JP7226927B2 - ガラス、光学ガラスおよび光学素子 - Google Patents
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Description
〔1〕アッベ数νdが20~35であり、
P2O5およびNb2O5を含有し、
部分分散比Pg,Fが下記式(1)を満たす、ケイ酸塩ガラス。
Pg,F≦-0.00286×νd+0.68900 ・・・(1)
P2O5およびNb2O5を含有し、
Nb2O5、TiO2、WO3およびBi2O3の合計含有量に対するNb2O5の含有量の質量比[Nb2O5/(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)]が0.6110より大きい、ケイ酸塩ガラス。
第1実施形態に係るガラスは、
アッベ数νdが20~35であり、
P2O5およびNb2O5を含有し、
部分分散比Pg,Fが下記式(1)を満たす、ケイ酸塩ガラスである。
Pg,F≦-0.00286×νd+0.68900 ・・・(1)
アッベ数νdを上記範囲とすることで、高分散性のガラスを得ることができる。
アッベ数νdは、高分散化に寄与するガラス成分である、Nb2O5、TiO2、WO3およびBi2O3の含有量を調整することにより制御できる。
Pg,F≦-0.00286×νd+0.68900 ・・・(2)
Pg,F≦-0.00286×νd+0.68800 ・・・(3)
Pg,F≦-0.00286×νd+0.68600 ・・・(4)
Pg,F≦-0.00286×νd+0.68400 ・・・(5)
Pg,F=(ng-nF)/(nF-nC) ・・・(6)
本発明の第1実施形態における上記以外のガラス成分の含有量および比率について、以下に詳述する。
質量比[(SiO2+P2O5+B2O3)/(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)]を上記範囲とすることで、アッベ数νdおよび部分分散比Pg,Fを制御できる。
質量比[Ta2O5/(Ta2O5+Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)]が高すぎると、比重が増加し、またコストアップとなるおそれがある。
<屈折率nd>
本実施形態に係るガラスの一例において、屈折率ndの下限は1.55とすることができ、さらには1.60、1.65、1.70、1.75、または1.80とすることもできる。また、屈折率ndの上限は1.95とすることができ、さらには1.90、1.85、1.80、または1.75とすることもできる。屈折率は、高屈折率化に寄与するガラス成分である、Nb2O5、TiO2、WO3およびBi2O3の含有量を調整することにより制御できる。
本実施形態に係るガラスは、高屈折率高分散性ガラスでありながら、比重が大きくない。通常、ガラスの比重を低減することができれば、レンズの重量を減少できる。その結果、レンズを搭載するカメラレンズのオートフォーカス駆動の消費電力を低減できる。一方、比重を減少させすぎると、熱的安定性の低下を招く。
本実施形態に係るガラスの一例において、ガラス転移温度Tgの上限は、好ましくは700℃であり、さらには670℃、650℃、630℃、610℃、590℃の順により好ましい。また、ガラス転移温度Tgの下限は、好ましくは450℃であり、さらには500℃、510℃、530℃、550℃の順により好ましい。ガラス転移温度Tgは、質量比[(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)/(Li2O+Na2O+K2O+Cs2O)]、質量比[(Li2O+Na2O+K2O+Cs2O)/(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)]、質量比[(SiO2+P2O5+B2O3)/(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)]、質量比[Nb2O5/(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)]、質量比[ZrO2/(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)]を調整することにより制御できる。
本実施形態に係る光学ガラスは、着色が極めて少ない光学ガラスである。かかる光学ガラスは、カメラレンズ等の撮像用の光学素子や、プロジェクタ等の投射用の光学素子の材料として好適である。
本実施形態に係るガラスは、P2O5を含有することでリヒートプレス成形性(加工性)を向上できる。リヒートプレス時に、ガラスは加熱されガラスの軟化状態(粘度)が制御される。本実施形態に係るガラスは、幅広い温度範囲でリヒートプレスされる場合でも内部欠陥や失透が生じにくいため、ガラスの軟化状態(粘度)を調整しやすく、加工性に優れる。
本発明の実施形態に係るガラスは、上記所定の組成となるようにガラス原料を調合し、調合したガラス原料により公知のガラス製造方法に従って作製すればよい。例えば、複数種の化合物を調合し、十分混合してバッチ原料とし、バッチ原料を石英坩堝や白金坩堝中に入れて粗熔解(ラフメルト)する。粗熔解によって得られた熔融物を急冷、粉砕してカレットを作製する。さらにカレットを白金坩堝中に入れて加熱、再熔融(リメルト)して熔融ガラスとし、さらに清澄、均質化した後に熔融ガラスを成形し、徐冷して光学ガラスを得る。熔融ガラスの成形、徐冷には、公知の方法を適用すればよい。
本発明の実施形態に係る光学ガラスを使用して光学素子を作製するには、公知の方法を適用すればよい。例えば、上記光学ガラスの製造において、熔融ガラスを鋳型に流し込んで板状に成形し、本発明に係る光学ガラスからなるガラス素材を作製する。得られたガラス素材を適宜、切断、研削、研磨し、プレス成形に適した大きさ、形状のカットピースを作製する。カットピースを加熱、軟化して、公知の方法でプレス成形(リヒートプレス)し、光学素子の形状に近似する光学素子ブランクを作製する。光学素子ブランクをアニールし、公知の方法で研削、研磨して光学素子を作製する。
以下に、第2実施形態として、ガラス成分の質量比に基づいて本発明に係るガラスを説明する。なお、第2実施形態における各ガラス成分の作用、効果は、第1実施形態における各ガラス成分の作用、効果と同様である。したがって、第1実施形態に関する説明と重複する事項については、適宜省略する。
アッベ数νdが20~35であり、
P2O5およびNb2O5を含有し、
Nb2O5、TiO2、WO3およびBi2O3の合計含有量に対するNb2O5の含有量の質量比[Nb2O5/(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)]が0.6110より大きい、ケイ酸塩ガラスである。
アッベ数νdを上記範囲とすることで、高分散性のガラスを得ることができる。
アッベ数νdは、高分散化に寄与するガラス成分である、Nb2O5、TiO2、WO3およびBi2O3の含有量を調整することにより制御できる。
以下に、本発明のその他の実施形態に係るガラスとして、実施形態A、実施形態B、および実施形態Cを説明する。
以下に示す実施形態A、実施形態B、および実施形態Cに係るガラスは、第1、第2実施形態に係るガラスの特性とは異なる好ましい特性も有する。
したがって、実施形態A、実施形態B、実施形態Cに係るガラスの特性が、第1、第2実施形態に係るガラスの特性と異なる場合には、実施形態A、実施形態B、実施形態Cに係るガラスの特性の好ましい範囲は、以下に説明する範囲を適用する。
実施形態Aに係るガラスは、
アッベ数νdが26.0以上であり、
SiO2の含有量に対するB2O3の含有量の質量比[B2O3/SiO2]が0.800以下、
Nb2O5およびTiO2の合計含有量に対するSiO2およびB2O3の合計含有量の質量比[(SiO2+B2O3)/(Nb2O5+TiO2)]が0.950以下、
Li2O、Na2OおよびK2Oの合計含有量に対するMgO、CaO、SrO、BaOおよびZnOの合計含有量の質量比[(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)/(Li2O+Na2O+K2O)]が0.480以下、
Nb2O5の含有量に対するTiO2の含有量の質量比[TiO2/Nb2O5]が0.340以下、
TiO2およびNb2O5の合計含有量に対するLi2O、Na2OおよびK2Oの合計含有量の質量比[(Li2O+Na2O+K2O)/(TiO2+Nb2O5)]が0.700以下、
SiO2、B2O3、P2O5、Al2O3、Li2O、Na2O、K2O、MgO、CaO、ZnO、La2O3、Y2O3、Gd2O3、ZrO2、TiO2およびNb2O5の合計含有量が96.0%以上、
PbO、CdOおよびAs2O3の含有量がそれぞれ0.01%以下であることを特徴とする。
質量比[B2O3/SiO2]を上記範囲とすることで、比重の増大およびガラスの着色を抑制できる。
質量比[(SiO2+B2O3)/(Nb2O5+TiO2)]を上記範囲とすることで、所望の光学恒数が得られる。また、ガラスのネットワーク形成作用の低下を抑制し、ガラスの再加熱時の安定性の低下を抑制できる。
質量比[(MgO+CaO+SrO+BaO+ZnO)/(Li2O+Na2O+K2O)]を上記範囲とすることで、比重の増大および熱的安定性の低下を抑制できる。また、屈折率ndの低下を抑制できる。
質量比[TiO2/Nb2O5]を上記範囲とすることで、部分分散比Pg,Fの増大を抑制できる。また、ガラスのネットワーク形成作用の低下を抑制し、ガラスの再加熱時の安定性の低下、ならびに比重の増大を抑制できる。
質量比[(Li2O+Na2O+K2O)/(TiO2+Nb2O5)]を上記範囲とすることで、所望の光学恒数が得られる。また、ガラスの熔解性の低下を抑制できる。
該合計含有量を上記範囲とすることで、所望の光学恒数が得られる。また、ガラスのネットワーク形成作用の低下を抑制し、ガラスの再加熱時の安定性の低下、ならびに比重の増大を抑制できる。さらに、部分分散比の増大を抑制できる。
<アッベ数νd>
実施形態Aに係るガラスにおいて、アッベ数νdの下限は、好ましくは26.0であり、さらには26.5、27.0、27.2、27.4、27.6、27.8、28.0、28.2、28.4、28.6、28.8、29.0の順により好ましい。また、アッベ数νdの上限は、好ましくは31.0、30.8、30.6、30.4、30.2、30.0の順により好ましい。相対的にアッベ数νdを低くする成分は、Nb2O5、TiO2、ZrO2、Ta2O5である。相対的にアッベ数νdを高くする成分は、SiO2、P2O5、B2O3、Li2O、Na2O、K2O、La2O3、BaO、CaO、SrOである。これらの成分の含有量を適宜調整することでアッベ数νdを制御できる。
実施形態Aに係るガラスにおいて、屈折率ndは好ましくは1.70~1.90である。屈折率ndは、1.72~1.85、または1.73~1.83とすることもできる。相対的に屈折率ndを上げる成分は、Nb2O5、TiO2、ZrO2、Ta2O5、La2O3である。相対的に屈折率ndを下げる成分は、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2Oである。これらの成分の含有量を適宜調整することで屈折率ndを制御できる。
実施形態Aに係るガラスの部分分散比Pg,Fの上限は、好ましくは0.6500であり、さらには0.6400、0.6300、0.6200、0.6100、0.6050、0.6040、0.6030、0.6020、0.6010、0.6000の順により好ましい。また、部分分散比Pg,Fは低いほど好ましく、その下限は、好ましくは0.5500であり、さらには0.5600、0.5700、0.5800、0.5840、0.5850、0.5870、0.5890、0.5900、0.5910、0.5920、0.5930、0.5940とすることもできる。
ΔPg,F’=Pg,F+(0.00286×νd)-0.68900
実施形態Aに係るガラスの比重は、好ましくは3.60以下であり、さらには3.55以下、3.50以下、3.48以下、3.46以下、3.45以下、3.44以下、3.43以下、3.42以下、3.41以下、3.40以下の順により好ましい。比重は小さいほど好ましく、下限は特に限定されないが、一般的には3.00程度である。相対的に比重を高くする成分は、BaO、La2O3、ZrO2、Nb2O5、Ta2O5などである。相対的に比重を低くする成分は、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2Oなどである。これらの成分の含有量を調整することで比重を制御できる。
実施形態Aに係るガラスのガラス転移温度Tgの上限は、好ましくは700℃であり、さらには670℃、650℃、630℃、620℃、610℃、600℃、590℃の順により好ましい。また、ガラス転移温度Tgの下限は、好ましくは450℃であり、さらには470℃、500℃、510℃、520℃、530℃、540℃の順により好ましい。相対的にガラス転移温度Tgを下げる成分は、Li2O、Na2O、K2Oなどである。相対的にガラス転移温度Tgを上げる成分は、La2O3、ZrO2、Nb2O5などである。これらの成分の含有量を適宜調整することでガラス転移温度Tgを制御できる。
実施形態Aに係るガラスの光線透過性は、着色度λ70およびλ5により評価できる。
厚さ10.0mm±0.1mmのガラス試料について波長200~700nmの範囲で分光透過率を測定し、外部透過率が70%となる波長をλ70、外部透過率が5%となる波長をλ5とする。
実施形態Aに係るガラスは、ガラス転移温度Tgより200~220℃高い温度に設定した試験炉で5分間加熱した場合に、白濁しないことが好ましい。より好ましくは、上記加熱により析出する結晶数が1試料あたり100個以下である。再加熱時の安定性は、Nb2O5、TiO2、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2O、P2O5の含有量を調整することで制御できる。
実施形態Bに係るガラスは、
Nb2O5の含有量に対するSiO2の含有量の質量比[SiO2/Nb2O5]が1.05より大きく、
Nb2O5の含有量に対するZrO2の含有量の質量比[ZrO2/Nb2O5]が0.25より大きく、
SiO2およびB2O3の合計含有量に対するTiO2およびNb2O5の合計含有量の質量比[(TiO2+Nb2O5)/(SiO2+B2O3)]が0.65より大きいことを特徴とする。
<屈折率nd>
実施形態Bに係るガラスにおいて、屈折率ndは好ましくは1.69~1.76である。屈折率ndは、1.695~1.755、または1.70~1.75とすることもできる。相対的に屈折率ndを上げる成分は、Nb2O5、TiO2、ZrO2、Ta2O5、La2O3である。相対的に屈折率ndを下げる成分は、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2Oである。これらの成分の含有量を適宜調整することで屈折率ndを制御できる。
実施形態Bに係るガラスにおいて、アッベ数νdは好ましくは30~36である。アッベ数νdは、30.5~35.8、または31~35.5とすることもできる。相対的にアッベ数νdを低くする成分は、Nb2O5、TiO2、ZrO2、Ta2O5である。相対的にアッベ数νdを高くする成分は、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2O、La2O3、BaO、CaO、SrOである。これらの成分の含有量を適宜調整することでアッベ数νdを制御できる。
実施形態Bに係るガラスの比重は、好ましくは3.19以下であり、さらには3.18以下、3.17以下、3.16以下の順により好ましい。比重は小さいほど好ましく、下限は特に限定されないが、一般的には3.05程度である。相対的に比重を高くする成分は、BaO、La2O3、ZrO2、Nb2O5、Ta2O5などである。相対的に比重を低くする成分は、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2Oなどである。これらの成分の含有量を調整することで比重を制御できる。
実施形態ガラスBに係るガラスの部分分散比Pg,Fの上限は、好ましくは0.5950であり、さらには0.5945、0.5940、0.5935の順により好ましい。また、部分分散比Pg,Fの下限は、好ましくは0.5780であり、さらには0.5785、0.5790、0.5795、0.5805、0.5815、0.5830の順により好ましい。部分分散比Pg,Fを上記範囲とすることで、高次の色収差補正に好適な光学ガラスが得られる。
実施形態Bに係るガラスの液相温度LTは、好ましくは1200℃以下であり、さらには1190℃以下、1180℃以下、1170℃以下の順により好ましい。液相温度を上記範囲とすることで、ガラスの熔融、成形温度を低下させることができ、その結果、熔融工程におけるガラス熔融器具(例えば、坩堝、熔融ガラスの攪拌器具など)の侵蝕を低減できる。液相温度LTの下限は特に限定されないが、一般的には1000℃程度である。液相温度LTは、全てのガラス成分の含有量のバランスによって決まる。その中でも、液相温度LTに対しては、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2Oなどの含有量の影響が大きい。
実施形態Bに係るガラスのガラス転移温度Tgの上限は、好ましくは580℃であり、さらには575℃、570℃、565℃の順により好ましい。また、ガラス転移温度Tgの下限は、好ましくは510℃であり、さらには515℃、520℃、525℃の順により好ましい。相対的にガラス転移温度Tgを下げる成分は、Li2O、Na2O、K2Oなどである。相対的にガラス転移温度Tgを上げる成分は、La2O3、ZrO2、Nb2O5などである。これらの成分の含有量を適宜調整することでガラス転移温度Tgを制御できる。
実施形態Bに係るガラスにおいて、ガラス転移温度Tgで10分間加熱し、さらにそのTgよりも140~250℃高い温度で10分間加熱したときの、1gあたりに観察される結晶数は、好ましくは20個以下、より好ましくは10個以下である。
実施形態Cに係るガラスは、
Nb2O5およびTiO2の合計含有量に対するSiO2の含有量の質量比[SiO2/(Nb2O5+TiO2)]が0.80より大きく、
Li2O、Na2OおよびK2Oの合計含有量に対するSiO2、B2O3およびP2O5の合計含有量の質量比[(SiO2+B2O3+P2O5)/(Li2O+Na2O+K2O)]が1.45~4.55であり、
SiO2およびNb2O5の合計含有量[SiO2+Nb2O5]が62~84%であることを特徴とする。
<屈折率nd>
実施形態Cに係るガラスにおいて、屈折率ndは好ましくは1.690~1.760である。屈折率ndは、1.695~1.755、または1.700~1.750とすることもできる。相対的に屈折率ndを上げる成分は、Nb2O5、TiO2、ZrO2、Ta2O5、La2O3である。相対的に屈折率ndを下げる成分は、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2Oである。これらの成分の含有量を適宜調整することで屈折率ndを制御できる。
実施形態Cに係るガラスにおいて、アッベ数νdは好ましくは30~36である。アッベ数νdは、30.5~35.8、または31~35.5とすることもできる。相対的にアッベ数νdを低くする成分は、Nb2O5、TiO2、ZrO2、Ta2O5である。相対的にアッベ数νdを高くする成分は、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2O、La2O3、BaO、CaO、SrOである。これらの成分の含有量を適宜調整することでアッベ数νdを制御できる。
実施形態Cに係るガラスの比重は、好ましくは3.40以下であり、さらには3.35以下、3.30以下、3.25以下の順により好ましい。比重は小さいほど好ましく、下限は特に限定されないが、一般的には3.10程度である。相対的に比重を高くする成分は、BaO、La2O3、ZrO2、Nb2O5、Ta2O5などである。相対的に比重を低くする成分は、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2Oなどである。これらの成分の含有量を調整することで比重を制御できる。
実施形態Cに係るガラスの部分分散比Pg,Fの上限は、好ましくは0.5980であり、さらには0.5970、0.5960、0.5950,0.5940の順により好ましい。また、部分分散比Pg,Fは低い方が好ましく、その下限は、好ましくは0.5780であり、さらには0.5800、0.5820、0.5840、0.5860とすることもできる。部分分散比Pg,Fを上記範囲とすることで、高次の色収差補正に好適な光学ガラスが得られる。部分分散比Pg,Fは、SiO2、B2O3、TiO2、Nb2O5などの含有量を調整することで制御できる。
実施形態Cに係るガラスの液相温度LTは、好ましくは1200℃以下であり、さらには1190℃以下、1180℃以下、1170℃以下の順により好ましい。液相温度を上記範囲とすることで、ガラスの熔融、成形温度を低下させることができ、その結果、熔融工程におけるガラス熔融器具(例えば、坩堝、熔融ガラスの攪拌器具など)の侵蝕を低減できる。液相温度LTの下限は特に限定されないが、一般的には1000℃程度である。液相温度LTは、全てのガラス成分の含有量のバランスによって決まる。その中でも、液相温度LTに対しては、SiO2、B2O3、Li2O、Na2O、K2Oなどの含有量の影響が大きい。
実施形態Cに係るガラスのガラス転移温度Tgの上限は、好ましくは670℃であり、さらには650℃、630℃、610℃の順により好ましい。また、ガラス転移温度Tgの下限は、好ましくは510℃であり、さらには520℃、525℃、530℃の順により好ましい。相対的にガラス転移温度Tgを下げる成分は、Li2O、Na2O、K2Oなどである。相対的にガラス転移温度Tgを上げる成分は、La2O3、ZrO2、Nb2O5などである。これらの成分の含有量を適宜調整することでガラス転移温度Tgを制御できる。
実施形態Cに係るガラスにおいて、ガラス転移温度Tgで10分間加熱し、さらにそのTgよりも140~220℃高い温度で10分間加熱したときの、1gあたりに観察される結晶数は、好ましくは20個以下、より好ましくは10個以下である。
表1~5、23に示すガラス組成を有するガラスサンプルを以下の手順で作製し、各種評価を行った。なお、表1~5、23では、P2O5の含有による効果を示すために、P2O5以外のガラス成分の含有量を一定にして表示している。
まず、ガラスの構成成分に対応する酸化物、水酸化物、炭酸塩、および硝酸塩を原材料として準備し、得られる光学ガラスのガラス組成が、表1~5、23に示す各組成となるように上記原材料を秤量、調合して、原材料を十分に混合した。こうして得られた調合原料(バッチ原料)を、白金坩堝に投入し、1350℃~1400℃で2時間加熱して熔融ガラスとし、攪拌して均質化を図り、清澄してから、熔融ガラスを適当な温度に予熱した金型に鋳込んだ。鋳込んだガラスを、ガラス転移温度Tgより100℃低い温度で30分間熱処理し、炉内で室温まで放冷することにより、ガラスサンプルを得た。
得られたガラスサンプルについて、誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP-AES)で各ガラス成分の含有量を測定し、表1~5、23に示す各組成のとおりであることを確認した。
得られたガラスサンプルを切断、切削し10mm×10mm×8mmの試料を得た。この試料を、所定の温度に設定した熱処理炉に入れて加熱し、5分後に取り出し、ガラス試料を冷却した。冷却後のガラス試料端部を光学研磨し、光学顕微鏡(100倍)でガラス試料内部を観察した。ガラス試料内部の内部欠陥数(輝点)の数を数えて、gあたりの数に換算した。内部欠陥は1~300μmの範囲の大きさとした。P2O5以外のガラス成分組成が同じガラスにおいて、P2O5を含有しないガラスの内部欠陥数をI〔個/g〕、P2O5を含有するガラスの内部欠陥数をIp〔個/g〕とするとき、ΔI=I-Ipが1.0〔個/g〕以上となる場合を良好とした。なお、ガラス試料にヒビ、脈理は見られなかった。
得られたガラスサンプルを、さらにガラス転移温度Tg付近で約30分から約2時間アニール処理した後、炉内で降温速度-30℃/時間で室温まで冷却してアニールサンプルを得た。得られたアニールサンプルについて、屈折率nd、ng、nFおよびnC、アッベ数νd、部分分散比Pg,F、比重、ガラス転移温度Tg、λ70およびλ5を測定した。結果を表1~5、23に示す。
(i)屈折率nd、ng、nF、nCおよびアッベ数νd
上記アニールサンプルについて、JIS規格 JIS B 7071-1の屈折率測定法により、屈折率nd、ng、nF、nCを測定し、式(7)に基づきアッベ数νdを算出した。
νd=(nd-1)/(nF-nC) ・・・(7)
g線、F線、c線における各屈折率ng、nF、nCを用いて、式(6)に基づき部分分散比Pg,Fを算出した。
Pg,F=(ng-nF)/(nF-nC) ・・・(6)
比重は、アルキメデス法により測定した。
ガラス転移温度Tgは、NETZSCH JAPAN社製の示差走査熱量分析装置(DSC3300SA)を使用し、昇温速度10℃/分にて測定した。
上記アニールサンプルを、厚さ10mmで、互いに平行かつ光学研磨された平面を有するように加工し、波長280nmから700nmまでの波長域における分光透過率を測定した。光学研磨された一方の平面に垂直に入射する光線の強度を強度Aとし、他方の平面から出射する光線の強度を強度Bとして、分光透過率B/Aを算出した。分光透過率が70%になる波長をλ70とし、分光透過率が5%になる波長をλ5とした。なお、分光透過率には試料表面における光線の反射損失も含まれる。
表6~22に示すガラス組成を有するガラスサンプルを実施例1と同様の手順で作製し、実施例1と同様にガラス成分組成を確認し、光学特性を測定した。結果を表6~22に示す。フッ化物の含有量は外割りで記載した。加工性については、いずれのガラスサンプルも再加熱時の成形性は良好であることを確認した。
実施例1および実施例2において作製した各光学ガラスを用いて、公知の方法により、レンズブランクを作製し、レンズブランクを研磨等の公知方法により加工して各種レンズを作製した。
作製した光学レンズは、両凸レンズ、両凹レンズ、平凸レンズ、平凹レンズ、凹メニスカスレンズ、凸メニスカスレンズ等の各種レンズである。
各種レンズは、他種の光学ガラスからなるレンズと組合せることにより、二次の色収差を良好に補正することができた。
また、明細書に例示または好ましい範囲として記載した事項の2つ以上を任意に組み合わせることは、もちろん可能である。
Claims (6)
- アッベ数νdが20~35であり、
P2O5およびNb2O5を含有し、
Nb 2 O 5 、TiO 2 、WO 3 およびBi 2 O 3 の合計含有量に対するNb 2 O 5 の含有量の質量比[Nb 2 O 5 /(Nb 2 O 5 +TiO 2 +WO 3 +Bi 2 O 3 )]が0.700以上であり、
部分分散比Pg,Fが下記式(1)を満たし、
SiO2およびP2O5の合計含有量に対するP2O5の含有量の質量比[P2O5/(SiO2+P2O5)]が0.910以下であり、
SiO2、P2O5およびB2O3の合計含有量に対するSiO2の含有量の質量比[SiO2/(SiO2+P2O5+B2O3)]が0.500以上であり、
K2Oの含有量が15質量%以下である、ケイ酸塩ガラス。
Pg,F≦-0.00286×νd+0.68900 ・・・(1) - P2O5の含有量が10質量%以下である、請求項1に記載のガラス。
- アッベ数νdが20~35であり、
P2O5およびNb2O5を含有し、
Nb2O5、TiO2、WO3およびBi2O3の合計含有量に対するNb2O5の含有量の質量比[Nb2O5/(Nb2O5+TiO2+WO3+Bi2O3)]が0.700以上であり、
SiO2およびP2O5の合計含有量に対するP2O5の含有量の質量比[P2O5/(SiO2+P2O5)]が0.910以下であり、
SiO2、P2O5およびB2O3の合計含有量に対するSiO2の含有量の質量比[SiO2/(SiO2+P2O5+B2O3)]が0.500以上であり、
K2Oの含有量が15質量%以下である、ケイ酸塩ガラス。 - P2O5の含有量が10質量%以下である、請求項3に記載のガラス。
- 請求項1~4のいずれかに記載のガラスからなる光学ガラス。
- 請求項5に記載の光学ガラスからなる光学素子。
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