JP7198256B2

JP7198256B2 - optical laminate

Info

Publication number: JP7198256B2
Application number: JP2020194696A
Authority: JP
Inventors: 孝伸矢野; 貴巳疋田; 岳仁淵田; 洪賛趙
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2020-11-24
Filing date: 2020-11-24
Publication date: 2022-12-28
Anticipated expiration: 2040-11-24
Also published as: TW202220838A; JP2022083324A

Description

本発明は、ガラス板を備える光学積層体に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical laminate including glass plates.

ガラス板と、接着剤層と、ポリエチレンテレフタレートフィルムまたはトリアセチルセルロースフィルムとを備える光学積層体が知られている（例えば、下記特許文献１参照。）。ガラス板は、光学特性に優れる一方、耐衝撃性が低い。耐衝撃性は、ガラス板が衝撃を受けたときに、ガラス板にクラックを含む損傷を抑制する性質である。特許文献１の実施例に記載の光学積層体は、３層積層構造を有する。 An optical laminate including a glass plate, an adhesive layer, and a polyethylene terephthalate film or a triacetylcellulose film is known (see, for example, Patent Document 1 below). A glass plate has excellent optical properties, but has low impact resistance. Impact resistance is a property of suppressing damage including cracks in a glass sheet when the glass sheet receives an impact. The optical laminate described in Examples of Patent Document 1 has a three-layer laminate structure.

特開２０１９－２５８９９号公報JP 2019-25899 A

近年、光学積層体には、より高いレベルの耐衝撃性が求められる。例えばガラス板の厚みを非常に厚くすれば、耐衝撃性は向上する。しかし薄型化、軽量化の観点で、より薄いガラスが望ましい。 In recent years, optical laminates are required to have a higher level of impact resistance. For example, if the thickness of the glass plate is made very thick, the impact resistance is improved. However, from the viewpoint of thinning and weight reduction, thinner glass is desirable.

本発明は、耐衝撃性に優れる光学積層体を提供する。 The present invention provides an optical laminate having excellent impact resistance.

そこで、本願発明者らは、鋭意検討した結果、驚くべきことに、厚みが４０μm以上、６０μｍ以下の薄いガラス板を光学積層体に備え、また、特定のｔａｎδおよび特定の引張貯蔵弾性率Ｅ’を有するフィルムを接着剤層を介して光学積層体に備え、さらに厚みが２０μｍ以下の粘着剤層をフィルムのガラス板とは反対面に備えることによって、光学積層体の耐衝撃性を向上できることを見出した。 Therefore, the inventors of the present application have made intensive studies, and surprisingly, the optical laminate is provided with a thin glass plate having a thickness of 40 µm or more and 60 µm or less, and the specific tan δ and specific tensile storage elastic modulus E' is provided on the optical layered body via an adhesive layer, and a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 20 μm or less is provided on the opposite side of the film to the glass plate to improve the impact resistance of the optical layered body. Found it.

本発明（１）は、ガラス板と、接着剤層と、フィルムと、粘着剤層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、前記ガラス板は、４０μｍ以上、６０μｍ以下の厚みを有し、周波数１０Ｈｚ、昇温速度２℃／ｍｉｎ、引張モードの動的粘弾性試験により求められる－１００℃から－５０℃における前記フィルムのｔａｎδの平均が、０．０６以上であり、前記動的粘弾性試験により求められる－１００℃から－５０℃における前記フィルムの引張貯蔵弾性率Ｅ’の平均が、３ＧＰａ以上、６ＧＰａ以下であり、前記粘着剤層は、２０μｍ以下の厚みを有する、光学積層体を含む。 The present invention (1) comprises a glass plate, an adhesive layer, a film, and an adhesive layer in order toward one side in the thickness direction, wherein the glass plate has a thickness of 40 μm or more and 60 μm or less, The average tan δ of the film at -100 ° C. to -50 ° C. obtained by a dynamic viscoelasticity test in tension mode at a frequency of 10 Hz, a temperature increase rate of 2 ° C./min, is 0.06 or more, and the dynamic viscoelasticity An optical layered body in which the average tensile storage modulus E′ of the film at −100° C. to −50° C. determined by a test is 3 GPa or more and 6 GPa or less, and the pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 20 μm or less. include.

本発明の光学積層体は、ガラス板の厚みが４０μｍ以上６０μｍ以下であり、特定のｔａｎδおよび特定の引張貯蔵弾性率Ｅ’を有するフィルムを接着剤層を介して備え、さらに２０μｍ以下の厚みを有する粘着剤層を備えるので、耐衝撃性に優れる。 The optical laminate of the present invention comprises a glass plate having a thickness of 40 μm or more and 60 μm or less, a film having a specific tan δ and a specific tensile storage elastic modulus E′ interposed through an adhesive layer, and further having a thickness of 20 μm or less. Since it has a pressure-sensitive adhesive layer, it has excellent impact resistance.

図１は、本発明の光学積層体の一実施形態の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of one embodiment of the optical laminate of the present invention. 図２は、図１に示す光学積層体を備える有機エレクトロルミネセンス表示装置の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of an organic electroluminescence display provided with the optical layered body shown in FIG.

＜光学積層体１＞
本発明の光学積層体の一実施形態を、図１を参照して説明する。 <Optical laminate 1>
One embodiment of the optical laminate of the present invention will be described with reference to FIG.

この光学積層体１は、例えば、面方向に延びる平板形状を有する。面方向は、光学積層体１の厚み方向に直交する。光学積層体１は、ガラス板２と、接着剤層３と、フィルム４と、粘着剤層１２とを厚み方向一方側に向かって順に備える。 This optical layered body 1 has, for example, a flat plate shape extending in the plane direction. The plane direction is orthogonal to the thickness direction of the optical layered body 1 . The optical laminate 1 includes a glass plate 2, an adhesive layer 3, a film 4, and an adhesive layer 12 in order toward one side in the thickness direction.

＜ガラス板２＞
ガラス板２は、面方向に延びる。ガラス板２は、光学積層体１における厚み方向他方面を形成する。ガラス板２の全光線透過率は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上であり、また、例えば、９９％以下である。ガラス板２は、市販品を用いることができ、例えば、Ｇ－ｌｅａｆシリーズ（登録商標、日本電気硝子社製）を用いることができる。 <Glass plate 2>
The glass plate 2 extends in the surface direction. The glass plate 2 forms the other surface in the thickness direction of the optical laminate 1 . The total light transmittance of the glass plate 2 is, for example, 80% or more, preferably 85% or more, and is, for example, 99% or less. As the glass plate 2, a commercially available product can be used, for example, the G-leaf series (registered trademark, manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd.) can be used.

＜ガラス板２の厚み＞
ガラス板２の厚みは、４０μｍ以上、６０μｍ以下である。ガラス板２の厚みが十分に厚ければ耐衝撃性が向上する。この観点から、ガラス板２の厚みがより厚いほど、耐衝撃性もより向上すると考えられるが、ガラス板２の厚みが４０μｍ以上、６０μｍ以下において、特定のｔａｎδおよび特定の引張貯蔵弾性率Ｅ’を有するフィルム４を接着剤層３を介して光学積層体１に備え、さらに２０μｍ以下の粘着剤層１２を備えることによって、光学積層体１は、耐衝撃性を向上することができる。 <Thickness of Glass Plate 2>
The thickness of the glass plate 2 is 40 μm or more and 60 μm or less. If the thickness of the glass plate 2 is sufficiently thick, impact resistance will be improved. From this point of view, the greater the thickness of the glass plate 2, the more improved the impact resistance. is provided on the optical layered body 1 via the adhesive layer 3, and further provided with the adhesive layer 12 having a thickness of 20 μm or less, the optical layered body 1 can be improved in impact resistance.

ガラス板２の厚みは、好ましくは、４２μｍ以上、より好ましくは、４５μｍ以上、さらに好ましくは、４８μｍ以上である。ガラス板２の厚みは、例えば、５８μｍ以下、好ましくは、５５μｍ以下、より好ましくは、５２μｍ以下である。なお、ガラス板２は、上記した厚みを有するので、薄ガラス板と称呼される。 The thickness of the glass plate 2 is preferably 42 μm or more, more preferably 45 μm or more, still more preferably 48 μm or more. The thickness of the glass plate 2 is, for example, 58 μm or less, preferably 55 μm or less, more preferably 52 μm or less. In addition, since the glass plate 2 has the thickness described above, it is called a thin glass plate.

＜接着剤層３＞
接着剤層３は、面方向に延びる。接着剤層３は、ガラス板２の厚み方向一方面に配置されている。具体的には、接着剤層３は、ガラス板２の厚み方向一方面に接触する。接着剤層３は、粘着剤（感圧接着剤）からなる粘着剤層（感圧接着剤層）ではなく、硬化型接着剤の硬化体である。詳しくは、接着剤層３は、活性エネルギー線の照射または加熱よって硬化反応する硬化型接着剤の硬化体である。 <Adhesive Layer 3>
The adhesive layer 3 extends in the planar direction. The adhesive layer 3 is arranged on one surface of the glass plate 2 in the thickness direction. Specifically, the adhesive layer 3 contacts one surface of the glass plate 2 in the thickness direction. The adhesive layer 3 is not a pressure-sensitive adhesive layer (pressure-sensitive adhesive layer) made of a pressure-sensitive adhesive (pressure-sensitive adhesive), but a cured body of a curable adhesive. Specifically, the adhesive layer 3 is a cured body of a curable adhesive that undergoes a curing reaction when irradiated with active energy rays or heated.

硬化型接着剤は、接着剤層３の硬化原料であって、活性エネルギー硬化型、および、熱硬化型が挙げられ、好ましくは、活性エネルギー硬化型が挙げられる。具体的には、硬化型接着剤としては、例えば、アクリル接着剤組成物、エポキシ接着剤組成物、および、シリコーン接着剤組成物が挙げられ、優れた耐衝撃性を得る観点から、エポキシ接着剤組成物が挙げられる。 The curable adhesive is a curable raw material for the adhesive layer 3, and includes active energy curable and heat curable adhesives, preferably active energy curable adhesives. Specifically, curable adhesives include, for example, acrylic adhesive compositions, epoxy adhesive compositions, and silicone adhesive compositions. compositions.

エポキシ接着剤組成物は、エポキシ樹脂を主剤として含む。エポキシ樹脂としては、例えば、２つのエポキシ基を含有する２官能エポキシ樹脂、３つ以上エポキシ基を含有する多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは、単独使用または２種以上併用できる。好ましくは、２官能エポキシ樹脂と多官能エポキシ樹脂との併用が挙げられる。 The epoxy adhesive composition contains an epoxy resin as a main ingredient. Examples of epoxy resins include bifunctional epoxy resins containing two epoxy groups and polyfunctional epoxy resins containing three or more epoxy groups. These can be used alone or in combination of two or more. A combination of a bifunctional epoxy resin and a polyfunctional epoxy resin is preferred.

２官能エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノール型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂などの芳香族系エポキシ樹脂、例えば、トリエポキシプロピルイソシアヌレート、ヒダントインエポキシ樹脂などの含窒素環エポキシ樹脂、さらには、脂肪族型エポキシ樹脂、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂が挙げられる。２官能エポキシ樹脂として、好ましくは、脂肪族型エポキシ樹脂が挙げられる。脂肪族型エポキシ樹脂は、脂肪族脂環式エポキシ樹脂を含む。２官能エポキシ樹脂のエポキシ当量は、例えば、１００ｇ／ｅｑ．以上、好ましくは、１２０ｇ／ｅｑ．以上であり、また、例えば、２５０ｇ／ｅｑ．以下、好ましくは、１５０ｇ／ｅｑ．以下である。エポキシ樹脂における２官能エポキシ樹脂の割合は、例えば、８０質量％以上、好ましくは、９０質量％以上であり、また、例えば、９９質量％以下、好ましくは、９７質量％以下である。 Examples of bifunctional epoxy resins include aromatic epoxy resins such as bisphenol-type epoxy resins, novolac-type epoxy resins, naphthalene-type epoxy resins, fluorene-type epoxy resins, triphenylmethane-type epoxy resins, and triepoxypropyl isocyanurate. , nitrogen-containing ring epoxy resins such as hydantoin epoxy resins, aliphatic type epoxy resins, glycidyl ether type epoxy resins, and glycidyl amine type epoxy resins. The bifunctional epoxy resin is preferably an aliphatic epoxy resin. Aliphatic type epoxy resins include aliphatic alicyclic epoxy resins. The epoxy equivalent of the bifunctional epoxy resin is, for example, 100 g/eq. above, preferably 120 g/eq. or more, and, for example, 250 g/eq. Below, preferably 150 g/eq. It is below. The ratio of the bifunctional epoxy resin in the epoxy resin is, for example, 80% by mass or more, preferably 90% by mass or more, and is, for example, 99% by mass or less, preferably 97% by mass or less.

多官能エポキシ樹脂としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリスヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、３官能脂肪族エポキシ樹脂などの３官能以上の多官能エポキシ樹脂が挙げられる。多官能エポキシ樹脂として、好ましくは、３官能脂肪族エポキシ樹脂が挙げられる。多官能エポキシ樹脂のエポキシ当量は、例えば、１３０ｇ／ｅｑ．以上、好ましくは、１５０ｇ／ｅｑ．以上であり、また、例えば、２２０ｇ／ｅｑ．以下、好ましくは、２００ｇ／ｅｑ．以下である。エポキシ樹脂における多官能エポキシ樹脂の割合は、例えば、１質量％以上、好ましくは、３質量％以上であり、また、例えば、２０質量％以下、好ましくは、１０質量％以下である。 Polyfunctional epoxy resins include, for example, phenol novolak type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, trishydroxyphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylolethane type epoxy resin, dicyclopentadiene type epoxy resin, and trifunctional aliphatic epoxy resin. Trifunctional or more polyfunctional epoxy resins such as. The polyfunctional epoxy resin preferably includes a trifunctional aliphatic epoxy resin. The epoxy equivalent of the polyfunctional epoxy resin is, for example, 130 g/eq. above, preferably 150 g/eq. or more, and, for example, 220 g/eq. Below, preferably 200 g/eq. It is below. The proportion of the polyfunctional epoxy resin in the epoxy resin is, for example, 1% by mass or more, preferably 3% by mass or more, and is, for example, 20% by mass or less, preferably 10% by mass or less.

エポキシ接着剤組成物におけるエポキシ樹脂の割合は、例えば、６０質量％以上、好ましくは、７５質量％以上であり、また、例えば、９０質量％以下、好ましくは、８０質量％以下である。 The proportion of the epoxy resin in the epoxy adhesive composition is, for example, 60% by mass or more, preferably 75% by mass or more, and is, for example, 90% by mass or less, preferably 80% by mass or less.

エポキシ樹脂は、市販品を用いることができ、脂肪族脂環式エポキシ樹脂として、セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル化学社製）、３官能脂肪族エポキシ樹脂として、ＥＨＰＥ３１５０（ダイセル化学社製）などが用いられる。 Commercially available epoxy resins can be used, such as Celoxide 2021P (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) as an aliphatic alicyclic epoxy resin, and EHPE3150 (manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) as a trifunctional aliphatic epoxy resin.

また、エポキシ接着剤組成物は、活性エネルギー硬化型であれば、光酸発生剤を含む。光酸発生剤としては、例えば、トリアリールスルホニウム塩などが挙げられる。光酸発生剤は、市販品を用いることができ、トリアリールスルホニウム塩として、ＣＰＩ１０１Ａ（サンアフロ社製）などが用いられる。エポキシ接着剤組成物における光酸発生剤の割合は、例えば、１質量％以上、好ましくは、１０質量％以上であり、また、例えば、３０質量％以下、好ましくは、２０質量％以下である。 Moreover, if the epoxy adhesive composition is of the active energy curable type, it contains a photoacid generator. Examples of photoacid generators include triarylsulfonium salts. A commercially available photoacid generator can be used, and CPI101A (manufactured by San-Aflo Co., Ltd.) is used as a triarylsulfonium salt. The proportion of the photoacid generator in the epoxy adhesive composition is, for example, 1% by mass or more, preferably 10% by mass or more, and is, for example, 30% by mass or less, preferably 20% by mass or less.

さらに、エポキシ接着剤組成物は、例えば、オキセタン系樹脂、シランカップリング剤などの添加剤を適宜の割合で含むことができる。 Furthermore, the epoxy adhesive composition can contain additives such as oxetane resins and silane coupling agents in appropriate proportions.

オキセタン系樹脂としては、例えば、３－エチル－３－オキセタンメタノール、２―エチルヘキシルオキセタンなどの単官能オキセタン、例えば、キシリレンビスオキセタン、３―エチル―３｛［（３―エチルオキセタン―３―イル）メトキシ］メチル｝オキセタンなどの２官能オキセタンが挙げられる。オキセタン系樹脂は、市販品を用いることができ、アロンオキセタン（東亞合成社製）などが用いられる。 Examples of oxetane resins include monofunctional oxetanes such as 3-ethyl-3-oxetanemethanol and 2-ethylhexyloxetane, xylylenebisoxetane, 3-ethyl-3{[(3-ethyloxetane-3-yl ) difunctional oxetanes such as methoxy]methyl}oxetane. A commercial product can be used as the oxetane-based resin, such as Aron oxetane (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).

シランカップリング剤として、例えば、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有シランカップリング剤などが挙げられる。シランカップリング剤は、市販品を用いることができ、ＫＢＭシリーズ（信越シリコーン社製）などが挙げられる。 Silane coupling agents include, for example, epoxy group-containing silane coupling agents such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane. As the silane coupling agent, a commercially available product can be used, such as the KBM series (manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.).

接着剤層３の厚みは、限定されない。接着剤層３の厚みは、例えば、０．１μｍ以上であり、また、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下、より好ましくは、３μｍ以下である。 The thickness of the adhesive layer 3 is not limited. The thickness of the adhesive layer 3 is, for example, 0.1 μm or more, and is, for example, 10 μm or less, preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less.

接着剤層３の全光線透過率は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上であり、また、例えば、９９％以下である。 The total light transmittance of the adhesive layer 3 is, for example, 80% or more, preferably 85% or more, and is, for example, 99% or less.

２５℃における接着剤層３の引張貯蔵弾性率Ｅ’は、例えば、１ＧＰａ以上、好ましくは、２ＧＰａ以上、より好ましくは、３ＧＰａ以上、さらに好ましくは、４ＧＰａ以上であり、また、例えば、１００ＧＰａ以下である。２５℃における接着剤層３の引張貯蔵弾性率Ｅ’は、周波数１Ｈｚ、昇温速度５℃／分の条件の温度分散モードで動的粘弾性を測定することにより求められる。また、ナノインデンター法で測定される２５℃における接着剤層３の弾性率は、例えば、１ＧＰａ以上、好ましくは、２ＧＰａ以上、より好ましくは、３ＧＰａ以上、さらに好ましくは、４ＧＰａ以上であり、また、例えば、１００ＧＰａ以下である。ナノインデンター法の測定条件は、下記の通りである。 The tensile storage modulus E′ of the adhesive layer 3 at 25° C. is, for example, 1 GPa or more, preferably 2 GPa or more, more preferably 3 GPa or more, still more preferably 4 GPa or more, and for example, 100 GPa or less. be. The tensile storage modulus E' of the adhesive layer 3 at 25°C is obtained by measuring the dynamic viscoelasticity in the temperature dispersion mode under the conditions of a frequency of 1 Hz and a heating rate of 5°C/min. In addition, the elastic modulus of the adhesive layer 3 at 25° C. measured by the nanoindenter method is, for example, 1 GPa or more, preferably 2 GPa or more, more preferably 3 GPa or more, still more preferably 4 GPa or more, and , for example, 100 GPa or less. The measurement conditions for the nanoindenter method are as follows.

装置：Ｔｒｉｂｏｉｎｄｅｎｔｅｒ（ＨｙｓｉｔｒｏｎＩｎｃ．製）
サンプルサイズ：１０×１０ｍｍ
圧子：Ｃｏｎｃｉａｌ（球形圧子：曲率半径１０μｍ）、
測定方法：単一押し込み測定
測定温度：２５℃
圧子の押込深さ：１００ｎｍ
温度：２５℃
解析：荷重－変位曲線に基づくＯｌｉｖｅｒＰｈａｒｒ解析 Apparatus: Triboindenter (manufactured by Hysitron Inc.)
Sample size: 10x10mm
Indenter: Concial (spherical indenter: curvature radius 10 μm),
Measurement method: single indentation measurement Measurement temperature: 25°C
Indentation depth of indenter: 100 nm
Temperature: 25°C
Analysis: Oliver Pharr analysis based on load-displacement curves

＜フィルム４＞
フィルム４は、接着剤層３に対するガラス板２の反対側に位置する。フィルム４は、面方向に延びる。フィルム４は、接着剤層３の厚み方向一方面に配置している。なお、フィルム４は、接着剤層３の厚み方向一方面に接触している。これによって、接着剤層３は、ガラス板２の厚み方向一方面、および、フィルム４の厚み方向他方面に接触し、ガラス板２とフィルム４とを接着（接合）している。 <Film 4>
A film 4 is located on the opposite side of the glass plate 2 to the adhesive layer 3 . The film 4 extends in the surface direction. The film 4 is arranged on one surface of the adhesive layer 3 in the thickness direction. In addition, the film 4 is in contact with one surface of the adhesive layer 3 in the thickness direction. As a result, the adhesive layer 3 is in contact with one surface in the thickness direction of the glass plate 2 and the other surface in the thickness direction of the film 4 to adhere (join) the glass plate 2 and the film 4 .

＜フィルム４のｔａｎδの平均＞
周波数１０Ｈｚ、昇温速度２℃／ｍｉｎ、データ取得間隔０．５ｍｉｎ、引張モードの動的粘弾性試験により求められる－１００℃から－５０℃におけるフィルム４のｔａｎδの平均は、０．０６以上である。－１００℃から－５０℃におけるフィルム４のｔａｎδの平均が０．０６未満であれば、光学積層体１の耐衝撃性が低下する。－１００℃から－５０℃におけるフィルム４のｔａｎδの平均は、物体が光学積層体１に高速で衝突したときの応答性を示す指標である。ｔａｎδの平均が高ければ、ガラス板２が受けた衝撃をフィルム４が十分に緩和でき、光学積層体１の耐衝撃性を向上できる。 <Average of tan δ of film 4>
The average tan δ of the film 4 at -100°C to -50°C obtained by a dynamic viscoelasticity test in tension mode at a frequency of 10Hz, a temperature increase rate of 2°C/min, a data acquisition interval of 0.5min, and 0.06 or more. be. If the average tan δ of the film 4 at −100° C. to −50° C. is less than 0.06, the impact resistance of the optical laminate 1 is lowered. The average tan δ of the film 4 at −100° C. to −50° C. is an index showing responsiveness when an object collides with the optical layered body 1 at high speed. If the average of tan δ is high, the film 4 can sufficiently absorb the impact received by the glass plate 2 and the impact resistance of the optical laminate 1 can be improved.

－１００℃から－５０℃におけるフィルム４のｔａｎδの平均の上限は、限定されない。－１００℃から－５０℃におけるフィルム４のｔａｎδの平均は、例えば、０．５０以下である。動的粘弾性試験は、後の実施例で記載する。 The average upper limit of tan δ of Film 4 at -100°C to -50°C is not limited. The average tan δ of the film 4 at -100°C to -50°C is, for example, 0.50 or less. Dynamic viscoelasticity testing is described in a later example.

＜フィルム４の引張貯蔵弾性率Ｅ’の平均＞
周波数１０Ｈｚ、昇温速度２℃／ｍｉｎ、データ取得間隔０．５ｍｉｎ、引張モードの動的粘弾性試験により求められる－１００℃から－５０℃におけるフィルム４の引張貯蔵弾性率Ｅ’の平均は、３ＧＰａ以上、好ましくは、４ＧＰ以上、より好ましくは、５ＧＰ以上であり、また、６ＧＰａ以下である。－１００℃から－５０℃におけるフィルム４の引張貯蔵弾性率Ｅ’の平均が６ＧＰａを越えると、フィルム４が硬くなりすぎ、光学積層体１の耐衝撃性が低下する。一方、－１００℃から－５０℃におけるフィルム４の引張貯蔵弾性率Ｅ’の平均が３ＧＰ未満であれば、フィルム４が柔らかすぎるため、その結果、光学積層体１の耐衝撃性を十分に向上できない。 <Average Tensile Storage Modulus E′ of Film 4>
The average tensile storage modulus E′ of the film 4 at −100° C. to −50° C. obtained by a dynamic viscoelasticity test in tensile mode at a frequency of 10 Hz, a temperature increase rate of 2° C./min, a data acquisition interval of 0.5 min, is It is 3 GPa or more, preferably 4 GP or more, more preferably 5 GP or more, and 6 GPa or less. If the average tensile storage modulus E′ of the film 4 at −100° C. to −50° C. exceeds 6 GPa, the film 4 becomes too hard and the impact resistance of the optical laminate 1 decreases. On the other hand, if the average tensile storage modulus E′ of the film 4 at −100° C. to −50° C. is less than 3GP, the film 4 is too soft, and as a result, the impact resistance of the optical laminate 1 is sufficiently improved. Can not.

フィルム４としては、例えば、ポリエステルフィルムが挙げられる。ポリエステルフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）フィルム、および、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムが挙げられる。フィルム４として、光学積層体１の耐衝撃性を向上させる観点から、好ましくは、ＰＥＴフィルムが挙げられる。 Examples of the film 4 include a polyester film. Polyester films include, for example, polyethylene terephthalate film (PET), polybutylene terephthalate (PBT) film, and polyethylene naphthalate (PEN) film. From the viewpoint of improving the impact resistance of the optical laminate 1, the film 4 is preferably a PET film.

フィルム４の厚みは、限定されない。フィルム４の厚みは、例えば、１０μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上、より好ましくは、３０μｍ以上、さらに好ましくは、４０μｍ以上であり、また、例えば、１５０μｍ以下、好ましくは、１００μｍ以下、好ましくは、７５μｍ以下である。 The thickness of the film 4 is not limited. The thickness of the film 4 is, for example, 10 μm or more, preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, still more preferably 40 μm or more, and is, for example, 150 μm or less, preferably 100 μm or less, preferably 75 μm. It is below.

フィルム４の全光線透過率は、例えば、８０％以上、好ましくは、８５％以上であり、また、例えば、９９％以下である。 The total light transmittance of the film 4 is, for example, 80% or more, preferably 85% or more, and is, for example, 99% or less.

＜粘着剤層１２＞
粘着剤層１２は、フィルム４の厚み方向一方面を形成する。粘着剤層１２は、フィルム４の厚み方向一方面に配置される。具体的には、粘着剤層１２は、フィルム４の厚み方向一方面に接触する。粘着剤層１２は、硬化反応を伴わず、感圧接着する接着体である。 <Adhesive layer 12>
The adhesive layer 12 forms one surface of the film 4 in the thickness direction. The adhesive layer 12 is arranged on one surface of the film 4 in the thickness direction. Specifically, the pressure-sensitive adhesive layer 12 contacts one surface of the film 4 in the thickness direction. The pressure-sensitive adhesive layer 12 is an adhesive that is pressure-sensitively adhered without a curing reaction.

粘着剤層１２の材料は、限定されない。粘着剤層１２の材料としては、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリアミド系粘着剤、ウレタン系粘着剤、フッ素系粘着剤、エポキシ系粘着剤、および、ポリエーテル系粘着剤が挙げられる。材料としては、好ましくは、アクリル系粘着剤が挙げられる。粘着剤層１２の処方および物性は、例えば、特開２０１８－２８５７３号公報に詳述される。 The material of the adhesive layer 12 is not limited. Materials for the adhesive layer 12 include, for example, acrylic adhesives, rubber adhesives, vinyl alkyl ether adhesives, silicone adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, urethane adhesives, and fluorine adhesives. Adhesives, epoxy-based adhesives, and polyether-based adhesives can be mentioned. The material preferably includes an acrylic pressure-sensitive adhesive. The formulation and physical properties of the pressure-sensitive adhesive layer 12 are detailed, for example, in JP-A-2018-28573.

粘着剤層１２の２５℃におけるせん断貯蔵弾性率Ｇ’は、例えば、０．０１MＰａ以上であり、また、例えば、０．２０ＭＰａ以下である。せん断貯蔵弾性率Ｇ’は、周波数１Ｈｚ、昇温速度５℃／ｍｉｎ、せん断（ひねり）モードの動的粘弾性試験により求められる。 The shear storage elastic modulus G' of the pressure-sensitive adhesive layer 12 at 25°C is, for example, 0.01 MPa or more and, for example, 0.20 MPa or less. The shear storage modulus G' is determined by a dynamic viscoelasticity test in a shear (twist) mode at a frequency of 1 Hz and a heating rate of 5°C/min.

粘着剤層１２の厚みは、２０μｍ以下である。粘着剤層１２の厚みが２０μｍを越えれば、光学積層体１の耐衝撃性が低下する。粘着剤層１２の厚みは、例えば、５μｍ以上、好ましくは、１０μｍ以上である。 The thickness of the adhesive layer 12 is 20 μm or less. If the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 12 exceeds 20 μm, the impact resistance of the optical layered body 1 is lowered. The thickness of the adhesive layer 12 is, for example, 5 μm or more, preferably 10 μm or more.

光学積層体１の厚みは、例えば、７０μｍ以上であり、また、例えば、２５０μｍ以下以下である。 The thickness of the optical layered body 1 is, for example, 70 μm or more and, for example, 250 μm or less.

＜光学積層体１の製造方法＞
光学積層体１の製造方法を説明する。光学積層体１の製造方法では、例えば、まず、ガラス板２の厚み方向一方面および／またはフィルム４の厚み方向他方面に、硬化型接着剤を配置（塗布）し続いて、ガラス板２およびフィルム４で、硬化型接着剤を挟み込む。 <Manufacturing Method of Optical Layered Body 1>
A method for manufacturing the optical laminate 1 will be described. In the method for manufacturing the optical laminate 1, for example, first, a curable adhesive is placed (applied) on one side in the thickness direction of the glass plate 2 and/or the other side in the thickness direction of the film 4, and then the glass plate 2 and the other side in the thickness direction. The film 4 sandwiches the curable adhesive.

その後、硬化型接着剤を硬化させる。硬化型接着剤が活性エネルギー硬化型であれば、紫外線を含む活性エネルギーを硬化型接着剤に照射する。具体的には、紫外線を、ガラス板２側から硬化型接着剤に照射する。硬化型接着剤が熱硬化型であれば、硬化型接着剤を加熱する。これにより、ガラス板２およびフィルム４を強固に接着する接着剤層３を形成する。 After that, the curable adhesive is cured. If the curable adhesive is of the active energy curable type, the curable adhesive is irradiated with active energy including ultraviolet rays. Specifically, the curable adhesive is irradiated with ultraviolet rays from the glass plate 2 side. If the curable adhesive is thermosetting, the curable adhesive is heated. This forms an adhesive layer 3 that firmly bonds the glass plate 2 and the film 4 together.

その後、フィルム４の厚み方向一方面に粘着剤層１２を配置する。例えば、粘着剤を含むワニスをフィルム４の厚み方向一方面に塗布および乾燥する。または、図示しない剥離シートに形成した粘着剤層１２をフィルム４の厚み方向一方面に転写することもできる。これによって、ガラス板２と、接着剤層３と、フィルム４と、粘着剤層１２とを備える光学積層体１を得る。なお、図示しない剥離シートを光学積層体１に備えてもよい。その場合には、光学積層体１は、ガラス板２と、接着剤層３と、フィルム４と、粘着剤層１２と、図示しない剥離シートとを備える。 After that, the pressure-sensitive adhesive layer 12 is arranged on one surface of the film 4 in the thickness direction. For example, a varnish containing an adhesive is applied to one surface of the film 4 in the thickness direction and dried. Alternatively, the pressure-sensitive adhesive layer 12 formed on a release sheet (not shown) can be transferred to one surface of the film 4 in the thickness direction. As a result, the optical laminate 1 including the glass plate 2, the adhesive layer 3, the film 4, and the adhesive layer 12 is obtained. Note that the optical layered body 1 may be provided with a release sheet (not shown). In that case, the optical laminate 1 includes a glass plate 2, an adhesive layer 3, a film 4, an adhesive layer 12, and a release sheet (not shown).

＜光学積層体１の用途＞
光学積層体１は、各種光学用途に用いられ、例えば、画像表示装置に備えられる。画像表示装置としては、例えば、有機エレクトロルミネセンス表示装置（以下、単に「有機ＥＬ表示装置」と略称する。）が挙げられる。 <Application of Optical Laminate 1>
The optical layered body 1 is used for various optical applications, and is provided in an image display device, for example. Examples of image display devices include organic electroluminescence display devices (hereinafter simply referred to as “organic EL display devices”).

次に、光学積層体１を備える有機ＥＬ表示装置１０を、図２を参照して説明する。 Next, an organic EL display device 10 including the optical layered body 1 will be described with reference to FIG.

＜有機ＥＬ表示装置１０＞
有機ＥＬ表示装置１０は、面方向に延びる平板形状を有する。有機ＥＬ表示装置１０は、次に説明する導電性フィルム１３を備えることから、タッチパネル型入力表示装置として機能する。有機ＥＬ表示装置１０は、光学積層体１と、導電性フィルム１３と、第２粘着剤層１４と、画像表示部材１５とを備える。なお、この有機ＥＬ表示装置１０では、紙面上側が、ユーザーの視認側であって、表側（図１の厚み方向他方側に相当）であり、紙面下側が、裏側（図１の厚み方向一方側に相当）である。 <Organic EL display device 10>
The organic EL display device 10 has a flat plate shape extending in the plane direction. Since the organic EL display device 10 includes the conductive film 13 described below, it functions as a touch panel type input display device. The organic EL display device 10 includes an optical laminate 1 , a conductive film 13 , a second adhesive layer 14 and an image display member 15 . In the organic EL display device 10, the upper side of the paper surface is the user's viewing side and the front side (corresponding to the other thickness direction side in FIG. 1), and the lower side of the paper surface is the back side (one thickness direction side in FIG. 1). ).

＜光学積層体１＞
光学積層体１は、ガラス板２と、接着剤層３と、フィルム４と、粘着剤層１２とを裏側に向かって順に備える。 <Optical laminate 1>
The optical laminate 1 includes a glass plate 2, an adhesive layer 3, a film 4, and an adhesive layer 12 in order toward the back side.

＜導電性フィルム１３＞
導電性フィルム１３は、導電層１６と、基材層１７とを裏側に向かって順に備える。 <Conductive film 13>
The conductive film 13 has a conductive layer 16 and a substrate layer 17 in order toward the back side.

＜導電層１６＞
導電層１６は、所定パターンを有する。導電層１６の表面および側面は、粘着剤層１２に接触する。導電層１６の材料としては、例えば、金属酸化物、導電性繊維（繊維）、および、金属が挙げられる。金属酸化物としては、複合酸化物が挙げられる。複合酸化物としては、例えば、インジウム亜鉛複合酸化物（ＩＺＯ）、インジウムガリウム亜鉛複合酸化物（ＩＧＺＯ）、インジウムガリウム複合酸化物（ＩＧＯ）、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）、および、アンチモンスズ複合酸化物（ＡＴＯ）が挙げられる。導電性繊維としては、例えば、金属ナノワイヤ、および、カーボンナノチューブが挙げられる。金属としては、例えば、金、白金、銀、および、銅が挙げられる。導電層１６は、面方向中央部に位置するセンサ電極部１８と、センサ電極部１８に周辺に位置する引出し配線部１９とを一体的に有する。導電層１６の詳細は、例えば、特開２０１７－１０２４４３号公報、特開２０１４－１１３７０５号公報、および、特開２０１４－２１９６６７号公報に記載される。 <Conductive layer 16>
The conductive layer 16 has a predetermined pattern. The surface and side surfaces of the conductive layer 16 are in contact with the adhesive layer 12 . Examples of materials for the conductive layer 16 include metal oxides, conductive fibers (fibers), and metals. Metal oxides include composite oxides. Examples of composite oxides include indium zinc composite oxide (IZO), indium gallium zinc composite oxide (IGZO), indium gallium composite oxide (IGO), indium tin composite oxide (ITO), and antimony tin composite oxide. An oxide (ATO) can be mentioned. Conductive fibers include, for example, metal nanowires and carbon nanotubes. Metals include, for example, gold, platinum, silver, and copper. The conductive layer 16 integrally has a sensor electrode portion 18 located in the central portion in the plane direction and a lead wire portion 19 located around the sensor electrode portion 18 . Details of the conductive layer 16 are described, for example, in JP-A-2017-102443, JP-A-2014-113705, and JP-A-2014-219667.

＜基材層１７＞
基材層１７は、導電層１６の裏面、および、粘着剤層１２の裏面に配置されている。基材層１７は、面方向に延びる。基材層１７は、例えば、樹脂層である。基材層１７の材料としては、オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、（メタ）アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、セルロース樹脂、および、ポリスチレン樹脂が挙げられる。オレフィン樹脂として、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、および、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が挙げられる。ポリエステル樹脂としては、例えば、ＰＥＴ、ＰＢＴ、および、ＰＥＮが挙げられる。（メタ）アクリル樹脂としては、例えば、ポリ（メタ）アクリレート樹脂が挙げられる。基材層１７の詳細は、例えば、特開２０１８－１８１７２２号公報に記載される。 <Base material layer 17>
The base material layer 17 is arranged on the back surface of the conductive layer 16 and the back surface of the adhesive layer 12 . The base material layer 17 extends in the surface direction. The base material layer 17 is, for example, a resin layer. Materials for the base material layer 17 include olefin resin, polyester resin, (meth)acrylic resin, polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polyarylate resin, melamine resin, polyamide resin, polyimide resin, cellulose resin, and polystyrene resin. mentioned. Olefin resins include, for example, polyethylene, polypropylene, and cycloolefin polymers (COP). Polyester resins include, for example, PET, PBT, and PEN. (Meth)acrylic resins include, for example, poly(meth)acrylate resins. Details of the base material layer 17 are described, for example, in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2018-181722.

＜第２粘着剤層１４＞
第２粘着剤層１４は、導電性フィルム１３の裏面に配置されている。具体的には、第２粘着剤層１４は、導電性フィルム１３の裏面に接触している。第２粘着剤層１４の材料は、粘着剤層１２の材料と同様である。 <Second adhesive layer 14>
The second adhesive layer 14 is arranged on the back surface of the conductive film 13 . Specifically, the second adhesive layer 14 is in contact with the back surface of the conductive film 13 . The material for the second adhesive layer 14 is the same as the material for the adhesive layer 12 .

＜画像表示部材１５＞
画像表示部材１５は、有機ＥＬ表示装置１０の裏面を形成する。画像表示部材１５は、導電性フィルム１３の裏側に第２粘着剤層１４を介して配置されている。画像表示部材１５は、面方向に延びる。画像表示部材１５は、具体的には、有機ＥＬ素子である。例えば、画像表示部材１５は、図示しないが、表示基板と、２つの電極と、２つの電極に挟まれる有機ＥＬ層と、封止層とを含む。なお、画像表示部材１５の構成および物性は、例えば、特開２０１８－２８５７３号公報に詳述される。 <Image display member 15>
The image display member 15 forms the back surface of the organic EL display device 10 . The image display member 15 is arranged on the back side of the conductive film 13 with the second adhesive layer 14 interposed therebetween. The image display member 15 extends in the planar direction. Specifically, the image display member 15 is an organic EL element. For example, although not shown, the image display member 15 includes a display substrate, two electrodes, an organic EL layer sandwiched between the two electrodes, and a sealing layer. The configuration and physical properties of the image display member 15 are detailed in, for example, JP-A-2018-28573.

＜一実施形態の作用効果＞
この光学積層体１は、４０μｍ以上、６０μｍ以下の厚みを有するガラス板２と、接着剤層３と、－１００℃から－５０℃におけるｔａｎδの平均が、０．０６以上であり、－１００℃から－５０℃における引張貯蔵弾性率Ｅ’の平均が、３ＧＰａ以上、６ＧＰａ以下であるフィルム４とを備え、さらに、粘着剤層１２をさらに備える。また、粘着剤層１２は、２０μｍ以下の厚みを有する。そのため、光学積層体１は、耐衝撃性に優れる。 <Action and effect of one embodiment>
This optical laminate 1 includes a glass plate 2 having a thickness of 40 μm or more and 60 μm or less, an adhesive layer 3, and an average tan δ at −100° C. to −50° C. of 0.06 or more. A film 4 having an average tensile storage modulus E′ at temperatures from to −50° C. of 3 GPa or more and 6 GPa or less, and a pressure-sensitive adhesive layer 12 is further provided. Moreover, the adhesive layer 12 has a thickness of 20 μm or less. Therefore, the optical layered body 1 is excellent in impact resistance.

＜変形例＞
以下の変形例において、上記した一実施形態と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、変形例は、特記する以外、一実施形態態と同様の作用効果を奏することができる。 <Modification>
In the following modified examples, the same reference numerals are given to the same members and steps as in the above-described embodiment, and detailed description thereof will be omitted. In addition, the modified example can have the same effects as the one embodiment, unless otherwise specified.

一実施形態では、フィルム４は、単層であるが、フィルム４の層数は、限定されない。フィルム４は、複層でもよい。 In one embodiment, film 4 is a single layer, but the number of layers of film 4 is not limited. The film 4 may be multi-layered.

本発明の光学積層体は耐衝撃性に優れるので、厚みが４０μm以上、６０μｍ以下のガラス板でも十分な耐衝撃性を有する。厚みが４０μm以上、６０μｍ以下のガラス板は屈曲性に優れるため、本発明の光学積層体は、フォルダブルディスプレイおよびローラブルディスプレイなどのフレキシブルディスプレイにも好適に用いることができる。 Since the optical laminate of the present invention has excellent impact resistance, even a glass plate having a thickness of 40 μm or more and 60 μm or less has sufficient impact resistance. Since a glass plate having a thickness of 40 μm or more and 60 μm or less has excellent flexibility, the optical laminate of the present invention can be suitably used for flexible displays such as foldable displays and rollable displays.

図１の１点破線で示すように、光学積層体１は、機能層３７をさらに備えることができる。機能層３７は、ガラス板２の厚み方向他方面に配置される。機能層３７としては、例えば、ハードコート層、飛散防止層、防汚層、および、反射防止層が挙げられる。これらは、単層でもよく複数積層されてもよい。 The optical laminate 1 can further include a functional layer 37, as indicated by the dashed line in FIG. The functional layer 37 is arranged on the other surface of the glass plate 2 in the thickness direction. Examples of the functional layer 37 include a hard coat layer, a scattering prevention layer, an antifouling layer, and an antireflection layer. These may be a single layer or multiple layers.

以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値（「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値（「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。また、以下の記載において特に言及がない限り、「部」および「％」は質量基準である。 Specific numerical values such as the mixing ratio (content ratio), physical property values, and parameters used in the following description are described in the above "Mode for Carrying Out the Invention", the corresponding mixing ratio (content ratio ), physical properties, parameters, etc. can. In the description below, "parts" and "%" are based on mass unless otherwise specified.

実施例１
厚み５０μｍのガラス板２（Ｇ－ｌｅａｆ）、厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムからなるフィルム４（ダイアホイルＳ１００、三菱ケミカル社製）を準備した。また、脂肪族脂環式エポキシ樹脂（セロキサイド２０２１Ｐ、エポキシ当量１２８～１３３ｇ／ｅｑ．、ダイセル化学社製）７０質量部、３官能脂肪族エポキシ樹脂（ＥＨＰＥ３１５０、エポキシ当量１７０～１９０ｇ／ｅｑ．、ダイセル化学社製）５質量部、オキセタン系樹脂（アロンオキセタン、東亜合成社製）１９質量部、シランカップリング剤（ＫＢＭ－４０３、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製）４質量部、光酸発生剤（ＣＰＩ１０１Ａ、トリアリールスルホニウム塩、サンアフロ社製）２質量部を配合して、エポキシ接着剤組成物を調製した。このエポキシ接着剤組成物をガラス板２とフィルム４とで挟み込んだ。 Example 1
A 50 μm thick glass plate 2 (G-leaf) and a 50 μm thick polyethylene terephthalate film 4 (DIAFOIL S100, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) were prepared. In addition, aliphatic alicyclic epoxy resin (Celoxide 2021P, epoxy equivalent 128 to 133 g / eq., manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.) 70 parts by mass, trifunctional aliphatic epoxy resin (EHPE3150, epoxy equivalent 170 to 190 g / eq., Daicel Chemical Co., Ltd.) 5 parts by mass, oxetane resin (Aron oxetane, Toagosei Co., Ltd.) 19 parts by mass, silane coupling agent (KBM-403, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 4 Parts by mass and 2 parts by mass of a photoacid generator (CPI101A, triarylsulfonium salt, manufactured by San-Aflo Co., Ltd.) were blended to prepare an epoxy adhesive composition. This epoxy adhesive composition was sandwiched between a glass plate 2 and a film 4 .

その後、紫外線を、ガラス板２側から硬化型接着剤に照射した。これにより、ガラス板２およびフィルム４を強固に接着する硬化体からなる厚み１μｍの接着剤層３を形成した。ナノインデンター法で測定される２５℃における接着剤層３の弾性率は、４．９ＧＰａであった。 After that, the curable adhesive was irradiated with ultraviolet rays from the glass plate 2 side. As a result, an adhesive layer 3 having a thickness of 1 μm and made of a cured product that firmly adheres the glass plate 2 and the film 4 was formed. The elastic modulus of the adhesive layer 3 at 25° C. measured by the nanoindenter method was 4.9 GPa.

次いで、厚み１５μｍの粘着剤層１２をフィルム４の厚み方向一方面に、転写により配置した。粘着剤層１２は下記の通りに調製した。 Next, the pressure-sensitive adhesive layer 12 having a thickness of 15 μm was placed on one surface of the film 4 in the thickness direction by transfer. Adhesive layer 12 was prepared as follows.

ラウリルアクリレート（ＬＡ）４３質量部、２－エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）４４質量部、４－ヒドロキシブチルアクリレート（４ＨＢＡ）６質量部、Ｎ－ビニル－２－ピロリドン（ＮＶＰ）７質量部、および、ＢＡＳＦ製「イルガキュア１８４」０．０１５質量部を配合し、紫外線を照射して重合し、ベースポリマー組成物（重合率：約１０％）を得た。 Lauryl acrylate (LA) 43 parts by mass, 2-ethylhexyl acrylate (2EHA) 44 parts by mass, 4-hydroxybutyl acrylate (4HBA) 6 parts by mass, N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP) 7 parts by mass, and manufactured by BASF 0.015 part by mass of "Irgacure 184" was blended and polymerized by irradiation with ultraviolet rays to obtain a base polymer composition (polymerization rate: about 10%).

別途、メタクリル酸ジシクロペンタニル（ＤＣＰＭＡ）６０質量部、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）４０質量部、α－チオグリセロール３．５質量部、および、トルエン１００質量部を混合し、窒素雰囲気下にて７０℃で１時間撹拌した。次に、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２質量部を投入し、７０℃で２時間反応させた後、８０℃に昇温して２時間反応させた。その後、反応液を１３０℃に加熱して、トルエン、連鎖移動剤および未反応モノマーを乾燥除去して、固形状のアクリル系オリゴマーを得た。アクリル系オリゴマーの重量平均分子量は５１００であった。ガラス転移温度（Ｔｇ）は１３０℃であった。 Separately, 60 parts by mass of dicyclopentanyl methacrylate (DCPMA), 40 parts by mass of methyl methacrylate (MMA), 3.5 parts by mass of α-thioglycerol, and 100 parts by mass of toluene were mixed and mixed under a nitrogen atmosphere. Stir at 70° C. for 1 hour. Next, 0.2 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile (AIBN) was added and reacted at 70°C for 2 hours, then heated to 80°C and reacted for 2 hours. After that, the reaction solution was heated to 130° C. to remove the toluene, the chain transfer agent and the unreacted monomer by drying to obtain a solid acrylic oligomer. The acrylic oligomer had a weight average molecular weight of 5,100. The glass transition temperature (Tg) was 130°C.

ベースポリマー組成物の固形分１００質量部に対して、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（ＨＤＤＡ）０．０７質量部、アクリル系オリゴマー１質量部、シランカップリング剤（信越化学製「ＫＢＭ４０３」）０．３質量部を添加した後、これらを均一に混合して、粘着剤組成物を調製した。 Based on 100 parts by mass of solid content of the base polymer composition, 0.07 parts by mass of 1,6-hexanediol diacrylate (HDDA), 1 part by mass of acrylic oligomer, silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical "KBM403") After adding 0.3 parts by mass, they were uniformly mixed to prepare an adhesive composition.

粘着剤組成物を、ＰＥＴフィルム（三菱ケミカル製「ダイアホイルＭＲＦ７５」）からなる剥離シートの表面に塗布し、その後、別のＰＥＴフィルム（三菱ケミカル製「ダイアホイルＭＲＦ７５」）からなる剥離シートを塗膜に貼り合わせた。その後、塗膜に紫外線を照射して、厚み１５μｍの粘着剤層１２を調製した。この粘着剤層１２の２５℃におけるせん断貯蔵弾性率Ｇ’は、０．０３ＭＧＰａであった。測定方法は、以下の通りである。粘着剤層１２を円盤状に外形加工し、パラレルプレートに挟み込み、ＲｈｅｏｍｅｔｒｉｃＳｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製「ＡｄｖａｎｃｅｄＲｈｅｏｍｅｔｒｉｃＥｘｐａｎｓｉｏｎＳｙｓｔｅｍ（ＡＲＥＳ）」を用いて、以下の条件の動的粘弾性測定により、粘着剤層１２の２５℃におけるせん断貯蔵弾性率Ｇ’を求めた。 The pressure-sensitive adhesive composition is applied to the surface of a release sheet made of a PET film (“Diafoil MRF75” manufactured by Mitsubishi Chemical), and then another release sheet made of a PET film (“Diafoil MRF75” manufactured by Mitsubishi Chemical) is applied. glued to the membrane. After that, the coating film was irradiated with ultraviolet rays to prepare a pressure-sensitive adhesive layer 12 having a thickness of 15 μm. The shear storage modulus G' of this adhesive layer 12 at 25°C was 0.03 MGPa. The measuring method is as follows. The pressure-sensitive adhesive layer 12 is processed into a disk shape, sandwiched between parallel plates, and subjected to dynamic viscoelasticity measurement under the following conditions using Rheometric Scientific's "Advanced Rheometric Expansion System (ARES)" to measure the pressure-sensitive adhesive layer 12. A shear storage modulus G' at 25°C was determined.

［条件］
モード：ねじり
温度：－４０℃から１５０℃
昇温速度：５℃／分
周波数：１Ｈｚ [conditions]
Mode: Torsion Temperature: -40°C to 150°C
Heating rate: 5°C/min Frequency: 1Hz

これにより、ガラス板２と、接着剤層３と、フィルム４と、粘着剤層１２とを備える光学積層体１を製造した。 Thus, an optical laminate 1 including the glass plate 2, the adhesive layer 3, the film 4, and the adhesive layer 12 was manufactured.

比較例１
実施例１と同様にして、光学積層体１を製造した。但し、粘着剤層１２の厚みを２５μｍに変更した。 Comparative example 1
An optical laminate 1 was produced in the same manner as in Example 1. However, the thickness of the adhesive layer 12 was changed to 25 μm.

比較例２
実施例１と同様にして、光学積層体１を製造した。但し、ガラス板２の厚みを７０μｍに変更した。 Comparative example 2
An optical laminate 1 was produced in the same manner as in Example 1. However, the thickness of the glass plate 2 was changed to 70 μm.

比較例３
実施例１と同様にして、光学積層体１を製造した。但し、フィルム４として、厚み４０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＫＣ４ＵＹＷ、コニカミノルタ製）を用いた。 Comparative example 3
An optical laminate 1 was produced in the same manner as in Example 1. However, as the film 4, a 40 μm-thick triacetyl cellulose film (KC4UYW, manufactured by Konica Minolta) was used.

比較例４
実施例１と同様にして、光学積層体１を製造した。但し、フィルム４として、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＫＣ８ＵＡＷ、コニカミノルタ製）を用いた。 Comparative example 4
An optical laminate 1 was produced in the same manner as in Example 1. However, as the film 4, a triacetyl cellulose film (KC8UAW, manufactured by Konica Minolta) having a thickness of 80 μm was used.

＜評価＞
各実施例および比較例について、下記の事項を測定および評価した。それらの結果を表１に記載する。 <Evaluation>
The following items were measured and evaluated for each example and comparative example. The results are listed in Table 1.

＜フィルム４のｔａｎδおよび引張貯蔵弾性率Ｅ’＞
各実施例および比較例で準備したフィルム４を動的粘弾性試験に供した。装置および条件を下に記載する。 <tan δ and tensile storage modulus E′ of film 4>
The film 4 prepared in each example and comparative example was subjected to a dynamic viscoelasticity test. Equipment and conditions are described below.

装置：日立ハイテクサイエンス社製多機能動的粘弾性測定装置ＤＭＳ６１００
温度範囲：－１００～２００℃
昇温速度：２℃／ｍｉｎ
モード：引張
サンプル幅：１０ｍｍ
チャック間距離：２０ｍｍ
周波数：１０Ｈｚ
歪振幅：１０μｍ
雰囲気：大気（２５０ｍｌ／ｍｉｎ）
データの取得間隔：０．５ｍｉｎ（１℃毎） Apparatus: Multifunctional dynamic viscoelasticity measuring apparatus DMS6100 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.
Temperature range: -100 to 200°C
Heating rate: 2°C/min
Mode: Tensile Sample width: 10mm
Distance between chucks: 20mm
Frequency: 10Hz
Strain amplitude: 10 μm
Atmosphere: Air (250 ml/min)
Data acquisition interval: 0.5 min (every 1°C)

－１００℃から－５０℃におけるフィルム４の引張貯蔵弾性率Ｅ’の平均のそれぞれは、－１００℃から－５０℃における上記した取得したすべてのデータの総和をデータの数で割って、算出した。－１００℃から－５０℃におけるフィルム４のｔａｎδの平均のそれぞれは、－１００℃から－５０℃における上記した取得したすべてのデータの総和をデータの数で割って、算出した。 Each average tensile storage modulus E' of film 4 from -100°C to -50°C was calculated by dividing the sum of all the data obtained above from -100°C to -50°C by the number of data. . Each average tan δ of film 4 from -100°C to -50°C was calculated by dividing the sum of all the data obtained above from -100°C to -50°C by the number of data.

＜ペンドロップ割れ試験＞
各実施例および比較例の光学積層体１について、下記のペンドロップ割れ試験を実施した。図１の仮想線で示すように、まず、ガラス板２が上側を向くように、光学積層体１を樹脂フィルム３４の表面に置いた。具体的には、粘着剤層１２を樹脂フィルム３４の表面に貼着した。樹脂フィルム３４は、プレスケール（富士フィルム製プレスケールＭＳ中圧用モノシートタイプ、厚み９５μｍ）である。樹脂フィルム３４は、図示しない水平台の表面に配置されている。次いで、ガラス板２から５ｃｍの高さから７ｇのペン２９（ＰｅｎｔｅｌボールペンＢＫ４０７黒、ボール径０．７ｍｍ）を落下させるペンドロップ割れ試験を実施する。上記した高さ５ｃｍは、ガラス板２の厚み方向一方面と、ペン２９の先端部３２との距離である。先端部３２は、下側を向き、尖っている。この光学積層体１では、ペン２９の上記した落下で、ガラス板２に割れが発生すれば、ペンドロップ割れ試験の高さＨ１は、５ｃｍとなる。ガラス板２に割れが発生しなれば、１ｃｍずつ高さを段階的に引き上げる。これにより、ガラス板２に割れが発生したときの高さＨ１を得る。 <Pen drop cracking test>
The following pen-drop cracking test was performed on the optical laminates 1 of each example and comparative example. As shown by the phantom line in FIG. 1, first, the optical laminate 1 was placed on the surface of the resin film 34 so that the glass plate 2 faced upward. Specifically, the adhesive layer 12 was attached to the surface of the resin film 34 . The resin film 34 is Prescale (manufactured by Fuji Film, Prescale MS medium-pressure mono-sheet type, thickness 95 μm). The resin film 34 is arranged on the surface of a horizontal table (not shown). Next, a pen drop cracking test is performed by dropping a 7 g pen 29 (Pentel ballpoint pen BK407 black, ball diameter 0.7 mm) from a height of 5 cm from the glass plate 2 . The above height of 5 cm is the distance between one surface of the glass plate 2 in the thickness direction and the tip 32 of the pen 29 . The tip 32 points downward and is sharp. In this optical laminate 1, if the pen 29 is dropped as described above and the glass plate 2 is cracked, the height H1 in the pen drop crack test is 5 cm. If the glass plate 2 does not crack, the height is raised step by step by 1 cm. Thereby, the height H1 when the glass plate 2 is cracked is obtained.

＜各実施例および比較例の対比＞
＜粘着剤層１２の厚みの評価＞
粘着剤層１２の厚みを評価する。実施例１と比較例１とを対比する。実施例１の粘着剤層１２の厚みは、１５μｍである。一方、比較例１の粘着剤層１２の厚みは、２５μｍである。比較例１のペンドロップ割れ試験の高さＨ１１０ｃｍに対して、実施例１のペンドロップ割れ試験の高さＨ１２０ｃｍは、高い。そのため、粘着剤層１２の厚みを２０μｍ以下にすることにより、光学積層体１の耐衝撃性が向上することが分かる。 <Comparison of Examples and Comparative Examples>
<Evaluation of Thickness of Adhesive Layer 12>
The thickness of the adhesive layer 12 is evaluated. Example 1 and Comparative Example 1 are compared. The thickness of the adhesive layer 12 of Example 1 is 15 μm. On the other hand, the thickness of the adhesive layer 12 of Comparative Example 1 is 25 μm. The height H1 20 cm of the pen drop crack test of Example 1 is higher than the height H1 of 10 cm of the pen drop crack test of Comparative Example 1. Therefore, it can be seen that the impact resistance of the optical layered body 1 is improved by setting the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 12 to 20 μm or less.

＜ガラス板２の厚みの評価＞
ガラス板２の厚みを評価する。実施例１と比較例２とを対比する。実施例１のガラス板２の厚みは、５０μｍである。比較例２のガラス板２の厚みは、７０μｍである。比較例２のペンドロップ割れ試験の高さＨ１７ｃｍに対して、実施例１のペンドロップ割れ試験の高さＨ１２０ｃｍは、高い。そのため、ガラス板２の厚みを６０ｃｍ以下にすることによって、光学積層体１の耐衝撃性が向上することが分かる。 <Evaluation of thickness of glass plate 2>
The thickness of the glass plate 2 is evaluated. Example 1 and Comparative Example 2 are compared. The thickness of the glass plate 2 of Example 1 is 50 μm. The thickness of the glass plate 2 of Comparative Example 2 is 70 μm. The height H1 20 cm of the pen-drop cracking test of Example 1 is higher than the height H1 of 7 cm of the pen-drop cracking test of Comparative Example 2. Therefore, it can be seen that the impact resistance of the optical laminate 1 is improved by setting the thickness of the glass plate 2 to 60 cm or less.

＜フィルム４のｔａｎδの平均の評価＞
フィルム４のｔａｎδの平均を評価する。実施例１と比較例３と比較例４とを対比する。実施例１のフィルム４のｔａｎδの平均は、０．０６２である。比較例３と比較例４とのそれぞれのフィルム４のｔａｎδの平均は、０．０４７μｍである。比較例３と比較例４とのそれぞれのペンドロップ割れ試験の高さＨ１７ｃｍと１０ｃｍとに対して、実施例１のペンドロップ割れ試験の高さＨ１２０ｃｍは、高い。そのため、フィルム４のｔａｎδの平均を０．０６以上にすることによって、光学積層体１の耐衝撃性が向上することが分かる。

<Evaluation of average tan δ of film 4>
The average tan delta of film 4 is evaluated. Example 1, Comparative Example 3, and Comparative Example 4 are compared. The average tan δ of Film 4 of Example 1 is 0.062. The average tan δ of the films 4 of Comparative Examples 3 and 4 is 0.047 μm. The pen-drop crack test height H1 20 cm in Example 1 is higher than the pen-drop crack test height H1 7 cm and 10 cm in Comparative Examples 3 and 4, respectively. Therefore, it can be seen that the impact resistance of the optical laminate 1 is improved by setting the average tan δ of the film 4 to 0.06 or more.

１光学積層体
２ガラス板
３接着剤層
４フィルム
１２粘着剤層 1 optical laminate 2 glass plate 3 adhesive layer 4 film 12 adhesive layer

Claims

ガラス板と、接着剤層と、フィルムと、粘着剤層とを厚み方向一方側に向かって順に備え、
前記ガラス板は、４０μｍ以上、６０μｍ以下の厚みを有し、
周波数１０Ｈｚ、昇温速度２℃／ｍｉｎ、引張モードの動的粘弾性試験により求められる－１００℃から－５０℃における前記フィルムのｔａｎδの平均が、０．０６以上であり、
前記動的粘弾性試験により求められる－１００℃から－５０℃における前記フィルムの引張貯蔵弾性率Ｅ’の平均が、３ＧＰａ以上、６ＧＰａ以下であり、
前記接着剤層は、硬化型接着剤の硬化体であり、
前記接着剤層の厚みは、０．１μｍ以上、１０μｍ以下であり、
ナノインデンター法で測定される２５℃における前記接着剤層の押込弾性率は、１ＧＰａ以上であり、
前記粘着剤層は、５μｍ以上、２０μｍ以下の厚みを有し、
周波数１Ｈｚ、昇温速度５℃／ｍｉｎの動的粘弾性試験により求められる２５℃における前記粘着剤層のせん断貯蔵弾性率Ｇ’は、０．０１ＭＰａ以上、０．２０ＭＰａ以下である、光学積層体。 A glass plate, an adhesive layer, a film, and an adhesive layer are provided in order toward one side in the thickness direction,
The glass plate has a thickness of 40 μm or more and 60 μm or less,
The average tan δ of the film from −100° C. to −50° C. obtained by a dynamic viscoelasticity test in tensile mode at a frequency of 10 Hz, a heating rate of 2° C./min, is 0.06 or more,
The average tensile storage modulus E′ of the film at −100° C. to −50° C. determined by the dynamic viscoelasticity test is 3 GPa or more and 6 GPa or less,
The adhesive layer is a cured body of a curable adhesive,
The thickness of the adhesive layer is 0.1 μm or more and 10 μm or less,
The indentation elastic modulus of the adhesive layer at 25° C. measured by a nanoindenter method is 1 GPa or more,
The pressure-sensitive adhesive layer has a thickness of 5 μm or more and 20 μm or less,
The shear storage elastic modulus G′ of the pressure-sensitive adhesive layer at 25° C. determined by a dynamic viscoelasticity test with a frequency of 1 Hz and a heating rate of 5° C./min is 0.01 MPa or more and 0.20 MPa or less. body.