JP7169554B2 - lighting equipment - Google Patents

lighting equipment Download PDF

Info

Publication number
JP7169554B2
JP7169554B2 JP2021069155A JP2021069155A JP7169554B2 JP 7169554 B2 JP7169554 B2 JP 7169554B2 JP 2021069155 A JP2021069155 A JP 2021069155A JP 2021069155 A JP2021069155 A JP 2021069155A JP 7169554 B2 JP7169554 B2 JP 7169554B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
light source
optical element
diffractive optical
variable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021069155A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021120948A (en
Inventor
夏織 中津川
一敏 石田
俊平 西尾
翔吾 久保田
牧夫 倉重
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2021069155A priority Critical patent/JP7169554B2/en
Publication of JP2021120948A publication Critical patent/JP2021120948A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7169554B2 publication Critical patent/JP7169554B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
  • Lighting Device Outwards From Vehicle And Optical Signal (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Description

本開示は、照明装置に関する。 The present disclosure relates to lighting devices.

例えば、特許文献1に開示されているように、光源および回折光学素子を含んだ照明装置が知られている。特許文献1に開示された照明装置は、光源、走査装置、及び、回折光学素子を有している。走査装置は、光源から射出した光の進行方向を経時的に変化させる。これにより、光源から射出した光は、回折光学素子上を走査するようにして当該回折光学素子上へ入射する。回折光学素子は、互いに異なる回折特性を有した複数の要素ホログラムを含んでいる。光源は、走査装置の動作に応じて、つまり回折光学素子への入射位置に応じて、光の射出及び光の射出停止を切り替える。この照明装置によれば、照明光が照射される領域を所望のパターンに切り替えることができる。 For example, as disclosed in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2002-200012, an illumination device including a light source and a diffractive optical element is known. The illumination device disclosed in Patent Document 1 has a light source, a scanning device, and a diffractive optical element. A scanning device temporally changes the traveling direction of light emitted from a light source. As a result, the light emitted from the light source is incident on the diffractive optical element while scanning the diffractive optical element. A diffractive optical element includes a plurality of element holograms having diffraction characteristics different from each other. The light source switches between emitting light and stopping emitting light according to the operation of the scanning device, that is, according to the incident position on the diffractive optical element. According to this illumination device, the area irradiated with the illumination light can be switched to a desired pattern.

特開2016-110813号公報JP 2016-110813 A

ところで、照明装置を用いて照明を行う多くの場合、常に照明を行いたい領域が存在する。例えば車のヘッドランプでは、前方領域を常に照明しながら、必要に応じて、この前方領域に加え、前方領域の左右に位置する左右領域や前方領域の更に前方となる遠方領域を照明することが望まれる。従来の照明装置では、常に照明を行いたい領域へ光を回折する要素ホログラム上を光が走査するタイミングで、光源は光を射出する。しかしながら、固定的に光が向けられ続ける要素ホログラムまでも走査対象とすることは、走査装置の動作にともなう振動、騒音、発熱等をより顕著とし、走査装置の故障リスクを負うことを意味する。 By the way, in many cases where illumination is performed using an illumination device, there is always an area to be illuminated. For example, in a car headlamp, while always illuminating the front area, in addition to the front area, left and right areas positioned to the left and right of the front area and a distant area further forward of the front area can be illuminated as needed. desired. In a conventional illumination device, the light source always emits light at the timing when the light scans over the elemental hologram that diffracts the light to the area to be illuminated. However, scanning even elemental holograms to which light is directed in a fixed manner means that vibration, noise, heat generation, etc. due to the operation of the scanning device become more pronounced, and the risk of failure of the scanning device is borne.

本開示は、以上の点を考慮してなされたものであり、照明装置への走査装置の適用に伴う負担を軽減することを目的とする。 The present disclosure has been made in consideration of the above points, and aims to reduce the burden associated with applying a scanning device to an illumination device.

本発明による第1の照明装置は、
光を射出する光源と、
前記光源から射出した光を第1光源光と第2光源光とに分割する分割素子と、
前記第1光源光を回折する固定回折光学素子と、
前記第2光源光を回折する可変回折光学素子と、
前記第2光源光の光路を変化させ前記可変回折光学素子上での入射位置を変化させる走査装置と、を備え、
前記可変回折光学素子は、複数の要素回折光学素子を含む。
A first lighting device according to the present invention comprises:
a light source that emits light;
a splitting element that splits the light emitted from the light source into first light source light and second light source light;
a fixed diffractive optical element that diffracts the first light source light;
a variable diffraction optical element that diffracts the second light source light;
a scanning device that changes the optical path of the second light source light to change the incident position on the variable diffraction optical element,
The variable diffractive optical element includes a plurality of element diffractive optical elements.

本発明による第1の照明装置において、前記光源は、前記走査装置の動作に応じて光の射出を停止するようにしてもよい。 In the first lighting device according to the present invention, the light source may stop emitting light according to the operation of the scanning device.

本発明による第1の照明装置において、前記可変回折光学素子は、前記第2光源光の被照明領域への進行を規制するダミー部を含むようにしてもよい。 In the first illumination device according to the present invention, the variable diffraction optical element may include a dummy section that restricts the light from the second light source to travel to the illuminated area.

本発明による第2の照明装置は、
光を射出する光源と、
前記光源から射出した光源光のうちの第1光源光の光路外であって前記光源光のうちの第2光源光の光路上に位置する可変マスクと、
前記第1光源光を回折する固定回折光学素子と、
前記第2光源光を回折する可変回折光学素子と、を備え、
前記可変マスクは、前記可変回折光学素子上における前記第2光源光の入射領域を変化させることができ、
前記可変回折光学素子は、複数の要素回折光学素子を含む。
A second lighting device according to the present invention comprises:
a light source that emits light;
a variable mask positioned outside the optical path of the first light source light out of the light source light emitted from the light source and on the optical path of the second light source light out of the light source light;
a fixed diffractive optical element that diffracts the first light source light;
a variable diffraction optical element that diffracts the second light source light,
The variable mask is capable of changing an incident area of the second light source light on the variable diffraction optical element,
The variable diffractive optical element includes a plurality of element diffractive optical elements.

本発明による第3の照明装置は、
光を射出する光源と、
前記光源から射出した光を回折する回折光学素子と、
前記光源から射出した光の光路に沿って前記光源と前記回折光学素子との間に位置する可変整形光学系と、を備え、
前記可変整形光学系は、前記光源から射出した光を可変整形し、前記回折光学素子上での入射領域の大きさを調整し、
前記回折光学素子は、前記回折光学素子上での入射領域の大きさに依らず前記光源から射出した光が入射する固定回折光学素子と、前記回折光学素子上での入射領域が拡大した際に前記光源から射出した光が入射する可変回折光学素子と、を含む。
A third lighting device according to the present invention comprises:
a light source that emits light;
a diffractive optical element that diffracts light emitted from the light source;
a variable shaping optical system positioned between the light source and the diffractive optical element along the optical path of the light emitted from the light source;
The variable shaping optical system variably shapes the light emitted from the light source to adjust the size of the incident area on the diffractive optical element,
The diffractive optical element includes a fixed diffractive optical element into which the light emitted from the light source is incident regardless of the size of the incident area on the diffractive optical element, and a variable diffraction optical element into which the light emitted from the light source is incident.

本発明による第3の照明装置において、前記可変回折光学素子は、複数の要素回折光学素子を含むようにしてもよい。 In the third illumination device according to the present invention, the variable diffractive optical element may include a plurality of element diffractive optical elements.

本発明による第3の照明装置において、
前記可変整形光学系は、レンズを含み、
前記レンズは、当該レンズの光軸と平行な方向に移動可能に支持されていてもよい。
In the third lighting device according to the invention,
The variable shaping optical system includes a lens,
The lens may be supported so as to be movable in a direction parallel to the optical axis of the lens.

本発明による第3の照明装置において、前記可変整形光学系は、前記光源から射出した光を発散させるビームエクスパンダーを含み、
本発明による第3の照明装置において、前記ビームエクスパンダーは、移動可能に支持されていてもよい。
In the third lighting device according to the present invention, the variable shaping optical system includes a beam expander that diverges the light emitted from the light source,
In the third lighting device according to the present invention, the beam expander may be movably supported.

本発明による第3の照明装置において、前記可変整形光学系は、可変絞りを含むようにしてもよい。 In the third illumination device according to the present invention, the variable shaping optical system may include a variable aperture.

本開示によれば、照明装置への走査装置の適用に伴う負担を軽減することができる。 According to the present disclosure, it is possible to reduce the burden associated with applying a scanning device to an illumination device.

図1は、本開示の第1の実施の形態を説明するための図であって、照明装置を示す概略図である。FIG. 1 is a diagram for explaining a first embodiment of the present disclosure, and is a schematic diagram showing a lighting device. 図2は、図1の照明装置の回折光学素子を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a diffractive optical element of the illumination device of FIG. 1. FIG. 図3は、図1の照明装置によって照明される被照明領域の例を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an example of a region to be illuminated illuminated by the lighting device of FIG. 図4は、可変回折光学素子に含まれる要素回折光学素子の照射パターンの一例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing an example of an irradiation pattern of element diffractive optical elements included in the variable diffractive optical element. 図5は、図4の照射パターンで可変回折光学素子に光源光を照射した場合における被照明領域の照明パターンの例を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing an example of an illumination pattern of a region to be illuminated when the variable diffractive optical element is irradiated with light from the light source according to the illumination pattern of FIG. 図6は、可変回折光学素子に含まれる要素回折光学素子の照射パターンの他の例を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing another example of an irradiation pattern of element diffractive optical elements included in the variable diffractive optical element. 図7は、図6の照射パターンで可変回折光学素子に光源光を照射した場合における被照明領域の照明パターンの例を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an example of an illumination pattern of an illuminated area when the variable diffraction optical element is irradiated with light from the light source according to the illumination pattern of FIG. 図8は、図1の照明装置によって照明される被照明領域の他の例を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing another example of a region to be illuminated illuminated by the lighting device of FIG. 図9は、本開示の第2の実施の形態を説明するための図であって、照明装置を示す概略図である。FIG. 9 is a diagram for explaining a second embodiment of the present disclosure, and is a schematic diagram showing a lighting device. 図10は、図9の照明装置の回折光学素子を示す平面図である。FIG. 10 is a plan view showing a diffractive optical element of the illumination device of FIG. 9. FIG. 図11は、本開示の第3の実施の形態を説明するための図であって、照明装置を示す概略図である。FIG. 11 is a diagram for explaining a third embodiment of the present disclosure, and is a schematic diagram showing a lighting device. 図12は、図11の照明装置の回折光学素子を示す平面図である。12 is a plan view showing a diffractive optical element of the illumination device of FIG. 11. FIG. 図13は、図11の照明装置によって照明される被照明領域の一例を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing an example of a region to be illuminated illuminated by the lighting device of FIG. 図14は、図11に対応する図であって、照明装置の一変形例を示す概略図である。FIG. 14 is a diagram corresponding to FIG. 11 and a schematic diagram showing a modified example of the lighting device. 図15は、図11に対応する図であって、照明装置の他の変形例を示す概略図である。FIG. 15 is a schematic diagram corresponding to FIG. 11 and showing another modification of the lighting device. 図16は、図1に対応する図であって、照明装置の変形例を示す概略図である。FIG. 16 is a schematic diagram corresponding to FIG. 1 and showing a modification of the lighting device. 図17は、図9に対応する図であって、照明装置の変形例を示す概略図である。FIG. 17 is a schematic diagram corresponding to FIG. 9 and showing a modification of the lighting device. 図18は、図11に対応する図であって、照明装置の変形例を示す概略図である。FIG. 18 is a schematic diagram corresponding to FIG. 11 and showing a modification of the lighting device.

以下、図面を参照して本開示の実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。 Embodiments of the present disclosure will be described below with reference to the drawings. In the drawings attached to this specification, for the convenience of illustration and ease of understanding, the scale and the ratio of vertical and horizontal dimensions are changed and exaggerated from those of the real thing.

また、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や、長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。 In addition, terms such as "parallel", "perpendicular", "identical", length and angle values, etc. that specify shapes and geometric conditions and their degrees used in this specification are strictly It is interpreted to include the extent to which similar functions can be expected without being bound by any particular meaning.

以下に説明する照明装置10は、光源から射出された光、以下においては光源光とも呼ばれる光を、回折光学素子40で拡散させて被照明領域Zに向けることにより、被照明領域Zを照明する。とりわけ以下に説明する照明装置10の被照明領域Zには、固定被照明領域Zfと可変被照明領域Zvとが含まれている。固定被照明領域Zfは、照明装置10の稼働中、常に、照明装置10から射出する照明光によって照明されるようになる領域である。一方、可変被照明領域Zvは、必要に応じて、固定被照明領域Zfに加えて照明光を照射される領域である。更にいくつかの例では、可変被照明領域Zvの照明パターンを変化させることが可能となっている。ここで、被照明領域Zは、回折光学素子40によって照明される実際の被照射面積(照明範囲)として表すことができるし、一定の座標軸を設定した上で角度空間における角度範囲によっても表現することができる。 The illumination device 10 described below illuminates an area to be illuminated Z by diffusing light emitted from a light source, hereinafter also referred to as light source light, with a diffractive optical element 40 and directing the light toward the area to be illuminated Z. . In particular, the illuminated area Z of the illumination device 10 described below includes a fixed illuminated area Zf and a variable illuminated area Zv. The fixed illuminated region Zf is a region that is always illuminated by illumination light emitted from the lighting device 10 while the lighting device 10 is in operation. On the other hand, the variable illuminated area Zv is an area that is illuminated with illumination light in addition to the fixed illuminated area Zf, if necessary. Furthermore, in some examples, it is possible to change the illumination pattern of the variable illuminated area Zv. Here, the illuminated area Z can be expressed as an actual illuminated area (illumination range) illuminated by the diffractive optical element 40, or can be expressed as an angular range in an angular space after setting a certain coordinate axis. be able to.

このような照明装置10は、種々の分野、例えば車や船等の移動体の照明装置として、使用され得る。そして、以下に説明する複数の実施の形態では、従来存在した不具合を対処するための工夫、具体的には、走査装置の動作にともなう振動、騒音、発熱等を効果的に抑制し、且つ、走査装置の故障リスクを軽減するための工夫がなされている。 Such a lighting device 10 can be used in various fields, for example, as a lighting device for moving bodies such as cars and ships. In a plurality of embodiments to be described below, contrivances for coping with conventional defects, specifically, vibration, noise, heat generation, etc. accompanying the operation of the scanning device are effectively suppressed, and Efforts have been made to reduce the risk of scanner failure.

<第1の実施の形態>
まず、図1~図8を参照して、第1の実施の形態について説明する。
<First embodiment>
First, a first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 8. FIG.

図1は、第1の実施の形態に係る照明装置10の一例を示す模式図である。図1に示すように、第1の実施の形態において、照明装置10は、光を射出する光源15と、光源15から射出した光、すなわち光源光SLを回折する回折光学素子40と、を含んでいる。図1に示された照明装置10は、光源光SLを第1光源光SL1と第2光源光SL2とに分割する分割素子20と、第1光源光SL1を整形する整形光学系25と、第2光源光SL2の光路を調整する走査装置30と、を更に含んでいる。回折光学素子40は、第1光源光SL1を回折する固定回折光学素子45と、第2光源光SL2を回折する可変回折光学素子50と、を含んでいる。固定回折光学素子45で回折された回折光は固定被照明領域Zfに向かい、可変回折光学素子50で回折された回折光は可変被照明領域Zvに向かう。以下、各構成要素について順に説明していく。 FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of a lighting device 10 according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, in the first embodiment, the illumination device 10 includes a light source 15 that emits light, and a diffraction optical element 40 that diffracts the light emitted from the light source 15, that is, the light source light SL. I'm in. The illumination device 10 shown in FIG. 1 includes a splitting element 20 that splits the light source light SL into a first light source light SL1 and a second light source light SL2, a shaping optical system 25 that shapes the first light source light SL1, and a second light source light SL2. and a scanning device 30 that adjusts the optical path of the two-light source light SL2. The diffractive optical element 40 includes a fixed diffractive optical element 45 that diffracts the first light source light SL1 and a variable diffractive optical element 50 that diffracts the second light source light SL2. The diffracted light diffracted by the fixed diffractive optical element 45 goes to the fixed illuminated area Zf, and the diffracted light diffracted by the variable diffractive optical element 50 goes to the variable illuminated area Zv. Each component will be described in order below.

光源15は、種々の型式の光源を用いることができる。一例として、コヒーレント光を射出する光源、例えばレーザー光源を、光源15として用いることができる。レーザー光源から投射されるレーザー光は、直進性に優れ、被照明領域Zを高精度に照明するための光として好適である。 Light source 15 can use various types of light sources. As an example, a light source that emits coherent light, such as a laser light source, can be used as the light source 15 . The laser light projected from the laser light source has excellent rectilinearity and is suitable as light for illuminating the region Z to be illuminated with high precision.

図示された光源15は、単一のレーザー光源を含んでいる。したがって、図示された例では、レーザー光源から発振されるレーザー光の波長域に対応した色で、被照明領域Zが照明される。ただし、被照明領域Zを所望の色に照明することができるよう、光源15が複数のレーザー光源を含み、各レーザー光源から射出した光が重ね合わされた後、分割素子20、整形光学系25、走査装置30及び回折光学素子40に向かうようにしてもよいし、各レーザー光源から射出した光が当該レーザー光源に対応して設けられた分割素子20、整形光学系25、走査装置30及び回折光学素子40を経て、その後に被照明領域Z上で重ね合わされてもよい。このような例において、光源15に含まれる複数のレーザー光源は、異なる波長域の光を射出するだけでなく、同一の波長域の光を射出するようにしてもよい。光源15が同一の波長域の光を射出するレーザー光源を含むことで、被照明領域Zを明るく照明することが可能となる。 The illustrated light source 15 includes a single laser light source. Therefore, in the illustrated example, the illuminated area Z is illuminated with a color corresponding to the wavelength range of the laser light emitted from the laser light source. However, in order to illuminate the area Z to be illuminated with a desired color, the light source 15 includes a plurality of laser light sources. The light emitted from each laser light source may be directed toward the scanning device 30 and the diffractive optical element 40, or the splitting element 20, the shaping optical system 25, the scanning device 30, and the diffractive optical element provided corresponding to the laser light source. It may be superimposed on the illuminated area Z after passing through the element 40 . In such an example, the plurality of laser light sources included in the light source 15 may not only emit light in different wavelength ranges, but may also emit light in the same wavelength range. Since the light source 15 includes a laser light source that emits light in the same wavelength range, it is possible to brightly illuminate the region Z to be illuminated.

分割素子20は、光源15から射出した光源光SLを、第1光源光SL1及び第2光源光SL2に分割する。このような分割素子20として、ハーフミラーを用いることができる。図1に示された照明装置10では、ハーフミラーからなる分割素子20で反射された光源光SLが、第1光源光SL1となり、ハーフミラーからなる分割素子20を透過した光源光SLが第2光源光SL2となる。第1光源光SL1は、固定回折光学素子45で回折されて、固定被照明領域Zfを照明する。第2光源光SL2は、可変回折光学素子50で回折されて、可変被照明領域Zvを照明する。ハーフミラーからなる分割素子20の反射率を調節しておくことで、固定被照明領域Zf及び可変被照明領域Zvの照明光量を調節することができる。また、分割素子20としては、ダイクロイックミラーやバンドパスフィルタ、波長板及び偏光ビームスプリッタの組み合わせ等を用いることができる。 The splitting element 20 splits the light source light SL emitted from the light source 15 into a first light source light SL1 and a second light source light SL2. A half mirror can be used as such a splitting element 20 . In the illumination device 10 shown in FIG. 1, the light source light SL reflected by the splitting element 20 made up of the half mirror becomes the first light source light SL1, and the light source light SL transmitted through the splitting element 20 made up of the half mirror becomes the second light source light SL1. It becomes the light source light SL2. The first light source light SL1 is diffracted by the fixed diffractive optical element 45 and illuminates the fixed illuminated region Zf. The second light source light SL2 is diffracted by the variable diffractive optical element 50 to illuminate the variable illuminated region Zv. By adjusting the reflectance of the splitting element 20 made up of a half mirror, it is possible to adjust the illumination light amount of the fixed illuminated area Zf and the variable illuminated area Zv. Moreover, as the splitting element 20, a dichroic mirror, a bandpass filter, a combination of a wave plate and a polarization beam splitter, or the like can be used.

次に、整形光学系25について説明する。分割素子20で第2光源光SL2から分離された第1光源光SL1は、整形光学系25に向かう。整形光学系25は、第1光源光SL1を整形する。言い換えると、整形光学系25は、第1光源光SL1の光軸に直交する断面での形状や、第1光源光SL1の光束の立体的な形状を整形する。図示された例において、整形光学系25は、第1光源光SL1を拡幅した平行光束に整形する。図1に示すように、整形光学系25は、第1光源光SL1の光路に沿った順で、ビームエクスパンダー26及びレンズ27を有している。ビームエクスパンダー26は、光源15から射出したレーザー光を発散光束に整形する。レンズ27は、ビームエクスパンダー26で生成された発散光束を、平行光束に整形し直す。なお、整形光学系25は、固定回折光学素子45上での第1光源光SL1の入射領域が、円形状となるように通常のレンズを用いてもよいし、当該入射領域が矩形状となるようにシリンドリカルレンズを用いてもよいし、また、当該入射領域が矩形状等の所望形状となるようにマスクを用いてもよい。 Next, the shaping optical system 25 will be described. First light source light SL<b>1 separated from second light source light SL<b>2 by splitting element 20 goes to shaping optical system 25 . The shaping optical system 25 shapes the first light source light SL1. In other words, the shaping optical system 25 shapes the shape of the cross section perpendicular to the optical axis of the first light source light SL1 and the three-dimensional shape of the luminous flux of the first light source light SL1. In the illustrated example, the shaping optical system 25 shapes the first light source light SL1 into a widened parallel light beam. As shown in FIG. 1, the shaping optical system 25 has a beam expander 26 and a lens 27 in order along the optical path of the first light source light SL1. The beam expander 26 shapes the laser light emitted from the light source 15 into a divergent light flux. The lens 27 reshapes the divergent luminous flux generated by the beam expander 26 into a parallel luminous flux. Note that the shaping optical system 25 may use a normal lens so that the incident area of the first light source light SL1 on the fixed diffraction optical element 45 has a circular shape, or the incident area has a rectangular shape. A cylindrical lens may be used as shown, or a mask may be used so that the incident area has a desired shape such as a rectangular shape.

次に、走査装置30について説明する。走査装置30は、第2光源光SL2の進行方向を経時的に変化させ、第2光源光SL2の進行方向が一定にならないようにする。この結果、走査装置30を出射した第2光源光SL2は、回折光学素子40の可変回折光学素子50の入射面上を走査するようになる。 Next, the scanning device 30 will be described. The scanning device 30 changes the traveling direction of the second light source light SL2 over time so that the traveling direction of the second light source light SL2 is not constant. As a result, the second light source light SL2 emitted from the scanning device 30 scans the incident surface of the variable diffractive optical element 50 of the diffractive optical element 40 .

走査装置30は、互いに交差する方向とそれぞれ平行な二つの回転軸周りに回転可能な反射鏡31を有する。この反射鏡31に入射した第2光源光SL2は、反射鏡31の傾斜角度に応じた角度で反射されて、固定回折光学素子45に向かう。反射鏡31を二つの回転軸周りに回転させることで、第2光源光SL2は可変回折光学素子50の入射面上を二次元的に走査することが可能となる。反射鏡31は、例えば一定の周期で二つの回転軸周りに回転する一定の動作を繰り返す。そして、回折光学素子40上での第2光源光SL2の入射位置は、周期性を持って変化し、例えば図3に示された走査経路spを繰り返し移動する。このような走査装置30として、例えばMEMSミラーを使用することができる。 The scanning device 30 has a reflecting mirror 31 rotatable around two rotation axes parallel to mutually intersecting directions. The second light source light SL2 incident on the reflecting mirror 31 is reflected at an angle corresponding to the tilt angle of the reflecting mirror 31 and travels toward the fixed diffractive optical element 45 . By rotating the reflecting mirror 31 around the two rotation axes, the incident surface of the variable diffraction optical element 50 can be scanned two-dimensionally with the second light source light SL2. The reflecting mirror 31 repeats, for example, a constant motion of rotating around two rotation axes at a constant cycle. Then, the incident position of the second light source light SL2 on the diffractive optical element 40 changes with periodicity, and moves repeatedly along the scanning path sp shown in FIG. 3, for example. A MEMS mirror, for example, can be used as such a scanning device 30 .

次に、回折光学素子40について説明する。回折光学素子40は、光源15から射出した光源光SLに対して回折作用を及ぼす素子である。回折光学素子40は、光源光SLを回折して、被照明領域Zに向ける。したがって、被照明領域Zは、回折光学素子40での回折光によって、照明されることになる。 Next, the diffractive optical element 40 will be explained. The diffractive optical element 40 is an element that diffracts the light source light SL emitted from the light source 15 . The diffractive optical element 40 diffracts the light source light SL and directs it toward the illuminated area Z. FIG. Therefore, the illuminated area Z is illuminated by the diffracted light from the diffractive optical element 40 .

図示された回折光学素子40は、固定回折光学素子45及び可変回折光学素子50を有している。固定回折光学素子45は、光源光SLのうちの第1光源光SL1を回折して、固定被照明領域Zfに向ける。一方、可変回折光学素子50は、光源光SLのうちの第2光源光SL2を回折して、可変被照明領域Zvに向ける。また、可変回折光学素子50は、複数の要素回折光学素子51を含んでいる。各要素回折光学素子51は、第2光源光SL2を回折し、図示された例では当該回折光を互いに異なる要素被照明領域Zveに向ける。 The illustrated diffractive optical element 40 has a fixed diffractive optical element 45 and a variable diffractive optical element 50 . The fixed diffractive optical element 45 diffracts the first light source light SL1 of the light source light SL and directs it toward the fixed illuminated region Zf. On the other hand, the variable diffractive optical element 50 diffracts the second light source light SL2 of the light source light SL and directs it to the variable illuminated region Zv. Also, the variable diffractive optical element 50 includes a plurality of element diffractive optical elements 51 . Each element diffractive optical element 51 diffracts the second light source light SL2 and, in the illustrated example, directs the diffracted light to different element illuminated regions Zve.

図2は、回折光学素子40を示す平面図である。図示された回折光学素子40において、固定回折光学素子45及び可変回折光学素子50は、隣接して配置されている。すなわち、固定回折光学素子45及び可変回折光学素子50は、一つの光学素子を平面分割するようにして、配置されている。可変回折光学素子50は、第1~第5要素回折光学素子51a~51eを含んでいる。第1~第5要素回折光学素子51a~51eは、一直線上に隣接して配列されている。 FIG. 2 is a plan view showing the diffractive optical element 40. FIG. In the illustrated diffractive optical element 40, the fixed diffractive optical element 45 and the variable diffractive optical element 50 are arranged adjacent to each other. That is, the fixed diffractive optical element 45 and the variable diffractive optical element 50 are arranged so as to divide one optical element into two planes. The variable diffractive optical element 50 includes first to fifth element diffractive optical elements 51a to 51e. The first to fifth element diffractive optical elements 51a to 51e are arranged adjacently on a straight line.

図3は、回折光学素子40によって照明される被照明領域Zの一例を示している。図3に示された例において、固定回折光学素子45からの回折光によって照明される固定被照明領域Zfは、照明装置10の前方に広がる広い領域となっている。可変回折光学素子50からの回折光によって照明される可変被照明領域Zvは、固定被照明領域Zfの両側方に位置する領域および固定被照明領域Zfの更に前方となる領域を含んでいる。そして、可変被照明領域Zvは、各要素回折光学素子51に対応して五つに区分けされ、第1~第5要素被照明領域Zve1~Zve5を含んでいる。第1要素回折光学素子51aからの回折光によって照明される第1要素被照明領域Zve1は、固定被照明領域Zfの左側方に位置している。第2要素回折光学素子51bからの回折光によって照明される第2要素被照明領域Zve2は、固定被照明領域Zfの前方領域のうちの左方に位置している。第3要素回折光学素子51cからの回折光によって照明される第3要素被照明領域Zve3は、固定被照明領域Zfの前方領域のうちの中央に位置している。第4要素回折光学素子51dからの回折光によって照明される第4要素被照明領域Zve4は、固定被照明領域Zfの前方領域のうちの右方に位置している。第5要素回折光学素子51eからの回折光によって照明される第5要素被照明領域Zve5は、固定被照明領域Zfの右側方に位置している。 FIG. 3 shows an example of an illuminated area Z illuminated by the diffractive optical element 40. As shown in FIG. In the example shown in FIG. 3 , the fixed illuminated area Zf illuminated by the diffracted light from the fixed diffractive optical element 45 is a wide area extending in front of the illumination device 10 . The variable illuminated area Zv illuminated by the diffracted light from the variable diffractive optical element 50 includes areas positioned on both sides of the fixed illuminated area Zf and areas further forward of the fixed illuminated area Zf. The variable illuminated area Zv is divided into five areas corresponding to the respective elemental diffractive optical elements 51, and includes first to fifth elemental illuminated areas Zve1 to Zve5. The first illuminated region Zve1 illuminated by the diffracted light from the first diffractive optical element 51a is positioned to the left of the fixed illuminated region Zf. The second illuminated area Zve2 illuminated by the diffracted light from the second diffractive optical element 51b is positioned to the left of the area in front of the fixed illuminated area Zf. The third element illuminated area Zve3 illuminated by the diffracted light from the third element diffractive optical element 51c is located in the center of the front area of the fixed illuminated area Zf. The fourth illuminated area Zve4 illuminated by the diffracted light from the fourth diffractive optical element 51d is located on the right side of the front area of the fixed illuminated area Zf. The fifth illuminated area Zve5 illuminated by the diffracted light from the fifth diffractive optical element 51e is positioned to the right of the fixed illuminated area Zf.

すなわち、図3に示された例において、固定回折光学素子45及び可変回折光学素子50は、異なる回折特性を有し、少なくとも部分的に異なる領域を照明する。また、可変回折光学素子50に含まれる複数の要素被照明領域Zveは、異なる回折特性を有し、少なくとも部分的に異なる領域を照明する。 That is, in the example shown in FIG. 3, the fixed diffractive optical element 45 and the variable diffractive optical element 50 have different diffractive properties and illuminate at least partially different regions. Also, the plurality of element illuminated regions Zve included in the variable diffractive optical element 50 have different diffraction characteristics and illuminate at least partially different regions.

ただし、図3に示された被照明領域Zは一例に過ぎない。図3に示された例では、固定被照明領域Zf及び可変被照明領域Zvが重複していない例を示したが、少なくとも一部分において重複していてもよいし、いずれか一方が他方に包含されるようにしてもよいし、更には同一であってもよい。また、固定被照明領域Zf及び可変被照明領域Zvは、接している必要はなく、互いから離間していてもよい。同様に、複数の要素被照明領域Zveは、図示された例において重複していないが、少なくとも一部分において重複していてもよいし、いずれか一つが他の一つに包含されるようにしてもよいし、更にはいずれか一つが他の一つと同一であってもよい。また、複数の要素被照明領域Zveは、互いに接している必要はなく、互いから離間していてもよい。 However, the illuminated area Z shown in FIG. 3 is merely an example. Although the example shown in FIG. 3 shows an example in which the fixed illuminated region Zf and the variable illuminated region Zv do not overlap, they may overlap at least partially, or one of them may be included in the other. They may be the same, or they may be the same. Also, the fixed illuminated area Zf and the variable illuminated area Zv need not be in contact with each other and may be separated from each other. Similarly, the plurality of element illuminated regions Zve do not overlap in the illustrated example, but may overlap at least partially, or any one may be included in the other. Alternatively, any one may be identical to the other. Also, the plurality of element illuminated regions Zve need not be in contact with each other, and may be separated from each other.

また、図3に示された被照明領域Zは、回折光学素子40によって重ねて照明されるニアフィールドの被照明領域として表されている。そして、回折光学素子40で光路を調整された光は、被照明領域Zを通過した後、実際の照明範囲である、例えば地面上の所定範囲を照明する。ファーフィールドの照明範囲は、実際の被照明領域の寸法よりも、角度空間における拡散角度分布として表現されることが多い。本明細書における「被照明領域」「固定被照明領域」「可変被照明領域」「要素被照明領域」という用語は、実際の被照射面積(照明範囲)に加え角度空間における拡散角度範囲も包含するものとする。 The illuminated area Z shown in FIG. 3 is represented as a near-field illuminated area that is overlapped and illuminated by the diffractive optical element 40 . Then, the light whose optical path has been adjusted by the diffractive optical element 40 passes through the area to be illuminated Z, and then illuminates the actual illumination range, for example, a predetermined range on the ground. Far-field illumination coverage is often expressed as a diffuse angular distribution in angular space rather than the actual dimensions of the illuminated area. The terms "illuminated area", "fixed illuminated area", "variable illuminated area", and "element illuminated area" used herein include not only the actual illuminated area (illumination range) but also the diffusion angle range in the angular space. It shall be.

一例として、回折光学素子40をなす固定回折光学素子45、可変回折光学素子50及び要素回折光学素子51は、干渉縞パターンを記録されたホログラム記録媒体として構成され得る。干渉縞パターンを種々に調整することで、各素子40,45,50,51で回折される光の進行方向、言い換えると、各素子40,45,50,51で拡散される光の進行方向を、制御することができる。 As an example, the fixed diffractive optical element 45, the variable diffractive optical element 50, and the element diffractive optical element 51 forming the diffractive optical element 40 can be configured as a hologram recording medium on which an interference fringe pattern is recorded. By adjusting the interference fringe pattern in various ways, the traveling direction of the light diffracted by each element 40, 45, 50, 51, in other words, the traveling direction of the light diffused by each element 40, 45, 50, 51 can be changed. , can be controlled.

各素子40,45,50,51は、例えば実物の散乱板からの散乱光を物体光として用いて作製することができる。より具体的には、素子40,45,50,51の母体であるホログラム感光材料に、互いに干渉性を有するコヒーレント光からなる参照光と物体光とを照射すると、これらの光の干渉による干渉縞がホログラム感光材料に形成されて、素子40,45,50,51が作製される。参照光としては、コヒーレント光であるレーザー光が用いられ、物体光としては、例えば安価に入手可能な等方散乱板からの散乱光が用いられる。 Each of the elements 40, 45, 50 and 51 can be produced using, for example, scattered light from a real scattering plate as object light. More specifically, when the hologram photosensitive material, which is the base material of the elements 40, 45, 50, and 51, is irradiated with reference light and object light, which are coherent light beams having coherence with each other, interference fringes are produced by the interference of these light beams. are formed on the holographic photosensitive material to fabricate elements 40, 45, 50 and 51. FIG. Laser light, which is coherent light, is used as the reference light, and scattered light from, for example, an inexpensively available isotropic scattering plate is used as the object light.

素子40,45,50,51を作製する際に用いた参照光の光路を逆向きに進むよう素子40,45,50,51に向けてレーザー光を照射することで、素子40,45,50,51を作製する際に用いた物体光の元となる散乱板の配置位置に、散乱板の再生像が生成される。素子40,45,50,51を作製する際に用いた物体光の元となる散乱板が均一な面散乱をしていれば、素子40,45,50,51により得られる散乱板の再生像も、均一な面照明となり、この散乱板の再生像が生成される領域を照明されるべき領域Z,Zf,Zv,Zveとすることができる。 By irradiating laser light toward the elements 40, 45, 50, and 51 so as to travel in the opposite direction along the optical path of the reference light used to fabricate the elements 40, 45, 50, and 51, the elements 40, 45, and 50 , 51, and the reproduced image of the scattering plate is generated at the arrangement position of the scattering plate which is the source of the object light. If the scattering plate, which is the source of the object light used in fabricating the elements 40, 45, 50, and 51, has uniform surface scattering, the reconstructed image of the scattering plate obtained by the elements 40, 45, 50, and 51 Also, uniform surface illumination is obtained, and the areas where the reconstructed image of the scattering plate is generated can be the areas to be illuminated Z, Zf, Zv and Zve.

また、各素子40,45,50,51に形成される複雑な干渉縞のパターンは、現実の物体光と参照光を用いて形成する代わりに、予定した再生照明光の波長や入射方向、並びに、再生されるべき像の形状や位置等に基づき計算機を用いて設計することが可能である。このようにして得られた素子40,45,50,51は、計算機合成ホログラム(CGH:Computer Generated Hologram)とも呼ばれる。例えば、照明装置10が地面上や水面上の一定の大きさを有した被照明領域Zを照明することに用いられる場合、物体光を生成することが困難であり、計算機合成ホログラムを素子40,45,50,51として用いることが好適である。 Moreover, the complicated interference fringe patterns formed on the elements 40, 45, 50, and 51 are formed using the intended wavelength and incident direction of the illumination light for reproduction, instead of using the actual object light and reference light. , it is possible to design using a computer based on the shape and position of the image to be reproduced. The elements 40, 45, 50, 51 thus obtained are also called computer generated holograms (CGH). For example, when the illuminating device 10 is used to illuminate an area to be illuminated Z having a certain size on the ground or on the water surface, it is difficult to generate object light, and the computer-generated hologram is placed on the elements 40 and 40 . 45, 50 and 51 are preferred.

また、各素子40,45,50,51上の各点における拡散角度特性が同じであるフーリエ変換ホログラムを計算機合成により形成してもよい。さらに、素子40,45,50,51の下流側にレンズなどの光学部材を設けて、照明されるべき領域Z,Zf,Zv,Zveの全域に入射するように調整してもよい。 Further, a Fourier transform hologram having the same diffusion angle characteristic at each point on each element 40, 45, 50, 51 may be formed by computer synthesis. Furthermore, an optical member such as a lens may be provided downstream of the elements 40, 45, 50 and 51 to adjust the light to be incident on the entire areas Z, Zf, Zv and Zve to be illuminated.

素子40,45,50,51の具体的な形態としては、フォトポリマーを用いた体積型ホログラム記録媒体でもよいし、銀塩材料を含む感光媒体を利用して記録するタイプの体積型ホログラム記録媒体でもよいし、レリーフ型(エンボス型)のホログラム記録媒体でもよい。また、素子40,45,50,51は、透過型であってもよいし、反射型であってもよい。 As a specific form of the elements 40, 45, 50, 51, a volume hologram recording medium using a photopolymer may be used, or a volume hologram recording medium of a type in which recording is performed using a photosensitive medium containing a silver salt material. Alternatively, a relief type (embossed) hologram recording medium may be used. Also, the elements 40, 45, 50 and 51 may be of a transmissive type or of a reflective type.

図2に戻って、可変回折光学素子50は、五つの要素回折光学素子51に加えて、ダミー部52を含んでいる。ダミー部52は、第2光源光SL2の被照明領域Zへの進行を阻止する光学部材である。ダミー部52として、典型的には、光吸収性を有した部材を用いることができる。他の例として、ダミー部52は、被照明領域Z以外の回収領域に光を誘導する部材、例えば反射面や回折光学素子を用いることができる。 Returning to FIG. 2, the variable diffractive optical element 50 includes a dummy section 52 in addition to the five element diffractive optical elements 51 . The dummy portion 52 is an optical member that prevents the second light source light SL2 from traveling to the illuminated region Z. As shown in FIG. As the dummy portion 52, typically, a member having light absorption properties can be used. As another example, the dummy section 52 can use a member that guides light to a recovery area other than the illuminated area Z, such as a reflecting surface or a diffractive optical element.

ダミー部52は、後述するように、可変被照明領域Zv内の照明パターンによらず、固定被照明領域Zfの明るさを一定に保つことを目的として設けられている。上述したように、可変回折光学素子50に入射する第2光源光SL2の光路は、走査装置30によって経時的に変化する。図2には、可変回折光学素子50へ入射する第2光源光SL2の入射位置の走査経路spが、示されている。ダミー部52は、ダミー部52上での走査経路spの合計長さと要素回折光学素子51上での走査経路spの合計長さが同一となるように、設けられていることが好ましい。図2に示された例において、五つの要素回折光学素子51は同一の平面視形状を有している。ダミー部52は、要素回折光学素子51と同一の平面視形状を有する要素ダミー部を、要素回折光学素子51の数と同一の五つ含んでいる。図2に示された例において、可変回折光学素子50の上段となる領域に第1~第5要素回折光学素子51a~51eが並べられ、可変回折光学素子50の下段となる領域に第1~第5要素ダミー部52a~52eが並べられている。しかしながら、図2に示された例に限られず、例えば、走査経路spに沿って、ダミー部52と要素回折光学素子51が交互に配置されるようにしてもよい。 The dummy portion 52 is provided for the purpose of keeping constant the brightness of the fixed illuminated area Zf regardless of the illumination pattern in the variable illuminated area Zv, as will be described later. As described above, the optical path of the second light source light SL2 incident on the variable diffractive optical element 50 changes over time due to the scanning device 30. FIG. FIG. 2 shows the scanning path sp of the incident position of the second light source light SL2 incident on the variable diffraction optical element 50. As shown in FIG. The dummy section 52 is preferably provided such that the total length of the scanning paths sp on the dummy section 52 and the total length of the scanning paths sp on the element diffractive optical element 51 are the same. In the example shown in FIG. 2, the five element diffractive optical elements 51 have the same plan view shape. The dummy section 52 includes five element dummy sections having the same plan view shape as the element diffractive optical elements 51 , which is the same number as the element diffractive optical elements 51 . In the example shown in FIG. 2, the first to fifth element diffractive optical elements 51a to 51e are arranged in the upper region of the variable diffractive optical element 50, and the first to fifth element diffractive optical elements 51a to 51e are arranged in the lower region of the variable diffractive optical element 50. Fifth element dummy portions 52a to 52e are arranged. However, the present invention is not limited to the example shown in FIG. 2, and for example, the dummy portions 52 and the elemental diffractive optical elements 51 may be arranged alternately along the scanning path sp.

ところで、図1に示すように、照明装置10は、更に、制御部11を有している。制御部11は、光源15及び走査装置30に電気的に接続している。制御部11は、光源15及び走査装置30の動作を制御する。制御部11は、走査装置30の動作に同期して、光源15からの光源光SLの射出を制御する。制御部11による光源光SLの射出の有無の制御は、走査装置30による走査タイミングに基づいて、言い換えると、可変回折光学素子50上における第2光源光SL2の入射位置に基づいて、実施される。すなわち、制御部11は、可変被照明領域Zv内における所望する照明パターンに応じた各要素回折光学素子51への第2光源光SL2の照射の有無を、光源15からの光源光SLの射出および射出停止を切り替えることによって制御する。 By the way, as shown in FIG. 1 , the illumination device 10 further has a control section 11 . The controller 11 is electrically connected to the light source 15 and the scanning device 30 . The control unit 11 controls operations of the light source 15 and the scanning device 30 . The control unit 11 controls emission of the light source light SL from the light source 15 in synchronization with the operation of the scanning device 30 . Control of whether or not the light source light SL is emitted by the control unit 11 is performed based on the scanning timing of the scanning device 30, in other words, based on the incident position of the second light source light SL2 on the variable diffraction optical element 50. . That is, the control unit 11 determines whether or not the second light source light SL2 is irradiated to each element diffractive optical element 51 according to the desired illumination pattern in the variable illuminated region Zv. Control by switching the injection stop.

次に、以上に説明した構成からなる照明装置10の作用について説明する。 Next, the operation of the illumination device 10 configured as described above will be described.

光源15から射出した光源光SLは、まず、分割素子20に入射する。分割素子20によって、光源光SLは、第1光源光SL1及び第2光源光SL2に分割される。 The light source light SL emitted from the light source 15 first enters the splitting element 20 . The splitting element 20 splits the light source light SL into a first light source light SL1 and a second light source light SL2.

第1光源光SL1は、整形光学系25に入射する。整形光学系25では、第1光源光SL1の光路幅を拡大する。すなわち、光軸に直交する断面において光が占める領域が広がるよう、整形光学系25は第1光源光SL1を整形する。整形光学系25は、ビームエクスパンダー26及びレンズ27を有している。図1に示すように、整形光学系25のビームエクスパンダー26は、光源15から射出した光を発散させて発散光束に変換する。そして、整形光学系25のレンズ27は、発散光束を平行光束へとコリメートする。整形光学系25で整形された第1光源光SL1は、次に、回折光学素子40の固定回折光学素子45に入射する。固定回折光学素子45は、第1光源光SL1を回折して、固定被照明領域Zfに向ける。これにより、固定回折光学素子45で回折された回折光によって、固定被照明領域Zfが照明される。 The first light source light SL1 enters the shaping optical system 25 . The shaping optical system 25 expands the optical path width of the first light source light SL1. That is, the shaping optical system 25 shapes the first light source light SL1 so that the area occupied by the light in the cross section orthogonal to the optical axis is expanded. The shaping optical system 25 has a beam expander 26 and a lens 27 . As shown in FIG. 1, the beam expander 26 of the shaping optical system 25 diverges the light emitted from the light source 15 and converts it into a divergent luminous flux. Then, the lens 27 of the shaping optical system 25 collimates the divergent light flux into a parallel light flux. The first light source light SL1 shaped by the shaping optical system 25 then enters the fixed diffractive optical element 45 of the diffractive optical element 40 . The fixed diffractive optical element 45 diffracts the first light source light SL1 and directs it toward the fixed illuminated area Zf. As a result, the fixed illuminated area Zf is illuminated by the diffracted light diffracted by the fixed diffractive optical element 45 .

第2光源光SL2は、走査装置30に入射する。走査装置30は、第2光源光SL2の光路を経時的に変化させる。第2光源光SL2の光路の変化は周期的となる。第2光源光SL2は、その後、回折光学素子40の可変回折光学素子50へ入射する。可変回折光学素子50上での第2光源光SL2の入射位置は、走査経路spに沿って移動する。すなわち、第2光源光SL2は、可変回折光学素子50上を走査するようにして、可変回折光学素子50に入射する。可変回折光学素子50は、複数の要素回折光学素子51および複数のダミー部52を含んでいる。図2に示すように、第2光源光SL2の走査経路spは、複数の要素回折光学素子51および複数のダミー部52上を延びている。このとき、制御部11は、可変被照明領域Zv内での所望とする照明パターンに応じて、光源15からの光源光SLの射出の有無を切り替える。 The second light source light SL2 enters the scanning device 30 . The scanning device 30 temporally changes the optical path of the second light source light SL2. The change in the optical path of the second light source light SL2 becomes periodic. The second light source light SL2 then enters the variable diffractive optical element 50 of the diffractive optical element 40 . The incident position of the second light source light SL2 on the variable diffraction optical element 50 moves along the scanning path sp. That is, the second light source light SL2 enters the variable diffractive optical element 50 so as to scan the variable diffractive optical element 50 . The variable diffractive optical element 50 includes multiple element diffractive optical elements 51 and multiple dummy portions 52 . As shown in FIG. 2 , the scanning path sp of the second light source light SL2 extends over the plurality of diffractive optical elements 51 and the plurality of dummy portions 52 . At this time, the control unit 11 switches whether or not the light source light SL is emitted from the light source 15 according to a desired illumination pattern within the variable illuminated region Zv.

図4に示された例では、第2要素回折光学素子51b、第3要素回折光学素子51c及び第4要素回折光学素子51dに、第2光源光SL2が入射し、第1要素回折光学素子51a及び第5要素回折光学素子51eには、第2光源光SL2が入射していない。このとき、図5に示すように、固定被照明領域Zfが第1光源光SL1によって照明されるとともに、可変被照明領域Zv内の第2要素被照明領域Zve2、第3要素被照明領域Zve3及び第4要素被照明領域Zve4が第2光源光SL2によって照明される。 In the example shown in FIG. 4, the second light source light SL2 enters the second diffractive optical element 51b, the third diffractive optical element 51c, and the fourth diffractive optical element 51d, and the first diffractive optical element 51a and the fifth element diffractive optical element 51e, the second light source light SL2 is not incident. At this time, as shown in FIG. 5, the fixed illuminated region Zf is illuminated by the first light source light SL1, and the second illuminated region Zve2, the third illuminated region Zve3, and the illuminated region Zve3 in the variable illuminated region Zv The fourth element illuminated region Zve4 is illuminated by the second light source light SL2.

また、図6に示された例では、第1要素回折光学素子51aに第2光源光SL2が入射し、第2~第5要素回折光学素子51b~51eには第2光源光SL2が入射していない。このとき、図7に示すように、固定被照明領域Zfが第1光源光SL1によって照明されるとともに、可変被照明領域Zv内は第1要素被照明領域Zve1だけが第2光源光SL2によって照明される。 In the example shown in FIG. 6, the second light source light SL2 is incident on the first diffractive optical element 51a, and the second light source light SL2 is incident on the second to fifth diffractive optical elements 51b to 51e. not At this time, as shown in FIG. 7, the fixed illuminated region Zf is illuminated by the first light source light SL1, and only the first element illuminated region Zve1 within the variable illuminated region Zv is illuminated by the second light source light SL2. be done.

以上のようにして、照明装置10は、固定回折光学素子45を照明し続けながら、可変回折光学素子50内を所望するパターンで照明する、或いは、可変回折光学素子50を照明しない。固定回折光学素子45で回折されて固定被照明領域Zfの照明に用いられる第1光源光SL1は、走査装置30に入射しない。すなわち、走査装置30による回折光学素子40上での光源光SLの走査経路spに、固定回折光学素子45が含まれていない。このように、常に照明される固定被照明領域Zfに向けて光を回折する固定回折光学素子45を、回折光学素子40上での光源光SLの走査経路spから省くことにより、走査経路spを短くすることができる。これにより、走査装置30の動作にともなった振動、騒音、発熱等を効果的に抑制することができ、且つ、走査装置30の故障リスクを効果的に軽減することができる。 As described above, the illumination device 10 illuminates the inside of the variable diffractive optical element 50 with a desired pattern while continuing to illuminate the fixed diffractive optical element 45 , or does not illuminate the variable diffractive optical element 50 . The first light source light SL<b>1 diffracted by the fixed diffractive optical element 45 and used to illuminate the fixed illuminated region Zf does not enter the scanning device 30 . That is, the fixed diffractive optical element 45 is not included in the scanning path sp of the light source light SL on the diffractive optical element 40 by the scanning device 30 . In this way, by omitting the fixed diffractive optical element 45 that diffracts light toward the fixed illuminated region Zf that is always illuminated from the scanning path sp of the light source light SL on the diffractive optical element 40, the scanning path sp is can be shortened. As a result, it is possible to effectively suppress vibration, noise, heat generation, and the like that accompany the operation of the scanning device 30, and to effectively reduce the risk of failure of the scanning device 30. FIG.

ところで、可変被照明領域Zv内での所望する照明パターンに応じて、第2光源光SL2の各要素回折光学素子51内への入射が制御される。図示された例では、光源15からの光源光SLの射出および射出停止を切り替えることで、各要素回折光学素子51内への第2光源光SL2の入射が制御される。しかしながら、光源15からの光源光SLの射出が停止すると、第2光源光SL2が可変回折光学素子50に入射しないタイミングで、第1光源光SL1も固定回折光学素子45に入射しなくなる。走査装置30の動作は極めて速く、各領域への照明光の入射の有無は、人間の目で判別することはできない。しかしながら、走査装置30の一周期分の期間に対する光源15が光源光SLを射出している期間の割合が変動すると、固定被照明領域Zfにおいて人間の目で明るさの変動が視認される可能性がある。さらに、可変被照明領域Zv内のいずれの要素被照明領域Zveも照明しない場合、光源15から光源光SLが射出されず、固定回折光学素子45を照明することができなくなる。このような不具合に対処するため、可変回折光学素子50は、要素回折光学素子51に加えて、被照明領域Zの照明に寄与しないダミー部52を有している。 By the way, incidence of the second light source light SL2 into each element diffractive optical element 51 is controlled according to a desired illumination pattern within the variable illuminated region Zv. In the illustrated example, the incidence of the second light source light SL2 into each element diffraction optical element 51 is controlled by switching between emission and stop of emission of the light source light SL from the light source 15 . However, when the emission of the light source light SL from the light source 15 stops, the first light source light SL1 also stops entering the fixed diffraction optical element 45 at the timing when the second light source light SL2 does not enter the variable diffraction optical element 50 . The operation of the scanning device 30 is extremely fast, and the presence or absence of illumination light incident on each region cannot be determined by the human eye. However, if the ratio of the period during which the light source 15 emits the light source light SL to the period corresponding to one cycle of the scanning device 30 fluctuates, there is a possibility that the human eye will perceive the fluctuation in brightness in the fixed illuminated region Zf. There is Furthermore, when none of the element illuminated regions Zve in the variable illuminated region Zv is illuminated, the light source light SL is not emitted from the light source 15, and the fixed diffraction optical element 45 cannot be illuminated. In order to deal with such a problem, the variable diffractive optical element 50 has a dummy portion 52 that does not contribute to illumination of the region Z to be illuminated, in addition to the element diffractive optical element 51 .

図5の照明パターンを実現するための図4に示された例では、第1要素ダミー部52a及び第5要素ダミー部52eに第2光源光SL2が入射し、第2要素ダミー部52b、第3要素ダミー部52c及び第4要素ダミー部52dには、第2光源光SL2が入射していない。結果として、光源15は、可変回折光学素子50を平面分割した10個の領域のうちの半分となる五個の領域を走査する間、光源光SLを射出し、10個の領域のうちの半分となる残りの五個の領域を走査する間、光源光SLの射出を停止している。すなわち、第2光源光SL2の入射位置が走査経路spを一周する間、すなわち、走査装置30の一周期分の動作の間、光源15は、半分の期間に亘って光源光SLを射出し、残り半分の期間に亘って光源光SLの射出を停止している。 In the example shown in FIG. 4 for realizing the illumination pattern of FIG. 5, the second light source light SL2 is incident on the first element dummy portion 52a and the fifth element dummy portion 52e, the second element dummy portion 52b, the fifth element dummy portion 52e, The second light source light SL2 is not incident on the three-element dummy portion 52c and the fourth-element dummy portion 52d. As a result, the light source 15 emits the light source light SL while scanning five regions, which are half of the ten regions obtained by plane-dividing the variable diffraction optical element 50, and half of the ten regions are scanned. Emission of the light source light SL is stopped while scanning the remaining five regions. That is, while the incident position of the second light source light SL2 goes around the scanning path sp, that is, during one cycle of operation of the scanning device 30, the light source 15 emits the light source light SL for half the period, Emission of the light source light SL is stopped over the remaining half period.

また、図7の照明パターンを実現するための図6に示された例では、第1要素ダミー部52a~第4要素ダミー部52dに第2光源光SL2が入射し、第5要素ダミー部52eには第2光源光SL2が入射していない。図7の例でも、光源15は、可変回折光学素子50を平面分割した10個の領域のうちの半分となる五個の領域を走査する間、光源光SLを射出し、10個の領域のうちの半分となる残りの五個の領域を走査する間、光源光SLの射出を停止している。すなわち、第2光源光SL2の入射位置が走査経路spを一周する間、すなわち、走査装置30の一周期分の動作の間、光源15は、半分の期間に亘って光源光SLを射出し、残り半分の期間に亘って光源光SLの射出を停止している。 Further, in the example shown in FIG. 6 for realizing the illumination pattern of FIG. 7, the second light source light SL2 is incident on the first to fourth dummy element portions 52a to 52d, and the fifth dummy dummy portion 52e. , the second light source light SL2 is not incident on. In the example of FIG. 7 as well, the light source 15 emits the light source light SL while scanning five regions, which are half of the ten regions obtained by plane-dividing the variable diffraction optical element 50, and scans the ten regions. Emission of the light source light SL is stopped while the remaining five regions, which are half of the regions, are scanned. That is, while the incident position of the second light source light SL2 goes around the scanning path sp, that is, during one cycle of operation of the scanning device 30, the light source 15 emits the light source light SL for half the period, Emission of the light source light SL is stopped over the remaining half period.

つまり、図示された例では、可変回折光学素子50に、可変回折光学素子50の照明に寄与しないダミー部52を設けることで、光源15からの光源光SLの射出を発停させることに起因した、照明時における固定被照明領域Zf内の明るさ変動を効果的に抑制することができる。とりわけ、図示された例では、可変回折光学素子50が、要素回折光学素子51と同数のダミー部52を含んでいるので、さらに正確に表現すると、複数のダミー部52上での走査経路spの合計長さが、複数の要素回折光学素子51上での走査経路spの合計長さと同一となっているので、照明時における固定被照明領域Zf内の明るさを均一化することができる。 In other words, in the illustrated example, by providing the variable diffraction optical element 50 with the dummy portion 52 that does not contribute to the illumination of the variable diffraction optical element 50, the emission of the light source light SL from the light source 15 is started and stopped. , it is possible to effectively suppress variations in brightness within the fixed illuminated region Zf during illumination. In particular, in the illustrated example, the variable diffractive optical element 50 includes the same number of dummy portions 52 as the element diffractive optical elements 51. More precisely, the scanning path sp on the plurality of dummy portions 52 is Since the total length is the same as the total length of the scanning paths sp on the plurality of element diffractive optical elements 51, the brightness in the fixed illuminated area Zf can be made uniform during illumination.

以上に説明してきた第1の実施の形態において、照明装置10は、光を射出する光源15と、光源15から射出した光源光SLを第1光源光SL1と第2光源光SL2とに分割する分割素子20と、第1光源光SL1を回折する固定回折光学素子45と、第2光源光SL2を回折する可変回折光学素子50と、第2光源光SL2の光路を変化させ可変回折光学素子50上における第2光源光SL2の入射位置を変化させる走査装置30と、を有している。可変回折光学素子50は、複数の要素回折光学素子51を含んでいる。このような第1の実施の形態では、走査装置30の動作に応じて、すなわち複数のダミー部52上の走査位置に応じて、光源15からの光源光SLの射出および光源光SLの射出停止を切り替えることで、固定回折光学素子45での回折光を用いて固定被照明領域Zfを照明しながら、併せて、可変回折光学素子50での回折光を用いて所望の要素被照明領域Zveを照明することができる。そして、固定回折光学素子45は、走査装置30による光源光SLの走査経路spに含まれていない。したがって、走査装置30による走査経路spを短縮することができ、走査装置30の動作にともなう振動、騒音、発熱等を効果的に抑制することができ、且つ、走査装置30の故障リスクを効果的に軽減することができる。 In the first embodiment described above, the illumination device 10 has the light source 15 that emits light, and splits the light source light SL emitted from the light source 15 into the first light source light SL1 and the second light source light SL2. A splitting element 20, a fixed diffractive optical element 45 that diffracts the first light source light SL1, a variable diffractive optical element 50 that diffracts the second light source light SL2, and a variable diffractive optical element 50 that changes the optical path of the second light source light SL2. and a scanning device 30 that changes the incident position of the second light source light SL2 on the upper surface. The variable diffractive optical element 50 includes multiple element diffractive optical elements 51 . In the first embodiment as described above, emission of the light source light SL from the light source 15 and stop of emission of the light source light SL are performed in accordance with the operation of the scanning device 30, that is, in accordance with the scanning positions on the plurality of dummy portions 52. , the diffracted light from the fixed diffractive optical element 45 is used to illuminate the fixed illuminated area Zf, and at the same time, the diffracted light from the variable diffractive optical element 50 is used to illuminate the desired element illuminated area Zve. can be illuminated. The fixed diffractive optical element 45 is not included in the scanning path sp of the light source light SL by the scanning device 30 . Therefore, the scanning path sp by the scanning device 30 can be shortened, the vibration, noise, heat generation, etc. accompanying the operation of the scanning device 30 can be effectively suppressed, and the failure risk of the scanning device 30 can be effectively reduced. can be reduced to

また、第1の実施の形態において、可変回折光学素子50は、第2光源光SL2の被照明領域Zへの進行を阻止するダミー部52を含んでいる。このような照明装置10においては、第2光源光SL2が照射される要素回折光学素子51の数に応じて、ダミー部52への第2光源光SL2の照射期間を調整することができる。これにより、走査装置30が走査経路spに沿って一回の周期的動作を行う間に、光源15が光を射出している期間を調整とすることができる。この結果、可変被照明領域Zvの照明パターンに依らず、固定被照明領域Zfを一定の明るさで照明することが可能となる。 Further, in the first embodiment, the variable diffraction optical element 50 includes the dummy portion 52 that prevents the second light source light SL2 from advancing to the illuminated region Z. As shown in FIG. In such an illumination device 10, the irradiation period of the second light source light SL2 to the dummy section 52 can be adjusted according to the number of the element diffractive optical elements 51 irradiated with the second light source light SL2. Thereby, the period during which the light source 15 emits light can be adjusted while the scanning device 30 performs one periodic operation along the scanning path sp. As a result, it is possible to illuminate the fixed illuminated area Zf with constant brightness regardless of the illumination pattern of the variable illuminated area Zv.

なお、上述してきた第1の実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、変形の一例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した第1の実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の第1の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。 Various modifications can be made to the above-described first embodiment. An example of modification will be described below with reference to the drawings. In the following description and the drawings used in the following description, portions that can be configured in the same manner as in the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals as those used for corresponding portions in the first embodiment described above. Reference numerals are used, and redundant explanations are omitted.

上述した第1の実施の形態において、照明装置10が所定の被照明領域Zを明るく照明する例を示したが、これに限られない。例えば図8に示すように、照明装置10が、所定の輪郭を有した領域を照明し、したがって、所定の輪郭を表示する装置として機能するようにしてもよい。図8に示された一例では、第1要素被照明領域Zve1が左に向く矢印の外輪郭を有した領域となっており、第5要素被照明領域Zve5が右に向く矢印の外輪郭を有した領域となっている。 In the above-described first embodiment, an example in which the illumination device 10 brightly illuminates the predetermined illuminated area Z is shown, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 8, the illumination device 10 may serve as a device for illuminating an area having a predetermined contour and thus displaying the predetermined contour. In the example shown in FIG. 8, the first illuminated area Zve1 is an area having an outer contour of an arrow pointing to the left, and the fifth illuminated area Zve5 has an outer contour of an arrow pointing to the right. It is an area where

また、上述した第1の実施の形態において、光源15が光源光SLの射出及び光源光SLの射出停止を切り替えることで、各要素回折光学素子51への第2光源光SL2の入射を制御し、可変被照明領域Zvを所望の照明パターンで照明するようにしたが、この例に限られない。例えば、図1に二点鎖線で示すように、第2光源光SL2の光路に沿った分割素子20と走査装置30との間に、シャッター35を設けるようにしてもよい。このシャッター35が、制御部11からの制御信号で動作し、走査装置30の動作に応じて走査装置30に向かう第2光源光SL2を遮光するようにしてもよい。この例によれば、可変回折光学素子50のダミー部52を不要とすることができ、走査装置30による走査経路spをさらに短縮して、走査装置30の負担を軽減することができる。 In addition, in the above-described first embodiment, the light source 15 switches between emission of the light source light SL and stop of emission of the light source light SL, thereby controlling incidence of the second light source light SL2 on each element diffraction optical element 51. , the variable illumination region Zv is illuminated with a desired illumination pattern, but the present invention is not limited to this example. For example, as indicated by a chain double-dashed line in FIG. 1, a shutter 35 may be provided between the splitting element 20 and the scanning device 30 along the optical path of the second light source light SL2. The shutter 35 may be operated by a control signal from the control section 11 and block the second light source light SL2 directed toward the scanning device 30 according to the operation of the scanning device 30 . According to this example, the dummy portion 52 of the variable diffractive optical element 50 can be eliminated, the scanning path sp by the scanning device 30 can be further shortened, and the load on the scanning device 30 can be reduced.

さらに上述した第1の実施の形態において、光源15から射出した光源光SLが分割素子20に直接入射する例を示したが、この例に限られない。図16に示すように、光源15から射出した光源光SLが光ファイバ16で搬送されるようにしてもよい。図16に示された例において、光ファイバ16の端部16aから射出した光源光SLは、整形素子17で整形された後、分割素子20に入射する。整形素子17として、例えばコリメータレンズを用いることができる。図16に示すように、光ファイバ16の端部16aから射出した光源光SLは、発散光束をなす。そして、コリメータレンズからなる整形素子17は、発散光束を平行光束に変換する。図16に示された例では、分割素子20は、入射する平行光束を、平行光束としての第1光源光SL1と平行光束としての第2光源光SL2とに分割する。 Furthermore, in the first embodiment described above, an example in which the light source light SL emitted from the light source 15 is directly incident on the splitting element 20 is shown, but the present invention is not limited to this example. As shown in FIG. 16 , the light source light SL emitted from the light source 15 may be conveyed by the optical fiber 16 . In the example shown in FIG. 16 , the light source light SL emitted from the end 16 a of the optical fiber 16 is shaped by the shaping element 17 and then enters the splitting element 20 . A collimator lens, for example, can be used as the shaping element 17 . As shown in FIG. 16, the light source light SL emitted from the end 16a of the optical fiber 16 forms a divergent light flux. A shaping element 17 consisting of a collimator lens converts the divergent light flux into a parallel light flux. In the example shown in FIG. 16, the splitting element 20 splits the incident parallel light flux into first light source light SL1 as parallel light flux and second light source light SL2 as parallel light flux.

<第2の実施の形態>
次に、図9及び図10を参照して、第2の実施の形態について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した第1の実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の第1の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。
<Second Embodiment>
Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. 9 and 10. FIG. In the following description and the drawings used in the following description, portions that can be configured in the same manner as in the first embodiment described above are denoted by the same reference numerals as those used for corresponding portions in the first embodiment described above. Reference numerals are used, and redundant explanations are omitted.

図9は、第2の実施の形態に係る照明装置10の一例を示す模式図である。図9に示すように、第2の実施の形態において、照明装置10は、光を射出する光源15と、光源15から射出した光、すなわち光源光SLを回折する回折光学素子40と、を含んでいる。図9に示された照明装置10は、光源光SLの光路に沿った光源15と回折光学素子40との間に、整形光学系25及び可変マスク60をこの順で更に有している。以下、照明装置10の各構成要素について説明する。 FIG. 9 is a schematic diagram showing an example of the illumination device 10 according to the second embodiment. As shown in FIG. 9, in the second embodiment, the illumination device 10 includes a light source 15 that emits light, and a diffraction optical element 40 that diffracts the light emitted from the light source 15, that is, the light source light SL. I'm in. The illumination device 10 shown in FIG. 9 further has a shaping optical system 25 and a variable mask 60 in this order between the light source 15 and the diffractive optical element 40 along the optical path of the light source light SL. Each component of the lighting device 10 will be described below.

光源15は、第1の実施の形態と同様に構成され得る。整形光学系25は、光源光SLの光路上に設けられて光源光SLを整形する点において、第1光源光SL1の光路上に設けられ第1光源光SL1を整形する第1の実施の形態の整形光学系と異なるが、光を整形する手段として第1の実施の形態と同様に構成され得る。図9に示された例において、整形光学系25は、ビームエクスパンダー26及びレンズ27を有している。 The light source 15 can be configured similarly to the first embodiment. The shaping optical system 25 is provided on the optical path of the first light source light SL1 and shapes the first light source light SL1 in that it is provided on the optical path of the light source light SL to shape the light source light SL. Although different from the shaping optical system of 1, it can be configured in the same manner as in the first embodiment as means for shaping light. In the example shown in FIG. 9, shaping optical system 25 comprises beam expander 26 and lens 27 .

可変マスク60は、光源から射出した光源光SLのうちの一部の光の光路上に設けられている。図9に示す例において、可変マスク60は、整形光学系25で拡幅された光源光SLの光路の一部を塞ぐように配置されている。回折光学素子40は、固定回折光学素子45及び可変回折光学素子50を含んでいる。光源光SLのうちの可変マスク60によって光路を遮られない光が、第1光源光SL1として、回折光学素子40の固定回折光学素子45に入射する。一方、光源光SLのうちの可変マスク60に入射した光は、パターンを変更し、第2光源光SL2として、回折光学素子40の可変回折光学素子50に入射する。 The variable mask 60 is provided on the optical path of part of the light source light SL emitted from the light source. In the example shown in FIG. 9 , the variable mask 60 is arranged so as to partially block the optical path of the light source light SL widened by the shaping optical system 25 . The diffractive optical element 40 includes a fixed diffractive optical element 45 and a variable diffractive optical element 50 . A portion of the light source light SL whose optical path is not blocked by the variable mask 60 enters the fixed diffractive optical element 45 of the diffractive optical element 40 as the first light source light SL1. On the other hand, the light of the light source light SL that has entered the variable mask 60 changes its pattern and enters the variable diffractive optical element 50 of the diffractive optical element 40 as the second light source light SL2.

図10は、図9の照明装置10に適用され得る回折光学素子40の一例を、平面図として、示している。回折光学素子40は、下方となる領域に幅広の固定回折光学素子45を有している。また、回折光学素子40は、固定回折光学素子45の上方となる領域に、可変回折光学素子50を有している。可変回折光学素子50は、幅方向に平面分割されることで、複数の要素回折光学素子51を有している。図10に示す例において、可変回折光学素子50は、五つの要素回折光学素子51を含んでいる。可変回折光学素子50に含まれた第1~第5要素回折光学素子51a~51eは、異なる回折特性を有している。回折光学素子40の各領域45,50,51で回折された回折光が、被照明領域Zに向けられて被照明領域Zを照明する。 FIG. 10 shows, as a plan view, an example of a diffractive optical element 40 that can be applied to the illumination device 10 of FIG. The diffractive optical element 40 has a wide fixed diffractive optical element 45 in its lower region. The diffractive optical element 40 also has a variable diffractive optical element 50 in a region above the fixed diffractive optical element 45 . The variable diffractive optical element 50 has a plurality of element diffractive optical elements 51 by being divided into planes in the width direction. In the example shown in FIG. 10, variable diffractive optical element 50 includes five element diffractive optical elements 51 . The first to fifth element diffractive optical elements 51a to 51e included in the variable diffractive optical element 50 have different diffraction characteristics. The diffracted light beams diffracted by the regions 45, 50, and 51 of the diffractive optical element 40 are directed toward the region Z to be illuminated and illuminate the region Z to be illuminated.

一例として、固定回折光学素子45で回折された第1光源光SL1が、図3の固定被照明領域Zfを照明し、可変回折光学素子50で回折された第2光源光SL2が、図3の可変被照明領域Zvを照明するようにしてもよい。また、第1要素回折光学素子51aで回折された第2光源光SL2が、図3の第1要素被照明領域Zve1を照明し、第2要素回折光学素子51bで回折された第2光源光SL2が、図3の第2要素被照明領域Zve2を照明し、第3要素回折光学素子51cで回折された第2光源光SL2が、図3の第3要素被照明領域Zve3を照明し、第4要素回折光学素子51dで回折された第2光源光SL2が、図3の第4要素被照明領域Zve4を照明し、第5要素回折光学素子51eで回折された第2光源光SL2が、図3の第5要素被照明領域Zve5を照明するようにしてもよい。 As an example, the first light source light SL1 diffracted by the fixed diffractive optical element 45 illuminates the fixed illuminated area Zf in FIG. 3, and the second light source light SL2 diffracted by the variable diffractive optical element 50 illuminates the The variable illuminated area Zv may be illuminated. Further, the second light source light SL2 diffracted by the first diffraction optical element 51a illuminates the first illuminated region Zve1 in FIG. 3, and the second light source light SL2 diffracted by the second diffraction optical element 51b illuminates the second element illuminated area Zve2 in FIG. 3, the second light source light SL2 diffracted by the third element diffractive optical element 51c illuminates the third element illuminated area Zve3 in FIG. The second light source light SL2 diffracted by the element diffractive optical element 51d illuminates the fourth element illuminated area Zve4 in FIG. 3, and the second light source light SL2 diffracted by the fifth element diffractive optical element 51e , the fifth element to be illuminated Zve5 may be illuminated.

なお、第1の実施の形態と同様に第2の実施の形態においても、固定被照明領域Zf及び可変被照明領域Zvは、重複しないようにしてもよいし、少なくとも一部分において重複していてもよいし、いずれか一方が他方に包含されるようにしてもよいし、更には同一であってもよい。また、固定被照明領域Zf及び可変被照明領域Zvは、接している必要はなく、互いから離間していてもよい。同様に、複数の要素被照明領域Zveは、重複しないようにしてもよいし、少なくとも一部分において重複していてもよいし、いずれか一つが他の一つに包含されるようにしてもよいし、更にはいずれか一つが他の一つと同一であってもよい。また、複数の要素被照明領域Zveは、互いに接している必要はなく、互いから離間していてもよい。 In the second embodiment, as in the first embodiment, the fixed illuminated area Zf and the variable illuminated area Zv may not overlap, or may overlap at least partially. Alternatively, one of them may be included in the other, or they may be the same. Also, the fixed illuminated area Zf and the variable illuminated area Zv need not be in contact with each other and may be separated from each other. Similarly, the plurality of element illuminated regions Zve may not overlap, may overlap at least partially, or may be included in one of them. , or any one may be the same as the other one. Also, the plurality of element illuminated regions Zve need not be in contact with each other, and may be separated from each other.

可変マスク60は、可変回折光学素子50上における第2光源光SL2の入射領域iaを制御する(図9参照)。可変マスク60は、可変回折光学素子50上における第2光源光SL2の入射領域iaを調整し得る種々の装置を採用することができる。典型的には、可変マスク60として、空間光変調器61を用いることができる。空間光変調器61には、透過型液晶表示装置、反射型の液晶表示装置、マイクロミラーデバイス等が用いられ得る。すなわち、可変マスク60は、所望パターンで第2光源光SL2を透過させる装置であってもよいし、所望パターンで第2光源光SL2を反射させる装置であってもよい。また、可変マスク60は、不要な第2光源光SL2を吸収するようにしてもよいし、不要な第2光源光SL2を回折光学素子40以外に向けるようにしてもよい。 The variable mask 60 controls the incident area ia of the second light source light SL2 on the variable diffraction optical element 50 (see FIG. 9). The variable mask 60 can employ various devices capable of adjusting the incident area ia of the second light source light SL2 on the variable diffraction optical element 50. FIG. Typically, a spatial light modulator 61 can be used as variable mask 60 . A transmissive liquid crystal display device, a reflective liquid crystal display device, a micromirror device, or the like can be used for the spatial light modulator 61 . That is, the variable mask 60 may be a device that transmits the second light source light SL2 in a desired pattern, or may be a device that reflects the second light source light SL2 in a desired pattern. Further, the variable mask 60 may absorb the unnecessary second light source light SL2, or may direct the unnecessary second light source light SL2 to other than the diffractive optical element 40. FIG.

図9に示された照明装置10においては、光源15から射出した光源光SLが、整形光学系25によって整形される。図示された例において、光源光SLは、整形光学系25によって拡幅される。次に、拡幅された光源光SLは、可変マスク60に入射するか否かで、第1光源光SL1及び第2光源光SL2に区分けされる。第1光源光SL1は、可変マスク60から作用を及ぼされることなく回折光学素子40の固定回折光学素子45に入射する。第2光源光SL2は、可変マスク60によって所望パターンに整形されて、回折光学素子40の可変回折光学素子50に入射する。この結果、固定回折光学素子45で回折された第1光源光SL1によって固定被照明領域Zfが照明され、可変回折光学素子50の要素回折光学素子51で回折された第2光源光SL2によって可変被照明領域Zvが照明される。可変被照明領域Zvの照明パターンは、可変回折光学素子50のいずれの要素回折光学素子51に第2光源光SL2が入射するかで決定する。したがって、可変マスク60を用いることで、可変被照明領域Zvの照明パターンを制御することができる。 In the illumination device 10 shown in FIG. 9 , the light source light SL emitted from the light source 15 is shaped by the shaping optical system 25 . In the illustrated example, the light source light SL is widened by the shaping optical system 25 . Next, the widened light source light SL is divided into first light source light SL1 and second light source light SL2 depending on whether or not it enters the variable mask 60 . The first light source light SL1 enters the fixed diffractive optical element 45 of the diffractive optical element 40 without being affected by the variable mask 60 . The second light source light SL2 is shaped into a desired pattern by the variable mask 60 and enters the variable diffractive optical element 50 of the diffractive optical element 40 . As a result, the fixed illuminated area Zf is illuminated by the first light source light SL1 diffracted by the fixed diffractive optical element 45, and the second light source light SL2 diffracted by the element diffractive optical element 51 of the variable diffractive optical element 50 illuminates the variable illuminated region Zf. The illumination area Zv is illuminated. The illumination pattern of the variable illuminated region Zv is determined by which element diffractive optical element 51 of the variable diffractive optical element 50 receives the second light source light SL2. Therefore, by using the variable mask 60, the illumination pattern of the variable illuminated region Zv can be controlled.

以上に説明してきた第2の実施の形態において、照明装置10は、光を射出する光源15と、光源15から射出した光のうちの第1光源光SL1の光路外であって光源15から射出した光のうちの第2光源光SL2の光路上に位置する可変マスク60と、第1光源光SL1を回折する固定回折光学素子45と、第2光源光SL2を回折する可変回折光学素子50と、を有している。可変マスク60は、可変回折光学素子50上における第2光源光SL2の入射領域iaを変化させることができる。可変回折光学素子50は、複数の要素回折光学素子51を含んでいる。このような第2の実施の形態によれば、可変マスク60により、可変回折光学素子50に含まれる所望の要素回折光学素子51のみに第2光源光SL2を照射することができる。同時に、固定回折光学素子45には、第1光源光SL1が照射され続ける。すなわち、可変マスク60を用いることで、走査装置30を用いることなく、回折光学素子40での回折光を用いて固定被照明領域Zfを照明しながら、併せて、要素回折光学素子51での回折光を用いて所望の要素被照明領域Zveを照明することができる。したがって、走査装置30の動作にともなう振動、騒音、発熱等や、走査装置30の故障リスクを回避することができる。 In the second embodiment described above, the illumination device 10 includes a light source 15 that emits light, and a The variable mask 60 positioned on the optical path of the second light source light SL2 of the light that is emitted, the fixed diffractive optical element 45 that diffracts the first light source light SL1, and the variable diffractive optical element 50 that diffracts the second light source light SL2. ,have. The variable mask 60 can change the incident area ia of the second light source light SL2 on the variable diffraction optical element 50 . The variable diffractive optical element 50 includes multiple element diffractive optical elements 51 . According to the second embodiment as described above, the variable mask 60 allows only the desired element diffractive optical element 51 included in the variable diffractive optical element 50 to be irradiated with the second light source light SL2. At the same time, the fixed diffractive optical element 45 continues to be irradiated with the first light source light SL1. That is, by using the variable mask 60, the diffracted light from the diffractive optical element 40 is used to illuminate the fixed illuminated area Zf without using the scanning device 30, and at the same time, the diffracted light from the element diffractive optical element 51 is used. Light can be used to illuminate the desired component illuminated area Zve. Therefore, the vibration, noise, heat generation, etc., associated with the operation of the scanning device 30 and the risk of failure of the scanning device 30 can be avoided.

なお、上述してきた第2の実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。例えば、回折光学素子40において、固定回折光学素子45及び可変回折光学素子50の面積割合を変更し、各被照明領域Zf,Zvの明るさを調整することができる。また、可変回折光学素子50に含まれる複数の要素回折光学素子51の配置、数量、面積比等も適宜変更することができる。 Various modifications can be made to the above-described second embodiment. For example, in the diffractive optical element 40, the area ratio of the fixed diffractive optical element 45 and the variable diffractive optical element 50 can be changed to adjust the brightness of each of the illuminated areas Zf and Zv. Also, the arrangement, quantity, area ratio, etc. of the plurality of element diffractive optical elements 51 included in the variable diffractive optical element 50 can be changed as appropriate.

また上述した第2の実施の形態において、光源15から射出した光源光SLが整形光学系25に直接入射する例を示したが、この例に限られない。図17に示すように、光源15から射出した光源光SLが光ファイバ16で搬送されるようにしてもよい。図17に示された例において、光ファイバ16の端部16aから射出した光源光SLは、整形光学系25のレンズ27に入射している。図17に示すように、光ファイバ16の端部16aから射出した光源光SLは、発散光束をなす。このため、図17に示された例では、整形光学系25のビームエクスパンダー26を用いていない。ただし、光ファイバ16から射出した光源光SLの発散の程度が低い場合には、整形光学系25のビームエクスパンダー26を設けることも可能である。 Further, in the second embodiment described above, an example in which the light source light SL emitted from the light source 15 is directly incident on the shaping optical system 25 is shown, but the present invention is not limited to this example. As shown in FIG. 17 , the light source light SL emitted from the light source 15 may be conveyed by the optical fiber 16 . In the example shown in FIG. 17 , the light source light SL emitted from the end 16 a of the optical fiber 16 is incident on the lens 27 of the shaping optical system 25 . As shown in FIG. 17, the light source light SL emitted from the end 16a of the optical fiber 16 forms a divergent light flux. Therefore, in the example shown in FIG. 17, the beam expander 26 of the shaping optical system 25 is not used. However, if the degree of divergence of the light source light SL emitted from the optical fiber 16 is low, it is possible to provide the beam expander 26 of the shaping optical system 25 .

<第3の実施の形態>
次に、図11~図15を参照して、第3の実施の形態について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した第1又は第2の実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の第1又は第2の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。
<Third Embodiment>
Next, a third embodiment will be described with reference to FIGS. 11 to 15. FIG. In the following description and the drawings used in the following description, portions that can be configured in the same manner as in the above-described first or second embodiment are compared with corresponding portions in the above-described first or second embodiment. The same reference numerals as the used reference numerals are used, and overlapping explanations are omitted.

図11は、第3の実施の形態に係る照明装置10の一例を示す模式図である。図11に示すように、第3の実施の形態において、照明装置10は、光を射出する光源15と、光源15から射出した光、すなわち光源光SLを整形する可変整形光学系70と、整形された光源光SLを回折する回折光学素子40と、を含んでいる。以下、照明装置10の各構成要素について説明する。 FIG. 11 is a schematic diagram showing an example of the illumination device 10 according to the third embodiment. As shown in FIG. 11, in the third embodiment, the illumination device 10 includes a light source 15 that emits light, a variable shaping optical system 70 that shapes the light emitted from the light source 15, that is, the light source light SL, and a shaping optical system 70 that shapes the light source light SL. and a diffractive optical element 40 that diffracts the light source light SL. Each component of the lighting device 10 will be described below.

光源15は、第1又は第2の実施の形態と同様に構成され得る。 The light source 15 can be configured similarly to the first or second embodiment.

可変整形光学系70は、光源光SLを整形する。言い換えると、可変整形光学系70は、光源光SLの光軸に直交する断面での形状や、光源光SLの光束の立体的な形状を整形する。図示された例において、可変整形光学系70は、光源光SLを拡幅する。図11に示すように、可変整形光学系70は、光源光SLの光路に沿った順で、ビームエクスパンダー26及びレンズ27を有している。ビームエクスパンダー26は、光源15から射出したレーザー光を発散光束に整形する。レンズ27は、ビームエクスパンダー26で生成された発散光束を、平行光束に整形し直す、或いは、発散の程度を抑えて平行光束に近付ける。なお、可変整形光学系70は、回折光学素子40上での光源光SLの入射領域iaが、円形状となるように通常のレンズを用いてもよいし、当該入射領域iaが矩形状となるようにシリンドリカルレンズを用いてもよい。後述する図12に示された回折光学素子40は、入射領域iaが平面視において矩形状となることに対応している。 The variable shaping optical system 70 shapes the light source light SL. In other words, the variable shaping optical system 70 shapes the shape of the cross section perpendicular to the optical axis of the light source light SL and the three-dimensional shape of the luminous flux of the light source light SL. In the illustrated example, the variable shaping optical system 70 widens the source light SL. As shown in FIG. 11, the variable shaping optical system 70 has a beam expander 26 and a lens 27 in order along the optical path of the light source light SL. The beam expander 26 shapes the laser light emitted from the light source 15 into a divergent light flux. The lens 27 reshapes the divergent luminous flux generated by the beam expander 26 into a parallel luminous flux, or reduces the degree of divergence to bring it closer to a parallel luminous flux. The variable shaping optical system 70 may use a normal lens so that the incident area ia of the light source light SL on the diffractive optical element 40 has a circular shape, or the incident area ia has a rectangular shape. A cylindrical lens may also be used. The diffractive optical element 40 shown in FIG. 12, which will be described later, corresponds to the incident area ia having a rectangular shape in plan view.

図示された例において、可変整形光学系70のうちレンズ27は、移動支持具76によって支持されている。移動支持具76は、レンズ27の光軸odと平行な方向に、レンズ27を移動させる。図示された例において、レンズ27は、ビームエクスパンダー26からの発散光束を平行光束に変換することができる第1位置(図11の実線の位置)と、当該位置からビームエクスパンダー26に接近した第2位置(図11の二点鎖線の位置)と、の間を移動可能となっている。図11に示された例において、移動支持具76が、第1位置から第2位置に向けてレンズ27を移動させるにしたがって、回折光学素子40上での光源光SLの入射領域iaは、次第に大きくなっていく。すなわち、可変整形光学系70は、光源15から射出した光を可変整形し、回折光学素子40上での入射領域iaの大きさを調整することができる。 In the illustrated example, the lens 27 of the variable shaping optical system 70 is supported by a moving support 76 . The moving support 76 moves the lens 27 in a direction parallel to the optical axis od of the lens 27 . In the illustrated example, the lens 27 has a first position (solid line position in FIG. 11) where it can convert a divergent light beam from the beam expander 26 into a parallel light beam, and a position closer to the beam expander 26 from that position. It is movable between the second position (the position indicated by the two-dot chain line in FIG. 11). In the example shown in FIG. 11, as the moving support 76 moves the lens 27 from the first position toward the second position, the incident area ia of the light source light SL on the diffractive optical element 40 gradually changes to It's getting bigger. That is, the variable shaping optical system 70 can variably shape the light emitted from the light source 15 and adjust the size of the incident area ia on the diffractive optical element 40 .

図12は、図11の照明装置10に適用され得る回折光学素子40の一例を、平面図として、示している。回折光学素子40は、中心となる固定回折光学素子45と、固定回折光学素子45を周状に取り囲む可変回折光学素子50を有している。固定回折光学素子45は、レンズ27が上述した第1位置に配置された状態で、光源光SLが入射する入射領域iaと一致する。 FIG. 12 shows, as a plan view, an example of a diffractive optical element 40 that can be applied to the illumination device 10 of FIG. The diffractive optical element 40 has a central fixed diffractive optical element 45 and a variable diffractive optical element 50 surrounding the fixed diffractive optical element 45 in a circumferential shape. The fixed diffractive optical element 45 coincides with the incident area ia on which the light source light SL is incident with the lens 27 arranged at the first position described above.

可変回折光学素子50は、図示された例において、二つの要素回折光学素子51に区分けされている。第1要素回折光学素子51aが、固定回折光学素子45に隣接して固定回折光学素子45を周状に取り囲む。第2要素回折光学素子51bが、第1要素回折光学素子51aに隣接して、第1要素回折光学素子51aを周状に取り囲む。固定回折光学素子45が上述した第1位置から第2位置に向けて移動を開始すると、光源光SLが、固定回折光学素子45に加えて第1要素回折光学素子51aにも入射するようになる。さらに、固定回折光学素子45が第2位置に接近すると、光源光SLが、固定回折光学素子45及び第1要素回折光学素子51aに加えて、第2要素回折光学素子51bにも入射するようになる。 The variable diffractive optical element 50 is segmented into two component diffractive optical elements 51 in the illustrated example. The first element diffractive optical element 51 a surrounds the fixed diffractive optical element 45 adjacent to and circumferentially around the fixed diffractive optical element 45 . The second diffractive optical element 51b is adjacent to the first diffractive optical element 51a and circumferentially surrounds the first diffractive optical element 51a. When the fixed diffractive optical element 45 starts to move from the above-described first position toward the second position, the light source light SL also enters the first element diffractive optical element 51a in addition to the fixed diffractive optical element 45. . Furthermore, when the fixed diffractive optical element 45 approaches the second position, the light source light SL is incident on the second diffractive optical element 51b in addition to the fixed diffractive optical element 45 and the first diffractive optical element 51a. Become.

図13は、回折光学素子40によって照明される被照明領域Zの一例を示している。図13に示された例において、固定回折光学素子45からの回折光によって照明される固定被照明領域Zfは、照明装置10の前方に広がる広い領域となっている。可変回折光学素子50からの回折光によって照明される可変被照明領域Zvは、固定被照明領域Zfの更に前方となる領域を含んでいる。そして、可変被照明領域Zvは、各要素回折光学素子51に対応して二つに区分けされ、第1及び第2要素被照明領域Zve1,Zve2を含んでいる。第1要素回折光学素子51aからの回折光によって照明される第1要素被照明領域Zve1は、固定被照明領域Zfに隣接して固定被照明領域Zfの前方に位置している。第2要素回折光学素子51bからの回折光によって照明される第2要素被照明領域Zve2は、第1要素被照明領域Zve1に隣接して第1要素被照明領域Zve1の前方に位置している。 FIG. 13 shows an example of an illuminated area Z illuminated by the diffractive optical element 40. As shown in FIG. In the example shown in FIG. 13 , the fixed illuminated area Zf illuminated by the diffracted light from the fixed diffractive optical element 45 is a wide area extending in front of the illumination device 10 . The variable illuminated area Zv illuminated by the diffracted light from the variable diffractive optical element 50 includes an area further forward of the fixed illuminated area Zf. The variable illuminated region Zv is divided into two corresponding to each element diffractive optical element 51, and includes first and second element illuminated regions Zve1 and Zve2. The first illuminated region Zve1 illuminated by the diffracted light from the first diffractive optical element 51a is positioned adjacent to and in front of the fixed illuminated region Zf. The second illuminated area Zve2 illuminated by the diffracted light from the second diffractive optical element 51b is positioned adjacent to the first illuminated area Zve1 and in front of the first illuminated area Zve1.

ただし、図13に示された、被照明領域Zは一例に過ぎない。図13に示された例では、固定被照明領域Zf及び可変被照明領域Zvが重複していない例を示したが、少なくとも一部分において重複していてもよいし、いずれか一方が他方に包含されるようにしてもよいし、更には同一であってもよい。また、固定被照明領域Zf及び可変被照明領域Zvは、接している必要はなく、互いから離間していてもよい。同様に、複数の要素被照明領域Zveは、図示された例において重複していないが、少なくとも一部分において重複していてもよいし、いずれか一つが他の一つに包含されるようにしてもよいし、更にはいずれか一つが他の一つと同一であってもよい。また、複数の要素被照明領域Zveは、互いに接している必要はなく、互いから離間していてもよい。 However, the illuminated area Z shown in FIG. 13 is merely an example. The example shown in FIG. 13 shows an example in which the fixed illuminated region Zf and the variable illuminated region Zv do not overlap. They may be the same, or they may be the same. Also, the fixed illuminated area Zf and the variable illuminated area Zv need not be in contact with each other and may be separated from each other. Similarly, the plurality of element illuminated regions Zve do not overlap in the illustrated example, but may overlap at least partially, or any one may be included in the other. Alternatively, any one may be identical to the other. Also, the plurality of element illuminated regions Zve need not be in contact with each other, and may be separated from each other.

図11に示された照明装置10においては、光源15から射出した光源光SLが、可変整形光学系70によって可変整形される。例えば、図11に実線で示す第1位置にレンズ27が配置されている場合、可変整形光学系70は、まず、ビームエクスパンダー26によって光源光SLを発散光束に変換し、次に、レンズ27によって光源光SLを発散光束から平行光束に変換する。図示された例において、平行光束は、固定回折光学素子45の全域に入射し、可変回折光学素子50には入射しない。固定回折光学素子45は、光源光SLを回折して、固定被照明領域Zfに向ける。これにより、固定被照明領域Zfが、固定回折光学素子45で回折された光源光SLによって、照明される。 In the illumination device 10 shown in FIG. 11 , the light source light SL emitted from the light source 15 is variably shaped by the variable shaping optical system 70 . For example, when the lens 27 is arranged at the first position indicated by the solid line in FIG. converts the light source light SL from a divergent luminous flux to a parallel luminous flux. In the illustrated example, the parallel light beam enters the fixed diffractive optical element 45 over the entire area and does not enter the variable diffractive optical element 50 . The fixed diffractive optical element 45 diffracts the light source light SL and directs it to the fixed illuminated region Zf. Thereby, the fixed illuminated area Zf is illuminated by the light source light SL diffracted by the fixed diffractive optical element 45 .

移動支持具76は、レンズ27を移動可能に支持している。図11に二点鎖線で示す位置に配置されたレンズ27は、ビームエクスパンダー26で整形された発散光束を整形し、発散の程度を弱める。レンズ27で発散の程度を弱められた光源光SLは、可変回折光学素子50の固定回折光学素子45だけでなく、可変回折光学素子50の第1及び第2要素回折光学素子51a,51bにも入射する。このとき、固定回折光学素子45は、光源光SLを回折して、固定被照明領域Zfに向ける。同様に、第1要素回折光学素子51aは、光源光SLを回折して第1要素被照明領域Zve1に向け、第2要素回折光学素子51bは、光源光SLを回折して第2要素被照明領域Zve2に向ける。これにより、固定被照明領域Zfが固定回折光学素子45での回折光によって照明されるとともに、第1要素被照明領域Zve1が第1要素回折光学素子51aでの回折光によって照明され、且つ、第2要素被照明領域Zve2が第2要素回折光学素子51bでの回折光によって照明される。 The moving support 76 movably supports the lens 27 . The lens 27 arranged at the position indicated by the chain double-dashed line in FIG. 11 shapes the divergent light flux shaped by the beam expander 26 and weakens the degree of divergence. The light source light SL whose degree of divergence is weakened by the lens 27 is applied not only to the fixed diffractive optical element 45 of the variable diffractive optical element 50 but also to the first and second element diffractive optical elements 51 a and 51 b of the variable diffractive optical element 50 . Incident. At this time, the fixed diffractive optical element 45 diffracts the light source light SL and directs it to the fixed illuminated area Zf. Similarly, the first diffractive optical element 51a diffracts the light source light SL toward the first illuminated region Zve1, and the second diffractive optical element 51b diffracts the light source light SL to the second illuminated region Zve1. Turn to area Zve2. As a result, the fixed illuminated region Zf is illuminated by the diffracted light from the fixed diffractive optical element 45, the first illuminated region Zve1 is illuminated by the diffracted light from the first diffractive optical element 51a, and the The two-element illuminated area Zve2 is illuminated by the diffracted light from the second element diffractive optical element 51b.

また、移動支持具76が、レンズ27を第1位置から第2位置へ向けて移動させるにしたがい、回折光学素子40上での光源光SLの入射領域iaは拡大する。レンズ27が第1位置と第2位置との間に位置する場合、光源光SLが、固定回折光学素子45と第1要素回折光学素子51aに入射し、第2要素回折光学素子51bに入射しないようにすることもできる。このとき、固定被照明領域Zf及び第1要素被照明領域Zve1のみが照明され、第2要素被照明領域Zve2は照明されない。 Further, as the moving support 76 moves the lens 27 from the first position toward the second position, the incident area ia of the light source light SL on the diffractive optical element 40 expands. When the lens 27 is positioned between the first position and the second position, the light source light SL enters the fixed diffractive optical element 45 and the first diffractive optical element 51a and does not enter the second diffractive optical element 51b. You can also make At this time, only the fixed illuminated area Zf and the first illuminated area Zve1 are illuminated, and the second illuminated area Zve2 is not illuminated.

すなわち、図11~図13に示された例において、固定回折光学素子45及び可変回折光学素子50の要素回折光学素子51は、互いに隣接して、順に配置されている。また、各素子45,51での回折光によって照明されるようになる領域Zf,Zveも、互いに隣接して、順に配置されている。この結果、レンズ27を第1位置から第2位置へ移動させることにより、回折光学素子40上での光源光SLの入射領域iaを次第に拡大し、より遠くの領域まで照明することが可能となる。また逆に、レンズ27を第2位置から第1位置へ移動させることにより、回折光学素子40上での光源光SLの入射領域iaを次第に縮小し、照明される領域を近接した領域へと縮小することができる。 That is, in the examples shown in FIGS. 11 to 13, the element diffractive optical elements 51 of the fixed diffractive optical element 45 and the variable diffractive optical element 50 are arranged adjacent to each other in order. The regions Zf and Zve illuminated by the diffracted light from the elements 45 and 51 are also arranged adjacent to each other in order. As a result, by moving the lens 27 from the first position to the second position, the incident area ia of the light source light SL on the diffractive optical element 40 is gradually enlarged, and a farther area can be illuminated. . Conversely, by moving the lens 27 from the second position to the first position, the incident area ia of the light source light SL on the diffractive optical element 40 is gradually reduced, and the illuminated area is reduced to a close area. can do.

以上に説明してきた第3の実施の形態において、照明装置10は、光を射出する光源15と、光源15から射出した光を回折する回折光学素子40と、光源15から射出した光源光SLの光路に沿って光源15と回折光学素子40との間に位置する可変整形光学系70と、を有している。可変整形光学系70は、光源15から射出した光源光SLを可変整形し、回折光学素子40上での入射領域iaの大きさを調整する。回折光学素子40は、回折光学素子40上での入射領域iaの大きさに依らず光源15から射出した光源光SLが入射する固定回折光学素子45と、固定回折光学素子45上での入射領域iaが拡大した際に光源15から射出した光が入射する可変回折光学素子50と、を含んでいる。このような第3の実施の形態によれば、可変整形光学系70により、可変回折光学素子50への光の照射の有無を制御している。一方、固定回折光学素子45には、光が照射され続ける。すなわち、可変回折光学素子50を用いることで、走査装置30を用いることなく、固定回折光学素子45での回折光を用いて固定被照明領域Zfを照明しながら、併せて、可変回折光学素子50での回折光を用いた可変被照明領域Zvを照明および非照明を切り替えることができる。したがって、走査装置30の動作にともなう振動、騒音、発熱等や、走査装置30の故障リスクを回避することができる。 In the third embodiment described above, the illumination device 10 includes the light source 15 that emits light, the diffraction optical element 40 that diffracts the light emitted from the light source 15, and the light source light SL emitted from the light source 15. and a variable shaping optical system 70 positioned between the light source 15 and the diffractive optical element 40 along the optical path. The variable shaping optical system 70 variably shapes the light source light SL emitted from the light source 15 to adjust the size of the incident area ia on the diffractive optical element 40 . The diffractive optical element 40 includes a fixed diffractive optical element 45 on which the light source light SL emitted from the light source 15 is incident regardless of the size of the incident area ia on the diffractive optical element 40, and an incident area on the fixed diffractive optical element 45. and a variable diffraction optical element 50 into which the light emitted from the light source 15 enters when ia is enlarged. According to the third embodiment, the variable shaping optical system 70 controls whether or not the variable diffraction optical element 50 is irradiated with light. On the other hand, the fixed diffractive optical element 45 continues to be irradiated with light. That is, by using the variable diffractive optical element 50, the diffracted light from the fixed diffractive optical element 45 is used to illuminate the fixed illuminated area Zf without using the scanning device 30, and at the same time, the variable diffractive optical element 50 Illumination and non-illumination of the variable illuminated region Zv using the diffracted light at . Therefore, the vibration, noise, heat generation, etc., associated with the operation of the scanning device 30 and the risk of failure of the scanning device 30 can be avoided.

また、第3の実施の形態において、可変回折光学素子50は、互いに異なる回折特性を有した複数の要素回折光学素子51を含んでいる。このような照明装置10によれば、可変整形光学系70により、可変回折光学素子50に含まれる所望の要素回折光学素子51のみに光源光SLを照射することができる。同時に、可変回折光学素子50には、第1光源光SL1が照射され続ける。すなわち、可変回折光学素子50を用いることで、走査装置30を用いることなく、固定回折光学素子45での回折光を用いて固定被照明領域Zfを照明しながら、併せて、要素回折光学素子51での回折光を用いて所望の要素被照明領域Zveを照明することができる。 Moreover, in the third embodiment, the variable diffractive optical element 50 includes a plurality of element diffractive optical elements 51 having diffraction characteristics different from each other. According to the illumination device 10 as described above, the variable shaping optical system 70 can irradiate only the desired element diffractive optical element 51 included in the variable diffractive optical element 50 with the light source light SL. At the same time, the variable diffraction optical element 50 continues to be irradiated with the first light source light SL1. That is, by using the variable diffractive optical element 50, the diffracted light from the fixed diffractive optical element 45 is used to illuminate the fixed illuminated region Zf without using the scanning device 30, and at the same time, the element diffractive optical element 51 can be used to illuminate the desired element illuminated area Zve.

さらに、第3の実施の形態において、可変整形光学系70は、レンズ27を含んでいる。このレンズ27は、当該レンズ27の光軸odと平行な方向に移動可能である。このような照明装置10によれば、レンズ27を移動させることで、可変回折光学素子50への光源光SLの照射の有無を制御すること、さらには、可変回折光学素子50に含まれる所望の要素回折光学素子51のみに光源光SLを照射することが可能となる。レンズ27の移動は、可変回折光学素子50への光源光SLの照射パターンを切り替える際にのみ実施すればよい。したがって、レンズ27の移動にともなった振動、騒音、発熱等や、レンズ27を移動させるための手段76の故障リスクは、走査装置30と比較にならない程、僅かとなる。 Furthermore, in the third embodiment, variable shaping optical system 70 includes lens 27 . This lens 27 is movable in a direction parallel to the optical axis od of the lens 27 . According to the illumination device 10 as described above, by moving the lens 27, it is possible to control whether or not the light source light SL is irradiated to the variable diffraction optical element 50, and furthermore, to control the illumination of the desired light source included in the variable diffraction optical element 50. It is possible to irradiate only the element diffractive optical element 51 with the light source light SL. The movement of the lens 27 may be performed only when switching the irradiation pattern of the light source light SL to the variable diffraction optical element 50 . Therefore, the vibration, noise, heat generation, etc. associated with the movement of the lens 27 and the risk of failure of the means 76 for moving the lens 27 are incomparably small compared to the scanning device 30 .

なお、上述してきた第3の実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、変形の一例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した第3の実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の第3の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。 Various modifications can be made to the above-described third embodiment. An example of modification will be described below with reference to the drawings. In the following description and drawings used in the following description, portions that can be configured in the same manner as in the above-described third embodiment are denoted by the same reference numerals as the corresponding portions in the above-described third embodiment. Reference numerals are used, and redundant explanations are omitted.

上述した第3の実施の形態において、可変整形光学系70は、レンズ27を移動させることで、回折光学素子40上での光源光SLの入射領域iaを変更する例を示したが、これに限られない。例えば、レンズ27の移動に加えて又はレンズ27の移動に代えて、図14に示すようにビームエクスパンダー26を移動可能としてもよいし、図15に示すように可変絞り73を設けるようにしてもよい。 In the third embodiment described above, the variable shaping optical system 70 changes the incident area ia of the light source light SL on the diffractive optical element 40 by moving the lens 27, but this Not limited. For example, in addition to or instead of moving the lens 27, the beam expander 26 may be movable as shown in FIG. 14, or a variable diaphragm 73 may be provided as shown in FIG. good too.

図14に示された例において、ビームエクスパンダー26は、移動支持具77によって支持されている。図示された例において、移動支持具77は、レンズ27の光軸odと平行な方向に、ビームエクスパンダー26を移動させる。ビームエクスパンダー26は、レンズ27でのレンズ作用により光源光SLがコリメートされるようになる第3位置(図14の実線の位置)と、当該位置からレンズ27に接近した第4位置(図14の二点鎖線の位置)と、の間を移動可能となっている。図14に示された例において、移動支持具77が、第3位置から第4位置に向けてビームエクスパンダー26を移動させるにしたがって、回折光学素子40上での光源光SLの入射領域iaは、次第に大きくなっていく。すなわち、図14に示された例においても、可変整形光学系70は、光源15から射出した光を可変整形し、回折光学素子40上での入射領域iaの大きさを調整することができる。 In the example shown in FIG. 14, beam expander 26 is supported by mobile support 77 . In the illustrated example, the moving support 77 moves the beam expander 26 in a direction parallel to the optical axis od of the lens 27 . The beam expander 26 is positioned at a third position (solid line position in FIG. 14) where the light source light SL is collimated by the lens action of the lens 27, and a fourth position (position indicated by a solid line in FIG. 14) close to the lens 27 from that position ( The position of the two-dot chain line in ) and can be moved between. In the example shown in FIG. 14, as the moving support 77 moves the beam expander 26 from the third position toward the fourth position, the incident area ia of the light source light SL on the diffractive optical element 40 is , gradually increasing. That is, in the example shown in FIG. 14 as well, the variable shaping optical system 70 can variably shape the light emitted from the light source 15 and adjust the size of the incident area ia on the diffractive optical element 40 .

このような図14に示された変形例において、可変整形光学系70は、光源15から射出した光源光SLを発散させるビームエクスパンダー26を含み、このビームエクスパンダー26は、移動可能に支持されている。このような照明装置10によれば、ビームエクスパンダー26を移動させることで、可変回折光学素子50への光源光SLの照射の有無を制御すること、さらには、可変回折光学素子50に含まれる所望の要素回折光学素子51のみに光源光SLを照射することが可能となる。ビームエクスパンダー26の移動は、可変回折光学素子50への光源光SLの照射パターンを切り替える際にのみ実施すればよい。そして、ビームエクスパンダー26の移動にともなった振動、騒音、発熱等や、ビームエクスパンダー26の故障リスクは、走査装置30と比較にならない程、僅かとなる。 14, the variable shaping optical system 70 includes a beam expander 26 that diverges the light source light SL emitted from the light source 15, and the beam expander 26 is movably supported. ing. According to the illumination device 10 as described above, by moving the beam expander 26, it is possible to control the presence or absence of irradiation of the light source light SL to the variable diffraction optical element 50. It is possible to irradiate only the desired element diffractive optical element 51 with the light source light SL. The movement of the beam expander 26 should be performed only when switching the irradiation pattern of the light source light SL to the variable diffraction optical element 50 . Vibration, noise, heat generation, and the like accompanying the movement of the beam expander 26 and the risk of failure of the beam expander 26 are incomparably small compared to the scanning device 30 .

図15に示された例において、可変絞り73は、ビームエクスパンダー26及びレンズ27での光学作用によって拡幅された光源光SLの光路上に配置されている。可変絞り73は、その中央領域において、光源光SLを透過させることができる。その一方で、外周部において、光源光SLの透過を規制する。可変絞り73は、中央の透過領域の大きさを変更することができ、これにより、回折光学素子40上での入射領域iaの大きさを調整することができる。 In the example shown in FIG. 15 , the variable diaphragm 73 is arranged on the optical path of the light source light SL expanded by the optical action of the beam expander 26 and the lens 27 . The variable diaphragm 73 can transmit the light source light SL in its central region. On the other hand, in the outer peripheral portion, transmission of the light source light SL is restricted. The variable diaphragm 73 can change the size of the central transmission area, thereby adjusting the size of the incident area ia on the diffractive optical element 40 .

このような図15に示された変形例において、可変整形光学系70は、可変絞り73を含んでいる。このような照明装置10によれば、可変絞り73により、可変回折光学素子50への光の照射の有無を制御すること、さらには、可変回折光学素子50に含まれる所望の要素回折光学素子51のみに光源光SLを照射することが可能となる。可変絞り73の動作は、可変回折光学素子50への照射パターンを切り替える際にのみ実施すればよい。したがって、可変絞り73の動作にともなった振動、騒音、発熱等や、可変絞り73の故障リスクは、走査装置と比較にならない程、僅かとなる。 In such a modification shown in FIG. 15, variable shaping optical system 70 includes variable aperture 73 . According to the illuminating device 10 as described above, the variable aperture 73 controls the presence or absence of irradiation of the light to the variable diffraction optical element 50, and furthermore, the desired element diffraction optical element 51 included in the variable diffraction optical element 50 is controlled. It is possible to irradiate the light source light SL only on the . The operation of the variable aperture 73 only needs to be performed when switching the irradiation pattern to the variable diffraction optical element 50 . Therefore, the vibration, noise, heat generation, etc. associated with the operation of the variable aperture 73 and the risk of failure of the variable aperture 73 are incomparably small compared to the scanning device.

また上述した第3の実施の形態において、光源15から射出した光源光SLが可変整形光学系70に直接入射する例を示したが、この例に限られない。図18に示すように、光源15から射出した光源光SLが光ファイバ16で搬送されるようにしてもよい。図18に示された例において、光ファイバ16の端部16aから射出した光源光SLは、可変整形光学系70のレンズ27に入射している。図18に示すように、光ファイバ16の端部16aから射出した光源光SLは、発散光束をなす。このため、図18に示された例では、可変整形光学系70のビームエクスパンダー26を用いていない。ただし、光ファイバ16から射出した光源光SLの発散の程度が低い場合には、可変整形光学系70のビームエクスパンダー26を設けることも可能である。また、図18に示された例は、図11に示された照明装置10に光ファイバ16を適用しているが、図14や図15に示された照明装置10に対しても光ファイバ16を適用することができる。 Further, in the third embodiment described above, an example in which the light source light SL emitted from the light source 15 is directly incident on the variable shaping optical system 70 is shown, but the present invention is not limited to this example. As shown in FIG. 18 , the light source light SL emitted from the light source 15 may be conveyed by the optical fiber 16 . In the example shown in FIG. 18 , the light source light SL emitted from the end 16 a of the optical fiber 16 is incident on the lens 27 of the variable shaping optical system 70 . As shown in FIG. 18, the light source light SL emitted from the end 16a of the optical fiber 16 forms a divergent light flux. Therefore, in the example shown in FIG. 18, the beam expander 26 of the variable shaping optical system 70 is not used. However, if the degree of divergence of the light source light SL emitted from the optical fiber 16 is low, it is possible to provide the beam expander 26 of the variable shaping optical system 70 . In the example shown in FIG. 18, the optical fiber 16 is applied to the illumination device 10 shown in FIG. 11, but the optical fiber 16 is also applied to the illumination device 10 shown in FIGS. can be applied.

以上において、複数の実施の形態とその変形例を説明してきたが、当然に、異なる実施形態や異なる変形例として説明された複数の構成を適宜組み合わせることも可能である。 A plurality of embodiments and modifications thereof have been described above, but it is of course possible to appropriately combine a plurality of configurations described as different embodiments and different modifications.

Z 被照明領域
Zf 固定被照明領域
Zv 可変被照明領域
Zve 要素被照明領域
Zve1 第1要素被照明領域
Zve2 第2要素被照明領域
Zve3 第3要素被照明領域
Zve4 第4要素被照明領域
Zve5 第5要素被照明領域
SL 光源光
SL1 第1光源光
SL2 第2光源光
ia 入射領域
sp 走査経路
od 光軸
10 照明装置
11 制御部
15 光源
20 分割素子
25 整形光学系
26 ビームエクスパンダー
27 レンズ
30 走査装置
31 反射鏡
35 シャッター
40 回折光学素子
45 固定回折光学素子
50 可変回折光学素子
51 要素回折光学素子
51a 第1要素回折光学素子
51b 第2要素回折光学素子
51c 第3要素回折光学素子
51d 第4要素回折光学素子
51e 第5要素回折光学素子
52 ダミー部
52a 第1要素ダミー部
52b 第2要素ダミー部
52c 第3要素ダミー部
52d 第4要素ダミー部
52e 第5要素ダミー部
60 可変マスク
61 空間光変調器
70 可変整形光学系
73 可変絞り
76 移動支持具
77 移動支持具
Z Illuminated area Zf Fixed illuminated area Zv Variable illuminated area Zve Element illuminated area Zve1 First element illuminated area Zve2 Second element illuminated area Zve3 Third element illuminated area Zve4 Fourth element illuminated area Zve5 Fifth element Element illuminated region SL light source light SL1 first light source light SL2 second light source light ia incident region sp scanning path od optical axis 10 illumination device 11 control unit 15 light source 20 splitting element 25 shaping optical system 26 beam expander 27 lens 30 scanning device 31 reflecting mirror 35 shutter 40 diffractive optical element 45 fixed diffractive optical element 50 variable diffractive optical element 51 element diffractive optical element 51a first element diffractive optical element 51b second element diffractive optical element 51c third element diffractive optical element 51d fourth element diffractive Optical element 51e Fifth element diffractive optical element 52 Dummy section 52a First element dummy section 52b Second element dummy section 52c Third element dummy section 52d Fourth element dummy section 52e Fifth element dummy section 60 Variable mask 61 Spatial light modulator 70 variable shaping optical system 73 variable diaphragm 76 moving support 77 moving support

Claims (10)

光を射出する光源と、
前記光源から射出した光を第1光源光と第2光源光とに分割する分割素子と、
前記第1光源光を回折する固定回折光学素子と、
前記第2光源光を回折する可変回折光学素子と、
前記第2光源光の光路を変化させ前記可変回折光学素子上での入射位置を変化させる走査装置と、を備え、
前記可変回折光学素子は、複数の要素回折光学素子を含み、
前記走査装置は、前記第1光源光の光路外に位置し
前記分割素子は、ハーフミラー、ダイクロイックミラー、バンドパスフィルタ、又は、波長板及び偏光ビームスプリッタの組み合わせである、照明装置。
a light source that emits light;
a splitting element that splits the light emitted from the light source into first light source light and second light source light;
a fixed diffractive optical element that diffracts the first light source light;
a variable diffraction optical element that diffracts the second light source light;
a scanning device that changes the optical path of the second light source light to change the incident position on the variable diffraction optical element,
The variable diffractive optical element includes a plurality of element diffractive optical elements,
The scanning device is positioned outside the optical path of the first light source light ,
The lighting device , wherein the splitting element is a half mirror, a dichroic mirror, a bandpass filter, or a combination of a wave plate and a polarizing beam splitter .
前記光源は、前記走査装置の動作に応じて光の射出を停止する、請求項1に記載の照明装置。 2. The illumination device of claim 1, wherein the light source stops emitting light in response to operation of the scanning device. 前記可変回折光学素子は、前記第2光源光の被照明領域への進行を規制するダミー部を含む、請求項2に記載の照明装置。 3. The illumination device according to claim 2, wherein said variable diffractive optical element includes a dummy portion for restricting the light of said second light source from advancing to said region to be illuminated. 光を射出する光源と、
前記光源から射出した光源光のうちの第1光源光の光路外であって前記光源光のうちの第2光源光の光路上に位置する可変マスクと、
前記第1光源光を回折する固定回折光学素子と、
前記第2光源光を回折する可変回折光学素子と、を備え、
前記可変マスクは、前記可変回折光学素子上における前記第2光源光の入射領域を変化させることができ、
前記可変回折光学素子は、複数の要素回折光学素子を含み
前記第1光源光および前記第2光源光のうちの前記第2光源光のみが前記可変マスクに入射する、照明装置。
a light source that emits light;
a variable mask positioned outside the optical path of the first light source light out of the light source light emitted from the light source and on the optical path of the second light source light out of the light source light;
a fixed diffractive optical element that diffracts the first light source light;
a variable diffraction optical element that diffracts the second light source light,
The variable mask is capable of changing an incident area of the second light source light on the variable diffraction optical element,
The variable diffractive optical element includes a plurality of element diffractive optical elements ,
The illumination device , wherein only the second light source light out of the first light source light and the second light source light is incident on the variable mask .
光を射出する光源と、
前記光源から射出した光を回折する回折光学素子と、
前記光源から射出した光の光路に沿って前記光源と前記回折光学素子との間に位置する可変整形光学系と、を備え、
前記可変整形光学系は、前記光源から射出した光を可変整形し、前記回折光学素子上での一定領域を含む入射領域の大きさを調整し、
前記可変整形光学系で整形された光は、常に、少なくとも前記一定領域に入射し、
前記回折光学素子は、前記一定領域に位置し且つ前記回折光学素子上での前記入射領域の大きさに依らず前記光源から射出した光が入射する固定回折光学素子と、前記回折光学素子上での入射領域が拡大した際に前記光源から射出した光が入射する可変回折光学素子と、を含む、照明装置。
a light source that emits light;
a diffractive optical element that diffracts light emitted from the light source;
a variable shaping optical system positioned between the light source and the diffractive optical element along the optical path of the light emitted from the light source;
The variable shaping optical system variably shapes the light emitted from the light source, and adjusts the size of an incident area including a certain area on the diffractive optical element,
the light shaped by the variable shaping optical system always enters at least the certain region;
The diffractive optical element includes: a fixed diffractive optical element that is positioned in the fixed area and receives light emitted from the light source regardless of the size of the incident area on the diffractive optical element; and a variable diffractive optical element into which the light emitted from the light source is incident when the incident area of the is enlarged.
前記可変回折光学素子は、複数の要素回折光学素子を含む、請求項5に記載の照明装置。 6. The illumination device of claim 5, wherein said variable diffractive optical element comprises a plurality of element diffractive optical elements. 前記可変整形光学系は、レンズを含み、
前記レンズは、当該レンズの光軸と平行な方向に移動可能に支持されている、請求項5又は6に記載の照明装置。
The variable shaping optical system includes a lens,
7. The illumination device according to claim 5, wherein said lens is movably supported in a direction parallel to the optical axis of said lens.
前記可変整形光学系は、前記光源から射出した光を発散させるビームエクスパンダーを含み、
前記ビームエクスパンダーは、移動可能に支持されている、請求項5~7のいずれか一項に記載の照明装置。
The variable shaping optical system includes a beam expander that diverges the light emitted from the light source,
The lighting device according to any one of claims 5 to 7, wherein said beam expander is movably supported.
前記可変整形光学系は、可変絞りを含む、請求項5~8のいずれか一項に記載の照明装置。 The illumination device according to any one of claims 5 to 8, wherein said variable shaping optical system includes a variable aperture. 前記光源から光が射出されている間、前記光源から射出した光の少なくとも一部は、常に、前記固定回折光学素子に入射する、請求項1~9のいずれか一項に記載の照明装置。 The illumination device according to any one of claims 1 to 9 , wherein while light is emitted from the light source, at least part of the light emitted from the light source always enters the fixed diffractive optical element.
JP2021069155A 2017-03-27 2021-04-15 lighting equipment Active JP7169554B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021069155A JP7169554B2 (en) 2017-03-27 2021-04-15 lighting equipment

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017061720A JP6872167B2 (en) 2017-03-27 2017-03-27 Lighting device
JP2021069155A JP7169554B2 (en) 2017-03-27 2021-04-15 lighting equipment

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017061720A Division JP6872167B2 (en) 2017-03-27 2017-03-27 Lighting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021120948A JP2021120948A (en) 2021-08-19
JP7169554B2 true JP7169554B2 (en) 2022-11-11

Family

ID=63859402

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017061720A Active JP6872167B2 (en) 2017-03-27 2017-03-27 Lighting device
JP2021069155A Active JP7169554B2 (en) 2017-03-27 2021-04-15 lighting equipment

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017061720A Active JP6872167B2 (en) 2017-03-27 2017-03-27 Lighting device

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP6872167B2 (en)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014010273A (en) 2012-06-29 2014-01-20 Seiko Epson Corp Projection optical system and projector with the same
JP2015185207A (en) 2014-03-20 2015-10-22 スタンレー電気株式会社 Lighting fixture
JP6094920B2 (en) 2014-11-07 2017-03-15 大日本印刷株式会社 Lighting device

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006094920A (en) * 2004-09-28 2006-04-13 Ebisu Kk Futon clip
JP6214389B2 (en) * 2013-12-26 2017-10-18 株式会社小糸製作所 Vehicle lighting

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014010273A (en) 2012-06-29 2014-01-20 Seiko Epson Corp Projection optical system and projector with the same
JP2015185207A (en) 2014-03-20 2015-10-22 スタンレー電気株式会社 Lighting fixture
JP6094920B2 (en) 2014-11-07 2017-03-15 大日本印刷株式会社 Lighting device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021120948A (en) 2021-08-19
JP6872167B2 (en) 2021-05-19
JP2018163851A (en) 2018-10-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11112080B2 (en) Illumination device including coherent light source to illuminate an illumination area
JP6826782B2 (en) Lighting device
JP6344463B2 (en) Lighting device
JP6569958B2 (en) Lighting device
JP7169554B2 (en) lighting equipment
JP6761600B2 (en) Lighting device
WO2017145972A1 (en) Lighting device
JP6508580B1 (en) Lighting device
JP6909429B2 (en) Lighting device
JP6146680B2 (en) Lighting device
JP6722411B2 (en) Lighting equipment
JP6657786B2 (en) Lighting equipment
JP7249510B2 (en) lighting equipment
JP6936978B2 (en) Lighting equipment, manufacturing method of lighting equipment, lighting method
JP7131153B2 (en) Lighting devices and lighting units
JP6611001B2 (en) Lighting device
JP6691677B2 (en) Lighting equipment
JP6186843B2 (en) Illumination device, projection device, and projection-type image display device
JP6146681B2 (en) Lighting device
JP6186842B2 (en) Illumination device, projection device, and projection-type image display device

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210421

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20210421

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20220317

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20220408

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20220606

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220930

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20221013

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7169554

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150