JP7269753B2 - 基板保持装置 - Google Patents
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- 基板が載置される載置面をそれぞれ有し、隣り合う複数の載置部材と、
前記複数の載置部材のうち少なくとも2つの載置部材を昇降させる昇降部と、
前記複数の載置部材のそれぞれに形成され、前記載置面側にて一端が開口する排気経路と、
前記排気経路の他端に接続され、前記排気経路内を排気する排気部と、
前記昇降部及び前記排気部を制御する制御部とを備え、
前記少なくとも2つの載置部材は第1の載置部材と、前記第1の載置部材の載置面と隣り合う載置面を有する第2の載置部材とを含み、
前記制御部は、少なくとも前記第1の載置部材に形成された前記排気経路内を排気して前記第1の載置部材の載置面に前記基板が接触する状態が維持されるように前記排気部を制御しながら、前記第2の載置部材の載置面に前記基板を接触するように前記第1の載置部材又は前記第2の載置部材の何れか少なくとも一方を昇降させるように前記昇降部を制御した後、少なくとも前記第1及び第2の載置部材に形成された前記排気経路内を排気して前記第1及び第2の載置部材の載置面に前記基板が接触する状態が維持されるように前記排気部を制御しながら、前記第2の載置部材の載置面が前記第1の載置部材の載置面と高さが揃うように前記第2の載置部材又は前記第1の載置部材の何れか少なくとも一方を昇降させるように前記昇降部を制御し、
前記少なくとも2つの載置部材はさらに前記第2の載置部材の載置面と隣り合う載置面を有する第3の載置部材を含み、
前記制御部は、少なくとも前記第1及び第2の載置部材に形成された前記排気経路内を排気して、前記第1及び第2の載置部材の載置面に前記基板が接触する状態が維持されるように前記排気部を制御しながら、前記第1及び第2の載置部材又は前記第3の載置部材の何れか少なくとも一方を昇降させて前記第3の載置部材の載置面に前記基板を接触させた後、少なくとも前記第1、第2及び第3の載置部材に形成された前記排気経路内を排気して前記第1、第2及び第3の載置部材の載置面に前記基板が接触する状態が維持されるように前記排気部を制御しながら、前記第3の載置部材の載置面が前記第1及び第2の載置部材の載置面と高さが揃うように前記第3の載置部材又は前記第1及び第2の載置部材の何れか少なくとも一方を昇降させるように前記昇降部を制御することを特徴とする基板保持装置。 - 前記第3の載置部材の載置面が前記第1及び第2の載置部材の載置面と高さが揃ったときに、前記第3の載置部材の載置面は、その一部の外周側において前記第1及び第2の載置部材の載置面のどちらとも隣り合っていないことを特徴とする請求項1に記載の基板保持装置。
- 隣り合う2つの前記載置部材の載置面の高さが揃ったときに、当該隣り合う2つの前記載置部材の載置面の間には隙間が存在することを特徴とする請求項1又は2に記載の基板保持装置。
- 前記排気部は、前記複数の載置部材のそれぞれに形成された前記排気経路の全てに接続されていることを特徴とする請求項1から3の何れか1項に記載の基板保持装置。
- 基板が載置される載置面をそれぞれ有し、隣り合う複数の載置部材と、
前記複数の載置部材のうち少なくとも2つの載置部材を昇降させる昇降部と、
前記複数の載置部材のそれぞれに形成され、前記載置面側にて一端が開口する排気経路とを備え、
前記複数の載置部材は、前記載置面と前記載置面の反対側の裏面と前記載置面及び前記裏面を接続する側面を有する板状であり、
少なくとも1つの前記載置部材の側面は、隣り合う他の前記載置部材と前記載置面側の端部において近接する近接部と、当該隣り合う他の載置部材との間に前記近接部における隙間よりも広い隙間を形成して離間する離間部とを有することを特徴とする基板保持装置。 - 前記排気経路の他端に接続され、前記排気経路内を排気する排気部を備え、
前記排気部は、前記複数の載置部材のそれぞれに形成された前記排気経路の全てに接続されていることを特徴とする請求項5に記載の基板保持装置。 - 隣り合う2つの前記載置部材の載置面は、同心円状に分割された2つの円環状又は同心円状に分割された円状と円環状であることを特徴とする請求項1から6の何れか1項に記載の基板保持装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019027627A JP7269753B2 (ja) | 2019-02-19 | 2019-02-19 | 基板保持装置 |
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JP2019027627A JP7269753B2 (ja) | 2019-02-19 | 2019-02-19 | 基板保持装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020136477A JP2020136477A (ja) | 2020-08-31 |
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ID=72263562
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2019027627A Active JP7269753B2 (ja) | 2019-02-19 | 2019-02-19 | 基板保持装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7269753B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102588171B1 (ko) * | 2020-09-04 | 2023-10-12 | 가부시키가이샤 스크린 홀딩스 | 회전 유지 장치 및 그것을 구비하는 기판 처리 장치 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005116842A (ja) | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Shinko Electric Ind Co Ltd | ウェーハ吸着ステージ及びウェーハの吸着方法 |
JP2014011378A (ja) | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05304071A (ja) * | 1992-04-27 | 1993-11-16 | Nec Kyushu Ltd | 露光装置のステージ |
KR20070020580A (ko) * | 2005-08-16 | 2007-02-22 | 삼성전자주식회사 | 기판 지지장치 |
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- 2019-02-19 JP JP2019027627A patent/JP7269753B2/ja active Active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005116842A (ja) | 2003-10-09 | 2005-04-28 | Shinko Electric Ind Co Ltd | ウェーハ吸着ステージ及びウェーハの吸着方法 |
JP2014011378A (ja) | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | ウェーハ吸着装置およびウェーハ吸着方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020136477A (ja) | 2020-08-31 |
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A977 | Report on retrieval |
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