JP7293230B2 - 漏出状態を通信するオストミーシステムの付属デバイス及び関連方法 - Google Patents
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Description
(P_1_1<TH_1_1)、
(P_2_1>TH_1_2)、及び
(P_3_1>TH_1_3)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_1_1は、第1のパラメータデータに基づく第1の一次パラメータであり、TH_1_1は、第1の一次閾値であり、P_2_1は、第2のパラメータデータに基づく第2の一次パラメータであり、TH_1_2は、第1の二次閾値であり、P_3_1は、第3のパラメータデータに基づく第3の一次パラメータであり、TH_1_3は、第1の三次閾値であり、第1の動作状態は、ベースプレートでの低度の半径方向漏出を示す。第1の閾値(TH_1_1、TH_1_2及びTH_1_3)は、例えば、ベースプレートの電極構成に応じて同じであるか又は異なり得る。第1の三次基準(P_3_1<TH_1_3)は、第1の基準セットから省かれ得る。例えば、ベースプレートでの低度の半径方向浸食を示す第1の動作状態は、例えば、非警戒及び/又は正常な水分の半径方向進行に対応する第1の電極対への水分の半径方向進行(しかし、第2の電極対及び第3の電極対には進行しない)を示し得る。
(P_4_1>TH_1_4)
を含み得、式中、P_4_1は、第4のパラメータデータに基づく第4の一次パラメータであり、第4の電極対間の抵抗、電圧又は電流を示し、TH_1_4は第1の四次閾値であり、第1の動作状態は、オストミー装具のベースプレートの第1の接着層の近位側の流体の不在を示す。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第1の四次閾値TH_1_4は上限抵抗閾値に対応し得る。上限抵抗閾値は、25メガオーム、20.5メガオーム、20.4メガオーム等の30メガオーム未満の値に設定され得る。
(P_1_1<TH_low)
式中、P_1_1は第1のパラメータデータに基づく第1の一次パラメータであり、TH_lowは加減抵抗閾値に対応する閾値である。1つ又は複数の例示的な実施形態では、下限抵抗閾値は100キロオーム、80キロオーム、79キロオーム等の1メガオーム未満の値に設定され得る。これは、検出された水分による第1の電極対の飽和を示し、第1の一次パラメータにより予期されるそれ以上の変化はない。水分は進行を続ける可能性が高い。
(P_2_1<TH_low)
式中、P_2_1は第2のパラメータデータに基づく第2の一次パラメータである。TH_lowは下限抵抗閾値に対応する閾値である。1つ又は複数の例示的な実施形態では、下限抵抗閾値は100キロオーム、80キロオーム、79キロオーム等の1メガオーム未満の値に設定され得る。これは、検出された水分による第2の電極対の飽和を示し、第2の一次パラメータにより予期されるそれ以上の変化はない。水分は進行を続ける可能性が高い。
(P_3_1>TH_low)
式中、P_3_1は第3のパラメータデータに基づく第3の一次パラメータである。TH_lowは下限抵抗閾値に対応する閾値である。1つ又は複数の例示的な実施形態では、下限抵抗閾値は100キロオーム、80キロオーム、79キロオーム等の1メガオーム未満の値に設定され得る。これは、検出された水分による第3の電極対の飽和を示し、第3の一次パラメータにより予期されるそれ以上の変化はない。水分は進行を続ける可能性が高い。
D_1_2_1>Z
D_2_3_1>Z
の何れかを含み得、式中、Zは、水分進行を特徴付ける時間差定数である(例えば3時間、例えば2時間)。異なる基準セット/異なる時間遅延に異なる時間差定数を利用し得る。
D_1_2_1>Z
の何れかを含み得、式中、Zは、水分進行を特徴付ける時間差定数である(例えば3時間、例えば2時間)。
1つ又は複数の例示的なモニタデバイスでは、ベースプレートの動作状態を判断することは、第2のパラメータデータ及び/又は第3のパラメータデータに基づく第2の基準セットに基づき、第2の基準セットが満たされる場合、動作状態は、第2の動作状態であると判断される。第2の基準セットは、第1のパラメータデータに基づき得る。
(P_1_1<TH_2_1)、
(P_2_1<TH_2_2)、及び
(P_3_1>TH_2_3)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_1_1は、第1のパラメータデータに基づく第1の一次パラメータであり、第1の電極対間の抵抗を示し、TH_2_1は、第2の一次閾値であり、P_2_1は、第2のパラメータデータに基づく第2の一次パラメータであり、第2の電極対間の抵抗を示し、TH_2_2は、第2の二次閾値であり、P_3_1は、第3のパラメータデータに基づく第3の一次パラメータであり、第3の電極対間の抵抗を示し、TH_2_3は、第2の三次閾値であり、第2の動作状態は、ベースプレートでの中度の半径方向漏出を示す。第2の閾値(TH_2_1、TH_2_2及びTH_2_3)は、例えば、ベースプレートの電極構成に応じて同じであるか又は異なり得る。第2の一次基準(P_1_1<TH_2_1)及び/又は第2の三次基準(P_3_1>TH_2_3)は、第2の基準セットから省かれ得る。ベースプレートでの中度の半径方向浸食を示す第2の動作状態は、第1の電極対及び第2の電極対への水分の半径方向進行(第3の電極対には進行していない)を示し得る。ベースプレートでの中度の半径方向浸食を示す第2の動作状態は、第1の電極対及び第2の電極対への水分の半径方向進行を示し得る。
D_1_2_1>Z
の何れかを含み得、式中、Zは、水分の進行を特徴付ける時間差定数(例えば3時間、例えば2時間)である。
(P_1_1>TH_D_1)、
(P_2_1>TH_D_2)、及び
(P_3_1>TH_D_3)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_1_1は、第1のパラメータデータに基づく第1の一次パラメータであり、第1の電極対間の抵抗を示し、TH_D_1は、デフォルト一次閾値であり、P_2_1は、第2のパラメータデータに基づく第2の一次パラメータであり、第2の電極対間の抵抗を示し、TH_D_2は、デフォルト二次閾値であり、P_3_1は、第3のパラメータデータに基づく第3の一次パラメータであり、第3の電極対間の抵抗を示し、TH_D_3は、デフォルト三次閾値であり、デフォルト動作状態は、ベースプレートでの半径方向漏出がないか又は非常に低度であることを示す。デフォルト閾値(TH_D_1、TH_D_2、及びTH_D_3)は、例えば、ベースプレートの電極構成に応じて同じであってもよく、又は異なってもよい。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第1のパラメータデータ、第2のパラメータデータ、及び第3のパラメータデータがそれぞれ、第1の電極対間、第2の電極対間、及び第3の電極対間の抵抗を示す場合、デフォルト閾値(TH_D_1、TH_D_2、及びTH_D_3)はデフォルト抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第2の一次閾値TH_D_1は上限抵抗閾値に対応し得る。上限抵抗閾値は、25メガオーム、20.5メガオーム、20.4メガオーム等の30メガオーム未満の値に設定され得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、デフォルト二次閾値TH_D_2は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、デフォルト三次閾値TH_D_3は上限抵抗閾値に対応し得る。
(P_1_1<TH_3_1)、
(P_2_1<TH_3_2)、及び
(P_3_1<TH_3_3)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_1_1は、第1のパラメータデータに基づく第1の一次パラメータであり、第1の電極対間の抵抗を示し、TH_3_1は、第3の一次閾値であり、P_2_1は、第2のパラメータデータに基づく第2の一次パラメータであり、第2の電極対間の抵抗を示し、TH_3_2は、第3の二次閾値であり、P_3_1は、第3のパラメータデータに基づく第3の一次パラメータであり、第3の電極対間の抵抗を示し、TH_3_3は、第3の三次閾値であり、第3の動作状態は、ベースプレートでの高度の半径方向漏出を示す。第3の閾値(TH_3_1、TH_3_2及びTH_3_3)は、例えば、ベースプレートの電極構成に応じて同じであるか又は異なり得る。第3の一次基準(P_1_1<TH_3_1)及び/又は第3の二次基準(P_2_1<TH_3_2)は、第3の基準セットから省かれ得る。ベースプレートでの高度の半径方向進出を示す第3の動作状態は、例えば時間期間、例えば次の20分以内に、例えばベースプレートの近位側での高確率の漏出を示し得る。第3の動作状態は、第1の電極対、第2の電極対、及び第3の電極対への水分の半径方向進行を示し得る。
D_1_2_1<Z
D_2_3_1<Z
の何れかを含み得、式中、Zは、水分進行を特徴付ける時間差定数であり(例えば3時間、例えば2時間)、時間差D_1_2_1は、P_1_1がTH_1_1を交差した時間T1とP_2_1がTH_1_2を交差した時間T2との間のものであり、時間差D_2_3_1は、P_2_1がTH_1_2を交差した時間T2とP_3_1がTH_1_3を交差した時間T3との間のものである。
(P_4_1<TH_4_4)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、P_4_1は、第4のパラメータデータに基づく第4の一次パラメータであり、第4の電極対間の抵抗を示し、TH_4_4は、第4の四次閾値であり、第4の動作状態は、オストミー装具からの高い漏出リスクを示す。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第4の四次閾値TH_4_4は上限抵抗閾値に対応し得る。
(P_4_1<TH_5_1)
(P_4_2<TH_5_2)
(P_4_3<TH_5_3)
(∇P_4_1<V)
(∇P_4_2<V)
(∇P_4_3<V)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_4_1は、第4のパラメータデータに基づく第4の一次パラメータであり、第4の電極対間の抵抗を示し、P_4_2は、第4のデータに基づく第4の二次パラメータであり、第4の電極と第5の電極との間の抵抗を示し、P_4_3は、第4のパラメータデータに基づく第4の三次パラメータであり、第5の電極対間の抵抗を示し、TH_5_1は第5の一次閾値であり、TH_5_2は第5の二次閾値であり、TH_5_3は第5の三次閾値であり、∇P_4_1はP_4_1の勾配であり、∇P_4_2はP_4_2の勾配であり、∇P_4_3はP_4_3の勾配であり、Vは勾配限度(例えば80%)である。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第5の一次閾値TH_5_1は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、TH_5_2は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、TH_5_3は上限抵抗閾値に対応し得る。上限抵抗閾値は、25メガオーム、20.5メガオーム、20.4メガオーム等の30メガオーム未満の値に設定され得る。第5の動作状態は、ストーマ開口部から全方向に均一に検出された水分を示す第4のパラメータデータにより検出された汗の存在を指し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、ベースプレートの第6の動作状態は、第4の電極対が、第1の接着層の近位面とユーザの皮膚との間で第4の半径方向距離において排出物等の流体を検出する状況に対応し、したがって、第6の状態ではオストミー装具からの急な漏出がある。
(P_4_1<TH_6_1)
(P_4_2<TH_6_2)
(P_4_3<TH_6_3)
(∇P_4_1>V)
(∇P_4_2>V)
(∇P_4_3>V)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_4_1は、第4のパラメータデータに基づく第4の一次パラメータであり、第4の電極対間の抵抗を示し、P_4_2は、第4のデータに基づく第4の二次パラメータであり、第4の電極と第5の電極との間の抵抗を示し、P_4_3は、第4のパラメータデータに基づく第4の三次パラメータであり、第5の電極対間の抵抗を示し、TH_6_1は第6の一次閾値であり、TH_6_2は第6の二次閾値であり、TH_6_3は第6の三次閾値であり、∇P_4_1はP_4_1の勾配であり、∇P_4_2はP_4_2の勾配であり、∇P_4_3はP_4_3の勾配であり、Vは勾配限度(例えば80%)である。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第5の一次閾値TH_5_1は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、TH_5_2は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、TH_5_3は上限抵抗閾値に対応し得る。上限抵抗閾値は、25メガオーム、20.5メガオーム、20.4メガオーム等の30メガオーム未満の値に設定され得る。第6の動作状態は、急な漏出、例えば、進行中の漏出を示す第4のパラメータデータにより検出された排出物の存在を指し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、時間Tが、5~60のマイナスであるXをベースプレートの配置から差し引いたもの未満であり、且つTにわたりP_1_1、P_2_1、P_3_1の何れかが平均で、上限抵抗閾値に対応するデフォルト閾値未満である場合、これは、第1の電極対、第2の電極対、及び第3の電極対の何れかが切断されている(例えば、ストーマ周囲に配置するためにベースプレートを準備する際、ユーザにより切断された)ことを示す。1つ又は複数の例示的な実施形態では、時間Tが、5~60のマイナスであるXをベースプレートの配置から差し引いたもの未満であり、且つTにわたりP_4_1、P_4_2、P_4_3の何れかが平均で、上限抵抗閾値に対応するデフォルト閾値未満である場合、これは、即時漏出、例えば近位側における排出物の存在を示す。
(P_1_1<TH_1_1)、
(P_2_1<TH_1_2)、及び
(P_3_1<TH_1_3)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_1_1は第1のパラメータデータに基づく第1の一次パラメータであり、TH_1_1は第1の一次閾値であり、P_2_1は第2のパラメータデータに基づく第2の一次パラメータである。TH_1_2は第1の二次閾値であり、P_3_1は第3のパラメータデータに基づく第3の一次パラメータであり、TH_1_3は第1の三次閾値である。第1の水分パターンタイプは、一次検知ゾーン及び/又は第1のゾーンにおける高漏出リスク(例えば、高深刻度及び/又は高切迫度)を示す第1の一次漏出状態を示し得る。第1の水分パターンタイプは、二次検知ゾーン及び/又は第2のゾーンにおける高漏出リスク(例えば、高深刻度及び/又は高切迫度の高深刻漏出)を示す第2の一次漏出状態を示し得る。第1の水分パターンタイプは、三次検知ゾーン及び/又は第3のゾーンにおける高漏出リスク(例えば、高深刻度及び/又は高切迫度の高深刻漏出)を示す第3の一次漏出状態を示し得る。ベースプレートにおける低度の半径方向漏出を示す第1の動作状態は、例えば、非警戒及び/又は正常な半径方向水分進行水分の半径方向進行に対応する第1の電極対への水分の半径方向進行(しかし、第2の電極対及び第3の電極対には進行しない)を示し得る。
(P_4_1>TH_4_4)
を含み得、式中、P_4_1は、第4のパラメータデータに基づく第4の一次パラメータであり、第4の電極対間の抵抗を示し、TH_4_4は第4の四次閾値であり、第1の動作状態は、オストミー装具のベースプレートの第1の接着層の近位側での流体の不在を示す。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第4の四次閾値TH_4_4は、上限抵抗閾値に対応し得る。上限抵抗閾値は、25メガオーム、20.5メガオーム、20.4メガオーム等の30メガオーム未満の値に設定され得る。
(P_1_1<TH_1_1)
式中、P_1_1は第1のパラメータデータに基づく第1の一次パラメータであり、TH_1_1は第1の一次閾値である。第1の一次閾値TH_1_1が下限抵抗閾値に対応する場合。1つ又は複数の例示的な実施形態では、下限抵抗閾値は、100キロオーム、80キロオーム、79キロオーム等の1メガオーム未満の値に設定され得る。これは、検出された水分による第1の電極対の飽和を示し、第1の一次パラメータにより予期されるそれ以上の変化はない。水分は進行を続ける可能性が高い。
(P_2_1<TH_1_2)
式中、P_2_1は第2のパラメータデータに基づく第2の一次パラメータであり、TH_1_2は第1の二次閾値である。第1の二次閾値TH_1_2が下限抵抗閾値に対応する場合。1つ又は複数の例示的な実施形態では、下限抵抗閾値は、100キロオーム、80キロオーム、79キロオーム等の1メガオーム未満の値に設定され得る。これは、検出された水分による第2の電極対の飽和を示し、第2の一次パラメータにより予期されるそれ以上の変化はない。水分は進行を続ける可能性が高い。
(P_3_1>TH_1_3)
式中、P_3_1は第3のパラメータデータに基づく第3の一次パラメータであり、TH_1_3は第1の三次閾値である。第1の三次閾値TH_1_3が下限抵抗閾値に対応する場合。1つ又は複数の例示的な実施形態では、下限抵抗閾値は、100キロオーム、80キロオーム、79キロオーム等の1メガオーム未満の値に設定され得る。これは、検出された水分による第3の電極対の飽和を示し、第3の一次パラメータにより予期されるそれ以上の変化はない。水分は進行を続ける可能性が高い。
D_1_2_1>Z
D_2_3_1>Z
の何れかを含み得、式中、Zは、水分進行を特徴付ける時間差定数である(例えば3時間、例えば2時間)。
(P_1_1>TH_2_1)、
(P_2_1>TH_2_2)、及び
(P_3_1>TH_2_3)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_1_1は第1のパラメータデータに基づく第1の一次パラメータであり、TH_2_1は第2の一次閾値であり、P_2_1は第2のパラメータデータに基づく第2の一次パラメータであり、TH_2_2は第2の二次閾値であり、P_3_1は第3のパラメータデータに基づく第3の一次パラメータであり、TH_2_3は第2の三次閾値である。第2の水分パターンタイプは、一次検知ゾーン及び/又は第1のゾーンにおける低漏出リスク(例えば、低深刻度及び/又は低切迫度)を示す第1の二次漏出状態を示し得る。第2の水分パターンタイプは、二次検知ゾーン及び/又は第2のゾーンにおける低漏出リスク(例えば、低深刻度及び/又は低切迫度の高深刻漏出)を示す第2の二次漏出状態を示し得る。第2の水分パターンタイプは、三次検知ゾーン及び/又は第3のゾーンにおける低漏出リスク(例えば、低深刻度及び/又は低切迫度の高深刻漏出)を示す第3の二次漏出状態を示し得る。第2の基準は、第2の基準が満たされた場合、漏出基準が満たされる漏出基準に含まれ得る。ベースプレートでの中度の半径方向浸食を示す第2の動作状態は、第1の電極対及び第2の電極対への水分の半径方向進行を示し得る(第3の電極対には進行していない)。ベースプレートでの中度の半径方向浸食を示す第2の動作状態は、第1の電極対及び第2の電極対への水分の半径方向進行を示し得る。
(P_1_1>TH_D_1)、
(P_2_1>TH_D_2)、及び
(P_3_1>TH_D_3)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_1_1は第1のパラメータデータに基づく第1の一次パラメータであり、第1の電極対間の抵抗を示し、TH_D_1はデフォルト一次閾値であり、P_2_1は第2のパラメータデータに基づく第2の一次パラメータであり、第2の電極対間の抵抗を示し、TH_D_2はデフォルト二次閾値であり、P_3_1は第3のパラメータデータに基づく第3の一次パラメータであり、第3の電極対間の抵抗を示し、TH_D_3はデフォルト三次閾値であり、デフォルト動作状態は、ベースプレートにおける半径方向浸食の低度が非常に低いか、又はないことを示す。デフォルト閾値(TH_D_1、TH_D_2、及びTH_D_3)は、例えば、ベースプレートの電極構成に応じて同じであってもよく、又は異なってもよい。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第1のパラメータデータ、第2のパラメータデータ、及び第3のパラメータデータがそれぞれ、第1の電極対間、第2の電極対間、及び第3の電極対間の抵抗を示す場合、デフォルト閾値(TH_D_1、TH_D_2、及びTH_D_3)はデフォルト抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第2の一次閾値TH_D_1は上限抵抗閾値に対応し得る。上限抵抗閾値は、25メガオーム、20.5メガオーム、20.4メガオーム等の30メガオーム未満の値に設定され得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、デフォルト二次閾値TH_D_2は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、デフォルト三次閾値TH_D_3は上限抵抗閾値に対応し得る。
(P_1_1>TH_3_1)、
(P_2_1>TH_3_2)、及び
(P_3_1>TH_3_3)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、式中、P_1_1は、第1のパラメータデータに基づく、任意選択的に第1のセンサの各電極間の抵抗を示す、第1の一次パラメータであり、TH_3_1は第3の一次閾値であり、P_2_1は、第2のパラメータデータに基づく、任意選択的に第2のセンサの各電極間の抵抗を示す、第2の一次パラメータであり、TH_3_2は第3の二次閾値であり、P_3_1は、第3のパラメータデータに基づく、任意選択的に第3のセンサの各電極間の抵抗を示す、第3の一次パラメータであり、TH_3_3は第3の三次閾値である。第3の水分パターンタイプは、一次検知ゾーン及び/又は第1のゾーンにおける非常に低い漏出リスク(例えば、非常に低い深刻度及び/又は非常に低い切迫度の深刻漏出)を示す第1の三次漏出状態を示し得る。第3の水分パターンタイプは、三次検知ゾーン及び/又は第3のゾーンにおける非常に低い漏出リスク(例えば、非常に低い深刻度及び/又は非常に低い切迫度の深刻漏出)を示す第2の三次漏出状態を示す。第3の水分パターンタイプは、三次検知ゾーン及び/又は第3のゾーンにおける非常に低い漏出リスク(例えば、非常に低い深刻度及び/又は非常に低い切迫度の深刻漏出)を示す第3の三次漏出状態を示す。第3の基準は漏出基準に含まれ得、第3の基準が満たされる場合、漏出基準は満たされる。ベースプレートにおける高度の半径方向浸食を示す第3の動作状態は、例えば時間期間、例えば次の20分以内に、例えばベースプレートの近位側での高確率の漏出を示し得る。第3の動作状態は、第1の電極対、第2の電極対、及び第3の電極対への水分の半径方向進行を示し得る。
D_1_2_1<Z
D_2_3_1<Z
の何れかを含み得、式中、Zは、水分進行を特徴付ける時間差定数であり(例えば3時間、例えば2時間)、時間差D_1_2_1は、P_1_1がTH_1_1を交差した時間T1とP_2_1がTH_1_2を交差した時間T2との間のものであり、時間差D_2_3_1は、P_2_1がTH_1_2を交差した時間T2とP_3_1がTH_1_3を交差した時間T3との間のものである。
(P_4_1<TH_4_4)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_4_1は、第4のパラメータデータに基づく第4の一次パラメータであり、第4の電極対間の抵抗を示し、TH_4_4は第4の四次閾値であり、第4の動作状態はオストミー装具からの高漏出リスクを示す。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第4の四次閾値TH_4_4は上限抵抗閾値に対応し得る。
(P_4_1<TH_5_1)
(P_4_2<TH_5_2)
(P_4_3<TH_5_3)
(∇P_4_1<V)
(∇P_4_2<V)及び
(∇P_4_3<V)
により与えられ得るか、又は少なくとも含み得、式中、P_4_1は、第4のパラメータデータに基づく第4の一次パラメータであり、第4の電極対間の抵抗を示し、P_4_2は、第4の電極と第5の電極との間の抵抗を示す第4の二次閾値であり、P_4_3は、第4のパラメータデータに基づく第4の三次パラメータであり、第5の電極対間の抵抗を示し、TH_5_1は第5の一次閾値であり、TH_5_2は第5の二次閾値であり、TH_5_3は第5の三次閾値であり、∇P_4_1はP_4_1の勾配であり、∇P_4_2はP_4_2の勾配であり、∇P_4_3はP_4_3の勾配であり、Vは勾配限度(例えば80%)である。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第5の一次閾値TH_5_1は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、TH_5_2は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、TH_5_3は上限抵抗閾値に対応し得る。上限抵抗閾値は、25メガオーム、20.5メガオーム、20.4メガオーム等の30メガオーム未満の値に設定され得る。第5の動作状態は、ストーマ開口部から方向に均一に検出された水分を示す第4のパラメータデータにより検出された汗の存在を指し得る。
(P_4_1<TH_6_1)及び
(∇P_4_1>V)
を含み得る。
(P_4_2<TH_6_2)及び
(∇P_4_2>V)
を含み得る。
(P_4_3<TH_6_3)及び
(∇P_4_3>V)
を含み得、式中、P_4_1は、第4のパラメータデータに基づく第4の一次パラメータであり、第4の電極対間の抵抗を示し、P_4_2は、第4の電極と第5の電極との間の抵抗を示す第4の二次パラメータであり、P_4_3は、第5の電極対(第5の電極及び接地電極)間の抵抗を示す第4の三次パラメータであり、TH_6_1は第6の一次閾値であり、TH_6_2は第6の二次閾値であり、TH_6_3は第6の三次閾値であり、∇P_4_1はP_4_1の勾配であり、∇P_4_2はP_4_2の勾配であり、∇P_4_3はP_4_3の勾配であり、Vは勾配限度(例えば80%)である。1つ又は複数の例示的な実施形態では、第6の一次閾値TH_6_1は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、TH_6_2は上限抵抗閾値に対応し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、TH_6_3は上限抵抗閾値に対応し得る。上限抵抗閾値は、25メガオーム、20.5メガオーム、20.4メガオーム等の30メガオーム未満の値に設定され得る。第6の動作状態は、急な漏出、例えば、進行中の漏出を示す第4のパラメータデータにより検出された排出物の存在を指し得る。1つ又は複数の例示的な実施形態では、時間Tが、5~60のマイナスであるXをベースプレートの配置から差し引いたもの未満であり、且つTにわたりP_1_1、P_2_1、P_3_1の何れかが、平均で、上限抵抗閾値に対応するデフォルト閾値未満である場合、これは、第1の電極対、第2の電極対、及び第3の電極対の何れかが切断されている(例えば、ストーマ周囲に配置するためにベースプレートを準備する際、ユーザにより切断された)ことを示す。1つ又は複数の例示的な実施形態では、時間Tが、5~60のマイナスであるXをベースプレートの配置から差し引いたもの未満であり、且つTにわたりP_4_1、P_4_2、P_4_3の何れかが平均で、上限抵抗閾値に対応するデフォルト閾値未満である場合、これは、即時漏出、例えば近位側における排出物の存在を示す。
本開示は更に以下の態様を含んでいる:
《態様1》
ユーザの皮膚表面に配置されるように構成されたベースプレートを含むオストミー装具の漏出状態を通信する、付属デバイスにおいて実行される方法であって、前記ベースプレートは複数の電極を含み、前記付属デバイスは、前記オストミー装具を含むオストミーシステムの1つ又は複数のモニタデバイスと通信するように構成されたインターフェースを含み、前記方法は、
- 前記モニタデバイスからモニタデータを取得することであって、前記モニタデータは、前記モニタデバイスにより前記ベースプレートの前記複数の電極から取得されたオストミーデータを含み、前記モニタデータは、前記皮膚表面に向かう前記ベースプレートの第1の接着層の近位側における流体の存在を示す、取得することと、
- 前記モニタデータに基づいて前記ベースプレートの動的内部状態を示す漏出状態を判断することと、
- 前記インターフェースを介して前記ベースプレートの前記漏出状態を通信することと、
を含む、方法。
《態様2》
前記漏出状態が、漏出リスクを示す漏出基準を満たすか否かを判断することと、前記漏出状態が前記漏出基準を満たす場合、前記漏出状態を通信するステップを実行することとを含む、態様1に記載の方法。
《態様3》
前記オストミー装具は、オストミーパウチと、前記第1の近位側を有する前記第1の接着層を含むベースプレートとを含み、前記モニタデータを取得することは、前記ベースプレートからモニタデータを取得することを含み、前記モニタデータは、前記ベースプレートの前記第1の接着層の前記近位側における流体の存在を示す、態様1又は2に記載の方法。
《態様4》
前記ベースプレートは、一次検知ゾーン及び二次検知ゾーンの前記近位側における流体の存在を検出するように構成された複数の電極を含み、前記複数の電極は、第1の漏出電極、第2の漏出電極、及び第3の漏出電極を含み、モニタデータを取得することは、前記一次検知ゾーン及び前記二次検知ゾーンの前記近位側における流体の存在を表すデータを取得することを含む、態様3に記載の方法。
《態様5》
前記モニタデータはオストミーデータ及び/又はパラメータデータを含む、態様1~4の何れか一つに記載の方法。
《態様6》
前記オストミーデータ及び/又は前記パラメータデータは、前記複数の電極の任意の2つ間の抵抗、前記複数の電極の任意の2つ間のキャパシタンス及び/又はインダクタンス及び/又はそれらの任意の変化を示す、態様5に記載の方法。
《態様7》
前記モニタデータを取得することは、前記ベースプレートの前記第1の接着層の前記近位側における場所及び/又はゾーンに関する局所モニタデータ及び/又は時間情報データを取得することを含み、前記漏出状態を判断することは、漏出場所及び/又は漏出時間情報を判断することを含む、態様5又は6に記載の方法。
《態様8》
前記モニタデータに基づいて前記オストミー装具の前記漏出状態を判断することは、前記モニタデータに基づいて1つ又は複数の水分パターンタイプを判断することを含む、態様1~7の何れか一つに記載の方法。
《態様9》
前記モニタデータに基づいて1つ又は複数の水分パターンタイプを判断することは、パラメータデータに基づいて水分パターンタイプを識別することを含む、態様8に記載の方法。
《態様10》
前記漏出基準は、排出物の漏出が前記1つ又は複数の水分パターンタイプに基づいて前記近位側において識別される場合、満たされる、態様2、8又は9に従属する態様1~9の何れか一つに記載の方法。
《態様11》
前記モニタデータに基づいて前記オストミー装具の前記漏出状態を判断することは、前記1つ又は複数の水分パターンタイプに基づいて前記漏出状態を導出することを含む、態様8~10の何れか一つに記載の方法。
《態様12》
前記インターフェースは、オーディオインターフェース、視覚的インターフェース、及び/又は送受信機モジュールを含む、態様1~11の何れか一つに記載の方法。
《態様13》
前記オストミー装具の前記漏出状態を通信することは、前記付属デバイスの視覚的インターフェースに、前記漏出状態を表すユーザインターフェースオブジェクトを含むユーザインターフェースを表示することを含む、態様1~12の何れか一つに記載の方法。
《態様14》
前記漏出状態を表す前記ユーザインターフェースオブジェクトは、第1のユーザインターフェースオブジェクト及び第2のユーザインターフェースオブジェクトの1つ又は複数を含み、前記第1のユーザインターフェースオブジェクト及び/又は前記第2のユーザインターフェースオブジェクトは、第1の漏出状態及び第2の漏出状態の1つ又は複数を示す、態様13に従属する態様1~12の何れか一つに記載の方法。
《態様15》
前記オストミー装具の前記漏出状態を通信することは、前記インターフェースを介して前記ユーザに通知することを含む、態様1~14の何れか一つに記載の方法。
《態様16》
前記オストミーシステムはサーバデバイスを含み、前記オストミー装具の前記漏出状態を通信することは、前記オストミー装具の前記漏出状態を前記サーバデバイスに通信することを含む、態様1~15の何れか一つに記載の方法。
《態様17》
ユーザの皮膚表面に配置されるように構成されたベースプレートを含むオストミー装具を含むオストミーシステムの一部を形成する付属デバイスであって、
メモリと、
前記メモリに結合されるプロセッサと、
前記プロセッサに結合され、前記オストミーシステムのモニタデバイスと通信するように構成されたインターフェースと、
を含み、
前記インターフェースは、前記モニタデバイスからモニタデータを取得するように構成され、前記モニタデータは、前記モニタデバイスにより前記ベースプレートの複数の電極から得られたオストミーデータを含み、前記モニタデータは、前記皮膚表面に向かう前記ベースプレートの第1の接着層の近位側における流体の存在を示し、
前記プロセッサは、前記モニタデータに基づいて前記ベースプレートの動的内部状態を示す漏出状態を判断するように構成され、
前記メモリは、前記モニタデータ及び/又は前記漏出状態を記憶するように構成され、
前記インターフェースは、前記ベースプレートの前記漏出状態を前記ユーザに通信するように構成される、付属デバイス。
《態様18》
オストミー装具、付属デバイス、及びモニタデバイスを含むオストミー装具システムであって、前記オストミー装具はベースプレートを含み、前記付属デバイスは、態様1~16の何れか一つに記載の方法の何れかを実行するように構成される、オストミー装具システム。
《態様19》
1つ又は複数のプログラムを記憶するコンピュータ可読記憶媒体であって、前記1つ又は複数のプログラムは、インターフェース、メモリ、及びプロセッサを有する付属デバイスにより実行されると、前記付属デバイスに態様1~16の何れか一つに記載の方法の何れかを実行させる命令を含む、コンピュータ可読記憶媒体。
2 オストミー装具
4 ベースプレート
6 モニタデバイス
8 付属デバイス
10 センサデバイス
12 ネットワーク
14 結合部材
16 結合リング
18、18A、18B、18C、18D ストーマ受け開口部
19 開口部中心
20 ドッキングステーション
22 第1のコネクタ
24 ドッキングステーションユーザインターフェース
100 モニタデバイス筐体
101 プロセッサ
102 第1のインターフェース
104 第2のインターフェース
106 メモリ
108 モニタデバイスの接地端子
110 モニタデバイスの第1の端子
112 モニタデバイスの第2の端子
114 モニタデバイスの第3の端子
116 モニタデバイスの第4の端子
118 モニタデバイスの第5の端子
120 結合部
121 電力ユニット
122 アンテナ
124 無線送受信機
126 ラウドスピーカ
128 触覚フィードバック要素
140 センサユニット
200 第1の接着層
200A 第1の接着層の遠位面
200B 第1の接着層の近位面
202 第2の接着層
202A 第2の接着層の遠位面
202B 第2の接着層の近位面
204 電極組立体
204A 電極組立体の遠位面
204B 電極組立体の近位面
206 剥離ライナー
206A 剥離ライナーの遠位面
206B 剥離ライナーの近位面
208 上層
208A 上層の遠位面
208B 上層の近位面
209 結合リング
210 第1のコネクタの結合部
211 第1のコネクタ
212 第1のコネクタの端子
213 第1の中間要素
213A 第1の中間要素の遠位面
213B 第1の中間要素の近位面
214 電極組立体の支持層
214A 支持層の遠位面
214B 支持層の近位面
216 電極組立体の電極
218 マスキング要素
218A マスキング要素の遠位面
218B マスキング要素の近位面
220 電極構成
222 接地電極
222A 接地接続部
222B 接地検知部
224 第1の電極
224A 第1の接続部
226 第2の電極
226A 第2の接続部
228 第3の電極
228A 第3の接続部
230 第4の電極
230A 第4の接続部
230B 第4の検知部
232 第5の電極
232A 第5の接続部
232B 第5の検知部
234 接地電極の第1の電極部
236 接地電極の第2の電極部
238 接地電極の第3の電極部
240 接地電極の第4の電極部
242 接地端子開口部
244 第1の端子開口部
246 第2の端子開口部
248 第3の端子開口部
250 第4の端子開口部
252 第5の端子開口部
254 マスキング要素の一次センサ点開口部
254A 第1の一次センサ点開口部
254B 第2の一次センサ点開口部
256 マスキング要素の二次センサ点開口部
256A 第1の二次センサ点開口部
256B 第2の二次センサ点開口部
258 マスキング要素の三次センサ点開口部
258A 第1の三次センサ点開口部
258B 第2の三次センサ点開口部
260 第1の接着層の一次センサ点開口部
260A 第1の一次センサ点開口部
260B 第2の一次センサ点開口部
262 第1の接着層の二次センサ点開口部
262A 第1の二次センサ点開口部
262B 第2の二次センサ点開口部
264 第1の接着層の三次センサ点開口部
264A 第1の三次センサ点開口部
264B 第2の三次センサ点開口部
282 接地端子要素
282A 接地端子
284 第1の端子要素
284A 第1の端子
286 第2の端子要素
286A 第2の端子
288 第3の端子要素
288A 第3の端子
290 第4の端子要素
290A 第4の端子
292 第5の端子要素
292A 第5の端子
300 オストミー装具の漏出状態を通信する方法
301 1つ又は複数のデバイスからモニタデータを取得
301a ベースプレートの第1の接着層の近位側における流体の存在を示すモニタデータを取得
301b 一次検知ゾーン及び二次検知ゾーンの近位側における流体の検出を表すデータを取得
301c 局所モニタデータを取得
302 モニタデータに基づいてオストミー装具の漏出状態を判断
302a 漏出場所及び/又は漏出時間情報を特定
302b モニタデータに基づいて1つ又は複数の水分パターンタイプを判断
302bb パラメータデータに基づいて水分パターンタイプを識別
302c 1つ又は複数の水分パターンタイプに基づいて漏出状態を導出
303 インターフェースを介してオストミー装具の漏出状態を通信
303a 付属デバイスの視覚的インターフェースに、漏出状態を表すユーザインターフェースオブジェクトを含むユーザインターフェースを表示
303b インターフェースを介してユーザに通知
303c オストミー装具の漏出状態をサーバデバイスに通信
401 付属デバイスメモリ
402 付属デバイスプロセッサ
403 付属デバイスインターフェース
500 ユーザインターフェース
502 第1のリング
502a 第1の一次リング部
502b 第1の二次リング部
502c 第1の三次リング部
504 第2のリング
504a 第2の二次リング部
504b 第2の二次リング部
504c 第2の三次リング部
506 第3のリング
506a 第3の一次リング部
506b 第3の二次リング部
506c 第3の三次リング部
508 中心円
510 テキストプロンプト
512 第1の角度デリミッタ
514第2の角度デリミッタ
516 第3の角度デリミッタ
522 第1の円
524 第2の円
526 第3の円
1000 上限電圧閾値を表す曲線
1002 中間電圧閾値を表す曲線
1004 下限電圧閾値を表す曲線
1006 勾配限度を表す曲線
1100 時間の関数として、ベースプレートの第1の電極対により測定された電圧を示す第1のパラメータデータを示す曲線
1102 時間の関数として、ベースプレートの第2の電極対により測定された電圧を示す第2のパラメータデータを示す曲線
1104 時間の関数として、ベースプレートの第3の電極対により測定された電圧を示す第3のパラメータデータを示す曲線
1108 時間の関数として、ベースプレートの第4の電極対により測定された電圧を示す第4の一次パラメータを示す曲線
1110 時間の関数として、電圧勾配を示す第4の一次パラメータの勾配を示す曲線
1112 時間の関数として、電圧勾配を示す第4の二次パラメータの勾配を示す曲線
1114 時間の関数として、電圧勾配を示す第4の三次パラメータの勾配を示す曲線
1116 時間の関数として、測定された電圧を示す第4の二次パラメータを示す曲線
1118 時間の関数として、測定された電圧を示す第4の三次パラメータを示す曲線
1200 時間の関数として、ベースプレートの第3の電極対により測定された電圧を示す第3のパラメータデータを示す曲線
1202 時間の関数として、ベースプレートの第1の電極対により測定された電圧を示す第1のパラメータデータを示す曲線
1204 時間の関数として、ベースプレートの第2の電極対により測定された電圧を示す第2のパラメータデータを示す曲線
1206 時間の関数として、ベースプレートの第4の電極対により測定された電圧を示す第4の一次パラメータを示す曲線
1208 時間の関数として、測定された電圧を示す第4の二次パラメータを示す曲線
1210 時間の関数として、測定された電圧を示す第4の三次パラメータを示す曲線
1212 時間の関数として、ベースプレートの第4の電極対により測定された電圧勾配を示す第4の一次パラメータの勾配を示す曲線
1214 時間の関数として、測定された電圧勾配を示す第4の二次パラメータデータの勾配を示す曲線
1216 時間の関数として、測定された電圧勾配を示す第4の三次パラメータの勾配を示す曲線
1300 時間の関数として、ベースプレートの第1の電極対により測定された電圧を示す第1のパラメータデータを示す曲線
1302 時間の関数として、ベースプレートの第2の電極対により測定された電圧を示す第2のパラメータデータを示す曲線
1304 時間の関数として、ベースプレートの第3の電極対により測定された電圧を示す第3のパラメータデータを示す曲線
1306 時間の関数として、ベースプレートの第4の電極対により測定された電圧を示す第4の一次パラメータデータを示す曲線
1308 時間の関数として、測定された電圧を示す第4の二次パラメータを示す曲線
1310 時間の関数として、測定された電圧を示す第4の三次パラメータを示す曲線
1312 時間の関数として、ベースプレートの第4の電極対により測定された電圧勾配を示す第4の一次パラメータの勾配を示す曲線
1314 時間の関数として、測定された電圧勾配を示す第4の二次パラメータの勾配を示す曲線
1316 時間の関数として、測定された電圧勾配を示す第4の三次パラメータの勾配を示す曲線
1502 時間の関数として、ベースプレートの第1の電極対により測定された電圧を示す第1のパラメータデータを示す曲線
1504 時間の関数として、ベースプレートの第2の電極対により測定された電圧を示す第2のパラメータデータを示す曲線
1506 時間の関数として白色リングの直径を示す曲線
1602 引剥距離の関数としての乾燥接着状態の第1の接着層に付与される引剥力を示す曲線
1604 湿潤接着状態の第1の接着層に対して引剥力を働かせる引剥動作により移動する引剥距離の関数としての、第1の接着層に付与される引剥力
1606 部分的に湿潤した第1の接着層に対して引剥力を働かせる引剥動作により移動する引剥距離の関数としての、第1の接着層に付与される引剥力
1608 乾燥接着状態の第1の接着層1608の長さ
1610 乾燥接着状態の第1の部分及び湿潤接着状態の第2の部分を含む第1の接着層
1610A 乾燥接着状態の第1の部分
1610B 湿潤接着状態の第2の部分
Claims (16)
- ユーザの皮膚表面に配置されるように構成されたベースプレートを含むオストミー装具の漏出状態を通信する、付属デバイスにおいて実行される方法であって、前記ベースプレートは複数の電極を含み、前記付属デバイスは、前記オストミー装具を含むオストミーシステムの1つ又は複数のモニタデバイスと通信するように構成されたインターフェースを含み、前記方法は、
- 前記モニタデバイスからモニタデータを取得することであって、前記モニタデータは、前記モニタデバイスにより前記ベースプレートの前記複数の電極から取得されたオストミーデータを含み、前記モニタデータは、前記皮膚表面に向かう前記ベースプレートの第1の接着層の近位側における流体の存在を示す、取得することと、
- 前記モニタデータに基づいて前記ベースプレートの動的内部状態を示す漏出状態を判断することと、
- 前記インターフェースを介して前記ベースプレートの前記漏出状態を通信することと、
を含んでおり、
前記オストミー装具は、オストミーパウチと、前記近位側を有する前記第1の接着層を含むベースプレートとを含み、前記モニタデータを取得することは、前記ベースプレートからモニタデータを取得することを含み、前記モニタデータは、前記ベースプレートの前記第1の接着層の前記近位側における流体の存在を示し、
前記ベースプレートは、一次検知ゾーン及び二次検知ゾーンの前記近位側における流体の存在を検出するように構成された複数の電極を含み、前記複数の電極は、第1の漏出電極、第2の漏出電極、及び第3の漏出電極を含み、モニタデータを取得することは、前記一次検知ゾーン及び前記二次検知ゾーンの前記近位側における流体の存在を表すデータを取得することを含む、
方法。 - 前記漏出状態が、漏出リスクを示す漏出基準を満たすか否かを判断することと、前記漏出状態が前記漏出基準を満たす場合、前記漏出状態を通信するステップを実行することとを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記モニタデータはオストミーデータ及び/又はパラメータデータを含む、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記オストミーデータ及び/又は前記パラメータデータは、前記複数の電極の任意の2つ間の抵抗、前記複数の電極の任意の2つ間のキャパシタンス及び/又はインダクタンス及び/又はそれらの任意の変化を示す、請求項3に記載の方法。
- 前記モニタデータを取得することは、前記ベースプレートの前記第1の接着層の前記近位側における場所及び/又はゾーンに関する局所モニタデータ及び/又は時間情報データを取得することを含み、前記漏出状態を判断することは、漏出場所及び/又は漏出時間情報を判断することを含む、請求項3又は4に記載の方法。
- 前記モニタデータに基づいて前記オストミー装具の前記漏出状態を判断することは、前記モニタデータに基づいて1つ又は複数の水分パターンタイプを判断することを含む、請求項1~5の何れか一項に記載の方法。
- 前記モニタデータに基づいて1つ又は複数の水分パターンタイプを判断することは、パラメータデータに基づいて水分パターンタイプを識別することを含む、請求項6に記載の方法。
- 前記漏出基準は、排出物の漏出が前記1つ又は複数の水分パターンタイプに基づいて前記近位側において識別される場合、満たされる、請求項2、6又は7に従属する請求項1~7の何れか一項に記載の方法。
- 前記モニタデータに基づいて前記オストミー装具の前記漏出状態を判断することは、前記1つ又は複数の水分パターンタイプに基づいて前記漏出状態を導出することを含む、請求項6~8の何れか一項に記載の方法。
- 前記インターフェースは、オーディオインターフェース、視覚的インターフェース、及び/又は送受信機モジュールを含む、請求項1~9の何れか一項に記載の方法。
- 前記オストミー装具の前記漏出状態を通信することは、前記付属デバイスの視覚的インターフェースに、前記漏出状態を表すユーザインターフェースオブジェクトを含むユーザインターフェースを表示することを含む、請求項1~10の何れか一項に記載の方法。
- 前記漏出状態を表す前記ユーザインターフェースオブジェクトは、第1のユーザインターフェースオブジェクト及び第2のユーザインターフェースオブジェクトの1つ又は複数を含み、前記第1のユーザインターフェースオブジェクト及び/又は前記第2のユーザインターフェースオブジェクトは、第1の漏出状態及び第2の漏出状態の1つ又は複数を示す、請求項11に従属する請求項1~10の何れか一項に記載の方法。
- 前記オストミー装具の前記漏出状態を通信することは、前記インターフェースを介して前記ユーザに通知することを含む、請求項1~12の何れか一項に記載の方法。
- 前記オストミーシステムはサーバデバイスを含み、前記オストミー装具の前記漏出状態を通信することは、前記オストミー装具の前記漏出状態を前記サーバデバイスに通信することを含む、請求項1~13の何れか一項に記載の方法。
- オストミー装具、付属デバイス、及びモニタデバイスを含むオストミー装具システムであって、前記オストミー装具はベースプレートを含み、前記付属デバイスは、請求項1~14の何れか一項に記載の方法の何れかを実行するように構成される、オストミー装具システム。
- 1つ又は複数のプログラムを記憶するコンピュータ可読記憶媒体であって、前記1つ又は複数のプログラムは、インターフェース、メモリ、及びプロセッサを有する付属デバイスにより実行されると、前記付属デバイスに請求項1~14の何れか一項に記載の方法の何れかを実行させる命令を含む、コンピュータ可読記憶媒体。
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