JP7229184B2 - マイクロトランスファー成形方法及びそれから得ることができるパターン基板 - Google Patents
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Description
- エンボス加工、これは、基板上へ強い力を加えて適用されるモールドの***した形状による、基板上に膜として適用される材料の置換に依拠する。この技術は、モールドの高くなった形状を基板に接触させるために、基板からの溶液の適切なディウェッテンィング(dewetting)を必要とする。通常、スタンプの縁の周りに乾燥した材料が残り、取り除く必要がある。したがって、この技術は、要求の厳しい用途のために及び脆弱な基板について使用できない。
- マイクロモールドキャピラリー(MIMIC)及びマイクロトランスファー成形(μTM)、これらは両方とも、スタンプの三次元形状に充填及び複写して、続いて、エラストマースタンプを取り外して基板のみにパターンを移送することに依拠する。
(a)ゾル-ゲル層が10から60体積%の間で蒸気吸収によって膨潤するように調整された相対的溶媒圧の条件下で、第1の基板上にコーティングされたゾル-ゲル層を、少なくとも1つのキャビティを備えたソフトモールドに含浸させて、毛細管力の作用下、モールドに充填する工程、
(b)第1の基板を取り除く工程、
(c)必要に応じて、ゲルを膨潤させて、したがって、前記少なくとも1つのキャビティに全体的に充填するために、0から95%の間の相対的溶媒圧下、モールドのキャビティ内にゲルを平衡化する工程、
(d)膨潤ゲルを第2の基板上へ適用して、パターン形成する工程、
(e)この集合体を熱処理して、ゲルを硬くする工程、
(f)モールドを取り除く工程、及び
(g)ゲルを硬化させてセラミックにし、したがって、パターン基板を形成する工程。
本発明は、例証の目的のみのために示され、本発明の範囲を限定することを意図しない、以下の実施例に照らして、よりよく理解されることになり、添付の請求項の範囲によって定義される。
マスターを、シリコンウエハー上に、集束イオンビームリソグラフィーによって製造した。
マスターを、シリコンウエハー上に集束イオンビームリソグラフィーによって製造した。
実施例2に記載された実験を、ガラスの代わりに基板としてステンレス鋼を使用して再現した。ステンレス鋼上のゾル-ゲル層の形成は、基板の酸化をもたらすゾル-ゲル溶液の酸性度に起因して、通常、不可能であるが、パターンは、この基板上にプリントできた。本発明によれば、この層が基板上へ移送されるとき、ゾル-ゲル材料はすでに部分的に凝縮していて、したがって、ゾル-ゲル溶液中に存在する塩酸のほとんどが蒸発してしまったので、これが達成できると推測される。したがって、基板のいずれの種類も、本発明により成功裏にプリントできる。
実施例2に記載された方法を、大きい基板上に同一のモールドによって実行した。モールドをいかなる中間処理もしないで、同一のモールドを基板に接触させることによって、パターンを、数回、反復した。並んだ構造を形成し、縮小した寸法の単一のモールドを使用して大きい基板に、そのようにしてプリントすることが可能であることが示された。
Claims (8)
- 以下の逐次工程
(a)ゾル-ゲル層が10から60体積%の間で蒸気吸収によって膨潤するように調整された相対的溶媒圧の条件下で、第1の基板上にコーティングされた前記ゾル-ゲル層を、少なくとも1つのキャビティを備えたソフトモールドに含浸させて、毛細管力の作用下、前記モールドに充填する工程、
(b)前記モールドのキャビティ内にゲルが得られるように、前記第1の基板を取り除く工程、
(c)必要に応じて、膨潤ゲルが得られるように、前記ゲルを膨潤させて、したがって、前記少なくとも1つのキャビティに全体的に充填するために、0から95%の間の相対的溶媒圧下、前記モールドのキャビティ内に前記ゲルを平衡化する工程、
(d)前記膨潤ゲルを第2の基板上へ適用して、パターン形成する工程、
(e)前記第2の基板上に適用されたゲルを熱処理して、前記ゲルを硬くする工程、
(f)前記モールドを取り除く工程、及び
(g)前記ゲルを硬化させてセラミックにし、したがって、パターン基板を形成する工程
を含む、方法。 - 前記ゾル-ゲル層が、0から70%の間の相対的溶媒圧の条件下で、前記第1の基板上にコーティングされることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 溶媒が、水、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、アセトン、THF、トルエン及びそれらの混合物からなる群から選択されることを特徴とする、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記モールドが、シリコーンエラストマー、フッ素化ポリマー、ポリビニルピロリドン(PVP)、ポリ乳酸(PLA)及びポリエーテルイミド(PEI)から製造されることを特徴とする、請求項1から3のいずれか一項に記載の方法。
- 工程(e)の前記熱処理が、25から200℃の温度で実施されることを特徴とする、請求項1から4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ゾル-ゲル層が、15から45体積%の間で蒸気吸収によって膨潤するように、前記相対的溶媒圧が調整される、請求項1から5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記ゾル-ゲル層が、水、一価若しくは二価アルコールから選択される溶媒と組み合わせた、無機塩、有機塩、又は少なくとも1つの金属若しくはメタロイドの、若しくは少なくとも1つの金属の少なくとも1つのメタロイドとの組合せの、アルコキシドからなる群から選択される、金属又はメタロイド酸化物前駆体の溶液から形成されることを特徴とする、請求項1から6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記硬化させる工程(g)が、200から800℃の温度で実施されることを特徴とする、請求項1から7のいずれか一項に記載の方法。
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