JP7154074B2 - Device mounting apparatus and device mounting substrate manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、素子実装装置及び素子実装基板の製造方法に関する。 The present invention relates to an element mounting apparatus and an element mounting substrate manufacturing method.

回路パターンが形成された基板に半導体素子、抵抗及びコンデンサ等の素子を実装する素子実装装置が普及している。素子実装装置は、素子がストックされたキャリアと素子を実装する基板との間を往復する素子の移送部を有する。移送部は、素子を一つずつキャリアからピックアップして、基板まで素子を保持して搬送し、基板上に素子を離脱させていた。基板には、ACF(Anisotropic Conductive Film)、ACP(Anisotropic Conductive Paste)、NCF(Non Conductive Film)、NCP(Non Conductive Paste)又は均質共晶半田等の導電性接合材料が形成されており、基板に素子を配置してから加熱加圧することにより、素子が基板に実装される。 2. Description of the Related Art An element mounting apparatus for mounting elements such as semiconductor elements, resistors, and capacitors on a substrate having a circuit pattern formed thereon is widely used. An element mounting apparatus has an element transfer section that reciprocates between a carrier stocked with elements and a board on which the elements are mounted. The transfer section picks up the elements one by one from the carrier, holds and conveys the elements to the substrate, and detaches the elements from the substrate. Conductive bonding materials such as ACF (Anisotropic Conductive Film), ACP (Anisotropic Conductive Paste), NCF (Non Conductive Film), NCP (Non Conductive Paste) or homogeneous eutectic solder are formed on the substrate. The element is mounted on the substrate by placing the element and applying heat and pressure.

近年、素子の微小化が非常に速いペースで進展している。一辺のサイズが50μmや10μmといった200μm以下の素子も提案されている。これら素子は、例えば50μmや10μmといったミニLEDやマイクロLEDであり、ディスプレイ用の表示基板にRGBの各画素として複数行複数列に配列され、またバックライトの発光体として照明基板に配列される。LEDを画素として表示基板に搭載する場合、表示基板が4K対応であれば、RGBのうちの一色で少なくとも800万個以上のLEDを表示基板に実装する必要があり、素子を一つずつ実装することは生産効率に問題があった。 In recent years, miniaturization of devices has progressed at a very fast pace. Elements with a side size of 200 μm or less, such as 50 μm or 10 μm, have also been proposed. These elements are, for example, mini-LEDs or micro-LEDs of 50 μm or 10 μm, arranged in multiple rows and multiple columns as RGB pixels on a display substrate for display, and arranged on an illumination substrate as backlight emitters. When mounting LEDs as pixels on a display substrate, if the display substrate supports 4K, it is necessary to mount at least 8 million LEDs in one color of RGB on the display substrate, and the elements are mounted one by one. There was a problem with production efficiency.

そこで、複数の素子を一度にピックアップして基板に実装することで、生産効率を改善する案が提案されている。移送部は、複数行複数列の素子を包含する保持面を有し、この保持面で複数行複数列の素子を一括してピックアップする。この素子実装装置によれば、移送部の往復回数は、移送部で一度に保持できる素子の数でキャリア内の全素子の数を除した回数分に削減できる。 Therefore, a proposal has been made to improve production efficiency by picking up a plurality of elements at once and mounting them on a board. The transfer section has a holding surface containing the elements arranged in multiple rows and columns, and collectively picks up the elements arranged in multiple rows and multiple columns on the holding surface. According to this element mounting apparatus, the number of reciprocations of the transfer section can be reduced to the number obtained by dividing the total number of elements in the carrier by the number of elements that can be held by the transfer section at one time.

移送部による素子の保持方法としては、真空吸着や静電吸着等の吸着が多用されている。何れの場合も、移送部の保持面には複数行複数列の保持部が配設されている。真空吸着が採用される場合、保持部は吸引穴である。各吸引穴には、エジェクタ等を有する空気圧回路に接続されており、各吸引穴には負圧が発生する。移送部は、負圧により吸引穴に素子を吸い付けることで、キャリアから素子を一括してピックアップし、基板まで搬送し、真空破壊や大気開放等による負圧解除によって基板にて素子を離す。 Adsorption such as vacuum adsorption or electrostatic adsorption is often used as a method for holding the element by the transfer section. In either case, a plurality of rows and columns of holding portions are arranged on the holding surface of the transfer portion. When vacuum suction is adopted, the holding part is a suction hole. Each suction hole is connected to a pneumatic circuit having an ejector or the like, and negative pressure is generated in each suction hole. The transfer section sucks the elements into the suction holes with negative pressure, picks up the elements from the carrier all at once, transports them to the substrate, and releases the elements from the substrate by releasing the negative pressure by breaking the vacuum or opening the atmosphere.

また、静電吸着が採用される場合、保持部はメサ形構造体である。ベース基板に多数のメサ形構造体が形成され、メサ形構造体に電極及び誘電体層が設けられる。このメサ形構造体を有する静電力発生部が素子に対する局所的な吸着点となって、電圧の印加による静電力によって各静電力発生部に素子を一括して吸い付ける。 Also, when electrostatic attraction is employed, the holding part is a mesa-shaped structure. A number of mesa structures are formed on the base substrate, and the mesa structures are provided with electrodes and dielectric layers. The electrostatic force generating portion having this mesa structure serves as a local attraction point for the elements, and the elements are collectively attracted to each electrostatic force generating portion by the electrostatic force due to voltage application.

特開2012-119399号公報JP 2012-119399 A

キャリア上の各素子は、所定間隔を空けて複数行複数列で配列されていることが理想であるが、実際には、配置バラツキが存在する場合がある。そのため、ピックアップ予定の複数行複数列の素子からなる素子群を正確に移送部で一括ピックアップするには、ピックアップ予定の素子群の位置決め基準位置(例えば素子群の中心位置)と移送部の基準位置(例えば移送部の中心位置)とを位置合わせする補正を行う必要がある。或いは、移送部に保持された素子群を基板に正確に実装するには、当該素子群の位置決め基準位置(例えば素子群の中心位置)と当該素子群が実装される領域の基準位置(例えば領域の中心位置)とのずれを補正する必要がある。 Ideally, the elements on the carrier are arranged in a plurality of rows and a plurality of columns at predetermined intervals, but in reality there may be variations in arrangement. Therefore, in order to accurately collectively pick up an element group consisting of multiple rows and multiple columns of elements to be picked up by the transfer section, the positioning reference position of the element group to be picked up (for example, the center position of the element group) and the reference position of the transfer section (for example, the center position of the transfer section). Alternatively, in order to accurately mount the element group held by the transfer unit on the board, the positioning reference position of the element group (for example, the center position of the element group) and the reference position of the area where the element group is mounted (for example, the area It is necessary to correct the deviation from the center position of

そこで、従来の素子実装装置では、ピックアップ予定の素子群又はピックアップした素子群のうち、図13に示すように、対角の2箇所に位置する素子eの位置に基づいて素子群の中心位置cを求めて上記の補正を行っていた。 Therefore, in the conventional element mounting apparatus, as shown in FIG. 13, among the element group to be picked up or the element group that has been picked up, the center position c of the element group is calculated based on the positions of the elements e located at two diagonal locations. was sought and the above correction was made.

しかし、この従来の手法では、認識対象の素子が2つしかないので、この2つの素子だけが位置ずれしていれば、その影響を受けて、求める素子群の中心位置が不正確になる不都合が生じる。例えば、キャリアから素子群をピックアップするときであれば、2つの素子以外の素子が移送部で保持できずにピックアップできなくなる。また、素子群を実装するときであれば、移送部で素子群をピックアップできていても、2つの素子以外の素子は全部ずれた位置に配置されたりしてしまう。このように、従来の手法では、歩留まりが悪化させる場合があった。 However, in this conventional method, since there are only two elements to be recognized, if only these two elements are misaligned, the central position of the element group to be obtained becomes inaccurate due to the influence of the misalignment. occurs. For example, when picking up an element group from a carrier, the elements other than the two elements cannot be held by the transfer section and cannot be picked up. Further, when mounting an element group, even if the element group can be picked up by the transfer section, all the elements other than the two elements are arranged at shifted positions. As described above, the conventional method sometimes deteriorates the yield.

本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、ピックアップ予定又はピックアップされた素子群の正確な位置決め基準位置を求めることで、歩留まりを向上させることのできる素子実装装置及び素子実装基板の製造方法を提供することにある。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and its object is to obtain an accurate positioning reference position of a group of elements to be picked up or picked up, thereby improving the yield. An object of the present invention is to provide an element mounting apparatus and a method for manufacturing an element mounting board.

本発明の素子実装装置は、素子を複数行複数列に整列したキャリアを載置するキャリア台と、素子が配置される基板を載置する実装台と、複数行複数列の素子からなる素子群を保持する保持面を有し、前記保持面で前記キャリアから前記素子群を一括してピックアップして、ピックアップした前記素子群を前記基板に一括して移す移送部と、前記移送部と、前記キャリア台又は前記実装台との相対位置を制御する制御部と、前記キャリア上の素子群、又は、前記保持面に保持された前記素子群を撮像する撮像部と、を備え、前記制御部は、前記撮像部により撮像された前記素子群の画像から、行方向に並んだ3つ以上の素子および列方向に並んだ3つ以上の素子の位置を検出する位置検出部と、前記位置検出部により検出された前記行方向及び列方向における前記3つ以上の素子の位置に基づいて、前記素子群の位置決め基準位置を求める基準位置算出部と、を有し、前記位置決め基準位置に基づいて、前記素子群をピックアップするときの前記移送部と前記キャリア台との相対位置、又は、前記基板に前記素子群を移すときの前記移送部と実装台との相対位置を補正すること、を特徴とする。
The device mounting apparatus of the present invention includes a carrier table on which a carrier having devices arranged in a plurality of rows and columns is placed, a mounting table on which a substrate on which devices are arranged is placed, and an device group consisting of devices arranged in a plurality of rows and columns. a transfer section for collectively picking up the element group from the carrier on the holding surface and collectively transferring the picked-up element group to the substrate; the transfer section; A control unit that controls a relative position with respect to a carrier table or the mounting table, and an imaging unit that captures an image of the element group on the carrier or the element group held on the holding surface, wherein the control unit is a position detection unit for detecting positions of three or more elements arranged in a row direction and three or more elements arranged in a column direction from an image of the element group captured by the imaging unit; and the position detection unit. a reference position calculation unit that obtains a positioning reference position of the element group based on the positions of the three or more elements in the row direction and the column direction detected by, based on the positioning reference position, correcting the relative position between the transfer section and the carrier table when picking up the element group, or the relative position between the transfer section and the mounting table when transferring the element group to the substrate. do.

前記位置検出部は、前記素子群の外周辺の複数の素子の中から、前記外周辺毎に3つ以上の素子の位置を検出し、前記基準位置算出部は、前記検出された前記素子の位置から、各前記外周辺を直線近似する近似式をそれぞれ求め、前記列方向の対向する前記外周辺の前記近似式から前記位置決め基準位置の前記行方向の座標を求め、前記行方向の対向する前記外周辺の前記近似式から前記位置決め基準位置の前記列方向の座標を求めることで、前記位置決め基準位置を求めるようにしても良い。 The position detection unit detects the positions of three or more elements for each outer periphery from among a plurality of elements on the outer periphery of the element group, and the reference position calculation unit detects the positions of the detected elements. Approximation formulas for linearly approximating each of the outer peripheries are obtained from the positions, coordinates of the positioning reference positions in the row direction are obtained from the approximation formulas of the outer perimeters facing each other in the column direction, and coordinates of the positioning reference positions in the row direction are obtained. The positioning reference position may be obtained by obtaining the column-direction coordinates of the positioning reference position from the approximate expression of the outer periphery.

前記位置検出部は、前記外周辺の両端の素子の位置を含めて検出し、前記基準位置算出部は、前記両端を含めた前記素子の位置に基づいて前記近似式を求めるようにしても良い。 The position detection unit may detect including the positions of the elements at both ends of the outer periphery, and the reference position calculation unit may obtain the approximate expression based on the positions of the elements including the both ends. .

前記移送部を前記保持面に垂直な軸周りに回転させる回転機構を備え、前記制御部は、前記基準位置算出部が求めた前記近似式に基づいて、前記回転機構により前記移送部を回転させる回転角度を算出する回転角度算出部を有するようにしても良い。 A rotation mechanism is provided to rotate the transfer unit around an axis perpendicular to the holding surface, and the control unit causes the rotation mechanism to rotate the transfer unit based on the approximate expression obtained by the reference position calculation unit. You may make it have a rotation angle calculation part which calculates a rotation angle.

本発明は、素子実装装置による素子が配置される素子実装基板の製造方法であって、前記素子実装装置は、素子を複数行複数列に整列したキャリアを載置するキャリア台と、素子が複数行複数列に配置される基板を載置する実装台と、複数行複数列の素子群を保持する保持面を有し、前記保持面で前記キャリアから複数行複数列の素子群を一括してピックアップして、ピックアップした前記素子群を前記基板に一括して移す移送部と、前記キャリア上の素子群、又は、前記保持面に保持された前記素子群を撮像する撮像部と、を備え、撮像部によって、前記キャリア上の素子群、又は、前記保持面に保持された前記素子群を撮像する撮像ステップと、前記撮像部により撮像された前記素子群の画像から、行方向に並んだ3つ以上の素子および列方向に並んだ3つ以上の素子の位置を検出する位置検出ステップと、前記位置検出ステップにより検出された前記3つ以上の素子の位置に基づいて、前記素子群の位置決め基準位置を求める基準位置算出ステップと、前記位置決め基準位置に基づいて、前記移送部による前記キャリア上の前記素子群のピックアップ位置、又は、前記基板に対する前記移送部による前記素子群の実装位置を補正する補正ステップと、を有すること、を特徴とする。
The present invention relates to a method for manufacturing an element mounting board on which elements are arranged by an element mounting apparatus, wherein the element mounting apparatus includes a carrier stand on which a carrier having elements arranged in a plurality of rows and columns is placed, and a plurality of elements. It has a mounting table on which substrates arranged in rows and columns are placed, and a holding surface for holding a group of elements in a plurality of rows and a plurality of columns. A transfer section that picks up and transfers the picked up element group to the substrate at once, and an imaging section that images the element group on the carrier or the element group held on the holding surface, an image capturing step of capturing an image of the element group on the carrier or the element group held on the holding surface by an image capturing unit; a position detection step of detecting positions of one or more elements and three or more elements arranged in a column direction ; and positioning of the element group based on the positions of the three or more elements detected by the position detection step. a reference position calculating step for obtaining a reference position; and correcting a pickup position of the element group on the carrier by the transfer section or a mounting position of the element group on the substrate by the transfer section based on the positioning reference position. and a correction step for

本発明によれば、ピックアップ予定又はピックアップされた素子群の正確な位置決め基準位置を求めることで、歩留まりを向上させることのできる素子実装装置及び素子実装基板の製造方法を得ることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain an element mounting apparatus and a method of manufacturing an element mounting substrate that can improve the yield by obtaining an accurate positioning reference position for a group of elements to be picked up or picked up.

第1の実施形態に係る素子実装装置の構成を示す模式図である。1 is a schematic diagram showing the configuration of an element mounting apparatus according to a first embodiment; FIG. 移送部の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of a transfer part. 第1の実施形態に係る制御部の機能ブロック図である。3 is a functional block diagram of a control unit according to the first embodiment; FIG. 撮像部による素子群の画像の模式図である。4 is a schematic diagram of an image of an element group captured by an imaging unit; FIG. 撮像部による素子群の画像から当該素子群の位置決め基準位置の算出について説明する図である。FIG. 4 is a diagram illustrating calculation of a positioning reference position of an element group from an image of the element group by an imaging unit; 第1の実施形態に係る素子実装装置の動作の一例を示すフローチャートである。4 is a flow chart showing an example of the operation of the element mounting apparatus according to the first embodiment; 第2の実施形態に係る素子実装装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram showing the configuration of an element mounting apparatus according to a second embodiment. 第2の実施形態に係る素子実装装置の動作の一例を示すフローチャートである。8 is a flow chart showing an example of the operation of the element mounting apparatus according to the second embodiment; 第3の実施形態に係る素子実装装置の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the element mounting apparatus which concerns on 3rd Embodiment. 第3の実施形態に係る制御部の機能ブロック図である。FIG. 11 is a functional block diagram of a control unit according to a third embodiment; FIG. 撮像部による素子群の画像から素子群の回転角度を算出する方法について説明する図である。It is a figure explaining the method of calculating the rotation angle of an element group from the image of an element group by an imaging part. 第3の実施形態に係る素子実装装置の動作の一例を示すフローチャートである。10 is a flow chart showing an example of the operation of the element mounting apparatus according to the third embodiment; 従来の素子実装装置について説明するための図である。It is a figure for demonstrating the conventional element mounting apparatus.

本発明に係る素子実装装置の実施形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。 An embodiment of an element mounting apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
(概略構成)
図1は、第1の実施形態に係る素子実装装置1の構成を示す模式図である。図1に示すように、素子実装装置1内にはキャリアCと基板Sとが搬入される。キャリアCは、素子Eを複数行複数列で整列させてストックした矩形状の素子供給体である。素子Eは、電子回路に使用される部品であり、MEMS、半導体素子、抵抗及びコンデンサ等のチップが含まれ、半導体素子にはトランジスタ、ダイオード、LED及びサイリスタ等のディスクリート半導体、並びにICやLSI等の集積回路が含まれる。LEDには所謂ミニLED及びマイクロLEDが含まれる。特に、素子Eには一辺が200μm以下の所謂微小部品が含まれる。基板Sは、回路パターンが形成されて成り、例えばミニLEDが整列するバックライト用の照明基板、RGBの各マイクロLEDが画素として配列される表示基板である。
(First embodiment)
(Outline configuration)
FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of an element mounting apparatus 1 according to the first embodiment. As shown in FIG. 1, a carrier C and a substrate S are carried into the device mounting apparatus 1 . The carrier C is a rectangular element supply body in which the elements E are stocked in a plurality of rows and columns. The element E is a component used in an electronic circuit, and includes chips such as MEMS, semiconductor elements, resistors, and capacitors. Semiconductor elements include discrete semiconductors such as transistors, diodes, LEDs, and thyristors, as well as ICs, LSIs, and the like. of integrated circuits. LEDs include so-called mini-LEDs and micro-LEDs. In particular, the element E includes a so-called minute part with a side of 200 μm or less. The substrate S has a circuit pattern formed thereon, and is, for example, a lighting substrate for a backlight on which mini LEDs are arranged, and a display substrate on which RGB micro LEDs are arranged as pixels.

この素子実装装置1は、素子EをキャリアCから基板Sに移し替える移送部5を有し、移送部5によって、複数の素子EをキャリアCから一括してピックアップし、ピックアップした素子Eを基板Sに一括して移し替える。素子実装装置1は、移送部5を複数回稼働させ、複数行複数列の素子Eを基板Sに複数回に亘って移し替えることで、素子Eが複数行複数列に配列された素子実装基板を製造する。 This element mounting apparatus 1 has a transfer section 5 for transferring the elements E from the carrier C to the substrate S. The transfer section 5 collectively picks up a plurality of elements E from the carrier C, and transfers the picked-up elements E to the substrate. Transfer to S all at once. The element mounting apparatus 1 operates the transfer unit 5 a plurality of times to transfer the elements E arranged in a plurality of rows and columns to the substrate S a plurality of times, thereby forming an element mounting board on which the elements E are arranged in a plurality of rows and columns. to manufacture.

尚、移し替えられた素子Eは基板Sに電気的及び機械的に接合される。基板S上には、例えばACF、ACP、NCF、NCP又は均質共晶半田等の導電性接合材料が予め形成されており、合金接合、導電粒子圧着、バンプ圧接等により基板Sと素子Eとが電気的及び機械的に接続すると、導電性接合材料が加熱されて硬化する。 The transferred element E is electrically and mechanically bonded to the substrate S. FIG. A conductive bonding material such as ACF, ACP, NCF, NCP, or homogeneous eutectic solder is formed in advance on the substrate S, and the substrate S and the element E are bonded by alloy bonding, conductive particle pressure bonding, bump pressure bonding, or the like. Once electrically and mechanically connected, the conductive bonding material is heated to cure.

(詳細構成)
素子実装装置1は、移送部5に加えて、キャリア台3及び実装台4を備える。キャリア台3は、平坦な盤面を有し、当該盤面にキャリアCが載置される。実装台4は、平坦な盤面を有し、当該盤面に基板Sが載置される。これらキャリア台3及び実装台4は、盤面と水平な2次元方向に移動可能となっている。即ち、キャリア台3及び実装台4の盤面は、直交する2軸の直動機構32、42によって支持されている。直交する2軸の直動機構32、42は、例えばリニアガイド及び独立駆動するボールネジであり、キャリア台3及び実装台4の盤面は、この直動機構32、42のスライダに支持されている。
(Detailed configuration)
The device mounting apparatus 1 includes a carrier table 3 and a mounting table 4 in addition to the transfer section 5 . The carrier table 3 has a flat board surface on which the carrier C is placed. The mounting table 4 has a flat board surface on which the substrate S is placed. These carrier table 3 and mounting table 4 are movable in two-dimensional directions parallel to the board surface. That is, the board surfaces of the carrier table 3 and the mounting table 4 are supported by orthogonal two-axis direct-acting mechanisms 32 and 42 . The linear motion mechanisms 32 and 42 of two orthogonal axes are, for example, linear guides and independently driven ball screws.

キャリア台3は、直動機構32による2次元方向の水平移動により素子ピックアップ領域31を変更する。素子ピックアップ領域31は、キャリアC上の位置であり、ピックアップ予定となる複数行複数列の素子Eが存在する範囲である。換言すると、図1でキャリアC上に破線で示されているような、移送部5がピックアップしようとしている複数行複数列の素子Eからなる素子群を取り囲む、この素子群が存在する領域と同じ大きさの仮想的な領域が素子ピックアップ領域31である。したがって、素子ピックアップ領域31は、移送部5によるピックアップ毎にキャリアC上でその位置が変更される。 The carrier table 3 changes the element pick-up area 31 by two-dimensional horizontal movement by the linear movement mechanism 32 . The element pick-up area 31 is a position on the carrier C, and is a range in which the elements E of multiple rows and multiple columns to be picked up exist. In other words, the area surrounding the element group consisting of the elements E of multiple rows and multiple columns that the transfer section 5 is to pick up, as indicated by the dashed line on the carrier C in FIG. A virtual area of size is the element pick-up area 31 . Therefore, the element pick-up area 31 changes its position on the carrier C each time the transfer section 5 picks it up.

この素子実装装置1には、位置固定のピップアップポジション21が設定されており、移送部5及びキャリアC上の素子ピックアップ領域31が互いにピックアップポジション21に移動することで、素子ピックアップ領域31が変更される。換言すると、移送部5が今回ピックアップしようとしている素子群が存在する範囲の中心をピックアップポジション21に位置付けることで、素子ピックアップ領域31が変更される。このことは、素子ピックアップ領域31をその中心がピックアップポジション21に一致するように設定しておき、この素子ピックアップ領域31に今回のピックアップ対象となる複数行複数列の素子群が収まるように移動させることと等しい。 A positionally fixed pick-up position 21 is set in the device mounting apparatus 1, and the device pickup region 31 is changed by moving the transfer section 5 and the device pickup region 31 on the carrier C to the pickup position 21 with respect to each other. be done. In other words, the element pickup area 31 is changed by positioning the center of the range in which the element group to be picked up this time by the transfer section 5 is located at the pickup position 21 . This means that the element pickup area 31 is set so that its center coincides with the pickup position 21, and is moved so that the element group of multiple rows and multiple columns to be picked up this time can be accommodated in this element pickup area 31. equal to

実装台4は、直動機構42による2次元方向の水平移動により実装領域41を変更する。実装領域41は、基板S上の位置であり、素子Eが実装される範囲である。換言すると、図1で基板S上に破線で示されているような、複数行複数列の素子Eからなる素子群を取り囲む、この素子群が配置される領域と同じ大きさの仮想的な領域が実装領域41である。実装領域41は、基板S上に設定されている。 The mounting table 4 changes the mounting area 41 by two-dimensional horizontal movement by the linear motion mechanism 42 . A mounting area 41 is a position on the substrate S and is a range in which the element E is mounted. In other words, a virtual area of the same size as the area in which the element group is arranged, surrounding the element group consisting of the elements E arranged in a plurality of rows and columns, as indicated by the dashed lines on the substrate S in FIG. is the mounting area 41 . A mounting area 41 is set on the substrate S. As shown in FIG.

この素子実装装置1には、位置固定の実装ポジション22が設定されており、移送部5及び基板Sの実装領域41が互いに実装ポジション22に移動することで、実装領域41が変更される。換言すると、移送部5が基板S上において今回素子群を配置しようとしている領域の中心を実装ポジション22に位置付けることで、実装領域41が変更される。このことは、実装領域41をその中心が実装ポジション22に一致するように設定しておき、実装ポジション22に今回素子群が配置される予定の領域の中心が一致するように移動させることと等しい。 A fixed mounting position 22 is set in the device mounting apparatus 1 , and the mounting area 41 is changed by moving the transfer section 5 and the mounting area 41 of the board S to the mounting position 22 . In other words, the mounting area 41 is changed by positioning the center of the area where the element group is to be arranged on the substrate S at the mounting position 22 by the transfer section 5 . This is equivalent to setting the mounting area 41 so that its center coincides with the mounting position 22 and moving the area where the element group is to be arranged this time so that its center coincides with the mounting position 22 . .

移送部5は、直動機構51に昇降機構52を介して支持され、ピックアップポジション21及び実装ポジション22に移動可能となっている。直動機構51は、例えばリニアガイド及びボールネジであり、ピックアップポジション21と実装ポジション22の間に架設され、キャリアCの素子Eが配列された面と基板Sの実装領域41が配列された面を臨むように延設されている。昇降機構52は、例えばリニアガイド及びボールネジであり、直動機構51のスライダに支持され、キャリアCと基板Sに接近する方向に延設されている。移送部5は、この昇降機構52のスライダに支持されている。 The transfer unit 5 is supported by a direct-acting mechanism 51 via an elevating mechanism 52 and is movable between a pickup position 21 and a mounting position 22 . The linear motion mechanism 51 is, for example, a linear guide and a ball screw, and is installed between the pickup position 21 and the mounting position 22, and is arranged between the surface of the carrier C on which the elements E are arranged and the surface of the substrate S on which the mounting areas 41 are arranged. It is extended so that you can face it. The elevating mechanism 52 is, for example, a linear guide and a ball screw, is supported by the slider of the linear motion mechanism 51, and extends in a direction approaching the carrier C and the substrate S. As shown in FIG. The transfer section 5 is supported by the slider of the lifting mechanism 52 .

図2に示すように、移送部5は保持面54を有している。保持面54は、ピックアップポジション21でキャリアCと向かい合い、また実装ポジション22で基板Sと向かい合う移送部5の端面である。この保持面54には保持部55が配設されている。保持部55は複数行複数列に整列している。1個の保持部55は、1個の素子Eを保持する。保持部55は、例えば、素子Eの辺長より小径の吸引穴であり、真空吸着によって素子Eを吸着保持する。各保持部55は、負圧が発生することにより素子Eを吸い付け、負圧が発生している間は素子Eを保持し、真空破壊や大気開放等による負圧解除によって素子Eを離す。なお、保持部55の行数、列数と、キャリアC上又は基板S上の素子Eの行数、列数とは一致していなくても一致していても良い。ここでは、保持部55の行数、列数と、キャリアC上又は基板S上の素子Eの行数、列数とは一致しておらず、保持部55の行数、列数の方がキャリアC上又は基板S上の素子Eの行数、列数より少ない。 As shown in FIG. 2, the transfer section 5 has a holding surface 54 . The holding surface 54 is an end surface of the transfer section 5 that faces the carrier C at the pickup position 21 and faces the substrate S at the mounting position 22 . A holding portion 55 is arranged on the holding surface 54 . The holding portions 55 are arranged in multiple rows and multiple columns. One holding portion 55 holds one element E. As shown in FIG. The holding portion 55 is, for example, a suction hole having a smaller diameter than the side length of the element E, and sucks and holds the element E by vacuum suction. Each holding part 55 attracts the element E when a negative pressure is generated, holds the element E while the negative pressure is generated, and releases the element E when the negative pressure is released by vacuum breaking or opening to the atmosphere. The number of rows and columns of the holding portion 55 may or may not match the number of rows and columns of the elements E on the carrier C or the substrate S. Here, the number of rows and columns of the holding portion 55 does not match the number of rows and columns of the elements E on the carrier C or the substrate S, and the number of rows and columns of the holding portion 55 are larger. The number of rows and columns of the elements E on the carrier C or substrate S is smaller than the number of rows and columns.

保持面54には、素子ピックアップ領域31及び実装領域41の中心位置と位置合わせするための基準位置が設けられている。この基準位置は、移送部5の中心であり、ここでは保持面54の中心位置である。 The holding surface 54 is provided with a reference position for alignment with the center positions of the element pickup area 31 and the mounting area 41 . This reference position is the center of the transfer section 5, which is the center position of the holding surface 54 here.

また、この素子実装装置1は、図1に示すように、撮像部6及び制御部7を備える。撮像部6は、保持面54に保持された複数行複数列の素子Eからなる素子群(以下、単に「素子群」ともいう。)を撮像するカメラである。すなわち、この撮像部6は、ピックアップポジション21と実装ポジション22との間に配置されており、撮像面が、ピックアップポジション21と実装ポジション22との間を移送部5が移送される移送経路に向けられている。撮像部6は、移送部5が、保持面54に素子群を保持した状態でピックアップポジション21から実装ポジション22へ移送している最中に、保持面54を画角に収めて素子群を撮像する。より詳細には、撮像部6の中心、すなわち撮像面(レンズ)の中心は移送部5の移送経路の真下に位置し、保持面54の中心が移送経路上を移動し、撮像面の中心と保持面54の中心が上下方向から見て一致すると、撮像部6の画角内に保持面54で保持された素子群が収まる。ここでは、撮像部6による素子群の画像の中心が保持面54の中心と一致している。撮像部6は、当該素子群の画像を制御部7に送信する。なお、保持面54の撮像は、移送部5を停止させて行っても良いし、移動中に行っても良い。 The device mounting apparatus 1 also includes an imaging section 6 and a control section 7, as shown in FIG. The image capturing unit 6 is a camera that captures an image of an element group (hereinafter also simply referred to as an “element group”) composed of elements E arranged in multiple rows and multiple columns and held on the holding surface 54 . That is, the imaging unit 6 is arranged between the pickup position 21 and the mounting position 22, and the imaging surface faces the transfer route along which the transfer unit 5 is transferred between the pickup position 21 and the mounting position 22. It is The imaging unit 6 captures an image of the element group by keeping the holding surface 54 within the angle of view while the transfer unit 5 is transferring the element group from the pickup position 21 to the mounting position 22 while the element group is held on the holding surface 54 . do. More specifically, the center of the imaging unit 6, that is, the center of the imaging surface (lens) is located directly below the transport path of the transport unit 5, and the center of the holding surface 54 moves on the transport path and is aligned with the center of the imaging surface. When the centers of the holding surfaces 54 coincide when viewed from above and below, the element group held by the holding surfaces 54 fits within the angle of view of the imaging unit 6 . Here, the center of the image of the element group by the imaging unit 6 coincides with the center of the holding surface 54 . The imaging unit 6 transmits the image of the element group to the control unit 7 . The image of the holding surface 54 may be taken while the transfer section 5 is stopped, or may be taken while the transfer section 5 is moving.

制御部7は、移送部5と実装台4との相対位置を制御する。制御部7は、例えば、素子実装装置1の各部を制御するCPU、ROM、RAM及び信号送信回路を有するコンピュータ又はマイコンであり、キャリア台3、実装台4及び移送部5の駆動源と接続されている。また制御部7には、移送部5の中心となる保持面54の基準位置として、保持面54の中心点の座標を予め保持している。 The control section 7 controls the relative positions of the transfer section 5 and the mounting table 4 . The control unit 7 is, for example, a computer or a microcomputer having a CPU, a ROM, a RAM, and a signal transmission circuit for controlling each unit of the device mounting apparatus 1 , and is connected to the driving sources of the carrier table 3 , the mounting table 4 and the transfer unit 5 . ing. In addition, the control unit 7 stores in advance the coordinates of the center point of the holding surface 54 as the reference position of the holding surface 54 that is the center of the transfer unit 5 .

図3は、制御部7の機能ブロック図である。図3に示すように、制御部7は、位置検出部71、基準位置算出部72及び位置ずれ算出部73を有する。位置検出部71は、撮像部6により撮像された素子群の画像から、行方向及び列方向に並んだ3つ以上の素子Eの位置を検出する。つまり、位置検出部71は、行方向に並んだ3つ以上の素子Eの位置と列方向に並んだ3つ以上の素子Eの位置をそれぞれ検出する。より具体的には、以下のとおりである。すなわち、素子Eは、設計上は、キャリアC上で行方向に等間隔で複数個及び列方向に等間隔で複数個配列されているため、保持部54で保持される素子群の外形は矩形状となる。そして、この素子群によって形成される矩形状の領域は、素子ピックアップ領域31と略一致する。一方、実際の素子群には配置のバラツキが存在する。しかしながら、図4に示すように、素子群の外周辺に位置する素子Eは、前述の矩形状の領域(図4に点線で示す領域)の辺に概ね沿って位置する。位置検出部71は、撮像部6により撮像された素子群のこれら4つの外周辺の複数の素子E1~E28(図4の黒塗りの素子E)の中から、外周辺毎に3つの素子Eの位置を検出する。例えば、上辺の外周辺では素子E1、E4、E8の位置を検出し、下辺の外周辺では素子E22、E19、E15の位置を検出し、左辺の外周辺では素子E1、E26、E22の位置を検出し、右辺の外周辺では素子E8、E11、E15の位置を検出する。位置検出部71は、撮像部6により撮像された素子群の中から、外周辺毎に選択された3つの素子Eの位置を検出する。なお、選択する素子Eは、予め選択して制御部7に記憶させておく。 FIG. 3 is a functional block diagram of the control section 7. As shown in FIG. As shown in FIG. 3, the controller 7 has a position detector 71, a reference position calculator 72, and a positional deviation calculator 73. FIG. The position detection unit 71 detects the positions of three or more elements E arranged in the row direction and the column direction from the image of the element group captured by the imaging unit 6 . That is, the position detection unit 71 detects the positions of three or more elements E arranged in the row direction and the positions of three or more elements E arranged in the column direction. More specifically, it is as follows. That is, since a plurality of elements E are arranged on the carrier C at equal intervals in the row direction and at equal intervals in the column direction, the outline of the element group held by the holding unit 54 is rectangular. shape. A rectangular area formed by this element group substantially coincides with the element pick-up area 31 . On the other hand, actual element groups have variations in arrangement. However, as shown in FIG. 4, the elements E positioned on the outer periphery of the element group are positioned substantially along the sides of the aforementioned rectangular area (the area indicated by the dotted lines in FIG. 4). The position detection unit 71 selects three elements E for each outer periphery from among a plurality of elements E1 to E28 (black elements E in FIG. 4) on the four outer periphery of the element group imaged by the imaging unit 6. Detect the position of For example, the positions of elements E1, E4, and E8 are detected on the perimeter of the upper side, the positions of elements E22, E19, and E15 are detected on the perimeter of the lower side, and the positions of elements E1, E26, and E22 are detected on the perimeter of the left side. The positions of the elements E8, E11, and E15 are detected on the outer periphery of the right side. The position detection unit 71 detects the positions of three elements E selected for each outer circumference from among the element groups imaged by the imaging unit 6 . The element E to be selected is selected in advance and stored in the control unit 7 .

ここでは3つの素子Eを検出する例としているが、素子Eは、当該外周辺の両端の素子Eの位置を含めて検出することが好ましく、外周辺の素子Eの全ての位置を検出することが更に好ましい。また、上述したように、外周辺毎に3つの素子Eの位置を検出する場合、外周辺の両端に位置する2つの素子Eと、辺の中央又はその付近に位置する1つの素子Eを検出対象の素子Eとすると良い。なお、上述したように、実際にキャリアC上に整列された素子Eには許容される範囲内のバラツキが存在する。したがって、キャリアC上に行方向に等間隔で複数個及び列方向に等間隔で複数個配列された状態とは、行方向及び列方向それぞれの方向に許容される範囲内のバラツキを有してそれぞれの等間隔で整列された状態を含む。 In this example, three elements E are detected, but the elements E are preferably detected including the positions of the elements E on both ends of the outer periphery, and all the positions of the elements E on the outer periphery are detected. is more preferred. Further, as described above, when detecting the positions of three elements E for each outer periphery, two elements E located at both ends of the outer periphery and one element E located at or near the center of the side are detected. It is preferable to use the target element E. As described above, the elements E actually aligned on the carrier C have variations within the allowable range. Therefore, the state in which a plurality of particles are arranged on the carrier C at equal intervals in the row direction and a plurality of particles are arranged at equal intervals in the column direction have variations within the allowable ranges in the row direction and the column direction. Contains each equally spaced aligned state.

基準位置算出部72は、位置検出部71により検出された3つ以上の素子Eの位置に基づいて、素子群の位置決め基準位置K(図5参照)を求める。位置決め基準位置Kは、ここでは、保持面54に保持された素子群を実装領域41に正確に位置決めするための基準位置であり、例えば、素子群の中心位置である。 The reference position calculator 72 obtains the positioning reference position K (see FIG. 5) of the element group based on the positions of the three or more elements E detected by the position detector 71 . Here, the positioning reference position K is a reference position for accurately positioning the element group held by the holding surface 54 in the mounting area 41, and is, for example, the center position of the element group.

具体的には、基準位置算出部72は、位置検出部71により検出された素子Eの位置から、各外周辺を直線近似する近似式をそれぞれ求める。ここで、外周辺を直線近似するとは、その外周辺に位置する素子Eのうち位置が検出された素子Eの座標分布の直線的な傾向を表す回帰直線を求めることを意味し、この回帰直線は最小二乗法を用いて求めることができる。素子Eの位置は、例えば、素子Eの中心座標、素子Eの左上隅の座標である。また、列方向の対向する2本の外周辺の近似式から位置決め基準位置Kの行方向の座標を求め、行方向の対向する2本の外周辺の近似式から位置決め基準位置Kの列方向の座標を求めることで、位置決め基準位置Kを求める。 Specifically, the reference position calculator 72 obtains an approximation formula for straight-line approximation of each periphery from the position of the element E detected by the position detector 71 . Here, the linear approximation of the outer periphery means obtaining a regression line representing the linear tendency of the coordinate distribution of the element E whose position is detected among the elements E located in the outer periphery. can be obtained using the least squares method. The position of the element E is the center coordinates of the element E and the coordinates of the upper left corner of the element E, for example. Further, the row-direction coordinates of the positioning reference position K are obtained from the two approximation formulas for the outer perimeter facing each other in the column direction, and the column-direction coordinates of the positioning reference position K are obtained from the two approximation formulas for the outer perimeter facing each other in the row direction. By obtaining the coordinates, the positioning reference position K is obtained.

例えば、図5に示すように、行方向をX軸方向、列方向をY軸方向とすると、基準位置算出部72は、行方向の対向する2本の外周辺の近似式Y=a1×X+b1(上辺)、Y=a2×X+b2(下辺)から予め設定された保持面54の基準位置(ここでは保持面54の中心位置M(X0,Y0))でのY座標Y1,Y2(Y1=a1×X0+b1、Y2=a2×X0+b2)を求め、Y1とY2の中点((Y1+Y2)/2)を位置決め基準位置KのY座標すなわち列方向の位置とする。(X0、Y0)は、矩形状の保持面54の中心座標である。 For example, as shown in FIG. 5, if the row direction is the X-axis direction and the column direction is the Y-axis direction, the reference position calculation unit 72 calculates the approximation formula Y=a1×X+b1 for the outer perimeters of two lines facing each other in the row direction. (upper side), Y=a2×X+b2 (lower side), Y coordinates Y1, Y2 (Y1=a1) at the preset reference position of the holding surface 54 (here, center position M (X0, Y0) of the holding surface 54) xX0+b1, Y2=a2xX0+b2), and the middle point between Y1 and Y2 ((Y1+Y2)/2) is set as the Y coordinate of the positioning reference position K, that is, the position in the column direction. (X0, Y0) are the center coordinates of the rectangular holding surface 54 .

また、基準位置算出部72は、列方向の対向する2本の外周辺の近似式X=c1×Y+d1(左辺)、X=c2×Y+d2(右辺)から保持面54の基準位置(ここでは保持面54の中心位置M(X0,Y0))でのX座標X1,X2(X=c1×Y0+d1、X=c2×Y0+d2)を求め、X1とX2の中点((X1+X2)/2)を位置決め基準位置KのX座標すなわち行方向の位置とする。 Further, the reference position calculator 72 calculates the reference position of the holding surface 54 (here, holding Find the X coordinates X1 and X2 (X=c1×Y0+d1, X=c2×Y0+d2) at the center position M (X0, Y0) of the surface 54, and position the middle point between X1 and X2 ((X1+X2)/2). The X coordinate of the reference position K, that is, the position in the row direction.

位置ずれ算出部73は、保持面54に保持された素子群の位置決め基準位置Kと、保持面54の基準位置Mとのずれを算出する。このずれΔK=(ΔX,ΔY)は、例えば、ΔX=((X1+X2)/2)-X0、ΔY=((Y1+Y2)/2)-Y0である。 The positional deviation calculator 73 calculates the deviation between the positioning reference position K of the element group held by the holding surface 54 and the reference position M of the holding surface 54 . This shift ΔK=(ΔX, ΔY) is, for example, ΔX=((X1+X2)/2)-X0 and ΔY=((Y1+Y2)/2)-Y0.

制御部7は、このずれΔKが解消する制御信号を生成し、当該制御信号を移送部5、実装台4の駆動源に送信する。直動機構51、42が当該制御信号に基づいて移送部5及び実装台4の相対位置を移動させることで、ずれΔKが補正される。 The control unit 7 generates a control signal that eliminates the deviation ΔK, and transmits the control signal to the driving source of the transfer unit 5 and the mounting table 4 . The displacement ΔK is corrected by the linear motion mechanisms 51 and 42 moving the relative positions of the transfer section 5 and the mounting table 4 based on the control signal.

例えば、制御部7は、キャリア台3を、キャリアC上の素子ピックアップ領域31の中心位置が、移送部5により素子群が一括ピックアップされる予定位置のピックアップポジション21に来るように移動させ、また、実装台4を、基板S上の実装予定の実装領域41の中心位置が、移送部5により保持された素子群を実装する予定位置である実装ポジション22に来るように移動させる。そして、制御部7は、移送部5を、ピックアップポジション21と実装ポジション22との間を移動させるとともに、ずれΔKが解消するように、実装台4と移送部5とを相対移動させる。相対移動は、移送部5の移動量をポジション21、22間の規定量とし、実装台4がずれΔKを相殺するように移動しても良いし、実装台4は、実装領域41の中心位置を実装ポジション22で一致させて固定し、移送部5を、ポジション21、22間の移動量に加えてずれΔKを相殺するように移動させても良い。また、移送部5と実装台4の双方をずれΔKが相殺されるように相互に移動させても良い。 For example, the control unit 7 moves the carrier table 3 so that the center position of the element pick-up area 31 on the carrier C comes to the pickup position 21 where the element group is to be collectively picked up by the transfer unit 5, and , the mounting table 4 is moved so that the center position of the mounting area 41 to be mounted on the substrate S comes to the mounting position 22 where the element group held by the transfer section 5 is to be mounted. Then, the control unit 7 moves the transfer unit 5 between the pickup position 21 and the mounting position 22, and relatively moves the mounting table 4 and the transfer unit 5 so as to eliminate the deviation ΔK. As for the relative movement, the amount of movement of the transfer section 5 is set to a specified amount between the positions 21 and 22, and the mounting table 4 may be moved so as to offset the deviation ΔK. may be aligned and fixed at the mounting position 22, and the transfer section 5 may be moved so as to offset the displacement ΔK in addition to the amount of movement between the positions 21 and 22. Moreover, both the transfer section 5 and the mounting table 4 may be moved so that the deviation ΔK is offset.

以上のように、制御部7は、基準位置算出部72で求めた位置決め基準位置Kに基づいて、基板Sに対する移送部5による素子群の実装位置を補正する。 As described above, the control unit 7 corrects the mounting position of the element group on the substrate S by the transfer unit 5 based on the positioning reference position K obtained by the reference position calculation unit 72 .

(動作)
図6は、本実施形態に係る素子実装装置1の動作の一例を示すフローチャートである。この動作を説明する前提として、予めキャリア台3の盤面にキャリアCが配置され、実装台4の盤面に基板Sが配置されているものとする。
(motion)
FIG. 6 is a flow chart showing an example of the operation of the device mounting apparatus 1 according to this embodiment. As a premise for explaining this operation, it is assumed that the carrier C is arranged on the board surface of the carrier table 3 and the substrate S is arranged on the board surface of the mounting table 4 in advance.

図6に示すように、まず、キャリア台3を直動機構32によって2次元平面上を移動させ、素子ピックアップ領域31の中心位置がピックアップポジション21に位置するように停止させる。また、実装台4を直動機構42によって2次元平面上を移動させ、実装領域41の中心位置が実装ポジション22に位置するように停止させる(ステップS01)。 As shown in FIG. 6 , first, the carrier table 3 is moved on a two-dimensional plane by the linear motion mechanism 32 and stopped so that the center position of the element pickup area 31 is positioned at the pickup position 21 . Further, the mounting table 4 is moved on a two-dimensional plane by the linear motion mechanism 42 and stopped so that the center position of the mounting area 41 is positioned at the mounting position 22 (step S01).

次に、移送部5をピックアップポジション21に移動させて、素子ピックアップ領域31の素子群を一括してピックアップする。具体的には、移送部5を、直動機構51によりピックアップポジション21に移動させ、昇降機構52により保持面54に各素子Eが当接するまで下降させ、負圧により各素子Eを吸着保持する(ステップS02)。 Next, the transfer section 5 is moved to the pickup position 21 to collectively pick up the element group in the element pickup area 31 . Specifically, the transfer unit 5 is moved to the pickup position 21 by the linear motion mechanism 51, lowered by the lifting mechanism 52 until each element E comes into contact with the holding surface 54, and each element E is sucked and held by negative pressure. (Step S02).

そして、保持面54で素子群を保持した状態で昇降機構52により移送部5を規定位置まで上昇させ、直動機構51によって実装ポジション22へ移送させる(ステップS03)。 Then, while the element group is held by the holding surface 54, the lifting mechanism 52 raises the transfer section 5 to a specified position, and the linear motion mechanism 51 transfers it to the mounting position 22 (step S03).

この移送の途中で撮像部6は、保持面54に保持された素子群を撮像する(ステップS04)。撮像した画像は、制御部7に送信される。 During this transfer, the imaging unit 6 images the element group held on the holding surface 54 (step S04). The captured image is transmitted to the control section 7 .

位置検出部71により、撮像された素子群の画像から、当該素子群の外周辺毎に3つ以上の素子Eの位置を検出する(ステップS05)。つまり、矩形状を成す素子群の4辺に当たる位置に配列されている複数の素子Eの中から辺毎にそれぞれ3つ以上の素子Eの位置を検出する。 The position detection unit 71 detects the positions of three or more elements E for each outer circumference of the element group from the captured image of the element group (step S05). That is, the positions of three or more elements E are detected for each side from among the plurality of elements E arranged at the positions corresponding to the four sides of the rectangular element group.

次に、基準位置算出部72により、検出した素子Eの位置に基づいて、素子群の位置決め基準位置Kを算出する(ステップS06)。 Next, the reference position calculator 72 calculates the positioning reference position K of the element group based on the detected position of the element E (step S06).

制御部7は、この位置決め基準位置Kに基づいて、基板Sに対する移送部5による素子群の実装位置を補正する。具体的には、位置ずれ算出部73により、保持面54に保持された素子群の位置決め基準位置Kと、保持面54の基準位置MとのずれΔKを算出する(ステップS07)。 Based on this positioning reference position K, the control unit 7 corrects the mounting position of the element group on the substrate S by the transfer unit 5 . Specifically, the positional deviation calculator 73 calculates the deviation ΔK between the positioning reference position K of the element group held by the holding surface 54 and the reference position M of the holding surface 54 (step S07).

そして、制御部7は、このずれΔKを解消するように移送部5、実装台4の駆動源(直動機構42、51)を駆動させる制御信号を生成し、当該制御信号を移送部5、実装台4の駆動源に出力し、当該制御信号に従って移送部5と実装台4の相対位置を制御する。すなわち、保持面54で保持した素子群を実装ポジション22へ移送させている最中に、上記制御信号に基づいて、移送部5と実装台4とを相対的に移動させることにより、実装領域41の中心位置と素子群の位置決め基準位置Kとが位置合わせされた状態で移送部5が実装領域41の上方に位置する(ステップS08)。 Then, the control unit 7 generates control signals for driving the driving sources (linear motion mechanisms 42 and 51) of the transfer unit 5 and the mounting table 4 so as to eliminate the deviation ΔK, and transmits the control signals to the transfer unit 5, The signal is output to the driving source of the mounting table 4, and the relative position between the transfer section 5 and the mounting table 4 is controlled according to the control signal. That is, while the element group held by the holding surface 54 is being transferred to the mounting position 22, the mounting area 41 is moved by relatively moving the transfer section 5 and the mounting table 4 based on the control signal. The transfer unit 5 is positioned above the mounting area 41 in a state in which the center position of the element group is aligned with the positioning reference position K of the element group (step S08).

移送部5が昇降機構52により下降し、保持面54に保持された素子Eを基板Sに当接させて実装領域41に素子群を実装する(ステップS09)。このように、素子実装装置1は、ステップS01~S09のようにキャリアCからの素子群のピックアップ、移送、及び基板Sへの実装を、キャリアC上の全ての素子ピックアップ領域31での素子群の一括ピックアップが終了するまで、又は、基板S上の各実装領域41への実装が終了するまで繰り返す。 The transfer unit 5 is lowered by the lifting mechanism 52, and the element E held on the holding surface 54 is brought into contact with the substrate S to mount the element group on the mounting area 41 (step S09). In this way, the device mounting apparatus 1 picks up the device groups from the carrier C, transfers them, and mounts them onto the substrate S in steps S01 to S09. , or until mounting on each mounting area 41 on the substrate S is completed.

(作用・効果)
(1)本実施形態の素子実装装置1は、素子を複数行複数列に整列したキャリアを載置するキャリア台3と、素子が配置される基板Sを載置する実装台4と、複数行複数列の素子からなる素子群を保持する保持面54を有し、保持面54でキャリアから複数行複数列の素子群を一括してピックアップして、ピックアップした素子群を基板Sに一括して移す移送部5と、移送部5と実装台4との相対位置を制御する制御部7と、保持面54に保持された素子群を撮像する撮像部6と、を備える。そして、制御部7は、撮像部6により撮像された素子群の画像から、行方向及び列方向に並んだ3つ以上の素子の位置を検出する位置検出部71と、位置検出部71により検出された行方向及び列方向における3つ以上の素子の位置に基づいて、素子群の位置決め基準位置Kを求める基準位置算出部72と、を有し、位置決め基準位置Kに基づいて、素子群を移すときの移送部5と実装台4との相対位置を補正するようにした。
(action/effect)
(1) The device mounting apparatus 1 of the present embodiment includes a carrier table 3 on which a carrier on which devices are arranged in multiple rows and multiple columns is placed, a mounting table 4 on which a substrate S on which devices are arranged is placed, and a A holding surface 54 for holding an element group consisting of a plurality of columns of elements is provided, and the holding surface 54 collectively picks up the element groups of a plurality of rows and a plurality of columns from the carrier, and collectively picks up the picked-up element groups on the substrate S. A transfer unit 5 for transferring, a control unit 7 for controlling the relative position between the transfer unit 5 and the mounting table 4, and an imaging unit 6 for imaging the element group held on the holding surface 54 are provided. Then, the control unit 7 detects the positions of three or more elements arranged in the row direction and the column direction from the image of the element group captured by the imaging unit 6, and the position detection unit 71 detects a reference position calculator 72 for determining a positioning reference position K of the element group based on the positions of three or more elements in the row direction and column direction, and determining the element group based on the positioning reference position K; The relative position between the transfer section 5 and the mounting table 4 during transfer is corrected.

これにより、行方向及び列方向に並んだ3つ以上の素子Eの位置に基づいて素子群の位置決め基準位置Kを求めているので、キャリアC上の各素子Eの整列位置にずれがあっても、そのずれによる影響を小さくして、基板Sに対する移送部5の位置決め精度を向上させることができる。その結果、基板Sへの素子群のより正確な実装を行うことができ、歩留まりを向上させることができる。 As a result, since the positioning reference position K of the element group is obtained based on the positions of three or more elements E arranged in the row direction and the column direction, there is a deviation in the alignment position of each element E on the carrier C. Also, the influence of the shift can be reduced, and the positioning accuracy of the transfer section 5 with respect to the substrate S can be improved. As a result, the element group can be mounted on the substrate S more accurately, and the yield can be improved.

(2)位置検出部71は、素子群の外周辺の複数の素子の中から、外周辺毎に3つ以上の素子の位置を検出し、基準位置算出部72は、検出された素子の位置から、各外周辺を直線近似する近似式をそれぞれ求め、列方向の対向する外周辺の近似式から位置決め基準位置の行方向の座標を求め、行方向の対向する外周辺の近似式から位置決め基準位置の列方向の座標を求めることで、位置決め基準位置Kを求めるようにした。 (2) The position detection unit 71 detects the positions of three or more elements for each outer periphery from among a plurality of elements on the outer periphery of the element group, and the reference position calculation unit 72 detects the positions of the detected elements. , find the row-direction coordinates of the positioning reference position from the row-direction approximation formula for the outer perimeter facing each other in the column direction. The positioning reference position K is obtained by obtaining the coordinates of the position in the column direction.

これにより、素子群の内側の素子Eの位置ではなく、外周辺の素子Eの位置から位置決め基準位置Kを求めている。そのため、内側の素子Eを用いる場合に比べて、近似式を求めるために位置を検出する素子Eの数を多くとることができる。このため、より正確な位置決め基準位置Kを求めることができる。その結果、基板Sに対する移送部5の位置決め精度、ひいては歩留まりをより向上させることができる。 As a result, the positioning reference position K is obtained from the position of the element E on the outer periphery, not from the position of the element E inside the element group. Therefore, compared to the case where the inner elements E are used, it is possible to increase the number of the elements E for detecting the position in order to obtain the approximation formula. Therefore, a more accurate positioning reference position K can be obtained. As a result, the positioning accuracy of the transfer section 5 with respect to the substrate S, and thus the yield can be further improved.

(3)位置検出部71は、外周辺の両端の素子の位置を含めて検出し、基準位置算出部72は、両端を含めた素子の位置に基づいて近似式を求めるようにした。これにより、より正確な位置決め基準位置Kを求めることができる。その結果、基板Sに対する移送部5の位置決め精度、ひいては歩留まりを向上させることができる。 (3) The position detection unit 71 detects including the positions of the elements at both ends of the outer circumference, and the reference position calculation unit 72 obtains an approximate expression based on the positions of the elements including both ends. Thereby, a more accurate positioning reference position K can be obtained. As a result, the positioning accuracy of the transfer section 5 with respect to the substrate S, and thus the yield can be improved.

(4)撮像部6は、保持面54に保持された素子群を撮像し、制御部7は、保持面54に保持された素子群の位置決め基準位置Kと、保持面54の予め設定された基準位置Mとのずれを算出する位置ずれ算出部73を有し、当該ずれが解消するように、移送部5と実装台4とを相対移動させるようにした。これにより、保持面54に保持された素子群の位置決め基準位置Kと実装領域41の中心位置とを位置合わせすることができる。その結果、歩留まりを向上させることができる。 (4) The imaging unit 6 captures an image of the element group held on the holding surface 54, and the control unit 7 controls the positioning reference position K of the element group held on the holding surface 54 and the preset position of the holding surface 54. A positional deviation calculator 73 for calculating a deviation from the reference position M is provided, and the transfer part 5 and the mounting table 4 are moved relative to each other so as to eliminate the deviation. Thereby, the positioning reference position K of the element group held by the holding surface 54 and the center position of the mounting area 41 can be aligned. As a result, yield can be improved.

(実施例)
本実施形態の効果を検証するため、シミュレーションを行った。シミュレーションの条件を以下に示す。なお、効果は行方向(X軸方向)と列方向(Y軸方向)とで同程度に得られると推測されるため、ずれΔKの算出は、Y軸方向のみを行った。
(Example)
A simulation was performed to verify the effects of this embodiment. The simulation conditions are shown below. Since it is assumed that the same effect can be obtained in the row direction (X-axis direction) and the column direction (Y-axis direction), the deviation ΔK was calculated only in the Y-axis direction.

素子Eの配置 :10×10(合計100個の素子E)
素子Eのピッチ:0.1mm
素子Eの配置バラツキ: ランダム関数で±10μmを与えた
なお、効果の検証に素子Eの寸法は必要ないので、素子Eには寸法を与えず中心座標のみを与えた。各素子Eのバラツキがない理想的な配列は、行列配置された素子群の左下に位置する10行1列の素子Eの座標を原点(0,0)とした。また、以下では、10行10列の素子Eからなる素子群の外周辺のうち、Y軸方向正側の外周辺を上辺、Y軸方向負側の外周辺を下辺と称する。
Arrangement of element E: 10 × 10 (total of 100 elements E)
Pitch of element E: 0.1 mm
Arrangement variation of the element E: ±10 μm was given by a random function. Since the dimension of the element E is not necessary for verification of the effect, only the central coordinate was given without giving the dimension to the element E. For an ideal arrangement of the elements E without variation, the origin (0, 0) is the coordinates of the element E in 10 rows and 1 column located at the lower left of the element group arranged in a matrix. Further, hereinafter, of the outer periphery of the element group consisting of the elements E arranged in 10 rows and 10 columns, the outer periphery on the positive side in the Y-axis direction is referred to as the upper side, and the outer periphery on the negative side in the Y-axis direction is referred to as the lower side.

シミュレーションの内容は、以下の通りである。上記の条件で図5のような素子Eの配置を作成し、上辺、下辺の両端を含めた全ての素子Eの座標位置から、最小自乗法により上辺及び下辺の直線近似式を求めた。保持面54の基準位置(中心点)の座標を(0.45,0.45)とし、上辺及び下辺の直線近似式での中心点Mでの素子群の位置決め基準位置Kを求めた。そして、求めた位置決め基準位置Kと保持面54の中心点MとのずれΔYを求めた。 The contents of the simulation are as follows. Under the above conditions, the arrangement of the elements E as shown in FIG. 5 was created, and linear approximations of the upper and lower sides were obtained by the least squares method from the coordinate positions of all the elements E including both ends of the upper and lower sides. The coordinates of the reference position (center point) of the holding surface 54 were set to (0.45, 0.45), and the positioning reference position K of the element group at the center point M in the linear approximation formula of the upper and lower sides was obtained. Then, the deviation ΔY between the determined positioning reference position K and the center point M of the holding surface 54 was determined.

上記のシミュレーションを10回行った。各ずれΔYの結果を表1に示す。

Figure 0007154074000001
The above simulation was performed 10 times. Table 1 shows the results of each deviation ΔY.
Figure 0007154074000001

また、比較例として、上記シミュレーションで従来の2点からずれを求めた結果を表1に示す。すなわち、比較例でのずれの算出は、以下の通りである。素子群の右上(1行10列目)と左下(10行1列目)の素子Eの位置の中点を素子群の位置決め基準位置Kとし、この位置決め基準位置Kと保持面54の中心位置Mとの差分として算出した。このように、実施例と比較例は、位置決め基準位置の算出方法のみが異なる。 Also, as a comparative example, Table 1 shows the result of obtaining the deviation from the conventional two points in the above simulation. That is, the calculation of the shift in the comparative example is as follows. The midpoint between the positions of the elements E on the upper right (1st row, 10th column) and the lower left (10th row, 1st column) of the element group is defined as the positioning reference position K of the element group, and this positioning reference position K and the center position of the holding surface 54 Calculated as the difference from M. Thus, the embodiment and the comparative example differ only in the method of calculating the positioning reference position.

表1に示すように、実施例のずれΔYの平均は0.0004であり、比較例のずれΔYの平均は0.0015であった。実施例と比較例が同じ素子Eの配置バラツキであっても、実施例によれば、比較例と比べて約73%((0.0015-0.0004)/0.0015)改善されることが確認できた。つまり、比較例では特定の2つの素子Eの位置から位置決め基準位置を求めるため、当該2つの素子Eの配置バラツキの影響を大きく受ける。これに対し、実施例では、上辺及び下辺の両端を含めた全ての素子Eの位置に基づいて位置決め基準位置Kを求めているため、個別の素子Eの配置バラツキの影響を小さくすることができる。 As shown in Table 1, the average deviation ΔY of the examples was 0.0004, and the average deviation ΔY of the comparative examples was 0.0015. Even if the arrangement variation of the element E is the same in the example and the comparative example, according to the example, it is improved by about 73% ((0.0015-0.0004)/0.0015) compared to the comparative example. was confirmed. That is, in the comparative example, since the positioning reference position is obtained from the positions of two specific elements E, the influence of the arrangement variation of the two elements E is large. On the other hand, in the embodiment, since the positioning reference position K is obtained based on the positions of all the elements E including both ends of the upper side and the lower side, the influence of the arrangement variation of the individual elements E can be reduced. .

(第2の実施形態)
(構成)
第2の実施形態に係る素子実装装置1について図面を参照しつつ詳細に説明する。第1の実施形態と同一構成及び同一機能については同一符号を付して詳細な説明を省略する。
(Second embodiment)
(Constitution)
A device mounting apparatus 1 according to a second embodiment will be described in detail with reference to the drawings. The same reference numerals are assigned to the same configurations and the same functions as those of the first embodiment, and detailed description thereof will be omitted.

図7は、第2の実施形態に係る素子実装装置1の構成を示す模式図である。図7に示すように、本実施形態の撮像部6は、キャリア台3と実装台4との間ではなく、キャリア台3の上方に設けられている。 FIG. 7 is a schematic diagram showing the configuration of an element mounting apparatus 1 according to the second embodiment. As shown in FIG. 7, the imaging unit 6 of this embodiment is provided above the carrier table 3 instead of between the carrier table 3 and the mounting table 4 .

ここでは、撮像部6は、その撮像面の中心をピックアップポジション21に位置合わせして、ピックアップポジション21に位置固定で設けられており、キャリア台3が直動機構32で2次元平面上を移動することによって、撮像部6とキャリア台3とが相対移動する。すなわち、制御部7は、撮像部6とキャリア台3との相対位置を制御する。 Here, the imaging unit 6 is fixed in position at the pickup position 21 with the center of its imaging surface aligned with the pickup position 21, and the carrier table 3 is moved on a two-dimensional plane by the linear motion mechanism 32. By doing so, the imaging unit 6 and the carrier base 3 are moved relative to each other. That is, the control section 7 controls the relative position between the imaging section 6 and the carrier base 3 .

撮像部6の撮像面は、キャリア台3の盤面に向けられており、撮像部6は、キャリア台3の盤面上に載置されたキャリアCの素子群を撮像する。ここでは、ピックアップ予定となる複数行複数列の素子Eからなる素子群が存在する範囲である素子ピックアップ領域31の中心位置がピックアップポジション21に位置するように、キャリア台3が2次元平面上を移動すると、撮像部6は、当該素子ピックアップ領域31内の素子群を画角に収めて当該素子群を撮像する。 The imaging surface of the imaging unit 6 faces the board surface of the carrier base 3 , and the imaging unit 6 images the element group of the carrier C placed on the board surface of the carrier base 3 . Here, the carrier base 3 is moved on the two-dimensional plane so that the center position of the element pickup region 31, which is the range in which the element group consisting of the elements E of multiple rows and multiple columns to be picked up exists, is positioned at the pickup position 21. When moved, the imaging unit 6 captures an image of the element group within the element pickup area 31 by fitting the element group within the angle of view.

制御部7は、撮像部6が撮像した素子ピックアップ領域31の素子群の画像を解析し、移送部5とキャリア台3との相対位置を制御する。すなわち、位置検出部71は、撮像部6が撮像した素子ピックアップ領域31の素子群の画像から、行方向及び列方向に並んだ3つ以上の素子Eの位置を検出する。位置検出部71、基準位置算出部72、位置ずれ算出部73の基本処理は第1の実施形態と同じである。但し、撮像部6による撮像対象が、第1の実施形態のように保持面54に保持された素子群ではなく、キャリアC上の素子群であるため、異なる部分もある。 The control unit 7 analyzes the image of the element group in the element pickup area 31 captured by the imaging unit 6 and controls the relative position between the transfer unit 5 and the carrier table 3 . That is, the position detection unit 71 detects the positions of three or more elements E arranged in the row direction and the column direction from the image of the element group in the element pickup region 31 captured by the imaging unit 6 . The basic processing of the position detector 71, the reference position calculator 72, and the positional deviation calculator 73 is the same as in the first embodiment. However, since the object to be imaged by the imaging unit 6 is not the element group held on the holding surface 54 as in the first embodiment, but the element group on the carrier C, there are some differences.

例えば、基準位置算出部72は、位置検出部71により検出された3つ以上の素子の位置に基づいて、素子群の位置決め基準位置Kを求めるという基本処理については同じであるが、ここでの位置決め基準位置Kは、移送部5によって、ピックアップ予定の素子ピックアップ領域31にある素子群を正確に一括ピックアップするために位置決めする基準位置であり、例えば、素子ピックアップ領域31の素子群の中心点である。本実施形態では、基準位置算出部72は、例えば、次のように位置決め基準位置を求める。 For example, the reference position calculation unit 72 has the same basic processing of obtaining the positioning reference position K of the element group based on the positions of three or more elements detected by the position detection unit 71, but here The positioning reference position K is a reference position for positioning in order to accurately collectively pick up the element group in the element pickup area 31 to be picked up by the transfer unit 5. For example, it is the center point of the element group in the element pickup area 31. be. In this embodiment, the reference position calculator 72 obtains the positioning reference position as follows, for example.

すなわち、行方向をX軸方向、列方向をY軸方向とすると、基準位置算出部72は、行方向の対向する2本の外周辺の近似式Y=a1×X+b1(上辺)、Y=a2×X+b2(下辺)から、素子ピックアップ領域31の基準位置(ここでは中心位置(X0,Y0))でのY座標Y1,Y2(Y1=a1×X0+b1、Y2=a2×X0+b2)を求め、Y1とY2の中点((Y1+Y2)/2)を位置決め基準位置KのY座標すなわち列方向の位置とする。 That is, assuming that the row direction is the X-axis direction and the column direction is the Y-axis direction, the reference position calculator 72 calculates the approximation formulas Y=a1×X+b1 (upper side), Y=a2 From xX+b2 (lower side), Y coordinates Y1 and Y2 (Y1=a1×X0+b1, Y2=a2×X0+b2) at the reference position (here, the center position (X0, Y0)) of the element pick-up area 31 are found, and Y1 and The middle point of Y2 ((Y1+Y2)/2) is set as the Y coordinate of the positioning reference position K, that is, the position in the column direction.

また、基準位置算出部72は、列方向の対向する2本の外周辺の近似式X=c1×Y+d1(左辺)、X=c2×Y+d2(右辺)から素子ピックアップ領域31の基準位置(ここでは中心位置(X0,Y0))でのX座標X1,X2(X1=c1×Y0+d1、X2=c2×Y0+d2)を求め、X1とX2の中点((X1+X2)/2)を位置決め基準位置KのX座標すなわち行方向の位置とする。 Further, the reference position calculator 72 calculates the reference position (here, Find the X coordinates X1 and X2 (X1=c1×Y0+d1, X2=c2×Y0+d2) at the center position (X0, Y0), and set the middle point between X1 and X2 ((X1+X2)/2) to the positioning reference position K. Let the X coordinate be the position in the row direction.

位置ずれ算出部73は、素子ピックアップ領域31の素子群の位置決め基準位置Kと、素子ピックアップ領域31の基準位置MとのずれΔKを算出する。このずれΔK=(ΔX,ΔY)は、例えば、ΔX=((X1+X2)/2)-X0、ΔY=((Y1+Y2)/2)-Y0である。 The positional deviation calculator 73 calculates a deviation ΔK between the positioning reference position K of the element group in the element pickup area 31 and the reference position M of the element pickup area 31 . This shift ΔK=(ΔX, ΔY) is, for example, ΔX=((X1+X2)/2)-X0 and ΔY=((Y1+Y2)/2)-Y0.

制御部7は、このずれΔKが解消する制御信号を生成し、当該制御信号を移送部5、キャリア台3の駆動源(直動機構51、32)に送信する。直動機構51、32が当該制御信号に基づいて移送部5及びキャリア台3の相対位置を移動させることで、ずれΔKが補正される。相対移動は、移送部5をピックアップポジション21に位置付け、キャリア台3がずれΔKを相殺するように移動しても良いし、キャリア台3は、素子ピックアップ領域31の中心位置をピックアップポジション21で一致させて固定し、移送部5を、ピックアップポジション21への移動量に加えてずれΔKを相殺するように移動させても良い。また、移送部5と実装台4の双方をずれΔKが相殺されるように相互に移動させても良い。 The control unit 7 generates a control signal that eliminates the deviation ΔK, and transmits the control signal to the transfer unit 5 and the driving sources (linear motion mechanisms 51 and 32) of the carrier table 3. FIG. The displacement ΔK is corrected by the linear motion mechanisms 51 and 32 moving the relative positions of the transfer section 5 and the carrier table 3 based on the control signal. Relative movement may be performed by positioning the transfer unit 5 at the pickup position 21 and moving the carrier table 3 so as to offset the shift ΔK, or the carrier table 3 may match the center position of the element pickup area 31 at the pickup position 21 . and fixed, and the transfer section 5 may be moved so as to offset the displacement ΔK in addition to the amount of movement to the pickup position 21 . Moreover, both the transfer section 5 and the mounting table 4 may be moved so that the deviation ΔK is offset.

以上のように、制御部7は、基準位置算出部72で求めた位置決め基準位置Kに基づいて、移送部5によるキャリアC上の素子群のピックアップ位置を補正する。 As described above, the control unit 7 corrects the pickup position of the element group on the carrier C by the transfer unit 5 based on the positioning reference position K obtained by the reference position calculation unit 72 .

(動作)
図8は、本実施形態に係る素子実装装置1の動作の一例を示すフローチャートである。第1の実施形態と同様な部分については、適宜省略する。
(motion)
FIG. 8 is a flow chart showing an example of the operation of the element mounting apparatus 1 according to this embodiment. Portions similar to those of the first embodiment will be omitted as appropriate.

図8に示すように、まず、素子ピックアップ領域31の中心位置がピックアップポジション21に位置するように、キャリア台3を移動させ、また、実装領域41の中心位置が実装ポジション22に位置するように移動させる(ステップS10)。 As shown in FIG. 8, first, the carrier table 3 is moved so that the center position of the element pickup area 31 is positioned at the pickup position 21, and the center position of the mounting area 41 is positioned at the mounting position 22. Move (step S10).

撮像部6の撮像面の中心がピックアップポジション21上にあるため、撮像部6の撮像面の中心と素子ピックアップ領域31の中心位置とが一致しており、この状態で撮像部6は、素子ピックアップ領域31の素子群を撮像する(ステップS11)。撮像した画像は、制御部7に送信される。 Since the center of the imaging surface of the imaging unit 6 is on the pickup position 21, the center of the imaging surface of the imaging unit 6 coincides with the center position of the element pickup area 31. In this state, the imaging unit 6 picks up the elements. An image of the device group in the region 31 is taken (step S11). The captured image is transmitted to the control section 7 .

制御部7は、撮像された画像を解析する。すなわち、位置検出部71により、撮像された素子群の画像から、当該素子群の外周辺毎に3つ以上の素子Eの位置を検出する(ステップS12)。つまり、矩形状を成す素子群の4辺にある複数の素子Eの中から辺毎に3つ以上の素子Eの位置を検出する。 The control unit 7 analyzes the captured image. That is, the position detection unit 71 detects the positions of three or more elements E for each outer circumference of the element group from the captured image of the element group (step S12). That is, the positions of three or more elements E are detected for each side out of the plurality of elements E on the four sides of the rectangular element group.

次に、基準位置算出部72により、検出した素子Eの位置に基づいて、素子群の位置決め基準位置Kを算出する(ステップS13)。 Next, the reference position calculator 72 calculates the positioning reference position K of the element group based on the detected position of the element E (step S13).

制御部7は、この位置決め基準位置Kに基づいて、移送部5によるキャリアC上の素子群のピックアップ位置を補正する。具体的には、位置ずれ算出部73により、素子ピックアップ領域31の素子群の位置決め基準位置Kと、素子ピックアップ領域31の基準位置とのずれΔKを算出する(ステップS14)。 Based on this positioning reference position K, the control unit 7 corrects the pickup position of the element group on the carrier C by the transfer unit 5 . Specifically, the positional deviation calculator 73 calculates a deviation ΔK between the positioning reference position K of the element group in the element pickup area 31 and the reference position of the element pickup area 31 (step S14).

移送部5をピックアップポジション21へ移動させ(ステップS15)、移送部5と素子ピックアップ領域31の素子群との位置合わせを行う。具体的には、制御部7は、算出したずれΔKを解消するように移送部5、キャリア台3の駆動源を駆動させる制御信号を生成し、当該制御信号を移送部5、キャリア台3の駆動源に出力し、当該制御信号に従って移送部5とキャリア台3の相対位置を制御することで、ずれΔKを補正する(ステップS16)。ここでは、制御部7は、移送部5及びキャリア台3を、保持面54の中心点及び素子ピックアップ領域31の素子群の位置決め基準位置がピックアップポジション21に位置するように停止させる。 The transfer section 5 is moved to the pickup position 21 (step S15), and the position of the transfer section 5 and the element group in the element pickup area 31 is aligned. Specifically, the control unit 7 generates a control signal for driving the driving sources of the transfer unit 5 and the carrier table 3 so as to eliminate the calculated deviation ΔK, and transmits the control signal to the transfer unit 5 and the carrier table 3. The shift ΔK is corrected by outputting to the drive source and controlling the relative position between the transfer section 5 and the carrier table 3 according to the control signal (step S16). Here, the control unit 7 stops the transfer unit 5 and the carrier table 3 so that the center point of the holding surface 54 and the positioning reference position of the element group in the element pickup area 31 are positioned at the pickup position 21 .

この状態で、移送部5を昇降機構52により下降させ、素子ピックアップ領域31の素子群を一括してピックアップする(ステップS17)。 In this state, the transfer section 5 is lowered by the lifting mechanism 52 to collectively pick up the element group in the element pickup area 31 (step S17).

そして、保持面54で素子群を保持した状態で昇降機構52により移送部5を規定位置まで上昇させ、直動機構51によって実装ポジション22へ移送させる(ステップS18)。移送部5が昇降機構52により下降し、保持面54に保持された素子Eを基板Sに当接させて実装領域41に素子群を実装する(ステップS19)。 Then, while the element group is held by the holding surface 54, the lifting mechanism 52 raises the transfer section 5 to a specified position, and the linear motion mechanism 51 transfers it to the mounting position 22 (step S18). The transfer unit 5 is lowered by the lifting mechanism 52, and the elements E held on the holding surface 54 are brought into contact with the substrate S to mount the element group on the mounting area 41 (step S19).

なお、上記の例では、撮像した画像を解析した後、移送部5をピックアップポジション21へ移動させたが、当該画像解析と移送部5の移動を並行して行っても良い。 In the above example, after the captured image is analyzed, the transfer section 5 is moved to the pickup position 21, but the image analysis and the movement of the transfer section 5 may be performed in parallel.

(作用・効果)
(1)本実施形態の素子実装装置1は、素子を複数行複数列に整列したキャリアを載置するキャリア台3と、素子が配置される基板Sを載置する実装台4と、複数行複数列の素子からなる素子群を保持する保持面54を有し、保持面54でキャリアから複数行複数列の素子群を一括してピックアップして、ピックアップした素子群を基板Sに一括して移す移送部5と、移送部5とキャリア台3との相対位置を制御する制御部7と、キャリアC上の素子群を撮像する撮像部6と、を備える。そして、制御部7は、撮像部6により撮像された素子群の画像から、行方向及び列方向に並んだ3つ以上の素子の位置を検出する位置検出部71と、位置検出部71により検出された行方向及び列方向における3つ以上の素子の位置に基づいて、素子群の位置決め基準位置Kを求める基準位置算出部72と、を有し、位置決め基準位置Kに基づいて、素子群をピックアップするときの移送部5とキャリア台3との相対位置を補正するようにした。
(action/effect)
(1) The device mounting apparatus 1 of the present embodiment includes a carrier table 3 on which a carrier on which devices are arranged in multiple rows and multiple columns is placed, a mounting table 4 on which a substrate S on which devices are arranged is placed, and a A holding surface 54 for holding an element group consisting of a plurality of columns of elements is provided, and the holding surface 54 collectively picks up the element groups of a plurality of rows and a plurality of columns from the carrier, and collectively picks up the picked-up element groups on the substrate S. A transfer unit 5 for transferring, a control unit 7 for controlling the relative position between the transfer unit 5 and the carrier table 3, and an imaging unit 6 for imaging the element group on the carrier C are provided. Then, the control unit 7 detects the positions of three or more elements arranged in the row direction and the column direction from the image of the element group captured by the imaging unit 6, and the position detection unit 71 detects a reference position calculator 72 for determining a positioning reference position K of the element group based on the positions of three or more elements in the row direction and column direction, and determining the element group based on the positioning reference position K; The relative position between the transfer section 5 and the carrier table 3 when picking up is corrected.

これにより、キャリアC上のピックアップしようとする素子群の行方向及び列方向に並んだ3つ以上の素子Eの位置に基づいて素子群の位置決め基準位置Kを求めているので、キャリアC上の各素子Eの整列位置にずれがあっても、そのずれによる影響を小さくして、移送部5の位置決め基準位置を、実際にピックアップする素子群の位置決め基準位置に精度良く位置付けることができる。その結果、素子ピックアップ領域31の素子群を正確に一括ピックアップできるので、基板Sへの素子群のより正確な実装を行うことができ、歩留まりを向上させることができる。 As a result, the positioning reference position K of the element group is obtained based on the positions of three or more elements E arranged in the row direction and column direction of the element group to be picked up on the carrier C. Even if there is a deviation in the alignment position of each element E, the influence of the deviation can be reduced, and the positioning reference position of the transfer section 5 can be accurately positioned at the positioning reference position of the group of elements to be actually picked up. As a result, the device groups in the device pickup region 31 can be accurately picked up collectively, so that the device groups can be more accurately mounted on the substrate S, and the yield can be improved.

(2)撮像部6は、キャリア上のピックアップ予定の素子群を撮像し、制御部7は、ピックアップ予定の素子群の位置決め基準位置Kと、予め設定された素子ピックアップ領域の基準位置とのずれを算出する位置ずれ算出部73を有し、当該ずれが解消するように、キャリア台3と移送部5とを相対移動させるようにした。これにより、ピックアップ予定の素子群の位置決め基準位置Kと移送部5の中心(ここでは保持面54の基準位置)を位置合わせすることができる。その結果、歩留まりを向上させることができる。 (2) The imaging unit 6 captures an image of the element group to be picked up on the carrier, and the control unit 7 detects the deviation between the positioning reference position K of the element group to be picked up and the preset reference position of the element pickup area. is provided, and the carrier table 3 and the transfer section 5 are moved relative to each other so as to eliminate the deviation. As a result, the positioning reference position K of the element group to be picked up and the center of the transfer section 5 (here, the reference position of the holding surface 54) can be aligned. As a result, yield can be improved.

(第3の実施形態)
第3の実施形態に係る素子実装装置1について図面を参照しつつ詳細に説明する。第1の実施形態と同一構成及び同一機能については同一符号を付して詳細な説明を省略する。
(Third embodiment)
A device mounting apparatus 1 according to a third embodiment will be described in detail with reference to the drawings. The same reference numerals are assigned to the same configurations and the same functions as those of the first embodiment, and detailed description thereof will be omitted.

図9は、第3の実施形態に係る素子実装装置1の構成を示す模式図である。図9に示すように、素子実装装置1は、移送部5を回転させる回転機構53を備える。回転機構53は、移送部5を、保持面54の中心を通り保持面54に直交する軸周りに回転させる。回転機構53は昇降機構52のスライダに固定され、回転機構53に移送部5が設けられている。制御部7は、回転機構53の駆動源に制御信号を送信して移送部5の回転角度を制御する。 FIG. 9 is a schematic diagram showing the configuration of an element mounting apparatus 1 according to the third embodiment. As shown in FIG. 9 , the device mounting apparatus 1 includes a rotating mechanism 53 that rotates the transfer section 5 . The rotating mechanism 53 rotates the transfer section 5 around an axis passing through the center of the holding surface 54 and perpendicular to the holding surface 54 . The rotation mechanism 53 is fixed to the slider of the lifting mechanism 52 , and the transfer section 5 is provided in the rotation mechanism 53 . The control unit 7 controls the rotation angle of the transfer unit 5 by transmitting a control signal to the drive source of the rotation mechanism 53 .

すなわち、図9に示すように、制御部7は、回転角度算出部74を備える。回転角度算出部74は、基準位置算出部72が求めた近似式に基づいて、回転機構53により移送部5を回転させる回転角度を算出する。具体的には、回転角度算出部74は、撮像部6により撮像した素子群における対向する行方向及び列方向の4本の近似式から回転角度を算出する。より詳細には、図11に示すように、行方向をX軸方向とし、列方向をY軸方向とすると、行方向に対向する2本の近似式のX軸に対する角度θ1、θ2をそれぞれ求め、その平均を第1回転角度とする。また、回転角度算出部74は、列方向の対向する2本の近似式のY軸に対する角度θ3、θ4をそれぞれ求め、その平均を第2回転角度とする。そして、第1回転角度と第2回転角度の平均を求め、当該平均を移送部5を軸周りに回転させる回転角度とする。制御部7は、当該回転角度分移送部5を軸周りに回転させて、素子群の角度補正を行う。 That is, as shown in FIG. 9, the controller 7 includes a rotation angle calculator 74 . The rotation angle calculation unit 74 calculates the rotation angle for rotating the transfer unit 5 by the rotation mechanism 53 based on the approximate expression obtained by the reference position calculation unit 72 . Specifically, the rotation angle calculation unit 74 calculates the rotation angle from four approximation formulas in row direction and column direction in the element group imaged by the imaging unit 6 . More specifically, as shown in FIG. 11, when the row direction is the X-axis direction and the column direction is the Y-axis direction, the angles .theta.1 and .theta.2 with respect to the X-axis of two approximation formulas facing each other in the row direction are obtained. , the average of which is taken as the first rotation angle. The rotation angle calculator 74 also obtains the angles θ3 and θ4 with respect to the Y-axis of the two approximation formulas facing each other in the column direction, and takes the average thereof as the second rotation angle. Then, the average of the first rotation angle and the second rotation angle is obtained, and the average is used as the rotation angle for rotating the transfer unit 5 around the axis. The control unit 7 rotates the transfer unit 5 about the axis by the rotation angle to correct the angle of the element group.

なお、回転角度算出部74が求める回転角度は、角度θ1~θ4のうち、1つ~3つの平均値でも良いし、好ましくは角度θ1~θ4の平均値でも良い。また、行方向から選択した角度θ1又はθ2と、列方向から選択した角度θ3又はθ4の平均値でも良い。 The rotation angle calculated by the rotation angle calculator 74 may be an average value of one to three of the angles θ1 to θ4, or preferably an average value of the angles θ1 to θ4. Alternatively, the average value of the angle θ1 or θ2 selected from the row direction and the angle θ3 or θ4 selected from the column direction may be used.

この回転角度算出部74による回転角度の算出及び制御部7による角度補正は、保持面54で保持した素子群の基板Sへの実装より前に行う。例えば、図12に示すように、ずれΔの補正をするステップS08と素子群の実装をするステップS09の間に行う。図12のフローチャートは、第1の実施形態のフローチャートに角度補正のステップを追加したものであり、第1の実施形態と共通するステップには同じステップ番号を付し、角度補正で追加されたステップのみに新たなステップ番号を付している。 The calculation of the rotation angle by the rotation angle calculator 74 and the angle correction by the controller 7 are performed before the element group held by the holding surface 54 is mounted on the substrate S. FIG. For example, as shown in FIG. 12, it is performed between step S08 of correcting the deviation Δ and step S09 of mounting the element group. The flowchart of FIG. 12 is obtained by adding an angle correction step to the flowchart of the first embodiment, and the steps common to the first embodiment are given the same step numbers, and the steps added for angle correction are only have new step numbers.

以上のように、本実施形態の素子実装装置1は、移送部5を保持面54に垂直な軸周りに回転させる回転機構53を備え、制御部7は、基準位置算出部72が求めた近似式に基づいて、回転機構53により移送部5を回転させる回転角度を算出する回転角度算出部74を有するようにした。これにより、素子Eの配置にバラツキがあっても、その影響を抑えた近似式に基づいて回転角度を算出しているので、基板Sへの素子群の正確な実装を実現することができる。 As described above, the element mounting apparatus 1 of the present embodiment includes the rotation mechanism 53 that rotates the transfer section 5 around the axis perpendicular to the holding surface 54 , and the control section 7 controls the approximation calculated by the reference position calculation section 72 . A rotation angle calculation unit 74 is provided for calculating the rotation angle for rotating the transfer unit 5 by the rotation mechanism 53 based on the equation. As a result, the rotation angle is calculated based on an approximation formula that suppresses the influence of variations in the arrangement of the elements E, so that the element group can be accurately mounted on the substrate S.

また、本実施形態の回転角度の算出及び角度補正は、第2の実施形態にも適用可能である。この場合、移送部5に回転機構53を設け、回転機構53によって移送部5を回転角度算出部74で求めた回転角度分回転させる。これにより、素子ピックアップ領域31にある各素子Eを各保持部55で正確に保持することができ、ピックアップ予定の素子Eの全てを基板Sへ実装することができる。 Further, the calculation of the rotation angle and the angle correction of this embodiment can also be applied to the second embodiment. In this case, the transfer section 5 is provided with a rotation mechanism 53 , and the transfer section 5 is rotated by the rotation angle calculated by the rotation angle calculation section 74 by the rotation mechanism 53 . As a result, each element E in the element pickup area 31 can be accurately held by each holding portion 55, and all the elements E to be picked up can be mounted on the substrate S. FIG.

(他の実施形態)
本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、下記に示す他の実施形態も包含する。また、本発明は、上記実施形態及び下記の他の実施形態を全て又はいずれかを組み合わせた形態も包含する。さらに、これらの実施形態を発明の範囲を逸脱しない範囲で、種々の省略や置き換え、変更を行うことができ、その変形も本発明に含まれる。
(Other embodiments)
The present invention is not limited to the above embodiments, but also includes other embodiments shown below. In addition, the present invention also includes forms in which all or any of the above embodiments and other embodiments described below are combined. Further, various omissions, replacements, and modifications can be made to these embodiments without departing from the scope of the invention, and the modifications are also included in the present invention.

(1)例えば、第1の実施形態と第2の実施形態を組み合わせた実施形態も本発明に含まれる。すなわち、撮像部6は、第1の実施形態のようにキャリア台3と実装台4との間に設け、かつ、第2の実施形態のように、キャリア台3の上方に設けても良い。 (1) For example, an embodiment combining the first embodiment and the second embodiment is also included in the present invention. That is, the imaging unit 6 may be provided between the carrier table 3 and the mounting table 4 as in the first embodiment, and may be provided above the carrier table 3 as in the second embodiment.

(2)第1の実施形態において、撮像部6は、移送部5の移送経路の真下に位置固定で設けても良いし、移送部5と併走して撮像するようにしても良い。併走する場合、例えば、撮像部6に、直動機構51と同様な構成を有する直動機構を直動機構51と平行に設け、制御部7は、移送部5と撮像部6との相対位置を制御する制御信号を生成し、当該直動機構の駆動源に送信する。 (2) In the first embodiment, the imaging section 6 may be provided directly below the transfer path of the transfer section 5 at a fixed position, or may run alongside the transfer section 5 to perform imaging. When running side by side, for example, a linear motion mechanism having a configuration similar to that of the linear motion mechanism 51 is provided in the imaging unit 6 in parallel with the linear motion mechanism 51 , and the control unit 7 controls the relative positions of the transfer unit 5 and the imaging unit 6 . is generated and transmitted to the drive source of the linear motion mechanism.

(3)第1乃至第3の実施形態において、基準位置算出部72は、素子群の求めた外周辺の直線近似式から、撮像された素子Eのうち最も外側に位置する2つの素子Eを両端とする線分をそれぞれ求め、求めた各線分の中点の位置に基づいて位置決め基準位置Kを求めるようにしても良い。例えば、行方向の対向する2線分の各中点の中間座標を位置決め基準位置Kの列方向の座標とし、列方向の対向する2線分の各中点の中間座標を位置決め基準位置Kの行方向の座標とする。このように各線分の中点に基づいて位置決め基準位置Kを求めても、より正確な位置決め基準位置Kを求めることができる。その結果、基板Sに対する移送部5の位置決め精度、ひいては歩留まりをより向上させることができる。 (3) In the first to third embodiments, the reference position calculator 72 calculates the two outermost elements E of the imaged elements E from the linear approximation formula for the perimeter obtained for the element group. It is also possible to find the line segments to be both ends and to find the positioning reference position K based on the positions of the midpoints of the found line segments. For example, the middle coordinates of the midpoints of two lines facing each other in the row direction are taken as the coordinates in the column direction of the positioning reference position K, and the middle coordinates of the midpoints of the two lines facing each other in the column direction are taken as the coordinates of the positioning reference position K. Coordinates in the row direction. Even if the positioning reference position K is obtained based on the midpoint of each line segment in this way, a more accurate positioning reference position K can be obtained. As a result, the positioning accuracy of the transfer section 5 with respect to the substrate S, and thus the yield can be further improved.

(4)第1乃至第3の実施形態において、撮像部6により撮像された素子群の外周辺にある素子Eの位置を検出するようにしたが、位置検出部71は、当該外周辺より内側の行方向及び列方向の素子Eの位置を検出し、基準位置算出部72により、直線近似式を求めて素子群の位置決め基準位置を求めるようにしても良い。このようにしても、従来の手法と比べて歩留まりを向上させることができる。なお、外周辺より内側の素子Eの位置を検出する場合、回帰直線の中点を求めることから、素子群の中心からの行数が同じ一対の素子列及び素子群の中心から列数が同じ一対の素子列にある素子Eの位置を検出すると良い。 (4) In the first to third embodiments, the position of the element E on the outer periphery of the element group imaged by the imaging unit 6 is detected, but the position detection unit 71 detects the inner side of the outer periphery. The positions of the elements E in the row direction and column direction are detected, and the reference position calculator 72 obtains a linear approximation formula to obtain the positioning reference position of the element group. Even in this way, the yield can be improved as compared with the conventional method. In addition, when detecting the position of the element E inside the outer periphery, the midpoint of the regression line is obtained, so that a pair of element columns with the same number of rows from the center of the element group and the same number of columns from the center of the element group It is preferable to detect the position of the element E in the pair of element rows.

(5)第1乃至第3の実施形態では、キャリア台3、実装台4を位置固定のピックアップポジション21、実装ポジション22に移動させ、移送部5をポジション21、22間とずれΔKの分だけ移動させるようにしたが、キャリア台3及び実装台4を位置不動とし、移送部5をずれΔKを加味して素子ピックアップ領域31、実装領域41間を移動させるようにしても良い。 (5) In the first to third embodiments, the carrier table 3 and the mounting table 4 are moved to the position-fixed pickup position 21 and the mounting position 22, and the transfer unit 5 is moved between the positions 21 and 22 by the shift ΔK. Although the carrier table 3 and the mounting table 4 are fixed, the transfer section 5 may be moved between the element pick-up area 31 and the mounting area 41 with the shift ΔK taken into consideration.

(6)第1乃至第3の実施形態では、保持部55に保持される素子Eの行方向の間隔とキャリアCに整列された素子Eの行方向の間隔、及び、保持部55に保持される素子Eの列方向の間隔とキャリアCに整列された素子Eの列方向の間隔が、それぞれの方向で同じ大きさの等間隔(許容される範囲のバラツキを含む)で配置されるものとした。しかしながら、これに限られるものではなく。例えば、保持部55に保持される素子Eの行方向および/または列方向の間隔は、キャリアCに整列された素子Eの行方向および/または列方向の間隔の整数倍であっても良い。 (6) In the first to third embodiments, the spacing in the row direction between the elements E held by the holding section 55 and the spacing in the row direction between the elements E aligned on the carrier C and the spacing in the row direction between the elements E held by the holding section 55 The column-direction spacing of the elements E aligned on the carrier C and the column-direction spacing of the elements E aligned on the carrier C shall be arranged at equal intervals of the same size (including variations within the allowable range) in each direction. did. However, it is not limited to this. For example, the row-direction and/or column-direction spacing of the elements E held by the holding portion 55 may be an integer multiple of the row-direction and/or column-direction spacing of the elements E aligned on the carrier C.

また、保持部55に保持される複数行複数列の素子Eにおける行方向の配列間隔及び列方向の配列間隔は、それぞれ異なる間隔であってもよい。すなわち、行方向を例にした場合、一方の端から他方の端に向けて徐々に配置間隔が広くなる配置としてもよい。このようにした場合、キャリアC上の素子Eの配列は、保持部55に一括して保持される複数行複数列の素子Eの配列を配列パターンの1ブロックとして、同じ配列パターンのブロックが行方向及び列方向に繰り返されるようにすると良い。 Further, the arrangement intervals in the row direction and the arrangement intervals in the column direction in the multiple rows and multiple columns of the elements E held by the holding unit 55 may be different intervals. That is, when taking the row direction as an example, the arrangement may be such that the arrangement interval gradually widens from one end to the other end. In this case, the arrangement of the elements E on the carrier C is such that the arrangement of the elements E in a plurality of rows and a plurality of columns collectively held in the holding unit 55 is set as one block of the arrangement pattern, and blocks of the same arrangement pattern are arranged in rows. It is preferable to repeat in the direction and column direction.

1 素子実装装置
21 ピックアップポジション
22 実装ポジション
3 キャリア台
31 素子ピックアップ領域
32 直動機構
4 実装台
41 実装領域
42 直動機構
5 移送部
51 直動機構
52 昇降機構
53 回転機構
54 保持面
55 保持部
6 撮像部
7 制御部
71 位置検出部
72 基準位置算出部
73 位置ずれ算出部
74 回転角度算出部
1 element mounting apparatus 21 pickup position 22 mounting position 3 carrier table 31 element pickup area 32 linear motion mechanism 4 mounting table 41 mounting area 42 linear motion mechanism 5 transfer section 51 linear motion mechanism 52 lifting mechanism 53 rotating mechanism 54 holding surface 55 holding section 6 imaging unit 7 control unit 71 position detection unit 72 reference position calculation unit 73 position deviation calculation unit 74 rotation angle calculation unit

Claims (5)

素子を複数行複数列に整列したキャリアを載置するキャリア台と、
素子が配置される基板を載置する実装台と、
複数行複数列の素子からなる素子群を保持する保持面を有し、前記保持面で前記キャリアから前記素子群を一括してピックアップして、ピックアップした前記素子群を前記基板に一括して移す移送部と、
前記移送部と、前記キャリア台又は前記実装台との相対位置を制御する制御部と、
前記キャリア上の素子群、又は、前記保持面に保持された前記素子群を撮像する撮像部と、
を備え、
前記制御部は、
前記撮像部により撮像された前記素子群の画像から、行方向に並んだ3つ以上の素子および列方向に並んだ3つ以上の素子の位置を検出する位置検出部と、
前記位置検出部により検出された前記行方向及び列方向における前記3つ以上の素子の位置に基づいて、前記素子群の位置決め基準位置を求める基準位置算出部と、
を有し、前記位置決め基準位置に基づいて、前記素子群をピックアップするときの前記移送部と前記キャリア台との相対位置、又は、前記基板に前記素子群を移すときの前記移送部と実装台との相対位置を補正すること、
を特徴とする素子実装装置。
a carrier table on which a carrier on which elements are arranged in multiple rows and multiple columns is placed;
a mounting table for mounting a substrate on which elements are arranged;
A holding surface is provided for holding an element group consisting of elements arranged in multiple rows and multiple columns, the element group is collectively picked up from the carrier by the holding surface, and the picked-up element group is collectively transferred to the substrate. a transfer section;
a control unit that controls relative positions of the transfer unit and the carrier table or the mounting table;
an imaging unit that images the element group on the carrier or the element group held on the holding surface;
with
The control unit
a position detection unit that detects the positions of three or more elements arranged in a row direction and three or more elements arranged in a column direction from the image of the element group captured by the imaging unit;
a reference position calculation unit that calculates a positioning reference position of the element group based on the positions of the three or more elements in the row direction and the column direction detected by the position detection unit;
and based on the positioning reference position, the relative position between the transfer unit and the carrier table when picking up the element group, or the transfer unit and mounting table when transferring the element group to the substrate correcting the position relative to
An element mounting apparatus characterized by:
前記位置検出部は、前記素子群の外周辺の複数の素子の中から、前記外周辺毎に3つ以上の素子の位置を検出し、
前記基準位置算出部は、
前記検出された前記素子の位置から、各前記外周辺を直線近似する近似式をそれぞれ求め、
前記列方向の対向する前記外周辺の前記近似式から前記位置決め基準位置の前記行方向の座標を求め、
前記行方向の対向する前記外周辺の前記近似式から前記位置決め基準位置の前記列方向の座標を求めることで、前記位置決め基準位置を求めること、
を特徴とする請求項1記載の素子実装装置。
The position detection unit detects the positions of three or more elements for each outer periphery from among a plurality of elements on the outer periphery of the element group,
The reference position calculator,
Obtaining approximate expressions for linearly approximating each of the outer peripheries from the detected positions of the elements,
Obtaining coordinates of the positioning reference position in the row direction from the approximation formula of the outer peripheries facing each other in the column direction;
obtaining the positioning reference position by obtaining the column-direction coordinates of the positioning reference position from the approximation formula for the outer peripheries facing each other in the row direction;
2. The device mounting apparatus according to claim 1, characterized by:
前記位置検出部は、前記外周辺の両端の素子の位置を含めて検出し、
前記基準位置算出部は、前記両端を含めた前記素子の位置に基づいて前記近似式を求めること、
を特徴とする請求項2記載の素子実装装置。
The position detection unit detects including the positions of the elements at both ends of the outer periphery,
The reference position calculation unit obtains the approximate expression based on the position of the element including the both ends;
3. The device mounting apparatus according to claim 2, characterized by:
前記移送部を前記保持面に垂直な軸周りに回転させる回転機構を備え、
前記制御部は、
前記基準位置算出部が求めた前記近似式に基づいて、前記回転機構により前記移送部を回転させる回転角度を算出する回転角度算出部を有すること、
を特徴とする請求項1~の何れか記載の素子実装装置。
A rotating mechanism for rotating the transfer unit around an axis perpendicular to the holding surface,
The control unit
a rotation angle calculation unit that calculates a rotation angle for rotating the transfer unit by the rotation mechanism based on the approximate expression obtained by the reference position calculation unit;
4. The device mounting apparatus according to any one of claims 1 to 3 , characterized by:
素子実装装置によって素子が配置されて成る素子実装基板の製造方法であって、
前記素子実装装置は、
素子を複数行複数列に整列したキャリアを載置するキャリア台と、
素子が配置される基板を載置する実装台と、
複数行複数列の素子群を保持する保持面を有し、前記保持面で前記キャリアから複数行複数列の素子群を一括してピックアップして、ピックアップした前記素子群を前記基板に一括して移す移送部と、
前記キャリア上の素子群、又は、前記保持面に保持された前記素子群を撮像する撮像部と、
を備え、
撮像部によって、前記キャリア上の素子群、又は、前記保持面に保持された前記素子群を撮像する撮像ステップと、
前記撮像部により撮像された前記素子群の画像から、行方向に並んだ3つ以上の素子および列方向に並んだ3つ以上の素子の位置を検出する位置検出ステップと、
前記位置検出ステップにより検出された前記行方向及び列方向における前記3つ以上の素子の位置に基づいて、前記素子群の位置決め基準位置を求める基準位置算出ステップと、
前記位置決め基準位置に基づいて、前記素子群をピックアップするときの前記移送部と前記キャリア台との相対位置、又は、前記基板に前記素子群を移すときの前記移送部と実装台との相対位置を補正する補正ステップと、
を有すること、
を特徴とする素子実装基板の製造方法。
A method for manufacturing an element mounting board on which elements are arranged by an element mounting apparatus,
The element mounting apparatus is
a carrier table on which a carrier on which elements are arranged in multiple rows and multiple columns is placed;
a mounting table for mounting a substrate on which elements are arranged;
It has a holding surface for holding the element groups of multiple rows and multiple columns, and collectively picks up the element groups of multiple rows and multiple columns from the carrier on the holding surface, and collectively picks up the picked-up element groups on the substrate. a transfer section for transferring;
an imaging unit that images the element group on the carrier or the element group held on the holding surface;
with
an imaging step of imaging the element group on the carrier or the element group held on the holding surface by an imaging unit;
a position detection step of detecting positions of three or more elements arranged in a row direction and three or more elements arranged in a column direction from the image of the element group captured by the imaging unit;
a reference position calculation step of obtaining a positioning reference position of the element group based on the positions of the three or more elements in the row direction and the column direction detected by the position detection step;
Based on the positioning reference position, the relative position between the transfer unit and the carrier table when picking up the device group, or the relative position between the transfer unit and the mounting table when transferring the device group to the substrate a correction step for correcting
having
A method for manufacturing an element mounting board, characterized by:
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