JP7149983B2 - ベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品 - Google Patents
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Description
＜関連出願＞
本願は、２０１９年１２月３１日に出願された、出願番号が２０１９１１４２５２１８．０、発明の名称が「放射冷却フィルム、放射冷却複合フィルム、放射冷却製品」である中国特許出願の優先権、及び２０２０年１月２３日に出願された、出願番号が２０２０１００７６４６２．７、発明の名称が「放射冷却フィルム」である中国特許出願の優先権を主張しており、その内容全体は引用により本願に組み込まれる。
本願は、２０１９年１２月３１日に出願された、出願番号が２０１９１１４２５２１８．０、発明の名称が「放射冷却フィルム、放射冷却複合フィルム、放射冷却製品」である中国特許出願の優先権、及び２０２０年１月２３日に出願された、出願番号が２０２０１００７６４６２．７、発明の名称が「放射冷却フィルム」である中国特許出願の優先権を主張しており、その内容全体は引用により本願に組み込まれる。
本願は省エネルギーの技術分野に関し、特にベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品に関する。
省エネルギーの技術分野では、通常、放射冷却機能を有するフィルムを物体の表面に貼着することで、太陽光を反射し、大気の窓の波長域の赤外線で放射する方法により熱を宇宙空間に伝達し、温度低下の目的を実現する。しかしながら、放射冷却機能を有する従来の薄膜は、通常、単一の高分子材料で製造され、又は高分子材料に少量の充填材が添加され、ヘイズはわずか１％前後であり、反射層に適用されると、鏡面反射が顕著であり、光害を引き起こしやすい。
本願の様々な実施例によれば、ベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品を提供する。
前記ベースフィルムは第１層及び前記第１層に分散する第１充填材を含み、前記第１層の材料の屈折率をｎ（１．３－１．７）とし、前記第１充填材の屈折率をｍとし、ｎとｍの差をｘとすると、ｘの絶対値は０．０００５以上であり、前記ベースフィルムは７μｍ－１４μｍの大気の窓での放射率が８０％以上であり、３００ｎｍ－２５００ｎｍの波長域での熱反射率が１０％以上であり、光沢度が２０ＧＵ以下である。
上記ベースフィルムにおいて、第１層の材料と第１充填材の屈折率の関係を調整することにより、ベースフィルム内部に入射した入射光がベースフィルムにおいて複数回屈折でき、それにより、ベースフィルムのヘイズを増加させるという目的を実現し、さらにベースフィルムの光沢度を低下させ、光害の発生を回避又は低減することができる。また、ベースフィルムの高い放射率及び優れた温度低下効果を保証する。
一実施例では、前記ベースフィルムは前記第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層をさらに含み、前記第１層、前記第２層、及び前記第３層は共押出成形され、前記第２層と前記第１層の厚みの比は１：１－１：２０であり、前記第３層と前記第１層の厚みの比は１：１－１：２０である。
一実施例では、前記第１層の材料はポリエステル類、ポリアクリレート類、ポリアミド類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、フッ素樹脂のうちの少なくとも１種を含む。
一実施例では、前記ポリエステル類はポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートグリコール、ポリエチレンテレフタレート-1,4-シクロヘキサンジメタノールエステルのうちの少なくとも１種を含み、前記ポリアクリレート類はアクリロニトリル－ブタジエン－スチレンプラスチック、ポリメチルメタクリレートのうちの少なくとも１種を含み、前記ポリアミド類はナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ナイロン１０１０のうちの少なくとも１種を含み、前記ポリオレフィン類はポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４－メチル－１－ペンテン）のうちの少なくとも１種を含み、前記フッ素樹脂はテトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、エチレン－クロロトリフルオロエチレン共重合体のうちの少なくとも１種を含む。
一実施例では、前記第２層の材料及び前記第３層の材料はいずれも前記第１層の材料と同じである。
一実施例では、前記第１充填材は有機充填材、無機充填材のうちの少なくとも１種を含み、前記第１層における前記第１充填材の質量百分率は２％－２０％である。
一実施例では、前記第１充填材は有機充填材であり、ｘの絶対値は０．０５以上であり、前記第１層における前記第１充填材の質量百分率は２％－５％であり、前記有機充填材はポリアクリレート粒子、ポリスチレン粒子、ポリウレタン粒子、ポリメチルメタクリレート粒子、エポキシ樹脂粒子のうちの少なくとも１種を含む。
一実施例では、前記有機充填材の融点は前記第１層の材料の融点より高い。
一実施例では、前記有機充填材は中空充填材である。
一実施例では、前記第１充填材は無機充填材であり、前記第１層における前記第１充填材の質量百分率は３％以上であり、前記無機充填材は窒化チタン粒子、二酸化チタン粒子、炭化ケイ素粒子、シリカ粒子、硫酸バリウム粒子、硫酸カルシウム粒子、炭酸カルシウム粒子のうちの少なくとも１種を含む。
一実施例では、前記第１層はセルを含む。
一実施例では、前記第１充填材の粒径は１μｍ－２０μｍである。
一実施例では、前記第１層の厚みは２５μｍ以上であり、前記第２層及び前記第３層の厚みはいずれも５μｍ以上である。
一実施例では、前記第２層に第２充填材がさらに分散し、前記第２層における前記第２充填材の質量百分率は０．５％－２％であり、及び／又は、前記第３層に第３充填材がさらに分散し、前記第３層における前記第３充填材の質量百分率は０．５％－２％である。
一実施例では、前記第２層の光透過率は８２％以上であり、前記第２層の水蒸気透過率は１０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であり、及び／又は、前記第３層の光透過率は８２％以上であり、前記第３層の水蒸気透過率は１０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下である。
一実施例では、前記第２層は紫外線吸収剤をさらに含み、前記第２層の紫外線遮断率は８０％以上であり、及び、前記第２層は酸化防止剤をさらに含み、前記第２層における前記酸化防止剤と前記紫外線吸収剤の質量百分率の合計は０．５％－４％である。
一実施例では、前記ベースフィルムの光透過率は８２％以上である。
前記複合フィルムは上記ベースフィルムと、前記ベースフィルムに順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層、及び基材層を含み、前記複合フィルムは光沢度が７０ＧＵ以下であり、７μｍ－１４μｍの大気の窓での放射率が８０％以上であり、３００ｎｍ－２５００ｎｍの波長域での熱反射率が８５％以上である。
上記ベースフィルムを基礎として、反射フィルムを組み合わせることで、取得された複合フィルムに優れた反射率を与え、さらに温度低下効果を向上させることができる。従って、複合フィルムを省エネルギー建材、光起電産業、屋外製品等の分野に適用すると、優れた温度低下効果を有するだけではなく、光沢度が低く、光害の発生を効果的に回避又は低減することができる。
一実施例では、前記反射フィルムの材料は金属材料及び／又はセラミック材料である。
上記複合フィルムを含む前記製品は、基体と、前記基体の表面に順に積層して設けられた第１貼着層及び複合フィルムとを含む。
上記複合フィルムを含む製品は、優れた温度低下効果を有するとともに、光沢度が低く、光害の発生を効果的に回避又は低減することができる。
一実施例では、前記基体は金属、プラスチック、ガラス、ゴム、ピッチ、セメント、織物のうちの少なくとも１種を含む。
本明細書に開示されている発明の実施例及び／又は例をよりよく説明し図示するために、１つ以上の添付図面を参照してもよい。添付図面を説明するために使用される追加の詳細又は例は、開示された発明、現在説明されている実施例及び／又は例及びこれらの発明を理解する最良の形態の1つの範囲を限定するものとして考えられるべきではない。
本願のベースフィルムの第１実施形態の構造模式図である。
本願のベースフィルムの第２実施形態の構造模式図である。
本願のベースフィルムの第３実施形態の構造模式図である。
本願の複合フィルムの構造模式図である。
本願の複合フィルムを含む製品の構造模式図である。
本願の産業応用事例１のボックス型電気変圧器における高圧キャビネットの中央部の温度試験の比較図である。
本願の産業応用事例１のボックス型電気変圧器における変圧器の中央部の温度試験の比較図である。
本願の産業応用事例１のボックス型電気変圧器における低電圧配電キャビネットの中央部の温度試験の比較図である。
本願の産業応用事例２のモデルハウスの模式図である。
本願の産業応用事例２の温度試験の比較図である。
以下、本願により提供されるベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品をさらに説明する。
本願では、光沢度の測定は研磨ガラスを参照標準として光の表面反射に基づいて行われる。表面で反射される光は、入射角と表面の性質に依存する。光沢度は低光沢度、半光沢度又は高光沢度に分類される。
本願では、国家標準ＧＢ／Ｔ１３８９１－２００８に準拠して各製品又はサンプルの光沢度をテストし、６０°の幾何学的条件でサンプルをテストし、テスト結果が７０ＧＵより大きい場合、２０°の幾何学的条件でさらにテストしてその解像度を向上させる。それに応じて、テスト結果が１０ＧＵより小さい場合、８５°の幾何学的条件でさらにテストしてその解像度を向上させる。６０°の幾何学的条件でサンプルをテストした結果が１０ＧＵ－７０ＧＵである場合、「半光沢度」と呼ばれ、結果が１０ＧＵより小さい場合、「低光沢度」と呼ばれ、結果が７０ＧＵより大きい場合、「高光沢度」と呼ばれる。
図１に示すとおり、本願により提供される第１実施形態のベースフィルム２１は、第１層２１１及び第１層２１１に分散する第１充填材２１２を含む。第１層２１１の材料の屈折率をｎ（１．３－１．７）とし、第１充填材２１２の屈折率をｍとし、ｎとｍの差をｘとすると、ｘの絶対値は０．０００５以上である。ベースフィルム２１は、７μｍ－１４μｍの大気の窓での放射率が８０％以上であり、３００ｎｍ－２５００ｎｍの波長域での熱反射率が１０％以上であり、光沢度が２０ＧＵ以下である。
なお、第１層２１１の材料の屈折率ｎは第１充填材２１２の屈折率ｍより大きくてもよく、第１充填材２１２の屈折率ｍより小さくてもよいが、両者の差ｘの絶対値は０．０００５以上でなければならない。
従って、第１層２１１の材料と第１充填材２１２との屈折率の関係を調整することにより、ベースフィルム２１の内部に入射した入射光がベースフィルム２１において複数回屈折でき、それにより、ベースフィルム２１のヘイズを増加させるという目的を実現し、さらにベースフィルム２１の光沢度を低下させ、光害の発生を回避又は低減することができる。また、ベースフィルム２１の高い放射率及び優れた温度低下効果を保証することができる。
１つ又は複数の実施例において、第１層２１１の材料と第１充填材２１２との屈折率の関係をさらに選択することにより、そのマッチング効果がよくなり、ベースフィルム２１の光沢度は９ＧＵ－２０ＧＵになる。
ベースフィルム２１の光透過率、放射率、及び成膜性等の観点から、第１層２１１の材料はポリエステル類、ポリアクリレート類、ポリアミド類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、フッ素樹脂のうちの少なくとも１種を含む。具体的には、ポリエステル類はポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンテレフタレート-1,4-シクロヘキサンジメタノールエステル（ＰＣＴＧ）のうちの少なくとも１種を含み、ポリアクリレート類はアクリロニトリル－ブタジエン－スチレンプラスチック（ＡＢＳ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のうちの少なくとも１種を含み、ポリアミド類はナイロン６（ＰＡ６）、ナイロン６６（ＰＡ６６）、ナイロン１２（ＰＡ１２）、ナイロン１０１０（ＰＡ１０１０）のうちの少なくとも１種を含み、ポリオレフィン類はポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリ（４－メチル－１－ペンテン）（ＴＰＸ）のうちの少なくとも１種を含み、フッ素樹脂はテトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、エチレン－クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）のうちの少なくとも１種を含む。
１つ又は複数の実施例において、第１充填材２１２は、有機充填材及び無機充填材のうちの少なくとも１種を含み、第１層２１１における質量百分率は２％－２０％である。
１つ又は複数の実施例において、第１充填材２１２は、有機充填材であり、ｘの絶対値は０．０５以上であり、ｘが大きいほど、入射光が屈折する能力が高く、ヘイズの増加がより顕著になる。
１つ又は複数の実施例において、有機充填材はポリアクリレート粒子、ポリスチレン粒子、ポリウレタン粒子、ポリメチルメタクリレート粒子、エポキシ樹脂粒子のうちの少なくとも１種を含む。
ベースフィルム２１のヘイズ限界が９０％－９５％であることを考慮すると、ベースフィルム２１における有機充填材の含有量が高すぎると、ベースフィルム２１のヘイズを顕著に増加させるとともに、ベースフィルム２１の表面粗さ及び光透過率に影響を与える。また、有機充填材の含有量が高すぎると、ベースフィルム２１の加工性にも影響を与える。従って、ベースフィルム２１における有機充填材の質量百分率は２％－５％である。
１つ又は複数の実施例において、ベースフィルム２１は溶融混合法によって製造され、具体的なステップは、第１層２１１の材料及び有機充填材を混合装置で混合して、溶融して混合してベースフィルム２１が製造されることである。
なお、ベースフィルム２１において、光線がベースフィルム２１で複数回屈折するために、有機充填材は粒子の形態で存在する必要がある。従って、ベースフィルム２１を溶融混合法によって製造する時に有機充填材が溶融しないことを保証するために、有機充填材の融点は第１層２１１の材料の融点より高い必要がある。
具体的には、溶融混合温度は、（１）第１層２１１の材料が完全に溶融できるが分解しないこと、（２）有機充填材が溶融しないことを満たす必要がある。
第１層２１１の材料及び有機充填材は屈折率と融点の関係を同時に満たすことを可能にするために、できるだけ分子材料を選択する。しかしながら、高分子材料において、分子量、重合度等の要素の影響を受け、又は高分子材料を改質した後、同じモノマーの高分子材料も本願における第１層２１１の材料及び有機充填材の屈折率と融点の関係を満たす場合、第１層２１１の材料及び有機充填材も同じモノマーの高分子材料を選択することができる。
１つ又は複数の実施例において、有機充填材が中空充填材である場合、入射光は、有機充填材を透過する時に、複数回屈折でき、それにより、さらにベースフィルム２１のヘイズを増加させ、ベースフィルム２１の光沢度をさらに低下させる。
同様に、第１層２１１がセルを含む場合、入射光が第１層２１１において複数回屈折し、それにより、ベースフィルム２１のヘイズをさらに増加させ、光沢度を低下させることができる。
１つ又は複数の実施例において、セルのサイズは２μｍ－６μｍであり、好ましくは３μｍ－５μｍである。
１つ又は複数の実施例において、セルは製造工程中に孔形成剤を添加することによって取得され、孔形成剤は炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム等の易分解性材料を含み、溶融混合時に分解しかつ第１層２１１にセルを保留する。
１つ又は複数の実施例において、第１充填材２１２は無機充填材であり、ｘの絶対値は０．２より大きい。
１つ又は複数の実施例において、無機充填材は窒化チタン粒子、二酸化チタン粒子、炭化ケイ素粒子、シリカ粒子、硫酸バリウム粒子、硫酸カルシウム粒子、炭酸カルシウム粒子のうちの少なくとも１種を含む。
第１層における第１充填材２１２が無機充填材である場合、入射光が第１層で屈折する能力は有機充填材よりも高いが、入射光は無機充填材を透過できず、それにより、ベースフィルム２１における散乱光を低減し、ヘイズは散乱光と光束の比であるので、ベースフィルム２１のヘイズの増加程度が対応して弱められる。
ベースフィルム２１のヘイズを保証するために、１つ又は複数の実施例において、ベースフィルム２１における無機充填材の質量百分率は３％以上であり、ベースフィルム２１のヘイズは３５％以上である。さらに、ベースフィルム２１における無機充填材の質量百分率は好ましくは５％以上であり、それにより、ベースフィルム２１のヘイズが５０％以上になるようにする。
無機充填材の質量百分率を高めることでベースフィルム２１のヘイズを増加させる時、ベースフィルム２１の吸熱量を減少させ、それにより、より多くの熱を反射し、反射率を高めるために、ベースフィルム２１における光透過率を８２％以上とする必要がある。
しかしながら、無機充填材の含有量が高すぎると、基体材料の流動性に影響を与え、第１層２１１の成膜性が低下すると考えられるため、第１層２１１における無機充填材の質量百分率はより好ましくは５％－２０％である。
また、第１充填材２１２の添加量が高く、特に第１充填材２１２が無機充填材である場合、ベースフィルム２１の力学的性質、特に耐衝撃性が低下し、ベースフィルム２１は加工工程中に破断しやすく、加工難度が高く、製造効率が低い。その主な原因は、第１充填材２１２と第１層２１１の材料が非相溶である場合、加工工程中にベースフィルム２１に欠陥が発生し、さらに急速延伸工程中にクラックが発生し、ベースフィルム２１が破断することである。特に、第１充填材２１２の添加量が５％以上である場合、ベースフィルム２１が加工工程中に破断するという問題が深刻になる。
これに対して、図２に示すとおり、本願により提供される第２実施形態のベースフィルム２１は、第１実施形態に基づき、第１層２１１の対向する両側の表面に設けられた第２層２１３及び第３層２１５をさらに含み、第１層２１１、第２層２１３、及び第３層２１５は共押出成形される。
第１層２１１、第２層２１３、及び第３層２１５を一次共押出成形可能にするために、第２層２１３の材料、第３層２１５の材料、及び第１層２１１の材料はいずれも同じである。
従って、第１層２１１はベースフィルム２１の主な機能層であり、ベースフィルム２１の放射冷却効果及びヘイズを決定する。第２層２１３及び第３層２１５は共押出成形の加工工程中に第１層２１１を支持し、ベースフィルム２１の力学的性質を向上させ、ベースフィルム２１が加工工程中に破断しないことを保証する。
なお、共押出成形工程中において、第１層２１１には依然としてクラックが発生するが、第２層２０及び第３層３０にはクラックが入らず、急速延伸工程中に第１層２１１を支持する。
第１充填材２１２を第１層２１１に均一に分散させるために、まず、第１層２１１の材料と第１充填材２１２を造粒することを理解することができる。
第２層２１３及び第３層２１５がベースフィルム２１の性能に影響を与えることなく第１層２１１を十分に支持するために、第２層２１３及び第３層２１５の厚みの選択は第１層２１１の厚みの変化によって独立して変化し得る。そして、それぞれ１：１－１：２０の範囲内、好ましくは、１：１．５－１：２０の範囲内である。
第１層２１１が薄すぎる場合、ベースフィルム２１のヘイズ及び放射冷却効果が大きく改善されないことを考慮すると、第１層２１１の厚みは好ましくは２５μｍ以上である。一方、第１層２１１が厚すぎると、ベースフィルム２１の柔軟性に影響が与え、使用する場合、折り目が発生しやすいため、効果に影響を与える。従って、第１層２１１の厚みはより好ましくは２５μｍ－１００μｍである。
それに応じて、第２層２１３及び第３層２１５が薄すぎると、第１層２１１を支持する効果はより良好な状態に到達できないため、第２層２１３及び第３層２１５の厚みはいずれも好ましくは５μｍ以上である。一方、第２層２１３及び第３層２１５が所定の厚みになると、第１層２１１を支持する効果があまり向上しないが、ベースフィルム２１の放射冷却効果、柔軟性に影響を与えるため、第２層２１３及び第３層２１５の厚みはより好ましくは５μｍ－２５μｍであり、第１層２１１との厚みの比は１：１－１：２０の範囲内であり、好ましくは１：１．５－１：２０の範囲内である。
また、本願で共押出成形される第２層２１３及び第３層２１５は、第１層２１１の表面粗さをカバーするという役割を果たす。具体的には、第１充填材２１２の添加により、第１層２１１の表面粗さが０．８μｍ前後になり、第１充填材２１２の添加量の増加に伴ってさらに増大し、第２層２１３及び第３層２１５でカバーされると、ベースフィルム２１の表面粗さは０．０４μｍ前後に低下し、それにより、後のコーティング等の加工工程中に優れた加工性及び外観等の性能上の利点をベースフィルム２１に与える。
第１層２１１の表面粗さは、さらに第１充填材２１２の粒径に関連する。第１充填材２１２の粒径が大きいほど、第１層２１１の表面粗さが大きくなることを理解することができる。しかしながら、第１充填材２１２の粒径が小さいほど、第１層２１１で凝集しやすくなり、ヘイズの増加効果を低下させる。従って、第１充填材の粒径は好ましくは０．１μｍ－２０μｍであり、より好ましくは０．５μｍ－１０μｍであり、さらに好ましくは２μｍ－６μｍであり、よりさらに好ましくは３μｍ－５μｍである。
なお、本願の第１充填材２１２の粒径とは平均粒径である。
１つ又は複数の実施例において、第１充填材２１２は有機充填材と無機充填材の混合物であり、これら２つの利点を組み合わせて、ベースフィルム２１を改善する時に、さらにベースフィルム２１の反射率及び放射率を高める。
図３に示すとおり、本願により提供される第３実施形態のベースフィルム２１は、第２実施形態に基づき、第２層２１３に第２充填材２１４も分散し、また、第２充填材２１４は第２層２１３に遮断ネットを形成し、水分が第１層２１１に入る通路を遮断及び延長し、それにより、水分の浸透を効果的に阻止し、ベースフィルム２１の耐用年数を延ばすことができる。
１つ又は複数の実施例において、第３層２１５に第３充填材２１６がさらに分散し、同様に第３層２１５に遮断ネットを形成し、さらにベースフィルム２１の耐用年数を延ばす。
勿論、第２充填材２１４及び第３充填材２１６は水分が第１層２１１に浸透することを遮断するとともに、光線の一部が第２層２１３を透過して第１層２１１に入ることを阻止し、ベースフィルム２１の放射冷却効果に影響を与える。従って、両者をバランスさせるために、第２充填材２１４と第３充填材２１６の添加量及び分散して形成される遮断ネット等の条件を制御することにより、第２層２１３及び第３層２１５の光透過率を８２％以上にするとともに、水蒸気透過率を１０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下にする。
実際の加工工程では、好ましくは第２充填材２１４と第３充填材２１６の添加量を制御することにより、第２層２１３と第３層２１５の光透過率及び水蒸気透過率を制御し、加工難度を低下させる。また、第２層２１３及び第３層２１５の表面粗さを保証するため、第２層２１３における第２充填材２１４の質量百分率及び第３層２１５における第３充填材２１６の質量百分率はいずれも好ましくは０．５％－２％である。
１つ又は複数の実施例において、第２充填材２１４及び第３充填材２１６はナノスケールの水酸化アルミニウム粒子、水酸化カルシウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化セリウム粒子、アルミナ粒子のうちの少なくとも１種から独立して選択され、形状はシート状、棒状のうちの少なくとも１種であり、好ましくはシート状である。さらに、第２充填材２１４及び第３充填材２１６のサイズは１０ｎｍ－７５０ｎｍから独立して選択される。
同様に、加工工程中に、第２充填材２１４を第２層２１３に均一に分散させ、第３充填材２１６を第３層２１５に均一に分散させるために、第２層２１３の材料及び第２充填材２１４を造粒し、第３層２１５の材料及び第３充填材２１６を造粒する必要がある。
従って、ベースフィルム２１を使用する場合、第２層２１３又は第３層２１５を照射面として任意に選択できる。
１つ又は複数の実施例において、第２層２１３は紫外線吸収剤をさらに含み、前記紫外線吸収剤を制御することで第２層２１３の紫外線遮断率を８０％以上にし、ベースフィルム２１の光老化を抑制し、さらに、第２層２１３の紫外光遮断を９０％以上にする。
また、第２層２１３は酸化防止剤をさらに含んでもよく、紫外線吸収剤とともに第２層２１３の紫外線遮断率を高める。具体的には、第２層２１３における酸化防止剤と紫外線防止剤の質量百分率の合計は０．５％－４％である。
なお、第２層２１３は第２充填材２１４、紫外線吸収剤、及び酸化防止剤を同時に含むことができる。この時、ベースフィルム２１を使用する場合、第２層２１３を照射面とする。
図４に示すとおり、本願により提供される複合フィルム２は、上記ベースフィルム２１と、ベースフィルム２１に順に積層して設けられた反射フィルム２２、第２貼着層２３及び基材層２４を含み、複合フィルム２は、光沢度が７０ＧＵ以下であり、７μｍ－１４μｍの大気の窓での放射率が８０％以上であり、３００ｎｍ－２５００ｎｍの波長域での熱反射率が８５％以上である。
１つ又は複数の実施例において、ベースフィルム２１の光沢度の変化により、複合フィルム２の光沢度は５０ＧＵ以下になる。従って、ベースフィルム２１に基づき、放射冷却効果に優れ、表面粗さの低い複合フィルム２を取得できる。
いくつかの好ましい実施例において、ベースフィルム２１の光沢度の変化により、複合フィルム２の光沢度は３０ＧＵ以下になり、具体的には、複合フィルム２の好ましい光沢度は１０ＧＵ－３０ＧＵである。
１つ又は複数の実施例において、反射フィルム２２の厚みは５０ｎｍ－４００ｎｍであり、基材層２４の厚みは１５μｍ－５０μｍであり、第２貼着層２の厚みは２μｍ－１５μｍである。
１つ又は複数の実施例において、反射フィルム２２の材料は金属材料及び／又はセラミック材料である。金属材料は銀、銀合金、アルミニウム、アルミニウム合金、金、金合金、銅、銅合金のうちの少なくとも１種であり、セラミック材料は金属酸化物、金属窒素化物、非金属窒素化物、半導体ドーピング化合物のうちの少なくとも１種であり、金属酸化物はＹ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２のうちの少なくとも１種を含み、金属窒素化物はＴｉ３Ｎ４、ＡｌＮのうちの少なくとも１種を含み、非金属窒素化物はＳｉ３Ｎ４を含み、半導体ドーピング化合物はＡＺＯ、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＺＴＯ、ＧＺＯのうちの少なくとも１種を含む。
１つ又は複数の実施例において、基材層２４の材料はポリエチレンナフタレート、ポリシクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレートグリコール、ポリエチレンテレフタレート－酢酸エステル、ポリカーボネート、アクリロニトリルスチレン共重合体、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレンの三元共重合体、ポリ塩化ビニル、エチレンプロピレンゴム、ポリオレフィン、ポリアミド、エチレン－酢酸ビニル共重合体、エチレン－メチルアクリレート共重合体のうちの少なくとも１種を含む。
図５に示すとおり、本願により提供される複合フィルムを含む製品は、基体１と、基体１の表面に順に積層して設けられた第１貼着層３及び複合フィルム２を含み、複合フィルム２における基材層２４は第１貼着層３に貼着される。
基体１は金属、プラスチック、ガラス、ゴム、ピッチ、セメント、織物のうちの少なくとも１種を含む。
１つ又は複数の実施例において、第１貼着層３及び第２貼着層２３の材料はエチレンアクリル酸共重合体、エチレン－酢酸ビニル共重合体、ポリメチルメタクリレート、無水マレイン酸グラフト物、水素化スチレン－ブタジエンブロック共重合体、スチレン－イソプレン－スチレンブロック共重合体、ポリスチレン／ブタジエン共重合体、ポリウレタン、水素化石油樹脂、ロジン樹脂、エチレン－ブテン共重合体、エチレン－オクテン共重合体、ポリウレタン類、ポリアクリレート類、有機シリコン類、ゴム類、エポキシ樹脂類のうちの少なくとも１種から独立して選択される。
従って、国家標準ＧＢ／Ｔ１３８９１－２００８のテスト標準に準拠し、複合フィルム２を含む製品は半光沢度レベルであり、使用工程の製品の光害を効果的に低下させ、また、放射冷却効果に優れる。
以下、以下の具体的な実施例によって前記ベースフィルム、複合フィルム、及び複合フィルムを含む製品をさらに説明する。
実施例１
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、第１充填材の屈折率ｍは１．５８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０９である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は２％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、第１充填材の屈折率ｍは１．５８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０９である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は２％である。
実施例２
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が５μｍであり、質量百分率は５％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が５μｍであり、質量百分率は５％である。
実施例３
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はポリアクリレートマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４３であり、屈折率差ｘの絶対値は０．１１である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はポリアクリレートマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４３であり、屈折率差ｘの絶対値は０．１１である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
実施例４
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、第１充填材の屈折率ｍは１．５９であり、屈折率差ｘの絶対値は０．１０である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は２％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、第１充填材の屈折率ｍは１．５９であり、屈折率差ｘの絶対値は０．１０である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は２％である。
実施例５
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは２５μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは２５μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
実施例６
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは７５μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは７５μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
実施例７
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは１００μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは１００μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
実施例８
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％であり、ベースフィルムには３μｍサイズのセルが含まれる。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％であり、ベースフィルムには３μｍサイズのセルが含まれる。
実施例９
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％であり、第１充填材は中空充填材である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％であり、第１充填材は中空充填材である。
実施例１０
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％であり、第１充填材は中空充填材であり、ベースフィルムにはさらに３μｍサイズのセルが含まれる。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＭＭＡマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０６である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％であり、第１充填材は中空充填材であり、ベースフィルムにはさらに３μｍサイズのセルが含まれる。
実施例１１
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はポリアクリレートマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４３であり、屈折率差ｘの絶対値は０．１１である。薄膜の厚みは１５μｍであり、薄膜における第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はポリアクリレートマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．４３であり、屈折率差ｘの絶対値は０．１１である。薄膜の厚みは１５μｍであり、薄膜における第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は３％である。
比較例１
本比較例のベースフィルムの材料は１００％ＰＥＴＧであり、厚みは５０μｍである。
本比較例のベースフィルムの材料は１００％ＰＥＴＧであり、厚みは５０μｍである。
比較例２
本比較例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＣであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５９であり、第１充填材の屈折率ｍは１．５８であり９７、屈折率差ｘの絶対値は０．０００３である。薄膜の厚みは５０μｍであり、薄膜における第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は２％である。
本比較例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＣであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５９であり、第１充填材の屈折率ｍは１．５８であり９７、屈折率差ｘの絶対値は０．０００３である。薄膜の厚みは５０μｍであり、薄膜における第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は２％である。
比較例３
本比較例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．５４０４であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０００４である。薄膜の厚みは５０μｍであり、薄膜における第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は２％である。
本比較例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＥＴＧであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアであり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．５４であり、第１充填材の屈折率ｍは１．５４０４であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０００４である。薄膜の厚みは５０μｍであり、薄膜における第１充填材は粒径が３μｍであり、質量百分率は２％である。
実施例１－１１及び比較例１－３のベースフィルムに対して性能テストを行い、結果を表１に示す。
実施例１２
本実施例は、実施例１のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
本実施例は、実施例１のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
実施例１３
本実施例は、実施例２のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
本実施例は、実施例２のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
実施例１４
本実施例は、実施例３のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
本実施例は、実施例３のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
実施例１５
本実施例は、実施例４のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２００ｎｍである。
本実施例は、実施例４のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２００ｎｍである。
実施例１６
本実施例は、実施例５のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
本実施例は、実施例５のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
実施例１７
本実施例は実施例６のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１５０ｎｍである。
本実施例は実施例６のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１５０ｎｍである。
実施例１８
本実施例は、実施例７のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが４００ｎｍである。
本実施例は、実施例７のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが４００ｎｍである。
実施例１９
本実施例は、実施例８のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが４００ｎｍである。
本実施例は、実施例８のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが４００ｎｍである。
実施例２０
本実施例は、実施例９のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
本実施例は、実施例９のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
実施例２１
本実施例は、実施例１０のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
本実施例は、実施例１０のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
実施例２２
本実施例は、実施例１１のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
本実施例は、実施例１１のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
比較例４
本比較例は、比較例１のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
本比較例は、比較例１のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
比較例５
本比較例は、比較例２のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
本比較例は、比較例２のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
比較例６
本比較例は、比較例３のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
本比較例は、比較例３のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムであり、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが２５０ｎｍである。
実施例１２－２２及び比較例４－６の複合フィルムに対して性能テストを行い、結果を表２に示す。
実施例２３
本ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層に分散している平均粒径３μｍの炭化ケイ素粒子を含み、第１層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は３％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
本ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層に分散している平均粒径３μｍの炭化ケイ素粒子を含み、第１層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は３％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
実施例２４
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）層及びポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）層に分散している平均粒径５μｍの硫酸バリウム粒子を含み、第１層における硫酸バリウム粒子の質量百分率は５％であり、第２層及び第３層はいずれもポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）層及びポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）層に分散している平均粒径５μｍの硫酸バリウム粒子を含み、第１層における硫酸バリウム粒子の質量百分率は５％であり、第２層及び第３層はいずれもポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
実施例２５
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径６μｍのシリカ粒子を含み、第１層におけるシリカ粒子の質量百分率は１０％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径６μｍのシリカ粒子を含み、第１層におけるシリカ粒子の質量百分率は１０％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
実施例２６
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリプロピレン（ＰＣ）層及びポリプロピレン（ＰＣ）層に分散している平均粒径０．８μｍの二酸化チタン粒子を含み、第１層における二酸化チタン粒子の質量百分率は１５％であり、第２層及び第３層はいずれもポリプロピレン（ＰＣ）であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリプロピレン（ＰＣ）層及びポリプロピレン（ＰＣ）層に分散している平均粒径０．８μｍの二酸化チタン粒子を含み、第１層における二酸化チタン粒子の質量百分率は１５％であり、第２層及び第３層はいずれもポリプロピレン（ＰＣ）であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
実施例２７
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリ（４－メチル－１－ペンテン）（ＴＰＸ）層及びポリ（４－メチル－１－ペンテン）（ＴＰＸ）層に分散している平均粒径２μｍの炭化カルシウム粒子を含み、第１層における炭化カルシウム粒子の質量百分率は２０％であり、第２層及び第３層はいずれもポリ（４－メチル－１－ペンテン）（ＴＰＸ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリ（４－メチル－１－ペンテン）（ＴＰＸ）層及びポリ（４－メチル－１－ペンテン）（ＴＰＸ）層に分散している平均粒径２μｍの炭化カルシウム粒子を含み、第１層における炭化カルシウム粒子の質量百分率は２０％であり、第２層及び第３層はいずれもポリ（４－メチル－１－ペンテン）（ＴＰＸ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
実施例２８
本実施例の実施例２５との違いは、第１層の厚みが２５μｍであり、第２層の厚みが５μｍであり、第３層の厚みが１５μｍであることにある。
本実施例の実施例２５との違いは、第１層の厚みが２５μｍであり、第２層の厚みが５μｍであり、第３層の厚みが１５μｍであることにある。
実施例２９
本実施例の実施例２５との違いは、第１層の厚みが５０μｍであり、第２層の厚みが１０μｍであり、第３層の厚みが２０μｍであることにある。
本実施例の実施例２５との違いは、第１層の厚みが５０μｍであり、第２層の厚みが１０μｍであり、第３層の厚みが２０μｍであることにある。
実施例３０
本実施例の実施例２５との違いは、第１層の厚みが１００μｍであり、第２層の厚みが５μｍであり、第３層の厚みが２５μｍであることにある。
本実施例の実施例２５との違いは、第１層の厚みが１００μｍであり、第２層の厚みが５μｍであり、第３層の厚みが２５μｍであることにある。
比較例７
本比較例は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）層及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）層に分散している平均粒径３μｍの窒化チタン粒子を含む通常の単層ベースフィルムであり、窒化チタン粒子は質量百分率が１％であり、厚みが７５μｍである。
本比較例は、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）層及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）層に分散している平均粒径３μｍの窒化チタン粒子を含む通常の単層ベースフィルムであり、窒化チタン粒子は質量百分率が１％であり、厚みが７５μｍである。
比較例８
本比較例の実施例２５との違いは、第１層における平均粒径６μｍのシリカ粒子の質量百分率が１％であることにある。
本比較例の実施例２５との違いは、第１層における平均粒径６μｍのシリカ粒子の質量百分率が１％であることにある。
比較例９
本比較例の実施例２５との違いは、第１層の厚みが７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みがいずれも３μｍであることにある。
本比較例の実施例２５との違いは、第１層の厚みが７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みがいずれも３μｍであることにある。
実施例２３－３０及び比較例７－９のベースフィルムに対して性能テストを行い、結果を表３に示す。
実施例３１
本実施例の実施例２５との違いは、第２層及び第３層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径１００ｎｍのシート状の水酸化カルシウム粒子を含み、水酸化カルシウム粒子の質量百分率がいずれも０．５％であることにある。
本実施例の実施例２５との違いは、第２層及び第３層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径１００ｎｍのシート状の水酸化カルシウム粒子を含み、水酸化カルシウム粒子の質量百分率がいずれも０．５％であることにある。
実施例３２
本実施例の実施例２５との違いは、第２層及び第３層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径２００ｎｍのシート状のアルミナ粒子を含み、アルミナ粒子の質量百分率がいずれも０．５％であり、第２層にはさらにＵＶ－Ｐ紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８が含まれ、ＵＶ－Ｐ紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８の質量百分率の合計が２％であることにある。
本実施例の実施例２５との違いは、第２層及び第３層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径２００ｎｍのシート状のアルミナ粒子を含み、アルミナ粒子の質量百分率がいずれも０．５％であり、第２層にはさらにＵＶ－Ｐ紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８が含まれ、ＵＶ－Ｐ紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８の質量百分率の合計が２％であることにある。
実施例３３
本実施例の実施例２５との違いは、第２層及び第３層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径３００ｎｍのシート状の酸化セリウム粒子を含み、酸化セリウム粒子の質量百分率がいずれも１％であり、第２層にはさらにＵＶ５３１紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８が含まれ、ＵＶ５３１紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８の質量百分率の合計が１．５％であることにある。
本実施例の実施例２５との違いは、第２層及び第３層がいずれもポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径３００ｎｍのシート状の酸化セリウム粒子を含み、酸化セリウム粒子の質量百分率がいずれも１％であり、第２層にはさらにＵＶ５３１紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８が含まれ、ＵＶ５３１紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８の質量百分率の合計が１．５％であることにある。
実施例３４
本実施例の実施例２５との違いは、第２層がポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径３００ｎｍのシート状の水酸化アルミニウム、ＵＶ５３１紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８を含み、水酸化アルミニウムの質量百分率が１％であり、ＵＶ５３１紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８の質量百分率の合計が１％であり、第３層にはポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径３００ｎｍのシート状の酸化ジルコニウムが含まれ、酸化ジルコニウムの質量百分率が２％であることにある。
本実施例の実施例２５との違いは、第２層がポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径３００ｎｍのシート状の水酸化アルミニウム、ＵＶ５３１紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８を含み、水酸化アルミニウムの質量百分率が１％であり、ＵＶ５３１紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８の質量百分率の合計が１％であり、第３層にはポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径３００ｎｍのシート状の酸化ジルコニウムが含まれ、酸化ジルコニウムの質量百分率が２％であることにある。
実施例３５
本実施例の実施例２５との違いは、第２層がポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径６００ｎｍのシート状の水酸化カルシウム粒子、ＵＶ－Ｐ紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８を含み、水酸化カルシウム粒子の質量百分率が１％であり、ＵＶ－Ｐ紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８の質量百分率の合計が０．５％であり、第３層にはポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径７５０ｎｍのシート状のアルミナ粒子が含まれ、アルミナ粒子の質量百分率が１％であることにある。
本実施例の実施例２５との違いは、第２層がポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径６００ｎｍのシート状の水酸化カルシウム粒子、ＵＶ－Ｐ紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８を含み、水酸化カルシウム粒子の質量百分率が１％であり、ＵＶ－Ｐ紫外線吸収剤、酸化防止剤１０１０、及び酸化防止剤１６８の質量百分率の合計が０．５％であり、第３層にはポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層及びポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）層に分散している平均粒径７５０ｎｍのシート状のアルミナ粒子が含まれ、アルミナ粒子の質量百分率が１％であることにある。
実施例３１－３５のベースフィルムに対して性能テストを行った。第２層及び第３層の光透過率、水蒸気透過率、及び第２層の紫外線遮断率は、いずれも実施例３１－３５の第２層及び第３層の成分と厚み等のパラメータを参照し、同じ方法によって単層となる第２層及び第３層を押出して測定されたデータの結果を表４に示す。
実施例３６
本実施例は、実施例２５のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
本実施例は、実施例２５のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料が金属銀材料であり、厚みが１００ｎｍである。
実施例３７
本実施例は、実施例３２のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料がＺｒＯ２であり、厚みが２００ｎｍである。
本実施例は、実施例３２のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料がＺｒＯ２であり、厚みが２００ｎｍである。
実施例３８
本実施例は、実施例３２のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料が銀合金であり、厚みが５０ｎｍである。
本実施例は、実施例３２のベースフィルムと、順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層及び基材層とを含む複合フィルムを提供し、反射フィルムは材料が銀合金であり、厚みが５０ｎｍである。
実施例３６－３８の複合フィルムに対して熱反射率、７μｍ－１４μｍの大気の窓での放射率、紫外線遮断率、耐用年数を含む性能テストを行った。
実施例３９
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、ＰＳマイクロスフェアの屈折率ｍは１．５８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０９である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材の粒径は３μｍであり、第１充填材におけるＰＳマイクロスフェアの質量百分率は２％であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は１％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、ＰＳマイクロスフェアの屈折率ｍは１．５８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０９である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材の粒径は３μｍであり、第１充填材におけるＰＳマイクロスフェアの質量百分率は２％であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は１％である。
実施例４０
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、ＰＳマイクロスフェアの屈折率ｍは１．５８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０９である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材の粒径は３μｍであり、第１充填材におけるＰＳマイクロスフェアの質量百分率は１％であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は１％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、ＰＳマイクロスフェアの屈折率ｍは１．５８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０９である。ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材の粒径は３μｍであり、第１充填材におけるＰＳマイクロスフェアの質量百分率は１％であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は１％である。
実施例４１
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、ＰＳマイクロスフェアの屈折率ｍは１．５８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０９である。本ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材の粒径は３μｍであり、第１充填材におけるＰＳマイクロスフェアの質量百分率は２％であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は２％である。
本実施例のベースフィルムにおいて、第１層の材料はＰＭＭＡであり、第１充填材はＰＳマイクロスフェアと炭化ケイ素粒子の混合物であり、溶融混合法によって製造される。第１層の材料の屈折率ｎは１．４９であり、ＰＳマイクロスフェアの屈折率ｍは１．５８であり、屈折率差ｘの絶対値は０．０９である。本ベースフィルムの厚みは５０μｍであり、ベースフィルムにおける第１充填材の粒径は３μｍであり、第１充填材におけるＰＳマイクロスフェアの質量百分率は２％であり、炭化ケイ素粒子の質量百分率は２％である。
実施例４２
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層、及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層に分散している平均粒径３μｍのＰＳマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子を含み、第１層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は３％であり、ＰＳマイクロスフェアの質量百分率は２％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層、及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層に分散している平均粒径３μｍのＰＳマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子を含み、第１層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は３％であり、ＰＳマイクロスフェアの質量百分率は２％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
実施例４３
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層、及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層に分散している平均粒径３μｍのＰＳマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子を含み、第１層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は５％であり、ＰＳマイクロスフェアの質量百分率は２％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層、及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層に分散している平均粒径３μｍのＰＳマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子を含み、第１層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は５％であり、ＰＳマイクロスフェアの質量百分率は２％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
実施例４４
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層、及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層に分散している平均粒径３μｍのＰＳマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子であり、第１層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は８％であり、ＰＳマイクロスフェアの質量百分率は１％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
ベースフィルムは、第１層と、第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層を含み、第１層、第２層、及び第３層は三層共押出成形される。第１層は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層、及びポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層に分散している平均粒径３μｍのＰＳマイクロスフェア及び炭化ケイ素粒子であり、第１層における炭化ケイ素粒子の質量百分率は８％であり、ＰＳマイクロスフェアの質量百分率は１％であり、第２層及び第３層はいずれもポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）層であり、第１層の厚みは７５μｍであり、第２層及び第３層の厚みはいずれも２５μｍである。
実施例３９－４４のベースフィルムに対して性能テストを行い、結果を表６に示す。
実施例４５
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例３９のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例３９のベースフィルムであることにある。
実施例４６
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４０のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４０のベースフィルムであることにある。
実施例４７
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４１のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４１のベースフィルムであることにある。
実施例４８
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４２のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４２のベースフィルムであることにある。
実施例４９
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４３のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４３のベースフィルムであることにある。
実施例５０
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４４のベースフィルムであることにある。
本実施例の実施例１２との違いは、ベースフィルムが実施例４４のベースフィルムであることにある。
実施例４５－５０の複合フィルムに対して性能テストを行い、結果を表７に示す。
＜産業応用事例１＞
複合フィルムがボックス式変電所に適用される場合のボックス式変電所内部に対する温度低下効果をシミュレーションするために、５．５８ｍ×２．３８ｍ×２．６８ｍ（長さ×幅×高さ）のボックス式変電所Ａ及びＢを提供した。Ａの５つの外面に実施例３８の複合フィルムを適用し、Ｂの外面に対しては何も処理しなかった。
ボックス式変電所内部の高圧キャビネットの中央部に環境温度の温度測定点を設定し、温度測定点Ａ１、Ｂ１の温度データを連続的に収集した。図６における温度曲線に示すとおり、図中、Ｃ１は温度差曲線であり、図６から分かるように、複合フィルムはボックス式変電所の高圧キャビネットの温度を効果的に低下させることができる。
ボックス式変電所内部の変圧器の中央部に環境温度の温度測定点を設定し、温度測定点Ａ２、Ｂ２の温度データを連続的に収集した。図７における温度曲線に示すとおり、図中、Ｃ２は温度差曲線であり、図７から分かるように、複合フィルムはボックス式変電所の変圧器の温度を効果的に低下させることができる。
ボックス式変電所内部の低電圧配電キャビネットの中央部に環境温度の温度測定点を設定し、温度測定点Ａ３、Ｂ３の温度データを連続的に収集した。図８における温度曲線に示すとおり、図中、Ｃ３は温度差曲線であり、図８から分かるように、複合フィルムはボックス式変電所の低電圧装置の温度を効果的に低下させることができる。
＜産業応用事例２＞
太陽光反射フィルムが建物に適用される場合の建物内部に対する温度低下効果をシミュレーションするために、図９に示すようなＤ、Ｅの２つのモデルハウスを提供した。モデルハウスは占用面積４ｍ×３ｍ、屋根の高さ２ｍ、屋根の棟の高さ２．５ｍであり、主な建材は主に鋼材及びプラスチック板材を含む。モデルハウスＤの外面が実施例３８の複合フィルムで完全に被覆され、モデルハウスＥの外面に対しては何も処理しなかった。
太陽光反射フィルムが建物に適用される場合の建物内部に対する温度低下効果をシミュレーションするために、図９に示すようなＤ、Ｅの２つのモデルハウスを提供した。モデルハウスは占用面積４ｍ×３ｍ、屋根の高さ２ｍ、屋根の棟の高さ２．５ｍであり、主な建材は主に鋼材及びプラスチック板材を含む。モデルハウスＤの外面が実施例３８の複合フィルムで完全に被覆され、モデルハウスＥの外面に対しては何も処理しなかった。
モデルハウス内の地面からの１．２ｍの中間位置に温度測定点を設定し、２つのモデルハウス内の温度変化情報を収集した。得られたデータは図１０に示すとおり、図中、Ｆは温度差曲線である。図１０から分かるように、複合フィルムはモデルハウスの内部温度を効果的に低下させることができる。
なお、本願のテスト結果において、「光透過率」とは４００ｎｍ－７６０ｎｍの可視波長に対する透過率であり、熱反射率とは３００ｎｍ－２５００のｎｍ波長域に対する反射率である。
上記実施例の各技術的特徴は任意に組み合わせてもよい。説明を簡潔にするために、上記実施例の各技術的特徴のすべての可能な組み合わせが説明されているわけではない。しかしながら、これらの技術的特徴の組み合わせに矛盾がない限り、すべてが本明細書の範囲であると考えるべきである。
上記実施例は本願のいくつかの実施形態を表現しているに過ぎず、その説明はより具体的で詳細であるが、本出願特許の範囲を限定すると解釈すべきではない。当業者の場合、本願の概念から逸脱することなく、いくつかの変形及び改善を行ってもよく、これらはすべて本願の保護範囲内にあることに留意するべきである。したがって、本発明の保護範囲は、添付の特許請求の範囲に制約されるものとする。
図中：１、基体 ２、複合フィルム ３、第１貼着層 ２１、ベースフィルム ２２、反射フィルム ２３、第２貼着層 ２４、基材層 ２１１、第１層 ２１２、第１充填材 ２１３、第２層 ２１４、第２充填材 ２１５、第３層 ２１６、第３充填材
Claims (21)
- ベースフィルムであって、第１層及び第１充填材を含み、前記第１充填材は前記第１層に分散し、前記第１層の材料の屈折率をｎ（１．３－１．７）とし、前記第１充填材の屈折率をｍとし、ｎとｍの差をｘとすると、ｘの絶対値は０．０００５以上であり、前記ベースフィルムは７μｍ－１４μｍの大気の窓での放射率が８０％以上であり、３００ｎｍ－２５００のｎｍ波長域での熱反射率が１０％以上であり、光沢度が２０ＧＵ以下であり、前記ベースフィルムは、前記第１層の対向する両側の表面に設けられた第２層及び第３層をさらに含み、前記第２層に第２充填材がさらに分散し、前記第３層に第３充填材がさらに分散し、前記第２充填材及び前記第３充填材は水分が前記第１層に浸透することを遮断することができ、前記第２充填材は前記第２層内の水分の浸透の一部を阻止し、前記第３充填材は前記第３層内の水分の浸透の一部を阻止することを特徴とするベースフィルム。
- 前記第１層、前記第２層、及び前記第３層は共押出成形され、前記第２層と前記第１層の厚みの比は１：１－１：２０であり、前記第３層と前記第１層の厚みの比は１：１－１：２０であることを特徴とする請求項１に記載のベースフィルム。
- 前記第１層の材料はポリエステル類、ポリアクリレート類、ポリアミド類、ポリウレタン類、ポリオレフィン類、フッ素樹脂のうちの少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のベースフィルム。
- 前記ポリエステル類はポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレートグリコール、ポリエチレンテレフタレート-1,4-シクロヘキサンジメタノールエステルのうちの少なくとも１種を含み、前記ポリアクリレート類はアクリロニトリル－ブタジエン－スチレンプラスチック、ポリメチルメタクリレートのうちの少なくとも１種を含み、前記ポリアミド類はナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ナイロン１０１０のうちの少なくとも１種を含み、前記ポリオレフィン類はポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４－メチル－１－ペンテン）のうちの少なくとも１種を含み、前記フッ素樹脂はテトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、エチレン－クロロトリフルオロエチレン共重合体のうちの少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項３に記載のベースフィルム。
- 前記第２層の材料及び前記第３層の材料はいずれも前記第１層の材料と同じであることを特徴とする請求項３に記載のベースフィルム。
- 前記第１充填材は有機充填材、無機充填材のうちの少なくとも１種を含み、前記第１層における前記第１充填材の質量百分率は２％－２０％であることを特徴とする請求項１又は２に記載のベースフィルム。
- 前記第１充填材は有機充填材であり、ｘの絶対値は０．０５以上であり、前記第１層における前記第１充填材の質量百分率は２％－５％であり、前記有機充填材はポリアクリレート粒子、ポリスチレン粒子、ポリウレタン粒子、ポリメチルメタクリレート粒子、エポキシ樹脂粒子のうちの少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項６に記載のベースフィルム。
- 前記有機充填材の融点は前記第１層の材料の融点より高いことを特徴とする請求項７に記載のベースフィルム。
- 前記有機充填材は中空充填材であることを特徴とする請求項７に記載のベースフィルム。
- 前記第１充填材は無機充填材であり、前記第１層における前記第１充填材の質量百分率は３％以上であり、前記無機充填材は窒化チタン粒子、二酸化チタン粒子、炭化ケイ素粒子、シリカ粒子、硫酸バリウム粒子、硫酸カルシウム粒子、炭酸カルシウム粒子のうちの少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項６に記載のベースフィルム。
- 前記第１層はセルを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載のベースフィルム。
- 前記第１充填材の粒径は０．１μｍ－２０μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載のベースフィルム。
- 前記第１層の厚みは２５μｍ以上であり、前記第２層の厚み及び前記第３層の厚みはいずれも５μｍ以上であることを特徴とする請求項２に記載のベースフィルム。
- 前記第２層における前記第２充填材の質量百分率は０．５％－２％であり、
及び／又は、前記第３層における前記第３充填材の質量百分率は０．５％－２％であることを特徴とする請求項２に記載のベースフィルム。 - 前記第２層の光透過率は８２％以上であり、前記第２層の水蒸気透過率は１０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であり、
及び／又は、前記第３層の光透過率は８２％以上であり、前記第３層の水蒸気透過率は１０ｇ／（ｍ２・２４ｈ）以下であることを特徴とする請求項２に記載のベースフィルム。 - 前記第２層は紫外線吸収剤をさらに含み、前記第２層の紫外線遮断率は８０％以上であり、
及び、前記第２層は酸化防止剤をさらに含み、前記第２層における前記酸化防止剤と前記紫外線吸収剤の質量百分率の合計が０．５％－４％であることを特徴とする請求項２に記載のベースフィルム。 - 前記ベースフィルムの光透過率は８２％以上であることを特徴とする請求項１に記載のベースフィルム。
- 複合フィルムであって、請求項１－１７のいずれか１項に記載のベースフィルムと、前記ベースフィルムに順に積層して設けられた反射フィルム、第２貼着層、及び基材層を含み、前記複合フィルムは光沢度が７０ＧＵ以下であり、７μｍ－１４μｍの大気の窓での放射率が８０％以上であり、３００ｎｍ－２５００のｎｍ波長域での熱反射率が８５％以上であることを特徴とする複合フィルム。
- 前記反射フィルムの材料は金属材料及び／又はセラミック材料であることを特徴とする請求項１８に記載の複合フィルム。
- 請求項１８－１９のいずれか１項に記載の複合フィルムを含む製品であって、基体と、前記基体の表面に順に積層して設けられた第１貼着層及び複合フィルムを含み、前記複合フィルムにおける基材層が前記第１貼着層に貼着されることを特徴とする製品。
- 前記基体は金属、プラスチック、ガラス、ゴム、ピッチ、セメント、織物のうちの少なくとも１種を含むことを特徴とする請求項２０に記載の複合フィルムを含む製品。
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