JP7309701B2 - リソグラフィシステム帯域幅制御 - Google Patents
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Description
DtMOPA+feedforward gain*(FF(RRcurrent)-FF(RRprevious))
上式で、
DtMOPAは、第1及び第2のチャンバにおける発射の最新の実際の相対的なタイミングであり、
FF(RRcurrent)は、現在の繰り返し率についてのDtMOPAの記憶された値であり、
FF(RRprevious)は、前の繰り返し率についてのDtMOPAの記憶された値であり、
feedforward gainは、利得係数である。
FF[rrbin]=FF[rrbin]+gain*(ΔDTMopaavg-ΔFF)
ΔDTMopaavg=DtMOPAavg(currentRR)-DtMOPAavg(previousRR))
ΔFF=FF[RR]-FF[RR last]
上式で、
FF[rrbin]は、繰り返し率rrに関連付けられたビン内の発射の相対的なタイミングについて記憶された値であり、
DtMOPAavg(current RR)は、現在の繰り返し率についての平均タイミング値であり、
DtMOPAavg(previous RR)は、直前の繰り返し率についての平均タイミング値であり、
FF[RR]は、繰り返し率RRに関連付けられたビン内の発射の相対的なタイミングについて記憶された値であり、
FF[RR last]は、直前の繰り返し率RR lastに関連付けられたビン内の発射の相対的なタイミングについて記憶された値である。
DtMOPA=DtMOPA+feedforward gain*(FF(RRcurrent)-FF(RRprevious))
FF[rrbin]=FF[rrbin]+gain*(ΔDTMopaavg-ΔFF)
上式で、
ΔDTMopaavg=DtMOPAavg(current RR)-DtMOPAavg(previous RR))
ΔFF=FF[RR]-FF[RR last]
である。
複数の繰り返し率のうちのいずれか1つで動作するように構成されたレーザと、
レーザの帯域幅を少なくとも部分的に制御するための制御信号を生成するように構成された帯域幅コントローラと、
複数の繰り返し率の各々について制御信号の値を繰り返し率と相関させる、電気的に記憶されたフィードフォワード相関データを含む相関器と、
レーザの少なくとも1つの動作パラメータを決定し、決定された動作パラメータをフィードフォワード値として相関器に供給するように構成された、モジュールと、
を備え、
相関器は、フィードフォワード値に少なくとも部分的に基づいて、制御信号に対する調整を生成するように構成される、
装置。
2. レーザは、第1のチャンバ及び第2のチャンバを有し、制御信号は、第1のチャンバ内の発射のタイミングに対する第2のチャンバ内の発射のタイミングを少なくとも部分的に制御する、発射タイミング制御信号DtMOPAである、条項1に記載の装置。
3. 相関器は、DtMOPAに対する調整を生成するように構成される、条項2に記載の装置。
4. 相関器は、以下の式に従ったDtMOPAに対する調整を生成するように構成され、
DtMOPA+feedforward gain*(FF(RRcurrent)-FF(RRprevious))
上式で、
DtMOPAは、第1及び第2のチャンバにおける発射の実際の相対的なタイミングであり、
FF(RRcurrent)は、現在の繰り返し率についてのDtMOPAの記憶された値であり、
FF(RRprevious)は、前の繰り返し率についてのDtMOPAの記憶された値であり、
feedforward gainは、利得係数である、
条項3に記載の装置。
5. 相関器は、複数の繰り返し率の少なくともいくつかについて制御信号の値を繰り返し率と相関させる相関データを記憶する、フィードフォワードルックアップテーブルである、条項1に記載の装置。
6. 少なくとも1つの動作パラメータは、現在の繰り返し率についてのDtMOPAの移動平均値である、条項2に記載の装置。
7. 方法であって、
レーザが発射する時点での現在の繰り返し率を決定するステップと、
現在の繰り返し率が直前の繰り返し率と実質的に同じであるかどうかを決定するステップと、
現在の繰り返し率が直前の繰り返し率と実質的に同じでないと決定された場合、レーザの制御パラメータを変更するステップと、
を含む、方法。
8. レーザは、第1のチャンバ及び第2のチャンバを有し、制御パラメータは、第1のチャンバ内の発射のタイミングに関して第2のチャンバ内の発射のタイミングを少なくとも部分的に制御する、発射タイミング制御値DtMOPAである、条項7に記載の方法。
9. 使用される繰り返し率が現在の繰り返し率と実質的に同じであった最後の時点との間の経過時間の量を決定する追加ステップを含み、変更するステップは、経過時間の量を決定するステップに少なくとも部分的に基づいて動作パラメータを変更するステップを含む、条項7に記載の方法。
10. 経過時間の量の決定に少なくとも部分的に基づいて制御パラメータを変更するステップは、フィードフォワード利得を変更するステップを含む、条項9に記載の方法。
11. 方法であって、
複数の繰り返し率のうちのいずれか1つで動作することが可能なレーザについて繰り返し率における変化を検出するステップと、
繰り返し率における変化の検出の後、レーザの第1の動作パラメータを計算するステップと、
計算された第1の動作パラメータに少なくとも部分的に基づいて、複数の繰り返し率の各々について第2の動作パラメータの値を繰り返し率に相関させる電子的に記憶された相関データを更新するステップと、
を含む、方法。
12. レーザは、第1のチャンバ及び第2のチャンバを有し、第2の動作パラメータは、第1のチャンバ内の発射のタイミングに対する第2のチャンバ内の発射の時点に関する、タイミングパラメータDtMOPAである、条項11に記載の方法。
13. 電子的に記憶された相関データは、複数の繰り返し率の各々についてDtMOPAの値を繰り返し率と相関させる相関データを記憶する、フィードフォワードルックアップテーブルを含む、条項12に記載の方法。
14. 第1の動作パラメータは、DtMOPAの平均値である、条項12に記載の方法。
15. 第1の動作パラメータは、帯域幅エラーの平均値である、条項12に記載の方法。
16. 更新するステップは、以下の関係を使用して実施され、
FF[rrbin]=FF[rrbin]+gain*(ΔDTMopaavg-ΔFF)
ΔDTMopaavg=DtMOPAavg(current RR)-DtMOPAavg(previous RR))
ΔFF=FF[RR]-FF[RR last]
上式で、
FF[rrbin]は、繰り返し率rrに関連付けられたビン内の発射の相対的なタイミングについて記憶された値であり、
DtMOPAavg(current RR)は、現在の繰り返し率についての移動平均タイミング値であり、
DtMOPAavg(previous RR)は、直前の繰り返し率についての平均タイミング値であり、
FF[RR]は、繰り返し率RRに関連付けられたビン内の発射の相対的なタイミングについて記憶された値であり、
FF[RR last]は、更新の直前の繰り返し率RRlastに関連付けられたビン内の発射の相対的なタイミングについて記憶された値である、
条項12に記載の方法。
17. 方法であって、
制御パラメータが制御パラメータの飽和値と十分に異なるかどうかを決定するステップと、
制御パラメータが制御パラメータの飽和値と十分に異ならないと決定された場合、飽和値と十分に異なる調整済み制御パラメータを取得するために、制御パラメータを調整する動作パラメータにオフセット値を追加するステップと、
を含む、方法。
18. レーザは、第1のチャンバ及び第2のチャンバを有し、制御パラメータは、第1のチャンバ内の発射のタイミングに対する第2のチャンバ内の発射の時点に関する、タイミングパラメータDtMOPAである、条項17に記載の方法。
19. 動作パラメータは調整可能な帯域幅オフセットである、条項17に記載の方法。
20. 方法であって、
複数の繰り返し率のうちのいずれか1つで動作することが可能なレーザについて、現在の繰り返し率を検出するステップと、
制御パラメータが現在の繰り返し率についての基準値に近いように、動作パラメータを調整するステップと、
を含む、方法。
21. レーザは、第1のチャンバ及び第2のチャンバを有し、制御パラメータは、第1のチャンバ内の発射のタイミングに対する第2のチャンバ内の発射の時点に関する、タイミングパラメータDtMOPAである、条項19に記載の方法。
22. 動作パラメータは帯域幅オフセットである、条項20に記載の方法。
Claims (10)
- 装置であって、
複数の繰り返し率のうちのいずれか1つで動作するように構成されたレーザと、
前記レーザの帯域幅を少なくとも部分的に制御するための制御信号を生成するように構成された帯域幅コントローラと、
前記複数の繰り返し率の各々について前記制御信号の値を繰り返し率と相関させる、電気的に記憶されたフィードフォワード相関データを含む相関器と、
前記レーザの少なくとも1つの動作パラメータであって、前記帯域幅を少なくとも部分的に制御するための少なくとも1つの動作パラメータを決定し、前記決定された動作パラメータをフィードフォワード値として前記相関器に供給するように構成された、モジュールと、
を備え、
前記相関器は、前記フィードフォワード値に少なくとも部分的に基づいて、前記制御信号に対する調整を生成するように構成される、
装置。 - 前記レーザは、第1のチャンバ及び第2のチャンバを有し、前記制御信号は、前記第1のチャンバ内の発射のタイミングに対する前記第2のチャンバ内の発射のタイミングを少なくとも部分的に制御する、発射タイミング制御信号DtMOPAである、請求項1に記載の装置。
- 前記相関器は、以下の式に従ったDtMOPAに対する調整を生成するように構成され、
DtMOPA+feedforward gain*(FF(RRcurrent)-FF(RRprevious))
上式で、
DtMOPAは、前記第1及び第2のチャンバにおける発射の実際の相対的なタイミングであり、
FF(RRcurrent)は、現在の繰り返し率についてのDtMOPAの前記記憶された値であり、
FF(RRprevious)は、前の繰り返し率についてのDtMOPAの前記記憶された値であり、
feedforward gainは、利得係数である、
請求項2に記載の装置。 - 前記少なくとも1つの動作パラメータは、前記現在の繰り返し率についてのDtMOPAの移動平均値である、請求項2に記載の装置。
- 方法であって、
複数の繰り返し率のうちのいずれか1つで動作することが可能なレーザについて繰り返し率における変化を検出するステップと、
前記繰り返し率における変化の検出の後、前記レーザの第1の動作パラメータを計算するステップであって、前記第1の動作パラメータは前記レーザの帯域幅を少なくとも部分的に制御するためのものである、計算するステップと、
前記計算された第1の動作パラメータに少なくとも部分的に基づいて、前記複数の繰り返し率の各々について第2の動作パラメータの値を繰り返し率に相関させる電子的に記憶されたフィードフォワード相関データを更新するステップであって、前記第2の動作パラメータは前記帯域幅を少なくとも部分的に制御するためのものである、更新するステップと、
を含む、方法。 - 前記レーザは、第1のチャンバ及び第2のチャンバを有し、前記第2の動作パラメータは、前記第1のチャンバ内の発射のタイミングに対する前記第2のチャンバ内の発射の時点に関する、タイミングパラメータDtMOPAである、請求項5に記載の方法。
- 前記電子的に記憶されたフィードフォワード相関データは、前記複数の繰り返し率の各々についてDtMOPAの値を繰り返し率と相関させる相関データを記憶する、フィードフォワードルックアップテーブルを含む、請求項6に記載の方法。
- 前記第1の動作パラメータは、DtMOPAの平均値である、請求項6に記載の方法。
- 前記第1の動作パラメータは、帯域幅エラーの平均値である、請求項6に記載の方法。
- 前記更新するステップは、以下の関係を使用して実施され、
FF[rrbin]=FF[rrbin]+gain*(ΔDTMopaavg-ΔFF)
ΔDTMopaavg=DtMOPAavg(current RR)-DtMOPAavg(previous RR))
ΔFF=FF[RR]-FF[RR last]
上式で、
FF[rrbin]は、前記繰り返し率rrに関連付けられたビン内の発射の相対的なタイミングについて記憶された値であり、
DtMOPAavg(current RR)は、前記現在の繰り返し率についての移動平均タイミング値であり、
DtMOPAavg(previous RR)は、直前の繰り返し率についての平均タイミング値であり、
FF[RR]は、前記繰り返し率RRに関連付けられた前記ビン内の発射の相対的なタイミングについて記憶された値であり、
FF[RR last]は、前記更新の直前の繰り返し率RRlastに関連付けられた前記ビン内の発射の相対的なタイミングについて記憶された値である、
請求項6に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2022118361A JP2022153531A (ja) | 2017-11-17 | 2022-07-26 | リソグラフィシステム帯域幅制御 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/815,935 US10833471B2 (en) | 2017-11-17 | 2017-11-17 | Lithography system bandwidth control |
US15/815,935 | 2017-11-17 | ||
PCT/US2018/058046 WO2019099179A1 (en) | 2017-11-17 | 2018-10-29 | Lithography system bandwidth control |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022118361A Division JP2022153531A (ja) | 2017-11-17 | 2022-07-26 | リソグラフィシステム帯域幅制御 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021503710A JP2021503710A (ja) | 2021-02-12 |
JP7309701B2 true JP7309701B2 (ja) | 2023-07-18 |
Family
ID=66532979
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020522873A Active JP7309701B2 (ja) | 2017-11-17 | 2018-10-29 | リソグラフィシステム帯域幅制御 |
JP2022118361A Pending JP2022153531A (ja) | 2017-11-17 | 2022-07-26 | リソグラフィシステム帯域幅制御 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2022118361A Pending JP2022153531A (ja) | 2017-11-17 | 2022-07-26 | リソグラフィシステム帯域幅制御 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10833471B2 (ja) |
JP (2) | JP7309701B2 (ja) |
KR (1) | KR102351884B1 (ja) |
CN (1) | CN111357156B (ja) |
WO (1) | WO2019099179A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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CN114008530B (zh) * | 2019-07-16 | 2024-05-31 | Asml荷兰有限公司 | 光源及控制方法;用于测量应用的装置和方法 |
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2018
- 2018-10-29 JP JP2020522873A patent/JP7309701B2/ja active Active
- 2018-10-29 CN CN201880074365.5A patent/CN111357156B/zh active Active
- 2018-10-29 WO PCT/US2018/058046 patent/WO2019099179A1/en active Application Filing
- 2018-10-29 KR KR1020207014006A patent/KR102351884B1/ko active IP Right Grant
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---|---|
US11769982B2 (en) | 2023-09-26 |
US20190155170A1 (en) | 2019-05-23 |
US10833471B2 (en) | 2020-11-10 |
JP2021503710A (ja) | 2021-02-12 |
US20210021094A1 (en) | 2021-01-21 |
WO2019099179A1 (en) | 2019-05-23 |
CN111357156B (zh) | 2024-03-08 |
KR20200058574A (ko) | 2020-05-27 |
KR102351884B1 (ko) | 2022-01-14 |
CN111357156A (zh) | 2020-06-30 |
JP2022153531A (ja) | 2022-10-12 |
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C60 | Trial request (containing other claim documents, opposition documents) |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
C21 | Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings |
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A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
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|
C211 | Notice of termination of reconsideration by examiners before appeal proceedings |
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|
C22 | Notice of designation (change) of administrative judge |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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