JP7237083B2 - 研磨のインシトゥモニタリングにおけるフィルタリング - Google Patents
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Description
減衰のための優位周波数は、実験を通じて取得することができ、オフライン分析は高速フーリエ変換(FFT)を使用する。その結果として、ωmはm=1~nの複数の値として知られ、ここでn正弦波外乱がモデリングされている。
既知の周波数ω_1を伴う1つの正弦曲線の状態は、以下のように定義され得る。
各正弦曲線は、上記のような2つの2状態を有する。加えて、モデルは依然として線形である。この方式で、位相および振幅を別々に推定する必要はない。
Claims (15)
- 研磨を制御する方法であって、
基板を研磨することと、
研磨中、インシトゥモニタリングシステムで前記基板をモニタすることであって、前記モニタすることは、センサから信号を生成することを含み、前記信号は一連の測定値を含む、前記基板をモニタすることと、
フィルタリング済み信号を生成するために前記信号をフィルタリングすることであって、前記フィルタリング済み信号は一連の調整値を含み、前記フィルタリングすることは、
複数の外乱状態を使用して、複数の異なる周波数で、複数の周期的外乱をモデリングすること、
プラント状態を使用して、基本信号をモデリングすること、および、
前記基本信号を表すフィルタリング済み信号を生成するために、前記プラント状態および前記複数の外乱状態に線形の予測フィルタを適用すること、
を含むフィルタリングすることと、
前記フィルタリング済み信号から、研磨終点または研磨速度の調整のうちの少なくとも1つを特定することと、
を含む、方法。 - 前記複数の周期的外乱が、ヘッド掃引外乱および/またはプラテン回転外乱を含む、請求項1に記載の方法。
- 命令を有するコンピュータ可読媒体を備えるコンピュータプログラム製品であって、前記命令はプロセッサによって実行されると、該プロセッサに、
基板の研磨中、インシトゥモニタリングシステムからの、一連の測定値を含む信号を受信することと、
一連の調整値を含むフィルタリング済み信号を生成するために、前記信号をフィルタリングすることであって、前記信号をフィルタリングする命令は、
複数の外乱状態を使用して、複数の異なる周波数で、複数の周期的外乱をモデリングし、
プラント状態を使用して、基本信号をモデリングし、
前記基本信号を表すフィルタリング済み信号を生成するために、前記プラント状態と前記複数の外乱状態に線形の予測フィルタを適用する
命令を含む、フィルタリングすることと、
前記フィルタリング済み信号から、研磨終点または研磨速度の調整のうちの少なくとも1つを特定することとを行わせる、コンピュータプログラム製品。 - 前記複数の周期的外乱が、2つの周期的外乱からなる、請求項3に記載のコンピュータプログラム製品。
- 前記複数の周期的外乱が、3つの周期的外乱からなる、請求項3に記載のコンピュータプログラム製品。
- 前記複数の周期的外乱が、ヘッド掃引外乱を含む、請求項3に記載のコンピュータプログラム製品。
- 前記信号をフィルタリングする命令が、複数のプラント状態を使用して、前記基本信号をモデリングする命令を含む、請求項3に記載のコンピュータプログラム製品。
- 前記複数のプラント状態が、フィルタリング済みモータ電流およびモータ電流変化率を含む、請求項7に記載のコンピュータプログラム製品。
- 前記複数のプラント状態が、フィルタリング済みトルクおよびトルク変化率を含む、請求項7に記載のコンピュータプログラム製品。
- 前記線形の予測フィルタがカルマンフィルタを含む、請求項3に記載のコンピュータプログラム製品。
- 研磨システムであって、
研磨パッドを支持するためのプラテンと、
研磨中、前記研磨パッドと接触して基板を保持するためのキャリアヘッドと、
研磨中、前記基板をモニタするセンサから信号を生成するように構成されたインシトゥモニタリングシステムであって、前記信号は一連の測定値を含む、インシトゥモニタリングシステムと、
コントローラであって、
前記基板の研磨中、前記インシトゥモニタリングシステムからの前記信号を受信し、
一連の調整値を含むフィルタリング済み信号を生成するために前記信号をフィルタリングし、前記コントローラは、
複数の外乱状態を使用して、複数の異なる周波数で、複数の周期的外乱をモデリングすること、
プラント状態を使用して基本信号をモデリングすること、および、
前記基本信号を表すフィルタリング済み信号を生成するために、前記プラント状態および前記複数の外乱状態に線形の予測フィルタを適用すること、によって前記信号をフィルタリングするように構成され、
前記フィルタリング済み信号から、研磨終点または研磨速度の調整のうちの少なくとも1つを特定するように構成されたコントローラと、
を含む、研磨システム。 - 前記インシトゥモニタリングシステムが、モータ電流モニタリングシステムまたはモータトルクモニタリングシステムを含む、請求項11に記載のシステム。
- 前記インシトゥモニタリングシステムが、モータ電流モニタリングシステムを含み、複数のプラント状態が、フィルタリング済みモータ電流およびモータ電流変化率を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記インシトゥモニタリングシステムが、モータトルクモニタリングシステムを含み、複数のプラント状態が、フィルタリング済みトルクおよびトルク変化率を含む、請求項12に記載のシステム。
- 前記線形の予測フィルタがカルマンフィルタを含む、請求項11に記載のシステム。
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