがある。
(3) Method for evaluating dryness After 200 g of the rinse agent was placed in a 300 ml beaker, the temperature was maintained at 30°C.
Next, the glass epoxy substrate was placed in a beaker containing a 200 g rinsing agent, and in that state, the magnetic stirrer in the beaker was rotated and immersed for 10 minutes. Next, the rotation of the magnetic stirrer was stopped, the glass epoxy substrate was taken out from the rinsing agent, and dried for a predetermined time using a circulation oven maintained at 100°C. Thereafter, the dried glass epoxy substrate was taken out from the circulation oven, the surface was visually observed, and the drying property of the rinse agent was evaluated according to the following criteria.
A: Can be dried within 5 minutes.
A': Can be dried within 7 minutes.
B: Can be dried within 10 minutes.
C: A little liquid remains after drying for 10 minutes.
D: A lot of liquid remains after drying for 10 minutes.

(4)イオン交換水接触角度の測定方法
感光性ソルダーレジスト(日立化成工業(株)製SRシリーズ)により表面が保護されたプリント配線基板を接触角測定標準サンプルとして用いた。洗浄前のソルダーレジスト表面と、各種リンス剤で攪拌浸漬30℃/10分の条件でリンス処理した後、熱風100℃/5分間の条件で乾燥処理したレジスト表面に対して、イオン交換水の接触角の変化(|θ2-θ1|)を測定した。ここで、θは洗浄前のソルダーレジスト表面に対するイオン交換水の接触角(初期の接触角)を示し、θは上述のリンス処理及び乾燥処理を施したレジスト表面に対するイオン交換水の接触角を示す。
(4) Method for measuring contact angle with deionized water A printed wiring board whose surface was protected with a photosensitive solder resist (SR series manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was used as a standard sample for contact angle measurement. The surface of the solder resist before cleaning and after rinsing with various rinsing agents under the conditions of stirring and immersion at 30°C/10 minutes, the resist surface dried under the conditions of hot air at 100°C/5 minutes was brought into contact with deionized water. The angular change (|θ 2 −θ 1 |) was measured. Here, θ 1 indicates the contact angle (initial contact angle) of ion-exchanged water on the solder resist surface before cleaning, and θ 2 indicates the contact angle of ion-exchanged water on the resist surface after the above-mentioned rinsing and drying treatments. indicates

(5)曇点の測定方法
サンプル(リンス剤)の液温を20℃にして、外観を測定しながら徐々に昇温して、サンプルが白濁又は分離し始めた時の温度を曇点とした。
但し、かかる曇点は、少なくとも室温から80℃の温度範囲において、存在しないことが好ましい。
すなわち、このような使用温度範囲(室温から80℃)では、曇点を有さず、透明性を維持することから、使い勝手が良好なリンス剤を提供することができるためである。
したがって、このように所定温度範囲において、透明性を有しており、所定の光透過率を有することによって、室温から80℃までの温度範囲において相分離することがないほうが、実用上、便利である。
なお、後述する表2~表4における曇点の「なし」との評価は、20℃~80℃の範囲においてリンス剤が白濁及び分離しなかったことを意味する。
(5) Method for measuring cloud point The liquid temperature of the sample (rinse agent) was set to 20°C, and the temperature was gradually raised while measuring the appearance. .
However, such a cloud point preferably does not exist at least in the temperature range from room temperature to 80°C.
That is, in such an operating temperature range (from room temperature to 80° C.), it does not have a clouding point and maintains transparency, so that it is possible to provide a rinse agent that is easy to use.
Therefore, it is practically convenient to have transparency in a predetermined temperature range and have a predetermined light transmittance so that phase separation does not occur in the temperature range from room temperature to 80°C. be.
The cloud point evaluation of "none" in Tables 2 to 4, which will be described later, means that the rinse agent did not become cloudy or separate in the range of 20°C to 80°C.

(6)濁度の測定方法、フラックスの再付着性評価
市販のポストフラックス(型番:スパークルフラックスPO-Z―7(千往金属工業(株)製)を用いて、当該ポストフラックスから溶剤成分を留去した後、回収した固形分残渣(フラックス)を試料とした。
そして、ベンジルアルコールに対して3重量%になるようにフラックスを添加した。
こうして得られたフラックス混入ベンジルアルコール溶液を、各リンス剤に1重量%添加し、水質計WA-1(日本電色工業(株)製)を使用し濁度を測定した。この濁度をフラックスの再付着性の指標とした。なお、濁度が0に近いほど透明かつ均一で再付着しにくいといえる。
(6) Turbidity measurement method, flux reattachment evaluation Using a commercially available post-flux (model number: Sparkle Flux PO-Z-7 (manufactured by Senou Metal Industry Co., Ltd.), the solvent component was removed from the post-flux. After distilling off, the recovered solid residue (flux) was used as a sample.
Then, flux was added so as to be 3% by weight with respect to benzyl alcohol.
1% by weight of the flux-contaminated benzyl alcohol solution thus obtained was added to each rinse agent, and turbidity was measured using a water quality meter WA-1 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.). This turbidity was used as an index of flux reattachment. In addition, it can be said that the closer the turbidity is to 0, the more transparent and uniform it is, and the more difficult it is to reattach.

(7)引火点の測定方法
リンス剤の引火点は、JIS K 2265-1及び4(引火点の求め方)に準じて測定した。
なお、引火点については、有しないほうが好適であるが、あったとしても、50℃以上の温度であることが好ましい。ここで、「引火点を有しない」とは室温以上、上記リンス剤の沸点以下の範囲において引火点が存在しないことを意味する。
(7) Measurement method of flash point The flash point of the rinse agent was measured according to JIS K 2265-1 and 4 (Determination of flash point).
It should be noted that it is preferable not to have a flash point, but even if there is a flash point, it is preferably at a temperature of 50° C. or higher. Here, "having no flash point" means that there is no flash point in the range from room temperature to the boiling point of the rinse agent.

[実施例2]
実施例2においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)の代わりに、ETBを同量使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 2]
In Example 2, the object to be washed was treated in the same manner, except that the same amount of ETB was used instead of the ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1. Table 2 shows the results obtained.

[実施例3]
実施例3においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)の代わりに、MMBを同量使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 3]
In Example 3, the object to be cleaned was treated in the same manner, except that the same amount of MMB was used instead of the ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1. Table 2 shows the results obtained.

[実施例4]
実施例4においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)の代わりにiPGを同量使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 4]
In Example 4, the object to be cleaned was treated in the same manner, except that the same amount of iPG was used instead of the ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1. Table 2 shows the results obtained.

[実施例5]
実施例5においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)の代わりにDPMを同量使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 5]
In Example 5, the object to be washed was treated in the same manner, except that the same amount of DPM was used in place of the ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1. Table 2 shows the results obtained.

[実施例6]
実施例6においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)の代わりにMEDGを同量使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 6]
In Example 6, the object to be washed was treated in the same manner, except that the same amount of MEDG was used in place of the ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1. Table 2 shows the results obtained.

[実施例7]
実施例7においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)の代わりにDMTGを同量使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 7]
In Example 7, the object to be washed was treated in the same manner, except that the same amount of DMTG was used instead of the ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1. Table 2 shows the results obtained.

[実施例8]
実施例8においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)の代わりにDMDGを同量使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 8]
In Example 8, the object to be cleaned was treated in the same manner, except that the same amount of DMDG was used in place of the ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1. Table 2 shows the results obtained.

[実施例9]
実施例9においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、PSの使用量を20重量部とし、水の量を80重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 9]
In Example 9, instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, the amount of PS was changed to 20 parts by weight, and the amount of water was changed to 80 parts by weight. The object to be washed was treated in the same manner, except that it was changed. Table 2 shows the results obtained.

[実施例10]
実施例10においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりにPS15重量部とMMB15重量部とを使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 10]
In Example 10, washing was carried out in the same manner except that 15 parts by weight of PS and 15 parts by weight of MMB were used instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1. processed things. Table 2 shows the results obtained.

[実施例11]
実施例11においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)の代わりにPS15重量部と、MMB15重量部とを使用し、さらにアミン化合物としてTMHMDAを1重量部使用し、水の量を69重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 11]
In Example 11, 15 parts by weight of PS and 15 parts by weight of MMB were used instead of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, and 1 part by weight of TMHMDA was used as an amine compound. The object to be washed was treated in the same manner, except that the amount of water was changed to 69 parts by weight. Table 2 shows the results obtained.

[実施例12]
実施例12においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)の代わりにPS15重量部とMMB15重量部とを使用し、さらにアミン化合物としてDBA0.5重量部とDEHA0.5重量部をそれぞれ使用し、水の量を69重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 12]
In Example 12, 15 parts by weight of PS and 15 parts by weight of MMB were used in place of the ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, and 0.5 parts by weight of DBA was used as an amine compound. The objects to be washed were treated in the same manner, except that 0.5 parts by weight of DEHA was used and the amount of water was changed to 69 parts by weight. Table 2 shows the results obtained.

[実施例13]
実施例13においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、PS20重量部及びMMB20重量部を使用し、さらに、水の量を60重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 13]
In Example 13, 20 parts by weight of PS and 20 parts by weight of MMB were used in place of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, and 60 parts by weight of water was used. The object to be washed was treated in the same manner, except that the amount was changed to parts by weight. Table 2 shows the results obtained.

[実施例14]
実施例14においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、ETBを30重量部使用し、さらにアミン化合物としてTMHMDAを1重量部使用し、さらには、水の量を69重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 14]
In Example 14, 30 parts by weight of ETB was used instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, and 1 part by weight of TMHMDA was used as an amine compound. Furthermore, the object to be washed was treated in the same manner, except that the amount of water was changed to 69 parts by weight. Table 2 shows the results obtained.

[実施例15]
実施例15においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、DPMを30重量部使用し、さらにアミン化合物としてDBAを0.5重量部と、DEHAを0.5重量部とを使用し、さらには、水の量を69重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表2に示す。
[Example 15]
In Example 15, 30 parts by weight of DPM was used in place of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, and 0.5 parts by weight of DBA was used as an amine compound. and 0.5 parts by weight of DEHA, and the amount of water was changed to 69 parts by weight. Table 2 shows the results obtained.

[実施例16]
実施例16においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、PS30重量部及びDPM5重量部を使用し、さらに、水の量を65重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表3に示す。
[Example 16]
In Example 16, instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 30 parts by weight of PS and 5 parts by weight of DPM were used, and the amount of water was changed to 65 parts by weight. The object to be washed was treated in the same manner, except that the amount was changed to parts by weight. Table 3 shows the results obtained.

[実施例17]
実施例17においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、PS10重量部及びDMTG30重量部を使用し、さらに、水の量を60重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表3に示す。
[Example 17]
In Example 17, instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 10 parts by weight of PS and 30 parts by weight of DMTG were used, and 60 parts by weight of water was used. The object to be washed was treated in the same manner, except that the amount was changed to parts by weight. Table 3 shows the results obtained.

[実施例18]
実施例18においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、ETB10重量部及びMMB20重量部を使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表3に示す。
[Example 18]
In Example 18, in place of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 10 parts by weight of ETB and 20 parts by weight of MMB were used to wash in the same manner. processed things. Table 3 shows the results obtained.

[実施例19]
実施例19においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、ETB10重量部及びDPM15重量部を使用し、さらに、水の量を75重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表3に示す。
[Example 19]
In Example 19, instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 10 parts by weight of ETB and 15 parts by weight of DPM were used, and the amount of water was changed to 75 parts by weight. The object to be washed was treated in the same manner, except that the amount was changed to parts by weight. Table 3 shows the results obtained.

[実施例20]
実施例20においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、MMB25重量部及びDPM15重量部を使用し、さらに、水の量を60重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表3に示す。
[Example 20]
In Example 20, instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 25 parts by weight of MMB and 15 parts by weight of DPM were used, and the amount of water was changed to 60 parts by weight. The object to be washed was treated in the same manner, except that the amount was changed to parts by weight. Table 3 shows the results obtained.

[実施例21]
実施例21においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、MMB15重量部及びDMTG20重量部を使用し、さらにアミン化合物としてTMHMDAを1重量部使用し、さらには、水の量を64重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表3に示す。
[Example 21]
In Example 21, instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 15 parts by weight of MMB and 20 parts by weight of DMTG were used, and 1 part of TMHMDA was used as an amine compound. Parts to be washed were treated in the same manner except that the amount of water was changed to 64 parts by weight. Table 3 shows the results obtained.

[実施例22]
実施例22においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、PS15重量部及びMMB15重量部を使用し、さらにアミン化合物としてTMDAPを1重量部使用し、さらには、水の量を69重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表3に示す。
[Example 22]
In Example 22, instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 15 parts by weight of PS and 15 parts by weight of MMB were used, and 1 part of TMDAP was used as an amine compound. Parts to be washed were treated in the same manner except that the amount of water was changed to 69 parts by weight. Table 3 shows the results obtained.

[実施例23]
実施例23においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、PS15重量部及び3MB15重量部を使用し、さらに、水の量を70重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表3に示す。
[Example 23]
In Example 23, instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 15 parts by weight of PS and 15 parts by weight of 3MB were used, and the amount of water was changed to 70 parts by weight. The object to be washed was treated in the same manner, except that the amount was changed to parts by weight. Table 3 shows the results obtained.

[実施例24]
実施例24においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)30重量部の代わりに、PS20重量部及びIPDM20重量部を使用し、さらに、水の量を60重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表3に示す。
[Example 24]
In Example 24, 20 parts by weight of PS and 20 parts by weight of IPDM were used in place of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, and 60 parts by weight of water was used. The object to be washed was treated in the same manner, except that the amount was changed to parts by weight. Table 3 shows the results obtained.

[比較例1]
比較例1においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)を30重量部使用する代わりに、PSの使用量を80重量部に変え、水の使用量を20重量部に変えた以外は同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表4に示す。
[Comparative Example 1]
In Comparative Example 1, instead of using 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, the amount of PS used was changed to 80 parts by weight, and the amount of water used was changed to The object to be washed was treated in the same manner except that the content was changed to 20 parts by weight. Table 4 shows the results obtained.

[比較例2]
比較例2においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)を30重量部使用する代わりに、PSを15重量部、BFGを3重量部使用し、さらには、水の使用量を82重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表4に示す。
[Comparative Example 2]
In Comparative Example 2, instead of using 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 15 parts by weight of PS and 3 parts by weight of BFG were used, and , and the object to be washed was treated in the same manner, except that the amount of water used was changed to 82 parts by weight. Table 4 shows the results obtained.

[比較例3]
比較例3においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)を30重量部使用する代わりに、BFGを40重量部使用し、水の量を60重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表4に示す。
[Comparative Example 3]
In Comparative Example 3, instead of using 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 40 parts by weight of BFG was used, and the amount of water was changed to 60 parts by weight. The object to be washed was treated in the same manner, except that it was changed. Table 4 shows the results obtained.

[比較例4]
比較例4においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)を30重量部使用する代わりにDMFDGを25重量部使用し、水の量を75重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表4に示す。
[Comparative Example 4]
In Comparative Example 4, 25 parts by weight of DMFDG was used instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, and the amount of water was changed to 75 parts by weight. The object to be washed was treated in the same manner except for the above. Table 4 shows the results obtained.

[比較例5]
比較例5においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)を30重量部使用する代わりにDMFDGを20重量部とMMBを10重量部とを使用し、アミン化合物としてMEMを1重量部使用し、水の量を69重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表4に示す。
[Comparative Example 5]
In Comparative Example 5, instead of using 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 20 parts by weight of DMFDG and 10 parts by weight of MMB were used, and amine The object to be washed was treated in the same manner, except that 1 part by weight of MEM was used as the compound and the amount of water was changed to 69 parts by weight. Table 4 shows the results obtained.

[比較例6]
比較例6においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)を30重量部使用する代わりに、DEDGを30重量部使用した以外は同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表4に示す。
[Comparative Example 6]
In Comparative Example 6, instead of using 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1, 30 parts by weight of DEDG was used in the same manner as above. processed. Table 4 shows the results obtained.

[比較例7]
比較例7においては、実施例1の工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)を30重量部使用する代わりにiBGを30重量部使用した以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表4に示す。
[Comparative Example 7]
In Comparative Example 7, 30 parts by weight of iBG was used instead of 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2) of Example 1. processed. Table 4 shows the results obtained.

[比較例8]
実施例1においては、工程(2)で使用したエチレングリコールモノプロピルエーテル(PS)を30重量部使用する代わりに、エタノールを60重量部使用し、水の量を40重量部に変えた以外は、同様にして被洗浄物の処理を行った。得られた結果を表4に示す。
[Comparative Example 8]
In Example 1, instead of using 30 parts by weight of ethylene glycol monopropyl ether (PS) used in step (2), 60 parts by weight of ethanol was used, and the amount of water was changed to 40 parts by weight. , the object to be washed was treated in the same manner. Table 4 shows the results obtained.

Figure 0007320839000002
Figure 0007320839000002

Figure 0007320839000003
Figure 0007320839000003

Figure 0007320839000004
Figure 0007320839000004

5.物性評価(2)
(1)光透過率の測定方法
実施例1~24及び比較例1~8のリンス剤の光透過率を以下の方法で測定した。まず、リンス剤200gを、容量300mlのビーカーに収容した。次いで、所定の温度(20、40又は80℃)に維持し、マグネチックスターラーを用いてビーカー内の撹拌子回転させ、リンス剤を撹拌した。撹拌後のリンス剤を直ちに分光光度計のセルに収容した後、その光透過率を、以下の条件で測定した。測定結果を表5に示す。表5の結果から実施例1~24のリンス剤は、室温から80℃の温度範囲における光透過率が90%以上であることが確認された。
分光光度計:紫外可視分光光度計V-530(日本分光株式会社製)
測定波長 :可視光(660nm)
5. Physical property evaluation (2)
(1) Measurement method of light transmittance The light transmittance of the rinse agents of Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 8 was measured by the following method. First, 200 g of the rinse agent was placed in a 300 ml beaker. Next, the temperature was maintained at a predetermined temperature (20, 40 or 80° C.), and a magnetic stirrer was used to rotate the stirrer in the beaker to stir the rinse agent. The stirred rinse agent was immediately placed in a cell of a spectrophotometer, and its light transmittance was measured under the following conditions. Table 5 shows the measurement results. From the results in Table 5, it was confirmed that the rinse agents of Examples 1 to 24 had a light transmittance of 90% or more in the temperature range from room temperature to 80°C.
Spectrophotometer: UV-visible spectrophotometer V-530 (manufactured by JASCO Corporation)
Measurement wavelength: visible light (660 nm)

Figure 0007320839000005
Figure 0007320839000005

以上説明したように、本発明によれば、水溶性グリコールエーテル化合物の配合量と、水の配合量との割合を所定範囲内の値とするとともに、ベンジルアルコールの溶解度を所定値以上とすることによって、環境安全性(例えば、作業環境安全性)を著しく高めることができた。また、本発明によれば、従来の水溶性グリコールエーテル化合物だけでなく、ベンジルアルコール、疎水性グリコールエーテル化合物等の疎水性溶剤による被洗浄物に対するリンス性及び乾燥性を向上させることができるようになった。 As described above, according to the present invention, the ratio of the blending amount of the water-soluble glycol ether compound and the blending amount of water is set to a value within a predetermined range, and the solubility of benzyl alcohol is set to a predetermined value or more. could significantly increase environmental safety (eg working environment safety). Further, according to the present invention, not only the conventional water-soluble glycol ether compound, but also the rinsing property and the drying property of the object to be washed can be improved with a hydrophobic solvent such as benzyl alcohol and a hydrophobic glycol ether compound. became.

また、本発明によれば、洗浄後のリンス性も優れているとともに、洗浄性及びフラックスの再付着防止性についても向上していることから、リンス剤としても、洗浄剤としても、両用使用が可能となった。 In addition, according to the present invention, the rinsability after washing is excellent, and the detergency and flux reattachment prevention properties are also improved. It has become possible.

さらに、本発明は、所定リンス剤を用いた使用方法であることから、所定洗浄剤を用いて被洗浄物を効率的に洗浄した後、環境安全性(例えば、作業環境安全性)及び再生性に優れるとともに、洗浄剤の残留が少ない被洗浄物を効率的に得ることができるようになった。
よって、本発明のリンス剤及びそれを用いた使用方法によれば、産業上、被洗浄物を安全かつ効率的に、しかも安価に洗浄したり、リンスしたりすることが大いに期待される。
Furthermore, since the present invention is a usage method using a predetermined rinse agent, after efficiently washing the object to be washed using the predetermined cleaning agent, the environmental safety (e.g., work environment safety) and reproducibility can be improved. It is now possible to efficiently obtain an object to be cleaned which is excellent in the cleaning agent and leaves little residue of the cleaning agent.
Therefore, according to the rinsing agent of the present invention and the method of using it, industrially, it is highly expected to clean and rinse objects to be cleaned safely, efficiently and inexpensively.

以上のように本発明の実施形態及び実施例について説明を行なったが、上述の各実施形態及び各実施例の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。 Although the embodiments and examples of the present invention have been described as above, it is planned from the beginning to appropriately combine the configurations of the above-described embodiments and examples.

今回開示された実施の形態及び実施例はすべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した実施の形態及び実施例ではなく請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味、及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 It should be considered that the embodiments and examples disclosed this time are illustrative in all respects and not restrictive. The scope of the present invention is indicated by the scope of the claims rather than the above-described embodiments and examples, and is intended to include meanings equivalent to the scope of the claims and all modifications within the scope.

Claims (7)

少なくとも水溶性グリコールエーテル化合物及び水を含み、ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上である、プリント配線基板に付着したフラックス用洗浄剤を除くために用いられるリンス剤であって、
前記水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、前記水の配合量が150~400重量部であり、
前記水溶性グリコールエーテル化合物は、3-メトキシ-3-メチルブタノール、3-メトキシブタノール、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、及びジエチレングリコールジメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも1種の化合物である、リンス剤。
A rinsing agent containing at least a water-soluble glycol ether compound and water and having a solubility of benzyl alcohol of 10 vol% or more, which is used to remove a flux cleaning agent adhering to a printed wiring board,
The water content is 150 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the water-soluble glycol ether compound,
The water-soluble glycol ether compound is selected from the group consisting of 3-methoxy-3-methylbutanol, 3-methoxybutanol, diethylene glycol isopropyl methyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol dimethyl ether. A rinse agent that is at least one selected compound.
室温から80℃の温度範囲における光透過率が90%以上である、請求項1に記載のリンス剤。 The rinse agent according to claim 1, which has a light transmittance of 90% or more in a temperature range from room temperature to 80°C. 引火点が50℃以上である、請求項1又は2に記載のリンス剤。 The rinse agent according to claim 1 or 2, which has a flash point of 50°C or higher. 感光性ソルダーレジスト硬化体により表面が保護されたプリント基板の表面に対する水の初期の接触角をθ1とし、
前記プリント基板を30℃のリンス剤に10分間浸漬した後、100℃で5分の条件で乾燥させた前記プリント基板の表面に対する水の接触角をθ2としたときに、
接触角θとθとの差の絶対値|θ2-θ1|が3°以下である、請求項1又は2に記載のリンス剤。
The initial contact angle of water with respect to the surface of the printed circuit board whose surface is protected by the cured photosensitive solder resist is θ 1 ,
The printed circuit board was immersed in a rinsing agent at 30°C for 10 minutes and then dried at 100°C for 5 minutes.
3. The rinse agent according to claim 1, wherein the absolute value |θ 2 −θ 1 | of the difference between the contact angles θ 2 and θ 1 is 3° or less.
前記水溶性グリコールエーテル化合物は、その沸点が250℃以下である、請求項1又は2に記載のリンス剤。 The rinse agent according to claim 1 or 2, wherein the water-soluble glycol ether compound has a boiling point of 250°C or lower. 沸点が250℃以下であるアミン化合物を更に含み、
当該アミン化合物の配合量は、前記水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、0.1~10重量部である、請求項1又は2に記載のリンス剤。
further comprising an amine compound having a boiling point of 250° C. or lower;
3. The rinse agent according to claim 1, wherein the amount of said amine compound is 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of said water-soluble glycol ether compound.
下記工程(1)~(2)を含む、リンス剤の使用方法。
(1)ベンジルアルコール及び疎水性グリコールエーテル化合物、あるいはいずれか一方を含む洗浄剤を用いて、被洗浄物に付着したフラックスを洗浄する工程であって、
前記被洗浄物はプリント配線基板である、工程、
(2)前記工程(1)で洗浄された前記被洗浄物を、少なくとも水溶性グリコールエーテル化合物及び水を含み、前記ベンジルアルコールの溶解度が10vol%以上であるリンス剤であって、前記水溶性グリコールエーテル化合物100重量部に対して、前記水の配合量が150~400重量部であるリンス剤を用いてリンスする工程であって、
前記水溶性グリコールエーテル化合物は、3-メトキシ-3-メチルブタノール、3-メトキシブタノール、ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、及びジエチレングリコールジメチルエーテルからなる群より選択される少なくとも1種の化合物である、工程
A method for using a rinse agent, including the following steps (1) to (2).
(1) A step of cleaning flux adhering to an object to be cleaned using a cleaning agent containing benzyl alcohol and/or a hydrophobic glycol ether compound,
a step in which the object to be cleaned is a printed wiring board;
(2) A rinsing agent that contains at least a water-soluble glycol ether compound and water and has a solubility of 10 vol % or more of the benzyl alcohol for the object to be washed in the step (1), wherein the water-soluble glycol A step of rinsing with a rinsing agent containing 150 to 400 parts by weight of water with respect to 100 parts by weight of the ether compound,
The water-soluble glycol ether compound is selected from the group consisting of 3-methoxy-3-methylbutanol, 3-methoxybutanol, diethylene glycol isopropyl methyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol ethyl methyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, and diethylene glycol dimethyl ether. is at least one compound selected
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7468226B2 (en) 2019-09-02 2024-04-16 荒川化学工業株式会社 Detergent, method for regenerating detergent, and cleaning method
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002156765A (en) 2000-08-01 2002-05-31 Nagase Chemtex Corp Composition of rinsing and peeling liquid
JP2010043248A (en) 2008-07-17 2010-02-25 Kaken Tec Kk Quick-drying liquid composition, cleaning method using the same and cleaning apparatus
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Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07197095A (en) * 1993-12-29 1995-08-01 Olympus Optical Co Ltd Detergent composition for rosin flux
JPH0959698A (en) * 1995-08-23 1997-03-04 Asahi Chem Ind Co Ltd Detergent composition for metal mask
JPH10219155A (en) * 1997-02-10 1998-08-18 Olympus Optical Co Ltd Composition and method for peeling coating film
JPH10339958A (en) * 1997-06-05 1998-12-22 Toray Ind Inc Rinse solution for photosensitive polyimide
KR100805014B1 (en) * 2003-08-27 2008-02-20 가켄 테크 가부시키가이샤 Cleaning agent for removing solder flux and method for cleaning solder flux
JP6487630B2 (en) * 2014-05-20 2019-03-20 化研テック株式会社 Stock solution for cleaning composition, cleaning composition and cleaning method

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002156765A (en) 2000-08-01 2002-05-31 Nagase Chemtex Corp Composition of rinsing and peeling liquid
JP2010043248A (en) 2008-07-17 2010-02-25 Kaken Tec Kk Quick-drying liquid composition, cleaning method using the same and cleaning apparatus
JP2018053248A (en) 2016-09-27 2018-04-05 荒川化学工業株式会社 Azeotropic cleaning agent and regeneration method thereof, cleaning method, and cleaning agent kit

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