JP7265016B2 - 埋め込まれた注入装置に治療薬を供給するためのシステム - Google Patents
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Description
以下の項目は、出願当初の特許請求の範囲に記載されていた項目である。
(項目1)
埋め込み型注入装置であって、
ハウジングと、
前記ハウジング内に配置されており、再充填ポートを通してアクセス可能である、再充 填チャンバと、
前記再充填ポートに配置されており、前記再充填チャンバにおける上側チャンバのアク セス開口部を形成する自己密封型の外部隔壁と、
前記再充填チャンバ内において、前記外部隔壁の下方に配置されており、前記上側チャ ンバを下側チャンバから分離する、自己密封型の内部隔壁と、
前記再充填チャンバに配置されたセンサと、
前記センサに動作可能に接続され、前記センサから受信した信号に応じて、前記再充填 チャンバにおける針の存在を検出し、針開口部の位置を前記下側チャンバまたは前記上側 チャンバに関連付けるように構成されたプロセッサと、を備える、埋め込み型注入装置。 (項目2)
前記再充填チャンバに配置された第2のセンサをさらに備えており、
前記プロセッサは、前記センサから受信した信号および前記第2のセンサから受信した 信号に応じて、前記再充填チャンバにおける前記針の前記存在を検出し、前記針開口部の 前記位置を前記下側チャンバまたは前記上側チャンバに関連付けるように構成されており 、
特に、前記第2のセンサは、前記再充填チャンバに隣接して前記ハウジング内に配置さ れた磁場センサであり、好ましくはホール効果センサまたは微小電気機械システム磁場セ ンサである、項目1の埋め込み型注入装置。
(項目3)
前記センサは、前記再充填チャンバに隣接して前記ハウジング内に配置された磁場セン サであり、好ましくはホール効果センサまたは微小電気機械システム磁場センサであり、 前記プロセッサは、前記磁場センサから受信した信号に応じて、前記再充填チャンバに おける針の存在を検出し、前記磁場センサにおける磁場の向きおよび/または強度を評価 することによって、針開口部の位置を前記下側チャンバまたは前記上側チャンバと関連付 けるように構成されており、または、
前記センサは、前記再充填チャンバの底部に配置された接触センサである、項目1また は2の埋め込み型注入装置。
(項目4)
前記プロセッサに動作可能に接続された無線送信機をさらに備えており、
前記プロセッサは、前記針開口部の前記位置と前記下側チャンバまたは前記上側チャン バとの前記関連付けに関する信号を外部装置に送信するように構成される、項目1から3 の何れか一項の埋め込み型注入装置。
(項目5)
埋め込み型注入装置を再充填するためのシステムであって、前記システムは、
項目3の埋め込み型注入装置であって、
前記再充填チャンバ内に配置されており、前記再充填ポートに配置された自己密封型 の外部隔壁を通してアクセス可能である、上側チャンバと、
前記再充填チャンバ内に配置されており、前記再充填チャンバ内に配置された自己密 封型の内部隔壁によって前記上側チャンバから分離されている、下側チャンバと、
前記再充填チャンバの底部から約距離dsensorだけ離れて配置された、磁場セ ンサ、好ましくはホール効果センサまたは微小電気機械システム磁場センサと、
前記磁場センサに動作可能に接続されたプロセッサと、を含む埋め込み型注入装置と 、
再充填針であって、
近位端から遠位端まで延在しており、前記遠位端から約距離dmagnetだけ離れ て配置された磁性部を含む、長尺ボディと、
前記近位端に流体接続しており、前記長尺ボディの前記遠位端から離れて配置されて いる、針開口部と、を含む前記再充填針と、
前記埋め込み型注入装置と無線通信するユーザインターフェースと、を備えており、
dsensorは、dmagnetに対して位置決めされており、
前記プロセッサは、前記磁場センサから受信した信号に応じて、前記針開口部の位置を 前記下側チャンバまたは前記上側チャンバに関連付けるように構成されており、
前記ユーザインターフェース装置は、前記上側チャンバまたは前記下側チャンバにおけ る前記針開口部の前記位置を表示するように構成されており、
前記プロセッサは、好ましくは、前記磁場センサによって、下側閾値を上回る磁場強度 を有する磁場が検出された場合に、針が正しく挿入されたことを認識するように構成され ており、
前記プロセッサは、さらに好ましくは、前記磁性部における磁場の向きおよび/または 強度に応じて、前記針開口部の位置を前記下側チャンバまたは前記上側チャンバに関連付 けるように構成される、システム。
(項目6)
前記長尺ボディの前記近位端に分離不能に接続されており、治療薬で満たされた再充填 容器をさらに備える、項目5のシステム。
(項目7)
前記埋め込み型注入装置は、前記再充填チャンバの前記底部から約距離dsensor 2だけ離れて配置された第2の磁場センサをさらに含んでおり、
前記再充填針の前記長尺ボディは、前記遠位端から約距離dmagnet2だけ離れて 配置された第2の磁性部を含んでおり、
dsensor2は、dmagnet2に対して位置決めされており、
前記プロセッサは、前記磁性部における第1の磁場の向きおよび/または強度、および 前記第2の磁性部における第2の磁場の向きおよび/または強度に関する情報を伝達する ように構成される、項目5または6のシステム。
(項目8)
埋め込み型注入装置のための再充填針であって、
近位端から遠位端まで延在しており、前記遠位端から距離dmagnet1だけ離れて 配置された第1の磁性部を含む、長尺ボディを備えており、
前記第1の磁性部は、第1のビットの情報を符号化するために、選択可能な第1の磁場 の向きおよび/または強度、または第2の磁場の向きおよび/または強度を有する、再充 填針。
(項目9)
前記第1の磁場は、磁極が互いに軸方向に離間するように、軸方向に配向されており、 または、
前記第1の磁場は、磁極が互いに半径方向の内側および外側に配置されるように、半径 方向に配向されており、または、
前記第1の磁場は、磁極が円周方向で互いに対向して配置されるように、直径方向に配 向されている、項目8の再充填針。
(項目10)
前記長尺ボディは、成形プラスチックで作られており、
前記第1の磁性部は、前記プラスチック内でオーバーモールドされた永久磁石によって 形成され、および/または、
前記長尺ボディは、1ビットの情報を記憶するために、第1の磁場の向きまたは第2の 磁場の向きにおいて選択的に磁性である、複数の2つ以上の磁性部を含み、および/また は、
前記長尺ボディは、前記長尺ボディの遠位端から第1の距離dlまたは第2の距離du だけ離れて配置されており、円周方向に離間している複数の開口部を含む、項目8または 9の再充填針。
(項目11)
前記長尺ボディは、
近位端から、前記長尺ボディの前記遠位端から距離dlだけ離れた開口部まで延在する 第1の流体チャネルと、
近位端から、前記長尺ボディの前記遠位端から距離dlよりも大きい距離duだけ離れ た開口部まで延在する第2の流体チャネルと、を含む、項目8から10の何れか一項の再 充填針。
(項目12)
マルチリザーバ注入ポンプに治療薬を再充填するための方法であって、
マルチリザーバ注入ポンプの第1のリザーバに再充填される第1の治療薬を選択するス テップと、
前記マルチリザーバ注入ポンプの第2のリザーバに再充填される第2の治療薬を選択す るステップと、
前記第1の治療薬が入っている第1の再充填容器と、第1の再充填針とを結合するステ ップであって、前記第1の再充填針は、前記再充填針の遠位端から第1の距離dlだけ離 れて配置された第1の針開口部を有しており、前記第1の針開口部は、前記第1の再充填 針が前記マルチリザーバ注入ポンプの前記再充填ポートに完全に挿入されたときに、前記 第1のリザーバと流体連通する、結合するステップと、
前記第1の再充填針を前記再充填ポートに挿入するステップと、
前記第1の治療薬を前記第1の再充填容器から前記第1のリザーバに送達するステップ と、
前記第2の治療薬が入っている第2の再充填容器と、第2の再充填針とを結合するステ ップであって、前記第2の再充填針は、前記再充填針の遠位端から第2の距離duだけ離 れて配置された第2の針開口部を有しており、前記第2の針開口部は、前記第2の再充填 針が前記マルチリザーバ注入ポンプの前記再充填ポートに完全に挿入されたときに、前記 第2のリザーバと流体連通する、結合するステップと
前記第2の再充填針を前記再充填ポートに挿入するステップと、
前記第2の治療薬を前記第2の再充填容器から前記第2のリザーバに送達するステップ と、を備える方法。
(項目13)
前記再充填ポートに配置された磁場センサを用いて、前記第1の再充填針および前記第 2の再充填針の磁性部における磁場の向きおよび/または強度を特定するステップと、
前記磁場の前記向きおよび/または強度に基づいて、前記第1の再充填針と前記第2の 再充填針を区別するステップと、をさらに備える、項目12の方法。
(項目14)
前記磁場センサを用いて、最大許容閾値よりも強い磁場の存在を特定するステップと、 前記最大許容閾値よりも強い前記磁場を検出することに応じて、前記マルチリザーバ注 入ポンプを無効にするステップと、をさらに備える、項目13の方法であって、
好ましくは、
前記磁場センサの基準測定値を特定するために、初期化測定を行うステップをさらに備 える、項目13の方法。
(項目15)
前記再充填ポートにおいて、軸方向に離間している複数の2つ以上の磁場センサを用い て、前記第1の再充填針および前記第2の再充填針の磁性部における等しい数の2つ以上 の磁場の前記向きおよび/または強度を特定するステップと、
前記2つ以上の磁場センサからルックアップテーブルを介して検索された情報を関連付 けるステップと、
前記ルックアップテーブルから検索された情報を外部のユーザインターフェース装置に 伝達するステップと、をさらに備える、項目14の方法。
Claims (11)
- 埋め込み型注入装置であって、
ハウジング(110)と、
前記ハウジング(110)内に配置されており、再充填ポート(130)を通してアクセス可能である、再充填チャンバ(120)と、
前記再充填ポート(130)に配置されており、前記再充填チャンバ(120)における上側チャンバ(122)のアクセス開口部を形成する自己密封型の外部隔壁(132)と、
前記再充填チャンバ(120)に配置されたセンサ(152、154、156)と、
前記センサ(152、154、156)に動作可能に接続され、前記センサ(152、154、156)から受信した信号に応じて、前記再充填チャンバ(120)における針(200、230、230’、240、240’、250、250’)の存在を検出するように構成されたプロセッサと、を備えており、
前記センサ(152、154、156)は、磁場センサであり、
埋め込み型注入装置(100)は、前記再充填チャンバ(120)内において、前記外部隔壁(132)の下方に配置されており、前記上側チャンバ(122)を下側チャンバ(124)から分離する、自己密封型の内部隔壁(134)を備えることを特徴とし、
前記下側チャンバ(124)および前記上側チャンバ(122)のうち少なくとも一方を再充填するための複数の針(200、230、230’、240、240’、250、250’)は、それぞれ針開口部(211、212)の位置が異なり、
前記上側チャンバ(122)を再充填するための複数の針(200、230、230’、250)は、
第1の磁性部(220、222、224)と、
前記針(200、230、230’、250)が前記再充填チャンバ(120)に挿入されたときに前記上側チャンバ(122)内に位置するように設けられた針開口部(212)と、を有しており、
前記下側チャンバ(124)を再充填するための複数の針(240、240’、250)は、
第2の磁性部(220、223、224)と、
前記針(240、240’、250)が前記再充填チャンバ(120)に挿入されたときに前記下側チャンバ(124)内に位置するように設けられた針開口部(211)と、を有しており、
前記第1の磁性部における磁場の向きおよび/または強度と、前記第2の磁性部における磁場の向きおよび/または強度と、は互いに異なり、
前記プロセッサは、前記針(200、230、230’、240、240’、250、250’)が前記再充填チャンバ(120)内に存在するときに前記センサ(152、154、156)から受信した信号に応じて、前記磁場センサにおける磁場の向きおよび/または強度を評価することによって、前記再充填チャンバ(120)内に存在する前記針(200、230、230’、240、240’、250、250’)の前記針開口部(211、212)の位置を前記下側チャンバ(124)および前記上側チャンバ(122)のうち少なくとも一方に関連付けるように構成されることを特徴とする、埋め込み型注入装置。 - 前記再充填チャンバ(120)に配置された第2のセンサをさらに備えており、
前記プロセッサは、前記センサ(152、154、156)から受信した信号および前記第2のセンサから受信した信号に応じて、前記再充填チャンバ(120)における前記針(200、230’、240’、250、250’)の前記存在を検出し、前記針開口部(211、212)の前記位置を前記下側チャンバ(124)または前記上側チャンバ(122)に関連付けるように構成されている、請求項1の埋め込み型注入装置。 - 前記第2のセンサは、磁場センサである、請求項2の埋め込み型注入装置。
- 前記第2のセンサは、前記再充填チャンバ(120)に隣接して前記ハウジング(110)内に配置されたホール効果センサまたは微小電気機械システム磁場センサである、請求項3の埋め込み型注入装置。
- 前記センサ(152、154、156)は、前記再充填チャンバ(120)に隣接して前記ハウジング(110)内に配置されたホール効果センサまたは微小電気機械システム磁場センサである、請求項1の埋め込み型注入装置。
- 前記プロセッサに動作可能に接続された無線送信機をさらに備えており、
前記プロセッサは、前記針開口部(211、212)の前記位置と前記下側チャンバ(124)または前記上側チャンバ(122)との前記関連付けに関する信号を外部装置に送信するように構成される、請求項1から5の何れか一項の埋め込み型注入装置。 - 埋め込み型注入装置であって、
ハウジング(110)と、
前記ハウジング(110)内に配置されており、再充填ポート(130)を通してアクセス可能である、再充填チャンバ(120)と、
前記再充填ポート(130)に配置されており、前記再充填チャンバ(120)における上側チャンバ(122)のアクセス開口部を形成する自己密封型の外部隔壁(132)と、
前記再充填チャンバ(120)に配置されたセンサ(152、154、156)と、
前記センサ(152、154、156)に動作可能に接続され、前記センサ(152、154、156)から受信した信号に応じて、前記再充填チャンバ(120)における針(200、230、230’、240、240’、250、250’)の存在を検出するように構成されたプロセッサと、を備えており、
埋め込み型注入装置(100)は、前記再充填チャンバ(120)内において、前記外部隔壁(132)の下方に配置されており、前記上側チャンバ(122)を下側チャンバ(124)から分離する、自己密封型の内部隔壁(134)を備えることを特徴とし、
前記下側チャンバ(124)および前記上側チャンバ(122)のうち少なくとも一方を再充填するための複数の針(200、230、230’、240、240’、250、250’)は、それぞれ針開口部(211、212)の位置が異なり、
前記針開口部(211、212)は、前記針(200、230、230’、240、240’、250、250’)が前記再充填チャンバ(120)に挿入されたときに前記上側チャンバ(122)内に位置するように設けられた針開口部(212)と、前記針(200、230、230’、240、240’、250、250’)が前記再充填チャンバ(120)に挿入されたときに前記下側チャンバ(124)内に位置するように設けられた針開口部(211)と、のうち少なくとも一つを含んでおり、
前記センサ(152、154、156)は、前記上側チャンバ(122)に配置されたセンサ(152)と、前記下側チャンバ(124)に配置されたセンサ(154、156)と、を含んでおり、
前記プロセッサは、前記針(200、230、230’、240、240’、250、250’)が前記再充填チャンバ(120)内に存在するときに前記センサ(152、154、156)から受信した信号に応じて、前記再充填チャンバ(120)内に存在する前記針(200、230、230’、240、240’、250、250’)の前記針開口部(211、212)の位置を前記下側チャンバ(124)および前記上側チャンバ(122)のうち少なくとも一方に関連付けるように構成されることを特徴とする、埋め込み型注入装置。 - 埋め込み型注入装置を再充填するためのシステムであって、前記システムは、
請求項1から6の何れか一項の埋め込み型注入装置(100)であって、
前記再充填チャンバ(120)内に配置されており、前記再充填ポート(130)に配置された前記自己密封型の外部隔壁(132)を通してアクセス可能である、前記上側チャンバ(122)と、
前記再充填チャンバ(120)内に配置されており、前記再充填チャンバ(120)内に配置された前記自己密封型の内部隔壁(134)によって前記上側チャンバ(122)から分離されている、前記下側チャンバ(124)と、
前記再充填チャンバ(120)の底部(113)から距離dsensorだけ離れて配置された、前記磁場センサと、
前記磁場センサに動作可能に接続された前記プロセッサと、を含む埋め込み型注入装置(100)と、
再充填針(200、230、230’、240、240’、250、250’)であって、
近位端から遠位端(202)まで延在しており、前記遠位端(202)から距離dmagnetだけ離れて配置された前記第1の磁性部(220、222、224)を含む、長尺ボディ(201)と、
前記近位端に流体接続しており、前記長尺ボディ(201)の前記遠位端(202)から離れて配置されている、針開口部(211、212)と、を含む前記再充填針(200、230、230’、240、240’、250、250’)と、
前記埋め込み型注入装置(100)と無線通信するユーザインターフェース装置と、を備えており、
dsensorは、dmagnetに対して位置決めされており、
前記プロセッサは、前記磁場センサから受信した信号に応じて、前記針開口部(211、212)の位置を前記下側チャンバ(124)または前記上側チャンバ(122)に関連付けるように構成されており、
前記ユーザインターフェース装置は、前記上側チャンバ(122)または前記下側チャンバ(124)における前記針開口部(122)の前記位置を表示するように構成されている、システム。 - 前記プロセッサは、前記磁場センサによって、下側閾値を上回る磁場強度を有する磁場が検出された場合に、針(200、230、230’、240、240’、250、250’)が正しく挿入されたことを認識するように構成されている、請求項8のシステム。
- 前記長尺ボディ(201)の前記近位端に分離不能に接続されており、治療薬で満たされた再充填容器をさらに備える、請求項8または9のシステム。
- 前記埋め込み型注入装置は、前記再充填チャンバの前記底部から距離dsensor2だけ離れて配置された第2の磁場センサをさらに含んでおり、
前記再充填針(200、230’、240’、250、250’)の前記長尺ボディ(201)は、前記遠位端(202)から距離dmagnet2だけ離れて配置された前記第2の磁性部を含んでおり、
dsensor2は、dmagnet2に対して位置決めされており、
前記プロセッサは、前記第1の磁性部における第1の磁場の向きおよび/または強度、および前記第2の磁性部における第2の磁場の向きおよび/または強度に関する情報を伝達するように構成される、請求項8から10の何れか一項のシステム。
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