JP7289669B2 - Carboxylate, carboxylic acid generator, resist composition and method for producing resist pattern - Google Patents

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JP7289669B2 JP2019023871A JP2019023871A JP7289669B2 JP 7289669 B2 JP7289669 B2 JP 7289669B2 JP 2019023871 A JP2019023871 A JP 2019023871A JP 2019023871 A JP2019023871 A JP 2019023871A JP 7289669 B2 JP7289669 B2 JP 7289669B2
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Description

本発明は、塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法に関する。 The present invention relates to a salt, an acid generator, a resist composition, and a method for producing a resist pattern.

特許文献１には、下記式で表されるカルボン酸塩をカルボン酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。

Figure 0007289669000001
特許文献２には、下記式で表されるカルボン酸塩をカルボン酸発生剤として含有するレジスト組成物が記載されている。
Figure 0007289669000002
Patent Document 1 describes a resist composition containing a carboxylate represented by the following formula as a carboxylic acid generator.
Figure 0007289669000001
Patent Document 2 describes a resist composition containing a carboxylic acid salt represented by the following formula as a carboxylic acid generator.
Figure 0007289669000002

特開２０１１－３９５０２号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-39502 特開２０１４－８８３６７号公報JP 2014-88367 A

本発明は、上記のカルボン酸塩を含むレジスト組成物から形成されたレジストパターンよりも、優れたＣＤ均一性（ＣＤＵ）でレジストパターンを製造できるカルボン酸塩を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a carboxylate that can produce a resist pattern with better CD uniformity (CDU) than a resist pattern formed from a resist composition containing the above carboxylate.

本発明は、以下の発明を含む。
［１］式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩。

Figure 0007289669000003
［式（Ｉ）中、
Ｘ０は、置換基を有してもよい炭素数１～７２の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。ただし、前記炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。
Ｚ＋は、有機カチオンを表す。］
Figure 0007289669000004
［式（ＩＡ）中、
ＲＡは、炭素数１～１２の飽和炭化水素基を表す。
ｕ１は、０～２のいずれかの整数を表し、ｕ１が２である場合、複数のＲ２は同一であるか、相異なる。
ｓ１は、１又は２を表す。
ｔ１は、０又は１を表す。但し、ｓ１とｔ１との和は、１又は２である。
＊は、結合部位を表す。］
［２］Ｘ０が、置換基を有してもよい炭素数１～７２の脂肪族炭化水素基（但し、該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。）である［１］に記載のカルボン酸塩。
［３］Ｘ０が、脂環式炭化水素基と鎖式脂肪族炭化水素基とを組み合わせた基（該脂環式炭化水素基及び該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。）である［１］又は［２］記載のカルボン酸塩。
［４］Ｘ０が、多環式の脂環式炭化水素基とアルキル基とを組み合わせた基（該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。）又は式（ａａ）で表される基である［１］～［３］のいずれかに記載のカルボン酸塩。
Figure 0007289669000005
［式（ａａ）中、
Ｘa及びＸbは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。
Ｘ１は、置換基を有してもよい炭素数１～２４の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ｘ２は、置換基を有してもよい炭素数４～４８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。ただし、前記炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。
＊は、カルボニル基の炭素原子への結合部位を表す。］
［５］Ｘ１が、炭素数１～６のアルカントリイル基、式（ｗ１－１）で表される基、式（ｗ１－２）で表される基、式（ｗ１－３）で表される基又は式（ｗ１－６）で表される基である［４］に記載のカルボン酸塩。
Figure 0007289669000006
［式（ｗ１－１）、式（ｗ１－２）、式（ｗ１－３）及び式（ｗ１－６）中、
環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１０の芳香族炭化水素基で置換されていてもよい。］
［６］Ｘ２が、式（Ｘ２－１）で表される基、式（Ｘ２－２）で表される基、式（Ｘ２－３）で表される基又は式（Ｘ２－４）で表される基である［４］又は［５］に記載のカルボン酸塩。
Figure 0007289669000007
［式中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基、炭素数５～１２の脂環式炭化水素基又はこれらの基を組み合わせた基を表し、該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。Ｒ1、Ｒ2及び又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5及び又はＲ6に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。
＊は、Ｘa及びＸbとの結合部位を表す。］
［７］［１］～［６］のいずれかに記載のカルボン酸塩を含有するカルボン酸発生剤。
［８］［７］に記載のカルボン酸発生剤、該カルボン酸発生剤以外の酸発生剤及び酸不安定基を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。
［９］（１）［８］に記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含むレジストパターンの製造方法。 The present invention includes the following inventions.
[1] A carboxylate represented by formula (I).
Figure 0007289669000003
[in the formula (I),
X 0 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 72 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is —O—, —S—, —CO— or — SO 2 - may be substituted. However, at least one hydrogen atom contained in the hydrocarbon group is substituted with a group represented by formula (IA).
Z + represents an organic cation. ]
Figure 0007289669000004
[In the formula (IA),
R A represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
u1 represents an integer of 0 to 2, and when u1 is 2, a plurality of R2 's are the same or different.
s1 represents 1 or 2;
t1 represents 0 or 1; However, the sum of s1 and t1 is 1 or 2.
* represents the binding site. ]
[2] X 0 is an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 72 carbon atoms (with the proviso that —CH 2 — contained in the aliphatic hydrocarbon group is —O—, —S -, -CO- or -SO 2 -, and at least one hydrogen atom contained in the aliphatic hydrocarbon group is substituted with a group represented by formula (IA).) The carboxylate according to [1].
[3] X 0 is a group in which an alicyclic hydrocarbon group and a chain aliphatic hydrocarbon group are combined (-CH 2 - contained in the alicyclic hydrocarbon group and the chain aliphatic hydrocarbon group; may be substituted with -O- or -CO-, and at least one of the hydrogen atoms contained in the alkyl group is substituted with a group represented by formula (IA).) [1 ] or the carboxylate according to [2].
[4] X 0 is a group in which a polycyclic alicyclic hydrocarbon group and an alkyl group are combined (-CH 2 - contained in the alkyl group may be replaced with -O- or -CO- Often, at least one hydrogen atom contained in the alkyl group is substituted with a group represented by formula (IA)) or a group represented by formula (aa) [1] to [3 ] The carboxylate according to any one of the above.
Figure 0007289669000005
[In formula (aa),
X a and X b each independently represent -O- or -S-.
X 1 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is —O—, —S—, —CO— or — SO 2 - may be substituted.
X 2 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 4 to 48 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is —O—, —S—, —CO— or — SO 2 - may be substituted. However, at least one hydrogen atom contained in the hydrocarbon group is substituted with a group represented by formula (IA).
* represents the binding site to the carbon atom of the carbonyl group. ]
[5] X 1 is an alkanetriyl group having 1 to 6 carbon atoms, a group represented by formula (w1-1), a group represented by formula (w1-2), or a group represented by formula (w1-3) or the carboxylate according to [4], which is a group represented by formula (w1-6).
Figure 0007289669000006
[In formula (w1-1), formula (w1-2), formula (w1-3) and formula (w1-6),
A hydrogen atom contained in the ring is a hydroxy group, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, or an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms. , an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms. ]
[6] X 2 is a group represented by formula (X 2 -1), a group represented by formula (X 2 -2), a group represented by formula (X 2 -3), or a group represented by formula (X 2 The carboxylate according to [4] or [5], which is a group represented by -4).
Figure 0007289669000007
[In the formula,
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a combination of these groups. -CH 2 - contained in said alkyl group and said alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2 -. At least one hydrogen atom contained in R 1 , R 2 and/or R 3 , R 4 , R 5 and/or R 6 is substituted with a group represented by formula (IA).
* represents the binding site with X a and X b . ]
[7] A carboxylic acid generator containing the carboxylic acid salt according to any one of [1] to [6].
[8] A resist composition containing the carboxylic acid generator described in [7], an acid generator other than the carboxylic acid generator, and a resin having an acid-labile group.
[9] (1) a step of applying the resist composition according to [8] onto a substrate;
(2) a step of drying the applied composition to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer;
(4) A process of heating the composition layer after exposure, and (5) a process of developing the composition layer after heating.

良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）のレジストパターンを製造することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物を提供する。 Provided are a salt and a resist composition containing the salt capable of producing a resist pattern with good CD uniformity (CDU).

本明細書において、「（メタ）アクリル系モノマー」とは、「ＣＨ2＝ＣＨ－ＣＯ－」の構造を有するモノマー及び「ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）－ＣＯ－」の構造を有するモノマーからなる群より選ばれる少なくとも１種を意味する。同様に「（メタ）アクリレート」及び「（メタ）アクリル酸」とは、それぞれ「アクリレート及びメタクリレートからなる群より選ばれる少なくとも１種」及び「アクリル酸及びメタクリル酸からなる群より選ばれる少なくとも１種」を意味する。「ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）－ＣＯ－」又は「ＣＨ2＝ＣＨ－ＣＯ－」を有する構造単位が例示されている場合には、双方の基を有する構造単位が同様に例示されているものとする。また、本明細書中に記載する基において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。立体異性体が存在する場合は、全ての立体異性体を含む。
本明細書において、「レジスト組成物の固形分」とは、レジスト組成物の総量から、後述する溶剤（Ｅ）を除いた成分の合計を意味する。 As used herein, the term “(meth)acrylic monomer” refers to a monomer having a structure of “CH 2 ═CH —CO—” and a monomer having a structure of “CH 2 ═C(CH 3 )—CO—”. means at least one selected from the group consisting of Similarly, "(meth)acrylate" and "(meth)acrylic acid" are respectively "at least one selected from the group consisting of acrylates and methacrylates" and "at least one selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid." ” means. Where structural units having "CH 2 =C(CH 3 )-CO-" or "CH 2 =CH-CO-" are exemplified, structural units having both groups are similarly exemplified. shall be In addition, among the groups described in this specification, any group that can have both a linear structure and a branched structure may be used. Where stereoisomers exist, all stereoisomers are included.
As used herein, "the solid content of the resist composition" means the total amount of components excluding the solvent (E) described below from the total amount of the resist composition.

〔カルボン酸塩（Ｉ）〕
本発明のカルボン酸塩は、式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩である（以下「カルボン酸塩（Ｉ）」という場合がある）。 [Carboxylate (I)]
The carboxylate of the present invention is a carboxylate represented by formula (I) (hereinafter sometimes referred to as "carboxylate (I)").

Ｘ０で表される炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基（鎖式炭化水素基、例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基及びこれらの基から１以上の水素原子を除去して結合部位とした基（例えば、アルカンジイル基、アルカンテトライル基等）並びに脂環式炭化水素基）、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは１～９であり、より好ましくは１～４である。
アルケニル基としては、エテニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ｔｅｒｔ－ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクチニル基、イソオクチニル基、ノネニル基が挙げられる。
アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基、イソプロピニル基、ブチニル基、イソブチニル基、ｔｅｒｔ－ブチニル基、ペンチニル基、ヘキシニル基、オクチニル基、ノニニル基等が挙げられる。
脂環式炭化水素基は、単環式、多環式及びスピロ環のいずれでもよく、飽和及び不飽和のいずれでもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。
Ｘ０で表される脂環式炭化水素基としては、式（Ｙ１）～（Ｙ４１）で表される基（＊は結合位を表す。）が好ましく、式（Ｙ１）～式（Ｙ２０）、式（Ｙ２６）、式（Ｙ２７）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）～式（Ｙ４１）のいずれかで表される基であることがより好ましく、式（Ｙ３）、（Ｙ４）、式（Ｙ９）、式（Ｙ１１）、式（Ｙ１４）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ１６）、式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３９）、式（Ｙ４０）で表される基であることがさらに好ましい。脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３～１８であり、より好ましくは３～１６である。

Figure 0007289669000008
The hydrocarbon group represented by X 0 includes aliphatic hydrocarbon groups (chain hydrocarbon groups such as alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, and bonding sites obtained by removing one or more hydrogen atoms from these groups. (eg, alkanediyl group, alkanetetrayl group, etc.) and alicyclic hydrocarbon groups), aromatic hydrocarbon groups and groups combining these.
The alkyl group includes alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group and nonyl group. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-9, more preferably 1-4.
Alkenyl groups include ethenyl, propenyl, isopropenyl, butenyl, isobutenyl, tert-butenyl, pentenyl, hexenyl, heptenyl, octynyl, isooctinyl and nonenyl groups.
Examples of alkynyl groups include ethynyl, propynyl, isopropynyl, butynyl, isobutynyl, tert-butynyl, pentynyl, hexynyl, octynyl and nonynyl groups.
The alicyclic hydrocarbon group may be monocyclic, polycyclic or spirocyclic, and may be saturated or unsaturated. The alicyclic hydrocarbon group includes monocyclic cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl, and cyclododecyl, norbornyl, and adamantyl. and polycyclic cycloalkyl groups such as
As the alicyclic hydrocarbon group represented by X 0 , groups represented by formulas (Y1) to (Y41) (* represents a bonding position) are preferable, and formulas (Y1) to (Y20), It is more preferably a group represented by any one of formula (Y26), formula (Y27), formula (Y30), formula (Y31), formula (Y39) to formula (Y41), and formula (Y3), ( Y4), formula (Y9), formula (Y11), formula (Y14), formula (Y15), formula (Y16), formula (Y20), formula (Y30), formula (Y39), and formula (Y40). is more preferably a group. The alicyclic hydrocarbon group preferably has 3 to 18 carbon atoms, more preferably 3 to 16 carbon atoms.
Figure 0007289669000008

芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基、フェナントリル基、ビナフチル基等のアリール基等が挙げられる。芳香族炭化水素基の炭素数は、好ましくは６～１４であり、より好ましくは６～１０である。芳香族炭化水素基は、後述の組み合わせた基のように、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、炭素数１～１８の鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ｐ－エチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等）、及び炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロへキシルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基等）等が挙げられる。 Examples of aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, naphthyl, biphenyl, anthryl, phenanthryl, and binaphthyl groups. The number of carbon atoms in the aromatic hydrocarbon group is preferably 6-14, more preferably 6-10. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, such as the combined group described later, and an aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms. group hydrocarbon group (tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.) , and aromatic hydrocarbon groups having an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.).

組み合わせた基とは、
脂環式炭化水素基と鎖式脂肪族炭化水素基とを組み合わせた基（該鎖式脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、及び
鎖式脂肪族炭化水素基と芳香族炭化水素基とを組み合わせた基（該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）を表す。
なお、組み合わせにおいて、脂環式炭化水素基、鎖式脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基は、それぞれ２種以上を組み合わせてもよい。
組合わせた基としては、
アダマンチルメチレン基、シクロヘキシルメチレン基等の脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－＊、（脂環式炭化水素基）２－鎖式脂肪族炭化水素基－＊（該鎖式脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
メチルアダマンチル基、ジメチルアダマンチル基等の鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基）２－脂環式炭化水素基－＊（該鎖式脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
トリル基、キシリル基等の鎖式脂肪族炭化水素基－芳香族炭化水素基－＊（該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
メチルシクロヘキシルメチレン基等の鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基）２－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基）２－鎖式脂肪族炭化水素基－＊（該鎖式脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
ベンジル基等の芳香族炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－＊（該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
トリルメチル基等の鎖式脂肪族炭化水素基－芳香族炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－＊（該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
メチルアダマンタンメチレンアダマンチル基、ジ（メチルアダマンタンメチレン）アダマンチル基等の鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基）２－脂環式炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基）２－鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基）２－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－＊（該鎖式脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基）２－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基）２－鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基）２－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－＊、（鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基－鎖式脂肪族炭化水素基－脂環式炭化水素基）２－鎖式脂肪族炭化水素基－＊（該鎖式脂肪族炭化水素基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい）、
等が挙げられる。ここで、＊はカルボニル基の炭素原子との結合位を表す。 A combined group is
Groups in which an alicyclic hydrocarbon group and a chain aliphatic hydrocarbon group are combined (-CH 2 - contained in the chain aliphatic hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group are -O-, - S—, —CO— or —SO 2 —), and a group in which a chain aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group are combined (included in the chain aliphatic hydrocarbon group --CH 2 -- represents (which may be replaced with --O--, --S--, --CO-- or --SO 2 --).
In combination, each of the alicyclic hydrocarbon group, the chain aliphatic hydrocarbon group and the aromatic hydrocarbon group may be used in combination of two or more.
As a combined group,
Alicyclic hydrocarbon group such as adamantylmethylene group and cyclohexylmethylene group-chain aliphatic hydrocarbon group-*, (alicyclic hydrocarbon group) 2 -chain aliphatic hydrocarbon group-* (the chain aliphatic -CH 2 - contained in the group hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2 -),
Chain aliphatic hydrocarbon group such as methyladamantyl group and dimethyladamantyl group-alicyclic hydrocarbon group-*, (chain aliphatic hydrocarbon group) 2 -alicyclic hydrocarbon group-* (the chain aliphatic -CH 2 - contained in the group hydrocarbon group and the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2 -),
A chain aliphatic hydrocarbon group such as a tolyl group and a xylyl group—an aromatic hydrocarbon group—* (the —CH 2 — contained in the chain aliphatic hydrocarbon group is —O—, —S—, —CO - or -SO 2 - may be substituted),
Chain aliphatic hydrocarbon group such as methylcyclohexylmethylene group-alicyclic hydrocarbon group-chain aliphatic hydrocarbon group-*, (chain aliphatic hydrocarbon group) 2 -alicyclic hydrocarbon group-chain Formula aliphatic hydrocarbon group -*, (chain aliphatic hydrocarbon group - alicyclic hydrocarbon group) 2 -chain aliphatic hydrocarbon group -* (the chain aliphatic hydrocarbon group and the alicyclic —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —),
Aromatic hydrocarbon group such as benzyl group--Chain aliphatic hydrocarbon group-* (--CH 2 -- contained in said chain aliphatic hydrocarbon group is --O--, --S--, --CO-- or --- SO 2 - may be substituted),
A chain aliphatic hydrocarbon group such as a tolylmethyl group--an aromatic hydrocarbon group--a chain aliphatic hydrocarbon group--* (the --CH.sub.2 --contained in the chain aliphatic hydrocarbon group is --O--, --- S—, —CO— or —SO 2 — may be substituted),
Chain aliphatic hydrocarbon group such as methyladamantane methylene adamantyl group and di(methyladamantane methylene) adamantyl group - alicyclic hydrocarbon group - chain aliphatic hydrocarbon group - alicyclic hydrocarbon group - *, (chain Formula aliphatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-chain aliphatic hydrocarbon group) 2 -alicyclic hydrocarbon group-*, (chain aliphatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group) 2 - chain aliphatic hydrocarbon group - alicyclic hydrocarbon group - *, (chain aliphatic hydrocarbon group) 2 - alicyclic hydrocarbon group - chain aliphatic hydrocarbon group - alicyclic hydrocarbon group -* (-CH 2 - contained in said chain aliphatic hydrocarbon group and said alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2 - ),
Chain aliphatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-chain aliphatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-chain aliphatic hydrocarbon group-*, (chain aliphatic hydrocarbon group) 2 - alicyclic hydrocarbon group - chain aliphatic hydrocarbon group - alicyclic hydrocarbon group - chain aliphatic hydrocarbon group - *, (chain aliphatic hydrocarbon group - alicyclic hydrocarbon group) 2 - chain aliphatic hydrocarbon group - alicyclic hydrocarbon group - chain aliphatic hydrocarbon group - *, (chain aliphatic hydrocarbon group - alicyclic hydrocarbon group - chain aliphatic hydrocarbon group) 2 -alicyclic hydrocarbon group-chain aliphatic hydrocarbon group-*, (chain aliphatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group-chain aliphatic hydrocarbon group-alicyclic hydrocarbon group) 2 -chain aliphatic hydrocarbon group-* (-CH 2 - contained in said chain aliphatic hydrocarbon group and said alicyclic hydrocarbon group is -O-, -S-, -CO- or - SO 2 - may be substituted),
etc. Here, * represents the bonding position with the carbon atom of the carbonyl group.

Ｘ０で表される炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数とする。また、Ｘ０で表される炭化水素基に置換基が結合する場合、置換する前の炭素数を該炭化水素基の総炭素数とする。
Ｘ０で表される炭化水素基は、１又は複数の置換基を有していてもよい。
置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。
ヒドロキシ基（メチル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－に置き換わった基）、カルボキシ基（エチル基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数１～１２のアルコキシ基（炭素数２～１３のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－に置き換わった基）、炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基（炭素数４～１５のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基（炭素数３～１４のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基（炭素数４～１５のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－ＣＯ－Ｏ－に置き換わった基）は、炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わった基とする。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基及び炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。 When —CH 2 — contained in the hydrocarbon group represented by X 0 is replaced with —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —, the number of carbon atoms before the replacement is referred to as the number of carbon atoms in the hydrocarbon group. is the total carbon number of Moreover, when a substituent is bonded to the hydrocarbon group represented by X 0 , the number of carbon atoms before substitution is taken as the total number of carbon atoms of the hydrocarbon group.
The hydrocarbon group represented by X 0 may have one or more substituents.
A halogen atom, a cyano group, etc. are mentioned as a substituent.
A hydroxy group (a group in which —CH 2 — contained in a methyl group is replaced with —O—), a carboxy group (a group in which —CH 2 —CH 2 — included in an ethyl group is replaced by —O—CO— group), alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms (groups in which —CH 2 — contained in alkyl groups having 2 to 13 carbon atoms are replaced with —O—), alkoxycarbonyl groups having 2 to 13 carbon atoms (carbon a group in which —CH 2 —CH 2 — contained in an alkyl group having a number of 4 to 15 is replaced with —O—CO—), an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms (in an alkyl group having 3 to 14 carbon atoms, -CH 2 - contained in is substituted with -CO-), alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms (-CH 2 -CH 2 - contained in alkyl group having 4 to 15 carbon atoms, A group substituted for -CO-O-) is a group in which -CH 2 - contained in a hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO-.
Halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
Examples of alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, and undecyloxy. group, dodecyloxy group, and the like.
An alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms and an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms are groups in which a carbonyl group or a carbonyloxy group is bonded to the alkyl group or alkoxy group described above. represents
The alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms includes methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group and the like, and the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms includes acetyl group, propionyl group, butyryl group and the like. Examples of the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms include acetyloxy group, propionyloxy group and butyryloxy group.

Ｘ０で表される炭化水素基としては、好ましくは、置換基を有してもよい炭素数１～７２の脂肪族炭化水素基（但し、該脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよく、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。）又は式（ａａ）で表される基であり、
好ましくは、脂環式炭化水素基と鎖式脂肪族炭化水素基とを組み合わせた基（該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該鎖式脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。）又は式（ａａ）で表される基であり、
より好ましくは、脂環式炭化水素基とアルキル基とを組み合わせた基（該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。）又は式（ａａ）で表される基であり、
さらに好ましくは、＊－脂環式炭化水素基－アルキル基（該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。＊は－ＣＯＯ－の炭素原子との結合部位を表す。）を含む又は式（ａａ）で表される基であり、
より一層好ましくは、多環式の脂環式炭化水素基とアルキル基とを組み合わせた基（該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。）又は式（ａａ）で表される基であり、
特に好ましくは、アダマンチル基とアルキル基とを組み合わせた基（該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキル基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。）又は式（ａａ）で表される基である。

Figure 0007289669000009
［式（ａａ）中、
Ｘa及びＸbは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。
Ｘ１は、置換基を有してもよい炭素数１～２４の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
Ｘ２は、置換基を有してもよい炭素数４～４８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。ただし、前記炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。
＊は、カルボニル基の炭素原子への結合部位を表す。］ The hydrocarbon group represented by X 0 is preferably an optionally substituted aliphatic hydrocarbon group having 1 to 72 carbon atoms (with the proviso that -CH 2 - may be replaced with —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —, and at least one hydrogen atom contained in the aliphatic hydrocarbon group is represented by formula (IA) is substituted with a group) or a group represented by formula (aa),
Preferably, a group consisting of a combination of an alicyclic hydrocarbon group and a chain aliphatic hydrocarbon group (-CH 2 - contained in the chain aliphatic hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO-). at least one of the hydrogen atoms contained in the chain aliphatic hydrocarbon group is substituted with a group represented by formula (IA)) or a group represented by formula (aa) can be,
More preferably, a group in which an alicyclic hydrocarbon group and an alkyl group are combined (-CH 2 - contained in the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-, and at least one of the hydrogen atoms represented by the formula (IA) is substituted with a group represented by the formula (IA)) or a group represented by the formula (aa),
More preferably, *-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group (-CH 2 - contained in said alkyl group may be replaced with -O- or -CO-, hydrogen atom contained in said alkyl group is substituted with a group represented by formula (IA).* represents a bonding site with the carbon atom of —COO—. ) or a group represented by formula (aa) can be,
More preferably, a group comprising a combination of a polycyclic alicyclic hydrocarbon group and an alkyl group (-CH 2 - contained in the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-, At least one hydrogen atom contained in the alkyl group is substituted with a group represented by formula (IA)) or a group represented by formula (aa),
Particularly preferably, a group in which an adamantyl group and an alkyl group are combined (-CH 2 - contained in the alkyl group may be replaced with -O- or -CO-, and hydrogen atoms contained in the alkyl group may be At least one is substituted with a group represented by formula (IA)) or a group represented by formula (aa).
Figure 0007289669000009
[In the formula (aa),
X a and X b each independently represent -O- or -S-.
X 1 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is —O—, —S—, —CO— or — SO 2 - may be substituted.
X 2 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 4 to 48 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is —O—, —S—, —CO— or — SO 2 - may be substituted. However, at least one hydrogen atom contained in the hydrocarbon group is substituted with a group represented by formula (IA).
* represents the binding site to the carbon atom of the carbonyl group. ]

Ｘa及びＸbは、同じ原子であることが好ましく、ともに酸素原子であることがより好ましい。 X a and X b are preferably the same atom, more preferably both oxygen atoms.

Ｘ１及びＸ２で表される炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基又はこれらを２種以上組み合わせた基等が挙げられる。なお、これら炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。 Examples of the hydrocarbon groups represented by X 1 and X 2 include aliphatic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, groups in which two or more of these groups are combined, and the like. -CH 2 - contained in these hydrocarbon groups may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2 -.

Ｘ１の脂肪族炭化水素基としては、アルカントリイル基、脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基が挙げられる。
アルカントリイル基としては、具体的には、メチン基、エタントリイル基、プロパントリイル基、ブタントリイル基、ペンタントリイル基、ヘキサントリイル基、ヘプタントリイル基、オクタントリイル基、ノナントリイル基、デカントリイル基、ウンデカントリイル基、ドデカントリイル基等が挙げられる。 The aliphatic hydrocarbon group for X 1 includes an alkanetriyl group, an alicyclic hydrocarbon group, or a combination thereof.
Specific examples of alkanetriyl groups include methine, ethanetriyl, propanetriyl, butanetriyl, pentanetriyl, hexanetriyl, heptanetriyl, octanetriyl, nonanetriyl, and decantriyl groups. , undecanetriyl group, dodecanetriyl group, and the like.

脂環式炭化水素基は、単環式又は多環式のいずれであってもよい。
単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロブタントリイル基、シクロペンタントリイル基、シクロヘキサントリイル基、シクロオクタントリイル基等が挙げられる。
多環式の脂環式炭化水素基としては、ノルボルナントリイル基、ノルボルナントリイル基、アダマンタントリイル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、ベンゼントリイル基、ナフタレントリイル基、アントラセントリイル基基等が挙げられる。芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよい。 Alicyclic hydrocarbon groups may be either monocyclic or polycyclic.
The monocyclic alicyclic hydrocarbon group includes a cyclobutanetriyl group, a cyclopentanetriyl group, a cyclohexanetriyl group, a cyclooctanetriyl group and the like.
The polycyclic alicyclic hydrocarbon group includes a norbornanetriyl group, a norbornanetriyl group, an adamantanetriyl group and the like.
Aromatic hydrocarbon groups include benzenetriyl, naphthalenetriyl, and anthracentriyl groups. The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group.

Ｘ１で表される炭化水素基は、炭素数が１～２４であり、さらに１又は複数の置換基を有していてもよい。該置換基としては、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１０の芳香族炭化水素基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。なかでも、フッ素原子が好ましい。
炭素数１～１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基及び炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基が挙げられる。
炭素数３～１２の脂環式炭化水素基としては、下記に示す基が挙げられる。＊＊は環との結合部位を表す。

Figure 0007289669000010
炭素数６～１０の芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、シクロヘキシルフェニル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、ヒドロキシ基と炭素数１～１２のアルキル基とを組み合わせた基、炭素数１～１２のアルキル基と炭素数６～１０の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基等が挙げられる。
ヒドロキシ基と炭素数１～１２のアルキル基とを組み合わせた基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等の炭素数１～１２のヒドロキシアルキル基等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルキル基と炭素数６～１０の芳香族炭化水素基とを組み合わせた基としては、ベンジル基等の炭素数７～２２のアラルキル基等が挙げられる。 The hydrocarbon group represented by X 1 has 1 to 24 carbon atoms and may further have one or more substituents. Examples of the substituent include a hydroxy group, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, and an alkyl group having 2 to 13 carbon atoms. A carbonyl group, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, and the like can be mentioned.
Halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine, and iodine atoms. Among them, a fluorine atom is preferred.
Examples of alkyl groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group and dodecyl group. .
Examples of alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, and undecyloxy. group, dodecyloxy group, and the like.
An alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms and an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms are groups in which a carbonyl group or a carbonyloxy group is bonded to the alkyl group or alkoxy group described above. is mentioned.
Examples of the alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms include groups shown below. ** represents a bonding site with a ring.
Figure 0007289669000010
The aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms includes aryl groups such as phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group and cyclohexylphenyl group.
Examples of the combined group include a group obtained by combining a hydroxy group and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a group obtained by combining an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, and the like. mentioned.
Groups in which a hydroxy group and an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms are combined include a hydroxyalkyl group having 1 to 12 carbon atoms such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Examples of groups in which an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms and an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms are combined include an aralkyl group having 7 to 22 carbon atoms such as a benzyl group.

Ｘ１で表される炭化水素基としては、炭素数１～６のアルカントリイル基又は炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であることが好ましく、炭素数１～６のアルカントリイル基、式（ｗ１－１）～式（ｗ１－１１）で表される基であることがより好ましく、炭素数１～６のアルカントリイル基、式（ｗ１－１）で表される基又は式（ｗ１－３）で表される基等の多環式炭化水素基、式（ｗ１－２）で表される基又は式（ｗ１－６）で表される基等の単環式炭化水素基であることがさらに好ましい。

Figure 0007289669000011
［式（ｗ１－１）～式（ｗ１－１１）中、
環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１０の芳香族炭化水素基で置換されていてもよい。
＊は結合部位を表す。式（ｗ１－９）～式（ｗ１－１１）においては、３つの結合部位は任意の位置とすることができる。］ The hydrocarbon group represented by X 1 is preferably an alkanetriyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and an alkanetriyl group having 1 to 6 carbon atoms. more preferably a group represented by formulas (w1-1) to (w1-11), an alkanetriyl group having 1 to 6 carbon atoms, a group represented by formula (w1-1), or Polycyclic hydrocarbon groups such as groups represented by formula (w1-3), groups represented by formula (w1-2) or monocyclic hydrocarbon groups such as groups represented by formula (w1-6) more preferably a group.
Figure 0007289669000011
[In the formulas (w1-1) to (w1-11),
Hydrogen atoms contained in the ring are hydroxy group, halogen atom, cyano group, alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, and 2 to 13 carbon atoms. , an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms.
* represents a binding site. In formulas (w1-9) to (w1-11), the three binding sites can be at arbitrary positions. ]

Ｘ２で表される炭化水素基の炭素数は４～４８であることが好ましく、６～４４であることがより好ましく、８～４０であることがさらに好ましく、１０～３８であることがより一層好ましい。また、この炭化水素基は置換基を有していてもよい。ただし、この炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも１つは式（ＩＡ）で表される基で置換されている。さらに、この炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。
ここで、炭化水素基の炭素数は、置換基を有さない、置き換わりのない炭化水素基の炭素数を意味する。 The number of carbon atoms in the hydrocarbon group represented by X 2 is preferably 4 to 48, more preferably 6 to 44, still more preferably 8 to 40, and more preferably 10 to 38. More preferred. Moreover, this hydrocarbon group may have a substituent. However, at least one hydrogen atom contained in this hydrocarbon group is substituted with a group represented by formula (IA). Further, --CH 2 -- contained in this hydrocarbon group may be replaced with --O--, --S--, --CO-- or --SO 2 --.
Here, the number of carbon atoms in a hydrocarbon group means the number of carbon atoms in an unsubstituted hydrocarbon group having no substituents.

Ｘ２に含まれる炭化水素基は、式（ＩＡ）で表される基を１つ有することが好ましく、２以上有することがより好ましい。

Figure 0007289669000012
［式（ＩＡ）中、
ＲＡは、炭素数１～１２の飽和炭化水素基を表す。
ｕ１は、０～２のいずれかの整数を表し、ｕ１が２である場合、複数のＲＡは同一であるか、相異なる。
ｓ１は、１又は２を表す。
ｔ１は、０又は１を表す。但し、ｓ１とｔ１との和は、１又は２である。
＊は、結合部位を表す。］ The hydrocarbon group contained in X 2 preferably has one group represented by formula (IA), and more preferably has two or more groups.
Figure 0007289669000012
[In the formula (IA),
R A represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
u1 represents an integer of 0 to 2, and when u1 is 2, the plurality of RAs are the same or different.
s1 represents 1 or 2;
t1 represents 0 or 1; However, the sum of s1 and t1 is 1 or 2.
* represents the binding site. ]

ｓ１は１であることが好ましく、ｔ１は１であることが好ましく、ｓ１とｔ１との和は１又は２であることが好ましく、ｓ１とｔ１との和が２であることがより好ましい。
式（ＩＡ）で表される基としては、以下で表される基であることが好ましい。

Figure 0007289669000013
s1 is preferably 1, t1 is preferably 1, the sum of s1 and t1 is preferably 1 or 2, and the sum of s1 and t1 is more preferably 2.
The group represented by formula (IA) is preferably a group represented by the following.
Figure 0007289669000013

式（ＩＡ）で表される基において、ｕ１が１であり、ＲＡがＸ０に隣接する炭素原子に結合した基は、下記式で表される。

Figure 0007289669000014
ＲＡの飽和炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらの組み合わせが挙げられる。
ＲＡのアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ノニル基等のアルキル基が挙げられる。アルキル基の炭素数は、好ましくは１～９であり、より好ましくは１～４である。
脂環式炭化水素基は、単環式、多環式及びスピロ環のいずれでもよい。脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シクロドデシル基等の単環式シクロアルキル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等の多環式シクロアルキル基が挙げられる。 In the group represented by formula (IA), the group in which u1 is 1 and R 1 is bonded to the carbon atom adjacent to X 0 is represented by the following formula.
Figure 0007289669000014
Saturated hydrocarbon groups for RA include alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups, and combinations thereof.
The alkyl group of RA includes alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group and nonyl group. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1-9, more preferably 1-4.
Alicyclic hydrocarbon groups may be monocyclic, polycyclic or spirocyclic. The alicyclic hydrocarbon group includes monocyclic cycloalkyl groups such as cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl, cyclooctyl, cyclononyl, cyclodecyl, and cyclododecyl, norbornyl, and adamantyl. and polycyclic cycloalkyl groups such as

Ｘ２における炭化水素基が有していてもよいその他の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基等が挙げられる。
ヒドロキシ基（メチル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－に置き換わった基）、カルボキシ基（エチル基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数１～１２のアルコキシ基（炭素数２～１３のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－に置き換わった基）、炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基（炭素数４～１５のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－Ｏ－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基（炭素数３～１４のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－が、－ＣＯ－に置き換わった基）、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基（炭素数４～１５のアルキル基中に含まれる－ＣＨ2－ＣＨ2－が、－ＣＯ－Ｏ－に置き換わった基）は、炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－が、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わった基とする。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
炭素数１～１２のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、２－エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基等が挙げられる。
炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基及び炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基は、上述したアルキル基又はアルコキシ基にカルボニル基又はカルボニルオキシ基が結合した基を表す。
炭素数２～１３のアルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられ、炭素数２～１３のアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
Ｘ２で表される炭素数４～４８の炭化水素基は、１つの置換基又は複数の置換基を有していてもよい。 Other substituents that the hydrocarbon group in X 2 may have include a halogen atom, a cyano group, and the like.
A hydroxy group (a group in which —CH 2 — contained in a methyl group is replaced with —O—), a carboxy group (a group in which —CH 2 —CH 2 — included in an ethyl group is replaced by —O—CO— group), alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms (groups in which —CH 2 — contained in alkyl groups having 2 to 13 carbon atoms are replaced with —O—), alkoxycarbonyl groups having 2 to 13 carbon atoms (carbon a group in which —CH 2 —CH 2 — contained in an alkyl group having a number of 4 to 15 is replaced with —O—CO—), an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms (in an alkyl group having 3 to 14 carbon atoms, -CH 2 - contained in is substituted with -CO-), alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms (-CH 2 -CH 2 - contained in alkyl group having 4 to 15 carbon atoms, A group substituted for -CO-O-) is a group in which -CH 2 - contained in a hydrocarbon group is replaced with -O- or -CO-.
Halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
Examples of alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, octyloxy, 2-ethylhexyloxy, nonyloxy, decyloxy, and undecyloxy. group, dodecyloxy group, and the like.
An alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms and an alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms are groups in which a carbonyl group or a carbonyloxy group is bonded to the alkyl group or alkoxy group described above. represents
The alkoxycarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms includes methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group and the like, and the alkylcarbonyl group having 2 to 13 carbon atoms includes acetyl group, propionyl group, butyryl group and the like. Examples of the alkylcarbonyloxy group having 2 to 13 carbon atoms include acetyloxy group, propionyloxy group and butyryloxy group.
The hydrocarbon group having 4 to 48 carbon atoms represented by X 2 may have one substituent or multiple substituents.

Ｘ２における炭化水素基としては、直鎖状又は分岐状の鎖式飽和炭化水素基（例えば、アルカンジイル基（アルカンジイル基から１又は２つの水素原子を除去して結合部位とした基を含む（X２において以下同じ）、アルキル基）、単環式又は多環式の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち２種以上を組み合わせたものでもよい。Ｘ２における炭化水素基は、炭素数が１～３０であるものが好ましく、炭素数が１～２６であるものがより好ましく、炭素数が１～１６であるものがさらに好ましい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２－エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等の直鎖状アルキル基又は分岐状アルキル基；
シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の多環式の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。
組み合わせた基としては、鎖式飽和炭化水素基と脂環式飽和炭化水素基を組み合わせた基が挙げられ、具体的に、鎖式飽和炭化水素基に１以上の脂環式飽和炭化水素基が結合した基（例えば、－アルカンジイル基－脂環式飽和炭化水素基、－アルカンジイル基－（脂環式飽和炭化水素基）２等）、脂環式飽和炭化水素基に１以上の鎖式飽和炭化水素基が結合した基（例えば、－２価の脂環式飽和炭化水素基－アルキル基、－２価の脂環式飽和炭化水素基－（アルキル基）２等）、鎖式飽和炭化水素基に１以上の脂環式飽和炭化水素基と鎖式飽和炭化水素基が結合した基（例えば、－アルカンジイル基－脂環式飽和炭化水素基－アルキル基、－アルカンジイル基－（脂環式飽和炭化水素基－アルキル基）２等）等が挙げられる。 The hydrocarbon group for X 2 includes a linear or branched chain saturated hydrocarbon group (e.g., an alkanediyl group (including a group obtained by removing one or two hydrogen atoms from an alkanediyl group to form a bonding site (the same applies hereinafter for X 2 ), an alkyl group), a monocyclic or polycyclic saturated alicyclic hydrocarbon group, and two or more of these groups may be combined. The hydrogen group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 26 carbon atoms, and even more preferably 1 to 16 carbon atoms.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1 ,7-diyl group, octane-1,8-diyl group and other linear alkanediyl groups;
ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- Branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group;
methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl linear or branched alkyl groups such as groups;
Monocyclic aliphatic monocyclic cycloalkanediyl groups such as cyclobutane-1,3-diyl, cyclopentane-1,3-diyl, cyclohexane-1,4-diyl, and cyclooctane-1,5-diyl groups cyclic saturated hydrocarbon group;
polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group and adamantane-2,6-diyl group; mentioned.
Examples of combined groups include groups in which a saturated chain hydrocarbon group and a saturated alicyclic hydrocarbon group are combined. bonded group (e.g., -alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group, -alkanediyl group-(alicyclic saturated hydrocarbon group) 2 , etc.), one or more chains attached to the alicyclic saturated hydrocarbon group Groups to which saturated hydrocarbon groups are bonded (e.g., -divalent alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group, -divalent alicyclic saturated hydrocarbon group-(alkyl group) 2 , etc.), chain saturated carbonization A group in which one or more alicyclic saturated hydrocarbon groups and chain saturated hydrocarbon groups are bonded to a hydrogen group (for example, -alkanediyl group -alicyclic saturated hydrocarbon group -alkyl group, -alkanediyl group-(aliphatic cyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group) 2 ) and the like.

Ｘ２における炭化水素基としては、
炭素数４～１８の鎖式飽和炭化水素基（但し、該鎖式飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、
炭素数４～１８の鎖式飽和炭化水素基（但し、該鎖式飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）と炭素数３～１６の脂環式飽和炭化水素基を組み合わせた基であることが好ましく、
炭素数６～１４の鎖式飽和炭化水素基（但し、該鎖式飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、
炭素数１～１２の鎖式飽和炭化水素基（但し、該鎖式飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）と炭素数５～１４の脂環式飽和炭化水素基を組み合わせた基であることがより好ましい。
ここで、該鎖式飽和炭化水素基、該脂環式炭化水素基又は該組み合わせた基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。
具体的に、Ｘ２における炭化水素基としては、例えば、
炭素数４～１８のアルカンジイル基（但し、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、
炭素数１～１２のアルカンジイル基（但し、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）と炭素数３～１６の脂環式飽和炭化水素基と炭素数１～１２のアルキル基（但し、該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）とからなる基（例えば、－アルカンジイル基－脂環式飽和炭化水素基－アルキル基、－アルカンジイル基－（脂環式飽和炭化水素基－アルキル基）２等））であることが好ましく、
炭素数６～１４のアルカンジイル基（但し、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）、又は、
炭素数１～１２のアルカンジイル基（但し、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）とアダマンタンジイル基と炭素数１～１２のアルキル基（但し、該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）とからなる基（例えば、－アルカンジイル基－アダマンタンジイル基－アルキル基、－アルカンジイル基－（アダマンタンジイル基－アルキル基）２等））であることがより好ましい。
ここで、該アルカンジイル基、該アルキル基、該脂環式炭化水素基又は該組み合わせた基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。 As the hydrocarbon group for X2 ,
a chain saturated hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms (with the proviso that —CH 2 — contained in the chain saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—), or
a chain saturated hydrocarbon group having 4 to 18 carbon atoms (where -CH 2 - contained in said chain saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-) and 3 carbon atoms; It is preferably a group in which ~16 alicyclic saturated hydrocarbon groups are combined,
a chain saturated hydrocarbon group having 6 to 14 carbon atoms (with the proviso that —CH 2 — contained in the chain saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—), or
a chain saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms (where -CH 2 - contained in said chain saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO-) and 5 carbon atoms; Groups in which to 14 alicyclic saturated hydrocarbon groups are combined are more preferred.
Here, at least one hydrogen atom contained in the chain saturated hydrocarbon group, the alicyclic hydrocarbon group, or the combined group is substituted with a group represented by formula (IA).
Specifically, the hydrocarbon group for X 2 includes, for example,
an alkanediyl group having 4 to 18 carbon atoms (with the proviso that —CH 2 — contained in the alkanediyl group may be replaced with —O— or —CO—), or
an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms (with the proviso that —CH 2 — contained in the alkanediyl group may be replaced with —O— or —CO—) and an alicyclic group having 3 to 16 carbon atoms; A group ( for example, -alkanediyl group-alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group, -alkanediyl group-(alicyclic saturated hydrocarbon group-alkyl group) 2 etc.)),
an alkanediyl group having 6 to 14 carbon atoms (with the proviso that —CH 2 — contained in the alkanediyl group may be replaced with —O— or —CO—), or
an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms (wherein -CH 2 - contained in the alkanediyl group may be replaced with -O- or -CO-), an adamantanediyl group and 1 to 12 carbon atoms; (with the proviso that —CH 2 — contained in the alkyl group may be replaced with —O— or —CO—) and a group (for example, —alkanediyl group—adamantanediyl group—alkyl -alkanediyl group-(adamantanediyl group-alkyl group) 2 etc.)).
Here, at least one hydrogen atom contained in the alkanediyl group, the alkyl group, the alicyclic hydrocarbon group, or the combined group is substituted with a group represented by formula (IA).

具体的には、Ｘ２は、式（Ｘ２－１）で表される基、式（Ｘ２－２）で表される基、式（Ｘ２－３）で表される基又は式（Ｘ２－４）で表される基であることが好ましい。

Figure 0007289669000015
［式中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基、炭素数５～１２の脂環式炭化水素基又はこれらの２種以上の基を組み合わせた基を表し、該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。Ｒ1、Ｒ2及び又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5及び又はＲ6に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。
＊は、Ｘa及びＸbとの結合部位を表す。］
組み合わせた基は、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを１つずつ組み合わせたものでも、いずれかを２以上又は双方を２以上組み合わせた基でもよい。この場合、組み合わせた基の炭素数は３９以下であり、３７以下が好ましい。 Specifically, X 2 is a group represented by formula (X 2 -1), a group represented by formula (X 2 -2), a group represented by formula (X 2 -3) or a group represented by formula ( A group represented by X 2 -4) is preferred.
Figure 0007289669000015
[In the formula,
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or two or more of these wherein -CH 2 - contained in said alkyl group and said alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2 - good. At least one hydrogen atom contained in R 1 , R 2 and/or R 3 , R 4 , R 5 and/or R 6 is substituted with a group represented by formula (IA).
* represents the binding site with X a and X b . ]
The combined group may be a combination of one each of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group described above, or a combination of two or more of either or two or more of both. In this case, the combined group has 39 or less carbon atoms, preferably 37 or less.

なかでも、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6（Ｒ1、Ｒ2及び又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5及び又はＲ6に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。）としては、炭素数１～６のアルキル基（但し、該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）又は炭素数１～６のアルキル基（但し、該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）と炭素数５～１２の脂環式炭化水素基（但し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。）とを組み合わせた基であることが好ましく、メトキシ基又は炭素数１～６のアルキル基（但し、該アルキル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。）とアダマンチル基とを組み合わせた基であることがより好ましい。 Above all, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 (at least one hydrogen atom contained in R 1 , R 2 and/or R 3 , R 4 , R 5 and/or R 6 is , substituted with a group represented by the formula (IA)) is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (wherein —CH 2 — contained in the alkyl group is —O— or —CO— ) or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (wherein —CH 2 — contained in the alkyl group may be replaced with —O— or —CO—) and the number of carbon atoms 5 to 12 alicyclic hydrocarbon groups (with the proviso that —CH 2 — contained in the alicyclic hydrocarbon group may be replaced with —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —; ), a methoxy group or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (with the proviso that —CH 2 — contained in the alkyl group is replaced with —O— or —CO— ) and an adamantyl group are more preferred.

式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩におけるカルボン酸アニオンとしては、下記に記載のカルボン酸アニオン等が挙げられる。

Figure 0007289669000016
Examples of the carboxylate anion in the carboxylate represented by formula (I) include the carboxylate anions described below.
Figure 0007289669000016

Figure 0007289669000017
Figure 0007289669000017

Figure 0007289669000018
Figure 0007289669000018

Figure 0007289669000019
Figure 0007289669000019

Figure 0007289669000020
Figure 0007289669000020

Figure 0007289669000021
Figure 0007289669000021

Figure 0007289669000022
Figure 0007289669000022

Figure 0007289669000023
Figure 0007289669000023

有機カチオンとしては、有機オニウムカチオン、有機スルホニウムカチオン、有機ヨードニウムカチオン、有機アンモニウムカチオン、ベンゾチアゾリウムカチオン及び有機ホスホニウムカチオン等が挙げられる。これらの中でも、有機スルホニウムカチオン及び有機ヨードニウムカチオンが好ましく、アリールスルホニウムカチオンがより好ましい。具体的には、式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）のいずれかで表されるカチオン（以下、式番号に応じて「カチオン（ｂ２－１）」等という場合がある。）が挙げられる。 Organic cations include organic onium cations, organic sulfonium cations, organic iodonium cations, organic ammonium cations, benzothiazolium cations and organic phosphonium cations. Among these, organic sulfonium cations and organic iodonium cations are preferred, and arylsulfonium cations are more preferred. Specifically, a cation represented by any one of formulas (b2-1) to (b2-4) (hereinafter sometimes referred to as "cation (b2-1)" etc. depending on the formula number) is mentioned.

Figure 0007289669000024
式（ｂ２－１）～式（ｂ２－４）において、
Ｒb4～Ｒb6は、それぞれ独立に、炭素数１～３０の脂肪族炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～３６の芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数３～１２の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基又はグリシジルオキシ基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基又は炭素数１～１２のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Ｒb4とＲb5とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。
Ｒb7及びＲb8は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
ｍ２及びｎ２は、それぞれ独立に０～５のいずれかの整数を表す。
ｍ２が２以上のとき、複数のＲb7は同一でも異なってもよく、ｎ２が２以上のとき、複数のＲb8は同一でも異なってもよい。
Ｒb9及びＲb10は、それぞれ独立に、炭素数１～３６の脂肪族炭化水素基又は炭素数３～３６の脂環式炭化水素基を表す。
Ｒb9とＲb10とは、互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって環を形成してもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。
Ｒb11は、水素原子、炭素数１～３６の脂肪族炭化水素基、炭素数３～３６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表す。
Ｒb12は、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基を表し、該脂肪族炭化水素に含まれる水素原子は、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基で置換されていてもよく、該芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、炭素数１～１２のアルコキシ基又は炭素数１～１２のアルキルカルボニルオキシ基で置換されていてもよい。
Ｒb11とＲb12とは、互いに結合してそれらが結合する－ＣＨ－ＣＯ－を含めて環を形成していてもよく、該環に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わってもよい。
Ｒb13～Ｒb18は、それぞれ独立に、ヒドロキシ基、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
Ｌb31は、硫黄原子又は酸素原子を表す。
ｏ２、ｐ２、ｓ２、及びｔ２は、それぞれ独立に、０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ２及びｒ２は、それぞれ独立に、０～４のいずれかの整数を表す。
ｕ２は０又は１を表す。
ｏ２が２以上のとき、複数のＲb13は同一又は相異なり、ｐ２が２以上のとき、複数のＲb14は同一又は相異なり、ｑ２が２以上のとき、複数のＲb15は同一又は相異なり、ｒ２が２以上のとき、複数のＲb16は同一又は相異なり、ｓ２が２以上のとき、複数のＲb17は同一又は相異なり、ｔ２が２以上のとき、複数のＲb18は同一又は相異なる。
脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び２－エチルヘキシル基のアルキル基が挙げられる。特に、Ｒb9～Ｒb12の脂肪族炭化水素基は、好ましくは炭素数１～１２である。
脂環式炭化水素基としては、単環式又は多環式のいずれでもよく、単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基等が挙げられる。
Figure 0007289669000025
特に、Ｒb9～Ｒb12の脂環式炭化水素基は、好ましくは炭素数３～１８、より好ましくは炭素数４～１２である。
Figure 0007289669000024
In formulas (b2-1) to (b2-4),
R b4 to R b6 each independently represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 36 carbon atoms; The hydrogen atom contained in the aliphatic hydrocarbon group is a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms. It may be substituted, and the hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group is a halogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, or a glycidyloxy group. It may be substituted, and a hydrogen atom contained in the aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, a hydroxy group, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
R b4 and R b5 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and —CH 2 — contained in the ring may be —O—, —S— or -CO- may be substituted.
R b7 and R b8 each independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
m2 and n2 each independently represent an integer of 0 to 5;
When m2 is 2 or more, multiple R b7 may be the same or different, and when n2 is 2 or more, multiple R b8 may be the same or different.
R b9 and R b10 each independently represent an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms.
R b9 and R b10 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded, and —CH 2 — contained in the ring may be —O—, —S— or -CO- may be substituted.
R b11 represents a hydrogen atom, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 36 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 36 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R b12 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms or an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and may be substituted with an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in the aromatic hydrocarbon group are alkoxy groups having 1 to 12 carbon atoms or 1 to 1 carbon atoms. It may be substituted with 12 alkylcarbonyloxy groups.
R b11 and R b12 may be bonded to each other to form a ring including —CH—CO— to which they are bonded, and —CH 2 — contained in the ring may be —O—, —S - or -CO- may be substituted.
R b13 to R b18 each independently represent a hydroxy group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms.
L b31 represents a sulfur atom or an oxygen atom.
o2, p2, s2, and t2 each independently represent an integer of 0 to 5;
q2 and r2 each independently represent an integer of 0 to 4;
u2 represents 0 or 1;
When o2 is 2 or more, multiple R b13 are the same or different, when p2 is 2 or more, multiple R b14 are the same or different, and when q2 is 2 or more, multiple R b15 are the same or different. , when r2 is 2 or more, the plurality of R b16 are the same or different; when s2 is 2 or more, the plurality of R b17 are the same or different; when t2 is 2 or more, the plurality of R b18 are the same or different; different.
Examples of aliphatic hydrocarbon groups include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group and 2-ethylhexyl group. mentioned. In particular, the aliphatic hydrocarbon groups of R b9 to R b12 preferably have 1 to 12 carbon atoms.
The alicyclic hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic, and the monocyclic alicyclic hydrocarbon group includes a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cyclo Cycloalkyl groups such as a heptyl group, a cyclooctyl group, and a cyclodecyl group can be mentioned. The polycyclic alicyclic hydrocarbon group includes decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups.
Figure 0007289669000025
In particular, the alicyclic hydrocarbon groups of R b9 to R b12 preferably have 3 to 18 carbon atoms, more preferably 4 to 12 carbon atoms.

水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基としては、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、２－メチルアダマンタン－２－イル基、２－エチルアダマンタン－２－イル基、２－イソプロピルアダマンタン－２－イル基、メチルノルボルニル基、イソボルニル基等が挙げられる。水素原子が脂肪族炭化水素基で置換された脂環式炭化水素基においては、脂環式炭化水素基と脂肪族炭化水素基との合計炭素数が好ましくは２０以下である。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ｐ－エチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、ｐ－シクロへキシルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、フェナントリル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等のアリール基が挙げられる。
なお、芳香族炭化水素基に、脂肪族炭化水素基又は脂環式炭化水素基が含まれる場合は、炭素数１～１８の脂肪族炭化水素基及び炭素数３～１８の脂環式炭化水素基が好ましい。
水素原子がアルコキシ基で置換された芳香族炭化水素基としては、ｐ－メトキシフェニル基等が挙げられる。
水素原子が芳香族炭化水素基で置換された脂肪族炭化水素基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、トリチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルカルボニルオキシ基、ペンチルカルボニルオキシ基、ヘキシルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基及び２－エチルヘキシルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
Ｒb4とＲb5とが互いに結合してそれらが結合する硫黄原子と一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、炭素数３～１８の環が挙げられ、好ましくは炭素数４～１８の環である。また、硫黄原子を含む環は、３員環～１２員環が挙げられ、好ましくは３員環～７員環であり、例えば下記の環が挙げられる。

Figure 0007289669000026
Ｒb9とＲb10とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環～１２員環が挙げられ、好ましくは３員環～７員環である。例えば、チオラン－１－イウム環（テトラヒドロチオフェニウム環）、チアン－１－イウム環、１，４－オキサチアン－４－イウム環等が挙げられる。
Ｒb11とＲb12とが一緒になって形成する環は、単環式、多環式、芳香族性、非芳香族性、飽和及び不飽和のいずれの環であってもよい。この環は、３員環～１２員環が挙げられ、好ましくは３員環～７員環である。オキソシクロヘプタン環、オキソシクロヘキサン環、オキソノルボルナン環、オキソアダマンタン環等が挙げられる。 Alicyclic hydrocarbon groups in which hydrogen atoms are substituted with aliphatic hydrocarbon groups include methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, 2-methyladamantan-2-yl group, and 2-ethyladamantan-2-yl group. , 2-isopropyladamantan-2-yl group, methylnorbornyl group, isobornyl group and the like. In the alicyclic hydrocarbon group in which a hydrogen atom is substituted with an aliphatic hydrocarbon group, the total carbon number of the alicyclic hydrocarbon group and the aliphatic hydrocarbon group is preferably 20 or less.
The aromatic hydrocarbon group includes a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, a mesityl group, a p-ethylphenyl group, a p-tert-butylphenyl group, a p-cyclohexylphenyl group and a p-adamantylphenyl group. , biphenylyl group, naphthyl group, phenanthryl group, 2,6-diethylphenyl group and 2-methyl-6-ethylphenyl group.
When the aromatic hydrocarbon group contains an aliphatic hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms groups are preferred.
Aromatic hydrocarbon groups in which a hydrogen atom is substituted with an alkoxy group include a p-methoxyphenyl group and the like.
Aliphatic hydrocarbon groups in which hydrogen atoms are substituted with aromatic hydrocarbon groups include aralkyl groups such as benzyl, phenethyl, phenylpropyl, trityl, naphthylmethyl and naphthylethyl groups.
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, decyloxy and dodecyloxy groups.
An acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, etc. are mentioned as an alkylcarbonyl group.
Halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
The alkylcarbonyloxy group includes a methylcarbonyloxy group, an ethylcarbonyloxy group, a propylcarbonyloxy group, an isopropylcarbonyloxy group, a butylcarbonyloxy group, a sec-butylcarbonyloxy group, a tert-butylcarbonyloxy group and a pentylcarbonyloxy group. , hexylcarbonyloxy group, octylcarbonyloxy group and 2-ethylhexylcarbonyloxy group.
The ring formed by R b4 and R b5 bonded together with the sulfur atom to which they are bonded may be monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated or unsaturated. may be a ring of This ring includes a ring having 3 to 18 carbon atoms, preferably a ring having 4 to 18 carbon atoms. Further, the ring containing a sulfur atom includes a 3- to 12-membered ring, preferably a 3- to 7-membered ring, and examples thereof include the following rings.
Figure 0007289669000026
The ring formed by R b9 and R b10 together may be a monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated or unsaturated ring. This ring includes a 3- to 12-membered ring, preferably a 3- to 7-membered ring. Examples include thiolan-1-ium ring (tetrahydrothiophenium ring), thian-1-ium ring, 1,4-oxathian-4-ium ring and the like.
The ring formed by R b11 and R b12 together may be a monocyclic, polycyclic, aromatic, non-aromatic, saturated or unsaturated ring. This ring includes a 3- to 12-membered ring, preferably a 3- to 7-membered ring. oxocycloheptane ring, oxocyclohexane ring, oxonorbornane ring, oxoadamantane ring and the like.

カチオン（ｂ２－１）～カチオン（ｂ２－４）の中でも、好ましくは、カチオン（ｂ２－１）である。
カチオン（ｂ２－１）としては、以下のカチオンが挙げられる。

Figure 0007289669000027
Among the cations (b2-1) to (b2-4), the cation (b2-1) is preferred.
Examples of the cation (b2-1) include the following cations.
Figure 0007289669000027

Figure 0007289669000028
Figure 0007289669000028

カチオン（ｂ２－３）としては、以下のカチオンが挙げられる。

Figure 0007289669000029
Examples of the cation (b2-3) include the following cations.
Figure 0007289669000029

カチオン（ｂ２－４）としては、以下のカチオンが挙げられる。

Figure 0007289669000030
Examples of the cation (b2-4) include the following cations.
Figure 0007289669000030

カルボン酸塩（Ｉ）は、上述のアニオン及びカチオンの組合せであることが好ましい。これらのアニオンとカチオンとは任意に組み合わせることができる。
カルボン酸塩（Ｉ）としては、表１に記載の塩が挙げられる。
例えば、表１のカルボン酸塩（Ｉ－１）とは、アニオンが（Ｉ－ａ－１）であり、カチオンが（ｂ２－ｃ－１）である、以下の塩を表す。

Figure 0007289669000031
Carboxylate (I) is preferably a combination of anions and cations as described above. These anions and cations can be combined arbitrarily.
Carboxylate (I) includes salts listed in Table 1.
For example, the carboxylate salt (I-1) in Table 1 represents the following salt in which the anion is (Ia-1) and the cation is (b2-c-1).
Figure 0007289669000031

Figure 0007289669000032

Figure 0007289669000033

Figure 0007289669000034

Figure 0007289669000035

Figure 0007289669000036

Figure 0007289669000037

Figure 0007289669000038

Figure 0007289669000039

Figure 0007289669000040

Figure 0007289669000041

Figure 0007289669000042
Figure 0007289669000032
Figure 0007289669000033

Figure 0007289669000034

Figure 0007289669000035

Figure 0007289669000036

Figure 0007289669000037

Figure 0007289669000038

Figure 0007289669000039

Figure 0007289669000040

Figure 0007289669000041

Figure 0007289669000042

なかでも、カルボン酸塩（Ｉ）としては、塩（Ｉ－１）、塩（Ｉ－２）、塩（Ｉ－６）～塩（Ｉ－１１）、塩（Ｉ－１３）、塩（Ｉ－１４）、塩（Ｉ－１６）、塩（Ｉ－１７）、塩（Ｉ－１９）、塩（Ｉ－２０）、塩（Ｉ－５５）、塩（Ｉ－５６）、塩（Ｉ－６０）～塩（Ｉ－６５）、塩（Ｉ－６７）、塩（Ｉ－６８）、塩（Ｉ－７０）、塩（Ｉ－７１）、塩（Ｉ－７３）、塩（Ｉ－７４）、塩（Ｉ－１０９）、塩（Ｉ－１１０）、塩（Ｉ－１１４）～塩（Ｉ－１１９）、塩（Ｉ－１２１）、塩（Ｉ－１２２）、塩（Ｉ－１２４）、塩（Ｉ－１２５）、塩（Ｉ－１２７）、塩（Ｉ－１２８）、塩（Ｉ－１６３）、塩（Ｉ－１６４）、塩（Ｉ－１６８）～塩（Ｉ－１７３）、塩（Ｉ－１７５）、塩（Ｉ－１７６）、塩（Ｉ－１７８）、塩（Ｉ－１７９）、塩（Ｉ－１８１）、塩（Ｉ－１８２）、塩（Ｉ－２１７）、塩（Ｉ－２１８）、塩（Ｉ－２２２）～塩（Ｉ－２２７）、塩（Ｉ－２２９）、塩（Ｉ－２３０）、塩（Ｉ－２３２）、塩（Ｉ－２３３）、塩（Ｉ－２３５）、塩（Ｉ－２３６）、塩（Ｉ－２７１）、塩（Ｉ－２７２）、塩（Ｉ－２７６）～塩（Ｉ－２８１）、塩（Ｉ－２８３）、塩（Ｉ－２８４）、塩（Ｉ－２８６）、塩（Ｉ－２８７）、塩（Ｉ－２８９）、塩（Ｉ－２９０）、塩（Ｉ－３２５）、塩（Ｉ－３２６）、塩（Ｉ－３３０）～塩（Ｉ－３３５）、塩（Ｉ－３３７）、塩（Ｉ－３３８）、塩（Ｉ－３４０）、塩（Ｉ－３４１）、塩（Ｉ－３４３）、塩（Ｉ－３４４）、塩（Ｉ－３７９）～塩（Ｉ－４０６）が好ましい。 Among them, the carboxylate (I) includes salt (I-1), salt (I-2), salt (I-6) to salt (I-11), salt (I-13), salt (I -14), salt (I-16), salt (I-17), salt (I-19), salt (I-20), salt (I-55), salt (I-56), salt (I- 60) to salt (I-65), salt (I-67), salt (I-68), salt (I-70), salt (I-71), salt (I-73), salt (I-74 ), salt (I-109), salt (I-110), salt (I-114) to salt (I-119), salt (I-121), salt (I-122), salt (I-124) , salt (I-125), salt (I-127), salt (I-128), salt (I-163), salt (I-164), salt (I-168) to salt (I-173), Salt (I-175), Salt (I-176), Salt (I-178), Salt (I-179), Salt (I-181), Salt (I-182), Salt (I-217), Salt (I-218), salt (I-222) to salt (I-227), salt (I-229), salt (I-230), salt (I-232), salt (I-233), salt ( I-235), salt (I-236), salt (I-271), salt (I-272), salt (I-276) to salt (I-281), salt (I-283), salt (I -284), salt (I-286), salt (I-287), salt (I-289), salt (I-290), salt (I-325), salt (I-326), salt (I- 330) to salt (I-335), salt (I-337), salt (I-338), salt (I-340), salt (I-341), salt (I-343), salt (I-344 ), salts (I-379) to (I-406) are preferred.

＜カルボン酸塩（Ｉ）の製造方法＞
カルボン酸塩（Ｉ）において、式（ＩＡ）で表される基が－（Ｏ－ＣＯ）ｎｎ－Ｏ－Ｌ２－＊（Ｌ２は、置換基を有していてもよい炭素数１～３６の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ２－に置き換わっていてもよい。＊は、式（ＩＡ）で表される基との結合位を表す。ｎｎは、酸素原子に結合する炭素原子が－ＣＯ－又は－ＳＯ２－の時のみ０を表す。それ以外は、１である。）を介してＸ０１と結合するカルボン酸塩（式（Ｉ１）で表される塩）は、式（Ｉ１－ａ）で表される塩とカルボニルジイミダゾールとを溶剤中で反応させた後、さらに、式（Ｉ１－ｂ）で表される化合物とを反応させることにより製造することができる。

Figure 0007289669000043
（式中、全ての符号は、それぞれ前記と同じ意味を表す。Ｘ01は、Ｘ0から－（Ｏ－ＣＯ）ｎｎ－Ｏ－Ｌ２－（式（ＩＡ）で表される基）を除いた基を表す。ｎｎは、酸素原子に結合する炭素原子が－ＣＯ－又は－ＳＯ２－の時のみ０を表す。それ以外は、１である。）
この反応における溶剤としては、クロロホルム、アセトニトリル等が挙げられる。
反応温度は通常５℃～８０℃であり、反応時間は通常０．５時間～２４時間である。
式（Ｉ１－ａ）で表される塩は、特開２０１１－３９５０２号公報、特開２０１４－８８３６７号公報に記載された方法を参考にして合成することができ、以下で表される塩などが挙げられる。
Figure 0007289669000044
<Method for producing carboxylate (I)>
In carboxylate (I), the group represented by formula (IA) is —(O—CO)nn—OL 2 —* (L 2 has 1 to 1 carbon atoms, which may have a substituent. 36, wherein —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O—, —S—, —CO— or —SO 2 —.* represents the formula (IA ) represents the bonding position with the group represented by nn represents 0 only when the carbon atom bonded to the oxygen atom is —CO— or —SO 2 —. The carboxylate (salt represented by the formula (I1)) that binds to X 01 by reacting the salt represented by the formula (I1-a) with carbonyldiimidazole in a solvent, and then reacting the salt represented by the formula It can be produced by reacting with a compound represented by (I1-b).
Figure 0007289669000043
(In the formula, all symbols have the same meanings as above. X 01 is X 0 to -(O-CO)nn-OL 2 - (group represented by formula (IA)). nn represents 0 only when the carbon atom bonded to the oxygen atom is —CO— or —SO 2 —; otherwise, it is 1.)
Solvents in this reaction include chloroform, acetonitrile and the like.
The reaction temperature is generally 5° C. to 80° C., and the reaction time is generally 0.5 hour to 24 hours.
The salt represented by the formula (I1-a) can be synthesized with reference to the methods described in JP-A-2011-39502 and JP-A-2014-88367, and the salts represented by the following, etc. are mentioned.
Figure 0007289669000044

Figure 0007289669000045
Figure 0007289669000045

Figure 0007289669000046
Figure 0007289669000046

Figure 0007289669000047
式（Ｉ１―ｂ）で表される化合物としては、下記式で表される化合物等が挙げられ、市場より容易に入手することができる。
Figure 0007289669000048
Figure 0007289669000047
Examples of the compound represented by formula (I1-b) include compounds represented by the following formula, etc., which are readily available on the market.
Figure 0007289669000048

〔酸発生剤〕
本発明のカルボン酸塩（Ｉ）は、レジスト組成物中において、酸発生剤として作用させることができる。カルボン酸塩（Ｉ）をレジスト組成物中の酸発生剤として用いる場合、酸発生剤は２種類以上のカルボン酸塩（Ｉ）を含有してもよい。
また、本発明の酸発生剤は、後述するように、カルボン酸塩（Ｉ）以外のレジスト分野で公知の酸発生剤（以下「酸発生剤（Ｂ）」という場合がある。）をさらに含有してもよい。酸発生剤（Ｂ）は、単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 [Acid generator]
The carboxylate (I) of the present invention can act as an acid generator in the resist composition. When the carboxylate (I) is used as the acid generator in the resist composition, the acid generator may contain two or more carboxylates (I).
As will be described later, the acid generator of the present invention further contains a known acid generator in the field of resists (hereinafter sometimes referred to as "acid generator (B)") other than carboxylate (I). You may The acid generator (B) may be used alone or in combination of two or more.

酸発生剤（Ｂ）は、非イオン系又はイオン系のいずれを用いてもよい。非イオン系酸発生剤としては、スルホネートエステル類（例えば２－ニトロベンジルエステル、芳香族スルホネート、オキシムスルホネート、Ｎ－スルホニルオキシイミド、スルホニルオキシケトン、ジアゾナフトキノン ４－スルホネート）、スルホン類（例えばジスルホン、ケトスルホン、スルホニルジアゾメタン）等が挙げられる。イオン系酸発生剤としては、オニウムカチオンを含むオニウム塩（例えばジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩）が代表的である。オニウム塩のアニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン等が挙げられる。 The acid generator (B) may be either nonionic or ionic. Nonionic acid generators include sulfonate esters (eg 2-nitrobenzyl ester, aromatic sulfonate, oxime sulfonate, N-sulfonyloxyimide, sulfonyloxyketone, diazonaphthoquinone 4-sulfonate), sulfones (eg disulfone, ketosulfone, sulfonyldiazomethane) and the like. Typical ionic acid generators are onium salts containing onium cations (eg, diazonium salts, phosphonium salts, sulfonium salts, iodonium salts). The anions of the onium salts include sulfonate anions, sulfonylimide anions, sulfonylmethide anions, and the like.

酸発生剤（Ｂ）としては、特開昭６３－２６６５３号、特開昭５５－１６４８２４号、特開昭６２－６９２６３号、特開昭６３－１４６０３８号、特開昭６３－１６３４５２号、特開昭６２－１５３８５３号、特開昭６３－１４６０２９号、米国特許第３，７７９，７７８号、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３９１４４０７号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載の放射線によって酸を発生する化合物を使用することができる。また、公知の方法で製造した化合物を使用してもよい。酸発生剤（Ｂ）は、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of the acid generator (B) include JP-A-63-26653, JP-A-55-164824, JP-A-62-69263, JP-A-63-146038, JP-A-63-163452, JP-A-62-153853, JP-A-63-146029, US Pat. No. 3,779,778, US Pat. A compound that generates an acid upon exposure to radiation as described in 1. above can be used. Moreover, you may use the compound manufactured by the well-known method. The acid generator (B) may be used in combination of two or more.

酸発生剤（Ｂ）は、好ましくはフッ素含有酸発生剤であり、より好ましくは式（Ｂ１）で表される塩（以下「酸発生剤（Ｂ１）」という場合がある。）である。

Figure 0007289669000049
［式（Ｂ１）中、
Ｑｂ１及びＱｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｌｂ１は、炭素数１～２４の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。
Ｙは、置換基を有していてもよいメチル基又は置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｚ１＋は、有機カチオンを表す。］ The acid generator (B) is preferably a fluorine-containing acid generator, more preferably a salt represented by formula (B1) (hereinafter sometimes referred to as "acid generator (B1)").
Figure 0007289669000049
[In the formula (B1),
Q b1 and Q b2 each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group.
L b1 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 24 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—, and the saturated A hydrogen atom contained in the hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
Y represents an optionally substituted methyl group or an optionally substituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, included in the alicyclic hydrocarbon group- CH 2 - may be replaced by -O-, -S(O) 2 - or -CO-.
Z1 + represents an organic cation. ]

Ｑｂ１及びＱｂ２の表すペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
Ｑｂ１及びＱｂ２は、それぞれ独立に、フッ素原子又はトリフルオロメチル基であることが好ましく、ともにフッ素原子であることがより好ましい。 The perfluoroalkyl groups represented by Q b1 and Q b2 include trifluoromethyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoroisopropyl group, perfluorobutyl group, perfluorosec-butyl group, perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group and A perfluorohexyl group and the like can be mentioned.
Q b1 and Q b2 are each independently preferably a fluorine atom or a trifluoromethyl group, more preferably both a fluorine atom.

Ｌｂ１における２価の飽和炭化水素基としては、直鎖状アルカンジイル基、分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、これらの基のうち２種以上を組合せることにより形成される基でもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基、トリデカン－１，１３－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基、ペンタデカン－１，１５－ジイル基、ヘキサデカン－１，１６－ジイル基及びヘプタデカン－１，１７－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；
エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；
シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基である単環式の２価の脂環式飽和炭化水素基；
ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。 The divalent saturated hydrocarbon group for L b1 includes a linear alkanediyl group, a branched alkanediyl group, a monocyclic or polycyclic bivalent alicyclic saturated hydrocarbon group, and these A group formed by combining two or more of the groups may also be used.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1,6-diyl group, heptane-1 ,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group, dodecane-1,12-diyl group , tridecane-1,13-diyl group, tetradecane-1,14-diyl group, pentadecane-1,15-diyl group, hexadecane-1,16-diyl group and heptadecane-1,17-diyl group. alkanediyl group;
ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2,4-diyl group, 2-methylpropane- Branched alkanediyl groups such as 1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, and 2-methylbutane-1,4-diyl group;
monocyclic 2 which is a cycloalkanediyl group such as cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,5-diyl group; alicyclic saturated hydrocarbon group;
Polycyclic bivalent alicyclic saturated hydrocarbons such as norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl group and the like.

Ｌｂ１で表される２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わった基としては、例えば、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）のいずれかで表される基が挙げられる。なお、式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）で表される基及びそれらの具体例である式（ｂ１－４）～式（ｂ１－１１）で表される基において、＊及び＊＊は結合部位を表し、＊は－Ｙとの結合部位を表す。

Figure 0007289669000050
［式（ｂ１－１）中、
Ｌｂ２は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ３は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ２とＬｂ３との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－２）中、
Ｌｂ４は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ５は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ４とＬｂ５との炭素数合計は、２２以下である。
式（ｂ１－３）中、
Ｌｂ６は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
Ｌｂ７は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
ただし、Ｌｂ６とＬｂ７との炭素数合計は、２３以下である。］ Groups in which —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is replaced with —O— or —CO— include, for example, formulas (b1-1) to (b1-3) The group represented by any one of is mentioned. In addition, in the groups represented by formulas (b1-1) to (b1-3) and the groups represented by formulas (b1-4) to (b1-11) which are specific examples thereof, * and * * represents the binding site and * represents the binding site with -Y.
Figure 0007289669000050
[In formula (b1-1),
L b2 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b3 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—.
However, the total number of carbon atoms of L b2 and L b3 is 22 or less.
In formula (b1-2),
L b4 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—.
However, the total number of carbon atoms of L b4 and L b5 is 22 or less.
In formula (b1-3),
L b6 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
L b7 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group, and the saturated —CH 2 — contained in the hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—.
However, the total number of carbon atoms of L b6 and L b7 is 23 or less. ]

式（ｂ１－１）～式（ｂ１－３）で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。
２価の飽和炭化水素基としては、Ｌｂ１の２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。 In the groups represented by formulas (b1-1) to (b1-3), when —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with —O— or —CO—, carbon before replacement Let the number be the number of carbon atoms of the saturated hydrocarbon group.
As the divalent saturated hydrocarbon group, the same divalent saturated hydrocarbon group as L b1 can be mentioned.

Ｌｂ２は、好ましくは単結合である。
Ｌｂ３は、好ましくは炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ４は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ５は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ６は、好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌｂ７は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。 L b2 is preferably a single bond.
L b3 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b4 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b5 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b6 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b7 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group; —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—.

Ｌｂ１で表される２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わった基としては、式（ｂ１－１）又は式（ｂ１－３）で表される基が好ましい。 The group in which —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L b1 is replaced with —O— or —CO— is represented by formula (b1-1) or formula (b1-3). are preferred.

式（ｂ１－１）で表される基としては、式（ｂ１－４）～式（ｂ１－８）でそれぞれ表される基が挙げられる。

Figure 0007289669000051
［式（ｂ１－４）中、
Ｌｂ８は、単結合又は炭素数１～２２の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
式（ｂ１－５）中、
Ｌｂ９は、炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１０は、単結合又は炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌｂ９及びＬｂ１０の合計炭素数は２０以下である。
式（ｂ１－６）中、
Ｌｂ１１は、炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌｂ１２は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌｂ１１及びＬｂ１２の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１－７）中、
Ｌｂ１３は、炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌｂ１４は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１５は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌｂ１３～Ｌｂ１５の合計炭素数は１９以下である。
式（ｂ１－８）中、
Ｌｂ１６は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｌｂ１７は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌｂ１８は、単結合又は炭素数１～１７の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又はヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌｂ１６～Ｌｂ１８の合計炭素数は１９以下である。］ Examples of the group represented by formula (b1-1) include groups represented by formulas (b1-4) to (b1-8).
Figure 0007289669000051
[In formula (b1-4),
L b8 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
In formula (b1-5),
L b9 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—.
L b10 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b9 and L b10 is 20 or less.
In formula (b1-6),
L b11 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b12 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b11 and L b12 is 21 or less.
In formula (b1-7),
L b13 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 19 carbon atoms.
L b14 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group is replaced with —O— or —CO— good too.
L b15 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b13 to L b15 is 19 or less.
In formula (b1-8),
L b16 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO—.
L b17 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms.
L b18 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom or a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b16 to L b18 is 19 or less. ]

Ｌｂ８は、好ましくは炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ９は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１０は、好ましくは単結合又は炭素数１～１９の２価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１１は、好ましくは炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１２は、好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１３は、好ましくは炭素数１～１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１４は、好ましくは単結合又は炭素数１～６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１５は、好ましくは単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数１～８の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１６は、好ましくは炭素数１～１２の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１７は、好ましくは炭素数１～６の２価の飽和炭化水素基である。
Ｌｂ１８は、好ましくは単結合又は炭素数１～１７の２価の飽和炭化水素基であり、より好ましくは単結合又は炭素数１～４の２価の飽和炭化水素基である。 L b8 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
L b9 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b10 is preferably a single bond or a C 1-19 divalent saturated hydrocarbon group, more preferably a single bond or a C 1-8 divalent saturated hydrocarbon group.
L b11 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b12 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L b13 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b14 is preferably a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b15 is preferably a single bond or a C 1-18 divalent saturated hydrocarbon group, more preferably a single bond or a C 1-8 divalent saturated hydrocarbon group.
L b16 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
L b17 is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
L b18 is preferably a single bond or a C 1-17 divalent saturated hydrocarbon group, more preferably a single bond or a C 1-4 divalent saturated hydrocarbon group.

式（ｂ１－３）で表される基としては、式（ｂ１－９）～式（ｂ１－１１）でそれぞれ表される基が挙げられる。

Figure 0007289669000052
式（ｂ１－９）中、
Ｌb19は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌb20は、単結合又は炭素数１～２３の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌb19及びＬb20の合計炭素数は２３以下である。
式（ｂ１－１０）中、
Ｌb21は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌb22は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌb23は、単結合又は炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌb21、Ｌb22及びＬb23の合計炭素数は２１以下である。
式（ｂ１－１１）中、
Ｌb24は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子に置換されていてもよい。
Ｌb25は、炭素数１～２１の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｌb26は、単結合又は炭素数１～２０の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子、ヒドロキシ基又はアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよい。該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該アルキルカルボニルオキシ基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基に置換されていてもよい。
ただし、Ｌb24、Ｌb25及びＬb26の合計炭素数は２１以下である。 Examples of the group represented by formula (b1-3) include groups represented by formulas (b1-9) to (b1-11).
Figure 0007289669000052
In formula (b1-9),
L b19 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b20 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 23 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group being substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group; good too. --CH 2 -- contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with --O-- or --CO--, and a hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b19 and L b20 is 23 or less.
In formula (b1-10),
L b21 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b22 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b23 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group; good too. --CH 2 -- contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with --O-- or --CO--, and a hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b21 , L b22 and L b23 is 21 or less.
In formula (b1-11),
L b24 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a fluorine atom.
L b25 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 21 carbon atoms.
L b26 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with a fluorine atom, a hydroxy group or an alkylcarbonyloxy group; good too. --CH 2 -- contained in the alkylcarbonyloxy group may be replaced with --O-- or --CO--, and a hydrogen atom contained in the alkylcarbonyloxy group may be substituted with a hydroxy group.
However, the total carbon number of L b24 , L b25 and L b26 is 21 or less.

なお、式（ｂ１－９）で表される基から式（ｂ１－１１）で表される基においては、飽和炭化水素基に含まれる水素原子がアルキルカルボニルオキシ基に置換されている場合、置き換わる前の炭素数を該飽和炭化水素基の炭素数とする。 In addition, in the group represented by formula (b1-9) to the group represented by formula (b1-11), when the hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group is substituted with an alkylcarbonyloxy group, it is replaced Let the previous carbon number be the carbon number of this saturated hydrocarbon group.

アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、アダマンチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。 The alkylcarbonyloxy group includes an acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, a cyclohexylcarbonyloxy group, an adamantylcarbonyloxy group and the like.

式（ｂ１－４）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000053
Examples of the group represented by formula (b1-4) include the following.
Figure 0007289669000053

式（ｂ１－５）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000054
Examples of the group represented by formula (b1-5) include the following.
Figure 0007289669000054

式（ｂ１－６）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000055
Examples of the group represented by formula (b1-6) include the following.
Figure 0007289669000055

式（ｂ１－７）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000056
Examples of the group represented by formula (b1-7) include the following.
Figure 0007289669000056

式（ｂ１－８）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000057
Examples of the group represented by formula (b1-8) include the following.
Figure 0007289669000057

式（ｂ１－２）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000058
Examples of the group represented by formula (b1-2) include the following.
Figure 0007289669000058

式（ｂ１－９）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000059
Examples of the group represented by formula (b1-9) include the following.
Figure 0007289669000059

式（ｂ１－１０）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000060
Examples of the group represented by formula (b1-10) include the following.
Figure 0007289669000060

式（ｂ１－１１）で表される基としては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000061
Examples of the group represented by formula (b1-11) include the following.
Figure 0007289669000061

Ｙで表される脂環式炭化水素基としては、式（Ｙ１）～式（Ｙ１１）、式（Ｙ３６）～式（Ｙ３８）で表される基が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－で置き換わる場合、その数は１つでもよいし、２以上でもよい。そのような基としては、式（Ｙ１２）～式（Ｙ３５）、式（Ｙ３９）～式（Ｙ４１）で表される基が挙げられる。 The alicyclic hydrocarbon group represented by Y includes groups represented by formulas (Y1) to (Y11) and formulas (Y36) to (Y38).
When —CH 2 — contained in the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is replaced with —O—, —S(O) 2 — or —CO—, the number may be 1 or 2 or more. good. Such groups include groups represented by formulas (Y12) to (Y35) and formulas (Y39) to (Y41).

Figure 0007289669000062
Ｙで表される脂環式炭化水素基としては、好ましくは式（Ｙ１）～式（Ｙ２０）、式（Ｙ２６）、式（Ｙ２７）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）～式（Ｙ４１）のいずれかで表される基であり、より好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ１６）、式（Ｙ２０）、式（Ｙ２６）、式（Ｙ２７）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３１）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基であり、さらに好ましくは式（Ｙ１１）、式（Ｙ１５）、式（Ｙ２０）、式（Ｙ３０）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）で表される基である。
Ｙで表される脂環式炭化水素基が式（Ｙ２８）～式（Ｙ３５）、式（Ｙ３９）又は式（Ｙ４０）等の、酸素原子を含むスピロ環である場合には、２つの酸素原子間のアルカンジイル基は、１以上のフッ素原子を有することが好ましい。また、ケタール構造に含まれるアルカンジイル基のうち、酸素原子に隣接するメチレン基には、フッ素原子が置換されていないのが好ましい。
Figure 0007289669000062
The alicyclic hydrocarbon group represented by Y is preferably represented by formulas (Y1) to (Y20), formula (Y26), formula (Y27), formula (Y30), formula (Y31), and formula (Y39). to a group represented by any one of formula (Y41), more preferably formula (Y11), formula (Y15), formula (Y16), formula (Y20), formula (Y26), formula (Y27), formula (Y30), a group represented by formula (Y31), formula (Y39) or formula (Y40), more preferably formula (Y11), formula (Y15), formula (Y20), formula (Y30) or formula (Y39) or a group represented by the formula (Y40).
When the alicyclic hydrocarbon group represented by Y is a spiro ring containing an oxygen atom such as formulas (Y28) to (Y35), formula (Y39) or formula (Y40), two oxygen atoms The intervening alkanediyl groups preferably have one or more fluorine atoms. Further, among the alkanediyl groups contained in the ketal structure, the methylene group adjacent to the oxygen atom is preferably not substituted with a fluorine atom.

Ｙで表されるメチル基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、グリシジルオキシ基、－（ＣＨ２）ｊａ－ＣＯ－Ｏ－Ｒｂ１基又は－（ＣＨ２）ｊａ－Ｏ－ＣＯ－Ｒｂ１基（式中、Ｒｂ１は、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。ｊａは、０～４のいずれかの整数を表す。炭素数１～１６のアルキル基、及び炭素数３～１６の脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。）等が挙げられる。
Ｙで表される脂環式炭化水素基の置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、ヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基、炭素数１～１２のアルコキシ基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基、炭素数７～２１のアラルキル基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、グリシジルオキシ基、－（ＣＨ２）ｊａ－ＣＯ－Ｏ－Ｒｂ１基又は－（ＣＨ２）ｊａ－Ｏ－ＣＯ－Ｒｂ１基（式中、Ｒｂ１は、炭素数１～１６のアルキル基、炭素数３～１６の脂環式炭化水素基又は炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。ｊａは、０～４のいずれかの整数を表す。炭素数１～１６のアルキル基、及び炭素数３～１６の脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。）等が挙げられる。 Examples of substituents of the methyl group represented by Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, a glycidyloxy group, -( CH 2 ) ja —CO—O—R b1 group or —(CH 2 ) ja —O—CO—R b1 group (wherein R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, represents an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group combining these, ja represents an integer of 0 to 4. an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, and -CH 2 - contained in an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms may be replaced with -O-, -S(O) 2 - or -CO-).
Substituents for the alicyclic hydrocarbon group represented by Y include a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms optionally substituted by a hydroxy group, and an alicyclic group having 3 to 16 carbon atoms. hydrocarbon group, alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, aralkyl group having 7 to 21 carbon atoms, alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, glycidyloxy group, -( CH 2 ) ja —CO—O—R b1 group or —(CH 2 ) ja —O—CO—R b1 group (wherein R b1 is an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, represents an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group combining these, ja represents an integer of 0 to 4, an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, and -CH 2 - contained in an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 16 carbon atoms may be replaced with -O-, -S(O) 2 - or -CO-).

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、アダマンチル基等が挙げられる。
なお、脂環式炭化水素基は鎖式炭化水素基を有していてもよく、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基等が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
芳香族炭化水素基は、鎖式炭化水素基又は脂環式炭化水素基を有していてもよく、炭素数１～１８の鎖式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、ｐ－エチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等）、及び炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロへキシルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基等）等が挙げられる。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２－エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基等が挙げられる。
ヒドロキシ基で置換されているアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシルオキシ基及びドデシルオキシ基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、ナフチルメチル基及びナフチルエチル基等が挙げられる。
アルキルカルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。 Halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
Examples of alicyclic hydrocarbon groups include cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, norbornyl, and adamantyl groups.
The alicyclic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group such as a methylcyclohexyl group and a dimethylcyclohexyl group.
Examples of aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, biphenylyl, naphthyl, anthryl, and phenanthryl groups.
The aromatic hydrocarbon group may have a chain hydrocarbon group or an alicyclic hydrocarbon group, and an aromatic hydrocarbon group having a chain hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms (tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, p-ethylphenyl group, p-tert-butylphenyl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), and lipids having 3 to 18 carbon atoms. Examples thereof include aromatic hydrocarbon groups having a cyclic hydrocarbon group (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.).
Examples of alkyl groups include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group and nonyl. group, decyl group, undecyl group, dodecyl group and the like.
Alkyl groups substituted with a hydroxy group include hydroxyalkyl groups such as a hydroxymethyl group and a hydroxyethyl group.
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy, hexyloxy, heptyloxy, octyloxy, decyloxy and dodecyloxy groups.
Aralkyl groups include benzyl, phenethyl, phenylpropyl, naphthylmethyl and naphthylethyl groups.
Alkylcarbonyl groups include, for example, acetyl, propionyl and butyryl groups.

Ｙとしては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000063
Examples of Y include the following.
Figure 0007289669000063

Figure 0007289669000064
Figure 0007289669000064

Ｙは、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり、より好ましく置換基を有していてもよいアダマンチル基であり、該脂環式炭化水素基又はアダマンチル基を構成する－ＣＨ２－は－ＣＯ－、－Ｓ（Ｏ）２－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。Ｙは、さらに好ましくはアダマンチル基、ヒドロキシアダマンチル基、オキソアダマンチル基又は下記で表される基である。

Figure 0007289669000065
Y is preferably an optionally substituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, more preferably an optionally substituted adamantyl group, the alicyclic carbonized —CH 2 — constituting a hydrogen group or an adamantyl group may be replaced with —CO—, —S(O) 2 — or —CO—. Y is more preferably an adamantyl group, a hydroxyadamantyl group, an oxoadamantyl group, or a group represented below.
Figure 0007289669000065

式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、式（Ｂ１－Ａ－１）～式（Ｂ１－Ａ－５５）で表されるアニオン〔以下、式番号に応じて「アニオン（Ｂ１－Ａ－１）」等という場合がある。〕が好ましく、式（Ｂ１－Ａ－１）～式（Ｂ１－Ａ－４）、式（Ｂ１－Ａ－９）、式（Ｂ１－Ａ－１０）、式（Ｂ１－Ａ－２４）～式（Ｂ１－Ａ－３３）、式（Ｂ１－Ａ－３６）～式（Ｂ１－Ａ－４０）、式（Ｂ１－Ａ－４７）～式（Ｂ１－Ａ－５５）のいずれかで表されるアニオンがより好ましい。

Figure 0007289669000066
Examples of the sulfonate anion in the salt represented by formula (B1) include anions represented by formulas (B1-A-1) to (B1-A-55) [hereinafter referred to as "anion (B1 -A-1)”, etc. ] is preferable, formula (B1-A-1) ~ formula (B1-A-4), formula (B1-A-9), formula (B1-A-10), formula (B1-A-24) ~ formula (B1-A-33), represented by formula (B1-A-36) ~ formula (B1-A-40), formula (B1-A-47) ~ formula (B1-A-55) Anions are more preferred.
Figure 0007289669000066

Figure 0007289669000067
Figure 0007289669000067

Figure 0007289669000068
Figure 0007289669000068

Figure 0007289669000069
Figure 0007289669000069

Figure 0007289669000070
Figure 0007289669000070

Figure 0007289669000071
Figure 0007289669000071

Figure 0007289669000072
ここで、Ｒｉ２～Ｒｉ７は、それぞれ独立に、例えば、炭素数１～４のアルキル基、好ましくはメチル基又はエチル基である。Ｒｉ８は、例えば、炭素数１～１２の脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数１～４のアルキル基、炭素数５～１２の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。ＬＡ４１は、単結合又は炭素数１～４のアルカンジイル基である。
Ｑｂ１及びＱｂ２は、上記と同じ意味を表す。
式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとしては、具体的には、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたアニオンが挙げられる。
Figure 0007289669000072
Here, R i2 to R i7 are each independently, for example, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably a methyl group or an ethyl group. R i8 is, for example, an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a combination thereof. group, more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group. L A41 is a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Q b1 and Q b2 have the same meaning as above.
Specific examples of the sulfonate anion in the salt represented by formula (B1) include anions described in JP-A-2010-204646.

式（Ｂ１）で表される塩におけるスルホン酸アニオンとして好ましくは、式（Ｂ１ａ－１）～式（Ｂ１ａ－３４）でそれぞれ表されるアニオンが挙げられる。

Figure 0007289669000073
Preferred examples of the sulfonate anion in the salt represented by formula (B1) include anions represented by formulas (B1a-1) to (B1a-34).
Figure 0007289669000073

Figure 0007289669000074
Figure 0007289669000074

Figure 0007289669000075
Figure 0007289669000075

Figure 0007289669000076
Figure 0007289669000076

なかでも、式（Ｂ１ａ－１）～式（Ｂ１ａ－３）及び式（Ｂ１ａ－７）～式（Ｂ１ａ－１６）、式（Ｂ１ａ－１８）、式（Ｂ１ａ－１９）、式（Ｂ１ａ－２２）～式（Ｂ１ａ－３０）のいずれかで表されるアニオンが好ましい。 Among them, formula (B1a-1) ~ formula (B1a-3) and formula (B1a-7) ~ formula (B1a-16), formula (B1a-18), formula (B1a-19), formula (B1a-22 ) to Formula (B1a-30) are preferred.

Ｚ１＋の有機カチオンとしては、カルボン酸塩（Ｉ）におけるＺ＋と同じものが挙げられる。 Examples of the organic cation of Z1 + include the same ones as those of Z + in the carboxylate (I).

酸発生剤（Ｂ）は、上述のスルホン酸アニオン及び上述の有機カチオンの組合せであり、これらは任意に組合せることができる。酸発生剤（Ｂ）としては、好ましくは式（Ｂ１ａ－１）～式（Ｂ１ａ－３）及び式（Ｂ１ａ－７）～式（Ｂ１ａ－１６）、式（Ｂ１ａ－１８）、式（Ｂ１ａ－１９）、式（Ｂ１ａ－２２）～式（Ｂ１ａ－３４）のいずれかで表されるアニオンと、カチオン（ｂ２－１）又はカチオン（ｂ２－３）との組合せが挙げられる。 The acid generator (B) is a combination of the above sulfonate anion and the above organic cation, and these can be combined arbitrarily. As the acid generator (B), preferably formulas (B1a-1) to (B1a-3) and formulas (B1a-7) to (B1a-16), formulas (B1a-18), and formulas (B1a- 19), a combination of an anion represented by any one of formulas (B1a-22) to (B1a-34) and a cation (b2-1) or a cation (b2-3).

酸発生剤（Ｂ）としては、好ましくは式（Ｂ１－１）～式（Ｂ１－４８）でそれぞれ表されるものが挙げられる。中でもアリールスルホニウムカチオンを含むものが好ましく、式（Ｂ１－１）～式（Ｂ１－３）、式（Ｂ１－５）～式（Ｂ１－７）、式（Ｂ１－１１）～式（Ｂ１－１４）、式（Ｂ１－２０）～式（Ｂ１－２６）、式（Ｂ１－２９）、式（Ｂ１－３１）～式（Ｂ１－４８）で表されるものがとりわけ好ましい。

Figure 0007289669000077
As the acid generator (B), those represented by formulas (B1-1) to (B1-48) are preferred. Among them, those containing an arylsulfonium cation are preferable, and formulas (B1-1) to (B1-3), formulas (B1-5) to (B1-7), formulas (B1-11) to (B1-14) ), formulas (B1-20) to (B1-26), formulas (B1-29), and formulas (B1-31) to (B1-48) are particularly preferred.
Figure 0007289669000077

Figure 0007289669000078
Figure 0007289669000078

Figure 0007289669000079
Figure 0007289669000079

Figure 0007289669000080
Figure 0007289669000080

Figure 0007289669000081
Figure 0007289669000081

Figure 0007289669000082
Figure 0007289669000082

Figure 0007289669000083
Figure 0007289669000083

酸発生剤として、カルボン酸塩（Ｉ）と酸発生剤（Ｂ）とを含有する場合、カルボン酸塩（Ｉ）と酸発生剤（Ｂ）との含有量の比（質量比；カルボン酸塩（Ｉ）：酸発生剤（Ｂ））は、通常、１：９９～１００：０、好ましくは１：９９～９９：１、より好ましくは２：９８～９８：２、さらに好ましくは５：９５～９５：５である。 When carboxylate (I) and acid generator (B) are contained as acid generators, the ratio of the contents of carboxylate (I) and acid generator (B) (mass ratio; carboxylate (I): acid generator (B)) is usually 1:99 to 100:0, preferably 1:99 to 99:1, more preferably 2:98 to 98:2, and still more preferably 5:95. ~95:5.

〔レジスト組成物〕
レジスト組成物は、本発明のカルボン酸塩（Ｉ）を含有するカルボン酸発生剤と、酸不安定基を有する樹脂（以下「樹脂（Ａ）」という場合がある）とを含有する。ここでの「酸不安定基」は、脱離基を有し、酸との接触により脱離基が脱離して、親水性基（例えば、ヒドロキシ基又はカルボキシ基）を形成する基を意味する。
本発明のレジスト組成物は、カルボン酸塩（Ｉ）以外のカルボン酸発生剤として、レジスト分野で公知のカルボン酸発生剤を含有していてもよい。
レジスト組成物は、クエンチャー（以下「クエンチャー（Ｃ）」という場合がある）及び／又は溶剤（以下「溶剤（Ｅ）」という場合がある）を含有することが好ましい。 [Resist composition]
The resist composition contains a carboxylic acid generator containing the carboxylate (I) of the present invention and a resin having an acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "resin (A)"). The term "acid-labile group" as used herein means a group having a leaving group that leaves upon contact with an acid to form a hydrophilic group (e.g., a hydroxy group or a carboxy group). .
The resist composition of the present invention may contain a carboxylic acid generator known in the field of resists as a carboxylic acid generator other than the carboxylate (I).
The resist composition preferably contains a quencher (hereinafter sometimes referred to as "quencher (C)") and/or a solvent (hereinafter sometimes referred to as "solvent (E)").

＜酸発生剤＞
本発明のレジスト組成物においては、カルボン酸塩（Ｉ）の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、０．１質量％以上３５質量％以下が好ましく、０．５質量％以上３０質量％以下がより好ましく、１質量％以上２５質量％以下がさらに好ましい。
また、酸発生剤（Ｂ）を含む場合には、カルボン酸塩（Ｉ）及び酸発生剤（Ｂ）の合計含有率は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１質量部以上（より好ましくは３質量部以上）、好ましくは４０質量部以下（より好ましくは３５質量部以下）である。本発明のレジスト組成物は、酸発生剤（Ｂ）の１種を単独で含有してもよく、複数種を含有してもよい。 <Acid generator>
In the resist composition of the present invention, the content of carboxylate (I) is preferably 0.1% by mass or more and 35% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or more and 30% by mass or more, based on the solid content of the resist composition. % by mass or less is more preferable, and 1% by mass or more and 25% by mass or less is even more preferable.
When the acid generator (B) is included, the total content of the carboxylate (I) and the acid generator (B) is preferably 1 part by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin (A). (more preferably 3 parts by mass or more), preferably 40 parts by mass or less (more preferably 35 parts by mass or less). The resist composition of the present invention may contain one type of acid generator (B) alone, or may contain a plurality of types.

＜樹脂（Ａ）＞
樹脂（Ａ）は、酸不安定基を有する構造単位（以下「構造単位（ａ１）」という場合がある）を有する。樹脂（Ａ）は、さらに、構造単位（ａ１）以外の構造単位を含むことが好ましい。構造単位（ａ１）以外の構造単位としては、酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ｓ）」という場合がある）、構造単位（ａ１）及び構造単位（ｓ）以外の構造単位（例えば、後述するハロゲン原子を有する構造単位（以下「構造単位（ａ４）」という場合がある）、後述する非脱離炭化水素基を有する構造単位（以下「構造単位（ａ５）という場合がある）及びその他の当該分野で公知のモノマーに由来する構造単位等が挙げられる。 <Resin (A)>
Resin (A) has a structural unit having an acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a1)"). The resin (A) preferably further contains structural units other than the structural unit (a1). Structural units other than the structural unit (a1) include structural units having no acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (s)"), structural units other than the structural unit (a1) and the structural unit (s). Structural units (for example, structural units having a halogen atom described later (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a4)"), structural units having a non-eliminating hydrocarbon group described later (hereinafter referred to as "structural unit (a5) ) and other structural units derived from monomers known in the art.

〈構造単位（ａ１）〉
構造単位（ａ１）は、酸不安定基を有するモノマー（以下「モノマー（ａ１）」という場合がある）から導かれる。
樹脂（Ａ）に含まれる酸不安定基は、式（１）で表される基（以下、基（１）とも記す）及び／又は式（２）で表される基（以下、基（２）とも記す）が好ましい。

Figure 0007289669000084
［式（１）中、Ｒａ１、Ｒａ２及びＲａ３は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～２０の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ｒa1及びＲa2は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに炭素数３～２０の非芳香族炭化水素環を形成する。
ｍａ及びｎａは、それぞれ独立して、０又は１を表し、ｍａ及びｎａの少なくとも一方は１を表す。
＊は結合部位を表す。］
Figure 0007289669000085
［式（２）中、Ｒａ１’及びＲａ２’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、Ｒａ３’は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒａ２’及びＲａ３’は互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに炭素数３～２０の複素環を形成し、該炭化水素基及び該複素環に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わってもよい。
Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を表す。
ｎａ’は、０又は１を表す。
＊は結合部位を表す。］ <Structural unit (a1)>
The structural unit (a1) is derived from a monomer having an acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "monomer (a1)").
The acid-labile group contained in the resin (A) is a group represented by formula (1) (hereinafter also referred to as group (1)) and/or a group represented by formula (2) (hereinafter referred to as group (2 )) is preferable.
Figure 0007289669000084
[In formula (1), R a1 , R a2 and R a3 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, or a group combining these; Alternatively, R a1 and R a2 are bonded to each other to form a non-aromatic hydrocarbon ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atoms to which they are bonded.
ma and na each independently represent 0 or 1, and at least one of ma and na represents 1;
* represents a binding site. ]
Figure 0007289669000085
[In formula (2), R a1′ and R a2′ each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and R a3′ represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. or R a2′ and R a3′ are bonded to each other to form a heterocyclic ring having 3 to 20 carbon atoms together with the carbon atom to which they are bonded and X, and —CH 2 contained in the hydrocarbon group and the heterocyclic ring - may be replaced by -O- or -S-.
X represents an oxygen atom or a sulfur atom.
na' represents 0 or 1;
* represents a binding site. ]

Ｒａ１、Ｒａ２及びＲａ３におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基等が挙げられる。
Ｒａ１、Ｒａ２及びＲａ３における脂環式炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合部位を表す。）等が挙げられる。Ｒａ１、Ｒａ２及びＲａ３の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは３～１６である。

Figure 0007289669000086
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基としては、例えば、メチルシクロヘキシル基、ジメチルシクロへキシル基、メチルノルボルニル基、シクロヘキシルメチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニルエチル基等が挙げられる。
好ましくは、ｍａは０であり、ｎａは１である。
Ｒa1及びＲa2が互いに結合して非芳香族炭化水素環を形成する場合の－Ｃ（Ｒa1）（Ｒa2）（Ｒa3）としては、下記の環が挙げられる。非芳香族炭化水素環は、好ましくは炭素数３～１２である。＊は－Ｏ－との結合部位を表す。
Figure 0007289669000087
Examples of alkyl groups for R a1 , R a2 and R a3 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group and octyl group.
The alicyclic hydrocarbon groups for R a1 , R a2 and R a3 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl groups. Examples of polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups (* represents a bonding site). The alicyclic hydrocarbon groups of R a1 , R a2 and R a3 preferably have 3 to 16 carbon atoms.
Figure 0007289669000086
Groups in which an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group are combined include, for example, methylcyclohexyl group, dimethylcyclohexyl group, methylnorbornyl group, cyclohexylmethyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornyl An ethyl group etc. are mentioned.
Preferably, ma is 0 and na is 1.
-C(R a1 )(R a2 )(R a3 ) when R a1 and R a2 combine to form a non-aromatic hydrocarbon ring include the following rings. The non-aromatic hydrocarbon ring preferably has 3 to 12 carbon atoms. * represents a binding site with -O-.
Figure 0007289669000087

Ｒａ１’、Ｒａ２’及びＲａ３’における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基及びこれらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。
アルキル基及び脂環式炭化水素基は、Ｒａ１、Ｒａ２及びＲａ３で挙げた基と同様のものが挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基（例えばシクロアルキルアルキル基）、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等）、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロヘキシルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基等）、フェニルシクロヘキシル基等のアリール－シクロアルキル基等が挙げられる。
Ｒａ２’及びＲａ３’が互いに結合してそれらが結合する炭素原子及びＸとともに複素環を形成する場合、－Ｃ（Ｒa1’）（Ｒa3’）－Ｘ－Ｒa2’としては、下記の環が挙げられる。＊は、結合部位を表す。

Figure 0007289669000088
Ｒａ１’及びＲａ２’のうち、少なくとも１つは水素原子であることが好ましい。
ｎａ’は、好ましくは０である。 Examples of hydrocarbon groups for R a1′ , R a2′ and R a3′ include alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups and groups formed by combining these groups.
Examples of the alkyl group and the alicyclic hydrocarbon group include the same groups as those listed for R a1 , R a2 and R a3 .
Aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, naphthyl, anthryl, biphenyl, and phenanthryl groups.
Examples of the combined group include a group obtained by combining the aforementioned alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group (for example, a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methyl phenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon groups aromatic hydrocarbon groups (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), aryl-cycloalkyl groups such as phenylcyclohexyl group, and the like.
When R a2′ and R a3′ are bonded to each other to form a heterocyclic ring together with the carbon atom to which they are bonded and X, —C(R a1′ )(R a3′ )—X—R a2′ is represented by the following ring. * represents the binding site.
Figure 0007289669000088
At least one of R a1′ and R a2′ is preferably a hydrogen atom.
na' is preferably zero.

基（１）としては、以下の基が挙げられる。
式（１）においてＲａ１、Ｒａ２及びＲａ３がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。当該基としては、ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル基が好ましい。
式（１）において、Ｒa1、Ｒa2が、これらが結合する炭素原子と一緒になってアダマンチル基を形成し、Ｒa3がアルキル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
式（１）において、Ｒa1及びＲa2がそれぞれ独立してアルキル基であり、Ｒa3がアダマンチル基であり、ｍａ＝０であり、ｎａ＝１である基。
基（１）としては、具体的には以下の基が挙げられる。＊は結合部位を表す。

Figure 0007289669000089
Group (1) includes the following groups.
A group in which R a1 , R a2 and R a3 in formula (1) are alkyl groups, ma=0 and na=1. The group is preferably a tert-butoxycarbonyl group.
In formula (1), R a1 and R a2 form an adamantyl group together with the carbon atoms to which they are attached, R a3 is an alkyl group, ma = 0 and na = 1. .
A group in which R a1 and R a2 are each independently an alkyl group, R a3 is an adamantyl group, ma=0 and na=1 in formula (1).
Specific examples of the group (1) include the following groups. * represents a binding site.
Figure 0007289669000089

基（２）の具体例としては、以下の基が挙げられる。＊は結合部位を表す。

Figure 0007289669000090
Specific examples of group (2) include the following groups. * represents a binding site.
Figure 0007289669000090

モノマー（ａ１）は、好ましくは、酸不安定基とエチレン性不飽和結合とを有するモノマー、より好ましくは酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーである。 Monomer (a1) is preferably a monomer having an acid labile group and an ethylenically unsaturated bond, more preferably a (meth)acrylic monomer having an acid labile group.

酸不安定基を有する（メタ）アクリル系モノマーのうち、好ましくは、炭素数５～２０の脂環式炭化水素基を有するものが挙げられる。脂環式炭化水素基のような嵩高い構造を有するモノマー（ａ１）に由来する構造単位を有する樹脂（Ａ）をレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度を向上させることができる。 Among (meth)acrylic monomers having an acid-labile group, those having an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 20 carbon atoms are preferred. When the resin (A) having a structural unit derived from the monomer (a1) having a bulky structure such as an alicyclic hydrocarbon group is used in the resist composition, the resolution of the resist pattern can be improved.

基（１）を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位として、好ましくは、式（ａ１－０）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－０）という場合がある。）、式（ａ１－１）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－１）という場合がある。）又は式（ａ１－２）で表される構造単位（以下、構造単位（ａ１－２）という場合がある。）が挙げられる。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

Figure 0007289669000091
［式（ａ１－０）、式（ａ１－１）及び式（ａ１－２）中、
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ１－ＣＯ－Ｏ－を表し、ｋ１は１～７のいずれかの整数を表し、＊は－ＣＯ－との結合部位を表す。
Ｒa01、Ｒａ４及びＲａ５は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa02、Ｒa03及びＲa04は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表す。
Ｒａ６及びＲａ７は、それぞれ独立に、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基又はこれらを組合せることにより形成される基を表す。
ｍ１は０～１４のいずれかの整数を表す。
ｎ１は０～１０のいずれかの整数を表す。
ｎ１’は０～３のいずれかの整数を表す。］ The structural unit derived from a (meth)acrylic monomer having group (1) is preferably a structural unit represented by formula (a1-0) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-0).) , a structural unit represented by formula (a1-1) (hereinafter sometimes referred to as structural unit (a1-1)) or a structural unit represented by formula (a1-2) (hereinafter, structural unit (a1- 2) may be mentioned). These may be used alone or in combination of two or more.
Figure 0007289669000091
[In formula (a1-0), formula (a1-1) and formula (a1-2),
L a01 , L a1 and L a2 each independently represent —O— or *—O—(CH 2 ) k1 —CO—O—, k1 represents an integer of 1 to 7, * is represents the binding site with -CO-.
R a01 , R a4 and R a5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a02 , R a03 and R a04 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a combination thereof.
R a6 and R a7 each independently represent an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these.
m1 represents any integer from 0 to 14;
n1 represents any integer from 0 to 10;
n1' represents an integer of 0 to 3; ]

Ｒa01、Ｒa4及びＲa5は、好ましくはメチル基である。
Ｌa01、Ｌａ１及びＬａ２は、好ましくは酸素原子又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ０１－ＣＯ－Ｏ－であり（但し、ｋ０１は、好ましくは１～４のいずれかの整数、より好ましくは１である。）、より好ましくは酸素原子である。
Ｒa02、Ｒa03、Ｒa04、Ｒａ６及びＲａ７におけるアルキル基、脂環式炭化水素基及びこれらを組合せた基としては、式（１）のＲａ１～Ｒａ３で挙げた基と同様の基が挙げられる。
Ｒa02、Ｒa03、及びＲa04におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１～６であり、より好ましくはメチル基又はエチル基であり、さらに好ましくはメチル基である。
Ｒａ６及びＲａ７におけるアルキル基の炭素数は、好ましくは１～６であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
Ｒa02、Ｒa03、Ｒa04、Ｒａ６及びＲａ７の脂環式炭化水素基の炭素数は、好ましくは５～１２であり、より好ましくは５～１０である。
アルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた基は、これらアルキル基と脂環式炭化水素基とを組合せた合計炭素数が、１８以下であることが好ましい。
Ｒa02及びＲa03は、それぞれ独立に、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒa04は、好ましくは炭素数１～６のアルキル基又は炭素数５～１２の脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基、エチル基、シクロヘキシル基又はアダマンチル基である。
Ｒａ６及びＲａ７は、それぞれ独立に、好ましくは炭素数１～６のアルキル基であり、より好ましくはメチル基、エチル基又はイソプロピル基であり、さらに好ましくはエチル基又はイソプロピル基である。
ｍ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
ｎ１’は好ましくは０又は１である。 R a01 , R a4 and R a5 are preferably methyl groups.
L a01 , L a1 and L a2 are preferably an oxygen atom or *—O—(CH 2 ) k01 —CO—O— (provided that k01 is preferably any integer of 1 to 4, more preferably is 1.), more preferably an oxygen atom.
The alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups and groups in which these are combined for R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 are the same as the groups listed for R a1 to R a3 in formula (1). groups.
The alkyl group in R a02 , R a03 and R a04 preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, still more preferably a methyl group.
The alkyl group in R a6 and R a7 preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, still more preferably an ethyl group or an isopropyl group.
The alicyclic hydrocarbon groups of R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 preferably have 5 to 12 carbon atoms, more preferably 5 to 10 carbon atoms.
It is preferable that the combined group of an alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group have a total carbon number of 18 or less.
R a02 and R a03 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group.
R a04 is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group or an adamantyl group.
R a6 and R a7 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a methyl group, an ethyl group or an isopropyl group, still more preferably an ethyl group or an isopropyl group.
m1 is preferably an integer from 0 to 3, more preferably 0 or 1.
n1 is preferably an integer from 0 to 3, more preferably 0 or 1.
n1' is preferably 0 or 1.

構造単位（ａ１－０）としては、例えば、式（ａ１－０－１）～式（ａ１－０－１２）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－０）におけるＲａ０１に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－０－１）～式（ａ１－０－１０）のいずれかで表される構造単位が好ましい。

Figure 0007289669000092
As the structural unit (a1-0), for example, a structural unit represented by any one of formulas (a1-0-1) to (a1-0-12) and R a01 in the structural unit (a1-0) Structural units in which the corresponding methyl group is replaced with a hydrogen atom are exemplified, and structural units represented by any one of formulas (a1-0-1) to (a1-0-10) are preferred.
Figure 0007289669000092

構造単位（ａ１－１）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１－１－１）～式（ａ１－１－４）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－１）におけるＲａ４に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましく、式（ａ１－１－１）～式（ａ１－１－４）のいずれかで表される構造単位がより好ましい。

Figure 0007289669000093
Examples of the structural unit (a1-1) include structural units derived from monomers described in JP-A-2010-204646. Among them, a structural unit represented by any one of formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) and a methyl group corresponding to R a4 in structural unit (a1-1) is replaced with a hydrogen atom. Structural units are preferred, and structural units represented by any one of formulas (a1-1-1) to (a1-1-4) are more preferred.
Figure 0007289669000093

構造単位（ａ１－２）としては、式（ａ１－２－１）～式（ａ１－２－６）のいずれかで表される構造単位及び構造単位（ａ１－２）におけるＲａ５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられ、式（ａ１－２－２）、式（ａ１－２－５）及び式（ａ１－２－６）が好ましい。

Figure 0007289669000094
The structural unit (a1-2) corresponds to a structural unit represented by any one of formulas (a1-2-1) to (a1-2-6) and R a5 in the structural unit (a1-2). Structural units in which a methyl group is substituted with a hydrogen atom are included, and formulas (a1-2-2), (a1-2-5) and (a1-2-6) are preferred.
Figure 0007289669000094

樹脂（Ａ）が構造単位（ａ１－０）及び／又は構造単位（ａ１－１）及び／又は構造単位（ａ１－２）を含む場合、これらの合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常１０～９５モル％であり、好ましくは１５～９０モル％であり、より好ましくは１５～８５モル％であり、さらに好ましくは１５～７０モル％であり、さらにより好ましくは１５～６５モル％であり、特に好ましくは２０～６５モル％である。 When the resin (A) contains the structural unit (a1-0) and/or the structural unit (a1-1) and/or the structural unit (a1-2), the total content of these is the total structure of the resin (A) It is usually 10 to 95 mol%, preferably 15 to 90 mol%, more preferably 15 to 85 mol%, even more preferably 15 to 70 mol%, still more preferably It is 15 to 65 mol %, particularly preferably 20 to 65 mol %.

構造単位（ａ１）において基（２）を有する構造単位としては、式（ａ１－４）で表される構造単位（以下、「構造単位（ａ１－４）」という場合がある。）が挙げられる。

Figure 0007289669000095
［式（ａ１－４）中、
Ｒa32は、水素原子、ハロゲン原子、又は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒa33は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
ｌａは０～４のいずれかの整数を表す。ｌａが２以上である場合、複数のＲa33は互いに同一であっても異なってもよい。
Ｒa34及びＲa35はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～１２の炭化水素基を表し、Ｒa36は、炭素数１～２０の炭化水素基を表すか、Ｒa35及びＲa36は互いに結合してそれらが結合する－Ｃ－Ｏ－とともに炭素数２～２０の２価の炭化水素基を形成し、該炭化水素基及び該２価の炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－Ｓ－で置き換わってもよい。］ Structural units having group (2) in structural unit (a1) include structural units represented by formula (a1-4) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a1-4)”). .
Figure 0007289669000095
[In the formula (a1-4),
R a32 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a33 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, acryloyl It represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
la represents an integer of 0 to 4; When la is 2 or more, a plurality of R a33 may be the same or different.
R a34 and R a35 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R a36 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or R a35 and R a36 are bonded to each other to form a C2-C20 divalent hydrocarbon group together with -C-O- to which they are bonded, and -CH 2 - contained in the hydrocarbon group and the divalent hydrocarbon group is - O- or -S- may be substituted. ]

Ｒa32及びＲa33におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。該アルキル基は、炭素数１～４のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。
Ｒa32及びＲa33におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基及びヘキシルオキシ基等が挙げられる。なかでも、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
アルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基が挙げられる。
アルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基等が挙げられる。
Ｒa34、Ｒa35及びＲa36における炭化水素基としては、アルキル基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、及びこれらを組み合わせた基が挙げられ、アルキル基及び脂環式炭化水素基としては、Ｒa02、Ｒa03、Ｒa04、Ｒａ６及びＲａ７におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基と同様の基が挙げられる。
芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、ビフェニル基、フェナントリル基等のアリール基が挙げられる。
組み合わせた基としては、上述したアルキル基と脂環式炭化水素基とを組み合わせた基（例えばシクロアルキルアルキル基）、ベンジル基等のアラルキル基、アルキル基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－メチルフェニル基、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、メシチル基、２，６－ジエチルフェニル基、２－メチル－６－エチルフェニル基等）、脂環式炭化水素基を有する芳香族炭化水素基（ｐ－シクロヘキシルフェニル基、ｐ－アダマンチルフェニル基等）、フェニルシクロヘキシル基等のアリール－シクロヘキシル基等が挙げられる。特に、Ｒa36としては、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基が挙げられる。 Examples of alkyl groups for R a32 and R a33 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, pentyl group and hexyl group. The alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methyl group or an ethyl group, even more preferably a methyl group.
Halogen atoms in R a32 and R a33 include fluorine, chlorine and bromine atoms.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1 , 2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3 , 4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, etc. is mentioned.
Alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, butoxy, pentyloxy and hexyloxy groups. Among them, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferable, a methoxy group or an ethoxy group is more preferable, and a methoxy group is even more preferable.
Alkylcarbonyl groups include acetyl, propionyl and butyryl groups.
An acetyloxy group, a propionyloxy group, a butyryloxy group, etc. are mentioned as an alkylcarbonyloxy group.
Hydrocarbon groups for R a34 , R a35 and R a36 include alkyl groups, alicyclic hydrocarbon groups, aromatic hydrocarbon groups, and groups in which these are combined. Examples include the same alkyl groups and alicyclic hydrocarbon groups as R a02 , R a03 , R a04 , R a6 and R a7 .
Aromatic hydrocarbon groups include aryl groups such as phenyl, naphthyl, anthryl, biphenyl, and phenanthryl groups.
Examples of the combined group include a group obtained by combining the aforementioned alkyl group and an alicyclic hydrocarbon group (for example, a cycloalkylalkyl group), an aralkyl group such as a benzyl group, an aromatic hydrocarbon group having an alkyl group (p-methyl phenyl group, p-tert-butylphenyl group, tolyl group, xylyl group, cumenyl group, mesityl group, 2,6-diethylphenyl group, 2-methyl-6-ethylphenyl group, etc.), alicyclic hydrocarbon groups aromatic hydrocarbon groups (p-cyclohexylphenyl group, p-adamantylphenyl group, etc.), aryl-cyclohexyl groups such as phenylcyclohexyl group, and the like. In particular, R a36 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a group formed by combining these groups. is mentioned.

式（ａ１－４）において、Ｒa32としては、水素原子が好ましい。
Ｒa33としては、炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基及びエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
ｌａとしては、０又は１が好ましく、０がより好ましい。
Ｒa34は、好ましくは、水素原子である。
Ｒa35は、好ましくは、炭素数１～１２のアルキル基又は脂環式炭化水素基であり、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
Ｒa36の炭化水素基は、好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基、炭素数６～１８の芳香族炭化水素基又はこれらを組み合わせることにより形成される基であり、より好ましくは、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数３～１８の脂環式脂肪族炭化水素基又は炭素数７～１８のアラルキル基である。Ｒa36におけるアルキル基及び脂環式炭化水素基は、無置換であることが好ましい。Ｒa36における芳香族炭化水素基は、炭素数６～１０のアリールオキシ基を有する芳香環が好ましい。
構造単位（ａ１－４）における－ＯＣ（Ｒa34）（Ｒa35）－Ｏ－Ｒa36は、酸（例えばｐ－トルエンスルホン酸）と接触して脱離し、ヒドロキシ基を形成する。 In formula (a1-4), R a32 is preferably a hydrogen atom.
R a33 is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a methoxy group or an ethoxy group, and still more preferably a methoxy group.
la is preferably 0 or 1, more preferably 0.
R a34 is preferably a hydrogen atom.
R a35 is preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alicyclic hydrocarbon group, more preferably a methyl group or an ethyl group.
The hydrocarbon group of R a36 is preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms, or a combination of these A group to be formed, more preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alicyclic aliphatic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. The alkyl group and alicyclic hydrocarbon group in R a36 are preferably unsubstituted. The aromatic hydrocarbon group for R a36 is preferably an aromatic ring having an aryloxy group having 6 to 10 carbon atoms.
--OC(R a34 )(R a35 )-OR a36 in the structural unit (a1-4) is eliminated upon contact with an acid (eg, p-toluenesulfonic acid) to form a hydroxy group.

構造単位（ａ１－４）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１－４－１２）でそれぞれ表される構造単位及び構造単位（ａ１－４）におけるＲａ３２に相当する水素原子がメチル基に置き換わった構造単位が挙げられ、より好ましくは、式（ａ１－４－１）～式（ａ１－４－５）、式（ａ１－４－１０）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。

Figure 0007289669000096
Examples of structural units (a1-4) include structural units derived from monomers described in JP-A-2010-204646. Preferably, the structural units represented by formulas (a1-4-1) to (a1-4-12) and the structure in which the hydrogen atom corresponding to R a32 in the structural unit (a1-4) is replaced with a methyl group units, more preferably structural units represented by formulas (a1-4-1) to (a1-4-5) and formula (a1-4-10).
Figure 0007289669000096

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１－４）を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位の合計に対して、１０～９５モル％であることが好ましく、１５～９０モル％であることがより好ましく、２０～８５モル％であることがさらに好ましく、２０～７０モル％であることがさらにより好ましく、２０～６０モル％であることが特に好ましい。 When the resin (A) contains the structural unit (a1-4), the content thereof is preferably 10 to 95 mol%, preferably 15 to 90 mol%, based on the total of all structural units of the resin (A). It is more preferably 20 to 85 mol %, even more preferably 20 to 70 mol %, and particularly preferably 20 to 60 mol %.

基（２）を有する（メタ）アクリル系モノマーに由来する構造単位としては、式（ａ１－５）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ１－５）」という場合がある）も挙げられる。

Figure 0007289669000097
式（ａ１－５）中、
Ｒa8は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｚa1は、単結合又は＊－（ＣＨ2）h3－ＣＯ－Ｌ54－を表し、ｈ３は１～４のいずれかの整数を表し、＊は、Ｌ51との結合部位を表す。
Ｌ51、Ｌ52、Ｌ53及びＬ54は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。
ｓ１は、１～３のいずれかの整数を表す。
ｓ１’は、０～３のいずれかの整数を表す。 Structural units derived from (meth)acrylic monomers having group (2) include structural units represented by formula (a1-5) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a1-5)”). be done.
Figure 0007289669000097
In formula (a1-5),
R a8 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom.
Z a1 represents a single bond or *—(CH 2 ) h3 —CO—L 54 —, h3 represents an integer of 1 to 4, and * represents a binding site with L 51 .
L 51 , L 52 , L 53 and L 54 each independently represent -O- or -S-.
s1 represents an integer of 1 to 3;
s1' represents any integer from 0 to 3;

ハロゲン原子としては、フッ素原子及び塩素原子が挙げられ、フッ素原子が好ましい。
ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、フルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
式（ａ１－５）においては、Ｒa8は、水素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基が好ましい。
Ｌ51は、酸素原子が好ましい。
Ｌ52及びＬ53のうち、一方が－Ｏ－であり、他方が－Ｓ－であることが好ましい。
ｓ１は、１が好ましい。
ｓ１’は、０～２のいずれかの整数が好ましい。
Ｚa1は、単結合又は＊－ＣＨ2－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。 Halogen atoms include fluorine atoms and chlorine atoms, with fluorine atoms being preferred.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, fluoromethyl group and trifluoro A methyl group is mentioned.
In formula (a1-5), R a8 is preferably a hydrogen atom, a methyl group or a trifluoromethyl group.
L 51 is preferably an oxygen atom.
Preferably, one of L 52 and L 53 is —O— and the other is —S—.
As for s1, 1 is preferable.
s1' is preferably an integer of 0-2.
Z a1 is preferably a single bond or *—CH 2 —CO—O—.

構造単位（ａ１－５）としては、例えば、特開２０１０－６１１１７号公報に記載されたモノマー由来の構造単位が挙げられる。中でも、式（ａ１－５－１）～式（ａ１－５－４）でそれぞれ表される構造単位が好ましく、式（ａ１－５－１）又は式（ａ１－５－２）で表される構造単位がより好ましい。

Figure 0007289669000098
Examples of structural units (a1-5) include structural units derived from monomers described in JP-A-2010-61117. Among them, structural units represented by formulas (a1-5-1) to (a1-5-4) are preferable, and represented by formula (a1-5-1) or formula (a1-5-2) Structural units are more preferred.
Figure 0007289669000098

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ１－５）を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～５０モル％が好ましく、３～４５モル％がより好ましく、５～４０モル％がさらに好ましく、５～３０モル％がさらにより好ましい。 When the resin (A) contains the structural unit (a1-5), its content is preferably 1 to 50 mol%, more preferably 3 to 45 mol%, based on the total structural units of the resin (A). , more preferably 5 to 40 mol %, and even more preferably 5 to 30 mol %.

また、構造単位（ａ１）としては、以下の構造単位も挙げられる。

Figure 0007289669000099
The structural unit (a1) also includes the following structural units.
Figure 0007289669000099

樹脂（Ａ）が上記、（ａ１－３－１）～（ａ１－３－７）のような構造単位を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１０～９５モル％が好ましく、１５～９０モル％がより好ましく、２０～８５モル％がさらに好ましく、２０～７０モル％がさらにより好ましく、２０～６０モル％が特に好ましい。 When the resin (A) contains structural units such as the above (a1-3-1) to (a1-3-7), the content is 10 to 10 to the total structural units of the resin (A). 95 mol % is preferred, 15 to 90 mol % is more preferred, 20 to 85 mol % is even more preferred, 20 to 70 mol % is even more preferred, and 20 to 60 mol % is particularly preferred.

〈構造単位（ｓ）〉
構造単位（ｓ）は、酸不安定基を有さないモノマー（以下「モノマー（ｓ）」という場合がある）から導かれる。構造単位（ｓ）を導くモノマーは、レジスト分野で公知の酸不安定基を有さないモノマーを使用できる。
構造単位（ｓ）としては、ヒドロキシ基又はラクトン環を有するのが好ましい。ヒドロキシ基を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ２）」という場合がある）及び／又はラクトン環を有し、かつ酸不安定基を有さない構造単位（以下「構造単位（ａ３）」という場合がある）を有する樹脂を本発明のレジスト組成物に使用すれば、レジストパターンの解像度及び基板との密着性を向上させることができる。 <Structural unit (s)>
Structural unit (s) is derived from a monomer having no acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "monomer (s)"). As a monomer leading to the structural unit (s), a monomer having no acid-labile group known in the field of resists can be used.
The structural unit (s) preferably has a hydroxy group or a lactone ring. A structural unit having a hydroxy group and no acid-labile group (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2)") and/or a structure having a lactone ring and no acid-labile group When a resin having a unit (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a3)") is used in the resist composition of the present invention, the resolution of the resist pattern and adhesion to the substrate can be improved.

〈構造単位（ａ２）〉
構造単位（ａ２）が有するヒドロキシ基は、アルコール性ヒドロキシ基でも、フェノール性ヒドロキシ基でもよい。
本発明のレジスト組成物からレジストパターンを製造するとき、露光光源としてＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、電子線又はＥＵＶ（超紫外光）等の高エネルギー線を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、フェノール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）を用いることが好ましい。また、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）等を用いる場合には、構造単位（ａ２）として、アルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位（ａ２）が好ましく、後述する構造単位（ａ２－１）を用いることがより好ましい。構造単位（ａ２）としては、１種を単独で含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。 <Structural unit (a2)>
The hydroxy group possessed by the structural unit (a2) may be an alcoholic hydroxy group or a phenolic hydroxy group.
When producing a resist pattern from the resist composition of the present invention, when using a high-energy beam such as a KrF excimer laser (248 nm), an electron beam, or EUV (extreme ultraviolet light) as an exposure light source, the structural unit (a2) , it is preferable to use a structural unit (a2) having a phenolic hydroxy group. When using an ArF excimer laser (193 nm) or the like, the structural unit (a2) is preferably a structural unit (a2) having an alcoholic hydroxy group, and more preferably a structural unit (a2-1) described later. preferable. As the structural unit (a2), one type may be contained alone, or two or more types may be contained.

構造単位（ａ２）においてフェノール性ヒドロキシ基有する構造単位としては式（ａ２－Ａ）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－Ａ）」という場合がある）が挙げられる。

Figure 0007289669000100
［式（ａ２－Ａ）中、
Ｒa50は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ｒa51は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数２～４のアルキルカルボニル基、炭素数２～４のアルキルカルボニルオキシ基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表す。
Ａa50は、単結合又は＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nb－を表し、＊は－Ｒa50が結合する炭素原子との結合部位を表す。
Ａa52は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ｘa51及びＸa52は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ｎｂは、０又は１を表す。
ｍｂは０～４のいずれかの整数を表す。ｍｂが２以上のいずれかの整数である場合、複数のＲa51は互いに同一であっても異なってもよい。］ Structural units having a phenolic hydroxy group in structural units (a2) include structural units represented by formula (a2-A) (hereinafter sometimes referred to as “structural unit (a2-A)”).
Figure 0007289669000100
[In the formula (a2-A),
R a50 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
R a51 is a halogen atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylcarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, an alkylcarbonyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, acryloyl It represents an oxy group or a methacryloyloxy group.
A a50 represents a single bond or *-X a51 -(A a52 -X a52 ) nb -, and * represents a bonding site with the carbon atom to which -R a50 bonds.
Each A a52 independently represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
X a51 and X a52 each independently represent -O-, -CO-O- or -O-CO-.
nb represents 0 or 1;
mb represents an integer from 0 to 4; When mb is any integer of 2 or more, multiple R a51 may be the same or different. ]

Ｒa50におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等が挙げられる。
Ｒa50におけるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基及びペルフルオロヘキシル基が挙げられる。
Ｒa50は、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基が好ましく、水素原子、メチル基又はエチル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がさらに好ましい。
Ｒa51におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
Ｒa51におけるアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基が挙げられる。炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基又はエトキシ基がより好ましく、メトキシ基がさらに好ましい。
Ｒa51におけるアルキルカルボニル基としては、アセチル基、プロピオニル基及びブチリル基等が挙げられる。
Ｒa51におけるアルキルカルボニルオキシ基としては、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基及びブチリルオキシ基が挙げられる。
Ｒa51は、メチル基が好ましい。 Halogen atoms in R a50 include fluorine, chlorine and bromine atoms.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom for R a50 include a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, a perfluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2, 3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group and perfluoro A hexyl group is mentioned.
R a50 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, even more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Examples of alkyl groups for R a51 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl and hexyl groups.
Alkoxy groups for R a51 include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, sec-butoxy and tert-butoxy groups. An alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms is preferred, a methoxy group or an ethoxy group is more preferred, and a methoxy group is even more preferred.
The alkylcarbonyl group for R a51 includes an acetyl group, a propionyl group and a butyryl group.
The alkylcarbonyloxy group for R a51 includes an acetyloxy group, a propionyloxy group and a butyryloxy group.
R a51 is preferably a methyl group.

＊－Ｘa51－（Ａa52－Ｘa52）nb－としては、＊－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ａa52－Ｏ－、＊－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－Ｏ－ＣＯ－、＊－Ｏ－ＣＯ－Ａa52－Ｏ－ＣＯ－、が挙げられる。なかでも、＊－ＣＯ－Ｏ－、＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－が好ましい。 *-X a51 -(A a52 -X a52 ) nb - includes *-O-, *-CO-O-, *-O-CO-, *-CO-O-A a52 -CO-O-, *-O-CO-A a52 -O-, *-O-A a52 -CO-O-, *-CO-O-A a52 -O-CO-, *-O-CO-A a52 -O-CO -, are included. Among them, *-CO-O-, *-CO-OA a52 -CO-O- or *-OA a52 -CO-O- is preferred.

アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基及び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
Ａa52は、メチレン基又はエチレン基であることが好ましい。 The alkanediyl group includes methylene, ethylene, propane-1,3-diyl, propane-1,2-diyl, butane-1,4-diyl, pentane-1,5-diyl, hexane- 1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group and 2 -methylbutane-1,4-diyl group and the like.
A a52 is preferably a methylene group or an ethylene group.

Ａa50は、単結合、＊－ＣＯ－Ｏ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－Ａa52－ＣＯ－Ｏ－であることが好ましく、単結合、＊－ＣＯ－Ｏ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－ＣＨ2－ＣＯ－Ｏ－であることがより好ましく、単結合又は＊－ＣＯ－Ｏ－であることがさらに好ましい。 A a50 is preferably a single bond, *—CO—O— or *—CO—O—A a52 —CO—O—, a single bond, *—CO—O— or *—CO—O—CH 2 --CO--O-- is more preferred, and a single bond or *--CO--O-- is even more preferred.

ｍｂは０、１又は２が好ましく、０又は１がより好ましく、０が特に好ましい。
ヒドロキシ基は、ベンゼン環のｏ－位又はｐ－位に結合することが好ましく、ｐ－位に結合することがより好ましい。 mb is preferably 0, 1 or 2, more preferably 0 or 1, and particularly preferably 0.
The hydroxy group is preferably bonded to the o-position or p-position of the benzene ring, more preferably bonded to the p-position.

構造単位（ａ２－Ａ）としては、特開２０１０－２０４６３４号公報、特開２０１２－１２５７７号公報に記載されているモノマー由来の構造単位が挙げられる。 Examples of the structural unit (a2-A) include structural units derived from monomers described in JP-A-2010-204634 and JP-A-2012-12577.

構造単位（ａ２－Ａ）としては、式（ａ２－２－１）～式（ａ２－２－６）で表される構造単位及び、式（ａ２－２－１）～式（ａ２－２－６）で表される構造単位において構造単位（ａ２－Ａ）におけるＲａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。構造単位（ａ２－Ａ）は、式（ａ２－２－１）で表される構造単位、式（ａ２－２－３）で表される構造単位、式（ａ２－２－６）で表される構造単位及び式（ａ２－２－１）で表される構造単位、式（ａ２－２－３）で表される構造単位又は式（ａ２－２－６）で表される構造単位において、構造単位（ａ２－Ａ）におけるＲａ５０に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位であることが好ましい。

Figure 0007289669000101
The structural unit (a2-A) includes structural units represented by formulas (a2-2-1) to (a2-2-6) and formulas (a2-2-1) to (a2-2- In the structural unit represented by 6), a structural unit in which the methyl group corresponding to R a50 in the structural unit (a2-A) is replaced with a hydrogen atom can be mentioned. Structural unit (a2-A) includes a structural unit represented by formula (a2-2-1), a structural unit represented by formula (a2-2-3), and a structural unit represented by formula (a2-2-6). and the structural unit represented by formula (a2-2-1), the structural unit represented by formula (a2-2-3) or the structural unit represented by formula (a2-2-6), A structural unit in which the methyl group corresponding to R a50 in the structural unit (a2-A) is replaced with a hydrogen atom is preferred.
Figure 0007289669000101

樹脂（Ａ）中に構造単位（ａ２－Ａ）が含まれる場合の構造単位（ａ２－Ａ）の含有率は、全構造単位に対して、好ましくは５～８０モル％であり、より好ましくは１０～７０モル％であり、さらに好ましくは１５～６５モル％であり、さらにより好ましくは２０～６５モル％である。
構造単位（ａ２－Ａ）は、例えば構造単位（ａ１－４）を用いて重合した後、ｐ－トルエンスルホン酸等の酸で処理することにより、樹脂（Ａ）に含ませることができる。また、アセトキシスチレン等を用いて重合した後、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等のアルカリで処理することにより、構造単位（ａ２－Ａ）を樹脂（Ａ）に含ませることができる。 When the structural unit (a2-A) is contained in the resin (A), the content of the structural unit (a2-A) is preferably 5 to 80 mol%, more preferably It is 10 to 70 mol %, more preferably 15 to 65 mol %, still more preferably 20 to 65 mol %.
The structural unit (a2-A) can be included in the resin (A), for example, by polymerizing the structural unit (a1-4) and then treating with an acid such as p-toluenesulfonic acid. Also, the structural unit (a2-A) can be included in the resin (A) by polymerizing with acetoxystyrene or the like and then treating with an alkali such as tetramethylammonium hydroxide.

構造単位（ａ２）においてアルコール性ヒドロキシ基を有する構造単位としては、式（ａ２－１）で表される構造単位（以下「構造単位（ａ２－１）」という場合がある。）が挙げられる。

Figure 0007289669000102
式（ａ２－１）中、
Ｌa3は、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ2）k2－ＣＯ－Ｏ－を表し、
ｋ２は１～７のいずれかの整数を表す。＊は－ＣＯ－との結合部位を表す。
Ｒa14は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa15及びＲa16は、それぞれ独立に、水素原子、メチル基又はヒドロキシ基を表す。
ｏ１は、０～１０のいずれかの整数を表す。 A structural unit having an alcoholic hydroxy group in the structural unit (a2) includes a structural unit represented by formula (a2-1) (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (a2-1)").
Figure 0007289669000102
In formula (a2-1),
L a3 represents -O- or *-O-(CH 2 ) k2 -CO-O-,
k2 represents any integer from 1 to 7; * represents a bonding site with -CO-.
R a14 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a15 and R a16 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group or a hydroxy group.
o1 represents an integer from 0 to 10;

式（ａ２－１）では、Ｌa3は、好ましくは、－Ｏ－、－Ｏ－（ＣＨ2）f1－ＣＯ－Ｏ－であり（前記ｆ１は、１～４のいずれかの整数を表す）、より好ましくは－Ｏ－である。
Ｒa14は、好ましくはメチル基である。
Ｒa15は、好ましくは水素原子である。
Ｒa16は、好ましくは水素原子又はヒドロキシ基である。
ｏ１は、好ましくは０～３のいずれかの整数、より好ましくは０又は１である。 In formula (a2-1), L a3 is preferably —O—, —O—(CH 2 ) f1 —CO—O— (f1 represents an integer of 1 to 4) , more preferably -O-.
R a14 is preferably a methyl group.
R a15 is preferably a hydrogen atom.
R a16 is preferably a hydrogen atom or a hydroxy group.
o1 is preferably any integer from 0 to 3, more preferably 0 or 1.

構造単位（ａ２－１）としては、例えば、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマーに由来する構造単位が挙げられる。式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－６）のいずれかで表される構造単位が好ましく、式（ａ２－１－１）～式（ａ２－１－４）のいずれかで表される構造単位がより好ましく、式（ａ２－１－１）又は式（ａ２－１－３）で表される構造単位がさらに好ましい。

Figure 0007289669000103
Examples of structural units (a2-1) include structural units derived from monomers described in JP-A-2010-204646. Structural units represented by any one of formulas (a2-1-1) to (a2-1-6) are preferred, and any one of formulas (a2-1-1) to (a2-1-4) Structural units represented by formula (a2-1-1) or formula (a2-1-3) are more preferable.
Figure 0007289669000103

樹脂（Ａ）が構造単位（ａ２－１）を含む場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常１～４５モル％であり、好ましくは１～４０モル％であり、より好ましくは１～３５モル％であり、さらに好ましくは２～２０モル％であり、さらにより好ましくは２～１０モル％である。 When the resin (A) contains the structural unit (a2-1), its content is usually 1 to 45 mol%, preferably 1 to 40 mol%, based on the total structural units of the resin (A). Yes, more preferably 1 to 35 mol %, still more preferably 2 to 20 mol %, still more preferably 2 to 10 mol %.

〈構造単位（ａ３）〉
構造単位（ａ３）が有するラクトン環は、β－プロピオラクトン環、γ－ブチロラクトン環、δ－バレロラクトン環のような単環でもよく、単環式のラクトン環と他の環との縮合環でもよい。好ましくは、γ－ブチロラクトン環、アダマンタンラクトン環、又は、γ－ブチロラクトン環構造を含む橋かけ環（例えば下式（ａ３－２）で表される構造単位）が挙げられる。 <Structural unit (a3)>
The lactone ring of the structural unit (a3) may be a monocyclic ring such as a β-propiolactone ring, γ-butyrolactone ring, δ-valerolactone ring, or a condensed ring of a monocyclic lactone ring and another ring. It's okay. Preferable examples include a γ-butyrolactone ring, an adamantanelactone ring, or a bridged ring containing a γ-butyrolactone ring structure (for example, a structural unit represented by the following formula (a3-2)).

構造単位（ａ３）は、好ましくは、式（ａ３－１）、式（ａ３－２）、式（ａ３－３）又は式（ａ３－４）で表される構造単位である。これらの１種を単独で含有してもよく、２種以上を含有していてもよい。

Figure 0007289669000104
［式（ａ３－１）、式（ａ３－２）、式（ａ３－３）及び式（ａ３－４）中、
Ｌａ４、Ｌａ５及びＬａ６は、それぞれ独立に、－Ｏ－又は＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ３－ＣＯ－Ｏ－（ｋ３は１～７のいずれかの整数を表す。）で表される基を表す。
Ｌａ７は、－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－、＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－Ｌａ９－ＣＯ－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－Ｏ－ＣＯ－Ｌａ９－Ｏ－を表す。
Ｌａ８及びＬａ９は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
＊はカルボニル基との結合部位を表す。
Ｒａ１８、Ｒａ１９及びＲａ２０は、それぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒａ２４は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。
Ｒａ２１は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｒａ２２、Ｒａ２３及びＲａ２５は、それぞれ独立に、カルボキシ基、シアノ基又は炭素数１～４の脂肪族炭化水素基を表す。
Ｘａ３は、－ＣＨ２－又は酸素原子を表す。
ｐ１は０～５のいずれかの整数を表す。
ｑ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｒ１は、０～３のいずれかの整数を表す。
ｗ１は、０～８のいずれかの整数を表す。
ｐ１、ｑ１、ｒ１及び／又はｗ１が２以上のとき、複数のＲａ２１、Ｒａ２２、Ｒａ２３及び／又はＲａ２５は互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。］ Structural unit (a3) is preferably a structural unit represented by formula (a3-1), formula (a3-2), formula (a3-3) or formula (a3-4). One of these may be contained alone, or two or more may be contained.
Figure 0007289669000104
[In formula (a3-1), formula (a3-2), formula (a3-3) and formula (a3-4),
L a4 , L a5 and L a6 are each independently represented by —O— or *—O—(CH 2 ) k3 —CO—O— (k3 represents an integer of 1 to 7); represents a group.
L a7 is -O-, *-OL a8 -O-, *-OL a8 -CO-O-, *-OL a8 -CO-OL a9 -CO-O- or * -OL a8 -O-CO-L a9 -O-.
L a8 and L a9 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
* represents a bonding site with a carbonyl group.
R a18 , R a19 and R a20 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
R a24 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, a hydrogen atom or a halogen atom.
R a21 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
R a22 , R a23 and R a25 each independently represent a carboxy group, a cyano group or an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms.
X a3 represents —CH 2 — or an oxygen atom.
p1 represents any integer from 0 to 5;
q1 represents an integer of 0 to 3;
r1 represents an integer of 0 to 3;
w1 represents any integer from 0 to 8;
When p1, q1, r1 and/or w1 are 2 or more, a plurality of R a21 , R a22 , R a23 and/or R a25 may be the same or different. ]

Ｒa21、Ｒa22、Ｒa23及びＲa25における脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基及びｔｅｒｔ－ブチル基等のアルキル基が挙げられる。
Ｒａ２４におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
Ｒａ２４におけるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、好ましくは炭素数１～４のアルキル基が挙げられ、より好ましくはメチル基又はエチル基が挙げられる。
Ｒａ２４におけるハロゲン原子を有するアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、トリクロロメチル基、トリブロモメチル基、トリヨードメチル基等が挙げられる。 Examples of the aliphatic hydrocarbon group for R a21 , R a22 , R a23 and R a25 include alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group and tert-butyl group. be done.
Halogen atoms in R a24 include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
Examples of the alkyl group for R a24 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group and hexyl group, preferably having 1 to 4 carbon atoms. and more preferably a methyl group or an ethyl group.
The alkyl group having a halogen atom for R a24 includes a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, a perfluorosec-butyl group, a perfluorotert-butyl group, a perfluoropentyl group, and a perfluoro A hexyl group, a trichloromethyl group, a tribromomethyl group, a triiodomethyl group and the like can be mentioned.

Ｌａ８及びＬａ９におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基及び２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。 The alkanediyl group for L a8 and L a9 includes methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5 -diyl group, hexane-1,6-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1, 4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group and the like.

式（ａ３－１）～式（ａ３－３）において、Ｌａ４～Ｌａ６は、それぞれ独立に、好ましくは－Ｏ－又は、＊－Ｏ－（ＣＨ２）ｋ３－ＣＯ－Ｏ－において、ｋ３が１～４のいずれかの整数である基、より好ましくは－Ｏ－及び、＊－Ｏ－ＣＨ２－ＣＯ－Ｏ－、さらに好ましくは酸素原子である。
Ｒａ１８～Ｒａ２１は、好ましくはメチル基である。
Ｒａ２２及びＲａ２３は、それぞれ独立に、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
ｐ１、ｑ１及びｒ１は、それぞれ独立に、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
式（ａ３－４）において、Ｒａ２４は、好ましくは水素原子又は炭素数１～４のアルキル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基又はエチル基であり、さらに好ましくは水素原子又はメチル基である。
Ｒａ２５は、好ましくはカルボキシ基、シアノ基又はメチル基である。
Ｌａ７は、好ましくは－Ｏ－又は＊－Ｏ－Ｌａ８－ＣＯ－Ｏ－であり、より好ましくは－Ｏ－、－Ｏ－ＣＨ２－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ２Ｈ４－ＣＯ－Ｏ－である。
ｗ１は、好ましくは０～２のいずれかの整数であり、より好ましくは０又は１である。
特に、式（ａ３－４）は、式（ａ３－４）’が好ましい。

Figure 0007289669000105
（式中、Ｒａ２４、Ｌａ７は、上記と同じ意味を表す。） In formulas (a3-1) to (a3-3), L a4 to L a6 are each independently preferably —O— or *—O—(CH 2 ) k3 —CO—O—, k3 is an integer of 1 to 4, more preferably -O- and *-O-CH 2 -CO-O-, more preferably an oxygen atom.
R a18 to R a21 are preferably methyl groups.
R a22 and R a23 are each independently preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
p1, q1 and r1 are each independently preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1.
In formula (a3-4), R a24 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom, a methyl group or an ethyl group, still more preferably a hydrogen atom or a methyl group is.
R a25 is preferably a carboxy group, a cyano group or a methyl group.
L a7 is preferably -O- or *-OL a8 -CO-O-, more preferably -O-, -O-CH 2 -CO-O- or -O-C 2 H 4 - It is CO—O—.
w1 is preferably an integer from 0 to 2, more preferably 0 or 1.
In particular, formula (a3-4) is preferably formula (a3-4)'.
Figure 0007289669000105
(In the formula, R a24 and L a7 have the same meanings as above.)

構造単位（ａ３）としては、特開２０１０－２０４６４６号公報に記載されたモノマー、特開２０００－１２２２９４号公報に記載されたモノマー、特開２０１２－４１２７４号公報に記載されたモノマーに由来の構造単位が挙げられる。構造単位（ａ３）としては、式（ａ３－１－１）、式（ａ３－１－２）、式（ａ３－２－１）、式（ａ３－２－２）、式（ａ３－３－１）、式（ａ３－３－２）及び式（ａ３－４－１）～式（ａ３－４－１２）のいずれかで表される構造単位及び、前記構造単位において、式（ａ３－１）～式（ａ３－４）におけるＲａ１８、Ｒａ１９、Ｒａ２０及びＲa24に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が好ましい。

Figure 0007289669000106
As the structural unit (a3), the monomer described in JP-A-2010-204646, the monomer described in JP-A-2000-122294, the structure derived from the monomer described in JP-A-2012-41274 units. As the structural unit (a3), formula (a3-1-1), formula (a3-1-2), formula (a3-2-1), formula (a3-2-2), formula (a3-3- 1), a structural unit represented by any one of formulas (a3-3-2) and formulas (a3-4-1) to (a3-4-12), and in said structural unit, formula (a3-1 ) to R a18 , R a19 , R a20 and R a24 in formulas (a3-4) are preferably structural units in which methyl groups are replaced with hydrogen atoms.
Figure 0007289669000106

Figure 0007289669000107
Figure 0007289669000107

樹脂（Ａ）が構造単位（ａ３）を含む場合、その合計含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、通常５～７０モル％であり、好ましくは１０～６５モル％であり、より好ましくは１０～６０モル％であり、さらにより好ましくは２０～５５モル％であり、特に好ましくは３０～５０モル％である。
また、構造単位（ａ３－１）、構造単位（ａ３－２）、構造単位（ａ３－３）又は構造単位（ａ３－４）の含有率は、それぞれ、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、５～６０モル％が好ましく、５～５０モル％がより好ましく、１０～５０モル％がさらに好ましい。 When the resin (A) contains the structural unit (a3), the total content is usually 5 to 70 mol%, preferably 10 to 65 mol%, based on the total structural units of the resin (A). , more preferably 10 to 60 mol %, still more preferably 20 to 55 mol %, and particularly preferably 30 to 50 mol %.
Further, the content of structural unit (a3-1), structural unit (a3-2), structural unit (a3-3) or structural unit (a3-4) is 5 to 60 mol % is preferred, 5 to 50 mol % is more preferred, and 10 to 50 mol % is even more preferred.

〈構造単位（ａ４）〉
構造単位（ａ４）としては、以下の構造単位が挙げられる。

Figure 0007289669000108
［式（ａ４）中、
Ｒ41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ42は、炭素数１～２４のハロゲン原子を有する飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯに置き換わっていてもよい。］
Ｒ42で表される飽和炭化水素基は、鎖式飽和炭化水素基及び単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。 <Structural unit (a4)>
Structural units (a4) include the following structural units.
Figure 0007289669000108
[In formula (a4),
R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 42 represents a saturated hydrocarbon group having a halogen atom of 1 to 24 carbon atoms, and -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with -O- or -CO. ]
The saturated hydrocarbon group represented by R 42 includes chain saturated hydrocarbon groups, monocyclic or polycyclic saturated alicyclic hydrocarbon groups, and groups formed by combining these groups.

鎖式飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合部位を表す。）等の多環式の脂環式飽和炭化水素基が挙げられる。

Figure 0007289669000109
組み合わせにより形成される基としては、１以上のアルキル基又は１以上のアルカンジイル基と、１以上の脂環式飽和炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、－アルカンジイル基－脂環式飽和炭化水素基、－脂環式飽和炭化水素基－アルキル基、－アルカンジイル基－脂環式飽和炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。 Chain saturated hydrocarbon groups include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group and octadecyl group. is mentioned. Examples of monocyclic or polycyclic saturated alicyclic hydrocarbon groups include cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl and other cycloalkyl groups; decahydronaphthyl, adamantyl, norbornyl and the following polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups such as groups (* represents a bonding site).
Figure 0007289669000109
Groups formed by combination include groups formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups and one or more alicyclic saturated hydrocarbon groups, and -alkanediyl groups Examples include - alicyclic saturated hydrocarbon group, - alicyclic saturated hydrocarbon group - alkyl group, - alkanediyl group - alicyclic saturated hydrocarbon group - alkyl group, and the like.

構造単位（ａ４）としては、式（ａ４－０）、式（ａ４－１）、式（ａ４－２）、式（ａ４－３）及び式（ａ４－４）からなる群から選択される少なくとも１つで表される構造単位が挙げられる。

Figure 0007289669000110
［式（ａ４－０）中、
Ｒ54は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ4ａは、単結合又は炭素数１～４のアルカンジイル基を表す。
Ｌ3ａは、炭素数１～８のペルフルオロアルカンジイル基又は炭素数３～１２のペルフルオロシクロアルカンジイル基を表す。
Ｒ64は、水素原子又はフッ素原子を表す。］ The structural unit (a4) is at least selected from the group consisting of formula (a4-0), formula (a4-1), formula (a4-2), formula (a4-3) and formula (a4-4) Structural units represented by one are exemplified.
Figure 0007289669000110
[In the formula (a4-0),
R54 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 4a represents a single bond or an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms.
L 3a represents a perfluoroalkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms or a perfluorocycloalkanediyl group having 3 to 12 carbon atoms.
R64 represents a hydrogen atom or a fluorine atom. ]

Ｌ4ａにおけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基及び２－メチルプロパン－１，２－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。 The alkanediyl group for L 4a includes linear alkanediyl groups such as methylene, ethylene, propane-1,3-diyl, butane-1,4-diyl, ethane-1,1-diyl, branched alkanediyl groups such as propane-1,2-diyl group, butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group and 2-methylpropane-1,2-diyl group; be done.

Ｌ3ａにおけるペルフルオロアルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロエチルフルオロメチレン基、ペルフルオロプロパン－１，３－ジイル基、ペルフルオロプロパン－１，２－ジイル基、ペルフルオロプロパン－２，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，４－ジイル基、ペルフルオロブタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロブタン－１，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－１，５－ジイル基、ペルフルオロペンタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロペンタン－３，３－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－１，６－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－２，２－ジイル基、ペルフルオロヘキサン－３，３－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－１，７－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－３，４－ジイル基、ペルフルオロヘプタン－４，４－ジイル基、ペルフルオロオクタン－１，８－ジイル基、ペルフルオロオクタン－２，２－ジイル基、ペルフルオロオクタン－３，３－ジイル基、ペルフルオロオクタン－４，４－ジイル基等が挙げられる。
Ｌ3ａにおけるペルフルオロシクロアルカンジイル基としては、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基、ペルフルオロシクロペンタンジイル基、ペルフルオロシクロヘプタンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。 The perfluoroalkanediyl group for L 3a includes a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, a perfluoroethylfluoromethylene group, a perfluoropropane-1,3-diyl group, a perfluoropropane-1,2-diyl group, and a perfluoropropane-2,2 -diyl group, perfluorobutane-1,4-diyl group, perfluorobutane-2,2-diyl group, perfluorobutane-1,2-diyl group, perfluoropentane-1,5-diyl group, perfluoropentane-2,2 -diyl group, perfluoropentane-3,3-diyl group, perfluorohexane-1,6-diyl group, perfluorohexane-2,2-diyl group, perfluorohexane-3,3-diyl group, perfluoroheptane-1,7 -diyl group, perfluoroheptane-2,2-diyl group, perfluoroheptane-3,4-diyl group, perfluoroheptane-4,4-diyl group, perfluorooctane-1,8-diyl group, perfluorooctane-2,2 -diyl group, perfluorooctane-3,3-diyl group, perfluorooctane-4,4-diyl group and the like.
The perfluorocycloalkanediyl group for L 3a includes a perfluorocyclohexanediyl group, a perfluorocyclopentanediyl group, a perfluorocycloheptanediyl group, a perfluoroadamantanediyl group, and the like.

Ｌ4ａは、好ましくは単結合、メチレン基又はエチレン基であり、より好ましくは、単結合、メチレン基である。
Ｌ3ａは、好ましくは炭素数１～６のペルフルオロアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルカンジイル基である。 L 4a is preferably a single bond, a methylene group or an ethylene group, more preferably a single bond or a methylene group.
L 3a is preferably a C 1-6 perfluoroalkanediyl group, more preferably a C 1-3 perfluoroalkanediyl group.

構造単位（ａ４－０）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位（ａ４－０）におけるＲ54に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

Figure 0007289669000111
Examples of the structural unit (a4-0) include structural units shown below and structural units in which the methyl group corresponding to R 54 in the structural unit (a4-0) in the following structural units is replaced with a hydrogen atom.
Figure 0007289669000111

Figure 0007289669000112
［式（ａ４－１）中、
Ｒa41は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒa42は、置換基を有していてもよい炭素数１～２０の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ａa41は、置換基を有していてもよい炭素数１～６のアルカンジイル基又は式（ａ－ｇ１）で表される基を表す。ただし、Ａａ４１及びＲａ４２のうち少なくとも１つは、置換基としてハロゲン原子（好ましくはフッ素原子）を有する。
Figure 0007289669000113
〔式（ａ－ｇ１）中、
ｓは０又は１を表す。
Ａa42及びＡa44は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素数１～５の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ａa43は、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１～５の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｘa41及びＸa42は、それぞれ独立に、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－を表す。
ただし、Ａa42、Ａa43、Ａa44、Ｘa41及びＸa42の炭素数の合計は７以下である。〕
＊は結合部位であり、右側の＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒa42との結合部位である。］
Figure 0007289669000112
[In formula (a4-1),
R a41 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R a42 represents an optionally substituted saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group is replaced with —O— or —CO— may
A a41 represents an optionally substituted alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms or a group represented by formula (a-g1). However, at least one of A a41 and R a42 has a halogen atom (preferably a fluorine atom) as a substituent.
Figure 0007289669000113
[In the formula (a-g1),
s represents 0 or 1;
A a42 and A a44 each independently represent an optionally substituted divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 5 carbon atoms.
A a43 represents a single bond or an optionally substituted C 1-5 divalent saturated hydrocarbon group.
X a41 and X a42 each independently represent -O-, -CO-, -CO-O- or -O-CO-.
However, the total number of carbon atoms of A a42 , A a43 , A a44 , X a41 and X a42 is 7 or less. ]
* is a binding site, and * on the right side is a binding site with --O--CO--R a42 . ]

Ｒa42における飽和炭化水素基としては、鎖式炭化水素基及び単環又は多環の脂環式炭化水素基、並びに、これらを組み合わせることにより形成される基等が挙げられる。 Examples of saturated hydrocarbon groups for R a42 include chain hydrocarbon groups, monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon groups, and groups formed by combining these groups.

鎖式炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基が挙げられる。単環又は多環の脂環式炭化水素基としては、シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；デカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合部位を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。

Figure 0007289669000114
組み合わせにより形成される基としては、１以上のアルキル基又は１以上のアルカンジイル基と、１以上の脂環式炭化水素基とを組み合わせることにより形成される基が挙げられ、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基、－脂環式炭化水素基－アルキル基、－アルカンジイル基－脂環式炭化水素基－アルキル基等が挙げられる。 Chain hydrocarbon groups include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl and octadecyl groups. mentioned. Monocyclic or polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include cycloalkyl groups such as cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl and cyclooctyl; decahydronaphthyl, adamantyl, norbornyl and the following groups (* represents a binding site.) and other polycyclic alicyclic hydrocarbon groups.
Figure 0007289669000114
Groups formed by combination include groups formed by combining one or more alkyl groups or one or more alkanediyl groups and one or more alicyclic hydrocarbon groups, and -alkanediyl groups- Alicyclic hydrocarbon group, -alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, -alkanediyl group-alicyclic hydrocarbon group-alkyl group, and the like.

Ｒa42が有していてもよい置換基として、ハロゲン原子及び式（ａ－ｇ３）で表される基からなる群から選択される少なくとも１種が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくはフッ素原子である。

Figure 0007289669000115
［式（ａ－ｇ３）中、
Ｘa43は、酸素原子、カルボニル基、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＲa42との結合部位を表す。）。
Ａa45は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の飽和炭化水素基を表す。
＊は結合部位を表す。］
ただし、Ｒa42－Ｘa43－Ａa45において、Ｒa42がハロゲン原子を有しない場合は、Ａa45は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する炭素数１～１７の飽和炭化水素基を表す。 Examples of the substituent that R a42 may have include at least one selected from the group consisting of halogen atoms and groups represented by formulas (a-g3). A halogen atom includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, preferably a fluorine atom.
Figure 0007289669000115
[In the formula (a-g3),
X a43 represents an oxygen atom, a carbonyl group, *--O--CO-- or *--CO--O-- (* represents a bonding site with R a42 ).
A a45 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
* represents a binding site. ]
However, in R a42 -X a43 -A a45 , when R a42 does not have a halogen atom, A a45 represents a C 1-17 saturated hydrocarbon group having at least one halogen atom.

Ａa45における飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基及びオクタデシル基等のアルキル基；
シクロペンチル基、シクロへキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の単環式の脂環式炭化水素基；並びにデカヒドロナフチル基、アダマンチル基、ノルボルニル基及び下記の基（＊は結合部位を表す。）等の多環式の脂環式炭化水素基が挙げられる。

Figure 0007289669000116
The saturated hydrocarbon group for A a45 includes methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decyl, dodecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl and octadecyl Alkyl groups such as groups;
Monocyclic alicyclic hydrocarbon groups such as cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group and cyclooctyl group; decahydronaphthyl group, adamantyl group, norbornyl group and the following groups ) and other polycyclic alicyclic hydrocarbon groups.
Figure 0007289669000116

Ｒa42は、ハロゲン原子を有していてもよい飽和炭化水素基が好ましく、ハロゲン原子を有するアルキル基及び／又は式（ａ－ｇ３）で表される基を有する飽和炭化水素基がより好ましい。
Ｒa42がハロゲン原子を有する飽和炭化水素基である場合、好ましくはフッ素原子を有する飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルキル基又はペルフルオロシクロアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数が１～６のペルフルオロアルキル基であり、特に好ましくは炭素数１～３のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基としては、ペルフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘプチル基及びペルフルオロオクチル基等が挙げられる。ペルフルオロシクロアルキル基としては、ペルフルオロシクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｒa42が、式（ａ－ｇ３）で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、式（ａ－ｇ３）で表される基に含まれる炭素数を含めて、Ｒa42の総炭素数は、１５以下が好ましく、１２以下がより好ましい。式（ａ－ｇ３）で表される基を置換基として有する場合、その数は１個が好ましい。 R a42 is preferably a saturated hydrocarbon group which may have a halogen atom, more preferably an alkyl group having a halogen atom and/or a saturated hydrocarbon group having a group represented by formula (a-g3).
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a halogen atom, it is preferably a saturated hydrocarbon group having a fluorine atom, more preferably a perfluoroalkyl group or a perfluorocycloalkyl group, still more preferably having 1 to 1 carbon atoms. A perfluoroalkyl group having 6 carbon atoms, particularly preferably a perfluoroalkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Perfluoroalkyl groups include perfluoromethyl, perfluoroethyl, perfluoropropyl, perfluorobutyl, perfluoropentyl, perfluorohexyl, perfluoroheptyl and perfluorooctyl groups. A perfluorocyclohexyl group etc. are mentioned as a perfluorocycloalkyl group.
When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by formula (a-g3), the total carbon number of R a42 including the number of carbon atoms contained in the group represented by formula (a-g3) The number is preferably 15 or less, more preferably 12 or less. When it has a group represented by formula (a-g3) as a substituent, the number thereof is preferably one.

Ｒa42が式（ａ－ｇ３）で表される基を有する飽和炭化水素基である場合、Ｒa42は、さらに好ましくは式（ａ－ｇ２）で表される基である。

Figure 0007289669000117
［式（ａ－ｇ２）中、
Ａa46は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の飽和炭化水素基を表す。
Ｘa44は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＡa46との結合部位を表す。）。
Ａa47は、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～１７の飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ａa46、Ａa47及びＸa44の炭素数の合計は１８以下であり、Ａa46及びＡa47のうち、少なくとも一方は、少なくとも１つのハロゲン原子を有する。
＊はカルボニル基との結合部位を表す。］ When R a42 is a saturated hydrocarbon group having a group represented by formula (a-g3), R a42 is more preferably a group represented by formula (a-g2).
Figure 0007289669000117
[In the formula (a-g2),
A a46 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
X a44 represents *--O--CO-- or *--CO--O-- (* represents a binding site with A a46 ).
A a47 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms which may have a halogen atom.
However, the total number of carbon atoms of A a46 , A a47 and X a44 is 18 or less, and at least one of A a46 and A a47 has at least one halogen atom.
* represents a bonding site with a carbonyl group. ]

Ａa46の飽和炭化水素基の炭素数は１～６が好ましく、１～３がより好ましい。
Ａa47の飽和炭化水素基の炭素数は４～１５が好ましく、５～１２がより好ましく、Ａa47は、シクロヘキシル基又はアダマンチル基がさらに好ましい。 The saturated hydrocarbon group of A a46 preferably has 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 to 3 carbon atoms.
The saturated hydrocarbon group of A a47 preferably has 4 to 15 carbon atoms, more preferably 5 to 12 carbon atoms, and A a47 is more preferably a cyclohexyl group or an adamantyl group.

式（ａ－ｇ２）で表される基の好ましい構造は、以下の構造である（＊はカルボニル基との結合部位である）。

Figure 0007289669000118
A preferred structure of the group represented by formula (a-g2) is the following structure (* is a bonding site with a carbonyl group).
Figure 0007289669000118

Ａa41におけるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、１－メチルブタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基が挙げられる。
Ａa41の表すアルカンジイル基における置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
Ａa41は、好ましくは炭素数１～４のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数２～４のアルカンジイル基であり、さらに好ましくはエチレン基である。 Alkanediyl group for A a41 includes methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group and hexane-1,6-diyl group straight-chain alkanediyl groups such as; Branched alkanediyl groups such as 2-methylbutane-1,4-diyl group can be mentioned.
Examples of substituents on the alkanediyl group represented by A a41 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
A a41 is preferably an alkanediyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, and still more preferably an ethylene group.

式（ａ－ｇ１）で表される基におけるＡａ４２、Ａａ４３及びＡａ４４の表す２価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐のアルカンジイル基及び単環の２価の脂環式飽和炭化水素基、並びに、アルカンジイル基及び２価の脂環式飽和炭化水素基を組合せることにより形成される２価の飽和炭化水素基等が挙げられる。具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、１－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基等が挙げられる。
Ａａ４２、Ａａ４３及びＡａ４４の表す２価の飽和炭化水素基の置換基としては、ヒドロキシ基及び炭素数１～６のアルコキシ基等が挙げられる。
ｓは、０であることが好ましい。 The divalent saturated hydrocarbon groups represented by A a42 , A a43 and A a44 in the group represented by the formula (a-g1) include linear or branched alkanediyl groups and monocyclic divalent alicyclic A saturated hydrocarbon group, a divalent saturated hydrocarbon group formed by combining an alkanediyl group and a divalent saturated alicyclic hydrocarbon group, and the like are included. Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, 1-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group and the like.
Examples of substituents of the divalent saturated hydrocarbon groups represented by A a42 , A a43 and A a44 include a hydroxy group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
s is preferably zero.

式（ａ－ｇ１）で表される基において、Ｘa42が－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－である基としては、以下の基等が挙げられる。以下の例示において、＊及び＊＊はそれぞれ結合部位を表わし、＊＊が－Ｏ－ＣＯ－Ｒa42との結合部位である。

Figure 0007289669000119
Among the groups represented by the formula (a-g1), examples of groups in which X a42 is -O-, -CO-, -CO-O- or -O-CO- include the following groups. In the following examples, * and ** each represent a binding site, and ** is the binding site with --O--CO--R a42 .
Figure 0007289669000119

式（ａ４－１）で表される構造単位としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の式（ａ４－１）で表される構造単位におけるＲa41に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

Figure 0007289669000120
As the structural unit represented by formula (a4-1), the following structural units and the methyl group corresponding to R a41 in the structural unit represented by formula (a4-1) in the following structural units is replaced with a hydrogen atom. Structural units replaced are included.
Figure 0007289669000120

Figure 0007289669000121
Figure 0007289669000121

Figure 0007289669000122
［式（ａ４－２）中、
Ｒf5は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ44は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。
Ｒf6は、炭素数１～２０のフッ素原子を有する飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌ44及びＲf6の合計炭素数の上限は２１である。］
Figure 0007289669000122
[In formula (a4-2),
R f5 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 44 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms, and --CH 2 -- contained in the alkanediyl group may be replaced with --O-- or --CO--.
R f6 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms and a fluorine atom.
However, the upper limit of the total carbon number of L 44 and R f6 is 21. ]

Ｌ44の炭素数１～６のアルカンジイル基は、Ａa41で例示したものと同様の基が挙げられる。
Ｒf6の飽和炭化水素基は、Ｒa42で例示したものと同様の基が挙げられる。
Ｌ４4における炭素数１～６のアルカンジイルとしては、炭素数２～４のアルカンジイル基が好ましく、エチレン基がより好ましい。 Examples of the C 1-6 alkanediyl group for L 44 include the same groups as those exemplified for A a41 .
Examples of the saturated hydrocarbon group for R f6 include the same groups as those exemplified for R a42 .
The alkanediyl having 1 to 6 carbon atoms in L 44 is preferably an alkanediyl group having 2 to 4 carbon atoms, more preferably an ethylene group.

式（ａ４－２）で表される構造単位としては、例えば、式（ａ４－１－１）～式（ａ４－１－１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４－２）におけるＲf５に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４－２）で表される構造単位として挙げられる。 Examples of structural units represented by formula (a4-2) include structural units represented by formulas (a4-1-1) to (a4-1-11). A structural unit in which the methyl group corresponding to R f5 in the structural unit (a4-2) is replaced with a hydrogen atom is also included as the structural unit represented by the formula (a4-2).

Figure 0007289669000123
［式（ａ４－３）中、
Ｒf7は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｌ5は、炭素数１～６のアルカンジイル基を表す。
Ａf13は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表す。
Ｘf12は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＡf13との結合部位を表す。）。
Ａf14は、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～１７の飽和炭化水素基を表す。
但し、Ａf13及びＡf14の少なくとも１つは、フッ素原子を有し、Ｌ5、Ａf13及びＡf14の合計炭素数の上限は２０である。］
Figure 0007289669000123
[In formula (a4-3),
R f7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
L 5 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
A f13 represents a C 1-18 divalent saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom.
X f12 represents *--O--CO-- or *--CO--O-- (* represents a binding site with A f13 ).
A f14 represents a C 1-17 saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom.
However, at least one of A f13 and A f14 has a fluorine atom, and the upper limit of the total carbon number of L 5 , A f13 and A f14 is 20. ]

Ｌ5におけるアルカンジイル基としては、Ａa41のアルカンジイル基で例示したものと同様の基が挙げられる。 Examples of the alkanediyl group for L 5 include the same groups as those exemplified for the alkanediyl group for A a41 .

Ａf13におけるフッ素原子を有していてもよい２価の飽和炭化水素基としては、好ましくはフッ素原子を有していてもよい２価の鎖式飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい２価の脂環式飽和炭化水素基であり、より好ましくはペルフルオロアルカンジイル基である。
フッ素原子を有していてもよい２価の鎖式飽和炭化水素基としては、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基；ジフルオロメチレン基、ペルフルオロエチレン基、ペルフルオロプロパンジイル基、ペルフルオロブタンジイル基及びペルフルオロペンタンジイル基等のペルフルオロアルカンジイル基等が挙げられる。
フッ素原子を有していてもよい２価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の基としては、シクロヘキサンジイル基及びペルフルオロシクロヘキサンジイル基等が挙げられる。多環式の基としては、アダマンタンジイル基、ノルボルナンジイル基、ペルフルオロアダマンタンジイル基等が挙げられる。 The divalent saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom in A f13 preferably has a divalent chain saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom and a fluorine atom is a divalent saturated alicyclic hydrocarbon group, more preferably a perfluoroalkanediyl group.
Examples of the divalent chain saturated hydrocarbon group which may have a fluorine atom include alkanediyl groups such as a methylene group, an ethylene group, a propanediyl group, a butanediyl group and a pentanediyl group; a difluoromethylene group, a perfluoroethylene group, perfluoroalkanediyl groups such as perfluoropropanediyl group, perfluorobutanediyl group and perfluoropentanediyl group;
The divalent saturated alicyclic hydrocarbon group which may have a fluorine atom may be either monocyclic or polycyclic. Monocyclic groups include a cyclohexanediyl group, a perfluorocyclohexanediyl group, and the like. Examples of polycyclic groups include an adamantanediyl group, a norbornanediyl group, a perfluoroadamantanediyl group, and the like.

Ａf14の飽和炭化水素基及びフッ素原子を有していてもよい飽和炭化水素基は、Ｒa42で例示したものと同様の基が挙げられる。なかでも、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メチル基、ペルフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、エチル基、ペルフルオロプロピル基、２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、プロピル基、ペルフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ブチル基、ペルフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ヘプチル基、ペルフルオロヘプチル基、オクチル基及びペルフルオロオクチル基等のフッ化アルキル基、シクロプロピルメチル基、シクロプロピル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ペルフルオロシクロヘキシル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、アダマンチルジメチル基、ノルボルニル基、ノルボルニルメチル基、ペルフルオロアダマンチル基、ペルフルオロアダマンチルメチル基等が好ましい。 Examples of saturated hydrocarbon groups and optionally fluorine-containing saturated hydrocarbon groups for A f14 include groups similar to those exemplified for R a42 . Among them, trifluoromethyl group, difluoromethyl group, methyl group, perfluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group, ethyl group, perfluoropropyl group, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl group, propyl group, perfluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, butyl group, perfluoropentyl group, Fluorination such as 2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl group, pentyl group, hexyl group, perfluorohexyl group, heptyl group, perfluoroheptyl group, octyl group and perfluorooctyl group Alkyl group, cyclopropylmethyl group, cyclopropyl group, cyclobutylmethyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, perfluorocyclohexyl group, adamantyl group, adamantylmethyl group, adamantyldimethyl group, norbornyl group, norbornylmethyl group, perfluoroadamantyl group , a perfluoroadamantylmethyl group, and the like.

式（ａ４－３）において、Ｌ5は、エチレン基が好ましい。
Ａf13の２価の飽和炭化水素基は、炭素数１～６の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数３～１２の脂環式飽和炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数２～３の鎖式飽和炭化水素基がさらに好ましい。
Ａf14の飽和炭化水素基は、炭素数３～１２の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数３～１２の脂環式飽和炭化水素基を含む基が好ましく、炭素数３～１０の鎖式飽和炭化水素基及び炭素数３～１０の脂環式飽和炭化水素基を含む基がさらに好ましい。なかでも、Ａf14は、好ましくは炭素数３～１２の脂環式飽和炭化水素基を含む基であり、より好ましくは、シクロプロピルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基及びアダマンチル基である。 In formula (a4-3), L 5 is preferably an ethylene group.
The divalent saturated hydrocarbon group of A f13 is preferably a group containing a chain saturated hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms and an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and Chain saturated hydrocarbon groups are more preferred.
The saturated hydrocarbon group of A f14 is preferably a group containing a chain saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms and an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, and a saturated chain hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms. Groups containing a hydrocarbon group and an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms are more preferred. Among them, A f14 is preferably a group containing an alicyclic saturated hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, more preferably a cyclopropylmethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a norbornyl group and an adamantyl group. .

式（ａ４－３）で表される構造単位としては、例えば、式（ａ４－１’－１）～式（ａ４－１’－１１）でそれぞれ表される構造単位が挙げられる。構造単位（ａ４－３）におけるＲf７に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位も式（ａ４－３）で表される構造単位として挙げられる。 Examples of structural units represented by formula (a4-3) include structural units represented by formulas (a4-1′-1) to (a4-1′-11). A structural unit in which the methyl group corresponding to R f7 in the structural unit (a4-3) is replaced with a hydrogen atom is also included as the structural unit represented by the formula (a4-3).

Figure 0007289669000124
［式（ａ４－４）中、
Ｒf21は、水素原子又はメチル基を表す。
Ａf21は、－（ＣＨ2）j1－、－（ＣＨ2）j2－Ｏ－（ＣＨ2）j3－又は－（ＣＨ2）j4－ＣＯ－Ｏ－（ＣＨ2）j5－を表す。
ｊ１～ｊ５は、それぞれ独立に、１～６のいずれかの整数を表す。
Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０の飽和炭化水素基を表す。］
Figure 0007289669000124
[In the formula (a4-4),
R f21 represents a hydrogen atom or a methyl group.
A f21 represents -(CH 2 ) j1 -, -(CH 2 ) j2 -O-(CH 2 ) j3 - or -(CH 2 ) j4 -CO-O-(CH 2 ) j5 -.
j1 to j5 each independently represent an integer of 1 to 6;
R f22 represents a C 1-10 saturated hydrocarbon group having a fluorine atom. ]

Ｒf22の飽和炭化水素基は、Ｒa42で表される飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。Ｒf22は、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基又はフッ素原子を有する炭素数１～１０の脂環式飽和炭化水素基が好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～１０のアルキル基がより好ましく、フッ素原子を有する炭素数１～６のアルキル基がさらに好ましい。 The saturated hydrocarbon group represented by R f22 includes the same saturated hydrocarbon group represented by R a42 . R f22 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom or an alicyclic saturated hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms having a fluorine atom is preferably More preferred is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and having a fluorine atom.

式（ａ４－４）においては、Ａf21としては、－（ＣＨ2）ｊ1－が好ましく、エチレン基又はメチレン基がより好ましく、メチレン基がさらに好ましい。 In formula (a4-4), A f21 is preferably —(CH 2 ) j1 —, more preferably an ethylene group or a methylene group, even more preferably a methylene group.

式（ａ４－４）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び以下の式で表される構造単位において、構造単位（ａ４－４）におけるＲf21に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

Figure 0007289669000125
As the structural unit represented by formula (a4-4), for example, in structural units represented by the following structural units and structural units represented by the following formulas, the methyl group corresponding to R f21 in structural unit (a4-4) is hydrogen Structural units replaced with atoms are included.
Figure 0007289669000125

樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ４）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～２０モル％が好ましく、２～１５モル％がより好ましく、３～１０モル％がさらに好ましい。 When the resin (A) has the structural unit (a4), the content thereof is preferably 1 to 20 mol%, more preferably 2 to 15 mol%, based on the total structural units of the resin (A), and 3 ~10 mol% is more preferred.

〈構造単位（ａ５）〉
構造単位（ａ５）が有する非脱離炭化水素基としては、直鎖、分岐又は環状の炭化水素基を有する基が挙げられる。なかでも、構造単位（ａ５）は、脂環式炭化水素基を有する基が好ましい。
構造単位（ａ５）としては、例えば、式（ａ５－１）で表される構造単位が挙げられる。

Figure 0007289669000126
［式（ａ５－１）中、
Ｒ51は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ52は、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表し、該脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は炭素数１～８の脂肪族炭化水素基で置換されていてもよい。
Ｌ55は、単結合又は炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよい。］ <Structural unit (a5)>
Examples of non-leaving hydrocarbon groups possessed by the structural unit (a5) include groups having linear, branched or cyclic hydrocarbon groups. Among them, the structural unit (a5) is preferably a group having an alicyclic hydrocarbon group.
Examples of the structural unit (a5) include structural units represented by formula (a5-1).
Figure 0007289669000126
[In formula (a5-1),
R51 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 52 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. .
L 55 represents a single bond or a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with —O— or —CO— . ]

Ｒ52における脂環式炭化水素基としては、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。多環式の脂環式炭化水素基としては、例えば、アダマンチル基及びノルボルニル基等が挙げられる。
炭素数１～８の脂肪族炭化水素基は、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基及び２－エチルヘキシル基等のアルキル基が挙げられる。
置換基を有する脂環式炭化水素基としては、３－ヒドロキシアダマンチル基、３－メチルアダマンチル基などが挙げられる。
Ｒ52は、好ましくは、無置換の炭素数３～１８の脂環式炭化水素基であり、より好ましくは、アダマンチル基、ノルボルニル基又はシクロヘキシル基である。 The alicyclic hydrocarbon group for R 52 may be either monocyclic or polycyclic. Examples of monocyclic alicyclic hydrocarbon groups include cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl and cyclohexyl groups. Examples of polycyclic alicyclic hydrocarbon groups include adamantyl groups and norbornyl groups.
Aliphatic hydrocarbon groups having 1 to 8 carbon atoms are, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group and 2 - alkyl groups such as ethylhexyl groups.
Alicyclic hydrocarbon groups having a substituent include a 3-hydroxyadamantyl group and a 3-methyladamantyl group.
R 52 is preferably an unsubstituted alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms, more preferably an adamantyl group, a norbornyl group or a cyclohexyl group.

Ｌ55における２価の飽和炭化水素基としては、２価の鎖式飽和炭化水素基及び２価の脂環式飽和炭化水素基が挙げられ、好ましくは２価の鎖式飽和炭化水素基である。
２価の鎖式飽和炭化水素基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロパンジイル基、ブタンジイル基及びペンタンジイル基等のアルカンジイル基が挙げられる。
２価の脂環式飽和炭化水素基は、単環式及び多環式のいずれでもよい。単環式の脂環式飽和炭化水素基としては、シクロペンタンジイル基及びシクロヘキサンジイル基等のシクロアルカンジイル基が挙げられる。多環式の２価の脂環式飽和炭化水素基としては、アダマンタンジイル基及びノルボルナンジイル基等が挙げられる。 The divalent saturated hydrocarbon group for L 55 includes a divalent saturated chain hydrocarbon group and a saturated divalent alicyclic hydrocarbon group, preferably a saturated chain divalent hydrocarbon group. .
Examples of divalent chain saturated hydrocarbon groups include alkanediyl groups such as methylene, ethylene, propanediyl, butanediyl and pentanediyl groups.
The bivalent alicyclic saturated hydrocarbon group may be either monocyclic or polycyclic. The monocyclic alicyclic saturated hydrocarbon group includes cycloalkanediyl groups such as cyclopentanediyl group and cyclohexanediyl group. Examples of the polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group include an adamantanediyl group and a norbornanediyl group.

Ｌ55の表す２価の飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－又は－ＣＯ－で置き換わった基としては、例えば、式（Ｌ１－１）～式（Ｌ１－４）で表される基が挙げられる。下記式中、＊及び＊＊は各々結合部位を表し、＊は酸素原子との結合部位を表す。

Figure 0007289669000127
式（Ｌ１－１）中、
Ｘx1は、＊－Ｏ－ＣＯ－又は＊－ＣＯ－Ｏ－を表す（＊はＬｘ１との結合部位を表す。）。
Ｌx1は、炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx2は、単結合又は炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx1及びＬx2の合計炭素数は、１６以下である。
式（Ｌ１－２）中、
Ｌx3は、炭素数１～１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx4は、単結合又は炭素数１～１６の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx3及びＬx4の合計炭素数は、１７以下である。
式（Ｌ１－３）中、
Ｌx5は、炭素数１～１５の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｌx6及びＬx7は、それぞれ独立に、単結合又は炭素数１～１４の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx5、Ｌx6及びＬx7の合計炭素数は、１５以下である。
式（Ｌ１－４）中、
Ｌx8及びＬx9は、単結合又は炭素数１～１２の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表す。
Ｗx1は、炭素数３～１５の２価の脂環式飽和炭化水素基を表す。
ただし、Ｌx8、Ｌx9及びＷx1の合計炭素数は、１５以下である。 Groups in which —CH 2 — contained in the divalent saturated hydrocarbon group represented by L 55 is replaced with —O— or —CO— include, for example, formulas (L1-1) to (L1-4) and the group represented by In the following formulas, * and ** each represent a bonding site, and * represents a bonding site with an oxygen atom.
Figure 0007289669000127
In formula (L1-1),
X x1 represents *-O-CO- or *-CO-O- (* represents a binding site with L x1 ).
L x1 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
L x2 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x1 and L x2 is 16 or less.
In formula (L1-2),
L x3 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 17 carbon atoms.
L x4 represents a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x3 and L x4 is 17 or less.
In formula (L1-3),
L x5 represents a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
L x6 and L x7 each independently represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x5 , L x6 and L x7 is 15 or less.
In formula (L1-4),
L x8 and L x9 each represent a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
W x1 represents a divalent saturated alicyclic hydrocarbon group having 3 to 15 carbon atoms.
However, the total carbon number of L x8 , L x9 and W x1 is 15 or less.

Ｌx1は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx2は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合である。
Ｌx3は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx4は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx5は、好ましくは、炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx6は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、メチレン基又はエチレン基である。
Ｌx7は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基である。
Ｌx8は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｌx9は、好ましくは、単結合又は炭素数１～８の２価の脂肪族飽和炭化水素基、より好ましくは、単結合又はメチレン基である。
Ｗx1は、好ましくは、炭素数３～１０の２価の脂環式飽和炭化水素基、より好ましくは、シクロヘキサンジイル基又はアダマンタンジイル基である。 L x1 is preferably a C 1-8 divalent aliphatic saturated hydrocarbon group, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x2 is preferably a single bond or a C 1-8 divalent saturated aliphatic hydrocarbon group, more preferably a single bond.
L x3 is preferably a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x4 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x5 is preferably a C 1-8 divalent aliphatic saturated hydrocarbon group, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x6 is preferably a single bond or a C 1-8 divalent aliphatic saturated hydrocarbon group, more preferably a methylene group or an ethylene group.
L x7 is preferably a single bond or a divalent aliphatic saturated hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms.
L x8 is preferably a single bond or a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
L x9 is preferably a single bond or a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a single bond or a methylene group.
W x1 is preferably a divalent saturated alicyclic hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms, more preferably a cyclohexanediyl group or an adamantanediyl group.

式（Ｌ１－１）で表される基としては、例えば、以下に示す２価の基が挙げられる。

Figure 0007289669000128
Examples of the group represented by formula (L1-1) include the divalent groups shown below.
Figure 0007289669000128

式（Ｌ１－２）で表される基としては、例えば、以下に示す基が挙げられる。

Figure 0007289669000129
Examples of the group represented by formula (L1-2) include groups shown below.
Figure 0007289669000129

式（Ｌ１－３）で表される基としては、例えば、以下に示す基が挙げられる。

Figure 0007289669000130
Examples of the group represented by formula (L1-3) include groups shown below.
Figure 0007289669000130

式（Ｌ１－４）で表される基としては、例えば、以下に示す基が挙げられる。

Figure 0007289669000131
Examples of the group represented by formula (L1-4) include groups shown below.
Figure 0007289669000131

Ｌ55は、好ましくは、単結合又は式（Ｌ１－１）で表される基である。 L 55 is preferably a single bond or a group represented by formula (L1-1).

構造単位（ａ５－１）としては、以下に示す構造単位及び下記構造単位中の構造単位（ａ５－１）におけるＲ51に相当するメチル基が水素原子に置き換わった構造単位が挙げられる。

Figure 0007289669000132
樹脂（Ａ）が、構造単位（ａ５）を有する場合、その含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、１～３０モル％が好ましく、２～２０モル％がより好ましく、３～１５モル％がさらに好ましい。 Examples of the structural unit (a5-1) include structural units shown below and structural units in which the methyl group corresponding to R 51 in the structural unit (a5-1) in the following structural units is replaced with a hydrogen atom.
Figure 0007289669000132
When the resin (A) has the structural unit (a5), the content thereof is preferably 1 to 30 mol%, more preferably 2 to 20 mol%, based on the total structural units of the resin (A). ~15 mol% is more preferred.

＜構造単位（ＩＩ）＞
樹脂（Ａ）は、さらに、露光により分解して酸を発生する構造単位（以下、「構造単位（ＩＩ）という場合がある）を含有していてもよい。構造単位（ＩＩ）としては、具体的には特開２０１６－７９２３５号公報に記載の構造単位が挙げられ、側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位又は側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位であることが好ましい。 <Structural unit (II)>
The resin (A) may further contain a structural unit that is decomposed by exposure to generate an acid (hereinafter sometimes referred to as "structural unit (II)"). Examples include structural units described in JP 2016-79235 A, a structural unit having a sulfonate group or a carboxylate group and an organic cation in a side chain or a structural unit having a sulfonio group and an organic anion in a side chain. is preferably

側鎖にスルホナート基若しくはカルボキシレート基と有機カチオンとを有する構造単位は、式（ＩＩ－２－Ａ’）で表される構造単位であることが好ましい。

Figure 0007289669000133
［式（ＩＩ－２－Ａ’）中、
ＸＩＩＩ３は、炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、ハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基又はヒドロキシ基で置き換わっていてもよい。
Ａｘ１は、炭素数１～８のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。
ＲＡ－は、スルホナート基又はカルボキシレート基を表す。
ＲＩＩＩ３は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
ＺＡ＋は、有機カチオンを表す。］ A structural unit having a sulfonate group or carboxylate group and an organic cation in a side chain is preferably a structural unit represented by formula (II-2-A').
Figure 0007289669000133
[In the formula (II-2-A '),
X III3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with —O—, —S— or —CO— A hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom, or a hydroxy group.
A x1 represents an alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
RA- represents a sulfonate group or a carboxylate group.
R III3 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
ZA + represents an organic cation. ]

ＲＩＩＩ３で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
ＲＩＩＩ３で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じものが挙げられる。
Ａｘ１で表される炭素数１～８のアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、エタン－１，１－ジイル基、プロパン－１，１－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－２，２－ジイル基、ペンタン－２，４－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
Ａｘ１における水素原子が置換されていてもよい炭素数１～６のペルフルオロアルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペルフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロｓｅｃ－ブチル基、ペルフルオロｔｅｒｔ－ブチル基、ペルフルオロペンチル基、ペルフルオロヘキシル基などが挙げられる。 Halogen atoms represented by R III3 include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R III3 includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 . The same can be mentioned.
The alkanediyl group having 1 to 8 carbon atoms represented by A x1 includes methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, butane-1,4-diyl group and pentane-1,5-diyl group. , hexane-1,6-diyl group, ethane-1,1-diyl group, propane-1,1-diyl group, propane-1,2-diyl group, propane-2,2-diyl group, pentane-2, 4-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group, pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group, etc. mentioned.
The perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which the hydrogen atom in A x1 may be substituted includes a trifluoromethyl group, a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoroisopropyl group, a perfluorobutyl group, and a perfluorosec-butyl group. , perfluorotert-butyl group, perfluoropentyl group, perfluorohexyl group and the like.

ＸＩＩＩ３で表される炭素数１～１８の２価の飽和炭化水素基としては、直鎖又は分岐状アルカンジイル基、単環式又は多環式の２価の脂環飽和炭化水素基が挙げられ、これらの組み合わせてあってもよい。
具体的には、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基等の直鎖状アルカンジイル基；ブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，２－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等の分岐状アルカンジイル基；シクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、シクロオクタン－１，５－ジイル基等のシクロアルカンジイル基；ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル基等の２価の多環式脂環式飽和炭化水素基等が挙げられる。 Examples of the divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms represented by X III3 include a linear or branched alkanediyl group and a monocyclic or polycyclic divalent alicyclic saturated hydrocarbon group. and may be a combination of these.
Specifically, methylene group, ethylene group, propane-1,3-diyl group, propane-1,2-diyl group, butane-1,4-diyl group, pentane-1,5-diyl group, hexane-1 ,6-diyl group, heptane-1,7-diyl group, octane-1,8-diyl group, nonane-1,9-diyl group, decane-1,10-diyl group, undecane-1,11-diyl group , dodecane-1,12-diyl group and other linear alkanediyl groups; butane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,3-diyl group, 2-methylpropane-1,2-diyl group , pentane-1,4-diyl group, 2-methylbutane-1,4-diyl group and other branched alkanediyl groups; cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1 ,4-diyl group, cycloalkanediyl group such as cyclooctane-1,5-diyl group; norbornane-1,4-diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, adamantane Divalent polycyclic alicyclic saturated hydrocarbon groups such as -2,6-diyl group and the like can be mentioned.

飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わったものとしては、例えば式（Ｘ１）～式（Ｘ５３）で表される２価の基が挙げられる。ただし、飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わる前の炭素数はそれぞれ１７以下である。下記式において、＊及び＊＊は結合部位を表し、＊はＡｘ１との結合部位を表す。

Figure 0007289669000134
Examples of saturated hydrocarbon groups in which —CH 2 — is replaced with —O—, —S— or —CO— include divalent groups represented by formulas (X1) to (X53). mentioned. However, -CH 2 - contained in the saturated hydrocarbon group has 17 or less carbon atoms before being replaced with -O-, -S- or -CO-. In the formula below, * and ** represent binding sites, and * represents a binding site with Ax1 .
Figure 0007289669000134

Ｘ3は、２価の炭素数１～１６の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ4は、２価の炭素数１～１５の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ5は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ6は、２価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ7は、３価の炭素数１～１４の飽和炭化水素基を表す。
Ｘ8は、２価の炭素数１～１３の飽和炭化水素基を表す。 X 3 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 16 carbon atoms.
X 4 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms.
X 5 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.
X 6 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X 7 represents a trivalent saturated hydrocarbon group having 1 to 14 carbon atoms.
X 8 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 13 carbon atoms.

ＺＡ+で表される有機カチオンは、カルボン酸塩（Ｉ）におけるカチオンＺ＋と同様のものが挙げられる。 Examples of the organic cation represented by ZA + include those similar to the cation Z + in carboxylate (I).

式（ＩＩ－２－Ａ’）で表される構造単位は、式（ＩＩ－２－Ａ）で表される構造単位であることが好ましい。

Figure 0007289669000135
［式（ＩＩ－２－Ａ）中、ＲＩＩＩ３、ＸＩＩＩ３及びＺＡ＋は、上記と同じ意味を表す。
ｚは、０～６のいずれかの整数を表す。
ＲＩＩＩ２及びＲＩＩＩ４は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表し、ｚが２以上のとき、複数のＲＩＩＩ２及びＲＩＩＩ４は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。
Ｑａ及びＱｂは、それぞれ独立して、フッ素原子又は炭素数１～６のペルフルオロアルキル基を表す。］ The structural unit represented by formula (II-2-A') is preferably a structural unit represented by formula (II-2-A).
Figure 0007289669000135
[In formula (II-2-A), R III3 , X III3 and ZA + have the same meanings as above.
z represents any integer from 0 to 6;
R III2 and R III4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom or a perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and when z is 2 or more, a plurality of R III2 and R III4 are the same may be different.
Q a and Q b each independently represent a fluorine atom or a C 1-6 perfluoroalkyl group. ]

ＲＩＩＩ２、ＲＩＩＩ４、Ｑａ及びＱｂで表される炭素数１～６のペルフルオロアルキル基としては、前述のＱｂ１で表される炭素数１～６のペルフルオロアルキル基と同じものが挙げられる。 Examples of the perfluoroalkyl group having 1 to 6 carbon atoms represented by R III2 , R III4 , Q a and Q b include the same perfluoroalkyl groups having 1 to 6 carbon atoms represented by Q b1 described above. .

式（ＩＩ－２－Ａ）で表される構造単位は、式（ＩＩ－２－Ａ－１）で表される構造単位であることが好ましい。

Figure 0007289669000136
［式（ＩＩ－２－Ａ－１）中、
ＲＩＩＩ２、ＲＩＩＩ３、ＲＩＩＩ４、Ｑa、Ｑb、ｚ及びＺＡ＋は、上記と同じ意味を表す。
ＲＩＩＩ５は、炭素数１～１２の飽和炭化水素基を表す。
ＸＩ2は、炭素数１～１１の２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－に置き換わっていてもよく、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子又はヒドロキシ基で置換されていてもよい。］ The structural unit represented by formula (II-2-A) is preferably a structural unit represented by formula (II-2-A-1).
Figure 0007289669000136
[In formula (II-2-A-1),
R III2 , R III3 , R III4 , Q a , Q b , z and ZA + have the same meanings as above.
R III5 represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
X I2 represents a divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 11 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group may be replaced with —O—, —S— or —CO—. A hydrogen atom contained in the saturated hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom or a hydroxy group. ]

ＲＩＩＩ５で表される炭素数１～１２の飽和炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基及びドデシル基等の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられる。
ＸＩ２で表される２価の飽和炭化水素基としては、ＸＩＩＩ３で表される２価の飽和炭化水素基と同様のものが挙げられる。 Examples of saturated hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms represented by R III5 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, Linear or branched alkyl groups such as heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group and dodecyl group can be mentioned.
The divalent saturated hydrocarbon group represented by X I2 includes the same divalent saturated hydrocarbon groups as those represented by X III3 .

式（ＩＩ－２－Ａ－１）で表される構造単位としては、式（ＩＩ－２－Ａ－２）で表される構造単位が好ましい。

Figure 0007289669000137
［式（ＩＩ－２－Ａ－２）中、ＲＩＩＩ３、ＲＩＩＩ５及びＺＡ＋は、上記と同じ意味を表す。
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、１又は２を表す。］ As the structural unit represented by formula (II-2-A-1), a structural unit represented by formula (II-2-A-2) is preferable.
Figure 0007289669000137
[In formula (II-2-A-2), R III3 , R III5 and ZA + have the same meanings as above.
m and n each independently represent 1 or 2; ]

式（ＩＩ－２－Ａ’）で表される構造単位としては、例えば、以下の構造単位及び国際公開第２０１２／０５００１５号記載の構造単位が挙げられる。ＺＡ＋は、有機カチオンを表す。

Figure 0007289669000138
The structural unit represented by formula (II-2-A′) includes, for example, the following structural units and structural units described in International Publication No. 2012/050015. ZA + represents an organic cation.
Figure 0007289669000138

Figure 0007289669000139
Figure 0007289669000139

側鎖にスルホニオ基と有機アニオンとを有する構造単位は、式（ＩＩ－１－１）で表される構造単位であることが好ましい。

Figure 0007289669000140
［式（ＩＩ－１－１）中、
ＡＩＩ１は、単結合又は連結基を表す。
ＲＩＩ１は、炭素数６～１８の２価の芳香族炭化水素基を表す。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３は、それぞれ独立して、炭素数１～１８の炭化水素基を表し、ＲＩＩ２及びＲＩＩ３は互いに結合してそれらが結合する硫黄原子とともに環を形成していてもよい。
ＲII4は、水素原子、ハロゲン原子又はハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基を表す。
Ａ－は、有機アニオンを表す。］
ＡＩＩ１で表される２価の連結基としては、例えば、炭素数１～１８の飽和炭化水素基が挙げられ、該飽和炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は、－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＣＯ－で置き換わっていてもよい。具体的には、ＸＩＩＩ３で表される２価の炭素数１～１８の飽和炭化水素基と同じものが挙げられる。
ＲＩＩ１で表される２価の炭素数６～１８の芳香族炭化水素基としては、フェニレン基及びナフチレン基等が挙げられる。
ＲＩＩ２及びＲＩＩ３で表される炭化水素基としては、Ｒａ３’で表される炭化水素基と同様のものが挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。
ＲＩＩ４で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基としては、Ｒａ８で表されるハロゲン原子を有していてもよい炭素数１～６のアルキル基と同じものが挙げられる。 A structural unit having a sulfonio group and an organic anion in a side chain is preferably a structural unit represented by formula (II-1-1).
Figure 0007289669000140
[In the formula (II-1-1),
AII1 represents a single bond or a linking group.
R II1 represents a divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms.
R II2 and R II3 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and R II2 and R II3 may be bonded to each other to form a ring together with the sulfur atom to which they are bonded.
R II4 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom.
A − represents an organic anion. ]
The divalent linking group represented by A II1 includes, for example, a saturated hydrocarbon group having 1 to 18 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the saturated hydrocarbon group is —O—, —S - or -CO- may be substituted. Specific examples include the same divalent C 1-18 saturated hydrocarbon groups represented by X III3 .
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group having 6 to 18 carbon atoms represented by R II1 include a phenylene group and a naphthylene group.
The hydrocarbon groups represented by R II2 and R II3 include the same hydrocarbon groups as those represented by R a3′ .
Halogen atoms represented by RII4 include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R II4 includes an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a halogen atom represented by R a8 . The same can be mentioned.

式（ＩＩ－１－１）中のカチオンを含む構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。

Figure 0007289669000141
Examples of structural units containing cations in formula (II-1-1) include structural units represented below.
Figure 0007289669000141

Figure 0007289669000142
Figure 0007289669000142

Ａ－で表される有機アニオンとしては、スルホン酸アニオン、スルホニルイミドアニオン、スルホニルメチドアニオン及びカルボン酸アニオン等が挙げられる。Ａ－で表される有機アニオンは、スルホン酸アニオンが好ましく、スルホン酸アニオンとしては、前述する式（Ｂ１）で表される塩に含まれるアニオンであることがより好ましい。 Organic anions represented by A − include sulfonate anions, sulfonylimide anions, sulfonylmethide anions and carboxylate anions. The organic anion represented by A − is preferably a sulfonate anion, and the sulfonate anion is more preferably an anion contained in the salt represented by the above formula (B1).

Ａ－で表されるスルホニルイミドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000143
Sulfonylimide anions represented by A − include the following.
Figure 0007289669000143

スルホニルメチドアニオンとしては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000144
Sulfonylmethide anions include the following.
Figure 0007289669000144

カルボン酸アニオンとしては、以下のものが挙げられる。

Figure 0007289669000145
Carboxylate anions include the following.
Figure 0007289669000145

式（ＩＩ－１－１）で表される構造単位としては、以下で表される構造単位などが挙げられる。

Figure 0007289669000146
Examples of structural units represented by formula (II-1-1) include structural units represented below.
Figure 0007289669000146

樹脂（Ａ）中に、構造単位（ＩＩ）を含有する場合の構造単位（ＩＩ）の含有率は、樹脂（Ａ）の全構造単位に対して、好ましくは１～２０モル％であり、より好ましくは２～１５モル％であり、さらに好ましくは３～１０モル％である。 When the resin (A) contains the structural unit (II), the content of the structural unit (II) is preferably 1 to 20 mol% of the total structural units of the resin (A), and more It is preferably 2 to 15 mol %, more preferably 3 to 10 mol %.

樹脂（Ａ）は、上述の構造単位以外の構造単位を有していてもよく、このような構造単位としては、当技術分野で周知の構造単位が挙げられる。 Resin (A) may have structural units other than the structural units described above, and examples of such structural units include structural units well known in the art.

樹脂（Ａ）は、好ましくは、構造単位（ａ１）と構造単位（ｓ）とからなる樹脂、すなわち、モノマー（ａ１）とモノマー（ｓ）との共重合体である。
構造単位（ａ１）は、好ましくは構造単位（ａ１－０）、構造単位（ａ１－１）及び構造単位（ａ１－２）（好ましくはシクロヘキシル基及びシクロペンチル基を有する該構造単位）からなる群から選ばれる少なくとも一種であり、より好ましくは少なくとも二種である。
構造単位（ｓ）は、好ましくは構造単位（ａ２）及び構造単位（ａ３）からなる群から選ばれる少なくとも一種である。構造単位（ａ２）は、好ましくは式（ａ２－１）で表される構造単位である。構造単位（ａ３）は、好ましくは式（ａ３－１）で表される構造単位、式（ａ３－２）で表される構造単位及び式（ａ３－４）で表される構造単位からなる群から選ばれる少なくとも一種である。 Resin (A) is preferably a resin composed of structural unit (a1) and structural unit (s), that is, a copolymer of monomer (a1) and monomer (s).
Structural unit (a1) is preferably from the group consisting of structural unit (a1-0), structural unit (a1-1) and structural unit (a1-2) (preferably the structural unit having a cyclohexyl group and a cyclopentyl group) At least one selected, more preferably at least two.
Structural unit (s) is preferably at least one selected from the group consisting of structural unit (a2) and structural unit (a3). Structural unit (a2) is preferably a structural unit represented by formula (a2-1). Structural unit (a3) is preferably a group consisting of a structural unit represented by formula (a3-1), a structural unit represented by formula (a3-2) and a structural unit represented by formula (a3-4) is at least one selected from

樹脂（Ａ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組み合わせて用いてもよく、これら構造単位を導くモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）によって製造することができる。樹脂（Ａ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ａ）の重量平均分子量は、好ましくは、２，０００以上（より好ましくは２，５００以上、さらに好ましくは３，０００以上）、５０，０００以下（より好ましくは３０，０００以下、さらに好ましくは１５，０００以下）である。本明細書では、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーで実施例に記載の条件により求めた値である。 Each structural unit that constitutes the resin (A) may be used alone or in combination of two or more, and is produced by a known polymerization method (e.g., radical polymerization method) using a monomer that leads to these structural units. be able to. The content of each structural unit in the resin (A) can be adjusted by adjusting the amount of monomer used for polymerization.
The weight average molecular weight of the resin (A) is preferably 2,000 or more (more preferably 2,500 or more, still more preferably 3,000 or more) and 50,000 or less (more preferably 30,000 or less, further preferably is 15,000 or less). As used herein, the weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography under the conditions described in Examples.

＜樹脂（Ａ）以外の樹脂＞
樹脂（Ａ）以外の樹脂としては、例えば、構造単位（ａ４）又は構造単位（ａ５）を含有する樹脂（以下、樹脂（Ｘ）という場合がある）等が挙げられる。 <Resins other than resin (A)>
Examples of the resin other than the resin (A) include a resin containing the structural unit (a4) or the structural unit (a5) (hereinafter sometimes referred to as resin (X)).

樹脂（Ｘ）としては、なかでも、構造単位（ａ４）を含む樹脂が好ましい。
樹脂（Ｘ）において、構造単位（ａ４）の含有率は、樹脂（Ｘ）の全構造単位の合計に対して、３０モル％以上であることが好ましく、４０モル％以上であることがより好ましく、４５モル％以上であることがさらに好ましい。
樹脂（Ｘ）がさらに有していてもよい構造単位としては、構造単位（ａ１）、構造単位（ａ２）、構造単位（ａ３）及びその他の公知のモノマーに由来する構造単位が挙げられる。中でも、樹脂（Ｘ）は、構造単位（ａ４）及び／又は構造単位（ａ５）のみからなる樹脂であることが好ましく、構造単位（ａ４）のみからなる樹脂であることがより好ましい。 As the resin (X), among others, a resin containing the structural unit (a4) is preferable.
In the resin (X), the content of the structural unit (a4) is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, based on the total of all structural units of the resin (X). , more preferably 45 mol % or more.
Structural units that the resin (X) may further include structural units (a1), structural units (a2), structural units (a3), and structural units derived from other known monomers. Among them, the resin (X) is preferably a resin consisting only of the structural unit (a4) and/or the structural unit (a5), more preferably a resin consisting only of the structural unit (a4).

樹脂（Ｘ）を構成する各構造単位は、１種のみ又は２種以上を組合せて用いてもよく、これら構造単位を誘導するモノマーを用いて、公知の重合法（例えばラジカル重合法）によって製造することができる。樹脂（Ｘ）が有する各構造単位の含有率は、重合に用いるモノマーの使用量で調整できる。
樹脂（Ｘ）の重量平均分子量は、それぞれ独立して、好ましくは６，０００以上（より好ましくは７，０００以上）、８０，０００以下（より好ましくは６０，０００以下）である。樹脂（Ｘ）の重量平均分子量の測定手段は、樹脂（Ａ）の場合と同様である。
また、レジスト組成物が樹脂（Ｘ）を含む場合、その含有量は、樹脂（Ａ）１００質量部に対して、好ましくは１～６０質量部であり、より好ましくは１～５０質量部であり、さらに好ましくは１～４０質量部であり、特に好ましくは１～３０質量部であり、特に好ましくは１～８質量部である。 Each structural unit that constitutes the resin (X) may be used alone or in combination of two or more. Using a monomer that induces these structural units, the polymer is produced by a known polymerization method (e.g., radical polymerization method). can do. The content of each structural unit in the resin (X) can be adjusted by adjusting the amount of the monomer used for polymerization.
The weight average molecular weights of resin (X) are each independently preferably 6,000 or more (more preferably 7,000 or more) and 80,000 or less (more preferably 60,000 or less). The means for measuring the weight-average molecular weight of resin (X) is the same as for resin (A).
Further, when the resist composition contains the resin (X), its content is preferably 1 to 60 parts by mass, more preferably 1 to 50 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the resin (A). , More preferably 1 to 40 parts by mass, particularly preferably 1 to 30 parts by mass, particularly preferably 1 to 8 parts by mass.

レジスト組成物における樹脂（Ａ）の含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、８０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、９０質量％以上９９質量％以下がより好ましい。また、樹脂（Ａ）以外の樹脂を含む場合は、樹脂（Ａ）と樹脂（Ａ）以外の樹脂との合計含有率は、レジスト組成物の固形分に対して、８０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、９０質量％以上９９質量％以下がより好ましい。レジスト組成物の固形分及びこれに対する樹脂の含有率は、液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。 The content of the resin (A) in the resist composition is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 99% by mass or less, relative to the solid content of the resist composition. Further, when a resin other than the resin (A) is included, the total content of the resin (A) and the resin other than the resin (A) is 80% by mass or more and 99% by mass with respect to the solid content of the resist composition. It is preferably less than or equal to 90% by mass or more, and more preferably 90% by mass or more and 99% by mass or less. The solid content and resin content of the resist composition can be measured by known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.

＜溶剤（Ｅ）＞
溶剤（Ｅ）の含有率は、レジスト組成物中、通常９０質量％以上９９．９質量％以下であり、好ましくは９２質量％以上９９質量％以下であり、より好ましくは９４質量％以上９９質量％以下である。溶剤（Ｅ）の含有率は、例えば液体クロマトグラフィー又はガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定できる。
溶剤（Ｅ）としては、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルイソブチルケトン、２－ヘプタノン及びシクロヘキサノン等のケトン類；γ－ブチロラクトン等の環状エステル類；等を挙げることができる。溶剤（Ｅ）の１種を単独で使用してもよく、２種以上を使用してもよい。 <Solvent (E)>
The content of the solvent (E) in the resist composition is usually 90% by mass or more and 99.9% by mass or less, preferably 92% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 94% by mass or more and 99% by mass. % or less. The content of the solvent (E) can be measured by known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.
Examples of the solvent (E) include glycol ether esters such as ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate and propylene glycol monomethyl ether acetate; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; ethyl lactate, butyl acetate, amyl acetate and ethyl pyruvate; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, 2-heptanone and cyclohexanone; cyclic esters such as γ-butyrolactone; One kind of the solvent (E) may be used alone, or two or more kinds may be used.

＜クエンチャー（Ｃ）＞
クエンチャー（Ｃ）は、塩基性の含窒素有機化合物又は酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩（但し、式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩を除く。）が挙げられる。クエンチャー（Ｃ）の含有量は、レジスト組成物の固形分量を基準に、０．０１～５質量％程度であることが好ましい。
塩基性の含窒素有機化合物としては、アミン及びアンモニウム塩が挙げられる。アミンとしては、脂肪族アミン及び芳香族アミンが挙げられる。脂肪族アミンとしては、第一級アミン、第二級アミン及び第三級アミンが挙げられる。
アミンとしては、１－ナフチルアミン、２－ナフチルアミン、アニリン、ジイソプロピルアニリン、２－，３－又は４－メチルアニリン、４－ニトロアニリン、Ｎ－メチルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジフェニルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、トリノニルアミン、トリデシルアミン、メチルジブチルアミン、メチルジペンチルアミン、メチルジヘキシルアミン、メチルジシクロヘキシルアミン、メチルジヘプチルアミン、メチルジオクチルアミン、メチルジノニルアミン、メチルジデシルアミン、エチルジブチルアミン、エチルジペンチルアミン、エチルジヘキシルアミン、エチルジヘプチルアミン、エチルジオクチルアミン、エチルジノニルアミン、エチルジデシルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、トリス〔２－（２－メトキシエトキシ）エチル〕アミン、トリイソプロパノールアミン、エチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’－ジアミノ－１，２－ジフェニルエタン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジメチルジフェニルメタン、４，４’－ジアミノ－３，３’－ジエチルジフェニルメタン、２，２’－メチレンビスアニリン、イミダゾール、４－メチルイミダゾール、ピリジン、４－メチルピリジン、１，２－ジ（２－ピリジル）エタン、１，２－ジ（４－ピリジル）エタン、１，２－ジ（２－ピリジル）エテン、１，２－ジ（４－ピリジル）エテン、１，３－ジ（４－ピリジル）プロパン、１，２－ジ（４－ピリジルオキシ）エタン、ジ（２－ピリジル）ケトン、４，４’－ジピリジルスルフィド、４，４’－ジピリジルジスルフィド、２，２’－ジピリジルアミン、２，２’－ジピコリルアミン、ビピリジン等が挙げられ、好ましくはジイソプロピルアニリンが挙げられ、より好ましくは２，６－ジイソプロピルアニリンが挙げられる。
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトライソプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、テトラヘキシルアンモニウムヒドロキシド、テトラオクチルアンモニウムヒドロキシド、フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、３－（トリフルオロメチル）フェニルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラ－ｎ－ブチルアンモニウムサリチラート及びコリン等が挙げられる。 <Quencher (C)>
The quencher (C) is a basic nitrogen-containing organic compound or a salt that generates an acid weaker in acidity than the acid generated from the acid generator (B) (provided, however, that the carboxylate represented by the formula (I) except.). The content of the quencher (C) is preferably about 0.01 to 5% by mass based on the solid content of the resist composition.
Basic nitrogen-containing organic compounds include amines and ammonium salts. Amines include aliphatic amines and aromatic amines. Aliphatic amines include primary, secondary and tertiary amines.
Amines include 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, aniline, diisopropylaniline, 2-, 3- or 4-methylaniline, 4-nitroaniline, N-methylaniline, N,N-dimethylaniline, diphenylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, triethylamine, trimethylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, trihexylamine, tri heptylamine, trioctylamine, trinonylamine, tridecylamine, methyldibutylamine, methyldipentylamine, methyldihexylamine, methyldicyclohexylamine, methyldiheptylamine, methyldioctylamine, methyldinonylamine, methyldidecylamine, ethyldibutylamine, ethyldipentylamine, ethyldihexylamine, ethyldiheptylamine, ethyldioctylamine, ethyldinonylamine, ethyldidecylamine, dicyclohexylmethylamine, tris[2-(2-methoxyethoxy)ethyl]amine, tri isopropanolamine, ethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 4,4'-diamino-3,3'-dimethyldiphenylmethane, 4,4'-diamino-3 , 3′-diethyldiphenylmethane, 2,2′-methylenebisaniline, imidazole, 4-methylimidazole, pyridine, 4-methylpyridine, 1,2-di(2-pyridyl)ethane, 1,2-di(4- pyridyl)ethane, 1,2-di(2-pyridyl)ethene, 1,2-di(4-pyridyl)ethene, 1,3-di(4-pyridyl)propane, 1,2-di(4-pyridyloxy ) ethane, di(2-pyridyl) ketone, 4,4′-dipyridyl sulfide, 4,4′-dipyridyl disulfide, 2,2′-dipyridylamine, 2,2′-dipicolylamine, bipyridine and the like, Diisopropylaniline is preferred, and 2,6-diisopropylaniline is more preferred.
Ammonium salts include tetramethylammonium hydroxide, tetraisopropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, tetrahexylammonium hydroxide, tetraoctylammonium hydroxide, phenyltrimethylammonium hydroxide, 3-(trifluoromethyl)phenyltrimethyl ammonium hydroxide, tetra-n-butylammonium salicylate and choline;

酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩における酸性度は、酸解離定数（ｐＫａ）で示される。酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩は、該塩から発生する酸の酸解離定数が、通常－３＜ｐＫａの塩であり、好ましくは－１＜ｐＫａ＜７の塩であり、より好ましくは０＜ｐＫａ＜５の塩である。
酸発生剤（Ｂ）から発生する酸よりも酸性度の弱い酸を発生する塩としては、下記式で表される塩、特開２０１５－１４７９２６号公報記載の式（Ｄ）で表される塩（以下、「弱酸分子内塩（Ｄ）という場合がある。」）、並びに特開２０１２－２２９２０６号公報、特開２０１２－６９０８号公報、特開２０１２－７２１０９号公報、特開２０１１－３９５０２号公報及び特開２０１１－１９１７４５号公報記載の塩が挙げられる。好ましくは、弱酸分内塩（Ｄ）である。

Figure 0007289669000147
The acidity of a salt that generates an acid weaker than the acid generated from the acid generator (B) is indicated by the acid dissociation constant (pKa). The salt that generates an acid weaker in acidity than the acid generated from the acid generator (B) has an acid dissociation constant of -3<pKa, preferably -1<. Salts with pKa<7, more preferably salts with 0<pKa<5.
Examples of the salt that generates an acid weaker in acidity than the acid generated from the acid generator (B) include salts represented by the following formula, and salts represented by the formula (D) described in JP-A-2015-147926. (hereinafter sometimes referred to as "weak acid inner salt (D)."), and JP 2012-229206, JP 2012-6908, JP 2012-72109, JP 2011-39502 and salts described in JP-A-2011-191745. A weak acid inner salt (D) is preferred.
Figure 0007289669000147

弱酸分子内塩（Ｄ）としては、以下の塩が挙げられる。

Figure 0007289669000148
The weak acid inner salt (D) includes the following salts.
Figure 0007289669000148

クエンチャー（Ｃ）の含有率は、レジスト組成物の固形分中、好ましくは、０．０１～５質量％であり、より好ましく０．０１～３質量％である。 The content of the quencher (C) is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.01 to 3% by mass, based on the solid content of the resist composition.

〈その他の成分〉
本発明のレジスト組成物は、必要に応じて、上述の成分以外の成分（以下「その他の成分（Ｆ）」という場合がある。）を含有していてもよい。その他の成分（Ｆ）に特に限定はなく、レジスト分野で公知の添加剤、例えば、増感剤、溶解抑止剤、界面活性剤、安定剤、染料等を利用できる。 <Other ingredients>
If necessary, the resist composition of the present invention may contain components other than the components described above (hereinafter sometimes referred to as "other components (F)"). Other components (F) are not particularly limited, and additives known in the field of resists, such as sensitizers, dissolution inhibitors, surfactants, stabilizers, dyes, etc., can be used.

〈レジスト組成物の調製〉
本発明のレジスト組成物は、カルボン酸塩（Ｉ）及び樹脂（Ａ）、並びに、必要に応じて、酸発生剤（Ｂ）、樹脂（Ａ）以外の樹脂、溶剤（Ｅ）、クエンチャー（Ｃ）及びその他の成分（Ｆ）を混合することにより調製することができる。混合順は任意であり、特に限定されるものではない。混合する際の温度は、１０～４０℃から、樹脂等の種類や樹脂等の溶剤（Ｅ）に対する溶解度等に応じて適切な温度を選ぶことができる。混合時間は、混合温度に応じて、０．５～２４時間の中から適切な時間を選ぶことができる。なお、混合手段も特に制限はなく、攪拌混合等を用いることができる。
各成分を混合した後は、孔径０．００３～０．２μｍ程度のフィルターを用いてろ過することが好ましい。 <Preparation of resist composition>
The resist composition of the present invention comprises a carboxylate (I) and a resin (A), and, if necessary, an acid generator (B), a resin other than the resin (A), a solvent (E), a quencher ( It can be prepared by mixing C) and other components (F). The mixing order is arbitrary and not particularly limited. The temperature during mixing can be appropriately selected from 10 to 40° C. depending on the type of resin and the solubility of the resin in the solvent (E). An appropriate mixing time can be selected from 0.5 to 24 hours depending on the mixing temperature. The mixing means is also not particularly limited, and stirring and mixing can be used.
After mixing each component, it is preferable to filter using a filter having a pore size of about 0.003 to 0.2 μm.

〈レジストパターンの製造方法〉
本発明のレジストパターンの製造方法は、
（１）本発明のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程を含む。
レジスト組成物を基板上に塗布するには、スピンコーター等、通常、用いられる装置によって行うことができる。基板としては、シリコンウェハ等の無機基板が挙げられる。レジスト組成物を塗布する前に、基板を洗浄してもよく、基板上に反射防止膜等が形成されていてもよい。
塗布後の組成物を乾燥することにより、溶剤を除去し、組成物層を形成する。乾燥は、例えば、ホットプレート等の加熱装置を用いて溶剤を蒸発させること（いわゆるプリベーク）により行うか、あるいは減圧装置を用いて行う。加熱温度は、５０～２００℃であることが好ましく、加熱時間は、１０～１８０秒間であることが好ましい。また、減圧乾燥する際の圧力は、１～１．０×１０5Ｐａ程度であることが好ましい。
得られた組成物層に、通常、露光機を用いて露光する。露光機は、液浸露光機であってもよい。露光光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）、Ｆ2エキシマレーザ（波長１５７ｎｍ）のような紫外域のレーザ光を放射するもの、固体レーザ光源（ＹＡＧ又は半導体レーザ等）からのレーザ光を波長変換して遠紫外域または真空紫外域の高調波レーザ光を放射するもの、電子線や、超紫外光（ＥＵＶ）を照射するもの等、種々のものを用いることができる。尚、本明細書において、これらの放射線を照射することを総称して「露光」という場合がある。露光の際、通常、求められるパターンに相当するマスクを介して露光が行われる。露光光源が電子線の場合は、マスクを用いずに直接描画により露光してもよい。
露光後の組成物層を、酸不安定基における脱保護反応を促進するために加熱処理（いわゆるポストエキスポジャーベーク）を行う。加熱温度は、通常５０～２００℃程度、好ましくは７０～１５０℃程度である。
加熱後の組成物層を、通常、現像装置を用いて、現像液を利用して現像する。現像方法としては、ディップ法、パドル法、スプレー法、ダイナミックディスペンス法等が挙げられる。現像温度は、例えば、５～６０℃であることが好ましく、現像時間は、例えば、５～３００秒間であることが好ましい。現像液の種類を以下のとおりに選択することにより、ポジ型レジストパターン又はネガ型レジストパターンを製造できる。
本発明のレジスト組成物からポジ型レジストパターンを製造する場合は、現像液としてアルカリ現像液を用いる。アルカリ現像液は、この分野で用いられる各種のアルカリ性水溶液であればよい。例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドや（２－ヒドロキシエチル）トリメチルアンモニウムヒドロキシド（通称コリン）の水溶液等が挙げられる。アルカリ現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。
現像後レジストパターンを超純水で洗浄し、次いで、基板及びパターン上に残った水を除去することが好ましい。
本発明のレジスト組成物からネガ型レジストパターンを製造する場合は、現像液として有機溶剤を含む現像液（以下「有機系現像液」という場合がある）を用いる。
有機系現像液に含まれる有機溶剤としては、２－ヘキサノン、２－ヘプタノン等のケトン溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルエステル溶剤；酢酸ブチル等のエステル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル溶剤；Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド溶剤；アニソール等の芳香族炭化水素溶剤等が挙げられる。
有機系現像液中、有機溶剤の含有率は、９０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９５質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に有機溶剤のみであることがさらに好ましい。
中でも、有機系現像液としては、酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンを含む現像液が好ましい。有機系現像液中、酢酸ブチル及び２－ヘプタノンの合計含有率は、５０質量％以上１００質量％以下が好ましく、９０質量％以上１００質量％以下がより好ましく、実質的に酢酸ブチル及び／又は２－ヘプタノンのみであることがさらに好ましい。
有機系現像液には、界面活性剤が含まれていてもよい。また、有機系現像液には、微量の水分が含まれていてもよい。
現像の際、有機系現像液とは異なる種類の溶剤に置換することにより、現像を停止してもよい。
現像後のレジストパターンをリンス液で洗浄することが好ましい。リンス液としては、レジストパターンを溶解しないものであれば特に制限はなく、一般的な有機溶剤を含む溶液を使用することができ、好ましくはアルコール溶剤又はエステル溶剤である。
洗浄後は、基板及びパターン上に残ったリンス液を除去することが好ましい。 <Method for producing resist pattern>
The method for producing a resist pattern of the present invention comprises:
(1) a step of applying the resist composition of the present invention onto a substrate;
(2) a step of drying the applied composition to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer;
(4) heating the exposed composition layer; and (5) developing the heated composition layer.
The coating of the resist composition on the substrate can be carried out using a commonly used device such as a spin coater. Examples of substrates include inorganic substrates such as silicon wafers. Before applying the resist composition, the substrate may be washed, and an antireflection film or the like may be formed on the substrate.
By drying the applied composition, the solvent is removed and a composition layer is formed. Drying is carried out, for example, by evaporating the solvent using a heating device such as a hot plate (so-called pre-baking), or by using a decompression device. The heating temperature is preferably 50 to 200° C., and the heating time is preferably 10 to 180 seconds. Moreover, the pressure for drying under reduced pressure is preferably about 1 to 1.0×10 5 Pa.
The resulting composition layer is usually exposed using an exposure machine. The exposure machine may be an immersion exposure machine. As the exposure light source, a KrF excimer laser (wavelength: 248 nm), an ArF excimer laser (wavelength: 193 nm), an F2 excimer laser (wavelength: 157 nm) that emits a laser beam in the ultraviolet region, a solid-state laser source (YAG or semiconductor laser etc.) and emits harmonic laser light in the far ultraviolet region or vacuum ultraviolet region by wavelength conversion, electron beam, extreme ultraviolet light (EUV), etc. can be done. In the present specification, these irradiations with radiation may be collectively referred to as "exposure". During exposure, exposure is usually performed through a mask corresponding to the desired pattern. When the exposure light source is an electron beam, exposure may be performed by direct drawing without using a mask.
The exposed composition layer is subjected to a heat treatment (so-called post-exposure bake) in order to promote the deprotection reaction at the acid-labile groups. The heating temperature is usually about 50 to 200°C, preferably about 70 to 150°C.
The composition layer after heating is usually developed using a developer using a developing device. The developing method includes a dipping method, a paddle method, a spraying method, a dynamic dispensing method, and the like. The development temperature is preferably, for example, 5 to 60° C., and the development time is preferably, for example, 5 to 300 seconds. A positive resist pattern or a negative resist pattern can be produced by selecting the type of developer as follows.
When producing a positive resist pattern from the resist composition of the present invention, an alkaline developer is used as the developer. The alkaline developer may be any of various alkaline aqueous solutions used in this field. Examples thereof include aqueous solutions of tetramethylammonium hydroxide and (2-hydroxyethyl)trimethylammonium hydroxide (commonly known as choline). The alkaline developer may contain a surfactant.
It is preferable to wash the resist pattern with ultrapure water after development, and then remove water remaining on the substrate and pattern.
When producing a negative resist pattern from the resist composition of the present invention, a developer containing an organic solvent (hereinafter sometimes referred to as "organic developer") is used as the developer.
Examples of organic solvents contained in the organic developer include ketone solvents such as 2-hexanone and 2-heptanone; glycol ether ester solvents such as propylene glycol monomethyl ether acetate; ester solvents such as butyl acetate; glycols such as propylene glycol monomethyl ether. ether solvents; amide solvents such as N,N-dimethylacetamide; aromatic hydrocarbon solvents such as anisole;
The content of the organic solvent in the organic developer is preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 95% by mass or more and 100% by mass or less, and still more preferably substantially only the organic solvent.
Among them, as the organic developer, a developer containing butyl acetate and/or 2-heptanone is preferable. The total content of butyl acetate and 2-heptanone in the organic developer is preferably 50% by mass or more and 100% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 100% by mass or less, and substantially contains butyl acetate and/or 2-heptanone. - more preferably only heptanone.
The organic developer may contain a surfactant. In addition, the organic developer may contain a very small amount of water.
During development, the development may be stopped by replacing the organic developer with a solvent of a different type.
It is preferable to wash the resist pattern after development with a rinsing liquid. The rinse liquid is not particularly limited as long as it does not dissolve the resist pattern, and a solution containing a general organic solvent can be used, preferably an alcohol solvent or an ester solvent.
After cleaning, it is preferable to remove the rinse liquid remaining on the substrate and pattern.

〈用途〉
本発明のレジスト組成物は、ＫｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、ＡｒＦエキシマレーザ露光用のレジスト組成物、電子線（ＥＢ）露光用のレジスト組成物又はＥＵＶ露光用のレジスト組成物、特にＡｒＦエキシマレーザ露光用レジスト組成物として好適であり、半導体の微細加工に有用である。 <Application>
The resist composition of the present invention is a resist composition for KrF excimer laser exposure, a resist composition for ArF excimer laser exposure, a resist composition for electron beam (EB) exposure or a resist composition for EUV exposure, particularly ArF It is suitable as a resist composition for excimer laser exposure and useful for fine processing of semiconductors.

実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「％」及び「部」は、特記しないかぎり質量基準である。
重量平均分子量は、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーにより求めた値である。なお、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィーの分析条件は下記のとおりである。
カラム：TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn（東ソー社製）
溶離液：テトラヒドロフラン
流量：1.0mL／min
検出器：RI検出器
カラム温度：40℃
注入量：100μl
分子量標準：標準ポリスチレン（東ソー社製）
化合物の構造は、質量分析（ＬＣはＡｇｉｌｅｎｔ製１１００型、ＭＡＳＳはＡｇｉｌｅｎｔ製ＬＣ／ＭＳＤ型）を用い、分子イオンピークを測定することで確認した。以下の実施例ではこの分子イオンピークの値を「ＭＡＳＳ」で示す。 EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples. In the examples, "%" and "parts" representing the content or amount used are based on mass unless otherwise specified.
A weight average molecular weight is the value calculated|required by the gel permeation chromatography. The analysis conditions for gel permeation chromatography are as follows.
Column: TSKgel Multipore HXL-M x 3+guardcolumn (manufactured by Tosoh Corporation)
Eluent: Tetrahydrofuran Flow rate: 1.0 mL/min
Detector: RI detector Column temperature: 40℃
Injection volume: 100 μl
Molecular weight standard: Standard polystyrene (manufactured by Tosoh Corporation)
The structure of the compound was confirmed by measuring the molecular ion peak using mass spectrometry (LC: Agilent Model 1100, MASS: Agilent Model LC/MSD). In the following examples, the value of this molecular ion peak is indicated by "MASS".

実施例１：式（Ｉ－１）で表される塩の合成

Figure 0007289669000149
式（Ｉ－１－ａ）で表される塩３．５６部及びアセトニトリル３０部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物１．９８部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物に、式（Ｉ－１－ｃ）で表される化合物１．３５部を添加し、さらに、５０℃で４時間攪拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム５０部及び５％シュウ酸水溶液２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－１）で表される塩３．７９部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ３３７．２ Example 1: Synthesis of salt represented by formula (I-1)
Figure 0007289669000149
3.56 parts of the salt represented by formula (I-1-a) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23° C. for 30 minutes. To the resulting mixture, 1.98 parts of the compound represented by formula (I-1-b) was added, and the mixture was further stirred at 50°C for 2 hours. To the resulting reaction mixture, 1.35 parts of the compound represented by formula (I-1-c) was added, stirred at 50°C for 4 hours, and then cooled to 23°C. 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution were added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 20 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23° C. for 30 minutes, the liquid was separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 3.79 parts of the salt represented by the formula (I-1) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 337.2

実施例２：式（Ｉ－９）で表される塩の合成

Figure 0007289669000150
式（Ｉ－９－ａ）で表される塩５．４５部、式（Ｉ－９－ｂ）で表される化合物６．５０部、クロロホルム３５部、アセトニトリル１５部及びｐ－トルエンスルホン酸０．０７部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物を、６５℃で、モレキュラーシーブ存在下、３時間還流攪拌した。得られた混合物を２３℃まで冷却し、クロロホルム１４５部を添加撹拌後、１０％炭酸カリウム水溶液７１部を加え、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物を、静置し、分液し、有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水７０部を加えて２３℃で３０分間攪拌し、分液して有機層を得た。この水洗の操作を５回行った。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－９－ｃ）で表される塩５．３３部を得た。
Figure 0007289669000151
式（Ｉ－９－ｃ）で表される塩４．４６部及びアセトニトリル３０部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物３．９６部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物に、式（Ｉ－１－ｃ）で表される化合物２．７０部を添加し、さらに、５０℃で４時間攪拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム５０部及び５％シュウ酸水溶液２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－９）で表される塩３．７９部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ５９５．３ Example 2: Synthesis of salt represented by formula (I-9)
Figure 0007289669000150
5.45 parts of the salt represented by the formula (I-9-a), 6.50 parts of the compound represented by the formula (I-9-b), 35 parts of chloroform, 15 parts of acetonitrile and 0 p-toluenesulfonic acid .07 parts were mixed and stirred at 23° C. for 30 minutes. The resulting mixture was stirred under reflux at 65° C. in the presence of molecular sieves for 3 hours. The resulting mixture was cooled to 23°C, 145 parts of chloroform was added and stirred, then 71 parts of 10% aqueous potassium carbonate solution was added, and the mixture was stirred at 23°C for 30 minutes. The resulting mixture was allowed to stand and liquid-separated to obtain an organic layer. 70 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes and separated to obtain an organic layer. This washing operation was performed 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 5.33 parts of the salt represented by the formula (I-9-c) was obtained.
Figure 0007289669000151
4.46 parts of the salt represented by formula (I-9-c) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 3.96 parts of the compound represented by formula (I-1-b) was added, and the mixture was further stirred at 50°C for 2 hours. To the resulting reaction mixture, 2.70 parts of the compound represented by formula (I-1-c) was added, stirred at 50°C for 4 hours, and then cooled to 23°C. 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution were added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 20 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23° C. for 30 minutes, the liquid was separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 3.79 parts of the salt represented by the formula (I-9) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 595.3

実施例３：式（Ｉ－１９）で表される塩の合成

Figure 0007289669000152
式（Ｉ－１９－ａ）で表される化合物２．２０部及びアセトニトリル１０部を混合し、２３℃で３０分間攪拌し、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物１．８８部を１５分かけて添加し、５０℃で１時間攪拌した。得られた反応物に、式（Ｉ－９－ｃ）で表される塩１．６３部を加え、５０℃で１０時間攪拌後した。得られた反応物を２３℃まで冷却し、クロロホルム１１０部及びイオン交換水３５部を添加撹拌し、静置し、分液した。得られた有機層に、イオン交換水３５部を加えて２３℃で３０分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を７回行った。得られた有機層を濃縮し、得られた残渣に、酢酸エチル１部及びｔｅｒｔ－ブチルメチルエーテル１５部を加えて２３℃で３０分間攪拌し、上澄み液を除去し、濃縮することにより、式（Ｉ－１９－ｂ）で表される塩２．３２部を得た。
Figure 0007289669000153
式（Ｉ－１９－ｂ）で表される塩２．２８部及びアセトニトリル３０部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した後、５℃まで冷却した。得られた混合物に、水素化ホウ素ナトリウム０．０２部及びイオン交換水１部の混合溶液を１時間かけて滴下し、５℃で１８時間攪拌した。得られた反応混合物を２３℃まで昇温した後、クロロホルム５０部及びイオン交換水１０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を３回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－１９―ｃ）で表される塩１．９８部を得た。
Figure 0007289669000154
式（Ｉ－１９－ｃ）で表される塩１．４５部及びアセトニトリル３０部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物０．７９部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物に、式（Ｉ－１－ｃ）で表される化合物０．５４部を添加し、さらに、５０℃で４時間攪拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム５０部及び５％シュウ酸水溶液２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－１９）で表される塩１．５２部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ９５１．５ Example 3: Synthesis of salt represented by formula (I-19)
Figure 0007289669000152
Mix 2.20 parts of the compound represented by the formula (I-19-a) and 10 parts of acetonitrile, stir at 23 ° C. for 30 minutes, 1.88 parts of the compound represented by the formula (I-1-b) was added over 15 minutes and stirred at 50° C. for 1 hour. 1.63 parts of the salt represented by the formula (I-9-c) was added to the obtained reactant, and the mixture was stirred at 50° C. for 10 hours. The resulting reaction product was cooled to 23° C., 110 parts of chloroform and 35 parts of ion-exchanged water were added, stirred, allowed to stand, and separated. To the obtained organic layer, 35 parts of ion-exchanged water was added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes and separated to obtain an organic layer. This washing operation was performed seven times. The organic layer obtained is concentrated, 1 part of ethyl acetate and 15 parts of tert-butyl methyl ether are added to the obtained residue, and the mixture is stirred at 23° C. for 30 minutes. 2.32 parts of the salt represented by (I-19-b) was obtained.
Figure 0007289669000153
2.28 parts of the salt represented by the formula (I-19-b) and 30 parts of acetonitrile were mixed, stirred at 23°C for 30 minutes, and then cooled to 5°C. A mixed solution of 0.02 part of sodium borohydride and 1 part of ion-exchanged water was added dropwise to the obtained mixture over 1 hour, and the mixture was stirred at 5° C. for 18 hours. After heating the obtained reaction mixture to 23° C., 50 parts of chloroform and 10 parts of ion-exchanged water were added, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 20 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23° C. for 30 minutes, the liquid was separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated three times. By concentrating the obtained organic layer, 1.98 parts of the salt represented by the formula (I-19-c) was obtained.
Figure 0007289669000154
1.45 parts of the salt represented by formula (I-19-c) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.79 part of the compound represented by formula (I-1-b) was added, and the mixture was further stirred at 50°C for 2 hours. To the resulting reaction mixture, 0.54 part of the compound represented by formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50°C for 4 hours and then cooled to 23°C. 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution were added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 20 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23° C. for 30 minutes, the liquid was separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 1.52 parts of the salt represented by the formula (I-19) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 951.5

実施例４：式（Ｉ－１４）で表される塩の合成

Figure 0007289669000155
式（Ｉ－１４－ａ）で表される化合物１８．１５部、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物１５．７５部及びクロロホルム１３５部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した後、さらに、６０℃で１時間撹拌した。得られた反応混合物に、式（Ｉ－１４－ｂ）で表される化合物５．００部を加え、６０℃で１８時間攪拌後した後、濃縮した。得られた濃縮残に、クロロホルム１６５部及びイオン交換水８０部を添加撹拌し、静置し、分液した。得られた有機層に、イオン交換水８０部を加えて２３℃で３０分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を４回行った。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－１４―ｃ）で表される化合物１０．２５部を得た。
Figure 0007289669000156
式（Ｉ－９－ａ）で表される塩６．５２部、式（Ｉ－１４－ｃ）で表される化合物１０．２５部、ジメチルホルムアミド５０部及び硫酸０．０４部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物を７０℃で、モレキュラーシーブ存在下、１０時間還流攪拌した。得られた反応物を２３℃まで冷却し、クロロホルム１４５部を添加撹拌後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液８部を混合し、２３℃で３０分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水４５部を加えて２３℃で３０分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を５回行った。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－１４－ｄ）で表される塩９．４４部を得た。
Figure 0007289669000157
式（Ｉ－１４－ｄ）で表される塩１．４３部及びアセトニトリル３０部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物０．７９部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物に、式（Ｉ－１－ｃ）で表される化合物０．５４部を添加し、さらに、５０℃で４時間攪拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム５０部及び５％シュウ酸水溶液２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－１４）で表される塩１．２１部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ９３７．５ Example 4: Synthesis of salt represented by formula (I-14)
Figure 0007289669000155
18.15 parts of the compound represented by the formula (I-14-a), 15.75 parts of the compound represented by the formula (I-1-b) and 135 parts of chloroform were mixed and stirred at 23°C for 30 minutes. After that, the mixture was further stirred at 60°C for 1 hour. To the obtained reaction mixture, 5.00 parts of the compound represented by the formula (I-14-b) was added, stirred at 60°C for 18 hours, and concentrated. 165 parts of chloroform and 80 parts of ion-exchanged water were added to the resulting concentrated residue, stirred, allowed to stand, and separated. 80 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes and separated to obtain an organic layer. This washing operation was performed four times. By concentrating the obtained organic layer, 10.25 parts of the compound represented by the formula (I-14-c) was obtained.
Figure 0007289669000156
6.52 parts of the salt represented by the formula (I-9-a), 10.25 parts of the compound represented by the formula (I-14-c), 50 parts of dimethylformamide and 0.04 parts of sulfuric acid are mixed, Stirred at 23° C. for 30 minutes. The resulting mixture was stirred under reflux at 70° C. in the presence of molecular sieves for 10 hours. The resulting reaction product was cooled to 23°C, 145 parts of chloroform was added and stirred, 8 parts of a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution was mixed, and the mixture was stirred at 23°C for 30 minutes and separated to obtain an organic layer. . 45 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes and separated to obtain an organic layer. This washing operation was performed 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 9.44 parts of the salt represented by the formula (I-14-d) was obtained.
Figure 0007289669000157
1.43 parts of the salt represented by formula (I-14-d) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.79 part of the compound represented by formula (I-1-b) was added, and the mixture was further stirred at 50°C for 2 hours. To the resulting reaction mixture, 0.54 part of the compound represented by formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50°C for 4 hours and then cooled to 23°C. 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution were added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 20 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23° C. for 30 minutes, the liquid was separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 1.21 parts of the salt represented by the formula (I-14) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 937.5

実施例５：式（Ｉ－２３０）で表される塩の合成

Figure 0007289669000158
式（Ｉ－２３０－ａ）で表される塩６．１５部、式（Ｉ－１４－ｃ）で表される化合物１０．２５部、ジメチルホルムアミド５０部及び硫酸０．０４部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物を７０℃で、モレキュラーシーブ存在下、１０時間還流攪拌した。得られた反応物を２３℃まで冷却し、クロロホルム１４５部を添加撹拌後、５％炭酸水素ナトリウム水溶液８部を混合し、２３℃で３０分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。得られた有機層に、イオン交換水４５部を加えて２３℃で３０分間攪拌し、分液することにより有機層を得た。この水洗の操作を５回行った。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－２３０－ｄ）で表される塩８．１２部を得た。
Figure 0007289669000159
式（Ｉ－２３０－ｄ）で表される塩１．３９部及びアセトニトリル３０部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物０．７９部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物に、式（Ｉ－１－ｃ）で表される化合物０．５４部を添加し、さらに、５０℃で４時間攪拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム５０部及び５％シュウ酸水溶液２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－２３０）で表される塩１．０７部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２３７．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ９３７．５ Example 5: Synthesis of salt represented by formula (I-230)
Figure 0007289669000158
6.15 parts of the salt represented by the formula (I-230-a), 10.25 parts of the compound represented by the formula (I-14-c), 50 parts of dimethylformamide and 0.04 parts of sulfuric acid are mixed, Stirred at 23° C. for 30 minutes. The resulting mixture was stirred under reflux at 70° C. in the presence of molecular sieves for 10 hours. The resulting reaction product was cooled to 23°C, 145 parts of chloroform was added and stirred, 8 parts of a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution was mixed, and the mixture was stirred at 23°C for 30 minutes and separated to obtain an organic layer. . 45 parts of ion-exchanged water was added to the obtained organic layer, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes and separated to obtain an organic layer. This washing operation was performed 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 8.12 parts of the salt represented by the formula (I-230-d) was obtained.
Figure 0007289669000159
1.39 parts of the salt represented by the formula (I-230-d) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.79 part of the compound represented by formula (I-1-b) was added, and the mixture was further stirred at 50°C for 2 hours. To the resulting reaction mixture, 0.54 part of the compound represented by formula (I-1-c) was added, and the mixture was stirred at 50°C for 4 hours and then cooled to 23°C. 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution were added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 20 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23° C. for 30 minutes, the liquid was separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 1.07 parts of the salt represented by the formula (I-230) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 237.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 937.5

実施例６：式（Ｉ－３７９）で表される塩の合成

Figure 0007289669000160
式（Ｉ－１４－ｄ）で表される塩１．４３部及びアセトニトリル３０部を混合し、２３℃で３０分間攪拌した。得られた混合物に、式（Ｉ－１－ｂ）で表される化合物０．５０部を添加し、さらに、５０℃で２時間攪拌した。得られた反応混合物に、式（Ｉ－３７９－ｃ）で表される化合物０．５４部を添加し、さらに、５０℃で４時間攪拌した後、２３℃まで冷却した。得られた反応混合物に、クロロホルム５０部及び５％シュウ酸水溶液２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。得られた有機層にイオン交換水２０部を加えて２３℃で３０分間攪拌した後、分液して有機層を取り出した。この水洗操作を５回繰り返した。得られた有機層を濃縮することにより、式（Ｉ－３７９）で表される塩１．２１部を得た。
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（＋）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ＋ ２６３．１
ＭＡＳＳ（ＥＳＩ（－）Ｓｐｅｃｔｒｕｍ）：Ｍ－ ８５３．４ Example 6: Synthesis of salt represented by formula (I-379)
Figure 0007289669000160
1.43 parts of the salt represented by formula (I-14-d) and 30 parts of acetonitrile were mixed and stirred at 23° C. for 30 minutes. To the obtained mixture, 0.50 part of the compound represented by formula (I-1-b) was added, and the mixture was further stirred at 50°C for 2 hours. To the obtained reaction mixture, 0.54 part of the compound represented by the formula (I-379-c) was added, further stirred at 50°C for 4 hours, and then cooled to 23°C. 50 parts of chloroform and 20 parts of a 5% aqueous oxalic acid solution were added to the obtained reaction mixture, and the mixture was stirred at 23° C. for 30 minutes. After adding 20 parts of ion-exchanged water to the obtained organic layer and stirring at 23° C. for 30 minutes, the liquid was separated and the organic layer was taken out. This washing operation was repeated 5 times. By concentrating the obtained organic layer, 1.21 parts of the salt represented by the formula (I-379) was obtained.
MASS (ESI (+) Spectrum): M + 263.1
MASS (ESI (-) Spectrum): M - 853.4

樹脂の合成
樹脂（Ａ）の合成に使用した化合物（モノマー）を下記に示す。以下、これらの化合物をその式番号に応じて、「モノマー（ａ１－１－３）」等という。

Figure 0007289669000161
Synthesis of resin The compounds (monomers) used in the synthesis of resin (A) are shown below. Hereinafter, these compounds are referred to as "monomer (a1-1-3)" and the like according to their formula numbers.
Figure 0007289669000161

合成例１：樹脂Ａ１の合成
モノマーとして、モノマー（ａ１－１－３）、モノマー（ａ１－２－６）、モノマー（ａ２－１－１）及びモノマー（ａ３－４－２）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ１－１－３）：モノマー（ａ１－２－６）：モノマー（ａ２－１－１）：モノマー（ａ３－４－２）〕が４５：１４：２．５：３８．５となるように混合し、全モノマー量の１．５質量倍のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル及びアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して各々、１ｍｏｌ％及び３ｍｏｌ％添加し、これらを７３℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール／水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過した。得られた樹脂を再び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに溶解させて得られる溶解液をメタノール／水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過するという再沈殿操作を２回行い、重量平均分子量７．８×１０３の樹脂Ａ１を収率６９％で得た。この樹脂Ａ１は、以下の構造単位を有するものである。

Figure 0007289669000162
Synthesis Example 1: Synthesis of Resin A1 As monomers, monomer (a1-1-3), monomer (a1-2-6), monomer (a2-1-1) and monomer (a3-4-2) are used, The molar ratio [monomer (a1-1-3):monomer (a1-2-6):monomer (a2-1-1):monomer (a3-4-2)] was 45:14:2.5:38. 5, and propylene glycol monomethyl ether acetate in an amount 1.5 times the total amount of monomers was added to obtain a solution. To this solution, 1 mol % and 3 mol % of azobisisobutyronitrile and azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) were added as initiators to the total amount of monomers, respectively, and these were heated at 73° C. for about 5 hours. bottom. The resulting reaction mixture was poured into a large amount of methanol/water mixed solvent to precipitate the resin, which was filtered. The resulting resin is again dissolved in propylene glycol monomethyl ether acetate, the resulting solution is poured into a methanol/water mixed solvent to precipitate the resin, and the resin is filtered. Resin A1 with a molecular weight of 7.8×10 3 was obtained with a yield of 69%. This resin A1 has the following structural units.
Figure 0007289669000162

合成例２：樹脂Ｘ１の合成
モノマーとして、モノマー（ａ５－１－１）及びモノマー（ａ４－０－１２）を用い、そのモル比〔モノマー（ａ５－１－１）：モノマー（ａ４－０－１２）〕が５０：５０となるように混合し、全モノマー量の１．２質量倍のメチルイソブチルケトンを加えて溶液とした。この溶液に、開始剤としてアゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）を全モノマー量に対して３ｍｏｌ％添加し、７０℃で約５時間加熱した。得られた反応混合物を、大量のメタノール／水混合溶媒に注いで樹脂を沈殿させ、この樹脂をろ過し、重量平均分子量１．０×１０４の樹脂Ｘ１を収率９１％で得た。この樹脂Ｘ１は、以下の構造単位を有するものである。

Figure 0007289669000163
Synthesis Example 2: Synthesis of Resin X1 Monomer (a5-1-1) and monomer (a4-0-12) were used as monomers, and the molar ratio [monomer (a5-1-1):monomer (a4-0- 12)] were mixed at a ratio of 50:50, and methyl isobutyl ketone was added in an amount of 1.2 times the mass of the total amount of monomers to obtain a solution. To this solution, 3 mol % of azobis(2,4-dimethylvaleronitrile) was added as an initiator with respect to the total amount of monomers, and the mixture was heated at 70° C. for about 5 hours. The resulting reaction mixture was poured into a large amount of methanol/water mixed solvent to precipitate the resin, which was filtered to obtain Resin X1 having a weight average molecular weight of 1.0×10 4 with a yield of 91%. This resin X1 has the following structural units.
Figure 0007289669000163

＜レジスト組成物の調製＞
表２に示すように、以下の各成分を混合し、得られた混合物を孔径０．２μｍのフッ素樹脂製フィルターで濾過することにより、レジスト組成物を調製した。 <Preparation of resist composition>
As shown in Table 2, a resist composition was prepared by mixing the following components and filtering the resulting mixture through a fluororesin filter having a pore size of 0.2 μm.

Figure 0007289669000164
Figure 0007289669000164

＜樹脂＞
Ａ１、Ｘ１：樹脂Ａ１、樹脂Ｘ１
＜酸発生剤（Ｂ）＞
Ｂ１－２１：式（Ｂ１－２１）で表される塩（特開２０１２－２２４６１１号公報の実施例に従って合成）
Ｂ１－２２：式（Ｂ１－２２）で表される塩（特開２０１２－２２４６１１号公報の実施例に従って合成）

Figure 0007289669000165
＜カルボン酸発生剤（ＩＸ）＞
Ｉ－１：式（Ｉ－１）で表される塩
Ｉ－９：式（Ｉ－９）で表される塩
Ｉ－１４：式（Ｉ－１４）で表される塩
Ｉ－１９：式（Ｉ－１９）で表される塩
Ｉ－２３０：式（Ｉ－２３０）で表される塩
Ｉ－３７９：式（Ｉ－３７９）で表される塩
ＩＸ－１：特開２０１１－３９５０２号公報の実施例に従って合成
Figure 0007289669000166
ＩＸ－２：特開２０１４－８８３６７号公報の実施例に従って合成
Figure 0007289669000167
＜クエンチャー（Ｃ）＞
Ｄ１：（東京化成工業（株）製）
Figure 0007289669000168
＜溶剤＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２６５部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０部
２－ヘプタノン ２０部
γ－ブチロラクトン ３．５部 <Resin>
A1, X1: Resin A1, Resin X1
<Acid generator (B)>
B1-21: a salt represented by the formula (B1-21) (synthesized according to the examples of JP-A-2012-224611)
B1-22: a salt represented by the formula (B1-22) (synthesized according to the examples of JP-A-2012-224611)
Figure 0007289669000165
<Carboxylic acid generator (IX)>
I-1: salt represented by formula (I-1) I-9: salt represented by formula (I-9) I-14: salt represented by formula (I-14) I-19: formula Salt represented by (I-19) I-230: Salt represented by formula (I-230) I-379: Salt represented by formula (I-379) IX-1: JP 2011-39502 Synthesis according to the example of the publication
Figure 0007289669000166
IX-2: synthesized according to the examples of JP-A-2014-88367
Figure 0007289669000167
<Quencher (C)>
D1: (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
Figure 0007289669000168
<Solvent>
Propylene glycol monomethyl ether acetate 265 parts Propylene glycol monomethyl ether 20 parts 2-heptanone 20 parts γ-butyrolactone 3.5 parts

＜レジストパターンの製造及びその評価＞
シリコンウェハに、有機反射防止膜用組成物（ＡＲＣ－２９；日産化学（株）製）を塗布して、２０５℃、６０秒の条件でベークすることによって、ウェハ上に膜厚７８ｎｍの有機反射防止膜を形成した。次いで、この有機反射防止膜の上に、上記のレジスト組成物を乾燥後の膜厚が８５ｎｍとなるように塗布（スピンコート）した。塗布後、シリコンウェハをダイレクトホットプレート上にて、表２の「ＰＢ」欄に記載された温度で６０秒間プリベークし、組成物層を形成した。組成物層が形成されたシリコンウェハに、液浸露光用ＡｒＦエキシマステッパー（ＸＴ：１９００Ｇｉ；ＡＳＭＬ社製、ＮＡ＝１．３５、３／４Ａｎｎｕｌａｒ Ｘ－Ｙ偏光）で、コンタクトホールパターン（ホールピッチ９０ｎｍ／ホール径５５ｎｍ）を形成するためのマスクを用いて、露光量を段階的に変化させて露光した。なお、液浸媒体としては超純水を使用した。
露光後、ホットプレート上にて、表２の「ＰＥＢ」欄に記載された温度で６０秒間ポストエキスポジャーベークを行った。次いで、このシリコンウェハ上の組成物層を、現像液として酢酸ブチル（東京化成工業（株）製）を用いて、２３℃で２０秒間ダイナミックディスペンス法によって現像を行うことにより、ネガ型レジストパターンを製造した。 <Production of resist pattern and its evaluation>
An organic antireflection film composition (ARC-29; manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was applied to a silicon wafer and baked at 205° C. for 60 seconds to form an organic reflective film having a film thickness of 78 nm on the wafer. A protective film was formed. Next, the above resist composition was applied (spin-coated) onto the organic antireflection film so that the film thickness after drying was 85 nm. After coating, the silicon wafer was pre-baked on a direct hot plate at the temperature indicated in the "PB" column of Table 2 for 60 seconds to form a composition layer. A contact hole pattern (hole pitch 90 nm) was formed on a silicon wafer having a composition layer formed thereon, using an ArF excimer stepper for immersion exposure (XT: 1900Gi; manufactured by ASML, NA = 1.35, 3/4 Annular XY polarization). A mask for forming a hole diameter of 55 nm) was used to perform exposure while changing the exposure dose stepwise. Ultrapure water was used as the liquid immersion medium.
After the exposure, post-exposure baking was performed for 60 seconds on a hot plate at the temperature indicated in the "PEB" column of Table 2. Next, the composition layer on the silicon wafer is developed using butyl acetate (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) as a developer by a dynamic dispensing method at 23° C. for 20 seconds to form a negative resist pattern. manufactured.

現像後に得られたレジストパターンにおいて、前記マスクを用いて形成したホール径が４５ｎｍとなる露光量を実効感度とした。 In the resist pattern obtained after development, the effective sensitivity was defined as the amount of exposure at which the hole diameter formed using the mask was 45 nm.

＜ＣＤ均一性（ＣＤＵ）評価＞
実効感度において、ホール径５５ｎｍのマスクで形成したパターンのホール径を、一つのホールにつき２４回測定し、その平均値を一つのホールの平均ホール径とした。同一ウェハ内の、ホール径５５ｎｍのマスクで形成したパターンの平均ホール径を４００箇所測定したものを母集団として標準偏差を求めた。
その結果を表３に示す。括弧内の数値は標準偏差（ｎｍ）を示す。 <CD uniformity (CDU) evaluation>
In the effective sensitivity, the hole diameter of a pattern formed with a mask having a hole diameter of 55 nm was measured 24 times for each hole, and the average value was taken as the average hole diameter of one hole. A standard deviation was obtained by using a population of 400 measured average hole diameters of a pattern formed by a mask having a hole diameter of 55 nm in the same wafer.
Table 3 shows the results. Numerical values in parentheses indicate standard deviations (nm).

Figure 0007289669000169
比較組成物１～３と比較して、組成物１～７での標準偏差が小さく、ＣＤ均一性（ＣＤＵ）評価が良好であった。
Figure 0007289669000169
 Compared to Comparative Compositions 1-3, Compositions 1-7 had smaller standard deviations and better CD Uniformity (CDU) ratings.

本発明のカルボン塩、該カルボン塩を含むレジスト組成物は、良好なＣＤ均一性（ＣＤＵ）を有するレジストパターンを得られるため、半導体の微細加工に好適であり、産業上極めて有用である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The carboxylic salt and the resist composition containing the carboxylic salt of the present invention can provide a resist pattern having excellent CD uniformity (CDU), and therefore are suitable for microfabrication of semiconductors and extremely useful industrially.

Claims (5)

式（Ｉ）で表されるカルボン酸塩。
Figure 0007289669000170
［式（Ｉ）中、
Ｘ0は、式（ａａ）で表される基である。
Ｚ+は、有機カチオンを表す。］
Figure 0007289669000171
［式（ａａ）中、
Ｘa及びＸbは、それぞれ独立に、－Ｏ－又は－Ｓ－を表す。
Ｘ1は、炭素数３～１８の脂環式炭化水素基を表す。
Ｘ2は、置換基を有してもよい炭素数４～４８の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ2－に置き換わっていてもよい。ただし、前記炭化水素基に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。
＊は、カルボニル基の炭素原子への結合部位を表す。］
Figure 0007289669000172
［式（ＩＡ）中、
ＲAは、炭素数１～１２の飽和炭化水素基を表す。
ｕ１は、０～２のいずれかの整数を表し、ｕ１が２である場合、複数のＲAは同一であるか、相異なる。
ｓ１は、１又は２を表す。
ｔ１は、０又は１を表す。但し、ｓ１とｔ１との和は、１又は２である。
＊は、結合部位を表す。］ A carboxylate represented by formula (I).
Figure 0007289669000170
[in the formula (I),
X 0 is a group represented by formula (aa).
Z + represents an organic cation. ]
Figure 0007289669000171
[In formula (aa),
X a and X b each independently represent -O- or -S-.
X 1 represents an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 18 carbon atoms .
X 2 represents an optionally substituted hydrocarbon group having 4 to 48 carbon atoms, and —CH 2 — contained in the hydrocarbon group is —O—, —S—, —CO— or — SO 2 - may be substituted. However, at least one hydrogen atom contained in the hydrocarbon group is substituted with a group represented by formula (IA).
* represents the binding site to the carbon atom of the carbonyl group. ]
Figure 0007289669000172
[In the formula (IA),
RA represents a saturated hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms.
u1 represents an integer of 0 to 2, and when u1 is 2, multiple R A are the same or different.
s1 represents 1 or 2;
t1 represents 0 or 1; However, the sum of s1 and t1 is 1 or 2.
* represents the binding site. ] Ｘ2が、式（Ｘ2－１）で表される基、式（Ｘ2－２）で表される基、式（Ｘ2－３）で表される基又は式（Ｘ2－４）で表される基である請求項１に記載のカルボン酸塩。
Figure 0007289669000173
［式中、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に、炭素数１～６のアルキル基、炭素数５～１２の脂環式炭化水素基又はこれらの基を組み合わせた基を表し、該アルキル基及び該脂環式炭化水素基に含まれる－ＣＨ2－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯ－又は－ＳＯ2－に置き換わっていてもよい。Ｒ1、Ｒ2及び又はＲ3、Ｒ4、Ｒ5及び又はＲ6に含まれる水素原子の少なくとも１つは、式（ＩＡ）で表される基で置換されている。
＊は、Ｘa及びＸbとの結合部位を表す。］ X 2 is a group represented by formula (X 2 -1), a group represented by formula (X 2 -2), a group represented by formula (X 2 -3) or a group represented by formula (X 2 -4) The carboxylate according to claim 1 , which is a group represented by
Figure 0007289669000173
[In the formula,
R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms, or a combination of these groups. -CH 2 - contained in said alkyl group and said alicyclic hydrocarbon group may be replaced with -O-, -S-, -CO- or -SO 2 -. At least one hydrogen atom contained in R 1 , R 2 and/or R 3 , R 4 , R 5 and/or R 6 is substituted with a group represented by formula (IA).
* represents the binding site with X a and X b . ] 請求項１又は２に記載のカルボン酸塩を含有するカルボン酸発生剤。 A carboxylic acid generator containing the carboxylate according to claim 1 or 2 . 請求項３に記載のカルボン酸発生剤、該カルボン酸発生剤以外の酸発生剤及び酸不安定基を有する樹脂を含有するレジスト組成物。 4. A resist composition comprising the carboxylic acid generator according to claim 3 , an acid generator other than the carboxylic acid generator, and a resin having an acid labile group. （１）請求項４に記載のレジスト組成物を基板上に塗布する工程、
（２）塗布後の組成物を乾燥させて組成物層を形成する工程、
（３）組成物層に露光する工程、
（４）露光後の組成物層を加熱する工程、及び
（５）加熱後の組成物層を現像する工程、を含むレジストパターンの製造方法。 (1) a step of applying the resist composition according to claim 4 onto a substrate;
(2) a step of drying the applied composition to form a composition layer;
(3) exposing the composition layer;
(4) a step of heating the composition layer after exposure; and (5) a step of developing the composition layer after heating.
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