JP7156288B2 - 眼鏡枠形状測定装置及び眼鏡枠形状測定プログラム - Google Patents

Description

本開示は、眼鏡フレームの形状を得るための眼鏡枠形状測定装置及び眼鏡枠形状測定装置を制御する眼鏡枠形状測定プログラムに関する。

眼鏡フレームのリムに測定子を挿入し、測定子をリムに押し当てて移動させることで、リムの輪郭をトレースし、リムの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この眼鏡枠形状測定装置で得られたリムの測定結果（トレースデータ）に基づいて、眼鏡レンズをリムに嵌めるための形状（目標形状）が得られる。そして、形状に基づいて眼鏡レンズの輪郭形状が決定され、眼鏡レンズ加工装置によってレンズの周縁が加工される。

特開２０１５－００７５３６号公報

ところで、眼鏡フレームに加工後のレンズを良好に枠入れするためには、リムの形状と加工後のレンズの輪郭形状が近いほどより好ましいと考えられている。しかしながら、測定子を用いてのリム形状の測定では、測定子が押し当てられた位置での測定(例えば、リムの底の部分の測定)を行うことは容易であるものの、リムの溝の断面形状を得ることは困難であった。

このため、発明者らは、眼鏡フレームのリムの溝に向けて測定光を照射し、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光の反射光を受光し、反射光に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する構成を備える眼鏡枠形状測定装置について検討した。しかしながら、このような眼鏡枠形状測定装置を用いる場合に、眼鏡フレームの形状によっては、検出器の所定の位置にリムの溝の反射光束が良好に受光されず、リムの溝の断面形状を取得することが困難となる場合があることがわかった。

本開示は、上記従来技術に鑑み、種々の形状の眼鏡フレームにおけるリムの断面形状を良好に取得することができる眼鏡枠形状測定装置及び眼鏡枠形状測定プログラムを提供することを技術課題とする。

上記課題を解決するために、本開示は以下のような構成を備えることを特徴とする。

（１） 本開示の第１態様に係る眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、光源を有し、眼鏡フレームのリムの溝に向けて前記光源から測定光束を照射する投光光学系と、検出器を有し、前記投光光学系によって前記眼鏡フレームの前記リムの溝に向けて照射され、前記眼鏡フレームの前記リムの溝によって反射された前記測定光束の反射光束を前記検出器によって受光する受光光学系と、前記検出器によって受光された前記反射光束に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状を取得する取得手段と、前記反射光束の受光位置を変更する変更手段と、前記変更手段を制御して、前記検出器に前記リムの溝の前記反射光束が受光されるように前記反射光束の受光位置を変更する制御手段と、を備え、前記変更手段は、前記受光光学系による前記反射光束の受光位置を変更する第２変更手段を有することを特徴とする。
（２） 本開示の第２態様に係る眼鏡枠形状測定プログラムは、光源を有し、眼鏡フレームのリムの溝に向けて前記光源から測定光束を照射する投光光学系と、検出器を有し、前記投光光学系によって前記眼鏡フレームの前記リムの溝に向けて照射され、前記眼鏡フレームの前記リムの溝によって反射された前記測定光束の反射光束を前記検出器によって受光する受光光学系と、前記検出器によって受光された前記反射光束に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状を取得する取得手段と、を備え、眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置において実行される眼鏡枠形状測定プログラムであって、前記眼鏡枠形状測定装置のプロセッサによって実行されることで、前記受光光学系による前記反射光束の受光位置を変更する第２変更手段を制御して、前記検出器に前記リムの前記反射光束が受光されるように前記リムの溝の前記反射光束の受光位置を変更する制御ステップと、前記眼鏡枠形状測定装置に実行させることを特徴とする。

眼鏡枠形状測定装置の外観略図である。 眼鏡フレームが保持された状態のフレーム保持ユニットの上面図である。 移動ユニットを上方から見た斜視図を示している。 移動ユニットの下方から見た斜視図を示している。 Ｚ移動ユニットとＹ移動ユニットの上面斜視図を示している。 回転ユニットについて説明する図である。 眼鏡フレーム測定光学系について示す概略構成図である。 眼鏡枠形状測定装置に関する制御ブロック図である。 回転ユニットを制御して、異なる動径角にてリムの断面形状を取得する場合の一例について説明する図である。 異なる動径角にてリムの断面形状を取得する場合の一例について説明する図である。 眼鏡フレームのリムの溝に測定光束が照射されるように保持ユニットを移動させる前の受光結果を示す図である。 眼鏡フレームのリムの溝に測定光束が照射されるように保持ユニットを移動させた後の受光結果を示す図である。 断面画像に対する輝度分布の取得について説明する図である。 断面画像を所定の位置に移動させるための制御について説明する図である。 リムの溝の断面画像から取得されるパラメータについて説明する図である。

以下、本実施形態を図面に基づいて説明する。図１～図１４は本実施形態に係る眼鏡枠形状測定装置の構成について説明する図である。なお、本実施形態においては、眼鏡枠形状測定装置１の奥行き方向（眼鏡が配置された際の眼鏡フレームの上下方向）をＹ方向、奥行き方向に垂直（眼鏡が配置された際の眼鏡フレームの左右方向）な平面上の水平方向（左右方向）をＸ方向、鉛直方向（眼鏡が配置された際の眼鏡フレームの前後方向）をＺ方向として説明する。なお、以下の＜＞にて分類された項目は、独立又は関連して利用されうる。

なお、本開示においては、本実施形態に記載した装置に限定されない。例えば、下記実施形態の機能を行う端末制御ソフトウェア（プログラム）をネットワーク又は各種記憶媒体等を介して、システムあるいは装置に供給する。そして、システムあるいは装置の制御装置（例えば、ＣＰＵ等）がプログラムを読み出し、実行することも可能である。

なお、本実施形態における眼鏡枠形状測定装置１には、眼鏡フレームＦのリム部分が下方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が上方向とした状態で配置される。すなわち、眼鏡枠形状測定装置１に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲが下方向、眼鏡フレームＦの左右のテンプルＦＴＬ，ＦＴＲが上方向となる。もちろん、本実施形態の眼鏡枠形状測定装置１においては、眼鏡フレームＦのリム部分が下方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が上方向とした状態で配置される構成を例に挙げて説明するがこれに限定されない。例えば、眼鏡フレームＦのリム部分が上方向、眼鏡フレームＦのテンプル部分が下方向とした状態で配置される構成であってもよい。また、例えば、眼鏡枠形状測定装置１に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの上端が下方向、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの下端が上方向となるように配置される構成であってもよい。また、例えば、眼鏡枠形状測定装置１に眼鏡フレームＦが配置された場合に、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの上端が上方向、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲの下端が下方向となるように配置される構成であってもよい。

＜概要＞
本開示の実施形態に係る眼鏡枠形状測定装置（例えば、眼鏡枠形状測定装置１）の概要について説明する。例えば、本実施形態に関わる眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの形状を測定する。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、投光光学系（例えば、投光光学系３０ａ）を備える。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、受光光学系（例えば、受光光学系３０ｂ）を備える。例えば、眼鏡枠形状測定装置は、取得手段（例えば、制御部５０）を備える。

例えば、投光光学系は、光源（例えば、光源３１）を有する。例えば、投光光学系は、眼鏡フレームのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射する。なお、例えば、光源は、少なくとも１つ以上の光源が用いられてもよい。例えば、１つの光源が用いられてもよい。また、例えば、複数の光源が用いられてもよい。

例えば、受光光学系は、検出器（例えば、検出器３７）を有する。例えば、受光光学系は、投光光学系によって眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射され、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束を検出器によって受光する。なお、例えば、検出器は、少なくとも１つ以上の検出器が用いられてもよい。例えば、１つの検出器が用いられてもよい。また、例えば、複数の検出器が用いられてもよい。

例えば、取得手段は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束を処理して、検出器によって受光された測定光束の反射光束に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。

例えば、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムに向けて光源から測定光束を照射する投光光学系と、投光光学系によって眼鏡フレームの前記リムに向けて照射され、眼鏡フレームのリムによって反射された測定光束の反射光束を検出器によって受光する受光光学系と、反射光束を処理して、眼鏡フレームのリムの断面形状を取得する取得手段と、を備える。これによって、例えば、眼鏡フレームのリムの断面形状を容易に精度よく取得することができる。また、例えば、測定光束による測定であるため、迅速に測定を行うことができる。

例えば、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置は、反射光束の受光位置を変更する変更手段（例えば、移動ユニット２１０、回転ユニット２６０）を備える。また、例えば、眼鏡枠形状測定手段は、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する制御手段（例えば、制御部５０）を備える。これによって、例えば、検出器に反射光束が受光されるため、種々の形状の眼鏡フレームを測定した場合であっても、種々の形状の眼鏡フレームにおけるリムの溝の断面形状を良好に取得することができる。すなわち、本開示の眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームにおけるリムの溝の断面形状の取得において、種々の形状の眼鏡フレームに対応することができる。

＜投光光学系＞
例えば、投光光学系は、光学部材を有してもよい。この場合、例えば、光源から出射された測定光束が各光学部材を介して眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射されるようにしてもよい。例えば、光学部材としては、レンズ、ミラー、絞り、等の少なくともいずれかを用いてもよい。例えば、絞りを用いることによって、焦点深度を深くすることができる。もちろん、光学部材としては、上記光学部材に限定されず、異なる光学部材が用いられてもよい。

なお、例えば、投光光学系は、光源から出射された測定光束が眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される構成であればよい。例えば、少なくとも光源を有する構成であってもよい。また、例えば、投光光学系としては、光学部材とは異なる部材を経由して、光源から出射された測定光束が眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される構成であってもよい。

例えば、投光光学系によって、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される測定光束は、スポット状の測定光束を照射してもよい。また、例えば、投光光学系によって、眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射される測定光束は、幅を有する測定光束（例えば、スリット状の測定光束）であってもよい。この場合、例えば、投光光学系は、光源からの測定光束を眼鏡フレームのリムの溝に向けて照射し、リムの溝上に光切断面を形成させてもよい。例えば、受光光学系は、光切断面のリムの溝での反射（例えば、散乱、正反射等）により取得されるリムの溝の反射光束（例えば、散乱光、正反射光等）を検出器によって、受光するようにしてもよい。

例えば、幅を有する測定光束を照射する場合、スリット状の光束を出射する光源を用いてもよい。例えば、点光源を用いてもよい。この場合、例えば、点光源を複数並べて配置することによって、幅を有する測定光束を照射するようにしてもよい。また、例えば、点光源から照射されたスポット状の光束を走査することによって、幅を有する測定光束を照射するようにしてもよい。また、例えば、点光源から照射されたスポット状の測定光束を光学部材によって拡散させることによって、幅を有する測定光束を照射するようにしてもよい。もちろん、例えば、光源としては、上記光源とは異なる種々の種類の光源を用いて、幅を有する測定光束を照射するようにしてもよい。

＜受光光学系＞
例えば、受光光学系は、光学部材を有してもよい。この場合、例えば、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束が各光学部材を介して、検出器に受光されるようにしてもよい。例えば、光学部材としては、レンズ、ミラー、絞り、等の少なくともいずれかを用いてもよい。もちろん、光学部材としては、上記光学部材に限定されず、異なる光学部材が用いられてもよい。

なお、例えば、受光光学系は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束が検出器に受光される構成であればよい。例えば、少なくとも検出器を有する構成であってもよい。また、例えば、受光光学系としては、光学部材とは異なる部材を経由して、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束が検出器に受光される構成であってもよい。

＜取得手段＞
例えば、取得手段は、眼鏡フレームのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束を処理して、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。例えば、取得手段は、検出器における反射光束の受光位置から断面形状を取得してもよい。例えば、断面形状は、画像（画像データ）であってもよい。すなわち、断面形状は、断面画像であってもよい。また、例えば、断面形状は、信号（信号データ）であってもよい。すなわち、断面形状は、断面形状の信号データであってもよい。

例えば、断面形状としては、二次元断面形状、三次元断面形状等が挙げられる。例えば、二次元断面形状は、１つの動径角におけるリムの溝に測定光束を照射し、その反射光束を受光することによって取得される断面形状である。例えば、本実施形態において、二次元断面形状は、リムの溝を眼鏡フレームの動径方向（本実施形態においては、ＸＹ方向）に垂直な方向（本実施形態においては、Ｚ方向）に切断した面の形状である。なお、例えば、二次元断面形状は、測定光束を横断位置（本実施形態においては、Ｚ方向）に沿って走査させることによって取得してもよい。また、例えば、三次元断面形状は、二次元断面形状を各動径角毎に取得することによって、取得される断面形状である。例えば、三次元断面形状は、二次元断面形状を取得するための測定光束を眼鏡フレームの動径平面方向（本実施形態においては、ＸＹ平面方向）で走査することによって取得するようにしてもよい。

なお、例えば、断面形状の取得した際に、断面形状の一部が欠損している場合に、欠損している位置の周辺の位置（例えば、隣接する位置）における反射光束の受光結果から、欠損部分を補間するようにしてもよい。また、例えば、断面形状の取得した際に、断面形状の一部が欠損している場合に、断面形状を近似することによって、欠損部分を補間するようにしてもよい。また、例えば、断面形状の取得した際に、断面形状の一部が欠損している場合に、欠損部分が取得されるように断面形状の再取得を行うようにしてもよい。

例えば、二次断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周（各動径角においてリムが形成されているすべての部分）の内、少なくとも１つの箇所（1つの動径角の位置）でのリムの溝の二次元断面形状が取得されるようにしてもよい。この場合、例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、複数の位置（例えば、眼鏡フレームの左端、右端、上端、下端等）で取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、二次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、1つの動径角の位置で取得されるようにしてもよい。

例えば、三次元断面形状を取得する場合、眼鏡フレームのリムの全周（各動径角においてリムが形成されているすべての部分）の内、少なくとも一部の領域でのリムの溝の三次元断面形状が取得されるようにしてもよい。この場合、例えば、三次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、三次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、複数の領域（例えば、眼鏡フレームの左端領域、右端領域、上端領域、下端領域等）で取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、三次元断面形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、一部分の領域で取得されるようにしてもよい。なお、眼鏡フレームのリムの全周に対して三次元断面形状を取得していない場合で、眼鏡フレームのリムの全周の三次元断面形状を取得したい場合には、二次元断面形状を取得した部分の二次元断面形状（三次元断面形状）に基づいて、補間をすることによって、眼鏡フレームのリムの全周の三次元断面形状を取得してもよい。

＜変更手段＞
例えば、変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光束の照射位置を変更する第１変更手段（例えば、移動ユニット２１０、回転ユニット２６０）を有していてもよい。例えば、第１変更手段は、制御手段によって制御される。これによって、眼鏡フレームにおける任意のリムの溝の位置へ測定光を照射することが可能となり、任意の位置におけるリムの溝の断面形状を取得することができる。

例えば、第１変更手段は、測定光束の照射位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成であってもよい。例えば、第１変更手段は、測定光束の照射位置と、眼鏡フレームのリムの溝の位置と、の少なくとも一方の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、第１変更手段は、測定光束の照射位置に対して、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更する構成であってもよい。すなわち、第１変更手段は、測定光束の照射位置に対して、眼鏡フレームの位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、第１変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝の位置に対して、測定光束の照射位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、第１変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝の位置と、測定光束の照射位置と、の双方を変更する構成であってもよい。

例えば、第１変更手段が測定光束の照射位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成として、投光光学系と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成であってもよい。例えば、投光光学系の位置とは、投光光学系の光軸（例えば、光軸Ｌ１）の位置であってもよい。すなわち、例えば、第１変更手段が投光光学系の光軸の位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更することで、測定光束の照射位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成であってもよい。

例えば、投光光学系の位置（例えば、投光光学系の光軸の位置）と眼鏡フレームのリムの溝の位置との相対位置を変更する構成としては、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との少なくとも一方の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との少なくとも一方の位置を変更する構成としては、投光光学系の位置に対して、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との少なくとも一方の位置を変更する構成としては、眼鏡フレームのリムの溝の位置に対して、投光光学系の位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との少なくとも一方の位置を変更する構成としては、投光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝の位置との双方の位置を変更する構成であってもよい。

なお、例えば、投光光学系の位置を変更する構成としては、投光光学系に含まれる少なくともいずれかの部材（例えば、光源、光学部材、その他部材等）の位置を変更する構成であってもよい。すなわち、例えば、第１変更手段は、投光光学系の少なくとも一部（一部の部材）の位置を変更させることで、眼鏡フレームのリムの溝に対する投光光学系の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、制御手段は、第１変更手段を制御することによって、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させ、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光束の照射位置を変更するようにしてもよい。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、第１変更手段が投光光学系の少なくとも一部を移動させる第１変更手段であって、制御手段は、第１変更手段を制御することによって、眼鏡フレームのリムの溝に対して投光光学系の少なくとも一部を移動させ、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光束の照射位置を変更する。これによって、眼鏡フレームにおける任意のリムの溝の位置へ測定光束を照射することが可能となり、任意の位置におけるリムの溝の断面形状を取得することができる。

例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、投光光学系の少なくとも一部の位置をＸ方向に移動させるＸ方向駆動手段であってもよい。例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、投光光学系の少なくとも一部の位置をＹ方向に移動させるＹ方向駆動手段であってもよい。例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、投光光学系の少なくとも一部の位置をＺ方向に移動させるＺ方向駆動手段であってもよい。例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、投光光学系の少なくとも一部の位置を回転させる回転駆動手段（例えば、回転ユニット２６０）であってもよい。また、例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、Ｘ方向駆動手段、Ｙ方向駆動手段、Ｚ方向駆動手段、回転駆動手段、の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、上記駆動手段に限定されず、投光光学系の少なくとも一部の位置を上記方向とは異なる方向に駆動手段が用いられる構成であってもよい。

また、例えば、投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、光スキャナを有し、光スキャナを走査する走査手段であってもよい。この場合、例えば、光スキャナの角度が変更されることによって、測定光束の照射位置が変更されるようにしてもよい。すなわち、例えば、光スキャナの位置が変更されることによって、測定光束の照射位置が変更されるようにしてもよい。

例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、眼鏡フレームをＸ方向に移動させるＸ方向駆動手段であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、眼鏡フレームをＹ方向に移動させるＹ方向駆動手段であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、眼鏡フレームをＺ方向に移動させるＺ方向駆動手段であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、眼鏡フレームを回転させる回転駆動手段であってもよい。また、例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、Ｘ方向駆動手段、Ｙ方向駆動手段、Ｚ方向駆動手段、回転駆動手段、の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、上記駆動手段に限定されず、眼鏡フレームのリムの溝の位置を上記方向とは異なる方向に駆動手段が用いられる構成であってもよい。

例えば、変更手段は、受光光学系による反射光束の受光位置を変更する第２変更手段（例えば、移動ユニット２１０、回転ユニット２６０）を有していてもよい。例えば、第２変更手段は、制御手段によって制御される。これによって、例えば、リムの溝の断面形状を良好に取得することができる位置に受光位置を変更することができ、眼鏡フレームのリムの断面形状をより精度よく取得することができる。

例えば、第２変更手段は、受光光学系の位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更することで、受光光学系による反射光束の受光位置を変更する構成であってもよい。例えば、受光光学系の位置とは、受光光学系の光軸（例えば、光軸Ｌ２）の位置であってもよい。すなわち、例えば、第２変更手段が受光光学系の光軸の位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更することで、測定光束の照射位置と眼鏡フレームのリムの溝との相対位置を変更する構成であってもよい。

例えば、第２変更手段は、受光光学系の位置と、眼鏡フレームのリムの溝の位置と、の少なくとも一方の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、第２変更手段は、受光光学系の位置に対して、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更する構成であってもよい。すなわち、第２変更手段は、受光光学系の位置に対して、眼鏡フレームの位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、第２変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝の位置に対して、受光光学系の位置を変更する構成であってもよい。また、この場合、例えば、第２変更手段は、眼鏡フレームのリムの溝の位置と、受光光学系の位置と、の双方を変更する構成であってもよい。

なお、例えば、受光光学系の位置を変更する構成としては、受光光学系に含まれる少なくともいずれかの部材（例えば、検出器、光学部材、その他部材等）の位置を変更する構成であってもよい。すなわち、例えば、第２変更手段は、受光光学系の少なくとも一部（一部の部材）の位置を変更させることで、眼鏡フレームのリムの溝に対する受光光学系の位置を変更する構成であってもよい。この場合、例えば、制御手段は、第２変更手段を制御することによって、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させ、受光光学系による反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、受光光学系の少なくとも一部の位置をＸ方向に移動させるＸ方向駆動手段であってもよい。例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、受光光学系の少なくとも一部の位置をＹ方向に移動させるＹ方向駆動手段であってもよい。例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、受光光学系の少なくとも一部の位置をＺ方向に移動させるＺ方向駆動手段であってもよい。例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、駆動源（例えば、モータ）を有し、受光光学系の少なくとも一部の位置を回転させる回転駆動手段であってもよい。また、例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、Ｘ方向駆動手段、Ｙ方向駆動手段、Ｚ方向駆動手段、回転駆動手段、の少なくともいずれかであってもよい。もちろん、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、上記駆動手段に限定されず、受光光学系の少なくとも一部の位置を上記方向とは異なる方向に駆動手段が用いられる構成であってもよい。

また、例えば、受光光学系の少なくとも一部の位置を変更させる構成としては、光スキャナを有し、光スキャナを走査する走査手段であってもよい。この場合、例えば、光スキャナの角度が変更されることによって、受光光学系による反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。すなわち、例えば、光スキャナの位置が変更されることによって、受光光学系による反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

例えば、眼鏡フレームのリムの溝の位置を変更させる構成としては、上記で記載した第１変更手段の構成と同様の構成を用いることができる。

なお、例えば、第１変更手段と第２変更手段の制御は、それぞれ異なるタイミングで制御されるようにしてもよい。また、例えば、第１変更手段と第２変更手段の制御は、一体的に制御されるようにしてもよい。なお、例えば、第１変更手段の構成と第２変更手段の構成とは、少なくとも一部の部材が兼用されてもよい。

＜反射光束の受光位置変更＞
本実施形態において、例えば、制御手段は、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する。例えば、制御手段は、変更手段を制御して、検出器の検出面上で受光位置を変更するようにしてもよい。この場合、例えば、制御手段は、変更手段を制御して、検出器の検出面上において、上下方向と左右方向との少なくともいずれかの方向へ受光位置を変更するようにしてもよい。
例えば、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する構成として、検出器によって検出される反射光束を用いるようにしてもよい。この場合、例えば、制御手段は、検出器によって受光された反射光束に基づいて、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、例えば、受光された反射光束に基づく反射光束の受光位置を変更することができるため、より精度よくリムの反射光束が受光されるように変更を行うことができる。これによって、容易に良好な断面形状を取得することができる。

また、例えば、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する構成として、リムに押し当てられる測定子を用いて測定された測定結果を用いるようにしてもよい。この場合、例えば、眼鏡枠形状測定装置において、眼鏡フレームのリムに測定子を挿入し、測定子をリムに押し当てて移動させることで、リムの輪郭をトレースし、リムの形状を測定する測定光学系を設けてもよい。もちろん、眼鏡枠形状測定装置とは異なる装置に設けられた測定光学系を用いて、リムの形状を測定してもよい。この場合、異なる装置によって取得された測定結果を眼鏡枠形状測定装置が受信するようにしてもよい。例えば、制御手段は、測定光学系によって測定された測定結果から、眼鏡フレームいずれかの部位の位置を特定し、特定した位置に基づいて、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

また、例えば、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する構成として、予め設定されたリム情報を用いるようにしてもよい。この場合、例えば、制御手段は、予め設定されたリム情報に基づいて、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。例えば、制御手段は、予め設定されたリム情報からリムの位置を推定して、反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。例えば、予め設定されたリム情報とは、測定を行うリムの少なくとも一部に関する情報であればよい。この場合、例えば、予め設定されたリム情報とは、測定を行う眼鏡フレームの設計データ（リムの構造を示すデータ）、眼鏡フレームの玉型形状、眼鏡フレームのそり角度、眼鏡フレームの前傾角度等の少なくともいずれかであってもよい。

なお、例えば、リム情報は、眼鏡枠形状測定装置がリム情報を他の装置から受信することによって、取得してもよい。また、例えば、リム情報は、検者によって、リム情報が入力され、入力されたリム情報を眼鏡枠形状測定装置が受信することによって取得する構成であってもよい。この場合、例えば、検者によって、メモリに記憶されたリム情報の中から所望のリム情報が選択されて、リム情報が入力されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、検者によって、眼鏡枠形状測定装置に着脱可能なメモリが眼鏡枠形状測定装置に接続されることによって、メモリからリム情報が送信されて、リム情報が入力されるようにしてもよい。

例えば、反射光束に基づいて、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更する構成として、検出器にリムの溝の反射光束が受光されているか否かに基づいて反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。この場合、例えば、制御手段は、検出器にリムの溝の反射光束が受光されているか否かに基づいて、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

例えば、反射光束が受光されているか否かに基づいて変更手段の制御を行う構成として、制御手段は、所定の輝度レベルが検出されたか否かを検出することによって、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。すなわち、反射光束が検出器にて受光できている場合に、反射光束による所定の輝度レベルが検出されるため、所定の輝度レベルが検出されたか否かを検出することによって、検出器にリムの溝の反射光束が受光されているか否かを確認できる。なお、この場合、例えば、制御手段は、所定の輝度レベルが検出されていない場合に、所定の輝度レベルが検出されるように、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

また、例えば、反射光束が受光されているか否かに基づいて変更手段の制御を行う構成として、制御手段は、検出器によって受光された反射光の輝度レベルが許容レベル（例えば、所定の閾値）に到達していない場合に、輝度レベルが許容レベルを満たすように、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。この場合、例えば、検出器によって検出された検出器によって受光された反射光の輝度レベルが許容レベルを満たすか否かを判定する判定手段を設けるようにしてもよい。なお、例えば、上記の許容レベルは、予め設定された許容レベルであってもよい。例えば、予め、シミュレーションや実験等によって検出器にリムの溝の反射光束が受光されていると判定される許容レベルが設定されるようにしてもよい。

例えば、反射光束に基づいて、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更する構成として、反射光束の受光位置に基づいて反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。この場合、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、反射光束の受光位置を取得する位置取得手段（例えば、制御部５０）を備えていてもよい。例えば、制御手段は、位置取得手段によって取得された反射光束の受光位置に基づいて、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、例えば、受光位置に基づく反射光束の受光位置を変更することができるため、より容易に精度よく良好な断面形状を取得することができる。

例えば、反射光束の受光位置として、位置取得手段は、リムの少なくともいずれかの部位による反射光束の受光位置を用いるようにしてもよい。この場合、例えば、位置取得手段は、リムの少なくともいずれかの部位の反射光束の受光位置を取得する。例えば、制御手段は、位置取得手段によって取得されたリムの少なくともいずれかの部位の受光位置に基づいて、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更する。これによって、リムの特定の部位の反射光束に基づいて受光位置の変更を行うことができるため、より精度よくリムの反射光束が受光されるように変更を行うことができる。これによって、より容易に良好な断面形状を取得することができる。

例えば、リムの少なくともいずれかの部位は、リムの肩と、リムの溝と、リムの外部表面部分（リムの外形部）の少なくともいずれかであってもよい。この場合、例えば、位置取得手段は、リムの肩と、リムの溝と、リムの外部表面部分と、の少なくともいずれかの部分からの反射光束の受光位置を取得してもよい。例えば、制御手段は、位置取得手段によって取得されたリムの肩と、リムの溝と、リムの外部表面部分と、の少なくともいずれかの受光位置に基づいて、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更する。なお、例えば、リムの肩とは、リムの前面の肩とリムの後面の肩との少なくともいずれかであってもよい。例えば、リムの溝とは、リムの溝の斜面とリムの溝の底との少なくともいずれかであってもよい。なお、例えば、リムの溝の斜面とは、リムの溝の前斜面とリムの溝の後斜面とのいずれかであってもよい。

例えば、反射光束の受光位置は、反射光束の信号から検出するようにしてもよい。この場合、例えば、位置取得手段は、反射光束の信号から反射光束の受光位置を検出するようにしてもよい。例えば、制御手段は、反射光束の信号から検出された反射光束の受光位置に基づいて、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

また、例えば、反射光束の受光位置は、反射光束の信号から断面画像を取得して、断面画像から検出するようにしてもよい。この場合、例えば、取得手段は、検出器によって受光された反射光束に基づいて、断面形状として、眼鏡フレームのリムの溝の断面画像を取得してもよい。例えば、位置取得手段は、断面画像を解析して断面画像の位置を取得することで、反射光束の受光位置を取得してもよい。例えば、制御手段は、位置取得手段によって取得された断面画像の位置に基づいて、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、例えば、断面画像を用いた反射光束の受光位置を変更ができるため、反射光束の受光位置の特定がより容易となる。これによって、より容易に良好な断面形状を取得することができる。

例えば、制御手段が受光位置に基づいて変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更する構成として、制御手段は、変更手段を制御して、検出器の所定の位置にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、例えば、検出器の所定の位置に反射光束が受光されるため、任意の位置に反射光束を位置させることできるため、より良好に断面形状を取得しやすくすることができる。

例えば、所定の位置は、検出器の受光領域のいずれかの領域（例えば、検出器の受光領域における中心領域等）であってもよい。この場合、例えば、制御手段は、リムの溝の反射光束が受光領域内に受光されるように変更手段を制御する。また、例えば、所定の位置は、検出器の特定の位置（例えば、検出器の中心位置）であってもよい。

なお、例えば、断面画像の位置に基づいて、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更する場合、制御手段は、表示手段（例えば、ディスプレイ３）の表示画面上における断面画像の位置に基づいて変更手段を制御してもよい。例えば、表示手段の表示画面における断面画像の位置を取得し、断面画像が表示画面内に収まるように変更手段を制御してもよい。また、例えば、制御手段は、表示手段の表示画面上における断面画像の位置を取得し、断面画像が表示画面の特定の位置に配置されるように変更手段を制御してもよい。

例えば、所定の位置にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する構成としては、所定の位置と受光位置とのずれ情報を用いるようにしてもよい。この場合、例えば、制御手段は、所定の位置と受光位置とのずれ情報を取得し、ずれ情報に基づいて、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、ずれ情報に基づく受光位置の変更を行うことができるため、所定の位置にリムの反射光束を容易に精度よく受光させることができる。

例えば、所定の位置にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する構成としては、所定の位置と受光位置との座標位置が一致するように変更するようにしてもよい。この場合、例えば、制御手段は、所定の位置と受光位置座標位置が一致するように、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

なお、例えば、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する場合、反射光束の受光位置の変更は、測定の開始前に実施するようにしてもよい。また、例えば、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する場合、反射光束の受光位置の変更は、測定の開始後に実施するようにしてもよい。なお、反射光束の受光位置の変更は、眼鏡フレームにおける少なくとも１つ以上の測定位置において、実施されるようにしてもよい。この場合、例えば、眼鏡フレームの全周に亘って、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する処理が行われてもよい。一例として、制御手段は、リアルタイムに、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する処理を行ってもよい。また、この場合、例えば、一定のタイミングで、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する処理が行われてもよい。例えば、一定のタイミングとは、所定の動径角毎、経過時間毎、等のいずれかであってもよい。

例えば、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置の変更を測定の開始前に実施する場合、制御手段は、測定開始前に、反射光束の受光位置を変更するためのプレ測定を実施するようにしてもよい。例えば、取得手段は、制御手段によって変更手段が制御されて反射光束の受光位置が変更された後、検出器によって受光された反射光束に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得するようにしてもよい。

この場合、例えば、予め、眼鏡フレームにおける少なくとも１つ以上の測定位置において、測定光束を照射してその反射光束を受光するプレ測定を行うようにしてもよい。例えば、制御手段は、プレ測定において、検出器によって受光された反射光束に基づいて、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。また、この場合、例えば、予め、眼鏡フレームにおける少なくとも１つ以上の測定位置において、測定子をリムに押し当てて移動させることで、リムの輪郭をトレースし、リムの形状を測定するプレ測定を行うようにしてもよい。例えば、制御手段は、プレ測定において、測定されたリムの形状に基づいて、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。また、この場合、例えば、予め、眼鏡フレームにおける少なくとも１つ以上の測定位置において、眼鏡フレームの外形（外観）を測定するプレ測定を行うようにしてもよい。例えば、制御手段は、プレ測定において、眼鏡フレームを撮影し、撮影した眼鏡フレーム画像からリムの位置を検出する。例えば、制御手段は、検出されたリムの位置に基づいて、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

例えば、取得手段は、反射光束の受光位置が変更された後、測定を開始して、測定開始後に検出器によって受光された反射光束に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。なお、プレ測定においては、本測定と同様の測定位置（ポイント数）で測定を行うようにしてもよい。この場合、例えば、制御手段は、プレ測定の結果から、予め、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない測定位置を検出し、本測定時において、少なくとも、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない測定位置においては、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。一例として、例えば、制御手段は、プレ測定の結果から、予め、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない測定位置を検出し、本測定時において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない測定位置においては、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。また、一例として、例えば、制御手段は、プレ測定の結果から、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されているとされた測定位置においても、本測定時において、検出器にリムの溝の反射光束がより良好に受光されるように、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

また、例えば、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置の変更を測定開始後に実施する場合、制御手段は、眼鏡フレームの測定を開始した後、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。この場合、例えば、制御手段は、眼鏡フレームの測定（本測定）を開始した後、測定によって取得された反射光束に基づいて、反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

例えば、制御手段は、本測定中に、反射光束の受光位置の変更を行う場合に、少なくとも１つ以上の測定位置において、検出器によって受光された反射光束に基づいて、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。この場合、例えば、検出器によって受光された反射光束に基づいて、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない測定位置における反射光束の受光位置を変更するようにしてもよいし、本測定の全測定位置において反射光束の受光位置を変更する制御を行うようにしてもよい。

一例として、例えば、制御手段は、本測定時において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない測定位置においては、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。また、一例として、例えば、制御手段は、本測定において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されているとされた測定位置においても、検出器にリムの溝の反射光束がより良好に受光されるように、変更手段を制御して反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。

なお、例えば、本測定中において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない測定位置として検出された測定位置においては、受光位置を変更した後、再度、測定を行い、受光位置の変更前の測定結果を受光位置の変更後の測定結果に置き換えるようにしてもよい。この場合、例えば、本測定中において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない測定位置として検出された測定位置において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されるように受光位置を変更した後、再測定を完了したら、次の測定位置への測定に移行するようにしてもよい。つまり、制御手段は、リアルタイムで、少なくとも１つ以上の測定位置において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されるように受光位置を変更しながら、本測定を行う構成としてもよい。すなわち、例えば、制御手段は、眼鏡フレームの測定中において、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の前記反射光束が受光されるように反射光束の受光位置をリアルタイムに変更するようにしてもよい。また、この場合、例えば、制御手段は、本測定が完了した後、本測定中において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない測定位置として検出された測定位置において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されるように受光位置を変更した後、再測定を行うにしてもよい。

なお、制御手段が、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するタイミングとしては、上記タイミングに限定されない。例えば、上記と異なるタイミングで反射光束の受光位置を変更する制御を行うようにしてもよい。一例として、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する場合、制御手段は、測定を開始する前及び測定を開始した後の双方で、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する制御を行うようにしてもよい。

＜眼鏡フレームの形状取得＞
例えば、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの形状（形状データ）を取得するようにしてもよい。この場合、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、解析手段（例えば、制御部５０）を備えてもよい。例えば、制御手段は、第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光束を照射してもよい。例えば、取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得してもよい。例えば、解析手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームの形状を取得するようにしてもよい。

例えば、眼鏡フレームの形状は、二次元形状（二次元形状データ）であってもよい。例えば、二次元形状は、眼鏡フレームの動径方向（ＸＹ方向）のデータで表したものである。また、例えば、眼鏡フレームの形状は、三次元形状（三次元形状データ）であってもよい。例えば、三次元形状は、眼鏡フレームの動径方向（ＸＹ方向）及び動径方向に垂直な方向（Ｚ方向）のデータで表したものである。なお、例えば、二次元形状を取得する場合、解析手段は、三次元形状からＸＹ方向のリムの溝の位置を検出して二次元形状を取得するようにしてもよい。この場合、例えば、二次元形状は、三次元形状をＸＹ平面に投影することによって取得してもよい。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、制御手段が第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光束を照射する。取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得する。眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームの形状を取得する解析手段を備える。これによって、従来のように、眼鏡フレームによっては、測定子がレンズ枠の溝から外れてしまい測定できないことを抑制することができ、種々の形状の眼鏡フレームに対して、容易に精度よく眼鏡フレームの形状を取得することできる。

例えば、眼鏡フレームの形状は、眼鏡フレームのリムの全周（各動径角においてリムが形成されているすべての部分）の内、少なくとも一部の領域で取得されるようにしてもよい。この場合、例えば、眼鏡フレームの形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、眼鏡フレームの形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、複数の領域（例えば、眼鏡フレームの左端領域、右端領域、上端領域、下端領域等）で取得されるようにしてもよい。また、この場合、例えば、眼鏡フレームの形状は、眼鏡フレームのリムの全周において、一部分の領域で取得されるようにしてもよい。なお、眼鏡フレームのリムの全周に対して眼鏡フレームの形状を取得していない場合で、眼鏡フレームのリムの全周の眼鏡フレームの形状を取得したい場合には、眼鏡フレームの形状を取得した部分の形状に基づいて、補間をすることによって、眼鏡フレームのリムの全周の形状を取得するようにしてもよい。

＜三次元断面形状取得＞
例えば、眼鏡枠形状測定装置は、三次元断面形状を取得してもよい。例えば、制御手段は、第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光束を照射する。例えば、取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得することによって、三次元断面形状を取得するようにしてもよい。

例えば、本実施形態において、眼鏡枠形状測定装置は、制御手段が第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光束を照射する。取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得し、三次元断面形状を取得する。これによって、容易に精度よく眼鏡フレームの三次元断面形状を取得することできる。

なお、例えば、本開示の眼鏡枠形状測定装置は、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更した際の変更情報に基づいて、三次元断面形状を取得するようにしてもよい。この場合、例えば、取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得し、複数の動径角におけるリムの溝の断面形状を取得する際の制御手段によって制御された変更手段の変更情報に基づいて、断面形状を位置合わせしてリムの溝の三次元断面形状を取得するようにしてもよい。これによって、例えば、変更情報から断面形状を取得した際の測定条件を確認することができるため、複数の動径角におけるリムの断面形状間での位置合わせを容易に行うことができる。これによって、良好な三次元形状を取得することができる。

例えば、変更情報は、投光光学系と受光光学系との少なくとも一方と、動径角と、受光位置と等の情報であってもよい。すなわち、例えば、変更情報は、反射光束の受光位置の変更に関連する情報であればよい。例えば、投光光学系の情報としては、光源の位置情報であってもよい。また、例えば、受光光学系の情報としては、検出器の位置情報であってもよい。

なお、例えば、本開示の眼鏡枠形状測定装置は、取得手段と、制御手段と、位置取得手段と、の少なくともいずれかが兼用される構成であってもよい。また、例えば、取得手段と、制御手段と、位置取得手段と、が別途それぞれ設けられる構成であってもよい。

＜レンズ加工＞
例えば、眼鏡枠形状測定装置によって取得された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状をレンズの加工に用いてもよい。例えば、レンズの周縁を加工するレンズ加工装置（例えば、レンズ加工装置３００）は、眼鏡枠形状測定装置によって取得された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。

例えば、眼鏡枠形状測定装置は、送信手段を有し、送信手段によって、レンズ加工装置に向けて眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を送信するようにしてもよい。この場合、例えば、レンズ加工装置は、受信手段を有し、眼鏡枠形状測定装置から送信された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を受信するようにしてもよい。

なお、例えば、レンズ加工装置に眼鏡枠形状測定装置が備えられた構成であってもよい。また、例えば、レンズ加工装置と眼鏡枠形状測定装置とが別途それぞれ別装置であってもよい。この場合には、有線と無線との少なくともいずれかによって、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状が眼鏡枠形状測定装置からレンズ加工装置に送信されるようにしてもよい。

例えば、レンズ加工装置は、加工制御手段（例えば、制御部３１０）を備えてもよい。例えば、加工制御手段は、眼鏡枠形状測定装置によって取得された眼鏡フレームのリムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工してもよい。例えば、加工制御手段は、レンズを保持するレンズ保持手段及び加工具を制御して、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工してもよい。

例えば、本実施形態において、レンズ加工装置は、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工する加工制御手段を備える。これによって、眼鏡フレームに加工後のレンズを良好に枠入れする際に、リムの溝の形状と加工後のレンズの輪郭形状が近い形状となるため、枠入れを良好に行うことができる。

＜実施例＞
本開示の典型的な実施例の１つについて、図面を参照して説明する。図１は、眼鏡枠形状測定装置の外観略図である。例えば、図２は、眼鏡フレームが保持された状態のフレーム保持ユニットの上面図である。例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置１は、フレーム保持ユニット１０と、測定ユニット２０と、を備える。例えば、フレーム保持ユニット１０は、眼鏡フレームＦを所期する状態に保持する。例えば、測定ユニット２０は、フレーム保持ユニット１０に保持された眼鏡フレームＦのリム(例えば、左側リムＦＬ、右側リムＦＲｓ)の溝に向けて測定光束を照射し、その反射光束を受光することにより、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状を取得するために用いられる。例えば、測定ユニット２０はフレーム保持ユニット１０の下に配置されている。

例えば、眼鏡枠形状測定装置１の筐体の前側には測定開始用のスイッチ等を持つスイッチ部４が配置されている。例えば、眼鏡枠形状測定装置１の筐体の後側には、タッチパネル式のディスプレイ３が配置されている。例えば、レンズの周縁加工に際し、パネル部３により玉型データに対するレンズのレイアウトデータ、レンズの加工条件等が入力される。例えば、眼鏡枠形状測定装置１で得られた取得結果（リムの溝の断面形状、眼鏡フレーム形状等）及びディスプレイ３で入力されたデータは、レンズ加工装置に送信される。なお、眼鏡枠形状測定装置１は、特開２０００－３１４６１７号公報等と同じく、レンズ加工装置に組み込まれる構成としてもよい。

＜フレーム保持ユニット＞
例えば、フレーム保持ユニット１０の下側には、測定ユニット２０が備えられている。例えば、保持部ベース１０１上には眼鏡フレームＦを水平に保持するための前スライダー１０２と後スライダー１０３が載置されている。なお、例えば、水平とは略水平であってもよい。例えば、前スライダー１０２と後スライダー１０３は、その中心線ＣＬを中心に２つのレール１１１上を対向して摺動可能に配置されていると共に、バネ１１３により常に両者の中心線ＣＬに向かう方向に引っ張られている。

例えば、前スライダー１０２には、眼鏡フレームＦのリムをその厚み方向からクランプするためのクランプピン１３０ａ，１３０ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。例えば、後スライダー１０３には眼鏡フレームＦのリムをその厚み方向からクランプするためのクランプピン１３１ａ，１３１ｂがそれぞれ２箇所に配置されている。また、例えば、型板を測定するときは、前スライダー１０２及び後スライダー１０３が開放され、周知の型板保持治具が所定の取付け位置１４０に配置されて使用される。このフレーム保持ユニット１０の構成は、例えば、特開２０００－３１４６１７号公報等に記載された周知のものが使用できる。

例えば、眼鏡フレームＦは、眼鏡装用時のリムの下側が前スライダー１０２側に位置され、リムの上側が後スライダー１０３側に位置される。例えば、左右のリムのそれぞれの下側及び上側に位置するクランプピンにより、眼鏡フレームＦは所定の測定状態に保持される。

なお、本実施例においては、リムの前後方向の位置を規制する構成として、上記クランプピン１３０ａ，１３０ｂ及びクランプピン１３１ａ，１３１ｂの構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。周知の機構が使用されても良い。例えば、左右リムの前後方向を固定する機構としては、Ｖ字状の溝を持つ当接部材（規制部材）を左右リム用にそれぞれ設ける構成でも良い。

＜測定ユニット＞
以下、測定ユニット２０の構成について説明する。例えば、測定ユニット２０は、眼鏡フレーム測定光学系３０を備える。例えば、眼鏡フレーム測定光学系３０は、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、で構成される。例えば、投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂは、眼鏡フレームの形状及び眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得するために用いられる（詳細は後述する）。

例えば、測定ユニット２０は、投光光学系３０ａと受光光学系３０ｂとを保持する保持ユニット２５を備える。例えば、測定ユニット２０は、保持ユニット２５をＸＹＺ方向に移動させる移動ユニット２１０を備える（例えば、図３～図５参照）。また、例えば、測定ユニット２０は、回転軸Ｌ０を中心として保持ユニット２５を回転させる回転ユニット２６０を備える（例えば、図６参照）。なお、例えば、本実施例において、ＸＹ方向はフレーム保持ユニット１０により保持される眼鏡フレームＦの測定平面（リムの動径方向）と平行であり、Ｚ方向は測定平面に垂直な方向である。

＜移動ユニット＞
以下、移動ユニット２１０について説明する。例えば、図３～図５は、移動ユニット２１０の構成を説明する図である。例えば、図３は、移動ユニット２１０を上方から見た斜視図を示している。例えば、図４は、移動ユニット２１０の下方から見た斜視図を示している。例えば、図５は、Ｚ移動ユニット２２０とＹ移動ユニット２３０の上面斜視図（Ｘ移動ユニット２４０とベース部２１１を取り外した状態の斜視図）を示している。

例えば、移動ユニット２１０は、大別して、Ｚ移動ユニット（Ｚ方向駆動手段）２２０と、Ｙ移動ユニット（Ｙ方向駆動手段）２３０と、Ｘ移動ユニット（Ｘ方向駆動手段）２４０と、を備える。例えば、Ｚ移動ユニット（Ｚ方向駆動手段）２２０は、保持ユニット２５をＺ方向に移動させる。例えば、Ｙ移動ユニット２３０は、保持ユニット２５及びＺ移動ユニット２２０を保持し、Ｙ方向へ移動させる。例えば、Ｘ移動ユニット２４０は、保持ユニット２５をＺ移動ユニット２２０及びＹ移動ユニット２３０と共にＸ方向に移動させる。

例えば、Ｘ移動ユニット２４０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｘ移動ユニット２４０は、水平方向（ＸＹ方向）に伸展した方形状の枠を持つベース部２１１の下方に、Ｘ方向に延びるガイドレール２４１を備える。例えば、Ｙ移動ユニット２３０のＹベース２３０ａが、ガイドレール２４１に沿って、Ｘ方向に移動可能に取り付けられている。例えば、ベース部２１１には、モータ（駆動源）２４５が取り付けられている。例えば、モータ２４５の回転軸には、Ｘ方向に延びる送りネジ２４２が取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａに固定されたナット部２４６が送りネジ２４２に螺合されている。これにより、モータ２４５が回転されると、Ｙベース２３０ａがＸ方向に移動される。なお、例えば、Ｘ移動ユニット２４０のＸ方向の移動範囲は、眼鏡フレームの左右のレンズ枠を測定可能にするために、保持ユニット２５が搭載されるＹベース２３０ａを眼鏡フレームの左右幅以上に移動可能な長さを持つようにしてもよい。

例えば、Ｙ移動ユニット２３０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｙベース２３０ａには、Ｙ方向に延びるガイドレール２３１が取り付けられている。例えば、Ｚベース２２０ａは、ガイドレール２３１に沿ってＹ方向に移動可能に取り付けられている。例えば、Ｙベース２３０ａにはＹ移動用のモータ（駆動源）２３５とＹ方向に延びる送りネジ２３２が回転可能に取り付けられている。例えば、モータ２３５の回転は、ギヤ等の回転伝達機構を介して送りネジ２３２に伝達される。例えば、送りネジ２３２には、Ｚベース２２０ａに取り付けられたナット２２７が螺合されている。これらの構成により、モータ２３５が回転されると、Ｚベース２２０ａがＹ方向に移動される。

例えば、Ｘ移動ユニット２４０及びＹ移動ユニット２３０によりＸＹ移動ユニットが構成される。例えば、保持ユニット２５をＸＹ方向に移動させる範囲は、測定可能なリムの動径よりも大きくされている。また、例えば、保持ユニット２５のＸＹ方向の移動位置は、後述する制御部５０によりモータ２４５及び２３５が駆動されるパルス数によって検知され、保持ユニット２５のＸＹ方向の位置を検知する第１のＸＹ位置検知ユニットがモータ２４５，２３５及び制御部５０により構成される。例えば、保持ユニット２５のＸＹ位置検知ユニットとしては、モータ２４５及び２３５のパルス制御で検知する他、モータ２４５及び２３５のそれぞれの回転軸に取り付けられたエンコーダ等のセンサを使用する構成でも良い。

例えば、Ｚ移動ユニット２２０は、概略的に次のように構成されている。例えば、Ｚベース２２０ａにはＺ方向に延びるガイドレール２２１が形成され、このガイドレール２２１に沿って保持ユニット２５が取り付けられた移動ベース２５０ａがＺ方向に移動可能に保持されている。例えば、Ｚベース２２０ａには、Ｚ移動用のパルスモータ２２５が取り付けられていると共に、Ｚ方向に延びる送りネジ（図示を略す）が回転可能に取り付けられている。例えば、保持ユニット２５のベース２５０ａに取り付けられたナットに螺合されている。例えば、モータ２２５の回転はギヤ等の回転伝達機構を介して送りネジ２２２に伝達され、送りネジ２２２の回転により保持ユニット２５がＺ方向に移動される。保持ユニット２５のＺ方向の移動位置は、後述する制御部５０によってモータ２２５が駆動されるパルス数により検知され、保持ユニット２５のＺ方向の位置を検知するＺ位置検知ユニットがモータ２２５及び制御部５０により構成される。例えば、保持ユニット２５のＺ位置検知ユニットとしては、モータ２２５のパルス制御で検知する他、モータ２２５の回転軸に取り付けられたエンコーダ等のセンサを使用する構成でも良い。

なお、以上のようなＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向の各移動機構は、実施例に限られず、周知の機構が採用できる。例えば、保持ユニット２５を直線移動させる代わりに、回転ベースの中心に対して円弧起動で移動させる構成としても良い（例えば、特開２００６－３５０２６４号公報等参照）。

＜回転ユニット＞
次いで、回転ユニット２６０について説明する。例えば、図６は、回転ユニット２６０について説明する図である。

例えば、保持ユニット２５には、開口部２６が設けられている。例えば、開口部２６は、投光光学系３０ａからの測定光束を通過させるとともに、眼鏡フレームＦで反射された反射光束を通過させる。例えば、開口部２６には開口部２６を覆うような透明パネルが設けられていてもよい。例えば、開口部２６は、投光光学系３０ａのから照射される測定光束を保持ユニット２５の内部から外部に向けて出射する。すなわち、投光光学系３０ａからの測定光束は、開口部２６を通過して眼鏡フレームＦのリムの溝に向けて照射される。例えば、開口部２６は、眼鏡フレームＦのリムの溝によって反射された反射光束を保持ユニット２５の外部から保持ユニット２５の内部の受光光学系３０ｂに向けて通過させる。すなわち、眼鏡フレームＦのリムの溝によって反射された反射光束は、開口部２６を通過して受光光学系３０ｂに受光される。

例えば、回転ユニット２６０は、Ｚ方向に延びる回転軸ＬＯを中心に保持ユニット２５を回転させることで、開口部２６が向くＸＹ方向を変更する。例えば、回転ユニット２６０は、回転ベース２６１を備える。例えば、保持ユニット２５は回転ベース２６１に取り付けられている。例えば、回転ベース２６１は、Ｚ方向に延びる回転軸ＬＯを中心にして回転可能に保持されている。例えば、回転ベース２６１の下部の外周には、大径ギア２６２が形成されている。例えば、回転ユニット２６０は、取り付け板２５２を有する。例えば、取り付け板２５２には、モータ（駆動源）２６５が取り付けられている。例えば、モータ２６５の回転軸にピニオンギア２６６が固定され、ピニオンギア２６６の回転は、取り付け板２５２に回転可能に設けられたギア２６３を介して、大径ギア２６２に伝達される。したがって、モータ２６５の回転により、回転ベース２６１が回転軸ＬＯの軸回りに回転される。例えば、モータ２６５の回転は、モータ２６５に一体的に取り付けられたエンコーダ（センサ）２６５ａにより検出され、エンコーダ２６５ａの出力から回転ベース２６１（すなわち、保持ユニット２５）の回転角が検知される。回転ベース２６１の回転の原点位置は、図示を略す原点位置センサにより検知される。なお、以上のような回転ユニット２６０の各移動機構は、実施例に限られず、周知の機構が採用できる。

なお、本実施例において、回転ユニット２６０の回転軸ＬＯは、後述する投光光学系３０ａの光源３１を通る軸として設定されている。すなわち、回転ユニット２６０は、投光光学系３０ａの光源３１を中心として、回転する。もちろん、回転ユニット２６０の回転軸は、異なる位置を回転軸としてもよい。例えば、回転ユニット２６０の回転軸ＬＯを後述する受光光学系３０ｂの検出器３７を通る軸に設定してもよい。

＜眼鏡フレーム測定光学系＞
次いで、保持ユニット２５に保持された眼鏡フレーム測定光学系３０について説明する。例えば、図７は、眼鏡フレーム測定光学系３０について示す概略構成図である。例えば、眼鏡フレーム測定光学系３０は、眼鏡フレームＦを取得するために用いられる。例えば、本実施例において、眼鏡フレーム測定光学系３０は、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状を取得するために用いられる。また、例えば、本実施例において、眼鏡フレーム測定光学系３０は、眼鏡フレームＦの形状を測定するために用いられる。

例えば、本実施例において、眼鏡フレーム測定光学系３０は、保持ユニット２５の内部に配置される。例えば、眼鏡フレーム測定光学系３０は、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、によって構成されている。例えば、投光光学系３０ａは、光源を有し、眼鏡フレームＦのリムの溝に向けて光源から測定光束を照射する。例えば、受光光学系３０ｂは、検出器を有し、投光光学系３０ａによって眼鏡フレームＦのリムの溝に向けて照射され、眼鏡フレームＦのリムの溝によって反射された測定光束の反射光束を検出器によって受光する．
例えば、本実施例において、眼鏡フレーム測定光学系３０は、シャインプルークの原理に基づいて眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状を取得する構成となっている。例えば、投光光学系３０ａは、眼鏡フレームのリムの溝にスリット光を照射する。例えば、受光光学系３０ｂは、スリット光が照射される光軸Ｌ１に対して傾斜した光軸Ｌ２を持ち、シャインプルークの原理に基づいて配置されたレンズと検出器を備える。もちろん、眼鏡フレーム測定光学系３０は、シャインプルークの原理に基づく光学系ではなく、異なる構成の光学系が用いられてもよい。眼鏡フレーム測定光学系３０は、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状が取得される光学系であればよい。

なお、実施例においては、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、が一体的に移動する構成を例に挙げて説明しているがこれに限定されない。例えば、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０、及び回転ユニット２６０の少なくともいずれか１つの駆動手段において、投光光学系３０ａと、受光光学系３０ｂと、が別途それぞれ移動される構成であってもよい。

＜投光光学系＞
例えば、投光光学系３０ａは、光源３１と、レンズ３２と、スリット板３３と、を備える。例えば、光源３１より出射された測定光束は、レンズ３２によって集光してスリット板３３を照明する。例えば、スリット板３３を照明した測定光束は、スリット板３３により細いスリット状に制限された測定光束となり眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される。すなわち、例えば、スリット光が眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される。これにより、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡは、スリット光により光切断された形で照明される。

＜受光光学系＞
例えば、受光光学系３０ｂは、レンズ３６と、検出器（例えば、受光素子）３７と、を備える。例えば、受光光学系３０ｂは、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに対して、斜め方向から断面形状を取得する構成となっている。例えば、受光光学系３０ｂは、シャインプルークの原理に基づいて眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡの断面形状を取得する構成となっている。

例えば、レンズ３６は、リムの溝ＦＡでの反射により取得されるリムの溝ＦＡの反射光束（例えば、リムの溝ＦＡの散乱光、リムの溝ＦＡの正反射光等）を検出器３７に導く。例えば、検出器３７は、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡと略共役な位置に配置された受光面を持っている。例えば、受光光学系３０ｂは、投光光学系３０ａの投光光軸Ｌ１に対して傾斜した撮像光軸Ｌ２を持ち、シャインプルークの原理に基づいて配置されたレンズ３６と検出器３７を持っている。受光光学系３０ｂは、その光軸（撮像光軸）Ｌ２が投光光学系３０ａの光軸Ｌ１と所定の角度で交わるように配置されている。例えば、投光光学系３０ａによって眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡに照射される光断面と、眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡを含むレンズ系（眼鏡フレームＦのリムの溝ＦＡ及びレンズ３６）と検出器３７の受光面（受光位置）とがシャインプルークの関係にて配置されている。

＜制御手段＞
図８は、眼鏡枠形状測定装置１に関する制御ブロック図である。制御部５０には、不揮発性メモリ（記憶手段）５２、ディスプレイ３、スイッチ部４等が接続されている。

例えば、制御部５０は、ＣＰＵ（プロセッサ）、ＲＡＭ、ＲＯＭ等を備える。制御部５０のＣＰＵは、各部（例えば、光源３１、検出器３７、エンコーダ２６５ａ）及び各ユニットの駆動手段（例えば、フレーム保持ユニット１０の駆動源、各モータ２２５、２３５、２４５、２６５）等、装置全体の制御を司る。また、例えば、制御部５０は、各種演算（例えば、各センサからの出力信号等に基づいて眼鏡フレームの形状の演算等）を行う演算手段（解析手段）として機能する。ＲＡＭは、各種情報を一時的に記憶する。制御部５０のＲＯＭには、装置全体の動作を制御するための各種プログラム、初期値等が記憶されている。なお、制御部５０は、複数の制御部（つまり、複数のプロセッサ）によって構成されてもよい。不揮発性メモリ（記憶手段）５２は、電源の供給が遮断されても記憶内容を保持できる非一過性の記憶媒体である。例えば、ハードディスクドライブ、フラッシュＲＯＭ、眼鏡枠形状測定装置１に着脱可能に装着されるＵＳＢメモリ等を不揮発性メモリ（メモリ）５２として使用することができる。

例えば、制御部５０は、レンズの周縁を加工するレンズ加工装置３００と接続されている。例えば、眼鏡枠形状測定装置１によって取得された各種データがレンズ加工装置３００の制御部３１０に送信される。レンズ加工装置３００の制御部３１０は、受信した各種データに基づいてレンズ加工装置３００の各部及び各ユニットの駆動手段を制御して、レンズの加工を行う。もちろん、レンズ加工装置３００と眼鏡枠形状測定装置１は、一体的に構成された装置であってもよい。

例えば、本実施例において、ディスプレイ３は、タッチパネル式のディスプレイが用いられる。すなわち、本実施例において、ディスプレイ３がタッチパネルであるため、ディスプレイ３が操作部（操作ユニット）として機能する。この場合、制御部５０はディスプレイ３が持つタッチパネル機能により入力信号を受け、ディスプレイ３の図形及び情報の表示等を制御する。もちろん、眼鏡枠形状測定装置１に、別途、操作部が設けられる構成としてもよい。この場合、例えば、操作部には、例えば、マウス、ジョイスティック、キーボード、タッチパネル等の少なくともいずれかを用いればよい。もちろん、ディスプレイ６０と、操作部と、の双方が用いられ、眼鏡枠形状測定装置１が操作される構成としてもよい。なお、本実施例においては、ディスプレイ６０が操作部として機能するとともに、別途、スイッチ部（操作部）４が備えられた構成を例に挙げて説明する。

＜制御動作＞
以上のような構成を持つ装置の動作を説明する。例えば、操作者は、フレーム保持ユニット１０に眼鏡フレームＦを保持させる。例えば、操作者は、眼鏡フレームＦの左右リムＦＬ，ＦＲが下方向、眼鏡フレームＦの左右のテンプルＦＴＬ，ＦＴＲが上方向となるように、フレーム保持ユニット１０に眼鏡フレームＦを保持させる。

例えば、フレーム保持ユニット１０に眼鏡フレームＦが保持されると、操作者は、スイッチ部４を操作して、測定を開始させる。例えば、測定開始のトリガ信号が出力されると、制御部５０は、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０、及び回転ユニット２６０の少なくともいずれかを駆動することによって、保持ユニット２５（投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂ）を移動させて眼鏡フレームＦのリムの測定を開始する。例えば、本実施例において、リムの測定は、右リムＦＲから測定が開始される。もちろん。左リムＦＬから測定が開始される構成であってもよい。

例えば、制御部５０は、保持ユニット２５を移動させることによって、眼鏡フレーム測定光学系３０（投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂ）を眼鏡フレームのリム輪郭を測定していくことによって、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状を取得する。なお、本実施例においては、投光光学系３０ａ及び受光光学系３０ｂは、シャインプルークの関係を維持した状態で、眼鏡フレームＦに対して移動される。すなわち、眼鏡フレームＦのリムの溝に対して、眼鏡フレーム測定光学系３０が一定の位置関係となるように移動させることで、眼鏡フレームＦのリムの溝の断面形状が取得できる。

例えば、測定開始のトリガ信号が出力されると、制御部５０は、移動ユニット２１０（Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれか）、及び回転ユニット２６０の駆動を制御し、退避位置に置かれていた保持ユニット２５を測定開始の初期位置まで移動させる。なお、例えば、測定開始の初期位置は、保持ユニット２５が右リムＦＲの下端側のクランプピン１３０ａ，１３０ｂと、クランプピン１３１ａ，１３１ｂと、の中央位置に設定されている。もちろん、測定開始の初期位置は、任意の位置に設定することができる。

例えば、保持ユニット２５が測定開始の初期位置まで移動されると、制御部５０は、光源３１を点灯する。そして、光源３１の点灯とともに、制御部５０は、眼鏡フレームＦの所定の位置のリムの溝に測定光束を照射するために、移動ユニット２１０、及び回転ユニット２６０の少なくともいずれかの駆動を制御する。

例えば、本実施例において、リムの溝の断面形状を取得する位置を設定する場合に、制御部５０は、回転ユニット２６０を制御し、取得位置を設定する。図９は、回転ユニット２６０を制御して、異なる動径角にてリムの断面形状を取得する場合について説明する図である。図９Ａと図９Ｂは、異なる動径角にてリムの断面形状を取得している。
例えば、制御部５０は、回転ユニット２６０を制御して、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１をＸＹ平面上で回転させて、投光光学系３０ａの光軸Ｌ１をリムの周方向に移動させる。すなわち、制御部５０は、Ｘ回転ユニット２６０を制御して、リムの溝の断面形状を取得する動径角を変更する。例えば、回転ユニット２６０が制御されることによって、投光光学系３０ａの照射位置Ｔ１が投光光学系３０ａの照射位置Ｔ２へと変更される。

例えば、本実施例において、リムの溝の断面形状を取得する位置が設定され、リムの溝に対する測定光束の照射位置を変更する場合、移動ユニット２１０（Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれか）を制御して、リムの溝に測定光束が照射されるように測定光束の照射位置を変更する。

なお、本実施例において、リムの溝の断面形状を取得する位置の設定と、リムの溝に対する測定光束の照射位置の変更とは、同時に実施されるようにしてもよい。また、例えば、リムの溝の断面形状を取得する位置の設定は、回転ユニット２６０のみならず、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれかが用いられるようにしてもよい。また、リムの溝の断面形状を取得する位置の設定は、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれかで行われるようにしてもよい。また、例えば、リムの溝に対する測定光束の照射位置の変更は、Ｘ移動ユニット２４０、Ｙ移動ユニット２３０、Ｚ移動ユニット２２０の少なくともいずれかのみならず、回転ユニット２６０も用いられる構成としてもよい。また、例えば、リムの溝に対する測定光束の照射位置の変更は、回転ユニット２６０のみが用いられる構成としてもよい。

例えば、光源３１の点灯により、眼鏡フレームＦのリムの溝はスリット光により光切断される。スリット光で光切断された眼鏡フレームＦのリムの溝からの反射光束は受光光学系３０ｂに向かい、検出器３７により受光される。例えば、制御部５０は、検出器３７によって受光された反射光束に基づいて、眼鏡フレームのリムの溝の二次元断面形状を取得する。なお、本実施例においては、断面形状として、断面画像を取得する。もちろん、断面形状は、信号として取得される構成であってもよい。

ここで、眼鏡フレームＦの形状によっては、検出器３７にリムの溝の反射光束が良好に受光されず、リムの溝の断面形状（本実施例では、断面画像）を良好に取得することが困難となる場合がある。例えば、眼鏡フレームＦのリムの溝に測定光束が照射されていない場合には、断面形状を取得することが困難となる。また、例えば、眼鏡フレームＦのリムの溝による測定光束の反射光束を受光する位置が良好でない場合には、断面形状を取得することが困難となる。

このため、制御部５０は、検出器３７にリムの溝の反射光束が良好に受光されていない場合に、検出器３７にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する。以下、検出器３７にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するための制御について説明する。なお、検出器３７にリムの溝の反射光束が良好に受光されない状態の例としては、リムの溝の断面画像が表示されていない状態、リムの溝の断面画像の一部のみが表示されている状態、リムの溝の断面画像が表示されているが設定した所定の位置に表示されていない状態等が挙げられる。

例えば、検出器３７にリムの溝の反射光束が良好に受光されない状態として、リムの断面画像が深さ方向（図１３の紙面上における上下方向）と左右方向（図１３の紙面上における左右方向）との少なくともいずれかの方向において良好に表示されない場合が挙げられる。なお、本実施例においては、断面画像が深さ方向に良好に表示されていない場合を例に挙げて説明する。

例えば、図１０は、検出器３７にリムの溝の反射光束が受光できていない状態を示す図である。例えば、図１１は、検出器３７にリムの溝の反射光束が受光できている状態を示す図である。

例えば、図１０において、投光光学系３０ａの照射位置Ｔ３がリムの溝に位置していない。このため、眼鏡フレームＦのリムの溝からの反射光束を受光することができない。例えば、反射光束を受光できていない状態で、制御部５０が断面画像を取得した場合に、取得結果を示す画像４０上には、断面画像が表示されない。一方、図１１において、投光光学系３０ａの照射位置Ｔ４がリムの溝に位置している。また、検出器３７が、眼鏡フレームＦのリムの溝からの反射光束を受光することできる位置に位置している。例えば、反射光束を受光できた状態で、制御部５０が断面画像を取得した場合に、取得結果を示す画像４０上には、断面画像４１が表示される。

例えば、本実施例において、測定開始のトリガ信号が出力されると、制御部５０は、保持ユニット２５を測定開始の初期位置まで移動させる。例えば、保持ユニット２５が初期位置に移動された後、制御部５０は、光源３１を点灯する。このとき、図１０に示されるように、断面画像４１が表示されていない場合、制御部５０は、移動ユニット２１０を制御する。例えば、制御部５０は、取得された画像４０を解析し、断面画像４１が検出できなかった場合に、断面画像４１が検出されるように、移動ユニット２１０を制御する。これによって、図１１に示すように、例えば、画像４０上に断面画像４１が表示される。

例えば、制御部５０は、輝度値の変化を検出することによって、断面画像を検出することができる。例えば、断面画像４１が取得されている場合には、一定の輝度値が検出される。すなわち、反射光束が検出器によって検出できるため、輝度値が上昇する。図１２は、輝度値の検出について説明する図である。例えば、制御部５０は、取得された断面画像４１に対して、走査線Ｓ１、走査線Ｓ２、走査線Ｓ３、・・・走査線Ｓｎの順に輝度値の検出を行い、輝度分布を得る。すなわち、制御部５０は、輝度値を検出することによって、画像４０上からリムの断面画像４１を抽出することができる。

なお、例えば、制御部５０は、リムの断面画像４１が所定の位置に表示されるように、移動ユニット２１０を制御するようにしてもよい。すなわち、例えば、制御部５０が、移動ユニット２１０の移動を制御することによって、検出器３７上における、リムの溝の反射光束の受光位置が変更される。受光位置が変更されることで、画像４０上における断面画像４１の位置が変更される。

なお、以下の説明においては、断面画像４１を深さ方向（図１３の紙面上における上下方向）に移動させる場合を例に挙げて説明する。すなわち、例えば、制御部５０は、画像４０の上下方向に断面画像４１が移動するように、検出器３７上におけるリムの溝の反射光束の受光位置を変更させる場合を例に挙げて説明する。なお、断面画像４１の移動方向としては、上記構成に限定されない。例えば、断面画像４１を左右方向（図１３の紙面上における左右方向）に移動させる構成であってもよい。すなわち、例えば、制御部５０は、画像４０の左右方向に断面画像４１が移動するように、検出器３７上におけるリムの溝の反射光束の受光位置を変更させる構成であってもよい。

例えば、本実施例において、制御部５０は、リムの断面画像４１が所定の位置に表示されるように、移動ユニット２１０を制御する。図１３は、断面画像４１を所定の位置に移動させるための制御について説明する図である。例えば、制御部５０は、断面画像４１が表示された場合に、断面画像４１と所定の位置Ｂとの深さ方向（画像４０の上下方向）におけるずれ情報を検出する。例えば、制御部５０は、検出されたずれ情報に基づいて、移動ユニット２１０を制御する。例えば、制御部５０は、検出されたずれ情報が所定の閾値（所定の許容範囲）より大きい場合、移動ユニット２１０を制御し、検出されるずれ情報が所定の閾値以下となるようにしてもよい。

例えば、断面画像４１におけるリムの所定の部位（例えば、リムの肩、リムの溝斜面、リムの溝の底、リム外形部等の少なくともいずれかの部位）が所定の位置Ｂに表示されるように、移動ユニット２１０を制御する場合、制御部５０は、断面画像４１におけるリムの所定の部位と所定の位置Ｂとの深さ方向におけるずれ情報を検出する。以下の説明において、例えば、制御部５０は、断面画像４１におけるリムの溝の底４３が所定の位置Ｂに表示されるように、移動ユニット２１０を制御する場合を例に挙げて説明する。

なお、例えば、所定の位置Ｂは、例えば、深さ方向における画像４０の中心位置（検出器３７の中心位置）であってもよい。もちろん、所定の位置Ｂは、中心位置に限るものではなく、任意に設定可能である。例えば、画像４０の画像領域（表示領域）の上方、下方等であってもよい。なお、本実施例においては、検出器３７の受光領域と、画像４０の画像領域が一致しており、位置関係が対応している。もちろん、検出器３７の受光領域と画像４０の画像領域が異なる場合であってもよい。

なお、例えば、所定の閾値は、予め設定された閾値であってもよい。例えば、予め、シミュレーションや実験等によって断面画像が所定の位置に位置しているとされる閾値が設定されるようにしてもよい。

図１３に示されるように、本実施例において、例えば、制御部５０は、断面画像４１におけるリムの溝の底４３と所定の位置Ｂとのずれ情報を検出する。例えば、制御部５０は、画像４０からリムの溝の底４３の位置（検出器３７におけるリムの溝の底４３の反射光束の受光位置）を検出する。例えば、制御部５０は、取得された画像４０に対して、上記のようにして、深さ方向の走査線を設定し、その走査線上における輝度分布を得る。例えば、制御部５０は、輝度分布からリムの溝の底４３を検出する。例えば、制御部５０は、複数の走査線を設定し、各走査線における輝度分布を取得する。例えば、制御部５０は、各走査線における輝度分布から深さ方向における輝度値が最大値（以下、最大輝度値と省略する）となる位置を検出し、その位置をピーク位置と設定する。例えば、制御部５０は、各走査線におけるピーク位置をそれぞれ検出した後、深さ方向において、もっとも下方で検出されたピーク位置をリムの溝の底４３の位置として検出する。 なお、リムの溝の底４３を検出する方法は上記手法に限定されない。種々の方法によって、リムの溝の底４３を検出するようにしてもよい。

例えば、制御部５０は、検出されたリムの溝の底４３の位置と、所定の位置Ｂと、ずれ情報（本実施例において、例えば、ずれ量ΔＤ）を検出する。なお、本実施例において、所定の位置（基準位置）Ｂは、断面画像の深さ方向における中心位置であり、ディスプレイ３上の表示領域（画像４０の画像領域）の中央位置に対応する。

例えば、制御部５０は、ずれ量ΔＤを検出すると、検出されたずれ量ΔＤが所定の閾値よりも大きいか否かを判定し、その判定結果に基づいて移動ユニット２１０を制御する。すなわち、ずれ量ΔＤに基づいて、移動ユニット２１０を制御して、検出器３７におけるリムの溝の底４３からの反射光束の受光位置を変更する。例えば、制御部５０は、検出されたずれ量ΔＤが所定の閾値より大きい場合、ずれ量ΔＤが少なくなるように移動ユニット２１０を移動させる。

より詳細には、例えば、制御部５０は、移動ユニット２１０におけるＸ移動ユニット２４０とＹ移動ユニット２３０の少なくともいずれかを制御することによって、断面画像４１を深さ方向に移動させる。もちろん、制御部５０は、深さ方向への移動において、さらに、Ｚ移動ユニット２２０を制御させるようにしてもよい。一例として、例えば、照射位置Ｔ４において、リムの測定を行っている場合に、Ｙ移動ユニット２３０を制御して、眼鏡フレーム測定光学系３０を照射位置Ｔ４に近づける（リムに近づける）方向（図１１の紙面上における上方向）に移動させることによって、取得される断面画像４１が上方向（図１１の紙面上における画像４０の上方向）に移動される。一方、例えば、照射位置Ｔ４において、リムの測定を行っている場合に、Ｙ移動ユニット２３０を制御して、眼鏡フレーム測定光学系３０を照射位置Ｔ４から遠ざける（リムから遠ざける）方向（図１１の紙面上における下方向）に移動させることによって、取得される断面画像４１が下方向（図１１の紙面上における画像４０の下方向）に移動される。もちろん、Ｙ移動ユニット２３０の制御に加えて、Ｘ移動ユニット２４０を制御するようにしてもよい。

また、一例として、例えば、照射位置Ｔ２（図９Ｂ参照）において、リムの測定を行っている場合に、Ｘ移動ユニット２４０を制御して、眼鏡フレーム測定光学系３０を照射位置Ｔ２に近づける（リムに近づける）方向（図９Ｂの紙面上における右方向）に移動させることによって、取得される断面画像４１が上方向（図１１の紙面上における画像４０の上方向）に移動される。一方、例えば、照射位置Ｔ２において、リムの測定を行っている場合に、Ｘ移動ユニット２４０を制御して、眼鏡フレーム測定光学系３０を照射位置Ｔ２から遠ざける（リムから遠ざける）方向（図９Ｂの紙面上における左方向）に移動させることによって、取得される断面画像４１が下方向（図１１の紙面上における画像４０の下方向）に移動される。もちろん、Ｘ移動ユニット２４０の制御に加えて、Ｙ移動ユニット２３０を制御するようにしてもよい。

なお、一例として、例えば、照射位置Ｔ２におけるリムと照射位置Ｔ４におけるリムとの間のリムを測定する場合において、例えば、Ｘ移動ユニット２４０とＹ移動ユニット２３０との制御を行い、断面画像４１の深さ方向の移動を制御するようにしてもよい。この場合、例えば、Ｘ移動ユニット２４０及びＹ移動ユニット２３０を制御して、眼鏡フレーム測定光学系３０をリムに近づける方向に移動させることによって、取得される断面画像４１が上方向（図１１の紙面上における画像４０の上方向）に移動される。また、この場合、例えば、Ｘ移動ユニット２４０及びＹ移動ユニット２３０を制御して、眼鏡フレーム測定光学系３０をリムから遠ざける方向に移動させることによって、取得される断面画像４１が下方向（図１１の紙面上における画像４０の下方向）に移動される。

なお、本実施例においては、断面画像４１を深さ方向に移動させる場合を例に挙げているがこれに限定されない。例えば、断面画像４１を左右方向（図１３の紙面上における左右方向）に移動させるようにしてもよい。この場合、例えば、制御部５０は、移動ユニット２１０におけるＺ移動ユニット２２０を制御することによって、断面画像４１を左右方向に移動させる。もちろん、制御部５０は、左右方向への移動において、さらに、Ｘ移動ユニット２４０とＹ移動ユニット２３０の少なくともいずれかを制御させるようにしてもよい。一例として、例えば、照射位置Ｔ４において、リムの測定を行っている場合に、Ｚ移動ユニット２２０を制御して、眼鏡フレーム測定光学系３０を照射位置Ｔ４から降下させる方向（図１１の紙面に鉛直な方向における奥側）に移動させることによって、取得される断面画像４１が右方向（図１１の紙面上における画像４０の右方向）に移動される。一方、例えば、照射位置Ｔ４において、リムの測定を行っている場合に、Ｚ移動ユニット２２０を制御して、眼鏡フレーム測定光学系３０を照射位置Ｔ４から上昇させる方向（図１１の紙面に鉛直な方向おける手前方向）に移動させることによって、取得される断面画像４１が左方向（図１１の紙面上における画像４０の左方向）に移動される。

上記のような制御によって、画像４０上における断面画像４１の表示位置が変更される。なお、検出されたずれ量ΔＤが所定の閾値以下である場合、制御部５０は、移動ユニット２１０を移動させない。以上のようにして、所定の位置にリムの溝の底の断面画像が表示されるようにすることができる。例えば、制御部５０は、検出器３７における受光位置の変更の制御が完了した後、リムの溝の断面画像を取得する。

以上のように、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、反射光束の受光位置を変更する変更手段と、変更手段を制御して、検出器にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更する制御手段と、を備える。これによって、例えば、検出器に反射光束が受光されるため、種々の形状の眼鏡フレームを測定した場合であっても、種々の形状の眼鏡フレームにおけるリムの溝の断面形状を良好に取得することができる。すなわち、本開示の眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームにおけるリムの溝の断面形状の取得において、種々の形状の眼鏡フレームに対応することができる。

また、例えば、制御手段は、検出器によって受光された反射光束に基づいて、変更手段を制御して反射光束の前記受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、例えば、受光された反射光束に基づく反射光束の受光位置を変更することができるため、より精度よくリムの反射光束が受光されるように変更を行うことができる。これによって、容易に良好な断面形状を取得することができる。

また、例えば、眼鏡枠形状測定装置は、反射光束の受光位置を取得する位置取得手段を備えてもよい。また、例えば、制御手段は、位置取得手段によって取得された反射光束の受光位置に基づいて、変更手段を制御して反射光束の前記受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、例えば、受光位置に基づく反射光束の受光位置を変更することができるため、より容易に精度よく良好な断面形状を取得することができる。

また、例えば、位置取得手段は、リムの少なくともいずれかの部位の反射光束の受光位置を取得してもよい。また、例えば、制御手段は、位置取得手段によって取得されたリムの少なくともいずれかの部位の受光位置に基づいて、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、リムの特定の部位の反射光束に基づいて受光位置の変更を行うことができるため、より精度よくにリムの反射光束が受光されるように変更を行うことができる。これによって、より容易に良好な断面形状を取得することができる。

また、例えば、取得手段は、検出器によって受光された反射光束に基づいて、断面形状として、眼鏡フレームのリムの溝の断面画像を取得してもよい。また、例えば、位置取得手段は、断面画像を解析して断面画像の位置を取得することで、反射光束の受光位置を取得してもよい。また、例えば、制御手段は、位置取得手段によって取得された断面画像の位置に基づいて、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、例えば、断面画像を用いた反射光束の受光位置を変更ができるため、反射光束の受光位置の特定がより容易となる。これによって、より容易に良好な断面形状を取得することができる。

また、例えば、制御手段は、変更手段を制御して、検出器の所定の位置にリムの溝の反射光束が受光されるように反射光束の受光位置を変更するようにしてもよい。これによって、例えば、検出器の所定の位置に反射光束が受光されるため、任意の位置に反射光束を位置させることできるため、より良好に断面形状を取得しやすくすることができる。

また、例えば、制御手段は、所定の位置と受光位置とのずれ情報を取得し、ずれ情報に基づいて、変更手段を制御してリムの溝の反射光束の受光位置を変更する。これによって、ずれ情報に基づく受光位置の変更を行うことができるため、所定の位置にリムの反射光束を容易に精度よく受光させることができる。

例えば、上記のようにして、制御部５０は、初期位置の断面画像を取得すると、リムの溝の断面画像を取得する位置を変更して、順に各動径角におけるリムの溝の断面画像を取得していく。例えば、制御部５０は、回転ユニット２６０を制御し、回転軸（本実施例では、光源３１を通る軸）ＬＯを中心として、動径角を変更しながら、リムの溝の断面画像を取得する位置を変更していく。これによって、リムの断面画像を取得する位置がリムの周方向に移動されていく。

例えば、制御部５０は、リムの断面画像を取得する位置が変更される毎に、検出器３７にリムの溝の反射光束が良好に受光されるように移動ユニット２１０を制御する。例えば、制御部５０は、リムの断面画像を取得する位置がリムの周方向に変更される毎に、移動ユニット２１０を制御し、断面画像４１におけるリムの溝の底４３が所定の位置Ｂに表示されるようにする。

なお、検出器３７にリムの溝の反射光束が良好に受光されるようにする制御は、所定の間隔で実施するようにしてもよい。例えば、制御部５０は、少なくとも１つ以上の測定位置（本実施例においては、断面画像の取得位置）において、検出器にリムの溝の反射光束が良好に受光されるように受光位置を変更しながら、リムの溝の測定を行う構成としてもよい。例えば、本実施例においては、断面画像の各取得位置において、検出器３７にリムの溝の反射光束が良好に受光されるようにする制御を実施する場合を例に挙げて説明する。

例えば、制御部５０は、断面画像の各取得位置（各測定位置）において、検出器３７にリムの溝の反射光束が良好に受光されるように移動ユニット２１０を制御した後、リムの溝の断面画像を取得していき、取得した断面画像をそれぞれメモリ５２に記憶させていく。また、各断面画像の取得位置を、モータ２２５のパルス数と、モータ２３５のパルス数と、モータ２４５のパルス数と、エンコーダ２６５ａの検出結果と、の少なくともいずれかから演算し、メモリ５２に記憶させる。すなわち、モータ２２５のパルス数と、モータ２３５のパルス数と、モータ２４５のパルス数と、エンコーダ２６５ａの検出結果と、の少なくともいずれかを取得することで、リムの断面画像が取得された位置を特定することができる。このようにして、例えば、制御部５０は、リムの溝の断層画像を取得した位置（取得位置情報）を取得することができる。例えば、取得位置情報は、リムの溝の三次元断面画像、眼鏡フレームの形状、等を取得する際に用いることができる。

このように、例えば、取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得し、複数の動径角におけるリムの溝の断面形状を取得する際の制御手段によって制御された変更手段の変更情報に基づいて、断面形状を位置合わせしてリムの溝の三次元断面形状を取得するようにしてもよい。これによって、例えば、変更情報から断面形状を取得した際の測定条件を確認することができるため、複数の動径角におけるリムの断面形状官での位置合わせを容易に行うことができる。これによって、良好な三次元形状を取得することができる。

例えば、制御部５０は、取得した断面画像を解析処理することによって、リムの溝に関する種々のパラメータを取得することができる。図１４は、リムの溝の断面画像から取得されるパラメータについて説明する図である。例えば、制御部５０は、画像処理によって、断面画像の輝度分布を取得することで、リムの溝のパラメータを取得することができる。例えば、制御部５０は、リムの溝のパラメータとして、リムの溝の底までの距離Ｋ１、リムの溝の左右の斜面角度θ１，θ２、リムの溝の左右の斜面長さＫ２，Ｋ３、左右のリム肩の長さＫ４，Ｋ５、等を得ることができる。

例えば、制御部５０は、リムの全周に亘って、上記制御を繰り返していくことによって、リムの全周におけるリムの溝の断面画像を取得することができる。例えば、リム全周におけるリムの溝の断面画像の取得が完了すると、制御部５０は、メモリ５２に記憶したリム全周の断面画像とその取得位置情報を呼び出し、演算処理を行って、三次元断面画像を取得する。例えば、制御部５０は、取得した三次元断面画像を、メモリ５２に記憶させる。なお、本実施例においては、リム全周における断面画像の取得が完了した後に三次元断面画像を取得する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。リムの溝の断面画像の各取得位置にといて、断面画像を取得する毎に、演算処理を行っていく構成であってもよい。

なお、例えば、制御部５０は、取得した断面画像から眼鏡フレームの形状（形状データ）を取得することができる。例えば、制御部５０は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面画像から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームの形状を取得する。

例えば、上記のように、制御部５０は、画像処理によって、断面画像の輝度分布を取得することで、リムの溝の底の位置を検出する。図１２に示されるように、例えば、制御部５０は、取得された断面画像に対して、走査線Ｓ１、走査線Ｓ２、走査線Ｓ３、・・・走査線Ｓｎの順に輝度値の検出を行い、輝度分布を得る。例えば、制御部５０は、得られた輝度分布において、もっとも下側の位置で輝度値の検出がされた位置をリムの溝の底として検出してもよい。

例えば、制御部５０は、各動径角毎に取得された断面画像をそれぞれ処理して、画像上におけるリムの溝の底の位置をそれぞれ検出する。例えば、制御部５０は、断面画像から検出された画像上におけるリムの溝の底の位置と、その断面画像を取得した取得位置情報と、からリムの溝の底の位置情報を取得する。例えば、制御部５０は、各動径角毎においてそれぞれ取得された断面画像から画像上におけるリムの溝の底の位置を検出し、検出された画像上におけるリムの溝の底の位置と、その断面画像を取得した取得位置情報と、から各動径角毎のリムの溝の底の位置情報をそれぞれ取得する。これによって、例えば、制御部５０は、眼鏡フレームＦの三次元形状（ｒｎ，ｚｎ，θｎ）（ｎ＝１，２，３、・・・，Ｎ）を取得する。例えば、眼鏡フレームＦｎの三次元形状は、リムの全周に亘って取得されてもよいし、リムの全周の内、一部の領域において、取得されてもよい。以上のようにして、眼鏡フレームＦの形状を取得することができる。

なお、本実施例においては、各動径角毎にリムの溝の底の位置情報を取得することによって、眼鏡フレームの三次元形状を取得する構成を例に挙げて説明したがこれに限定されない。例えば、眼鏡フレームの三次元形状を取得する際に、各動径角において、リムの溝の底の位置情報を取得していない位置については、周辺の動径角におけるリムの溝の底の位置情報に基づいて、補間することで、リムの溝の底の位置情報を取得するようにしてもよい。また、例えば、眼鏡フレームの三次元形状を取得する際に、各動径角において、リムの溝の底の位置情報を取得していない位置については、周辺の動径角におけるリムの溝の底の位置情報の近似の結果から補間するようにしてもよい。

例えば、制御部５０は、右リムＦＲの測定が終了すると、Ｘ移動ユニット２４０の駆動を制御し、左リムＦＬの測定用の所定位置に保持ユニット２５を移動させる。上記の測定制御と同様にして、右リムＦＲの断面形状の取得と、眼鏡フレームの形状を取得する。右リムＦＲ及び左リムＦＬの断面画像と形状は、メモリ５２に記憶される。

なお、例えば、取得した眼鏡フレームの三次元形状に基づいて各種パラメータを取得してもよい。例えば、眼鏡フレームの三次元形状から二次元形状を取得するようにしてもよい。例えば、二次元形状は、三次元形状を眼鏡フレームＦの正面方向のＸＹ平面に投影した形状することによって取得することができる。なお、二次元形状は、三次元形状から取得する構成を例に挙げたがこれに限定されない。各動径角におけるリムの断面画像に基づいて、リムの溝の底の位置情報を取得する際に、ＸＹ平面上におけるリムの溝の底の位置情報のみを検出するようにすることで、取得するようにしてもよい。

以上のようにして、眼鏡枠形状測定装置１によって取得されたリムの溝の断面形状、眼鏡フレームの形状、等は、制御部５０によって、レンズ加工装置３００に送信される。例えば、レンズ加工装置３００の制御部３１０は、眼鏡枠形状測定装置１によって取得されたリムの溝の断面形状、眼鏡フレームの形状、等を受信する。

例えば、レンズ加工装置３００としては、レンズをレンズチャック軸に保持して回転するレンズ回転手段と、加工具回転軸に取り付けられた加工具を回転する加工具回転手段と、を備える。例えば、レンズ加工装置３００において、レンズ加工装置の制御部３１０は、眼鏡枠形状測定装置１によって取得された取得情報（例えば、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状、眼鏡フレームの形状、等）に基づいて、レンズ回転手段と加工具回転手段を制御して、レンズの周縁加工を行う。なお、レンズ加工装置の制御部３１０としては、眼鏡枠形状測定装置１の制御部が兼用される構成であってもよいし、別途、レンズ加工装置の各種制御を行うための制御部３１０が設けられる構成であってもよい。

例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムに向けて光源から測定光束を照射する投光光学系と、投光光学系によって眼鏡フレームのリムに向けて照射され、眼鏡フレームのリムによって反射された測定光束の反射光束を検出器によって受光する受光光学系と、検出器によって受光された反射光束に基づいて眼鏡フレームのリムの断面形状を取得する取得手段と、を備える。これによって、例えば、眼鏡フレームのリムの断面形状を容易に精度よく取得することができる。また、例えば、測定光束による測定であるため、迅速に測定を行うことができる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光束の照射位置を変更する第１変更手段と、第１変更手段を制御する第１制御手段と、を備える。これによって、眼鏡フレームにおける任意のリムの溝の位置へ測定光束を照射することが可能となり、任意の位置におけるリムの溝の断面形状を取得することができる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、第１変更手段が投光光学系の少なくとも一部の位置を移動させる変更手段であって、第１制御手段は、第１変更手段を制御することによって、眼鏡フレームのリムの溝に対して投光光学系の少なくとも一部の位置を変更させ、眼鏡フレームのリムの溝に対する測定光束の照射位置を変更する。これによって、眼鏡フレームにおける任意のリムの溝の位置へ測定光束を照射することが可能となり、任意の位置におけるリムの溝の断面形状を取得することができる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、受光光学系による反射光束の受光位置を変更する第２変更手段と、第２変更手段を制御する第２制御手段と、を備える。これによって、リムの溝の断面形状を良好に取得することができる位置に受光位置を変更することができ、眼鏡フレームのリムの断面形状をより精度よく取得することができる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、第１制御手段が第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光束を照射する。取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得する。眼鏡枠形状測定装置は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状から眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の底をそれぞれ検出し、検出した検出結果に基づいて、眼鏡フレームの形状を取得する解析手段を備える。これによって、従来のように、眼鏡フレームによっては、測定子がレンズ枠の溝から外れてしまい測定できないことを抑制することができ、種々の形状の眼鏡フレームに対して、容易に精度よく眼鏡フレームの形状を取得することできる。

また、例えば、本実施例において、眼鏡枠形状測定装置は、第１制御手段が第１変更手段を制御して、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝に対して測定光束を照射する。取得手段は、眼鏡フレームの複数の動径角におけるリムの溝の断面形状をそれぞれ取得し、三次元断面形状を取得する。これによって、容易に精度よく眼鏡フレームの三次元断面形状を取得することできる。

また、例えば、本実施例において、レンズ加工装置は、眼鏡フレームのリムの溝の断面形状に基づいてレンズの周縁を加工する加工制御手段を備える。これによって、眼鏡フレームに加工後のレンズを良好に枠入れする際に、リムの溝の形状と加工後のレンズの輪郭形状が近い形状となるため、枠入れを良好に行うことができる。

なお、本実施例において、断面形状と、眼鏡フレームの形状との少なくともいずれかは、にディスプレイ３上に表示されるようにしてもよい。もちろん、レンズ加工装置３００の図示無きディスプレイに表示されるようにしてもよい。例えば、断面形状と、眼鏡フレームの形状とは、ディスプレイ３上において、異なる画面にて表示されるようにしてもよい。この場合、画面が切り換えられることによって、断面形状と、眼鏡フレームの形状と、が切り換え表示されるようにしてもよい。また、例えば、断面形状と、眼鏡フレームの形状とは、同一画面上に表示されるようにしてもよい。この場合、例えば、断面形状と、眼鏡フレームの形状とは、同一画面上に並べて配置されるようにしてもよい。このとき、例えば、眼鏡フレームの形状において、断面形状の取得位置が識別できるような断面形状の取得位置を示す表示をするようにしてもよい。また、この場合、例えば、断面形状と、眼鏡フレームの形状とが重畳表示されるようしてもよい。重畳表示をする場合、断面形状の取得位置情報と、リム溝の断面形状の取得位置と、に基づいて、断面形状と眼鏡フレームの形状とが位置合わせされるようにしてもよい。

１ 眼鏡枠形状測定装置
３ ディスプレイ
４ スイッチ部
１０ フレーム保持ユニット
２０ 測定ユニット
２５ 保持ユニット
３０ 眼鏡フレーム測定光学系
３０ａ 投光光学系
３０ｂ 受光光学系
３１ 光源
３７ 検出器
５０ 制御部
５２ メモリ
２１０ 移動ユニット
２２０ Ｚ移動ユニット
２３０ Ｙ移動ユニット
２４０ Ｘ移動ユニット
２６０ 回転ユニット
３００ レンズ加工装置
３１０ 制御部

Claims (8)

1. 眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置であって、
   光源を有し、眼鏡フレームのリムの溝に向けて前記光源から測定光束を照射する投光光学系と、
   検出器を有し、前記投光光学系によって前記眼鏡フレームの前記リムの溝に向けて照射され、前記眼鏡フレームの前記リムの溝によって反射された前記測定光束の反射光束を前記検出器によって受光する受光光学系と、
   前記検出器によって受光された前記反射光束に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状を取得する取得手段と、
   前記反射光束の受光位置を変更する変更手段と、
   前記変更手段を制御して、前記検出器に前記リムの溝の前記反射光束が受光されるように前記反射光束の受光位置を変更する制御手段と、
   を備え、
   前記変更手段は、前記受光光学系による前記反射光束の受光位置を変更する第２変更手段を有することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
2. 請求項１の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記制御手段は、前記検出器によって受光された前記反射光束に基づいて、前記変更手段を制御して前記反射光束の前記受光位置を変更することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
3. 請求項２の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記反射光束の前記受光位置を取得する位置取得手段を備え、
   前記制御手段は、前記位置取得手段によって取得された前記反射光束の前記受光位置に基づいて、前記変更手段を制御して前記反射光束の前記受光位置を変更することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
4. 請求項３の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記位置取得手段は、前記リムの少なくともいずれかの部位の前記反射光束の前記受光位置を取得し、
   前記制御手段は、前記位置取得手段によって取得された前記リムの少なくともいずれかの部位の前記受光位置に基づいて、前記変更手段を制御して前記リムの溝の前記反射光束の前記受光位置を変更することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
5. 請求項３又は４の眼鏡枠形状測定装置において、
   前記取得手段は、前記検出器によって受光された前記反射光束に基づいて、前記断面形状として、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面画像を取得し、
   前記位置取得手段は、前記断面画像を解析して前記断面画像の位置を取得することで、前記反射光束の前記受光位置を取得し、
   前記制御手段は、前記位置取得手段によって取得された前記断面画像の位置に基づいて、前記変更手段を制御して前記リムの溝の前記反射光束の受光位置を変更することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
6. 請求項１～５のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記変更手段は、前記眼鏡フレームの前記リムの溝に対する前記測定光束の照射位置を変更する第１変更手段を有することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
7. 請求項１～６のいずれかの眼鏡枠形状測定装置において、
   前記取得手段は、前記眼鏡フレームの複数の動径角における前記リムの溝の断面形状をそれぞれ取得し、複数の動径角における前記リムの溝の断面形状を取得する際の前記制御手段によって制御された前記変更手段の変更情報に基づいて、前記断面形状を位置合わせして前記リムの溝の三次元断面形状を取得することを特徴とする眼鏡枠形状測定装置。
8. 光源を有し、眼鏡フレームのリムの溝に向けて前記光源から測定光束を照射する投光光学系と、
   検出器を有し、前記投光光学系によって前記眼鏡フレームの前記リムの溝に向けて照射され、前記眼鏡フレームの前記リムの溝によって反射された前記測定光束の反射光束を前記検出器によって受光する受光光学系と、
   前記検出器によって受光された前記反射光束に基づいて、前記眼鏡フレームの前記リムの溝の断面形状を取得する取得手段と、
   を備え、
   眼鏡フレームの形状を測定する眼鏡枠形状測定装置において実行される眼鏡枠形状測定プログラムであって、
   前記眼鏡枠形状測定装置のプロセッサによって実行されることで、
   前記受光光学系による前記反射光束の受光位置を変更する第２変更手段を制御して、前記検出器に前記リムの前記反射光束が受光されるように前記リムの溝の前記反射光束の受光位置を変更する制御ステップと、
   前記眼鏡枠形状測定装置に実行させることを特徴とする眼鏡枠形状測定プログラム。

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