JP7253542B2 - Sealant for organic electroluminescence display elements - Google Patents
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Description
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子用封止剤に関する。また、本発明は、有機ＥＬ表示素子用封止剤の硬化体、当該硬化体を含む有機ＥＬ表示素子用封止材、及び、当該封止材を含む有機ＥＬ表示装置に関する。 The present invention relates to a sealant for organic electroluminescence (EL) display elements. The present invention also relates to a cured body of a sealant for organic EL display elements, a sealant for organic EL display elements containing the cured body, and an organic EL display device containing the sealant.
有機エレクトロルミネッセンス表示素子（有機ＥＬ表示素子、有機ＥＬ素子又はＯＬＥＤ素子ともいう）は、高い輝度発光が可能な素子体として注目を集めている。しかし、有機ＥＬ表示素子には、水分により劣化し、発光特性が低下してしまうという課題があった。 Organic electroluminescence display elements (also referred to as organic EL display elements, organic EL elements, or OLED elements) have attracted attention as element bodies capable of emitting light with high brightness. However, the organic EL display element has a problem that it deteriorates due to moisture, resulting in deterioration of light emission characteristics.
このような課題を解決するために、有機ＥＬ表示素子を封止し、水分による劣化を防止する技術が検討されている（例えば、特許文献１～３） In order to solve such problems, techniques for sealing organic EL display elements to prevent deterioration due to moisture have been studied (for example, Patent Documents 1 to 3).
近年、有機ＥＬ表示素子に対する要求特性が高まり、より高い信頼性を実現可能な封止材が求められている。 In recent years, the required characteristics of organic EL display elements have increased, and encapsulants capable of achieving higher reliability are in demand.
本発明の目的の一つは、ガラス基板等との濡れ性に優れ、効率良く有機ＥＬ表示素子を封止可能な、有機ＥＬ表示素子用封止剤を提供することにある。また、本発明の目的の一つは、上記封止剤の硬化物を含む有機ＥＬ表示素子用封止材を提供することにある。更に、本発明の目的の一つは、上記封止材を含む有機ＥＬ表示装置を提供することにある。 One of the objects of the present invention is to provide a sealant for organic EL display elements which is excellent in wettability with a glass substrate or the like and capable of efficiently sealing an organic EL display element. Another object of the present invention is to provide a sealing material for an organic EL display device containing a cured product of the above sealing material. Further, another object of the present invention is to provide an organic EL display device containing the sealing material.
本発明の一側面は、フッ素原子及び（メタ）アクリロイル基を有する含フッ素モノマー（Ａ）を含むモノマー成分と、光重合開始剤と、を含有する、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤に関する。 One aspect of the present invention relates to a sealant for organic electroluminescence display elements, containing a monomer component containing a fluorine-containing monomer (A) having a fluorine atom and a (meth)acryloyl group, and a photopolymerization initiator.
上記有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤は、ガラス基板等との濡れ性に優れるため、効率良く有機ＥＬ表示素子を封止することができる。 The sealant for an organic electroluminescence display element has excellent wettability with a glass substrate or the like, and thus can efficiently seal an organic EL display element.
一態様において、上記含フッ素モノマーのフッ素原子含有量は、上記含フッ素モノマーの全量基準で、２～７５質量％であってよい。 In one aspect, the fluorine atom content of the fluorine-containing monomer may be 2 to 75% by mass based on the total amount of the fluorine-containing monomer.
一態様において、上記モノマー成分のフッ素原子含有量は、上記モノマー成分の全量基準で、０．１～７５質量％であってよい。 In one aspect, the fluorine atom content of the monomer component may be 0.1 to 75% by mass based on the total amount of the monomer component.
一態様において、上記含フッ素モノマーは、３～２５個のフッ素原子を有する化合物を含んでいてよい。 In one aspect, the fluorine-containing monomer may contain a compound having 3 to 25 fluorine atoms.
一態様において、上記含フッ素モノマーは、式（Ａ－１）で表される化合物、式（Ａ－２）で表される化合物及び式（Ａ－３）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてよい。
Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示し、
Ｒ２は、フッ化アルキル基、又は、フッ化アルキル基における炭素－炭素結合及び炭素－水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。］
Ｒ３は、水素原子又はメチル基を示し、
Ｒ４は、フッ化アルカンジイル基、又は、フッ化アルカンジイル基における炭素－炭素結合及び炭素－水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。
複数存在するＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。］
Ｒ５は水素原子又はメチル基を示し、
Ｒ６は、単結合、アルカンジイル基、フッ化アルカンジイル基、又は、アルカンジイル基若しくはフッ化アルカンジイル基における炭素－炭素結合及び炭素－水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示し、
Ａｒ１はフッ化アリール基を示す。］In one embodiment, the fluorine-containing monomer is selected from the group consisting of a compound represented by formula (A-1), a compound represented by formula (A-2), and a compound represented by formula (A-3). may contain at least one of
R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group,
R 2 represents a fluorinated alkyl group or a group in which an oxygen atom is inserted into a portion of the carbon-carbon bond and carbon-hydrogen bond in the fluorinated alkyl group. ]
R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group,
R 4 represents a fluorinated alkanediyl group or a group in which an oxygen atom is inserted into a part of the carbon-carbon bond and the carbon-hydrogen bond in the fluorinated alkanediyl group.
Multiple R 3 may be the same or different. ]
R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group,
R 6 is a single bond, an alkanediyl group, a fluorinated alkanediyl group, or a group in which an oxygen atom is inserted into a part of the carbon-carbon bond and carbon-hydrogen bond in an alkanediyl group or a fluorinated alkanediyl group; shows
Ar 1 represents a fluorinated aryl group. ]
一態様において、上記含フッ素モノマーは、式（Ａ－１－１）で表される化合物、式（Ａ－２－１）で表される化合物及び式（Ａ－３－１）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてよい。
一態様において、上記モノマー成分は、上記含フッ素モノマー以外のモノマー（Ｂ）を更に含んでいてよい。 In one aspect, the monomer component may further contain a monomer (B) other than the fluorine-containing monomer.
一態様において、上記モノマー成分は、上記モノマー（Ｂ）として、環状構造を有するモノマー（Ｂ－１）を含んでいてよい。 In one aspect, the monomer component may contain a monomer (B-1) having a cyclic structure as the monomer (B).
一態様において、上記モノマー（Ｂ－１）は、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ－フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート及びエトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてよい。 In one embodiment, the monomer (B-1) is ethoxylated-o-phenylphenol (meth)acrylate, m-phenoxybenzyl (meth)acrylate, tricyclodecanedimethanol di(meth)acrylate and ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate. It may contain at least one selected from the group consisting of (meth)acrylates.
一態様において、上記モノマー成分は、上記モノマー（Ｂ）として、炭素数６以上のアルカンジイル基を有するアルカンジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ－２）を含んでいてよい。 In one embodiment, the monomer component may contain an alkanediol di(meth)acrylate (B-2) having an alkanediyl group with 6 or more carbon atoms as the monomer (B).
一態様において、上記アルカンジオールジ（メタ）アクリレート（Ｂ－２）は、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート及び１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種を含んでいてよい。 In one aspect, the alkanediol di(meth)acrylate (B-2) is 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, 1,10-decanediol di(meth)acrylate and 1,12-dodecanediol di(meth)acrylate. It may contain at least one selected from the group consisting of (meth)acrylates.
一態様において、上記光重合開始剤は、アシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤を含んでいてよい。 In one embodiment, the photopolymerization initiator may contain an acylphosphine oxide photopolymerization initiator.
本発明の他の一側面は、上記有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤を硬化してなる、硬化体に関する。このような硬化体は、透湿度が低く、ガラス基板等との接着性に優れるため、有機エレクトロルミネッセンス表示素子を封止する封止材として、好適に用いることができる。 Another aspect of the present invention relates to a cured body obtained by curing the sealant for an organic electroluminescence display element. Since such a cured product has low moisture permeability and excellent adhesiveness to a glass substrate or the like, it can be suitably used as a sealing material for sealing an organic electroluminescence display element.
本発明の更に他の一側面は、上記硬化体を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材に関する。このような封止材は、防湿性に優れ、且つ、ガラス基板等との接着性に優れる。このため、上記封止材によれば、信頼性及び耐久性に優れた有機エレクトロルミネッセンス表示装置を得ることができる。 Still another aspect of the present invention relates to a sealing material for an organic electroluminescence display device, which contains the cured product. Such a sealing material has excellent moisture resistance and excellent adhesion to a glass substrate or the like. Therefore, with the sealing material, it is possible to obtain an organic electroluminescent display device with excellent reliability and durability.
本発明の更に他の一側面は、無機膜と有機膜とが積層した積層体を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材に関する。この封止材において、上記有機膜は、上記硬化体を含む。このような封止材によれば、上記硬化体を含む有機膜と無機膜との組み合わせによって、より高い防湿性が実現される。また、上記硬化体は、ガラス基板及び無機膜に対する接着性に優れるため、上記封止材によれば、より高い信頼性及び耐久性が実現される。 Yet another aspect of the present invention relates to a sealing material for an organic electroluminescence display element, which includes a laminate in which an inorganic film and an organic film are laminated. In this sealing material, the organic film contains the cured body. According to such a sealing material, the combination of the organic film containing the cured body and the inorganic film realizes higher moisture resistance. In addition, since the cured body has excellent adhesiveness to the glass substrate and the inorganic film, the sealing material achieves higher reliability and durability.
本発明の更に他の一側面は、有機エレクトロルミネッセンス表示素子と、上記有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材と、を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置に関する。 Still another aspect of the present invention relates to an organic electroluminescence display device including an organic electroluminescence display element and the sealing material for the organic electroluminescence display element.
本発明によれば、ガラス基板等との濡れ性に優れ、効率良く有機ＥＬ表示素子を封止可能な、有機ＥＬ表示素子用封止剤が提供される。また、本発明によれば、上記封止剤の硬化物を含む有機ＥＬ表示素子用封止材が提供される。更に、本発明によれば、上記封止材を含む有機ＥＬ表示装置が提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the sealant for organic EL display elements which is excellent in the wettability with a glass substrate etc., and can seal an organic EL display element efficiently is provided. Moreover, according to this invention, the sealing material for organic EL display elements containing the hardened|cured material of the said sealing agent is provided. Furthermore, according to the present invention, an organic EL display device containing the sealing material is provided.
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail.
本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示素子用封止剤（以下、単に封止剤ともいう）は、フッ素原子及び（メタ）アクリロイル基を有する含フッ素モノマー（以下、（Ａ）成分ともいう。）を含むモノマー成分と、光重合開始剤と、を含有する。 The sealant for an organic electroluminescence (EL) display device according to the present embodiment (hereinafter also simply referred to as a sealant) is a fluorine-containing monomer having a fluorine atom and a (meth)acryloyl group (hereinafter also referred to as component (A) and a photopolymerization initiator.
本実施形態に係る封止剤は、ガラス基板等の無機表面を有する基板（ガラス基板、無機膜が成膜された樹脂基板等）との濡れ性に優れる。封止剤が濡れ性に優れることで、塗布性が良好となり、短時間のうちに基板上に封止剤が拡がるため、作業効率が向上する。また、封止剤が濡れ性に優れることで、塗膜の平坦性が向上し、平坦性に優れる封止材を形成できる。また、本実施形態に係る封止剤によれば、防湿性に優れた封止材を形成できる。更に、本実施形態に係る封止剤により形成される封止材は、ガラス基板、無機膜が成膜された基板（ガラス基板、樹脂基板等）等との接着性に優れる。 The sealant according to the present embodiment has excellent wettability with a substrate having an inorganic surface such as a glass substrate (a glass substrate, a resin substrate having an inorganic film formed thereon, etc.). Since the sealant has excellent wettability, the coatability is improved, and the sealant spreads over the substrate in a short period of time, thereby improving work efficiency. In addition, since the sealant has excellent wettability, the flatness of the coating film is improved, and a sealant with excellent flatness can be formed. Moreover, according to the encapsulant according to the present embodiment, it is possible to form an encapsulant having excellent moisture resistance. Furthermore, the sealant formed from the sealant according to the present embodiment has excellent adhesiveness to a glass substrate, a substrate on which an inorganic film is formed (a glass substrate, a resin substrate, etc.).
上記効果が奏される理由は必ずしも限定されないが、含フッ素モノマーによって封止剤の表面自由エネルギーが低くなり、微細な凹凸に追従しやすくなることで、基板等に対する密着性が向上することが一因と考えられる。 The reason why the above effect is exhibited is not necessarily limited, but one reason is that the fluorine-containing monomer lowers the surface free energy of the sealant and makes it easier to follow fine irregularities, thereby improving the adhesion to the substrate or the like. thought to be the cause.
含フッ素モノマーは、フッ素原子と（メタ）アクリロイル基とを有している。尚、（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示す。含フッ素モノマーは１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。 A fluorine-containing monomer has a fluorine atom and a (meth)acryloyl group. In addition, a (meth)acryloyl group indicates an acryloyl group or a methacryloyl group. The fluorine-containing monomers may be used singly or in combination of two or more.
含フッ素モノマーが有するフッ素原子の数は、１個以上であればよく、例えば２個以上であってもよく、好ましくは３個以上である。また、含フッ素モノマーが有するフッ素原子の数の上限は特に限定されず、例えば４０個以下であってよく、好ましくは３０個以下であり、より好ましくは２５個以下である。 The number of fluorine atoms in the fluorine-containing monomer may be 1 or more, for example, 2 or more, preferably 3 or more. The upper limit of the number of fluorine atoms in the fluorine-containing monomer is not particularly limited, and may be, for example, 40 or less, preferably 30 or less, more preferably 25 or less.
含フッ素モノマーの全量に対するフッ素原子の含有量は、例えば１質量％以上であってよく、好ましくは２質量％以上、より好ましくは５質量％以上である。また、フッ素原子の含有量は、含フッ素モノマーの全量基準で、例えば７５質量％以下であってよく、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６５質量％以下である。 The content of fluorine atoms relative to the total amount of the fluorine-containing monomer may be, for example, 1% by mass or more, preferably 2% by mass or more, and more preferably 5% by mass or more. The fluorine atom content may be, for example, 75% by mass or less, preferably 70% by mass or less, and more preferably 65% by mass or less, based on the total amount of the fluorine-containing monomer.
含フッ素モノマーが有する（メタ）アクリロイル基の数は、１個以上であればよい。ガラス転移温度の低い硬化体が得られやすくなる観点からは、含フッ素モノマーが有する（メタ）アクリロイル基の数は１個であってよい。また、ガラス転移温度の高い硬化体が得られやすくなる観点からは、含フッ素モノマーが有する（メタ）アクリロイル基の数は、２個以上であってよい。含フッ素モノマーが有する（メタ）アクリロイル基の数の上限は特に限定されず、例えば４個以下であってよく、柔軟性に優れる硬化体が得られやすくなる観点からは、好ましくは３個以下、より好ましくは２個以下である。 The number of (meth)acryloyl groups possessed by the fluorine-containing monomer may be one or more. The fluorine-containing monomer may have one (meth)acryloyl group from the viewpoint of easily obtaining a cured product with a low glass transition temperature. Moreover, from the viewpoint of easily obtaining a cured product having a high glass transition temperature, the number of (meth)acryloyl groups possessed by the fluorine-containing monomer may be two or more. The upper limit of the number of (meth)acryloyl groups possessed by the fluorine-containing monomer is not particularly limited, and may be, for example, 4 or less. More preferably, it is two or less.
含フッ素モノマーの具体例の一つとして、式（Ａ－１）で表される化合物が挙げられる。 A specific example of the fluorine-containing monomer is a compound represented by Formula (A-1).
式（Ａ－１）中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を示す。また、Ｒ２は、フッ化アルキル基、又は、フッ化アルキル基における炭素－炭素結合及び炭素－水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。In formula (A-1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group. Further, R 2 represents a fluorinated alkyl group or a group in which an oxygen atom is inserted into a part of the carbon-carbon bond and the carbon-hydrogen bond in the fluorinated alkyl group.
フッ化アルキル基は、アルキル基が有する水素原子の一部又は全部がフッ素原子に置換された基、ということができる。フッ化アルキル基の炭素原子数は特に限定されず、例えば、１個以上であってよく、好ましくは２個以上、より好ましくは３個以上である。また、フッ化アルキル基の炭素原子数は、例えば２５個以下であってよく、２０個以下であってもよい。 A fluorinated alkyl group can be said to be a group in which some or all of the hydrogen atoms of an alkyl group have been substituted with fluorine atoms. The number of carbon atoms in the fluorinated alkyl group is not particularly limited, and may be, for example, 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 3 or more. Also, the number of carbon atoms in the fluorinated alkyl group may be, for example, 25 or less, or may be 20 or less.
フッ化アルキル基としては、ジフルオロメチレン（－ＣＦ２－）を含む基を好適に用いることができる。As the fluorinated alkyl group, a group containing difluoromethylene ( --CF.sub.2-- ) can be preferably used.
フッ化アルキル基の具体例としては、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１，１－ジフルオロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、１，１，１－トリフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、ペルフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロプロピル基、１，１，１，２，２－ペンタフルオロプロピル基、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロプロピル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロエチルメチル基、１－（トリフルオロメチル）－１，２，２，２－テトラフルオロエチル基、２，２，３，３－テトラフルオロプロピル基、ペルフルオロプロピル基、１，１，２，２－テトラフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３－ヘキサフルオロブチル基、１，１，１，２，２，３，３－ペプタフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロブチル基、ペルフルオロブチル基、１，１－ビス（トリフルオロ）メチル－２，２，２－トリフルオロエチル基、２－（ペルフルオロプロピル）エチル基、１，１，２，２，３，３，４，４－オクタフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５－オクタフルオロペンチル基、ペルフルオロペンチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５－デカフルオロペンチル基、１，１－ビス（トリフルオロメチル）－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピル基、２－（ペルフルオロブチル）エチル基、１，１，１，２，２，３，３，４，４－ノナフルオロペンチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５－デカフルオロヘキシル基、１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－ドデカフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロペンチルメチル基及びペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。 Specific examples of the fluorinated alkyl group include difluoromethyl group, trifluoromethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 1,1,1-trifluoroethyl group, 2,2, 2-trifluoroethyl group, perfluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoropropyl group, 1,1,1,2,2-pentafluoropropyl group, 1,1,2,2,3,3 -hexafluoropropyl group, perfluoropropyl group, perfluoroethylmethyl group, 1-(trifluoromethyl)-1,2,2,2-tetrafluoroethyl group, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl group, perfluoro propyl group, 1,1,2,2-tetrafluorobutyl group, 1,1,2,2,3,3-hexafluorobutyl group, 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro butyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorobutyl group, perfluorobutyl group, 1,1-bis(trifluoro)methyl-2,2,2-trifluoroethyl group, 2-(perfluoropropyl)ethyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluoropentyl group, 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoropentyl group , perfluoropentyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5-decafluoropentyl group, 1,1-bis(trifluoromethyl)-2,2,3,3,3 -pentafluoropropyl group, 2-(perfluorobutyl)ethyl group, 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoropentyl group, 1,1,2,2,3,3, 4,4,5,5-decafluorohexyl group, 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6,6-dodecafluorohexyl group, perfluorohexyl group, perfluoropentylmethyl group and a perfluorohexyl group.
フッ化アルキル基における炭素－炭素結合及び炭素－水素結合の一部に酸素原子が挿入された基（以下、Ｒ２の含酸素基ともいう。）は、酸素原子が一箇所に挿入された基であってよく、二箇所以上に挿入された基であってもよい。A group in which an oxygen atom is inserted into part of the carbon-carbon bond and carbon-hydrogen bond in the fluorinated alkyl group (hereinafter also referred to as an oxygen-containing group of R 2 ) is a group in which an oxygen atom is inserted at one place or a group inserted at two or more sites.
尚、炭素－炭素結合に酸素原子が挿入されると、エーテル結合が形成される。また、炭素－水素結合に酸素原子が挿入されると、ヒドロキシル基が形成される。すなわち、Ｒ２の含酸素基は、エーテル結合及びヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも一種を含む基ということもできる。An ether bond is formed when an oxygen atom is inserted into the carbon-carbon bond. A hydroxyl group is also formed when an oxygen atom is inserted into a carbon-hydrogen bond. That is, the oxygen-containing group of R2 can also be said to be a group containing at least one selected from the group consisting of an ether bond and a hydroxyl group.
Ｒ２の含酸素基の具体例としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。Specific examples of the oxygen-containing group for R 2 include groups represented by the following formulae.
式（Ａ－１）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば２質量％以上であってよく、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１５質量％以上、更に好ましくは３０質量％以上である。また、式（Ａ－１）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば７５質量％以下であってよく、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６５質量％以下である。 The fluorine atom content in the compound represented by formula (A-1) may be, for example, 2% by mass or more, preferably 5% by mass or more, more preferably 15% by mass or more, and still more preferably 30% by mass or more. is. The fluorine atom content in the compound represented by formula (A-1) may be, for example, 75% by mass or less, preferably 70% by mass or less, and more preferably 65% by mass or less.
式（Ａ－１）で表される化合物の具体例の一つとして、例えば、式（Ａ－１－１）で表される化合物が挙げられる。 A specific example of the compound represented by formula (A-1) is a compound represented by formula (A-1-1).
式（Ａ－１－１）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２１は水素原子又はフッ素原子を示し、ｎは１以上の整数を示す。複数存在するＲ２１は互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ２１の少なくとも一つはフッ素原子である。In formula (A-1-1), R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 21 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and n represents an integer of 1 or more. Multiple R 21 may be the same or different. However, at least one of R 21 is a fluorine atom.
ｎは、１以上であればよく、好ましくは２以上である。また、ｎの上限は特に限定されず、例えば２５以下であってよく、２０以下であってもよい。 n may be 1 or more, preferably 2 or more. Also, the upper limit of n is not particularly limited, and may be, for example, 25 or less, or 20 or less.
Ｒ２１は、式（Ａ－１－１）中に複数存在しているが、そのうちの少なくとも一つがフッ素原子である。また、Ｒ２１のうち、２つ以上がフッ素原子であることが好ましく、３つ以上がフッ素原子であることがより好ましい。Ｒ２１は全てフッ素原子であってもよい。A plurality of R 21 are present in formula (A-1-1), at least one of which is a fluorine atom. Two or more of R 21 are preferably fluorine atoms, and more preferably three or more are fluorine atoms. All R 21 may be fluorine atoms.
Ｒ２１の合計数に対するフッ素原子の数の割合は、例えば４％以上であってよく、好ましくは８％以上、より好ましくは１２％以上である。当該割合は、例えば１００％以下であってよく、好ましくは８０％以下、より好ましくは７５％以下である。The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of R 21 may be, for example, 4% or more, preferably 8% or more, more preferably 12% or more. The proportion may be, for example, 100% or less, preferably 80% or less, more preferably 75% or less.
式（Ａ－１－１）で表される化合物は、ｎが付された括弧内の２価の基（－Ｃ（Ｒ２１）２－）のうち、少なくとも一つがジフルオロメチレン（－ＣＦ２－）であることが好ましい。In the compound represented by formula (A-1-1), at least one of the divalent groups (—C(R 21 ) 2 —) in parentheses with n is difluoromethylene (—CF 2 — ) is preferred.
含フッ素モノマーの具体例の他の一つとして、式（Ａ－２）で表される化合物が挙げられる。 Another specific example of the fluorine-containing monomer is a compound represented by formula (A-2).
式（Ａ－２）中、Ｒ３は、水素原子又はメチル基を示す。また、Ｒ４は、フッ化アルカンジイル基、又は、フッ化アルカンジイル基における炭素－炭素結合及び炭素－水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。複数存在するＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。In formula (A-2), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 4 represents a fluorinated alkanediyl group or a group in which an oxygen atom is inserted into a part of the carbon-carbon bond and the carbon-hydrogen bond in the fluorinated alkanediyl group. Multiple R 3 may be the same or different.
フッ化アルカンジイル基は、アルカンジイル基が有する水素原子の一部又は全部がフッ素原子に置換された基、ということができる。フッ化アルカンジイル基の炭素原子数は特に限定されず、例えば、１以上であってよく、好ましくは２以上、より好ましくは３以上、更に好ましくは４以上である。また、フッ化アルカンジイル基の炭素原子数は、例えば１７以下であってよく、好ましくは１２以下、より好ましくは１０以下である。 A fluorinated alkanediyl group can be said to be a group in which some or all of the hydrogen atoms of an alkanediyl group have been substituted with fluorine atoms. The number of carbon atoms in the fluorinated alkanediyl group is not particularly limited, and may be, for example, 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and even more preferably 4 or more. The number of carbon atoms in the alkanediyl fluoride group may be, for example, 17 or less, preferably 12 or less, and more preferably 10 or less.
フッ化アルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン（－ＣＦ２－）を含む基を好適に用いることができる。As the alkanediyl fluoride group, a group containing difluoromethylene ( --CF.sub.2-- ) can be preferably used.
フッ化アルカンジイル基の具体例としては、炭素数１～１７の直鎖状又は分枝状のフッ化アルカンジイル基（例えば、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９－ヘキサデカフルオロ－１，１０－デカンジイル基）、炭素数１～１７のフッ化シクロアルカンジイル基等が挙げられる。 Specific examples of fluorinated alkanediyl groups include linear or branched fluorinated alkanediyl groups having 1 to 17 carbon atoms (eg, 2, 2, 3, 3, 4, 4, 5, 5, 6 , 6,7,7,8,8,9,9-hexadecafluoro-1,10-decanediyl group), fluorocycloalkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, and the like.
フッ化アルカンジイル基における炭素－炭素結合及び炭素－水素結合の一部に酸素原子が挿入された基（以下、Ｒ４の含酸素基ともいう。）は、酸素原子が一箇所に挿入された基であってよく、二箇所以上に挿入された基であってもよい。A group in which an oxygen atom is inserted into a part of a carbon-carbon bond and a carbon-hydrogen bond in a fluorinated alkanediyl group (hereinafter also referred to as an oxygen-containing group of R4 ) is a group in which an oxygen atom is inserted in one place. It may be a group or a group inserted at two or more sites.
尚、炭素－炭素結合に酸素原子が挿入されると、エーテル結合が形成される。また、炭素－水素結合に酸素原子が挿入されると、ヒドロキシル基が形成される。すなわち、Ｒ４の含酸素基は、エーテル結合及びヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも一種を含む基ということもできる。An ether bond is formed when an oxygen atom is inserted into the carbon-carbon bond. A hydroxyl group is also formed when an oxygen atom is inserted into a carbon-hydrogen bond. That is, the oxygen-containing group of R4 can also be said to be a group containing at least one selected from the group consisting of an ether bond and a hydroxyl group.
Ｒ４の含酸素基の具体例としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。Specific examples of the oxygen-containing group for R 4 include groups represented by the following formulae.
式（Ａ－２）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば４質量％以上であってよく、好ましくは８質量％以上、より好ましくは１２質量％以上である。また、式（Ａ－２）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば９０質量％以下であってよく、好ましくは７５質量％以下、より好ましくは６５質量％以下である。 The fluorine atom content in the compound represented by formula (A-2) may be, for example, 4% by mass or more, preferably 8% by mass or more, and more preferably 12% by mass or more. The fluorine atom content in the compound represented by formula (A-2) may be, for example, 90% by mass or less, preferably 75% by mass or less, and more preferably 65% by mass or less.
式（Ａ－２）で表される化合物の具体例の一つとして、例えば、式（Ａ－２－１）で表される化合物が挙げられる。 A specific example of the compound represented by formula (A-2) is a compound represented by formula (A-2-1).
式（Ａ－２－１）中、Ｒ３は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ４１は水素原子又はフッ素原子を示し、ｍは１以上の整数を示す。複数存在するＲ３は互いに同一でも異なっていてもよい。複数存在するＲ４１は、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ４１の少なくとも一つはフッ素原子である。In formula (A-2-1), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 41 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and m represents an integer of 1 or more. Multiple R 3 may be the same or different. Multiple R 41 may be the same or different. However, at least one of R 41 is a fluorine atom.
ｍは、１以上であればよく、好ましくは２以上、より好ましくは３以上、更に好ましくは４以上である。また、ｍの上限は特に限定されず、例えば２０以下であってよく、好ましくは１７以下、より好ましくは１５以下である。 m may be 1 or more, preferably 2 or more, more preferably 3 or more, and still more preferably 4 or more. The upper limit of m is not particularly limited, and may be, for example, 20 or less, preferably 17 or less, more preferably 15 or less.
Ｒ４１は、式（Ａ－２－１）中に複数存在しているが、そのうちの少なくとも一つがフッ素原子である。また、Ｒ４１のうち、２つ以上がフッ素原子であることが好ましく、４つ以上がフッ素原子であることがより好ましい。Ｒ４１は全てフッ素原子であってもよい。A plurality of R 41 are present in formula (A-2-1), at least one of which is a fluorine atom. In addition, two or more of R 41 are preferably fluorine atoms, and more preferably four or more are fluorine atoms. All of R 41 may be fluorine atoms.
Ｒ４１の合計数に対するフッ素原子の数の割合は、例えば１％以上であってよく、好ましくは５％以上、より好ましくは１０％以上である。当該割合は、例えば１００％以下であってよく、好ましくは９５％以下、より好ましくは９０％以下である。The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of R 41 may be, for example, 1% or more, preferably 5% or more, more preferably 10% or more. The proportion may be, for example, 100% or less, preferably 95% or less, more preferably 90% or less.
式（Ａ－２－１）で表される化合物は、ｍが付された括弧内の２価の基（－Ｃ（Ｒ４１）２－）のうち、少なくとも一つがジフルオロメチレン（－ＣＦ２－）であることが好ましい。In the compound represented by formula (A-2-1), at least one of the divalent groups (—C(R 41 ) 2 —) in parentheses with m is difluoromethylene (—CF 2 — ) is preferred.
含フッ素モノマーの具体例の他の一つとして、式（Ａ－３）で表される化合物が挙げられる。 Another specific example of the fluorine-containing monomer is a compound represented by formula (A-3).
式（Ａ－３）中、Ｒ５は水素原子又はメチル基を示す。また、Ｒ６は、単結合、アルカンジイル基、フッ化アルカンジイル基、又は、アルカンジイル基若しくはフッ化アルカンジイル基における炭素－炭素結合及び炭素－水素結合の一部に酸素原子が挿入された基、を示す。また、Ａｒ１はフッ化アリール基を示す。In formula (A-3), R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 6 is a single bond, an alkanediyl group, a fluorinated alkanediyl group, or an oxygen atom inserted into a part of the carbon-carbon bond and carbon-hydrogen bond in an alkanediyl group or a fluorinated alkanediyl group. group. Ar 1 represents a fluorinated aryl group.
尚、「Ｒ６が単結合を示す」とは、Ａｒ１と酸素原子とが直接結合していることを意味する。Incidentally, "R 6 represents a single bond" means that Ar 1 and an oxygen atom are directly bonded.
Ａｒ１のフッ化アリール基としては、フッ化フェニル基が好ましい。フッ化フェニル基は、フェニル基中の水素原子の１～５個がフッ素原子に置換した基ということもできる。フッ化フェニル基は、フッ素原子を１つ以上有するものであってよく、５つ有するものであってもよい。A fluorinated phenyl group is preferable as the fluorinated aryl group for Ar 1 . The fluorinated phenyl group can also be said to be a group in which 1 to 5 hydrogen atoms in the phenyl group are substituted with fluorine atoms. The fluorinated phenyl group may have one or more fluorine atoms, or may have five fluorine atoms.
Ｒ６のアルカンジイル基の炭素原子数は特に限定されず、例えば、１以上であってよい。また、Ｒ６のアルカンジイル基の炭素原子数は、例えば１７以下であってよく、好ましくは１５以下、より好ましくは１２以下である。The number of carbon atoms in the alkanediyl group of R6 is not particularly limited, and may be, for example, 1 or more. The number of carbon atoms in the alkanediyl group of R6 may be, for example, 17 or less, preferably 15 or less, more preferably 12 or less.
アルカンジイル基の具体例としては、炭素数１～１７の直鎖状又は分枝状のアルカンジイル基（例えば、メチレン基、エチレン基等）、炭素数１～１７のシクロアルカンジイル基等が挙げられる。 Specific examples of the alkanediyl group include linear or branched alkanediyl groups having 1 to 17 carbon atoms (eg, methylene group, ethylene group, etc.), cycloalkanediyl groups having 1 to 17 carbon atoms, and the like. be done.
Ｒ６のフッ化アルカンジイル基は、上述のアルカンジイル基が有する水素原子の一部又は全部がフッ素原子に置換された基、ということができる。Ｒ６のフッ化アルカンジイル基の炭素原子数は特に限定されず、例えば、１以上であってよい。また、Ｒ６のフッ化アルカンジイル基の炭素原子数は、例えば１７以下であってよく、好ましくは１５以下、より好ましくは１２以下である。The fluorinated alkanediyl group for R 6 can be said to be a group in which some or all of the hydrogen atoms of the aforementioned alkanediyl group have been substituted with fluorine atoms. The number of carbon atoms in the fluorinated alkanediyl group of R 6 is not particularly limited, and may be, for example, 1 or more. The number of carbon atoms in the fluorinated alkanediyl group of R 6 may be, for example, 17 or less, preferably 15 or less, and more preferably 12 or less.
Ｒ６のフッ化アルカンジイル基としては、ジフルオロメチレン（－ＣＦ２－）を含む基を好適に用いることができる。As the fluorinated alkanediyl group for R 6 , a group containing difluoromethylene (--CF 2 --) can be preferably used.
アルカンジイル基若しくはフッ化アルカンジイル基における炭素－炭素結合及び炭素－水素結合の一部に酸素原子が挿入された基（以下、Ｒ６の含酸素基ともいう。）は、酸素原子が一箇所に挿入された基であってよく、二箇所以上に挿入された基であってもよい。A group in which an oxygen atom is inserted into part of the carbon-carbon bond and carbon-hydrogen bond in an alkanediyl group or a fluorinated alkanediyl group (hereinafter also referred to as an oxygen-containing group of R6 ) has one oxygen atom It may be a group inserted into or may be a group inserted at two or more positions.
尚、炭素－炭素結合に酸素原子が挿入されると、エーテル結合が形成される。また、炭素－水素結合に酸素原子が挿入されると、ヒドロキシル基が形成される。すなわち、Ｒ６の含酸素基は、エーテル結合及びヒドロキシル基からなる群より選択される少なくとも一種を含む基ということもできる。An ether bond is formed when an oxygen atom is inserted into the carbon-carbon bond. A hydroxyl group is also formed when an oxygen atom is inserted into a carbon-hydrogen bond. That is, the oxygen-containing group of R6 can also be said to be a group containing at least one selected from the group consisting of an ether bond and a hydroxyl group.
Ｒ６の含酸素基の具体例としては、例えば、－ＣＨ２ＣＨ２Ｏ－を含む基等が挙げられる。Specific examples of the oxygen-containing group for R 6 include groups containing —CH 2 CH 2 O—.
式（Ａ－３）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば３質量％以上であってよく、好ましくは７質量％以上、より好ましくは１５質量％以上である。また、式（Ａ－３）で表される化合物におけるフッ素原子含有量は、例えば９０質量％以下であってよく、好ましくは８０質量％以下、より好ましくは７０質量％以下である。 The fluorine atom content in the compound represented by formula (A-3) may be, for example, 3% by mass or more, preferably 7% by mass or more, and more preferably 15% by mass or more. Further, the fluorine atom content in the compound represented by formula (A-3) may be, for example, 90% by mass or less, preferably 80% by mass or less, and more preferably 70% by mass or less.
式（Ａ－３）で表される化合物の具体例の一つとして、例えば、式（Ａ－３－１）で表される化合物が挙げられる。 One specific example of the compound represented by formula (A-3) is a compound represented by formula (A-3-1).
式（Ａ－３－１）中、Ｒ５は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ６１は水素原子又はフッ素原子を示し、Ｒ６２は水素原子又はフッ素原子を示し、ｐは０以上の整数を示す。ｐが１以上のとき、複数存在するＲ６１は、互いに同一でも異なっていてもよい。また、複数存在するＲ６２は、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ６２の少なくとも一つはフッ素原子である。In formula (A-3-1), R 5 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 61 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, R 62 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and p is an integer of 0 or more. show. When p is 1 or more, multiple R 61 may be the same or different. Moreover, multiple R 62 may be the same or different. However, at least one of R 62 is a fluorine atom.
ｐは、０以上の整数を示す。ここで、ｐが０とは、ベンゼン環と酸素原子とが直接結合していることを示す。ｐは、１以上の整数であってもよい。また、ｐの上限は特に限定されず、例えば１７以下であってよく、好ましくは１５以下、より好ましくは１２以下である。 p represents an integer of 0 or more. Here, when p is 0, it means that the benzene ring and the oxygen atom are directly bonded. p may be an integer of 1 or more. The upper limit of p is not particularly limited, and may be, for example, 17 or less, preferably 15 or less, more preferably 12 or less.
式（Ａ－３－１）中にＲ６１が存在するとき（すなわち、ｐが１以上の整数であるとき）、Ｒ６１は、全て水素原子であってよく、全てフッ素原子であってもよく、一部が水素原子で他部がフッ素原子であってもよい。When R 61 is present in formula (A-3-1) (that is, when p is an integer of 1 or more), all R 61 may be hydrogen atoms or all fluorine atoms. , a portion thereof may be a hydrogen atom and the other portion may be a fluorine atom.
Ｒ６２は、式（Ａ－３－１）中に複数存在しており、そのうちの少なくとも１個がフッ素原子である。また、Ｒ６２のうち、２個以上がフッ素原子であってもよく、３個以上がフッ素原子以上であってもよい。また、Ｒ６２の全て（５個）がフッ素原子であってもよい。Multiple R 62 are present in formula (A-3-1), at least one of which is a fluorine atom. Two or more of R 62 may be fluorine atoms, and three or more of them may be fluorine atoms or more. Also, all (five) of R 62 may be fluorine atoms.
Ｒ６１及びＲ６２の合計数に対するフッ素原子の数の割合は、例えば５％以上であってよく、好ましくは１０％以上、より好ましくは２０％以上である。当該割合は、例えば１００％以下であってよく、好ましくは９５％以下、より好ましくは８０％以下である。The ratio of the number of fluorine atoms to the total number of R 61 and R 62 may be, for example, 5% or more, preferably 10% or more, and more preferably 20% or more. The proportion may be, for example, 100% or less, preferably 95% or less, more preferably 80% or less.
含フッ素モノマーは、上記の化合物に限定されない。 The fluorine-containing monomer is not limited to the above compounds.
本実施形態に係る封止剤は、含フッ素モノマー以外の他のモノマー成分（以下、（Ｂ）成分ともいう。）を更に含有していてよい。（Ｂ）成分は、含フッ素モノマー（（Ａ）成分）と共重合可能な化合物であればよく、例えば、（メタ）アクリロイル基と共重合可能な重合性基を有する化合物であってよい。 The encapsulant according to the present embodiment may further contain a monomer component other than the fluorine-containing monomer (hereinafter also referred to as component (B)). The component (B) may be a compound copolymerizable with the fluorine-containing monomer (component (A)), and may be, for example, a compound having a polymerizable group copolymerizable with a (meth)acryloyl group.
（Ｂ）成分が有する重合性基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、アリル基、ビニルエーテル基、ビニルエステル基等が挙げられ、これらのうち（メタ）アクリロイル基が好ましい。 Examples of polymerizable groups possessed by the component (B) include vinyl groups, (meth)acryloyl groups, allyl groups, vinyl ether groups, vinyl ester groups, etc. Of these, (meth)acryloyl groups are preferred.
（Ｂ）成分としては、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーを好適に用いることができる。すなわち、（Ｂ）成分は、フッ素原子を有さず、（メタ）アクリロイル基を有するモノマーであることが好ましい。 As the component (B), a monomer having a (meth)acryloyl group can be suitably used. That is, the component (B) is preferably a monomer having no fluorine atom and having a (meth)acryloyl group.
（Ｂ）成分としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノールアクリレート等の単官能（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、ジメチロール－トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリレートなどが挙げられる。 Examples of component (B) include monofunctional (meth)acrylates such as ethyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, benzyl (meth)acrylate, ethoxylated-o-phenylphenol acrylate, and 1,6-hexanediol. Polyfunctional (meth)acrylates such as di(meth)acrylate, 1,12-dodecanediol di(meth)acrylate, and dimethylol-tricyclodecanedi(meth)acrylate.
（Ｂ）成分の好適な一例としては、環状構造を有するモノマー（以下、（Ｂ－１）成分ともいう。）が挙げられる。（Ｂ－１）成分が有する環状構造としては、例えば、環状アミド、テトラヒドロフラン環、ピペリジン環等のヘテロ環；シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロドデカトリエン環、ノルボルナン環、アダマンタン環等の脂肪族炭化水素環；ベンゼン環等の芳香族炭化水素環が挙げられ、これらのうち脂肪族炭化水素環及び芳香族炭化水素環からなる群より選択される少なくとも一種が好ましい。なお、（Ｂ－１）成分は、フッ素原子を有さず、上述の含フッ素モノマーとは区別される。 A preferred example of component (B) is a monomer having a cyclic structure (hereinafter also referred to as component (B-1)). Examples of the cyclic structure of component (B-1) include heterocycles such as cyclic amide, tetrahydrofuran ring and piperidine ring; An aliphatic hydrocarbon ring; an aromatic hydrocarbon ring such as a benzene ring can be mentioned, and among these, at least one selected from the group consisting of an aliphatic hydrocarbon ring and an aromatic hydrocarbon ring is preferred. The component (B-1) does not have a fluorine atom and is distinguished from the fluorine-containing monomers described above.
（Ｂ－１）成分のうち、芳香族炭化水素環を有するモノマーとしては、
ベンジル（メタ）アクリレート、４－ブチルフェニル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２，４，５－テトラメチルフェニル（メタ）アクリレート、４－クロロフェニル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート（２－ＨＰＡ）、２－（メタ）アクリロイロキシエチル－２－ヒドロキシプロピルフタル酸、ＥＯ変性フェノール（メタ）アクリレート、ＥＯ（エチレンオキシド）変性クレゾール（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、ＰＯ（プロピレンオキシド）変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ－フェノキシベンジル（メタ）アクリレート等の単官能モノマー、
エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシジ（メタ）アクリレート等の多官能モノマー等が挙げられる。Among the components (B-1), monomers having an aromatic hydrocarbon ring include:
benzyl (meth)acrylate, 4-butylphenyl (meth)acrylate, phenyl (meth)acrylate, 2,4,5-tetramethylphenyl (meth)acrylate, 4-chlorophenyl (meth)acrylate, phenoxymethyl (meth)acrylate, phenoxyethyl (meth)acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)acrylate (2-HPA), 2-(meth)acryloyloxyethyl-2-hydroxypropylphthalic acid, EO-modified phenol (meth)acrylate, EO (ethylene oxide)-modified cresol (meth)acrylate, EO-modified nonylphenol (meth)acrylate, PO (propylene oxide)-modified nonylphenol (meth)acrylate, ethoxylated-o-phenylphenol (meth)acrylate, m-phenoxybenzyl (meth) monofunctional monomers such as acrylates,
Polyfunctional monomers such as ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, propoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, propoxylated ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, bisphenol A epoxy di(meth)acrylate, and the like are included.
芳香族炭化水素環を有するモノマーとしては、ベンゼン環を２個有するモノマーがより好ましく、当該モノマーとしては、例えば、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ－フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートが挙げられ、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート及びエトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種が特に好ましい。 As the monomer having an aromatic hydrocarbon ring, a monomer having two benzene rings is more preferable. Examples of the monomer include ethoxylated-o-phenylphenol (meth)acrylate, m-phenoxybenzyl (meth)acrylate, Examples include ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylates, and at least one selected from the group consisting of ethoxylated-o-phenylphenol (meth)acrylates and ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylates is particularly preferred.
エトキシ化－ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレートとしては、例えば下記式（Ｂ－１－１）で表される化合物が好ましい。 As the ethoxylated o-phenylphenol (meth)acrylate, for example, compounds represented by the following formula (B-1-1) are preferable.
式（Ｂ－１－１）中、ｑは１以上の整数（好ましくは１～５）を示し、Ｒ７は水素原子又はメチル基を示す。In formula (B-1-1), q represents an integer of 1 or more (preferably 1 to 5), and R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group.
エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートとしては、例えば下記式（Ｂ－１－２）で表される化合物が好ましい。 As the ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate, for example, compounds represented by the following formula (B-1-2) are preferable.
式（Ｂ－１－２）中、ｒ及びｓはそれぞれ独立に１以上の整数（好ましくは、ｒ＋ｓ＝２～１０）を示し、Ｒ８及びＲ９はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を示す。In formula (B-1-2), r and s each independently represent an integer of 1 or more (preferably r+s=2 to 10), and R 8 and R 9 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group. .
（Ｂ－１）成分のうち、脂肪族炭化水素環を有するモノマーとしては、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メトキシ化シクロデカトリエン（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸等が挙げられる。 Among components (B-1), monomers having an aliphatic hydrocarbon ring include, for example, cyclohexyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, dicyclo pentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, methoxylated cyclodecatriene (meth)acrylate, tricyclodecanedimethanol di(meth)acrylate, 2-(meth)acryloyl roxyethyl hexahydrophthalic acid and the like.
脂肪族炭化水素環を有するモノマーとしては、ノルボルナン環及びシクロペンタン環からなる群より選択される少なくとも一種を有するモノマーがより好ましく、当該モノマーとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられ、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート及びトリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種が特に好ましい。 The monomer having an aliphatic hydrocarbon ring is more preferably a monomer having at least one selected from the group consisting of a norbornane ring and a cyclopentane ring. Examples of the monomer include tricyclodecanedimethanol di(meth)acrylate. , dicyclopentanyloxyethyl (meth)acrylate, dicyclopentenyl (meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate and tricyclodecanedimethanol di(meth)acrylate. ) At least one selected from the group consisting of acrylates is particularly preferred.
（Ｂ－１）成分としては、低透湿性により優れる封止材が得られやすくなる観点から、環状構造を分子内に２個以上有するモノマーが好ましく、環状構造を分子内に２個有するモノマーがより好ましい。 As the component (B-1), a monomer having two or more cyclic structures in the molecule is preferable, and a monomer having two cyclic structures in the molecule is preferable from the viewpoint of easily obtaining a sealing material excellent in low moisture permeability. more preferred.
環状構造を分子内に２個以上有するモノマーとしては、例えば、
エトキシ化－ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ－フェノキシベンジル（メタ）アクリレート及びエトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される芳香族炭化水素環を有するモノマー；
トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート等の脂肪族炭化水素環を有するモノマーが挙げられる。Examples of monomers having two or more cyclic structures in the molecule include
A monomer having an aromatic hydrocarbon ring selected from the group consisting of ethoxylated-o-phenylphenol (meth)acrylate, m-phenoxybenzyl (meth)acrylate and ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylate;
monomers having an aliphatic hydrocarbon ring such as tricyclodecanedimethanol di(meth)acrylate, dicyclopentanyloxyethyl(meth)acrylate, dicyclopentenyl(meth)acrylate, dicyclopentenyloxyethyl(meth)acrylate; mentioned.
（Ｂ－１）成分は、低透湿性により優れる封止材が得られやすくなる観点から、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノール（メタ）アクリレート、ｍ－フェノキシベンジル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート及びエトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレートからなる群より選択されることが好ましい。 Component (B-1) includes ethoxylated o-phenylphenol (meth)acrylate, m-phenoxybenzyl (meth)acrylate, and tricyclodecanedimethanol from the viewpoint of easily obtaining an excellent sealing material due to low moisture permeability. It is preferably selected from the group consisting of di(meth)acrylates and ethoxylated bisphenol A di(meth)acrylates.
（Ｂ）成分の好適な他の一例としては、炭素数６以上のアルカンジイル基を有するアルカンジオールジ（メタ）アクリレート（以下、（Ｂ－２）成分ともいう。）が挙げられる。（Ｂ－２）成分が有するアルカンジイル基の炭素数は、好ましくは１～２０であり、より好ましくは６～１５であり、更に好ましくは９～１２である。また、（Ｂ－２）成分が有するアルカンジイル基は、好ましくはα，ω－アルカンジイル基である。なお、（Ｂ－２）成分は、フッ素原子を有さず、上述の含フッ素モノマーとは区別される。 Another preferred example of component (B) is an alkanediol di(meth)acrylate having an alkanediyl group with 6 or more carbon atoms (hereinafter also referred to as component (B-2)). The alkanediyl group of the component (B-2) preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 15 carbon atoms, and still more preferably 9 to 12 carbon atoms. Also, the alkanediyl group possessed by the component (B-2) is preferably an α,ω-alkanediyl group. The component (B-2) does not have a fluorine atom and is distinguished from the fluorine-containing monomer described above.
（Ｂ－２）成分としては、例えば、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられ、好ましくは１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも一種であり、より好ましくは１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレートである。 Component (B-2) includes, for example, 1,6-hexanediol di(meth)acrylate, 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, 1,10-decanediol di(meth)acrylate, 1,12 -dodecanediol di(meth)acrylate, preferably 1,9-nonanediol di(meth)acrylate, 1,10-decanediol di(meth)acrylate, 1,12-dodecanediol di(meth)acrylate It is at least one selected from the group consisting of, more preferably 1,12-dodecanediol di(meth)acrylate.
本実施形態において、全モノマー成分に占める含フッ素モノマーの割合は、３質量％以上であることが好ましく、５質量％以上であることがより好ましく、１０質量％以上であることが更に好ましい。当該割合の上限は特に限定されず、例えば１００質量％であってもよい。 In the present embodiment, the proportion of the fluorine-containing monomer in the total monomer components is preferably 3% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, and even more preferably 10% by mass or more. The upper limit of the ratio is not particularly limited, and may be, for example, 100% by mass.
モノマー成分の全量に対するフッ素原子含有量は、濡れ性及び接着性の観点から、例えば０．１質量％以上であってよく、好ましくは０．３質量％以上、より好ましくは１質量％以上、更に好ましくは２質量％以上、最も好ましくは５質量％以上である。また、フッ素原子の含有量は、モノマー成分の全量基準で、例えば７５質量％以下であってよく、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６５質量％以下である。 From the viewpoint of wettability and adhesiveness, the fluorine atom content relative to the total amount of the monomer components may be, for example, 0.1% by mass or more, preferably 0.3% by mass or more, more preferably 1% by mass or more, and further It is preferably 2% by mass or more, and most preferably 5% by mass or more. The fluorine atom content may be, for example, 75% by mass or less, preferably 70% by mass or less, and more preferably 65% by mass or less, based on the total amount of the monomer components.
光重合開始剤は、可視光線、紫外線等の活性光線によって活性化し、含フッ素モノマーを含むモノマー成分を開始又は促進させることができる化合物であればよい。光重合開始剤は１種を単独で用いてよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤が好ましい。 The photopolymerization initiator may be any compound that can be activated by actinic rays such as visible rays and ultraviolet rays to initiate or promote monomer components including fluorine-containing monomers. A photoinitiator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type. As the photopolymerization initiator, a photoradical polymerization initiator is preferred.
光ラジカル重合開始剤としては、
ベンゾフェノン及びその誘導体；
ベンジル及びその誘導体；
アントラキノン及びその誘導体；
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン型光重合開始剤；
ジエトキシアセトフェノン、４－ｔｅｒｔ－ブチルトリクロロアセトフェノン等のアセトフェノン型光重合開始剤；
２－ジメチルアミノエチルベンゾエート；
ｐ－ジメチルアミノエチルベンゾエート；
ジフェニルジスルフィド；
チオキサントン及びその誘導体；
カンファーキノン、７，７－ジメチル－２，３－ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン－１－カルボン酸、７，７－ジメチル－２，３－ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン－１－カルボキシ－２－ブロモエチルエステル、７，７－ジメチル－２，３－ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン－１－カルボキシ－２－メチルエステル、７，７－ジメチル－２，３－ジオキソビシクロ［２．２．１］ヘプタン－１－カルボン酸クロライド等のカンファーキノン型光重合開始剤；
２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタノン－１等のα－アミノアルキルフェノン型光重合開始剤；
ベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシホスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイルジメトキシフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６－トリメチルベンゾイルジエトキシフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６―トリメチルベンゾイル）－フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤；
フェニル－グリオキシリックアシッド－メチルエステル；
オキシ－フェニル－アセチックアシッド２－［２－オキソ－２－フェニル－アセトキシ－エトキシ］－エチルエステル；
オキシ－フェニル－アセチックアシッド２－［２－ヒドロキシ－エトキシ］－エチルエステル；等が挙げられる。As a photoradical polymerization initiator,
Benzophenone and its derivatives;
benzyl and its derivatives;
anthraquinone and its derivatives;
Benzoin-type photopolymerization initiators such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin propyl ether, benzoin isobutyl ether, and benzyl dimethyl ketal;
Acetophenone-type photopolymerization initiators such as diethoxyacetophenone and 4-tert-butyltrichloroacetophenone;
2-dimethylaminoethyl benzoate;
p-dimethylaminoethyl benzoate;
diphenyl disulfide;
thioxanthone and its derivatives;
camphorquinone, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxylic acid, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1] Heptane-1-carboxy-2-bromoethyl ester, 7,7-dimethyl-2,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxy-2-methyl ester, 7,7-dimethyl-2 ,3-dioxobicyclo[2.2.1]heptane-1-carboxylic acid chloride and other camphorquinone-type photoinitiators;
α such as 2-methyl-1-[4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1, etc. - an aminoalkylphenone-type photoinitiator;
benzoyldiphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide, benzoyldiethoxyphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldimethoxyphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiethoxyphenylphosphine acylphosphine oxide-type photopolymerization initiators such as oxide, bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-phenylphosphine oxide;
phenyl-glyoxylic acid-methyl ester;
oxy-phenyl-acetic acid 2-[2-oxo-2-phenyl-acetoxy-ethoxy]-ethyl ester;
oxy-phenyl-acetic acid 2-[2-hydroxy-ethoxy]-ethyl ester;
光重合開始剤としては、３９０ｎｍ以上の可視光線のみを用いて硬化できる観点からは、アシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤が好ましい。尚、アシルホスフィンオキサイド型光重合開始剤は、アシルホスフィンオキサイド基（－（Ｃ＝Ｏ）－（Ｐ＝Ｏ）＜）を有する光重合開始剤ということもできる。また、３９５ｎｍ以上の光で硬化でき、可視光透過率のより高い硬化体が得られやすくなる観点からは、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイドが特に好ましい。２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイドとしては、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＴＰＯ」等が挙げられる。 As the photopolymerization initiator, an acylphosphine oxide type photopolymerization initiator is preferable from the viewpoint of curing by using only visible light of 390 nm or longer. The acylphosphine oxide type photopolymerization initiator can also be said to be a photopolymerization initiator having an acylphosphine oxide group (-(C=O)-(P=O)<). In addition, 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide is particularly preferred from the viewpoint that it can be cured with light of 395 nm or more and a cured product having a higher visible light transmittance can be easily obtained. Examples of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide include "Irgacure TPO" manufactured by BASF Japan.
光重合開始剤の含有量は、モノマー成分の総量１００質量部に対して、０．０５質量部以上が好ましく、０．５質量部以上がより好ましく、２質量部以上が更に好ましく、２．５質量部以上が一層好ましい。光重合開始剤の含有量を多くすることで、封止剤の硬化性能がより向上する傾向がある。光重合開始剤の含有量は、モノマー成分の総量１００質量部に対して、１２質量部以下が好ましく、８質量部以下がより好ましく、６質量部以下が更に好ましい。光重合開始剤の含有量を少なくすることで、可視光透過率のより高い硬化体が得られやすくなる。 The content of the photopolymerization initiator is preferably 0.05 parts by mass or more, more preferably 0.5 parts by mass or more, still more preferably 2 parts by mass or more, with respect to 100 parts by mass of the total amount of the monomer components. Part by mass or more is more preferable. By increasing the content of the photopolymerization initiator, the curing performance of the sealant tends to be further improved. The content of the photopolymerization initiator is preferably 12 parts by mass or less, more preferably 8 parts by mass or less, and even more preferably 6 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the monomer components. By reducing the content of the photopolymerization initiator, it becomes easier to obtain a cured product with higher visible light transmittance.
本実施形態に係る封止剤は、モノマー成分及び光重合開始剤以外の他の成分を更に含有していてもよい。本実施形態に係る封止剤は、例えば、他の成分として当該術分野で用いられる公知の添加剤を更に含有していてもよい。添加剤としては、例えば、酸化防止剤、金属不活性化剤、填料、安定剤、中和剤、滑剤、抗菌剤等が挙げられる。 The encapsulant according to the present embodiment may further contain components other than the monomer component and the photopolymerization initiator. The sealant according to the present embodiment may further contain, for example, known additives used in the technical field as other components. Examples of additives include antioxidants, metal deactivators, fillers, stabilizers, neutralizers, lubricants, antibacterial agents, and the like.
本実施形態に係る封止剤の表面張力、特に静的表面張力は、４０ｍＮ／ｍ以下が好ましく、３０ｍＮ／ｍ以下がより好ましい。これにより、インクジェット等による塗布が容易となり、作業性が向上する。また、これにより、基板等に対する密着性が向上して、防湿性及び接着性がより向上する傾向がある。静的表面張力の下限は特に限定されず、例えば１０ｍＮ／ｍ以上であってよい。 The surface tension, particularly static surface tension, of the sealant according to this embodiment is preferably 40 mN/m or less, more preferably 30 mN/m or less. This facilitates application by an inkjet or the like, and improves workability. In addition, this tends to improve the adhesion to substrates and the like, thereby further improving moisture resistance and adhesiveness. The lower limit of static surface tension is not particularly limited, and may be, for example, 10 mN/m or more.
尚、静的表面張力は、プレート法、リング法、ペンダントドロップ法等により測定されるが、本実施形態で規定する静的表面張力の値は、ペンダントドロップ法によるものである。ペンダントドロップ法とは、管の先端から液体を押し出し、ぶら下がった懸滴（ペンダントドロップ）の形状から表面張力を算出する方法をいう。 The static surface tension is measured by a plate method, a ring method, a pendant drop method, or the like, and the value of the static surface tension defined in this embodiment is obtained by the pendant drop method. The pendant drop method is a method of extruding a liquid from the tip of a tube and calculating the surface tension from the shape of a hanging drop (pendant drop).
本実施形態に係る封止剤は、可視光線又は紫外線の少なくとも一方を照射することで硬化できる。尚、本明細書中、封止剤の「硬化」とは、必ずしも剛直に固化することに限定されず、モノマー成分が重合して重合体を形成すればよい。例えば、封止剤の硬化体は、剛直な固体（例えば、ガラス状）であってよく、ゴム状であってもよい。 The sealant according to this embodiment can be cured by irradiation with at least one of visible light and ultraviolet light. In this specification, the term "curing" of the sealant is not necessarily limited to rigid solidification, and may form a polymer by polymerizing the monomer components. For example, the cured body of the sealant may be a rigid solid (for example, glass-like) or rubber-like.
可視光線又は紫外線を照射するためのエネルギー照射源としては、重水素ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、キセノンランプ、キセノン－水銀混成ランプ、ハロゲンランプ、エキシマランプ、インジウムランプ、タリウムランプ、ＬＥＤランプ、無電極放電ランプ等のエネルギー照射源が挙げられる。 Energy irradiation sources for irradiation with visible rays or ultraviolet rays include deuterium lamps, high-pressure mercury lamps, extra-high pressure mercury lamps, low-pressure mercury lamps, xenon lamps, xenon-mercury hybrid lamps, halogen lamps, excimer lamps, indium lamps, Energy irradiation sources such as thallium lamps, LED lamps, electrodeless discharge lamps and the like can be mentioned.
本実施形態に係る封止剤は、有機ＥＬ表示素子にダメージを与えづらい観点から、３８０ｎｍ以上の波長の光で硬化させることが好ましく、３９５ｎｍ以上の波長の光で硬化させることがより好ましく、３９５ｎｍの波長の光で硬化させることが最も好ましい。照射光の波長としては、赤外光による照射部の温度上昇が避けられ、有機ＥＬ表示素子にダメージを与える可能性が小さいことから、５００ｎｍ以下が好ましい。エネルギー照射源としては、発光波長が単波長であるＬＥＤランプが好ましい。 The sealant according to the present embodiment is preferably cured with light having a wavelength of 380 nm or more, more preferably with light having a wavelength of 395 nm or more, from the viewpoint of hardly damaging the organic EL display element. is most preferably cured with light of a wavelength of . The wavelength of the irradiation light is preferably 500 nm or less because the temperature rise of the irradiated portion due to the infrared light can be avoided and the possibility of damaging the organic EL display element is small. As the energy irradiation source, an LED lamp emitting light with a single wavelength is preferable.
封止剤を硬化させる際の照射量は、１００～８０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、３００～２０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。照射量を１００ｍＪ／ｃｍ２以上とすることで、封止剤が十分に硬化し、高い接着強度が得られやすくなる。また、照射量を８０００ｍＪ／ｃｍ２以下とすることで、有機ＥＬ表示素子に対してダメージを与えることなく封止剤を硬化することができる。The irradiation amount for curing the sealant is preferably 100 to 8000 mJ/cm 2 , more preferably 300 to 2000 mJ/cm 2 . By setting the irradiation amount to 100 mJ/cm 2 or more, the sealant is sufficiently cured, and high adhesive strength can be easily obtained. Also, by setting the irradiation amount to 8000 mJ/cm 2 or less, the sealant can be cured without damaging the organic EL display element.
本実施形態に係る封止剤の硬化体は、透明性に優れることが望ましい。具体的には、硬化体は、３６０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の紫外－可視光線領域の分光透過率が、厚さ１０μｍ当たりで、９５％以上であることが好ましく、９７％以上であることがより好ましく、９９％以上であることが更に好ましい。この分光透過率が９５％以上であると、輝度及びコントラストに優れた有機ＥＬ表示装置が得られやすくなる。 It is desirable that the cured product of the sealant according to the present embodiment has excellent transparency. Specifically, the cured body preferably has a spectral transmittance of 95% or more, more preferably 97% or more, in the ultraviolet-visible region of 360 nm or more and 800 nm or less per 10 μm of thickness. More preferably, it is 99% or more. When this spectral transmittance is 95% or more, it becomes easy to obtain an organic EL display device excellent in brightness and contrast.
本実施形態に係る封止剤の硬化体は、ＪＩＳ Ｚ ０２０８：１９７６に準拠して、２３℃、９０％ＲＨの環境下に２４時間暴露して測定した１００μｍ厚での透湿度の値が、３５０ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、１５０ｇ／ｍ２以下であることがより好ましく、７５ｇ／ｍ２以下であることが更に好ましい。透湿度が低いと、有機発光材料層への水分の到達によるダークスポットの発生を抑制できる。The cured body of the sealant according to the present embodiment was exposed to an environment of 23° C. and 90% RH for 24 hours in accordance with JIS Z 0208:1976, and the moisture permeability at a thickness of 100 μm was measured as follows: It is preferably 350 g/m 2 or less, more preferably 150 g/m 2 or less, and even more preferably 75 g/m 2 or less. When the moisture permeability is low, it is possible to suppress the generation of dark spots due to moisture reaching the organic light-emitting material layer.
本実施形態に係る封止剤の使用方法は特に限定されない。例えば、対象物（例えば、有機ＥＬ表示素子）に封止剤を塗布し、対象物上で封止剤を硬化させることによって、封止剤の硬化体からなる封止材を形成できる。 The method of using the sealant according to this embodiment is not particularly limited. For example, by applying a sealant to an object (for example, an organic EL display element) and curing the sealant on the object, a sealant composed of a cured body of the sealant can be formed.
また、封止剤を所定の形状（例えば、フィルム状、シート状等）に硬化させて、所定の形状を有する封止材を形成してもよい。この場合、例えば、当該封止材を有機ＥＬ表示素子上に配置することで、有機ＥＬ表示素子を封止できる。 Alternatively, a sealing material having a predetermined shape may be formed by curing the sealing material into a predetermined shape (for example, film-like, sheet-like, etc.). In this case, for example, the organic EL display element can be sealed by disposing the sealing material on the organic EL display element.
以下、本実施形態に係る封止剤を用いて形成される有機ＥＬ表示装置の一態様について、トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置を例に説明する。尚、本実施形態に係る封止剤を適用する有機ＥＬ表示装置は、トップエミッション型に限定されず、有機ＥＬ層で生じる光を基板側から照射するボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置であってもよい。 One aspect of the organic EL display device formed using the sealant according to the present embodiment will be described below using a top emission type organic EL display device as an example. Note that the organic EL display device to which the sealant according to the present embodiment is applied is not limited to the top emission type, but is a bottom emission type organic EL display device in which the light generated in the organic EL layer is irradiated from the substrate side. good too.
トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置は、有機ＥＬ表示素子と、有機ＥＬ表示素子を封止する封止層と、封止層上に設けられる封止基板と、を備えている。 A top emission type organic EL display device includes an organic EL display element, a sealing layer for sealing the organic EL display element, and a sealing substrate provided on the sealing layer.
有機ＥＬ表示素子は、例えば、基板上に、陽極と、発光層を含む有機ＥＬ層と、陰極とが順に積層された構造を有している。 An organic EL display element has, for example, a structure in which an anode, an organic EL layer including a light-emitting layer, and a cathode are sequentially laminated on a substrate.
有機ＥＬ表示素子の基板としては、例えば、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板等が挙げられる。これらのうち、ガラス基板及びプラスチック基板からなる群より選択される少なくとも一種が好ましく、ガラス基板がより好ましい。 Examples of substrates for organic EL display elements include glass substrates, silicon substrates, and plastic substrates. Among these, at least one selected from the group consisting of glass substrates and plastic substrates is preferred, and glass substrates are more preferred.
プラスチック基板に用いられるプラスチックとしては、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキサジアゾール、芳香族ポリアミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリチアゾール、ポリパラフェニレンビニレン、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィン、ポリアクリル等が挙げられる。これらの中では、低水分透過性、低酸素透過性、耐熱性に優れる点で、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオキサジアゾール、芳香族ポリアミド、ポリベンゾイミダゾール、ポリベンゾビスチアゾール、ポリベンゾオキサゾール、ポリチアゾール、ポリパラフェニレンビニレンからなる群のうちの１種以上が好ましく、紫外線又は可視光線等のエネルギー線の透過性が高い点で、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートからなる群のうちの１種以上がより好ましい。 Plastics used for plastic substrates include polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyoxadiazole, aromatic polyamide, polybenzimidazole, polybenzobisthiazole, polybenzoxazole, polythiazole, and polyparaphenylene. Examples include vinylene, polymethyl methacrylate, polystyrene, polycarbonate, polycycloolefin, and polyacryl. Among these, polyimide, polyetherimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyoxadiazole, aromatic polyamide, polybenzimidazole, polybenzo One or more of the group consisting of bisthiazole, polybenzoxazole, polythiazole, and polyparaphenylenevinylene are preferable, and polyimide, polyetherimide, and polyethylene terephthalate are preferred in terms of high transmittance of energy rays such as ultraviolet rays or visible light. , and polyethylene naphthalate are more preferred.
陽極としては、比較的仕事関数の大きな（４．０ｅＶより大きな仕事関数を持つものが好適である）、導電性の金属酸化物膜や半透明の金属薄膜等が一般的に用いられる。陽極の材料としては例えば、インジウムスズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、以下、ＩＴＯという）、酸化スズ等の金属酸化物、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）等の金属又はこれらのうちの少なくとも１個を含有する合金、ポリアニリン又はその誘導体、ポリチオフェン又はその誘導体等の有機の透明導電膜等が挙げられる。陽極は、必要があれば２層以上の層構成により形成することができる。陽極の膜厚は、電気伝導度を（ボトムエミッション型の場合には、光の透過性も）考慮して、適宜選択することができる。陽極の膜厚は、１０ｎｍ～１０μｍが好ましく、２０ｎｍ～１μｍがより好ましく、５０ｎｍ～５００ｎｍが最も好ましい。陽極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、メッキ法等が挙げられる。トップエミッション型の場合には、基板側に照射される光を反射させるための反射膜を陽極の下に設けてもよい。 As the anode, a conductive metal oxide film, a semi-transparent metal thin film, or the like having a relatively large work function (preferably one having a work function greater than 4.0 eV) is generally used. Materials for the anode include, for example, indium tin oxide (hereinafter referred to as ITO), metal oxides such as tin oxide, gold (Au), platinum (Pt), silver (Ag), copper (Cu), and the like. metals or alloys containing at least one of them, organic transparent conductive films such as polyaniline or its derivatives, polythiophene or its derivatives, and the like. The anode can be formed with a layer structure of two or more layers, if necessary. The film thickness of the anode can be appropriately selected in consideration of electrical conductivity (and light transmittance in the case of bottom emission type). The film thickness of the anode is preferably 10 nm to 10 μm, more preferably 20 nm to 1 μm, most preferably 50 nm to 500 nm. Examples of methods for producing the anode include a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, and a plating method. In the case of the top emission type, a reflective film may be provided under the anode for reflecting the light irradiated to the substrate side.
有機ＥＬ層は、少なくとも有機物からなる発光層を含んでいる。この発光層は、発光性材料を含有する。発光性材料としては、蛍光又は燐光を発光する有機物（低分子化合物又は高分子化合物）等が挙げられる。発光層は、更に、ドーパント材料を含有してもよい。有機物としては、色素系材料、金属錯体系材料、高分子材料等が挙げられる。ドーパント材料は、有機物の発光効率の向上や発光波長を変化させる等の目的で、有機物中にドープされるものである。これらの有機物と必要に応じてドープされるドーパントからなる発光層の厚さは通常２～２００ｎｍである。 The organic EL layer includes at least a light-emitting layer made of organic matter. This light-emitting layer contains a light-emitting material. Examples of light-emitting materials include organic substances (low-molecular-weight compounds or high-molecular-weight compounds) that emit fluorescence or phosphorescence. The light-emitting layer may further contain dopant materials. Examples of organic materials include dye-based materials, metal complex-based materials, and polymer materials. A dopant material is doped into an organic substance for the purpose of improving the luminous efficiency of the organic substance, changing the emission wavelength, or the like. The thickness of the light-emitting layer composed of these organic substances and optionally doped dopants is usually 2 to 200 nm.
色素系材料としては、シクロペンダミン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体化合物、トリフェニルアミン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ピラゾロキノリン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、ジスチリルアリーレン誘導体、ピロール誘導体、チオフェン環化合物、ピリジン環化合物、ペリノン誘導体、ペリレン誘導体、オリゴチオフェン誘導体、トリフマニルアミン誘導体、オキサジアゾールダイマー、ピラゾリンダイマー等が挙げられる。 Dye materials include cyclopentamine derivatives, tetraphenylbutadiene derivatives, triphenylamine derivatives, oxadiazole derivatives, pyrazoloquinoline derivatives, distyrylbenzene derivatives, distyrylarylene derivatives, pyrrole derivatives, thiophene ring compounds, pyridine Ring compounds, perinone derivatives, perylene derivatives, oligothiophene derivatives, trifmanylamine derivatives, oxadiazole dimers, pyrazoline dimers, and the like.
金属錯体系材料としては、イリジウム錯体、白金錯体等の三重項励起状態からの発光を有する金属錯体、アルミキノリノール錯体、ベンゾキノリノールベリリウム錯体、ベンゾオキサゾリル亜鉛錯体、ベンゾチアゾール亜鉛錯体、アゾメチル亜鉛錯体、ポルフィリン亜鉛錯体、ユーロピウム錯体等といった、金属錯体等が挙げられる。金属錯体としては、中心金属に、テルビウム（Ｔｂ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）等の希土類金属、アルミニウム（Ａｌ）、亜鉛（Ｚｎ）、ベリリウム（Ｂｅ）等を有し、配位子に、オキサジアゾール、チアジアゾール、フェニルピリジン、フェニルベンゾイミダゾール、キノリン構造等を有する金属錯体等が挙げられる。これらの中では、中心金属にアルミニウム（Ａｌ）を有し、配位子にキノリン構造等を有する金属錯体が好ましい。中心金属にアルミニウム（Ａｌ）を有し、配位子にキノリン構造等を有する金属錯体の中では、トリス（８－ヒドロキシキノリナト）アルミニウムが好ましい。 Metal complex materials include metal complexes that emit light from triplet excited states such as iridium complexes and platinum complexes, aluminum quinolinol complexes, benzoquinolinol beryllium complexes, benzoxazolyl zinc complexes, benzothiazole zinc complexes, and azomethyl zinc complexes. , porphyrin-zinc complexes, europium complexes, and the like. The metal complex has, as a central metal, a rare earth metal such as terbium (Tb), europium (Eu), dysprosium (Dy), aluminum (Al), zinc (Zn), beryllium (Be), etc., and has a ligand , include metal complexes having oxadiazole, thiadiazole, phenylpyridine, phenylbenzimidazole, quinoline structures, and the like. Among these, a metal complex having aluminum (Al) as a central metal and having a quinoline structure or the like as a ligand is preferable. Among metal complexes having aluminum (Al) as a central metal and having a quinoline structure or the like as a ligand, tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum is preferred.
高分子材料としては、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリシラン誘導体、ポリアセチレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、上記色素体や金属錯体系発光材料を高分子化した物等が挙げられる。 Polymeric materials include polyparaphenylenevinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyparaphenylene derivatives, polysilane derivatives, polyacetylene derivatives, polyfluorene derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, and polymers obtained by polymerizing the above chromophores and metal complex-based luminescent materials. are mentioned.
上記発光性材料のうち、青色に発光する材料としては、ジスチリルアリーレン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、これらの重合体等が挙げられる。これらの中では、高分子材料が好ましい。高分子材料の中では、ポリビニルカルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体からなる群のうちの１種以上が好ましい。 Among the above light-emitting materials, materials emitting blue light include distyrylarylene derivatives, oxadiazole derivatives, polyvinylcarbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, polyfluorene derivatives, and polymers thereof. Among these, polymeric materials are preferred. Among polymeric materials, one or more selected from the group consisting of polyvinylcarbazole derivatives, polyparaphenylene derivatives, and polyfluorene derivatives is preferred.
緑色に発光する材料としては、キナクリドン誘導体、クマリン誘導体、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体、これらの重合体等が挙げられる。これらの中では、高分子材料が好ましい。高分子材料の中では、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリフルオレン誘導体からなる群のうちの１種以上が好ましい。 Materials that emit green light include quinacridone derivatives, coumarin derivatives, polyparaphenylene vinylene derivatives, polyfluorene derivatives, and polymers thereof. Among these, polymeric materials are preferred. Among polymeric materials, one or more selected from the group consisting of polyparaphenylenevinylene derivatives and polyfluorene derivatives is preferred.
赤色に発光する材料としては、クマリン誘導体、チオフェン環化合物、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体、これらの重合体等が挙げられる。これらの中では、高分子材料が好ましい。高分子材料の中では、ポリパラフェニレンビニレン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリフルオレン誘導体からなる群のうちの１種以上が好ましい。 Materials that emit red light include coumarin derivatives, thiophene ring compounds, polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, polyfluorene derivatives, and polymers thereof. Among these, polymeric materials are preferred. Among polymeric materials, one or more selected from the group consisting of polyparaphenylene vinylene derivatives, polythiophene derivatives, and polyfluorene derivatives is preferred.
ドーパント材料としては、ペリレン誘導体、クマリン誘導体、ルブレン誘導体、キナクリドン誘導体、スクアリウム誘導体、ポルフィリン誘導体、スチリル系色素、テトラセン誘導体、ピラゾロン誘導体、デカシクレン、フェノキサゾン等が挙げられる。 Dopant materials include perylene derivatives, coumarin derivatives, rubrene derivatives, quinacridone derivatives, squalium derivatives, porphyrin derivatives, styryl dyes, tetracene derivatives, pyrazolone derivatives, decacyclene, phenoxazone, and the like.
有機ＥＬ層は、発光層以外に、発光層と陽極との間に設けられる層と、発光層と陰極との間に設けられる層と、を適宜設けることができる。まず、発光層と陽極との間に設けられる層としては、陽極からの正孔注入効率を改善する正孔注入層や、陽極又は正孔注入層から注入された正孔を発光層へ輸送する正孔輸送層等が挙げられる。発光層と陰極との間に設けられる層としては、陰極からの電子注入効率を改善する電子注入層や、陰極又は電子注入層から注入された電子を発光層へ輸送する電子輸送層等が挙げられる。 The organic EL layer can appropriately include a layer provided between the light emitting layer and the anode and a layer provided between the light emitting layer and the cathode, in addition to the light emitting layer. First, as a layer provided between the light-emitting layer and the anode, there is a hole-injection layer that improves the efficiency of hole injection from the anode, and a hole-injection layer that transports holes injected from the anode or the hole-injection layer to the light-emitting layer. A hole transport layer and the like are included. Examples of the layer provided between the light emitting layer and the cathode include an electron injection layer that improves the efficiency of electron injection from the cathode, an electron transport layer that transports electrons injected from the cathode or the electron injection layer to the light emitting layer, and the like. be done.
正孔注入層を形成する材料としては、４’，４’’－トリス｛２－ナフチル（フェニル）アミノ｝トリフェニルアミン等のフェニルアミン系、スターバースト型アミン系、フタロシアニン系、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化アルミニウム等の酸化物、アモルファスカーボン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体等が挙げられる。 Materials for forming the hole injection layer include phenylamines such as 4′,4″-tris{2-naphthyl(phenyl)amino}triphenylamine, starburst amines, phthalocyanines, vanadium oxide, oxide Molybdenum, ruthenium oxide, oxides such as aluminum oxide, amorphous carbon, polyaniline, polythiophene derivatives and the like.
正孔輸送層を構成する材料としては、ポリビニルカルバゾール若しくはその誘導体、ポリシラン若しくはその誘導体、側鎖若しくは主鎖に芳香族アミンを有するポリシロキサン誘導体、ピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体、ベンジジン誘導体、ポリアニリン若しくはその誘導体、ポリチオフェン若しくはその誘導体、ポリアリールアミン若しくはその誘導体、ポリピロール若しくはその誘導体、ポリ（ｐ－フェニレンビニレン）若しくはその誘導体、ポリ（２，５－チエニレンビニレン）若しくはその誘導体等が挙げられる。 Materials constituting the hole transport layer include polyvinylcarbazole or derivatives thereof, polysilane or derivatives thereof, polysiloxane derivatives having aromatic amines in side chains or main chains, pyrazoline derivatives, arylamine derivatives, stilbene derivatives, and triphenyldiamine. derivatives, benzidine derivatives, polyaniline or its derivatives, polythiophene or its derivatives, polyarylamines or its derivatives, polypyrrole or its derivatives, poly(p-phenylenevinylene) or its derivatives, poly(2,5-thienylenevinylene) or its derivatives and the like.
これらの正孔注入層又は正孔輸送層が、電子の輸送を堰き止める機能を有する場合には、電子ブロック層ということもある。 When these hole injection layers or hole transport layers have a function of blocking electron transport, they may be referred to as electron blocking layers.
電子輸送層を構成する材料としては、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン若しくはその誘導体、ベンゾキノン若しくはその誘導体、ナフトキノン若しくはその誘導体、アントラキノン若しくはその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン若しくはその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン若しくはその誘導体、ジフェノキノン誘導体、８－ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体、ポリキノリン若しくはその誘導体、ポリキノキサリン若しくはその誘導体、ポリフルオレン若しくはその誘導体等が挙げられる。誘導体としては、金属錯体等が挙げられる。これらの中では、８－ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体が好ましい。８－ヒドロキシキノリン若しくはその誘導体の中では、発光層中に含有する、蛍光又は燐光を発光する有機物としても使用できる点で、トリス（８－ヒドロキシキノリナト）アルミニウムが好ましい。 Materials constituting the electron transport layer include oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane or derivatives thereof, benzoquinone or derivatives thereof, naphthoquinone or derivatives thereof, anthraquinone or derivatives thereof, tetracyanoanthraquinodimethane or derivatives thereof, and fluorenone derivatives. , diphenyldicyanoethylene or its derivatives, diphenoquinone derivatives, 8-hydroxyquinoline or its derivatives, polyquinoline or its derivatives, polyquinoxaline or its derivatives, polyfluorene or its derivatives and the like. A metal complex etc. are mentioned as a derivative. Among these, 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof are preferred. Among 8-hydroxyquinoline or derivatives thereof, tris(8-hydroxyquinolinato)aluminum is preferable in that it can be used as an organic substance that emits fluorescence or phosphorescence and is contained in the light-emitting layer.
電子注入層としては、発光層の種類に応じて、カルシウム（Ｃａ）層の単層構造からなる電子注入層、又は、周期律表ＩＡ族とＩＩＡ族の金属であり、且つ、仕事関数が１．５～３．０ｅＶの金属及びその金属の酸化物、ハロゲン化物及び炭酸化物からなる群のうちの１種以上で形成された層の単層構造、又は、周期律表ＩＡ族とＩＩＡ族の金属であり、且つ、仕事関数が１．５～３．０ｅＶの金属及びその金属の酸化物、ハロゲン化物及び炭酸化物からなる群のうちの１種以上で形成された層とＣａ層との積層構造からなる電子注入層等が挙げられる。仕事関数が１．５～３．０ｅＶの、周期律表ＩＡ族の金属又はその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物としては、リチウム（Ｌｉ）、フッ化リチウム、酸化ナトリウム、酸化リチウム、炭酸リチウム等が挙げられる。仕事関数が１．５～３．０ｅＶの、周期律表ＩＩＡ族の金属又はその酸化物、ハロゲン化物、炭酸化物としては、ストロンチウム（Ｓｒ）、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム、フッ化ストロンチウム、フッ化バリウム、酸化ストロンチウム、炭酸マグネシウム等が挙げられる。 As the electron injection layer, depending on the type of the light-emitting layer, an electron injection layer having a single-layer structure of a calcium (Ca) layer, or a metal of Group IA and Group IIA of the periodic table, and having a work function of 1 A single layer structure of a layer formed of one or more of the group consisting of a metal of 5 to 3.0 eV and its oxides, halides and carbonates, or of groups IA and IIA of the periodic table Lamination of a Ca layer and a layer formed of at least one selected from the group consisting of a metal having a work function of 1.5 to 3.0 eV and oxides, halides and carbonates of the metal. The electron injection layer etc. which consist of structures are mentioned. Examples of Group IA metals of the periodic table or oxides, halides, and carbonates thereof having a work function of 1.5 to 3.0 eV include lithium (Li), lithium fluoride, sodium oxide, lithium oxide, and lithium carbonate. are mentioned. Examples of Group IIA metals of the periodic table or their oxides, halides, and carbonates having a work function of 1.5 to 3.0 eV include strontium (Sr), magnesium oxide, magnesium fluoride, strontium fluoride, and fluoride. Barium, strontium oxide, magnesium carbonate and the like can be mentioned.
これらの電子輸送層又は電子注入層が、正孔の輸送を堰き止める機能を有する場合には、これらの電子輸送層や電子注入層を正孔ブロック層ということもある。 When these electron transport layers and electron injection layers have the function of blocking the transport of holes, these electron transport layers and electron injection layers are sometimes referred to as hole blocking layers.
陰極としては、仕事関数が比較的小さく（４．０ｅＶより小さな仕事関数を持つものが好適である）、発光層への電子注入が容易な透明又は半透明の材料が好ましい。陰極の材料としては、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒｂ）、セシウム（Ｃｓ）、ベリリウム（Ｂｅ）、マグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、アルミニウム（Ａｌ）、スカンジウム（Ｓｃ）、バナジウム（Ｖ）、亜鉛（Ｚｎ）、イットリウム（Ｙ）、インジウム（Ｉｎ）、セリウム（Ｃｅ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユウロピウム（Ｅｕ）、テルビウム（Ｔｂ）、イッテルビウム（Ｙｂ）等の金属、又は上記金属のうち２種以上からなる合金、若しくはそれらのうち１種以上と、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、銅（Ｃｕ）、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、チタン（Ｔｉ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、タングステン（Ｗ）、スズ（Ｓｎ）のうち１種以上とからなる合金、又は、グラファイト若しくはグラファイト層間化合物、又は、ＩＴＯ、酸化スズ等の金属酸化物等が挙げられる。 As the cathode, a transparent or translucent material that has a relatively small work function (preferably a work function smaller than 4.0 eV) and facilitates electron injection into the light-emitting layer is preferred. Materials for the cathode include lithium (Li), sodium (Na), potassium (K), rubidium (Rb), cesium (Cs), beryllium (Be), magnesium (Mg), calcium (Ca), and strontium (Sr). , barium (Ba), aluminum (Al), scandium (Sc), vanadium (V), zinc (Zn), yttrium (Y), indium (In), cerium (Ce), samarium (Sm), europium (Eu) , metals such as terbium (Tb) and ytterbium (Yb), or alloys composed of two or more of the above metals, or one or more of them together with gold (Au), silver (Ag), platinum (Pt), An alloy consisting of one or more of copper (Cu), chromium (Cr), manganese (Mn), titanium (Ti), cobalt (Co), nickel (Ni), tungsten (W), and tin (Sn), or , graphite or graphite intercalation compounds, or metal oxides such as ITO and tin oxide.
陰極を２層以上の積層構造としてもよい。２層以上の積層構造としては、上記の金属、金属酸化物、フッ化物、これらの合金と、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ等の金属との積層構造等が挙げられる。陰極の膜厚は、電気伝導度や耐久性を考慮して、適宜選択することができる。陰極の膜厚は、１０ｎｍ～１０μｍが好ましく、１５ｎｍ～１μｍがより好ましく、２０ｎｍ～５００ｎｍが最も好ましい。陰極の作製方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、金属薄膜を熱圧着するラミネート法等が挙げられる。 The cathode may have a laminated structure of two or more layers. Laminated structures of two or more layers include laminated structures of the above metals, metal oxides, fluorides, alloys thereof, and metals such as Al, Ag, and Cr. The film thickness of the cathode can be appropriately selected in consideration of electrical conductivity and durability. The film thickness of the cathode is preferably 10 nm to 10 μm, more preferably 15 nm to 1 μm, most preferably 20 nm to 500 nm. Examples of methods for manufacturing the cathode include a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, and a lamination method in which a metal thin film is thermocompression bonded.
これらの発光層と陽極との間と、発光層と陰極との間に設けられる層は、製造する有機ＥＬ表示装置に求められる性能に応じて、適宜選択可能である。例えば、本実施形態で使用される有機ＥＬ表示素子の構造としては、下記の（ｉ）～（ｘｖ）の層構成のいずれかを有することができる。
（ｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／陰極
（ｉｉ）陽極／発光層／電子輸送層／陰極
（ｉｉｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｉｖ）陽極／正孔注入層／発光層／陰極
（ｖ）陽極／発光層／電子注入層／陰極
（ｖｉ）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極
（ｖｉｉ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／陰極
（ｖｉｉｉ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
（ｉｘ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層／陰極
（ｘ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｘｉ）陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｘｉｉ）陽極／正孔注入層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｘｉｉｉ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／陰極
（ｘｉｖ）陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ｘｖ）陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／陰極
（ここで、「／」は各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。）The layers provided between the light-emitting layer and the anode and between the light-emitting layer and the cathode can be appropriately selected according to the performance required for the manufactured organic EL display device. For example, the structure of the organic EL display element used in this embodiment can have any of the following layer structures (i) to (xv).
(i) anode/hole transport layer/light emitting layer/cathode (ii) anode/light emitting layer/electron transport layer/cathode (iii) anode/hole transport layer/light emitting layer/electron transport layer/cathode (iv) anode/ hole-injection layer/light-emitting layer/cathode (v) anode/light-emitting layer/electron-injection layer/cathode (vi) anode/hole-injection layer/light-emitting layer/electron-injection layer/cathode (vii) anode/hole-injection layer/ Hole transport layer/light emitting layer/cathode (viii) anode/hole transport layer/light emitting layer/electron injection layer/cathode (ix) anode/hole injection layer/hole transport layer/light emitting layer/electron injection layer/cathode (x) anode/hole injection layer/emissive layer/electron transport layer/cathode (xi) anode/emissive layer/electron transport layer/electron injection layer/cathode (xii) anode/hole injection layer/emissive layer/electron transport Layer/electron-injection layer/cathode (xiii) anode/hole-injection layer/hole-transport layer/emissive layer/electron-transport layer/cathode (xiv) anode/hole-transport layer/emissive layer/electron-transport layer/electron-injection layer /Cathode (xv) Anode/Hole Injection Layer/Hole Transport Layer/Light Emitting Layer/Electron Transport Layer/Electron Injection Layer/Cathode (where "/" indicates that each layer is laminated adjacently. same as below.)
封止層は、水蒸気や酸素等の気体が有機ＥＬ表示素子に接触することを防ぐために、上記気体に対して高いバリア性を有する層で有機ＥＬ表示素子を封止するために、設けられる。この封止層は、無機膜と有機膜とが下から交互に形成される。無機／有機積層体は２回以上繰り返して形成されてもよい。 The sealing layer is provided to seal the organic EL display element with a layer having a high barrier property against the gas, in order to prevent the organic EL display element from coming into contact with gases such as water vapor and oxygen. In this sealing layer, an inorganic film and an organic film are alternately formed from below. The inorganic/organic laminate may be formed repeatedly two or more times.
無機／有機積層体の無機膜は、有機ＥＬ表示装置が置かれる環境に存在する水蒸気や酸素等の気体に有機ＥＬ表示素子が曝されることを防止するために設けられる膜である。無機／有機積層体の無機膜は、ピンホール等の欠陥が少ない、連続的かつ緻密な膜であることが好ましい。無機膜としては、ＳｉＮ膜、ＳｉＯ膜、ＳｉＯＮ膜、Ａｌ２Ｏ３膜、ＡｌＮ膜等の単体膜やこれらの積層膜等が挙げられる。The inorganic film of the inorganic/organic laminate is a film provided to prevent the organic EL display element from being exposed to gases such as water vapor and oxygen present in the environment in which the organic EL display device is placed. The inorganic film of the inorganic/organic laminate is preferably a continuous and dense film with few defects such as pinholes. Examples of inorganic films include single films such as SiN films, SiO films, SiON films, Al 2 O 3 films, and AlN films, and laminated films thereof.
無機／有機積層体の有機膜は、無機膜上に形成されたピンホール等の欠陥を被覆するために、また、表面に平坦性を付与するために、設けられる。有機膜は、無機膜が形成される領域よりも狭い領域に形成される。これは、有機膜を無機膜の形成領域と同じか又はそれよりも広く形成すると、有機膜が露出する領域で劣化してしまうからである。但し、封止層全体の最上層に形成される最上位有機膜は、無機膜の形成領域とほぼ同じ領域に形成される。そして、封止層の上面が平坦化されるように形成される。有機膜は、上述の本実施形態に係る封止剤を用いて形成される膜（すなわち、封止剤の硬化体を含む膜）であってよい。 The organic film of the inorganic/organic laminate is provided in order to cover defects such as pinholes formed on the inorganic film and to impart flatness to the surface. The organic film is formed in a region narrower than the region where the inorganic film is formed. This is because if the organic film is formed in the same area as or wider than the formation area of the inorganic film, the organic film is deteriorated in the exposed area. However, the uppermost organic film formed on the uppermost layer of the entire encapsulation layer is formed in substantially the same region as the formation region of the inorganic film. Then, the upper surface of the sealing layer is formed so as to be flattened. The organic film may be a film formed using the sealant according to the present embodiment described above (that is, a film containing a cured body of the sealant).
本実施形態に係る封止剤は、例えば、短時間で膜厚３μｍ以上の平坦性に優れる塗布が可能なインクジェット塗布に好適であり、インクジェットによる吐出性とインクジェット塗布後の平坦性に優れる。インクジェット法による塗布法を用いれば、高速かつ均一に有機膜を形成することができる。 The encapsulant according to the present embodiment is suitable for, for example, inkjet coating capable of coating a film having a film thickness of 3 μm or more with excellent flatness in a short period of time, and is excellent in jettability by inkjet and flatness after inkjet coating. An organic film can be uniformly formed at high speed by using the coating method using the inkjet method.
封止層は、無機／有機積層体を１セットとして数えると、１～５セットであることが好ましい。無機／有機積層体が６セット以上の場合には、有機ＥＬ表示素子に対する封止効果が５セットの場合とほぼ同じとなるからである。無機／有機積層体の無機膜の厚さは、５０ｎｍ～１μｍが好ましい。無機／有機積層体の有機膜の厚さは１～１５μｍが好ましく、３～１０μｍがより好ましい。有機膜の厚みが１μｍ以上であると、素子形成時に発生するパーティクルを完全に被覆でき、良好な平坦性で無機膜上に成膜できる。有機膜の厚みが１５μｍ以下であると、有機膜の側面からの水分の侵入が抑制され、有機ＥＬ表示素子の信頼性が向上する。 When the inorganic/organic laminate is counted as one set, the number of sealing layers is preferably 1 to 5 sets. This is because when the number of inorganic/organic laminates is 6 or more, the effect of sealing the organic EL display element is substantially the same as when 5 sets are used. The thickness of the inorganic film of the inorganic/organic laminate is preferably 50 nm to 1 μm. The thickness of the organic film of the inorganic/organic laminate is preferably 1 to 15 μm, more preferably 3 to 10 μm. When the thickness of the organic film is 1 μm or more, particles generated during device formation can be completely covered, and the film can be formed on the inorganic film with good flatness. When the thickness of the organic film is 15 μm or less, penetration of moisture from the side surface of the organic film is suppressed, and the reliability of the organic EL display element is improved.
封止基板は、封止層の最上位有機膜の上面全体を覆うように密着して形成される。この封止基板としては、前述の基板が挙げられる。これらの中では、可視光線に対して透明な基板が好ましい。可視光線に対して透明な基板（透明封止基板）の中では、ガラス基板、プラスチック基板からなる群のうちの１種以上が好ましく、ガラス基板がより好ましい。 The sealing substrate is formed in close contact so as to cover the entire upper surface of the uppermost organic film of the sealing layer. Examples of the sealing substrate include the substrates described above. Among these, substrates transparent to visible light are preferred. Among the substrates transparent to visible light (transparent sealing substrates), one or more of the group consisting of glass substrates and plastic substrates is preferable, and glass substrates are more preferable.
透明封止基板の厚さは、１μｍ以上１ｍｍ以下が好ましく、１０μｍ以上８００μｍ以下がより好ましく、５０μｍ以上３００μｍ以下が最も好ましい。透明封止基板を封止層の更に上層に設けることによって、最上位有機膜の表面が気体に触れると進行する劣化を抑えることができ、有機ＥＬ表示装置のバリア性を高めることができる。 The thickness of the transparent sealing substrate is preferably 1 μm or more and 1 mm or less, more preferably 10 μm or more and 800 μm or less, and most preferably 50 μm or more and 300 μm or less. By providing the transparent sealing substrate above the sealing layer, it is possible to suppress the deterioration that progresses when the surface of the uppermost organic film comes into contact with gas, thereby enhancing the barrier properties of the organic EL display device.
次に、このような構成を有する有機ＥＬ表示装置の製造方法について説明する。まず、第１の基板上に、従来公知の方法によって、所定の形状にパターニングした陽極、発光層を含む有機ＥＬ層、及び陰極を順に形成して、有機ＥＬ表示素子を形成する。例えば、有機ＥＬ表示装置をドットマトリックス表示装置として使用する場合、発光領域をマトリックス状に区切るためにバンクが形成され、このバンクで囲まれる領域に発光層を含む有機ＥＬ層が形成される。 Next, a method for manufacturing an organic EL display device having such a configuration will be described. First, an anode patterned into a predetermined shape, an organic EL layer including a light-emitting layer, and a cathode are sequentially formed on a first substrate by a conventionally known method to form an organic EL display element. For example, when an organic EL display device is used as a dot-matrix display device, banks are formed to partition light emitting regions in a matrix, and organic EL layers including light emitting layers are formed in regions surrounded by the banks.
次いで、有機ＥＬ表示素子が形成された基板上に、スパッタ法等のＰＶＤ（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法やプラズマＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等のＣＶＤ法等の成膜方法によって、所定の厚さを有する第１の無機膜を形成する。その後、溶液塗布法やスプレー塗布法等の塗膜形成方法やフラッシュ蒸着法、インクジェット法等を用いて、第１の無機膜上に本実施形態の封止剤を付着させる。これらの中では、生産性の点でインクジェット法が好ましい。その後、紫外線、可視光線等のエネルギー線の照射によって、封止剤が硬化し、第１の有機膜が形成される。以上の工程によって、１セットの無機／有機積層体が形成される。封止剤の硬化率は、本実施形態の効果が奏される限りにおいては特に限定されないが、例えば後述する測定方法に従って得られる値で８０％以上、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上とすることができる。 Next, on the substrate on which the organic EL display element is formed, a predetermined thickness is formed by a film forming method such as a PVD (Physical Vapor Deposition) method such as a sputtering method or a CVD method such as a plasma CVD (Chemical Vapor Deposition) method. forming a first inorganic film having a After that, the sealant of the present embodiment is adhered onto the first inorganic film using a coating film forming method such as a solution coating method or a spray coating method, a flash vapor deposition method, an inkjet method, or the like. Among these, the inkjet method is preferable in terms of productivity. After that, the encapsulant is cured by irradiation with energy rays such as ultraviolet rays and visible rays to form the first organic film. A set of inorganic/organic laminates is formed by the above steps. The curing rate of the sealant is not particularly limited as long as the effect of the present embodiment is exhibited, but for example, the value obtained according to the measuring method described later is 80% or more, preferably 90% or more, more preferably 95%. It can be as above.
以上に示される無機／有機積層体の形成工程が、所定の回数だけ繰り返される。但し、最後のセット、即ち、最上層の無機／有機積層体に関しては、上面が平坦化するように封止剤を、塗布法やフラッシュ蒸着法、インクジェット法等によって、無機膜の上面に付着させても良い。 The process of forming the inorganic/organic laminate shown above is repeated a predetermined number of times. However, for the final set, that is, the uppermost inorganic/organic laminate, a sealant is applied to the upper surface of the inorganic film by a coating method, a flash vapor deposition method, an inkjet method, or the like so that the upper surface is flattened. can be
次いで、基板上の封止剤を付着させた面に、透明封止基板を貼り合わせる。貼り合わせの際、位置合わせを行う。その後、透明封止基板側から、エネルギー線を照射することによって、最上層の無機膜と透明封止基板との間に存在する、本実施形態の封止剤を硬化させる。これによって、封止剤が硬化し、最上位有機膜を形成すると共に、最上位有機膜と透明封止基板とが接着される。以上によって、有機ＥＬ表示装置の製造方法が終了する。 Next, a transparent sealing substrate is attached to the surface of the substrate to which the sealing agent is adhered. Alignment is performed at the time of pasting. After that, by irradiating energy rays from the transparent sealing substrate side, the sealing agent of the present embodiment present between the uppermost inorganic film and the transparent sealing substrate is cured. As a result, the sealant is cured to form the uppermost organic film, and the uppermost organic film and the transparent sealing substrate are adhered. With the above, the manufacturing method of the organic EL display device is completed.
無機膜上に封止剤を付着させた後、部分的にエネルギー線を照射して重合させてもよい。このようにすることで、透明封止基板を載置した時に、最上位有機膜の形状の崩れを防止できる。無機膜と有機膜の厚さは、各無機／有機積層体で同じにしてもよいし、各無機／有機積層体で異なっていてもよい。 After the sealant is adhered onto the inorganic film, it may be polymerized by partially irradiating it with energy rays. By doing so, it is possible to prevent the shape of the uppermost organic film from collapsing when the transparent sealing substrate is placed. The thicknesses of the inorganic film and the organic film may be the same in each inorganic/organic laminate, or may be different in each inorganic/organic laminate.
本実施形態において、有機ＥＬ表示装置は、面状光源、セグメント表示装置、ドットマトリックス表示装置として用いることができる。 In this embodiment, the organic EL display device can be used as a planar light source, a segment display device, or a dot matrix display device.
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。 Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above embodiments.
以下、実施例により本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to the examples.
（実施例１）
トリフルオロメチルメタクリレート（東京化成工業社製）１００質量部と、２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニル－ホスフィンオキサイド（ＴＰＯ）（ＢＡＳＦジャパン社製）５質量部とを混合して、封止剤を調製した。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、３２質量％であった。得られた封止剤を、以下に示す評価方法で評価した。また、得られた封止剤を、以下に示す光硬化条件で硬化して硬化体を形成し、以下に示す方法で硬化体の透湿度を評価した。(Example 1)
100 parts by mass of trifluoromethyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 5 parts by mass of 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (TPO) (manufactured by BASF Japan) are mixed to form a sealant. was prepared. The fluorine atom content was 32% by mass with respect to the total amount of the monomer components. The resulting sealant was evaluated by the following evaluation methods. Further, the resulting sealant was cured under the photocuring conditions shown below to form a cured product, and the moisture permeability of the cured product was evaluated by the method shown below.
［表面張力］
封止剤の静的表面張力は、２３℃の雰囲気下、（協和界面科学社製ＤＭ５００）を用いて、ペンダントドロップ法により測定した。測定結果を表１に示す。[surface tension]
The static surface tension of the encapsulant was measured by the pendant drop method using (Kyowa Interface Science Co., Ltd. DM500) in an atmosphere of 23°C. Table 1 shows the measurement results.
［濡れ性］
７０ｍｍ×７０ｍｍ×０．７ｍｍｔの基材（無アルカリガラス（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製 Ｅａｇｌｅ ＸＧ））上に、２５μｍ×２５μｍ×３μｍｔの凹みを前後左右に１０μｍの間隔を開けてエッチング法にて作製した。尚、基材は使用前に、アセトン、イソプロパノールそれぞれを用いて洗浄し、その後にテクノビジョン社製ＵＶオゾン洗浄装置ＵＶ－２０８を用いて５分間洗浄した。次いで、凹みを設けた基板上に、プラズマＣＶＤ法にて２００ｎｍのＳｉＮ膜を形成した。次に、インクジェット吐出装置（武蔵エンジニアリング社製ＭＩＤ５００Ｂ、溶剤系ヘッド「ＭＩＤヘッド」）を用いて５０ｍｍ×５０ｍｍ×１０μｍｔとなるように封止剤をパターン塗布した。パターン塗布後、温度２３℃、相対湿度５０％の条件で５分間放置し、塗布領域（５０ｍｍ×５０ｍｍ）における封止剤の形状を観察した。封止剤の濡れ性を、以下の式で求めた。結果を表１に示す。
濡れ性（％）＝（５分間放置後の塗布領域における封止剤の面積）／（５０ｍｍ×５０ｍｍ）
尚、例えば、濡れ性５０％とは、パターン塗布した封止剤の一部が弾かれて、５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲の半分（５０％）で、ＳｉＮ膜が露出したことを示す。[Wettability]
On a 70 mm × 70 mm × 0.7 mmt base material (non-alkali glass (Eagle XG manufactured by Corning)), recesses of 25 µm × 25 µm × 3 µmt were formed by etching at intervals of 10 µm in the front, back, left and right directions. Before use, the substrate was washed with acetone and isopropanol, respectively, and then washed with UV ozone cleaner UV-208 manufactured by Technovision for 5 minutes. Then, a 200 nm SiN film was formed on the recessed substrate by plasma CVD. Next, the sealant was applied in a pattern of 50 mm×50 mm×10 μmt using an inkjet ejection device (MID500B manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd., solvent-based head “MID head”). After the pattern coating, the sealant was allowed to stand for 5 minutes under conditions of a temperature of 23° C. and a relative humidity of 50%, and the shape of the sealant in the coating area (50 mm×50 mm) was observed. The wettability of the sealant was determined by the following formula. Table 1 shows the results.
Wettability (%) = (area of sealant in coated region after standing for 5 minutes)/(50 mm x 50 mm)
For example, wettability of 50% means that part of the pattern-coated sealant was repelled and the SiN film was exposed in half (50%) of the range of 50 mm×50 mm.
［引張せん断接着強さ］
ＪＩＳ Ｋ ６８５０に従い測定した。具体的には、被着材として耐熱ガラス（商品名「耐熱パイレックス（登録商標）ガラス」、長さ２５ｍｍ×幅２５ｍｍ×厚さ２．０ｍｍ）を用い、接着部位を直径８ｍｍの円形とし、封止層の厚さが０．０８ｍｍとなるようにして、封止剤を用いて２枚の耐熱ガラスを貼り合わせた。次いで、３９５ｎｍの波長を発光するＬＥＤランプ（ＨＯＹＡ社製ＵＶ－ＬＥＤ ＬＩＧＨＴ ＳＯＵＲＣＥ Ｈ－４ＭＬＨ２００－Ｖ１）により３９５ｎｍの波長の光の積算光量が１，５００ｍＪ／ｃｍ２となる条件にて光を上面から照射、硬化させ、引張せん断接着強さ試験片を作製した。作製した試験片について、万能試験機を使用して、温度２３℃、湿度５０％の環境下、引張速度１０ｍｍ／ｍｉｎで引張せん断接着強さを測定した。結果を表１に示す。[Tensile shear bond strength]
Measured according to JIS K 6850. Specifically, heat-resistant glass (trade name “heat-resistant Pyrex (registered trademark) glass”, length 25 mm x width 25 mm x thickness 2.0 mm) was used as the adherend, and the bonding site was a circle with a diameter of 8 mm. Two sheets of heat-resistant glass were bonded together using a sealant so that the thickness of the stopping layer was 0.08 mm. Then, an LED lamp that emits a wavelength of 395 nm (UV-LED LIGHT SOURCE H-4MLH200-V1 manufactured by HOYA) emits light from above under the condition that the integrated amount of light with a wavelength of 395 nm is 1,500 mJ / cm 2 . Irradiated and cured, tensile shear bond strength test specimens were prepared. Using a universal tester, the tensile shear bond strength of the prepared test piece was measured at a temperature of 23° C. and a humidity of 50% at a tensile speed of 10 mm/min. Table 1 shows the results.
［光硬化条件］
３９５ｎｍの波長を発光するＬＥＤランプ（ＨＯＹＡ社製ＵＶ－ＬＥＤ ＬＩＧＨＴ ＳＯＵＲＣＥ Ｈ－４ＭＬＨ２００－Ｖ１）により、３９５ｎｍの波長の光の積算光量が１，５００ｍＪ／ｃｍ２となる条件で、封止剤を光硬化させ、硬化率が８０％以上の硬化体を作製した。[Photocuring conditions]
An LED lamp (UV-LED LIGHT SOURCE H-4MLH200-V1 manufactured by HOYA) that emits light at a wavelength of 395 nm is used to illuminate the sealant under conditions where the integrated amount of light at a wavelength of 395 nm is 1,500 mJ/cm 2 . It was cured to produce a cured body having a curing rate of 80% or more.
［透湿度］
厚さ０．１ｍｍのシート状の硬化体を、上記光硬化条件で作製した。ＪＩＳ Ｚ０２０８：１９７６「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に準じ、吸湿剤として塩化カルシウム（無水）を用い、温度２３℃又は８５℃、相対湿度９０％の条件に２４時間暴露し、１００μｍ厚での、硬化体の透湿度を測定した。結果を表１に示す。なお、表中、８５℃で硬化体が軟化又は溶解して測定が困難になった場合は「－」で示した。[Moisture Permeability]
A sheet-like cured body having a thickness of 0.1 mm was produced under the photocuring conditions described above. According to JIS Z0208: 1976 "Moisture Permeability Test Method for Moisture-Proof Packaging Materials (Cup Method)", calcium chloride (anhydrous) is used as a moisture absorber, and the temperature is 23°C or 85°C and the relative humidity is 90% for 24 hours. , and a thickness of 100 μm, the moisture permeability of the cured body was measured. Table 1 shows the results. In the table, when the cured product softened or melted at 85°C and the measurement became difficult, it was indicated by "-".
（実施例２）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ペンタフルオロベンジルメタクリレート（東京化成工業社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、３４質量％であった。(Example 2)
A sealant and a cured product thereof were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by mass of pentafluorobenzyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of trifluoromethyl methacrylate. Table 1 shows the evaluation results. The fluorine atom content was 34% by mass with respect to the total amount of the monomer components.
（実施例３）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、２，２，３，３－テトラフルオロプロピルアクリレート（大阪有機化学工業社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、３９質量％であった。(Example 3)
A sealant and its sealant were prepared in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by mass of 2,2,3,3-tetrafluoropropyl acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of trifluoromethyl methacrylate. A cured product was produced and evaluated. Table 1 shows the evaluation results. The fluorine atom content was 39% by mass with respect to the total amount of the monomer components.
（実施例４）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチルアクリレート（大阪有機化学工業社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、５１質量％であった。(Example 4)
A sealant and its cured body were prepared in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by mass of 1H,1H,5H-octafluoropentyl acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of trifluoromethyl methacrylate. was produced and evaluated. Table 1 shows the evaluation results. Incidentally, the content of fluorine atoms with respect to the total amount of the monomer components was 51% by mass.
（実施例５）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９－ヘキサデカフルオロ－１，１０－デカンジオールジアクリレート（共栄社化学社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、５１質量％であった。(Example 5)
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-hexadecafluoro-1,10-decanediol instead of trifluoromethyl methacrylate A sealant and its cured product were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by mass of diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was used. Table 1 shows the evaluation results. Incidentally, the content of fluorine atoms with respect to the total amount of the monomer components was 51% by mass.
（実施例６）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチルアクリレート（大阪有機化学工業社製）２０質量部及び１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート８０質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、１０質量％であった。(Example 6)
Examples except that 20 parts by weight of 1H,1H,5H-octafluoropentyl acrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) and 80 parts by weight of 1,6-hexanediol dimethacrylate were used instead of trifluoromethyl methacrylate. A sealant and its cured body were prepared and evaluated in the same manner as in 1. Table 1 shows the evaluation results. The content of fluorine atoms with respect to the total amount of the monomer components was 10% by mass.
（実施例７）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ－オクタフルオロペンチルメタアクリレート（大阪有機化学工業社製）２０質量部、１，１２－ドデカンジオールジメタクリレート（サートマー社製）７０質量部、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学社製）５質量部、及び、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノールアクリレート（新中村化学社製）５質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。尚、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、１０質量％であった。(Example 7)
Instead of trifluoromethyl methacrylate, 1H,1H,5H-octafluoropentyl methacrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 20 parts by weight, 1,12-dodecanediol dimethacrylate (manufactured by Sartomer) 70 parts by weight, dimethylol- Sealed in the same manner as in Example 1, except that 5 parts by mass of tricyclodecane diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and 5 parts by mass of ethoxylated-o-phenylphenol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) were used. A blocking agent and its cured product were prepared and evaluated. Table 1 shows the evaluation results. The content of fluorine atoms with respect to the total amount of the monomer components was 10% by mass.
（実施例８）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９－ヘキサデカフルオロ－１，１０－デカンジオールジアクリレート（共栄社化学社製ＬＩＮＣ－１６２Ａ）１質量部、１，１２－ドデカンジオールジメタクリレート（サートマー社製）７０質量部、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学社製）２４質量部、及び、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノールアクリレート（新中村化学社製、式（Ｂ－１－１）におけるＲ７が水素原子、ｎが１の化合物）５質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。なお、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、０．３質量％であった。(Example 8)
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-hexadecafluoro-1,10-decanediol instead of trifluoromethyl methacrylate Diacrylate (LINC-162A manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 1 part by mass, 1,12-dodecanediol dimethacrylate (manufactured by Sartomer) 70 parts by mass, dimethylol-tricyclodecane diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 24 parts by mass, and , Ethoxylated-o-phenylphenol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., a compound in which R 7 is a hydrogen atom and n is 1 in the formula (B-1-1)) Example 1 except that 5 parts by mass were used A sealant and its cured product were prepared and evaluated in the same manner as in the above. Table 1 shows the evaluation results. The content of fluorine atoms with respect to the total amount of the monomer components was 0.3% by mass.
（実施例９）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、１Ｈ、１Ｈ、２Ｈ、２Ｈ-トリデカフルオロオクチルアクリレート（大阪有機化学工業社製１３Ｆ）１質量部、１，１２－ドデカンジオールジメタクリレート（サートマー社製）７９質量部、ジメチロール－トリシクロデカンジアクリレート（共栄社化学社製）１５質量部、及び、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノールアクリレート（新中村化学社製）５質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。なお、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、０．６質量％であった。(Example 9)
Instead of trifluoromethyl methacrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-tridecafluorooctyl acrylate (13F manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 1 part by weight, 1,12-dodecanediol dimethacrylate (manufactured by Sartomer) 79 parts by weight , Dimethylol-tricyclodecane diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 15 parts by mass, and ethoxylated-o-phenylphenol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 5 parts by mass. Same as Example 1. Then, a sealant and its cured product were prepared and evaluated. Table 1 shows the evaluation results. The content of fluorine atoms with respect to the total amount of the monomer components was 0.6% by mass.
（実施例１０）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９－ヘキサデカフルオロ－１，１０－デカンジオールジアクリレート（大阪有機化学工業社製Ｌｎｉｃ１６２Ａ ＨＰ）１質量部、１，１２－ドデカンジオールジメタクリレート（サートマー社製）６３質量部、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート（新中村化学社製ＢＰＥ―２００、式（Ｂ－１－２）におけるＲ８及びＲ９がメチル基、ｍ＋ｎが４の化合物）７．５質量部、及び、エトキシ化－ｏ－フェニルフェノールアクリレート（新中村化学社製）２８．５質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表１に示す。なお、モノマー成分の全量に対するフッ素原子の含有量は、０．３質量％であった。(Example 10)
2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-hexadecafluoro-1,10-decanediol instead of trifluoromethyl methacrylate Diacrylate (Lnic162A HP manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) 1 part by mass, 1,12-dodecanediol dimethacrylate (manufactured by Sartomer) 63 parts by mass, ethoxylated bisphenol A dimethacrylate (BPE-200 manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., formula Compound (B-1-2) in which R 8 and R 9 are methyl groups and m+n is 4) 7.5 parts by mass, and 28.5 parts by mass of ethoxylated o-phenylphenol acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) A sealant and its cured product were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that the sealant was used. Table 1 shows the evaluation results. The content of fluorine atoms with respect to the total amount of the monomer components was 0.3% by mass.
（比較例１）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、エチルメタクリレート（共栄社化学社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。(Comparative example 1)
A sealant and its cured product were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by mass of ethyl methacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) was used instead of trifluoromethyl methacrylate. Table 2 shows the evaluation results.
（比較例２）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ベンジルメタクリレート（東京化成工業社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。(Comparative example 2)
A sealant and its cured product were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by mass of benzyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was used instead of trifluoromethyl methacrylate. Table 2 shows the evaluation results.
（比較例３）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ブチルアクリレート（三菱ケミカル社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。(Comparative Example 3)
A sealant and a cured product thereof were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by mass of butyl acrylate (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) was used instead of trifluoromethyl methacrylate. Table 2 shows the evaluation results.
（比較例４）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ドデカンジオールジアクリレート（サートマー社製）１００質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。(Comparative Example 4)
A sealant and a cured product thereof were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1, except that 100 parts by mass of dodecanediol diacrylate (manufactured by Sartomer) was used instead of trifluoromethyl methacrylate. Table 2 shows the evaluation results.
（比較例５）
トリフルオロメチルメタクリレートに代えて、ブチルアクリレート（三菱ケミカル社製）２０質量部及び１，６－ヘキサンジオールジメタクリレート（共栄社化学社製）８０質量部を用いたこと以外は、実施例１と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。(Comparative Example 5)
In the same manner as in Example 1, except that 20 parts by mass of butyl acrylate (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) and 80 parts by mass of 1,6-hexanediol dimethacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) were used instead of trifluoromethyl methacrylate. A sealant and its cured product were prepared and evaluated. Table 2 shows the evaluation results.
（比較例６）
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９－ヘキサデカフルオロ－１，１０－デカンジオールジアクリレートに代えて、１，１２－ドデカンジオールジメタクリレート１質量部を用いたこと以外は、実施例８と同様にして封止剤及びその硬化体を作製し、評価した。評価結果を表２に示す。
(Comparative Example 6)
Instead of 2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9-hexadecafluoro-1,10-decanediol diacrylate, 1, A sealant and a cured product thereof were prepared and evaluated in the same manner as in Example 8, except that 1 part by mass of 12-dodecanediol dimethacrylate was used. Table 2 shows the evaluation results.
表１及び表２に示すとおり、実施例の封止剤によれば、濡れ性、接着性及び防湿性に優れる封止材が形成された。 As shown in Tables 1 and 2, according to the sealing agents of Examples, sealing materials having excellent wettability, adhesiveness and moisture resistance were formed.
Claims (12)
前記含フッ素モノマーが、式（Ａ－２－１）で表される化合物を含み、
前記モノマー成分のフッ素原子含有量が、前記モノマー成分の全量基準で、０．１質量％以上１０質量％以下である、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤。
［式（Ａ－２－１）中、Ｒ ３ は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ ４１ は水素原子又はフッ素原子を示し、ｍは１以上の整数を示す。複数存在するＲ ３ は互いに同一でも異なっていてもよい。複数存在するＲ ４１ は、互いに同一でも異なっていてもよい。但し、Ｒ ４１ の少なくとも一つはフッ素原子である。］ A sealant for an organic electroluminescence display element containing a monomer component containing a fluorine-containing monomer (A) having a fluorine atom and a (meth)acryloyl group, and a photopolymerization initiator ,
The fluorine-containing monomer contains a compound represented by formula (A-2-1),
A sealant for an organic electroluminescence display device, wherein the monomer component has a fluorine atom content of 0.1% by mass or more and 10% by mass or less based on the total amount of the monomer component.
[In formula (A-2-1), R 3 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 41 represents a hydrogen atom or a fluorine atom, and m represents an integer of 1 or more. Multiple R 3 may be the same or different. Multiple R 41 may be the same or different. However, at least one of R 41 is a fluorine atom. ]
前記有機膜が請求項９に記載の硬化体を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材。 including a laminate in which an inorganic film and an organic film are laminated,
A sealing material for an organic electroluminescence display element, wherein the organic film contains the cured product according to claim 9 .
請求項１０又は１１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止材と、を含む、有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
an organic electroluminescence display element;
An organic electroluminescence display device comprising the sealing material for an organic electroluminescence display element according to claim 10 or 11 .
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