JP7146172B2 - 異物除去装置及び異物除去装置を備えたブラスト加工装置 - Google Patents
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Description
磁性体の異物を除去するために、流動層室20内に磁石を配置して吸着する構成を採用することができる。ここで、異物の移動速度が遅いため、確実に磁石で吸着して除去することができる。
本発明の異物除去装置1によれば、粉状体または粒状体を流動層室20で流動化して流動層Fを形成し、流動層Fの一部が排出部60からオーバーフローすることにより形成される流れを利用して、スクリーン50により異物を除去することができる。この流れは、流動層Fとして形成された非常にゆっくりとしたものであるので、スクリーン50の損傷を抑制することができる。また、粉状体または粒状体を流動化して細かく分散させてスクリーン50のメッシュを通過させるため、摩擦抵抗を低減させて通過させることができ、粉状体または粒状体が詰まることがなく異物の除去を効率的に行うことができる。また、異物除去装置1を備えたブラスト加工装置100によれば、空気輸送のダクトや分級装置で発生する異物の除去も可能となり、ブラスト加工において、より確実に異物を除去することができる。これにより、再利用する噴射材に異物が混入することがなく、被加工物が異物により損傷を受けることを防止することができる。
10…筐体
11…天井部
20…流動層室
20a…底部
21…第1流動層室
21a…上流第1流動層室
21b…下流第1流動層室
22…第2流動層室
23、24…ドレン
30…流動化ガス導入手段
40…供給手段
40a…先端部
50…スクリーン
60…排出部
71…第1隔壁
71a…下端
72…第3隔壁
72a…上端
73…第2隔壁
73a…上端
80…レベルセンサ
90…発散手段
91…傾斜部
92…排出口
100…ブラスト加工装置
110…筐体
111…扉
112…ノズル固定治具
113…処理テーブル
114…移動装置
120…定量供給装置
130…分級装置
140…ホッパ
150…吸引装置
160…制御装置
170…ノズル
180…二重ダンパ
F…流動層
H…層高
K…噴射材
Claims (7)
- 粉状体または粒状体から異物を除去する異物除去装置であって、
第1流動層室と第2流動層室とに区画され、内部に粉状体または粒状体を収容し流動層を形成する流動層室と、
前記流動層室の底部から前記流動層を形成するための流動化ガスを導入する流動化ガス導入手段と、
前記第1流動層室に粉状体または粒状体を供給する供給手段と、
前記第2流動層室に配置され、粉状体または粒状体から異物を除去するスクリーンと、
異物が除去された粉状体または粒状体を前記第2流動層室から排出する排出部と、
を備え、
前記第1流動層室と前記第2流動層室とは、流動層の下方で連通するように前記流動層室の天井部から下方に向かって形成された第1隔壁により区画され、
前記第2流動層室と前記排出部とを区画する第2隔壁は、その上端が流動層の層高よりも低くなるように形成されており、
前記スクリーンは、前記第1隔壁と前記第2隔壁との間に張り渡されて設けられていることを特徴とする異物除去装置。 - 前記第1流動層室は、前記流動層室の底部から上方に向かって形成された第3隔壁により上流第1流動層室と下流第1流動層室とに区画され、前記第3隔壁の上端が前記第1隔壁の下端より上方となるように形成されていることを特徴とする請求項1に記載の異物除去装置。
- 前記流動化ガス導入手段は、前記第1流動層室及び前記第2流動層室、または、前記流動層室の底部から上方に向かって形成された第3隔壁により前記第1流動層室が区画された上流第1流動層室と下流第1流動層室及び前記第2流動層室、に対応して個別に設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の異物除去装置。
- 前記排出部から粉状体または粒状体が排出されるときに、流動化ガスを発散させる発散手段を更に備えたことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1つに記載の異物除去装置。
- 前記粉状体または粒状体は、ブラスト加工に用いられる噴射材であることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1つに記載の異物除去装置。
- 請求項5に記載の異物除去装置と、
噴射材を噴射するノズルと、
噴射材を分級する分級装置と、
噴射材を貯留するホッパと、を備え、
当該異物除去装置は、前記分級装置と前記ホッパの間に設けられていることを特徴とするブラスト加工装置。 - 前記ホッパから前記ノズルへの経路に噴射材を定量供給する定量供給装置が設けられていることを特徴とする請求項6に記載のブラスト加工装置。
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