JP7225804B2 - 組成物 - Google Patents
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Description
低温で硬化する組成物としては、2-イソシアナトエチルメタクリレート及びマロン酸ジエチルエステルを反応させて得られる生成物と、スチレンと、メチルメタクリレートと、2-ブチルアクリレートと、2-ヒドロキシエチルメタクリレートとを、シクロヘキサノンの存在下で共重合することで得られる組成物が報告されている(特許文献1)。
[1] 下記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物(A)と、
下記式(2)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物(B)と、
下記式(3)で表される化合物と
を含有する組成物。
(式(1)中、
R1、R2及びR3は、互いに異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
R4及びR5は、互いに異なっていてもよく、炭素原子数1~20のアルキル基、又は炭素原子数3~20のシクロアルキル基を表す。該アルキル基、又はシクロアルキル基中の水素原子は、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、又はフッ素原子で置換されていてもよい。
Raは、炭素原子数1~20の2価の有機基を表す。
Xは、酸素原子、又は-NRn-で表される基を表す。Rnは、水素原子又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
lは、1~6の整数を表す。
Raが複数個ある場合、それらは互いに異なっていてもよい。
*は、結合位置を表す。)
(式(2)中、
R6、R7及びR8は、互いに異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
Rbは、炭素原子数1~20の2価の有機基、-O-で表される基、-CO-で表される基、-COO-で表される基、-NHCO-で表される基、又は-NHCOO-で表される基を表す。-O-で表される基、-CO-で表される基、-COO-で表される基、-NHCO-で表される基、及び-NHCOO-で表される基の2つの結合手は、どちらが、R6が結合する炭素原子側に位置していてもよい。
Rcは、単結合、又は炭素原子数1~20の2価の有機基を表す。
mは、0~6の整数を表す。
Rbが複数個ある場合、それらは互いに異なっていてもよい。
*は、結合位置を表す。)
(式(3)中、
R9は、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、又は炭素原子数2~20の下記式(6)で表される基を表す。該アルキル基、シクロアルキル基、又は下記式(6)で表される基中の水素原子は、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、又はフッ素原子で置換されていてもよい。)
(式(6)中、
R15は、炭素原子数1~6の2価の直鎖状脂肪族炭化水素基を表し、
R16は、炭素原子数1~19の1価の直鎖状脂肪族炭化水素基を表し、
qは、1~19の整数を表す。
ただし、R15、R16、及びqは、全体の炭素原子数が2~20になるように調整される。)
[2] 前記高分子化合物(A)、及び前記高分子化合物(B)からなる群より選ばれる少なくとも一種の高分子化合物が、下記式(4)で表される繰り返し単位をさらに含む高分子化合物である、[1]に記載の組成物。
(式(4)中、
R10、R11、及びR12は、互いに異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
R13は、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
Rdは、炭素原子数1~20の2価の有機基、-O-で表される基、-CO-で表される基、-COO-で表される基、-NHCO-で表される基、又は-NHCOO-で表される基を表す。これらの-O-で表される基、-CO-で表される基、-COO-で表される基、-NHCO-で表される基、及び-NHCOO-で表される基の2つの結合手は、どちらが、R10が結合する炭素原子側に位置していてもよい。Rdで表される2価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
n1は、0~5の整数を表す。
n2は、0~6の整数を表す。
Rdが複数個ある場合、それらは互いに異なっていてもよい。
R13が複数個ある場合、それらは互いに異なっていてもよい。
*は、結合位置を表す。)
[3] 前記式(3)中、R9が、炭素原子数1~20のアルキル基、又は炭素原子数3~20のシクロアルキル基である(該アルキル基、又はシクロアルキル基中の水素原子は、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、又は、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基で置換されていてもよい。)、[1]又は[2]に記載の組成物。
[4] 組成物に含まれる前記式(3)で表される化合物が、1質量%以上90質量%以下である、[1]~[3]のいずれか1つに記載の組成物。
[5] 電子デバイスに用いられる、[1]~[4]のいずれか1つに記載の組成物を含む、絶縁層用組成物。
[6] 前記電子デバイスが有機薄膜トランジスタである、[5]に記載の絶縁層用組成物。
[7] [1]~[4]のいずれか1つに記載の組成物が硬化した膜をゲート絶縁層として含む、有機薄膜トランジスタ。
本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
炭素原子数1~20の1価の直鎖状脂肪族炭化水素基、炭素原子数3~20の1価の分岐状脂肪族炭化水素基、炭素原子数3~20の1価の脂環式炭化水素基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数6~20のアリールオキシ基、炭素原子数2~20のアシル基、炭素原子数2~20のアルコキシカルボニル基、及び炭素原子数7~20のアリールオキシカルボニル基が挙げられる。
これらの基は、基中の水素原子が、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の炭化水素基、又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
炭素原子数1~6の1価の直鎖状脂肪族炭化水素基、炭素原子数3~6の1価の分岐状脂肪族炭化水素基、炭素原子数3~6の1価の脂環式炭化水素基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、炭素原子数1~6のアルコキシ基、炭素原子数6~20のアリールオキシ基、炭素原子数2~7のアシル基、炭素原子数2~7のアルコキシカルボニル基、及び炭素原子数7~20のアリールオキシカルボニル基である。
これらの基は、基中の水素原子が、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の炭化水素基、又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert-ブチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチニル基、シクロヘキシニル基、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、トリル基、キシリル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、トリエチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、メチルナフチル基、ジメチルナフチル基、トリメチルナフチル基、ビニルナフチル基、エテニルナフチル基、メチルアントリル基、エチルアントリル基、ペンタフルオロフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、メトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基、ベンジル基などが挙げられる。
炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、イソアミル基、2-エチルブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、3-プロピルヘプチル基、デシル基、3,7-ジメチルオクチル基、2-エチルオクチル基、2-ヘキシルデシル基、ドデシル基が挙げられる。
置換基を有する炭素原子数1~20のアルキル基としては、例えば、
トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、ベンジル基、2-フェニルエチル基、3-フェニルプロピル基、3-(4-メチルフェニル)プロピル基、3-(3,5-ジ-ヘキシルフェニル)プロピル基、6-エチルオキシヘキシル基、メトキシメチル基、エトキシエチル基が挙げられる。
シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。
炭素原子数3~20のシクロアルキル基は、置換基として、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、又はフッ素原子を有していてもよい。
炭素原子数1~20の2価の直鎖状脂肪族炭化水素基、炭素原子数3~20の2価の分岐状脂肪族炭化水素基、炭素原子数3~20の2価の脂環式炭化水素基、炭素原子数6~20の2価の芳香族炭化水素基が挙げられる。
これらの基は、基中の水素原子が炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
炭素原子数1~6の2価の直鎖状脂肪族炭化水素基、炭素原子数3~6の2価の分岐状脂肪族炭化水素基、炭素原子数3~6の2価の脂環式炭化水素基、炭素原子数6~20の2価の芳香族炭化水素基が好ましい。
これらの基は、基中の水素原子が炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、又はハロゲン原子で置換されていてもよい。
メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、シクロプロピレン基、n-ブチレン基、イソブチレン基、s-ブチレン基、t-ブチレン基、シクロブチレン基、1-メチル-シクロプロピレン基、2-メチル-シクロプロピレン基、n-ペンチレン基、1-メチル-n-ブチレン基、2-メチル-n-ブチレン基、3-メチル-n-ブチレン基、1,1-ジメチル-n-プロピレン基、1,2-ジメチル-n-プロピレン基、2,2-ジメチル-n-プロピレン基、1-エチル-n-プロピレン基、シクロペンチレン基、n-ヘキシレン基、1-メチル-n-ペンチレン基、シクロヘキシレン基、1-メチル-シクロペンチレン基、2-メチル-シクロペンチレン基、3-メチル-シクロペンチレン基などが挙げられる。
フェニレン基、ナフチレン基、アントリレン基、ジメチルフェニレン基、トリメチルフェニレン基、エチレンフェニレン基、ジエチレンフェニレン基、トリエチレンフェニレン基、プロピレンフェニレン基、ブチレンフェニレン基、メチルナフチレン基、ジメチルナフチレン基、トリメチルナフチレン基、ビニルナフチレン基、エテニルナフチレン基、メチルアントリレン基、エチルアントリレン基などが挙げられる。
本発明の組成物は、式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物(A)と、式(2)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物(B)と、式(3)で表される化合物と
を含む。
組成物に含まれる高分子化合物(A)、及び高分子化合物(B)は、それぞれ1種であっても、2種以上であってもよい。
組成物においては、式(3)で表される化合物が溶媒であり、高分子化合物(A)と、高分子化合物(B)とが式(3)で表される化合物に溶解していることが好ましい。
ここで、高分子化合物(A)について説明する。
(式(1)中、
R1、R2及びR3は、互いに異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
R4及びR5は、互いに異なっていてもよく、炭素原子数1~20のアルキル基、又は炭素原子数3~20のシクロアルキル基を表す。該アルキル基、又はシクロアルキル基中の水素原子は、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、又はフッ素原子で置換されていてもよい。
Raは、炭素原子数1~20の2価の有機基を表す。
Xは、酸素原子、又は-NRn-で表される基を表す。Rnは、水素原子又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
lは、1~6の整数を表す。
Raが複数個ある場合、それらは互いに異なっていてもよい。
*は、結合位置を表す。)
式(1)で表される繰り返し単位の原料となるモノマーは、公知の方法によって製造することができ、例えば、下記式(5)で示される化合物とマロン酸エステルとを反応させて製造することができる。
2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートと反応させるジイソシアナト化合物としては、例えば2,4-又は2,6-トリレンジイソシアネート(TDI)、4, 4′-ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、ヘキサメチレンジイソシアネート、3,5,5-トリメチル-3-イソシアナトメチルシクロヘキシルイソシアネート(I PDI)、m-又はp- キシリレンジイソシアネート(m-又はp-X D I ) 、4,4′-ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート(H12MDI)、1,3-又は1,4-ビス(イソシアナトメチル)シクロヘキサン、リジンジイソシアネート等が使用できる。
式(5)で示される化合物としては、高純度品の入手の容易さと取り扱いの容易さから、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートが好ましく、反応性の点から2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネートがより好ましい。
マロン酸エステルは、脂肪族アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソ-及びn-プロパノール、各種ブタノール、2-エチルヘキシルアルコール)、脂環式アルコール(例えばシクロヘキシルメタノール)、及び芳香環を含むアルコール(例えば、ベンジルアルコール)からなる群より選ばれる1種以上のアルコールと、マロン酸とを反応させて得ることができる。
R1、R2、及びR3は、互いに異なっていてもよく、水素原子又はメチル基を表す。
R4、及びR5は、互いに異なっていてもよく、炭素原子数1~20のアルキル基、又は炭素原子数3~20のシクロアルキル基を表し、R4、及びR5は、互いに独立に、メチル基、又はエチル基であることが好ましい。
ここで、高分子化合物(B)について説明する。
(式(2)中、
R6、R7及びR8は、互いに異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
Rbは、炭素原子数1~20の2価の有機基、-O-で表される基、-CO-で表される基、-COO-で表される基、-NHCO-で表される基、又は-NHCOO-で表される基を表す。-O-で表される基、-CO-で表される基、-COO-で表される基、-NHCO-で表される基、及び-NHCOO-で表される基の2つの結合手は、どちらが、R6が結合する炭素原子側に位置していてもよい。
Rcは、単結合、又は炭素原子数1~20の2価の有機基を表す。
mは、0~6の整数を表す。
Rbが複数個ある場合、それらは互いに異なっていてもよい。
*は、結合位置を表す。)
前記式(2)中、mは、0~2の整数であることが好ましい。
前記式(2)中、Rbは、-COO-で表される基、-NHCO-で表される基、-NHCOO-で表される基、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、n-ブチレン基、又はフェニレン基であることが好ましい。
前記式(2)中、Rcは、単結合、メチレン基、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、n-ブチレン基、又はフェニレン基であることが好ましい。
前記式(2)として好ましい態様は、
R6、R7、及びR8が、水素原子、又はメチル基であり、
mが、1であり、
Rbが、-COO-で表される基であり、
Rcが、炭素原子数1~10の2価の脂肪族炭化水素基である場合が挙げられる。
2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシブチルアクリレート、4-ヒドロキシブチルアクリレート、6-ヒドロキシヘキシルアクリレート、8-ヒドロキシオクチルアクリレート、4-ヒドロキシメチルシクロヘキシルアクリレート、2-ヒドロキシ-1-メチルエチルアクリレート、2-(2-ヒドロキシエトキシ)エチルアクリレート、2-ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート、3-ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート、4-ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-ヒドロキシブチルメタクリレート、4-ヒドロキシブチルメタクリレート、6-ヒドロキシヘキシルメタクリレート、8-ヒドロキシオクチルメタクリレート、4-ヒドロキシメチルシクロヘキシルメタクリレート、2-ヒドロキシ-1-メチルエチルメタクリレート、2-(2-ヒドロキシエトキシ)エチルメタクリレート、2-ヒドロキシフェニルエチルメタクリレート、3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレート、2-ヒドロキシシクロヘキシルメタクリレート、3-ヒドロキシシクロヘキシルメタクリレート、4-ヒドロキシシクロヘキシルメタクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルメタクリレート、3-パーフルオロブチル-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-パーフルオロヘキシル-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-パーフルオロオクチル-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-(パーフルオロ-3-メチルブチル)-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-(パーフルオロ-3-メチルブチル)-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-(パーフルオロ-5-メチルヘキシル)-2-ヒドロキシプロピルアクリレート、3-パーフルオロブチル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-パーフルオロヘキシル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-パーフルオロオクチル-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-(パーフルオロ-3-メチルブチル)-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、2-(パーフルオロ-3-メチルブチル)-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-(パーフルオロ-5-メチルヘキシル)-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、3-(パーフルオロ-7-メチルオクチル)-2-ヒドロキシプロピルメタクリレート、及び2-アクリロイロキシエチル-2-ヒドロキシエチル-フタル酸等のヒドロキシアルキル基を有する(メタ)アクリレート、
ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、及びエチレングリコールモノアリルエーテル等のヒドロキシビニルエーテル、
o-(ヒドロキシメチル)スチレン、m-(ヒドロキシメチル)スチレン、及びp-(ヒドロキシメチル)スチレン等のスチレン誘導体、
N-(2-ヒドロキシエチル)アクリルアミド等のヒドロキシアルキル基を有する(メタ)アクリルアミド、
2-ヒドロキシプロピオン酸(1-メチル)エテニルエステル、2-ヒドロキシプロピオン酸エテニルエステル、3-ヒドロキシプロピオン酸エテニルエステル、及び2-ヒドロキシ酢酸エテニルエステル等のエテニルエステル、
ビニルアルコール、並びにアリルアルコール。
式(2)で表される繰り返し単位としては、ヒドロキシアルキル基を有する(メタ)アクリレートに由来する繰り返し単位が好ましい。
ポリ(2-ヒドロキシエチルアクリレート)、ポリ(2-ヒドロキシエチルメタクリレート)、ポリ(2-ヒドロキシブチルメタクリレート)、ポリ(4-ヒドロキシブチルアクリレート)、ポリ(2-ヒドロキシブチルアクリルアミド)、ポリ(4-ヒドロキシブチルメタクリルアミド)、ポリ(ビニルアルコール)、
ポリ(スチレン-コ-(2-ヒドロキシエチルアクリレート))、ポリ(スチレン-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-(2-ヒドロキシブチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-(4-ヒドロキシブチルアクリレート))、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-(4-ヒドロキシブチルアクリレート))、ポリ(ベンジルメタクリレート-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(ベンジルメタクリレート-コ-(4-ヒドロキシブチルアクリレート))、ポリ(ベンジルメタクリレート-コ-(2-ヒドロキシプロピルメタクリレート))、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート-コ-(2-ヒドロキシブチルメタクリレート))、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート-コ-(4-ヒドロキシブチルアクリレート))、ポリ(メタクリル酸メチル-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(メタクリル酸メチル-コ-(4-ヒドロキシブチルアクリレート))、ポリ(スチレン-コ-(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン)-コ-[2-ヒドロキシブチルメタクリレート])、ポリ(スチレン-コ-(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン)-コ-[2-ヒドロキシエチルメタクリレート])、ポリ(スチレン-コ-(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン)-コ-[4-ヒドロキシブチルアクリレート])、ポリ(2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート-コ-(2-ヒドロキシエチルアクリレート))、ポリ(2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート-コ-(4-ヒドロキシブチルアクリレート))、ポリ(2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート-コ-(4-ヒドロキシブチルメタクリレート))、
ポリ(スチレン-コ-(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン)-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン)-コ-(4-ヒドロキシブチルアクリレート))、ポリ(スチレン-コ-(2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート)-コ-(2-ヒドロキシブチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-(2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート)-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-(2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート)-コ-(4-ヒドロキシブチルメタクリレート))、ポリ((2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルアクリレート)-コ-(4-ヒドロキシブチルメタクリレート))、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-〔2-(2-ヒドロキシエトキシ)エチルアクリレート〕)、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-アクリロニトリル-コ-(3-ヒドロキシ-1-アダマンチルアクリレート))、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-アクリロニトリル-コ-(4-ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート))、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-アクリロニトリル-コ-アリルトリメチルゲルマニウム-コ-エチレングリコールモノアリルエーテル)、ポリ(スチレン-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-アクリロニトリル-コ-(p-(ヒドロキシメチル)スチレン))、ポリ(スチレン-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-アクリロニトリル-コ-アリルトリメチルゲルマニウム-コ-(8-ヒドロキシオクチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-アクリロニトリル-コ-アリルトリメチルゲルマニウム-コ-〔2-(2-ヒドロキシエトキシ)エチルメタクリレート〕)、ポリ(メチルメタクリレート-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-(3-ヒドロキシ-1-アダマンチルメタクリレート))、ポリ(メチルメタクリレート-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシルアクリレート))、ポリ(2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン-コ-(2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート)-コ-(4-ヒドロキシメチルシクロヘキシルメタリレート))、ポリ(スチレン-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート-コ-アクリロニトリル-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート-コ-アクリロニトリル-コ-アリルトリメチルゲルマニウム-コ-(2-ヒドロキシエチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-4-(1-エトキシエチル)スチレン-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート-コ-(4-ヒドロキシブチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-4-(1-エトキシエチル)スチレン-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート-コ-(4-ヒドロキシブチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-{4-ビニル-(テトラヒドロ-2-ピラニル)ベンゾエート}-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート-コ-(4-ヒドロキシブチルメタクリレート))、ポリ(スチレン-コ-{4-ビニル-(テトラヒドロ-2-ピラニル)ベンゾエート}-コ-2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート-コ-(4-ヒドロキシブチルメタクリレート))、ポリ(ビニルアルコール-コ-エチレン)、ポリ(ビニルアルコール-コ-酢酸ビニル)、ポリ(2-ヒドロキシプロピオン酸エテニルエステル-コ-酢酸ビニル)、ポリ(スチレン-コ-(2-ヒドロキシプロピオン酸エテニルエステル))、等が挙げられる。
高分子化合物(A)、及び/又は(B)は、下記式(4)で表される繰り返し単位を含んでいてもよい。
R10、R11、及びR12は、互いに異なっていてもよく、水素原子、フッ素原子、又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
R13は、塩素原子、フッ素原子、臭素原子、ヨウ素原子、又は炭素原子数1~20の1価の有機基を表す。
Rdは、炭素原子数1~20の2価の有機基、-O-で表される基、-CO-で表される基、-COO-で表される基、-NHCO-で表される基、又は-NHCOO-で表される基を表す。これらの-O-で表される基、-CO-で表される基、-COO-で表される基、-NHCO-で表される基、及び-NHCOO-で表される基の2つの結合手は、どちらが、R10が結合する炭素原子側に位置していてもよい。Rdで表される2価の有機基中の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
n1は、0~5の整数を表す。
n2は、0~6の整数を表す。
Rdが複数個ある場合、それらは互いに異なっていてもよい。
R13が複数個ある場合、それらは互いに異なっていてもよい。
*は、結合位置を表す。)
スチレン、2,4-ジメチル-α-メチルスチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、2,5-ジメチルスチレン、2,6-ジメチルスチレン、3,4-ジメチルスチレン、3,5-ジメチルスチレン、2,4,6-トリメチルスチレン、2,4,5-トリメチルスチレン、ペンタメチルスチレン、o-エチルスチレン、m-エチルスチレン、p-エチルスチレン、o-クロロスチレン、m-クロロスチレン、p-クロロスチレン、o-ブロモスチレン、m-ブロモスチレン、p-ブロモスチレン、o-メトキシスチレン、m-メトキシスチレン、p-メトキシスチレン、2-ビニルビフェニル、3-ビニルビフェニル、4-ビニルビフェニル、4-ビニル-p-ターフェニル、α-メチルスチレン、o-イソプロペニルトルエン、m-イソプロペニルトルエン、p-イソプロペニルトルエン、2,4-ジメチル-α-メチルスチレン、2,3-ジメチル-α-メチルスチレン、3,5-ジメチル-α-メチルスチレン、p-イソプロピル-α-メチルスチレン、α-エチルスチレン、α-クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、ジイソプロピルベンゼン、4-(メトキシメトキシ)スチレン、4-(メトキシエトキシメチルオキシ)スチレン、4-(1-エトキシエチルオキシ)スチレン、2-(メトキシメトキシカルボニル)スチレン、2-(メトキシエトキシメチルオキシカルボニル)スチレン、2-(1-エトキシエチルオキシカルボニル)スチレン、2-(テトラヒドロピラニルオキシカルボニル)スチレン、3-(メトキシメトキシカルボニル)スチレン、3-(メトキシエトキシメチルオキシカルボニル)スチレン、3-(1-エトキシエチルオキシカルボニル)スチレン、3-(テトラヒドロピラニルオキシカルボニル)スチレン、4-(メトキシメトキシカルボニル)スチレン、4-(メトキシエトキシメチルオキシカルボニル)スチレン、4-(1-エトキシエチルオキシカルボニル)スチレン、4-(テトラヒドロピラニルオキシカルボニル)スチレン、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、2-トリフルオロメチルスチレン、3-トリフルオロメチルスチレン、4-トリフルオロメチルスチレン、2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン、2-フルオロスチレン、3-フルオロスチレン、4-フルオロスチレン、2-フルオロ-α―メチルスチレン、3-フルオロ-α―メチルスチレン、4-フルオロ-α―メチルスチレン、4-フルオロ-β―メチルスチレン、4-トリフルオロメチル-α―メチルスチレン、4-フルオロ-2,6-ジメチルスチレン、
アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、N-フェニルアクリルアミド、N-フェニルメタクリルアミド、安息香酸ビニル、安息香酸アリル、
2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルアクリレート、2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート、2-フルオロベンジルアクリレート、2-フルオロベンジルメタクリレート、3-フルオロベンジルアクリレート、3-フルオロベンジルメタクリレート、4-フルオロベンジルアクリレート、4-フルオロベンジルメタクリレート、4-トリフルオロメチルベンジルアクリレート、4-トリフルオロメチルベンジルメタクリレート、3-(4-フルオロフェニル)-1-プロペン、3-ペンタフルオロフェニル-1-プロペン、3-(4―トリフルオロメチルフェニル)-1-プロペン、(4-フルオロフェニル)アクリレート、(4-フルオロフェニル)メタクリレート、ペンタフルオロフェニルアクリレート、ペンタフルオロフェニルメタクリレート、2-(ペンタフルオロフェニル)エチルアクリレート、2-(ペンタフルオロフェニル)エチルメタクリレート、2-(4-フルオロフェニル)エチルアクリレート、2-(4-フルオロフェニル)エチルメタクリレート、N-(4-フルオロフェニル)アクリルアミド、N-(4-フルオロフェニル)メタクリルアミド、N-(ペンタフルオロフェニル)アクリルアミド、N-(ペンタフルオロフェニル)メタクリルアミド等が挙げられる。
高分子化合物(A)は、式(1)で表される繰り返し単位と、他の繰り返し単位とを有する高分子化合物であってもよく、
式(1)で表される繰り返し単位と、式(4)で表される繰り返し単位と、他の繰り返し単位とを有する高分子化合物であってもよい。
高分子化合物(B)は、式(2)で表される繰り返し単位と、他の繰り返し単位とを有する高分子化合物であってもよく、
式(2)で表される繰り返し単位と、式(4)で表される繰り返し単位と、他の繰り返し単位とを有する高分子化合物であってもよい。
ここで、他の繰り返し単位とは、
式(1)で表される繰り返し単位、式(2)で表される繰り返し単位、又は式(4)で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を意味する。
他の繰り返し単位の材料となるモノマーとしては、メタクリル酸エステル及びその誘導体、アクリル酸エステル及びその誘導体のような柔軟性を付与することができるモノマーを用いることが好ましい。
アクリル酸エステル及びその誘導体としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸-n-プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸-n-ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸-sec-ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸-2-エチルヘキシル、アクリル酸デシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸シクロヘキシル、2-シアノエチルアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、1,4-ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、2,2,2-トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルアクリレート、1,1,1,2,2,2-ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート、2-(パーフルオロブチル)エチルアクリレート、2-(パーフルオロヘキシル)エチルアクリレート、2-(パーフルオロオクチル)エチルアクリレート、2-(パーフルオロデシル)エチルアクリレート、2-(パーフルオロ-3-メチルブチル)エチルアクリレート、2-(パーフルオロ-5-メチルヘキシル)エチルアクリレート、2-(パーフルオロ-7-メチルオクチル)エチルアクリレート、1H、1H、3H-テトラフルオロプロピルアクリレート、1H、1H、5H-オクタフルオロペンチルアクリレート、1H、1H、7H-ドデカフルオロヘプチルアクリレート、1H、1H、9H-ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、1H-1-(トリフルオロメチル)トリフルオロエチルアクリレート、1H、1H、3H-ヘキサフルオロブチルアクリレート等を挙げることができる。
メタクリル酸エステル及びその誘導体としては、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸-n-プロピル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸-n-ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸-sec-ブチル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸-2-エチルヘキシル、メタクリル酸デシル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸シクロヘキシル、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、1,4-ブタンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールペンタメタクリレート、2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルメタクリレート、1,1,1,2,2,2-ヘキサフルオロイソプロピルメタクリレート、2-(パーフルオロブチル)エチルメタクリレート、2-(パーフルオロヘキシル)エチルメタクリレート、2-(パーフルオロオクチル)エチルメタクリレート、2-(パーフルオロデシル)エチルメタクリレート、2-(パーフルオロ-3-メチルブチル)エチルメタクリレート、2-(パーフルオロ-5-メチルヘキシル)エチルメタクリレート、2-(パーフルオロ-7-メチルオクチル)エチルメタクリレート、1H、1H、3H-テトラフルオロプロピルメタクリレート、1H、1H、5H-オクタフルオロペンチルメタクリレート、1H、1H、7H-ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、1H、1H、9H-ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、1H-1-(トリフルオロメチル)トリフルオロエチルメタクリレート、1H、1H、3H-ヘキサフルオロブチルメタクリレート等が挙げられる。
が挙げられる。
(3)
(式(3)中、
R9は、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、又は炭素原子数2~20の下記式(6)で表される基を表す。該アルキル基、シクロアルキル基、又は下記式(6)で表される基中の水素原子は、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、又はフッ素原子で置換されていてもよい。)
(式(6)中、
R15は、炭素原子数1~6の2価の直鎖状脂肪族炭化水素基を表し、
R16は、炭素原子数1~19の1価の直鎖状脂肪族炭化水素基を表し、
qは、1~19の整数を表す。
ただし、R15、R16、及びqは、全体の炭素原子数が2~20になるように調整される。)
メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-メチルー1-プロパノール、2-ブタノール、2-メチルー2-プロパノール、
1-ペンタノール、3-メチルー1-ブタノール、2-メチルー1-ブタノール、2,2-ジメチルー1-プロパノール、2-ペンタノール、3-メチル―2-ブタノール、3-ペンタノール、2-メチルー2-ブタノール、
1-ヘキサノール、2-ヘキサノール、1-ヘプタノール、1-オクタノール、1-ノナノール、1-デカノール、1-ウンデカノール、1-ドデカノール、1-テトラデカノール、1-オクタデカノール、シクロペンチルメタノール、シクロヘキシルメタノール、ベンジルアルコール、2-フェニルエタノール、3-フェニルプロパノール、メトキシエタノール、2-エトキシエタノール、2-プロポキシエタノール、2-ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、1-エトキシ-2-プロパノール、1-プロポキシ-2-プロパノール、1-ブトキシ-2-プロパノール、
2,2,3,3-テトラフルオロ-1-プロパノール、1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、1H,1H,3H-ヘキサフルオロブタノール、1H,1H,5H-オクタフルオロペンタノール、及び1H,1H,7H-ドデカフルオロへプタノール、ペンタフルオロベンジルアルコール
等が挙げられる。
本発明の組成物は、さらに、混合や粘度調節のための溶媒、高分子化合物を架橋させる際に架橋剤と組み合わせて通常用いられる添加剤などを含んでいてもよい。
添加剤としては、架橋反応を促進するための触媒、レベリング剤、粘度調節剤などを用いることができる。
本発明の組成物は、高分子化合物(A)と、高分子化合物(B)と、式(3)で表される化合物とを混合することによって製造することができる。
組成物の製造方法は、例えば、
(M1) 式(3)で表される化合物と、高分子化合物(A)とを混合する工程と、
得られた混合物と、高分子化合物(B)とを混合する工程とを含む製造方法であってもよいし、
(M2) 式(3)で表される化合物と、高分子化合物(B)とを混合する工程と、
得られた混合物と、高分子化合物(A)とを混合する工程とを含む製造方法であってもよいし、
(M3) 高分子化合物(A)と高分子化合物(B)とを混合する工程と、
得られた混合物と、式(3)で表される化合物とを混合する工程とを含む製造歩法であってもよい。
組成物の製造方法としては、混合工程時の組成物の安定性の観点から(M1)又は(M2)の製造方法であることが好ましい。(M1)の製造方法によって、式(3)で表される化合物と高分子化合物(A)との混合物と、高分子化合物(B)とを含む組成物を得ることができる。(M2)の製造方法によって、式(3)で表される化合物と高分子化合物(B)との混合物と、高分子化合物(A)とを含む組成物を得ることができる。
高分子化合物(A)は、例えば、上述の式(1)で表される繰り返し単位の原料となるモノマー(重合性モノマー)を、光重合開始剤又は熱重合開始剤を用いて重合させる方法により製造することができる。
高分子化合物(A)が、さらに式(4)で表される繰り返し単位、及びその他の繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種を有する場合、式(1)で表される繰り返し単位の原料となるモノマーと、式(4)で表される繰り返し単位の原料となるモノマー、及びその他の繰り返し単位の原料となるモノマーからなる群より選ばれる少なくとも1種のモノマーとを、光重合開始剤又は熱重合開始剤を用いて共重合させる方法により製造することができる。
メチルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロチオキサントン、2-メチルチオキサントン、及び2-イソプロピルチオキサントン等のアントラキノン又はチオキサントン誘導体、並びに
ジフェニルジスルフィド、及びジチオカーバメート等の硫黄化合物が挙げられる。
メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド等のケトンパーオキシド、
イソブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、2,4-ジクロロベンゾイルパーオキシド、o-メチルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、及びp-クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド、
2,4,4-トリメチルペンチル-2-ヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、tert-ブチルパーオキシド等のヒドロパーオキシド、ジクミルパーオキシド、tert-ブチルクミルパーオキシド、ジ-tert-ブチルパーオキシド、及びトリス(tert-ブチルパーオキシ)トリアジン等のジアルキルパーオキシド、
1,1-ジ-tert-ブチルパーオキシシクロヘキサン、及び2,2-ジ(tert-ブチルパーオキシ)ブタン等のパーオキシケタール、
tert-ブチルパーオキシピバレート、tert-ブチルパーオキシ-2-エチルヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシイソブチレート、ジ-tert-ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ジ-tert-ブチルパーオキシアゼレート、tert-ブチルパーオキシ-3,5,5-トリメチルヘキサノエート、tert-ブチルパーオキシアセテート、tert-ブチルパーオキシベンゾエート、及びジ-tert-ブチルパーオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエステル、並びに
ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ-sec-ブチルパーオキシジカーボネート、及びtert-ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーカーボネートが挙げられる。
高分子化合物(B)は、例えば、上述の式(2)で表される繰り返し単位の原料となるモノマー(重合性モノマー)を光重合開始剤もしくは熱重合開始剤を用いて重合させる方法により製造することができる。
高分子化合物(B)が、式(2)で表される繰り返し単位と、式(4)で表される繰り返し単位、及びその他の繰り返し単位からなる群より選ばれる少なくとも1種とを有する場合、式(2)で表される繰り返し単位の原料となるモノマーと、式(4)で表される繰り返し単位の原料となるモノマー、及び他の繰り返し単位の原料となるモノマーからなる群より選ばれる少なくとも1種のモノマーとを、光重合開始剤又は熱重合開始剤を用いて共重合させる方法により製造することができる。
本発明の組成物を用いて、硬化膜を製造することができる。該硬化膜は、
既に説明した本発明の組成物を、例えば形成対象である基材の表面に塗布して塗布層を形成する工程と、
塗布層を硬化する工程とを含む製造方法により形成することができる。
本発明の組成物に、有機溶媒を添加して塗布液を得る工程と、
塗布液を基材の表面に塗布して塗布層を形成する工程と、
塗布層を硬化させる工程とを含む製造方法であってもよい。
好適な有機溶媒の例としては、2-ヘプタノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロペンタノン等が挙げられる。
塗布液には、必要に応じてレベリング剤、界面活性剤、硬化触媒等を含ませることができる。
塗布層を加熱する場合は、通常、1分以上120分以下で加熱するが、10分以上60分以下で加熱することが好ましい。形成される絶縁層の架橋性及び絶縁性が優れるため、塗布膜の加熱温度は、80℃以上250℃以下であることが好ましく、100℃以上230℃以下であることがより好ましい。
塗布層を乾燥させる工程は、塗布法により基材上に形成された塗布層中の溶媒を除去することを目的としている。乾燥させる工程は、例えば、ヒーター及びオーブンなどで加熱することで行うことができる。
塗布層を加熱する場合は、通常、1分以上120分以下で加熱するが、2分以上60分以下で加熱することが好ましい。加熱温度は、40℃以上250℃以下であることが好ましく、60℃以上230℃以下であることがより好ましい。
上述の硬化膜を含む電子デバイスについて説明する。本発明の組成物は、低温で硬化する高分子化合物を用いて硬化させることができるため、本発明の組成物を用いた硬化膜は、有機薄膜トランジスタ、有機LED、センサーなどの種々の電子デバイスに用いることができる。
本発明の組成物を用いた硬化膜を含む電子デバイスとしては、有機薄膜トランジスタが好適である。有機薄膜トランジスタは、当該硬化膜を、有機薄膜トランジスタのゲート絶縁層として含むことが好適である。
有機薄膜トランジスタは、例えば、本発明の組成物を硬化した膜であるゲート絶縁層に加え、さらに本発明の組成物を硬化した膜をオーバーコート層として備えていてもよい。
以下、本発明の硬化膜を好適に適用できる有機薄膜トランジスタについて説明する。
有機薄膜トランジスタは、上述の硬化膜をゲート絶縁層として含む。
有機薄膜トランジスタは、ボトムゲートトップコンタクト型(第一実施形態)であってもよいし、ボトムゲートボトムコンタクト型(第二実施形態)であってもよいし、トップゲートボトムコンタクト型(第三実施形態)であってもよい。
以下、図面を参照して、本発明の組成物の好適な適用先である有機薄膜トランジスタの実施形態について説明する。
図1に示されるように、第1実施形態の有機薄膜トランジスタ10は、基板1と、基板1の主表面に接合するように設けられたゲート電極2と、ゲート電極2を覆うように基板1に設けられたゲート絶縁層3と、ゲート絶縁層3に接合しており、ゲート電極2の直上を覆うように設けられた有機半導体層4と、有機半導体層4に接合するように設けられ、チャネル領域を挟み、かつ基板1の厚さ方向にみたときに(平面視で)チャネル領域がゲート電極2と重なるように互いに離間させて設けられたソース電極5及びドレイン電極6と、基板1に設けられたゲート電極2、ゲート絶縁層3、有機半導体層4、ソース電極5及びドレイン電極6を覆うように設けられたオーバーコート層7とを備えている。
図2に示されるように、第2実施形態の有機薄膜トランジスタ10は、基板1と、基板1の主表面に接合するように設けられたゲート電極2と、ゲート電極2を覆うように基板1に設けられたゲート絶縁層3と、ゲート絶縁層3に接合しており、チャネル領域を挟み、かつ基板1の厚さ方向にみたときに(平面視で)チャネル領域がゲート電極2と重なるように互いに離間させて設けられたソース電極5及びドレイン電極6と、ソース電極5及びドレイン電極6にまたがるように、かつソース電極5及びドレイン電極6及びチャネル領域を含むゲート絶縁層3上に設けられた有機半導体層4と、基板1に設けられたゲート電極2、ゲート絶縁層3、有機半導体層4、ソース電極5及びドレイン電極6を覆うように設けられたオーバーコート層7とを備えている。
図3に示されるように、第3実施形態の有機薄膜トランジスタ10は、基板1と、基板1上にソース電極5及びドレイン電極6と、基板1上にソース電極5及びドレイン電極6をまたがるように形成された有機半導体層4と、有機半導体層4上に形成されたゲート絶縁層3と、ゲート絶縁層3上に形成されたゲート電極2と、基板1に設けられたソース電極5、ドレイン電極6、有機半導体層4、ゲート絶縁層3及びゲート電極2を覆うオーバーコート層7とを備えている。
第1実施形態のボトムゲートトップコンタクト型の有機薄膜トランジスタ10は、例えば、基板1の主表面にゲート電極2を形成し、ゲート電極2を覆うようにゲート電極2が設けられた基板1の表面にゲート絶縁層3を形成し、ゲート絶縁層3上に有機半導体層4を形成し、有機半導体層4に接合するようにソース電極5及びドレイン電極6を形成し、さらに要すれば、基板1に設けられたゲート電極2、ゲート絶縁層3、有機半導体層4、ソース電極5及びドレイン電極6を覆うようにオーバーコート層7を形成することで製造することができる。
自己組織化単分子層を形成するためのアルキルアルコキシシラン化合物としては、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
また、図示されていないアンダーコート層についてもオーバーコート層7と同様にして形成することができる。
本発明の組成物を用いて製造した有機薄膜トランジスタを用いて、有機薄膜トランジスタを含むディスプレイ用部材を製造することができる。また該有機薄膜トランジスタを含むディスプレイ用部材を用いて、ディスプレイ用部材を備えるディスプレイを製造することができる。
有機薄膜トランジスタは、チャネル領域及び/又はゲート絶縁層に、標的物質と特異的に相互作用するプローブ(感応性領域)を有している。標的物質の濃度が変化すると、プローブの電気的特性が変化することにより、バイオセンサとして機能させることができる。
実施例において、保存安定性は、組成物の製造後、室温条件下における2か月後、5か月後、又は7か月後の状態を目視することによって評価し、組成物のゲル化が確認されたときは、その時点で評価を終了した。
後述する高分子化合物Cの数平均分子量及び重量平均分子量は、ゲル透過クロマトグラフィ(GPC、Waters社製、商品名:Alliance GPC 2000)を用いて求めた。測定される高分子化合物Cは、オルトジクロロベンゼンに溶解させ、GPCに注入した。GPCの移動相にはオルトジクロロベンゼンを用いた。カラムは、「TSKgel GMHHR-H(S)HT(2本連結、東ソー社製)」を用いた。検出器にはUV検出器を用いた。
下記のスキームに沿って、高分子化合物Cを合成した。
反応容器内の気体を窒素ガスで置換した後に、下記式B-1で表される化合物B-1(286.8mg、0.200mmol)、下記式B-2で表される化合物B-2(77.6mg、0.200mmol)、テトラヒドロフランを19mL、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウムを7.3mg、トリ-tert-ブチルホスホニウムテトラフルオロボレートを9.3mg加えて、撹拌した。得られた反応溶液に、3mol/Lのリン酸カリウム水溶液を1.0mL滴下し、3時間還流させた。得られた反応溶液に、フェニルボロン酸を24.4mg加えて、1時間還流させた。得られた反応溶液に、N,N-ジエチルジチオカルバミド酸ナトリウム三水和物を0.1g加えて、3時間還流させた。
得られた反応溶液を水に注ぎ、トルエンを加え、トルエン層を抽出した。得られたトルエン溶液を、酢酸水溶液及び水で洗浄した後、シリカゲルカラムを用いて精製した。得られたトルエン溶液をアセトンに滴下したところ、析出物が得られた。得られた析出物を、アセトンを溶媒として用いてソックスレー洗浄し、下記式で表される繰り返し単位を含む高分子化合物Cを得た。高分子化合物Cの得量は244mgであり、ポリスチレン換算の数平均分子量は3.1×104であり、重量平均分子量は6.5×104であった。
ベンジルメタクリレート(東京化成社製)7.61g、2-〔ビス(エトキシカルボニル)メチル]カルボニルアミノ〕-エチルメタクリレート(昭和電工社製、商品名「カレンズMOI-DEM」)1.51g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.063g、2-ヘプタノン(東京化成社製)21.44gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で18時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(1)のポリスチレン換算の数平均分子量は2.5×104であり、重量平均分子量は1.0×105であった。
スチレン(純正化学社製)4.19g、2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン(アルドリッチ社製)3.90g、2-〔ビス(エトキシカルボニル)メチル]カルボニルアミノ〕-エチルメタクリレート(昭和電工社製、商品名「カレンズMOI-DEM」)2.11g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.051g、2-ヘプタノン(東京化成社製)10.25gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で15時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(2)のポリスチレン換算の数平均分子量は4.2×104であり、重量平均分子量は9.6×104であった。
2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン(アルドリッチ社製)8.60g、2-〔ビス(エトキシカルボニル)メチル]カルボニルアミノ〕-エチルメタクリレート(昭和電工社製、商品名「カレンズMOI-DEM」)1.55g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.051g、2-ヘプタノン(東京化成社製)10.16gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で15時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(3)のポリスチレン換算の数平均分子量は3.6×104であり、重量平均分子量は7.5×104であった。
スチレン(純正化学社製)7.50g、2-〔ビス(エトキシカルボニル)メチル]カルボニルアミノ〕-エチルメタクリレート(昭和電工社製、商品名「カレンズMOI-DEM」)2.52g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.050g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(東京化成社製)15.11gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で16時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(4)のポリスチレン換算の数平均分子量は3.8×104であり、重量平均分子量は7.3×104であった。
メタクリル酸メチル(和光純薬社製)6.76g、2-〔ビス(エトキシカルボニル)メチル]カルボニルアミノ〕-エチルメタクリレート(昭和電工社製、商品名「カレンズMOI-DEM」)2.37g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.099g、2-ヘプタノン(東京化成社製)21.52gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で18時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(5)のポリスチレン換算の数平均分子量は2.0×104であり、重量平均分子量は7.4×104であった。
2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート(シンクエスト・ラボラトリーズ社製)8.15g、2-〔ビス(エトキシカルボニル)メチル]カルボニルアミノ〕-エチルメタクリレート(昭和電工社製、商品名「カレンズMOI-DEM」)1.07g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.045g、2-ヘプタノン(東京化成社製)21.61gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で18時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(6)のポリスチレン換算の数平均分子量は2.7×104であり、重量平均分子量は1.2×105であった。
2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート(東京化成社製)6.81g、2-〔ビス(エトキシカルボニル)メチル]カルボニルアミノ〕-エチルメタクリレート(昭和電工社製、商品名「カレンズMOI-DEM」)1.42g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.059g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(東京化成社製)19.34gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で18時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(7)のポリスチレン換算の数平均分子量は3.2×104であり、重量平均分子量は8.7×104であった。
ベンジルメタクリレート(東京化成社製)8.25g、4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製)1.00g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.068g、2-ヘプタノン(東京化成社製)21.73gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で18時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(8)のポリスチレン換算の数平均分子量は2.8×104であり、重量平均分子量は1.0×105であった。
スチレン(純正化学社製)4.69g、2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン(アルドリッチ社製)4.37g、4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製)1.08g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.051g、2-ヘプタノン(東京化成社製)10.19gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で15時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(9)のポリスチレン換算の数平均分子量は5.0×104であり、重量平均分子量は1.1×105であった。
2,3,4,5,6-ペンタフルオロスチレン(アルドリッチ社製)9.26g、4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製)0.76g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.050g、2-ヘプタノン(東京化成社製)10.07gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で15時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(10)のポリスチレン換算の数平均分子量は3.9×104であり、重量平均分子量は7.4×104であった。
スチレン(純正化学社製)9.37g、2-ヒドロキシエチルメタクリレート(東京化成製社製)1.30g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.053g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(東京化成社製)16.09gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で16時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(11)のポリスチレン換算の数平均分子量は3.3×104であり、重量平均分子量は6.2×104であった。
スチレン(純正化学社製)9.37g、4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製)1.44g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.054g、シクロペンタノール(東京化成社製)16.30gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で16時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(12)のポリスチレン換算の数平均分子量は5.4×104であり、重量平均分子量は1.3×105であった。
スチレン(純正化学社製)12.19g、4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製)1.87g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.070g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(東京化成社製)14.13gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で16時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(13)のポリスチレン換算の数平均分子量は3.9×104であり、重量平均分子量は8.6×104であった。
メタクリル酸メチル(和光純薬社製)7.75g、4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製)1.24g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.113g、2-ヘプタノン(東京化成社製)21.24gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で18時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(14)のポリスチレン換算の数平均分子量は1.9×104であり、重量平均分子量は5.5×104であった。
2,3,4,5,6-ペンタフルオロベンジルメタクリレート(シンクエスト・ラボラトリーズ社製)8.62g、4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製)0.52g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.049g、2-ヘプタノン(東京化成社製)21.44gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で18時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(15)のポリスチレン換算の数平均分子量は3.0×104であり、重量平均分子量は9.9×104であった。
ベンジルメタクリレート(東京化成社製)8.41g、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート(東京化成社製)0.76g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.070g、2-ヘプタノン(東京化成社製)21.57gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で18時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(16)のポリスチレン換算の数平均分子量は2.3×104であり、重量平均分子量は9.7×104であった。
2,2,2-トリフルオロエチルメタクリレート(東京化成社製)7.57g、4-ヒドロキシブチルアクリレート(日本化成社製)0.72g、2,2’-アゾビス(2-メチルプロピオニトリル)0.066g、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(東京化成社製)19.49gを、50mL耐圧容器(ACE GLASS社製)に入れ、窒素ガスでバブリングした後、密栓し、70℃のオイルバス中で18時間重合させて共重合体溶液を得た。高分子化合物(17)のポリスチレン換算の数平均分子量は2.2×104であり、重量平均分子量は6.9×104であった。
合成例2-1で得た高分子化合物(1)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びシクロペンタノール0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-8で得た高分子化合物(8)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて攪拌して均一な溶液とした。室温にて2か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-1で得た高分子化合物(1)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びメタノール0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-8で得た高分子化合物(8)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて2か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-1で得た高分子化合物(1)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びエトキシエタノール0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-8で得た高分子化合物(8)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて2か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-1で得た高分子化合物(1)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及び2-ヘプタノン0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-8で得た高分子化合物(8)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて撹拌することで、均一な溶液とした。室温にて3日間放置したところゲル化してしまった。
合成例2-1で得た高分子化合物(1)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びマロン酸ジエチル0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-8で得た高分子化合物(8)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて撹拌することで、均一な溶液とした。室温にて3日間放置したところゲル化してしまった。
合成例2-1で得た高分子化合物(1)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びエチレングリコール0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌した後、合成例2-8で得た高分子化合物(8)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて攪拌したところ、均一な溶液とならなかった。
合成例2-2で得た高分子化合物(2)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びメタノール0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-9で得た高分子化合物(9)の2-ヘプタノン溶液0.88gを入れて撹拌することで攪均一な溶液とした。室温にて5か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-2で得た高分子化合物(2)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びPGMEA0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-9で得た高分子化合物(9)の2-ヘプタノン溶液0.88gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて3日間放置したところゲル化してしまった。
合成例2-3で得た高分子化合物(3)の2-ヘプタノン溶液1.50g、及びメタノール0.92gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-10で得た高分子化合物(10)の2-ヘプタノン溶液0.69gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて5か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-3で得た高分子化合物(3)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びトルエン0.61gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-10で得た高分子化合物(10)の2-ヘプタノン溶液0.69gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて3日間放置したところゲル化してしまった。
合成例2-4で得た高分子化合物(4)のPGMEA溶液1.50g、及びシクロペンタノール0.48gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-11で得た高分子化合物(11)のPGMEA溶液0.80gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて7か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-4で得た高分子化合物(4)のPGMEA溶液1.50g、及びPGMEA0.48gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-11で得た高分子化合物(11)のPGMEA溶液0.80gを入れて撹拌することで攪均一な溶液とした。室温にて4日間放置したところゲル化してしまった。
合成例2-4で得た高分子化合物(4)のPGMEA溶液1.50g、及びシクロペンタノール0.91gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-12で得た高分子化合物(12)のシクロペンタノール溶液1.08gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて7か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-4で得た高分子化合物(4)のPGMEA溶液1.50g、及びシクロペンタノール0.91gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-13で得た高分子化合物(13)のPGMEA溶液1.08gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて7か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-4で得た高分子化合物(4)のPGMEA溶液1.50g、及びPGMEA0.91gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-13で得た高分子化合物(13)のPGMEA溶液1.08gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて4日間放置したところゲル化してしまった。
合成例2-5で得た高分子化合物(5)の2-ヘプタノン溶液0.71g、及びシクロペンタノール0.42gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-14で得た高分子化合物(14)の2-ヘプタノン溶液1.38gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて2か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-5で得た高分子化合物(5)の2-ヘプタノン溶液0.71g、及び2-ヘプタノン0.42gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-14で得た高分子化合物(14)の2-ヘプタノン溶液1.38gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて4日間放置したところゲル化してしまった。
合成例2-6で得た高分子化合物(6)の2-ヘプタノン溶液2.00g、及びシクロペンタノール0.78gを10mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-15で得た高分子化合物(15)の2-ヘプタノン溶液1.87gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて2か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-6で得た高分子化合物(6)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及び2-ヘプタノン0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-15で得た高分子化合物(15)の2-ヘプタノン溶液0.94gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて8日間放置したところゲル化してしまった。
合成例2-5で得た高分子化合物(5)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びベンジルアルコール0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-16で得た高分子化合物(16)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて撹拌することで攪拌して溶解させることにより均一な溶液とした。室温にて2か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-5で得た高分子化合物(5)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及び2-ヘプタノン0.38gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-16で得た高分子化合物(16)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて7日間放置したところゲル化してしまった。
合成例2-7で得た高分子化合物(7)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及びシクロペンタノール0.95gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-17で得た高分子化合物(17)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて2か月間放置してもゲル化しなかった。
合成例2-7で得た高分子化合物(7)の2-ヘプタノン溶液1.00g、及び2-ヘプタノン0.95gを5mLのサンプル瓶に入れ、撹拌して均一な溶液とした後、合成例2-17で得た高分子化合物(17)の2-ヘプタノン溶液0.91gを入れて撹拌することで均一な溶液とした。室温にて3日間放置したところゲル化してしまった。
実施例5で得られた溶液を、クロム電極の付いたガラス基板上にスピンコートした。その後、ホットプレート上で130℃、30分間乾燥させることで、膜厚600nmの絶縁層を得た。
MIN素子の電気特性を評価することで、絶縁層用組成物としての評価をおこなった。
リーク電流が1×10-9A/cm2となる電界強度の値は>3.0MV/cmであった。
実施例5で得られた溶液を用いて、トップゲートボトムコンタクト型の有機薄膜トランジスタ(1)を製造した以下に具体的に説明する。
次に、ガラス基板上に、スパッタリング法により、基板側からクロム、金の順で積層し、フォトリソグラフィによりパターニングすることで、ソース電極、及びドレイン電極を形成した。このときのソース電極、及びドレイン電極のチャネル長は10μm、チャンネル幅は2mmとした。その後、パーフルオロベンゼンチオールのイソプロピルアルコール希釈液に、ガラス基板を2分間浸漬することにより、ガラス基板上に形成した電極(特に金)の表面を修飾した。
具体的には、真空プロ-バ(BCT22MDC-5-HT-SCU;Nagase Electronic Equipments Service Co.,LTD製)を用いて、有機薄膜トランジスタ(1)のゲート電極に電圧を印加してゲート電圧Vgを20V~-40Vに変化させ、ソース・ドレイン間電圧Vsdを0V~-40Vに変化させる条件で、キャリア移動度を測定した。
有機薄膜トランジスタ(1)のキャリア移動度は、0.41cm2/Vsであった。
2…ゲート電極、
3…ゲート絶縁層、
4…有機半導体層、
5…ソース電極、
6…ドレイン電極、
7…オーバーコート層
10…有機薄膜トランジスタ。
Claims (5)
- 下記式(1)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物(A)と、
下記式(2)で表される繰り返し単位を有する高分子化合物(B)と、
下記式(3)で表される化合物と
を含有する組成物。
(1)
(式(1)中、
R1 は水素原子又はメチル基を表し、R2及びR3 は水素原子を表す。
R4及びR5は、互いに異なっていてもよく、メチル基、又はエチル基を表す。
R aは、エチレン基を表す。
Xは、酸素原子を表す。
lは、1の整数を表す。
*は、結合位置を表す。)
(2)
(式(2)中、
R6 は水素原子又はメチル基、R7及びR8 は水素原子を表す。
Rbは、-COO-で表される基を表す。
R cは、エチレン基、n-プロピレン基、イソプロピレン基、又はn-ブチレン基を表す。
mは、1の整数を表す。
*は、結合位置を表す。)
(3)
(式(3)中、
R9は、炭素原子数1~20のアルキル基、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、又は炭素原子数2~20の下記式(6)で表される基を表す。該アルキル基、シクロアルキル基、又は下記式(6)で表される基中の水素原子は、炭素原子数3~20のシクロアルキル基、炭素原子数1~20のアルコキシ基、炭素原子数3~20のシクロアルコキシ基、炭素原子数6~20の1価の芳香族炭化水素基、又はフッ素原子で置換されていてもよい。)
(式(6)中、
R15は、炭素原子数1~6の2価の直鎖状脂肪族炭化水素基を表し、
R16は、炭素原子数1~19の1価の直鎖状脂肪族炭化水素基を表し、
qは、1~19の整数を表す。
ただし、R15、R16、及びqは、全体の炭素原子数が2~20になるように調整される。) - 組成物に含まれる前記式(3)で表される化合物が、1質量%以上90質量%以下である、請求項1又は2に記載の組成物。
- 請求項1~3のいずれか1項に記載の組成物からなる電子デバイスの絶縁層用組成物。
- 請求項1~3のいずれか1項に記載の組成物からなる有機薄膜トランジスタの絶縁層用組成物。
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