JP7163918B2 - 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置 - Google Patents
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(a)波長600~800nmの領域において、前記基材の垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も短い波長の値(Xa)と、波長700~1200nmの領域において、基材の垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も長い波長の値(Xb)との差の絶対値|Xa-Xb|が120nm以上である。
(b)波長560~800nmの範囲において、前記近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も短い波長の値(Ya)と、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の透過率が50%となる最も短い波長の値(Yb)との差の絶対値|Ya-Yb|が15nm未満である。
(a)波長600~800nmの領域において、前記基材の垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も短い波長の値(Xa)と、波長700~1200nmの領域において、基材の垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も長い波長の値(Xb)との差の絶対値|Xa-Xb|が120nm以上である。
本発明に係る近赤外線カットフィルターは、近赤外線吸収剤を含む透明樹脂層を有する基材(i)と、前記基材(i)の少なくとも一方の面上に形成された誘電体多層膜とを含み、かつ、下記要件(a)を満たすことを特徴とする。
|△a*|=|(a* の値(30°))-(a* の値)|
|△b*|=|(b* の値(30°))-(b* の値)|
上記式で算出される|△a*|は、好ましくは9以下、より好ましくは3以下であり、かつ、上記式で算出される|△b*|は、好ましくは9以下、より好ましくは3以下である。|△a*|および|△b*|が前記範囲内にある近赤外線カットフィルターを固体撮像素子用途として使用した場合、得られる画像の色再現性の目視評価が良好な結果を示す。
本発明では、700~850nmにおけるレンズの平均反射率(b)は1%として計算する。
前記基材(i)は、近赤外線吸収剤を含む透明樹脂層を有する。前記近赤外線吸収剤としては、例えば、波長650~750nmに吸収極大を有するスクアリリウム系化合物(A)(以下「化合物(A)」ともいう。)および波長660~850nmに吸収極大を有する化合物(B)(前記化合物(A)を除く。以下「化合物(B)」ともいう。)などが挙げられる。
前記近赤外線吸収剤は、波長650nm以上850nm以下に吸収極大を有する化合物であれば特に制限されないが、樹脂中での凝集を抑制できるという観点から溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましい。このような近赤外線吸収剤の例としては、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物、クロコニウム系化合物およびシアニン系化合物などが挙げられる。本発明では、近赤外線吸収剤として、前記化合物(A)および前記化合物(B)を含むことが好ましい。
化合物(A)は、波長650~750nmに吸収極大を有するスクアリリウム系化合物であれば特に制限されない。スクアリリウム系化合物は、優れた可視光透過性、急峻な吸収特性および高いモル吸光係数を有するが、光線吸収時に散乱光の原因となる蛍光を発生させる場合がある。そのような場合、化合物(A)と化合物(B)とを組み合わせて使用することにより、散乱光が少なくカメラ画質がより良好な近赤外線カットフィルターを得ることができる。
複数あるRaは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、-L1または-NReRf基を表す。ReおよびRfは、それぞれ独立に水素原子、-La、-Lb、-Lc、-Ldまたは-Leを表す。
前記La~Lhは、
(La)置換基Lを有してもよい炭素数1~9の脂肪族炭化水素基、
(Lb)置換基Lを有してもよい炭素数1~9のハロゲン置換アルキル基、
(Lc)置換基Lを有してもよい炭素数3~14の脂環式炭化水素基、
(Ld)置換基Lを有してもよい炭素数6~14の芳香族炭化水素基、
(Le)置換基Lを有してもよい炭素数3~14の複素環基、
(Lf)置換基Lを有してもよい炭素数1~9のアルコキシ基、
(Lg)置換基Lを有してもよい炭素数1~9のアシル基、または
(Lh)置換基Lを有してもよい炭素数1~9のアルコキシカルボニル基
を表す。
1つのベンゼン環上の2つのRaのうちの少なくとも1つが、同じベンゼン環上のYと相互に結合して、窒素原子を少なくとも1つ含む構成原子数5または6の複素環を形成し、前記複素環は置換基を有していてもよく、Rbおよび前記複素環の形成に関与しないRaは、それぞれ独立に前記(A-i)のRbおよびRaと同義である。
化合物(B)は、波長660~850nmに吸収極大を有すれば特に制限されないが、溶剤可溶型の色素化合物であることが好ましく、スクアリリウム系化合物、フタロシアニン系化合物、シアニン系化合物、ナフタロシアニン系化合物およびクロコニウム系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種であることがより好ましく、スクアリリウム系化合物およびフタロシアニン系化合物であることがさらに好ましい。このような化合物(B)を用いることにより、吸収極大付近での高い近赤外線カット特性と良好な可視光透過率を同時に達成することができる。
複数あるRa、Rb、RcおよびRdは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4、または、RaとRb、RbとRcおよびRcとRdのうち少なくとも1つの組み合わせが結合した、下記式(A)~(H)で表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表し、同じ芳香環に結合したRa、Rb、RcおよびRdのうち少なくとも1つが水素原子ではない。
L1は前記式(I)において定義したL1と同義であり、
L2は、水素原子または前記式(A-I)において定義したLa~Leのいずれかを表し、
L3は、水酸基または前記La~Leのいずれかを表し、
L4は、前記La~Leのいずれかを表す。
複数あるRA~RLは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Lを有してもよく、L1~L4は前記式(III)において定義したL1~L4と同義である。
複数あるDは、独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、
複数あるRa、Rb、Rc、Rd、Re、Rf、Rg、RhおよびRiは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4、または、RbとRc、RdとRe、ReとRf、RfとRg、RgとRhおよびRhとRiのうち少なくとも1つの組み合わせが結合した、下記式(A)~(H)で表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記式(A-I)において定義した置換基Lを有してもよく、
L1は、前記式(A-I)において定義したL1と同義であり、
L2は、水素原子または前記式(A-I)において定義したLa~Leのいずれかを表し、
L3は、水素原子または前記La~Leのいずれかを表し、
L4は、前記La~Leのいずれかを表し、
Za~ZdおよびYa~Ydは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3、-N=N-L4(L1~L4は、前記Ra~RiにおけるL1~L4と同義である。)、あるいは、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含んでもよい5乃至6員環の脂環式炭化水素基、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、炭素数6~14の芳香族炭化水素基、または、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成され、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含む、炭素数3~14の複素芳香族炭化水素基を表し、これらの脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数1~9の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。
複数あるRA~RLは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L1、-S-L2、-SS-L2、-SO2-L3または-N=N-L4(L1~L4は、前記式(V-1)~(V-3)において定義したL1~L4と同義である。)を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Lを有してもよい。
R1~R8は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、スルホ基、水酸基、シアノ基、ニトロ基、カルボキシ基、リン酸基、-NRgRh基、-SO2Ri基、-OSO2Ri基または下記La~Lhのいずれかを表し、RgおよびRhは、それぞれ独立に水素原子、-C(O)Ri基または下記La~Leのいずれかを表し、Riは下記La~Leのいずれかを表す。
(La)炭素数1~12の脂肪族炭化水素基
(Lb)炭素数1~12のハロゲン置換アルキル基
(Lc)炭素数3~14の脂環式炭化水素基
(Ld)炭素数6~14の芳香族炭化水素基
(Le)炭素数3~14の複素環基
(Lf)炭素数1~12のアルコキシ基
(Lg)置換基Lを有してもよい炭素数1~12のアシル基、
(Lh)置換基Lを有してもよい炭素数1~12のアルコキシカルボニル基
置換基Lは、炭素数1~12の脂肪族炭化水素基、炭素数1~12のハロゲン置換アルキル基、炭素数3~14の脂環式炭化水素基、炭素数6~14の芳香族炭化水素基および炭素数3~14の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種である。
前記基材(i)には、さらに、化合物(A)および化合物(B)に該当しない、その他の色素(X)が含まれていてもよい。
樹脂製支持体やガラス支持体などに積層する透明樹脂層および透明樹脂製基板(ii)~(iv)は、透明樹脂を用いて形成することができる。前記基材(i)に用いる透明樹脂としては、1種単独でもよいし、2種以上でもよい。
環状(ポリ)オレフィン系樹脂としては、下記式(X0)で表される単量体および下記式(Y0)で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも1種の単量体から得られる樹脂、および当該樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
(i')水素原子
(ii')ハロゲン原子
(iii')トリアルキルシリル基
(iv')酸素原子、硫黄原子、窒素原子またはケイ素原子を含む連結基を有する、置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基
(v')置換または非置換の炭素数1~30の炭化水素基
(vi')極性基(但し、(iv')を除く。)
(vii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基(但し、前記結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記(i')~(vi')より選ばれる原子または基を表す。)
(viii')Rx1とRx2またはRx3とRx4とが、相互に結合して形成された単環もしくは多環の炭化水素環または複素環(但し、前記結合に関与しないRx1~Rx4は、それぞれ独立に前記(i')~(vi')より選ばれる原子または基を表す。)
(ix')Rx2とRx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環または複素環(但し、前記結合に関与しないRx1とRx4は、それぞれ独立に前記(i')~(vi')より選ばれる原子または基を表す。)
芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式(1)で表される構造単位および下記式(2)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1種の構造単位を有することが好ましい。
ポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよく、例えば、特開2006-199945号公報や特開2008-163107号公報に記載されている方法で合成することができる。
フルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよく、例えば、特開2008-163194号公報に記載されている方法で合成することができる。
フルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよく、例えば、特開2010-285505号公報や特開2011-197450号公報に記載されている方法で合成することができる。
フッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、フッ素原子を少なくとも1つ有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合およびエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも1つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーであることが好ましく、例えば特開2008-181121号公報に記載されている方法で合成することができる。
アクリル系紫外線硬化型樹脂としては、特に制限されないが、分子内に一つ以上のアクリル基もしくはメタクリル基を有する化合物と、紫外線によって分解して活性ラジカルを発生させる化合物を含有する樹脂組成物から合成されるものを挙げることができる。アクリル系紫外線硬化型樹脂は、前記基材(i)として、ガラス支持体上やベースとなる樹脂製支持体上に化合物(B)および硬化性樹脂を含む透明樹脂層が積層された基材や、化合物(B)を含有する透明樹脂製基板(ii)上に硬化性樹脂等からなるオーバーコート層などの樹脂層が積層された基材を用いる場合、該硬化性樹脂として特に好適に使用することができる。
透明樹脂の市販品としては、以下の市販品等を挙げることができる。環状(ポリ)オレフィン系樹脂の市販品としては、JSR(株)製アートン、日本ゼオン(株)製ゼオノア、三井化学(株)製APEL、ポリプラスチックス(株)製TOPASなどを挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、住友化学(株)製スミカエクセルPESなどを挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学(株)製ネオプリムLなどを挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、帝人(株)製ピュアエースなどを挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、三菱ガス化学(株)製ユピゼータEP-5000などを挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、大阪ガスケミカル(株)製OKP4HTなどを挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、(株)日本触媒製アクリビュアなどを挙げることができる。シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂の市販品としては、新日鐵化学(株)製シルプラスなどを挙げることができる。
前記基材(i)は、本発明の効果を損なわない範囲において、さらに酸化防止剤、近紫外線吸収剤、蛍光消光剤および金属錯体系化合物等の添加剤を含有してもよい。これらその他成分は、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
前記基材(i)が、前記透明樹脂製基板(ii)~(iv)を含む基材である場合、該透明樹脂製基板(ii)~(iv)は、例えば、溶融成形またはキャスト成形により形成することができ、さらに、必要により、成形後に、反射防止剤、ハードコート剤および/または帯電防止剤等のコーティング剤をコーティングすることで、オーバーコート層が積層された基材を製造することができる。
前記溶融成形としては、具体的には、樹脂と化合物(A)と化合物(B)等とを溶融混練りして得られたペレットを溶融成形する方法;樹脂と化合物(A)と化合物(B)とを含有する樹脂組成物を溶融成形する方法;または、化合物(A)、化合物(B)、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物から溶剤を除去して得られたペレットを溶融成形する方法などが挙げられる。溶融成形方法としては、射出成形、溶融押出成形またはブロー成形などを挙げることができる。
前記キャスト成形としては、化合物(A)、化合物(B)、樹脂および溶剤を含む樹脂組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶剤を除去する方法;または化合物(A)、化合物(B)、光硬化性樹脂および/または熱硬化性樹脂とを含む硬化性組成物を適当な支持体の上にキャスティングして溶媒を除去した後、紫外線照射や加熱などの適切な手法により硬化させる方法などにより製造することもできる。
本発明の近赤外線カットフィルターは、前記基材(i)の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を有する。本発明の誘電体多層膜は、近赤外線を反射する能力を有する膜である。本発明では、近赤外線反射膜は前記基材(i)の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。片面に設ける場合、製造コストや製造容易性に優れ、両面に設ける場合、高い強度を有し、反りやねじれが生じにくい近赤外線カットフィルターを得ることができる。近赤外線カットフィルターを固体撮像素子用途に適用する場合、近赤外線カットフィルターの反りやねじれが小さい方が好ましいことから、誘電体多層膜を基材(i)の両面に設けることが好ましい。
本発明の近赤外線カットフィルターは、本発明の効果を損なわない範囲において、基材(i)と誘電体多層膜との間、基材(i)の誘電体多層膜が設けられた面と反対側の面、または誘電体多層膜の基材(i)が設けられた面と反対側の面に、基材(i)や誘電体多層膜の表面硬度の向上、耐薬品性の向上、帯電防止および傷消しなどの目的で、反射防止膜、ハードコート膜や帯電防止膜などの機能膜を適宜設けることができる。
本発明の近赤外線カットフィルターの製造方法は、上記基材(i)の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を形成する工程を含むことを特徴とする。誘電体多層膜を形成する方法は前述のとおりである。また、必要に応じて、上記基材(i)上に機能膜を形成する工程を含んでもよい。
本発明の近赤外線カットフィルターは、視野角が広く、優れた近赤外線カット能等を有する。したがって、カメラモジュールのCCDやCMOSイメージセンサー等の固体撮像素子の視感度補正用として有用である。特に、デジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、デジタルビデオカメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、PCカメラ、監視カメラ、自動車用カメラ、テレビ、カーナビゲーション、携帯情報端末、ビデオゲーム機、携帯ゲーム機、指紋認証システム、デジタルミュージックプレーヤー等に有用である。さらに、自動車や建物等のガラス板等に装着される熱線カットフィルターなどとしても有用である。
本発明の固体撮像装置は、本発明の近赤外線カットフィルターを具備する。ここで、固体撮像装置とは、CCDやCMOSイメージセンサー等といった固体撮像素子を備えたイメージセンサーであり、具体的にはデジタルスチルカメラ、スマートフォン用カメラ、携帯電話用カメラ、ウェアラブルデバイス用カメラ、デジタルビデオカメラ等の用途に用いることができる。例えば、本発明のカメラモジュールは、本発明の近赤外線カットフィルターを具備する。
樹脂の分子量は、各樹脂の溶剤への溶解性等を考慮し、下記の(a)または(b)の方法にて測定を行った。
(a)ウオターズ(WATERS)社製のゲルパーミエ-ションクロマトグラフィー(GPC)装置(150C型、カラム:東ソー社製Hタイプカラム、展開溶剤:o-ジクロロベンゼン)を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
(b)東ソー社製GPC装置(HLC-8220型、カラム:TSKgelα‐M、展開溶剤:THF)を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)および数平均分子量(Mn)を測定した。
(c)ポリイミド樹脂溶液の一部を無水メタノールに投入してポリイミド樹脂を析出させ、ろ過して未反応単量体から分離した。80℃で12時間真空乾燥して得られたポリイミド0.1gをN-メチル-2-ピロリドン20mLに溶解し、キャノン-フェンスケ粘度計を使用して30℃における対数粘度(μ)を下記式により求めた。
t0:溶媒の流下時間
ts:希薄高分子溶液の流下時間
C:0.5g/dL
<ガラス転移温度(Tg)>
エスアイアイ・ナノテクノロジーズ株式会社製の示差走査熱量計(DSC6200)を用いて、昇温速度:毎分20℃、窒素気流下で測定した。
基材の透過率、ならびに、近赤外線カットフィルターの透過率および反射率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計(U-4100)を用いて測定した。
5mm角にチップカットした近赤外線カットフィルターを、(株)KEYENCE製「デジタルマイクロスコープVHX-600」の観察ステージ上に配置し、横から観察してチップ端部の反りの高さを測定し、下記基準で評価した。
○○:20μm≦反りの高さ<40μm
○:40μm≦反りの高さ<60μm
△:60μm≦反りの高さ<80μm
×:80μm≦反りの高さ
光学フィルターをカメラモジュールに組み込んだ際の色味評価は下記の方法で行った。特開2016-110067号公報と同様の方法でカメラモジュールを作成し、作成したカメラモジュールを用いて300mm×400mmサイズの白色板をD65光源(X-Rite社製標準光源装置「マクベスジャッジII」)下で撮影し、カメラ画像における色味を以下の基準で評価した。
下記実施例で用いた化合物(A)および化合物(B)は、一般的に知られている方法で合成した。一般的合成方法としては、例えば、特許第3366697号公報、特許第2846091号公報、特許第2864475号公報、特許第3703869号公報、特開昭60-228448号公報、特開平1-146846号公報、特開平1-228960号公報、特許第4081149号公報、特開昭63-124054号公報、「フタロシアニン -化学と機能―」(アイピーシー、1997年)、特開2007-169315号公報、特開2009-108267号公報、特開2010-241873号公報、特許第3699464号公報、特許第4740631号公報などに記載されている方法を挙げることができる。
下記式(a)で表される8-メチル-8-メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ-3-エン(以下「DNM」ともいう。)100部、1-ヘキセン(分子量調節剤)18部およびトルエン(開環重合反応用溶媒)300部を、窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を80℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒として、トリエチルアルミニウムのトルエン溶液(0.6mol/リットル)0.2部と、メタノール変性の六塩化タングステンのトルエン溶液(濃度0.025mol/リットル)0.9部とを添加し、この溶液を80℃で3時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は97%であった。
3Lの4つ口フラスコに2,6-ジフルオロベンゾニトリル35.12g(0.253mol)、9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フルオレン87.60g(0.250mol)、炭酸カリウム41.46g(0.300mol)、N,N-ジメチルアセトアミド(以下「DMAc」ともいう。)443gおよびトルエン111gを添加した。続いて、4つ口フラスコに温度計、撹拌機、窒素導入管付き三方コック、ディーンスターク管および冷却管を取り付けた。次いで、フラスコ内を窒素置換した後、得られた溶液を140℃で3時間反応させ、生成する水をディーンスターク管から随時取り除いた。水の生成が認められなくなったところで、徐々に温度を160℃まで上昇させ、そのままの温度で6時間反応させた。室温(25℃)まで冷却後、生成した塩をろ紙で除去し、ろ液をメタノールに投じて再沈殿させ、ろ別によりろ物(残渣)を単離した。得られたろ物を60℃で一晩真空乾燥し、白色粉末(以下「樹脂B」ともいう。)を得た(収率95%)。得られた樹脂Bは、数平均分子量(Mn)が75,000、重量平均分子量(Mw)が188,000であり、ガラス転移温度(Tg)が285℃であった。
温度計、撹拌器、窒素導入管、側管付き滴下ロート、ディーンスターク管および冷却管を備えた500mLの5つ口フラスコに、窒素気流下、1,4-ビス(4-アミノ-α,α-ジメチルベンジル)ベンゼン27.66g(0.08モル)および4,4'-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル7.38g(0.02モル)を入れて、γ―ブチロラクトン68.65g及びN,N-ジメチルアセトアミド17.16gに溶解させた。得られた溶液を、氷水バスを用いて5℃に冷却し、同温に保ちながら1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物22.62g(0.1モル)およびイミド化触媒としてトリエチルアミン0.50g(0.005モル)を一括添加した。添加終了後、180℃に昇温し、随時留出液を留去させながら、6時間還流させた。反応終了後、内温が100℃になるまで空冷した後、N,N-ジメチルアセトアミド143.6gを加えて希釈し、攪拌しながら冷却し、固形分濃度20重量%のポリイミド樹脂溶液264.16gを得た。このポリイミド樹脂溶液の一部を1Lのメタノール中に注ぎいれてポリイミドを沈殿させた。濾別したポリイミドをメタノールで洗浄した後、100℃の真空乾燥機中で24時間乾燥させて白色粉末(以下「樹脂C」ともいう。)を得た。得られた樹脂CのIRスペクトルを測定したところ、イミド基に特有の1704cm-1、1770cm-1の吸収が見られた。樹脂Cはガラス転移温度(Tg)が310℃であり、対数粘度を測定したところ、0.87であった。
実施例1では、片面に化合物(A)および化合物(B)を含む透明樹脂層を有する透明ガラス基板からなる基材を有する近赤外線カットフィルターを以下の手順および条件で作成した。
実施例1において、化合物(A)として化合物(a-1)0.03部の代わりに下記式(a-2)で表わされるスクアリリウム系化合物(a-2)(ジクロロメタン中での吸収極大波長703nm)0.033部を用いたこと、ならびに、化合物(B)として化合物(b-1)0.02部および化合物(b-2)0.03部の代わりに下記式(b-3)で表されるフタロシアニン系化合物(b-3)(ジクロロメタン中での吸収極大波長770nm)0.077部を用いたこと以外は実施例1と同様の手順および条件で、ガラス基板の片面に化合物(A)および化合物(B)を含む透明樹脂層を有する基材を得た。この基材の分光透過率を測定し、光学特性を評価した。結果を図8および表4に示す。
実施例3では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する近赤外線カットフィルターを以下の手順および条件で作成した。
続いて、実施例1と同様に、得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ(SiO2)層とチタニア(TiO2)層とが交互に積層されてなる(合計26層)誘電体多層膜(V)を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ(SiO2)層とチタニア(TiO2)層とが交互に積層されてなる(合計20層)誘電体多層膜(VI)を形成し、厚さ約0.108mmの近赤外線カットフィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、実施例1と同様に基材屈折率の波長依存性等を考慮した上で、実施例1と同じ設計パラメーターを用いて行った。この近赤外線カットフィルターを実施例1と同様にして評価した。結果を表4に示す。
実施例4では、両面に化合物(A)および化合物(B)を含む透明樹脂層を有する樹脂製基板からなる基材を有する近赤外線カットフィルターを以下の手順および条件で作成した。
続いて、実施例1と同様に、得られた基材の片面に第一光学層としてシリカ(SiO2)層とチタニア(TiO2)層とが交互に積層されてなる(合計26層)誘電体多層膜(VII)を形成し、さらに基材のもう一方の面に第二光学層としてシリカ(SiO2)層とチタニア(TiO2)層とが交互に積層されてなる(合計20層)誘電体多層膜(VIII)を形成し、厚さ約0.108mmの近赤外線カットフィルターを得た。誘電体多層膜の設計は、実施例1と同様に基材屈折率の波長依存性等を考慮した上で、実施例1と同じ設計パラメーターを用いて行った。この近赤外線カットフィルターを実施例1と同様にして評価した。結果を表4に示す。
樹脂、化合物(A)、化合物(B)、溶媒および樹脂製基板の乾燥条件を表4に示すように変更したこと以外は、実施例3と同様にして、基材および近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表4に示す。
樹脂、化合物(A)、化合物(B)、溶媒および樹脂製基板の乾燥条件を表4に示すように変更したこと以外は、実施例1と同様にして、基材および近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表4に示す。
樹脂、化合物(A)、化合物(B)、溶媒および樹脂製基板の乾燥条件を表4に示すように変更したこと以外は、実施例3と同様にして、基材および近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表4に示す。
樹脂、化合物(A)、化合物(B)、溶媒および樹脂製基板の乾燥条件を表4に示すように変更したこと以外は、実施例4と同様にして、基材および近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表4に示す。
実施例1において、化合物(A)および化合物(B)を用いなかったこと以外は実施例1と同様にして基材および近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表5に示す。
化合物(A)として化合物(a-1)0.01部および化合物(a-2)0.01部を用いたこと以外は実施例3と同様にして、基材および近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表5に示す。
基材として透明ガラス基板「OA-10G(厚み100μm)」(日本電気硝子(株)製)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表5に示す。
比較例4では、両面に樹脂層を有する透明樹脂製基板からなる基材を有する近赤外線カットフィルターを以下の手順および条件で作成した。
樹脂、化合物(A)、化合物(B)、溶媒および樹脂製基板の乾燥条件を表5に示すように変更したこと以外は、実施例3と同様にして、基材および近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表5に示す。
基材として熱可塑性ポリイミドフィルム(アズワン社製、厚さ0.5mm)を用い、吸収材も透明樹脂層形成用組成物も使用しなかったこと以外は、実施例3と同様にして近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表5に示す。
基材として透明ガラス基板「OA-10G(厚み100μm)」(日本電気硝子(株)製)を用い、表3のような誘電体多層膜を積層したこと以外は、実施例1と同様にして近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表5に示す。
樹脂、化合物(A)、化合物(B)、溶媒および樹脂製基板の乾燥条件を表5に示すように変更するとともに、誘電体多層膜(I)、誘電体多層膜(II)、基材の順序になるように、得られた基材の片面に誘電体多層膜(I)および誘電体多層膜(II)を形成したこと以外は、実施例3と同様にして、基材および近赤外線カットフィルターを作成して評価した。結果を表5に示す。
形態(1):ガラス基板の片方の面に化合物(A)および化合物(B)を含む透明樹脂層を有する形態
形態(2):化合物(A)および化合物(B)を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する形態
形態(3):樹脂製基板の両面に化合物(A)および化合物(B)を含む透明樹脂層を有する形態
形態(4):化合物(A)および化合物(B)を含まない透明樹脂製基板
形態(5):化合物(A)を含む透明樹脂製基板の両面に樹脂層を有する形態
形態(6):ガラス基板
形態(7):樹脂製基板
樹脂A:環状オレフィン系樹脂(樹脂合成例1)
樹脂B:芳香族ポリエーテル系樹脂(樹脂合成例2)
樹脂C:ポリイミド系樹脂(樹脂合成例3)
樹脂D:環状オレフィン系樹脂「ゼオノア 1420R」(日本ゼオン(株)製)
ガラス基板(1):縦60mm、横60mmの大きさにカットした透明ガラス基板「OA-10G(厚み100μm)」(日本電気硝子(株)製)
≪化合物(A)≫
化合物(a-1):上記式(a-1)で表わされるスクアリリウム系化合物(a-1)(ジクロロメタン中での吸収極大波長698nm)
化合物(a-2):上記式(a-2)で表わされるスクアリリウム系化合物(a-2)(ジクロロメタン中での吸収極大波長703nm)
化合物(a-3):下記式(a-3)で表わされるスクアリリウム系化合物(a-3)(ジクロロメタン中での吸収極大波長710nm)
化合物(a-4):下記式(a-4)で表わされるスクアリリウム系化合物(a-4)(ジクロロメタン中での吸収極大波長733nm)
化合物(a-5):下記式(a-5)で表わされるスクアリリウム系化合物(a-5)(ジクロロメタン中での吸収極大波長713nm)
化合物(b-1):上記式(b-1)で表わされるスクアリリウム系化合物(b-1)(ジクロロメタン中での吸収極大波長776nm)
化合物(b-2):上記式(b-2)で表わされるフタロシアニン系化合物(b-2)(ジクロロメタン中での吸収極大波長733nm)
化合物(b-3):上記式(b-3)で表わされるフタロシアニン系化合物(b-3)(ジクロロメタン中での吸収極大波長770nm)
化合物(b-4):上記式(b-4)で表わされるスクアリリウム系化合物(b-4)(ジクロロメタン中での吸収極大波長781nm)
化合物(b-5):下記式(b-5)で表されるシアニン系化合物(b-5)(ジクロロメタン中での吸収極大波長681nm)
化合物(b-6):下記式(b-6)で表わされるシアニン系化合物(b-6)(ジクロロメタン中での吸収極大波長791nm)
化合物(b-7):下記式(b-7)で表わされるシアニン系化合物(b-7)(ジクロロメタン中での吸収極大波長812nm)
化合物(b-8):下記式(b-8)で表わされるシアニン系化合物(b-8)(ジクロロメタン中での吸収極大波長760nm)
化合物(b-9):下記式(b-9)で表わされるフタロシアニン系化合物(b-9)(ジクロロメタン中での吸収極大波長752nm)
2:分光光度計
3:光
3A:反射光
3B:反射光
3C:透過光(多重反射光)
4:レンズ
5:センサー(固体撮像素子)
7:反射ミラー
10:ガラス製支持体
11:透明樹脂層
12:第一光学層
13:第二光学層
14:基材(i)
15:第三光学層
16:第四光学層
111:カメラ画像
112:白色板
113:白色板の中央部の例
114:白色板の端部の例
Claims (12)
- 近赤外線吸収剤を含む透明樹脂層およびガラス製支持体を有する基材と、前記基材の少なくとも一方の面に形成された誘電体多層膜とを含み、
前記近赤外線吸収剤が、波長650~750nmに吸収極大を有するスクアリリウム系化合物(A)および波長700~850nmに吸収極大を有する化合物(B)(前記化合物(A)を除く)を含み、
前記化合物(B)が、下記式(V-2)で表されるシアニン系化合物を含み、かつ、
下記要件(a)を満たす近赤外線カットフィルター:
(a)波長600~800nmの領域において、前記基材の垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も短い波長の値(Xa)と、波長700~1200nmの領域において、基材の垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も長い波長の値(Xb)との差の絶対値|Xa-Xb|が160nm以上である。
複数あるDは、独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、
複数あるR a 、R b 、R c 、R d 、R e 、R f 、R g は、それぞれ独立に水素原子、塩素原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L 1 、-S-L 2 、-SS-L 2 、-SO 2 -L 3 、-N=N-L 4 、または、R b とR c 、R d とR e 、R e とR f 、およびR f とR g のうち少なくとも1つの組み合わせが結合した、下記式(A)~(H)で表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、置換基Lを有してもよく、
置換基Lは、炭素数1~9の脂肪族炭化水素基、炭素数1~9のハロゲン置換アルキル基、炭素数3~14の脂環式炭化水素基、炭素数6~14の芳香族炭化水素基および炭素数3~14の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種であり、
L 1 は、下記に示すL a 、L b 、L c 、L d 、L e 、L f 、L g またはL h であり、
(L a )置換基Lを有してもよい炭素数1~9の脂肪族炭化水素基
(L b )置換基Lを有してもよい炭素数1~9のハロゲン置換アルキル基
(L c )置換基Lを有してもよい炭素数3~14の脂環式炭化水素基
(L d )置換基Lを有してもよい炭素数6~14の芳香族炭化水素基
(L e )置換基Lを有してもよい炭素数3~14の複素環基
(L f )置換基Lを有してもよい炭素数1~9のアルコキシ基
(L g )置換基Lを有してもよい炭素数1~9のアシル基
(L h )置換基Lを有してもよい炭素数1~9のアルコキシカルボニル基
L 2 は、水素原子または前記L a ~L e のいずれかを表し、
L 3 は、水素原子または前記L a ~L e のいずれかを表し、
L 4 は、前記L a ~L e のいずれかを表し、
Z a ~Z c およびY a ~Y d は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L 1 、-S-L 2 、-SS-L 2 、-SO 2 -L 3 、-N=N-L 4 (L 1 ~L 4 は、前記L 1 ~L 4 と同義である。)、あるいは、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含んでもよい5乃至6員環の脂環式炭化水素基、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、炭素数6~14の芳香族炭化水素基、または、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成され、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含む、炭素数3~14の複素芳香族炭化水素基を表し、
これらの脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数1~9の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。]
複数あるR A ~R L は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L 1 、-S-L 2 、-SS-L 2 、-SO 2 -L 3 または-N=N-L 4 (L 1 ~L 4 は、前記式(V-2)において定義したL 1 ~L 4 と同義である。)を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Lを有してもよい。] - 前記波長Xa~Xbの領域において、前記基材の垂直方向から測定した場合の透過率の平均値(Ta)が35%以下であることを特徴とする請求項1に記載の近赤外線カットフィルター。
- さらに下記要件(b)を満たすことを特徴とする請求項1または2に記載の近赤外線カットフィルター:
(b)波長560~800nmの範囲において、前記近赤外線カットフィルターの垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も短い波長の値(Ya)と、近赤外線カットフィルターの垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の透過率が50%となる最も短い波長の値(Yb)との差の絶対値|Ya-Yb|が15nm未満である。 - 前記透明樹脂層が、前記近赤外線吸収剤を2種以上含むことを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルター。
- 前記誘電体多層膜が前記基材の両方の面に形成されていることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルター。
- 前記基材の両方の面に形成された誘電体多層膜が、近赤外線反射膜と可視光反射防止膜からなることを特徴とする請求項5に記載の近赤外線カットフィルター。
- 波長600~900nmの領域において、近赤外線カットフィルターのいずれか一方の面の垂直方向に対して30°の角度から測定した場合の反射率が50%となる最も短い波長の値(Xr)が620nm以上であることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルター。
- 前記透明樹脂層を構成する透明樹脂が、環状(ポリ)オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、(変性)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂、シルセスキオキサン系紫外線硬化型樹脂、アクリル系紫外線硬化型樹脂およびビニル系紫外線硬化型樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂であることを特徴とする請求項1~7のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルター。
- 固体撮像装置用である請求項1~8のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルター。
- 請求項1~9のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルターを具備する固体撮像装置。
- 請求項1~9のいずれか1項に記載の近赤外線カットフィルターを具備するカメラモジュール。
- 近赤外線吸収剤を含む透明樹脂層およびガラス製支持体を有する基材の少なくとも一方の面に誘電体多層膜を形成する工程を含む近赤外線カットフィルターの製造方法であって、
前記近赤外線吸収剤が、波長650~750nmに吸収極大を有するスクアリリウム系化合物(A)および波長700~850nmに吸収極大を有する化合物(B)(前記化合物(A)を除く)を含むこと、
前記化合物(B)が、下記式(V-2)で表されるシアニン系化合物を含むこと、かつ、
該近赤外線カットフィルターが下記要件(a)を満たすことを特徴とする近赤外線カットフィルターの製造方法:
(a)波長600~800nmの領域において、前記基材の垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も短い波長の値(Xa)と、波長700~1200nmの領域において、基材の垂直方向から測定した場合の透過率が50%となる最も長い波長の値(Xb)との差の絶対値|Xa-Xb|が160nm以上である。
複数あるDは、独立に炭素原子、窒素原子、酸素原子または硫黄原子を表し、
複数あるR a 、R b 、R c 、R d 、R e 、R f 、R g は、それぞれ独立に水素原子、塩素原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L 1 、-S-L 2 、-SS-L 2 、-SO 2 -L 3 、-N=N-L 4 、または、R b とR c 、R d とR e 、R e とR f 、およびR f とR g のうち少なくとも1つの組み合わせが結合した、下記式(A)~(H)で表される基からなる群より選ばれる少なくとも1種の基を表し、
前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、置換基Lを有してもよく、
置換基Lは、炭素数1~9の脂肪族炭化水素基、炭素数1~9のハロゲン置換アルキル基、炭素数3~14の脂環式炭化水素基、炭素数6~14の芳香族炭化水素基および炭素数3~14の複素環基からなる群より選ばれる少なくとも1種であり、
L 1 は、下記に示すL a 、L b 、L c 、L d 、L e 、L f 、L g またはL h であり、
(L a )置換基Lを有してもよい炭素数1~9の脂肪族炭化水素基
(L b )置換基Lを有してもよい炭素数1~9のハロゲン置換アルキル基
(L c )置換基Lを有してもよい炭素数3~14の脂環式炭化水素基
(L d )置換基Lを有してもよい炭素数6~14の芳香族炭化水素基
(L e )置換基Lを有してもよい炭素数3~14の複素環基
(L f )置換基Lを有してもよい炭素数1~9のアルコキシ基
(L g )置換基Lを有してもよい炭素数1~9のアシル基
(L h )置換基Lを有してもよい炭素数1~9のアルコキシカルボニル基
L 2 は、水素原子または前記L a ~L e のいずれかを表し、
L 3 は、水素原子または前記L a ~L e のいずれかを表し、
L 4 は、前記L a ~L e のいずれかを表し、
Z a ~Z c およびY a ~Y d は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L 1 、-S-L 2 、-SS-L 2 、-SO 2 -L 3 、-N=N-L 4 (L 1 ~L 4 は、前記L 1 ~L 4 と同義である。)、あるいは、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含んでもよい5乃至6員環の脂環式炭化水素基、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成される、炭素数6~14の芳香族炭化水素基、または、
隣接した二つから選ばれるZ同士もしくはY同士が相互に結合して形成され、窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子を少なくとも1つ含む、炭素数3~14の複素芳香族炭化水素基を表し、
これらの脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素芳香族炭化水素基は、炭素数1~9の脂肪族炭化水素基またはハロゲン原子を有してもよい。]
複数あるR A ~R L は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、シリル基、-L 1 、-S-L 2 、-SS-L 2 、-SO 2 -L 3 または-N=N-L 4 (L 1 ~L 4 は、前記式(V-2)において定義したL 1 ~L 4 と同義である。)を表し、前記アミノ基、アミド基、イミド基およびシリル基は、前記置換基Lを有してもよい。]
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Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012008532A (ja) | 2010-05-26 | 2012-01-12 | Jsr Corp | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
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