JP7316033B2 - 基板搬送装置および基板搬送方法 - Google Patents
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Description
基板搬送装置の第2の態様は、基板を載置面に載置する基板搬送装置であって、前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持部、前記基板支持部に立設されており、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部、および、前記基板を前記突起部側に押圧して、前記突起部と共に前記基板を保持する押圧部を有する基板支持体と、前記基板支持体を水平方向に移動させる水平移動機構と、前記基板支持体を昇降させる昇降機構と、前記押圧部、前記水平移動機構および昇降機構を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、前記昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させ、前記制御部は、前記基板の搬送回数を計数し、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後の前記基板支持体の移動方向と、水平面とのなす角度の、前記搬送回数が第1値であるときの値が、前記搬送回数が前記第1値よりも小さな第2値であるときの前記角度の値よりも小さくなるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御する。
基板搬送装置の第3の態様は、基板を載置面に載置する基板搬送装置であって、前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持部、前記基板支持部に立設されており、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部、および、前記基板を前記突起部側に押圧して、前記突起部と共に前記基板を保持する押圧部を有する基板支持体と、前記基板支持体を水平方向に移動させる水平移動機構と、前記基板支持体を昇降させる昇降機構と、前記押圧部、前記水平移動機構および昇降機構を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、前記昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させ、前記制御部は、前記基板が前記基板支持体および前記載置面の両方に接触する設計上の地点に前記基板支持体が向かうにつれて、前記基板支持体の移動速度をある低減率で低減させて、前記地点における前記移動速度を所定値とし、前記基板支持体が前記地点から離れるにつれて、前記移動速度をある増大率で増大させるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御し、前記基板の搬送回数を計数し、前記搬送回数が第3値であるときの前記移動速度の前記低減率、および、前記移動速度の前記増大率の少なくともいずれか一方を、前記搬送回数が前記第3値よりも小さな第4値であるときの前記一方よりも小さく設定する。
基板搬送装置の第9の態様は、基板の側面に対向する対向面と、前記基板の下面のうち第1領域を支持する載置面とを有する基板収容器から、前記基板を取り出す基板搬送装置であって、前記基板の前記下面のうち前記第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持体と、前記基板支持体を水平方向に移動させる水平移動機構と、前記基板支持体を昇降させる昇降機構と、前記水平移動機構および昇降機構を制御する制御部とを備え、前記制御部は、前記昇降機構に、前記載置面の下方から前記基板支持体を上昇させ、少なくとも前記基板支持体が前記基板の前記下面に接触した後において、前記基板支持体の上昇と並行して、前記水平移動機構によって、前記基板が前記対向面から遠ざかる離間方向に前記基板支持体を移動させ、前記制御部は、前記基板が前記基板支持体および前記載置面の両方に接触する設計上の地点に前記基板支持体が向かうにつれて、前記基板支持体の移動速度をある低減率で低減させて、前記地点における前記移動速度を所定値とし、前記基板支持体が前記地点から離れるにつれて、前記移動速度をある増大率で増大させるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御し、前記基板の搬送回数を計数し、前記搬送回数が第3値であるときの前記移動速度の前記低減率、および、前記移動速度の前記増大率の少なくともいずれか一方を、前記搬送回数が前記第3値よりも小さな第4値であるときの前記一方よりも小さく設定する。
基板搬送方法の第2の態様は、基板を載置面に載置する基板搬送方法であって、前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を、基板支持体の基板支持部で支持する第1工程と、前記基板支持部に立設されて、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部側へと、押圧部に前記基板を押圧させて、前記突起部と共に前記基板を保持する第2工程と、水平移動機構に前記基板支持体を前記載置面の上方へ向かって移動させる第3工程と、前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させる第4工程と、前記基板の搬送回数を計数する第5工程とを備え、前記第4工程において、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後の前記基板支持体の移動方向と、水平面とのなす角度の、前記搬送回数が第1値であるときの値が、前記搬送回数が前記第1値よりも小さな第2値であるときの前記角度の値よりも小さくなるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御する。
基板搬送方法の第3の態様は、基板を載置面に載置する基板搬送方法であって、前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を、基板支持体の基板支持部で支持する第1工程と、前記基板支持部に立設されて、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部側へと、押圧部に前記基板を押圧させて、前記突起部と共に前記基板を保持する第2工程と、水平移動機構に前記基板支持体を前記載置面の上方へ向かって移動させる第3工程と、前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させる第4工程と、前記基板の搬送回数を計数する第5工程とを備え、前記第4工程において、前記基板が前記基板支持体および前記載置面の両方に接触する設計上の地点に前記基板支持体が向かうにつれて、前記基板支持体の移動速度をある低減率で低減させて、前記地点における前記移動速度を所定値とし、前記基板支持体が前記地点から離れるにつれて、前記移動速度をある増大率で増大させるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御し、前記搬送回数が第3値であるときの前記移動速度の前記低減率、および、前記移動速度の前記増大率の少なくともいずれか一方を、前記搬送回数が前記第3値よりも小さな第4値であるときの前記一方よりも小さく設定する。
基板搬送方法の第5の態様は、基板の側面に対向する対向面と、前記基板の下面のうち第1領域を支持する載置面とを有する基板収容器から、前記基板を取り出す基板搬送方法であって、前記基板の前記下面のうち前記第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持体を、水平移動機構に、前記載置面の下方に移動させる第1工程と、昇降機構に、前記基板支持体を前記載置面の下方から上昇させ、少なくとも前記基板支持体が前記基板の前記下面に接触した後において、前記基板支持体の上昇と並行して、水平移動機構によって、前記基板が前記対向面から遠ざかる離間方向に前記基板支持体を移動させる第2工程と、前記基板の搬送回数を計数する第3工程とを備え、前記第2工程において、前記基板が前記基板支持体および前記載置面の両方に接触する設計上の地点に前記基板支持体が向かうにつれて、前記基板支持体の移動速度をある低減率で低減させて、前記地点における前記移動速度を所定値とし、前記基板支持体が前記地点から離れるにつれて、前記移動速度をある増大率で増大させるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御し、前記搬送回数が第3値であるときの前記移動速度の前記低減率、および、前記移動速度の前記増大率の少なくともいずれか一方を、前記搬送回数が前記第3値よりも小さな第4値であるときの前記一方よりも小さく設定する。
基板搬送装置の第2の態様および基板搬送方法の第2の態様によれば、搬送回数が多いほど、対向面の凹部の深さは深くなるものの、搬送回数が多いときには、移動方向がより水平方向に沿うので、凹部の深さが深くても、基板が凹部に引っ掛かりにくい。
また、基板搬送装置の第3の態様および基板搬送方法の第3の態様によれば、搬送回数が多いときの移動速度の低減率および/または増大率が低減する。よって、基板が基板支持体および載置面の両方に接触する接触地点での移動速度が小さくなる可能性が高まる。つまり、対向面の凹部が深いときには、移動速度が小さくなる可能性が高まるので、基板の端部が深い凹部に引っ掛かったとしても、基板が跳ねる程度を低減できる。
一方で、搬送回数が少ないときには、移動速度が高い。凹部が浅いときには、移動速度が高くても、基板の跳ねの程度はさほど大きくならない。また移動速度が高いのでスループットを向上できる。
しかも、基板搬送装置の第8の態様および基板搬送方法の第4の態様によれば、搬送回数が多いほど、対向面の凹部の深さは深くなるものの、搬送回数が多いときには、移動方向がより水平方向に沿うので、凹部の深さが深くても、基板が凹部に引っ掛かりにくい。
また、基板搬送装置の第9の態様および基板搬送方法の第5の態様によれば、搬送回数が多いときの移動速度の低減率および/または増大率が低減する。よって、基板が基板支持体および載置面の両方に接触する接触地点での移動速度が小さくなる可能性が高まる。つまり、対向面の凹部が深いときには、移動速度が小さくなる可能性が高まるので、基板の端部が深い凹部に引っ掛かったとしても、基板が跳ねる程度を低減できる。
一方で、搬送回数が少ないときには、移動速度が高い。凹部が浅いときには、移動速度が高くても、基板の跳ねの程度はさほど大きくならない。また移動速度が高いのでスループットを向上できる。
<基板処理システムの概要>
図1は、基板搬送装置10を有する基板処理システム100の構成の一例を概略的に示す図である。この基板処理システム100はインデクサ部110と基板処理装置120と制御部9とを備えている。
図2および図3は、基板収容器20の構成の一例を概略的に示す図である。図2では、基板収容器20の一例が斜視図で示され、図3では、基板収容器20の内部の構成の一例が断面図で示されている。
図3の例では、基板搬送装置10の一部の構成の一例も概略的に示されている。また図3の例では、基板搬送装置10によって搬送される基板Wを二点鎖線で示している。基板搬送装置10はハンド(基板支持体)11とアーム部12と水平移動機構13と昇降機構14とを備えている。
図5は、基板Wを基板収容器20の載置面22bに載置する際のハンド11の移動経路R1の一例を概略的に示している。図5の例では、ハンド11は地点P1から地点P6をこの順で移動する。図5の例では、ハンド11は各地点を直線的に移動する。地点P1は、ハンド11がX軸方向において基板収容器20と向かい合う地点である。この状態では、ハンド11は未だ基板収容器20の外側に位置している。
次に、ハンド11の移動速度について述べる。図7は、ハンド11の移動速度の目標値の一例を示すグラフである。図7の例では、地点P2から地点P5までの移動中における移動速度の目標値の一例が示されている。制御部9はハンド11の移動速度が目標値に近づくように、水平移動機構13および昇降機構14を制御する。
次に、ハンド11の移動経路の他の例について述べる。図8は、ハンド11の移動経路R2の一例を概略的に示す図である。移動経路R2においては、ハンド11は地点P1から地点P2、地点P3および地点P5を経て地点P6へと至る。地点P1から地点P3は上述の通りである。地点P5は地点P3から-X側かつ-Z側に移動した地点である。図8の例では、地点P5は地点P2と地点P3とを結ぶ直線上に設定される。
次に、地点P3のX軸方向における位置の設定方法について述べる。上述のように、基板Wが載置面22bに接触する接触地点WP1(理想的には地点P3)における移動方向が-X側かつ-Z側の斜め方向である場合には、ハンド11と基板Wとの間の摩擦等により、ハンド11が基板Wを-X側へと押し込む。これにより、基板Wが基板収容器20の載置面22b上において-X側に移動し得る。
次に、基板Wの搬送回数と、ハンド11の移動方向との関係の一例について述べる。ここでいう移動方向とは、基板Wが載置面22bに接触した時点またはその直後におけるハンド11の移動方向である。基板Wの搬送回数が多くなるほど、ハンド11の突起部112が基板Wから押圧される回数が増大する。よって、搬送回数が多いほど、突起部112の凹部112bの深さ(X軸方向に沿う深さ)が深くなり得る。
次に、基板Wの搬送回数と、ハンド11の移動速度との関係の一例について述べる。上述のように搬送回数が多いほど、ハンド11の凹部112bは深くなり得る。また、基板Wの載置時の移動速度が高いほど、基板Wの跳ねの程度は増大する。よって、搬送回数が多く、かつ、基板Wの載置時の移動速度が高いときには、基板Wの跳ねの程度がより増大する。
次に、突起部112と押圧部113の硬さについて述べる。突起部112は押圧部113よりも硬くてもよい。より具体的な一例として、突起部112の押し込み硬さが押圧部113の押し込み硬さよりも高くてもよい。これによれば、突起部112の対向面112aには凹部112bが形成されにくい。言い換えれば、凹部112bの深さを低減することができる。よって、基板Wが凹部112bに引っ掛かる程度を低減することができ、ひいては、基板Wの跳ねの程度を低減できる。
第2の実施の形態にかかる基板処理システム100は第1の実施の形態と同様である。ただし、基板搬送装置10は必ずしも突起部112および押圧部113を有している必要がない。
第1の実施の形態では、基板Wを斜めに移動させることにより、基板Wの跳ねの程度を低減させつつも、基板Wを基板収容器20内の載置面の上に載置した。ここでは、基板収容器20の支持部材22の内側面22cを利用して、基板Wをハンド11の凹部112bから引き抜くことを企図する。
10 基板搬送装置
11 基板支持体(ハンド)
13 水平移動機構
14 昇降機構
20 基板収容器
111 基板支持部
112 突起部
113 押圧部
Claims (17)
- 基板を載置面に載置する基板搬送装置であって、
前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持部、前記基板支持部に立設されており、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部、および、前記基板を前記突起部側に押圧して、前記突起部と共に前記基板を保持する押圧部を有する基板支持体と、
前記基板支持体を水平方向に移動させる水平移動機構と、
前記基板支持体を昇降させる昇降機構と、
前記押圧部、前記水平移動機構および昇降機構を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、前記昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、
少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させ、
前記基板が前記載置面に接触する地点の前記離間方向における設計上の位置を、前記基板の載置位置についての目標位置よりも所定量だけ、前記離間方向の反対側の位置に設定し、
前記基板の前記載置面への載置時に、前記基板支持体が、前記設計上の位置から前記目標位置に向かって、摩擦により前記基板を前記載置面に沿って移動させる、基板搬送装置。 - 基板を載置面に載置する基板搬送装置であって、
前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持部、前記基板支持部に立設されており、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部、および、前記基板を前記突起部側に押圧して、前記突起部と共に前記基板を保持する押圧部を有する基板支持体と、
前記基板支持体を水平方向に移動させる水平移動機構と、
前記基板支持体を昇降させる昇降機構と、
前記押圧部、前記水平移動機構および昇降機構を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、前記昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、
少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させ、
前記制御部は、
前記基板の搬送回数を計数し、
少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後の前記基板支持体の移動方向と、水平面とのなす角度の、前記搬送回数が第1値であるときの値が、前記搬送回数が前記第1値よりも小さな第2値であるときの前記角度の値よりも小さくなるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御する、基板搬送装置。 - 基板を載置面に載置する基板搬送装置であって、
前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持部、前記基板支持部に立設されており、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部、および、前記基板を前記突起部側に押圧して、前記突起部と共に前記基板を保持する押圧部を有する基板支持体と、
前記基板支持体を水平方向に移動させる水平移動機構と、
前記基板支持体を昇降させる昇降機構と、
前記押圧部、前記水平移動機構および昇降機構を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、前記昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、
少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させ、
前記制御部は、
前記基板が前記基板支持体および前記載置面の両方に接触する設計上の地点に前記基板支持体が向かうにつれて、前記基板支持体の移動速度をある低減率で低減させて、前記地点における前記移動速度を所定値とし、前記基板支持体が前記地点から離れるにつれて、前記移動速度をある増大率で増大させるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御し、
前記基板の搬送回数を計数し、
前記搬送回数が第3値であるときの前記移動速度の前記低減率、および、前記移動速度の前記増大率の少なくともいずれか一方を、前記搬送回数が前記第3値よりも小さな第4値であるときの前記一方よりも小さく設定する、基板搬送装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一つに記載の基板搬送装置であって、
前記制御部は、前記基板が前記載置面に接触する前から、前記水平移動機構に、前記基板支持体を前記離間方向に移動させる、基板搬送装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか一つに記載の基板搬送装置であって、
前記基板が、前記押圧部から押圧されることによって、前記突起部の前記対向面に凹部を形成する、基板搬送装置。 - 請求項1から請求項3のいずれか一つに記載の基板搬送装置であって、
前記突起部の剛性は前記押圧部の剛性よりも高い、基板搬送装置。 - 請求項2または請求項3に記載の基板搬送装置であって、
前記基板が前記載置面に接触する地点の前記離間方向における設計上の位置を、前記基板の載置位置についての目標位置よりも所定量だけ、前記離間方向の反対側の位置に設定する、基板搬送装置。 - 基板の側面に対向する対向面と、前記基板の下面のうち第1領域を支持する載置面とを有する基板収容器から、前記基板を取り出す基板搬送装置であって、
前記基板の前記下面のうち前記第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持体と、
前記基板支持体を水平方向に移動させる水平移動機構と、
前記基板支持体を昇降させる昇降機構と、
前記水平移動機構および昇降機構を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記昇降機構に、前記載置面の下方から前記基板支持体を上昇させ、
少なくとも前記基板支持体が前記基板の前記下面に接触した後において、前記基板支持体の上昇と並行して、前記水平移動機構によって、前記基板が前記対向面から遠ざかる離間方向に前記基板支持体を移動させ、
前記制御部は、
前記基板の搬送回数を計数し、
少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後の前記基板支持体の移動方向と、水平面とのなす角度の、前記搬送回数が第1値であるときの値が、前記搬送回数が前記第1値よりも小さな第2値であるときの前記角度の値よりも小さくなるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御する、基板搬送装置。 - 基板の側面に対向する対向面と、前記基板の下面のうち第1領域を支持する載置面とを有する基板収容器から、前記基板を取り出す基板搬送装置であって、
前記基板の前記下面のうち前記第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持体と、
前記基板支持体を水平方向に移動させる水平移動機構と、
前記基板支持体を昇降させる昇降機構と、
前記水平移動機構および昇降機構を制御する制御部と
を備え、
前記制御部は、
前記昇降機構に、前記載置面の下方から前記基板支持体を上昇させ、
少なくとも前記基板支持体が前記基板の前記下面に接触した後において、前記基板支持体の上昇と並行して、前記水平移動機構によって、前記基板が前記対向面から遠ざかる離間方向に前記基板支持体を移動させ、
前記制御部は、
前記基板が前記基板支持体および前記載置面の両方に接触する設計上の地点に前記基板支持体が向かうにつれて、前記基板支持体の移動速度をある低減率で低減させて、前記地点における前記移動速度を所定値とし、前記基板支持体が前記地点から離れるにつれて、前記移動速度をある増大率で増大させるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御し、
前記基板の搬送回数を計数し、
前記搬送回数が第3値であるときの前記移動速度の前記低減率、および、前記移動速度の前記増大率の少なくともいずれか一方を、前記搬送回数が前記第3値よりも小さな第4値であるときの前記一方よりも小さく設定する、基板搬送装置。 - 請求項8または請求項9に記載の基板搬送装置であって、
前記制御部は、前記基板支持体が前記基板の前記下面に接触する前から、前記水平移動機構に、前記離間方向に前記基板支持体を移動させる、基板搬送装置。 - 請求項1から請求項10のいずれか一つに記載の基板搬送装置であって、
前記制御部は、所定の移動経路に沿って前記基板支持体が移動するように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御し、
前記所定の移動経路は、前記基板支持体および前記載置面の両方が前記基板に接触する第1地点と、前記第1地点から前記離間方向かつ鉛直下方に移動した第2地点と、前記第2地点から鉛直下方に移動した第3地点とをこの順で結ぶ経路を含む、基板搬送装置。 - 請求項1から請求項11のいずれか一つに記載の基板搬送装置であって、
前記制御部は、前記基板支持体に前記基板が載置されているときの前記基板支持体の移動速度の最大値を、前記基板支持体に前記基板が載置されていないときの前記移動速度の最大値よりも低くするように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御する、基板搬送装置。 - 基板を載置面に載置する基板搬送方法であって、
前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を、基板支持体の基板支持部で支持する工程と、
前記基板支持部に立設されて、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部側へと、押圧部に前記基板を押圧させて、前記突起部と共に前記基板を保持する工程と、
水平移動機構に前記基板支持体を前記載置面の上方へ向かって移動させる工程と、
前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させる工程と
を備え、
前記基板が前記載置面に接触する地点の前記離間方向における設計上の位置を、前記基板の載置位置についての目標位置よりも所定量だけ、前記離間方向の反対側の位置に設定し、
前記基板の前記載置面への載置時に、前記基板支持体が、前記設計上の位置から前記目標位置に向かって、摩擦により前記基板を前記載置面に沿って移動させる、基板搬送方法。 - 基板を載置面に載置する基板搬送方法であって、
前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を、基板支持体の基板支持部で支持する第1工程と、
前記基板支持部に立設されて、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部側へと、押圧部に前記基板を押圧させて、前記突起部と共に前記基板を保持する第2工程と、
水平移動機構に前記基板支持体を前記載置面の上方へ向かって移動させる第3工程と、
前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させる第4工程と、
前記基板の搬送回数を計数する第5工程と
を備え、
前記第4工程において、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後の前記基板支持体の移動方向と、水平面とのなす角度の、前記搬送回数が第1値であるときの値が、前記搬送回数が前記第1値よりも小さな第2値であるときの前記角度の値よりも小さくなるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御する、基板搬送方法。 - 基板を載置面に載置する基板搬送方法であって、
前記基板の下面のうち、前記載置面によって支持される第1領域とは異なる第2領域を、基板支持体の基板支持部で支持する第1工程と、
前記基板支持部に立設されて、前記基板の側面と対面する対向面を含む突起部側へと、押圧部に前記基板を押圧させて、前記突起部と共に前記基板を保持する第2工程と、
水平移動機構に前記基板支持体を前記載置面の上方へ向かって移動させる第3工程と、
前記押圧部による前記基板への押圧を解除した状態で、昇降機構によって、前記載置面の上方から前記基板支持体を下降させ、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後において、前記基板支持体の下降と並行して、前記水平移動機構によって、前記対向面が前記基板から遠ざかる離間方向に、前記基板支持体を移動させる第4工程と、
前記基板の搬送回数を計数する第5工程と
を備え、
前記第4工程において、
前記基板が前記基板支持体および前記載置面の両方に接触する設計上の地点に前記基板支持体が向かうにつれて、前記基板支持体の移動速度をある低減率で低減させて、前記地点における前記移動速度を所定値とし、前記基板支持体が前記地点から離れるにつれて、前記移動速度をある増大率で増大させるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御し、
前記搬送回数が第3値であるときの前記移動速度の前記低減率、および、前記移動速度の前記増大率の少なくともいずれか一方を、前記搬送回数が前記第3値よりも小さな第4値であるときの前記一方よりも小さく設定する、基板搬送方法。 - 基板の側面に対向する対向面と、前記基板の下面のうち第1領域を支持する載置面とを有する基板収容器から、前記基板を取り出す基板搬送方法であって、
前記基板の前記下面のうち前記第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持体を、水平移動機構に、前記載置面の下方に移動させる第1工程と、
昇降機構に、前記基板支持体を前記載置面の下方から上昇させ、少なくとも前記基板支持体が前記基板の前記下面に接触した後において、前記基板支持体の上昇と並行して、水平移動機構によって、前記基板が前記対向面から遠ざかる離間方向に前記基板支持体を移動させる第2工程と、
前記基板の搬送回数を計数する第3工程と
を備え、
前記第2工程において、少なくとも前記基板が前記載置面に接触した後の前記基板支持体の移動方向と、水平面とのなす角度の、前記搬送回数が第1値であるときの値が、前記搬送回数が前記第1値よりも小さな第2値であるときの前記角度の値よりも小さくなるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御する、基板搬送方法。 - 基板の側面に対向する対向面と、前記基板の下面のうち第1領域を支持する載置面とを有する基板収容器から、前記基板を取り出す基板搬送方法であって、
前記基板の前記下面のうち前記第1領域とは異なる第2領域を支持する基板支持体を、水平移動機構に、前記載置面の下方に移動させる第1工程と、
昇降機構に、前記基板支持体を前記載置面の下方から上昇させ、少なくとも前記基板支持体が前記基板の前記下面に接触した後において、前記基板支持体の上昇と並行して、水平移動機構によって、前記基板が前記対向面から遠ざかる離間方向に前記基板支持体を移動させる第2工程と、
前記基板の搬送回数を計数する第3工程と
を備え、
前記第2工程において、
前記基板が前記基板支持体および前記載置面の両方に接触する設計上の地点に前記基板支持体が向かうにつれて、前記基板支持体の移動速度をある低減率で低減させて、前記地点における前記移動速度を所定値とし、前記基板支持体が前記地点から離れるにつれて、前記移動速度をある増大率で増大させるように、前記水平移動機構および前記昇降機構を制御し、
前記搬送回数が第3値であるときの前記移動速度の前記低減率、および、前記移動速度の前記増大率の少なくともいずれか一方を、前記搬送回数が前記第3値よりも小さな第4値であるときの前記一方よりも小さく設定する、基板搬送方法。
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