JP7227447B2

JP7227447B2 - Cleaning equipment, cleaning method

Info

Publication number: JP7227447B2
Application number: JP2018102799A
Authority: JP
Inventors: 直樹加藤
Original assignee: Canon Marketing Japan Inc
Current assignee: Canon Marketing Japan Inc
Priority date: 2018-05-29
Filing date: 2018-05-29
Publication date: 2023-02-22
Anticipated expiration: 2038-05-29
Also published as: JP2019205649A

Description

コストを低減した洗浄の仕組みを提供する洗浄装置、洗浄制御方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a cleaning device and a cleaning control method that provide a cost-reduced cleaning mechanism.

従来、次亜塩素酸水などの除菌・脱臭能力を持つ洗浄液を生成し、生成された洗浄液を用いて洗浄対象を洗浄する仕組みが存在する。 Conventionally, there is a mechanism for generating a cleaning liquid having sterilization and deodorizing capabilities, such as hypochlorous acid water, and using the generated cleaning liquid to clean an object to be cleaned.

例えば、下記の特許文献１では、生成した洗浄液と気体とをスクラバー部で気液接触させることにより臭気成分を処理することのできる仕組みが開示されている。 For example, Patent Literature 1 below discloses a mechanism capable of treating odorous components by bringing the generated cleaning liquid and gas into gas-liquid contact in a scrubber section.

特開２００９－１３６７４８号公報JP 2009-136748 A

例えば、養鶏場や養豚場等の畜産農場から排出される気体に含まれる臭気は高濃度かつ高温である。この気体が洗浄されずにそのまま排気されてしまうと周辺環境に悪影響を与えてしまうため、この気体の洗浄を継続するためには洗浄能力を高く維持する仕組みが求められる。一方で、高濃度かつ高温の気体の洗浄のために洗浄能力を高く維持すると、洗浄能力の維持に係るコストが高くなってしまう。 For example, the odor contained in the gas discharged from livestock farms such as poultry farms and pig farms has a high concentration and a high temperature. If this gas is exhausted as it is without being cleaned, it will adversely affect the surrounding environment. Therefore, in order to continue cleaning this gas, a mechanism that maintains a high cleaning performance is required. On the other hand, maintaining a high cleaning performance for cleaning a high-concentration, high-temperature gas increases the cost of maintaining the cleaning performance.

上記の特許文献１では、洗浄能力の維持に係るコストなどを考慮していないという課題がある。 Patent Document 1 mentioned above has a problem that it does not take into consideration the cost of maintaining the cleaning ability.

そこで、本発明は、コストを低減した洗浄の仕組みを提供することを目的とする。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, it is an object of the present invention to provide a cleaning mechanism that reduces costs.

本発明は、第１の気体が流入する第１流入口と、第２の気体が流入する第２流入口と、前記流入した第１の気体と前記流入した第２の気体とを混合することなく、前記第２の気体により前記第１の気体の温度を調整する温度調整部と、前記温度を調整された第１の気体と前記温度の調整に用いた第２の気体とを混合した気体を洗浄する洗浄部とを有し、前記第２の気体は、前記第１の気体に比べて温度が低いことを特徴とする。
The present invention includes a first inlet into which a first gas flows, a second inlet into which a second gas flows, and a mixing of the first gas that has flowed in and the second gas that has flowed in. a temperature adjusting unit for adjusting the temperature of the first gas with the second gas, and a gas obtained by mixing the first gas whose temperature is adjusted and the second gas used for adjusting the temperature and a cleaning unit that cleans the second gas, and the temperature of the second gas is lower than that of the first gas .

本発明によれば、コストを低減した洗浄の仕組みを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a cost-reduced cleaning mechanism.

本実施形態における洗浄システムのシステム構成を示す図である。It is a figure which shows the system configuration|structure of the washing|cleaning system in this embodiment. 本実施形態における冷却機構２００の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the cooling mechanism 200 in this embodiment. 図２の冷却機構２００を異なる角度から見た図である。3 is a view of the cooling mechanism 200 of FIG. 2 viewed from a different angle; FIG.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。なお、以下説明する実施形態は、本発明を具体的に実施した場合の一例を示すもので、特許請求の範囲に記載した構成の具体的な実施例にすぎない。特に、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭対象の気体を脱臭することを主目的とする装置、システム、及び方法には限定されない。本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、気体を洗浄するものであり、脱臭以外の様々な目的でも使用可能である。例えば、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、気体中の除菌対象の除菌のために用いることもできる。また、洗浄対象は気体に限定されず、固体であっても構わない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. It should be noted that the embodiments to be described below show examples of specific implementations of the present invention, and are merely specific examples of the configuration described in the claims. In particular, the cleaning device, cleaning system, and cleaning method according to the present invention are not limited to devices, systems, and methods whose main purpose is to deodorize gas to be deodorized. The cleaning apparatus, cleaning system, and cleaning method according to the present invention are for cleaning gas, and can be used for various purposes other than deodorization. For example, the cleaning apparatus, cleaning system, and cleaning method according to the present invention can also be used for sterilization of objects to be sterilized in gas. Further, the object to be cleaned is not limited to gas, and may be solid.

したがって、本発明に係る洗浄装置、洗浄システム、及び洗浄方法は、脱臭を主目的としているが脱臭に用いることが可能な装置、システム、及び方法を含む。以下、脱臭対象の気体を脱臭することを主目的とする（湿式）脱臭装置、脱臭システム、及び脱臭方法を例として、本発明の実施形態を説明する。 Therefore, the cleaning device, cleaning system, and cleaning method according to the present invention include devices, systems, and methods that are mainly intended for deodorization but can be used for deodorization. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described taking as an example the (wet) deodorizing apparatus, the deodorizing system, and the deodorizing method which mainly aim at deodorizing the gas of the deodorizing object.

図１は、脱臭システム（洗浄システムに相当する）において、その構成の一例を示すシステム構成図である。脱臭システムは、洗浄液の生成を行う生成装置１００と、洗浄液を用いて臭気を脱臭する脱臭槽３００、４００、５００（これらの脱臭槽を含む洗浄装置（洗浄部に相当する）である）とで構成されている。これらの洗浄部はアンモニアやトリメチルアミンなどの臭気成分を洗浄液により洗浄する。本実施形態においては、洗浄部に含まれる脱臭槽の数は３つであるが、これに限定はされない。例えば、洗浄部は、１また２つの脱臭槽から構成されていてもよい。本実施例においては、生成装置１００は、、炭酸ガス混合法を用いて、洗浄液である次亜塩素酸水を生成している。炭酸ガス混合法とは、次亜塩素酸ナトリウムと、二酸化炭素と、水とを混合させて、次亜塩素酸水を生成する方法である。なお、生成装置１００は、炭酸ガス混合法以外の方法により次亜塩素酸水を生成するようにしてもよい。また、洗浄液は、次亜塩素酸水に限らず他の洗浄液を用いるようにしても構わない。すなわち、洗浄液は、脱臭剤を含有する水溶液であってもよい。ここで、脱臭剤の種類は特に限定されず、例えば酸化剤、抗菌剤、又は微生物等でありうる。酸化剤の例としては、オゾン又は次亜塩素酸等が挙げられる。抗菌剤の例としては、キトサン又はカテキン等が挙げられる。 FIG. 1 is a system configuration diagram showing an example of the configuration of a deodorizing system (corresponding to a cleaning system). The deodorizing system includes a generator 100 that generates a cleaning liquid, and deodorizing tanks 300, 400, and 500 that deodorize odors using the cleaning liquid (cleaning devices (corresponding to cleaning units) including these deodorizing tanks). It is configured. These cleaning units clean off odorous components such as ammonia and trimethylamine with a cleaning liquid. In this embodiment, the number of deodorizing tanks included in the washing section is three, but the number is not limited to this. For example, the washing section may consist of one or two deodorizing tanks. In this embodiment, the generation device 100 uses the carbon dioxide gas mixing method to generate hypochlorous acid water, which is the cleaning liquid. The carbon dioxide gas mixing method is a method of mixing sodium hypochlorite, carbon dioxide, and water to generate hypochlorous acid water. Note that the generation device 100 may generate hypochlorous acid water by a method other than the carbon dioxide gas mixing method. Further, the cleaning liquid is not limited to hypochlorous acid water, and other cleaning liquids may be used. That is, the cleaning liquid may be an aqueous solution containing a deodorant. Here, the type of deodorant is not particularly limited, and may be, for example, an oxidizing agent, an antibacterial agent, or a microorganism. Examples of oxidizing agents include ozone, hypochlorous acid, and the like. Examples of antibacterial agents include chitosan, catechin, and the like.

生成装置１００への水（液体）の供給は井戸によるものとして説明しているが、当然、水道から水を供給するような構成としても構わない。 Although water (liquid) is supplied to the generator 100 from a well, it is of course possible to supply water from a tap.

次に、洗浄液の流れについて説明する。生成装置１００は、脱臭槽５００に洗浄液を供給する。すなわち、生成装置１００で生成された洗浄液は、まず脱臭槽５００に流入する。脱臭槽５００にはシャワーノズル５１０が複数設けられており、当該シャワーノズル５１０から洗浄液を噴霧する。噴霧された洗浄液と、洗浄対象の気体とが接触することによって、洗浄対象の気体に含まれる悪臭成分が洗浄液によって洗浄される。噴霧された洗浄液は、洗浄対象の気体とその一部が気液接触し、貯留部５９０に貯留される。貯留部５９０とシャワーノズル５１０との間には、配管４６０の入口部（不図示）が設けられている。配管４６０の入口部から貯留部５９０で貯留可能な容量を超えた洗浄液が排出（オーバーフロー）される。貯留部５９０からオーバーフローした洗浄液については、配管４６０を介して、脱臭槽４００に供給される。供給された洗浄液は貯留部４９０に貯留される。脱臭槽４００に備えられたポンプ４８０により、貯留部４９０に貯留された洗浄液が吸い上げられ、充填剤４２０に洗浄液を供給する。充填剤とは、例えば、ステンレス等の金属で格子状の網目を積層してなる部材であり、充填剤に供給された洗浄液が水膜を網目にでき、洗浄液と気体とが接触することのできる部材である。洗浄液の供給はシャワー４１０により充填剤４２０に吹き付けるようにして行われる。貯留部４９０で貯留された洗浄液のオーバーフローした分については、配管３６０を介して、脱臭槽３００に供給される。供給された洗浄液は、貯留部３９０に貯留される。脱臭槽３００に備えられたポンプ３８０により、貯留部３９０に貯留された洗浄液を吸い上げ、充填剤３２０に洗浄液を供給する。洗浄液の供給はシャワー３１０により充填剤３２０に吹き付けるようにして行われる。貯留部３９０で貯留された洗浄液は適宜、排水される。 Next, the flow of cleaning liquid will be described. The generator 100 supplies the cleaning liquid to the deodorizing tank 500 . That is, the cleaning liquid generated by the generator 100 first flows into the deodorizing tank 500 . A plurality of shower nozzles 510 are provided in the deodorizing tank 500, and the cleaning liquid is sprayed from the shower nozzles 510 concerned. When the sprayed cleaning liquid and the gas to be cleaned come into contact with each other, the malodorous components contained in the gas to be cleaned are cleaned by the cleaning liquid. A portion of the sprayed cleaning liquid comes into gas-liquid contact with the gas to be cleaned, and is stored in the storage section 590 . An inlet (not shown) of the pipe 460 is provided between the reservoir 590 and the shower nozzle 510 . The cleaning liquid exceeding the capacity that can be stored in the reservoir 590 is discharged (overflowed) from the inlet of the pipe 460 . The cleaning liquid overflowing from the reservoir 590 is supplied to the deodorizing tank 400 via the pipe 460 . The supplied cleaning liquid is stored in the storage section 490 . A pump 480 provided in the deodorizing tank 400 sucks up the cleaning liquid stored in the storage section 490 and supplies the cleaning liquid to the filler 420 . The filler is, for example, a member formed by laminating a grid-like mesh of metal such as stainless steel, and the cleaning liquid supplied to the filler forms a water film in the network, allowing the cleaning liquid and gas to come into contact with each other. It is a member. The cleaning liquid is supplied by spraying the filler 420 from the shower 410 . The overflow of the cleaning liquid stored in the storage section 490 is supplied to the deodorizing tank 300 via the pipe 360 . The supplied cleaning liquid is stored in the storage section 390 . A pump 380 provided in the deodorizing tank 300 sucks up the cleaning liquid stored in the storage section 390 and supplies the cleaning liquid to the filler 320 . The cleaning liquid is supplied by spraying the filler 320 from the shower 310 . The cleaning liquid stored in the storage section 390 is appropriately drained.

洗浄液は、脱臭槽５００、脱臭槽４００、脱臭槽３００の順で、貯留された洗浄液の洗浄能力は高くなっている。これは、脱臭槽５００で気体を洗浄したことにより、塩素などの洗浄成分の量が低減された洗浄液が、脱臭槽４００に供給されるためである。さらに、脱臭槽４００での洗浄に用いられた洗浄液が、脱臭槽３００での洗浄に用いられるためである。 Deodorizing tank 500, deodorizing tank 400, and deodorizing tank 300 are used in the order of the cleaning liquid, and the cleaning ability of the stored cleaning liquid increases. This is because cleaning the gas in the deodorizing tank 500 reduces the amount of cleaning components such as chlorine and supplies the cleaning liquid to the deodorizing tank 400 . Furthermore, this is because the cleaning liquid used for cleaning in the deodorizing tank 400 is also used for cleaning in the deodorizing tank 300 .

洗浄対象の気体の流れについて説明する。洗浄対象の気体は、まず、第１流入口から脱臭槽３００に流入する。本実施形態では、洗浄対象の気体はブロワ―等の送風機構により脱臭槽３００に送り込まれる。送風機構は一例であって、洗浄対象の気体を負圧発生機構により引き込むようにしても構わない。 The flow of gas to be cleaned will be described. The gas to be cleaned first flows into the deodorizing tank 300 through the first inlet. In this embodiment, the gas to be cleaned is sent into the deodorizing tank 300 by a blower or other blower. The blowing mechanism is an example, and the gas to be cleaned may be drawn in by a negative pressure generating mechanism.

流入した気体は、充填剤３２０を通り、配管３５０を経由して、脱臭槽４００に流入する。流入した気体は、充填剤４２０を通り、配管４５０を経由して、脱臭槽５００に流入する。脱臭槽５００では、気体はシャワーノズル５１０で噴霧される洗浄液と接触して、排気される。 The inflowing gas passes through the filler 320 and flows into the deodorizing tank 400 via the pipe 350 . The inflowing gas passes through the filler 420 and flows into the deodorizing tank 500 via the pipe 450 . In the deodorizing tank 500, the gas comes into contact with the cleaning liquid sprayed by the shower nozzle 510 and is exhausted.

このような構成とすることで、脱臭槽３００を経由した後の気体は、経由する前の気体に比べて少なくともアンモニア成分が低減される。その後、脱臭槽４００を経由した後の気体は、経由する前の気体に比べて少なくともアンモニア成分が低減される。そして、脱臭槽５００を経由した後の気体は、経由する前の気体に比べて少なくともアンモニア成分が低減される。 With such a configuration, at least the ammonia component in the gas after passing through the deodorizing tank 300 is reduced compared to the gas before passing through. After that, the gas after passing through the deodorizing tank 400 has at least a reduced ammonia component compared to the gas before passing through. The gas after passing through the deodorizing tank 500 has at least a reduced ammonia component compared to the gas before passing through.

このようにして、複数の脱臭槽を備える洗浄装置により何度も気体と洗浄液とを混合し、接触させるようにすることで、アンモニアやトリメチルアミンなどの臭気成分を大量に含む気体であったとしても、効率的に洗浄することができる。除去される臭気成分も特に限定されない。ここで、コンポストにおける臭気成分の例としては、アンモニア又はトリメチルアミンのような塩基性成分、メチルメルカプタンのような硫化物成分、アセトアルデヒドのようなアルデヒド成分、又はプロピオン酸のようなカルボン酸成分、等が挙げられる。 In this way, by repeatedly mixing and contacting the gas and the cleaning liquid using a cleaning apparatus equipped with a plurality of deodorizing tanks, even if the gas contains a large amount of odorous components such as ammonia and trimethylamine, , can be washed efficiently. The odorous component to be removed is also not particularly limited. Here, examples of odorous components in compost include basic components such as ammonia or trimethylamine, sulfide components such as methyl mercaptan, aldehyde components such as acetaldehyde, or carboxylic acid components such as propionic acid. mentioned.

本実施形態において洗浄する対象の気体は、例えば、畜産農場の堆肥層から発生する気体などが想定される。この気体は例えば、臭気成分としてアンモニアが３０００ｐｐｍ、トリメチルアミンが９ｐｐｍといったように、非常に多くの臭気成分を含む。また、堆肥層から発生する臭気を含んだ気体は、約６０℃程度の温度である。 The gas to be cleaned in this embodiment is assumed to be, for example, the gas generated from the compost layer of a livestock farm. This gas contains a large number of odorous components such as 3000 ppm of ammonia and 9 ppm of trimethylamine as odorous components. Moreover, the temperature of the odor-containing gas generated from the compost layer is about 60°C.

一般的に、気体から脱臭対象の臭気成分を分離する方法として、脱臭対象の気体を冷却し、凝縮により生じた液体を気体から分離する方法がある。そのために、冷却装置等による冷却が行われることがある。一方で冷却装置自体は高価であり、そのような装置を備えることにより、脱臭に係るコストが上がってしまうという問題がある。 Generally, as a method of separating the odorous component to be deodorized from the gas, there is a method of cooling the gas to be deodorized and separating the liquid generated by condensation from the gas. Therefore, cooling is sometimes performed by a cooling device or the like. On the other hand, the cooling device itself is expensive, and there is a problem that the provision of such a device increases the cost of deodorizing.

そこで、本実施形態においては、図１に示す冷却機構２００（温度調整部に相当する）を設けている。冷却機構の詳細な説明は図２を用いて行う。 Therefore, in the present embodiment, a cooling mechanism 200 (corresponding to a temperature control unit) shown in FIG. 1 is provided. A detailed description of the cooling mechanism will be given with reference to FIG.

本実施形態における洗浄装置は、洗浄対象の気体を脱臭槽３００へ流入する第１流入口２０１と、外気を脱臭槽３００へ流入する第２流入口２０２とを備えている。外気とは、洗浄対象の気体より温度が低い気体を指す。洗浄装置は、周辺環境の大気を外気として取り込んでも構わないし、ボンベなどに含まれる気体を外気として取り込んでも構わない。さらに、外気は、洗浄対象の気体より臭気成分の濃度が低いことが望ましい。例えば、脱臭槽５００から排出される排気などを再度、外気として取り込むようにしても構わない。 The cleaning device in this embodiment includes a first inlet 201 for introducing gas to be cleaned into the deodorizing tank 300 and a second inlet 202 for introducing outside air into the deodorizing tank 300 . Outside air refers to a gas whose temperature is lower than that of the gas to be cleaned. The cleaning apparatus may take in ambient air as outside air, or may take in gas contained in a cylinder or the like as outside air. Furthermore, it is desirable that the outside air has a lower concentration of odorous components than the gas to be cleaned. For example, the exhaust discharged from the deodorizing tank 500 may be taken in again as outside air.

ここで、図２を用いて冷却機構の一例について説明する。図２は、冷却機構２００を模式的に示した斜視図である。 An example of the cooling mechanism will now be described with reference to FIG. FIG. 2 is a perspective view schematically showing the cooling mechanism 200. As shown in FIG.

冷却機構２００は、略直方体形状の箱の空間を、第１間仕切り２１５、第２間仕切り２２５、第３間仕切り２３５により分離することにより３つの空間が設けられている。図２に示すように、冷却機構２００は、第１空間２１０と、第２空間２２０と、第３空間２３０が設けられる。第１空間２１０は、第１流入口２０１に接続され第１間仕切り２１５により区切られた空間であり、第２空間２１０は、第２流入口２０２と排出口２０３とに接続され第１間仕切り２１５と第２間仕切り２２５とに区切られた空間であり、第３空間２３０は、排出口２０４に接続され第２間仕切り２２５と第３間仕切り２３５とで区切られた空間を示す。なお、冷却機構２００における空間の数は一例であってこれに限定されない。 The cooling mechanism 200 is provided with three spaces by dividing a substantially rectangular box space with a first partition 215 , a second partition 225 and a third partition 235 . As shown in FIG. 2, the cooling mechanism 200 is provided with a first space 210, a second space 220, and a third space 230. As shown in FIG. The first space 210 is a space connected to the first inlet 201 and separated by the first partition 215. The second space 210 is connected to the second inlet 202 and the outlet 203 and is connected to the first partition 215. A third space 230 is a space that is connected to the discharge port 204 and is separated by the second partition 225 and the third partition 235 . Note that the number of spaces in the cooling mechanism 200 is an example and is not limited to this.

第１間仕切り２１５、第２間仕切り２２５、第３間仕切り２３５により、第１空間２１０、第２空間２２０、第３空間２３０のそれぞれは、実質的に独立した空間となっており、気体がそれぞれの空間を移動することはできない。すなわち、洗浄対象の気体と外気は、それぞれの空間では交じり合わないように構成されている。ただし、第１空間２１０と第３空間２３０とは、複数の配管２１１で接続されており、第１空間２１０と第３空間２３０との間は臭気が移動可能になっている。配管２１１は例えば、銅など熱導電性の高い素材が望ましい。また本実施形態では、配管２１１を円柱状に表現をしているが、必ずしもこれに限定されない。他の形態として、配管２１１に溝部を設けるようにしても構わない。また、他の形態として、配管２１１を不規則に並べるようにしても構わない。
それぞれの空間で生じる結露水を適切に排出するために、第１空間２１０には排水口２１２、第２空間２２０には排水口２２１、第３空間２３０には排水口２２２が、それぞれ設けられている。第１空間２１０の排水口２１２は、第３空間２３０に接続されているため、洗浄対象の気体と外気とが混じらないようになっている。なお、排水口に接続される配管は図示していないが、Ｓ字状にするなどして液体だけが排出されるようにしていてもよい。 The first space 210, the second space 220, and the third space 230 are substantially independent spaces by the first partition 215, the second partition 225, and the third partition 235. cannot be moved. That is, the gas to be cleaned and the outside air are configured so as not to mix in their respective spaces. However, the first space 210 and the third space 230 are connected by a plurality of pipes 211 so that the odor can move between the first space 210 and the third space 230 . The piping 211 is desirably made of a material having high thermal conductivity such as copper. In addition, in this embodiment, the pipe 211 is represented as a cylinder, but it is not necessarily limited to this. As another form, the pipe 211 may be provided with a groove. Alternatively, the pipes 211 may be arranged irregularly.
In order to appropriately discharge dew condensation water generated in each space, a drain port 212 is provided in the first space 210, a drain port 221 is provided in the second space 220, and a drain port 222 is provided in the third space 230. there is Since the drain port 212 of the first space 210 is connected to the third space 230, the gas to be cleaned is prevented from being mixed with the outside air. Although the pipe connected to the drain port is not shown, it may be formed in an S shape so that only the liquid is discharged.

図３は、図２の冷却機構２００の斜視図を、Ｘ－Ｙ平面に対して垂直な方向から見た平面図である。図３に示すように、第１間仕切り２１５、第２間仕切り２２５、第３間仕切り２３５は、それぞれの排水口に結露水が流れていくように、第３空間２３０の底面に対して平行になっておらず、角度が付けられている。このようにすることで、第３間仕切り２３５に沿って結露水が適切に排出することができる。 FIG. 3 is a plan view of the perspective view of the cooling mechanism 200 of FIG. 2 viewed from a direction perpendicular to the XY plane. As shown in FIG. 3, the first partition 215, the second partition 225, and the third partition 235 are parallel to the bottom surface of the third space 230 so that the condensed water flows to the respective drain ports. It is not straight and is angled. By doing so, the condensed water can be properly discharged along the third partition 235 .

第１流入口２０１から流入する臭気を含む気体は、まず、第１空間２１０に流入する。流入した気体は、配管２１１を経由して第３空間２３０へ流れていく。第３空間２３０の気体は、排出口２０４を経由して、排出口２０３で排出される外気と混合部２６０で初めて混合される。 The odor-laden gas flowing from the first inlet 201 first flows into the first space 210 . The inflowing gas flows to the third space 230 via the pipe 211 . The gas in the third space 230 passes through the outlet 204 and is first mixed with the outside air discharged from the outlet 203 in the mixer 260 .

一方で、第２流入口２０２から流入する外気は、まず、第２空間２２０に流入し、排出口２０３から排出される。第２空間２２０では、洗浄対象の気体が流れている配管２１１が第２流入口２０２と排出口２０３の間に複数あり、外気が配管２１１に接触することで、配管２１１の温度を下げる。これにより、配管２１１の内部を流れる洗浄対象の気体の温度が下がる。配管２１１の内壁には、温度が下がることによって結露水が生じる。このようにして、洗浄対象の気体に含まれる臭気成分を、洗浄対象の気体から分離することが可能となる。結露水は、重力により、第３空間２３０へ落下する。 On the other hand, the outside air flowing in from the second inlet 202 first flows into the second space 220 and is discharged from the outlet 203 . In the second space 220 , there are a plurality of pipes 211 through which the gas to be cleaned flows between the second inlet 202 and the outlet 203 . As a result, the temperature of the cleaning target gas flowing inside the pipe 211 is lowered. Condensed water is generated on the inner wall of the pipe 211 as the temperature drops. In this way, it is possible to separate odorous components contained in the gas to be cleaned from the gas to be cleaned. The condensed water drops into the third space 230 due to gravity.

排出された外気は、混合部２６０で初めて洗浄対象の気体と混合される。なお、バルブ２５０により、外気の量を調整するようにしても構わない。 The discharged outside air is mixed with the gas to be cleaned in the mixing unit 260 for the first time. The valve 250 may be used to adjust the amount of outside air.

温度が高い状態の洗浄対象の気体と、外気とをそのまま混合してしまうと混合部２６０で結露水が大量に発生してしまうという問題が生じる。本実施形態で説明した構成とすることで、混合部２６０で外気と洗浄対象の気体が混合される前に、洗浄対象の気体の温度を下げることにより、結露水が混合部２６０で生じないようにすることができるという格別の効果を奏する。また、発生した結露水を適切に排出することができる。 If the high temperature gas to be cleaned and the outside air are mixed as they are, a problem arises in that a large amount of condensed water is generated in the mixing section 260 . By adopting the configuration described in this embodiment, the temperature of the gas to be cleaned is lowered before the outside air and the gas to be cleaned are mixed in the mixing part 260, thereby preventing condensation water from occurring in the mixing part 260. There is a special effect that it is possible to Moreover, the generated dew condensation water can be discharged appropriately.

別の実施形態として、第２空間２２０に配管２１１に液体を吹き付けるシャワーポート（不図示）を備えるようにしてもよい。シャワーポートを備えることにより、より一層、配管２１１内部を流れる洗浄対象の気体の温度を下げることができる。 As another embodiment, the second space 220 may be provided with a shower port (not shown) for spraying liquid onto the pipe 211 . By providing the shower port, the temperature of the gas to be cleaned that flows inside the pipe 211 can be further lowered.

さらに、混合部２６０で外気と洗浄対象の気体を混合することにより、洗浄対象の気体に含まれる臭気成分の濃度を下げた状態で、脱臭槽へ気体を導入することが可能となるため、洗浄対象の気体をそのまま洗浄する場合に比べて脱臭槽で用いるための洗浄液の洗浄能力を低下させたとしても、同様の洗浄能力を維持することができ、洗浄液の使用量や洗浄液生成に係るコストも低減させることが可能となる。 Furthermore, by mixing the outside air and the gas to be cleaned in the mixing unit 260, it is possible to introduce the gas into the deodorizing tank while reducing the concentration of the odorous components contained in the gas to be cleaned. Even if the cleaning ability of the cleaning liquid used in the deodorizing tank is lowered compared to the case of cleaning the target gas as it is, the same cleaning ability can be maintained, and the amount of cleaning liquid used and the cost related to cleaning liquid generation can be reduced. can be reduced.

このようにして、脱臭対象の気体を冷却し、凝縮により生じた液体を気体から分離することが低コストで実現可能となる。また、脱臭装置は、冷却装置により処理された気体を、洗浄液で洗浄する。脱臭装置としては、実施形態に係る脱臭装置を用いることができるが、これには限定されない。本実施形態に係る湿式脱臭システムによれば、脱臭対象の気体を冷却することにより、臭気成分のかなりの部分を含む液体を分離することが低いコストで実現できる。このため、脱臭装置への負荷を低減することができる。この結果として、脱臭装置が用いる洗浄液の量を減らすこと、又は脱臭装置から排出される洗浄廃液の量を減らすことができる。 In this way, cooling the gas to be deodorized and separating the condensed liquid from the gas can be realized at low cost. Also, the deodorizing device cleans the gas treated by the cooling device with a cleaning liquid. As the deodorizing device, the deodorizing device according to the embodiment can be used, but the deodorizing device is not limited to this. According to the wet deodorizing system according to the present embodiment, by cooling the gas to be deodorized, it is possible to separate the liquid containing a considerable part of the odor component at low cost. Therefore, the load on the deodorizing device can be reduced. As a result, the amount of cleaning liquid used by the deodorizing device can be reduced, or the amount of cleaning waste liquid discharged from the deodorizing device can be reduced.

以上で本実施形態における処理の流れの説明を終了する。 This completes the description of the flow of processing in this embodiment.

以上、本発明によれば、コストを低減した洗浄の仕組みを提供することができる。 As described above, according to the present invention, it is possible to provide a cleaning mechanism with reduced cost.

本実施形態では、気体の洗浄とは、洗浄前に比べて、気体に含まれる汚染物質を取り除くこと、清浄すること、クリーンにすること、浄化すること、分解すること、溶解すること、を含むものとする。 In this embodiment, gas cleaning includes removing, purifying, cleaning, purifying, decomposing, and dissolving contaminants contained in the gas compared to before cleaning. shall be taken.

なお、前述した実施形態は、本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。即ち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。 It should be noted that the above-described embodiments merely show specific examples for carrying out the present invention, and the technical scope of the present invention should not be construed to be limited by these. That is, the present invention can be embodied in various forms without departing from its technical concept or main features.

１００生成装置
２００冷却機構
２０３排出口
２０４排出口
２６０混合部
３００脱臭槽
４００脱臭槽
５００脱臭槽 REFERENCE SIGNS LIST 100 generation device 200 cooling mechanism 203 outlet 204 outlet 260 mixing section 300 deodorizing tank 400 deodorizing tank 500 deodorizing tank

Claims

第１の気体が流入する第１流入口と、
第２の気体が流入する第２流入口と、
前記流入した第１の気体と前記流入した第２の気体とを混合することなく、前記第２の気体により前記第１の気体の温度を調整する温度調整部と、
前記温度を調整された第１の気体と前記温度の調整に用いた第２の気体とを混合した気体を洗浄する洗浄部と
を有し、
前記第２の気体は、前記第１の気体に比べて温度が低いことを特徴とする洗浄装置。 a first inlet into which the first gas flows;
a second inlet into which the second gas flows;
a temperature adjustment unit that adjusts the temperature of the first gas by the second gas without mixing the first gas and the second gas that have flowed in;
a cleaning unit that cleans a mixed gas of the temperature-adjusted first gas and the temperature-adjusted second gas ,
The cleaning apparatus , wherein the temperature of the second gas is lower than that of the first gas .

前記温度調整部で生じる結露水を貯留する貯留部を更に有することを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。 2. The washing apparatus according to claim 1 , further comprising a storage section for storing dew condensation water generated in said temperature control section.

前記第２の気体は、外気であることを特徴とする請求項１または２に記載の洗浄装置。 3. The cleaning apparatus according to claim 1, wherein the second gas is outside air.

前記第２の気体は、洗浄部で洗浄された気体であることを特徴とする請求項１～３のいずれか１項に記載の洗浄装置。 The cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the second gas is gas cleaned in a cleaning section.

第１の気体が流入する第１流入工程と、
第２の気体がが流入する第２流入工程と、
前記流入した第１の気体と前記流入した第２の気体とを混合することなく、前記第２の気体により前記第１の気体の温度を調整する温度調整工程と、
前記温度を調整された第１の気体と前記温度の調整に用いた第２の気体とを混合した気体を洗浄する洗浄工程と
を含み、
前記第２の気体は、前記第１の気体に比べて温度が低いことを特徴とする洗浄方法。 a first inflow step in which the first gas flows;
a second inflow step in which the second gas flows;
a temperature adjustment step of adjusting the temperature of the first gas by the second gas without mixing the first gas and the second gas that have flowed in;
a cleaning step of cleaning a mixed gas of the temperature-adjusted first gas and the temperature-adjusted second gas ,
The cleaning method , wherein the temperature of the second gas is lower than that of the first gas .