JP7300545B1 - Screen mask manufacturing method and screen mask - Google Patents
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Abstract
【課題】陰像形成材料の表面側の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となるスクリーンマスクの製造方法およびスクリーンマスクを提供する。【解決手段】陽像形成工程は、第１面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置および第２面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置の少なくともいずれか一方に凹部形成陽像を形成し、陰像形成工程は、パターン開口形成陽像７１ａ以外の部分であって凹部形成陽像４２，６２ａ以外の部分に陰像８５を形成し、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像７１ａを除去すると共に凹部形成陽像４２，６２ａを除去することによって、陰像８５により、第１面９１と第２面９２とパターン開口とに加えて、第１面９１から第２面９２の手前まで凹む第１面側凹部および第２面９２から第１面９１の手前まで凹む第２面側凹部の少なくともいずれか一方を形成する。【選択図】図９A method for manufacturing a screen mask and a screen mask are provided that improve the smoothness of the surface side of a negative image forming material and allow the height in the thickness direction to approach a constant value. In the positive image forming step, at least one of a position other than the pattern opening forming positive image on the side to be the first surface and a position other than the pattern opening forming positive image on the side to be the second surface is formed. In the negative image forming step, a negative image 85 is formed in a portion other than the pattern opening forming positive image 71a and in a portion other than the recess forming positive images 42 and 62a. By removing the positive image 71a and removing the recessed positive images 42, 62a, the negative image 85 allows the first surface 91 to the second surface 91 to the second surface in addition to the first surface 91 and the second surface 92 and the pattern openings. At least one of a first-surface-side recess recessed to the front of 92 and a second-surface-side recess recessed from the second surface 92 to the front of the first surface 91 is formed. [Selection drawing] Fig. 9
Description
本発明は、スクリーンマスクの製造方法およびスクリーンマスクに関する。 The present invention relates to a screen mask manufacturing method and a screen mask.
陽像を形成し、陽像以外の部分に陰像を形成した後、陽像を除去することで、陰像によってパターン開口を形成するスクリーン印刷版の製造方法およびスクリーン印刷版がある（例えば、特許文献１，２参照）。 There is a screen printing plate manufacturing method and a screen printing plate in which a positive image is formed, a negative image is formed in a portion other than the positive image, and then the positive image is removed to form pattern openings with the negative image (for example, See Patent Documents 1 and 2).
上記のようなスクリーンマスクの製造時において、陰像を形成する際に、印刷解像性向上、印刷厚さの安定性確保の観点から、陰像形成材料の表面側を平面状に近づけたい、すなわち平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけたいという要望がある。 When forming a negative image during the production of the screen mask as described above, it is desirable to make the surface side of the negative image forming material as close to planar as possible from the viewpoint of improving the printing resolution and ensuring the stability of the printing thickness. That is, there is a demand to improve the smoothness and make the height in the thickness direction closer to a constant value.
したがって、本発明は、陰像形成材料の表面側の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となるスクリーンマスクの製造方法およびスクリーンマスクの提供を目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a screen mask and a screen mask that can improve the smoothness of the surface of the negative image forming material and make the height in the thickness direction close to constant.
上記目的を達成するために、本発明に係るスクリーンマスクの製造方法の一態様は、パターン開口形成陽像を形成する陽像形成工程と、前記パターン開口形成陽像以外の部分に陰像を形成する陰像形成工程と、前記パターン開口形成陽像を除去して前記陰像により第１面と第２面と前記第１面及び前記第２面を連通させるパターン開口とを形成する陽像除去工程と、を含むスクリーンマスクの製造方法であって、前記陽像形成工程は、前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第１面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第２面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに凹部形成陽像を形成し、前記陰像形成工程は、前記パターン開口形成陽像以外の部分であって前記凹部形成陽像以外の部分に陰像を形成し、前記陽像除去工程は、前記パターン開口形成陽像を除去すると共に前記凹部形成陽像を除去することによって、前記陰像により、前記第１面と前記第２面と前記パターン開口とに加えて、前記第１面から前記第２面の手前まで凹む第１面側凹部と前記第２面から前記第１面の手前まで凹む第２面側凹部とを形成することを特徴とする。 In order to achieve the above object, one aspect of the method for manufacturing a screen mask according to the present invention comprises a positive image forming step of forming a pattern opening forming positive image, and forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image. and a positive image removing step of removing the pattern opening forming positive image to form a pattern opening connecting the first surface and the second surface and the first surface and the second surface by the negative image. wherein the positive image forming step includes, in addition to the pattern opening forming positive image, positions other than the pattern opening forming positive image on the first surface side and the forming a concave portion forming positive image at a position other than the pattern opening forming positive image on the side of the second surface, and forming the negative image at a portion other than the pattern opening forming positive image and forming the concave portion forming positive image; In the positive image removing step, the positive image forming the pattern openings and the positive image forming the recesses are removed so that the first surface and the first surface are separated from each other by the negative images. In addition to the two surfaces and the pattern opening, a first surface side recess recessed from the first surface to the front of the second surface and a second surface side recess recessed from the second surface to the front of the first surface . characterized by forming
これにより、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像に加えて、第１面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置と第２面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置とに凹部形成陽像を形成しておく。その結果、陰像形成工程において、パターン開口形成陽像以外の部分であって凹部形成陽像以外の部分に陰像形成材料を充填すると、陰像形成材料が、パターン開口形成陽像に加えて凹部形成陽像にも支持される。よって、陰像形成材料の凹部形成陽像側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。 As a result, in the positive image forming step, in addition to the pattern opening forming positive image, positions other than the pattern opening forming positive image on the first surface side and positions other than the pattern opening forming positive image on the second surface side. A recess formation positive image is formed in advance. As a result, in the negative image forming step, when the negative image forming material is filled in the portion other than the pattern opening forming positive image and the recess forming positive image, the negative image forming material is added to the pattern opening forming positive image. It is also supported by the recessed positive image. Therefore, it is possible to improve the smoothness of the surface of the negative image forming material on the recessed positive image side and make the height in the thickness direction close to a constant value.
本発明に係るスクリーンマスクの一態様は、第１面と第２面とを連通させるパターン開口が形成されたスクリーンマスクであって、前記第１面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第１面から前記第２面の手前まで凹む第１面側凹部が設けられ、前記第２面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第２面から前記第１面の手前まで凹む第２面側凹部が設けられており、前記第１面側凹部と前記第２面側凹部とは、スクリーンメッシュまで延びていることを特徴とする。 One aspect of the screen mask according to the present invention is a screen mask in which a pattern opening that communicates between a first surface and a second surface is formed, wherein the first surface is located at a position different from the pattern opening on the first surface. A first surface side concave portion is provided which is recessed from the first surface to the front of the second surface, and the second surface is recessed from the second surface to the front of the first surface at a position different from the pattern opening of the second surface. A side recess is provided, and the first surface side recess and the second surface side recess extend to the screen mesh .
これにより、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像に加えて、第１面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置および第２面になる側のパターン開口形成陽像以外の位置の両方に凹部形成陽像を形成しておくことになる。その結果、陰像形成工程において、パターン開口形成陽像以外の部分であって凹部形成陽像以外の部分に陰像形成材料を充填すると、陰像形成材料が、パターン開口形成陽像に加えて凹部形成陽像にも支持される。よって、陰像形成材料の第１面になる側の表面および第２面になる側の表面の平滑性を向上させ、第１面、第２面の厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。 As a result, in the positive image forming step, in addition to the pattern opening forming positive image, positions other than the pattern opening forming positive image on the first surface side and positions other than the pattern opening forming positive image on the second surface side. A recess formation positive image is formed on both. As a result, in the negative image forming step, when the negative image forming material is filled in the portion other than the pattern opening forming positive image and the recess forming positive image, the negative image forming material is added to the pattern opening forming positive image. It is also supported by the recessed positive image. Therefore, the smoothness of the surface of the negative image forming material on the side to be the first side and the surface of the side to be the second side should be improved, and the heights in the thickness direction of the first side and the second side should be made close to constant. becomes possible.
本発明によれば、陰像形成材料の表面側の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。 According to the present invention, the smoothness of the surface side of the negative image forming material can be improved, and the height in the thickness direction can be made nearly constant.
［第１実施形態］
本発明に係る第１実施形態のスクリーンマスクの製造方法およびこれを用いて製造されるスクリーンマスクについて、図１～図１０を参照しつつ説明する。以下の説明における厚さ方向は、図１～図４、図８～図１４、図１８～図２４、図２８～図３０における上下方向である。
[First embodiment]
A method for manufacturing a screen mask according to a first embodiment of the present invention and a screen mask manufactured using the method will be described with reference to FIGS. 1 to 10. FIG. The thickness direction in the following description is the vertical direction in FIGS. 1 to 4, 8 to 14, 18 to 24, and 28 to 30.
第１実施形態のスクリーンマスクの製造方法では、図１に示すように、マスクベース１１を準備する。マスクベース１１は、シート状であり、シート状のベース材１２と、ベース材１２内にベース材１２と同様に広がるように埋設されたシート状のスクリーンメッシュ１３とを有している。スクリーンメッシュ１３は一定の張力で張られた状態で、図示略の枠に張り付けられている。ベース材１２は、光硬化型であって硬化前の樹脂材料からなっている。スクリーンメッシュ１３は、金属製または合成樹脂製の線状部材が網目状に織られて形成されている。あるいは、スクリーンメッシュ１３は、電気メッキ工法で作製された多数の開口を持つシート状の金属板の場合もある。
In the screen mask manufacturing method of the first embodiment, as shown in FIG. 1, a
ベース材１２は、その厚さ方向の一側に平面状の第１面２１を有しており、その厚さ方向の他側に平面状の第２面２２を有している。マスクベース１１においても、第１面２１が厚さ方向の一側に、第２面２２が厚さ方向の他側にある。第１面２１と第２面２２とは互いに反対に向いて平行に広がっている。スクリーンメッシュ１３は、ベース材１２内で第１面２１および第２面２２と平行に広がっており、第１面２１との間の距離が、第２面２２との間の距離よりも大きくなっている。以下においては、マスクベース１１の第１面２１および第２面２２を基準とした方向を用いて説明する。
The
第１実施形態のスクリーンマスクの製造方法では、陽像形成工程を行う。陽像形成工程では、まず、準備されたマスクベース１１の第２面２２に、ベース材１２とは異なる色の感光乳剤を平面状に塗布して着色層２５を形成する第２面着色工程を行う。
In the screen mask manufacturing method of the first embodiment, a positive image forming step is performed. In the positive image forming step, first, a second surface coloring step is performed in which a photosensitive emulsion having a color different from that of the
陽像形成工程では、次に、図２に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口３１および第１面側凹部形成用開口３２が形成された第１面側露光用マスク３３で第１面２１を覆ってマスクベース１１のベース材１２にマスクベース１１の厚さ方向に沿って第１面２１側から露光を行う第１露光工程を行う。第１露光工程によって、第１面２１の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口３１と合わせた第１面側パターン開口形成陽像４１と、第１面２１の広がる方向の位置および形状を第１面側凹部形成用開口３２と合わせた第１面側凹部形成陽像４２（凹部形成陽像）とが、ベース材１２が硬化することによって形成される。第１露光工程では、第１面側パターン開口形成陽像４１および第１面側凹部形成陽像４２が、いずれも、ベース材１２の第１面２１から、第２面２２より手前であるスクリーンメッシュ１３の位置まで硬化するように露光を調整する。第１露光工程では、第１面側露光用マスク３３を用いずにレーザ等によって第１面側パターン開口形成陽像４１および第１面側凹部形成陽像４２を直接描画しても良い。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 2, a first surface
陽像形成工程では、次に、図３に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口５１および第２面側凹部形成用開口５２が形成された第２面側露光用マスク５３で着色層２５を覆って着色層２５およびマスクベース１１のベース材１２にマスクベース１１の厚さ方向に沿って着色層２５側から露光を行う第２露光工程を行う。第２露光工程によって、第２面２２の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口５１と合わせた第２面側パターン開口形成陽像６１と、第２面２２の広がる方向の位置および形状を第２面側凹部形成用開口５２と合わせた第２面側凹部形成陽像６２とが、着色層２５およびベース材１２が硬化することによって形成される。第２露光工程では、第２面側パターン開口形成陽像６１および第２面側凹部形成陽像６２が、いずれも、着色層２５から、ベース材１２の第１面２１より手前であるスクリーンメッシュ１３の位置まで硬化するように露光を調整する。第２露光工程でも、第２面側露光用マスク５３を用いずにレーザ等によって第２面側パターン開口形成陽像６１および第２面側凹部形成陽像６２を直接描画しても良い。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 3, coloring is performed using a second surface
ここで、第１面側露光用マスク３３のパターン開口形成用開口３１と、第２面側露光用マスク５３のパターン開口形成用開口５１とは、第１面２１および第２面２２の広がる方向における位置および形状が一致している。言い換えれば、第１面側露光用マスク３３のパターン開口形成用開口３１と、第２面側露光用マスク５３のパターン開口形成用開口５１とは、マスクベース１１の厚さ方向に鏡面対称状に形成されている。このため、第１面側パターン開口形成陽像４１に第２面側パターン開口形成陽像６１が繋がって第１面２１と第２面２２とを結ぶパターン開口形成陽像７１となる。
Here, the pattern
これに対して、第１面側露光用マスク３３の第１面側凹部形成用開口３２と、第２面側露光用マスク５３の第２面側凹部形成用開口５２とは、第１面２１および第２面２２の広がる方向における位置が完全にずれている。言い換えれば、第１面側露光用マスク３３の第１面側凹部形成用開口３２は、マスクベース１１の厚さ方向に鏡面対称状とした場合に、第２面側露光用マスク５３の第２面側凹部形成用開口５２とは重ならない位置に形成されている。このため、第１面側凹部形成陽像４２と第２面側凹部形成陽像６２とは一切繋がることがなく、互いに完全に分離した位置に形成される。
On the other hand, the first surface side
また、第１面側露光用マスク３３のパターン開口形成用開口３１および第２面側露光用マスク５３のパターン開口形成用開口５１に対して、第１面側露光用マスク３３の第１面側凹部形成用開口３２と、第２面側露光用マスク５３の第２面側凹部形成用開口５２とは、第１面２１および第２面２２の広がる方向における位置が完全にずれている。このため、第１面側凹部形成陽像４２と第２面側凹部形成陽像６２とは、パターン開口形成陽像７１とも完全に分離した位置に形成される。
Moreover, the first surface side of the first surface
陽像形成工程では、次に、図４に示すように、着色層２５の硬化していない部分およびベース材１２の硬化していない部分を除去する現像工程を行う。現像工程は、着色層２５およびベース材１２の材質に応じて行うことになり、例えば、これらの硬化していない部分を水で洗い流す水現像を行う。これにより、パターン開口形成陽像７１と、第１面側凹部形成陽像４２と、第２面側凹部形成陽像６２とが残る。残ったパターン開口形成陽像７１、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、いずれもスクリーンメッシュ１３に支持された状態となる。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 4, a developing step is performed to remove the uncured portion of the
以上により、陽像形成工程は、硬化した着色層２５および硬化したベース材１２からなるパターン開口形成陽像７１を形成することになり、パターン開口形成陽像７１に加えて、第１面２１側のパターン開口形成陽像７１以外の位置に、硬化したベース材１２からなる第１面側凹部形成陽像４２を形成すると共に、第２面２２側のパターン開口形成陽像７１以外の位置に、硬化した着色層２５および硬化したベース材１２からなる第２面側凹部形成陽像６２を形成する。しかも、陽像形成工程は、パターン開口形成陽像７１と第１面側凹部形成陽像４２と第２面側凹部形成陽像６２とを、第１面２１および第２面２２の広がる方向の位置をずらして形成する。第１面２１側の第１面側凹部形成陽像４２と第２面２２側の第２面側凹部形成陽像６２とは、スクリーンメッシュ１３まで硬化している。陽像形成工程は、第１面２１側と第２面２２側との両側から露光を行う。
As described above, in the positive image forming step, the pattern opening formation
ここで、パターン開口形成陽像７１、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、一例として、図５に示すようになっている。図５の例では、第２面２２側から見た場合、パターン開口形成陽像７１は、直線状であり、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、いずれも円形のドット状である。すなわち、パターン開口形成陽像７１は、スクリーンメッシュ１３の厚さ方向に広がる平板状であり、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、いずれも、スクリーンメッシュ１３の厚さ方向に延びる円柱状である。第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、第２面２２の広がる方向において、パターン開口形成陽像７１に平行な縦方向およびパターン開口形成陽像７１に垂直な横方向共に等間隔に広がる格子の交点位置に、均等の密度となるように配置されている。第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、格子の縦方向に等間隔で交互に配置されており、格子の横方向にも等間隔で交互に配置されている。なお、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２の形状は、円柱状以外に、四角柱状、三角柱状、楕円柱状等の種々の形状を採用することが可能である。また、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２の大きさ、並べ方も種々のパターンを採用することが可能である。
Here, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、別の例として、図６に示すようにすることも可能である。図６の例では、第２面２２側から見た場合、パターン開口形成陽像７１、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、互いに平行な直線状である。すなわち、パターン開口形成陽像７１、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、いずれもスクリーンメッシュ１３の厚さ方向に広がる平板状であり、互いに平行な平板状である。第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、スクリーンメッシュ１３の広がる方向において等間隔で交互に配置されている。
As another example, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、さらに別の例として、図７に示すようにすることも可能である。図７の例では、第２面２２側から見た場合、パターン開口形成陽像７１は直線状であり、第１面側凹部形成陽像４２は、パターン開口形成陽像７１に平行な直線状の部分とパターン開口形成陽像７１に垂直な直線状の部分とからなる格子状であり、第２面側凹部形成陽像６２はドット状である。第２面側凹部形成陽像６２は、格子状の第１面側凹部形成陽像４２の各直線間の中央位置に配置されている。なお、第１面側凹部形成陽像４２をドット状とし、第２面側凹部形成陽像６２を格子状としても良い。
The pattern opening formation
よって、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、それぞれが、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。第１面側凹部形成陽像４２と第２面側凹部形成陽像６２との組み合わせを、ドット状とライン状との組み合わせとしたり、ライン状と格子状との組み合わせとしたりすることも可能である。
Therefore, each of the positive
陽像形成工程の次に、図８に示すように陰像形成工程を行う。陰像形成工程では、まず、現像工程で残った、パターン開口形成陽像７１の第１面２１からなる端面と第１面側凹部形成陽像４２の第１面２１からなる端面とに閉塞シート８０を平面状に広げて貼付して第１面２１側を閉塞させる閉塞工程を行う。ここで、閉塞シート８０は、例えば一面に粘着層が形成された粘着シートであり、この粘着シートの粘着層を、全てのパターン開口形成陽像７１の第１面２１からなる端面と、全ての第１面側凹部形成陽像４２の第１面２１からなる端面とに貼り付ける。
The positive image forming step is followed by a negative image forming step as shown in FIG. In the negative image forming step, first, a closing sheet is attached to the end face of the pattern opening forming
陰像形成工程では、次に、着色層２５側すなわち第２面２２側から、閉塞シート８０までの範囲の、パターン開口形成陽像７１と第１面側凹部形成陽像４２と第２面側凹部形成陽像６２とスクリーンメッシュ１３との隙間に、これらの第２面２２側を全て覆うまで陰像形成材料８１を充填し硬化させる陰像形成材料充填硬化工程を行う。これにより、陰像形成材料８１内に、パターン開口形成陽像７１と第１面側凹部形成陽像４２と第２面側凹部形成陽像６２とスクリーンメッシュ１３とが埋設された状態になる。ここで、出来上がったスクリーンマスクが印刷用として使用される場合には、陰像形成材料８１としてインクの種類に応じた材料が選択される。例えば、水性インクの印刷用マスクとして使用される場合には、水に強いシリコーンゴムが用いられ、有機溶剤インクの印刷用マスクとして使用される場合には、エポキシ樹脂が用いられる。そして、陰像形成材料８１を、材料に合わせた、加熱、光の照射等の適した硬化方法で硬化させる。陰像形成材料８１は、硬化する樹脂であれば種々の材料を使用することができる。
In the negative image forming step, next, the pattern opening forming
陰像形成工程では、次に、パターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２と硬化した陰像形成材料８１とを、閉塞シート８０とは反対側から、平面研磨を行って、閉塞シート８０とは反対側の面８２を平面状に近づける第２面研磨工程を行って陰像８５を形成する。第２面研磨工程では、パターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２とに形成された着色層２５の硬化部分がなくなるまで平面研磨を行うことによって、面８２が所定の平面状となる。勿論、第２面研磨工程においては、スクリーンメッシュ１３および第１面側凹部形成陽像４２が露出する位置まで平面研磨を行うことはない。第２面研磨工程によって、パターン開口形成陽像７１が削られてパターン開口形成陽像７１ａとなり、第２面側凹部形成陽像６２が削れられて第２面側凹部形成陽像６２ａ（凹部形成陽像）となる。
In the negative image forming step, the pattern opening forming
以上により、陰像形成工程は、パターン開口形成陽像７１ａ以外の部分であって第１面側凹部形成陽像４２以外の部分であり、さらに第２面側凹部形成陽像６２ａ以外の部分に陰像８５を形成する。
As described above, the negative image forming process is carried out on the portions other than the pattern opening formation
次に、図１０に示すように、陽像除去工程を行う。陽像除去工程では、まず、閉塞シート８０を剥がして除去し、その後、溶剤を用いて、パターン開口形成陽像７１ａと、第１面側凹部形成陽像４２と、第２面側凹部形成陽像６２ａとを除去する。これにより、陰像８５によって、第１面２１側に第１面９１が形成され、第２面２２側に面８２の一部からなる第２面９２が形成され、第１面９１と第２面９２とを連通させるパターン開口９５が形成されたスクリーンマスク１００が形成される。スクリーンマスク１００には、これら第１面９１、第２面９２およびパターン開口９５に加えて、第１面９１から第２面９２の手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第１面側凹部１０１と第２面９２から第１面９１の手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第２面側凹部１０２とが形成される。
Next, as shown in FIG. 10, a positive image removing step is performed. In the positive image removing step, first, the blocking
以上により、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像７１ａを除去して陰像８５により、第１面９１と、第２面９２と、第１面９１及び第２面９２を連通させるパターン開口９５と、を形成する。また、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像７１ａに加えて、第１面側凹部形成陽像４２と、第２面側凹部形成陽像６２ａとを除去することによって、陰像８５により、第１面９１と第２面９２とパターン開口９５とに加えて、第１面９１から第２面９２の手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第１面側凹部１０１と、第２面９２から第１面９１の手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第２面側凹部１０２とを形成する。
As described above, the positive image removing step removes the pattern opening forming
ここで、第１面９１は、剥がされた閉塞シート８０の形状に倣った形状となる。閉塞シート８０は、パターン開口形成陽像７１に加えて第１面側凹部形成陽像４２にも貼り付けられるため、パターン開口形成陽像７１だけに貼り付けられる場合と比べて平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。これにより、閉塞シート８０に倣って形成される第１面９１は、閉塞シート８０がパターン開口形成陽像７１だけに貼り付けられる場合と比べて、平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。すなわち、陰像８５を形成する際に、陰像形成材料８１の第１面２１側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さも一定に近づけることが可能となる。
Here, the
第２面９２は、上記したように平面研磨で形成される。パターン開口形成陽像７１に加えて第２面側凹部形成陽像６２が形成されていることから、陰像形成材料８１が、平面研磨前の充填時にパターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２との両方に支持される状態となって、パターン開口形成陽像７１だけに支持される場合と比べて第２面２２側の表面が平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。すなわち、陰像８５を形成する際に、平面研磨前の陰像形成材料８１の第２面２２側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。これにより、平面研磨により第２面２２側の表面を研磨して第２面９２を形成する際に必要な取り代が少なくて済む。
The
以上の製造方法で製造されたスクリーンマスク１００は、第１面９１と第２面９２とを連通させるパターン開口９５が形成されている。スクリーンマスク１００は、第１面９１のパターン開口９５とは異なる位置に、第１面９１から第２面９２の手前まで凹む第１面側凹部１０１が設けられ、第２面９２のパターン開口９５とは異なる位置に、第２面９２から第１面９１の手前まで凹む第２面側凹部１０２が設けられている。スクリーンマスク１００は、第１面側凹部１０１と第２面側凹部１０２とが、第１面９１および第２面９２の広がる方向の位置をずらしている。スクリーンマスク１００は、第１面側凹部１０１と第２面側凹部１０２とが、スクリーンメッシュ１３まで延びている。スクリーンマスク１００は、印刷用とされる場合、第１面９１が被印刷物側に、第２面９２がインクを刷り込むスキージ側に、それぞれ配置される。
The
以上のように、スクリーンマスク１００には、第１面２１側に第１面９１が形成されることになり、第２面２２側に第２面９２が形成されることになる。言い換えれば、スクリーンマスク１００において、第１面９１になる側が第１面２１側であり、第２面９２になる側が第２面２２側である。第１面２１および第２面２２の広がる方向が、第１面９１および第２面９２の広がる方向となる。
As described above, the
ここで、パターン開口形成陽像７１、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２が図５に示す形状である場合、スクリーンマスク１００を第２面９２側から見たり透過したりすれば、パターン開口９５は、直線状となり、第１面側凹部１０１および第２面側凹部１０２は、いずれもドット状となる。第１面側凹部１０１および第２面側凹部１０２は、第２面９２の広がる方向において、パターン開口９５に平行な縦方向およびパターン開口９５に垂直な横方向共に等間隔に広がる格子の交点位置に、均等の密度となるように配置される。第１面側凹部１０１および第２面側凹部１０２は、格子の縦方向に等間隔で交互に配置され、格子の横方向にも等間隔で交互に配置される。
Here, when the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２が図６に示す形状である場合、スクリーンマスク１００を第２面９２側から見たり透過したりすれば、パターン開口９５、第１面側凹部１０１および第２面側凹部１０２は、互いに平行な直線状となる。第１面側凹部１０１および第２面側凹部１０２は、第２面９２の広がる方向において等間隔で交互に配置される。
When the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２が図７に示す形状である場合、スクリーンマスク１００を第２面９２側から見たり透過したりすれば、パターン開口９５は直線状となり、第１面側凹部１０１は、パターン開口９５に平行な直線状の部分とパターン開口９５に垂直な直線状の部分とからなる格子状となり、第２面側凹部１０２はドット状となる。第２面側凹部１０２は、格子状の第１面側凹部１０１の各直線間の中央位置に配置される。なお、第１面側凹部１０１をドット状とし、第２面側凹部１０２を格子状としても良い。
When the pattern opening formation
よって、スクリーンマスク１００において、第１面側凹部１０１および第２面側凹部１０２は、それぞれが、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。第１面側凹部１０１と第２面側凹部１０２との組み合わせを、ドット状とライン状との組み合わせとしたり、格子状とライン状との組み合わせとしたりすることも可能である。
Therefore, in the
以上に述べたスクリーンマスク１００の製造方法によれば、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像７１に加えて、第１面２１側のパターン開口形成陽像７１以外の位置に第１面側凹部形成陽像４２を形成すると共に、第２面２２側のパターン開口形成陽像７１以外の位置に第２面側凹部形成陽像６２を形成する。したがって、陰像形成工程において充填される陰像形成材料８１が、パターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２との両方に支持される状態となって、パターン開口形成陽像７１だけに支持される場合と比べて第２面２２側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、その後の第２面９２を形成するための平面研磨の取り代を少なくすることができ、平面研磨の工数を低減できて、製造コストを低減することができる。
According to the method of manufacturing the
また、第１面９１を形成する閉塞シート８０は、パターン開口形成陽像７１に加えて第１面側凹部形成陽像４２にも貼り付けられるため、パターン開口形成陽像７１だけに貼り付けられる場合と比べて平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、閉塞シート８０に倣って形成される陰像形成材料８１の第１面２１側の表面は、閉塞シート８０がパターン開口形成陽像７１だけに貼り付けられる場合と比べて平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。すなわち、第１面９１の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、第１面９１の形成に平面研磨等を行わなくて済むことになるため、製造コストを低減することができる。
In addition, since the
第１面９１のパターン開口９５とは異なる位置に、第１面９１から第２面９２の手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第１面側凹部１０１が設けられ、第２面９２のパターン開口９５とは異なる位置に、第２面９２から第１面９１の手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第２面側凹部１０２が設けられるスクリーンマスク１００は、上記の製造方法で製造することができる。これにより、スクリーンマスク１００の製造コストを低減することができる。
At a position different from the pattern opening 95 of the
スクリーンマスク１００は、平滑性が高められ、厚さ方向の高さが一定に近づけられた閉塞シート８０に倣って第１面９１の平滑性を向上させ、陰像８５の厚さを一定に近づけることができるため、スクリーンマスク１００を基板を覆って基板に接触させる場合、第１面９１の基板への密着性を高めることができる。よって、印刷に使用する場合のインクの吐出厚および印刷解性が安定する。
The
スクリーンマスク１００は、第２面９２を形成する際の平面研磨の取り代が少なく済むため、陰像８５のスクリーンメッシュ１３から第２面９２側の部分の厚さを厚くすることができる。よって、陰像８５のこの部分の強度を向上させることができ、陰像８５のこの部分とスクリーンメッシュ１３との接合強度を高めることができる。
Since the
なお、着色層２５が形成された一枚のマスクベース１１において、場所によって、一の範囲に第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２の両方を形成し、これとは異なる範囲に、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２のうちの一方である第１面側凹部形成陽像４２のみを形成し、これらとは異なる範囲に、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２のうちの他方である第２面側凹部形成陽像６２のみを形成することもできる。ここで、陰像形成材料８１の第１面２１側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけるためには、第１面側凹部形成陽像４２を、隣り合うパターン開口形成陽像７１の間隔が広い場合に形成するのが良い。隣り合うパターン開口形成陽像７１の間隔が例えば５ｍｍ以上の場合には、これらの間に一つ以上の第１面側凹部形成陽像４２を設けるのが好ましい。また、陰像形成材料８１の第２面２２側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけるためには、第２面側凹部形成陽像６２を、隣り合うパターン開口形成陽像７１の間隔が広い場合に形成するのが良い。隣り合うパターン開口形成陽像７１の間隔が例えば１ｍｍ以上の場合には、これらの間に一つ以上の第２面側凹部形成陽像６２を設けるのが好ましい。
In one
陽像形成工程は、第１面側凹部形成陽像４２と第２面側凹部形成陽像６２とを、第１面２１および第２面２２の広がる方向の位置をずらして形成するため、形成されたスクリーンマスク１００は、第１面側凹部１０１と第２面側凹部１０２とが、第１面９１および第２面９２の広がる方向の位置をずらして形成される。これにより、第１面側凹部１０１と第２面側凹部１０２とが繋がって第１面９１と第２面９２とを連通させる開口となってしまうことがないため、このような開口を閉塞させる処理が不要となる。
In the positive image forming step, the first surface side recess formation
第１面側凹部形成陽像４２と第２面側凹部形成陽像６２とは、スクリーンメッシュ１３まで延びており、よって、第１面側凹部１０１と第２面側凹部１０２とが、スクリーンメッシュ１３まで延びている。したがって、第１面側凹部形成陽像４２と第２面側凹部形成陽像６２とを、スクリーンメッシュ１３で支持することができる。
The first-side recess formation
陽像形成工程は、第１面２１側と第２面２２側との両側から露光を行う。このため、厚さの厚いマスクベース１１を使用してもパターン開口形成陽像７１を形成することができ、また、着色層２５の厚さを厚くしてもパターン開口形成陽像７１を形成することができる。よって、硬化した陰像形成材料８１、パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２の第２面２２側の平面研磨によって、スクリーンメッシュ１３および第１面側凹部形成陽像４２を露出させることなく確実に不要部分を除去できて第２面９２を平面状に近づけることができる。
In the positive image forming step, exposure is performed from both the
第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２は、それぞれが、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つであり、よって、第１面側凹部１０１および第２面側凹部１０２は、それぞれが、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。したがって、第１面側凹部形成陽像４２および第２面側凹部形成陽像６２を効果的な位置に容易に形成することができる。
なお、露光工程は、第１面２１と第２面２２とを同時に行っても良い。また、第１面２１の露光、現像を順に行い、その後、第２面２２側にベース材１２を再度塗布し、着色層２５の塗布、第２面２２の露光、現像を順に行っても良い。また、第１面２１と第２面２２の露光時の合わせ精度に余裕を持たせるため、第２面側露光用マスク５３のパターン開口形成用開口５１の開口幅を、第１面側露光用マスク３３のパターン開口形成用開口３１の開口幅に対して数μｍから数十μｍ程度大きくても良い。
The first-surface-side recess-forming
Note that the exposure process may be performed simultaneously on the
［第２実施形態］
本発明に係る第２実施形態のスクリーンマスクの製造方法およびこれを用いて製造されるスクリーンマスクについて、図１１～図２０を参照しつつ第１実施形態との相違部分を中心に説明する。
[Second embodiment]
A method of manufacturing a screen mask according to a second embodiment of the present invention and a screen mask manufactured using the method will be described with reference to FIGS. 11 to 20, focusing on differences from the first embodiment.
第２実施形態のスクリーンマスクの製造方法では、陽像形成工程において、図１１に示すように、第１実施形態と同様、マスクベース１１の第２面２２に着色層２５を形成する第２面着色工程を行い、次に、図１２に示すように、第１実施形態と同様の第１面側露光用マスク３３で第１面２１を覆ってマスクベース１１のベース材１２にマスクベース１１の厚さ方向に沿って第１面２１側から露光を行う第１露光工程を行う。第１露光工程によって、第１面２１の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口３１と合わせた第１面側パターン開口形成陽像４１と、第１面２１の広がる方向の位置および形状を第１面側凹部形成用開口３２と合わせた第１面側凹部形成陽像４２とが、ベース材１２が硬化することによって形成される。第１露光工程では、第１面側パターン開口形成陽像４１および第１面側凹部形成陽像４２が、いずれも、ベース材１２の第１面２１から、第２面２２より手前であるスクリーンメッシュ１３の位置まで硬化するように露光を調整する。
In the screen mask manufacturing method of the second embodiment, as shown in FIG. 11, in the positive image forming step, as in the first embodiment, the second surface of the
陽像形成工程では、次に、図１３に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口５１のみが形成された第２面側露光用マスク５３Ａで着色層２５を覆って着色層２５およびマスクベース１１のベース材１２にマスクベース１１の厚さ方向に沿って着色層２５側から露光を行う第２露光工程を行う。第２露光工程によって、第２面２２の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口５１と合わせた第２面側パターン開口形成陽像６１が、着色層２５およびベース材１２が硬化することによって形成される。第２露光工程では、第２面側パターン開口形成陽像６１が、着色層２５から、ベース材１２の第１面２１より手前であるスクリーンメッシュ１３の位置まで硬化するように露光を調整する。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 13, the
ここで、第１面側露光用マスク３３のパターン開口形成用開口３１と、第２面側露光用マスク５３Ａのパターン開口形成用開口５１とは、第１面２１および第２面２２の広がる方向における位置および形状が一致している。このため、第１面側パターン開口形成陽像４１に第２面側パターン開口形成陽像６１が繋がって第１面２１と第２面２２とを結ぶパターン開口形成陽像７１となる。
Here, the pattern
第１面側露光用マスク３３のパターン開口形成用開口３１および第２面側露光用マスク５３Ａのパターン開口形成用開口５１に対して、第１面側露光用マスク３３の第１面側凹部形成用開口３２は、第１面２１および第２面２２の広がる方向における位置が完全にずれている。このため、第１面側凹部形成陽像４２は、パターン開口形成陽像７１とは完全に分離した位置に形成される。
First-surface-side recesses are formed in the first-surface-
陽像形成工程では、次に、図１４に示すように、着色層２５の硬化していない部分およびベース材１２の硬化していない部分を除去する第１実施形態と同様の現像工程を行う。これにより、パターン開口形成陽像７１と、第１面側凹部形成陽像４２とが残る。残ったパターン開口形成陽像７１および第１面側凹部形成陽像４２は、いずれもスクリーンメッシュ１３に支持された状態となる。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 14, the uncured portion of the
以上により、陽像形成工程は、硬化した着色層２５および硬化したベース材１２からなるパターン開口形成陽像７１を形成することになり、パターン開口形成陽像７１に加えて、第１面２１側のパターン開口形成陽像７１以外の位置に、硬化したベース材１２からなる第１面側凹部形成陽像４２を形成する。しかも、陽像形成工程は、パターン開口形成陽像７１と第１面側凹部形成陽像４２とを、第１面２１および第２面２２の広がる方向の位置をずらして形成する。第１面２１側の第１面側凹部形成陽像４２は、スクリーンメッシュ１３まで延びている。陽像形成工程は、第１面２１側と第２面２２側との両側から露光を行う。
As described above, in the positive image forming step, the pattern opening formation
ここで、パターン開口形成陽像７１および第１面側凹部形成陽像４２は、一例として、図１５に示すようになっている。図１５の例では、第２面２２側から見た場合、パターン開口形成陽像７１は、直線状であり、第１面側凹部形成陽像４２は、円形のドット状である。すなわち、パターン開口形成陽像７１は、スクリーンメッシュ１３の厚さ方向に広がる平板状であり、第１面側凹部形成陽像４２は、スクリーンメッシュ１３の厚さ方向に延びる円柱状である。第１面側凹部形成陽像４２は、スクリーンメッシュ１３の広がる方向において均等の密度となるように千鳥状に配置されている。なお、第１面側凹部形成陽像４２の形状は、円柱状以外に、四角柱状、三角柱状、楕円柱状等の種々の形状を採用することが可能である。また、第１面側凹部形成陽像４２の大きさ、並べ方も種々のパターンを採用することが可能である。
Here, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１および第１面側凹部形成陽像４２は、別の例として、図１６に示すようにすることも可能である。図１６の例では、第２面２２側から見た場合、パターン開口形成陽像７１および第１面側凹部形成陽像４２は、互いに平行な直線状である。すなわち、パターン開口形成陽像７１および第１面側凹部形成陽像４２は、いずれもスクリーンメッシュ１３の厚さ方向に垂直に広がり、互いに平行な平板状である。
As another example, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１および第１面側凹部形成陽像４２は、さらに別の例として、図１７に示すようにすることも可能である。図１７の例では、第２面２２側から見た場合、パターン開口形成陽像７１は直線状であり、第１面側凹部形成陽像４２は、パターン開口形成陽像７１に平行な直線状の部分とパターン開口形成陽像７１に垂直な直線状の部分とからなる格子状である。すなわち、パターン開口形成陽像７１は、スクリーンメッシュ１３の厚さ方向に広がる平板状であり、第１面側凹部形成陽像４２は、パターン開口形成陽像７１と平行に広がる平板状の部分と、パターン開口形成陽像７１と垂直に広がる平板状の部分とからなる。
As yet another example, the pattern opening forming
よって、第１面側凹部形成陽像４２は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。
Therefore, the
陽像形成工程の次に、図１８に示すように陰像形成工程を行う。陰像形成工程では、まず、第１実施形態と同様に、現像工程で残った、パターン開口形成陽像７１の第１面２１からなる端面と第１面側凹部形成陽像４２の第１面２１からなる端面とに閉塞シート８０を平面状に広げて貼付して第１面２１側を閉塞させる閉塞工程を行う。
The positive image formation step is followed by a negative image formation step as shown in FIG. In the negative image forming process, first, as in the first embodiment, the end face consisting of the
陰像形成工程では、次に、第１実施形態と同様に、着色層２５側すなわち第２面２２側から、閉塞シート８０までの範囲の、パターン開口形成陽像７１と第１面側凹部形成陽像４２とスクリーンメッシュ１３との隙間に、これらの第２面２２側を全て覆うまで陰像形成材料８１を充填し硬化させる陰像形成材料充填硬化工程を行う。これにより、陰像形成材料８１内に、パターン開口形成陽像７１と第１面側凹部形成陽像４２とスクリーンメッシュ１３とが埋設された状態になる。
In the negative image forming step, next, similarly to the first embodiment, pattern opening forming
陰像形成工程では、次に、パターン開口形成陽像７１と硬化した陰像形成材料８１とを、閉塞シート８０とは反対側から、第１実施形態と同様の平面研磨を行って、閉塞シート８０とは反対側の面８２Ａを平面状に近づける第２面研磨工程を行って陰像８５Ａを形成する。第２面研磨工程では、パターン開口形成陽像７１に形成された着色層２５の硬化部分がなくなるまで平面研磨を行うことによって、面８２Ａが形成される。第２面研磨工程によって、パターン開口形成陽像７１が削られてパターン開口形成陽像７１ａとなる。
In the negative image forming step, the pattern opening forming
以上により、陰像形成工程は、パターン開口形成陽像７１以外の部分であって第１面側凹部形成陽像４２以外の部分に陰像８５Ａを形成する。
As described above, in the negative image forming step, the
次に、図２０に示すように、第１実施形態と同様の陽像除去工程を行う。陽像除去工程では、まず、閉塞シート８０を剥がして除去し、その後、溶剤を用いて、パターン開口形成陽像７１ａと、第１面側凹部形成陽像４２とを除去する。これにより、陰像８５Ａによって、第１面２１側に第１面９１が形成され、第２面２２側に面８２Ａの一部からなる第２面９２Ａが形成され、第１面９１と第２面９２Ａとを連通させるパターン開口９５が形成されたスクリーンマスク１００Ａが形成される。スクリーンマスク１００Ａには、これら第１面９１、第２面９２Ａおよびパターン開口９５に加えて、第１面９１から第２面９２Ａの手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第１面側凹部１０１が形成される。
Next, as shown in FIG. 20, the same positive image removing process as in the first embodiment is performed. In the positive image removing step, first, the blocking
以上により、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像７１ａを除去して陰像８５Ａにより第１面９１と、第２面９２Ａと、第１面９１及び第２面９２Ａを連通させるパターン開口９５と、を形成する。また、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像７１ａに加えて、第１面側凹部形成陽像４２を除去することによって、陰像８５Ａにより、第１面９１と第２面９２Ａとパターン開口９５とに加えて、第１面９１から第２面９２Ａの手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第１面側凹部１０１を形成する。
As described above, the positive image removing step removes the pattern opening forming
ここで、第１面９１は、剥がされた閉塞シート８０の形状に倣った形状となる。閉塞シート８０は、パターン開口形成陽像７１に加えて第１面側凹部形成陽像４２にも貼り付けられるため、パターン開口形成陽像７１だけに貼り付けられる場合と比べて平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。これにより、閉塞シート８０に倣って形成される第１面９１は、閉塞シート８０がパターン開口形成陽像７１だけに貼り付けられる場合と比べて、平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。すなわち、陰像８５Ａを形成する際に、陰像形成材料８１の第１面２１側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。
Here, the
以上の製造方法で製造されたスクリーンマスク１００Ａは、第１面９１のパターン開口９５とは異なる位置に、第１面９１から第２面９２Ａの手前まで凹む第１面側凹部１０１が設けられている。スクリーンマスク１００Ａは、第１面側凹部１０１が、スクリーンメッシュ１３まで延びている。スクリーンマスク１００Ａは、印刷用とされる場合、第１面９１が被印刷物側に、第２面９２Ａがインクを刷り込むスキージ側に、それぞれ配置される。
The
スクリーンマスク１００Ａにおいて、第１面９１になる側が第１面２１側であり、第２面９２Ａになる側が第２面２２側である。第１面２１および第２面２２の広がる方向が、第１面９１および第２面９２Ａの広がる方向となる。
In the
ここで、パターン開口形成陽像７１および第１面側凹部形成陽像４２が図１５に示す形状である場合、スクリーンマスク１００Ａを第２面９２Ａ側から見たり透過したりすれば、パターン開口９５は、直線状となり、第１面側凹部１０１は、ドット状となる。第１面側凹部１０１は、第１面９１の広がる方向において均等の密度となるように千鳥状に配置される。
Here, when the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１および第１面側凹部形成陽像４２が図１６に示す形状である場合、スクリーンマスク１００Ａを第２面９２Ａ側から見たり透過したりすれば、パターン開口９５および第１面側凹部１０１は、互いに平行な直線状となる。
When the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１および第１面側凹部形成陽像４２が図１７に示す形状である場合、スクリーンマスク１００Ａを第２面９２Ａ側から見たり透過したりすれば、パターン開口９５は直線状となり、第１面側凹部１０１は、パターン開口９５に平行な直線状の部分とパターン開口９５に垂直な直線状の部分とからなる格子状となる。
When the pattern opening formation
よって、スクリーンマスク１００Ａにおいて、第１面側凹部１０１は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。
Therefore, in the
以上に述べたスクリーンマスク１００Ａの製造方法によれば、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像７１に加えて、第１面２１側のパターン開口形成陽像７１以外の位置に第１面側凹部形成陽像４２を形成する。したがって、第１面９１を形成する閉塞シート８０は、パターン開口形成陽像７１に加えて第１面側凹部形成陽像４２にも貼り付けられるため、パターン開口形成陽像７１だけに貼り付けられる場合と比べて平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、閉塞シート８０に倣って形成される陰像形成材料８１の第１面２１側の表面は、閉塞シート８０がパターン開口形成陽像７１だけに貼り付けられる場合と比べて平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。すなわち、第１面９１の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、第１面９１の形成に平面研磨等を行わなくて済むことになるため、製造コストを低減することができる。
According to the manufacturing method of the
第１面９１のパターン開口９５とは異なる位置に、第１面９１から第２面９２Ａの手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第１面側凹部１０１が設けられるスクリーンマスク１００Ａは、上記の製造方法で製造することができる。これにより、スクリーンマスク１００Ａの製造コストを低減することができる。
The
スクリーンマスク１００Ａは、平滑性が高められた閉塞シート８０に倣って第１面９１の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができるため、スクリーンマスク１００Ａを基板を覆って基板に接触させる場合、第１面９１の基板への密着性を高めることができる。よって、印刷に使用する場合のインクの吐出厚および印刷解性が安定する。
The
第１面側凹部形成陽像４２は、スクリーンメッシュ１３まで硬化しており、よって、第１面側凹部１０１が、スクリーンメッシュ１３まで延びている。したがって、第１面側凹部形成陽像４２を、スクリーンメッシュ１３で支持することができる。
The first side recess formation
陽像形成工程は、第１面２１側と第２面２２側との両側から露光を行う。このため、厚さの厚いマスクベース１１を使用してもパターン開口形成陽像７１を形成することができ、また、着色層２５の厚さを厚くしてもパターン開口形成陽像７１を形成することができる。よって、硬化した陰像形成材料８１およびパターン開口形成陽像７１の第２面２２側の平面研磨によって、スクリーンメッシュ１３および第１面側凹部形成陽像４２を露出させることなく確実に不要部分を除去できて第２面９２Ａを平面状に近づけることができる。
In the positive image forming step, exposure is performed from both the
第１面側凹部形成陽像４２は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つであり、よって、第１面側凹部１０１は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。したがって、第１面側凹部形成陽像４２を効果的な位置に容易に形成することができる。
なお、露光工程は、第１面２１と第２面２２とを同時に行っても良い。また、第１面２１の露光、現像を順に行い、その後、第２面２２側にベース材１２を再度塗布し、着色層２５の塗布、第２面２２の露光、現像を順に行っても良い。また、第１面２１と第２面２２の露光時の合わせ精度に余裕を持たせるため、第２面側露光用マスク５３のパターン開口形成用開口５１の開口幅を、第１面側露光用マスク３３のパターン開口形成用開口３１の開口幅に対して数μｍから数十μｍ程度大きくても良い。
The
Note that the exposure process may be performed simultaneously on the
［第３実施形態］
本発明に係る第３実施形態のスクリーンマスクの製造方法およびこれを用いて製造されるスクリーンマスクについて、図２１～図３０を参照しつつ第１実施形態との相違部分を中心に説明する。
[Third embodiment]
A method of manufacturing a screen mask according to a third embodiment of the present invention and a screen mask manufactured using the method will be described with reference to FIGS. 21 to 30, focusing on differences from the first embodiment.
第３実施形態のスクリーンマスクの製造方法では、陽像形成工程において、第１実施形態と同様に、図２１に示すようにマスクベース１１の第２面２２に着色層２５を形成する第２面着色工程を行う。 In the screen mask manufacturing method of the third embodiment, in the positive image forming step, as in the first embodiment, as shown in FIG. Carry out the coloring process.
陽像形成工程では、次に、図２２に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口３１のみが形成された第１面側露光用マスク３３Ｂで第１面２１を覆ってマスクベース１１のベース材１２にマスクベース１１の厚さ方向に沿って第１面２１側から露光を行う第１露光工程を行う。第１露光工程によって、第１面２１の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口３１と合わせた第１面側パターン開口形成陽像４１が、ベース材１２が硬化することによって形成される。第１露光工程では、第１面側パターン開口形成陽像４１が、ベース材１２の第１面２１から、第２面２２より手前であるスクリーンメッシュ１３の位置まで硬化するように露光を調整する。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 22, the
陽像形成工程では、次に、図２３に示すように、適宜の位置にパターン開口形成用開口５１および第２面側凹部形成用開口５２が形成された第１実施形態と同様の第２面側露光用マスク５３で着色層２５を覆って着色層２５およびマスクベース１１のベース材１２にマスクベース１１の厚さ方向に沿って着色層２５側から露光を行う第２露光工程を行う。第２露光工程によって、第２面２２の広がる方向の位置および形状をパターン開口形成用開口５１と合わせた第２面側パターン開口形成陽像６１と、第２面２２の広がる方向の位置および形状を第２面側凹部形成用開口５２と合わせた第２面側凹部形成陽像６２とが、着色層２５およびベース材１２が硬化することによって形成される。第２露光工程では、第２面側パターン開口形成陽像６１および第２面側凹部形成陽像６２が、いずれも、着色層２５から、ベース材１２の第１面２１より手前であるスクリーンメッシュ１３の位置まで硬化するように露光を調整する。
In the positive image forming step, next, as shown in FIG. 23, a pattern
ここで、第１面側露光用マスク３３Ｂのパターン開口形成用開口３１と、第２面側露光用マスク５３のパターン開口形成用開口５１とは、第１面２１および第２面２２の広がる方向における位置および形状が一致している。このため、第１面側パターン開口形成陽像４１に第２面側パターン開口形成陽像６１が繋がって第１面２１と第２面２２とを結ぶパターン開口形成陽像７１となる。
Here, the pattern opening forming
第１面側露光用マスク３３Ｂのパターン開口形成用開口３１および第２面側露光用マスク５３のパターン開口形成用開口５１に対して、第２面側露光用マスク５３の第２面側凹部形成用開口５２は、第１面２１および第２面２２の広がる方向における位置が完全にずれている。このため、第２面側凹部形成陽像６２は、パターン開口形成陽像７１とは完全に分離した位置に形成される。
Second-surface-side recesses are formed in the second-surface-
陽像形成工程では、次に、図２４に示すように、着色層２５の硬化していない部分およびベース材１２の硬化していない部分を除去する第１実施形態と同様の現像工程を行う。これにより、パターン開口形成陽像７１と、第２面側凹部形成陽像６２とが残る。残ったパターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２は、いずれもスクリーンメッシュ１３に支持された状態となる。
In the positive image forming step, as shown in FIG. 24, the same developing step as in the first embodiment is performed to remove the uncured portion of the
以上により、陽像形成工程は、硬化した着色層２５および硬化したベース材１２からなるパターン開口形成陽像７１を形成することになり、パターン開口形成陽像７１に加えて、第２面２２側のパターン開口形成陽像７１以外の位置に、硬化した着色層２５および硬化したベース材１２からなる第２面側凹部形成陽像６２を形成する。第２面２２側の第２面側凹部形成陽像６２は、スクリーンメッシュ１３まで硬化している。陽像形成工程は、第１面２１側と第２面２２側との両側から露光を行う。
As described above, in the positive image forming step, the pattern opening formation
ここで、パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２は、一例として、図２５に示すようになっている。図２５の例では、第２面２２側から見た場合、パターン開口形成陽像７１は、直線状であり、第２面側凹部形成陽像６２は、円形のドット状である。すなわち、パターン開口形成陽像７１は、スクリーンメッシュ１３の厚さ方向に広がる平板状であり、第２面側凹部形成陽像６２は、スクリーンメッシュ１３の厚さ方向に延びる円柱状である。第２面側凹部形成陽像６２は、スクリーンメッシュ１３の広がる方向において均等の密度となるように千鳥状に配置されている。なお、第２面側凹部形成陽像６２の形状は、円柱状以外に、四角柱状、三角柱状、楕円柱状等の種々の形状を採用することが可能である。また、第２面側凹部形成陽像６２の大きさ、並べ方も種々のパターンを採用することが可能である。
Here, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２は、別の例として、図２６に示すようにすることも可能である。図２６の例では、第２面２２側から見た場合、パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２は、互いに平行な直線状である。すなわち、パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２は、いずれもスクリーンメッシュ１３の厚さ方向に広がる平板状であり、互いに平行な平板状である。隣り合う第２面側凹部形成陽像６２と第２面側凹部形成陽像６２との間の間隔は、スクリーンメッシュ１３の広がる方向において均等となっている。
As another example, the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２は、さらに別の例として、図２７に示すようにすることも可能である。図２７の例では、第２面２２側から見た場合、パターン開口形成陽像７１は直線状であり、第２面側凹部形成陽像６２は、パターン開口形成陽像７１に平行な直線状の部分とパターン開口形成陽像７１に垂直な直線状の部分とからなる格子状である。すなわち、パターン開口形成陽像７１は、スクリーンメッシュ１３の厚さ方向に広がる平板状であり、第２面側凹部形成陽像６２は、パターン開口形成陽像７１と平行に広がる平板状の部分と、パターン開口形成陽像７１と垂直に広がる平板状の部分とからなる。
As another example, the pattern opening formation
よって、第２面側凹部形成陽像６２は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。
Therefore, the
陽像形成工程の次に、図２８に示すように陰像形成工程を行う。陰像形成工程では、まず、現像工程で残った、パターン開口形成陽像７１の第１面２１からなる端面に閉塞シート８０をできるだけ平面状に広げて貼付して第１面２１側を閉塞させる閉塞工程を行う。
The positive image forming step is followed by the negative image forming step as shown in FIG. In the negative image forming step, first, the
陰像形成工程では、次に、着色層２５側すなわち第２面２２側から、閉塞シート８０までの範囲の、パターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２とスクリーンメッシュ１３との隙間に、これらの第２面２２側を全て覆うまで陰像形成材料８１を充填し硬化させる陰像形成材料充填硬化工程を行う。これにより、陰像形成材料８１内に、パターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２とスクリーンメッシュ１３とが埋設された状態になる。
In the negative image forming step, next, the pattern opening forming
陰像形成工程では、次に、図２９に示すように、パターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２と硬化した陰像形成材料８１とを、閉塞シート８０とは反対側から、平面研磨を行って、閉塞シート８０とは反対側の面８２を平面状に近づける第２面研磨工程を行って陰像８５Ｂを形成する。第２面研磨工程では、パターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２とに形成された着色層２５の硬化部分がなくなるまで平面研磨を行うことによって、面８２が所定の平面状となる。勿論、第２面研磨工程においては、スクリーンメッシュ１３が露出する位置まで平面研磨を行うことはない。第２面研磨工程によって、パターン開口形成陽像７１が削られてパターン開口形成陽像７１ａとなり、第２面側凹部形成陽像６２が削れられて第２面側凹部形成陽像６２ａとなる。
In the negative image forming step, as shown in FIG. Then, a
以上により、陰像形成工程は、パターン開口形成陽像７１ａ以外の部分であって第２面側凹部形成陽像６２ａ以外の部分に陰像８５Ｂを形成する。
As described above, in the negative image forming step, the
次に、図３０に示すように、陽像除去工程を行う。陽像除去工程では、第１実施形態と同様に、まず、閉塞シート８０を剥がして除去し、その後、溶剤を用いて、パターン開口形成陽像７１ａと、第２面側凹部形成陽像６２ａとを除去する。これにより、陰像８５Ｂによって、第１面２１側に第１面９１Ｂが形成され、第２面２２側に面８２の一部からなる第２面９２が形成され、第１面９１Ｂと第２面９２とを連通させるパターン開口９５が形成されたスクリーンマスク１００Ｂが形成される。スクリーンマスク１００Ｂには、これら第１面９１Ｂ、第２面９２およびパターン開口９５に加えて、第２面９２から第１面９１Ｂの手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第２面側凹部１０２が形成される。
Next, as shown in FIG. 30, a positive image removal step is performed. In the positive image removing step, as in the first embodiment, first, the blocking
以上により、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像７１ａを除去して陰像８５Ｂにより、第１面９１Ｂと、第２面９２と、第１面９１Ｂ及び第２面９２を連通させるパターン開口９５と、を形成する。また、陽像除去工程は、パターン開口形成陽像７１ａに加えて、第２面側凹部形成陽像６２ａを除去することによって、陰像８５Ｂにより、第１面９１Ｂと第２面９２とパターン開口９５とに加えて、第２面９２から第１面９１Ｂの手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第２面側凹部１０２を形成する。
As described above, the positive image removing step removes the pattern opening forming
ここで、第２面９２は、上記したように平面研磨で形成される。パターン開口形成陽像７１に加えて第２面側凹部形成陽像６２が形成されていることから、陰像形成材料８１が、平面研磨前の充填時にパターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２との両方に支持される状態となって、パターン開口形成陽像７１だけに支持される場合と比べて第２面２２側の表面が平面状に近づいて平滑性が向上し、厚さ方向の高さが一定に近づく。すなわち、陰像８５Ｂを形成する際に、平面研磨前の陰像形成材料８１の第２面２２側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることが可能となる。これにより、平面研磨により第２面２２側の表面を研磨して第２面９２を形成する際に必要な取り代が少なくて済む。
Here, the
以上の製造方法で製造されたスクリーンマスク１００Ｂは、第１面９１Ｂと第２面９２とを連通させるパターン開口９５が形成されている。スクリーンマスク１００Ｂは、第２面９２のパターン開口９５とは異なる位置に、第２面９２から第１面９１Ｂの手前まで凹む第２面側凹部１０２が設けられている。スクリーンマスク１００Ｂは、第２面側凹部１０２が、スクリーンメッシュ１３まで延びている。スクリーンマスク１００Ｂは、印刷用とされる場合、第１面９１Ｂが被印刷物側に、第２面９２がインクを刷り込むスキージ側に、それぞれ配置される。スクリーンマスク１００Ｂは、逆に、第２面９２が被印刷物側に、第１面９１Ｂがスキージ側に、それぞれ配置されても良い。
The
スクリーンマスク１００Ｂにおいて、第１面９１Ｂになる側が第１面２１側であり、第２面９２になる側が第２面２２側である。第１面２１および第２面２２の広がる方向が、第１面９１Ｂおよび第２面９２の広がる方向となる。
In the
ここで、パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２が図２５に示す形状である場合、スクリーンマスク１００Ｂを第２面９２側から見ると、パターン開口９５は、直線状となり、第２面側凹部１０２は、ドット状となる。第２面側凹部１０２は、第２面９２の広がる方向において、均等の密度となるように千鳥状に配置される。
Here, when the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２が図２６に示す形状である場合、スクリーンマスク１００Ｂを第２面９２側から見ると、パターン開口９５および第２面側凹部１０２は、互いに平行な直線状となる。第２面側凹部１０２は、隣り合うもの同士が等間隔となる。
When the pattern opening formation
パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２が図２７に示す形状である場合、スクリーンマスク１００Ｂを第２面９２側から見ると、パターン開口９５は直線状となり、第１面側凹部１０１は、パターン開口９５に平行な直線状の部分とパターン開口９５に垂直な直線状の部分とからなる格子状となる。
When the pattern opening formation
よって、スクリーンマスク１００Ｂにおいて、第２面側凹部１０２は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。
Therefore, in the
以上に述べたスクリーンマスク１００Ｂの製造方法によれば、陽像形成工程において、パターン開口形成陽像７１に加えて、第２面２２側のパターン開口形成陽像７１以外の位置に第２面側凹部形成陽像６２を形成する。したがって、陰像形成工程において充填される陰像形成材料８１が、パターン開口形成陽像７１と第２面側凹部形成陽像６２との両方に支持される状態となって、パターン開口形成陽像７１だけに支持される場合と比べて第２面２２側の表面の平滑性を向上させ、厚さ方向の高さを一定に近づけることができる。これにより、その後の第２面９２を形成するための平面研磨の取り代を少なくすることができ、平面研磨の工数を低減できて、製造コストを低減することができる。
According to the manufacturing method of the
第２面９２のパターン開口９５とは異なる位置に、第２面９２から第１面９１Ｂの手前にあるスクリーンメッシュ１３の位置まで凹む第２面側凹部１０２が設けられるスクリーンマスク１００Ｂは、上記の製造方法で製造することができる。これにより、スクリーンマスク１００Ｂの製造コストを低減することができる。
The
スクリーンマスク１００Ｂは、第２面９２を形成する際の平面研磨の取り代が少なく済むため、陰像８５Ｂのスクリーンメッシュ１３から第２面９２側の部分の厚さを厚くすることができる。よって、陰像８５Ｂのこの部分の強度を向上させることができ、陰像８５Ｂのこの部分とスクリーンメッシュ１３との接合強度を高めることができる。
Since the
第２面側凹部形成陽像６２は、スクリーンメッシュ１３まで延びており、よって、第２面側凹部１０２が、スクリーンメッシュ１３まで延びている。したがって、第２面側凹部形成陽像６２をスクリーンメッシュ１３で支持することができる。
The second side recess formation
陽像形成工程は、第１面２１側と第２面２２側との両側から露光を行う。このため、厚さの厚いマスクベース１１を使用してもパターン開口形成陽像７１を形成することができ、また、着色層２５の厚さを厚くしてもパターン開口形成陽像７１を形成することができる。よって、硬化した陰像形成材料８１、パターン開口形成陽像７１および第２面側凹部形成陽像６２の第２面２２側の平面研磨によって、スクリーンメッシュ１３を露出させることなく確実に不要部分を除去できて第２面９２を平面状に近づけることができる。
In the positive image forming step, exposure is performed from both the
第２面側凹部形成陽像６２は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つであり、よって、第２面側凹部１０２は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである。したがって、第２面側凹部形成陽像６２を効果的な位置に容易に形成することができる。
なお、露光工程は、第１面２１と第２面２２とを同時に行っても良い。また、第１面２１の露光、現像を順に行い、その後、第２面２２側にベース材１２を再度塗布し、着色層２５の塗布、第２面２２の露光、現像を順に行っても良い。また、第１面２１と第２面２２の露光時の合わせ精度に余裕を持たせるため、第２面側露光用マスク５３のパターン開口形成用開口５１の開口幅を、第１面側露光用マスク３３のパターン開口形成用開口３１の開口幅に対して数μｍから数十μｍ程度大きくても良い。
The
Note that the exposure process may be performed simultaneously on the
（付記１）
パターン開口形成陽像を形成する陽像形成工程と、
前記パターン開口形成陽像以外の部分に陰像を形成する陰像形成工程と、
前記パターン開口形成陽像を除去して前記陰像により第１面と第２面と前記第１面及び前記第２面を連通させるパターン開口とを形成する陽像除去工程と、
を含むスクリーンマスクの製造方法であって、
前記陽像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第１面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置および前記第２面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置の少なくともいずれか一方に凹部形成陽像を形成し、
前記陰像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像以外の部分であって前記凹部形成陽像以外の部分に陰像を形成し、
前記陽像除去工程は、
前記パターン開口形成陽像を除去すると共に前記凹部形成陽像を除去することによって、前記陰像により、前記第１面と前記第２面と前記パターン開口とに加えて、前記第１面から前記第２面の手前まで凹む第１面側凹部および前記第２面から前記第１面の手前まで凹む第２面側凹部の少なくともいずれか一方を形成することを特徴とするスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 1)
a positive image forming step of forming a pattern opening forming positive image;
a negative image forming step of forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image;
a positive image removing step of removing the pattern opening forming positive image to form a first surface, a second surface, and a pattern opening that communicates the first surface and the second surface with the negative image;
A method for manufacturing a screen mask comprising
The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, at least one of a position other than the pattern opening formation positive image on the first surface side and a position other than the pattern opening formation positive image on the second surface side forming a recessed positive image in the
The negative image forming step includes
forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image and in a portion other than the recess forming positive image;
The positive image removing step includes
By removing the pattern opening forming positive image and removing the recess forming positive image, the negative image allows the first surface, the second surface, and the pattern openings to be removed from the first surface. A method of manufacturing a screen mask, characterized by forming at least one of a first surface side recess that is recessed to the front of the second surface and a second surface side recess that is recessed from the second surface to the front of the first surface.
（付記２）
前記陽像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第１面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第２面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに前記凹部形成陽像を形成し、
前記陽像除去工程は、
前記パターン開口形成陽像を除去すると共に前記凹部形成陽像を除去することによって、前記陰像により、前記第１面と前記第２面と前記パターン開口とに加えて、前記第１面から前記第２面の手前まで凹む第１面側凹部と前記第２面から前記第１面の手前まで凹む第２面側凹部とを形成することを特徴とする付記１に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 2)
The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, the concave portions are formed at positions other than the pattern opening formation positive image on the first surface side and at positions other than the pattern opening formation positive image on the second surface side. form a positive image,
The positive image removing step includes
By removing the pattern opening forming positive image and removing the recess forming positive image, the negative image allows the first surface, the second surface, and the pattern openings to be removed from the first surface. A method for manufacturing a screen mask according to Supplementary Note 1, wherein a first-surface-side recess that is recessed to the front of the second surface and a second-surface-side recess that is recessed from the second surface to the front of the first surface are formed. .
（付記３）
前記陽像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第１面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第２面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに、前記第１面および前記第２面の広がる方向の位置をずらして前記凹部形成陽像を形成することを特徴とする付記２に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 3)
The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, the second The method of manufacturing a screen mask according to appendix 2, wherein the recessed positive images are formed by shifting the positions of the first surface and the second surface in the direction in which the second surface spreads.
（付記４）
前記第１面になる側の前記凹部形成陽像と前記第２面になる側の前記凹部形成陽像とは、スクリーンメッシュまで硬化している付記３に記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 4)
3. The method of manufacturing a screen mask according to claim 3, wherein the recessed positive image on the first surface side and the recessed positive image on the second surface side are hardened up to the screen mesh.
（付記５）
前記陽像形成工程は、
前記第１面になる側と前記第２面になる側との両側から露光を行うことを特徴とする付記１乃至付記４のいずれか一つに記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 5)
The positive image forming step includes
5. The method of manufacturing a screen mask according to any one of Appendices 1 to 4, wherein the exposure is performed from both the first surface side and the second surface side.
（付記６）
前記凹部形成陽像は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである付記１乃至付記５のいずれか一つに記載のスクリーンマスクの製造方法。
(Appendix 6)
6. The method of manufacturing a screen mask according to any one of Appendices 1 to 5, wherein the recessed positive image has any one of a dot shape, a line shape and a lattice shape.
（付記７）
第１面と第２面とを連通させるパターン開口が形成されたスクリーンマスクであって、
前記第１面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第１面から前記第２面の手前まで凹む第１面側凹部が設けられ、
前記第２面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第２面から前記第１面の手前まで凹む第２面側凹部が設けられていることを特徴とするスクリーンマスク。
(Appendix 7)
A screen mask having a pattern opening that communicates between a first surface and a second surface,
A first surface side recess that is recessed from the first surface to the front of the second surface is provided at a position different from the pattern opening on the first surface,
A screen mask, wherein a recess on the second surface recessed from the second surface to the front of the first surface is provided at a position different from the pattern opening on the second surface.
（付記８）
前記第１面側凹部と前記第２面側凹部とは、前記第１面および前記第２面の広がる方向の位置をずらしていることを特徴とする付記７に記載のスクリーンマスク。
(Appendix 8)
The screen mask according to Supplementary Note 7, wherein the first surface side concave portion and the second surface side concave portion are shifted in position in the direction in which the first surface and the second surface spread.
（付記９）
前記第１面側凹部と前記第２面側凹部とは、スクリーンメッシュまで延びていることを特徴とする付記７または付記８に記載のスクリーンマスク。
(Appendix 9)
The screen mask according to appendix 7 or appendix 8, wherein the first surface side recess and the second surface side recess extend to the screen mesh.
（付記１０）
前記第１面側凹部および前記第２面側凹部は、ドット状、ライン状および格子状のいずれか一つである付記７乃至付記９のいずれか一つに記載のスクリーンマスク。
(Appendix 10)
10. The screen mask according to any one of appendices 7 to 9, wherein the first-surface-side recesses and the second-surface-side recesses are dot-shaped, line-shaped, or grid-shaped.
７１ パターン開口形成陽像
８５，８５Ａ，８５Ｂ 陰像
９１，９１Ｂ 第１面
９２，９２Ａ 第２面
９５ パターン開口
１００，１００Ａ，１００Ｂ スクリーンマスク
４２ 第１面側凹部形成陽像（凹部形成陽像）
６２ａ 第２面側凹部形成陽像（凹部形成陽像）
１０１ 第１面側凹部
１０２ 第２面側凹部
71 Pattern opening forming
62a Positive image of recess formation on the second surface side (positive image of recess formation)
101 First
Claims (5)
前記パターン開口形成陽像以外の部分に陰像を形成する陰像形成工程と、
前記パターン開口形成陽像を除去して前記陰像により第１面と第２面と前記第１面及び前記第２面を連通させるパターン開口とを形成する陽像除去工程と、
を含むスクリーンマスクの製造方法であって、
前記陽像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第１面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第２面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに凹部形成陽像を形成し、
前記陰像形成工程は、
前記パターン開口形成陽像以外の部分であって前記凹部形成陽像以外の部分に陰像を形成し、
前記陽像除去工程は、
前記パターン開口形成陽像を除去すると共に前記凹部形成陽像を除去することによって、前記陰像により、前記第１面と前記第２面と前記パターン開口とに加えて、前記第１面から前記第２面の手前まで凹む第１面側凹部と前記第２面から前記第１面の手前まで凹む第２面側凹部とを形成することを特徴とするスクリーンマスクの製造方法。 a positive image forming step of forming a pattern opening forming positive image;
a negative image forming step of forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image;
a positive image removing step of removing the pattern opening forming positive image to form a first surface, a second surface, and a pattern opening that communicates the first surface and the second surface with the negative image;
A method for manufacturing a screen mask comprising
The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, recess formation positive images are formed at positions other than the pattern opening formation positive image on the first surface side and at positions other than the pattern opening formation positive image on the second surface side. form an image,
The negative image forming step includes
forming a negative image in a portion other than the pattern opening forming positive image and in a portion other than the recess forming positive image;
The positive image removing step includes
By removing the pattern opening forming positive image and removing the recess forming positive image, the negative image allows the first surface, the second surface, and the pattern openings to be removed from the first surface. A method of manufacturing a screen mask, comprising forming a first-surface-side recess that is recessed to the front of the second surface and a second-surface-side recess that is recessed from the second surface to the front of the first surface.
前記パターン開口形成陽像に加えて、前記第１面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置と前記第２面になる側の前記パターン開口形成陽像以外の位置とに、前記第１面および前記第２面の広がる方向の位置をずらして前記凹部形成陽像を形成することを特徴とする請求項１記載のスクリーンマスクの製造方法。 The positive image forming step includes
In addition to the pattern opening formation positive image, the second 2. The method of manufacturing a screen mask according to claim 1 , wherein the recessed positive images are formed by shifting the positions of the first surface and the second surface in the direction in which the second surface spreads.
前記第１面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第１面から前記第２面の手前まで凹む第１面側凹部が設けられ、
前記第２面の前記パターン開口とは異なる位置に、前記第２面から前記第１面の手前まで凹む第２面側凹部が設けられており、
前記第１面側凹部と前記第２面側凹部とは、スクリーンメッシュまで延びていることを特徴とするスクリーンマスク。 A screen mask having a pattern opening that communicates between a first surface and a second surface,
A first surface side recess that is recessed from the first surface to the front of the second surface is provided at a position different from the pattern opening on the first surface,
A second surface side recess that is recessed from the second surface to the front of the first surface is provided at a position different from the pattern opening on the second surface ,
A screen mask , wherein the recesses on the first surface and the recesses on the second surface extend to a screen mesh .
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Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008200958A (en) | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Bonmaaku:Kk | Mask and its manufacturing method |
| KR101436014B1 (en) | 2014-04-29 | 2014-11-04 | 주식회사 미래솔루텍 | Evaporration mask |
| WO2015177850A1 (en) | 2014-05-19 | 2015-11-26 | 日産自動車株式会社 | Metal mask and screen printing apparatus |
| JP2016078393A (en) | 2014-10-21 | 2016-05-16 | ミタニマイクロニクス株式会社 | Screen mask, and method for manufacturing screen mask |
| JP2017187601A (en) | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 株式会社ムラカミ | Manufacturing method of screen mask |
| JP2018154101A (en) | 2017-03-21 | 2018-10-04 | 株式会社ソノコム | Screen printing plate and screen printing plate manufacturing method |
| JP2019214139A (en) | 2018-06-11 | 2019-12-19 | 東京プロセスサービス株式会社 | Manufacturing method of screen printing plate |
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Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6426446A (en) * | 1987-07-23 | 1989-01-27 | Tokyo Process Service | Screen printing plate and manufacture thereof |
| US5390595A (en) * | 1993-05-05 | 1995-02-21 | Cutcher; Thomas V. | Printing screen with plugs and method for printing a variable thickness pattern |
| JP4147610B2 (en) * | 1997-03-28 | 2008-09-10 | 凸版印刷株式会社 | Screen printing plate manufacturing method |
-
2022
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-
2023
- 2023-08-16 WO PCT/JP2023/029604 patent/WO2024048280A1/en unknown
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008200958A (en) | 2007-02-19 | 2008-09-04 | Bonmaaku:Kk | Mask and its manufacturing method |
| KR101436014B1 (en) | 2014-04-29 | 2014-11-04 | 주식회사 미래솔루텍 | Evaporration mask |
| WO2015177850A1 (en) | 2014-05-19 | 2015-11-26 | 日産自動車株式会社 | Metal mask and screen printing apparatus |
| JP2016078393A (en) | 2014-10-21 | 2016-05-16 | ミタニマイクロニクス株式会社 | Screen mask, and method for manufacturing screen mask |
| JP2017187601A (en) | 2016-04-05 | 2017-10-12 | 株式会社ムラカミ | Manufacturing method of screen mask |
| JP2018154101A (en) | 2017-03-21 | 2018-10-04 | 株式会社ソノコム | Screen printing plate and screen printing plate manufacturing method |
| JP2019214139A (en) | 2018-06-11 | 2019-12-19 | 東京プロセスサービス株式会社 | Manufacturing method of screen printing plate |
| JP2021172046A (en) | 2020-04-28 | 2021-11-01 | ミタニマイクロニクス株式会社 | Screen mask, production method of screen mask and printed matter production method |
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