JP7279029B2 - ポリマーフォーム層及びその製造方法 - Google Patents
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Description
関連出願の相互参照
本出願は、２０１７年９月２９日に出願された米国特許仮出願第６２／５６５７７３号の優先権を主張するものであり、その開示の全内容が参照により本明細書に組み込まれる。
本出願は、２０１７年９月２９日に出願された米国特許仮出願第６２／５６５７７３号の優先権を主張するものであり、その開示の全内容が参照により本明細書に組み込まれる。
フォーム製品は一般に、射出成形によって、又はフォームの大きなブロックを形成して、次いでブロックをシートに切断することによって、作製される。シートの表面上の形状を実現するために、回旋切断、熱線、機械加工、及び輪郭切断などの加工プロセスが一般的に使用される。このような成形表面は、典型的に、連続セルを呈する。
成形フォームを作製するための別の一般的な手法は、発泡フィルムをキャスティングロール上にキャストして、滑らかな表面発泡フィルムを生成することである。三次元フィーチャを生成するために、フィルムをエンボス加工し、それにより、フィルムのセクションを圧縮することができる。圧縮領域内のセルは押しつぶされ、セル構造は永久的に破壊される。
成形フォームを作製するための第３の手法は、異形押出成形によるものであり、発泡ポリマーは、ダイ内で切り出された所望の輪郭形状を有するプロファイルダイを通って押し出される。得られた輪郭成形フォーム形状は、ダウンウェブ方向において連続的である。このような成形フォームの使用としては、ガスケットシールが含まれる。
別のポリマーフォーム及び／又はポリマーフォームの製造方法が望まれる。
一態様では、本開示は、最大２５，７００マイクロメートル（いくつかの実施形態では、１００マイクロメートル～１０００マイクロメートル、１０００マイクロメートル～６０００マイクロメートル、６０００マイクロメートル～１２，７００マイクロメートル、又は更には１２，７００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートルの範囲）の厚さを有し、互いに反対側にある第１及び第２の主表面を有し、第１の主表面から少なくとも１００マイクロメートル（いくつかの実施形態では、１００マイクロメートル～１０００マイクロメートル、１０００マイクロメートル～６０００マイクロメートル、６０００マイクロメートル～１２，７００マイクロメートル、又は更には１２，７００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートル）延びるか又は第１の主表面に入り込むフォームフィーチャを備え、－１２５℃～１５０℃の範囲（いくつかの実施形態では、－１２５℃～－１０℃、－１０℃～８０℃、５０℃～１５０℃、又は更には５０℃～８０℃の範囲）のガラス転移温度Ｔｇを有し、互いに反対側にある第１及び第２の主表面は、露出した内部多孔質セルを含まず（すなわち、第１及び第２の主表面のそれぞれの表面積の１０パーセント未満が、任意の露出した多孔質セルを有し）、各主表面の面積の少なくとも４０（いくつかの実施形態では、少なくとも５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、９６、９７、９８、９９、又は更には１００）パーセントが、硬化したままの表面を有する、ポリマーフォーム層を記載する。
別の態様では、本開示は、本明細書に記載のポリマーフォーム層の第１の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
発泡剤を含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分が、ポリマーフォーム層をもたらすようにダイリップに近接している、導入することと、
を含む方法を記載する。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
発泡剤を含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分が、ポリマーフォーム層をもたらすようにダイリップに近接している、導入することと、
を含む方法を記載する。
別の態様では、本開示は、本明細書に記載のポリマーフォーム層の第２の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ツールロールの主外周面の一部分の上にガスを含むポリマーを導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーとツールロールの主外周面の一部分との接触前又は接触中のうちの少なくともいずれかに、ガスがポリマーに注入され、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法を記載する。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ツールロールの主外周面の一部分の上にガスを含むポリマーを導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーとツールロールの主外周面の一部分との接触前又は接触中のうちの少なくともいずれかに、ガスがポリマーに注入され、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法を記載する。
別の態様では、本開示は、本明細書に記載のポリマーフォーム層の第３の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ポリマーマイクロスフェアを含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法を記載する。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ポリマーマイクロスフェアを含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法を記載する。
別の態様では、本開示は、本明細書に記載のポリマーフォーム層の第４の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロールを準備することと、
ダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
圧縮ロールを準備することであって、圧縮ロールは、ツールロールと圧縮ロールとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接している、準備することと、
押出チャンバー内で、発泡剤、ガス、又はポリマーマイクロスフェアのうちの少なくとも１つを含むポリマーに、油を注入することと、
押出ダイとツールロールとの間のギャップにポリマーを押し出すことであって、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、押し出すことと、
を含む方法を記載する。
主外周面を有する回転ツールロールを準備することと、
ダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
圧縮ロールを準備することであって、圧縮ロールは、ツールロールと圧縮ロールとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接している、準備することと、
押出チャンバー内で、発泡剤、ガス、又はポリマーマイクロスフェアのうちの少なくとも１つを含むポリマーに、油を注入することと、
押出ダイとツールロールとの間のギャップにポリマーを押し出すことであって、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、押し出すことと、
を含む方法を記載する。
別の態様では、本開示は、本明細書に記載のポリマーフォーム層の第５の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
反応性ポリマーをツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、反応性ポリマーが発泡し少なくとも部分的に重合してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法を記載する。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
反応性ポリマーをツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、反応性ポリマーが発泡し少なくとも部分的に重合してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法を記載する。
別の態様では、本開示は、本明細書に記載のポリマーフォーム層の第６の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
押出ダイに接続された押出機を準備することと、
反応性モノマーを押出機に導入することであって、反応性モノマーが、押出機及び押出ダイ内で少なくとも部分的に重合してポリマーを形成する、導入することと、
押出ダイからツールロールの主外周面の一部分の上にポリマーを導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法を記載する。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
押出ダイに接続された押出機を準備することと、
反応性モノマーを押出機に導入することであって、反応性モノマーが、押出機及び押出ダイ内で少なくとも部分的に重合してポリマーを形成する、導入することと、
押出ダイからツールロールの主外周面の一部分の上にポリマーを導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法を記載する。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の例示的な使用としては、振動減衰及び研磨用途（例えば、化学機械平坦化（ＣＭＰ）において有用な研磨パッド）が含まれる。
本明細書に記載のポリマーフォーム層は、－１２５℃～１５０℃の範囲（いくつかの実施形態では、－１２５℃～－１０℃、－１０℃～８０℃、５０℃～１５０℃、又は更には５０℃～８０℃の範囲）のガラス転移温度Ｔｇを有する。ガラス転移温度は、ＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ，Ｎｅｗ Ｃａｓｔｌｅ，ＤＥから商品名「Ｑ２０００ ＤＳＣ」で入手可能な示差走査熱量計（differential scanning calorimeter、ＤＳＣ）を使用して、以下のように決定する。ＤＳＣ手順は以下のとおりである。試料を－１８０℃に冷却し、１０℃／分の温度勾配で３００℃にする。ガラス転移温度は、熱流対温度曲線における変曲点として記録される。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、熱可塑性材料を含む。例示的な熱可塑性材料としては、例示的な熱可塑性材料としては、ポリカーボネート、ポリアクリル、ポリメタクリル、エラストマー、スチレンブロックコポリマー、スチレン－イソプレン－スチレン（styrene－isoprene－styrene、ＳＩＳ）、スチレン－エチレン／ブチレン－スチレンブロックコポリマー（styrene－ethylene／butylene－styrene block copolymer、ＳＥＢＳ）、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、スチレンとジエン系スチレン－ブタジエンゴム（styrene－butadiene rubber、ＳＢＲ）のランダムコポリマー、スチレンとジエン系スチレン－ブタジエンゴム（ＳＢＲ）とのブロックコポリマー、エチレン－プロピレン－ジエンモノマーゴム、天然ゴム、エチレンプロピレンゴム、ポリエチレンテレフタレート（polyethylene－terephthalate、ＰＥＴ）、ポリスチレン－ポリエチレンコポリマー、ポリビニルシクロヘキサン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、熱可塑性ポリウレタン、芳香族エポキシ、非晶質ポリエステル、非晶質ポリアミド、半結晶性ポリアミド、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン（acrylonitrile－butadiene－styrene、ＡＢＳ）コポリマー、ポリフェニレンオキシド合金、高耐衝撃性ポリスチレン、ポリスチレンコポリマー、ポリメチルメタクリレート（polymethylmethacrylate、ＰＭＭＡ）、フッ素化エラストマー、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテルイミド、非晶質フルオロポリマー、非晶質ポリオレフィン、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンオキシド－ポリスチレン合金、又はこれらの混合物が挙げられる。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、少なくとも１種の非晶質成分を含むコポリマーのうちの少なくとも１種の混合物を含む。いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリイソブチレン、ポリオレフィンコポリマー、ポリアミド（例えば、ポリアミド６及びポリアミド６６）、ポリエチレンテレフタレート（terephtlatate）、ポリエチレンテレフタレート（polyethylene－terephtlatate）コポリマー、フルオロポリマー、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、官能化ポリオレフィン、エチレンビニルアセテートコポリマー、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリホルムアルデヒド、ポリビニルブチラール、これらのコポリマー、又はこれらの混合物を含む。本明細書に記載のポリマーフォーム層のいくつかの実施形態では、熱可塑性樹脂は、非晶質又は半結晶性ポリマー又はコポリマーである。
本明細書に記載のポリマーフォーム層のいくつかの実施形態では、ポリマーは、１～９５（いくつかの実施形態では、１～９０、１～８５、１～８０、１～７５、１～７０、５～９０、５～８５、５～８０、５～７５、５～７０、１０～９０、１０～８５、１０～８０、１０～７５、１０～７０、２０～９０、２０～８５、２０～８０、２０～７５、２０～７０、２５～９０、２５～８５、２５～８０、２５～７５、又は更には２５～７０の範囲のゲル含有量を有する。ポリマーのゲル含有量は、以下のように決定される。数枚のワイヤークロス（３１６ステンレス鋼、１２０×１２０メッシュ；ＭｃＭａｓｔｅｒ－Ｃａｒｒ，Ｅｌｍｈｕｒｓｔ，ＩＬから入手可能）を８ｃｍ×４ｃｍに切断し、半分に折り畳んで４ｃｍの正方形を作製する。メッシュを縁部で約０．７ｃｍ折り畳み、それらの折り目をステープルで留めることによって、上記の正方形の２つの側面を閉じる。このようにして、頂部が開いたケージ（３ｃｍ×４ｃｍ）を得る。試験されるフォーム試料を、０．１８グラム～０．２２グラムの範囲で秤量して配置し、試料をケージ内に密封する。ケージ内にフォーム試料が封止された状態で、還流しているテトラヒドロフラン中にケージを浸漬する。２４時間後、ケージを取り外し、７０℃で４時間真空下で乾燥させる。次いで、ケージの中に残った試料の質量を秤量し、その質量を試料の元の質量で除算して、フォームのゲル含有量を決定する。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、少なくとも３５（いくつかの実施形態では、少なくとも４０、５０、６０、７０、７５、８０、９０、又は更には少なくとも１００；いくつかの実施形態では、３５～１００、４０～８０、又は８０～１００の範囲）のショアＤ値を有する。商品名「Ｓｈｏｒｅ Ｄ／Ｓｈｏｒｅ Ａ ｄｕｒｏｍｅｔｅｒ Ｓｃａｌｅ ｄｉｇｉｔａｌ ｈａｒｄｎｅｓｓ ｔｅｓｔｅｒ」で入手可能なショアＤ／ショアＡデュロメータスケールデジタル硬度計を使用して、フォームの表面を変形させないように注意しながら、計器をフォームに緩やかに押し込むことにより、フィルムのショアＤ硬度を決定する。いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、少なくとも１（いくつかの実施形態では、少なくとも５、１０、１００、１０００、又は更には少なくとも６０００、いくつかの実施形態では、１～５０、５０～５００、又は更には５００～６０００）ＭＰａの圧縮応力対圧縮ひずみ値を有する。いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、１ＭＰａ未満の圧縮応力対圧縮ひずみ値（いくつかの実施形態では、少なくとも５、１０、１００、１０００、又は更には少なくとも６０００、１～５０、５０～５００、又は更には５００～６０００）を有する。ポリマーフォームの圧縮応力及び圧縮ひずみは、Ｉｎｓｔｒｏｎ，Ｎｏｒｗｏｏｄ，ＭＡから商品名「Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ ３３００」で入手可能な機械的試験機を使用して決定される。断面が円形又は正方形のいずれかのポリマーフォーム試料を、機械的試験機（「Ｕｎｉｖｅｒｓａｌ Ｔｅｓｔｉｎｇ Ｓｙｓｔｅｍｓ ３３００」）の２枚の剛性金属プレート同士の間に配置する。プレートは、０．１インチ／分（２．５４ｍｍ／分）の速度で、７５％の圧縮ひずみに達するまで、試料を圧縮する。試験中、較正済みロードセルが、試料を圧縮するために必要な力を記録し、力対変位（又は応力対ひずみ）グラフをもたらす。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、少なくとも０．０１（いくつかの実施形態では、少なくとも０．１、０．５、１、５、又は更には１０、いくつかの実施形態では、０．０１～０．１、０．１～１、又は更には１～１００の範囲）の降伏応力を有する。いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、１００ＭＰａ未満（いくつかの実施形態では、１０、５、１、又は更には０．１ＭＰａ未満、いくつかの実施形態では、０．０１～１、１～１０、又は更には１０～１００ＭＰａ）の降伏応力を有する。降伏応力は、０．２％のひずみの点をｘ軸（ひずみ）に沿って配置し、次いで、その点から、応力対ひずみ曲線の初めの線形部分に平行な線を延ばすことによって、決定される。これら２つの線の交点が降伏応力である。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、ショアＡスケールで２０未満（いくつかの実施形態では、少なくとも２０、１５、１０、又は更には５、いくつかの実施形態では、１～５、１～２０、又は更には１～５０の範囲）のデュロメータ値を有する。ポリマーフォームのデュロメータ値は、商品名「Ｓｈｏｒｅ Ｄ／Ｓｈｏｒｅ Ａ ｄｕｒｏｍｅｔｅｒ Ｓｃａｌｅ ｄｉｇｉｔａｌ ｈａｒｄｎｅｓｓ ｔｅｓｔｅｒ」で入手可能なショアＤ／ショアＡデュロメータスケールデジタル硬度計を使用して、決定される。フォームの表面を変形させないように注意しながら、計器をフォームに緩やかに押し込むことにより、硬度を決定する。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、破断させることなく、直径の１ｍ（いくつかの実施形態では、７５ｃｍ、５０ｃｍ、２５ｃｍ、１０ｃｍ、５ｃｍ、１ｃｍ、５ｍｍ、又は更には１ｍｍ）のロッドに巻き付けることができる。
本明細書に記載のポリマーフォーム層のいくつかの実施形態では、フィーチャは、以下の形状：円錐、立方体、ピラミッド、連続レール、連続多方向レール、半球、円筒、又は多床円筒（multi－lobed cylinder）のうちの少なくとも１つを含む。いくつかの実施形態では、特徴は、以下の形状：円、正方形、矩形、三角形、五角形、他の多角形、正弦波、ヘリンボン、又は多床のうちの少なくとも１つの断面を有する。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、１０～３０００（いくつかの実施形態では、１０～２０００、１０～１０００、１０～５００、又は更には１０～１００）マイクロメートルの範囲の平均セルサイズ（すなわち、孔径）を有する多孔度を有する。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、ポリマーフォーム層の総体積を基準として、少なくとも５（いくつかの実施形態では、少なくとも１０、２０、２５、３０、４０、５０、６０、又は更には少なくとも７０、いくつかの実施形態では、１０～７０、１０～６０、又は更には１０～５０）パーセントの全多孔度を有する。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、スターポリマーを含む。例示的なスターポリマーは、スチレン－イソプレンスチレン（ＳＩＳ）、スチレンエチレンプロピレンスチレン（styrene ethylene propylene styrene、ＳＥＰＳ）、スチレンエチレンブタジエンスチレン（ＳＥＢＳ）、又はスチレンブタジエンスチレン（styrene butadiene styrene、ＳＢＳ）（これらの混合物を含む）のうちの少なくとも１種を含む。好適なスターポリマーは、例えば、Ｋｒａｔｏｎ，Ｈｏｕｓｔｏｎ，ＴＸから商品名「ＫＲＡＴＯＮ」で入手可能である。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、補強材料（例えば、織布、不織布、繊維、メッシュ、又はフィルム）を含む。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、ガラスビーズ、ガラスバブル、ガラス繊維、砥粒、カーボンブラック、炭素繊維、ダイヤモンド粒子、複合粒子、ナノ粒子、鉱物油、粘着付与剤、ワックス、ゴム粒子、又は難燃剤のうちの少なくとも１種を含む。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、熱伝導性材料（例えば、ＢＮ）を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第１の製造方法は、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
発泡剤を含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がポリマーフォーム層をもたらすようにダイリップに近接している、導入することと、
を含む方法を記載する。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
発泡剤を含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がポリマーフォーム層をもたらすようにダイリップに近接している、導入することと、
を含む方法を記載する。
第１の方法のいくつかの実施形態では、圧縮ロールの主外周面は、空隙の配列を含む。第１の方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、突出部の配列を含む。空隙又は突出部のサイズ及び形状は、所望のとおりにすることができる。例示的な形状としては、円錐、立方体、ピラミッド、連続レール、連続多方向レール、半球、円筒、及び多床円筒を挙げることができる。例示的な断面は、円形、正方形、矩形、三角形、五角形、他の多角形、正弦波、ヘリンボン、又は多床を挙げることができる。例示的なサイズは、高さ１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートル、及び幅１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートルであってよい。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第１の製造方法のいくつかの実施形態では、発泡剤は、酸（例えば、クエン酸）、重炭酸塩、アゾジカルボンアミド、修飾アゾジカルボンアミド、ヒドラジド、重炭酸ナトリウムとクエン酸のブレンド、ジニトロペンタメチレンテトラミン、ｐ－トルエンスルホニルヒドラジド、４－４′－オキシビスヒドラジド、アゾジカルボンアミド、ｐ－トルエンスルホニルセミカルバジド、５－フェニルテトラゾール、５－フェニルテトラゾール類似体、ジイソプロピルヒドラゾジカルボキシレート、５－フェニル－３，６－ジヒドロ－１，３，４－オキサジアジン－２－オン、又は水素化ホウ素ナトリウムのうちの少なくとも１種を含む。
図１を参照すると、装置９９は、主外周面１１１を有する回転ツールロール１１０と、ダイリップ１１３を有する押出ダイ１１２とを有し、ダイリップ１１３は、ツールロール１１０と押出ダイ１１２との間にギャップ１１５を形成するためにツールロール１１０に近接して配置されている。発泡剤を含むポリマー１１７は、ツールロール１１０の主外周面１１１の部分１２０上に注入される。主外周面１１１の部分１２０は、ダイリップ１１３に近接している。ポリマー１１７は発泡して本明細書に記載のポリマーフォーム層１００をもたらす。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第２の製造方法は、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ツールロールの主外周面の一部分の上にガスを含むポリマーを導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーとツールロールの主外周面の一部分との接触前又は接触中のうちの少なくともいずれかに、ガスがポリマーに注入され、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ツールロールの主外周面の一部分の上にガスを含むポリマーを導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーとツールロールの主外周面の一部分との接触前又は接触中のうちの少なくともいずれかに、ガスがポリマーに注入され、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第２の製造方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、空隙の配列を含む。第２の方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、突出部の配列を含む。空隙又は突出部のサイズ及び形状は、所望のとおりにすることができる。例示的な形状としては、円錐、立方体、ピラミッド、連続レール、連続多方向レール、半球、円筒、及び多床円筒を挙げることができる。例示的な断面は、円形、正方形、矩形、三角形、五角形、他の多角形、正弦波、ヘリンボン、又は多床を挙げることができる。例示的なサイズは、高さ１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートル、及び幅１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートルであってよい。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第２の製造方法のいくつかの実施形態では、ガスは、アルゴン、二酸化炭素、窒素、ブタン（例えば、ｎ－ブタン及びイソブタン）、ヘプタン（例えば、Ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、及びシクロヘプタン）、ヘキサン（例えば、ｎ－ヘキサン、ネオヘキサン、イソヘキサン、及びシクロヘキサン）、オクタン（例えば、ｎ－オクタン及びシクロオクタン）、又はペンタン（例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ネオペンタン、及びイソペンタン）のうちの少なくとも１種を含む。
図２を参照すると、装置１９９は、主外周面２１１を有する回転ツールロール２１０と、ツールロール２１０と押出ダイ２１２との間にギャップ２１５を形成するためにツールロール２１０に近接して配置されたダイリップ２１３を有する押出ダイ２１２とを有する。ガスを含むポリマー２１７は、ツールロール２１０の主外周面２１１の部分２２０内に注入される。主外周面２１１の部分２２０は、ダイリップ２１３に近接している。ガス２２３は、ポリマー２１７とツールロール２１０の主外周面２１１の部分２２０との接触前又は接触中のうちの少なくともいずれかに、ポリマー２１７ａに注入される。ポリマー２１７は発泡して本明細書に記載のポリマーフォーム層２００をもたらす。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第３の製造方法は、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ポリマーマイクロスフェアを含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ポリマーマイクロスフェアを含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第３の製造方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、空隙の配列を含む。第３の方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、突出部の配列を含む。空隙又は突出部のサイズ及び形状は、所望のとおりにすることができる。例示的な形状としては、円錐、立方体、ピラミッド、連続レール、連続多方向レール、半球、円筒、及び多床円筒を挙げることができる。例示的な断面は、円形、正方形、矩形、三角形、五角形、他の多角形、正弦波、ヘリンボン、又は多床を挙げることができる。例示的なサイズは、高さ１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートル、及び幅１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートルであってよい。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第３の製造方法のいくつかの実施形態では、ポリマーマイクロスフェアは膨張気泡を含む。例示的な膨張気泡は、例えば、ＡｋｚｏＮｏｂｅｌ，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ，Ｎｅｔｈｅｒｌａｎｄｓから商品名「ＥＸＰＡＮＣＥＬ」で、又はＣｈａｓｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｗｅｓｔｗｏｏｄ，ＭＡから商品名「ＤＵＡＬＩＴＥ」で、入手可能である。
図３を参照すると、装置２９９は、主外周面３１１を有する回転ツールロール３１０と、ツールロール３１０と押出ダイ３１２との間にギャップ３１５を形成するためにツールロール３１０に近接して配置されたダイリップ３１３を有する押出ダイ３１２とを有する。ポリマーマイクロスフェアを含むポリマー３１７は、ツールロール３１０の主外周面３１１の一部分に注入される。主外周面３１１の部分３２０は、ダイリップ３１３に近接している。ポリマー３１７は発泡して本明細書に記載のポリマーフォーム層３００をもたらす。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第４の製造方法は、
主外周面を有する回転ツールロールを準備することと、
ダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
圧縮ロールを準備することであって、圧縮ロールは、ツールロールと圧縮ロールとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接している、準備することと、
押出チャンバー内で、発泡剤、ガス、又はポリマーマイクロスフェアのうちの少なくとも１つを含むポリマーに、油を注入することと、
ポリマーをギャップに押し出すことであって、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、押し出すことと、
を含む。
主外周面を有する回転ツールロールを準備することと、
ダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
圧縮ロールを準備することであって、圧縮ロールは、ツールロールと圧縮ロールとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接している、準備することと、
押出チャンバー内で、発泡剤、ガス、又はポリマーマイクロスフェアのうちの少なくとも１つを含むポリマーに、油を注入することと、
ポリマーをギャップに押し出すことであって、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、押し出すことと、
を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第４の製造方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、空隙の配列を含む。第４の方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、突出部の配列を含む。空隙又は突出部のサイズ及び形状は、所望のとおりにすることができる。例示的な形状としては、円錐、立方体、ピラミッド、連続レール、連続多方向レール、半球、円筒、及び多床円筒を挙げることができる。例示的な断面は、円形、正方形、矩形、三角形、五角形、他の多角形、正弦波、ヘリンボン、又は多床を挙げることができる。例示的なサイズは、高さ１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートル、及び幅１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートルであってよい。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第４の製造方法のいくつかの実施形態では、方法は、押出ダイの近くに配置された主外周面を有する圧縮ロールを更に含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第４の製造方法のいくつかの実施形態では、油は、ラノリン、液体ポリアクリレート、液体ポリブテン、鉱油、又はフタレートのうちの少なくとも１種を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第４の製造方法のいくつかの実施形態では、発泡剤は、酸（例えば、クエン酸）、重炭酸塩、アゾジカルボンアミド、修飾アゾジカルボンアミド、ヒドラジド、重炭酸ナトリウムとクエン酸のブレンド、ジニトロペンタメチレンテトラミン、ｐ－トルエンスルホニルヒドラジド、４－４′－オキシビスヒドラジド、アゾジカルボンアミド、ｐ－トルエンスルホニルセミカルバジド、５－フェニルテトラゾール、５－フェニルテトラゾール類似体、ジイソプロピルヒドラゾジカルボキシレート、５－フェニル－３，６－ジヒドロ－１，３，４－オキサジアジン－２－オン、又は水素化ホウ素ナトリウムのうちの少なくとも１種を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第４の製造方法のいくつかの実施形態では、ガスは、アルゴン、二酸化炭素、窒素、ブタン（例えば、ｎ－ブタン及びイソブタン）、ヘプタン（例えば、Ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、及びシクロヘプタン）、ヘキサン（例えば、ｎ－ヘキサン、ネオヘキサン、イソヘキサン、及びシクロヘキサン）、オクタン（例えば、ｎ－オクタン及びシクロオクタン）、又はペンタン（例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ネオペンタン、及びイソペンタン）のうちの少なくとも１種を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第４の製造方法のいくつかの実施形態では、ポリマーマイクロスフェアは膨張気泡を含む。例示的な膨張気泡は、例えば、ＡｋｚｏＮｏｂｅｌから商品名「ＥＸＰＡＮＣＥＬ」で、又はＣｈａｓｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎから「ＤＵＡＬＩＴＥ」で、入手可能である。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第４の製造方法のいくつかの実施形態では、油は、８０℃超（いくつかの実施形態では、少なくとも９０℃、１００℃、１２５℃、１５０℃、１７５℃、又は更には少なくとも２００℃、いくつかの実施形態では８０℃～２５０℃、１００℃～２５０℃、又は更には１００℃～２００℃）の温度のものである。
図４を参照すると、装置３９９は、主外周面４１１を有する回転ツールロール４１０と、ツールロール４１０と押出ダイ４１２との間にギャップ４１５を形成するためにツールロール４１０に近接して配置されたダイリップ４１３を有する押出ダイ４１２とを有している。ツールロール４１０と圧縮ロール４１４との間にギャップ４１６を形成するようにツールロール４１０に近接している圧縮ロール４１４。油４２４は、押出チャンバー４３０内で、発泡剤、ガス、又はポリマーマイクロスフェアのうちの少なくとも１種を含むポリマー４１７ａに注入される。ポリマー４１７は、ギャップ４１５内に押し出される。ポリマー４１７は発泡して本明細書に記載のポリマーフォーム層４００をもたらす。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第５の製造方法は、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
反応性ポリマーをツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、反応性ポリマーが発泡し少なくとも部分的に重合してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
反応性ポリマーをツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、反応性ポリマーが発泡し少なくとも部分的に重合してポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第５の製造方法のいくつかの実施形態では、反応性ポリマーは、形成後に反応してポリマーフォーム層の分子量を増加させる。第５の方法のいくつかの実施形態では、反応性ポリマーは反応してポリマーフォーム層を架橋する。第５の方法のいくつかの実施形態では、反応性ポリマーは水分と反応して、ポリマーフォーム層の重合又は架橋を引き起こす。第５の方法のいくつかの実施形態では、反応性ポリマーは、イソシアネート官能基、アルコキシシラン官能基、又はケチミン官能基を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第５の製造方法のいくつかの実施形態では、反応性ポリマーは、（メタ）アクリル官能基、アリル官能基、又はビニル官能基のうちの少なくとも１種を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第５の製造方法のいくつかの実施形態は、反応性ポリマーを、ガンマ線、電子線放射、又は紫外線放射のうちの少なくとも１つに曝露して、ポリマーフォーム層の重合又は架橋のうちの少なくとも１つを引き起こすことを含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第５の製造方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、空隙の配列を含む。第５の方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、突出部の配列を含む。空隙又は突出部のサイズ及び形状は、所望のとおりにすることができる。例示的な形状としては、円錐、立方体、ピラミッド、連続レール、連続多方向レール、半球、円筒、及び多床円筒を挙げることができる。例示的な断面は、円形、正方形、矩形、三角形、五角形、他の多角形、正弦波、ヘリンボン、又は多床を挙げることができる。例示的なサイズは、高さ１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートル、及び幅１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートルであってよい。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第５の製造方法のいくつかの実施形態では、本方法は、押出ダイの近くに配置された主外周面を有する圧縮ロールを更に含む。図５を参照すると、装置４９９は、主外周面５１１を有する回転ツールロール５１０と、ツールロール５１０と押出ダイ５１２との間にギャップ５１５を形成するためにツールロール５１０に近接して配置されたダイリップ５１３を有する押出ダイ５１２とを有している。反応性ポリマー５１７は、ツールロール５１０の主外周面５１１の部分５２０に注入される。主外周面５１１の部分５２０は、ダイリップ５１３に近接している。反応性ポリマー５１７は発泡し、少なくとも部分的に重合して、本明細書に記載のポリマーフォーム層５００をもたらす。
ポリマーフォーム層の第６の製造方法は、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
押出ダイに接続された押出機を準備することと、
反応性モノマーを押出機に導入することであって、反応性モノマーが、押出機及び押出ダイにおいて少なくとも部分的に重合してポリマーを形成する、導入することと、
押出ダイからツールロールの主外周面の一部分の上にポリマーを注入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、注入することと
を含む。
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
押出ダイに接続された押出機を準備することと、
反応性モノマーを押出機に導入することであって、反応性モノマーが、押出機及び押出ダイにおいて少なくとも部分的に重合してポリマーを形成する、導入することと、
押出ダイからツールロールの主外周面の一部分の上にポリマーを注入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡してポリマーフォーム層をもたらす、注入することと
を含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第６の製造方法のいくつかの実施形態は、反応性ポリマーを反応性モノマーとともに押出機内に注入することであって、モノマーは特定の分子量を有し、モノマーは、反応性ポリマーと少なくとも部分的に反応して、モノマーの分子量よりも高い分子量を有するポリマーを形成する、注入することを更に含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第６の製造方法のいくつかの実施形態では、反応性モノマーは、ポリイソシアネートとポリオールとを含み、モノマーと反応性ポリイソシアネートとの反応から形成されるポリマーは、ポリウレタンである。第６の方法のいくつかの実施形態では、反応性モノマーは、ヒドロキシル官能性鎖延長剤を更に含む。第６の方法のいくつかの実施形態では、イソシアネート当量ヒドロキシル当量の数の比は、１：１．０１～１：１．２（いくつかの実施形態では、１：１．０１～１：１．１～１：１．０５、１：１．０５～１：１．０、又は１：１．０～１：１．２）である。第６の方法のいくつかの実施形態では、ポリオール又はポリイソシアネートのうちの少なくとも１種は、２．０を超える平均官能価を有する。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第６の製造方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、空隙の配列を含む。第６の方法のいくつかの実施形態では、ツールロールの主外周面は、突出部の配列を含む。空隙又は突出部のサイズ及び形状は、所望のとおりにすることができる。例示的な形状としては、円錐、立方体、ピラミッド、連続レール、連続多方向レール、半球、円筒、及び多床円筒を挙げることができる。例示的な断面は、円形、正方形、矩形、三角形、五角形、他の多角形、正弦波、ヘリンボン、又は多床を挙げることができる。例示的なサイズは、高さ１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートル、及び幅１００マイクロメートル～２５，４００マイクロメートルであってよい。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第６の製造方法のいくつかの実施形態では、本方法は、押出ダイの近くに配置された主外周面を有する圧縮ロールを更に含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第６の製造方法のいくつかの実施形態では、ポリマーは発泡剤を含む。第６の方法のいくつかの実施形態では、発泡剤は、ポリマーマイクロスフェアを含む。ポリマーフォーム層の第６の製造方法のいくつかの実施形態では、ポリマーマイクロスフェアは膨張可能な気泡である。第６の方法のいくつかの実施形態では、発泡剤は、酸、重炭酸塩、アゾジカルボンアミド、修飾アゾジカルボンアミド、ヒドラジド、重炭酸ナトリウムとクエン酸のブレンド、ジニトロペンタメチレンテトラミン、ｐ－トルエンスルホニルヒドラジド、４－４′－オキシビスヒドラジド、アゾジカルボンアミド、ｐ－トルエンスルホニルセミカルバジド、５－フェニルテトラゾール、５－フェニルテトラゾール類似体、ジイソプロピルヒドラゾジカルボキシレート、５－フェニル－３，６－ジヒドロ－１，３，４－オキサジアジン－２－オン、又は水素化ホウ素ナトリウムのうちの少なくとも１種を含む。第６の方法のいくつかの実施形態では、発泡剤は、水とイソシアネートとを含む。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の第６の製造方法のいくつかの実施形態では、発泡剤は、アルゴン、二酸化炭素、窒素、ブタン（例えば、ｎ－ブタン及びイソブタン）、ヘプタン（例えば、Ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、及びシクロヘプタン）、ヘキサン（例えば、ｎ－ヘキサン、ネオヘキサン、イソヘキサン、及びシクロヘキサン）、オクタン（例えば、ｎ－オクタン及びシクロオクタン）、又はペンタン（例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ネオペンタン、及びイソペンタン）のうちの少なくとも１種を含むガスを含む。
図６を参照すると、装置５９９は、主外周面６１１を有する回転ツールロール６１０と、ツールロール６１０と押出ダイ６１２との間にギャップ６１５を形成するためにツールロール６１０に近接して配置されたダイリップ６１３を有する押出ダイ６１２とを有する。押出成形機６４０は、押出ダイ６１２に接続されている。反応性モノマー６１７ａは押出物６４０に注入される。反応性モノマー６１７ａは、押出機６４０及び押出ダイ６１２において少なくとも部分的に重合してポリマー６１７を形成する。ポリマー６１７は、ツールロール６１０の主外周面６１１の一部分に注入される。主外周面６１１の部分６２０は、ダイリップ６１３に近接している。ポリマー６１７は発泡して本明細書に記載のポリマーフォーム層６００をもたらす。
本開示はまた、物品を提供する方法であって、
任意の例示的実施形態Ａのポリマーフォーム層を準備することと、
熱又は圧力のうちの少なくとも１つを適用して、ポリマーフォーム層の少なくとも１つの突出部を永久的に変形させることと、
を含む方法を記載する。例えば、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、２つの回転する金属ロールによってもたらされるニップを通過することができ、ポリマーフォーム層の突出部は、ロールと接触した突出部を変形させるために十分に加熱される（例えば、電気的に加熱される）ニップロールのうちの１つの周囲に巻き付き、他のニップロールは、低い温度（典型的に周囲温度）である。
任意の例示的実施形態Ａのポリマーフォーム層を準備することと、
熱又は圧力のうちの少なくとも１つを適用して、ポリマーフォーム層の少なくとも１つの突出部を永久的に変形させることと、
を含む方法を記載する。例えば、本明細書に記載のポリマーフォーム層は、２つの回転する金属ロールによってもたらされるニップを通過することができ、ポリマーフォーム層の突出部は、ロールと接触した突出部を変形させるために十分に加熱される（例えば、電気的に加熱される）ニップロールのうちの１つの周囲に巻き付き、他のニップロールは、低い温度（典型的に周囲温度）である。
装置は、これらの一般的な種類の装置について当該技術分野において既知の従来の材料及び技術で作製することができる。
本明細書に記載のポリマーフォーム層の例示的な用途としては、振動減衰及び研磨用途（例えば、化学機械平坦化（ＣＭＰ）において有用な研磨パッド）が挙げられる。
更にＣＭＰ研磨用途に対しては、研磨パッドの厚みは、適切な研磨ツールでの研磨を可能にするために必要な厚みに一致してよい。いくつかの実施形態では、研磨パッドの厚さは、１２５マイクロメートル超（いくつかの実施形態では、１５０、２００超、又は更には５００マイクロメートル超、いくつかでは、４０，０００、３０，０００、２０，０００、１５，０００、１０，０００、５，０００、又は更には２，５００マイクロメートル未満）である。研磨パッドは、様々な形状（例えば、円形、正方形、又は六角形）のいずれかであってよい。パッドは、パッド形状が、使用中にパッドが装着される対応する研磨ツールの圧盤の形状と同一となるように作製され得る。パッドの最大寸法（例えば、円形パッドの直径）は、特定の用途について所望されるとおりであってよい。いくつかの実施形態では、パッドの最大寸法は、少なくとも１０ｃｍ（いくつかの実施形態では、少なくとも２０ｃｍ、２５ｃｍ、３０ｃｍ、４０ｃｍ、５０ｃｍ、又は更には少なくとも６０ｃｍ、いくつかの実施形態では、２メートル未満、１．５メートル未満、又は更には１メートル未満）である。
いくつかの研磨パッドの実施形態では、フォームフィーチャは、少なくとも１００マイクロメートル（いくつかの実施形態では、少なくとも２００マイクロメートル、又は更には少なくとも３００マイクロメートル、いくつかの実施形態では、最大２０，０００マイクロメートル、１５，０００マイクロメートル、１０，０００マイクロメートル、又は更には最大５，０００マイクロメートル）第１の主表面から延びるか又は第１の主表面に入り込む。
研磨パッドのポリマーフォーム層は、少なくとも１つのチャネルを更に含んでもよく、チャネルは、フォームフィーチャが第１の主表面から延びるか又は第１の主表面に入り込む距離を超える深さを有する。いくつかの実施形態では、研磨パッドのポリマーフォーム層は、少なくとも複数のチャネルを更に含んでよく、複数のチャネルの少なくとも一部分は、フォームフィーチャが第１の主表面から延びるか又は第１の主表面に入り込む距離を超える深さを有する。少なくとも１つのチャネルは、研磨溶液分布の改善、ポリマーフォーム層の柔軟性をもたらすと共に、研磨パッドから削りくずを除去することを容易にし得る。いくつかの実施形態では、チャネルは、流体がチャネル内にいつまでも入っていないようにする（すなわち、流体は、パッドの使用中にチャネルから流出することができる）。
いくつかの実施形態では、少なくとも１つのチャネルの幅は、少なくとも１０マイクロメートル（いくつかの実施形態では、少なくとも２５、５０、７５、又は更には少なくとも１００マイクロメートル、いくつかの実施形態では、２０，０００、１０，０００、５，０００、２，０００、１，０００、５００、又は更には２００マイクロメートル未満）である。いくつかの実施形態では、少なくとも１つのチャネルの深さは、少なくとも１２５マイクロメートル（いくつかの実施形態では、少なくとも２００、３００、４００、５００、６００、７００、８００、９００、１，０００、１５００、又は更には少なくとも２，０００マイクロメートル、いくつかの実施形態では、２５，０００、２０，０００、１５，０００、１０，０００、８，０００、５，０００、３，０００、又は更には１，０００マイクロメートル未満）である。
チャネルは、加工、エンボス加工、及び鋳造を含むが限定しない、当技術分野で知られている任意の技法によって、研磨層の中に形成されてよい。チャネルは、ポリマーフォーム層の形成中に、及び／又はポリマーフォーム層を形成するために使用される同じプロセスによって、形成されてよい。（基材の欠陥（例えば、使用中における引っかき傷）を最小限に抑える助けとなる）研磨フォーム層の第１の主表面の改善された表面仕上げのため、エンボス加工及び鋳造が好ましい場合がある。いくつかの実施形態では、ポリマーフォーム層の第１の主表面から延びるか又は第１の主表面に入り込むチャネルは、フォームフィーチャを形成するために使用される成形プロセスにおいて製造される。これは、ツールロールにおけるネガ（すなわち突出した領域）を形成し、次いで、鋳造中にチャネル自体をポリマーフォーム層内に形成することによって実現される。ポリマーフォーム層の第１の主表面から延びるか又は第１の主表面に入り込むフォームフィーチャ及び少なくとも１つのチャネルを単一のプロセス工程で研磨フォーム層中に作製することができるため、上記は特に有利であり、コスト及び時間の節約につながる。チャネルは、当技術分野で知られているさまざまなパターン（例えば、同心リング、平行線、放射状線、グリッドアレイを形成する一連の線、ヘリンボン、及び螺旋）を形成するように製作することができる。パターンの組み合わせを用いてもよい。
更に別の実施形態では、本開示の研磨パッドは、サブパッドを備えてもよく、サブパッドは、ポリマーフォーム層の第２の主表面に隣接している。研磨パッド層（例えば、ポリマーフォーム層及びサブパッド）は、（接着剤（例えば、感圧接着剤（pressure sensitive adhesives、ＰＳＡ）、ホットメルト接着剤、インプレース硬化接着剤など）を使用することを含む）当技術分野で知られている任意の技法により、一緒に接着することができる。いくつかの実施形態では、研磨パッドは、ポリマーフォーム層の第２の主表面に隣接する接着剤層を含む。ＰＳＡ（例えば、ＰＳＡ転写テープ）と共に積層プロセスを用いることは、研磨パッド及びサブパッドを接着するための１つの特定のプロセスである。サブパッドは、当技術分野で知られている任意のものであってよい。サブパッドは、実質的に剛性の材料（例えば、ポリカーボネート）の単一層又は実質的に圧縮可能な材料（例えば、エラストマーフォーム）の単一層であってよい。サブパッドはまた、少なくとも２つの層を有してもよく、実質的に剛性の層（例えば、硬質材料又は高弾性材料（例えば、ポリカーボネート又はポリエステル））と、実質的にコンプライアントな層（例えば、エラストマー又はエラストマー発泡対材料）とを含んでもよい。サブパッドが実質的にコンプライアントな層（例えば、エラストマーフォーム層）を含む場合、コンプライアント層は、２０ショアＤ～９０ショアＤのデュロメータを有し得る。いくつかの実施形態では、コンプライアント層は、１２５～５，０００（いくつかの実施形態では、１２５～１，０００）マイクロメートルの厚さを有する。
少なくとも１つの不透明層を有するサブパッドを含む研磨パッドのいくつかの実施形態では、小さな（例えば、１ｃｍ～５ｃｍ）の穴をサブパッドに開けて、「窓」を作成することができる。穴は、サブパッド全体を貫通して開けても、少なくとも１つの不透明層のみを貫通して開けてもよい。サブパッドの切り出し部分又は少なくとも１つの不透明層がサブパッドから除去され、光がこの領域を透過できるようになる。穴は、研磨ツール圧盤の窓のエンドポイントと位置が整合するように予め位置付けられ、ツールのエンドポイント検出システムからの光を、研磨パッドを通して移動させてウエハに接触させることによって、研磨ツールのウエハエンドポイント検出システムの使用を容易にする。光ベースのエンドポイント研磨検出システムは当技術分野で知られており、例えば、Ａｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．，Ｓａｎｔａ Ｃｌａｒａ，ＣＡから商品名「ＭＩＲＲＡ」及び「ＲＥＦＬＥＸＩＯＮ ＬＫ ＣＭＰ」で入手可能である。本明細書で記載の研磨パッドは、このようなツール上で稼働するように製作することができ、研磨ツールのエンドポイント検出システムと共に機能するように構成されたエンドポイント検出窓が、研磨パッドに含まれる。
いくつかの実施形態では、本明細書に記載の研磨パッドは、そこに積層されたサブパッドを含む。サブパッドは、少なくとも１つの剛性層（例えば、ポリカーボネート）、少なくとも１つのコンプライアント層（例えば、エラストマーフォーム）を含むことができ、剛性層の弾性率はコンプライアント層の弾性率よりも大きい。剛性層は、典型的にＰＳＡ（例えば、転写接着剤又はテープ）の使用により、ポリマーフォーム層の第２の主表面に積層されてもよい。コンプライアント層は不透明であり、エンドポイント検出に必要な光の透過を防ぐことができる。積層の前又は後に、例えば標準的なキスカット方法又は手による切り出しによって、サブパッドの不透明なコンプライアント層に穴（例えば、最大幅５ｃｍ×長さ２０ｃｍ）をダイカットしてよい。コンプライアント層の切り出し領域を除去して、研磨パッドに「窓」を作り出す。接着剤の残留物が穴に存在する場合、例えば、適切な溶媒の使用及び／又は布での拭き取りによって、接着剤の残留物を除去することができる。研磨パッドの「窓」は、研磨パッドが研磨ツール圧盤に取り付けられるとき、研磨パッドの窓の位置が研磨ツール圧盤のエンドポイント検出窓と整合するように構成される。穴の寸法は一般的に、圧盤のエンドポインド検出窓の寸法と同じであるか、又は類似している。
ポリマーフォーム層、サブパッド、及びそれらの任意の組み合わせのうちのいずれか１つを含む研磨パッドは、研磨プロセスで使用される標準的なエンドポイント検出技術（例えばウエハエンドポイント検出）を可能にするための窓（つまり、光を通過させる領域）を含んでよい。
本開示はまた、少なくとも１つの研磨パッドと、少なくとも１種の研磨溶液を含む、研磨システムを記載する。好適な研磨溶液は、当該技術分野において既知である。研磨溶液は水性であっても非水性であってもよい。水性研磨溶液は、少なくとも５０質量％の水を有する。非水性溶液は、５０質量％未満の水を有する。いくつかの実施形態では、研磨溶液はスラリー（すなわち、有機及び／又は無機研磨粒子を含有する液体）である。研磨溶液中の有機及び／又は無機研磨粒子の濃度は、所望されるとおりである。いくつかの実施形態において、研磨溶液中の有機及び／又は無機研磨粒子の濃度は、少なくとも０．５質量％（いくつかの実施形態では、少なくとも１質量％、２質量％、３質量％、４質量％、又は更には少なくとも５質量％、いくつかの実施形態では、３０質量％未満、２０質量％未満、１５質量％未満、又は更に１０質量％未満）である。いくつかの実施形態では、研磨溶液は有機及び／又は無機研磨粒子を実質的に含まない。「有機又は無機研磨粒子を実質的に含まない」とは、研磨溶液が、０．５重量％以下（いくつかの実施形態では、０．２５質量％以下、０．１質量％以下、又は更には０．０５質量％以下）の有機又は無機研磨粒子を含有することを意味する。いくつかの実施形態では、研磨溶液は有機又は無機研磨粒子を含有しない。研磨システムは、研磨溶液（例えば、シリコンオキシドＣＭＰ（例えば、シャロートレンチアイソレーションＣＭＰ）、金属ＣＭＰ（例えば、タングステンＣＭＰ、銅ＣＭＰ、及びアルミニウムＣＭＰ）、バリアＣＭＰ（例えば、タンタル及び窒化タンタルＣＭＰ）、及び硬質基材（例えば、サファイア）を含んでよい。いくつかの実施形態では、研磨システムは、研磨又は研磨される基材を更に含む。
本開示はまた、基材を研磨する方法であって、
作用面を有する、本明細書に記載の研磨パッドを準備することと、
第１の表面を有する基材を準備することと、
研磨パッドの第１の作用面を第１の基材表面に接触させることと、
研磨パッドの作用面と第１の基材表面との間の接触を維持しながら、研磨パッドと基材とを互いに対して移動させることと、
を含み、
研磨は研磨溶液の存在下で実行される、
方法を記載する。
作用面を有する、本明細書に記載の研磨パッドを準備することと、
第１の表面を有する基材を準備することと、
研磨パッドの第１の作用面を第１の基材表面に接触させることと、
研磨パッドの作用面と第１の基材表面との間の接触を維持しながら、研磨パッドと基材とを互いに対して移動させることと、
を含み、
研磨は研磨溶液の存在下で実行される、
方法を記載する。
いくつかの実施形態では、研磨溶液は、本明細書において前述したスラリーである。いくつかの実施形態では、基材は半導体ウエハである。例示的な半導体ウエハは、誘電材料、導電性材料、バリア及び／若しくは接着材料、又はキャップ材料のうちの少なくとも１つを含む。例示的な誘電材料としては、無機誘電材料（例えば、ガラス（例えば、シリカガラス））又は有機誘電材料が挙げられる。例示的な導電性材料としては、金属（例えば、銅、タングステン、アルミニウム、又は銀のうちの少なくとも１種）が挙げられる。例示的なキャップ材料は、炭化ケイ素又は窒化ケイ素のうちの少なくとも１種を含む。例示的なバリア及び／又は接着材料は、タンタル又は窒化タンタルのうちの少なくとも１種を含む。研磨方法は、パッドコンディショニング又は洗浄工程も含んでよく、この工程は原位置で（すなわち研磨中に）実行されてよい。パッドコンディショニングは、任意のパッドコンディショナー（例えば、ダイアモンドパッドコンディショナー）、又は当技術分野において既知であり、例えば３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ，Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮから商品名「３Ｍ ＣＭＰ ＰＡＤ ＣＯＮＤＩＴＩＯＮＥＲ ＢＲＵＳＨ ＰＢ３３Ａ」で入手可能である、ブラシを使用してよく、及び／又は研磨パッドの水若しくは溶媒すすぎを使用してよい。
減衰積層体に見出される動的スペーサ層は、散逸層の減衰性能を改善するのに有効である。質量を最小化することは、多くの産業、特に輸送において必要性が高い。本明細書に記載のポリマーフォーム層の発泡した動的スペーサを通して、製造時の質量及び複雑性の両方の低減が達成可能である。剛性フォームはスペーサ要素を有するように機械加工することができるが、固有の廃棄物及び余分な加工工程を最小限に抑えることにより、そのような構造体の製造は大幅に簡素化される。
乗り物（例えば、自動車、飛行機、及びモーターボートなど）のエンジン、動力伝達系及び他の部分は、構造伝播騒音（structure borne noise）として、その乗り物の本体を貫通して伝播する、機械的振動を発生させる場合がある。そのような構造伝播騒音は、空気伝播騒音へと変わり得る。これらの構造振動は、他の乗り物区域内（例えば、客室の内部）に、それらの運動エネルギーが空気伝播騒音として放射される前に、減衰させることが有用であり得る。
典型的に、ビチューメン又はスプレーされたプラスチック素材などの粘弾性材料（すなわち、単層減衰材料）が、これらの構造振動を減衰するために、例えば乗り物の本体パネルの表面にコーティングされるか、あるいは適用される。それら本体パネル及び付着した粘弾性層が変形することにより、その粘弾性材料内部のポリマー鎖の伸長及び／又は圧縮が引き起こされ、その結果として、例えば構造伝播振動（例えば、エンジン、タイヤ／道路の相互作用、コンプレッサ、及びファンなどからの構造伝播振動）の形態における機械的エネルギーの散逸、及び振動の減衰をもたらすことができる。
この減衰材料に、第２の層である拘束層を追加することによって、より良好な減衰性能を達成することができる（拘束型層減衰（constrained layer damping、ＣＬＤ））。拘束層は、粘弾性材料層ほど弾性ではないように選択され、減衰対象となるパネルの反対側で、粘弾性材料層又は散逸層の上部に取り付けることができる。拘束層は、例えばアルミニウムから作製されてよい。粘弾性材料層の上部に拘束層が取り付けられている場合、パネルが変形するたびに、散逸層内部のポリマー鎖の伸長及び圧縮ばかりではなく、散逸層内部での剪断も引き起こされる。したがって、追加的拘束層を有する減衰材料は、散逸層のみを有する減衰材料よりも有効である。
拘束層に使用される材料は、例えば乗り物に使用される場合に望ましくない傾向がある減衰材料に質量を追加する。そのような材料はまた、減衰材料の曲げ剛性も増大させるが、このことは、ＣＬＤ材料を複雑な形状の構造体に適用する場合に、難題を生じさせる場合がある。
減衰材料の効率はまた、粘弾性の減衰層又は散逸層の変形が、「動的スペーサ」層又は「スタンドオフ」層によって増幅される場合にも、向上し得る。スタンドオフ層は、通常、減衰対象となるパネルと拘束層との間に配置され、典型的に、その一方の側又は両側に、粘弾性の散逸層を有する。効率を向上させるための１つの方法は、動的スペーサ層を使用することによって、散逸層内部での歪みを増大させることである。
いくつかの実施形態では、動的スペーサ要素は、０．１ｍｍ～１５ｍｍの範囲の高さを有する。いくつかの実施形態では、ベース層は、ゼロ（ベース層が存在しない）から最大３ｍｍの範囲内の厚さを有する。
いくつかの実施形態では、動的スペーサ要素の高さ（すなわち、動的スペーサ層の厚さ方向）とベース材料の高さ又は厚さの比は、例えば、１．１：１（いくつかの実施形態では、１．５：１、２：１、３：１、４：１、５：１、１０：１、１５：１、又は更には２０：１）より大きくてもよい。動的スペーサ要素がより大きな高さを有して、各スペーサ要素の少なくとも１つの端部が散逸層に埋め込まれているか、接合されているか、接触しているか、又は散逸層に近接していることが望ましい傾向がある。そのような配置は、スペーサの移動を容易にする傾向があり、その結果、散逸層と相互作用して、エネルギーが多層材料内で散逸することが可能になる。各動的スペーサ要素は、０．３：１～２０：１の範囲の高さ／幅のアスペクト比を有することが望ましい場合がある。一般に、動的スペーサ層の性能は、スペーサ要素の高さ／幅の比が増大するにつれて低下し得るものであり、性能は、スペーサ要素の高さ／幅の比が減少するにつれて向上し得る。
例示的な実施形態
１Ａ． 最大２５，７００（いくつかの実施形態では、１００～１０００、１０００～６０００、６０００～１２，７００、又は更には１２，７００～２５，４００）マイクロメートルの厚さを有し、互いに反対側にある第１及び第２の主表面を有し、第１の主表面から少なくとも１００（いくつかの実施形態では、１００～１０００、１０００～６０００、６０００～１２，７００、又は更には１２，７００～２５，４００）マイクロメートル延びるか又は第１の主表面に入り込むフォームフィーチャを備え、－１２５℃～１５０℃の範囲（いくつかの実施形態では、－１２５℃～－１０℃、－１０℃～８０℃、５０℃～１５０℃、又は更には５０℃～８０℃の範囲）のガラス転移温度Ｔｇを有し、互いに反対側にある第１及び第２の主表面は、露出した内部多孔質セルを含まず（すなわち、第１及び第２の主表面のそれぞれの表面積の１０パーセント未満が、任意の露出した多孔質セルを有し）、各主表面の面積の少なくとも４０（いくつかの実施形態では、少なくとも５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、９６、９７、９８、９９、又は更には１００）パーセントが、硬化したままの表面を有する、ポリマーフォーム層。
２Ａ． 熱可塑性材料を含む、例示的実施形態１Ａに記載のポリマーフォーム層。
３Ａ． 熱可塑性材料が、ポリカーボネート、ポリアクリル、ポリメタクリル、エラストマー、スチレンブロックコポリマー、スチレン－イソプレン－スチレン（ＳＩＳ）、スチレン－エチレン／ブチレン－スチレンブロックコポリマー（ＳＥＢＳ）、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、スチレンとジエン系スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）とのランダムコポリマー、スチレンとジエン系スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）とのブロックコポリマー、エチレン－プロピレン－ジエンモノマーゴム、天然ゴム、エチレンプロピレンゴム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン－ポリエチレンコポリマー、ポリビニルシクロヘキサン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、熱可塑性ポリウレタン、芳香族エポキシ、非晶質ポリエステル、非晶質ポリアミド、半結晶性ポリアミド、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン（ＡＢＳ）コポリマー、ポリフェニレンオキシド合金、高耐衝撃性ポリスチレン、ポリスチレンコポリマー、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、フッ素化エラストマー、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテルイミド、非晶質フルオロポリマー、非晶質ポリオレフィン、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンオキシド－ポリスチレン合金、又はこれらの混合物を含む、例示的実施形態２Ａに記載のポリマーフォーム層。
４Ａ． 少なくとも１種の非晶質成分を含む少なくとも１種のコポリマーを含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
５Ａ． ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリイソブチレン、ポリオレフィンコポリマー、ポリアミド（例えば、ポリアミド６及びポリアミド６６）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン－テレフタレートコポリマー、フルオロポリマー、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、官能化ポリオレフィン、エチレンビニルアセテートコポリマー、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリホルムアルデヒド、ポリビニルブチラール、これらのコポリマー、又はこれらの混合物を含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
６Ａ． 熱可塑性材料が、非晶質又は半結晶性ポリマー又はコポリマーである、例示的実施形態２Ａ～５Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
７Ａ． １～９５（いくつかの実施形態では、１～９０、１～８５、１～８０、１～７５、１～７０、５～９０、５～８５、５～８０、５～７５、５～７０、１０～９０、１０～８５、１０～８０、１０～７５、１０～７０、２０～９０、２０～８５、２０～８０、２０～７５、２０～７０、２５～９０、２５～８５、２５～８０、２５～７５、又は更には２５～７０）の範囲のゲル含有量を有するポリマーを含む、例示的実施形態１Ａに記載のポリマーフォーム層。
８Ａ． 少なくとも３５（いくつかの実施形態では少なくとも４０、５０、６０、７０、７５、８０、９０、又は更には１００、いくつかの実施形態では３５～１００、４０～８０、又は８０～１００の範囲）のショアＤ値を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
９Ａ． 少なくとも１（いくつかの実施形態では、少なくとも５、１０、１００、１０００、又は更には６０００、いくつかの実施形態では、１～５０、５０～５００、又は更には５００～６０００）ＭＰａの圧縮応力対圧縮ひずみ値を有する、例示的実施形態６Ａに記載のポリマーフォーム層。
１０Ａ． 少なくとも０．０１（いくつかの実施形態では、少なくとも０．１、０．０５、１、５、又は更には１０、いくつかの実施形態では、０．０１～０．１、０．１～１、又は更には少なくとも１～１００）ＭＰａの降伏応力を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１１Ａ． ２０未満（いくつかの実施形態では、２０、１５、１０未満、又は更には５未満、いくつかの実施形態では、１～５、１～２０、又は更には１～５０の範囲）のデュロメータ値を有する、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１２Ａ． １ＭＰａ未満（いくつかの実施形態では、少なくとも５、１０、１００、１０００ＭＰａ未満、又は更には６０００ＭＰａ未満、いくつかの実施形態では、１～５０、５０～５００、又は更には５００～６０００ＭＰａ）の圧縮応力対圧縮ひずみ値を有する、例示的実施形態１Ａ～７Ａ又は１０Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１３Ａ． １００ＭＰａ未満（いくつかの実施形態では、１０、５、１ＭＰａ未満、又は更には０．１ＭＰａ未満、いくつかの実施形態では、０．０１～１、１～１０、又は更には１０～１００ＭＰａ）の降伏応力を有する、例示的実施形態１Ａ、１１Ａ又は１２Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１４Ａ． 破断させることなく、直径の１ｍ（いくつかの実施形態では、７５ｃｍ、５０ｃｍ、２５ｃｍ、１０ｃｍ、５ｃｍ、１ｃｍ、５ｍｍ、又は更には１ｍｍ）のロッドに巻き付けることができる、例示的実施形態１Ａ～８Ａ又は１１Ａ～１３Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１５Ａ． フィーチャが、以下の形状：円錐、立方体、ピラミッド、連続レール、連続多方向レール、半球、円筒、又は多床円筒のうちの少なくとも１つを含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１６Ａ． フィーチャが、以下の形状：円形、正方形、矩形、三角形、五角形、他の多角形、正弦波、ヘリンボン、又は多床のうちの少なくとも１つの断面を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１７Ａ． １０～３０００（いくつかの実施形態では、１０～２００、１０～１０００、１０～５０００、又は更には１０～１０００）マイクロメートルの平均セルサイズ（すなわち、孔径）を有する多孔度を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１８Ａ． ポリマーフォーム層の総体積を基準として、少なくとも５（いくつかの実施形態では、少なくとも１０、２０、２５、３０、４０、５０、６０、又は更には少なくとも７０、いくつかの実施形態では、１０～７０、１０～６０、又は更には１０～５０）パーセントの全多孔度を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１９Ａ． フォームフィーチャ上にポリマー層を更に含み、ポリマー層が、ポリマーフォーム層を含むポリマーとは異なるポリマーを含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
２０Ａ． スターポリマーを含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
２１Ａ． スターポリマーが、スチレンイソプレンスチレン（ＳＩＳ）、スチレンエチレンプロピレンスチレン（ＳＥＰＳ）、スチレンエチレンブタジエンスチレン（ＳＥＢＳ）、又はスチレンブタジエンスチレン（ＳＢＳ）のうちの少なくとも１種を含む、例示的実施形態２０Ａに記載のポリマーフォーム層。
２２Ａ． 補強材料（例えば、織布、不織布、繊維、メッシュ、又はフィルム）を含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
２３Ａ． ガラスビーズ、ガラスバブル、ガラス繊維、砥粒、カーボンブラック、炭素繊維、ダイヤモンド粒子、複合粒子、ナノ粒子、鉱物油、粘着付与剤、ワックス、ゴム粒子、又は難燃剤のうちの少なくとも１種を含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
２４Ａ． 熱伝導性材料（例えば、ＢＮ）を含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１Ｂ． 先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層を含む動的スペーサを備えた、振動減衰積層体。
１Ｃ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
発泡剤を含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分が、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらすように押出ダイリップに近接している、導入することと、
を含む方法。
２Ｃ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｃに記載の方法。
３Ｃ． 圧縮ロールの主外周面が、空隙の配列を含む、先行するＣの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
４Ｃ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＣの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
５Ｃ． 発泡剤が、酸（例えば、クエン酸）、重炭酸塩、アゾジカルボンアミド、修飾アゾジカルボンアミド、ヒドラジド、重炭酸ナトリウム及びクエン酸ブレンド、ジニトロペンタメチレンテトラミン、Ｐ－トルエンスルホニルヒドラジド、４－４′－オキシビスヒドラジド、アゾジカルボンアミド、ｐ－トルエンスルホニルセミカルバジン、５－フェニルテトラゾール、５－フェニルテトラゾール類似体、ジイソプロピルヒドラジドジカルボキシレート、５－フェニル－３，６－ジヒドロ－１，３，４－オキサジアジン－２－オン、又は水素化ホウ素ナトリウムのうちの少なくとも１種を含む、先行するＣの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１Ｄ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ツールロールの主外周面の一部分の上にガスを含むポリマーを導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーとツールロールの主外周面の一部分との接触前又は接触中のうちの少なくともいずれかに、ガスがポリマーに注入され、ポリマーが発泡して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法。
２Ｄ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｄに記載の方法。
３Ｄ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＤの例示的実施形態いずれか一項に記載の方法。
４Ｄ． ガスが、アルゴン、二酸化炭素、窒素、ブタン（例えば、ｎ－ブタン及びイソブタン）、ヘプタン（例えば、ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、及びシクロヘキサン及びシクロヘキサン）、ヘキサン（例えば、ｎ－ヘキサン、ネオヘキサン、イソヘキサン、及びシクロヘキサン）、オクタン（例えば、ｎ－オクタン及びシクロオクタン）、又はペンタン（例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ネオペンタン、及びイソペンタン）のうちの少なくとも１種を含む、先行する例示的実施形態Ｄのいずれか一項に記載の方法。
１Ｅ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ポリマーマイクロスフェアを含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法。
２Ｅ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｅに記載の方法。
３Ｅ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＥの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
４Ｅ． ポリマーマイクロスフェアが、気泡を膨張させることを含む、先行するＥの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１Ｆ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロールを準備することと、
ダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
圧縮ロールを準備することであって、圧縮ロールは、ツールロールと圧縮ロールとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接している、準備することと、
押出チャンバー内で、発泡剤、ガス、又はポリマーマイクロスフェアのうちの少なくとも１つを含むポリマーに、油を注入することと、
押出ダイとツールロールとの間のギャップにポリマーを押し出すことであって、ポリマーが発泡して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、押し出すことと、
を含む方法。
２Ｆ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｆに記載の方法。
３Ｆ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
４Ｆ． 押出ダイの近くに配置された主外周面を有する圧縮ロールを更に含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
５Ｆ． 圧縮ロールの主外周面が、空隙のアレイを含む、例示的実施形態４Ｆに記載の方法。
６Ｆ． 圧縮ロールの主外周面が、突出部の配列を含む、例示的実施形態４Ｆ又は５Ｆのいずれかに記載の方法。
７Ｆ． 油が、ラノリン、液体ポリアクリレート、液体ポリブテン、鉱油、又はフタレートのうちの少なくとも１種を含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
８Ｆ． 発泡剤が、酸（例えば、クエン酸）、重炭酸塩、アゾジカルボンアミド、修飾アゾジカルボンアミド、ヒドラジド、重炭酸ナトリウムとクエン酸のブレンド、ジニトロペンタメチレンテトラミン、ｐ－トルエンスルホニルヒドラジド、４－４′－オキシビスヒドラジド、アゾジカルボンアミド、ｐ－トルエンスルホニルセミカルバジド、５－フェニルテトラゾール、５－フェニルテトラゾール類似体、ジイソプロピルヒドラゾジカルボキシレート、５－フェニル－３，６－ジヒドロ－１，３，４－オキサジアジン－２－オン、又は水素化ホウ素ナトリウムのうちの少なくとも１種を含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
９Ｆ． ガスが、アルゴン、二酸化炭素、窒素、ブタン（例えば、ｎ－ブタン及びイソブタン）、ヘプタン（例えば、ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、及びシクロヘキサン及びシクロヘキサン）、ヘキサン（例えば、ｎ－ヘキサン、ネオヘキサン、イソヘキサン、及びシクロヘキサン）、オクタン（例えば、ｎ－オクタン及びシクロオクタン）、又はペンタン（例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ネオペンタン、及びイソペンタン）のうちの少なくとも１種を含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１０Ｆ． ポリマーマイクロスフェアが、気泡を膨張させることを含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１１Ｆ． 油が、８０℃超（いくつかの実施形態では、少なくとも９０℃、１００℃、１２５℃、１５０℃、１７５℃、又は更には少なくとも２００℃、いくつかの実施形態では、８０℃～２５０℃、１００℃～２５０℃、又は更には１００℃～２００℃）となる、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１Ｇ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
反応性ポリマーをツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、反応性ポリマーが発泡し少なくとも部分的に重合して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法。
２Ｇ． 反応性ポリマーが、形成後に反応してポリマーフォーム層の分子量を増加させる、例示的実施形態１Ｇに記載の方法。
３Ｇ． 反応性ポリマーが、反応してポリマーフォーム層を架橋する、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
４Ｇ． 反応性ポリマーが、水分と反応してポリマーフォーム層の重合又は架橋を引き起こす、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
５Ｇ． 反応性ポリマーが、イソシアネート官能基、アルコキシシラン官能基、又はケチミン官能基を含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
６Ｇ． 反応性ポリマーが、（メタ）アクリル官能基、アリル官能基、又はビニル官能基のうちの少なくとも１種を含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
７Ｇ． 反応性ポリマーを、ガンマ線、電子線放射、又は紫外線放射のうちの少なくとも１つに曝露して、ポリマーフォーム層の重合又は架橋のうちの少なくとも１つを引き起こすことを含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
８Ｇ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
９Ｇ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１０Ｇ． 押出ダイの近くに配置された主外周面を有する圧縮ロールを更に含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１１Ｇ． 圧縮ロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｇ～７Ｇのいずれか一項に記載の方法。
１２Ｇ． 圧縮ロールの主外周面が、突出部の配列を含む、例示的実施形態１０Ｇ又は１１Ｇのいずれかに記載の方法。
１Ｈ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
押出ダイに接続された押出機を準備することと、
反応性モノマーを押出機に導入することであって、反応性モノマーが、押出機及び押出ダイにおいて少なくとも部分的に重合してポリマーを形成する、導入することと、
押出ダイからツールロールの主外周面の一部分の上にポリマーを注入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、注入することと
を含む方法。
２Ｈ． 反応性ポリマーを反応性モノマーとともに押出機内に注入することを更に含み、モノマーは特定の分子量を有し、モノマーは、反応性ポリマーと少なくとも部分的に反応して、モノマーの分子量よりも高い分子量を有するポリマーを形成する、例示的実施形態１Ｈに記載の方法。
３Ｈ． 反応性モノマーがポリイソシアネートとポリオールとを含み、モノマーと反応性ポリイソシアネートとの反応から形成されるポリマーがポリウレタンである、例示的実施形態２Ｈに記載の方法。
４Ｈ． 反応性モノマーが、ヒドロキシル官能性鎖延長剤を更に含む、例示的実施形態３Ｈに記載の方法。
５Ｈ． イソシアネート当量ヒドロキシル当量の数の比が、１：１．０１～１：１．２（いくつかの実施形態では、１：１．０１～１：１．１～１：１．０５、１：１．０５～１：１．０、又は１：１．０～１：１．２）の範囲である、例示的実施形態３Ｈ又は４Ｈのいずれかに記載の方法。
６Ｈ． ポリオール又はポリイソシアネートのうちの少なくとも１種が、２．０超の平均官能価を有する、例示的実施形態３Ｈ～５Ｈのいずれか一項に記載の方法。
７Ｈ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、先行するＨの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
８Ｈ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＨの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
９Ｈ． 押出ダイの近くに配置された主外周面を有する圧縮ロールを更に含む、先行するＨの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１０Ｈ． 圧縮ロールの主外周面が、空隙のアレイを含む、例示的実施形態９Ｈに記載の方法。
１１Ｈ． 圧縮ロールの主外周面が、突出部の配列を含む、例示的実施形態９Ｈ又は１０Ｈのいずれかに記載の方法。
１２Ｈ． ポリマーが、発泡剤を含む、先行するＨの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１３Ｈ． 発泡剤が、ポリマーマイクロスフェアを含む、例示的実施形態１２Ｈに記載の方法。
１４Ｈ． ポリマーマイクロスフェアが、膨張可能な気泡である、例示的実施形態１３Ｈに記載の方法。
１５Ｈ． 発泡剤が、酸（例えば、クエン酸）、重炭酸塩、アゾジカルボンアミド、修飾アゾジカルボンアミド、ヒドラジド、重炭酸ナトリウム及びクエン酸ブレンド、ジニトロペンタメチレンテトラミン、Ｐ－トルエンスルホニルヒドラジド、４－４′－オキシビスヒドラジド、アゾジカルボンアミド、ｐ－トルエンスルホニルセミカルバジン、５－フェニルテトラゾール、５－フェニルテトラゾール類似体、ジイソプロピルヒドラジドジカルボキシレート、５－フェニル－３，６－ジヒドロ－１，３，４－オキサジアジン－２－オン、又は水素化ホウ素ナトリウムのうちの少なくとも１種を含む、先行する例示的実施形態１２Ｈ～１４Ｈのいずれか一項に記載の方法。
１６Ｈ． 発泡剤が、水とイソシアネートとを含む、例示的実施形態１２Ｈ～１５Ｈのいずれか一項に記載の方法。
１７Ｈ． 発泡剤が、アルゴン、二酸化炭素、窒素、ブタン（例えば、ｎ－ブタン及びイソブタン）、ヘプタン（例えば、ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、及びシクロヘプタン）、ヘキサン（例えば、ｎ－ヘキサン、ネオヘキサン、イソヘキサン、及びシクロヘキサン）、オクタン（例えば、ｎ－オクタン及びシクロオクタン）、又はペンタン（例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ネオペンタン、及びイソペンタン）のうちの少なくとも１種を含むガスを含む、例示的実施形態１２Ｈ～１５Ｈのいずれか一項に記載の方法。
１Ｉ． 少なくとも１つの拘束層と、
少なくとも１つの散逸層と、
先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載の少なくとも１つのポリマーフォーム層を含む、少なくとも１つの動的スペーサ層と
を含む多層減衰材料。
１Ｊ． 物品を提供する方法であって、
先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層を準備することと、
熱又は圧力のうちの少なくとも１つを適用して、ポリマーフォーム層の少なくとも１つの突出部を永久的に変形させることと
を含む方法。
１Ｋ． 先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層を含む研磨パッド。
２Ｋ． ポリマーフォーム層が、少なくとも１つのチャネルを更に含み、チャネルが、フォームフィーチャが第１の主表面から延びるか又は第１の主表面に入り込む距離を超える深さを有する、例示的実施形態１Ｋに記載の研磨パッド。
３Ｋ． サブパッドを更に備え、サブパッドがポリマーフォーム層の第２の主表面に隣接している、例示的実施形態１Ｋ又は２Ｋのいずれかに記載の研磨パッド。
４Ｋ． （いくつかの実施形態では、１００マイクロメートル～２０，０００マイクロメートルの範囲で）第１の主表面から延びる又は第１の主表面に入り込んでいるのうちの少なくとも１つであるフォームフィーチャを有する、先行するＫの例示的実施形態のいずれか一項に記載の研磨パッド。
５Ｋ． ポリマーフォーム層が、第１の主表面から延びるフォームフィーチャを含む、例示的実施形態４Ｋに記載の研磨パッド。
１Ｌ． 先行するＫの例示的実施形態のいずれか一項に記載の研磨パッドと、研磨溶液とを含む、研磨システム。
２Ｌ． 研磨溶液がスラリーである、例示的実施形態１Ｌに記載の研磨システム。
１Ｍ． 基材を研磨する方法であって、
作用面を有する、先行するＫの例示的実施形態のいずれか一項に記載の研磨パッドを準備することと、
第１の表面を有する基材を準備することと、
研磨パッドの作用面を第１の基材表面に接触させることと、
研磨パッドの作用面と第１の基材表面との間の接触を維持しながら、研磨パッドと基材とを互いに対して移動させることと、
を含み、
研磨は研磨溶液の存在下で実行される、
方法。
２Ｍ． 例示的実施形態１Ｍに記載の基材を研磨する方法であって、基材が半導体ウエハである、方法。
例示的な実施形態
１Ａ． 最大２５，７００（いくつかの実施形態では、１００～１０００、１０００～６０００、６０００～１２，７００、又は更には１２，７００～２５，４００）マイクロメートルの厚さを有し、互いに反対側にある第１及び第２の主表面を有し、第１の主表面から少なくとも１００（いくつかの実施形態では、１００～１０００、１０００～６０００、６０００～１２，７００、又は更には１２，７００～２５，４００）マイクロメートル延びるか又は第１の主表面に入り込むフォームフィーチャを備え、－１２５℃～１５０℃の範囲（いくつかの実施形態では、－１２５℃～－１０℃、－１０℃～８０℃、５０℃～１５０℃、又は更には５０℃～８０℃の範囲）のガラス転移温度Ｔｇを有し、互いに反対側にある第１及び第２の主表面は、露出した内部多孔質セルを含まず（すなわち、第１及び第２の主表面のそれぞれの表面積の１０パーセント未満が、任意の露出した多孔質セルを有し）、各主表面の面積の少なくとも４０（いくつかの実施形態では、少なくとも５５、６０、６５、７０、７５、８０、８５、９０、９５、９６、９７、９８、９９、又は更には１００）パーセントが、硬化したままの表面を有する、ポリマーフォーム層。
２Ａ． 熱可塑性材料を含む、例示的実施形態１Ａに記載のポリマーフォーム層。
３Ａ． 熱可塑性材料が、ポリカーボネート、ポリアクリル、ポリメタクリル、エラストマー、スチレンブロックコポリマー、スチレン－イソプレン－スチレン（ＳＩＳ）、スチレン－エチレン／ブチレン－スチレンブロックコポリマー（ＳＥＢＳ）、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリクロロプレン、スチレンとジエン系スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）とのランダムコポリマー、スチレンとジエン系スチレンブタジエンゴム（ＳＢＲ）とのブロックコポリマー、エチレン－プロピレン－ジエンモノマーゴム、天然ゴム、エチレンプロピレンゴム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリスチレン－ポリエチレンコポリマー、ポリビニルシクロヘキサン、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、熱可塑性ポリウレタン、芳香族エポキシ、非晶質ポリエステル、非晶質ポリアミド、半結晶性ポリアミド、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン（ＡＢＳ）コポリマー、ポリフェニレンオキシド合金、高耐衝撃性ポリスチレン、ポリスチレンコポリマー、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、フッ素化エラストマー、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテルイミド、非晶質フルオロポリマー、非晶質ポリオレフィン、ポリフェニレンオキシド、ポリフェニレンオキシド－ポリスチレン合金、又はこれらの混合物を含む、例示的実施形態２Ａに記載のポリマーフォーム層。
４Ａ． 少なくとも１種の非晶質成分を含む少なくとも１種のコポリマーを含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
５Ａ． ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリイソブチレン、ポリオレフィンコポリマー、ポリアミド（例えば、ポリアミド６及びポリアミド６６）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン－テレフタレートコポリマー、フルオロポリマー、ポリビニルアセテート、ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキシド、官能化ポリオレフィン、エチレンビニルアセテートコポリマー、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリホルムアルデヒド、ポリビニルブチラール、これらのコポリマー、又はこれらの混合物を含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
６Ａ． 熱可塑性材料が、非晶質又は半結晶性ポリマー又はコポリマーである、例示的実施形態２Ａ～５Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
７Ａ． １～９５（いくつかの実施形態では、１～９０、１～８５、１～８０、１～７５、１～７０、５～９０、５～８５、５～８０、５～７５、５～７０、１０～９０、１０～８５、１０～８０、１０～７５、１０～７０、２０～９０、２０～８５、２０～８０、２０～７５、２０～７０、２５～９０、２５～８５、２５～８０、２５～７５、又は更には２５～７０）の範囲のゲル含有量を有するポリマーを含む、例示的実施形態１Ａに記載のポリマーフォーム層。
８Ａ． 少なくとも３５（いくつかの実施形態では少なくとも４０、５０、６０、７０、７５、８０、９０、又は更には１００、いくつかの実施形態では３５～１００、４０～８０、又は８０～１００の範囲）のショアＤ値を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
９Ａ． 少なくとも１（いくつかの実施形態では、少なくとも５、１０、１００、１０００、又は更には６０００、いくつかの実施形態では、１～５０、５０～５００、又は更には５００～６０００）ＭＰａの圧縮応力対圧縮ひずみ値を有する、例示的実施形態６Ａに記載のポリマーフォーム層。
１０Ａ． 少なくとも０．０１（いくつかの実施形態では、少なくとも０．１、０．０５、１、５、又は更には１０、いくつかの実施形態では、０．０１～０．１、０．１～１、又は更には少なくとも１～１００）ＭＰａの降伏応力を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１１Ａ． ２０未満（いくつかの実施形態では、２０、１５、１０未満、又は更には５未満、いくつかの実施形態では、１～５、１～２０、又は更には１～５０の範囲）のデュロメータ値を有する、例示的実施形態１Ａ～８Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１２Ａ． １ＭＰａ未満（いくつかの実施形態では、少なくとも５、１０、１００、１０００ＭＰａ未満、又は更には６０００ＭＰａ未満、いくつかの実施形態では、１～５０、５０～５００、又は更には５００～６０００ＭＰａ）の圧縮応力対圧縮ひずみ値を有する、例示的実施形態１Ａ～７Ａ又は１０Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１３Ａ． １００ＭＰａ未満（いくつかの実施形態では、１０、５、１ＭＰａ未満、又は更には０．１ＭＰａ未満、いくつかの実施形態では、０．０１～１、１～１０、又は更には１０～１００ＭＰａ）の降伏応力を有する、例示的実施形態１Ａ、１１Ａ又は１２Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１４Ａ． 破断させることなく、直径の１ｍ（いくつかの実施形態では、７５ｃｍ、５０ｃｍ、２５ｃｍ、１０ｃｍ、５ｃｍ、１ｃｍ、５ｍｍ、又は更には１ｍｍ）のロッドに巻き付けることができる、例示的実施形態１Ａ～８Ａ又は１１Ａ～１３Ａのいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１５Ａ． フィーチャが、以下の形状：円錐、立方体、ピラミッド、連続レール、連続多方向レール、半球、円筒、又は多床円筒のうちの少なくとも１つを含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１６Ａ． フィーチャが、以下の形状：円形、正方形、矩形、三角形、五角形、他の多角形、正弦波、ヘリンボン、又は多床のうちの少なくとも１つの断面を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１７Ａ． １０～３０００（いくつかの実施形態では、１０～２００、１０～１０００、１０～５０００、又は更には１０～１０００）マイクロメートルの平均セルサイズ（すなわち、孔径）を有する多孔度を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１８Ａ． ポリマーフォーム層の総体積を基準として、少なくとも５（いくつかの実施形態では、少なくとも１０、２０、２５、３０、４０、５０、６０、又は更には少なくとも７０、いくつかの実施形態では、１０～７０、１０～６０、又は更には１０～５０）パーセントの全多孔度を有する、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１９Ａ． フォームフィーチャ上にポリマー層を更に含み、ポリマー層が、ポリマーフォーム層を含むポリマーとは異なるポリマーを含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
２０Ａ． スターポリマーを含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
２１Ａ． スターポリマーが、スチレンイソプレンスチレン（ＳＩＳ）、スチレンエチレンプロピレンスチレン（ＳＥＰＳ）、スチレンエチレンブタジエンスチレン（ＳＥＢＳ）、又はスチレンブタジエンスチレン（ＳＢＳ）のうちの少なくとも１種を含む、例示的実施形態２０Ａに記載のポリマーフォーム層。
２２Ａ． 補強材料（例えば、織布、不織布、繊維、メッシュ、又はフィルム）を含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
２３Ａ． ガラスビーズ、ガラスバブル、ガラス繊維、砥粒、カーボンブラック、炭素繊維、ダイヤモンド粒子、複合粒子、ナノ粒子、鉱物油、粘着付与剤、ワックス、ゴム粒子、又は難燃剤のうちの少なくとも１種を含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
２４Ａ． 熱伝導性材料（例えば、ＢＮ）を含む、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層。
１Ｂ． 先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層を含む動的スペーサを備えた、振動減衰積層体。
１Ｃ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
発泡剤を含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分が、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらすように押出ダイリップに近接している、導入することと、
を含む方法。
２Ｃ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｃに記載の方法。
３Ｃ． 圧縮ロールの主外周面が、空隙の配列を含む、先行するＣの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
４Ｃ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＣの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
５Ｃ． 発泡剤が、酸（例えば、クエン酸）、重炭酸塩、アゾジカルボンアミド、修飾アゾジカルボンアミド、ヒドラジド、重炭酸ナトリウム及びクエン酸ブレンド、ジニトロペンタメチレンテトラミン、Ｐ－トルエンスルホニルヒドラジド、４－４′－オキシビスヒドラジド、アゾジカルボンアミド、ｐ－トルエンスルホニルセミカルバジン、５－フェニルテトラゾール、５－フェニルテトラゾール類似体、ジイソプロピルヒドラジドジカルボキシレート、５－フェニル－３，６－ジヒドロ－１，３，４－オキサジアジン－２－オン、又は水素化ホウ素ナトリウムのうちの少なくとも１種を含む、先行するＣの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１Ｄ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ツールロールの主外周面の一部分の上にガスを含むポリマーを導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーとツールロールの主外周面の一部分との接触前又は接触中のうちの少なくともいずれかに、ガスがポリマーに注入され、ポリマーが発泡して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法。
２Ｄ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｄに記載の方法。
３Ｄ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＤの例示的実施形態いずれか一項に記載の方法。
４Ｄ． ガスが、アルゴン、二酸化炭素、窒素、ブタン（例えば、ｎ－ブタン及びイソブタン）、ヘプタン（例えば、ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、及びシクロヘキサン及びシクロヘキサン）、ヘキサン（例えば、ｎ－ヘキサン、ネオヘキサン、イソヘキサン、及びシクロヘキサン）、オクタン（例えば、ｎ－オクタン及びシクロオクタン）、又はペンタン（例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ネオペンタン、及びイソペンタン）のうちの少なくとも１種を含む、先行する例示的実施形態Ｄのいずれか一項に記載の方法。
１Ｅ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
ポリマーマイクロスフェアを含むポリマーを、ツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法。
２Ｅ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｅに記載の方法。
３Ｅ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＥの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
４Ｅ． ポリマーマイクロスフェアが、気泡を膨張させることを含む、先行するＥの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１Ｆ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロールを準備することと、
ダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
圧縮ロールを準備することであって、圧縮ロールは、ツールロールと圧縮ロールとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接している、準備することと、
押出チャンバー内で、発泡剤、ガス、又はポリマーマイクロスフェアのうちの少なくとも１つを含むポリマーに、油を注入することと、
押出ダイとツールロールとの間のギャップにポリマーを押し出すことであって、ポリマーが発泡して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、押し出すことと、
を含む方法。
２Ｆ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｆに記載の方法。
３Ｆ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
４Ｆ． 押出ダイの近くに配置された主外周面を有する圧縮ロールを更に含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
５Ｆ． 圧縮ロールの主外周面が、空隙のアレイを含む、例示的実施形態４Ｆに記載の方法。
６Ｆ． 圧縮ロールの主外周面が、突出部の配列を含む、例示的実施形態４Ｆ又は５Ｆのいずれかに記載の方法。
７Ｆ． 油が、ラノリン、液体ポリアクリレート、液体ポリブテン、鉱油、又はフタレートのうちの少なくとも１種を含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
８Ｆ． 発泡剤が、酸（例えば、クエン酸）、重炭酸塩、アゾジカルボンアミド、修飾アゾジカルボンアミド、ヒドラジド、重炭酸ナトリウムとクエン酸のブレンド、ジニトロペンタメチレンテトラミン、ｐ－トルエンスルホニルヒドラジド、４－４′－オキシビスヒドラジド、アゾジカルボンアミド、ｐ－トルエンスルホニルセミカルバジド、５－フェニルテトラゾール、５－フェニルテトラゾール類似体、ジイソプロピルヒドラゾジカルボキシレート、５－フェニル－３，６－ジヒドロ－１，３，４－オキサジアジン－２－オン、又は水素化ホウ素ナトリウムのうちの少なくとも１種を含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
９Ｆ． ガスが、アルゴン、二酸化炭素、窒素、ブタン（例えば、ｎ－ブタン及びイソブタン）、ヘプタン（例えば、ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、及びシクロヘキサン及びシクロヘキサン）、ヘキサン（例えば、ｎ－ヘキサン、ネオヘキサン、イソヘキサン、及びシクロヘキサン）、オクタン（例えば、ｎ－オクタン及びシクロオクタン）、又はペンタン（例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ネオペンタン、及びイソペンタン）のうちの少なくとも１種を含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１０Ｆ． ポリマーマイクロスフェアが、気泡を膨張させることを含む、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１１Ｆ． 油が、８０℃超（いくつかの実施形態では、少なくとも９０℃、１００℃、１２５℃、１５０℃、１７５℃、又は更には少なくとも２００℃、いくつかの実施形態では、８０℃～２５０℃、１００℃～２５０℃、又は更には１００℃～２００℃）となる、先行するＦの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１Ｇ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
反応性ポリマーをツールロールの主外周面の一部分の上に導入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、反応性ポリマーが発泡し少なくとも部分的に重合して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、導入することと、
を含む方法。
２Ｇ． 反応性ポリマーが、形成後に反応してポリマーフォーム層の分子量を増加させる、例示的実施形態１Ｇに記載の方法。
３Ｇ． 反応性ポリマーが、反応してポリマーフォーム層を架橋する、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
４Ｇ． 反応性ポリマーが、水分と反応してポリマーフォーム層の重合又は架橋を引き起こす、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
５Ｇ． 反応性ポリマーが、イソシアネート官能基、アルコキシシラン官能基、又はケチミン官能基を含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
６Ｇ． 反応性ポリマーが、（メタ）アクリル官能基、アリル官能基、又はビニル官能基のうちの少なくとも１種を含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
７Ｇ． 反応性ポリマーを、ガンマ線、電子線放射、又は紫外線放射のうちの少なくとも１つに曝露して、ポリマーフォーム層の重合又は架橋のうちの少なくとも１つを引き起こすことを含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
８Ｇ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
９Ｇ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１０Ｇ． 押出ダイの近くに配置された主外周面を有する圧縮ロールを更に含む、先行するＧの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１１Ｇ． 圧縮ロールの主外周面が、空隙の配列を含む、例示的実施形態１Ｇ～７Ｇのいずれか一項に記載の方法。
１２Ｇ． 圧縮ロールの主外周面が、突出部の配列を含む、例示的実施形態１０Ｇ又は１１Ｇのいずれかに記載の方法。
１Ｈ． ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、押出ダイは、ツールロールと押出ダイとの間にギャップを形成するようにツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
押出ダイに接続された押出機を準備することと、
反応性モノマーを押出機に導入することであって、反応性モノマーが、押出機及び押出ダイにおいて少なくとも部分的に重合してポリマーを形成する、導入することと、
押出ダイからツールロールの主外周面の一部分の上にポリマーを注入することであって、主外周面の一部分がダイリップに近接しており、ポリマーが発泡して、先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層をもたらす、注入することと
を含む方法。
２Ｈ． 反応性ポリマーを反応性モノマーとともに押出機内に注入することを更に含み、モノマーは特定の分子量を有し、モノマーは、反応性ポリマーと少なくとも部分的に反応して、モノマーの分子量よりも高い分子量を有するポリマーを形成する、例示的実施形態１Ｈに記載の方法。
３Ｈ． 反応性モノマーがポリイソシアネートとポリオールとを含み、モノマーと反応性ポリイソシアネートとの反応から形成されるポリマーがポリウレタンである、例示的実施形態２Ｈに記載の方法。
４Ｈ． 反応性モノマーが、ヒドロキシル官能性鎖延長剤を更に含む、例示的実施形態３Ｈに記載の方法。
５Ｈ． イソシアネート当量ヒドロキシル当量の数の比が、１：１．０１～１：１．２（いくつかの実施形態では、１：１．０１～１：１．１～１：１．０５、１：１．０５～１：１．０、又は１：１．０～１：１．２）の範囲である、例示的実施形態３Ｈ又は４Ｈのいずれかに記載の方法。
６Ｈ． ポリオール又はポリイソシアネートのうちの少なくとも１種が、２．０超の平均官能価を有する、例示的実施形態３Ｈ～５Ｈのいずれか一項に記載の方法。
７Ｈ． ツールロールの主外周面が、空隙の配列を含む、先行するＨの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
８Ｈ． ツールロールの主外周面が、突出部の配列を含む、先行するＨの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
９Ｈ． 押出ダイの近くに配置された主外周面を有する圧縮ロールを更に含む、先行するＨの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１０Ｈ． 圧縮ロールの主外周面が、空隙のアレイを含む、例示的実施形態９Ｈに記載の方法。
１１Ｈ． 圧縮ロールの主外周面が、突出部の配列を含む、例示的実施形態９Ｈ又は１０Ｈのいずれかに記載の方法。
１２Ｈ． ポリマーが、発泡剤を含む、先行するＨの例示的実施形態のいずれか一項に記載の方法。
１３Ｈ． 発泡剤が、ポリマーマイクロスフェアを含む、例示的実施形態１２Ｈに記載の方法。
１４Ｈ． ポリマーマイクロスフェアが、膨張可能な気泡である、例示的実施形態１３Ｈに記載の方法。
１５Ｈ． 発泡剤が、酸（例えば、クエン酸）、重炭酸塩、アゾジカルボンアミド、修飾アゾジカルボンアミド、ヒドラジド、重炭酸ナトリウム及びクエン酸ブレンド、ジニトロペンタメチレンテトラミン、Ｐ－トルエンスルホニルヒドラジド、４－４′－オキシビスヒドラジド、アゾジカルボンアミド、ｐ－トルエンスルホニルセミカルバジン、５－フェニルテトラゾール、５－フェニルテトラゾール類似体、ジイソプロピルヒドラジドジカルボキシレート、５－フェニル－３，６－ジヒドロ－１，３，４－オキサジアジン－２－オン、又は水素化ホウ素ナトリウムのうちの少なくとも１種を含む、先行する例示的実施形態１２Ｈ～１４Ｈのいずれか一項に記載の方法。
１６Ｈ． 発泡剤が、水とイソシアネートとを含む、例示的実施形態１２Ｈ～１５Ｈのいずれか一項に記載の方法。
１７Ｈ． 発泡剤が、アルゴン、二酸化炭素、窒素、ブタン（例えば、ｎ－ブタン及びイソブタン）、ヘプタン（例えば、ｎ－ヘプタン、イソヘプタン、及びシクロヘプタン）、ヘキサン（例えば、ｎ－ヘキサン、ネオヘキサン、イソヘキサン、及びシクロヘキサン）、オクタン（例えば、ｎ－オクタン及びシクロオクタン）、又はペンタン（例えば、ｎ－ペンタン、シクロペンタン、ネオペンタン、及びイソペンタン）のうちの少なくとも１種を含むガスを含む、例示的実施形態１２Ｈ～１５Ｈのいずれか一項に記載の方法。
１Ｉ． 少なくとも１つの拘束層と、
少なくとも１つの散逸層と、
先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載の少なくとも１つのポリマーフォーム層を含む、少なくとも１つの動的スペーサ層と
を含む多層減衰材料。
１Ｊ． 物品を提供する方法であって、
先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層を準備することと、
熱又は圧力のうちの少なくとも１つを適用して、ポリマーフォーム層の少なくとも１つの突出部を永久的に変形させることと
を含む方法。
１Ｋ． 先行するＡの例示的実施形態のいずれか一項に記載のポリマーフォーム層を含む研磨パッド。
２Ｋ． ポリマーフォーム層が、少なくとも１つのチャネルを更に含み、チャネルが、フォームフィーチャが第１の主表面から延びるか又は第１の主表面に入り込む距離を超える深さを有する、例示的実施形態１Ｋに記載の研磨パッド。
３Ｋ． サブパッドを更に備え、サブパッドがポリマーフォーム層の第２の主表面に隣接している、例示的実施形態１Ｋ又は２Ｋのいずれかに記載の研磨パッド。
４Ｋ． （いくつかの実施形態では、１００マイクロメートル～２０，０００マイクロメートルの範囲で）第１の主表面から延びる又は第１の主表面に入り込んでいるのうちの少なくとも１つであるフォームフィーチャを有する、先行するＫの例示的実施形態のいずれか一項に記載の研磨パッド。
５Ｋ． ポリマーフォーム層が、第１の主表面から延びるフォームフィーチャを含む、例示的実施形態４Ｋに記載の研磨パッド。
１Ｌ． 先行するＫの例示的実施形態のいずれか一項に記載の研磨パッドと、研磨溶液とを含む、研磨システム。
２Ｌ． 研磨溶液がスラリーである、例示的実施形態１Ｌに記載の研磨システム。
１Ｍ． 基材を研磨する方法であって、
作用面を有する、先行するＫの例示的実施形態のいずれか一項に記載の研磨パッドを準備することと、
第１の表面を有する基材を準備することと、
研磨パッドの作用面を第１の基材表面に接触させることと、
研磨パッドの作用面と第１の基材表面との間の接触を維持しながら、研磨パッドと基材とを互いに対して移動させることと、
を含み、
研磨は研磨溶液の存在下で実行される、
方法。
２Ｍ． 例示的実施形態１Ｍに記載の基材を研磨する方法であって、基材が半導体ウエハである、方法。
本発明の利点及び実施形態を以降の実施例によって更に説明するが、これらの実施例において述べられる特定の材料及びそれらの量、並びに他の条件及び詳細は、本発明を不当に制限するものと解釈されるべきではない。全ての部分及び百分率は、特に指示のない限り、質量に基づく。
実施例１
図１に全体的に示した装置を使用して、実施例１を作製した。押出ダイ（Ｃｌｏｅｒｅｎ，Ｏｒａｎｇｅ，ＴＸから商品名「ＭＡＳＴＥＲＦＬＥＸ」（モデルＬＤ－４０）で入手）は、２０．３ｃｍ（８インチ）幅であり、ダイは上死点でツールロールの上部に配置されるように構成した。ダイの底部がツーリングロール（tooling roll）の後縁部上にあるように、ダイを配向させた。底部ダイリップは、３．１８ｍｍ（０．１２５インチ）のランドを有していた。押出機は、３．２ｃｍ（１．２５インチ）の一軸スクリュー押出機（Ｄａｖｉｓ－Ｓｔａｎｄａｒｄ，Ｐａｗｃａｔｕｃｋ，ＣＴから商品名「ＫＩＬＬＩＯＮ」で入手）であった。使用したダイ温度設定点を以下の表１に示す。
図１に全体的に示した装置を使用して、実施例１を作製した。押出ダイ（Ｃｌｏｅｒｅｎ，Ｏｒａｎｇｅ，ＴＸから商品名「ＭＡＳＴＥＲＦＬＥＸ」（モデルＬＤ－４０）で入手）は、２０．３ｃｍ（８インチ）幅であり、ダイは上死点でツールロールの上部に配置されるように構成した。ダイの底部がツーリングロール（tooling roll）の後縁部上にあるように、ダイを配向させた。底部ダイリップは、３．１８ｍｍ（０．１２５インチ）のランドを有していた。押出機は、３．２ｃｍ（１．２５インチ）の一軸スクリュー押出機（Ｄａｖｉｓ－Ｓｔａｎｄａｒｄ，Ｐａｗｃａｔｕｃｋ，ＣＴから商品名「ＫＩＬＬＩＯＮ」で入手）であった。使用したダイ温度設定点を以下の表１に示す。
単一ツーリングロールステーションを、ロールの上死点に取り付けられたダイと共に使用した。ダイを直線スライド上に取り付け、上下方向に動かした。ロールは、名目上、４０．６ｃｍ（１６インチ）の面幅を有する直径３０．５ｃｍ（１２インチ）であった。ツーリングロールは、らせん状に巻かれた内部チャネルによる内部水冷却を有していた。外径３２．４ｃｍ（１２．７５インチ）のアルミニウム製ツーリングシェルを外側表面ロール上に取り付けた。
リニアアクチュエータによってダイの直線運動を制御して、ダイを移動させ、ダイリップとツーリングロールとの間のギャップを制御した。ツーリングロールは、アルミニウムシェルを通して穿孔した貫通孔を有していた。穴は、表面において直径１．５５ｍｍ（０．０６１インチ）であり、穴の壁に沿って６度の角度でテーパ状になっていた。穴は、両方向で中心が３．８ｍｍ（０．１５インチ）離れるように配置された。ツーリングロールを１５．６℃（６０°Ｆ）の冷却温度設定点に設定した。ダイリップとツールロール表面との間のギャップを１２７マイクロメートル（０．００５インチ）に設定した。ライン速度は、毎分１．５メートル（５フィート）であった。
押出機に供給する前に、ポリマーを手動で予混合した。ポリマーは、９７質量パーセントのポリプロピレン（ＤｏｗＣｈｅｍｉｃａｌ，Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩから商品名”Ｃ７００－３５Ｎ”で入手）と、３質量パーセントの発泡剤「ＥＣＯＣＥＬＬ Ｈ」（Ｐｏｌｙｆｉｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ，Ｒｏｃｋａｗａｙ，ＮＪから入手）との樹脂ブレンドであった。
３０％の密度低下を伴う、７ｍｍの高さの発泡茎部及びフォームバッキングを用いて、ポリマーフォーム層を生成した。複製はツールを完全には充填しなかったため、ステム頂部は丸みを帯びていた。
実施例２
ポリマーが９７質量パーセント（ＤｏｗＣｈｅｍｉｃａｌから商品名「ＺＹＴＥＬ １０１」で入手）と３質量パーセントの発泡剤（「ＥＣＯＣＥＬＬ Ｈ」）との樹脂ブレンドであったことを除いて、実施例１に記載のとおりに、実施例２を調製し、ダイリップとツールロール表面との間のギャップを２４１マイクロメートル（０．００９５インチ）に設定し、ライン速度は毎分２．３メートル（７．５フィート）であり、ダイ温度設定点は以下の表２に示すとおりであった。
ポリマーが９７質量パーセント（ＤｏｗＣｈｅｍｉｃａｌから商品名「ＺＹＴＥＬ １０１」で入手）と３質量パーセントの発泡剤（「ＥＣＯＣＥＬＬ Ｈ」）との樹脂ブレンドであったことを除いて、実施例１に記載のとおりに、実施例２を調製し、ダイリップとツールロール表面との間のギャップを２４１マイクロメートル（０．００９５インチ）に設定し、ライン速度は毎分２．３メートル（７．５フィート）であり、ダイ温度設定点は以下の表２に示すとおりであった。
３０％の密度低下を伴う、３ｍｍ（０．１１８インチ）の高さの発泡茎部及び１３０マイクロメートル（０．００５インチ）のフォームバッキングを用いて、ポリマーフォーム層を生成した。
実施例３
実施例２のポリマーフォーム層を、２つの回転金属ロールによってもたらされたニップに通した。ポリマーフォーム層の突出部は、直径１５インチ（３８１ｍｍ）で１８０度のラップ、４２０°Ｆ（２１６℃）に設定された電気加熱ロールを有していた。直径１１．４インチ（２９０ｍｍ）の第２のロールを７０°Ｆ（２１℃）に設定した。ライン速度を１メートル／分に設定した。ニップギャップは０．８９ｍｉｌ（２．３ｍｍ）であった。丸い突出部を、３．６ｍｍの高さから、高さ２．６ｍｍの扁平頂部突出部まで低減した。更に、ニップを通過した後、突出部の頂部は、ニップを通過する前の突出部の直径よりも大きい直径を有していた。
実施例２のポリマーフォーム層を、２つの回転金属ロールによってもたらされたニップに通した。ポリマーフォーム層の突出部は、直径１５インチ（３８１ｍｍ）で１８０度のラップ、４２０°Ｆ（２１６℃）に設定された電気加熱ロールを有していた。直径１１．４インチ（２９０ｍｍ）の第２のロールを７０°Ｆ（２１℃）に設定した。ライン速度を１メートル／分に設定した。ニップギャップは０．８９ｍｉｌ（２．３ｍｍ）であった。丸い突出部を、３．６ｍｍの高さから、高さ２．６ｍｍの扁平頂部突出部まで低減した。更に、ニップを通過した後、突出部の頂部は、ニップを通過する前の突出部の直径よりも大きい直径を有していた。
本発明の範囲及び趣旨から逸脱しない、本開示の予測可能な修正及び変更は、当業者にとって自明であろう。本発明は、例示目的のために本出願に記載されている実施形態に限定されるものではない。
Claims (3)
- 最大２５，７００マイクロメートルの厚さを有し、互いに反対側にある第１及び第２の主表面を有し、前記第１の主表面から少なくとも１００マイクロメートル延びるか又は前記第１の主表面に少なくとも１００マイクロメートル入り込むフォームフィーチャを備え、－１２５℃～１５０℃の範囲のガラス転移温度Ｔｇを有し、互いに反対側にある前記第１及び第２の主表面は露出した内部多孔質セルを含まず、各主表面の面積の少なくとも４０パーセントが、硬化したままの表面を有する、研磨用のポリマーフォーム層。
- 少なくとも１つの拘束層と、
少なくとも１つの散逸層と、
少なくとも１つのポリマーフォーム層を含む、少なくとも１つの動的スペーサ層と、
を含む多層減衰材料であって、
前記ポリマーフォーム層が、
最大２５，７００マイクロメートルの厚さを有し、互いに反対側にある第１及び第２の主表面を有し、前記第１の主表面から少なくとも１００マイクロメートル延びるか又は前記第１の主表面に少なくとも１００マイクロメートル入り込むフォームフィーチャを備え、－１２５℃～１５０℃の範囲のガラス転移温度Ｔ ｇ を有し、互いに反対側にある前記第１及び第２の主表面は露出した内部多孔質セルを含まず、各主表面の面積の少なくとも４０パーセントが、硬化したままの表面を有する、多層減衰材料。 - ポリマーフォーム層の製造方法であって、
主外周面を有する回転ツールロール、及びダイリップを有する押出ダイを準備することであって、前記押出ダイは、前記ツールロールと前記押出ダイとの間にギャップを形成するように前記ツールロールに近接して間隔を開けて配置されている、準備することと、
発泡剤を含むポリマーを、前記ツールロールの前記主外周面の一部分の上に導入することであって、前記主外周面の一部分が、ポリマーフォーム層をもたらすように前記ダイリップに近接している、導入することと、
を含み、
前記ポリマーフォーム層が、
最大２５，７００マイクロメートルの厚さを有し、互いに反対側にある第１及び第２の主表面を有し、前記第１の主表面から少なくとも１００マイクロメートル延びるか又は前記第１の主表面に少なくとも１００マイクロメートル入り込むフォームフィーチャを備え、－１２５℃～１５０℃の範囲のガラス転移温度Ｔ ｇ を有し、互いに反対側にある前記第１及び第２の主表面は露出した内部多孔質セルを含まず、各主表面の面積の少なくとも４０パーセントが、硬化したままの表面を有する、方法。
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