JP7240938B2 - 光学積層体及び画像表示装置 - Google Patents

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Description

本発明は、光学積層体及びそれを備えた画像表示装置に関する。
近年、液晶表示装置は、スマートフォンやタブレット型端末に代表されるモバイル機器用途やカーナビゲーションシステムに代表される車載用機器用途に展開されている。このような用途においては、従来の屋内用TV用途に比べて苛酷な環境にさらされる可能性があることから、装置の耐久性向上が課題となっている。
液晶表示装置等を構成する光学フィルムにおいても同様に耐久性が求められている。すなわち、液晶表示装置等に組み込まれた光学フィルムは、高温又は高温高湿環境下に置かれたり、高温と低温とが繰り返される環境下に置かれたりすることがあるが、これらの環境下においても、光学特性が劣化しないことが求められる。
特許文献1には、表示装置に用いられる光学フィルムとして、偏光子と保護フィルムとを接着剤組成物を介して積層した積層体からなる偏光板が記載されている。
特開2017-82026号公報
本発明の目的は、高温高湿環境下における光学耐久性が良好な光学積層体及びそれを備えた画像表示装置を提供することにある。
本発明は、以下に示す光学積層体及び画像表示装置を提供する。
〔1〕 光学層及び硬化物層を含む光学積層体であって、
前記硬化物層は、ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)の硬化物である第1硬化物層を含み、
前記ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)は、ポリビニルアセタール樹脂(A)及び架橋剤(B)を含み、
前記架橋剤(B)は、イソシアネート系架橋剤及びカルボジイミド系架橋剤のうちの少なくとも一方である架橋剤(B1)を含む、光学積層体。
〔2〕 前記ポリビニルアセタール樹脂(A)のアセタール化度は、50モル%未満である、〔1〕に記載の光学積層体。
〔3〕 前記ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)における前記架橋剤(B1)の含有量は、前記ポリビニルアセタール樹脂(A)及び前記架橋剤(B1)の合計含有量100質量部に対して、10質量部以上60質量部以下である、〔1〕又は〔2〕に記載の光学積層体。
〔4〕 前記光学層、前記第1硬化物層、及び第1熱可塑性樹脂フィルムがこの順に積層されている、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔5〕 前記第1熱可塑性樹脂フィルムは、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、及び環状オレフィン系樹脂からなる群より選択される1以上の熱可塑性樹脂を含むフィルムである、〔4〕に記載の光学積層体。
〔6〕 前記第1熱可塑性樹脂フィルムは、セルロースエステル系樹脂を含むセルロースエステル系樹脂フィルムであり、
前記セルロースエステル系樹脂フィルムは、前記第1硬化物層に直接接しており、
前記セルロースエステル系樹脂フィルムにおける前記第1硬化物層側の表面は、当該表面の水酸基をフッ素系誘導体化試薬を用いて誘導体化した場合のフッ素元素濃度が2.0atom%以下である、〔4〕又は〔5〕に記載の光学積層体。
〔7〕 前記硬化物層は、第2硬化物層を含み、
前記光学層の前記第1硬化物層側とは反対側に、前記第2硬化物層及び第2熱可塑性樹脂フィルムがこの順に積層されている、〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔8〕 前記第2熱可塑性樹脂フィルムは、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、及び環状オレフィン系樹脂からなる群より選択される1以上の熱可塑性樹脂を含むフィルムである、〔7〕に記載の光学積層体。
〔9〕 前記第2硬化物層は、前記ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)の硬化物である、〔7〕又は〔8〕に記載の光学積層体。
〔10〕 前記第2熱可塑性樹脂フィルムは、セルロースエステル系樹脂を含むセルロースエステル系樹脂フィルムであり、
前記セルロースエステル系樹脂フィルムは、前記第2硬化物層に直接接しており、
前記セルロースエステル系樹脂フィルムにおける前記第2硬化物層側の表面は、当該表面の水酸基をフッ素系誘導体化試薬を用いて誘導体化した場合のフッ素元素濃度が2.0atom%以下である、〔9〕に記載の光学積層体。
〔11〕 前記光学層は、偏光子である、〔1〕~〔10〕のいずれかに記載の光学積層体。
〔12〕 〔1〕~〔11〕のいずれかに記載の光学積層体、及び、画像表示素子を含む、画像表示装置。
本発明によれば、高温高湿環境下における光学耐久性が良好な光学積層体及びそれを備えた画像表示装置を提供することができる。
本発明に係る光学積層体の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学積層体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学積層体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学積層体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学積層体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学積層体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。 本発明に係る光学積層体の層構成の他の一例を示す概略断面図である。
<光学積層体>
本発明に係る光学積層体は、光学層及び硬化物層を含み、硬化物層は、ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)(以下、「組成物(S)」ということがある。)の硬化物である第1硬化物層を含む。
組成物(S)は、硬化性組成物であり、ポリビニルアセタール樹脂(A)及び架橋剤(B)を含み、前記架橋剤(B)は、イソシアネート系架橋剤及カルボジイミド系架橋剤のうちの少なくとも一方である架橋剤(B1)を含む。
本発明に係る光学積層体は、第1硬化物層が組成物(S)の硬化物であるため、高温高湿環境下において良好な光学耐久性を示すことができる。
また、本発明に係る光学積層体は、後述するケン化処理、プラズマ処理、コロナ処理、プライマー処理等の表面改質処理を行わなくても、光学積層体の層間の密着性を良好なものとすることができる。
〔1〕光学積層体の構成
光学積層体の層構成の例を図1~図6に示す。
図1に示される光学積層体は、光学層30と、その一方の面に積層される第1硬化物層15とを含む。第1硬化物層15は、光学層30の表面を被覆して保護するオーバーコート層、光学層30に追加的に光学機能を付与する光学機能層等として機能することができる。
光学層30と第1硬化物層15とは直接接していることが好ましい。
図2に示される光学積層体は、光学層30と、その一方の面に第1硬化物層15を介して積層貼合される第1熱可塑性樹脂フィルム10とを含む。第1硬化物層15は、光学層30と第1熱可塑性樹脂フィルム10とを接着する接着剤層として機能することができる。
第1硬化物層15と第1熱可塑性樹脂フィルム10とは直接接していることが好ましい。
光学層30と第1硬化物層15とは直接接していることが好ましい。
図3に示される光学積層体は、光学層30と、その一方の面に第1硬化物層15を介して積層貼合される第1熱可塑性樹脂フィルム10と、光学層30の他方の面に第2硬化物層25を介して積層貼合される第2熱可塑性樹脂フィルム20とを含む。すなわち、本発明に係る光学積層体は、第2熱可塑性樹脂フィルム20と第2硬化物層25と光学層30と第1硬化物層15と第1熱可塑性樹脂フィルム10とをこの順に含むものであってもよい。第1硬化物層15及び第2硬化物層25はそれぞれ、光学層30と第1熱可塑性樹脂フィルム10とを接着する接着剤層、光学層30と第2熱可塑性樹脂フィルム20とを接着する接着剤層として機能することができる。
第2硬化物層25と第2熱可塑性樹脂フィルム20とは直接接していることが好ましい。
光学層30と第2硬化物層25とは直接接していることが好ましい。
図4に示される光学積層体は、光学層30と、その一方の面に積層される第1硬化物層15と、光学層30の他方の面に第2硬化物層25を介して積層貼合される第2熱可塑性樹脂フィルム20とを含む。第1硬化物層15は、光学層30の表面を被覆して保護するオーバーコート層、光学層30に追加的に光学機能を付与する光学機能層等として機能することができる。第2硬化物層25は、光学層30と第2熱可塑性樹脂フィルム20とを接着する接着剤層として機能することができる。
光学層30と第1硬化物層15とは直接接していることが好ましい。
第2硬化物層25と第2熱可塑性樹脂フィルム20とは直接接していることが好ましい。
光学層30と第2硬化物層25とは直接接していることが好ましい。
図5に示される光学積層体は、光学層30と、その一方の面に積層される第1硬化物層15を介して積層貼合される第1熱可塑性樹脂フィルム10と、光学層30の他方の面に第2硬化物層25とを含む。第1硬化物層15は、光学層30と第1熱可塑性樹脂フィルム10とを接着する接着剤層として機能することができる。第2硬化物層25は、光学層30の表面を被覆して保護するオーバーコート層、光学層30に追加的に光学機能を付与する光学機能層等として機能することができる。
光学層30と第1硬化物層15とは直接接していることが好ましい。
第1硬化物層15と第1熱可塑性樹脂フィルム10とは直接接していることが好ましい。
光学層30と第2硬化物層25とは直接接していることが好ましい。
図6に示される光学積層体は、光学層30と、その一方の面に積層される第1硬化物層15と、光学層30の他方の面に積層される第2硬化物層25とを含む。第1硬化物層15及び第2硬化物層25は、光学層30の表面を被覆して保護するオーバーコート層、光学層30に追加的に光学機能を付与する光学機能層等として機能することができる。
光学層30と第1硬化物層15とは直接接していることが好ましい。
光学層30と第2硬化物層25とは直接接していることが好ましい。
上記した各光学積層体は、第2硬化物層25の代わりに粘着剤層を含むものであってもよい。すなわち、第2熱可塑性樹脂フィルム20を粘着剤層を介して光学層30に貼合してもよい。該粘着剤層については、後述する粘着剤層についての記載が引用される。
光学層30は、液晶表示装置等の画像表示装置に組み込まれ得る各種の光学フィルム(光学特性を有するフィルム)であってよい。光学層30としては、例えば、偏光子、位相差フィルム、輝度向上フィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム、拡散フィルム、集光フィルム等が挙げられる。
光学積層体は、上記以外の他の層(又はフィルム)を含むことができる。他の層としては、例えば、第1熱可塑性樹脂フィルム10、第2熱可塑性樹脂フィルム20、第1硬化物層15、第2硬化物層25及び/又は光学層30の外面に積層される粘着剤層;該粘着剤層の外面に積層されるセパレートフィルム(「剥離フィルム」とも呼ばれる。);第1熱可塑性樹脂フィルム10、第2熱可塑性樹脂フィルム20、第1硬化物層15、第2硬化物層25及び/又は光学層30の外面に積層されるプロテクトフィルム(「表面保護フィルム」とも呼ばれる。);第1熱可塑性樹脂フィルム10、第2熱可塑性樹脂フィルム20、第1硬化物層15、第2硬化物層25及び/又は光学層30の外面に接着剤層や粘着剤層を介して積層される光学機能性フィルム(又は層)等が挙げられる。
〔2〕硬化物層
本発明に係る光学積層体の硬化物層は、第1硬化物層15を含んでいればよく、さらに第2硬化物層25を含んでいてもよい。
第1硬化物層15は、硬化性組成物である組成物(S)の硬化物である。組成物(S)は、ポリビニルアセタール樹脂(A)及び架橋剤(B)を含み、架橋剤(B)は、イソシアネート系架橋剤及カルボジイミド系架橋剤のうちの少なくとも一方である架橋剤(B1)を含む。組成物(S)は、例えば、熱によって硬化させることができる。
第2硬化物層25は、硬化性組成物の硬化物であれば特に限定されず、組成物(S)の硬化物であってもよく、組成物(S)とは異なる他の硬化性組成物の硬化物であってもよい。第2硬化物層25は、光学積層体の高温高湿環境下における光学耐久性等の観点から、組成物(S)の硬化物層であることが好ましい。
第1硬化物層15及び第2硬化物層25が硬化性組成物(S)から形成される場合において、これらの硬化性組成物は、同一の組成であってもよいし、異なる組成であってもよい。
〔2-1〕ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)(組成物(S))
組成物(S)は、基材上に塗膜(コーティング層)を形成するための塗工液として用いることができる。例えば、組成物(S)を基材上に塗工し、塗工層を硬化させることによって塗膜を形成することができる。基材は、好ましくは光学層である。光学層については後述する。この場合、光学積層体は、光学層と、組成物(S)の硬化物から構成される第1硬化物層とを含む(図1、図4、図6)。
組成物(S)は、接着剤組成物として用いることもできる。1つの実施形態において組成物(S)は、光学層と第1熱可塑性樹脂フィルムとを貼合するための接着剤組成物である。この場合、光学積層体は、光学層と、組成物(S)の硬化物から構成される第1硬化物層(接着剤層)と、第1熱可塑性樹脂フィルムとをこの順に含む(図2、図3、図5)。この光学積層体は、光学層及び第1熱可塑性樹脂フィルムの少なくともいずれか一方の貼合面に組成物(S)を塗工し、塗工層を介して光学層と第1熱可塑性樹脂フィルムとを積層させて積層体を得た後、塗工層を硬化させることによって作製することができる。
組成物(S)は、水系組成物であることが好ましい。水系組成物とは、水又は水を主成分とする水系溶媒に配合成分を溶解させた溶液であるか、水又は水系溶媒に配合成分を分散させた分散体(例えばエマルション)である。水を主成分とするとは、溶媒をなす成分の合計質量の50質量%以上が水であることをいう。
組成物(S)の固形分濃度は、通常0.5質量%以上20質量%以下であり、好ましくは1質量%以上15質量%以下である。
組成物(S)の25℃における粘度は、50mPa・sec以下であることが好ましく、1mPa・sec以上30mPa・sec以下であることがより好ましく、2mPa・sec以上20mPa・sec以下であることがさらに好ましい。25℃における粘度が50mPa・secを超えると、均一に塗工することが難しくなって塗工ムラを生じる可能性があり、また、配管の目詰まり等の不具合が発生する可能性がある。
組成物(S)の25℃における粘度は、E型粘度計によって測定することができる。
〔2-1-1〕ポリビニルアセタール樹脂(A)
ポリビニルアセタール樹脂(A)は、ポリビニルアルコール樹脂を、アルデヒド及びケトンのうちの少なくとも一方によりアセタール化することによって得ることができる。ポリビニルアセタール樹脂(A)は、1種のみを用いてもよく、2種以上を併用して用いてもよい。
ポリビニルアセタール樹脂(A)は、アセタール基の他に、通常アセチル基や水酸基を有する。ポリビニルアセタール樹脂(A)は、これらの官能基以外に、イミン構造(-N=CRR’(R及びR’はそれぞれ独立して水素原子又は炭化水素基を表す。))、第1級アミノ基、第2級アミノ基、アミド基(-C(=O)NH-)、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、リン酸基、ホスホン酸基、チオール基等の官能基(以下、「変性官能基」ということがある。)を有していてもよい。ポリビニルアセタール樹脂(A)が有していてもよい変性官能基は、未変性のポリビニルアセタール樹脂を変性させて導入してもよく、上記の変性官能基を有するポリビニルアルコール樹脂を用い、これをアセタール化することによって導入してもよい。
ポリビニルアセタール樹脂(A)を得るために用いるポリビニルアルコール樹脂は、特に限定されないが、ビニルエステル-ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ビニルエステル-ビニルアルコール共重合体は、ポリビニルエステルを塩基性触媒にてケン化又はアルコールとエステル交換反応させる従来公知の方法により製造することができ、例えば、ポリ酢酸ビニルを鹸化することにより得られた酢酸ビニル-ビニルアルコール共重合体が挙げられる。ビニルエステル-ビニルアルコール共重合体の構成単位は、イミン構造(-N=CRR’(R及びR’は上記と同じ意味を表す。))、第1級アミノ基、第2級アミノ基、アミド基(-C(=O)NH-)、カルボキシル基、スルホン酸基、スルフィン酸基、スルフェン酸基、リン酸基、ホスホン酸基等の変性官能基を有していてもよい。
ポリビニルアルコール樹脂のケン化度は特に限定されないが、通常70モル%以上であり、好ましくは75モル%以上であり、より好ましくは80モル%以上であり、また、通常99.9モル%以下であり、99.8モル%以下であってもよい。ケン化度は、ポリビニルアルコール系樹脂の原料であるポリ酢酸ビニル系樹脂に含まれる酢酸基がケン化工程により水酸基に変化した割合をユニット比(モル%)で表したものであり、下記式:
ケン化度[モル%]=(水酸基の数)÷(水酸基の数+酢酸基の数)×100
で定義される数値である。JIS K 6726(1994)で規定されている方法で求めることができる。
ポリビニルアセタール樹脂(A)を得るために用いるアルデヒドは、特に限定されないが、炭素数1~10の鎖状脂肪族基、環状脂肪族基又は芳香族基を有するアルデヒドが挙げられる。これらのアルデヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、n-ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n-バレルアルデヒド、n-ヘキシルアルデヒド、2-エチルブチルアルデヒド、2-エチルヘキシルアルデヒド、n-ヘプチルアルデヒド、n-オクテルアルデヒド、n-ノニルアルデヒド、n-デシルアルデヒド、アミルアルデヒド等の脂肪族アルデヒド;ベンズアルデヒド、シンナムアルデヒド、2-メチルベンズアルデヒド、3-メチルベンズアルデヒド、4-メチルベンズアルデヒド、p-ヒドロキシベンズアルデヒド、m-ヒドロキシベンズアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、β-フェニルプロピオンアルデヒド等の芳香族アルデヒド等が挙げられる。これらのアルデヒドは、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
ポリビニルアセタール樹脂(A)を得るために用いるケトンは、特に限定されないが、アセトン、エチルメチルケトン、ジエチルケトン、t-ブチルケトン、ジプロピルケトン、アリルエチルケトン、アセトフェノン、p-メチルアセトフェノン、4’-アミノアセトフェノン、p-クロロアセトフェノン、4’-メトキシアセトフェノン、2’-ヒドロキシアセトフェノン、3’-ニトロアセトフェノン、P-(1-ピペリジノ)アセトフェノン、ベンザルアセトフェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、4-ニトロベンゾフェノン、2-メチルベンゾフェノン、p-ブロモベンゾフェノン、シクロヘキシル(フェニル)メタノン、2-ブチロナフトン、1-アセトナフトン、2-ヒドロキシ-1-アセトナフトン、8’-ヒドロキシ-1’-ベンゾナフトン等が挙げられる。
ポリビニルアセタール樹脂(A)を得るために用いるアルデヒドとしては、ホルムアルデヒド、アセタール化反応性に優れるブチルアルデヒド、2-エチルヘキシルアルデヒド、n-ノニルアルデヒドによりアセタール化された樹脂であることが好ましい。また、ポリビニルアセタール樹脂(A)としては、ポリビニルホルマール樹脂又はポリビニルブチラール樹脂が好ましく、ポリビニルブチラール樹脂であることがより好ましい。
ポリビニルアセタール樹脂(A)のアセタール化度は特に限定されないが、50モル%未満であることが好ましく、45モル%以下であることがより好ましく、40モル%以下であることがさらに好ましく、通常、3モル%以上である。アセタール化度が50モル%未満であることにより、高温高湿環境下において良好な光学耐久性を示す光学積層体が得られやすく、また、表面改質処理を行わなくても、光学積層体の層間の密着性が良好な光学積層体が得られやすい。ポリビニルアセタール樹脂(A)のアセタール化度は、NMR(核磁気共鳴スペクトル)を用いて測定することができる。
ポリビニルアセタール樹脂(A)の水酸基量は、20モル%以上であることが好ましく、25モル%以上であることがより好ましく、35モル%以上であってもよく、また、90モル%以下であることが好ましい。ポリビニルアセタール樹脂(A)の水酸基量は、主鎖の全エチレン基量に対する、水酸基が結合しているエチレン基量の割合(モル%)であり、水酸基が結合しているエチレン基量は、例えば、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法によって算出することができる。
ポリビニルアセタール樹脂(A)のアセチル基量は、0.0001モル%以上であることが好ましく、0.001モル%以上であることがより好ましく、0.01モル%以上であってもよく、また、5モル%以下であることが好ましく、3モル%以下であることがより好ましく、2モル%以下であってもよい。ポリビニルアセタール樹脂(A)のアセチル基量は、主鎖の全エチレン基量に対する、主鎖の全エチレン基量から、アセタール基が結合しているエチレン基量と水酸基が結合しているエチレン基量との合計エチレン基量を差し引いたエチレン基量の割合(モル%)である。アセタール基が結合しているエチレン基量は、例えば、JIS K6728「ポリビニルブチラール試験方法」に準拠した方法によって算出することができる。
組成物(S)におけるポリビニルアセタール樹脂(A)の含有量は、ポリビニルアセタール樹脂(A)及び架橋剤(B1)の合計含有量100質量部に対して、40質量部以上であることが好ましく、50質量部以上であることがより好ましく、60質量部以上であることがさらに好ましく、また、90質量部以下であることが好ましく、85質量部以下であることがより好ましく、80質量部以下であることがさらに好ましい。ポリビニルアセタール樹脂(A)の含有量を上記の範囲とすることにより、高温高湿環境下における光学耐久性に優れる光学積層体を得ることができ、また、表面改質処理を行わなくても、光学積層体の層間の密着性が良好な光学積層体が得られやすい。
〔2-1-2〕架橋剤(B)
組成物(S)は、架橋剤(B)を含む。組成物(S)が架橋剤(B)を含むことにより、組成物(S)に含まれるポリビニルアセタール樹脂(A)に架橋構造を形成し、組成物(S)を硬化させることができる。架橋剤(B)は、組成物(S)が水系組成物である場合には、水系架橋剤であることが好ましい。本明細書において水系架橋剤とは、水又は水を主成分とする水系溶媒に一部又は全部が溶解する架橋剤、あるいは、水又は水を主成分とする水系溶媒に一部又は全部を分散させ得る架橋剤をいう。
架橋剤(B)は、イソシアネート系架橋剤及びカルボジイミド系架橋剤のうちの少なくとも一方である架橋剤(B1)を含み、架橋剤(B1)以外の架橋剤(以下、「他の架橋剤(B2)」ということがある。)を含んでいてもよい。架橋剤(B1)は、イソシアネート系架橋剤及びカルボジイミド系架橋剤のうちの少なくとも一方を含んでいればよく、これらの両方を含んでいてもよい。また、架橋剤(B1)は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
架橋剤(B1)を構成することができるイソシアネート系架橋剤は、分子内に少なくとも2個のイソシアネート基(-NCO)を有する化合物である。イソシアネート系化合物の具体例は、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等を含む。また、これらのイソシアネート化合物に、グリセロールやトリメチロールプロパンのようなポリオールを反応させたアダクト体や、イソシアネート化合物を二量体、三量体等にしたものも、イソシアネート系架橋剤に含むものとする。
架橋剤(B1)を構成することができるカルボジイミド系架橋剤は、分子内に少なくとも1個のカルボジイミド基(-N=C=N-)を有する化合物である。カルボジイミド系架橋剤としては、分子内に1個のカルボジイミド基を有するモノカルボジイミド化合物や、分子内に2個以上のカルボジイミド基を有するポリカルボジイミド化合物を挙げることができる。カルボジイミド系架橋剤は、分子内に2個以上のカルボジイミド基を有するポリカルボジイミド化合物であることが好ましく、一分子あたり平均して3~20個のカルボジイミド基を有するポリカルボジイミド化合物であることがより好ましい。
モノカルボジイミド化合物としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、ジメチルカルボジイミド、ジイソブチルカルボジイミド、ジオクチルカルボジイミド、t-ブチルイソプロピルカルボジイミド、ジフェニルカルボジイミド、ジ-t-ブチルカルボジイミド、ジ-β-ナフチルカルボジイミド等が挙げられる。
ポリカルボジイミド化合物としては、例えば、カルボジイミド化触媒の存在下でジイソシアネート化合物の脱炭酸縮合反応により合成することができ、ポリマーであることが好ましい。ポリカルボジイミド化合物としては、例えば、ポリ(4,4’-ジフェニルメタンカルボジイミド)、ポリ(p-フェニレンカルボジイミド)、ポリ(m-フェニレンカルボジイミド)、ポリ(ジイソプロピルフェニルカルボジイミド)、ポリ(トリイソプロピルフェニルカルボジイミド)等の芳香族ポリカルボジイミド;ポリ(ジシクロヘキシルメタンカルボジイミド)等の脂環族ポリカルボジイミド、ポリ(ジイソプロピルカルボジイミド)等の脂肪族ポリカルボジイミド等が挙げられる。
組成物(S)における架橋剤(B1)の含有量は、ポリビニルアセタール樹脂(A)及び架橋剤(B1)の合計含有量100質量部に対して、10質量部以上であることが好ましく、15質量部以上であることがより好ましく、20質量部以上であることがさらに好ましく、また、60質量部以下であることが好ましく、50質量部以下であることがより好ましく、40質量部以下であることがさらに好ましい。架橋剤(B1)の含有量を上記の範囲とすることにより、高温高湿環境下における光学耐久性に優れる光学積層体を得ることができ、また、表面改質処理を行わなくても、光学積層体の層間の密着性が良好な光学積層体が得られやすい。
架橋剤(B)における架橋剤(B1)の含有量は、架橋剤(B)の合計含有量100質量部に対して、70質量部以上であることが好ましく、80質量部以上であることがより好ましく、90質量部以上であることがさらに好ましく、95質量部以上であることが特に好ましく、100質量部であってもよい。
架橋剤(B)に含まれていてもよい架橋剤(B1)以外の他の架橋剤(B2)としては、例えば、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、ビニルスルホン系化合物、金属キレート系化合物、多価アルデヒド、メラミン系化合物、グリオキザール、グリオキザール誘導体、水溶性エポキシ樹脂等が挙げられる。他の架橋剤(B2)は、1種のみを単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
エポキシ系化合物は、分子内に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物である。エポキシ系化合物の具体例は、ビスフェノールA型のエポキシ樹脂、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、1,6-ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、N,N-ジグリシジルアニリン、N,N,N’,N’-テトラグリシジル-m-キシレンジアミン、1,3-ビス(N,N’-ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン等を含む。
アジリジン系化合物は、エチレンイミンとも呼ばれる1個の窒素原子と2個の炭素原子とからなる3員環の骨格を分子内に少なくとも2個有する化合物である。アジリジン系化合物の具体例は、ジフェニルメタン-4,4’-ビス(1-アジリジンカルボキサミド)、トルエン-2,4-ビス(1-アジリジンカルボキサミド)、トリエチレンメラミン、イソフタロイルビス-1-(2-メチルアジリジン)、トリス-1-アジリジニルホスフィンオキサイド、ヘキサメチレン-1,6-ビス(1-アジリジンカルボキサミド)、トリメチロールプロパン-トリス-β-アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン-トリス-β-アジリジニルプロピオネート等を含む。
ビニルスルホン系化合物は、ビニルスルホン基を有する化合物であり、複数のビニルスルホン基を有する化合物であることが好ましい。ビニルスルホン系化合物の具体例は、N,N’-トリメチレンビス[2-(ビニルスルホニル)アセトアミド]、N,N’-エチレンビス[2-(ビニルスルホニル)アセトアミド]等を含む。
金属キレート化合物の具体例は、アルミニウム、鉄、銅、亜鉛、スズ、チタン、ニッケル、アンチモン、マグネシウム、バナジウム、クロム、及びジルコニウム等の多価金属に、アセチルアセトンやアセト酢酸エチルが配位した化合物等を含む。
他の架橋剤(B2)の含有量は特に限定されないが、架橋剤(B)の合計含有量100質量部に対して、30質量部以下であることが好ましく、20質量部以下であることがより好ましく、10質量部以下であることがさらに好ましく、5質量部以下であることが特に好ましい。
〔2-1-3〕その他の成分
組成物(S)は、ポリビニルアセタール樹脂(A)及び架橋剤(B)以外のその他の成分を含むことができる。その他の成分としては、溶媒;ポリビニルアセタール樹脂(A)以外の樹脂(以下、「他の樹脂」ということがある。);変性ポリビニルアルコール系重合体;カップリング剤、粘着付与剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、耐熱安定剤、加水分解防止剤等の添加剤;溶媒等が挙げられる。
溶媒としては、水、有機溶剤、又はこれらの混合物が挙げられる。溶剤は、水又は水を主成分とする水系溶媒であることが好ましく、水系溶媒は、水と水溶性の有機溶剤との混合物であることが好ましい。水を主成分とするとは、上記したように、溶媒をなす成分の合計質量の50質量%以上が水であることをいう。水系溶媒のうちの水以外の溶媒としては、水との共存下で容易に層分離しない溶媒であれば特に限定されないが、水に溶解する溶媒であることが好ましく、メタノールやエタノール、イソプロピルアルコール、n-プロピルアルコール等のアルコール類;アセトンやメチルエチルケトン等のケトン類;エチレングリコール、ジエチレングリコール等のグリコール類;N-メチルピロリドン(NMP)、テトラヒドロフラン、ブチルセロソルブ等のグリコールエーテル類等が挙げられる。
ポリビニルアセタール樹脂(A)以外の他の樹脂としては、(メタ)アクリル系樹脂;ポリビニルアルコール系樹脂;エチレン-ビニルアルコール共重合体系樹脂;ポリビニルピロリドン系樹脂;ポリアミドアミン系樹脂;エポキシ系樹脂;メラミン系樹脂;ユリア系樹脂;ポリアミド系樹脂;ポリエステル系樹脂;ポリウレタン系樹脂;メチルセルロース、ヒドロエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等のセルロース系樹脂;アルギン酸ナトリウム、デンプン等の多糖類等が挙げられる。これらのうち、水又は水系溶媒に溶解又は分散可能な水系樹脂であることが好ましい。本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリル及びメタクリルからなる群より選択される少なくとも1種を表す。「(メタ)アクリロイル」及び「(メタ)アクリレート」等の表記についても同様である。
〔2-2〕他の硬化性組成物
第2硬化物層25を構成することができる他の硬化性組成物としては、特に限定されないが、例えば、硬化性の樹脂成分を水に溶解又は分散させた公知の水系組成物(水系接着剤を含む。)及び活性エネルギー線硬化性化合物を含有する公知の活性エネルギー線硬化性組成物(活性エネルギー線硬化性接着剤を含む。)等が挙げられる。
水系組成物に含有される樹脂成分としては、ポリビニルアルコール系樹脂やウレタン樹脂等が挙げられる。
ポリビニルアルコール系樹脂を含む水系組成物は、密着性や接着性を向上させるために、多価アルデヒド、メラミン系化合物、ジルコニア化合物、亜鉛化合物、グリオキザール、グリオキザール誘導体、水溶性エポキシ樹脂等の硬化性成分や架橋剤をさらに含有することができる。
ウレタン樹脂を含む水系組成物としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とグリシジルオキシ基を有する化合物とを含む水系組成物が挙げられる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分(親水成分)が導入されたものである。
活性エネルギー線硬化性組成物は、紫外線、可視光、電子線、X線等の活性エネルギー線の照射によって硬化する組成物である。活性エネルギー線硬化性組成物を用いる場合、第2硬化物層25は、当該組成物の硬化物層である。
活性エネルギー線硬化性組成物は、カチオン重合によって硬化するエポキシ系化合物を硬化性成分として含有する組成物であることができ、好ましくは、かかるエポキシ系化合物を硬化性成分として含有する紫外線硬化性組成物である。エポキシ系化合物とは、分子内に平均1個以上、好ましくは2個以上のエポキシ基を有する化合物を意味する。エポキシ系化合物は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
エポキシ系化合物としては、芳香族ポリオールの芳香環に水素化反応を行って得られる脂環式ポリオールに、エピクロロヒドリンを反応させることにより得られる水素化エポキシ系化合物(脂環式環を有するポリオールのグリシジルエーテル);脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ系化合物;脂環式環に結合したエポキシ基を分子内に1個以上有するエポキシ系化合物である脂環式エポキシ系化合物等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性組成物は、硬化性成分として、上記エポキシ系化合物の代わりに、又はこれとともにラジカル重合性である(メタ)アクリル系化合物を含有することができる。(メタ)アクリル系化合物としては、分子内に1個以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する(メタ)アクリレートモノマー;官能基含有化合物を2種以上反応させて得られ、分子内に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する(メタ)アクリレートオリゴマー等の(メタ)アクリロイルオキシ基含有化合物を挙げることができる。
活性エネルギー線硬化性組成物は、カチオン重合によって硬化するエポキシ系化合物を硬化性成分として含む場合、光カチオン重合開始剤を含有することが好ましい。光カチオン重合開始剤としては、例えば、芳香族ジアゾニウム塩;芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩;鉄-アレン錯体等を挙げることができる。
活性エネルギー線硬化性組成物は、(メタ)アクリル系化合物等のラジカル重合性成分を含む場合、光ラジカル重合開始剤を含有することが好ましい。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系開始剤、ベンゾフェノン系開始剤、ベンゾインエーテル系開始剤、チオキサントン系開始剤、キサントン、フルオレノン、カンファーキノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン等を挙げることができる。
〔3〕偏光子
偏光子は、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過する機能を有する層又はフィルムである。
偏光子としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムに二色性色素を吸着・配向させたフィルムが挙げられる。二色性色素としては、ヨウ素、二色性有機染料等が挙げられる。
また、偏光子は、リオトロビック液晶状態の二色性染料を基材フィルムにコーティングし、配向・固定化した塗布型偏光フィルムであってもよい。
以上の偏光子は、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を吸収するため吸収型偏光子と呼ばれている。
偏光子は、吸収型偏光子に限定されず、自然光からある一方向の直線偏光を選択的に透過し、もう一方向の直線偏光を反射する反射型偏光子、又はもう一方向の直線偏光を散乱する散乱型偏光子でも構わないが、視認性に優れる点から吸収型偏光子が好ましい。中でも、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成されるポリビニルアルコール系偏光フィルムがより好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素や二色性染料等の二色性色素を吸着・配向させたポリビニルアルコール系偏光フィルムがさらに好ましく、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素を吸着・配向させたポリビニルアルコール系偏光フィルムが特に好ましい。
ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化したものを用いることができる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、及びアンモニウム基を有する(メタ)アクリルアミド類等が挙げられる。
ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は通常、85モル%以上100モル%以下であり、98モル%以上が好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマール又はポリビニルアセタール等を用いることもできる。ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、通常1000以上10000以下であり、1500以上5000以下が好ましい。
ポリビニルアルコール系樹脂の平均重合度は、JIS K 6726:1994に準拠して求めることができる。
このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成された偏光フィルムの原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものではなく、公知の方法が採用される。ポリビニルアルコール系原反フィルムの厚みは、例えば150μm以下であり、好ましくは100μm以下(例えば50μm以下)であり、5μm以上である。
ポリビニルアルコール系樹脂フィルムで構成された偏光フィルムは、公知の方法によって製造できる。具体的には、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程;ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより二色性色素を吸着させる工程;二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理(架橋処理)する工程;及び、ホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を含む方法によって製造できる。
偏光子の厚みは、40μm以下とすることができ、好ましくは30μm以下(例えば20μm以下、さらには15μm以下、なおさらには10μm以下又は8μm以下)である。特開2000-338329号公報や特開2012-159778号公報に記載の方法によれば、薄膜の偏光子をより容易に製造することができ、偏光子の厚みを、例えば20μm以下、さらには15μm以下、なおさらには10μm以下又は8μm以下とすることがより容易になる。偏光子の厚みは、通常2μm以上である。偏光子の厚みを小さくすることは、光学積層体(偏光板)、及びこれを含む画像表示装置の薄型化に有利である。
〔4〕位相差フィルム
位相差フィルムとしては、透光性を有する熱可塑性樹脂を一軸延伸又は二軸延伸した延伸フィルム;ディスコティック液晶又はネマチック液晶等の液晶性化合物が配向固定されたフィルム;基材フィルム上に上記の液晶層が形成されたもの等が挙げられる。また、本明細書においては、ゼロレタデーションフィルムも位相差フィルムに含まれる。
基材フィルムは通常、熱可塑性樹脂からなるフィルムであり、熱可塑性樹脂の一例は、トリアセチルセルロース等のセルロースエステル系樹脂である。
透光性を有する熱可塑性樹脂としては、後述する第1熱可塑性樹脂フィルム10を構成する樹脂等が挙げられる。
ゼロレタデーションフィルムとは、面内位相差値Re及び厚み方向位相差値Rthがともに-15~15nmであるフィルムをいう。この位相差フィルムは、IPSモードの液晶表示装置に好適に用いられる。面内位相差値Re及び厚み方向位相差値Rthは、好ましくはともに-10~10nmであり、より好ましくはともに-5~5nmである。ここでいう面内位相差値Re及び厚み方向位相差値Rthは、波長590nmにおける値である。
面内位相差値Re及び厚み方向位相差値Rthは、それぞれ下記式:
Re=(n-n)×d
Rth=〔(n+n)/2-n〕×d
で定義される。式中、nはフィルム面内の遅相軸方向(x軸方向)の屈折率であり、nはフィルム面内の進相軸方向(面内でx軸に直交するy軸方向)の屈折率であり、nはフィルム厚み方向(フィルム面に垂直なz軸方向)の屈折率であり、dはフィルムの厚みである。
ゼロレタデーションフィルムには、例えば、セルロース系樹脂、鎖状ポリオレフィン系樹脂及び環状ポリオレフィン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂又は(メタ)アクリル系樹脂からなる樹脂フィルムを用いることができる。特に、位相差値の制御が容易で、入手も容易であることから、セルロース系樹脂、ポリオレフィン系樹脂又は(メタ)アクリル系樹脂が好ましく用いられる。
液晶性化合物の塗布・配向によって光学異方性を発現させたフィルムとしては、
第一の形態:棒状液晶化合物が支持基材に対して水平方向に配向した位相差フィルム、
第二の形態:棒状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した位相差フィルム、
第三の形態:棒状液晶化合物が面内で螺旋状に配向の方向が変化している位相差フィルム、
第四の形態:円盤状液晶化合物が傾斜配向している位相差フィルム、
第五の形態:円盤状液晶化合物が支持基材に対して垂直方向に配向した二軸性の位相差フィルムが挙げられる。
例えば、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイに用いられる光学層としては、第一の形態、第二の形態、第五の形態が好適に用いられる。又は、これらを積層させて用いてもよい。
位相差フィルムが、重合性液晶化合物の配向状態における重合体からなる層(以下、「光学異方性層」と称する場合がある)である場合、位相差フィルムは逆波長分散性を有することが好ましい。逆波長分散性とは、短波長での液晶配向面内位相差値の方が長波長での液晶配向面内位相差値よりも小さくなる光学特性であり、好ましくは、位相差フィルムが下記式(1)及び式(2)を満たすことである。なお、Re(λ)は波長λnmの光に対する面内位相差値を表す。
Re(450)/Re(550)≦1 (1)
1≦Re(630)/Re(550) (2)
位相差フィルムが第一の形態でかつ逆波長分散性を有する場合、表示装置での黒表示時の着色が低減するため好ましく、式(1)において0.82≦Re(450)/Re(550)≦0.93であればより好ましい。さらに120≦Re(550)≦150が好ましい。
位相差フィルムが、光学異方性層を有するフィルムである場合の重合性液晶化合物としては、液晶便覧(液晶便覧編集委員会編、丸善(株)平成12年10月30日発行)の「3.8.6 ネットワーク(完全架橋型)」、「6.5.1 液晶材料 b.重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、並びに、特開2010-31223号公報、特開2010-270108号公報、特開2011-6360号公報、特開2011-207765号公報、特開2016-81035号公報、国際公開第2017/043438号及び特表2011-207765号公報に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。
重合性液晶化合物の配向状態における重合体から位相差フィルムを製造する方法は、例えば、特開2010-31223号公報に記載の方法が挙げられる。
第二の形態の場合、面内位相差値Re(550)は0~10nmの範囲に、好ましくは0~5nmの範囲に調整すればよく、厚み方向の位相差値Rthは、-10~-300nmの範囲に、好ましくは-20~-200nmの範囲に調整すればよい。
厚み方向の屈折率異方性を意味する厚み方向の位相差値Rthは、面内の進相軸を傾斜軸として50度傾斜させて測定される位相差値R50と面内位相差値Reとから算出できる。すなわち、厚み方向の位相差値Rthは、面内の位相差値Re、進相軸を傾斜軸として50度傾斜させて測定した位相差値R50、位相差フィルムの厚みd、及び位相差フィルムの平均屈折率nから、以下の式(4)~(6)によりnx、ny及びnzを求め、これらを式(3)に代入して、算出することができる。
Rth=[(n+n)/2-n]×d (3)
Re =(n-n)×d (4)
R50=(n-n')×d/cos(φ) (5)
(n+n+n)/3=n (6)
ここで、
φ=sin-1〔sin(40°)/n
'=n×n/〔n ×sin(φ)+n ×cos(φ)〕1/2
位相差フィルムは、二以上の層を有する多層フィルムであってもよい。例えば、位相差フィルムの片面又は両面に保護フィルムが積層されたものや、二以上の位相差フィルムが粘着剤又は接着剤を介して積層されたものが挙げられる。
〔5〕熱可塑性樹脂フィルム
第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20(以下、両者をまとめて「熱可塑性樹脂フィルム」ということがある。)はそれぞれ、透光性を有する(好ましくは光学的に透明な)熱可塑性樹脂、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂(ポリプロピレン系樹脂等)、環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂等)等のポリオレフィン系樹脂;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース等のセルロースエステル系樹脂;ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂;ポリカーボネート系樹脂;(メタ)アクリル系樹脂;ポリスチレン系樹脂;又はこれらの混合物、共重合物等からなるフィルムであることができる。
第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20はそれぞれ、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、及び環状オレフィン系樹脂からなる群より選択される1以上の熱可塑性樹脂を含むフィルムであることが好ましく、セルロースエステル系樹脂を含むセルロースエステル系樹脂フィルムであることがより好ましい。
第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20はそれぞれ、延伸されていないフィルム、又は一軸若しくは二軸延伸されたフィルムのいずれであってもよい。二軸延伸は、2つの延伸方向に同時に延伸する同時二軸延伸でもよく、第1方向に延伸した後でこれとは異なる第2方向に延伸する逐次二軸延伸であってもよい。
第1熱可塑性樹脂フィルム10及び/又は第2熱可塑性樹脂フィルム20は、光学層30を保護する役割を担う保護フィルムであってもよいし、位相差フィルム等の光学機能を併せ持つ保護フィルムであることもできる。
位相差フィルムについては、上記〔4〕の記載が引用される。
第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20の組成物(S)が塗布される面、又は、組成物(S)との貼合面においては、密着性向上の観点から、ケン化処理、プラズマ処理、コロナ処理、プライマー処理等の表面改質処理を行ってもよいが、表面改質処理は行わなくてもよい。組成物(S)を用いることにより、第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20の表面改質処理を行わなくても、第1熱可塑性樹脂フィルム10と組成物(S)で形成された第1硬化物層15との密着性や、第2熱可塑性樹脂フィルム20と組成物(S)で形成された第2硬化物層25との密着性を確保することができるためである。したがって、本発明によれば、光学積層体を得る際に、上記の表面改質処理を省略することができるため、工程を簡素化することができる。光学層30の貼合面についても、上記と同様の理由により、表面改質処理を行ってもよく、行わなくてもよい。
第1熱可塑性樹脂フィルム10又は第2熱可塑性樹脂フィルム20がセルロースエステル系樹脂フィルムである場合は、密着性向上の観点から、組成物(S)が塗布される面又は組成物(S)との貼合面にケン化処理を行ってもよい。組成物(S)を用いて第1硬化物層15や第2硬化物層25を形成する場合には、ケン化処理を行わなくても、第1熱可塑性樹脂フィルム10と第1硬化物層15との密着性や、第2熱可塑性樹脂フィルム20と第2硬化物層25との密着性を確保することができる。ケン化処理としては、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムのようなアルカリの水溶液に浸漬する方法が挙げられる。
第1熱可塑性樹脂フィルム10又は第2熱可塑性樹脂フィルム20がセルロースエステル系樹脂フィルムであり、それぞれが第1硬化物層15及び第2硬化物層25に直接接している光学積層体において、セルロースエステル系樹脂フィルムは、第1硬化物層15側又は第2硬化物層25側の表面の水酸基をフッ素系誘導体化試薬を用いて誘導体化した場合のフッ素元素濃度が2.0atom%以下であってもよい。フッ素元素濃度は、1.8atom%以下であってもよく、1.6atom%以下であってもよく、1.5atom%以下であってもよい。上記のフッ素系誘導体化試薬としては、無水トリフルオロ酢酸を用いることができ、上記のフッ素元素濃度は、実施例に記載の方法にしたがって測定することができる。
上記のフッ素元素濃度は、セルロースエステル系樹脂フィルム表面の水酸基の量を示していると考えられる。一般に、セルロースエステル系樹脂フィルムの表面改質処理を行うと、その表面の水酸基の量が増加する。上記の範囲のフッ素元素濃度を有するセルロースエステル系樹脂フィルムは、一般に、表面改質処理を行っていない又は表面改質処理の程度が低いセルロースエステル系樹脂フィルムといえる。
したがって、光学積層体において、組成物(S)を用いて形成された第1硬化物層15や第2硬化物層25を形成することにより、表面改質処理を行っていない又は表面改質処理の程度が低いセルロースエステル系樹脂フィルムに直接接するように第1硬化物層15や第2硬化物層25を形成した場合にも、セルロースエステル系樹脂フィルムと、第1硬化物層15や第2硬化物層25との間の良好な密着性を確保することができる。
第2硬化物層25が、組成物(S)ではなく、他の硬化性組成物を用いて形成される場合、第2熱可塑性樹脂フィルム20の硬化性組成物が塗布される面においては、密着性向上の観点より、上記した表面改質処理を行うことが好ましい。ただし、工程の簡素化の観点より、表面改質処理を実施しなくてもよい。表面改質処理は、熱可塑性樹脂フィルムの貼合面とともに、光学層30の貼合面に行ってもよい。
第2熱可塑性樹脂フィルム20がセルロースエステル系樹脂フィルムである場合は、密着性向上の観点から、上記したケン化処理を行ってもよい。
熱可塑性樹脂フィルムをなす鎖状ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂等の鎖状オレフィンの単独重合体のほか、2種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体を挙げることができる。
熱可塑性樹脂フィルムをなす環状ポリオレフィン系樹脂は、ノルボルネンやテトラシクロドデセン(別名:ジメタノオクタヒドロナフタレン)又はそれらの誘導体を代表例とする環状オレフィンを重合単位として含む樹脂の総称である。環状ポリオレフィン系樹脂としては、環状オレフィンの開環(共)重合体及びその水素添加物、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレン等の鎖状オレフィン又はビニル基を有する芳香族化合物との共重合体、並びにこれらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性した変性(共)重合体等が挙げられる。
中でも、環状オレフィンとしてノルボルネンや多環ノルボルネン系単量体等のノルボルネン系単量体を用いたノルボルネン系樹脂が好ましく用いられる。
熱可塑性樹脂フィルムをなすセルロースエステル系樹脂は、セルロースにおけるヒドロキシル基の少なくとも一部が酢酸エステル化されている樹脂であり、一部が酢酸エステル化され、一部が他の酸でエステル化されている混合エステルであってもよい。セルロースエステル系樹脂は、好ましくはアセチルセルロース系樹脂である。
アセチルセルロース系樹脂としては、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。
熱可塑性樹脂フィルムをなすポリエステル系樹脂は、エステル結合を有する、上記セルロースエステル系樹脂以外の樹脂であり、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体からなるものが一般的である。
ポリエステル系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンナフタレート、ポリシクロへキサンジメチルテレフタレート、ポリシクロヘキサンジメチルナフタレート等が挙げられる。
中でも、機械的性質、耐溶剤性、耐スクラッチ性、コスト等の観点からポリエチレンテレフタレートが好ましく用いられる。ポリエチレンテレフタレートとは、繰返し単位の80モル%以上がエチレンテレフタレートで構成される樹脂をいい、他の共重合成分(イソフタル酸等のジカルボン酸成分;プロピレングリコール等のジオール成分等)に由来する構成単位を含んでいてもよい。
熱可塑性樹脂フィルムをなすポリカーボネート系樹脂は、炭酸とグリコール又はビスフェノールとから形成されるポリエステルである。中でも、分子鎖にジフェニルアルカンを有する芳香族ポリカーボネートは、耐熱性、耐候性及び耐酸性の観点から好ましく使用される。
ポリカーボネートとしては、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン(別名ビスフェノールA)、2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)イソブタン、1,1-ビス(4-ヒドロキシフェニル)エタン等のビスフェノールから誘導されるポリカーボネートが挙げられる。
熱可塑性樹脂フィルムをなす(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル系単量体由来の構成単位を含む重合体であり、(メタ)アクリル系単量体としては、メタクリル酸エステル及びアクリル酸エステルが挙げられる。
メタクリル酸エステルとしては、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸n-、i-又はt-ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸2-エチルヘキシル、メタクリル酸2-ヒドロキシエチル等が挙げられる。
アクリル酸エステルとしては、アクリル酸エチル、アクリル酸n-、i-又はt-ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸2-エチルヘキシル、アクリル酸2-ヒドロキシエチル等が挙げられる。
(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリルモノマー由来の構成単位のみからなる重合体であってもよいし、その他の構成単位を含んでいてもよい。
1つの好ましい実施形態において(メタ)アクリル系樹脂は、共重合成分としてメタクリル酸メチルを含むか、又はメタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとを含む。
1つの好ましい実施形態において(メタ)アクリル系樹脂は、メタクリル酸エステルを主たる単量体とする(50質量%以上含有する)重合体であることができ、メタクリル酸エステルと他の共重合成分とが共重合されている共重合体であることが好ましい。
(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度は、好ましくは80℃以上160℃以下である。ガラス転移温度は、メタクリル酸エステル系単量体とアクリル酸エステル系単量体との重合比、それぞれのエステル基の炭素鎖長及びそれら有する官能基の種類、並びに単量体全体に対する多官能単量体の重合比の調整によって制御可能である。
(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度を高めるための手段として、高分子の主鎖に環構造を導入することも有効である。環構造は、環状酸無水物構造、環状イミド構造及びラクトン構造等の複素環構造であることが好ましい。具体的には、無水グルタル酸構造、無水コハク酸構造等の環状酸無水物構造;グルタルイミド構造、コハクイミド構造等の環状イミド構造;ブチロラクトン、バレロラクトン等のラクトン環構造が挙げられる。
主鎖中の環構造の含有量を大きくするほど(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度を高くすることができる傾向にある。
環状酸無水物構造、環状イミド構造は、無水マレイン酸、マレイミド等の環状構造を有する単量体を共重合させることによって導入する方法;重合後脱水・脱メタノール縮合反応により環状酸無水物構造を導入する方法;アミノ化合物を反応させて環状イミド構造を導入する方法等によって導入することができる。
ラクトン環構造を有する樹脂(重合体)は、高分子鎖にヒドロキシル基とエステル基とを有する重合体を調製した後、得られた重合体におけるヒドロキシル基とエステル基とを、加熱により、必要に応じて有機リン化合物等の触媒の存在下に環化縮合させてラクトン環構造を形成する方法によって得ることができる。
(メタ)アクリル系樹脂及びそれから形成される熱可塑性樹脂フィルムは、必要に応じて添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば、滑剤、ブロッキング防止剤、熱安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、耐光剤、耐衝撃性改良剤、界面活性剤等を挙げることができる。
これらの添加剤は、熱可塑性樹脂フィルムを構成する熱可塑性樹脂として、(メタ)アクリル系樹脂以外の他の熱可塑性樹脂を用いる場合にも使用することができる。
(メタ)アクリル系樹脂は、フィルムへの製膜性やフィルムの耐衝撃性等の観点から、衝撃性改良剤であるアクリル系ゴム粒子を含有していてもよい。アクリル系ゴム粒子とは、アクリル酸エステルを主体とする弾性重合体を必須成分とする粒子であり、実質的にこの弾性重合体のみからなる単層構造のものや、この弾性重合体を1つの層とする多層構造のものが挙げられる。
上記弾性重合体の例として、アクリル酸アルキルを主成分とし、これに共重合可能な他のビニル系単量体及び架橋性単量体を共重合させた架橋弾性共重合体が挙げられる。
弾性重合体の主成分となるアクリル酸アルキルとしては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2-エチルへキシル等、アルキル基の炭素数が1以上8以下程度のものが挙げられ、炭素数4以上のアルキル基を有するアクリル酸アルキルが好ましく用いられる。
上記アクリル酸アルキルに共重合可能な他のビニル系単量体としては、分子内に重合性炭素-炭素二重結合を1個有する化合物を挙げることができ、より具体的には、メタクリル酸メチル等のメタクリル酸エステル;スチレン等の芳香族ビニル化合物;アクリロニトリル等のビニルシアン化合物等が挙げられる。
上記架橋性単量体としては、分子内に重合性炭素-炭素二重結合を少なくとも2個有する架橋性の化合物を挙げることができ、より具体的には、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート等の多価アルコールの(メタ)アクリレート類;アリル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸のアルケニルエステル;ジビニルベンゼン等が挙げられる。
ゴム粒子を含まない(メタ)アクリル系樹脂からなるフィルムと、ゴム粒子を含む(メタ)アクリル系樹脂からなるフィルムとの積層体を、光学層30に貼合される熱可塑性樹脂フィルムとすることもできる。また、(メタ)アクリル樹脂とは異なる樹脂からなる位相差発現層の片面又は両面に、(メタ)アクリル系樹脂層が形成され、位相差が発現されたものを、光学層30に貼合される熱可塑性樹脂フィルムとすることもできる。
熱可塑性樹脂フィルムは、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、有機系染料、顔料、無機色素、酸化防止剤、帯電防止剤、界面活性剤、滑剤、分散剤、熱安定化剤等を含有していてもよい。光学積層体を画像表示装置に適用する場合、紫外線吸収剤を含有する熱可塑性樹脂フィルムを画像表示素子(例えば液晶セルや有機EL表示素子等)の視認側に配置することで、画像表示素子の紫外線による劣化を抑制することができる。
紫外線吸収剤としては、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられる。
第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20は、同じ熱可塑性樹脂で構成されるフィルムであってもよいし、互いに異なる熱可塑性樹脂で構成されるフィルムであってもよい。第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20は、厚み、添加剤の有無やその種類、位相差特性等において同じであってもよいし、異なっていてもよい。
熱可塑性樹脂フィルムは、その外面(光学層30とは反対側の表面)にハードコート層、防眩層、反射防止層、光拡散層、帯電防止層、防汚層、導電層等の表面処理層(コーティング層)を備えていてもよい。
第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20の厚みはそれぞれ、通常5μm以上200μm以下であり、好ましくは10μm以上120μm以下、より好ましくは10μm以上85μm以下、さらに好ましくは15μm以上65μm以下である。第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20の厚みはそれぞれ、50μm以下であってもよく、40μm以下であってもよい。第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20の厚みを小さくすることは、光学積層体(偏光板)、及びこれを含む画像表示装置の薄型化に有利である。
〔6〕光学積層体の製造
光学層30の一方の面に第1硬化物層15を介して第1熱可塑性樹脂フィルム10を積層接着することにより、図2に示される構成の光学積層体を得ることができ、光学層30の他方の面に第2硬化物層25を介して第2熱可塑性樹脂フィルム20をさらに積層接着することにより、図3に示される構成の光学積層体を得ることができる。
第1熱可塑性樹脂フィルム10及び第2熱可塑性樹脂フィルム20の双方を有する光学積層体を製造する場合、これらのフィルムは、段階的に片面ずつ積層接着してもよいし、両面のフィルムを同時に積層接着してもよい。
光学層30と第1熱可塑性樹脂フィルム10とを接着させる方法としては、組成物(S)を光学層30及び第1熱可塑性樹脂フィルム10の貼合面のいずれか一方又はその両方に塗工し、これにもう一方の貼合面を積層し、例えば貼合ロール等を用いて上下から押圧して貼合する方法が挙げられる。
組成物(S)の塗工には、例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター等、種々の塗工方式が利用できる。また、光学層30及び第1熱可塑性樹脂フィルム10を両者の貼合面が内側となるように連続的に供給しながら、その間に組成物(S)を流延させる方式であってもよい。
光学層30と第1熱可塑性樹脂フィルム10とを貼合した後、光学層30と第1硬化物層15と第1熱可塑性樹脂フィルム10とを含む積層体に対して、加熱処理を施すことが好ましい。加熱処理の温度は、例えば40℃以上100℃以下であり、好ましくは50℃以上90℃以下である。加熱処理によって硬化性組成物層に含まれる溶剤を除去することができる。また、該加熱処理によって硬化性組成物の硬化・架橋反応を進行させることができる。
以上の接着方法は、光学層30と第2熱可塑性樹脂フィルム20との接着にも適用することができる。
第2硬化物層を構成する硬化性組成物として活性エネルギー線硬化性組成物を用いる場合、必要に応じて硬化性組成物層の乾燥を行った後、活性エネルギー線を照射して硬化性組成物層を硬化させる。
活性エネルギー線を照射するために用いる光源は、紫外線、電子線、X線等を発生できるものであればよい。特に波長400nm以下に発光分布を有する、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が好適に用いられる。
図1に示すような、第1硬化物層15上に第1熱可塑性樹脂フィルムを有しない光学積層体は、光学層30の表面に組成物(S)を塗工し、得られた積層体に対して、例えば熱風乾燥機で80℃、300秒間の加熱処理を施すことによって製造することができる。また、セパレートフィルム/組成物(S)/光学層30からなる積層体を製造した後、セパレートフィルムを剥離し、その後、加熱処理を施すことによっても図1に示す光学積層体を製造することができる。
組成物(S)から形成される第1硬化物層15や第2硬化物層25の厚みは、例えば1nm以上20μm以下であり、好ましくは5nm以上10μm以下であり、より好ましくは10nm以上5μm以下であり、さらに好ましくは20nm以上1μm以下である。上述の公知の水系組成物から形成される硬化物層もこれと同程度の厚みを有することができる。
活性エネルギー線硬化性組成物から形成される硬化物層の厚みは、例えば10nm以上20μm以下、好ましくは100nm以上10μm以下、より好ましくは500nm以上5μm以下である。
第1硬化物層15と第2硬化物層25とは、厚みが同じであってもよいし、異なっていてもよい。
〔7〕光学積層体のその他の構成要素
〔7-1〕光学機能性フィルム
光学積層体は、所望の光学機能を付与するための、光学層30(例えば偏光子)以外の他の光学機能性フィルムを備えることができ、その好適な一例は位相差フィルムである。
上述のように、第1熱可塑性樹脂フィルム10及び/又は第2熱可塑性樹脂フィルム20が位相差フィルムを兼ねることもできるが、これらのフィルムとは別途に位相差フィルムを積層することもできる。後者の場合、位相差フィルムは、粘着剤層や接着剤層を介して第1熱可塑性樹脂フィルム10、第2熱可塑性樹脂フィルム20、第1硬化物層15及び/又は第2硬化物層25の外面に積層することができる。位相差フィルムについては、上記〔4〕の記載が引用される。
偏光板等の光学積層体に含まれ得る他の光学機能性フィルム(光学部材)の例は、集光板、輝度向上フィルム、反射層(反射フィルム)、半透過反射層(半透過反射フィルム)、光拡散層(光拡散フィルム)等である。
集光板は、光路制御等を目的に用いられるもので、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、ドット付設シート等であることができる。
輝度向上フィルムは、偏光板等の光学積層体を適用した画像表示装置における輝度を向上させる目的で使用される。具体的には、屈折率の異方性が互いに異なる薄膜フィルムを複数枚積層して反射率に異方性が生じるように設計された反射型偏光分離シート、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層を基材フィルム上に支持した円偏光分離シート等が挙げられる。
反射層、半透過反射層、光拡散層は、偏光板を反射型、半透過型、拡散型の光学部材とするためにそれぞれ設けられる。反射型の偏光板は、視認側からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置に用いられ、バックライト等の光源を省略できるため、液晶表示装置を薄型化しやすい。半透過型の偏光板は、明所では反射型として、暗所ではバックライトからの光で表示するタイプの液晶表示装置に用いられる。また拡散型の偏光板は、光拡散性を付与してモアレ等の表示不良を抑制した液晶表示装置に用いられる。反射層、半透過反射層及び光拡散層は、公知の方法により形成することができる。
〔7-2〕粘着剤層
光学積層体は、粘着剤層を含むことができる。粘着剤層としては、光学積層体を液晶セルや有機EL表示素子等の画像表示素子、又は他の光学部材に貼合するための粘着剤層が挙げられる。該粘着剤層は、図1及び2に示される構成の光学積層体においては光学層30の外面、図3に示される構成の光学積層体においては第1熱可塑性樹脂フィルム10又は第2熱可塑性樹脂フィルム20の外面、図4に示される構成の光学積層体においては第1硬化物層15又は第2熱可塑性樹脂フィルム20の外面、図5に示される構成の光学積層体においては第1熱可塑性樹脂フィルム10又は第2硬化物層25の外面、図6に示される構成の光学積層体においては第1硬化物層15又は第2硬化物層25の外面に積層することができる。
図3に示される構成の光学積層体の第2熱可塑性樹脂フィルム20の外面に粘着剤層40を積層した例を図7に示す。
粘着剤層に用いられる粘着剤としては、(メタ)アクリル系樹脂や、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテル系樹脂等をベースポリマーとするものを用いることができる。中でも、透明性、粘着力、信頼性、耐候性、耐熱性、リワーク性等の観点から、(メタ)アクリル系粘着剤が好ましい。
(メタ)アクリル系粘着剤には、メチル基やエチル基やn-、i-又はt-ブチル基等の炭素数が20以下のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、(メタ)アクリル酸や(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル等の官能基含有(メタ)アクリル系モノマーとを、ガラス転移温度が好ましくは25℃以下、より好ましくは0℃以下となるように配合した、重量平均分子量が10万以上の(メタ)アクリル系樹脂がベースポリマーとして有用である。
光学積層体への粘着剤層の形成は、例えば、トルエンや酢酸エチル等の有機溶剤に粘着剤組成物を溶解又は分散させて粘着剤液を調製し、これを光学積層体の対象面に直接塗工して粘着剤層を形成する方式や、離型処理が施されたセパレートフィルム上に粘着剤層をシート状に形成しておき、それを光学積層体の対象面に移着する方式等により行うことができる。
粘着剤層の厚みは、その接着力等に応じて決定されるが、1μm以上50μm以下の範囲が適当であり、好ましくは2μm以上40μm以下である。
光学積層体は、上記のセパレートフィルムを含み得る。セパレートフィルムは、ポリエチレン等のポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン等のポリプロピレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂等からなるフィルムであることができる。中でも、ポリエチレンテレフタレートの延伸フィルムが好ましい。
粘着剤層は、必要に応じて、ガラス繊維、ガラスビーズ、樹脂ビーズ、金属粉や他の無機粉末からなる充填剤、顔料、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤等を含むことができる。
〔7-3〕プロテクトフィルム
光学積層体は、その表面(典型的には、第1熱可塑性樹脂フィルム10、第2熱可塑性樹脂フィルム20、第1硬化物層15及び/又は第2硬化物層25の表面)を保護するためのプロテクトフィルムを含むことができる。プロテクトフィルムは、例えば画像表示素子や他の光学部材に光学積層体が貼合された後、それが有する粘着剤層ごと剥離除去される。
プロテクトフィルムは、例えば、基材フィルムとその上に積層される粘着剤層とで構成される。粘着剤層については上述の記述が引用される。
基材フィルムを構成する樹脂は、例えば、ポリエチレンのようなポリエチレン系樹脂、ポリプロピレンのようなポリプロピレン系樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートのようなポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の熱可塑性樹脂であることができる。好ましくは、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂である。
<画像表示装置>
本発明に係る光学積層体は、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置等の画像表示装置に適用することができる。この場合、画像表示装置は、光学積層体と、画像表示素子とを含む。画像表示素子としては、液晶セル、有機EL表示素子等が挙げられる。これらの画像表示素子としては、従来公知のものを使用することができる。
偏光板である光学積層体が液晶表示装置に適用される場合、光学積層体は、液晶セルのバックライト側(背面側)に配置されてもよいし、視認側に配置されてもよいし、それらの両方に配置されてもよい。偏光板である光学積層体が有機EL表示装置に適用される場合、光学積層体は通常、有機EL表示素子の視認側に配置される。
以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。実施例、比較例中の「%」及び「部」は、特記しない限り、質量%及び質量部である。
[フッ素元素濃度の測定]
対象となるフィルムを1cm角のサンプルに切り出し、これを立てかけた状態となるように小型のバイアル瓶に入れた。次に、摺り蓋付きの秤量瓶に、フッ素系誘導体化試薬としての無水トリフルオロ酢酸を150mg程度加え、この無水トリフルオロ酢酸の入った秤量瓶内に、上記バイアル瓶(瓶内にサンプルが入ったもの)を、蓋をせずに入れた。秤量瓶を摺り蓋で密閉して、温度40℃で1時間加熱し、表面改質処理を行っていないトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(以下、「未改質TACフィルム」ということがある。)表面の水酸基の誘導体化を行った。その後、秤量瓶内のバイアル瓶に入ったサンプルを取り出し、温度40℃で1時間減圧乾燥して測定試料とした。得られた測定試料について、X線光電子分光(XPS)システム(K-Alpha、ThermoFisher Scientific製、照射X線:Al Ka(12kV/6mA)、400μm)を用いて、誘導体化されたフッ素元素濃度を測定した。
[製造例:偏光子の作製]
厚さ60μmのポリビニルアルコールフィルム(平均重合度:約2,400、ケン化度:99.9モル%以上)を30℃の純水に浸漬した後、ヨウ素/ヨウ化カリウム/水の質量比が0.02/2/100である30℃の水溶液に浸漬した。その後、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水の質量比が12/5/100である56.5℃の水溶液に浸漬した。引き続き、8℃の純水で洗浄した後、65℃で乾燥させて、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向された厚み23μmの偏光子を得た。延伸は、主にヨウ素染色及びホウ酸処理の工程で行い、トータル延伸倍率は5.5倍であった。
[実施例1~7、比較例1~7]
(1)組成物の調製
表1に示される成分を表1に示される配合量で、水系溶媒としての純水とともに混合して、組成物(接着剤水溶液)を調製した。表1に示される各成分の配合量の単位は質量部であり、各成分の配合量は固形分換算での量である。実施例1~7、比較例1~7において、得られた組成物における樹脂の濃度は5質量%とした。
(2)偏光板(光学積層体)の作製
トリアセチルセルロース(TAC)フィルム〔コニカミノルタオプト(株)製の商品名「KC4UAW」、厚み:40μm〕の片面にケン化処理を施した後、そのケン化処理面に上記(1)で調製した組成物をバーコータを用いて塗工するとともに、環状ポリオレフィン系樹脂からなるゼロ位相差フィルム〔日本ゼオン(株)製の商品名「ZEONOR」、厚み:23μm〕の片面にコロナ処理を施し、そのコロナ処理面に上記(1)で調製した組成物をバーコータを用いて塗工した。組成物層が偏光子側となるように、偏光子の一方の面にケン化処理済みTACフィルムを積層し、他方の面にコロナ処理済みゼロ位相差フィルムを積層して、ゼロ位相差フィルム/組成物層/偏光子/組成物層/ケン化処理済みTACフィルムの層構成を有する積層体を得た。この積層体に対して、熱風乾燥機で80℃、300秒間の加熱処理を行うことにより、ゼロ位相差フィルム/硬化物層/偏光子/硬化物層/ケン化処理済みTACフィルムの層構成を有する偏光板を作製した。作製した偏光板中の硬化物層の厚みは、一層につき20~60nmであった。
上記で用いたゼロ位相差フィルム(環状ポリオレフィン系樹脂フィルム)のコロナ処理面について、上記した手順でフッ素元素濃度を測定したところ、1.8atom%であった。また、ケン化処理済みTACフィルムのケン化処理面について、上記した手順でフッ素元素濃度を測定したところ、6.1atom%であった。
(3)光学耐久性の評価
得られた偏光板を30mm×30mmの大きさに裁断した後、ゼロ位相差フィルム側に(メタ)アクリル系粘着剤を介してガラス基板に貼合し、測定サンプルを得た。測定サンプルの層構成は、ガラス基板/(メタ)アクリル系粘着剤層/ゼロ位相差フィルム/硬化物層/偏光子/硬化物層/ケン化処理済みTACフィルムである。ガラス基板には、無アルカリガラス基板〔コーニング社製の商品名「Eagle XG」〕を使用した。
得られた測定サンプルについて、積分球付き分光光度計〔日本分光(株)製の製品名「V7100」〕を用いて波長380~780nmの範囲におけるMD透過率とTD透過率を測定し、各波長における偏光度を算出した。算出した偏光度について、JIS Z 8701:1999「色の表示方法-XYZ表色系及びX10Y10Z10表色系」の2度視野(C光源)により視感度補正を行い、耐久性試験前の視感度補正偏光度Pyを求めた。なお、測定サンプルは、偏光板のケン化処理済みTACフィルム側をディテクター側とし、ガラス基板側から光が入光するように積分球付き分光光度計にセットした。
偏光度(%)は、下記式:
偏光度(λ)=100×(Tp(λ)-Tc(λ))/(Tp(λ)+Tc(λ))
で定義される。
Tp(λ)は、入射する波長λ(nm)の直線偏光とパラレルニコルの関係で測定した測定サンプルの透過率(%)である。
Tc(λ)は、入射する波長λ(nm)の直線偏光とクロスニコルの関係で測定した測定サンプルの透過率(%)である。
次いで、この測定サンプルを温度85℃、相対湿度85%RHの高温高湿環境下に500時間置いた後、温度23℃、相対湿度50%RHの環境下に24時間置く耐久性試験に供した。耐久性試験後、耐久性試験前と同様の方法によって視感度補正偏光度Pyを求めた。
耐久性試験後の視感度補正偏光度Pyと耐久性試験前の視感度補正偏光度Pyとの差の絶対値(|ΔPy|)を算出した。|ΔPy|の算出値を表1に示す。
|ΔPy|の値が小さいほど、高温高湿環境下における光学耐久性に優れる。いずれの実施例及び比較例においても、耐久試験後の視感度補正偏光度Pyと耐久試験前の視感度補正偏光度Pyの差は、負の値を示した。
(4)密着性の評価
表面改質処理を行っていないトリアセチルセルロース(TAC)フィルム(以下、「未改質TACフィルム」ということがある。)の片面に、上記(1)で調製した組成物をバーコータを用いて塗工し、塗工した組成物上に、さらに未改質TACフィルムを積層して、未改質TACフィルム/組成物層/未改質TACフィルムの層構成を有する未硬化積層体を得た。この未硬化積層体に対して、熱風乾燥機で80℃、300秒間の加熱処理を行うことにより、未改質TACフィルム/硬化物層/未改質TACフィルムの層構成を有する硬化積層体を作製した。得られた硬化積層体における硬化物層の厚みは、20~60nmであった。用いた未改質TACフィルムの組成物が塗工される側の表面について、上記した手順でフッ素元素濃度を測定したところ、1.4atom%であった。
得られた硬化積層体を、幅25mm×長さ150mmの試験片を切り出し、その一方の未改質TACフィルム面を、アクリル系粘着剤(厚み25μm)を用いてガラスに貼合した。この状態で、引張試験機を用いて試験片の長さ方向端部(幅25mmの一辺)をつかみ、JIS K 6854-2:1999「接着剤-はく離接着強さ試験方法-第2部:180度はく離」に準じて、つかみ移動速度300mm/分にて180度剥離試験を行った。得られる力-つかみ移動距離曲線から最初の25mmつかみ移動距離を除いた剥離長さにわたる平均剥離力を求め、これを25mm幅当たりに換算して(すなわち、平均剥離力に1/4を乗じて)、上記組成物の硬化物層の未改質TACフィルムに対する密着力とした。その結果を表1に示す。表1の密着性の項の「材破」とは、未改質TACフィルムが剥離されず、試験片が破断したことを示す。
Figure 0007240938000001
表1に示される各成分の詳細は次のとおりである。
(樹脂)
樹脂は、下記A-1~A-5を用いた。
A-1:ポリビニルアセタール樹脂(エスレックKW-10、積水化学工業製、アセタール化度8±3mol%)
A-2:ポリビニルアセタール樹脂(エスレックKW-3、積水化学工業製、アセタール化度30±3mol%)
A-3:アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール(ゴーセファイマー Z-200、日本合成化学工業製)
A-4:低ケン化ポリビニルアルコール(GH-23、日本合成化学工業製)
A-5:低ケン化ポリビニルアルコール(KH-17、日本合成化学工業製)
(架橋剤)
架橋剤は、下記B-1~B-3を用いた。
B-1:イソシアネート系架橋剤(水分散ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)系ポリイソシアネート、デュラネートWB40-100、旭化成製)
B-2:ポリカルボジイミド系架橋剤(カルボジライト V-02-L2、日清紡ケミカル製)
B-3:ビニルスルホン系化合物の架橋剤(N,N’-トリメチレンビス[2-(ビニルスルホニル)アセトアミド]、VS-C、富士フイルム製)
10 第1熱可塑性樹脂フィルム、15 第1硬化物層、20 第2熱可塑性樹脂フィルム、25 第2硬化物層、30 光学層、40 粘着剤層。

Claims (12)

  1. 光学層及び硬化物層を含む光学積層体であって、
    前記硬化物層は、ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)の硬化物である第1硬化物層を含み、
    前記ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)は、ポリビニルアセタール樹脂(A)及び架橋剤(B)を含み、
    前記架橋剤(B)は、イソシアネート系架橋剤及びカルボジイミド系架橋剤のうちの少なくとも一方である架橋剤(B1)を含み、
    前記ポリビニルアセタール樹脂(A)のアセタール化度は、50モル%未満である、光学積層体。
  2. 前記ポリビニルアセタール樹脂(A)のアセタール化度は、3モル%以上である、請求項1に記載の光学積層体。
  3. 前記ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)における前記架橋剤(B1)の含有量は、前記ポリビニルアセタール樹脂(A)及び前記架橋剤(B1)の合計含有量100質量部に対して、10質量部以上60質量部以下である、請求項1又は2に記載の光学積層体。
  4. 前記光学層、前記第1硬化物層、及び第1熱可塑性樹脂フィルムがこの順に積層されている、請求項1~3のいずれか1項に記載の光学積層体。
  5. 前記第1熱可塑性樹脂フィルムは、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、及び環状オレフィン系樹脂からなる群より選択される1以上の熱可塑性樹脂を含むフィルムである、請求項4に記載の光学積層体。
  6. 前記第1熱可塑性樹脂フィルムは、セルロースエステル系樹脂を含むセルロースエステル系樹脂フィルムであり、
    前記セルロースエステル系樹脂フィルムは、前記第1硬化物層に直接接しており、
    前記セルロースエステル系樹脂フィルムにおける前記第1硬化物層側の表面は、当該表面の水酸基をフッ素系誘導体化試薬を用いて誘導体化した場合のフッ素元素濃度が2.0atom%以下である、請求項4又は5に記載の光学積層体。
  7. 前記硬化物層は、第2硬化物層を含み、
    前記光学層の前記第1硬化物層側とは反対側に、前記第2硬化物層及び第2熱可塑性樹脂フィルムがこの順に積層されている、請求項1~6のいずれか1項に記載の光学積層体。
  8. 前記第2熱可塑性樹脂フィルムは、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、及び環状オレフィン系樹脂からなる群より選択される1以上の熱可塑性樹脂を含むフィルムである、請求項7に記載の光学積層体。
  9. 前記第2硬化物層は、前記ポリビニルアセタール樹脂含有組成物(S)の硬化物である、請求項7又は8に記載の光学積層体。
  10. 前記第2熱可塑性樹脂フィルムは、セルロースエステル系樹脂を含むセルロースエステル系樹脂フィルムであり、
    前記セルロースエステル系樹脂フィルムは、前記第2硬化物層に直接接しており、
    前記セルロースエステル系樹脂フィルムにおける前記第2硬化物層側の表面は、当該表面の水酸基をフッ素系誘導体化試薬を用いて誘導体化した場合のフッ素元素濃度が2.0atom%以下である、請求項9に記載の光学積層体。
  11. 前記光学層は、偏光子である、請求項1~10のいずれか1項に記載の光学積層体。
  12. 請求項1~11のいずれか1項に記載の光学積層体、及び、画像表示素子を含む、画像表示装置。
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