JP7213315B2 - 眼科装置、及びその制御方法 - Google Patents

Description

この発明は、眼科装置、及びその制御方法に関する。

眼科装置として、被検眼の眼屈折力の測定が可能なものが知られている。例えば、特許文献１には、被検眼の眼底に測定パターンを投射し、眼底からの反射光を瞳孔の中心部から取り出し、取得されたパターン像の大きさや変形の度合いから眼屈折力値を算出する眼科装置が開示されている。

このような眼科装置では、被検眼の調節力に応じた合焦部の移動量を事前に決定する目的で仮測定が実行される。例えば、特許文献２には、仮測定により得られた合焦部の移動量に基づいて、測定パターン像が被検眼の眼底で略合焦状態となるように合焦部を移動し、更に被検眼を雲霧視させた後に、本測定を実施することにより被検眼の正確な眼屈折力を測定する眼科装置が開示されている。

特開２０１６－１８７４６１号公報 特開２００７－１５９８５０号公報

被検眼の眼底に投射されるパターン像の線幅が太い場合、仮測定により求められた合焦部の移動量に基づいて合焦部を移動しても、移動前後におけるセンサ上でのパターン像の明るさ（照度）の変化は小さい。従って、仮測定により決定された測定条件の下で本測定を実行した場合、測定精度が問題にならない。

一方、眼底に投射されるパターン像の線幅を細く、かつ輝度を高くすると、得られるパターン像のエッジ部分が急峻となるため測定光束の眼内でのケラレなどの影響を受けにくくなる。このことから、白内障眼など眼内に混濁のある被検眼に対しても、安定した測定が可能となる。しかしながら、パターン像の線幅が細く、かつ輝度が高い場合、合焦部の移動前後におけるパターン像の明るさの変化が大きくなる。従って、仮測定により決定された測定条件の下で本測定を実行した場合、像の検出に十分なＳ／Ｎ比が得られず、却って測定精度が低下する可能性がある。

本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、その目的は、被検眼の眼屈折力を測定するためのパターン像の線幅が細く、かつ輝度が高い場合でも測定精度の低下を抑えることが可能な眼科装置、及びその制御方法を提供することにある。

実施形態の第１態様は、被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置された光源からの光に基づくパターン光を前記被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光する光学系と、前記撮像素子により得られたパターン像に基づいて前記被検眼の眼屈折力値を算出する解析部と、を含み、前記光学系は、前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、前記光源からの光を前記透光部に導くリングレンズと、を含み、前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射する、眼科装置である。

また、実施形態の第２態様では、第１態様において、前記撮像素子により得られた第１パターン像に基づいて前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも１つを含む第１測定条件を決定し、前記第１測定条件の下で前記撮像素子により得られた第２パターン像に基づいて前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも１つを含む第２測定条件を決定し、前記第２測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させた状態で前記撮像素子により得られた第３パターン像に基づいて前記眼屈折力値を前記解析部に算出させる制御部を含んでよい。

また、実施形態の第３態様では、第２態様において、前記制御部は、前記第１パターン像の輝度が高いとき第１輝度低下制御を実行し、前記第１パターン像の輝度が低いとき第１輝度上昇制御を実行し、前記第２パターン像の輝度が高いとき第２輝度低下制御を実行し、前記第２パターン像の輝度が低いとき第２輝度上昇制御を実行してもよい。

また、実施形態の第４態様では、第３態様において、前記第１輝度低下制御及び前記第２輝度低下制御の少なくとも一方は、パターン像の輝度に基づいて、前記検出感度を下げることによりパターン像の輝度を下げる第１検出感度制御の後に、前記露光時間を短くすることによりパターン像の輝度を下げる第１露光時間制御を行ってもよい。

また、実施形態の第５態様では、第４態様において、前記第１輝度低下制御及び前記第２輝度低下制御の少なくとも一方は、前記第１露光時間制御の後に、前記光量を下げることによりパターン像の輝度を下げる第１光量制御を行ってもよい。

また、実施形態の第６態様では、第４態様又は第５態様において、前記光学系は、前記パターン光の光路に配置されたロータリープリズムを含み、前記第１露光時間制御は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上になるように前記露光時間を短くしてもよい。

また、実施形態の第７態様では、第３態様～第６態様のいずれかにおいて、前記第１輝度上昇制御及び前記第２輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記光量を上げることによりをパターン像の輝度を上げる第２光量制御の後に、前記露光時間を長くすることによりパターン像の輝度を上げる第２露光時間制御を行ってもよい。

また、実施形態の第８態様では、第７態様において、前記第１輝度上昇制御及び前記第２輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記第２露光時間制御の後に、前記検出感度を上げることによりパターン像の輝度を上げる第２検出感度制御を行ってもよい。

また、実施形態の第９態様では、第１態様～第８態様のいずれかにおいて、前記パターン光は、リング状の光であってよい。

実施形態の第１０態様は、被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置され光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、前記光源からの光を前記透光部に導くリングレンズと、を含み、前記透光部を透過した光をパターン光として前記被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光することにより前記被検眼の屈折力を測定する眼科装置の制御方法であって、前記撮像素子により得られた第１パターン像に基づいて、前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも１つを含む第１測定条件を決定する第１測定条件決定ステップと、前記第１測定条件の下で前記撮像素子により得られた第２パターン像に基づいて、前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも１つを含む第２測定条件を決定する第２測定条件決定ステップと、前記第２測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させる雲霧制御ステップと、前記雲霧制御ステップにおいて前記被検眼を雲霧視させた状態で前記屈折力を測定する測定ステップと、を含む眼科装置の制御方法である。

実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の処理系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の処理系の構成例を示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。 実施形態の変形例に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。 実施形態の変形例に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。

この発明に係る眼科装置の実施形態の例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、この明細書において引用された文献の記載内容や任意の公知技術を、以下の実施形態に援用することが可能である。

実施形態に係る眼科装置は、他覚測定と自覚検査とを実行可能である。他覚測定は、被検者からの応答を参照することなく、主に物理的な手法を用いて被検眼に関する情報を取得する測定手法である。

他覚測定には、被検眼の特性を取得するための測定と、被検眼の画像を取得するための撮影とが含まれる。他覚測定には、他覚屈折測定、角膜形状測定、眼圧測定、眼底撮影、光干渉計測等がある。一方、自覚検査は、被検者からの応答を利用して情報を取得する測定手法である。自覚検査には、遠用検査、近用検査、コントラスト検査、グレア検査等の自覚屈折測定や、視野検査などがある。

実施形態に係る眼科装置は、少なくとも他覚屈折力の測定が可能であり、これに加えて任意の自覚検査及びその他の任意の他覚測定が実行可能である。

以下、眼底共役位置は、アライメントが完了した状態での被検眼の眼底と光学的に略共役な位置であり、被検眼の眼底と光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。同様に、瞳孔共役位置は、アライメントが完了した状態での被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置であり、被検眼の瞳孔と光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。

＜光学系の構成＞
図１に、実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。眼科装置１０００は、被検眼Ｅの検査を行うための光学系として、Ｚアライメント系１、ＸＹアライメント系２、ケラト測定系３、視標投影系４、前眼部観察系５、レフ測定投射系６、及びレフ測定受光系７を含む。

（前眼部観察系５）
前眼部観察系５は、被検眼Ｅの前眼部を動画撮影する。前眼部観察系５を経由する光学系において、撮像素子５９の撮像面は瞳孔共役位置Ｑに配置されている。前眼部照明光源５１は、被検眼Ｅの前眼部に照明光（例えば、赤外光）を照射する。被検眼Ｅの前眼部により反射された光は、対物レンズ５２を通過し、ダイクロイックミラー５３を透過し、ハーフミラー５４を透過し、リレーレンズ５５及び５６を通過し、ダイクロイックミラー５７を透過する。ダイクロイックミラー５７を透過した光は、結像レンズ５８により撮像素子５９（エリアセンサ）の撮像面に結像される。撮像素子５９は、所定のレートで撮像及び信号出力を行う。撮像素子５９の出力（映像信号）は、後述の処理部９に入力される。処理部９は、この映像信号に基づく前眼部像を後述の表示部の表示画面に表示させる。前眼部像は、例えば赤外動画像である。

（Ｚアライメント系１）
Ｚアライメント系１は、前眼部観察系５の光軸方向（前後方向、Ｚ方向）におけるアライメントを行うための光（赤外光）を被検眼Ｅに投射する。Ｚアライメント光源１１から出力された光は、被検眼Ｅの角膜に投射され、角膜により反射され、結像レンズ１２によりラインセンサ１３のセンサ面に結像される。角膜頂点の位置が前眼部観察系５の光軸方向に変化すると、ラインセンサ１３のセンサ面における光の投射位置が変化する。処理部９は、ラインセンサ１３のセンサ面における光の投射位置に基づいて被検眼Ｅの角膜頂点の位置を求め、これに基づき光学系を移動させる機構を制御してＺアライメントを実行する。

（ＸＹアライメント系２）
ＸＹアライメント系２は、前眼部観察系５の光軸に直交する方向（左右方向（Ｘ方向）、上下方向（Ｙ方向））のアライメントを行うための光（赤外光）を被検眼Ｅに照射する。ＸＹアライメント系２は、ハーフミラー５４により前眼部観察系５から分岐された光路に設けられたＸＹアライメント光源２１を含む。ＸＹアライメント光源２１から出力された光は、ハーフミラー５４により反射され、前眼部観察系５を通じて被検眼Ｅに投射される。被検眼Ｅの角膜による反射光は、前眼部観察系５を通じて撮像素子５９に導かれる。

この反射光に基づく像（輝点像）は前眼部像に含まれる。処理部９は、輝点像を含む前眼部像とアライメントマークとを表示部の表示画面に表示させる。手動でＸＹアライメントを行う場合、ユーザは、アライメントマーク内に輝点像を誘導するように光学系の移動操作を行う。自動でアライメントを行う場合、処理部９は、アライメントマークに対する輝点像の変位がキャンセルされるように、光学系を移動させる機構を制御する。

（ケラト測定系３）
ケラト測定系３は、被検眼Ｅの角膜の形状を測定するためのリング状光束（赤外光）を角膜に投射する。ケラト板３１は、対物レンズ５２と被検眼Ｅとの間に配置されている。ケラト板３１の背面側（対物レンズ５２側）にはケラトリング光源（図示せず）が設けられている。ケラトリング光源からの光でケラト板３１を照明することにより、被検眼Ｅの角膜にリング状光束が投射される。被検眼Ｅの角膜からの反射光（ケラトリング像）は撮像素子５９により前眼部像とともに検出される。処理部９は、このケラトリング像を基に公知の演算を行うことで、角膜の形状を表す角膜形状パラメータを算出する。

（視標投影系４）
視標投影系４は、固視標や自覚検査用視標等の各種視標を被検眼Ｅに呈示する。光源４１から出力された光（可視光）は、コリメートレンズ４２により平行光束とされ、視標チャート４３に照射される。視標チャート４３は、例えば透過型の液晶パネルを含み、視標を表すパターンを表示する。視標チャート４３を透過した光は、リレーレンズ４４及び４５を通過し、反射ミラー４６により反射され、ダイクロイックミラー６８を透過し、ダイクロイックミラー５３により反射される。ダイクロイックミラー５３により反射された光は、対物レンズ５２を通過して眼底Ｅｆに投射される。光源４１、コリメートレンズ４２及び視標チャート４３は、一体となって光軸方向に移動可能である。

自覚検査を行う場合、処理部９は、他覚測定の結果に基づき光源４１、コリメートレンズ４２及び視標チャート４３を光軸方向に移動させ、視標チャート４３を制御する。処理部９は、検者又は処理部９により選択された視標を視標チャート４３に表示させる。それにより、当該視標が被検者に呈示される。被検者は視標に対する応答を行う。応答内容の入力を受けて、処理部９は、更なる制御や、自覚検査値の算出を行う。例えば、視力測定において、処理部９は、ランドルト環等に対する応答に基づいて、次の視標を選択して呈示し、これを繰り返し行うことで視力値を決定する。

（レフ測定投射系６、レフ測定受光系７）
レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７は他覚屈折測定（レフ測定）に用いられる。レフ測定投射系６は、他覚測定用のリング状光束（赤外光）を眼底Ｅｆに投射する。レフ測定受光系７は、このリング状光束の被検眼Ｅからの戻り光を受光する。

レフ測定光源６１は、発光径が所定のサイズ以下の高輝度光源であるＳＬＤ（Ｓｕｐｅｒｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｔ Ｄｉｏｄｅ）光源であってよい。レフ測定光源６１は、光軸方向に移動可能であり、眼底共役位置Ｐに配置される。リング絞り６５（具体的には、透光部）は、瞳孔共役位置Ｑに配置されている。合焦レンズ７４は、光軸方向に移動可能である。合焦レンズ７４は、後述の主制御部１１１からの制御を受け、焦点位置を変更可能な公知の焦点可変レンズであってもよい。レフ測定受光系７を経由する光学系において、撮像素子５９の撮像面は眼底共役位置Ｐに配置されている。

レフ測定光源６１から出力された光は、リレーレンズ６２を通過し、円錐プリズム６３の円錐面に入射する。円錐面に入射した光は偏向され、円錐プリズム６３の底面から出射する。円錐プリズム６３の底面から出射した光は、フィールドレンズ６４を通過し、リング絞り６５にリング状に形成された透光部を通過する。リング絞り６５の透光部を通過した光（リング状光束）は、孔開きプリズム６６の反射面により反射され、ロータリープリズム６７を通過し、ダイクロイックミラー６８により反射される。ダイクロイックミラー６８により反射された光は、ダイクロイックミラー５３により反射され、対物レンズ５２を通過し、被検眼Ｅに投射される。ロータリープリズム６７は、眼底Ｅｆの血管や疾患部位に対するリング状光束の光量分布を平均化や光源に起因するスペックルノイズの低減のために用いられる。

円錐プリズム６３は、瞳孔共役位置Ｑに可能な限り近い位置に配置されることが望ましい。

図２に、フィールドレンズ６４の断面図を模式的に示す。例えば、図２に示すように、フィールドレンズ６４の被検眼Ｅの側のレンズ面にリング絞り６５が貼り付けられていてもよい。この場合、例えば、フィールドレンズ６４のレンズ面には、リング状の透光部が形成されるように遮光膜が蒸着される。

また、レフ測定投射系６は、フィールドレンズ６４が省略された構成を有していてもよい。

図３に、円錐プリズム６３の断面図を模式的に示す。例えば、図３に示すように、リレーレンズ６２を通過した光が円錐面６３ａに入射する円錐プリズム６３の底面６３ｂにリング絞り６５が貼り付けられていてもよい。この場合、例えば、円錐プリズム６３の底面６３ｂには、リング状の透光部が形成されるように遮光膜が蒸着される。また、リング絞りが円錐プリズム６３の円錐面６３ａの側にあってもよい。

リング絞り６５は、所定の測定パターンに対応した形状を有する透光部が形成された絞りであってよい。この絞りには、レフ測定投射系６の光軸に対して偏心した位置に透光部が形成されていてよい。また、絞りには、２以上の透光部が形成されていてもよい。

眼底Ｅｆに投射されたリング状光束の戻り光は、対物レンズ５２を通過し、ダイクロイックミラー５３及びダイクロイックミラー６８により反射される。ダイクロイックミラー６８により反射された戻り光は、ロータリープリズム６７を通過し、孔開きプリズム６６の孔部を通過し、リレーレンズ７１を通過し、反射ミラー７２により反射され、リレーレンズ７３及び合焦レンズ７４を通過する。合焦レンズ７４を通過した光は、反射ミラー７５により反射され、ダイクロイックミラー５７により反射され、結像レンズ５８により撮像素子５９の撮像面に結像される。処理部９は、撮像素子５９からの出力を基に公知の演算を行うことで被検眼Ｅの屈折力値を算出する。例えば、屈折力値は、球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を含む。

孔開きプリズム６６とリレーレンズ７１との間に、瞳孔上の光束径を制限する絞りが配置されている。この絞りの透光部は、瞳孔共役位置に配置される。

処理部９は、算出された屈折力値に基づいて、眼底Ｅｆとレフ測定光源６１と撮像素子５９の撮像面とが光学的に共役になるように、レフ測定光源６１と合焦レンズ７４とをそれぞれ光軸方向に移動させる。更に、処理部９は、レフ測定光源６１及び合焦レンズ７４の移動に連動して視標ユニットをその光軸方向に移動させる。光源４１、コリメートレンズ４２及び視標チャート４３を含む視標ユニットと、レフ測定光源６１と、合焦レンズ７４とは、連動してそれぞれの光軸方向に移動可能であってよい。

＜処理系の構成＞
眼科装置１０００の処理系の構成について説明する。眼科装置１０００の処理系の機能的構成の例を図４及び図５に示す。図４は、眼科装置１０００の処理系の機能ブロック図の一例を表したものである。図５は、図４の演算処理部１２０の機能ブロック図の一例を表したものである。

処理部９は、眼科装置１０００の各部を制御する。また、処理部９は、各種演算処理を実行可能である。処理部９は、プロセッサを含む。プロセッサの機能は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）、プログラマブル論理デバイス（例えば、ＳＰＬＤ（Ｓｉｍｐｌｅ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ）、ＣＰＬＤ（Ｃｏｍｐｌｅｘ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｌｏｇｉｃ Ｄｅｖｉｃｅ）、ＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ Ａｒｒａｙ））等の回路により実現される。処理部９は、例えば、記憶回路や記憶装置に格納されているプログラムを読み出し実行することで、実施形態に係る機能を実現する。

処理部９は、制御部１１０と、演算処理部１２０とを含む。また、眼科装置１０００は、表示部１７０と、操作部１８０と、通信部１９０とを含む。

（制御部１１０）
制御部１１０は、眼科装置１０００の各部を制御する。制御部１１０は、主制御部１１１と、記憶部１１２とを含む。

主制御部１１１は、眼科装置１０００の各種制御を行う。主制御部１１１は、Ｚアライメント系１のＺアライメント光源１１やラインセンサ１３、ＸＹアライメント系２のＸＹアライメント光源２１、ケラト測定系３のケラトリング光源を制御する。それにより、Ｚアライメント光源１１やＸＹアライメント光源２１やケラトリング光源から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、ラインセンサ１３により検出された信号が取り込まれ、取り込まれた信号に基づくアライメント制御等が行われる。

主制御部１１１は、視標投影系４の光源４１、及び視標チャート４３を制御する。それにより、光源４１から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、視標チャート４３における視標や固視標の表示のオン・オフや、視標や固視標が切り替えられる。また、主制御部１１１は、光源４１、コリメートレンズ４２、及び視標チャート４３を含む視標ユニットを光軸方向に移動する移動機構（図示せず）を制御することができる。

主制御部１１１は、前眼部観察系５の前眼部照明光源５１や撮像素子５９を制御する。それにより、前眼部照明光源５１から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、撮像素子５９の露光時間が変更されたり、撮像素子５９に含まれる増幅器のゲインを制御することにより検出感度が変更されたりする。また、撮像素子５９により取得された信号が取り込まれ、演算処理部１２０により画像の形成等が行われたりする。

主制御部１１１は、レフ測定投射系６のレフ測定光源６１やロータリープリズム６７、レフ測定受光系７の合焦レンズ７４を制御する。それにより、レフ測定光源６１から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、ロータリープリズム６７の回転速度が変更されたり、回転動作のオン・オフが切り替えられたりする。また、合焦レンズ７４の光軸方向の位置が変更される。また、主制御部１１１は、レフ測定光源６１や合焦レンズ７４を光軸方向に移動する移動機構（図示せず）を制御することができる。合焦レンズ７４が可変焦点レンズである場合、主制御部１１１は、合焦レンズ７４を制御することにより合焦レンズ７４の焦点位置を変更することができる。

この実施形態では、主制御部１１１は、光源４１、コリメートレンズ４２、及び視標チャート４３を含む視標ユニットと、レフ測定光源６１と、合焦レンズ７４とを保持する保持部材を含む移動機構を制御することが可能である。移動機構には、保持部材を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。主制御部１１１は、このような移動機構を制御することにより、それぞれを光軸方向に移動させることができる。

主制御部１１１は、視標投影系４、前眼部観察系５、レフ測定投射系６、レフ測定受光系、及び演算処理部１２０を制御することにより、仮測定を２回以上実行させ、最後に実行された仮測定により決定された測定条件の下で本測定を実行させることが可能である。仮測定を繰り返すたびに測定条件が収束するように、各回の仮測定により、同一種別の測定条件が決定されてもよいし、異なる種別の測定条件が決定されてもよい。この実施形態では、２回の仮測定後に本測定が実行される。例えば、各回の仮測定では、得られたリング像に基づいて、レフ測定光源６１から出力される光の光量（レフ測定光源６１の光量）、撮像素子５９の露光時間、撮像素子５９の検出感度、及び合焦レンズ７４に対する制御内容の少なくとも１つが決定されてよい。

また、主制御部１１１は、記憶部１１２にデータを書き込む処理や、記憶部１１２からデータを読み出す処理を行う。

記憶部１１２は、各種のデータを記憶する。記憶部１１２に記憶されるデータとしては、ケラト測定系３により得られた測定情報、レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７により得られた測定情報、撮像素子５９により取得された画像の画像データ、被検眼情報などがある。被検眼情報は、患者ＩＤや氏名などの被検者に関する情報や、左眼／右眼の識別情報などの被検眼に関する情報を含む。ケラト測定系３により得られた測定情報は、眼科装置１０００にて被検眼Ｅのケラト測定が行われたときに記憶部１１２に保存される。レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７により得られた測定情報は、眼科装置１０００にて被検眼Ｅのレフ測定が行われたときに記憶部１１２に保存される。記憶部１１２は、角膜形状パラメータの算出処理や眼屈折力値の算出処理の作業メモリとして用いられてもよい。また、記憶部１１２には、眼科装置１０００を動作させるための各種プログラムやデータが記憶されている。

（演算処理部１２０）
演算処理部１２０は、例えば、角膜形状パラメータや眼屈折力値など、眼屈折力を表すパラメータを求めるための各種の演算を実行する。演算処理部１２０は、解析部１２１を含む。

解析部１２１は、レフ測定投射系６により眼底Ｅｆに投射されたリング状光束（リング状の測定パターン）の戻り光を撮像素子５９が受光することにより得られたリング像（パターン像）を解析する。例えば、解析部１２１は、得られたリング像が描出された画像における輝度分布からリング像の重心位置を求め、この重心位置から放射状に延びる複数の走査方向に沿った輝度分布を求め、この輝度分布からリング像を特定する。解析部１２１は、特定されたリング像の輝度（リング輝度）が所定の輝度範囲内であるか否かを判定することが可能である。解析部１２１は、特定されたリング像のＳ／Ｎ比が所定の数値範囲内にあるか否かを判定してもよい。

解析部１２１は、特定されたリング像の近似楕円を求め、この近似楕円の長径及び短径を公知の式に代入することによって球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を求めることが可能である。または、解析部１２１は、特定されたリング像（近似楕円）と、合焦レンズ７４に対する制御内容（例えば、移動量）とに基づいて球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を求めることが可能である。或いは、解析部１２１は、基準パターンに対するリング像の変形及び変位に基づいて眼屈折力のパラメータを求めることができる。

また、解析部１２１は、前眼部観察系５により取得されたケラトリング像に基づいて、角膜屈折力、角膜乱視度及び角膜乱視軸角度を算出する。例えば、解析部１２１は、ケラトリング像を解析することにより角膜前面の強主経線や弱主経線の角膜曲率半径を算出し、角膜曲率半径に基づいて上記パラメータを算出する。

（表示部１７０、操作部１８０）
表示部１７０は、制御部１１０による制御を受けて情報を表示する。操作部１８０は、眼科装置１０００の操作や情報入力に使用される。操作部１８０は、各種のハードウェアキー（ジョイスティック、ボタン、スイッチなど）、及び／又は、表示部１７０に提示される各種のソフトウェアキー（ボタン、アイコン、メニューなど）を含む。

（通信部１９０）
通信部１９０は、外部装置と通信する機能を持つ。通信部１９０は、外部装置との接続形態に応じた通信インターフェイスを備える。外部装置の例として、レンズの光学特性を測定するための眼鏡レンズ測定装置がある。眼鏡レンズ測定装置は、被検者が装用する眼鏡レンズの度数などを測定し、この測定データを眼科装置１０００に入力する。また、外部装置は、任意の眼科装置、記録媒体から情報を読み取る装置（リーダ）や、記録媒体に情報を書き込む装置（ライタ）などでもよい。更に、外部装置は、病院情報システム（ＨＩＳ）サーバ、ＤＩＣＯＭ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｍａｇｉｎｇ ａｎｄ ＣＯｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ ｉｎ Ｍｅｄｉｃｉｎｅ）サーバ、医師端末、モバイル端末、個人端末、クラウドサーバなどでもよい。

眼科装置１０００において、眼底共役位置Ｐにレフ測定光源６１を配置し、且つ瞳孔共役位置Ｑにリング絞り６５を配置し、瞳孔共役位置Ｑの近傍に円錐プリズム６３を配置するようにしたので、眼底Ｅｆに細く（内径と外径の幅が狭い）輝度の高いリング状の測定パターンを投射することができるようになる。従って、被検眼Ｅに入射する測定光束の全光量を小さくすることができ、被検者の負担を軽減しつつ、輝度の高い測定パターン光束を被検眼に投射することができる。それにより、信頼性の高い眼屈折力値を取得することができるようになる。また、眼底におけるリング像のプロファイルが急峻になるため、睫毛や白内障に起因した水晶体の混濁部分で入射光束が遮られることによる影響が少なく測定エラーの発生を抑えることができるようになる。

レフ測定光源６１は、実施形態に係る「光源」の一例である。レフ測定投射系６により被検眼Ｅに投射されるリング状光束は、実施形態に係る「パターン光」の一例である。前眼部観察系５、レフ測定投射系６、及びレフ測定受光系７は、実施形態に係る「光学系」の一例である。リング像は、実施形態に係る「パターン像」の一例である。リング絞り６５は、実施形態に係る「絞り」の一例である。円錐プリズム６３は、実施形態に係る「偏向部材」の一例である。

＜動作例＞
実施形態に係る眼科装置１０００の動作について説明する。眼科装置１０００の動作の一例を図６～図１０に示す。図６は、眼科装置１０００の動作例のフロー図を表したものである。図７は、図６のステップＳ３の動作例のフロー図を表したものである。図８は、図７のステップＳ１４又はステップＳ２０の動作例のフロー図を表したものである。図９は、図８のステップＳ３２の動作例のフロー図を表したものである。図１０は、図８のステップＳ３４の動作例のフロー図を表したものである。以下では、光源４１、コリメートレンズ４２及び視標チャート４３を含む視標ユニットが光軸方向に移動されるものとする。

まず、図６を参照して眼科装置１０００の動作例について説明する。

（Ｓ１：アライメント）
図示しない顔受け部に被検者の顔が固定された状態で、検者が操作部１８０に対して所定の操作を行うことで、眼科装置１０００は、光源４１及び視標チャート４３により固視標を被検眼Ｅに投射し、アライメントを実行する。

具体的には、主制御部１１１は、Ｚアライメント光源１１やＸＹアライメント光源２１や光源４１を点灯させる。更に、前眼部照明光源５１を点灯する。前眼部照明光源の代わりにケラト光源を点灯させてもよい。処理部９は、撮像素子５９の撮像面上の前眼部像の撮像信号を取得し、表示部１７０に前眼部像を表示させる。その後、図１に示す光学系が被検眼Ｅの検査位置に移動される。検査位置とは、十分な精度で被検眼Ｅの検査を行うことが可能な位置である。前述のアライメント（Ｚアライメント系１及びＸＹアライメント系２と前眼部観察系５とによるアライメント）を介して被検眼Ｅが検査位置に配置される。光学系の移動は、ユーザによる操作若しくは指示又は主制御部１１１による指示にしたがって、主制御部１１１によって実行される。すなわち、被検眼Ｅの検査位置への光学系の移動と、他覚測定を行うための準備とが行われる。

また、主制御部１１１は、レフ測定光源６１と、合焦レンズ７４と、上記の視標ユニットをそれぞれの光軸に沿って原点の位置（例えば、０Ｄに相当する位置）に移動させる。

（Ｓ２：ケラト測定）
主制御部１１１は、光源４１及び視標チャート４３により固視標として輝点を被検眼Ｅに投射させ、ケラト測定を実行させる。

すなわち、主制御部１１１は、ケラトリング光源を点灯させる。ケラトリング光源から光が出力されると、被検眼Ｅの角膜に角膜形状測定用のリング状光束が投射される。解析部１２１は、撮像素子５９によって取得された像に対して演算処理を施すことにより、角膜曲率半径を算出し、算出された角膜曲率半径から角膜屈折力、角膜乱視度及び角膜乱視軸角度を算出する。制御部１１０では、算出された角膜屈折力などが記憶部１１２に記憶される。主制御部１１１からの指示、又は操作部１８０に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置１０００の動作はステップＳ３に移行する。

（Ｓ３：レフ測定）
主制御部１１１は、レフ測定光源６１を点灯させ、レフ測定を実行させる。ステップＳ３の詳細については後述する。

制御部１１０では、ステップＳ３におけるレフ測定後の合焦レンズ７４の移動量やリング像の形状より算出された球面度数などが記憶部１１２に記憶される。主制御部１１１からの指示、又は操作部１８０に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置１０００の動作はステップＳ４に移行する。以上で、眼科装置１０００の動作は終了する（エンド）。

［レフ測定］
図７～図１０に示すように、眼科装置１０００は、図６のステップＳ３におけるレフ測定を実行する。

（Ｓ１１：仮測定条件の初期化）
主制御部１１１は、１回目の仮測定に先立って、レフ測定光源６１から出力される光の光量（レフ測定光源６１の光量）、及び撮像素子５９の露光時間や検出感度を初期値に設定する。

（Ｓ１２：仮測定（１回目））
主制御部１１１は、合焦レンズを基準位置（０Ｄ位置）に配置した状態で、１回目の仮測定を実行させる。具体的には、主制御部１１１は、レフ測定光源６１を点灯させ、眼底Ｅｆに対してリング状光束をレフ測定投射系６に投射させ、眼底Ｅｆからのリング状光束の戻り光を撮像素子５９に受光させる。これにより、眼底Ｅｆに投射されたリング状光束に基づくリング像が描出される画像が取得される。

（Ｓ１３：輝度は適正？）
主制御部１１１は、ステップＳ１２における撮像素子５９の受光結果から得られたリング像に対するリング輝度チェックを解析部１２１に実行させる。解析部１２１は、撮像素子５９により得られた画像における輝度分布からリング像の重心位置を求め、この重心位置から放射状に延びる複数の走査方向に沿った輝度分布を求め、この輝度分布からリング像を特定する。解析部１２１は、特定されたリング像の輝度が所定の輝度範囲内であるか否かを判定することにより、リング像の輝度が適正であるか否かを判定する。リング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき（Ｓ１３：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ１５に移行する。リング像の輝度が所定の輝度範囲内ではないと判定されたとき（Ｓ１３：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ１４に移行する。

（Ｓ１４：測定条件変更制御）
ステップＳ１３においてリング像の輝度が所定の輝度範囲内ではないと判定されたとき（Ｓ１３：Ｎ）、主制御部１１１は、測定条件変更制御を実行する。ステップＳ１４における測定条件変更制御では、取得されるリング像の輝度が変更されるように、レフ測定光源６１の光量、撮像素子５９の露光時間、撮像素子５９の検出感度が変更される。ステップＳ１４の詳細については後述する。

ステップＳ１４が終了すると、眼科装置１０００の動作はステップＳ１２に移行する。すなわち、リング像の輝度が所定の輝度範囲内になるまでステップＳ１２における画像取得（１回目の仮測定）とステップＳ１３におけるリング像の輝度チェックとが繰り返される。

（Ｓ１５：仮屈折力値を算出）
ステップＳ１３においてリング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき（Ｓ１３：Ｙ）、主制御部１１１は、ステップＳ１２において取得された画像に基づいて仮屈折力値（等価球面屈折力値）を解析部１２１に算出させる。解析部１２１は、上記にように、取得された画像において特定されたリング像の近似楕円を求め、この近似楕円から仮屈折力値を算出する。

（Ｓ１６：合焦制御）
次に、主制御部１１１は、ステップＳ１５において求められた眼屈折力値に基づいて、ステップＳ１２において取得されたリング像のピントが合うように、合焦レンズ７４を移動するアクチュエータに対する制御内容を決定する。この実施形態では、主制御部１１１は、合焦レンズ７４の光軸方向の移動方向及び移動量に対応したアクチュエータの制御内容を決定する。例えば、眼屈折力値と合焦レンズ７４の光軸方向の移動方向及び移動量とが関連付けられた対応情報が記憶部１１２にあらかじめ記憶されており、主制御部１１１は、記憶部１１２に記憶されている対応情報を参照することによりアクチュエータの制御内容を決定する。

主制御部１１１は、決定された制御内容に基づいてアクチュエータを制御することにより、ステップＳ１５において求められた眼屈折力値に対応した位置に合焦レンズ７４を配置させる。

なお、合焦レンズ７４が焦点可変レンズである場合、主制御部１１１は、同様に合焦レンズ７４に対する制御内容を決定することができる。すなわち、眼屈折力値と合焦レンズ７４に対する制御内容とが関連付けられた対応情報が記憶部１１２にあらかじめ記憶されており、主制御部１１１は、記憶部１１２に記憶されている対応情報を参照することにより合焦レンズ７４に対する制御内容を決定する。主制御部１１１は、決定された制御内容に基づいて合焦レンズ７４を制御することにより、所望の位置に焦点位置を変更することができる。あわせて光源６１、光源４１とコリメートレンズ４２と視標チャート４２とを含む固視標ユニットを移動する。この移動は共通のアクチュエータにより駆動されてもよいし、一体として駆動されてもよい、個別のアクチュエータにより個別に駆動されてもよい。

（Ｓ１７：次の仮測定条件の決定）
次に、主制御部１１１は、２回目の仮測定を実行するための測定条件を設定する。この測定条件は、ステップＳ１６が終了した時点の測定条件であってもよい。また、主制御部１１１は、ステップＳ１６が終了した時点の測定条件から、新たな測定条件を特定してもよい。合焦レンズ７４の移動量によってリング像の明るさ（輝度）が変化するため、移動量に基づき、光源６１の光量を変更してもよい。合焦レンズ７４の移動量と光源６１の光量の関係は数式によって導かれてもよいし、テーブル情報として記憶されていてもよい。数式は、実験結果などにより導出された１次式や２次式であってよい。

（Ｓ１８：仮測定（２回目））
主制御部１１１は、２回目の仮測定を実行させる。ステップＳ１８は、ステップＳ１２とほぼ同様である。

（Ｓ１９：輝度は適正？）
主制御部１１１は、ステップＳ１３と同様に、ステップＳ１８において得られたリング像に対するリング像の輝度チェックを解析部１２１に実行させる。ステップＳ１９のリング輝度チェックにおける輝度範囲は、ステップＳ１３のリング像の輝度チェックにおける輝度範囲と同一であってもよいし、異なるものであってもよい。

リング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき（Ｓ１９：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ２１に移行する。リング像の輝度が所定の範囲内ではないと判定されたとき（Ｓ１９：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ２０に移行する。

（Ｓ２０：測定条件変更制御）
ステップＳ１９においてリング像の輝度が所定の範囲内ではないと判定されたとき（Ｓ１９：Ｎ）、主制御部１１１は、測定条件変更制御を実行する。ステップＳ２０における測定条件変更制御は、ステップＳ１４と同様である。

ステップＳ２０が終了すると、眼科装置１０００の動作はステップＳ１８に移行する。すなわち、リング像の輝度が所定の範囲内になるまでステップＳ１８における画像取得（２回目の仮測定）とステップＳ１９におけるリング像の輝度チェックとが繰り返される。

（Ｓ２１：仮屈折力値を算出）
ステップＳ１９においてリング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき（Ｓ１９：Ｙ）、主制御部１１１は、ステップＳ１５と同様に、ステップＳ１８において取得された画像において特定されたリング像（例えば、リング像の形状と特定されリング像に対する合焦レンズ７４の移動量）に基づいて仮屈折力値を解析部１２１に算出させる。

（Ｓ２２：合焦制御）
主制御部１１１は、ステップＳ１６と同様に、ステップＳ２１において求められた眼屈折力値に基づいて、ステップＳ１８において取得されたリング像のピントが合うように、合焦レンズ７４を移動するアクチュエータに対する制御内容を決定する。

主制御部１１１は、決定された制御内容に基づいてアクチュエータを制御することにより、ステップＳ２１において求められた仮屈折力値に対応した位置に合焦レンズ７４を配置させる。

（Ｓ２３：雲霧制御）
次に、主制御部１１１は、本測定を実行するための測定条件を設定する。この測定条件は、ステップＳ２２が終了した時点の測定条件であってもよい。また、主制御部１１１は、ステップＳ２２が終了した時点の測定条件から、新たな測定条件を特定してもよい。特に、合焦レンズ７４の移動量が大きい場合、リング像の輝度の変化が大きくなる可能性があるため、この変化を加味した新たな測定条件を求めてもよい。

続いて、主制御部１１１は、被検眼Ｅを雲霧視させるための制御を実行する。具体的には、主制御部１１１は、上記のアクチュエータを制御することにより既定の移動量だけ、光源４１とコリメートレンズ４２と視標チャート５３とを含む固指標ユニットを移動させる。光源６１、合焦レンズ７４が一体で駆動される構成においてはこれらも同時に移動する。

（Ｓ２４：本測定）
主制御部１１１は、本測定を実行させる。具体的には、主制御部１１１は、レフ測定光源６１を点灯させ、眼底Ｅｆに対してリング状光束をレフ測定投射系６に投射させ、眼底Ｅｆからのリング状光束の戻り光を撮像素子５９に受光させる。これにより、眼底Ｅｆに投射されたリング状光束に基づくリング像が描出される画像が取得される。

（Ｓ２５：眼屈折力値を算出）
主制御部１１１は、ステップＳ２４において取得された画像において特定されたリング像の近似楕円を求め、合焦レンズ７４の移動量とこの近似楕円から球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を解析部１２１に算出させる。以上で、眼科装置１０００の動作は終了である（エンド）。

［測定条件変更制御］
眼科装置１０００は、図８～図１０に示すように、図７のステップＳ１４又はステップＳ２０実行する。なお、ステップＳ１４及びステップＳ２０のいずれか一方が図８～図１０に示すように実行されてもよい。

（Ｓ３１：輝度が高い？）
主制御部１１１は、リング像の輝度が高いか否かを判定する。リング像の輝度が所定の輝度範囲の上限値以上であるとき、主制御部１１１は、リング像の輝度が高いと判定する。リング像の輝度が高いと判定されたとき（Ｓ３１：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ３２に移行する。リング像の輝度が高いと判定されなかったとき（Ｓ３１：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ３３に移行する。

（Ｓ３２：輝度低下制御）
ステップＳ３１においてリング像の輝度が高いと判定されたとき（Ｓ３１：Ｙ）、主制御部１１１は、輝度低下制御を実行する。ステップＳ３２における輝度低下制御では、取得されるリング像の輝度が低下するように、レフ測定光源６１の光量を変更、もしくは、撮像素子５９の露光時間、撮像素子５９の検出感度が変更される。ステップＳ３２の詳細については後述する。

ステップＳ３２が終了すると、眼科装置１０００のステップＳ１４又はステップＳ２０の動作は終了する（エンド）。

（Ｓ３３：輝度が低い？）
ステップＳ３１においてリング像の輝度が高いと判定されなかったとき（Ｓ３１：Ｎ）、主制御部１１１は、リング像の輝度が低いか否かを判定する。リング像の輝度が所定の輝度範囲の下限値以下であるとき、主制御部１１１は、リング像の輝度が低いと判定する。リング像の輝度が低いと判定されたとき（Ｓ３３：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ３４に移行する。リング像の輝度が低いと判定されなかったとき（Ｓ３３：Ｎ）、眼科装置１０００のステップＳ１４又はステップＳ２０の動作は終了する（エンド）。

（Ｓ３４：輝度上昇制御）
ステップＳ３３においてリング像の輝度が低いと判定されたとき（Ｓ３３：Ｙ）、主制御部１１１は、輝度上昇制御を実行する。ステップＳ３４における輝度上昇制御では、取得されるリング像の輝度が上昇するように、レフ測定光源６１の光量の変更、もしくは撮像素子５９の露光時間、撮像素子５９の検出感度、合焦レンズ７４の移動量が変更される。ステップＳ３４の詳細については後述する。

ステップＳ３４が終了すると、眼科装置１０００のステップＳ１４又はステップＳ２０の動作は終了する（エンド）。

［輝度低下制御］
眼科装置１０００は、図９に示すように、図８のステップＳ３２における輝度低下制御を実行する。実施形態に係る輝度低下制御では、得られたリング像の輝度（すなわち、低下すべき量）に基づいて、撮像素子５９の検出感度を下げることにより見かけのリング像の輝度を下げる第１検出感度制御が行われた後、撮像素子５９の露光時間を短くすることによりリング像の輝度を下げる第１露光時間制御が行われる。更に、第１露光時間制御の後に、レフ測定光源６１の光量を下げることによりリング像の輝度を下げる第１光量制御が行われる。

例えば、輝度低下制御では、所定の第１輝度範囲内でリング像の見かけの輝度を下げる第１検出感度制御が行われた後、上限が第１輝度範囲の下限以下である第２輝度範囲内でリング像の見かけの輝度を下げる第１露光時間制御が行われる。更に、第１露光時間制御の後に、上限が第２輝度範囲の下限以下である第３輝度範囲内でリング像の輝度を下げる第１光量制御が行われる。

（Ｓ４１：輝度低下量を決定）
まず、主制御部１１１は、リング像の輝度の低下量を決定する。低下量は、あらかじめ決められた量であってよい。

また、低下量は、撮像素子５９の飽和光量もしくはＡ／Ｄ変換による飽和量に対応した量であってもよい。この場合、主制御部１１１は、リング像の輝度の低下量を解析部１２１に算出させる。解析部１２１は、合焦レンズ７４移動後のリング像の輝度を予測し、予測値から輝度の低下量を求めることが可能である。例えば、解析部１２１は、当該リング像の輝度とステップＳ３１における輝度範囲の上限値との差分や、レフ測定光源６１の光量、撮像素子５９の露光時間、又は撮像素子５９の検出感度に対する制御量と仮測定によって決定された合焦レンズ７４の移動量とに基づいて移動後の輝度を特定する。

（Ｓ４２：検出感度≧ＴＨ１？）
次に、主制御部１１１は、撮像素子５９の検出感度（ゲイン）を特定し、特定された検出感度が第１閾値ＴＨ１以上であるか否かを判定する。主制御部１１１は、撮像素子５９に対する制御内容から検出感度を特定してもよいし、撮像素子５９に設定された内容から検出感度を特定してもよい。検出感度が第１閾値ＴＨ１以上であると判定されたとき（Ｓ４２：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ４３に移行する。検出感度が第１閾値ＴＨ１未満であると判定されたとき（Ｓ４２：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ４４に移行する。

（Ｓ４３：検出感度を下げる）
ステップＳ４２において検出感度が第１閾値ＴＨ１以上であると判定されたとき（Ｓ４２：Ｙ）、主制御部１１１は、検出感度を下げるように撮像素子５９を制御する。主制御部１１１は、所定量又は所定の割合で検出感度を下げることができる。

このように、ステップＳ４２及びステップＳ４３において第１検出感度制御が行われる。ステップＳ４３が完了すると、眼科装置１０００のステップＳ３２の動作は終了する（エンド）。

（Ｓ４４：露光時間≧ＴＨ２？）
ステップＳ４２において検出感度が第１閾値ＴＨ１未満であると判定されたとき（Ｓ４２：Ｎ）、主制御部１１１は、撮像素子５９の露光時間を特定し、特定された露光時間が第２閾値ＴＨ２以上であるか否かを判定する。主制御部１１１は、撮像素子５９に対する制御内容から露光時間を特定してもよいし、撮像素子５９に設定された内容から露光時間を特定してもよい。

露光時間が短くなると、被検眼Ｅの移動に起因した測定誤差の発生を抑えることができるようになる。しかしながら、ロータリープリズム６７による光量分布の平均化の効果を得るために、撮像素子５９の露光時間は、ロータリープリズム６７が所定の回数だけ回転する時間（下限時間）以上であることが望ましい。従って、第２閾値ＴＨ２は、ロータリープリズム６７の回転速度に対応した下限時間であってよい。

撮像素子５９の露光時間が第２閾値ＴＨ２以上であると判定されたとき（Ｓ４４：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ４５に移行する。撮像素子５９の露光時間が第２閾値ＴＨ２未満であると判定されたとき（Ｓ４４：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ４６に移行する。

（Ｓ４５：露光時間を短くする）
ステップＳ４４において露光時間が第２閾値ＴＨ２以上であると判定されたとき（Ｓ４４：Ｙ）、主制御部１１１は、露光時間を短くするように撮像素子５９を制御する。主制御部１１１は、所定量又は所定の割合で露光時間を短くすることができる。

このように、ステップＳ４４及びステップＳ４５において第１露光時間制御が行われる。ステップＳ４５が完了すると、眼科装置１０００のステップＳ３２の動作は終了する（エンド）。

（Ｓ４６：光量≧ＴＨ３？）
ステップＳ４４において露光時間が第２閾値ＴＨ２未満であると判定されたとき（Ｓ４４：Ｎ）、主制御部１１１は、レフ測定光源６１の光量を特定し、特定された光量が第３閾値ＴＨ３以上であるか否かを判定する。主制御部１１１は、レフ測定光源６１に対する制御内容から光量を特定してもよいし、レフ測定光源６１に設定された内容から光量を特定してもよい。

レフ測定光源６１の光量が第３閾値ＴＨ３以上であると判定されたとき（Ｓ４６：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ４７に移行する。レフ測定光源６１の光量が第３閾値ＴＨ３未満であると判定されたとき（Ｓ４６：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ４８に移行する。

（Ｓ４７：光量を下げる）
ステップＳ４６においてレフ測定光源６１の光量が第３閾値ＴＨ３以上であると判定されたとき（Ｓ４６：Ｙ）、主制御部１１１は、光量を下げるようにレフ測定光源６１を制御する。主制御部１１１は、所定量又は所定の割合で光量を下げることができる。

このように、ステップＳ４６及びステップＳ４７において第１光量制御が行われる。ステップＳ４７が完了すると、眼科装置１０００のステップＳ３２の動作は終了する（エンド）。

（Ｓ４８：エラー処理）
ステップＳ４６においてレフ測定光源６１の光量が第３閾値ＴＨ３未満であると判定されたとき（Ｓ４６：Ｎ）、主制御部１１１は、所定のエラー処理を実行させる。所定のエラー処理には、表示部１７０に対するエラー表示処理などがある。リング像の輝度が高いと判定されたにもかかわらず、撮像素子５９の検出感度や露光時間、レフ測定光源６１の光量に対する制御が不可能と判断された場合に、エラー処理が実行される。ステップＳ４８が完了すると、眼科装置１０００によるレフ測定が終了する（エンド）。

以上のように、輝度低下制御が繰り返し実行されることで、第１検出感度制御が優先的に実行された後、第１検出感度制御を補足するために第１露光時間制御が実行される。最後に、第１露光時間制御を補足するために第１検出感度制御が実行される。

第１検出感度制御は、第１露光時間制御や第１光量制御と比較して測定環境への影響が小さい。一方、第１露光時間制御は、上記のように被検眼Ｅの移動に対して有利になるが、ロータリープリズム６７による効果が得られなくなる。従って、第１検出感度制御の後に第１露光時間制御を行うことで、リング像の輝度が高い場合でも、ロータリープリズム６７による効果を得ながら、レフ測定の測定精度の低下を抑えることができるようになる。また、第１露光時間制御の後に第１光量制御を行うようにしたので、測定環境への影響を最小限に抑えることができるようになる。

［輝度上昇制御］
眼科装置１０００は、図１０に示すように図８のステップＳ３４における輝度上昇制御を実行する。実施形態に係る輝度上昇制御では、得られたリング像の輝度（すなわち、上昇すべき量）に基づいて、レフ測定光源６１の光量を上げることによりリング像の輝度を上げる第２光量制御が行われた後、撮像素子５９の露光時間を長くすることによりリング像の見かけの輝度を上げる第２露光時間制御が行われる。更に、第２露光時間制御の後に、撮像素子５９の検出感度を上げることによりリング像の見かけの輝度を上げる第２検出感度制御が行われる。

例えば、輝度上昇制御では、所定の第４輝度範囲内でリング像の輝度を上げる第２光量制御が行われた後、下限が第４輝度範囲の上限以上である第５輝度範囲内でリング像の輝度を上げる第２露光時間制御が行われる。更に、第２露光時間制御の後に、下限が第５輝度範囲の上限以上である第６輝度範囲内でリング像の輝度を上げる第２検出感度制御が行われる。

（Ｓ５１：輝度上昇量を決定）
まず、主制御部１１１は、リング像の輝度の上昇量を決定する。上昇量は、あらかじめ決められた量であってよい。

また、主制御部１１１は、リング像の輝度の上昇量を解析部１２１に算出させてもよい。例えば、解析部１２１は、当該リング像の輝度とステップＳ３３における輝度範囲の下限値との差分や、レフ測定光源６１の光量、撮像素子５９の露光時間、又は撮像素子５９の検出感度に対する制御量及び合焦レンズ７４の移動量に基づいて上昇量を求めてもよい。

（Ｓ５２：光量≦ＴＨ４？）
次に、主制御部１１１は、レフ測定光源６１の光量を特定し、特定された光量が第４閾値ＴＨ４以下であるか否かを判定する。第４閾値ＴＨ４は、被検者による測定パターン像の視認性や被検者の安全性を考慮した光量であることが望ましい。光量が第４閾値以下であると判定されたとき（Ｓ５２：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ５３に移行する。光量が第４閾値ＴＨ４を超えると判定されたとき（Ｓ５２：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ５４に移行する。

（Ｓ５３：光量を上げる）
ステップＳ５２において光量が第４閾値ＴＨ４以下であると判定されたとき（Ｓ５２：Ｙ）、主制御部１１１は、光量を上げるようにレフ測定光源６１を制御する。主制御部１１１は、所定量又は所定の割合で光量を下げることができる。

このように、ステップＳ５２及びステップＳ５３において第２光量制御が行われる。ステップＳ５３が完了すると、眼科装置１０００のステップＳ３４の動作は終了する（エンド）。

（Ｓ５４：露光時間≧ＴＨ５？）
ステップＳ５２において光量が第４閾値ＴＨ４を超えると判定されたとき（Ｓ５２：Ｎ）、主制御部１１１は、撮像素子５９の露光時間を特定し、特定された露光時間が第５閾値ＴＨ５以下であるか否かを判定する。

露光時間が長くなると、被検眼Ｅの移動に起因した測定エラーが発生しやすくなる。従って、第５閾値ＴＨ５は、被検眼Ｅの移動が発生しない時間としてあらかじめ決められた時間であってよい。

撮像素子５９の露光時間が第５閾値ＴＨ５以下であると判定されたとき（Ｓ５４：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ５５に移行する。撮像素子５９の露光時間が第５閾値ＴＨ５を超えると判定されたとき（Ｓ５４：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ５６に移行する。

（Ｓ５５：露光時間を長くする）
ステップＳ５４において露光時間が第５閾値ＴＨ５以下であると判定されたとき（Ｓ５４：Ｙ）、主制御部１１１は、露光時間を長くするように撮像素子５９を制御する。主制御部１１１は、所定量又は所定の割合で露光時間を長くすることができる。

このように、ステップＳ５４及びステップＳ５５において第２露光時間制御が行われる。ステップＳ５５が完了すると、眼科装置１０００のステップＳ３４の動作は終了する（エンド）。

（Ｓ５６：検出感度≦ＴＨ６？）
ステップＳ５４において露光時間が第５閾値ＴＨ５を超えると判定されたとき（Ｓ５４：Ｎ）、主制御部１１１は、撮像素子５９の検出感度を特定し、特定された検出感度が第６閾値ＴＨ６以下であるか否かを判定する。

撮像素子５９の検出感度が第６閾値ＴＨ６以下であると判定されたとき（Ｓ５６：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ５７に移行する。撮像素子５９の検出感度が第６閾値ＴＨ６を超えると判定されたとき（Ｓ５６：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ５８に移行する。

（Ｓ５７：検出感度を上げる）
ステップＳ５６において撮像素子５９の検出感度が第６閾値ＴＨ６以下であると判定されたとき（Ｓ５６：Ｙ）、主制御部１１１は、検出感度を上げるように撮像素子５９を制御する。主制御部１１１は、所定量又は所定の割合で検出感度を上げることができる。

このように、ステップＳ５６及びステップＳ５７において第２検出感度制御が行われる。ステップＳ５７が完了すると、眼科装置１０００のステップＳ３４の動作は終了する（エンド）。

（Ｓ５８：合焦制御実行？）
ステップＳ５６において撮像素子５９の検出感度が第６閾値ＴＨ６を超えると判定されたとき（Ｓ５６：Ｎ）、主制御部１１１は、合焦レンズ７４による合焦制御を実行するか否かを判定する。主制御部１１１は、合焦レンズ７４（アクチュエータ）に対する制御内容や合焦レンズ７４の位置に基づいて合焦制御を実行するか否かを判定することができる。合焦レンズ７４による合焦制御を実行すると判定されたとき（Ｓ５８：Ｙ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ５９に移行する。合焦レンズ７４による合焦制御を実行しないと判定されたとき（Ｓ５８：Ｎ）、眼科装置１０００の動作はステップＳ６０に移行する。

（Ｓ５９：合焦制御）
ステップＳ５８において合焦レンズ７４による合焦制御を実行すると判定されたとき（Ｓ５８：Ｙ）、主制御部１１１は、アクチュエータを制御することにより既定の移動量だけ合焦レンズ７４を移動する。主制御部１１１は、リング像の輝度が上昇するように移動方向を変更しつつステップＳ５９の制御を繰り返すことが可能である。ステップＳ５９が完了すると、眼科装置１０００のステップＳ３４の動作は終了する（エンド）。

（Ｓ６０：エラー処理）
ステップＳ５８において合焦レンズ７４による合焦制御を実行しないと判定されたとき（Ｓ５８：Ｎ）、主制御部１１１は、所定のエラー処理を実行させる。所定のエラー処理には、表示部１７０に対するエラー表示処理などがある。リング像の輝度が低いと判定されたにもかかわらず、撮像素子５９の検出感度や露光時間、レフ測定光源６１の光量、合焦レンズ７４に対する制御が不可能と判断された場合に、エラー処理が実行される。ステップＳ６０が完了すると、眼科装置１０００によるレフ測定が終了する（エンド）。

以上のように、輝度上昇制御が繰り返し実行されることで、第２光量制御が優先的に実行された後、第２光量制御を補足するために第２露光時間制御が実行される。そして、第２露光時間制御を補足するために第２検出感度制御が実行され、最後に第２検出感度制御を補足するために合焦制御が実行される。

第２光量制御によりレフ測定光源６１の光量を上げると被検眼Ｅに投射されるリング状光束が被検者に視認されてしまい、被検者が注視して雲霧が難しくなる可能性がある。そこで、第２光量制御によりある程度まで光量を上げた後に、第２露光時間制御により露光時間を制御することで、被検者に測定パターンが視認しにくくすることで、雲霧が容易になり、測定誤差の発生を防ぐことが可能になる。

また、第２露光時間制御の実行は、測定時間を長くすることを意味する。第２検出感度制御は、ノイズ成分を増幅して画質を劣化させる可能性がある。従って、第２光量制御の後に第２露光時間制御を行うことにより、測定時間の長期化を回避することができる。第２露光時間制御の後に第２検出感度制御を行うことにより、画質の劣化をできるだけ抑えることができるようになる。

また、図９に示す輝度低下制御又は図１０に示す輝度上昇制御において、測定時間を短縮するために露光時間制御よりも検出感度制御を優先したり、検出感度制御だけを行うようにしたりしてもよい。また、図１０におけるステップＳ５８及びステップＳ５９は、図７のステップＳ１４（１回目の仮測定）では実行されず、図７のステップＳ２０（２回目の仮測定）だけ実行されてもよい。

ステップＳ１４は、実施形態に係る「第１測定条件決定ステップ」の一例である。ステップＳ２０は、実施形態に係る「第２測定条件決定ステップ」の一例である。ステップＳ２３は、実施形態に係る「雲霧制御ステップ」の一例である。ステップＳ２４は、実施形態に係る「測定ステップ」の一例である。

ステップＳ３１は、実施形態に係る「第１判定ステップ」の一例である。ステップＳ４２は、実施形態に係る「第２判定ステップ」の一例である。ステップＳ４３は、実施形態に係る「第１検出感度制御ステップ」の一例である。ステップＳ４４は、実施形態に係る「第３判定ステップ」の一例である。ステップＳ４５は、実施形態に係る「第１露光時間制御ステップ」の一例である。ステップＳ４６は、実施形態に係る「第４判定ステップ」の一例である。ステップＳ４７は、実施形態に係る「第１光量制御ステップ」の一例である。

ステップＳ３３は、実施形態に係る「第５判定ステップ」の一例である。ステップＳ５２は、実施形態に係る「第６判定ステップ」の一例である。ステップＳ５３は、実施形態に係る「第２光量制御ステップ」の一例である。ステップＳ５４は、実施形態に係る「第７判定ステップ」の一例である。ステップＳ５５は、実施形態に係る「第２露光時間制御ステップ」の一例である。ステップＳ５６は、実施形態に係る「第８判定ステップ」の一例である。ステップＳ５７は、実施形態に係る「第２検出感度制御ステップ」の一例である。

［変形例］
実施形態に係る眼科装置１０００の光学系の構成は図１に示す構成に限定されるものではない。

図１１に、実施形態の変形例に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。図１１において、図１と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。

変形例に係る眼科装置１０００ａの構成が眼科装置１０００の構成と異なる点は、レフ測定投射系６に代えてレフ測定投射系６ａが設けられている点である。レフ測定投射系６ａの構成がレフ測定投射系６の構成と異なる点は、円錐プリズム６３及びフィールドレンズ６４に代えてリングレンズ６９が設けられている点である。リングレンズ６９は、遮光領域として形成された中心領域と、当該中心領域の周囲にリング状に形成されたレンズ部とを含む。リングレンズ６９はフィールドレンズと円錐プリズムを複合した光学素子として機能する。

本変形例において、リングレンズ６９は、レフ測定投射系６ａの大型化を回避しつつ、瞳孔共役位置Ｑに可能な限り近い位置に配置されることが望ましい。

図１２に、リングレンズ６９の断面図を模式的に示す。例えば、図１２に示すように、リングレンズ６９の被検眼Ｅの側のレンズ面にリング絞り６５が貼り付けられている。

本変形例に係る眼科装置１０００ａの動作は実施形態と同様であるため、詳細な説明を省略する。

本変形例においても、実施形態と同様に、被検眼Ｅに入射する光量を小さくすることができ、線幅が細く、輝度の高いパターンを被検眼Ｅに投射することができる。従って、被検者の負担を軽減しつつ、信頼性の高い眼屈折力値を取得することができるようになる。また、瞳孔にも細いリング状光束を入射することができるため、睫毛や白内障に起因した水晶体の混濁部分で入射光束が遮られることによる影響が少なく測定エラーの発生を抑えることができるようになる。

［作用・効果］
実施形態又は変形例に係る眼科装置の作用及び効果について説明する。

実施形態に係る眼科装置（１０００、１０００ａ）は、光学系（前眼部観察系５、レフ測定投射系６又はレフ測定投射系６ａ、レフ測定受光系７）と、解析部１２１と、制御部（１１０、主制御部１１１）とを含む。光学系は、光源（レフ測定光源６１）からの光に基づくパターン光（リング状光束）を被検眼（Ｅ）に投射し、パターン光の被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズ（７４）を介して撮像素子（５９）で受光する。解析部は、撮像素子により得られたパターン像（リング像）に基づいて被検眼の眼屈折力値を算出する。制御部は、撮像素子により得られた第１パターン像に基づいて光源の光量、撮像素子の露光時間、撮像素子の検出感度、及び合焦レンズに対する制御内容の少なくとも１つを含む第１測定条件を決定し、第１測定条件の下で撮像素子により得られた第２パターン像に基づいて光量、露光時間、検出感度、及び制御内容の少なくとも１つを含む第２測定条件を決定し、第２測定条件の下で被検眼を雲霧視させた状態で撮像素子により得られた第３パターン像に基づいて眼屈折力値を解析部に算出させる。

このような構成によれば、仮測定を行って第１測定条件を決定し、決定された第１測定条件の下で再び仮測定を行って第２測定条件を決定し、第２測定条件の下で眼屈折力値を取得するようにしたので、パターン像の輝度が高い場合であっても、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置では、光源は、被検眼の眼底（Ｅｆ）と光学的に略共役になるように配置され、光学系は、被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置（Ｑ）に配置され光源からの光を透過する透光部が形成された絞り（リング絞り６５）と、光源からの光を偏向して透光部に導く偏向部材（円錐プリズム６３、リングレンズ６９）と、を含み、透光部を透過した光をパターン光として被検眼に投射してもよい。

このような構成によれば、眼底に細い（内径と外径との幅が狭い）パターン光を投射することができるようになるので、輝度の高いパターン光を投射することで、取得されたパターン像の解析精度を向上させることができるようになる。それにより、輝度の高いパターン像と、複数回の仮測定の実行とにより、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置では、制御部は、第１パターン像の輝度が高いとき第１輝度低下制御（ステップＳ１４、ステップＳ３２）を実行し、第１パターン像の輝度が低いとき第１輝度上昇制御（ステップＳ１４、ステップＳ３４）を実行し、第２パターン像の輝度が高いとき第２輝度低下制御（ステップＳ２０、ステップＳ３２）を実行し、第２パターン像の輝度が低いとき第２輝度上昇制御（ステップＳ２０、ステップＳ３４）を実行してもよい。

このような構成によれば、パターン像の輝度が所定の輝度範囲に収まるように第１測定条件と第２測定条件を決定するようにしたので、パターン像の輝度が高い場合であっても測定精度を低下させることなく、従来に比べてより高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置では、第１輝度低下制御及び第２輝度低下制御の少なくとも一方は、パターン像の輝度に基づいて、検出感度を下げることによりパターン像の輝度を下げる第１検出感度制御（ステップＳ４３）の後に、露光時間を短くすることによりパターン像の輝度を下げる第１露光時間制御（ステップＳ４５）を行ってもよい。

このような構成によれば、パターン像の輝度が高い場合に、測定環境に大きな影響を与えることなく、測定精度の低下を抑えることができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置では、第１輝度低下制御及び第２輝度低下制御の少なくとも一方は、第１露光時間制御（ステップＳ４５）の後に、光量を下げることによりパターン像の輝度を下げる第１光量制御（ステップＳ４７）を行ってもよい。

このような構成によれば、パターン像の輝度が高い場合に、被検眼の移動に起因する測定エラーの発生を抑えつつ、測定環境への影響を最小限に抑えることができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置では、光学系は、パターン光の光路に配置されたロータリープリズム（６７）を含み、第１露光時間制御は、ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上になるように露光時間を短くしてもよい。

このような構成によれば、ロータリープリズムによる光量分布の平均化の効果を得ながら測定精度の低下を抑えることができる。

また、実施形態に係る眼科装置では、第１輝度上昇制御及び第２輝度上昇制御の少なくとも一方は、光量を上げることによりをパターン像の輝度を上げる第２光量制御（ステップＳ５３）の後に、露光時間を長くすることによりパターン像の輝度を上げる第２露光時間制御（ステップＳ５５）を行ってもよい。

このような構成によれば、パターン光が被検者に視認されてしまうことなく被検眼の固視を容易にして、測定精度の低下を防ぐことができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置では、第１輝度上昇制御及び第２輝度上昇制御の少なくとも一方は、第２露光時間制御（ステップＳ５５）の後に、検出感度を上げることによりパターン像の輝度を上げる第２検出感度制御（ステップＳ５７）を行ってもよい。

このような構成によれば、測定時間の長期化を回避すると共に、ノイズ成分の増幅に起因する画質の劣化をできるだけ抑えることができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置では、パターン光は、リング状の光であってよい。

このような構成によれば、リング状の光に基づくリング像の輝度が高い場合であっても、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法は、光源（レフ測定光源６１）からの光に基づくパターン光（リング状光束）を被検眼（Ｅ）に投射し、パターン光の被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズ（７４）を介して撮像素子（５９）で受光することにより被検眼の屈折力を測定するための方法である。眼科装置の制御方法は、第１測定条件ステップ（ステップＳ１４）と、第２測定条件ステップ（ステップＳ２０）と、雲霧制御ステップ（ステップＳ２３）と、測定ステップ（ステップＳ２４）とを含む。第１測定条件ステップは、撮像素子により得られた第１パターン像に基づいて、光源の光量、撮像素子の露光時間、撮像素子の検出感度、及び合焦レンズに対する制御内容の少なくとも１つを含む第１測定条件を決定する。第２測定条件決定ステップは、第１測定条件の下で撮像素子により得られた第２パターン像に基づいて、光量、露光時間、検出感度、及び制御内容の少なくとも１つを含む第２測定条件を決定する。雲霧制御ステップは、第２測定条件の下で被検眼を雲霧視させる。測定ステップは、雲霧制御ステップにおいて被検眼を雲霧視させた状態で屈折力を測定する。

このような構成によれば、第１測定条件決定ステップにおいて第１測定条件を決定し、決定された第１測定条件の下で第２測定条件決定ステップにおいて第２測定条件を決定し、第２測定条件の下で眼屈折力値を取得するようにしたので、パターン像の輝度が高い場合であっても、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、第１測定条件決定ステップ及び第２測定条件決定ステップの少なくとも一方は、第１判定ステップ（ステップＳ３１）と、第２判定ステップ（ステップＳ４２）と、第１検出感度制御ステップ（ステップＳ４３）と、第３判定ステップ（ステップＳ４４）と、第１露光時間制御ステップ（ステップＳ４５）と、第４判定ステップ（ステップＳ４６）と、第１光量制御ステップ（ステップＳ４７）とを含んでもよい。第１判定ステップは、パターン像の輝度が高いか否かを判定する。第２判定ステップは、第１判定ステップにおいて輝度が高いと判定されたとき、検出感度が第１閾値（ＴＨ１）以上であるか否かを判定する。第１検出感度制御ステップは、第２判定ステップにおいて検出感度が第１閾値以上であると判定されたとき、検出感度を下げる。第３判定ステップは、第２判定ステップにおいて検出感度が第１閾値未満であると判定されたとき、露光時間が第２閾値（ＴＨ２）以上であるか否かを判定する。第１露光時間制御ステップは、第３判定ステップにおいて露光時間が第２閾値以上であると判定されたとき、露光時間を短くする。第４判定ステップは、第３判定ステップにおいて検出感度が第２閾値未満であると判定されたとき、光量が第３閾値（ＴＨ３）以上であるか否かを判定する。第１光量制御ステップは、第４判定ステップにおいて光量が第３閾値以上であると判定されたとき、光量を下げる。

このような構成によれば、パターン像の輝度が高い場合に、まず、検出感度を下げてから露光時間を短くし、光量を下げるようにしたので、測定環境に与える影響を小さくしつつ、被検眼の動きに対する測定精度の低下を最小限に抑えることができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、眼科装置は、パターン光の光路に配置されたロータリープリズム（６７）を含み、第２閾値は、ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上であってよい。

このような構成によれば、ロータリープリズムによる光量分布の平均化の効果を得ながら測定精度の低下を抑えることができる。

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、第１測定条件決定ステップ及び第２測定条件決定ステップの少なくとも一方は、第５判定ステップ（ステップＳ３３）と、第６判定ステップ（ステップＳ５２）と、第２光量制御ステップ（ステップＳ５３）と、第７判定ステップ（ステップＳ５４）と、第２露光時間制御ステップ（ステップＳ５５）と、第８判定ステップ（ステップＳ５６）と、第２検出感度制御ステップ（ステップＳ５７）とを含んでもよい。第５判定ステップは、パターン像の輝度が低いか否かを判定する。第６判定ステップは、第５判定ステップにおいて輝度が低いと判定されたとき、光量が第４閾値（ＴＨ４）以下であるか否かを判定する。第２光量制御ステップは、第６判定ステップにおいて光量が第４閾値以下であると判定されたとき、光量を上げる。第７判定ステップは、第６判定ステップにおいて光量が第４閾値を超えると判定されたとき、露光時間が第５閾値（ＴＨ５）以下であるか否かを判定する。第２露光時間制御ステップは、第７判定ステップにおいて露光時間が第５閾値以下であると判定されたとき、露光時間を長くする。第８判定ステップは、第７判定ステップにおいて露光時間が第５閾値を超えると判定されたとき、検出感度が第６閾値（ＴＨ６）以下であるか否かを判定する。第２検出感度制御ステップは、第８判定ステップにおいて検出感度が第６閾値以下であると判定されたとき、検出感度を上げる。

このような構成によれば、パターン像の輝度が低い場合に、まず、光量を上げてから露光時間を長くし、検出感度を上げるようにしたので、検出感度を上げることによるノイズ成分の増加を抑えつつ、被検眼の動きに対する測定精度の低下を最小限に抑えることができるようになる。

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、光源は、被検眼の眼底（Ｅｆ）と光学的に略共役になるように配置され、眼科装置は、被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置（Ｑ）に配置され光源からの光を透過する透光部が形成された絞り（リング絞り６５）と、光源からの光を偏向して透光部に導く偏向部材（円錐プリズム６３、リングレンズ６９）と、を含み、透光部を透過した光をパターン光として被検眼に投射してもよい。

このような構成によれば、眼底に細い（内径と外径との幅が狭い）パターン光を投射することができるようになるので、輝度の高いパターン光を投射することで、取得されたパターン像の解析精度を向上させることができるようになる。それにより、輝度の高いパターン像と、複数回の仮測定の実行とにより、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。

＜その他の変形例＞
以上に示された実施形態は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。

前述の実施形態では、視標チャート４３として透過型の液晶パネルを用いた場合について説明したが、実施形態に係る眼科装置の構成はこれに限定されるものではない。視標チャート４３は、光学式チャートであってもよい。

前述の実施形態おける撮像素子５９の露光時間の変更に代えて、撮像素子５９により得られた画像の重ね合わせ枚数を変更するようにしてもよい。この場合、演算処理部１２０（解析部１２１）は、主制御部１１１から指定された重ね合わせ枚数で、撮像素子５９により得られた画像の重ね合わせ処理を行うことが可能である。

１ Ｚアライメント系
２ ＸＹアライメント系
３ ケラト測定系
４ 視標投影系
５ 前眼部観察系
６、６ａ レフ測定投射系
７ レフ測定受光系
９ 処理部
６３ 円錐プリズム
６４ フィールドレンズ
６５ リング絞り
６９ リングレンズ
１１０ 制御部
１１１ 主制御部
１２１ 解析部
１０００、１０００ａ 眼科装置

Claims (9)

1. 被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置された光源からの光に基づくパターン光を前記被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光する光学系と、
   前記撮像素子により得られたパターン像に基づいて前記被検眼の眼屈折力値を算出する解析部と、
   前記撮像素子により得られた第１パターン像に基づいて前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも１つを含む第１測定条件を決定し、前記第１測定条件の下で前記撮像素子により得られた第２パターン像に基づいて前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも１つを含む第２測定条件を決定し、前記第２測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させた状態で前記撮像素子により得られた第３パターン像に基づいて前記眼屈折力値を前記解析部に算出させる制御部と、
   を含み、
   前記光学系は、
   前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、
   前記光源からの光を前記透光部に導くリングレンズと、
   を含み、
   前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射する、眼科装置。
2. 前記制御部は、前記第１パターン像の輝度が高いとき第１輝度低下制御を実行し、前記第１パターン像の輝度が低いとき第１輝度上昇制御を実行し、前記第２パターン像の輝度が高いとき第２輝度低下制御を実行し、前記第２パターン像の輝度が低いとき第２輝度上昇制御を実行する
   ことを特徴とする請求項１に記載の眼科装置。
3. 前記第１輝度低下制御及び前記第２輝度低下制御の少なくとも一方は、パターン像の輝度に基づいて、前記検出感度を下げることによりパターン像の輝度を下げる第１検出感度制御の後に、前記露光時間を短くすることによりパターン像の輝度を下げる第１露光時間制御を行う
   ことを特徴とする請求項２に記載の眼科装置。
4. 前記第１輝度低下制御及び前記第２輝度低下制御の少なくとも一方は、前記第１露光時間制御の後に、前記光量を下げることによりパターン像の輝度を下げる第１光量制御を行う
   ことを特徴とする請求項３に記載の眼科装置。
5. 前記光学系は、前記パターン光の光路に配置されたロータリープリズムを含み、
   前記第１露光時間制御は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上になるように前記露光時間を短くする
   ことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の眼科装置。
6. 前記第１輝度上昇制御及び前記第２輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記光量を上げることによりをパターン像の輝度を上げる第２光量制御の後に、前記露光時間を長くすることによりパターン像の輝度を上げる第２露光時間制御を行う
   ことを特徴とする請求項２～請求項５のいずれか一項に記載の眼科装置。
7. 前記第１輝度上昇制御及び前記第２輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記第２露光時間制御の後に、前記検出感度を上げることによりパターン像の輝度を上げる第２検出感度制御を行う
   ことを特徴とする請求項６に記載の眼科装置。
8. 前記パターン光は、リング状の光である
   ことを特徴とする請求項１～請求項７のいずれか一項に記載の眼科装置。
9. 被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置され光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、前記光源からの光を前記透光部に導くリングレンズと、を含み、前記透光部を透過した光をパターン光として前記被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光することにより前記被検眼の屈折力を測定する眼科装置の制御方法であって、
   前記撮像素子により得られた第１パターン像に基づいて、前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも１つを含む第１測定条件を決定する第１測定条件決定ステップと、
   前記第１測定条件の下で前記撮像素子により得られた第２パターン像に基づいて、前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも１つを含む第２測定条件を決定する第２測定条件決定ステップと、
   前記第２測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させる雲霧制御ステップと、
   前記雲霧制御ステップにおいて前記被検眼を雲霧視させた状態で前記屈折力を測定する測定ステップと、
   を含む眼科装置の制御方法。

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