JP7310222B2 - ストロンチウム吸着剤及びその製造方法 - Google Patents
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Description
Si/Nb=0以上、3以下
H2O/Nb=10以上、300以下
反応混合物において、好ましいM/Nbは0.8以上、8以下である。
シリコンの原料は特に限定されないが、珪酸ナトリウムや珪酸カリウム等の水溶性珪酸塩、水ガラス、反応性の高い無定形シリカ等が使用できる。
粉末X線回折パターンは、銅Kα線を線源とする粉末X線回折装置(商品名:UltimaIV、Rigaku製)により2θ=5°~60°の範囲で測定した。
ストロンチウムの吸着試験は、1Lメスフラスコに、10倍希釈の模擬海水(Na:1000ppm、Mg:120ppm、Ca:40ppm)に和光純薬製ICP標準液をストロンチウムの濃度が各1ppmとなる様添加して調製した試験液1Lを入れ、吸着剤を乾燥重量で50mg添加し、25℃の室温下、40mmのスタラーチップにより800rpmで24時間撹拌した。
ストロンチウム除去率は以下の式(1)で算出した。
実施例1
純水42.2gに48%水酸化ナトリウム溶液7.2g、75%水酸化ニオブ2.4g、含水率50%の沈降法シリカゲル4.3gを加えて以下のモル組成の反応混合物を調製した。
Si/Nb=2.6
H2O/Nb=205
この反応混合物を容積80mlのステンレス製密閉耐圧容器に入れ、水平軸廻りに45rpmで回転させながら180℃で24時間保持した。
また、ストロンチウム吸着剤のストロンチウム浄化率は63%であった。
純水41.1gに48%水酸化ナトリウム溶液7.1g、75%水酸化ニオブ3.6g、含水率50%の沈降法シリカゲル4.2gを加えて以下のモル組成の反応混合物を調製した。
Si/Nb=1.7
H2O/Nb=134
この反応混合物を容積80mlのステンレス製密閉耐圧容器に入れ、水平軸廻りに45rpmで回転させながら180℃で24時間保持した。
また、ストロンチウム吸着剤のストロンチウム浄化率は74%であった。
純水38.5gに48%水酸化ナトリウム溶液10.8g、75%水酸化ニオブ2.6g、含水率50%の沈降法シリカゲル4.2gを加えて以下のモル組成の反応混合物を調製した。
Si/Nb=2.3
H2O/Nb=181
この反応混合物を容積80mlのステンレス製密閉耐圧容器に入れ、水平軸廻りに45rpmで回転させながら180℃で24時間保持した。
また、ストロンチウム吸着剤のストロンチウム浄化率は75%であった。
純水33.5gに48%水酸化ナトリウム溶液10.3g、75%水酸化ニオブ7.4g、含水率50%の沈降法シリカゲル4.8gを加えて以下のモル組成の反応混合物を調製した。
Si/Nb=0.8
H2O/Nb=60
この反応混合物を容積80mlのステンレス製密閉耐圧容器に入れ、水平軸廻りに45rpmで回転させながら180℃で24時間保持した。
また、ストロンチウム吸着剤のストロンチウム浄化率は75%であった。
純水26.4gに48%水酸化ナトリウム溶液9.9g、75%水酸化ニオブ15.4g、含水率50%の沈降法シリカゲル4.2gを加えて以下のモル組成の反応混合物を調製した。
Si/Nb=0.3
H2O/Nb=25
この反応混合物を容積80mlのステンレス製密閉耐圧容器に入れ、水平軸廻りに45rpmで回転させながら180℃で24時間保持した。
また、ストロンチウム吸着剤のストロンチウム浄化率は79%であった。
純水45.8gに48%水酸化ナトリウム溶液6.3g、75%水酸化ニオブ2.6gを加えて以下のモル組成の反応混合物を調製した。
Si/Nb=0.0
H2O/Nb=187
この反応混合物を容積80mlのステンレス製密閉耐圧容器に入れ、水平軸廻りに45rpmで回転させながら120℃で18時間保持した。
また、ストロンチウム吸着剤のストロンチウム浄化率は53%であった。
純水45.8gに48%水酸化ナトリウム溶液6.3g、75%水酸化ニオブ2.6gを加えて以下のモル組成の反応混合物を調製した。
Si/Nb=0.0
H2O/Nb=187
この反応混合物を容積80mlのステンレス製密閉耐圧容器に入れ、水平軸廻りに45rpmで回転させながら120℃で18時間保持した。
Si/Nb=1.5
H2O/Nb=192
再び密閉耐圧容器を密閉し、水平軸廻りに45rpmで回転させながら180℃で24時間保持した。
また、ストロンチウム吸着剤のストロンチウム浄化率は78%であった。
純水28.4gに48%水酸化ナトリウム溶液10.7g、65%水酸化ニオブ11.8g、含水率60%の沈降法シリカゲル5.2gを加えて以下のモル組成の反応混合物を調製した。
Si/Nb=0.4
H2O/Nb=25
この反応混合物を容積80mlのステンレス製密閉耐圧容器に入れ、水平軸廻りに45rpmで回転させながら180℃で24時間保持した。
また、ストロンチウム吸着剤のストロンチウム浄化率は86%であった。
純水20.1gに48%水酸化ナトリウム溶液6.6g、49%水酸化ニオブ24.1g、含水率60%の沈降法シリカゲル4.3gを加えて以下のモル組成の反応混合物を調製した。
Si/Nb=0.33
H2O/Nb=25
この反応混合物を容積80mlのステンレス製密閉耐圧容器に入れ、水平軸廻りに45rpmで回転させながら180℃で24時間保持した。
また、ストロンチウム吸着剤のストロンチウム浄化率は55%であった。
原料として使用した水酸化ニオブのX線回折パターンを図4に示す。X線回折パターンから、ピーク位置(2θ)とそのピークの相対強度を求めた結果を表10に示す(表は相対強度20%以上の回折ピークのみ記載)。2θ=29.3°と2θ=28.1°のピーク強度比は95%であった。
Claims (5)
- ニオブを含有し、ニオブの他に、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を含有し、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の含有量が、Nbに対するモル比で表してM/Nb≦1.0(Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属を表す。)少なくとも2θ=14.5±0.5°、2θ=28.2±0.3°及び2θ=29.4±0.3°にX線回折ピークを有し、かつ2θ=29.4±0.3°の回折ピーク強度に対する2θ=28.2±0.3°の回折ピーク強度が90%以下であることを特徴とするストロンチウム吸着剤。
- さらにシリコンを含有することを特徴とする請求項1に記載のストロンチウム吸着剤。
- シリコンの含有量がNbに対するモル比で表してSi/Nb≦0.7である、請求項2に記載のストロンチウム吸着剤。
- 以下のモル組成の反応混合物を80℃以上220℃以下の温度を保持することを特徴とする請求項1~請求項3のいずれかの項に記載のストロンチウム吸着剤の製造方法。
M/Nb=0.5以上、10以下(Mはアルカリ金属またはアルカリ土類金属を表す。)
Si/Nb=0以上、3以下
H2O/Nb=10以上、300以下 - ストロンチウムを含有する水を請求項1~請求項3のいずれかの項に記載のストロンチウム吸着剤と接触させることを特徴とするストロンチウムの吸着方法。
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WO2017141931A1 (ja) | 2016-02-17 | 2017-08-24 | 日本化学工業株式会社 | セシウム又は/及びストロンチウム吸着剤 |
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