JP7185693B2 - ウエハの表面の曲率決定システム - Google Patents
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Description
[01]本発明は、一般的には1つ以上のウエハの表面の曲率のインサイチュ(in-situ)での決定に関する。より具体的には、本発明は、マルチウエハエピタキシャル反応器における1つ以上のエピタキシャルウエハの表面の曲率のインサイチュでの決定に関する。
[02]半導体エピタキシャルスタックおよびウエハ上の薄膜のエピタキシャル成長に関連して、例えば、反応チャンバ内の温度および圧力、成長層の厚さ、成長層のドーピング濃度、ウエハの表面の平滑度などといったいくつかのパラメータは、インサイチュで、および/またはリアルタイムで、測定または決定され、それによってエピタキシャル成長をモニターする。
[09]本発明の第1の態様によれば、上述の通り規定された目的は、ウエハ表面の曲率をインサイチュで測定するためのシステムによって実現され、前記システムは、
複数の波長を含む入射光を放射するように適合された、多波長光源モジュールと;
前記入射光を単一ビームに統合する(combine)ように構成され、さらに、前記単一ビームが前記表面上の単一測定スポットで前記表面に当たるように、前記単一ビームをウエハの表面に向けてガイドするように構成された光学装置(setup)と;
前記単一測定スポットで前記表面上において反射されている前記単一ビームに対応する反射光から前記ウエハの前記表面の曲率を決定するように構成された曲率決定部と;を含んでいる。
(i)少なくとも2つの前記波長が少なくとも5nm互いに離れている、2つ以上のレーザ源;
(ii)白色光源;
(iii)広帯域光源;
のうちの1つ以上を含んでいる。
多波長光源モジュールを設けるステップと;
前記多波長光源モジュールが、複数の波長を含んでいる入射光を放射することを可能にするステップと;
前記入射光を単一ビームに統合するステップと;
前記単一ビームが前記表面上において単一測定スポットで表面に当たるように、前記単一ビームをウエハの表面に向かってガイドするステップと;
前記単一測定スポットで前記表面上において反射されている前記単一ビームに対応する反射光から前記ウエハの前記表面の曲率を決定するステップと;を含んでいる。
偏向検出器を設けるステップと;
表面上で反射されている前記単一ビームに対応する前記反射光を前記偏向検出器で収集するステップと;
前記単一ビームが平坦な較正面上で反射するときに、前記偏向検出器上の前記反射光によって形成される較正スポットのゼロ位置を決定するステップと;
前記ゼロ位置に対して、前記単一ビームがウエハの表面上で反射するときに、前記偏向検出器上の前記反射光によって形成される反射スポットの位置を決定し、それによって、前記ウエハの前記表面の前記曲率を決定するステップと;をさらに含んでいる。
[56]図1A~図1Cは、システムの較正中の本発明に係るシステムの一実施形態を概略的に示す。
[67]図1に示す一実施形態によれば、本発明に係るシステム1は、サセプタ105上にロードされた平坦な較正面21を用いて較正されている。サセプタ105は、単一ビーム5に対して垂直な平面でインサイチュで回転してもよい。システム1は、ウエハの表面の曲率をインサイチュでの測定に適している。例えば、システム1は、サセプタ105上にロードされたウエハの表面の曲率を、例えばPECVDプロセス、CVDプロセス、MOCVDプロセス、MBEプロセスなどで成長中にインサイチュで決定するのに適している。システム1はまた、エッチングプロセスの間、例えばICPプロセス、CVDプロセスなどの間、サセプタ105上にロードされたウエハの表面の曲率をインサイチュで決定するのに適している。システム1は、3つの波長301;302;303を含む入射光3を放射する多波長光源モジュール101を含む。別の実施形態によれば、多波長光源モジュール101は、2つより多い波長301;302;303、例えば2つ、3つ、4つ、5つ、6つの波長などを含む入射光3を放射する。多波長光源モジュール101は、例えば2つ以上のレーザ源、例えば2つ、3つ、4つ、5つのレーザ源などを含む。多波長光源モジュール101は、例えば白色光源を含む。多波長光源モジュール101は、例えば広帯域光源を含む。波長301;302;303のうちの少なくとも2つは、少なくとも5nm互いに離れている。システム1の光学装置104は、入射光3を単一ビーム5に統合する。光学装置104は、例えば、単一ビーム5を平坦な較正面21に向かってガイドするビームスプリッタキューブ438を含む。別の実施形態によれば、システム1の光学装置104は、例えば、単一ビーム5を平坦な較正面21に向かってガイドする半透明鏡438を含む。別の実施形態によれば、システム1の光学装置104は、入射光3を単一ビーム5に統合するためのピンホールをさらに含む。システム1は、単一測定スポット202で平坦な較正面21上で反射されている入射光3に対応する反射光4を収集する偏向検出器102をさらに含む。偏向検出器102は、図1B上の拡大図で見えるように、単一測定スポット202で、光学装置104から、平坦な較正面21上の単一ビーム5の反射を収集する。単一測定スポット202は、較正面21上に数ミリメートル、好ましくは較正面21上に5ミリメートル未満の直径を有する。システム1は、単一測定スポット202で平坦な較正面21上に反射されている単一ビームに対応する反射光4からウエハの表面の曲率を決定する曲率決定部103をさらに含む。曲率決定部103は、単一測定スポット202で、単一ビーム5が平坦な較正面21上で反射するときに、偏向検出器102上の反射光4によって形成される単一較正スポット310のゼロ位置30を決定する。偏向検出器102上の単一較正スポット310は、図1C上の拡大図で見えるように、数ミリメートル、好ましくは5ミリメートル未満の直径を有する。偏向検出器102は、実際に、単一ビーム5が単一測定スポット202で平坦な較正面21上で反射するときに、位置検出器120上のゼロ位置30となるようにシステム1内に配置される位置検出器120を含む。このようにして、システム1は、平坦な較正面21の曲率の決定によって較正され、システム1によるウエハの表面の曲率の以下の決定は、平坦な較正面21の曲率に関して行われる。曲率決定部103は、動作上、偏向検出器102に結合される。偏向検出器102は、曲率決定部103を含む。別の実施形態によれば、曲率決定部103は、本発明に係るシステム1の遠隔ユニットであり、偏向検出器102と、遠隔で、例えばイーサネットを介して、無線で、または偏向検出器102に直接接続されることによって通信する。
Claims (9)
- ウエハの表面の曲率をインサイチュで測定するためのシステムであって、前記システムは、
複数の波長を含んでいる入射光を放射するように適合された、多波長光源モジュールと;
前記入射光を単一ビームに統合するように構成され、さらに、前記単一ビームが前記表面上において単一測定スポットで前記表面に当たるように、前記単一ビームをウエハの表面に向けてガイドするように構成された光学装置と;
前記単一測定スポットで前記表面上において反射されている前記単一ビームに対応する反射光から、前記ウエハの前記表面の曲率を決定するように構成された曲率決定部と;
単一測定スポットで表面上において反射されている前記単一ビームに対応する前記反射光を収集するように適合された、位置検出器を含む、偏向検出器と;
サセプタと、前記サセプタ上にロードされた前記ウエハとを含んでおり;
前記サセプタは、前記サセプタのサセプタ回転軸が前記単一ビームに平行になるように、前記単一ビームに垂直な平面で回転し、
前記曲率決定部は、前記単一ビームがウエハの表面上の単一測定スポットで反射する場合に、前記偏向検出器の前記位置検出器上に前記反射光によって形成される単一反射スポットの位置を決定するようにさらに構成され、
前記曲率決定部は、前記サセプタの回転角度の関数として、前記位置検出器上の前記単一反射スポットでの前記反射光の前記位置の偏向を、フィッティングし、回転中の前記サセプタの揺れを示す正弦関数を用いて、前記ウエハの表面を測定したときの正弦関数を評価することによって、前記ウエハの前記表面の前記曲率を決定するようにさらに構成される、システム。 - 前記多波長光源モジュールは、以下の(i)~(iii)、
(i)少なくとも2つの前記波長が少なくとも5nm互いに離れている、2つ以上のレーザ源;
(ii)白色光源;
(iii)広帯域光源;
のうちの1つ以上を含んでいる、請求項1に記載のシステム。 - 前記複数の波長のうちの少なくとも2つは、少なくとも5nm互いに離れている、請求項1に記載のシステム。
- 前記光学装置は、前記単一ビームが前記サセプタ回転軸から所定の半径で前記ウエハの前記表面上で反射するように、前記単一ビームを前記ウエハの表面に向かってガイドするようにさらに適合される、請求項1に記載のシステム。
- 前記システムは、サセプタと、前記サセプタ上にロードされた複数のウエハとをさらに含んでおり;前記サセプタは、前記サセプタのサセプタ回転軸が前記入射光に平行になるように、前記入射光に垂直な平面で回転する、請求項1に記載のシステム。
- 前記光学装置は、前記単一ビームが前記サセプタ回転軸から所定の半径で前記複数のウエハの前記表面上で反射するように、前記単一ビームを前記複数のウエハの表面に向かってガイドするようにさらに適合される、請求項5に記載のシステム。
- 前記曲率決定部は、前記サセプタの回転角度の関数として前記位置検出器上の前記反射光の偏向を導き出すことによって、前記複数のウエハの前記表面のそれぞれの前記曲率を決定するようにさらに構成される、請求項5に記載のシステム。
- 前記システムは、複数の多波長光源モジュールをさらに含んでおり、前記多波長光源モジュールのそれぞれは、1つ以上の入射光ビームを放射するように適合され、前記1つ以上の入射光ビームのそれぞれは、複数の波長を含んでいる、請求項1に記載のシステム。
- ウエハの表面の曲率をインサイチュで測定する方法であって、前記方法は、
多波長光源モジュールを設けるステップと;
前記多波長光源モジュールが、複数の波長を含んでいる入射光を放射することを可能にするステップと;
前記入射光を単一ビームに統合するステップと;
その上にロードされた前記ウエハを含むサセプタを設けるステップであり、前記サセプタは、前記サセプタのサセプタ回転軸が前記単一ビームに平行になるように、前記単一ビームに垂直な平面で回転する、ステップと;
前記単一ビームが前記表面上において単一測定スポットで表面に当たるように、前記単一ビームを前記ウエハの表面に向かってガイドするステップと;
前記単一測定スポットで前記表面上において反射されている前記単一ビームに対応する反射光から前記ウエハの前記表面の曲率を決定するステップと;を含み、
位置検出器を含む偏向検出器上で、前記単一測定スポットで前記表面上において反射されている前記単一ビームに対応する前記反射光を収集するステップ;と、
前記単一ビームが前記ウエハの前記表面上の前記単一測定スポットで反射する場合に、前記偏向検出器の前記位置検出器上に前記反射光によって形成される単一反射スポットの位置を決定するステップ;と、
前記ウエハの前記表面の曲率を決定するステップは、前記サセプタの回転角度の関数として、前記位置検出器上の前記単一反射スポットでの前記反射光の前記位置の偏向を、フィッティングし、回転中の前記サセプタの揺れを示す正弦関数を用いて、前記ウエハの表面を測定したときの正弦関数を評価することによって、決定する、ステップに対応する、方法。
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