JP7145200B2 - 電子流を制御するデバイス及び該デバイスを製造する方法 - Google Patents
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Description
陰極と、
ダイヤモンドを有する基板に埋め込まれた少なくとも1つの細長い導電体であり、陰極と電気的に連通した少なくとも1つの導電体と、
陽極であり、前記少なくとも1つの導電体が、陰極から遠隔の該導電体の端部から基板を通して当該陽極へと電子を放出するように適応されている、陽極と、
前記少なくとも1つの導電体の前記端部の領域内の電界を変化させる少なくとも1つの制御電極と、
少なくとも一層の絶縁材料であり、当該絶縁材料によって前記少なくとも1つの制御電極が前記少なくとも1つの導電体から隔てられる、少なくとも一層の絶縁材料と、
を有し、
前記少なくとも1つの制御電極は、少なくとも1つの第1の開口を有し、該第1の開口は、陰極から遠隔の前記少なくとも1つの導電体の端部から放出された電子が該第1の開口を通り抜けて陽極に至るように配置される。
陰極と電気的に連通した少なくとも1つの細長い導電体を設けるステップと、
前記少なくとも1つの導電体を、ダイヤモンドを有する基板に埋め込むステップと、
陽極を設けるステップであり、前記少なくとも1つの導電体が、陰極から遠隔の該導電体の端部から基板を通して当該陽極へと電子を放出するように適応される、ステップと、
前記少なくとも1つの導電体の前記端部の領域内の電界を変化させる少なくとも1つの制御電極を設けるステップと、
少なくとも一層の絶縁材料を設けるステップと、
を有し、
前記少なくとも1つの制御電極が前記絶縁材料によって前記少なくとも1つの導電体から隔てられ、前記少なくとも1つの制御電極は、少なくとも1つの第1の開口を有し、該第1の開口は、陰極から遠隔の前記少なくとも1つの導電体の端部から放出された電子が該第1の開口を通り抜けて陽極に至るように配置される。
12 陰極
14 細長い導電体
16 ダイヤモンド基板
18 陽極
19 空所
20 基板表面
22 制御電極
22A 追加の制御電極
24 制御電極開口
26 導電体の端部
28 下部ゲート絶縁層
29 注入マスク
30 上部ゲート絶縁層
30A 追加の上部ゲート絶縁層
31 イオン種
32 ナノダイヤモンド粉末層
34 ナノ結晶ダイヤモンド層
35 ヘテロエピタキシャルダイヤモンド層
36 黒鉛炭素制御電極
38 金属層
40 電気コンタクト
41 ゲート制御電源
41A 追加のゲート制御電源
42 負の電子親和力を呈するように処理された表面
43 突起
44 窒素ドープされたダイヤモンド基板
45 窒素ドープされたダイヤモンド層
46 真性ダイヤモンドの層
48 細長い孔
50 金属部分
52 半導体層
54 導電体の端部に隣接する領域
Claims (26)
- 電子流を制御するデバイスであって、
陰極と、
ダイヤモンドを有する基板に埋め込まれた少なくとも1つの細長い導電体であり、前記陰極と電気的に連通した少なくとも1つの導電体と、
陽極であり、前記少なくとも1つの導電体が、前記陰極から遠隔の該導電体の端部から前記基板を通して当該陽極へと電子を放出するように適応されている、陽極と、
前記少なくとも1つの導電体の前記端部の領域内の電界を変化させる少なくとも1つの制御電極と、
少なくとも一層の絶縁材料であり、当該絶縁材料によって前記少なくとも1つの制御電極が前記少なくとも1つの導電体から隔てられる、少なくとも一層の絶縁材料と、
を有し、
前記少なくとも1つの制御電極は、少なくとも1つの第1の開口を有し、該第1の開口は、前記陰極から遠隔の前記少なくとも1つの導電体の前記端部から放出された電子が該第1の開口を通り抜けて前記陽極に至るように配置されている、
デバイス。 - 前記基板の一部及び前記少なくとも1つの導電体の前記端部が、前記少なくとも1つの第1の開口を通って突出している、請求項1に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つの制御電極は、前記少なくとも一層の絶縁材料内に封入されている、請求項1又は2に記載のデバイス。
- 前記絶縁材料は、窒素ドープされたダイヤモンド、ナノ結晶ダイヤモンド、絶縁性の酸化物化合物又は窒化物化合物のうちの1つ以上を有する、請求項1乃至3のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記絶縁材料は、熱サイクルによる当該デバイスへのダメージを防止するのに十分な、ダイヤモンドに対する熱膨張特性を持つ、請求項1乃至4のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つの制御電極は、黒鉛炭素、ホウ素ドープされたダイヤモンド、及びイリジウムのうちの1つ以上を有する、請求項1乃至5のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記少なくとも1つの制御電極は、1000℃以上の融点を持つ金属材料を有する、請求項1乃至6のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記基板の表面が負の電子親和力を持つ、請求項1乃至7のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記陽極と前記基板との間の空間が、(i)10-5ミリバール以下の真空、又は(ii)50ミリバール以下のガス環境のいずれかを有する、請求項1乃至8のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記少なくとも一層の絶縁材料は、少なくとも1つの第2の開口を有し、該少なくとも1つの第2の開口は、前記陰極から遠隔の前記少なくとも1つの導電体の前記端部から放出された電子が該少なくとも1つの第2の開口を通り抜けて前記陽極に至るように配置されている、請求項1乃至9のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記陽極は、前記基板から離間されている、請求項1乃至10のいずれか一項に記載のデバイス。
- 前記陽極と前記基板との間に構成された少なくとも1つのオーミックコンタクト、を更に有する請求項1乃至10のいずれか一項に記載のデバイス。
- 複数の前記制御電極を有する請求項1乃至12のいずれか一項に記載のデバイス。
- 電子流を制御するデバイスを製造する方法であって、
陰極と電気的に連通した少なくとも1つの細長い導電体を設けるステップと、
前記少なくとも1つの導電体を、ダイヤモンドを有する基板に埋め込むステップと、
陽極を設けるステップであり、前記少なくとも1つの導電体が、前記陰極から遠隔の該導電体の端部から前記基板を通して当該陽極へと電子を放出するように適応される、ステップと、
前記少なくとも1つの導電体の前記端部の領域内の電界を変化させる少なくとも1つの制御電極を設けるステップと、
少なくとも一層の絶縁材料を設けるステップと、
を有し、
前記少なくとも1つの制御電極が前記絶縁材料によって前記少なくとも1つの導電体から隔てられ、前記少なくとも1つの制御電極は、少なくとも1つの第1の開口を有し、該第1の開口は、前記陰極から遠隔の前記少なくとも1つの導電体の前記端部から放出された電子が該第1の開口を通り抜けて前記陽極に至るように配置される、
方法。 - 前記少なくとも1つの制御電極を配置することに先立って、前記基板の一部及び前記少なくとも1つの導電体の前記端部が、前記少なくとも1つの第1の開口を通って突出するように、前記基板をエッチングするステップ、を更に有する請求項14に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの制御電極を、前記少なくとも一層の絶縁材料内に封入するステップ、を更に有する請求項14又は15に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの制御電極を前記絶縁材料内に封入するステップは、(a)前記基板の表面上に絶縁材料を配置することと、(b)前記絶縁材料の少なくとも一部に少なくとも一層の黒鉛炭素を形成し、それによって前記少なくとも1つの制御電極を形成することとを有する、請求項16に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの制御電極を前記絶縁材料内に封入するステップは、(a)前記基板の表面上に絶縁材料の第1の層を堆積させることと、(b)前記第1の層の少なくとも一部上に少なくとも1つの金属層を堆積させ、それによって前記少なくとも1つの制御電極を形成することと、(c)前記少なくとも1つの金属層上に絶縁材料の第2の層を堆積させることとを有する、請求項16又は17に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの制御電極を前記絶縁材料内に封入するステップは、(a)前記基板の表面上に、絶縁材料の、少なくとも1つの第1の層を堆積させることと、(b)前記少なくとも1つの第1の層の少なくとも一部上に少なくとも1つの金属層を堆積させ、それによって前記少なくとも1つの制御電極を形成することと、(c)ナノダイヤモンド粉末で前記少なくとも1つの金属層をシード化することと、(d)少なくとも1つの前記シード化された層上にナノ結晶ダイヤモンドを成長させることとを有する、請求項16乃至18のいずれか一項に記載の方法。
- 前記基板は、窒素ドープされたダイヤモンドを有する、請求項14乃至19のいずれか一項に記載の方法。
- 前記窒素ドープされたダイヤモンド上に真性ダイヤモンドを成長させるステップ、を更に有する請求項20に記載の方法。
- 前記基板の表面の少なくとも一部を、負の電子親和力を呈するように処理するステップ、を更に有する請求項14乃至21のいずれか一項に記載の方法。
- 前記絶縁材料をエッチングして、前記少なくとも1つの導電体の前記端部の前記領域で前記基板の表面の一部を露出させるステップ、を更に有する請求項14乃至22のいずれか一項に記載の方法。
- 前記エッチングは、反応性イオンエッチング及びイオンビームエッチングのうちの一方以上を用いて実行される、請求項23に記載の方法。
- 前記少なくとも一層の絶縁材料に少なくとも1つの第2の開口を設けて、前記陰極から遠隔の前記少なくとも1つの導電体の前記端部から放出された電子が、該少なくとも1つの第2の開口を通り抜けて前記陽極に至ることになるようにするステップ、を更に有する請求項14乃至24のいずれか一項に記載の方法。
- 複数の前記制御電極を設けることを更に有する請求項14乃至25のいずれか一項に記載の方法。
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