JP7152228B2 - 金属水酸化物の製造装置及び製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、金属水酸化物の製造装置及び製造方法に関し、より詳しくは、金属酸化物ターゲットの作製に用いられる金属水酸化物を製造するものに関する。

液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイにおいては、電極としてＩＧＺＯ膜等の透明導電膜が用いられている。透明電極膜の成膜には、量産性等を考慮してスパッタリング装置が広く利用され、この種のスパッタリング装置としては、ＩＧＺＯターゲット等の金属酸化物ターゲットに高周波電力を投入して透明電極膜を成膜するものがある。

このような金属酸化物ターゲットの作製に用いられる金属水酸化物の製造装置は例えば特許文献１で知られている。このものは、電解槽と、電解槽内に設置されるガス拡散電極と、ガス拡散電極により区画された電解槽内に収納される電解液と、電解液中に設置される陽極と、ガス拡散電極を陰極とし、両電極間に電圧を印加する電源とを備える。陽極を金属インジウムとし、電解液を硝酸アンモニウムとし、水酸化インジウムを析出させる場合を例に説明すると、電解中、陽極からインジウムイオンが溶出し、この溶出したインジウムイオンが電解液中の水酸化物イオンと反応して水酸化インジウムが析出する。析出した水酸化インジウムを焼成して酸化インジウムとし、この酸化インジウムを粉末化して他の金属酸化物の粉末と混合し、混合粉末を所定形状に成形した後に焼結することにより、金属酸化物ターゲットが製造される。

ところで、上記従来例の製造装置における陽極として金属ガリウムを用いる場合、電解中に電解液の温度が金属ガリウムの融点よりも高くなると、金属ガリウムが液状化する。この場合、析出した水酸化ガリウムの粒径が所望の粒径よりも大きくなり、スパッタリングターゲットの製造に適さなくなる。他方で、電解中の電解液の温度が金属ガリウムの融点よりも常時低くなるように、電解液を冷却する冷却装置を設けることも考えられるが、これでは製造装置が大掛かりとなってコスト高を招来する。

国際公開第２０１３／１７９５５３号

本発明は、以上の点に鑑み、スパッタリングターゲットの製造に適した粒径を持つ金属水酸化物を得ることが可能な低コストの金属水酸化物の製造装置及び製造方法を提供することをその課題とする。

上記課題を解決するために、電解槽と、電解槽内に設置される、疎水性のガス拡散層とこのガス拡散層に積層される親水性の反応層とを有するガス拡散電極と、ガス拡散電極により区画された電解槽の反応層が面する部分に収納される電解液と、電解液中に設置される陽極と、ガス拡散電極を陰極とし、両電極間に電圧を印加する電源とを備える本発明の金属水酸化物の製造装置は、前記陽極として３０℃で液状化する金属を含有する金属含有物を用い、電解液が収納される電解槽の部分にフィルター板を設けて、金属水酸化物が析出する析出室と金属含有物が設置される陽極室とを区画し、この陽極室の電解液のｐＨが酸性に維持されるようにフィルター板の通気度を設定したことを特徴とする。

本発明によれば、金属含有物としてガリウム含有物を用いて水酸化ガリウムを製造する場合を例に説明すると、フィルター板により析出室と陽極室とを区画することで、電解中に液状化したガリウムが析出室に滲み出すことを防止できる。この陽極室の電解液のｐＨが所定範囲（例えば酸性側）に維持されるようにフィルター板の通気度を設定することで、陽極室にて液状化したガリウムが溶出したガリウムイオンがフィルター板を介して析出室に移動するため、析出室で析出する水酸化ガリウムの粒径は大きくならず、スパッタリングターゲットの製造に適したものとなる。しかも、電解液を冷却する設備を設ける必要がないため、低コストである。

本発明において、前記金属含有物がガリウム含有物である場合、前記フィルター板は、０．３～１５０ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃの範囲の通気度を有するものであることが好ましい。通気度が０．３ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃ未満である場合、イオン伝導度（インピーダンス）に影響を及ぼし、電圧が上昇し、電力消費量が増加する虞がある。一方で、通気度が１５０ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃを超える場合、陽極室で液状化したガリウムが析出室に滲み出し、フィルター板のフィルター効果が無くなる虞がある。さらに、フィルター板の液抵抗効果が無くなり、析出室よりも陽極室の硝酸イオン濃度を高くすることが難しく、両室間のｐＨ差が生じ難くなり、その結果、陽極室内で金属水酸化物が析出してしまい、析出室における金属水酸化物の回収ロスが多くなる虞もある。尚、ガリウム含有物には、金属ガリウム、ガリウム合金のほか、ガリウムを含有する導電酸化物が含まれるものとする。

本発明において、前記陽極室に前記金属ガリウム又はその合金と導通するＰｔメッキ電極を設置することが好ましい。これによれば、Ｐｔの酸化力によって陽極室の電解液の酸性が強くなり、陽極室にて液状ガリウムを電解液に効率よく溶解させることができ、有利である。

上記課題を解決するために、電解槽内に、疎水性のガス拡散層と親水性の反応層とを積層して構成されるガス拡散電極を設置してこの電解槽内を区画し、この区画された電解槽の反応層に面する部分に電解液を収納し、電解液中にガリウム含有物からなる陽極を浸漬し、ガス拡散電極を陰極として両電極間に電圧を印加すると共に、区画された電解槽のガス拡散層に面する部分に酸素を供給して電解し、電解液中に金属水酸化物を析出させる本発明の金属水酸化物の製造方法は、電解液中に所定の通気度を有するフィルター板を設けて、金属酸化物が析出する析出室と、前記ガリウム含有物が液状化する陽極室とに区画し、電解中、陽極室内が酸性に維持されるようにしたことを特徴とする。

本発明によれば、陽極を構成するガリウム含有物として金属ガリウムを用いる場合を例に説明すると、電解中、ジュール熱により電解液の温度が金属ガリウムの融点よりも高い温度（例えば３０℃）に上昇するため、陽極室で金属ガリウムが液状化する。本発明では、所定の通気度を有するフィルター板のフィルター効果により、陽極室で液状化したガリウムがフィルター板を介して析出室に滲み出すことが防止できる。しかも、フィルター板の液抵抗効果により、陽極室が所定のｐＨ（酸性側）に維持されるため、陽極室でガリウムイオンを効率よく溶出することができ、ガリウムイオンを析出室に効率よく供給できる。これにより、析出室で析出した水酸化ガリウムの粒径が大きくなり過ぎず、スパッタリングターゲットの製造に適したものとなる。

尚、本発明において、ガス拡散層に面する部分に酸素を供給するとは、この部分にガス供給管を通じて酸素含有ガスを積極的に供給する場合だけでなく、ガス拡散電極のガス拡散層を大気に曝して反応層に形成される気液界面に常に酸素が供給される場合を含むものとする。

本発明において、電解中、析出室のｐＨが８～９の範囲に維持されるように析出室にアンモニア水を供給することが好ましい。

本発明の実施形態の金属水酸化物の製造装置を示す模式図。 （ａ）及び（ｂ）は、イオンクロマト分析の測定結果を示すグラフ。 （ａ）及び（ｂ）は、イオンクロマト分析の測定結果を示すグラフ。 本発明の変形例の金属水酸化物の製造装置を示す模式図。

以下、図面を参照して、本発明の実施形態に係る金属水酸化物の製造装置である電解装置について説明する。図１に示すように、電解装置ＥＭは、電解槽１を備える。電解槽１は、空気槽１０と沈殿槽１１とで構成されている。これら空気槽１０及び沈殿槽１１は、アクリル樹脂や塩化ビニル樹脂等、後述する電解液Ｓに対して耐性を有する絶縁性材料で構成されている。このため、後述する陰極２と陽極４との間を絶縁する絶縁部材を別途設ける必要はない。これら空気槽１０及び沈殿槽１１は、上面と一側面とが開口となっており、この一側面の周囲にはフランジ部１０ａ、１１ａが形成されている。このフランジ部１０ａ、１１ａに形成された凹溝にはパッキン１０ｂ、１１ｂが嵌め込まれており、後述する保持板２１との間で電解液をシールできるようになっている。

電解槽１内には陰極２が設置されており、この陰極２により電解槽１内が区画されている。陰極２は、ガス拡散電極２０と、このガス拡散電極２０を挟持する２枚のチタン製の保持板２１とで構成される。保持板２１は、ガス拡散電極２０に効率よく通電する役割を果たす。ガス拡散電極２０は、疎水性のガス拡散層２０ａと親水性の反応層２０ｂとが積層されてなる。ガス拡散電極２０としては、ガス拡散層２０ａが疎水性カーボンと基材たるＰＴＦＥ（フッ素系樹脂）とで構成され、反応層２０ｂが白金もしくは銀からなる触媒を担持した親水性カーボンと疎水性カーボンと基材たるＰＴＦＥとで構成されたものを用いることができる。各保持板２１にはガス拡散電極２０の輪郭と略一致する外形を有し、かつ、ガス拡散電極２０全体の厚さの略半分の深さを有する凹部２１ａが形成され、この凹部２１ａにガス拡散電極２０が嵌め込まれるようになっている。両保持板２１でガス拡散電極２０を挟持した状態で、空気槽１０のフランジ部１０ａ、保持板２１及び沈殿槽１１のフランジ部１１ａとの位置合わせをし、ボルトとナットで固定することにより、電解槽１内でガス拡散電極２０が位置決め保持される。各保持板２１には、凹部２１ａに通じ、凹部２１ａよりも一回り小さい開口２１ｂが夫々開設されている。これにより、各開口２１ｂを介してガス拡散層２０ａが空気槽１０内に面すると共に、反応層２０ｂが沈殿槽１１内に面する。空気槽１０内にはガス供給管３の先端が挿入され、空気槽１０内に所定圧力に加圧した空気（酸素含有ガス）を導入でき、さらに、この空気をガス拡散電極２０のガス拡散層２０ａに供給できるようになっている。沈殿槽１１内には電解液Ｓが収納され、この電解液Ｓ中に陽極４を浸漬させている。

陽極４としては、ガリウム含有物を用いることができ、このガリウム含有物には、金属ガリウム、Ｉｎ－Ｇａのようなガリウム合金や、ＩＧＺＯのようなガリウムを含有する導電酸化物が含まれる。また、後述の如く液状化したガリウム４０と導通するように、電解液Ｓに対して不溶解性を有するＰｔメッキ電極４１が設置されている。このＰｔメッキ電極４１としては、例えば、ＰｔメッキＴｉ電極を用いることができる。また、Ｐｔメッキ電極４１は電解液Ｓ中の上部領域まで存在することが好ましい。これによれば、電解液Ｓとの接触面積が増加し、水素イオンを効率的に供給し、後述する正極室１１ｂ内のｐＨを所定範囲（酸性側）に維持することができる。

電解液Ｓとしては、硝酸アンモニウム、塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、酢酸アンモニウム、硫酸ナトリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、硝酸カリウム及び硫酸カリウムから選択された少なくとも１種を用いることができる。ここで、析出する金属水酸化物に含まれる不純物（窒素）の量を少なくでき、しかも、その不純物を比較的低温での熱処理で容易に除去可能である点を考慮すると、硝酸アンモニウムを用いることが好適である。水酸化ガリウムが効率よく析出するように、ｐＨ制御手段５により電解液ＳのｐＨが８～９に制御されている。この場合、ｐＨ制御手段５は、図示省略するｐＨセンサにより電解液ＳのｐＨを測定し、例えば、ｐＨ測定値が８未満になると、後述する析出室１１ａにアンモニア水（ｐＨ１０）を所定量投入する。

電解装置ＥＭは、直流電源６を更に備え、陰極２と陽極４との間に所定の電圧を印加できるようになっている。印加電圧は、所定の電流密度（例えば、２．５Ａ／ｄｍ ^２ ）となるように適宜設定できる。例えば、電解液Ｓとして硝酸アンモニウムを用いる場合、印加電圧を３．０～１０．０Ｖの範囲内で設定できる。電解液Ｓとして塩化アンモニウムや硫酸アンモニウムを用いる場合、印加電圧を２．５～１０．０Ｖの範囲内で設定できる。また、電解液Ｓとして酢酸アンモニウムを用いる場合、印加電圧を８．５～１５．０Ｖの範囲内で設定できる。

電解温度（電解液Ｓの温度）を室温（２５℃）に設定すれば、電解液Ｓの温度制御手段が不要となり、装置コスト上好ましいが、電解中、ジュール熱により電解液Ｓの温度が約３０℃に上昇する。この場合、低融点の金属ガリウム又はその合金は液状化し、液状化した金属ガリウム又はその合金４０が底部に溜まることとなる。この状態で水酸化ガリウムを析出させると、析出した水酸化ガリウムの粒径が所望の粒径よりも大きくなり、スパッタリングターゲットの製造に適さなくなる。

そこで、本実施形態では、電解液Ｓが収納される電解槽１の部分に所定の通気度を有するフィルター板７を設けて、水酸化ガリウムが析出する析出室１１ａと、陽極４が設置される陽極室１１ｂとを区画した。フィルター板７は、ポリプロピレンメッシュのような樹脂製メッシュや、ポリプロピレン／ポリエチレン複合繊維ボードフィルターを用いることができる。フィルター板７は、例えば、図示省略するＰＶＣ板で挟持した状態で設置することができる。フィルター板７としては、１２５Ｐａで０．３～１５０ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃの範囲の通気度を有するものを用いることができる。これにより、陽極室１１ｂの電解液ＳのｐＨを所定範囲（例えば、酸性側）に維持できる。通気度は、ＪＩＳの通気性試験（Ｌ１０９６ ６．２７．１Ａ 法）に準拠するものである。通気度が０．３ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃ未満である場合には、イオン伝導度（インピーダンス）に影響を及ぼし、電圧が上昇し、電力消費量が増加する虞がある。一方で、通気度が１５０ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃを超える場合、陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０が析出室１１ａに滲み出し、陽極室１１ｂのフィルター効果が無くなる虞がある。さらに、析出室１１ａと陽極室１１ｂとの間で硝酸イオンの濃度差を保ち難く、ｐＨ差が生じ難くなり、その結果、陽極室１１ｂ内で金属水酸化物が析出してしまい、金属水酸化物の回収ロスが多くなる虞もある。液抵抗効果がほとんどなくなり、その結果として、析出室１１ａに比べて陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度が高い状態を維持することができず、陽極室１１ｂの電解液ＳのｐＨを酸性側に維持する効果が低下する。

以下、本実施形態の金属水酸化物の製造方法について、上記電解装置ＥＭを用い、電解液Ｓを硝酸アンモニウムとし、陽極４を金属ガリウム又はその合金とし、水酸化ガリウムを析出させる場合を例に説明する。

先ず、電解槽１内に設置される陰極２により区画される沈殿槽１１内に電解液Ｓを収納し、さらに沈殿槽１１内に設置されるフィルター板７により、水酸化ガリウムが析出される析出室１１ａと、陽極室１１ｂとに区画され、この陽極室１１ｂの電解液Ｓ中に金属ガリウム又はその合金４を浸漬させる。ガス拡散電極２０を陰極、金属ガリウム又はその合金４を陽極とし、これら両極間に電源６から電圧を印加する。このように電圧を印加すると、ジュール熱により電解液Ｓの温度が上昇し、金属ガリウム又はその合金４が液状化し、液状化したガリウム４０が陽極室１１ｂの底部に溜まる。ここで、フィルター板７の通気度を適宜設定することで、フィルター板７のフィルター効果により、陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０は、フィルター板７を介して析出室１１ａに滲み出すことがない。さらに、フィルター板７の液抵抗効果により、析出室１１ａに比べて陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度が高い（リッチな）状態となり、Ｐｔメッキ電極４１によって水素イオンが効率良く供給されることで、陽極室１１ｂのｐＨが酸性側に維持されるため、陽極室１１ｂにてガリウムイオンの溶出が効果的に行われる。その結果として、陽極室１１ｂからフィルター板７を介して析出室１１ａにガリウムイオンが効率よく供給される。析出室１１ａにて、ガリウムイオンが電解液Ｓ中の水酸化物イオンと反応することで水酸化ガリウムが析出し、析出した水酸化ガリウムが析出室１１ａの底部に沈殿する。

尚、電解中、空気槽１０内にガス供給管３から空気を導入することで、ガス拡散層２０ａを介して反応層２０ｂに酸素が供給される。これにより、反応層２０ｂの内部に気液界面が形成され、この気液界面にて酸素の還元反応が起こり、電解液Ｓ中に水酸化物イオンが供給される。

以上説明した実施形態によれば、析出室１１ａと陽極室１１ｂとをフィルター板７で区画し、このフィルター板７の通気度を適宜設定することで、電解中に液状化したガリウム４０が析出室１１ａに滲み出すことを防止できる。このとき、フィルター板７の液抵抗効果により、析出室１１ａと陽極室１１ｂとの間でｐＨ差を生じさせることができ、つまり、陽極室１１ｂの電解液Ｓを酸性にすることができるため、陽極室１１ｂにて液状化したガリウム４０からガリウムイオンが効率よく溶出する。その結果として、陽極室１１ｂからフィルター板７を介して析出室１１ａにガリウムイオンが効率よく供給され、析出室１１ａで析出する水酸化ガリウムの粒径は大きくならず、スパッタリングターゲットの製造に適したものとなる。しかも、液状化を防止するために電解液Ｓを冷却する設備を設ける必要がないため、低コストである。

次に、上記実施形態を更に具体化した実施例について説明する。

（実施例１）
陽極４を５０ａｔ％のＩｎ－Ｇａ合金（３０ｇ）とし、このＩｎ－Ｇａ合金は室温で液状（ゲル状）であるため、ＰｔメッキＴｉ電極４１によりＩｎ－Ｇａ合金４（液状化したガリウム４０）との導通をとれるようにした。フィルター板７として濾過精度１０μｍのポリプロピレン／ポリエチレン複合繊維ボードフィルター（通気度は１７．６ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃ）を用い、陰極２とＰｔメッキＴｉ電極４１（陽極４）との間に、電流密度が２．５Ａ／ｄｍ^２となるように電圧を印加し、析出室１１ａにｐＨ１０のアンモニア水を適宜追加しながら析出室１１ａの電解液ＳのｐＨを８～９の範囲に調整して電解を行ったところ、液状化したガリウム４０の析出室１１ａへの滲み出しがないことが確認された。そして、２４時間電解を行った後、陽極室１１ｂに残留する液状化したガリウム４０の重量を測定すると約５ｇであった。また、電解中の析出室１１ａと陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度を、イオンクロマト分析により測定した結果を図２（ａ）に示す。これによれば、フィルター板７の液抵抗効果により析出室１１ａよりも陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度が高い状態となり、電解開始から１時間後に陽極室１１ｂ内のｐＨが酸性側になることが確認された。本実施例１によれば、陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０を効果的に溶出でき、それにより生じたガリウムイオンをフィルター板７を介して析出室１１ａに供給できることが判った。

（実施例２）
本実施例２では、陽極４を板状の金属ガリウム（３０ｇ）とした点を除いて、上記実施例１と同様に電解を行ったところ、電圧印加により陽極室１１ｂでガリウムが液状化したものの、この液状化したガリウム４０の析出室１１ａへの滲み出しがないことが確認された。そして、２４時間電解を行った後、陽極室１１ｂに残留する液状化したガリウム４０の重量を測定すると約５ｇであった。また、上記実施例１と同様に、フィルター板７の液抵抗効果により析出室１１ａよりも陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度が高い状態となることが確認された。本実施例２によれば、上記実施例１と同様に、陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０を効果的に溶出でき、それにより生じたガリウムイオンをフィルター板７を介して析出室１１ａに供給できることが判った。

（実施例３）
本実施例３では、フィルター板７として目開き１μｍのポリプロピレンメッシュ（通気度は０．３ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃ）を用いた点を除いて、上記実施例２と同様に電解を行ったところ、電圧印加により陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０の析出室１１ａへの滲み出しがないことが確認された。そして、２４時間電解を行った後、陽極室１１ｂに残留する液状化したガリウム４０の重量を測定すると約５ｇであった。また、電解中の析出室１１ａと陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度を、イオンクロマト分析により測定した結果を図２（ｂ）に示す。これによれば、上記実施例１及び２と同様に、フィルター板７の液抵抗効果により、析出室１１ａよりも陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度が高い状態となり、電解開始から１時間後に陽極室１１ｂ内のｐＨが酸性側になることが確認された。本実施例３によれば、上記実施例１及び２と同様に、陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０を効果的に溶出でき、それにより生じたガリウムイオンをフィルター板７を介して析出室１１ａに供給できることが判った。

（実施例４）
本実施例４では、フィルター板７として目開き１００μｍのポリプロピレンメッシュ（通気度は１３６ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃ）を用いた点を除いて、上記実施例２と同様に電解を行ったところ、電圧印加により陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０の析出室１１ａへの滲み出しがないことが確認された。そして、２４時間電解を行った後、陽極室１１ｂに残留する液状化したガリウム４０の重量を測定すると約５ｇであった。また、電解中の析出室１１ａと陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度を、イオンクロマト分析により測定した結果を図３（ａ）に示す。これによれば、上記実施例１－３と同様に、フィルター板７の液抵抗効果により、析出室１１ａよりも陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度が高い状態となり、電解開始から２時間後に陽極室１１ｂ内のｐＨが酸性側になることが確認された。本実施例４によれば、上記実施例１－３と同様に、陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０を効果的に溶出でき、それにより生じたガリウムイオンをフィルター板７を介して析出室１１ａに供給できることが判った。

次に、上記実施例に対する比較例について説明する。

（比較例１）
本比較例１では、フィルター板７として濾過精度１５０μｍのポリプロピレン／ポリエチレン複合繊維ボードフィルター（通気度は１５０．３ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃ）を用いた点を除いて、上記実施例２と同様に電解を行ったところ、フィルター板７のフィルター効果が無く、電圧印加により陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０の析出室１１ａへの滲み出しが確認された。また、電解中の析出室１１ａと陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度を、イオンクロマト分析により測定した結果を図３（ｂ）に示す。これによれば、フィルター板７の液抵抗効果が無く、析出室１１ａよりも陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度が高い状態とならず、電解開始から２４時間経過後も陽極室１１ｂ内のｐＨが中性（７～８）であることが確認された。

（比較例２）
フィルター板７として目開き１５０μｍのポリプロピレンメッシュ（通気度は１５５ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃ）を用いた点を除いて、上記実施例２と同様に電解を行ったところ、電圧印加により陽極室１１ｂで液状化したガリウム４０の析出室１１ａへの滲み出しが確認された。また、電解中の析出室１１ａと陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度を、イオンクロマト分析により測定した結果を図２（ｄ）に示す。これによれば、上記比較例１と同様に、フィルター板７の液抵抗効果が無く、析出室１１ａよりも陽極室１１ｂの硝酸イオン濃度が高い状態とならないことが確認された。

尚、上記実施例１，２及び比較例１においてフィルター板７として用いたポリプロピレン／ポリエチレン複合繊維ボードフィルターの濾過精度及び通気度と、陽極室１１ｂで液状化したガリウムの析出室１１ａの滲み出しの有無との関係を下表１に示す。また、上記実施例３，４及び比較例２においてフィルター板７として用いたポリプロピレンメッシュの目開き及び通気度と、陽極室１１ｂで液状化したガリウムの析出室１１ａの滲み出しの有無との関係を下表２に示す。

（表１）

（表２）

なお、本発明は上記実施形態及び実施例に限定されるものではない。例えば、上記実施形態及び実施例では、陽極４として金属ガリウム又はその合金を用いる場合を例に説明したが、図３に示すように、陽極４をＩＧＺＯのようなガリウムを含有する導電酸化物（例えば、ガリウムを含有するターゲットスクラップ）を用いることができる。この場合も液状化したガリウム４０が陽極室１１ｂに溜まるため、フィルター板７の通気度を上記範囲に設定することで、上記実施形態及び実施例と同様の効果を得ることができる。この場合、電解により陽極（ＩＧＺＯ）４の表面が酸化されたり、溶け落ちたりすることで導電性が低下するが、陽極４に隣接配置されたＰｔメッキ電極４１により導通が維持されて電解が継続し、陽極４に通電されていなくても、陽極室１１ｂの酸性溶液によって溶解され続けるという効果を奏する。

また、上記実施形態では、電解液Ｓとして硝酸アンモニウムを用いる場合について説明したが、金属水酸化物の粒径に応じて、例えば、上記例示した塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、酢酸アンモニウム等を用いることができる。この場合、析出した金属水酸化物に塩素、硫黄、炭素等が不純物として混入し、これらの不純物を除去するには、窒素を除去する場合に比べてより高温の熱処理を行う必要がある。

また、フィルター板７の目詰まりを可及的に抑制すると共に、析出室１１ａ内のｐＨを調整を行うためには、析出室１１ａ内にスターラー等の撹拌手段を設け、電解液Ｓを撹拌することが好ましい。撹拌手段としては、公知のものを用いることができるため、詳細な説明を省略する。

また、上記実施形態では、陽極４としてＩｎ－Ｇａ合金や金属ガリウム等のガリウム含有物を用いる場合を例に説明したが、陽極４として３０℃で液状化する金属を含有する金属含有物を用いる場合に本発明を適用することができる。

１…電解槽、２…陰極、１１ａ…析出室、１１ｂ…陽極室、２０…ガス拡散電極、２０ａ…ガス拡散層、２０ｂ…反応層、Ｓ…電解液、４…陽極，ガリウム含有物、４１…Ｐｔメッキ電極、６…電源、７…フィルター板。

Claims (5)

1. 電解槽と、電解槽内に設置される、疎水性のガス拡散層とこのガス拡散層に積層される親水性の反応層とを有するガス拡散電極と、ガス拡散電極により区画された電解槽の反応層が面する部分に収納される電解液と、電解液中に設置される陽極と、ガス拡散電極を陰極とし、両電極間に電圧を印加する電源とを備える金属水酸化物の製造装置において、
   前記陽極として３０℃で液状化する金属を含有する金属含有物を用い、電解液が収納される電解槽の部分にフィルター板を設けて、金属水酸化物が析出する析出室と金属含有物が設置される陽極室とを区画し、この陽極室の電解液のｐＨが酸性に維持されるようにフィルター板の通気度を設定したことを特徴とする金属水酸化物の製造装置。
2. 請求項１記載の金属水酸化物の製造装置であって、前記金属含有物がガリウム含有物であるものにおいて、
   前記フィルター板の通気度は、０．３～１５０ｃｃ／ｃｍ^２／ｓｅｃの範囲であることを特徴とする請求項１記載の金属水酸化物の製造装置。
3. 前記陽極室に前記ガリウム含有物と導通するようにＰｔメッキ電極を設置したことを特徴とする請求項２記載の金属水酸化物の製造装置。
4. 電解槽内に、疎水性のガス拡散層と親水性の反応層とを積層して構成されるガス拡散電極を設置してこの電解槽内を区画し、この区画された電解槽の反応層に面する部分に電解液を収納し、電解液中にガリウム含有物からなる陽極を浸漬し、ガス拡散電極を陰極として両電極間に電圧を印加すると共に、区画された電解槽のガス拡散層に面する部分に酸素を供給して電解し、電解液中に金属水酸化物を析出させる金属水酸化物の製造方法であって、
   電解液中に所定の通気度を有するフィルター板を設けて、金属酸化物が析出する析出室と、前記ガリウム含有物が液状化する陽極室とに区画すると共に、電解中、陽極室内が酸性に維持されるようにしたことを特徴とする金属水酸化物の製造方法。
5. 電解中、析出室のｐＨが８～９の範囲に維持されるように析出室にアンモニア水を供給することを特徴とする請求項４記載の金属水酸化物の製造方法

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