JP7181525B2 - 電子部品保護膜用アリルフェノール-マレイミド共重合体を生成するための樹脂組成物、およびその共重合体からなる電子部品保護膜 - Google Patents
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Description
たとえば、下記特許文献1には、250~350℃程度の高温環境下で、長時間動作させても電極が劣化しない電極構造を備えたチップ抵抗器が開示されている。
最外層にあたる保護膜としては、ガラスやエポキシ樹脂が用いられる。
本実施の形態による樹脂組成物は、従来のエポキシ樹脂よりも耐熱性の高いビスマレイミド樹脂を用いるとともに、ビスマレイミド樹脂のもつ脆いという欠点を克服したものである。
a)第1段階:高耐熱性と高耐湿性を併せ持つ可能性を持つ樹脂原料選定段階
b)第2段階:高耐熱性と高耐湿性を併せ持つ樹脂組成の最適化段階
c)第3段階:決定した樹脂組成を用いた樹脂組成物の最適化段階
(ビヒクルとして)
・樹脂原料
・硬化触媒
・溶媒
・添加剤:1)レオロジーコントロール剤,2)分散剤,3)消泡剤
これら添加剤は要求される樹脂組成物(樹脂ペースト)の特性によって適宜選択して添加する。この他に表面調整剤などを添加してもよい。
・アルミナ、酸化マグネシウム、シリカなどで、コストおよび化学的安定性から、アルミナが望ましい。フィラーの形態は球状が好ましく、粒径は約0.1~約10μmとすることができる。例えば、より好ましい球状アルミナ粒子は、粒径約0.1~約10μmの範囲であり、例えば粒径約0.1~約0.5μm(例えば、平均粒径約0.3μm)及び粒径約1~約10μm(例えば、平均粒径約4μm)の範囲の2種類の粒子を用いることもできる。
無機フィラーを含むことによる効果は、以下の通りである。
・低線膨張率の無機フィラー(アルミナ球状粒子)を含有することで、線膨張率を低くすることができる。
・とくに樹脂組成物(樹脂ペースト)中に75wt%含有したときには、はんだ(20程度)と同等レベルの線膨張率、かつアルミナ基板(7程度)やガラス(3~10)により近い線膨張率(17)に調整することができる。
・耐熱性だけでなく、温度サイクル(-55℃⇔155℃等)に強い、耐熱衝撃性の高い保護膜を形成することが可能となる。
例えば、以下に示すアリル基含有フェノール化合物(アリル化ノボラック)は、剛直構造のジアリルフェノール化合物であり、2個以上のアリルフェノール構造とその間の連結基がC1以上(例えばC1~C6、好ましくはC1)の直鎖の炭素鎖から構成されていても良い。
アリルフェノールノボラック
2,2’-ジアリルビスフェノールA
例えば、以下に示すN-芳香族マレイミド基含有化合物((ポリマータイプ)フェニルメタンマレイミド)は、2個以上の剛直なN-芳香族マレイミド構造とその間の連結基が-CH2-の炭素鎖で構成されていても良い。
4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド
m-フェニレンビスマレイミド
ビスフェノール A ジフェニルエーテルビスマレイミド
3,3’-ジメチル-5,5’-ジエチル-4,4’-ジフェニルメタンビスマレイミド
4-メチル-1,3-フェニレンビスマレイミド
4,4’-ジフェニルエーテルビスマレイミド
4,4’-ジフェニルスルフォンビスマレイミド
1,3-ビス(3-マレイミドフェノキシ)ベンゼン
1,3-ビス(4-マレイミドフェノキシ)ベンゼン
例えば、以下に示すN-脂肪族マレイミド基含有化合物(1,6‐ビスマレイミド‐(2,2,4‐トリメチル)ヘキサン)は、2個のマレイミド構造とその間の連結基がC1以上(例えばC1~C10、好ましくはC6)の直鎖の炭素鎖で構成されていても良い。
1,6-ビスマレイミド-(2,2,4-トリメチル)ヘキサン
1,6-ビスマレイミド-(2,4,4-トリメチル)へキサン
N,N’-デカメチレンビスマレイミド
N,N’-オクタメチレンビスマレイミド
N,N’-ヘキサメチレンビスマレイミド
N,N’-トリメチレンビスマレイミド
N,N’-エチレンビスマレイミド
・樹脂原料最適組成:A/B/C=1/1/0.6(当量比)
・樹脂原料組成範囲:
A/(B+C)=アリルフェノール化合物 : ビスマレイミド化合物 =1:1~1:3
B:C=1:0.6~1:1.6
・硬化触媒:無し
・樹脂原料(A+B+C)と溶媒の組成比:75/25(重量比)
・溶媒の組成:
BCA(ブチルカルビトールアセテート,bp:約250℃)/EC(エチルカルビトール,bp:約200℃) = 25/75(重量比)
・添加剤:1)レオロジーコントロール剤(例えば、有機系材料)、2)分散剤(例えば、ウレタン系)、3)消泡剤(例えば、ポリマー系)
溶融球状アルミナ粒子(平均粒径4μmと0.3μmの組み合わせ)
1)MP1は50/50(重量比)
2)MP3は、25/75(重量比)
200℃/10分+250℃10分のように、短時間の2段階硬化を行った。
製造コストを低減するためには、250℃以下、30分以内での硬化処理が好ましい。
・ビヒクル製造工程: 樹脂原料Bと樹脂原料Cの所定量を150℃に加熱して溶融させる(ステップS1)。溶融した樹脂混合物中に、樹脂原料Aを所定量添加し、100~150℃で均一に撹拌しながら混合した後、混合溶媒(BCA(ブチルカルビトールアセテート、bp:約250℃)/EC(エチルカルビトール、bp:約200℃)=25/75)を添加して(ステップS2)、100~150℃で均一に撹拌し混合した後(ステップS3)、常温までゆっくりと自然冷却すると、均一な樹脂原料液が得られる(ステップS4、S5)。
・樹脂ペースト製造工程1: 得られた樹脂原料液10g中に、アルミナフィラー(デンカ:溶融球状アルミナDAW-03(d50=4μm),ASFP-20(d50=0.3μm))を合計10gあるいは30g添加し(ステップS6)、公転自転ミキサーおよび三本ロールを用いて混錬(ステップS7)、ペースト状の樹脂組成物(混合物)を作製する。このとき、湿潤分散剤を0.5~1.5g添加してもよい。
・樹脂ペースト製造工程2: 得られたペースト状樹脂組成物(混合物)に、湿潤分散剤、レオロジーコントロール剤、消泡剤を添加して(ステップS8)、公転自転ミキサーを用いて混錬(ステップS9)し、樹脂組成物(電子部品用保護膜用ペースト)を作製する(ステップS10)。
・保護膜製造工程: アルミナ等の絶縁基板上に形成した抵抗体の上部および電極の一部を覆うように樹脂組成物をスクリーン印刷し、硬化する。保護膜用ペーストの硬化条件は、200℃/10分+250℃/10分とした。
図2は、本実施の形態による電子部品保護膜用樹脂硬化物の引張せん断接着強度の測定原理を簡単に示す図である。
JIS K6850に準じて、本実施の形態による樹脂の試験片を作製して測定を行った。
図3は、本実施の形態による電子部品保護膜用樹脂硬化物の破壊靱性の測定原理を示す図である。
作製した硬化物から破壊靱性測定用試験片X(図3参照)をマイクロカッティングマシンによって切り出し、試料表面をSiC研磨紙(240番)で研磨した。次に、ミクロトーム用の刃を用いてノッチ(0.45~0.55mm)を入れた。その後、恒温室(23℃)に一日静置した。破壊靱性値の測定は、オートグラフ(島津製作所AL5-X)によって、三点曲げの治具を用いて、圧縮モードで測定した。次に、得られた破壊荷重値をASTM D5045-93の所定の式に導入して、破壊靱性値を算出した。
指標1: ガラス転移温度 ⇒ 目標:250℃以上
指標2: 初期引張せん断接着強度 ⇒ エポキシ樹脂(10Pa)と同等レベル
指標3-1: (H175)、H200、H250、試験100時間前後の接着強度の変化率の目標として、-50%以上
指標3-2: M60,M85試験100時間前後の接着強度の変化率の目標として、-20%以上
比較例のエポキシ樹脂系1では、H250/1500時間でも減少し続け、ほとんど樹脂が残っていない。
試料の硬化物を適宜採取し、乳鉢等で粉砕する。粉砕後の試料を約1mg計量し、測定用の試料カップに投入する。試料を装置にセットし、200℃に予熱した炉に投入し、20分間保持して溶剤などの低沸点揮発分を除去する。その後、炉を600℃まで昇温(10℃/分)し、加熱中に発生する熱分解ガスを質量分析により検出する。
得られた強度と、温度(時間)の関係を表すサーモグラムに出現するピーク温度の位置と、それぞれのポイントにおける検出質量数のデータより、樹脂の状態を解析する。今回対象としたアリルフェノール-マレイミド共重合体樹脂については、事前の分析により硬化後の樹脂が正常な状態であれば470℃に1つのピークが出現することがわかっている(図8)。
まず、ステップS11において、多数個取り用の大判の絶縁基板として、例えば、純度96%のアルミナ基板を準備する。ステップS12において、例えば、Ag/Ag-Pd電極ペースト材料を作製する。ステップS13において、Ag/Ag-Pd電極ペースト材料を裏面電極7a、7bとして絶縁基板1の一面に、例えばスクリーン印刷法により印刷・焼成する。次いで、ステップS14において裏面電極7a、7bを形成した絶縁基板1の面と反対の面に、ステップS15として、ステップS14において作製したAg/Ag-Pd電極ペースト材料を用いて表面電極5a、5bを、例えばスクリーン印刷法により印刷・焼成する。
以上の工程により、本実施の形態により抵抗器が完成する。
図12は、高温放置試験(H250)、1000時間前後の絶縁抵抗の変化(n=5)の製品状態の評価結果を示す図である。
次に、本実施の形態による最適化されたアリルフェノール-マレイミド共重合体MP1,MP3(表1参照)含む、250℃での長期放置試験の結果について説明する。比較例としてエポキシ樹脂(通常品および耐熱品)の結果も示す。
耐湿負荷寿命試験は、下記の各温度および相対湿度条件で、恒温恒湿槽(ESPEC PL-3J)において、電圧印加を1.5時間オン、0.5時間オフ切り替えて3000時間の間、抵抗率を測定したものである。抵抗器への印加電圧は75Vである。
図16は、耐湿寿命試験(M60,60℃,95%RH,負荷なし)時のΔRの経時変化(n=20)を示す図である。
図17は、温度サイクル試験時(-55/155℃)のΔRの経時変化(n=20)を示す図である。
1 絶縁基板
3 抵抗体
3a トリミング溝
5a、5b 電極
7a、7b 裏面電極
9a、9b 端面電極
13a,13b めっき層(外部電極)
Claims (8)
- (A)剛直構造を備えるアリル基含有フェノール化合物と、
(B)剛直構造を備えるN-芳香族マレイミド基含有化合物と、
(C)柔軟構造を備えるN-脂肪族マレイミド基含有化合物と
を含有する、電子部品保護膜用のアリルフェノール-マレイミド共重合体を生成するための樹脂組成物であって、
前記化合物(A)が下記の式1で表され、前記化合物(B)が下記の式2で表され、ならびに前記化合物(C)が下記の式3で表され、
(式中、nは0~2である。)
前記剛直構造のマレイミド化合物(B)と前記柔軟構造のマレイミド化合物(C)が、当量比で1:0.6~1:1.6である、樹脂組成物。 - 無機フィラーとして球状アルミナ粒子をさらに含む、請求項1に記載の樹脂組成物。
- 前記樹脂組成物中の前記無機フィラーの含有率が、50~75重量%である、請求項2に記載の樹脂組成物。
- 請求項1から3までのいずれか1項に記載の樹脂組成物を加熱により硬化する工程を含む、電子部品保護膜用のアリルフェノール-マレイミド共重合体を製造するための方法。
- 請求項4において、前記加熱により硬化する工程は、200~250℃の温度、15~30分の時間で2段階硬化を行なう、電子部品保護膜用のアリルフェノール-マレイミド共重合体を製造するための方法。
- 請求項1から3までのいずれか1項に記載の樹脂組成物の加熱硬化物であるアリルフェノール-マレイミド共重合体を含む電子部品用保護膜。
- 前記電子部品用保護膜の膜厚は、10~15μmである、請求項6に記載の電子部品用保護膜。
- 絶縁基板と、絶縁基板の少なくとも一面に対向して形成された一対の電極と、前記一対の電極間を電気的に接続する抵抗体と、前記抵抗体を覆う第1保護膜と、前記第1保護膜を覆う第2保護膜とを有する電子部品の前記第2保護膜への、請求項6又は7に記載のアリルフェノール-マレイミド共重合体の使用。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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